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JP2002202609A - Resist material and pattern forming method - Google Patents

Resist material and pattern forming method

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JP2002202609A
JP2002202609A JP2001113351A JP2001113351A JP2002202609A JP 2002202609 A JP2002202609 A JP 2002202609A JP 2001113351 A JP2001113351 A JP 2001113351A JP 2001113351 A JP2001113351 A JP 2001113351A JP 2002202609 A JP2002202609 A JP 2002202609A
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branched
linear
carbon atoms
cyclic
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Tsunehiro Nishi
恒寛 西
Takeshi Kanou
剛 金生
Shigehiro Nagura
茂広 名倉
Tomohiro Kobayashi
知洋 小林
Satoshi Watanabe
聡 渡辺
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 下記式に示されるような開環メタセシス
重合体の水素添加物をベース樹脂として含有することを
特徴とするレジスト材料。 【化1】 【効果】 本発明で用いる開環メタセシス重合体の水素
添加物は、耐熱性、耐熱分解性、光透過性等に優れた紫
外線や遠紫外線を用いた半導体微細加工用フォトレジス
トに適した重合体であり、工業的に極めて価値がある。
このものをベース樹脂として用いた本発明のレジスト材
料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチ
ング耐性に優れている。
(57) Abstract: A resist material comprising, as a base resin, a hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer represented by the following formula. Embedded image The hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer used in the present invention is a polymer which is excellent in heat resistance, heat decomposition resistance, light transmittance and the like and is suitable for a photoresist for semiconductor fine processing using ultraviolet rays or far ultraviolet rays. And is extremely valuable industrially.
The resist material of the present invention using this as a base resin is sensitive to high energy rays and is excellent in sensitivity, resolution and etching resistance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な開環メタセ
シス重合体の水素添加物をベース樹脂として用いたレジ
スト材料、特には、感度、解像性、エッチング耐性に優
れた紫外線や遠紫外線(エキシマレーザー等を含む)を
用いた半導体微細加工用レジスト材料及び該レジスト材
料を用いたパターン形成方法に関する。
The present invention relates to a resist material using a hydrogenated product of a novel ring-opening metathesis polymer as a base resin. And a pattern forming method using the resist material.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路は集積化が進んで
大規模集積回路(LSI)や超大規模集積回路(VLS
I)が実用化されており、また、これと共に集積回路の
最少パターンはサブミクロン領域に及び、今後更に微細
化する傾向にある。微細パターンの形成には、薄膜を形
成した被処理基板上をレジストで被覆し、選択露光を行
って所望パターンの潜像を形成した後に、現像してレジ
ストパターンを作り、これをマスクとしてドライエッチ
ングを行い、その後にレジストを除去することにより所
望のパターンを得るリソグラフィー技術の使用が必須で
ある。
2. Description of the Related Art In recent years, integration of semiconductor integrated circuits has been advanced, and large-scale integrated circuits (LSI) and very large-scale integrated circuits (VLS) have been developed.
I) has been put to practical use, and the minimum pattern of the integrated circuit has reached the sub-micron region along with it, and will tend to be further miniaturized in the future. To form a fine pattern, the target substrate on which the thin film has been formed is coated with a resist, selective exposure is performed to form a latent image of the desired pattern, and then development is performed to create a resist pattern, which is then used as a mask for dry etching. It is essential to use a lithography technique to obtain a desired pattern by removing the resist thereafter.

【0003】このリソグラフィー技術において使用され
る露光光源としてg線(波長436nm)、i線(波長
365nm)の紫外線光が使用されているが、パターン
の微細化に伴い、より波長の短い遠紫外線光、真空紫外
線光、電子線(EB)、X線などが光源として使用され
るようになってきている。特に最近では、エキシマレー
ザー(波長248nmのKrFレーザー、波長193n
mのArFレーザー)が露光光源として注目されてお
り、微細パターンの形成に有効であると期待されてい
る。
As an exposure light source used in this lithography technique, ultraviolet rays of g-line (wavelength: 436 nm) and i-line (wavelength: 365 nm) are used. , Vacuum ultraviolet light, electron beam (EB), X-ray and the like have been used as light sources. Particularly recently, an excimer laser (KrF laser having a wavelength of 248 nm, a wavelength of 193 n
m ArF laser) is attracting attention as an exposure light source, and is expected to be effective for forming fine patterns.

【0004】より短波長である真空紫外領域の露光光を
用いてサブミクロンパターンを形成するレジスト材料に
用いられる重合体又は共重合体としては、例えば、エス
テル部にアダマンタン骨格及び酸により脱離する保護基
を有するアクリル酸エステル又はα置換アクリル酸エス
テルの重合体又は共重合体(特開平4−39665号公
報参照)、エステル部にノルボルナン骨格及び酸により
脱離する保護基を有するアクリル酸エステル又はα置換
アクリル酸エステルの重合体又は共重合体(特開平5−
257281号公報参照)、シクロヘキシルマレイミド
の重合体又は共重合体(特開平5−257285号公報
参照)、セルロース骨格を主鎖に含み、該主鎖が酸によ
り開裂を起こす高分子化合物(特開平6−342212
号公報参照)、ポリビニルアルコール又はポリビニルア
ルコールの誘導体(特開平7−333850号公報参
照)等、数多くの重合体及び共重合体が提案されてい
る。
As a polymer or a copolymer used for a resist material for forming a submicron pattern using exposure light in a vacuum ultraviolet region having a shorter wavelength, for example, an ester portion is desorbed by an adamantane skeleton and an acid. A polymer or copolymer of an acrylate ester or an α-substituted acrylate ester having a protective group (see JP-A-4-39665); Polymers or copolymers of α-substituted acrylic acid esters
No. 257281), a polymer or copolymer of cyclohexylmaleimide (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-257285), and a polymer compound containing a cellulose skeleton in the main chain, which is cleaved by an acid (Japanese Patent Application Laid-Open No. -342212
Many polymers and copolymers have been proposed, such as polyvinyl alcohol or a derivative of polyvinyl alcohol (see JP-A-7-333850).

【0005】しかしながら、耐ドライエッチング性、遠
紫外線に対する透明性、レジスト溶剤に対する溶解性、
現像液に対する濡れ性、シリコン等の基板への密着性及
び剥離剤に対する溶解性等、レジスト材として用いられ
るのに必要な諸性質全てを満足し、しかも合成容易な重
合体及び共重合体は未だなく、更なる開発が求められて
いる。
However, dry etching resistance, transparency to far ultraviolet rays, solubility in resist solvents,
Polymers and copolymers that satisfy all properties necessary for use as a resist material, such as wettability to a developing solution, adhesion to a substrate such as silicon, and solubility in a release agent, etc., and are still easy to synthesize, are still available. No further development is required.

【0006】一方、脂肪族環状炭化水素を主鎖とし、酸
により分解する官能基を有する環状骨格を有する高分子
化合物からなるフォトレジスト組成物(WO97/33
198号、特開平9−230595号、特開平9−24
4247号、特開平10−254139号公報)に見ら
れるような環状高分子は、耐ドライエッチング性が優
れ、遠紫外線に対する透明性に優れているが、高濃度で
のレジスト溶剤に対する溶解性、現像液に対する濡れ
性、シリコン基板への密着性が悪いという課題があっ
た。
On the other hand, an aliphatic cyclic hydrocarbon is used as a main chain,
Having a cyclic skeleton having a functional group that decomposes by heat
Photoresist composition comprising a compound (WO97 / 33
198, JP-A-9-230595, JP-A-9-24
4247, JP-A-10-254139).
Such cyclic polymers have excellent dry etching resistance.
And has excellent transparency to far ultraviolet rays.
Solubility in resist solvents, wetting in developer
And poor adhesion to the silicon substrate.
Was.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記課題を解
決するためになされたもので、高エネルギー線に感応
し、感度、解像度、エッチング耐性に優れ、電子線や遠
紫外線による微細加工に有用なレジスト材料、及びこれ
を用いたパターン形成方法を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and is sensitive to high energy rays, excellent in sensitivity, resolution and etching resistance, and useful for fine processing by electron beams or far ultraviolet rays. It is an object of the present invention to provide a novel resist material and a pattern forming method using the same.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った
結果、レジスト材料用のベースポリマーとして用いられ
るのに必要な上記の諸性能、詳細には、紫外線や遠紫外
線(エキシマレーザー等を含む)を用いた半導体微細加
工用として、光透過性等に優れ、高感度で高解像度を有
し、かつアルカリ現像液に対して親和性が高く、良好な
パターンが得られるポジ型フォトレジスト組成物用のベ
ースポリマーとして用いられるのに必要な諸性能全てを
満足するポリマーとして狭い分子量分布を有する開環メ
タセシス重合体の水素添加物をベース樹脂として用いる
ことが有効であることを知見した。即ち、環状オレフィ
ン系単量体の開環メタセシス重合体の水素添加物とし
て、優れた光学特性、電気特性、高剛性、耐熱性、基板
密着性及び耐候性を有するレジスト材料用のベースポリ
マーとして利用できる可能性を鋭意検討したところ、あ
る特定の構造単位、即ち、脂肪族環状化合物を主鎖と
し、かつ、その環状構造の一部に酸素原子を含有する構
造単位を有する新規な開環メタセシス重合体の水素添加
物が、上記レジスト材料としての諸性能を満足すること
を見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems and Embodiments of the Invention The present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, have found that the above-mentioned various materials necessary for use as a base polymer for a resist material are obtained. Performance, more specifically, for semiconductor microfabrication using ultraviolet light or far ultraviolet light (including excimer laser, etc.), it has excellent light transmittance, etc., has high sensitivity and high resolution, and has affinity for alkali developing solutions. Highly reactive, a hydrogenated hydrogenated ring-opening metathesis polymer having a narrow molecular weight distribution as a polymer that satisfies all of the properties required to be used as a base polymer for a positive photoresist composition capable of obtaining a good pattern. It has been found that it is effective to use it as a base resin. That is, as a hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer of a cyclic olefin monomer, used as a base polymer for a resist material having excellent optical properties, electrical properties, high rigidity, heat resistance, substrate adhesion and weather resistance. After intensive study of the possibilities, a novel ring-opening metathesis polymer having a specific structural unit, that is, an aliphatic cyclic compound as a main chain and having a structural unit containing an oxygen atom as a part of the cyclic structure, has been proposed. The inventor has found that the combined hydrogenated product satisfies the above-mentioned properties as a resist material, and has completed the present invention.

【0009】即ち、本発明は、下記のレジスト材料及び
パターン形成方法を提供する。 請求項1:少なくとも下記一般式[1]
That is, the present invention provides the following resist material and pattern forming method. Claim 1: At least the following general formula [1]

【化9】 (式中、R〜Rのうち少なくとも一つが、下記一般
式[2]
Embedded image (Wherein at least one of R 1 to R 4 is represented by the following general formula [2]

【化10】 (式中、鎖線は結合手を示す。Rは水素原子、炭素数
1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素
数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアル
キル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状
のアシル基を示す。Rは炭素数1〜10の直鎖状、分
岐状又は環状のアルキル基を示す。Wは単結合又は炭
素数1〜10のk+2価の炭化水素基を示す。Zは炭素
数2〜15の2価の炭化水素基を示し、結合する炭素原
子と共に単環もしくは架橋環を形成する。kは0又は1
である。)で表される環状アルキルの三級エステル基を
有する官能基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原
子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基、ハロゲン原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状
又は環状のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20の直
鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素数2〜20
の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、炭
素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルカル
ボニルオキシ基、炭素数6〜20のアリールカルボニル
オキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状の
アルキルスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアリー
ルスルホニルオキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニル基、又は炭素数3〜
20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニル
アルキル基から選ばれ、Xは−O−又は−CR
(Rは水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐
状のアルキル基を表す)であり、同一でも異なってもよ
い。jは0又は1〜3の整数を表す。)で表される構造
単位[A]と、下記一般式[3]
Embedded image (In the formula, a chain line represents a bond. R 5 is a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkyl group having 2 to 10 carbon atoms. alkoxyalkyl group, or a straight, is .R 6 in which branched or cyclic acyl group .W 1 of a straight, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Represents a single bond or a k + divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Z represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 15 carbon atoms, and forms a single ring or a crosslinked ring together with the carbon atoms to be bonded. k is 0 or 1
It is. ) Is a functional group having a tertiary ester group of a cyclic alkyl, and the others are each independently a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a carbon atom A linear, branched or cyclic halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, 2 to 20 carbon atoms
Linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, an arylcarbonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms, 1 to 20 carbon atoms A linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group, an arylsulfonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, or a C3 to C2
Of 20 linear, selected from alkoxycarbonyl alkyl group branched or cyclic, X 1 is -O- or -CR 7 2 -
(R 7 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), which may be the same or different. j represents 0 or an integer of 1 to 3. ) And the following general formula [3]

【化11】 (式中、R〜R11は、それぞれ独立に、水素原子又
は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル
基であり、Xは−O−又は−CR12 −(R 12
水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアル
キル基を表す)であり、同一でも異なってもよい。mは
0又は1〜3の整数を表す。)で表される構造単位
[B]及び/又は下記一般式[4]
Embedded image(Where R8~ R11Are each independently a hydrogen atom or
Is a linear, branched or cyclic alkyl having 1 to 10 carbons
X2Is -O- or -CR12 2− (R 12Is
A hydrogen atom or a linear or branched alkyl having 1 to 10 carbon atoms
Represents a kill group), and may be the same or different. m is
Represents an integer of 0 or 1 to 3. ) Structural unit
[B] and / or the following general formula [4]

【化12】 (式中、R13〜R16は、それぞれ独立に、水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基であり、Xは−O−又は−CR17 −(R17
は水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のア
ルキル基を表す)であり、同一でも異なってもよい。Y
及びYは、一方が−(C=O)−であり、他方は、
−CR18 −(R18は水素原子又は炭素数1〜10
の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す)である。nは
0又は1〜3の整数を表す。)で表される構造単位
[C]から構成され、かつ、一般式[1]で表される構
造単位[A]のX、一般式[3]で表される構造単位
[B]のX、及び一般式[4]で表される構造単位
[C]のXのうち少なくとも1つが−O−であり、そ
の構成モル比[A]/([B]+[C])が20/80
〜99/1であり、かつ重量平均分子量Mwと数平均分
子量Mnとの比(Mw/Mn)が1.0〜2.0である
開環メタセシス重合体の水素添加物をベース樹脂として
含有することを特徴とするレジスト材料。 請求項2:一般式[1]のR〜Rのうち少なくとも
一つとして選ばれる一般式[2]で表される環状アルキ
ルの三級エステル基を有する官能基が、1−アルキルシ
クロペンチルエステル、2−アルキル−2−ノルボニル
エステル又は2−アルキル−2−アダマンチルエステル
である請求項1に記載のレジスト材料。 請求項3:開環メタセシス重合体の水素添加物が、更に
下記一般式[5]
Embedded image (Wherein, R 13 to R 16 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X 3 is —O— or —CR 17 2 —. (R 17
Represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), which may be the same or different. Y
1 and Y 2 are each — (C = O) — and the other is
—CR 18 2 — (R 18 is a hydrogen atom or a group having 1 to 10 carbon atoms.
Represents a linear or branched alkyl group). n represents 0 or an integer of 1 to 3. It is composed of structural units [C] represented by), and, X of the general formula X 1 in the structural unit [A] represented by [1], general formula [3] structural units represented by [B] 2 and at least one of X 3 in the structural unit [C] represented by the general formula [4] is —O—, and the constituent molar ratio [A] / ([B] + [C]) is 20. / 80
As a base resin, a hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer having a weight average molecular weight Mw and a number average molecular weight Mn (Mw / Mn) of 1.0 to 2.0. A resist material comprising: Claim 2: The functional group having a tertiary ester group of the cyclic alkyl represented by the general formula [2] selected as at least one of R 1 to R 4 of the general formula [1] is a 1-alkylcyclopentyl ester The resist material according to claim 1, which is a 2-alkyl-2-norbornyl ester or a 2-alkyl-2-adamantyl ester. Claim 3: The hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer further has the following general formula [5]:

【化13】 (式中、R19〜R22のうち少なくとも一つが、下記
一般式[6]
Embedded image (Wherein at least one of R 19 to R 22 is represented by the following general formula [6]

【化14】 (式中、鎖線は結合手を示す。R23は水素原子、炭素
数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭
素数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシア
ルキル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環
状のアシル基を示す。Wは単結合又は炭素数1〜10
のk+2価の炭化水素基を示す。qは0又は1であ
る。)で表されるカルボン酸基を有する官能基であり、
その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、ハロゲン原子、
炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化
アルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状
のアルコキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のアルコキシアルキル基、炭素数2〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキルカルボニルオキシ基、炭
素数6〜20のアリールカルボニルオキシ基、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルスルホニル
オキシ基、炭素数6〜20のアリールスルホニルオキシ
基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコ
キシカルボニル基、又は炭素数3〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基から選ば
れ、Xは−O−又は−CR24 −(R24は水素原
子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基
を表す)であり、同一でも異なってもよい。pは0又は
1〜3の整数を表す。)で表される構造単位[D]を含
む請求項1又は2記載のレジスト材料。 請求項4:ベース樹脂として含有する開環メタセシス重
合体の水素添加物において、一般式[1]で表される構
造単位[A]、一般式[3]で表される構造単位[B]
及び一般式[4]で表される構造単位[C]に対する一
般式[5]で表される構造単位[D]の構成モル比
([A]+[B]+[C])/[D]が100/0〜2
0/80である請求項3に記載のレジスト材料。 請求項5:開環メタセシス重合体の水素添加物が、更に
一般式[7]
Embedded image (In the formula, a chain line represents a bond. R 23 is a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkyl group having 2 to 10 carbon atoms. Represents an alkoxyalkyl group or a linear, branched or cyclic acyl group having 1 to 10 carbon atoms, and W 2 is a single bond or 1 to 10 carbon atoms.
Represents a k + divalent hydrocarbon group. q is 0 or 1. ) Is a functional group having a carboxylic acid group represented by
Others are each independently a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom,
C1-C20 linear, branched or cyclic halogenated alkyl group, C1-C20 linear, branched or cyclic alkoxy group, C2-C20 linear or branched Or a cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, an arylcarbonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms,
-20 linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group, a C6-C20 arylsulfonyloxy group, a C2-C20 linear, branched or cyclic alkoxycarbonyl group, or 3-20 linear, selected from alkoxycarbonyl alkyl group branched or cyclic, X 4 is -O- or -CR 24 2 - (R 24 represents a linear hydrogen atom or a C1-10 or Represents a branched alkyl group), and may be the same or different. p represents 0 or an integer of 1 to 3. 3. The resist material according to claim 1, which comprises a structural unit [D] represented by the formula: Claim 4: In the hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer contained as the base resin, the structural unit [A] represented by the general formula [1] and the structural unit [B] represented by the general formula [3]
And the structural molar ratio of the structural unit [D] represented by the general formula [5] to the structural unit [C] represented by the general formula [4] ([A] + [B] + [C]) / [D Is 100 / 0-2
The resist material according to claim 3, wherein the ratio is 0/80. Claim 5: The hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer further has a general formula [7]

【化15】 (式中、R25〜R28のうち少なくとも一つが、下記
一般式[8]
Embedded image (Wherein at least one of R 25 to R 28 is represented by the following general formula [8]

【化16】 (式中、鎖線は結合手を示す。R29は水素原子、炭素
数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭
素数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシア
ルキル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環
状のアシル基を示す。R30は炭素数1〜10の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数2〜10の直
鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、又は炭
素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化ア
ルキル基を示す。Wは単結合又は炭素数1〜10のk
+2価の炭化水素基を示す。sは0又は1である。)で
表されるカルボン酸エステル基を有する官能基であり、
その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、ハロゲン原子、
炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化
アルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状
のアルコキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のアルコキシアルキル基、炭素数2〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキルカルボニルオキシ基、炭
素数6〜20のアリールカルボニルオキシ基、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルスルホニル
オキシ基、炭素数6〜20のアリールスルホニルオキシ
基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコ
キシカルボニル基、又は炭素数3〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基から選ば
れ、Xは−O−又はCR31 −(R31は水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基を
表す)であり、同一でも異なってもよい。rは0又は1
〜3の整数を表す。)で表される構造単位[E]を含む
請求項1乃至4のいずれか1項記載のレジスト材料。 請求項6:ベース樹脂として含有する開環メタセシス重
合体の水素添加物において、一般式[1]で表される構
造単位[A]、一般式[3]で表される構造単位[B]
及び一般式[4]で表される構造単位[C]に対する一
般式[7]で表される構造単位[E]の構成モル比
([A]+[B]+[C])/[E]が100/0〜4
0/60である請求項5に記載のレジスト材料。 請求項7:ベース樹脂として含有する開環メタセシス重
合体の水素添加物のGPCで測定したポリスチレン換算
の数平均分子量Mnが500〜200,000であるこ
とを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載のレ
ジスト材料。 請求項8:ベース樹脂として含有する開環メタセシス重
合体の水素添加物のGPCで測定したポリスチレン換算
の数平均分子量Mnが3,000〜20,000である
ことを特徴とする請求項7に記載のレジスト材料。 請求項9:請求項1乃至8のいずれか1項に記載のレジ
スト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後フォト
マスクを介して高エネルギー線もしくは電子線で露光す
る工程と、必要に応じて加熱処理した後、現像液を用い
て現像する工程とを含むことを特徴とするパターン形成
方法。
Embedded image(In the formula, a chain line indicates a bond. R29Is a hydrogen atom, carbon
A linear, branched or cyclic alkyl group of the formulas 1 to 10;
Linear, branched or cyclic alkoxya having a prime number of 2 to 10
Alkyl group, or linear, branched or cyclic C 1-10
Represents an acyl group. R30Is a linear chain having 1 to 10 carbon atoms
, Branched or cyclic alkyl groups having 2 to 10 carbon atoms
Chain, branched or cyclic alkoxyalkyl group, or charcoal
A linear, branched or cyclic halogenated amine having a prime number of 1 to 20;
Represents a alkyl group. W3Is a single bond or k having 1 to 10 carbon atoms
+ Represents a divalent hydrocarbon group. s is 0 or 1. )so
It is a functional group having a carboxylic acid ester group represented,
Others are each independently a hydrogen atom, having 1 to 20 carbon atoms.
Linear, branched or cyclic alkyl group, halogen atom,
Linear, branched or cyclic halogenation having 1 to 20 carbon atoms
Alkyl group, C1-C20 linear, branched or cyclic
An alkoxy group, having 2 to 20 carbon atoms, linear, branched or
Cyclic alkoxyalkyl group, straight chain having 2 to 20 carbon atoms
, Branched or cyclic alkylcarbonyloxy group, charcoal
An arylcarbonyloxy group having a prime number of 6 to 20, having 1 carbon atom
-20 linear, branched or cyclic alkylsulfonyl
Oxy group, arylsulfonyloxy having 6 to 20 carbon atoms
Group, a linear, branched or cyclic alcohol having 2 to 20 carbon atoms
Xycarbonyl group or C3-C20 linear, branched
Selected from linear or cyclic alkoxycarbonylalkyl groups
X5Is -O- or CR31 2− (R31Is a hydrogen atom
Or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
) And may be the same or different. r is 0 or 1
Represents an integer of 1 to 3. ) Contains the structural unit [E]
The resist material according to claim 1. Claim 6: Ring-opening metathesis weight contained as a base resin
In the combined hydrogenated product, the structure represented by the general formula [1] is used.
Structural unit [A], structural unit [B] represented by general formula [3]
And the structural unit [C] represented by the general formula [4]
Constituent molar ratio of structural unit [E] represented by general formula [7]
([A] + [B] + [C]) / [E] is 100/0 to 4
The resist material according to claim 5, wherein the ratio is 0/60. Claim 7: Ring-opening metathesis weight contained as a base resin
In terms of polystyrene measured by GPC of the combined hydrogenated product
Has a number average molecular weight Mn of 500 to 200,000.
The laser according to any one of claims 1 to 6, characterized in that:
Zyst material. Claim 8: Ring-opening metathesis weight contained as a base resin
In terms of polystyrene measured by GPC of the combined hydrogenated product
Has a number average molecular weight Mn of 3,000 to 20,000.
The resist material according to claim 7, wherein: Claim 9: The cash register according to any one of claims 1 to 8
Process of applying a test material on a substrate and photo
Exposure with high energy beam or electron beam through mask
Process and, if necessary, heat treatment, and then
Patterning, comprising the steps of:
Method.

【0010】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のレジスト材料は、ベース樹脂として、下記一般
式[1]で表される構造単位[A]と、下記一般式
[3]で表される構造単位[B]及び/又は下記一般式
[4]で表される構造単位を含む開環メタセシス重合体
の水素添加物を使用する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The resist material of the present invention comprises, as a base resin, a structural unit [A] represented by the following general formula [1], a structural unit [B] represented by the following general formula [3], and / or the following general formula [3] [4] A hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer containing a structural unit represented by the following formula:

【0011】[0011]

【化17】 Embedded image

【0012】ここで、本発明の一般式[1]において、
〜Rのうち少なくとも一つが、下記一般式[2]
で表される環状アルキルの三級エステル基である。
Here, in the general formula [1] of the present invention,
At least one of R 1 to R 4 is represented by the following general formula [2]
Is a tertiary ester group of a cyclic alkyl represented by

【0013】[0013]

【化18】 (式中、鎖線は結合手を示す。Rは水素原子、炭素数
1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素
数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアル
キル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状
のアシル基を示す。Rは炭素数1〜10の直鎖状、分
岐状又は環状のアルキル基を示す。Wは単結合又は炭
素数1〜10のk+2価の炭化水素基を示す。Zは炭素
数2〜15の2価の炭化水素基を示し、結合する炭素原
子と共に単環もしくは架橋環を形成する。kは0又は1
である。)
Embedded image (In the formula, a chain line represents a bond. R 5 is a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkyl group having 2 to 10 carbon atoms. alkoxyalkyl group, or a straight, is .R 6 in which branched or cyclic acyl group .W 1 of a straight, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms Represents a single bond or a k + divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Z represents a divalent hydrocarbon group having 2 to 15 carbon atoms, and forms a single ring or a crosslinked ring together with the carbon atoms to be bonded. k is 0 or 1
It is. )

【0014】Rにおいて、炭素数1〜10の直鎖状、
分岐状又は環状のアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、tert−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、1−エチルシクロペンチル、及び1−エチルシク
ロヘキシル等が挙げられ、炭素数2〜10の直鎖状、分
岐状又は環状のアルコキシアルキル基としては、例えば
メトキシメチル、1−エトキシエチル、1−tert−
ブトキシエチル、1−シクロヘキシルオキシエチル、1
−エトキシプロピル、1−エトキシ−1−メチルエチ
ル、テトラヒドロフラン−2−イル、及びテトラヒドロ
ピラン−2−イル等が挙げられ、炭素数1〜10の直鎖
状、分岐状又は環状のアシル基としては、例えばフォル
ミル、アセチル、ピバロイル、及びシクロヘキシルカル
ボニル等が挙げられる。これらRのうち、炭素数1〜
6の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数2〜7の直
鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、及び炭
素数2〜7の直鎖状又は分岐状のアシル基が好ましく、
特に水素原子、メチル、エチル、メトキシメチル、1−
エトキシエチル、テトラヒドロフラン−2−イル及びア
セチルが好ましい。
In R 5 , a linear group having 1 to 10 carbon atoms;
Examples of the branched or cyclic alkyl group include methyl,
Ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 1-ethylcyclopentyl, 1-ethylcyclohexyl and the like, and are straight-chain, branched or cyclic having 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkoxyalkyl group include methoxymethyl, 1-ethoxyethyl, 1-tert-
Butoxyethyl, 1-cyclohexyloxyethyl, 1
-Ethoxypropyl, 1-ethoxy-1-methylethyl, tetrahydrofuran-2-yl, tetrahydropyran-2-yl and the like, and a straight-chain, branched or cyclic acyl group having 1 to 10 carbon atoms includes For example, formyl, acetyl, pivaloyl, cyclohexylcarbonyl and the like. Among these R 5 , C 1 to C 1
A linear or branched alkyl group having 6 to 7 carbon atoms, a linear or branched alkoxyalkyl group having 2 to 7 carbon atoms, and a linear or branched acyl group having 2 to 7 carbon atoms are preferable,
In particular, a hydrogen atom, methyl, ethyl, methoxymethyl, 1-
Ethoxyethyl, tetrahydrofuran-2-yl and acetyl are preferred.

【0015】Rにおいて、炭素数1〜10の直鎖状、
分岐状又は環状のアルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、tert−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロオクチル、ノルボニル、1−メチルシクロ
ペンチル、1−エチルシクロペンチル、1−メチルシク
ロヘキシル、1−エチルシクロヘキシル、1−メチルノ
ルボニル及び1−エチルノルボニル等が挙げられ、これ
らのうち、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、ノルボニル、1−エチルシク
ロペンチル及び1−エチルシクロヘキシルが好ましい。
In R 6 , a linear group having 1 to 10 carbon atoms;
Examples of the branched or cyclic alkyl group include methyl,
Ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclooctyl, norbornyl, 1-methylcyclopentyl, 1-ethylcyclopentyl, 1-methylcyclohexyl, 1-ethylcyclohexyl, 1-methylnorbonyl And 1-ethylnorbonyl, among which methyl, ethyl, propyl, isopropyl,
Preferred are n-butyl, isobutyl, tert-butyl, cyclopentyl, cyclohexyl, norbornyl, 1-ethylcyclopentyl and 1-ethylcyclohexyl.

【0016】Wにおいて、炭素数1〜10のk+2価
の炭化水素基としては、kが0の場合、炭素数1〜10
の直鎖状、分岐状又は環状の2価の炭化水素基であり、
例えばメチレン、ジメチルメチレン、エチリデン、プロ
ピリデン、ブチリデン、エチレン、1−メチルエチレ
ン、2−メチルエチレン、1−エチルエチレン、2−エ
チルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、1,2−ジ
メチルエチレン、2,2−ジメチルエチレン、1−エチ
ル−2−メチルエチレン、トリメチレン、1−メチルト
リメチレン、2−メチルトリメチレン、3−メチルトリ
メチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、1,1−
シクロペンチレン、1,2−シクロペンチレン、1,3
−シクロペンチレン、1,1−シクロヘキシレン、1,
2−シクロヘキシレン、1,3−シクロヘキシレン及び
1,4−シクロヘキシレン等が挙げられる。これらのう
ち、メチレン、エチリデン、エチレン、1−メチルエチ
レン、2−メチルエチレン、トリメチレン、及び2−メ
チルトリメチレンが好ましい。kが1の場合、例えば上
記kが0の場合で挙げた炭化水素基上の任意の位置の水
素原子1個を除いて結合手としたものが挙げられる。
In W 1 , as a k + divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, when k is 0, 1 to 10 carbon atoms
Is a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group,
For example, methylene, dimethylmethylene, ethylidene, propylidene, butylidene, ethylene, 1-methylethylene, 2-methylethylene, 1-ethylethylene, 2-ethylethylene, 1,1-dimethylethylene, 1,2-dimethylethylene, 2, 2-dimethylethylene, 1-ethyl-2-methylethylene, trimethylene, 1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene, 3-methyltrimethylene, tetramethylene, pentamethylene, 1,1-
Cyclopentylene, 1,2-cyclopentylene, 1,3
-Cyclopentylene, 1,1-cyclohexylene, 1,
2-cyclohexylene, 1,3-cyclohexylene, 1,4-cyclohexylene and the like can be mentioned. Of these, methylene, ethylidene, ethylene, 1-methylethylene, 2-methylethylene, trimethylene, and 2-methyltrimethylene are preferred. In the case where k is 1, for example, a bond other than one hydrogen atom at an arbitrary position on the hydrocarbon group mentioned in the case where k is 0 is used as a bond.

【0017】Zは炭素数2〜15の2価の炭化水素基で
あって、かつ結合する炭素原子と共に単環もしくは架橋
環を形成する炭化水素基である。即ち
Z is a divalent hydrocarbon group having 2 to 15 carbon atoms and forms a monocyclic or bridged ring together with the carbon atoms to be bonded. That is

【化19】 で示される基としては、例えば、下記一般式[13]Embedded image As the group represented by, for example, the following general formula [13]

【化20】 (式中、Rは前記定義通り。R32〜R37はそれぞ
れ独立に水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状
又は環状のアルキル基である。bは0又は1〜6の整数
であり、bが2〜6の場合、複数のR34及びR35
それぞれ同一であっても異なっていてもよい。)で表さ
れる1−アルキルシクロアルキル基、下記一般式[1
4]
Embedded image (In the formula, R 6 is as defined above. R 32 to R 37 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. B is 0 or 1 to 6 And when b is 2 to 6, a plurality of R 34 and R 35 may be the same or different.) 1-alkylcycloalkyl group represented by the following general formula [1
4]

【化21】 (式中、Rは前記定義通り。R38〜R47はそれぞ
れ独立に水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状
又は環状のアルキル基である。)で表される2−アルキ
ル−2−ノルボニル基、及び2−メチル−2−アダマン
チル及び2−エチル−2−アダマンチル等の2−アルキ
ル−2−アダマンチル基が挙げられる。
Embedded image (Wherein, R 6 is as defined above; R 38 to R 47 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms). Examples thereof include an alkyl-2-norbonyl group and a 2-alkyl-2-adamantyl group such as 2-methyl-2-adamantyl and 2-ethyl-2-adamantyl.

【0018】一般式[13]の具体例としては、1−メ
チルシクロプロピル、1−メチルシクロブチル、1−エ
チルシクロブチル、1−メチルシクロペンチル、1−エ
チルシクロペンチル、1−n−プロピルシクロペンチ
ル、1−iso−プロピルシクロペンチル、1−ter
t−ブチルシクロペンチル、1−シクロペンチルシクロ
ペンチル、1−シクロヘキシルシクロペンチル、1−ノ
ルボニルシクロペンチル、1−メチルシクロヘキシル、
1−エチルシクロヘキシル、1−メチルシクロヘプチ
ル、1−エチルシクロヘプチル、1−メチルシクロオク
チル、及び1−メチルシクロノニル等が挙げられ、これ
らのうち、1−メチルシクロペンチル、1−エチルシク
ロペンチル、1−n−プロピルシクロペンチル、1−i
so−プロピルシクロペンチル、1−tert−ブチル
シクロペンチル、1−シクロペンチルシクロペンチル、
1−シクロヘキシルシクロペンチル、及び1−ノルボニ
ルシクロペンチル等の下記化学式[15−1]〜[15
−8]
Specific examples of the general formula [13] include 1-methylcyclopropyl, 1-methylcyclobutyl, 1-ethylcyclobutyl, 1-methylcyclopentyl, 1-ethylcyclopentyl, 1-n-propylcyclopentyl, -Iso-propylcyclopentyl, 1-ter
t-butylcyclopentyl, 1-cyclopentylcyclopentyl, 1-cyclohexylcyclopentyl, 1-norbornylcyclopentyl, 1-methylcyclohexyl,
1-ethylcyclohexyl, 1-methylcycloheptyl, 1-ethylcycloheptyl, 1-methylcyclooctyl, 1-methylcyclononyl, and the like, among which 1-methylcyclopentyl, 1-ethylcyclopentyl, n-propylcyclopentyl, 1-i
so-propylcyclopentyl, 1-tert-butylcyclopentyl, 1-cyclopentylcyclopentyl,
The following chemical formulas [15-1] to [15] such as 1-cyclohexylcyclopentyl and 1-norbornylcyclopentyl
-8]

【化22】 で表される1−アルキルシクロペンチルが好ましく、よ
り好ましくは1−メチルシクロペンチル[15−1]及
び1−エチルシクロペンチル[15−2]である。
Embedded image Is preferable, and 1-methylcyclopentyl [15-1] and 1-ethylcyclopentyl [15-2] are more preferable.

【0019】一般式[14]の具体例としては、下記化
学式[16−1]〜[16−11]
Specific examples of the general formula [14] include the following chemical formulas [16-1] to [16-11].

【化23】 等の2−アルキル−2−ノルボニル基が挙げられ、これ
らのうち、[16−1]、[16−2]、[16−3]
及び[16−4]が好ましい。
Embedded image And the like, and among these, [16-1], [16-2], and [16-3]
And [16-4] are preferred.

【0020】R〜Rのうちその他は、それぞれ独立
に、水素原子、炭素数1〜20であるメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert−ブチ
ル、シクロヘキシル又はメンチル等の直鎖状、分岐状又
は環状のアルキル基、塩素原子、臭素原子、沃素原子又
はフッ素原子等のハロゲン、炭素数1〜20のフルオロ
メチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジフルオロメチ
ル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、トリフルオロメ
チル、トリクロロメチル又はトリブロモメチル等の直鎖
状、分岐状又は環状のハロゲン化アルキル基、炭素数1
〜12のメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、n−ブ
トキシ、tert−ブトキシ又はメントキシ等の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素数2〜20の
メトキシメチル、メトキシエチル、tert−ブトキシ
メチル、tert−ブトキシエチル又はメトキシメント
ール等の、又はメチルグルコース等のアルコキシ糖類を
含む直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、
炭素数2〜20のアセトキシ等の直鎖状、分岐状又は環
状のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜20のナ
フトイルオキシ等のアリールカルボニルオキシ基、炭素
数1〜20のメシルオキシ等の直鎖状、分岐状又は環状
のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のトシ
ルオキシ等のアリールスルホニルオキシ基、炭素数2〜
20のメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−
プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n
−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニ
ル、又はシクロヘキシルオキシカルボニル等の直鎖状、
分岐状又は環状のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜
20のメトキシカルボニルメチル、2−(メトキシカル
ボニル)エチル、1−(メトキシカルボニル)エチル、
エトキシカルボニルメチル、2−(エトキシカルボニ
ル)エチル、n−プロポキシカルボニルメチル、イソプ
ロポキシカルボニルメチル、n−ブトキシカルボニルメ
チル、tert−ブトキシカルボニルメチル、又はシク
ロヘキシルオキシカルボニルメチル等の直鎖状、分岐状
又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基が具体例と
して挙げられる。これらのうち、水素原子、炭素数1〜
20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素
数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアル
キル基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のア
ルコキシカルボニル基、及び炭素数3〜20の直鎖状、
分岐状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基が好
ましく、より好ましくは水素原子、炭素数1〜10の直
鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数2〜10の直鎖状
又は分岐状のアルコキシカルボニル基、及び炭素数3〜
10の直鎖状又は分岐状のアルコキシカルボニルアルキ
ル基である。
Others among R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, methyl or ethyl having 1 to 20 carbon atoms,
A linear, branched or cyclic alkyl group such as propyl, isopropyl, n-butyl, tert-butyl, cyclohexyl or menthyl; a halogen atom such as a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a fluorine atom; A linear, branched or cyclic halogenated alkyl group such as fluoromethyl, chloromethyl, bromomethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, dibromomethyl, trifluoromethyl, trichloromethyl or tribromomethyl, having 1 carbon atom
Linear, branched or cyclic alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, isopropoxy, n-butoxy, tert-butoxy or mentoxy, methoxymethyl having 2 to 20 carbon atoms, methoxyethyl, tert-butoxymethyl, linear, branched or cyclic alkoxyalkyl groups such as tert-butoxyethyl or methoxymenthol, or containing alkoxy sugars such as methyl glucose,
A linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group such as acetoxy having 2 to 20 carbon atoms, an arylcarbonyloxy group such as naphthoyloxy having 6 to 20 carbon atoms, and a straight chain such as mesyloxy having 1 to 20 carbon atoms. , Branched or cyclic alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group such as tosyloxy having 6 to 20 carbon atoms, 2 to 2 carbon atoms
20 methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n-
Propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, n
-Butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, or a linear chain such as cyclohexyloxycarbonyl,
Branched or cyclic alkoxycarbonyl group, having 3 to 3 carbon atoms
20 methoxycarbonylmethyl, 2- (methoxycarbonyl) ethyl, 1- (methoxycarbonyl) ethyl,
Linear, branched or cyclic such as ethoxycarbonylmethyl, 2- (ethoxycarbonyl) ethyl, n-propoxycarbonylmethyl, isopropoxycarbonylmethyl, n-butoxycarbonylmethyl, tert-butoxycarbonylmethyl, or cyclohexyloxycarbonylmethyl Are specific examples. Of these, a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 1
20 linear, branched or cyclic alkyl groups, 1 carbon atom
Linear, branched or cyclic alkoxy group having 2 to 20 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkoxy group having 2 to 20 carbon atoms A carbonyl group, and a straight-chain having 3 to 20 carbon atoms,
A branched or cyclic alkoxycarbonylalkyl group is preferable, and more preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a linear or branched alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms. , And 3 or more carbon atoms
And 10 linear or branched alkoxycarbonylalkyl groups.

【0021】Xは−O−又は−CR −(Rは水
素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキ
ル基を表す)である。jは0又は1〜3の整数であり、
jが1〜3の場合、Xは同一でも異なってもよい。R
としては水素原子、又は炭素数1〜10のメチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル又はt
ert−ブチル等の直鎖状又は分岐状のアルキル基が具
体例として挙げられる。Xとして、好ましくは−O−
又は−CH−であり、より好ましくは全てのXが−
O−又は−CH−のいずれかである。jとして好まし
くは0又は1である。
[0021] X 1 is -O- or -CR 7 2 - is a (R 7 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms). j is 0 or an integer of 1 to 3,
When j is 1 to 3, X 1 may be the same or different. R
7 is a hydrogen atom, or methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl or t-carbon having 1 to 10 carbon atoms
Specific examples include a linear or branched alkyl group such as tert-butyl. X 1 is preferably -O-
Or -CH 2 -, more preferably all of X 1 is -
O- or -CH 2 - is either. j is preferably 0 or 1.

【0022】一般式[1]の具体例としては、下記化学
式[17−1−1]〜[17−4−16]で表される構
造単位[A]が挙げられる。
Specific examples of the general formula [1] include structural units [A] represented by the following chemical formulas [17-1-1] to [17-4-16].

【0023】[0023]

【化24】 Embedded image

【0024】[0024]

【化25】 Embedded image

【0025】[0025]

【化26】 Embedded image

【0026】[0026]

【化27】 Embedded image

【0027】また、一般式[3]において、R〜R
11は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜10
のメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、tert−ブチル、シクロヘキシル又はメンチ
ル等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が具体例と
して挙げられる。Xは−O−又は−CR12 −(R
12は水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状
のアルキルを表す)である。mは0又は1〜3の整数で
あり、mが1〜3の場合、Xは同一でも異なってもよ
い。R12としては水素原子、又は炭素数1〜10のメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル又はtert−ブチル等の直鎖状又は分岐状のアルキ
ル基が具体例として挙げられる。Xとして、好ましく
は−O−又は−CH−であり、より好ましくは全ての
が−O−又は−CH−のいずれかである。mとし
て好ましくは0又は1である。
In the general formula [3], R8~ R
11Are each independently a hydrogen atom or a group having 1 to 10 carbon atoms.
Methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-
Butyl, tert-butyl, cyclohexyl or mench
Specific examples are linear, branched or cyclic alkyl groups such as
It is mentioned. X2Is -O- or -CR12 2− (R
12Is a hydrogen atom or a straight or branched chain having 1 to 10 carbon atoms
Represents alkyl). m is 0 or an integer of 1 to 3
Yes, if m is 1-3, X2May be the same or different
No. R12As a hydrogen atom or a C 1-10
Chill, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl
Linear or branched alkyl such as
A specific example is a hydroxyl group. X2As preferred
Is -O- or -CH2-, More preferably all
X2Is -O- or -CH2-Any of m
And preferably 0 or 1.

【0028】一般式[3]の具体例としては、下記化学
式[18−1]〜[18−16]で表される構造単位
[B]が挙げられる。
Specific examples of the general formula [3] include structural units [B] represented by the following chemical formulas [18-1] to [18-16].

【0029】[0029]

【化28】 Embedded image

【0030】また、一般式[4]において、R13〜R
16は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数1〜1
0のメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、tert−ブチル、シクロヘキシル又はメン
チル等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が具体例
として挙げられる。Xは−O−又は−CR17
(R17は水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分
岐状のアルキルを表す)である。nは0又は1〜3の整
数であり、nが1〜3の場合、Xは同一でも異なって
もよい。R17としては水素原子、又は炭素数1〜10
のメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル又はtert−ブチル等の直鎖状又は分岐状のア
ルキル基が具体例として挙げられる。Xとして、好ま
しくは−O−又は−CH−であり、より好ましくは全
てのXが−O−又は−CH−のいずれかである。Y
及びYは、一方が−(C=O)−であり、他方は、
−CR18 −(R18は水素原子又は炭素数1〜10
の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す)である。R
18としては水素原子、又は炭素数1〜10のメチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル又は
tert−ブチル等の直鎖状又は分岐状のアルキル基が
具体例として挙げられる。Y及びYとして、好まし
くは一方が−(C=O)−であり、他方が−CH−で
ある。nとして好ましくは0又は1である。
In the general formula [4], R 13 to R
16 are each independently a hydrogen atom or a group having 1 to 1 carbon atoms.
0 methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n
Specific examples include a linear, branched or cyclic alkyl group such as -butyl, tert-butyl, cyclohexyl or menthyl. X 3 is -O- or -CR 17 2 -
(R 17 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl having 1 to 10 carbon atoms). n is 0 or an integer of 1 to 3, and when n is 1 to 3, X 3 may be the same or different. R 17 is a hydrogen atom or a C 1-10
Methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-
A specific example is a linear or branched alkyl group such as butyl or tert-butyl. X 3 is preferably —O— or —CH 2 —, and more preferably all X 3 are either —O— or —CH 2 —. Y
1 and Y 2 are each — (C = O) — and the other is
—CR 18 2 — (R 18 is a hydrogen atom or a group having 1 to 10 carbon atoms.
Represents a linear or branched alkyl group). R
18 is a hydrogen atom or methyl having 1 to 10 carbons,
Specific examples include linear or branched alkyl groups such as ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl and tert-butyl. One of Y 1 and Y 2 is preferably — (C = O) —, and the other is —CH 2 —. n is preferably 0 or 1.

【0031】一般式[4]の具体例としては、下記化学
式[19−1]〜[19−16]で表される構造単位
[C]が挙げられる。
Specific examples of the general formula [4] include structural units [C] represented by the following chemical formulas [19-1] to [19-16].

【0032】[0032]

【化29】 Embedded image

【0033】本発明で用いる開環メタセシス重合体の水
素添加物は、一般式[1]で表される構造単位[A]の
、一般式[3]で表される構造単位[B]のX
及び一般式[4]で表される構造単位[C]のXのう
ち少なくとも1つが−O−である開環メタセシス重合体
の水素添加物であり、このように酸素原子が主鎖である
脂肪族環状化合物中に存在することにより、シリコン基
板のような被処理基板への密着性、アルカリ水溶液によ
る現像時に濡れ張力の改善、レジスト剤のシリコンウエ
ハーに塗布する工程で使用されるケトン類、アルコール
類等の極性有機溶媒に対する溶解性を更に向上させる効
果があり、また、水に対する親和性も向上し、露光後の
アルカリ水溶液等の剥離剤(又は現像剤)に対する現像
性も向上する。好ましくは、一般式[1]で表される構
造単位[A]のX、一般式[3]で表される構造単位
[B]のX、及び一般式[4]で表される構造単位
[C]のXのうち少なくとも1つが−O−であり、そ
の他が−CH−である開環メタセシス重合体の水素添
加物である。X、X及びXの全合計単位量に対す
る−O−単位の量は、1〜99モル%であり、好ましく
は2〜95モル%であり、より好ましくは5〜80モル
%であり、最も好ましくは10〜70モル%である。
The hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer used in the present invention includes X 1 of the structural unit [A] represented by the general formula [1] and the structural unit [B] represented by the general formula [3]. X 2 ,
And a hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer in which at least one of X 3 of the structural unit [C] represented by the general formula [4] is —O—, and thus the oxygen atom is a main chain. By being present in the aliphatic cyclic compound, adhesion to a substrate to be processed such as a silicon substrate, improvement in wetting tension during development with an alkaline aqueous solution, ketones used in a step of applying a resist agent to a silicon wafer, This has the effect of further improving the solubility in polar organic solvents such as alcohols, improving the affinity for water, and improving the developability with a release agent (or developer) such as an aqueous alkali solution after exposure. Preferably, X 1 of the structural unit [A] represented by the general formula [1], X 2 of the structural unit [B] represented by the general formula [3], and the structure represented by the general formula [4] It is a hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer in which at least one of X 3 in the unit [C] is —O— and the other is —CH 2 —. The amount of -O- units to the total sum unit amount of X 1, X 2 and X 3 is 1 to 99 mol%, preferably from 2 to 95 mol%, more preferably 5 to 80 mol% , Most preferably from 10 to 70 mol%.

【0034】本発明において、一般式[1]で表される
構造単位[A]と一般式[3]で表される構造単位
[B]及び/又は一般式[4]で表される構造単位
[C]のモル比[A]/([B]+[C])は20/8
0〜99/1であり、構造単位[A]に加えて構造単位
[B]及び/又は[C]がある一定量存在することが必
須である。ここで、構造単位[A]は、一般式[2]で
表される環状アルキルの三級エステル基、即ち露光時に
感光剤から発生する酸により分解してカルボン酸を生成
する基を含んでおり、露光後、アルカリ水溶液で現像し
てレジストパターンを作るために必要である。また、構
造単位[B]及び/又は[C]は、シリコン基板のよう
な被処理基板との密着性を発現するのに必要である。こ
れらのモル比[A]/([B]+[C])が20/80
未満であると、現像が不十分となり、99/1を超える
と被処理基板との密着性が発現しない。好ましくはモル
比[A]/([B]+[C])が20/80〜95/5
であり、より好ましくは25/75〜90/10であ
り、最も好ましくは30/70〜85/15である。こ
れらの構造単位がこの範囲にあることは、レジスト組成
を調製するのに好適であり、極性の高い感光剤と共に、
例えば、2−ヘプタノンなどの極性溶媒に溶解し、シリ
コン基板のような被処理基板に塗布するレジスト材料と
して極めて重要である。即ち、開環メタセシス重合体の
水素添加物が、レジスト材料を調製する時に、極性溶媒
に対する溶解度、又は溶解速度を高めることで均一な平
滑コーティング膜を形成することができる。
In the present invention, the structural unit [A] represented by the general formula [1] and the structural unit [B] represented by the general formula [3] and / or the structural unit represented by the general formula [4] The molar ratio [A] / ([B] + [C]) of [C] is 20/8
0 to 99/1, and it is essential that a certain amount of the structural unit [B] and / or [C] be present in addition to the structural unit [A]. Here, the structural unit [A] includes a tertiary ester group of a cyclic alkyl represented by the general formula [2], that is, a group which is decomposed by an acid generated from a photosensitizer upon exposure to generate a carboxylic acid. After exposure, it is necessary to develop with an aqueous alkali solution to form a resist pattern. In addition, the structural units [B] and / or [C] are necessary for developing adhesion to a substrate to be processed such as a silicon substrate. The molar ratio [A] / ([B] + [C]) is 20/80.
When the ratio is less than the above, the development becomes insufficient, and when it exceeds 99/1, the adhesion to the substrate to be processed does not appear. Preferably, the molar ratio [A] / ([B] + [C]) is 20/80 to 95/5.
, More preferably 25/75 to 90/10, and most preferably 30/70 to 85/15. Having these structural units in this range is suitable for preparing a resist composition, and together with a highly polar photosensitizer,
For example, it is extremely important as a resist material that is dissolved in a polar solvent such as 2-heptanone and applied to a substrate to be processed such as a silicon substrate. That is, a uniform smooth coating film can be formed by increasing the solubility or dissolution rate of a hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer in a polar solvent when preparing a resist material.

【0035】本発明で用いる開環メタセシス重合体の水
素添加物においては、構造単位[B]又は[C]の少な
くともいずれかが必須であり、構造単位[A]に加えて
構造単位[B]及び[C]から構成される3元共重合体
でも構わないが、好ましくは構造単位[B]又は[C]
の一方のみから構成される2元共重合体である。
In the hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer used in the present invention, at least one of the structural units [B] and [C] is essential, and in addition to the structural unit [A], the structural unit [B] Or a terpolymer composed of [C], but is preferably a structural unit [B] or [C].
Is a binary copolymer composed of only one of the above.

【0036】本発明で用いる開環メタセシス重合体の水
素添加物は、重量平均分子量Mwと数平均分子量との比
(Mw/Mn)が1.0〜2.0の狭い分子量分布に制
限される。分子量分布はレジスト材料として用いた時の
解像度に大きく影響し、狭い程高解像度のパターンを得
ることができる。好ましくは1.0〜1.8、より好ま
しくは1.0〜1.6の範囲である。本発明の開環メタ
セシス重合体の水素添加物の分子量は、通常、数平均分
子量Mnが500〜200,000である。好ましくは
1,000〜100,000であり、より好ましくは
3,000〜50,000、更に好ましくは3,000
〜20,000である。なお、本明細書において記載す
る数平均分子量及び重量平均分子量はポリスチレン換算
でのゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GP
C)によって測定した。
The hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer used in the present invention is limited to a narrow molecular weight distribution in which the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight Mw to the number average molecular weight is 1.0 to 2.0. . The molecular weight distribution greatly affects the resolution when used as a resist material, and the narrower the molecular weight distribution, the higher the resolution of the pattern. Preferably it is in the range of 1.0 to 1.8, more preferably 1.0 to 1.6. The molecular weight of the hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer of the present invention usually has a number average molecular weight Mn of 500 to 200,000. It is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 50,000, and still more preferably 3,000.
~ 20,000. The number average molecular weight and weight average molecular weight described in the present specification are gel permeation chromatography (GP) in terms of polystyrene.
C).

【0037】また、これらの開環メタセシス重合体の水
素添加物は、構造単位[A]、[B]及び/又は[C]
それぞれ1種の構造単位からなるものでもよいが、それ
ぞれの構造単位のいずれかが又は全てが2種以上の構造
単位からなるものでもよい。例えば、構造単位[A]が
下記一般式[1−1]及び[1−2]
The hydrogenated products of these ring-opening metathesis polymers have structural units [A], [B] and / or [C]
Each of the structural units may be composed of one type of structural unit, or any or all of the structural units may be composed of two or more types of structural units. For example, when the structural unit [A] is represented by the following general formulas [1-1] and [1-2]

【化30】 (式中、R48〜R51のうち少なくとも一つが、一般
式[2]で表される環状アルキルの三級エステル基を有
する官能基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原
子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基、ハロゲン、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素数2〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、炭素
数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルカルボ
ニルオキシ基、炭素数6〜20のアリールカルボニルオ
キシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のア
ルキルスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアリール
スルホニルオキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状
又は環状のアルコキシカルボニル基、又は炭素数3〜2
0の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニルア
ルキル基から選ばれ、j1は0又は1〜3の整数を表
す。)
Embedded image (In the formula, at least one of R 48 to R 51 is a functional group having a tertiary ester group of a cyclic alkyl represented by the general formula [2], and the others are each independently a hydrogen atom, a carbon atom 1 ~ 20 linear, branched or cyclic alkyl groups, halogen, C1-20 linear, branched or cyclic halogenated alkyl groups, C1-20 linear, branched or A cyclic alkoxy group, a linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, Arylcarbonyloxy group, C1-C20 linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group, C6-C20 arylsulfonyloxy group, C2-C20 linear, branched or cyclic Alcoqui Carbonyl group, or a carbon number 3-2
It is selected from 0 linear, branched or cyclic alkoxycarbonylalkyl groups, and j1 represents 0 or an integer of 1 to 3. )

【化31】 (式中、R52〜R55のうち少なくとも一つが、一般
式[2]で表される環状アルキルの三級エステル基を有
する官能基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原
子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基、ハロゲン、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素数2〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、炭素
数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルカルボ
ニルオキシ基、炭素数6〜20のアリールカルボニルオ
キシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のア
ルキルスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアリール
スルホニルオキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状
又は環状のアルコキシカルボニル基、又は炭素数3〜2
0の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニルア
ルキル基から選ばれ、j2は0又は1〜3の整数を表
す。)で表される構造単位[A−1]及び[A−2]
と、構造単位[B]が下記一般式[3−1]及び[3−
2]
Embedded image (In the formula, at least one of R 52 to R 55 is a functional group having a tertiary ester group of a cyclic alkyl represented by the general formula [2], and the others are each independently a hydrogen atom, a carbon atom 1 group. ~ 20 linear, branched or cyclic alkyl groups, halogen, C1-20 linear, branched or cyclic halogenated alkyl groups, C1-20 linear, branched or A cyclic alkoxy group, a C2-20 linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group, a C2-20 linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group, a C6-20 Arylcarbonyloxy group, C1-C20 linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group, C6-C20 arylsulfonyloxy group, C2-C20 linear, branched or cyclic Alcoqui Carbonyl group, or a carbon number 3-2
It is selected from 0 linear, branched or cyclic alkoxycarbonylalkyl groups, and j2 represents 0 or an integer of 1 to 3. )) And the structural units [A-1] and [A-2]
And the structural unit [B] is represented by the following general formulas [3-1] and [3-
2]

【化32】 (式中、R56〜R59は、それぞれ独立に、水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基であり、m1は0又は1〜3の整数を表す。)
Embedded image (In the formula, R 56 to R 59 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m1 represents an integer of 0 or 1 to 3. )

【化33】 (式中、R60〜R63は、それぞれ独立に、水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基であり、m2は0又は1〜3の整数を表す。)で表
される構造単位[B−1]及び[B−2]及び/又は構
造単位[C]が下記一般式[4−1]及び[4−2]
Embedded image (In the formula, R 60 to R 63 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and m2 represents an integer of 0 or 1 to 3. The structural units [B-1] and [B-2] and / or the structural unit [C] represented by the following general formulas [4-1] and [4-2]

【化34】 (式中、R64〜R67は、それぞれ独立に、水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基であり、Y及びYは一方が−(C=O)−であ
り他方は−CH−であり、n1は0又は1〜3の整数
を表す。)
Embedded image (Wherein, R 64 to R 67 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and one of Y 3 and Y 4 is-(C = O)-and the other is -CH2-, and n1 represents 0 or an integer of 1 to 3. )

【化35】 (式中、R68〜R71は、それぞれ独立に、水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基であり、Y及びYは一方が−(C=O)−であ
り他方は−CH−であり、n2は0又は1〜3の整数
を表す。)で表される構造単位[C−1]及び[C−
2]からなる開環メタセシス重合体の水素添加物とする
ことができる。
Embedded image (Wherein, R 68 to R 71 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and one of Y 5 and Y 6 is-(C = O) - and is the other is -CH 2 -. a, n2 represents an integer of 0 or 1 to 3) structural units [C-1] represented by and [C-
2], which is a hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer.

【0038】本発明で用いる開環メタセシス共重合体の
水素添加物は、構造単位[A]と[B]及び/又は
[C]とに加えて、下記一般式[5]
The hydrogenated product of the ring-opening metathesis copolymer used in the present invention has the following general formula [5] in addition to the structural units [A] and [B] and / or [C].

【化36】 (式中、R19〜R22のうち少なくとも一つが、下記
一般式[6]
Embedded image (Wherein at least one of R 19 to R 22 is represented by the following general formula [6]

【化37】 (式中、鎖線は結合手を示す。R23は水素原子、炭素
数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭
素数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシア
ルキル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環
状のアシル基を示す。Wは単結合又は炭素数1〜10
のk+2価の炭化水素基を示す。qは0又は1であ
る。)で表されるカルボン酸基を有する官能基であり、
その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、ハロゲン原子、
炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化
アルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状
のアルコキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のアルコキシアルキル基、炭素数2〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキルカルボニルオキシ基、炭
素数6〜20のアリールカルボニルオキシ基、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルスルホニル
オキシ基、炭素数6〜20のアリールスルホニルオキシ
基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコ
キシカルボニル基、又は炭素数3〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基から選ば
れ、Xは−O−又は−CR24 −(R24は水素原
子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基
を表す)であり、同一でも異なってもよい。pは0又は
1〜3の整数を表す。)で表される構造単位[D]を更
に構造単位として有していることが、基板密着性及び現
像液への親和性が更に向上するために好ましい。
Embedded image (In the formula, a chain line represents a bond. R 23 is a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkyl group having 2 to 10 carbon atoms. Represents an alkoxyalkyl group or a linear, branched or cyclic acyl group having 1 to 10 carbon atoms, and W 2 is a single bond or 1 to 10 carbon atoms.
Represents a k + divalent hydrocarbon group. q is 0 or 1. ) Is a functional group having a carboxylic acid group represented by
Others are each independently a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom,
C1-C20 linear, branched or cyclic halogenated alkyl group, C1-C20 linear, branched or cyclic alkoxy group, C2-C20 linear or branched Or a cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, an arylcarbonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms,
-20 linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group, a C6-C20 arylsulfonyloxy group, a C2-C20 linear, branched or cyclic alkoxycarbonyl group, or 3-20 linear, selected from alkoxycarbonyl alkyl group branched or cyclic, X 4 is -O- or -CR 24 2 - (R 24 represents a linear hydrogen atom or a C1-10 or Represents a branched alkyl group), and may be the same or different. p represents 0 or an integer of 1 to 3. It is preferable to further have the structural unit [D] represented by the formula (1) as a structural unit in order to further improve the substrate adhesion and the affinity for the developing solution.

【0039】R23において、炭素数1〜10の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、tert−ブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、1−エチルシクロペンチル、及び1−エチル
シクロヘキシル等が挙げられ、炭素数2〜10の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基としては、
例えばメトキシメチル、1−エトキシエチル、1−te
rt−ブトキシエチル、1−シクロヘキシルオキシエチ
ル、1−エトキシプロピル、1−エトキシ−1−メチル
エチル、テトラヒドロフラン−2−イル、及びテトラヒ
ドロピラン−2−イル等が挙げられ、炭素数1〜10の
直鎖状、分岐状又は環状のアシル基としては、例えばフ
ォルミル、アセチル、ピバロイル、及びシクロヘキシル
カルボニル等が挙げられる。これらR 23のうち、炭素
数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数2〜
7の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、
及び炭素数2〜7の直鎖状又は分岐状のアシル基が好ま
しく、特に水素原子、メチル、エチル、メトキシメチ
ル、1−エトキシエチル、テトラヒドロフラン−2−イ
ル及びアセチルが好ましい。
R23, A linear chain having 1 to 10 carbon atoms
As a branched, branched or cyclic alkyl group, for example, methyl
, Ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl,
Sobutyl, tert-butyl, cyclopentyl, cyclo
Hexyl, 1-ethylcyclopentyl, and 1-ethyl
Cyclohexyl and the like, and a straight chain having 2 to 10 carbon atoms.
As a, branched or cyclic alkoxyalkyl group,
For example, methoxymethyl, 1-ethoxyethyl, 1-te
rt-butoxyethyl, 1-cyclohexyloxyethyl
1-ethoxypropyl, 1-ethoxy-1-methyl
Ethyl, tetrahydrofuran-2-yl, and tetrahi
Dropyran-2-yl and the like, having 1 to 10 carbon atoms
As the linear, branched or cyclic acyl group, for example,
Olmil, acetyl, pivaloyl, and cyclohexyl
Carbonyl and the like. These R 23Out of carbon
A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 2 to 2 carbon atoms
7, a linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group;
And a linear or branched acyl group having 2 to 7 carbon atoms is preferred.
Especially hydrogen, methyl, ethyl, methoxymethyl
, 1-ethoxyethyl, tetrahydrofuran-2-i
And acetyl are preferred.

【0040】Wにおいて、炭素数1〜10のq+2価
の炭化水素基としては、qが0の場合、炭素数1〜10
の直鎖状、分岐状又は環状の2価の炭化水素基であり、
例えばメチレン、ジメチルメチレン、エチリデン、プロ
ピリデン、ブチリデン、エチレン、1−メチルエチレ
ン、2−メチルエチレン、1−エチルエチレン、2−エ
チルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、1,2−ジ
メチルエチレン、2,2−ジメチルエチレン、1−エチ
ル−2−メチルエチレン、トリメチレン、1−メチルト
リメチレン、2−メチルトリメチレン、3−メチルトリ
メチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、1,1−
シクロペンチレン、1,2−シクロペンチレン、1,3
−シクロペンチレン、1,1−シクロヘキシレン、1,
2−シクロヘキシレン、1,3−シクロヘキシレン、及
び1,4−シクロヘキシレン等が挙げられる。これらの
うち、メチレン、エチリデン、エチレン、1−メチルエ
チレン、2−メチルエチレン、トリメチレン、及び2−
メチルトリメチレンが好ましい。kが1の場合、例えば
上記kが0の場合で挙げた炭化水素基上の任意の位置の
水素原子1個を除いて結合手としたものが挙げられる。
最も好ましいWは単結合である。
In W 2 , as q + 2 valent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, when q is 0, 1 to 10 carbon atoms
Is a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group,
For example, methylene, dimethylmethylene, ethylidene, propylidene, butylidene, ethylene, 1-methylethylene, 2-methylethylene, 1-ethylethylene, 2-ethylethylene, 1,1-dimethylethylene, 1,2-dimethylethylene, 2, 2-dimethylethylene, 1-ethyl-2-methylethylene, trimethylene, 1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene, 3-methyltrimethylene, tetramethylene, pentamethylene, 1,1-
Cyclopentylene, 1,2-cyclopentylene, 1,3
-Cyclopentylene, 1,1-cyclohexylene, 1,
Examples include 2-cyclohexylene, 1,3-cyclohexylene, and 1,4-cyclohexylene. Of these, methylene, ethylidene, ethylene, 1-methylethylene, 2-methylethylene, trimethylene, and 2-
Methyl trimethylene is preferred. In the case where k is 1, for example, a bond other than one hydrogen atom at an arbitrary position on the hydrocarbon group mentioned in the case where k is 0 is used as a bond.
The most preferred W 2 is a single bond.

【0041】R19〜R22のうちその他は、それぞれ
独立に、水素原子、炭素数1〜20であるメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert−
ブチル、シクロヘキシル又はメンチル等の直鎖状、分岐
状又は環状のアルキル基、塩素原子、臭素原子、沃素原
子又はフッ素原子等のハロゲン、炭素数1〜20のフル
オロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジフルオロ
メチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、トリフルオ
ロメチル、トリクロロメチル又はトリブロモメチル等の
直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化アルキル基、炭素
数1〜12のメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、n
−ブトキシ、tert−ブトキシ又はメントキシ等の直
鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素数2〜20
のメトキシメチル、メトキシエチル、tert−ブトキ
シメチル、tert−ブトキシエチル又はメトキシメン
トール等の、又はメチルグルコース等のアルコキシ糖類
を含む直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル
基、炭素数2〜20のアセトキシ等の直鎖状、分岐状又
は環状のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜20
のナフトイルオキシ等のアリールカルボニルオキシ基、
炭素数1〜20のメシルオキシ等の直鎖状、分岐状又は
環状のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数6〜20の
トシルオキシ等のアリールスルホニルオキシ基、炭素数
2〜20のメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、n−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカル
ボニル、又はシクロヘキシルオキシカルボニル等の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニル基、炭素数
3〜20のメトキシカルボニルメチル、2−(メトキシ
カルボニル)エチル、1−(メトキシカルボニル)エチ
ル、エトキシカルボニルメチル、2−(エトキシカルボ
ニル)エチル、n−プロポキシカルボニルメチル、イソ
プロポキシカルボニルメチル、n−ブトキシカルボニル
メチル、tert−ブトキシカルボニルメチル、又はシ
クロヘキシルオキシカルボニルメチル等の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基が具体例
として挙げられる。これらのうち、水素原子、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数
1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭
素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシア
ルキル基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状の
アルコキシカルボニル基、及び炭素数3〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基
が好ましく、より好ましくは水素原子、炭素数1〜10
の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数2〜10の直
鎖状又は分岐状のアルコキシカルボニル基、及び炭素数
3〜10の直鎖状又は分岐状のアルコキシカルボニルア
ルキル基である。
The others of R 19 to R 22 are each independently a hydrogen atom, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, tert-carbon having 1 to 20 carbon atoms.
Linear, branched or cyclic alkyl groups such as butyl, cyclohexyl or menthyl, halogens such as chlorine, bromine, iodine or fluorine, C1-C20 fluoromethyl, chloromethyl, bromomethyl, difluoromethyl Linear, branched or cyclic alkyl halide groups such as dichloromethyl, dibromomethyl, trifluoromethyl, trichloromethyl or tribromomethyl, methoxy, ethoxy, isopropoxy having 1 to 12 carbon atoms, n
Linear, branched or cyclic alkoxy groups such as -butoxy, tert-butoxy or mentoxy, having 2 to 20 carbon atoms
Methoxymethyl, methoxyethyl, tert-butoxymethyl, tert-butoxyethyl or methoxymenthol or the like, or a linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group containing an alkoxy sugar such as methyl glucose, having 2 to 20 carbon atoms Linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group such as acetoxy, having 6 to 20 carbon atoms
Aryl carbonyloxy group such as naphthoyloxy,
A linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group such as mesyloxy having 1 to 20 carbon atoms, an arylsulfonyloxy group such as tosyloxy having 6 to 20 carbon atoms, methoxycarbonyl having 2 to 20 carbon atoms, ethoxycarbonyl,
a linear, branched or cyclic alkoxycarbonyl group such as n-propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, or cyclohexyloxycarbonyl; methoxycarbonylmethyl having 3 to 20 carbon atoms; (Methoxycarbonyl) ethyl, 1- (methoxycarbonyl) ethyl, ethoxycarbonylmethyl, 2- (ethoxycarbonyl) ethyl, n-propoxycarbonylmethyl, isopropoxycarbonylmethyl, n-butoxycarbonylmethyl, tert-butoxycarbonylmethyl, or Specific examples include a linear, branched or cyclic alkoxycarbonylalkyl group such as cyclohexyloxycarbonylmethyl. Among them, hydrogen atom, carbon number 1
Linear, branched or cyclic alkyl group having from 20 to 20 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkoxy group having from 1 to 20 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkoxyalkyl having from 2 to 20 carbon atoms Group, a straight-chain, branched or cyclic alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a straight-chain, branched or cyclic alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, Carbon number 1-10
A linear or branched alkylcarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a linear or branched alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 10 carbon atoms.

【0042】Xは−O−又はCR23 −(R23
水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアル
キル基を表す)であり、pが1〜3の場合、Xは同一
でも異なってもよい。R23としては水素原子、又は炭
素数1〜10のメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル又はtert−ブチル等の直鎖状又
は分岐状のアルキル基が具体例として挙げられる。X
として、好ましくは−O−又はCH−であり、より好
ましくはすべてのXが−O−又はCH−のいずれか
である。pとして好ましくは、0又は1である。
[0042] X 4 is -O- or CR 23 2 - a (R 23 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), when p is 1 to 3, X 4 may be the same or different. As R 23 is a hydrogen atom, or methyl having 1 to 10 carbon atoms, ethyl, n- propyl, isopropyl, straight or branched alkyl group such as n- butyl or tert- butyl can be given as specific examples. X 4
As preferably -O- or CH 2 -, more preferably an all X 4 is -O- or CH 2 - is either. p is preferably 0 or 1.

【0043】一般式[5]の具体例としては、下記化学
式[20−1−1]〜[20−4−16]で表される構
造単位[D]が挙げられる。
Specific examples of the general formula [5] include structural units [D] represented by the following chemical formulas [20-1-1] to [20-4-16].

【0044】[0044]

【化38】 Embedded image

【0045】[0045]

【化39】 Embedded image

【0046】[0046]

【化40】 Embedded image

【0047】[0047]

【化41】 Embedded image

【0048】本発明における好ましい実施態様におい
て、一般式[1]で表される構造単位[A]、一般式
[3]で表される構造単位[B]及び一般式[4]で表
される構造単位[C]に対する一般式[5]で表される
構造単位[D]のモル比([A]+[B]+[C])/
[D]は100/0〜20/80であり、構造単位
[A]、[B]及び[C]に加えて構造単位[D]があ
る一定量存在することが好ましい。ここで、構造単位
[D]は、シリコン基板のような被処理基板との密着性
を極めて高め、更に現像液との親和性を向上させる。好
ましくはモル比([A]+[B]+[C])/[D]は
98/2〜50/50であり、更に好ましくは97/3
〜60/40、最も好ましくは95/5〜70/30で
ある。本発明で用いる開環メタセシス共重合体の水素添
加物は、構造単位[A]と[B]及び/又は[C]、好
ましくは更に[D]に加えて、下記一般式[7]
In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit [A] represented by the general formula [1], the structural unit [B] represented by the general formula [3], and the general formula [4] The molar ratio of the structural unit [D] represented by the general formula [5] to the structural unit [C] ([A] + [B] + [C]) /
[D] is 100/0 to 20/80, and it is preferable that a certain amount of the structural unit [D] be present in addition to the structural units [A], [B], and [C]. Here, the structural unit [D] greatly enhances adhesion to a substrate to be processed such as a silicon substrate, and further improves affinity for a developer. Preferably, the molar ratio ([A] + [B] + [C]) / [D] is 98/2 to 50/50, more preferably 97/3.
6060/40, most preferably 95/5 to 70/30. The hydrogenated product of the ring-opening metathesis copolymer used in the present invention may be a compound represented by the following general formula [7], in addition to the structural units [A] and [B] and / or [C], preferably [D].

【化42】 (式中、R25〜R28のうち少なくとも一つが、下記
一般式[8]
Embedded image (Wherein at least one of R 25 to R 28 is represented by the following general formula [8]

【化43】 (式中、鎖線は結合手を示す。R29は水素原子、炭素
数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭
素数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシア
ルキル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環
状のアシル基を示す。R30は炭素数1〜10の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数2〜10の直
鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、又は炭
素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化ア
ルキル基を示す。Wは単結合又は炭素数1〜10のk
+2価の炭化水素基を示す。sは0又は1である。)で
表されるカルボン酸エステル基を有する官能基であり、
その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、ハロゲン原子、
炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化
アルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状
のアルコキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のアルコキシアルキル基、炭素数2〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキルカルボニルオキシ基、炭
素数6〜20のアリールカルボニルオキシ基、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルスルホニル
オキシ基、炭素数6〜20のアリールスルホニルオキシ
基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコ
キシカルボニル基、又は炭素数3〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基から選ば
れ、Xは−O−又はCR31 −(R31は水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基を
表す)であり、同一でも異なってもよい。rは0又は1
〜3の整数を表す。)で表される構造単位[E]を更に
構造単位として有してもよい。
Embedded image(In the formula, a chain line indicates a bond. R29Is a hydrogen atom, carbon
A linear, branched or cyclic alkyl group of the formulas 1 to 10;
Linear, branched or cyclic alkoxya having a prime number of 2 to 10
Alkyl group, or linear, branched or cyclic C 1-10
Represents an acyl group. R30Is a linear chain having 1 to 10 carbon atoms
, Branched or cyclic alkyl groups having 2 to 10 carbon atoms
Chain, branched or cyclic alkoxyalkyl group, or charcoal
A linear, branched or cyclic halogenated amine having a prime number of 1 to 20;
Represents a alkyl group. W3Is a single bond or k having 1 to 10 carbon atoms
+ Represents a divalent hydrocarbon group. s is 0 or 1. )so
It is a functional group having a carboxylic acid ester group represented,
Others are each independently a hydrogen atom, having 1 to 20 carbon atoms.
Linear, branched or cyclic alkyl group, halogen atom,
Linear, branched or cyclic halogenation having 1 to 20 carbon atoms
Alkyl group, C1-C20 linear, branched or cyclic
An alkoxy group, having 2 to 20 carbon atoms, linear, branched or
Cyclic alkoxyalkyl group, straight chain having 2 to 20 carbon atoms
, Branched or cyclic alkylcarbonyloxy group, charcoal
An arylcarbonyloxy group having a prime number of 6 to 20, having 1 carbon atom
-20 linear, branched or cyclic alkylsulfonyl
Oxy group, arylsulfonyloxy having 6 to 20 carbon atoms
Group, a linear, branched or cyclic alcohol having 2 to 20 carbon atoms
Xycarbonyl group or C3-C20 linear, branched
Selected from linear or cyclic alkoxycarbonylalkyl groups
X5Is -O- or CR31 2− (R31Is a hydrogen atom
Or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
) And may be the same or different. r is 0 or 1
Represents an integer of 1 to 3. ) Is further added to the structural unit [E]
You may have as a structural unit.

【0049】R28において、炭素数1〜10の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、tert−ブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、1−エチルシクロペンチル、及び1−エチル
シクロヘキシル等が挙げられ、炭素数2〜10の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基としては、
例えばメトキシメチル、1−エトキシエチル、1−te
rt−ブトキシエチル、1−シクロヘキシルオキシエチ
ル、1−エトキシプロピル、1−エトキシ−1−メチル
エチル、テトラヒドロフラン−2−イル、及びテトラヒ
ドロピラン−2−イル等が挙げられ、炭素数1〜10の
直鎖状、分岐状又は環状のアシル基としては、例えばフ
ォルミル、アセチル、ピバロイル、及びシクロヘキシル
カルボニル等が挙げられる。これらR 28のうち、炭素
数1〜6の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数2〜
7の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、
及び炭素数2〜7の直鎖状又は分岐状のアシル基が好ま
しく、特に水素原子、メチル、エチル、メトキシメチ
ル、1−エトキシエチル、テトラヒドロフラン−2−イ
ル及びアセチルが好ましい。
R28, A linear chain having 1 to 10 carbon atoms
As a branched, branched or cyclic alkyl group, for example, methyl
, Ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl,
Sobutyl, tert-butyl, cyclopentyl, cyclo
Hexyl, 1-ethylcyclopentyl, and 1-ethyl
Cyclohexyl and the like, and a straight chain having 2 to 10 carbon atoms.
As a, branched or cyclic alkoxyalkyl group,
For example, methoxymethyl, 1-ethoxyethyl, 1-te
rt-butoxyethyl, 1-cyclohexyloxyethyl
1-ethoxypropyl, 1-ethoxy-1-methyl
Ethyl, tetrahydrofuran-2-yl, and tetrahi
Dropyran-2-yl and the like, having 1 to 10 carbon atoms
As the linear, branched or cyclic acyl group, for example,
Olmil, acetyl, pivaloyl, and cyclohexyl
Carbonyl and the like. These R 28Out of carbon
A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, 2 to 2 carbon atoms
7, a linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group;
And a linear or branched acyl group having 2 to 7 carbon atoms is preferred.
Especially hydrogen, methyl, ethyl, methoxymethyl
, 1-ethoxyethyl, tetrahydrofuran-2-i
And acetyl are preferred.

【0050】R29において、炭素数1〜10の直鎖状
又は分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、及びtert−ブチル等が挙げられ、炭素数2〜1
0の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基と
しては、例えばメトキシメチル、1−エトキシエチル、
1−tert−ブトキシエチル、1−シクロヘキシルオ
キシエチル、1−エトキシプロピル、1−エトキシ−1
−メチルエチル、テトラヒドロフラン−2−イル、及び
テトラヒドロピラン−2−イル等が挙げられ、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化アルキル
基としては、例えばフルオロメチル、クロロメチル、ブ
ロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブ
ロモメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル及
びトリブロモメチル等が挙げられる。これらR29のう
ち、炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基が
好ましく、特にメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、及びtert−ブチルが
好ましい。
In R 29 , examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, and tert-butyl. 2 to 1 carbon atoms
0 linear, branched or cyclic alkoxyalkyl groups include, for example, methoxymethyl, 1-ethoxyethyl,
1-tert-butoxyethyl, 1-cyclohexyloxyethyl, 1-ethoxypropyl, 1-ethoxy-1
-Methylethyl, tetrahydrofuran-2-yl and tetrahydropyran-2-yl;
Examples of the linear, branched or cyclic halogenated alkyl group of -20 include fluoromethyl, chloromethyl, bromomethyl, difluoromethyl, dichloromethyl, dibromomethyl, trifluoromethyl, trichloromethyl and tribromomethyl. Can be Among these R 29, preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, in particular methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n- butyl, isobutyl, and tert- butyl are preferred.

【0051】Wにおいて、炭素数1〜10のs+2価
の炭化水素基としては、sが0の場合、炭素数1〜10
の直鎖状、分岐状又は環状の2価の炭化水素基であり、
例えばメチレン、ジメチルメチレン、エチリデン、プロ
ピリデン、ブチリデン、エチレン、1−メチルエチレ
ン、2−メチルエチレン、1−エチルエチレン、2−エ
チルエチレン、1,1−ジメチルエチレン、1,2−ジ
メチルエチレン、2,2−ジメチルエチレン、1−エチ
ル−2−メチルエチレン、トリメチレン、1−メチルト
リメチレン、2−メチルトリメチレン、3−メチルトリ
メチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、1,1−
シクロペンチレン、1,2−シクロペンチレン、1,3
−シクロペンチレン、1,1−シクロヘキシレン、1,
2−シクロヘキシレン、1,3−シクロヘキシレン、及
び1,4−シクロヘキシレン等が挙げられる。これらの
うち、メチレン、エチリデン、エチレン、1−メチルエ
チレン、2−メチルエチレン、トリメチレン、及び2−
メチルトリメチレンが好ましい。sが1の場合、例えば
上記sが0の場合で挙げた炭化水素基上の任意の位置の
水素原子1個を除いて結合手としたものが挙げられる。
最も好ましいWは単結合である。
In W 3 , the s + divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, when s is 0, has 1 to 10 carbon atoms.
Is a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group,
For example, methylene, dimethylmethylene, ethylidene, propylidene, butylidene, ethylene, 1-methylethylene, 2-methylethylene, 1-ethylethylene, 2-ethylethylene, 1,1-dimethylethylene, 1,2-dimethylethylene, 2, 2-dimethylethylene, 1-ethyl-2-methylethylene, trimethylene, 1-methyltrimethylene, 2-methyltrimethylene, 3-methyltrimethylene, tetramethylene, pentamethylene, 1,1-
Cyclopentylene, 1,2-cyclopentylene, 1,3
-Cyclopentylene, 1,1-cyclohexylene, 1,
Examples include 2-cyclohexylene, 1,3-cyclohexylene, and 1,4-cyclohexylene. Of these, methylene, ethylidene, ethylene, 1-methylethylene, 2-methylethylene, trimethylene, and 2-
Methyl trimethylene is preferred. In the case where s is 1, for example, there may be mentioned those in which one hydrogen atom at an arbitrary position on the hydrocarbon group mentioned above when s is 0 is removed and a bond is used.
The most preferred W 3 being a single bond.

【0052】R24〜R27のうちその他は、それぞれ
独立に、水素原子、炭素数1〜20であるメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert−
ブチル、シクロヘキシル又はメンチル等の直鎖状、分岐
状又は環状のアルキル基、塩素原子、臭素原子、沃素原
子又はフッ素原子等のハロゲン、炭素数1〜20のフル
オロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジフルオロ
メチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、トリフルオ
ロメチル、トリクロロメチル又はトリブロモメチル等の
直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化アルキル基、炭素
数1〜12のメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、n
−ブトキシ、tert−ブトキシ又はメントキシ等の直
鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素数2〜20
のメトキシメチル、メトキシエチル、tert−ブトキ
シメチル、tert−ブトキシエチル又はメトキシメン
トール等の、又はメチルグルコース等のアルコキシ糖類
を含む直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル
基、炭素数2〜20のアセトキシ等の直鎖状、分岐状又
は環状のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜20
のナフトイルオキシ等のアリールカルボニルオキシ基、
炭素数1〜20のメシルオキシ等の直鎖状、分岐状又は
環状のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数6〜20の
トシルオキシ等のアリールスルホニルオキシ基、炭素数
2〜20のメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、n−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカル
ボニル、又はシクロヘキシルオキシカルボニル等の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニル基、炭素数
3〜20のメトキシカルボニルメチル、2−(メトキシ
カルボニル)エチル、1−(メトキシカルボニル)エチ
ル、エトキシカルボニルメチル、2−(エトキシカルボ
ニル)エチル、n−プロポキシカルボニルメチル、イソ
プロポキシカルボニルメチル、n−ブトキシカルボニル
メチル、tert−ブトキシカルボニルメチル、又はシ
クロヘキシルオキシカルボニルメチル等の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基が具体例
として挙げられる。これらのうち、水素原子、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数
1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭
素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシア
ルキル基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状の
アルコキシカルボニル基、及び炭素数3〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基
が好ましく、より好ましくは水素原子、炭素数1〜10
の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数2〜10の直
鎖状又は分岐状のアルコキシカルボニル基、及び炭素数
3〜10の直鎖状又は分岐状のアルコキシカルボニルア
ルキル基である。
The others of R 24 to R 27 are each independently a hydrogen atom, methyl having 1 to 20 carbon atoms, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, tert-
Linear, branched or cyclic alkyl groups such as butyl, cyclohexyl or menthyl, halogens such as chlorine, bromine, iodine or fluorine, C1-C20 fluoromethyl, chloromethyl, bromomethyl, difluoromethyl Linear, branched or cyclic alkyl halide groups such as dichloromethyl, dibromomethyl, trifluoromethyl, trichloromethyl or tribromomethyl, methoxy, ethoxy, isopropoxy having 1 to 12 carbon atoms, n
Linear, branched or cyclic alkoxy groups such as -butoxy, tert-butoxy or mentoxy, having 2 to 20 carbon atoms
Methoxymethyl, methoxyethyl, tert-butoxymethyl, tert-butoxyethyl or methoxymenthol or the like, or a linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group containing an alkoxy sugar such as methyl glucose, having 2 to 20 carbon atoms Linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group such as acetoxy, having 6 to 20 carbon atoms
Aryl carbonyloxy group such as naphthoyloxy,
A linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group such as mesyloxy having 1 to 20 carbon atoms, an arylsulfonyloxy group such as tosyloxy having 6 to 20 carbon atoms, methoxycarbonyl having 2 to 20 carbon atoms, ethoxycarbonyl,
a linear, branched or cyclic alkoxycarbonyl group such as n-propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, or cyclohexyloxycarbonyl; methoxycarbonylmethyl having 3 to 20 carbon atoms; (Methoxycarbonyl) ethyl, 1- (methoxycarbonyl) ethyl, ethoxycarbonylmethyl, 2- (ethoxycarbonyl) ethyl, n-propoxycarbonylmethyl, isopropoxycarbonylmethyl, n-butoxycarbonylmethyl, tert-butoxycarbonylmethyl, or Specific examples include a linear, branched or cyclic alkoxycarbonylalkyl group such as cyclohexyloxycarbonylmethyl. Among them, hydrogen atom, carbon number 1
Linear, branched or cyclic alkyl group having from 20 to 20 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkoxy group having from 1 to 20 carbon atoms, linear, branched or cyclic alkoxyalkyl having from 2 to 20 carbon atoms Group, a straight-chain, branched or cyclic alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a straight-chain, branched or cyclic alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, Carbon number 1-10
A linear or branched alkylcarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a linear or branched alkoxycarbonylalkyl group having 3 to 10 carbon atoms.

【0053】Xは−O−又はCR30 −(R30
水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアル
キル基を表す)であり、rが1〜3の場合、Xは同一
でも異なってもよい。R30としては水素原子、又は炭
素数1〜10のメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル又はtert−ブチル等の直鎖状又
は分岐状のアルキル基が具体例として挙げられる。X
として、好ましくは−O−又はCH−であり、より好
ましくはすべてのXが−O−又はCH−のいずれか
である。rとして好ましくは、0又は1である。
X 5 is —O— or CR 30 2 — (R 30 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), and when r is 1 to 3, X 5 may be the same or different. Specific examples of R 30 include a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl or tert-butyl. X 5
As preferably -O- or CH 2 -, more preferably an all X 5 is -O- or CH 2 - is either. r is preferably 0 or 1.

【0054】一般式[7]の具体例としては、下記化学
式[21−1−1]〜[21−4−16]で表される構
造単位[E]が挙げられる。
Specific examples of the general formula [7] include structural units [E] represented by the following chemical formulas [21-1-1] to [21-4-16].

【0055】[0055]

【化44】 Embedded image

【0056】[0056]

【化45】 Embedded image

【0057】[0057]

【化46】 Embedded image

【0058】[0058]

【化47】 Embedded image

【0059】本発明で用いる開環メタセシス共重合体の
水素添加物は、構造単位[A]と[B]及び/又は
[C]、好ましくは[D]、及び更に場合によっては
[E]に加えて、下記一般式[22]
The hydrogenated product of the ring-opening metathesis copolymer used in the present invention comprises structural units [A] and [B] and / or [C], preferably [D], and in some cases [E]. In addition, the following general formula [22]

【化48】 (式中、R72〜R75は、それぞれ独立に、水素原
子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基、ハロゲン、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素数2〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、水酸
基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のヒドロ
キシアルキル基、シアノ基、炭素数2〜20の直鎖状、
分岐状又は環状のシアノアルキル基、炭素数2〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルキルカルボニルオキシ
基、炭素数3〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ルカルボニルオキシアルキル基、炭素数6〜20のアリ
ールカルボニルオキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分
岐状又は環状のアルキルスルホニルオキシ基、炭素数2
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルスルホニル
オキシアルキル基、炭素数6〜20のアリールスルホニ
ルオキシ基から選ばれ、Xは−O−又は−CR76
−(R76は水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は
分岐状のアルキル基を表す)であり、同一でも異なって
もよい。vは0又は1〜3の整数を表す。)で表される
構造単位[F]を更に構成単位として有してもよい。な
お、この構造単位[F]の導入率は、構造単位[A]〜
[E]の合計に対して0〜50モル%、特に0〜30モ
ル%とすることができる。
Embedded image (Wherein, R 72 to R 75 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen, a linear or branched chain having 1 to 20 carbon atoms. Or a cyclic halogenated alkyl group, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group having 2 to 20 carbon atoms, a hydroxyl group, 1 carbon atom Straight-chain, branched or cyclic hydroxyalkyl group, cyano group, straight-chain having 2 to 20 carbon atoms,
A branched or cyclic cyanoalkyl group, a linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxyalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, An arylcarbonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, 2 carbon atoms
20 straight, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group, selected from arylsulfonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms, X 6 is -O- or -CR 76 2
— (R 76 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms), which may be the same or different. v represents 0 or an integer of 1 to 3. )) May be further included as a structural unit. The introduction ratio of the structural unit [F] is from the structural unit [A] to the structural unit [A].
It can be 0 to 50 mol%, especially 0 to 30 mol%, based on the total of [E].

【0060】本発明で用いる開環メタセシス共重合体の
水素添加物において、一般式[1]で表される構造単位
[A]と一般式[2]で表される構造単位[B]及び/
又は一般式[4]で表される構造単位[C]の構造単位
のモル比[A]/([B]及び[C])は20/80〜
99/1である。ここで、構造単位[A]は露光時に感
光剤から発生する酸により分解される基である環状アル
キルの三級エステル基を含んでおり、露光後、アルカリ
水溶液で現像してレジストパターンを作るために必要で
あり、構造単位[B]及び[C]は、シリコン基板のよ
うな被処理基板との密着性を発現するのに必要である。
これらのモル比[A]/([B]及び[C])が20/
80未満であると、現像が不十分となり、99/1を超
えると被処理基板との密着性が発現しない。また、一般
式[6]で表される構造単位[D]はカルボン酸基を含
んでおり、シリコン基板のような被処理基板との密着性
を改善すること、及び溶剤への溶解性を改善することが
できる。更に、構造単位[A]、[B]及び[C]と構
造単位[D]の構造単位のモル比([A]+[B]+
[C])/[D]が100/0〜20/80の範囲にあ
ると、露光後のアルカリ水溶液による現像時に濡れ張力
を改善し、現像むらを解決するために好ましい。これら
の構造単位がこの範囲にあることは、レジスト組成を調
製するのに好適であり、極性の高い感光剤と共に、例え
ば、2−ヘプタノンなどの極性溶媒に溶解し、シリコン
基板のような被処理基板に塗布するレジスト材として極
めて重要である。すなわち、開環メタセシス重合体の水
素添加物が、レジスト組成物を調製する時に、極性溶媒
に対する溶解度、又は溶解速度を高めることで均一な平
滑コーティング膜を形成することができる。また、構造
単位[A]と[B]及び/又は[C]に加えて構造単位
[E]を含むと、構造単位[A]に含まれるエステル基
とは反応性の異なるエステル基を含むことになり、よっ
て露光時の分解性を自由に制御することができるため有
用である。この場合の好ましい構造単位のモル比
([A]+[B]+[C])/[E]は100/0〜4
0/60の範囲である。
In the hydrogenated product of the ring-opening metathesis copolymer used in the present invention, the structural unit [A] represented by the general formula [1] and the structural unit [B] represented by the general formula [2] and / or
Alternatively, the molar ratio [A] / ([B] and [C]) of the structural unit of the structural unit [C] represented by the general formula [4] is from 20/80.
99/1. Here, the structural unit [A] contains a tertiary ester group of a cyclic alkyl, which is a group decomposed by an acid generated from a photosensitizing agent at the time of exposure. And the structural units [B] and [C] are necessary to develop adhesion to a substrate to be processed such as a silicon substrate.
These molar ratios [A] / ([B] and [C]) are 20 /
If it is less than 80, the development becomes insufficient, and if it exceeds 99/1, the adhesion to the substrate to be processed does not appear. In addition, the structural unit [D] represented by the general formula [6] contains a carboxylic acid group, and improves adhesion to a substrate to be processed such as a silicon substrate and improves solubility in a solvent. can do. Further, the molar ratio of the structural units [A], [B] and [C] to the structural unit [D] ([A] + [B] +
When [C]) / [D] is in the range of 100/0 to 20/80, it is preferable to improve the wetting tension at the time of development with an aqueous alkali solution after exposure and to solve uneven development. The presence of these structural units in this range is suitable for preparing a resist composition, and is dissolved in a polar solvent such as 2-heptanone together with a highly polar sensitizing agent, and is subjected to a treatment such as a silicon substrate. It is extremely important as a resist material applied to a substrate. In other words, a uniform smooth coating film can be formed by increasing the solubility or dissolution rate of a hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer in a polar solvent when preparing a resist composition. Further, when the structural unit [E] is included in addition to the structural units [A] and [B] and / or [C], the ester group included in the structural unit [A] may include an ester group having a different reactivity. This is useful because the decomposability at the time of exposure can be freely controlled. In this case, the preferable molar ratio of the structural unit ([A] + [B] + [C]) / [E] is 100/0 to 4
The range is 0/60.

【0061】また特に、一般式[1]で表される構造単
位[A]のX、一般式[3]で表される構造単位
[B]のX、及び一般式[4]で表される構造単位
[C]のX のうち少なくとも1つが−O−であり、そ
の他が−CH−である開環メタセシス重合体の水素添
加物は、シリコン基板のような被処理基板への密着性、
アルカリ水溶液による現像時に濡れ張力の改善、レジス
ト剤のシリコンウエハに塗布する工程で使用されるケト
ン類、アルコール類等の極性有機溶媒に対する溶解性を
更に向上させる効果がある。また、水に対する親和性も
向上し、露光後のアルカリ水溶液等の剥離剤(又は現像
剤)に対する現像性も向上する。
In particular, the structural unit represented by the general formula [1]
X in position [A]1, A structural unit represented by the general formula [3]
X of [B]2And a structural unit represented by general formula [4]
X of [C] 3At least one of which is -O-,
Is -CH2Hydrogenation of the ring-opening metathesis polymer
Additives have good adhesion to substrates to be processed such as silicon substrates,
Improvement of wetting tension when developing with alkaline aqueous solution, resist
Used in the process of applying a coating agent to a silicon wafer
Solubility in polar organic solvents such as alcohols and alcohols
It has the effect of further improving. Also, the affinity for water
And remover (or developing agent) such as aqueous alkali solution after exposure
) Is also improved.

【0062】本発明で用いる開環メタセシス共重合体の
水素添加物は、一般式[1]で表される構造単位
[A]、一般式[3]で表される構造単位[B]及び/
又は一般式[4]で表される構造単位[C]、及び必要
に応じて一般式[7]で表される構造単位[E]、更に
必要に応じて一般式[22]で表される構造単位[F]
のそれぞれに対応する環状オレフィン単量体を開環メタ
セシス触媒で重合し、水素添加触媒のもとに水素添加す
ることにより得られる。
The hydrogenated product of the ring-opening metathesis copolymer used in the present invention includes a structural unit [A] represented by the general formula [1], a structural unit [B] represented by the general formula [3] and / or
Alternatively, the structural unit [C] represented by the general formula [4], and the structural unit [E] represented by the general formula [7] if necessary, and further represented by the general formula [22] as necessary. Structural unit [F]
Are obtained by polymerizing a cyclic olefin monomer corresponding to each of the above with a ring-opening metathesis catalyst and hydrogenating it under a hydrogenation catalyst.

【0063】一般式[1]で表される構造単位[A]に
対応する環状オレフィン単量体とは、下記一般式[9]
の構造を有する環状オレフィン単量体であり、一般式
[3]で表される構造単位[B]に対応する環状オレフ
ィン単量体とは、下記一般式[10]の構造を有する環
状オレフィン単量体であり、一般式[4]で表される構
造単位[C]に対応する環状オレフィン単量体とは、下
記一般式[11]の構造を有する環状オレフィン単量体
であり、一般式[7]で表される構造単位[E]に対応
する環状オレフィン単量体とは、下記一般式[12]の
構造を有する環状オレフィン単量体であり、一般式[2
2]で表される構造単位[F]に対応する環状オレフィ
ン単量体とは、下記一般式[23]の構造を有する環状
オレフィン単量体である。
The cyclic olefin monomer corresponding to the structural unit [A] represented by the general formula [1] is represented by the following general formula [9]
And a cyclic olefin monomer corresponding to the structural unit [B] represented by the general formula [3] is a cyclic olefin monomer having a structure represented by the following general formula [10]. The cyclic olefin monomer which is a monomer and corresponds to the structural unit [C] represented by the general formula [4] is a cyclic olefin monomer having a structure of the following general formula [11], The cyclic olefin monomer corresponding to the structural unit [E] represented by [7] is a cyclic olefin monomer having a structure represented by the following general formula [12] and represented by the general formula [2]
The cyclic olefin monomer corresponding to the structural unit [F] represented by 2] is a cyclic olefin monomer having a structure represented by the following general formula [23].

【0064】[0064]

【化49】 (式中、R〜R75、X〜X、Y、Y、j、
m、n、r及びvは前記定義と同じである。)
Embedded image (Wherein, R 1 to R 75 , X 1 to X 6 , Y 1 , Y 2 , j,
m, n, r and v are the same as defined above. )

【0065】本発明で用いる開環メタセシス共重合体の
水素添加物は、上記環状オレフィン単量体をリビング開
環メタセシス触媒を用いて、好ましくはオレフィン又は
ジエン等の連鎖移動剤の存在下、溶媒中又は無溶媒で重
合した後、水素圧下、水素添加触媒を用いて溶媒中水素
添加することにより得られる。
The hydrogenated product of the ring-opening metathesis copolymer used in the present invention is prepared by subjecting the above cyclic olefin monomer to a solvent using a living ring-opening metathesis catalyst, preferably in the presence of a chain transfer agent such as an olefin or a diene. After polymerization in a medium or without a solvent, it is obtained by hydrogenating in a solvent under a hydrogen pressure using a hydrogenation catalyst.

【0066】また、重合、水素添加で得られた開環メタ
セシス共重合体の水素添加物において、一般式[2]に
おける環状アルキルの三級エステル基及び/又は一般式
[8]におけるエステル基の少なくとも一部を分解させ
てカルボン酸に変換させることにより、一般式[1]で
表される構造単位[A]と一般式[3]で表される構造
単位[B]及び/又は一般式[3]で表される構造単位
[C]、一般式[5]で表される構造単位[D]、及び
必要に応じて一般式[7]で表される構造単位[E]、
更に必要に応じて一般式[22]で表される構造単位
[F]から構成され、かつ、一般式[1]で表される構
造単位[A]のX、一般式[3]で表される構造単位
[B]のX、及び一般式[4]で表される構造単位
[C]のXのうち少なくとも1つが−O−であり、そ
の構成モル比[A]/([B]及び[C])が20/8
0〜99/1であり、かつ重量平均分子量Mwと数平均
分子量Mnとの比(Mw/Mn)が1.0〜2.0であ
る開環メタセシス重合体の水素添加物を製造することが
できる。
Further, in the hydrogenated product of the ring-opening metathesis copolymer obtained by polymerization and hydrogenation, the tertiary ester group of the cyclic alkyl in the general formula [2] and / or the ester group in the general formula [8] By converting at least a part thereof into a carboxylic acid, the structural unit [A] represented by the general formula [1] and the structural unit [B] represented by the general formula [3] and / or the general formula [3] 3] a structural unit [C], a structural unit [D] represented by a general formula [5], and a structural unit [E] represented by a general formula [7] as necessary.
Further, if necessary, X 1 of the structural unit [A] composed of the structural unit [F] represented by the general formula [22] and represented by the general formula [3] At least one of X 2 of the structural unit [B] and X 3 of the structural unit [C] represented by the general formula [4] is —O—, and the constituent molar ratio [A] / ([ B] and [C]) are 20/8
It is possible to produce a hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer having a weight-average molecular weight Mw and a number-average molecular weight Mn of 1.0 to 2.0 (Mw / Mn) in the range of 0 to 99/1. it can.

【0067】一般式[2]における環状アルキルの三級
エステル基及び/又は一般式[8]におけるエステル基
の少なくとも一部を分解させてカルボン酸に変換させる
方法としては通常の方法が適用でき、具体的には塩基性
条件下での加水分解、酸性条件下での加水分解、中性条
件下での加水分解、及び酸分解などが例示できるが、こ
れらに限定されるものではない。
As a method for decomposing at least a part of the tertiary ester group of the cyclic alkyl in the general formula [2] and / or the ester group in the general formula [8] to convert it into a carboxylic acid, a usual method can be applied. Specific examples include hydrolysis under basic conditions, hydrolysis under acidic conditions, hydrolysis under neutral conditions, and acid decomposition, but are not limited thereto.

【0068】更に、上記の方法で得られたカルボン酸官
能基を有する開環メタセシス重合体の水素添加物のカル
ボン酸官能基をエステルに変換することにより、一般式
[1]で表される構造単位[A]と一般式[3]で表さ
れる構造単位[B]及び/又は一般式[3]で表される
構造単位[C]、必要に応じて一般式[5]で表される
構造単位[D]、更に必要に応じて一般式[7]で表さ
れる構造単位[E]、及びより更に必要に応じて一般式
[22]で表される構造単位[F]から構成され、か
つ、一般式[1]で表される構造単位[A]のX、一
般式[3]で表される構造単位[B]のX、及び一般
式[4]で表される構造単位[C]のXのうち少なく
とも1つが−O−であり、その構成モル比[A]/
([B]及び[C])が20/80〜99/1であり、
かつ重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比(M
w/Mn)が1.0〜2.0である開環メタセシス重合
体の水素添加物を製造することができる。
Further, by converting the carboxylic acid functional group of the hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer having a carboxylic acid functional group obtained by the above method into an ester, the structure represented by the general formula [1] is obtained. The unit [A] and the structural unit [B] represented by the general formula [3] and / or the structural unit [C] represented by the general formula [3], and if necessary, represented by the general formula [5] It is composed of a structural unit [D], if necessary, a structural unit [E] represented by a general formula [7], and further optionally a structural unit [F] represented by a general formula [22]. And X 1 of the structural unit [A] represented by the general formula [1], X 2 of the structural unit [B] represented by the general formula [3], and the structure represented by the general formula [4] At least one of X 3 in the unit [C] is —O—, and its constituent molar ratio [A] /
([B] and [C]) are 20/80 to 99/1,
And the ratio of the weight average molecular weight Mw to the number average molecular weight Mn (M
(w / Mn) of 1.0 to 2.0 can be produced as a hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer.

【0069】カルボン酸官能基をエステルに変換する方
法としては通常の方法が適用でき、具体的にはアルコ−
ル類との脱水縮合反応によるエステル化、オルト−アル
キル化剤によるエステル化、酸存在下でのオレフィン類
の付加によるエステル化、有機塩基性化合物を用いたハ
ロゲン化物との間での縮合反応によるエステル化、アル
キルビニルエ−テル類の付加によるアルコキシアルキル
エステル化、カルボン酸をチオニルクロライド等により
酸ハロゲン化物に変換した後アルコ−ル類と接触させエ
ステル化する方法、及びカルボン酸の金属塩をハロゲン
化物と接触させエステル化する方法などが例示できる
が、これらに限定されるものではない。
As a method for converting a carboxylic acid functional group into an ester, a usual method can be applied.
Esterification by dehydration-condensation reaction with an ester, an esterification by an ortho-alkylating agent, an esterification by addition of an olefin in the presence of an acid, a condensation reaction with a halide using an organic basic compound Esterification, alkoxyalkyl esterification by addition of alkyl vinyl ethers, a method of converting a carboxylic acid to an acid halide with thionyl chloride or the like, followed by contact with an alcohol to perform esterification, and a method of preparing a metal salt of a carboxylic acid. A method of contacting with a halide for esterification can be exemplified, but the method is not limited thereto.

【0070】本発明の特定の構造を有する開環メタセシ
ス重合体の水素添加物をベース樹脂として含有するレジ
スト材料は、ポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型
レジスト材料として好適であり、ベース樹脂としての上
記開環メタセシス重合体の水素添加物の他に、高エネル
ギー線もしくは電子線に感応して酸を発生する化合物
(以下、酸発生剤)と有機溶剤とを含む。
The resist material containing a hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer having a specific structure according to the present invention as a base resin is suitable as a positive resist material, particularly a chemically amplified positive resist material. In addition to the above hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer, a compound which generates an acid in response to a high energy beam or an electron beam (hereinafter, an acid generator) and an organic solvent are included.

【0071】本発明で使用される酸発生剤としては、 i.下記一般式(P1a−1)、(P1a−2)又は
(P1b)のオニウム塩、 ii.下記一般式(P2)のジアゾメタン誘導体、 iii.下記一般式(P3)のグリオキシム誘導体、 iv.下記一般式(P4)のビススルホン誘導体、 v.下記一般式(P5)のN−ヒドロキシイミド化合物
のスルホン酸エステル、 vi.β−ケトスルホン酸誘導体、 vii.ジスルホン誘導体、 viii.ニトロベンジルスルホネート誘導体、 ix.スルホン酸エステル誘導体 等が挙げられる。
The acid generator used in the present invention includes: i. An onium salt of the following general formula (P1a-1), (P1a-2) or (P1b); ii. A diazomethane derivative represented by the following general formula (P2), iii. A glyoxime derivative of the following general formula (P3), iv. A bissulfone derivative represented by the following general formula (P4); A sulfonic acid ester of an N-hydroxyimide compound represented by the following general formula (P5), vi. β-ketosulfonic acid derivatives, vii. Disulfone derivatives, viii. A nitrobenzylsulfonate derivative, ix. And sulfonic acid ester derivatives.

【0072】[0072]

【化50】 (式中、R101a、R101b、R101cはそれぞ
れ炭素数1〜12の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル
基、アルケニル基、オキソアルキル基又はオキソアルケ
ニル基、炭素数6〜20のアリール基、又は炭素数7〜
12のアラルキル基又はアリールオキソアルキル基を示
し、これらの基の水素原子の一部又は全部がアルコキシ
基等によって置換されていてもよい。また、R101b
とR101 とは環を形成してもよく、環を形成する場
合には、R101b、R101cはそれぞれ炭素数1〜
6のアルキレン基を示す。Kは非求核性対向イオンを
表す。)
Embedded image (Wherein, R 101a , R 101b , and R 101c each represent a linear, branched, or cyclic alkyl group, alkenyl group, oxoalkyl group, or oxoalkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, and aryl having 6 to 20 carbon atoms. Group or 7 to carbon atoms
12 represents an aralkyl group or an aryloxoalkyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of these groups may be substituted with an alkoxy group or the like. Also, R 101b
And may be the R 101 c to form a ring, when they form a ring, R 101b, R 101c are each 1 to carbon atoms
6 represents an alkylene group. K - is a non-nucleophilic counter ion. )

【0073】上記R101a、R101b、R101c
は互いに同一であっても異なっていてもよく、具体的に
はアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロプロピルメチル基、
4−メチルシクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル
基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プロぺニ
ル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基
等が挙げられる。オキソアルキル基としては、2−オキ
ソシクロペンチル基、2−オキソシクロヘキシル基等が
挙げられ、2−オキソプロピル基、2−シクロペンチル
−2−オキソエチル基、2−シクロヘキシル−2−オキ
ソエチル基、2−(4−メチルシクロヘキシル)−2−
オキソエチル基等を挙げることができる。アリール基と
しては、フェニル基、ナフチル基等や、p−メトキシフ
ェニル基、m−メトキシフェニル基、o−メトキシフェ
ニル基、エトキシフェニル基、p−tert−ブトキシ
フェニル基、m−tert−ブトキシフェニル基等のア
ルコキシフェニル基、2−メチルフェニル基、3−メチ
ルフェニル基、4−メチルフェニル基、エチルフェニル
基、4−tert−ブチルフェニル基、4−ブチルフェ
ニル基、ジメチルフェニル基等のアルキルフェニル基、
メチルナフチル基、エチルナフチル基等のアルキルナフ
チル基、メトキシナフチル基、エトキシナフチル基等の
アルコキシナフチル基、ジメチルナフチル基、ジエチル
ナフチル基等のジアルキルナフチル基、ジメトキシナフ
チル基、ジエトキシナフチル基等のジアルコキシナフチ
ル基等が挙げられる。アラルキル基としてはベンジル
基、フェニルエチル基、フェネチル基等が挙げられる。
アリールオキソアルキル基としては、2−フェニル−2
−オキソエチル基、2−(1−ナフチル)−2−オキソ
エチル基、2−(2−ナフチル)−2−オキソエチル基
等の2−アリール−2−オキソエチル基等が挙げられ
る。Kの非求核性対向イオンとしては塩化物イオン、
臭化物イオン等のハライドイオン、トリフレート、1,
1,1−トリフルオロエタンスルホネート、ノナフルオ
ロブタンスルホネート等のフルオロアルキルスルホネー
ト、トシレート、ベンゼンスルホネート、4−フルオロ
ベンゼンスルホネート、1,2,3,4,5−ペンタフ
ルオロベンゼンスルホネート等のアリールスルホネー
ト、メシレート、ブタンスルホネート等のアルキルスル
ホネートが挙げられる。
The above R 101a , R 101b , R 101c
May be the same or different from each other, and specifically, as an alkyl group, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group , Hexyl group, heptyl group, octyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclopropylmethyl group,
Examples include a 4-methylcyclohexyl group, a cyclohexylmethyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group.
Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a butenyl group, a hexenyl group, and a cyclohexenyl group. Examples of the oxoalkyl group include a 2-oxocyclopentyl group, a 2-oxocyclohexyl group, and the like. A 2-oxopropyl group, a 2-cyclopentyl-2-oxoethyl group, a 2-cyclohexyl-2-oxoethyl group, a 2- (4 -Methylcyclohexyl) -2-
An oxoethyl group and the like can be mentioned. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, a p-methoxyphenyl group, an m-methoxyphenyl group, an o-methoxyphenyl group, an ethoxyphenyl group, a p-tert-butoxyphenyl group, and an m-tert-butoxyphenyl group. Alkylphenyl groups such as alkoxyphenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, ethylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 4-butylphenyl group and dimethylphenyl group ,
Alkylnaphthyl groups such as methylnaphthyl group and ethylnaphthyl group, alkoxynaphthyl groups such as methoxynaphthyl group and ethoxynaphthyl group, dialkylnaphthyl groups such as dimethylnaphthyl group and diethylnaphthyl group, dimethoxynaphthyl groups and diethoxynaphthyl groups such as diethoxynaphthyl groups And alkoxynaphthyl groups. Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenylethyl group, and a phenethyl group.
As the aryloxoalkyl group, 2-phenyl-2
And 2-aryl-2-oxoethyl groups such as -oxoethyl group, 2- (1-naphthyl) -2-oxoethyl group and 2- (2-naphthyl) -2-oxoethyl group. K - a non-nucleophilic counter as the ionic chloride ions,
Halide ion such as bromide ion, triflate, 1,
Fluoroalkylsulfonates such as 1,1-trifluoroethanesulfonate and nonafluorobutanesulfonate; arylsulfonates such as tosylate, benzenesulfonate, 4-fluorobenzenesulfonate, 1,2,3,4,5-pentafluorobenzenesulfonate, and mesylate And alkyl sulfonates such as butane sulfonate.

【0074】[0074]

【化51】 (式中、R102a、R102bはそれぞれ炭素数1〜
8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R
103は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のア
ルキレン基を示す。R104a、R104bはそれぞれ
炭素数3〜7の2−オキソアルキル基を示す。Kは非
求核性対向イオンを表す。)
Embedded image (Wherein, R 102a and R 102b each have 1 to 1 carbon atoms.
8 represents a linear, branched or cyclic alkyl group. R
103 represents a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. R 104a and R 104b each represent a 2-oxoalkyl group having 3 to 7 carbon atoms. K - is a non-nucleophilic counter ion. )

【0075】上記R102a、R102bとして具体的
には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロプロ
ピルメチル基、4−メチルシクロヘキシル基、シクロヘ
キシルメチル基等が挙げられる。R103としては、メ
チレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペ
ンチレン基、へキシレン基、へプチレン基、オクチレン
基、ノニレン基、1,4−シクロへキシレン基、1,2
−シクロへキシレン基、1,3−シクロペンチレン基、
1,4−シクロオクチレン基、1,4−シクロヘキサン
ジメチレン基等が挙げられる。R104a、R104b
としては、2−オキソプロピル基、2−オキソシクロペ
ンチル基、2−オキソシクロヘキシル基、2−オキソシ
クロヘプチル基等が挙げられる。Kは式(P1a−
1)及び(P1a−2)で説明したものと同様のものを
挙げることができる。
Specific examples of R 102a and R 102b include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, and heptyl. Octyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclopropylmethyl group, 4-methylcyclohexyl group, cyclohexylmethyl group and the like. R 103 includes methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, heptylene, octylene, nonylene, 1,4-cyclohexylene,
-Cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group,
Examples thereof include a 1,4-cyclooctylene group and a 1,4-cyclohexanedimethylene group. R 104a , R 104b
Examples thereof include a 2-oxopropyl group, a 2-oxocyclopentyl group, a 2-oxocyclohexyl group, and a 2-oxocycloheptyl group. K - is the formula (P1a-
Examples similar to those described in 1) and (P1a-2) can be given.

【0076】[0076]

【化52】 (式中、R105、R106は炭素数1〜12の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基又はハロゲン化アルキ
ル基、炭素数6〜20のアリール基又はハロゲン化アリ
ール基、又は炭素数7〜12のアラルキル基を示す。)
Embedded image (Wherein, R 105 and R 106 are a linear, branched or cyclic alkyl group or halogenated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group or halogenated aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or And 7 to 12 aralkyl groups.)

【0077】R105、R106のアルキル基としては
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ア
ミル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げ
られる。ハロゲン化アルキル基としてはトリフルオロメ
チル基、1,1,1−トリフルオロエチル基、1,1,
1−トリクロロエチル基、ノナフルオロブチル基等が挙
げられる。アリール基としてはフェニル基、p−メトキ
シフェニル基、m−メトキシフェニル基、o−メトキシ
フェニル基、エトキシフェニル基、p−tert−ブト
キシフェニル基、m−tert−ブトキシフェニル基等
のアルコキシフェニル基、2−メチルフェニル基、3−
メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、エチルフェ
ニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4−ブチル
フェニル基、ジメチルフェニル基等のアルキルフェニル
基が挙げられる。ハロゲン化アリール基としてはフルオ
ロフェニル基、クロロフェニル基、1,2,3,4,5
−ペンタフルオロフェニル基等が挙げられる。アラルキ
ル基としてはベンジル基、フェネチル基等が挙げられ
る。
The alkyl group for R 105 and R 106 includes methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n
-Butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group,
Pentyl, hexyl, heptyl, octyl, amyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, norbornyl, adamantyl and the like. Examples of the halogenated alkyl group include a trifluoromethyl group, a 1,1,1-trifluoroethyl group,
Examples thereof include a 1-trichloroethyl group and a nonafluorobutyl group. Examples of the aryl group include an alkoxyphenyl group such as a phenyl group, a p-methoxyphenyl group, an m-methoxyphenyl group, an o-methoxyphenyl group, an ethoxyphenyl group, a p-tert-butoxyphenyl group, and a m-tert-butoxyphenyl group. 2-methylphenyl group, 3-
Examples thereof include alkylphenyl groups such as a methylphenyl group, a 4-methylphenyl group, an ethylphenyl group, a 4-tert-butylphenyl group, a 4-butylphenyl group, and a dimethylphenyl group. Examples of the halogenated aryl group include a fluorophenyl group, a chlorophenyl group, 1,2,3,4,5
-Pentafluorophenyl group and the like. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenethyl group.

【0078】[0078]

【化53】 (式中、R107、R108、R109は炭素数1〜1
2の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はハロゲン
化アルキル基、炭素数6〜20のアリール基又はハロゲ
ン化アリール基、又は炭素数7〜12のアラルキル基を
示す。R108、R109は互いに結合して環状構造を
形成してもよく、環状構造を形成する場合、R108
109はそれぞれ炭素数1〜6の直鎖状、分岐状のア
ルキレン基を示す。)
Embedded image (Wherein, R 107 , R 108 and R 109 each have 1 to 1 carbon atoms.
2 represents a linear, branched or cyclic alkyl group or halogenated alkyl group, an aryl group or halogenated aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms. R 108, R 109 may be bonded to each other to form a cyclic structure, when they form a ring, R 108,
R 109 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. )

【0079】R107、R108、R109のアルキル
基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、ハロゲン化ア
リール基、アラルキル基としては、R105、R106
で説明したものと同様の基が挙げられる。なお、R
108、R109のアルキレン基としてはメチレン基、
エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基
等が挙げられる。
The alkyl group, halogenated alkyl group, aryl group, halogenated aryl group and aralkyl group represented by R 107 , R 108 and R 109 are R 105 , R 106
And the same groups as described in the above. Note that R
As the alkylene group for 108 and R 109, a methylene group,
Examples include an ethylene group, a propylene group, a butylene group, and a hexylene group.

【0080】[0080]

【化54】 (式中、R101a、R101bは上記と同じであ
る。)
Embedded image (In the formula, R 101a and R 101b are the same as described above.)

【0081】[0081]

【化55】 (式中、R110は炭素数6〜10のアリーレン基、炭
素数1〜6のアルキレン基又は炭素数2〜6のアルケニ
レン基を示し、これらの基の水素原子の一部又は全部は
更に炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基又は
アルコキシ基、ニトロ基、アセチル基、又はフェニル基
で置換されていてもよい。R111は炭素数1〜8の直
鎖状、分岐状又は置換のアルキル基、アルケニル基又は
アルコキシアルキル基、フェニル基、又はナフチル基を
示し、これらの基の水素原子の一部又は全部は更に炭素
数1〜4のアルキル基又はアルコキシ基;炭素数1〜4
のアルキル基、アルコキシ基、ニトロ基又はアセチル基
で置換されていてもよいフェニル基;炭素数3〜5のヘ
テロ芳香族基;又は塩素原子、フッ素原子で置換されて
いてもよい。)
Embedded image (In the formula, R 110 represents an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or an alkenylene group having 2 to 6 carbon atoms, and a part or all of the hydrogen atoms of these groups further have carbon atoms. R 111 may be substituted with a linear or branched alkyl or alkoxy group, a nitro group, an acetyl group, or a phenyl group having from 1 to 4. R 111 has 1 to 8 carbon atoms. Or a substituted alkyl group, alkenyl group or alkoxyalkyl group, phenyl group or naphthyl group, and a part or all of the hydrogen atoms of these groups are further an alkyl group or alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; ~ 4
A phenyl group optionally substituted by an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or an acetyl group; a heteroaromatic group having 3 to 5 carbon atoms; or a chlorine atom or a fluorine atom. )

【0082】ここで、R110のアリーレン基として
は、1,2−フェニレン基、1,8−ナフチレン基等
が、アルキレン基としては、メチレン基、1,2−エチ
レン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、
1−フェニル−1,2−エチレン基、ノルボルナン−
2,3−ジイル基等が、アルケニレン基としては、1,
2−ビニレン基、1−フェニル−1,2−ビニレン基、
5−ノルボルネン−2,3−ジイル基等が挙げられる。
111のアルキル基としては、R101a〜R10
1cと同様のものが、アルケニル基としては、ビニル
基、1−プロペニル基、アリル基、1−ブテニル基、3
−ブテニル基、イソプレニル基、1−ペンテニル基、3
−ペンテニル基、4−ペンテニル基、ジメチルアリル
基、1−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、5−ヘキセ
ニル基、1−ヘプテニル基、3−ヘプテニル基、6−ヘ
プテニル基、7−オクテニル基等が、アルコキシアルキ
ル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ペンチロキシ
メチル基、ヘキシロキシメチル基、ヘプチロキシメチル
基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシ
エチル基、ブトキシエチル基、ペンチロキシエチル基、
ヘキシロキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシ
プロピル基、プロポキシプロピル基、ブトキシプロピル
基、メトキシブチル基、エトキシブチル基、プロポキシ
ブチル基、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基、
メトキシヘキシル基、メトキシヘプチル基等が挙げられ
る。
Here, the arylene group of R 110 is 1,2-phenylene group, 1,8-naphthylene group or the like, and the alkylene group is methylene group, 1,2-ethylene group, 1,3-propylene group. Group, 1,4-butylene group,
1-phenyl-1,2-ethylene group, norbornane-
When the 2,3-diyl group or the like is an alkenylene group,
2-vinylene group, 1-phenyl-1,2-vinylene group,
5-norbornene-2,3-diyl group and the like.
As the alkyl group for R 111 , R 101a to R 10
The same alkenyl groups as those described in 1c except that they are vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 3
-Butenyl group, isoprenyl group, 1-pentenyl group, 3
-Pentenyl group, 4-pentenyl group, dimethylallyl group, 1-hexenyl group, 3-hexenyl group, 5-hexenyl group, 1-heptenyl group, 3-heptenyl group, 6-heptenyl group, 7-octenyl group and the like, Examples of the alkoxyalkyl group include a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group,
Propoxymethyl group, butoxymethyl group, pentoxylmethyl group, hexyloxymethyl group, heptyloxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, propoxyethyl group, butoxyethyl group, pentoxyloxy group,
Hexyloxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxypropyl group, propoxypropyl group, butoxypropyl group, methoxybutyl group, ethoxybutyl group, propoxybutyl group, methoxypentyl group, ethoxypentyl group,
Examples include a methoxyhexyl group and a methoxyheptyl group.

【0083】なお、更に置換されていてもよい炭素数1
〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、tert−ブチル基等が、炭素数1〜4のアルコキ
シ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ
基、tert−ブトキシ基等が、炭素数1〜4のアルキ
ル基、アルコキシ基、ニトロ基又はアセチル基で置換さ
れていてもよいフェニル基としては、フェニル基、トリ
ル基、p−tert−ブトキシフェニル基、p−アセチ
ルフェニル基、p−ニトロフェニル基等が、炭素数3〜
5のヘテロ芳香族基としては、ピリジル基、フリル基等
が挙げられる。
In addition, carbon atom 1 which may be further substituted
Examples of the alkyl group having 1 to 4 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group. Group, propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, etc., which may be substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group, a nitro group or an acetyl group. A phenyl group, a tolyl group, a p-tert-butoxyphenyl group, a p-acetylphenyl group, a p-nitrophenyl group, etc.
Examples of the heteroaromatic group 5 include a pyridyl group and a furyl group.

【0084】具体的には、例えばトリフルオロメタンス
ルホン酸ジフェニルヨードニウム、トリフルオロメタン
スルホン酸(p−tert−ブトキシフェニル)フェニ
ルヨードニウム、p−トルエンスルホン酸ジフェニルヨ
ードニウム、p−トルエンスルホン酸(p−tert−
ブトキシフェニル)フェニルヨードニウム、トリフルオ
ロメタンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、トリフ
ルオロメタンスルホン酸(p−tert−ブトキシフェ
ニル)ジフェニルスルホニウム、トリフルオロメタンス
ルホン酸ビス(p−tert−ブトキシフェニル)フェ
ニルスルホニウム、トリフルオロメタンスルホン酸トリ
ス(p−tert−ブトキシフェニル)スルホニウム、
p−トルエンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、p
−トルエンスルホン酸(p−tert−ブトキシフェニ
ル)ジフェニルスルホニウム、p−トルエンスルホン酸
ビス(p−tert−ブトキシフェニル)フェニルスル
ホニウム、p−トルエンスルホン酸トリス(p−ter
t−ブトキシフェニル)スルホニウム、ノナフルオロブ
タンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、ブタンスル
ホン酸トリフェニルスルホニウム、トリフルオロメタン
スルホン酸トリメチルスルホニウム、p−トルエンスル
ホン酸トリメチルスルホニウム、トリフルオロメタンス
ルホン酸シクロヘキシルメチル(2−オキソシクロヘキ
シル)スルホニウム、p−トルエンスルホン酸シクロヘ
キシルメチル(2−オキソシクロヘキシル)スルホニウ
ム、トリフルオロメタンスルホン酸ジメチルフェニルス
ルホニウム、p−トルエンスルホン酸ジメチルフェニル
スルホニウム、トリフルオロメタンスルホン酸ジシクロ
ヘキシルフェニルスルホニウム、p−トルエンスルホン
酸ジシクロヘキシルフェニルスルホニウム、トリフルオ
ロメタンスルホン酸トリナフチルスルホニウム、トリフ
ルオロメタンスルホン酸シクロヘキシルメチル(2−オ
キソシクロヘキシル)スルホニウム、トリフルオロメタ
ンスルホン酸(2−ノルボニル)メチル(2−オキソシ
クロヘキシル)スルホニウム、エチレンビス[メチル
(2−オキソシクロペンチル)スルホニウムトリフルオ
ロメタンスルホナート]、1,2’−ナフチルカルボニ
ルメチルテトラヒドロチオフェニウムトリフレート等の
オニウム塩、ビス(ベンゼンスルホニル)ジアゾメタ
ン、ビス(p−トルエンスルホニル)ジアゾメタン、ビ
ス(キシレンスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロ
ヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロペン
チルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(n−ブチルスル
ホニル)ジアゾメタン、ビス(イソブチルスルホニル)
ジアゾメタン、ビス(sec−ブチルスルホニル)ジア
ゾメタン、ビス(n−プロピルスルホニル)ジアゾメタ
ン、ビス(イソプロピルスルホニル)ジアゾメタン、ビ
ス(tert−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス
(n−アミルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(イソア
ミルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(sec−アミル
スルホニル)ジアゾメタン、ビス(tert−アミルス
ルホニル)ジアゾメタン、1−シクロヘキシルスルホニ
ル−1−(tert−ブチルスルホニル)ジアゾメタ
ン、1−シクロヘキシルスルホニル−1−(tert−
アミルスルホニル)ジアゾメタン、1−tert−アミ
ルスルホニル−1−(tert−ブチルスルホニル)ジ
アゾメタン等のジアゾメタン誘導体、ビス−O−(p−
トルエンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビ
ス−O−(p−トルエンスルホニル)−α−ジフェニル
グリオキシム、ビス−O−(p−トルエンスルホニル)
−α−ジシクロヘキシルグリオキシム、ビス−O−(p
−トルエンスルホニル)−2,3−ペンタンジオングリ
オキシム、ビス−O−(p−トルエンスルホニル)−2
−メチル−3,4−ペンタンジオングリオキシム、ビス
−O−(n−ブタンスルホニル)−α−ジメチルグリオ
キシム、ビス−O−(n−ブタンスルホニル)−α−ジ
フェニルグリオキシム、ビス−O−(n−ブタンスルホ
ニル)−α−ジシクロヘキシルグリオキシム、ビス−O
−(n−ブタンスルホニル)−2,3−ペンタンジオン
グリオキシム、ビス−O−(n−ブタンスルホニル)−
2−メチル−3,4−ペンタンジオングリオキシム、ビ
ス−O−(メタンスルホニル)−α−ジメチルグリオキ
シム、ビス−O−(トリフルオロメタンスルホニル)−
α−ジメチルグリオキシム、ビス−O−(1,1,1−
トリフルオロエタンスルホニル)−α−ジメチルグリオ
キシム、ビス−O−(tert−ブタンスルホニル)−
α−ジメチルグリオキシム、ビス−O−(パーフルオロ
オクタンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビ
ス−O−(シクロヘキサンスルホニル)−α−ジメチル
グリオキシム、ビス−O−(ベンゼンスルホニル)−α
−ジメチルグリオキシム、ビス−O−(p−フルオロベ
ンゼンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス
−O−(p−tert−ブチルベンゼンスルホニル)−
α−ジメチルグリオキシム、ビス−O−(キシレンスル
ホニル)−α−ジメチルグリオキシム、ビス−O−(カ
ンファースルホニル)−α−ジメチルグリオキシム等の
グリオキシム誘導体、ビスナフチルスルホニルメタン、
ビストリフルオロメチルスルホニルメタン、ビスメチル
スルホニルメタン、ビスエチルスルホニルメタン、ビス
プロピルスルホニルメタン、ビスイソプロピルスルホニ
ルメタン、ビス−p−トルエンスルホニルメタン、ビス
ベンゼンスルホニルメタン等のビススルホン誘導体、2
−シクロヘキシルカルボニル−2−(p−トルエンスル
ホニル)プロパン、2−イソプロピルカルボニル−2−
(p−トルエンスルホニル)プロパン等のβ−ケトスル
ホン誘導体、ジフェニルジスルホン、ジシクロヘキシル
ジスルホン等のジスルホン誘導体、p−トルエンスルホ
ン酸2,6−ジニトロベンジル、p−トルエンスルホン
酸2,4−ジニトロベンジル等のニトロベンジルスルホ
ネート誘導体、1,2,3−トリス(メタンスルホニル
オキシ)ベンゼン、1,2,3−トリス(トリフルオロ
メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、1,2,3−トリ
ス(p−トルエンスルホニルオキシ)ベンゼン等のスル
ホン酸エステル誘導体、N−ヒドロキシスクシンイミド
メタンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシスクシンイ
ミドトリフルオロメタンスルホン酸エステル、N−ヒド
ロキシスクシンイミドエタンスルホン酸エステル、N−
ヒドロキシスクシンイミド1−プロパンスルホン酸エス
テル、N−ヒドロキシスクシンイミド2−プロパンスル
ホン酸エステル、N−ヒドロキシスクシンイミド1−ペ
ンタンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシスクシンイ
ミド1−オクタンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシ
スクシンイミドp−トルエンスルホン酸エステル、N−
ヒドロキシスクシンイミドp−メトキシベンゼンスルホ
ン酸エステル、N−ヒドロキシスクシンイミド2−クロ
ロエタンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシスクシン
イミドベンゼンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシス
クシンイミド−2,4,6−トリメチルベンゼンスルホ
ン酸エステル、N−ヒドロキシスクシンイミド1−ナフ
タレンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシスクシンイ
ミド2−ナフタレンスルホン酸エステル、N−ヒドロキ
シ−2−フェニルスクシンイミドメタンスルホン酸エス
テル、N−ヒドロキシマレイミドメタンスルホン酸エス
テル、N−ヒドロキシマレイミドエタンスルホン酸エス
テル、N−ヒドロキシ−2−フェニルマレイミドメタン
スルホン酸エステル、N−ヒドロキシグルタルイミドメ
タンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシグルタルイミ
ドベンゼンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシフタル
イミドメタンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシフタ
ルイミドベンゼンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシ
フタルイミドトリフルオロメタンスルホン酸エステル、
N−ヒドロキシフタルイミドp−トルエンスルホン酸エ
ステル、N−ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホン
酸エステル、N−ヒドロキシナフタルイミドベンゼンス
ルホン酸エステル、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン
−2,3−ジカルボキシイミドメタンスルホン酸エステ
ル、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカ
ルボキシイミドトリフルオロメタンスルホン酸エステ
ル、N−ヒドロキシ−5−ノルボルネン−2,3−ジカ
ルボキシイミドp−トルエンスルホン酸エステル等のN
−ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステル誘導体
等が挙げられるが、トリフルオロメタンスルホン酸トリ
フェニルスルホニウム、トリフルオロメタンスルホン酸
(p−tert−ブトキシフェニル)ジフェニルスルホ
ニウム、トリフルオロメタンスルホン酸トリス(p−t
ert−ブトキシフェニル)スルホニウム、p−トルエ
ンスルホン酸トリフェニルスルホニウム、p−トルエン
スルホン酸(p−tert−ブトキシフェニル)ジフェ
ニルスルホニウム、p−トルエンスルホン酸トリス(p
−tert−ブトキシフェニル)スルホニウム、トリフ
ルオロメタンスルホン酸トリナフチルスルホニウム、ト
リフルオロメタンスルホン酸シクロヘキシルメチル(2
−オキソシクロヘキシル)スルホニウム、トリフルオロ
メタンスルホン酸(2−ノルボニル)メチル(2−オキ
ソシクロヘキシル)スルホニウム、1,2’−ナフチル
カルボニルメチルテトラヒドロチオフェニウムトリフレ
ート等のオニウム塩、ビス(ベンゼンスルホニル)ジア
ゾメタン、ビス(p−トルエンスルホニル)ジアゾメタ
ン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、
ビス(n−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(イ
ソブチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(sec−ブ
チルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(n−プロピルス
ルホニル)ジアゾメタン、ビス(イソプロピルスルホニ
ル)ジアゾメタン、ビス(tert−ブチルスルホニ
ル)ジアゾメタン等のジアゾメタン誘導体、ビス−O−
(p−トルエンスルホニル)−α−ジメチルグリオキシ
ム、ビス−O−(n−ブタンスルホニル)−α−ジメチ
ルグリオキシム等のグリオキシム誘導体、ビスナフチル
スルホニルメタン等のビススルホン誘導体、N−ヒドロ
キシスクシンイミドメタンスルホン酸エステル、N−ヒ
ドロキシスクシンイミドトリフルオロメタンスルホン酸
エステル、N−ヒドロキシスクシンイミド1−プロパン
スルホン酸エステル、N−ヒドロキシスクシンイミド2
−プロパンスルホン酸エステル、N−ヒドロキシスクシ
ンイミド1−ペンタンスルホン酸エステル、N−ヒドロ
キシスクシンイミドp−トルエンスルホン酸エステル、
N−ヒドロキシナフタルイミドメタンスルホン酸エステ
ル、N−ヒドロキシナフタルイミドベンゼンスルホン酸
エステル等のN−ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸
エステル誘導体が好ましく用いられる。なお、上記酸発
生剤は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いる
ことができる。オニウム塩は矩形性向上効果に優れ、ジ
アゾメタン誘導体及びグリオキシム誘導体は定在波低減
効果に優れるため、両者を組み合わせることによりプロ
ファイルの微調整を行うことが可能である。
Specifically, for example, diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate, phenyliodonium trifluoromethanesulfonate (p-tert-butoxyphenyl), diphenyliodonium p-toluenesulfonate, p-toluenesulfonic acid (p-tert-
(Butoxyphenyl) phenyliodonium, triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, trifluoromethanesulfonic acid (p-tert-butoxyphenyl) diphenylsulfonium, bis (p-tert-butoxyphenyl) phenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, tris trifluoromethanesulfonate (P-tert-butoxyphenyl) sulfonium,
triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, p
-(P-tert-butoxyphenyl) diphenylsulfonium toluenesulfonate, bis (p-tert-butoxyphenyl) phenylsulfonium p-toluenesulfonate, tris (p-tert-toluenesulfonate)
(t-butoxyphenyl) sulfonium, triphenylsulfonium nonafluorobutanesulfonate, triphenylsulfonium butanesulfonate, trimethylsulfonium trifluoromethanesulfonate, trimethylsulfonium p-toluenesulfonate, cyclohexylmethyl trifluoromethanesulfonate (2-oxocyclohexyl) Sulfonium, cyclohexylmethyl p-toluenesulfonate (2-oxocyclohexyl) sulfonium, dimethylphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, dimethylphenylsulfonium p-toluenesulfonate, dicyclohexylphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, dicyclohexylphenylsulfonium p-toluenesulfonate , Trifluoromethane sulfone Trinaphthylsulfonium, cyclohexylmethyl trifluoromethanesulfonate (2-oxocyclohexyl) sulfonium, (2-norbonyl) methyl (2-oxocyclohexyl) sulfonium, ethylenebis [methyl (2-oxocyclopentyl) sulfonium trifluoromethanesulfonate Onium salts such as 1,2′-naphthylcarbonylmethyltetrahydrothiophenium triflate, bis (benzenesulfonyl) diazomethane, bis (p-toluenesulfonyl) diazomethane, bis (xylenesulfonyl) diazomethane, bis (cyclohexylsulfonyl) Diazomethane, bis (cyclopentylsulfonyl) diazomethane, bis (n-butylsulfonyl) diazomethane, bis (isobutyl) Ruhoniru)
Diazomethane, bis (sec-butylsulfonyl) diazomethane, bis (n-propylsulfonyl) diazomethane, bis (isopropylsulfonyl) diazomethane, bis (tert-butylsulfonyl) diazomethane, bis (n-amylsulfonyl) diazomethane, bis (isoamylsulfonyl) Diazomethane, bis (sec-amylsulfonyl) diazomethane, bis (tert-amylsulfonyl) diazomethane, 1-cyclohexylsulfonyl-1- (tert-butylsulfonyl) diazomethane, 1-cyclohexylsulfonyl-1- (tert-
Diazomethane derivatives such as amylsulfonyl) diazomethane, 1-tert-amylsulfonyl-1- (tert-butylsulfonyl) diazomethane, bis-O- (p-
Toluenesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (p-toluenesulfonyl) -α-diphenylglyoxime, bis-O- (p-toluenesulfonyl)
-Α-dicyclohexylglyoxime, bis-O- (p
-Toluenesulfonyl) -2,3-pentanedione glyoxime, bis-O- (p-toluenesulfonyl) -2
-Methyl-3,4-pentanedione glyoxime, bis-O- (n-butanesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (n-butanesulfonyl) -α-diphenylglyoxime, bis-O- (N-butanesulfonyl) -α-dicyclohexylglyoxime, bis-O
-(N-butanesulfonyl) -2,3-pentanedione glyoxime, bis-O- (n-butanesulfonyl)-
2-methyl-3,4-pentanedione glyoxime, bis-O- (methanesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (trifluoromethanesulfonyl)-
α-dimethylglyoxime, bis-O- (1,1,1-
Trifluoroethanesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (tert-butanesulfonyl)-
α-dimethylglyoxime, bis-O- (perfluorooctanesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (cyclohexanesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (benzenesulfonyl) -α
-Dimethylglyoxime, bis-O- (p-fluorobenzenesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (p-tert-butylbenzenesulfonyl)-
glyoxime derivatives such as α-dimethylglyoxime, bis-O- (xylenesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (camphorsulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bisnaphthylsulfonylmethane,
Bissulfone derivatives such as bistrifluoromethylsulfonylmethane, bismethylsulfonylmethane, bisethylsulfonylmethane, bispropylsulfonylmethane, bisisopropylsulfonylmethane, bis-p-toluenesulfonylmethane, and bisbenzenesulfonylmethane;
-Cyclohexylcarbonyl-2- (p-toluenesulfonyl) propane, 2-isopropylcarbonyl-2-
Β-ketosulfone derivatives such as (p-toluenesulfonyl) propane, disulfone derivatives such as diphenyldisulfone and dicyclohexyldisulfone, nitros such as 2,6-dinitrobenzyl p-toluenesulfonate and 2,4-dinitrobenzyl p-toluenesulfonate Benzylsulfonate derivatives, 1,2,3-tris (methanesulfonyloxy) benzene, 1,2,3-tris (trifluoromethanesulfonyloxy) benzene, 1,2,3-tris (p-toluenesulfonyloxy) benzene and the like Sulfonic acid ester derivatives, N-hydroxysuccinimide methanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide trifluoromethanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide ethanesulfonic acid ester, N-
Hydroxysuccinimide 1-propanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide 2-propanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide 1-pentanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide 1-octanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide p-toluenesulfone Acid ester, N-
Hydroxysuccinimide p-methoxybenzenesulfonate, N-hydroxysuccinimide 2-chloroethanesulfonate, N-hydroxysuccinimidebenzenesulfonate, N-hydroxysuccinimide-2,4,6-trimethylbenzenesulfonate, N-hydroxy Succinimide 1-naphthalenesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide 2-naphthalenesulfonic acid ester, N-hydroxy-2-phenylsuccinimide methanesulfonic acid ester, N-hydroxymaleimide methanesulfonic acid ester, N-hydroxymaleimidoethanesulfonic acid ester, N-hydroxy-2-phenylmaleimide methanesulfonic acid ester, N-hydroxyglutarimide methanesulfonic acid ester Ether, N- hydroxy glutarimide benzenesulfonate ester, N- hydroxyphthalimide methanesulfonate ester, N- hydroxyphthalimide benzenesulfonate ester, N- hydroxyphthalimide trifluoromethanesulfonate ester,
N-hydroxyphthalimide p-toluenesulfonic acid ester, N-hydroxynaphthalimide methanesulfonic acid ester, N-hydroxynaphthalimidebenzenesulfonic acid ester, N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide methanesulfonic acid ester N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide trifluoromethanesulfonic acid ester, N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide p-toluenesulfonic acid ester, etc.
Sulfonic acid ester derivatives of a hydroxyimide compound, such as triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, (p-tert-butoxyphenyl) diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, and tris (pt) trifluoromethanesulfonate;
tert-butoxyphenyl) sulfonium, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, diphenylsulfonium p-toluenesulfonate (p-tert-butoxyphenyl), tris (p-toluenesulfonate)
-Tert-butoxyphenyl) sulfonium, trinaphthylsulfonium trifluoromethanesulfonate, cyclohexylmethyl trifluoromethanesulfonate (2
Onium salts such as -oxocyclohexyl) sulfonium, (2-norbonyl) methyl trifluoromethanesulfonate (2-oxocyclohexyl) sulfonium, 1,2'-naphthylcarbonylmethyltetrahydrothiophenium triflate, bis (benzenesulfonyl) diazomethane, Bis (p-toluenesulfonyl) diazomethane, bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane,
Bis (n-butylsulfonyl) diazomethane, bis (isobutylsulfonyl) diazomethane, bis (sec-butylsulfonyl) diazomethane, bis (n-propylsulfonyl) diazomethane, bis (isopropylsulfonyl) diazomethane, bis (tert-butylsulfonyl) diazomethane, etc. Diazomethane derivative of bis-O-
Glyoxime derivatives such as (p-toluenesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bis-O- (n-butanesulfonyl) -α-dimethylglyoxime, bissulfone derivatives such as bisnaphthylsulfonylmethane, N-hydroxysuccinimide methanesulfonic acid Ester, N-hydroxysuccinimide trifluoromethanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide 1-propanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide 2
-Propanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide 1-pentanesulfonic acid ester, N-hydroxysuccinimide p-toluenesulfonic acid ester,
Sulfonate derivatives of N-hydroxyimide compounds such as N-hydroxynaphthalimide methanesulfonate and N-hydroxynaphthalimidobenzenesulfonate are preferably used. In addition, the said acid generator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Onium salts are excellent in the effect of improving rectangularity, and diazomethane derivatives and glyoxime derivatives are excellent in the effect of reducing standing waves. Therefore, fine adjustment of the profile can be performed by combining the two.

【0085】酸発生剤の添加量は、ベース樹脂100部
(重量部、以下同様)に対して好ましくは0.1〜15
部、より好ましくは0.5〜8部である。0.1部より
少ないと感度が悪い場合があり、15部より多いと透明
性が低くなり、レジスト材料の解像性が低下する場合が
ある。
The acid generator is preferably added in an amount of 0.1 to 15 parts by weight based on 100 parts (parts by weight, hereinafter the same) of the base resin.
Parts, more preferably 0.5 to 8 parts. If the amount is less than 0.1 part, the sensitivity may be poor. If the amount is more than 15 parts, the transparency may be lowered, and the resolution of the resist material may be reduced.

【0086】本発明で使用される有機溶剤としては、ベ
ース樹脂、酸発生剤、その他の添加剤等が溶解可能な有
機溶剤であればいずれでもよい。このような有機溶剤と
しては、例えばシクロヘキサノン、メチル−2−n−ア
ミルケトン等のケトン類、3−メトキシブタノール、3
−メチル−3−メトキシブタノール、1−メトキシ−2
−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール等の
アルコール類、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエ
ーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、酢酸ブチ
ル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプ
ロピオン酸エチル、酢酸tert−ブチル、プロピオン
酸tert−ブチル、プロピレングリコールモノter
t−ブチルエーテルアセテート等のエステル類が挙げら
れ、これらの1種を単独で又は2種以上を混合して使用
することができるが、これらに限定されるものではな
い。本発明では、これらの有機溶剤の中でもレジスト成
分中の酸発生剤の溶解性が最も優れているジエチレング
リコールジメチルエーテルや1−エトキシ−2−プロパ
ノールの他、安全溶剤であるプロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート及びその混合溶剤が好ましく
使用される。
The organic solvent used in the present invention may be any organic solvent capable of dissolving the base resin, acid generator, other additives and the like. Examples of such an organic solvent include ketones such as cyclohexanone and methyl-2-n-amyl ketone, 3-methoxybutanol,
-Methyl-3-methoxybutanol, 1-methoxy-2
Alcohols such as -propanol, 1-ethoxy-2-propanol, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethers such as ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol Monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, ethyl lactate, ethyl pyruvate, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, tert-butyl acetate, tert-butyl propionate, propylene glycol monoter
Esters such as t-butyl ether acetate and the like can be mentioned, and one of these can be used alone or a mixture of two or more thereof, but is not limited thereto. In the present invention, among these organic solvents, in addition to diethylene glycol dimethyl ether and 1-ethoxy-2-propanol in which the solubility of the acid generator in the resist component is the most excellent, propylene glycol monomethyl ether acetate as a safe solvent and a mixture thereof Solvents are preferably used.

【0087】有機溶剤の使用量は、ベース樹脂100部
に対して200〜1,000部、特に400〜800部
が好適である。
The amount of the organic solvent to be used is preferably 200 to 1,000 parts, more preferably 400 to 800 parts per 100 parts of the base resin.

【0088】本発明のレジスト材料には、上記開環メタ
セシス重合体の水素添加物とは別の高分子化合物を添加
することができる。
The resist composition of the present invention may contain a polymer compound other than the hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer.

【0089】該高分子化合物の具体的な例としては下記
式(R1)及び/又は下記式(R2)で示される重量平
均分子量1,000〜500,000、好ましくは5,
000〜100,000のものを挙げることができる
が、これらに限定されるものではない。
As a specific example of the polymer compound, a weight average molecular weight represented by the following formula (R1) and / or (R2) is from 1,000 to 500,000, preferably 5,
000 to 100,000, but are not limited thereto.

【0090】[0090]

【化56】 (式中、R001は水素原子、メチル基又はCHCO
003を示す。R 02は水素原子、メチル基又は
CO003を示す。R003は炭素数1〜15の直
鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R004
水素原子又は炭素数1〜15のカルボキシ基又は水酸基
を含有する1価の炭化水素基を示す。R 05〜R
008の少なくとも1個は炭素数1〜15のカルボキシ
基又は水酸基を含有する1価の炭化水素基を示し、残り
はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜15の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R005〜R
008は互いに環を形成していてもよく、その場合には
005〜R008の少なくとも1個は炭素数1〜15
のカルボキシ基又は水酸基を含有する2価の炭化水素基
を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数1〜1
5の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を示す。R
009は炭素数3〜15の−CO−部分構造を含有す
る1価の炭化水素基を示す。R010〜R013の少な
くとも1個は炭素数2〜15の−CO−部分構造を含
有する1価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に
水素原子又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状
のアルキル基を示す。R010〜R013は互いに環を
形成していてもよく、その場合にはR 10〜R013
の少なくとも1個は炭素数1〜15の−CO−部分構
造を含有する2価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ
独立に単結合又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は
環状のアルキレン基を示す。R014は炭素数7〜15
の多環式炭化水素基又は多環式炭化水素基を含有するア
ルキル基を示す。R015は酸不安定基を示す。R
016は水素原子又はメチル基を示す。R017は炭素
数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示
す。XはCH又は酸素原子を示す。k’は0又は1で
ある。x’、y’、z’は0〜3の整数であり、x’+
y’+z’≦5、1≦y’+z’を満足する数である。
a1’、a2’、a3’、b1’、b2’、b3’、c
1’、c2’、c3’、d1’、d2’、d3’、e’
は0以上1未満の数であり、a1’+a2’+a3’+
b1’+b2’+b3’+c1’+c2’+c3’+d
1’+d2’+d3’+e’=1を満足する。f’、
g’、h’、i’、j’は0以上1未満の数であり、
f’+g’+h’+i’+j’=1を満足する。)
Embedded image (Wherein, R 001 is a hydrogen atom, a methyl group or CH 2 CO
2 R 003 is shown. R 0 02 represents a hydrogen atom, a methyl group or CO 2 R 003. R 003 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. R 004 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having a carboxy group or a hydroxyl group having 1 to 15 carbon atoms. R 0 05 ~R
008 represents a monovalent hydrocarbon group having a carboxy group or a hydroxyl group having 1 to 15 carbon atoms, and the rest are each independently a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic group having 1 to 15 carbon atoms. Represents an alkyl group. R 005 to R
008 may form a ring with each other, in which case at least one of R 005 to R 008 has 1 to 15 carbon atoms.
A carboxy group or a divalent hydrocarbon group containing a hydroxyl group, and the rest are each independently a single bond or a carbon number of 1 to 1.
5 represents a linear, branched or cyclic alkylene group. R
009 represents a monovalent hydrocarbon group having a —CO 2 — partial structure having 3 to 15 carbon atoms. At least one of R 010 to R 013 represents a monovalent hydrocarbon group having a —CO 2 — partial structure having 2 to 15 carbon atoms, and the rest are each independently a hydrogen atom or a straight chain having 1 to 15 carbon atoms. A branched, branched or cyclic alkyl group. R 010 to R 013, taken together, may form a ring, in which case R 0 10 to R 013
At least one is -CO 2 C 1 -C 15 - moiety represents a divalent hydrocarbon group containing, while the remaining are independently a single bond or a C15 straight, branched or Shows a cyclic alkylene group. R 014 has 7 to 15 carbon atoms
Or a polycyclic hydrocarbon group or an alkyl group containing a polycyclic hydrocarbon group. R 015 represents an acid labile group. R
016 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 017 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. X represents CH 2 or an oxygen atom. k ′ is 0 or 1. x ′, y ′, z ′ are integers from 0 to 3, and x ′ +
It is a number that satisfies y ′ + z ′ ≦ 5 and 1 ≦ y ′ + z ′.
a1 ', a2', a3 ', b1', b2 ', b3', c
1 ', c2', c3 ', d1', d2 ', d3', e '
Is a number from 0 to less than 1, and a1 ′ + a2 ′ + a3 ′ +
b1 '+ b2' + b3 '+ c1' + c2 '+ c3' + d
1 ′ + d2 ′ + d3 ′ + e ′ = 1 is satisfied. f ',
g ′, h ′, i ′, j ′ are numbers from 0 to less than 1,
f ′ + g ′ + h ′ + i ′ + j ′ = 1 is satisfied. )

【0091】ここで、R003は炭素数1〜15の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、具体的にはメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、t
ert−アミル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、エチルシクロペ
ンチル基、ブチルシクロペンチル基、エチルシクロヘキ
シル基、ブチルシクロヘキシル基、アダマンチル基、エ
チルアダマンチル基、ブチルアダマンチル基等を例示で
きる。R004は水素原子又は炭素数1〜15のカルボ
キシ基又は水酸基を含有する1価の炭化水素基を示し、
具体的にはカルボキシエチル、カルボキシブチル、カル
ボキシシクロペンチル、カルボキシシクロヘキシル、カ
ルボキシノルボルニル、カルボキシアダマンチル、ヒド
ロキシエチル、ヒドロキシブチル、ヒドロキシシクロペ
ンチル、ヒドロキシシクロヘキシル、ヒドロキシノルボ
ルニル、ヒドロキシアダマンチル等が例示できる。R
005〜R008の少なくとも1個は炭素数1〜15の
カルボキシ基又は水酸基を含有する1価の炭化水素基を
示し、残りはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜1
5の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。炭素
数1〜15のカルボキシ基又は水酸基を含有する1価の
炭化水素基としては、具体的にはカルボキシ、カルボキ
シメチル、カルボキシエチル、カルボキシブチル、ヒド
ロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシブチル、
2−カルボキシエトキシカルボニル、4−カルボキシブ
トキシカルボニル、2−ヒドロキシエトキシカルボニ
ル、4−ヒドロキシブトキシカルボニル、カルボキシシ
クロペンチルオキシカルボニル、カルボキシシクロヘキ
シルオキシカルボニル、カルボキシノルボルニルオキシ
カルボニル、カルボキシアダマンチルオキシカルボニ
ル、ヒドロキシシクロペンチルオキシカルボニル、ヒド
ロキシシクロヘキシルオキシカルボニル、ヒドロキシノ
ルボルニルオキシカルボニル、ヒドロキシアダマンチル
オキシカルボニル等が例示できる。炭素数1〜15の直
鎖状、分岐状、環状のアルキル基としては、具体的には
003で例示したものと同様のものが例示できる。R
005〜R008は互いに環を形成していてもよく、そ
の場合にはR005〜R008の少なくとも1個は炭素
数1〜15のカルボキシ基又は水酸基を含有する2価の
炭化水素基を示し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭
素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基
を示す。炭素数1〜15のカルボキシ基又は水酸基を含
有する2価の炭化水素基としては、具体的には上記カル
ボキシ基又は水酸基を含有する1価の炭化水素基で例示
したものから水素原子を1個除いたもの等を例示でき
る。炭素数1〜15の直鎖状、分岐状、環状のアルキレ
ン基としては、具体的にはR003で例示したものから
水素原子を1個除いたもの等を例示できる。
Here, R 003 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-
Butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, t
ert-amyl group, n-pentyl group, n-hexyl group,
Examples thereof include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, an ethylcyclopentyl group, a butylcyclopentyl group, an ethylcyclohexyl group, a butylcyclohexyl group, an adamantyl group, an ethyladamantyl group, and a butyladamantyl group. R 004 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group containing a carboxy group or a hydroxyl group having 1 to 15 carbon atoms,
Specific examples include carboxyethyl, carboxybutyl, carboxycyclopentyl, carboxycyclohexyl, carboxynorbornyl, carboxyadamantyl, hydroxyethyl, hydroxybutyl, hydroxycyclopentyl, hydroxycyclohexyl, hydroxynorbornyl, hydroxyadamantyl and the like. R
At least one of 005 to R 008 represents a carboxy group having 1 to 15 carbon atoms or a monovalent hydrocarbon group having a hydroxyl group, and the rest are each independently a hydrogen atom or 1 to 1 carbon atom.
5 represents a linear, branched or cyclic alkyl group. Specific examples of the monovalent hydrocarbon group containing a carboxy group or a hydroxyl group having 1 to 15 carbon atoms include carboxy, carboxymethyl, carboxyethyl, carboxybutyl, hydroxymethyl, hydroxyethyl, hydroxybutyl,
2-carboxyethoxycarbonyl, 4-carboxybutoxycarbonyl, 2-hydroxyethoxycarbonyl, 4-hydroxybutoxycarbonyl, carboxycyclopentyloxycarbonyl, carboxycyclohexyloxycarbonyl, carboxynorbornyloxycarbonyl, carboxyadamantyloxycarbonyl, hydroxycyclopentyloxycarbonyl , Hydroxycyclohexyloxycarbonyl, hydroxynorbornyloxycarbonyl, hydroxyadamantyloxycarbonyl and the like. Examples of the straight, branched, the alkyl group of cyclic, specifically exemplified the same ones as exemplified for R 003. R
005 to R 008 may form a ring with each other, in which case at least one of R 005 to R 008 represents a divalent hydrocarbon group having a carboxy group or a hydroxyl group having 1 to 15 carbon atoms. And the rest each independently represent a single bond or a linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 15 carbon atoms. Specific examples of the divalent hydrocarbon group having a carboxy group or a hydroxyl group having 1 to 15 carbon atoms include one hydrogen atom from those exemplified as the monovalent hydrocarbon group having a carboxy group or a hydroxyl group. Excluded ones can be exemplified. Specific examples of the linear, branched, or cyclic alkylene group having 1 to 15 carbon atoms include those exemplified for R 003 with one hydrogen atom removed.

【0092】R009は炭素数3〜15の−CO−部
分構造を含有する1価の炭化水素基を示し、具体的には
2−オキソオキソラン−3−イル、4,4−ジメチル−
2−オキソオキソラン−3−イル、4−メチル−2−オ
キソオキサン−4−イル、2−オキソ−1,3−ジオキ
ソラン−4−イルメチル、5−メチル−2−オキソオキ
ソラン−5−イル等を例示できる。R010〜R013
の少なくとも1個は炭素数2〜15の−CO−部分構
造を含有する1価の炭化水素基を示し、残りはそれぞれ
独立に水素原子又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又
は環状のアルキル基を示す。炭素数2〜15の−CO
−部分構造を含有する1価の炭化水素基としては、具体
的には2−オキソオキソラン−3−イルオキシカルボニ
ル、4,4−ジメチル−2−オキソオキソラン−3−イ
ルオキシカルボニル、4−メチル−2−オキソオキサン
−4−イルオキシカルボニル、2−オキソ−1,3−ジ
オキソラン−4−イルメチルオキシカルボニル、5−メ
チル−2−オキソオキソラン−5−イルオキシカルボニ
ル等を例示できる。炭素数1〜15の直鎖状、分岐状、
環状のアルキル基としては、具体的にはR003で例示
したものと同様のものが例示できる。R010〜R
013は互いに環を形成していてもよく、その場合には
010〜R013の少なくとも1個は炭素数1〜15
の−CO−部分構造を含有する2価の炭化水素基を示
し、残りはそれぞれ独立に単結合又は炭素数1〜15の
直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基を示す。炭素数1
〜15の−CO−部分構造を含有する2価の炭化水素
基としては、具体的には1−オキソ−2−オキサプロパ
ン−1,3−ジイル、1,3−ジオキソ−2−オキサプ
ロパン−1,3−ジイル、1−オキソ−2−オキサブタ
ン−1,4−ジイル、1,3−ジオキソ−2−オキサブ
タン−1,4−ジイル等の他、上記−CO−部分構造
を含有する1価の炭化水素基で例示したものから水素原
子を1個除いたもの等を例示できる。炭素数1〜15の
直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基としては、具体的
にはR003で例示したものから水素原子を1個除いた
もの等を例示できる。
R 009 represents a monovalent hydrocarbon group having a —CO 2 — partial structure having 3 to 15 carbon atoms, and specifically, 2-oxooxolan-3-yl and 4,4-dimethyl-
2-oxooxolan-3-yl, 4-methyl-2-oxooxan-4-yl, 2-oxo-1,3-dioxolan-4-ylmethyl, 5-methyl-2-oxooxolan-5-yl and the like Can be exemplified. R 010 to R 013
At least one is -CO 2 of 2 to 15 carbon atoms - a monovalent hydrocarbon group containing a partial structure, while the remaining R's are independently hydrogen or C15 straight, branched or Shows a cyclic alkyl group. -CO 2 having 2 to 15 carbon atoms
-Specific examples of the monovalent hydrocarbon group having a partial structure include 2-oxooxolan-3-yloxycarbonyl, 4,4-dimethyl-2-oxooxolan-3-yloxycarbonyl, -Methyl-2-oxooxan-4-yloxycarbonyl, 2-oxo-1,3-dioxolan-4-ylmethyloxycarbonyl, 5-methyl-2-oxooxolan-5-yloxycarbonyl and the like can be exemplified. C1-C15 linear, branched,
The cyclic alkyl group, specifically exemplified the same ones as exemplified for R 003. R 010 to R
013 may form a ring with each other, in which case at least one of R 010 to R 013 has 1 to 15 carbon atoms.
Represents a divalent hydrocarbon group having a —CO 2 — partial structure, and the rest each independently represent a single bond or a linear, branched, or cyclic alkylene group having 1 to 15 carbon atoms. Carbon number 1
15 of -CO 2 - Examples of the divalent hydrocarbon group containing a partial structure include 1-oxo-2-oxa-1,3-diyl, 1,3-dioxo-2-oxa-propane 1,3-diyl, 1-oxo-2-Okisabutan-1,4-diyl, other like 1,3-dioxo-2-Okisabutan-1,4-diyl, the -CO 2 - containing partial structure Examples thereof include those obtained by removing one hydrogen atom from those exemplified for the monovalent hydrocarbon group. Specific examples of the linear, branched, or cyclic alkylene group having 1 to 15 carbon atoms include those exemplified for R 003 with one hydrogen atom removed.

【0093】R014は炭素数7〜15の多環式炭化水
素基又は多環式炭化水素基を含有するアルキル基を示
し、具体的にはノルボルニル、ビシクロ[3.3.1]
ノニル、トリシクロ[5.2.1.02,6]デシル、
アダマンチル、エチルアダマンチル、ブチルアダマンチ
ル、ノルボルニルメチル、アダマンチルメチル等を例示
できる。R015は酸不安定基を示す。R016は水素
原子又はメチル基を示す。R017は炭素数1〜8の直
鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示し、具体的には
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec−ブチル、tert−ブチル、tert−ア
ミル、n−ペンチル、n−ヘキシル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロペンチルメチル、シクロペンチ
ルエチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチ
ル等を例示できる。
R 014 represents a polycyclic hydrocarbon group having 7 to 15 carbon atoms or an alkyl group containing a polycyclic hydrocarbon group, and specifically, norbornyl, bicyclo [3.3.1]
Nonyl, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decyl,
Adamantyl, ethyl adamantyl, butyl adamantyl, norbornylmethyl, adamantylmethyl and the like can be exemplified. R 015 represents an acid labile group. R 016 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 017 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, tert-amyl , N-pentyl, n-hexyl, cyclopentyl,
Examples include cyclohexyl, cyclopentylmethyl, cyclopentylethyl, cyclohexylmethyl, cyclohexylethyl and the like.

【0094】R015の酸不安定基としては、種々選択
することができるが、具体的には下記一般式(L1)〜
(L4)で示される基、炭素数4〜20、好ましくは4
〜15の三級アルキル基、各アルキル基がそれぞれ炭素
数1〜6のトリアルキルシリル基、炭素数4〜20のオ
キソアルキル基等を挙げることができる。
As the acid labile group for R 015 , various ones can be selected, and specifically, the following general formula (L1)
A group represented by (L4), having 4 to 20 carbon atoms, preferably 4 carbon atoms;
Examples thereof include a tertiary alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a trialkylsilyl group in which each alkyl group has 1 to 6 carbon atoms, and an oxoalkyl group having 4 to 20 carbon atoms.

【0095】[0095]

【化57】 Embedded image

【0096】式中、RL01、RL02は水素原子又は
炭素数1〜18、好ましくは1〜10の直鎖状、分岐状
又は環状のアルキル基を示し、具体的にはメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−
オクチル基等が例示できる。RL03は炭素数1〜1
8、好ましくは1〜10の酸素原子等のヘテロ原子を有
してもよい1価の炭化水素基を示し、直鎖状、分岐状又
は環状のアルキル基、これらの水素原子の一部が水酸
基、アルコキシ基、オキソ基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基等に置換されたものを挙げることができ、具体的に
は下記の置換アルキル基等が例示できる。
In the formula, R L01 and R L02 each represent a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms. , Propyl group, isopropyl group, n-butyl group,
sec-butyl group, tert-butyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 2-ethylhexyl group, n-
An octyl group can be exemplified. R L03 has 1 to 1 carbon atoms
8, preferably a monovalent hydrocarbon group which may have 1 to 10 hetero atoms such as an oxygen atom, and is a linear, branched or cyclic alkyl group, and a part of these hydrogen atoms is a hydroxyl group , An alkoxy group, an oxo group, an amino group, an alkylamino group or the like, and specific examples thereof include the following substituted alkyl groups.

【0097】[0097]

【化58】 Embedded image

【0098】RL01とRL02、RL01
L03、RL02とRL03とは環を形成してもよ
く、環を形成する場合にはRL01、RL02、R
L03はそれぞれ炭素数1〜18、好ましくは1〜10
の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示す。
R L01 and R L02 , R L01 and R L03 , and R L02 and R L03 may form a ring, and when a ring is formed, R L01 , R L02 , R
L03 has 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms.
Represents a linear or branched alkylene group.

【0099】RL04は炭素数4〜20、好ましくは4
〜15の三級アルキル基、各アルキル基がそれぞれ炭素
数1〜6のトリアルキルシリル基、炭素数4〜20のオ
キソアルキル基又は上記一般式(L1)で示される基を
示し、三級アルキル基として具体的には、tert−ブ
チル基、tert−アミル基、1,1−ジエチルプロピ
ル基、1−エチルシクロペンチル基、1−ブチルシクロ
ペンチル基、1−エチルシクロヘキシル基、1−ブチル
シクロヘキシル基、1−エチル−2−シクロペンテニル
基、1−エチル−2−シクロヘキセニル基、2−メチル
−2−アダマンチル基等が挙げられ、トリアルキルシリ
ル基として具体的には、トリメチルシリル基、トリエチ
ルシリル基、ジメチル−tert−ブチルシリル基等が
挙げられ、オキソアルキル基として具体的には、3−オ
キソシクロヘキシル基、4−メチル−2−オキソオキサ
ン−4−イル基、5−メチル−5−オキソオキソラン−
4−イル基等が挙げられる。yは0〜6の整数である。
R L04 has 4 to 20 carbon atoms, preferably 4 carbon atoms.
A tertiary alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, each alkyl group being a trialkylsilyl group having 1 to 6 carbon atoms, an oxoalkyl group having 4 to 20 carbon atoms or a group represented by the above formula (L1); Specific examples of the group include a tert-butyl group, a tert-amyl group, a 1,1-diethylpropyl group, a 1-ethylcyclopentyl group, a 1-butylcyclopentyl group, a 1-ethylcyclohexyl group, a 1-butylcyclohexyl group, -Ethyl-2-cyclopentenyl group, 1-ethyl-2-cyclohexenyl group, 2-methyl-2-adamantyl group, and the like. Specific examples of the trialkylsilyl group include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, and dimethyl. -Tert-butylsilyl group and the like, and specific examples of the oxoalkyl group include 3-oxocyclohexyl. Group, 4-methyl-2-oxooxan-4-yl group, 5-methyl-5-oxo-dioxolane -
4-yl group and the like. y is an integer of 0-6.

【0100】RL05は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状
又は環状のアルキル基又は炭素数6〜20の置換されて
いてもよいアリール基を示し、直鎖状、分岐状又は環状
のアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−
ブチル基、tert−ブチル基、tert−アミル基、
n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロペ
ンチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキ
シルエチル基等を例示でき、置換されていてもよいアリ
ール基として具体的にはフェニル基、メチルフェニル
基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピ
レニル基等が例示できる。mは0又は1、nは0、1、
2、3のいずれかであり、2m+n=2又は3を満足す
る数である。
R L05 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group,
Propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-
Butyl group, tert-butyl group, tert-amyl group,
n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopentyl group,
Examples thereof include a cyclohexyl group, a cyclopentylmethyl group, a cyclopentylethyl group, a cyclohexylmethyl group, and a cyclohexylethyl group. Group, pyrenyl group and the like. m is 0 or 1, n is 0, 1,
It is either 2 or 3, which is 2m + n = 2 or 3.

【0101】RL06は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状
又は環状のアルキル基又は炭素数6〜20の置換されて
いてもよいアリール基を示し、具体的にはRL05と同
様のものが例示できる。RL07〜RL16はそれぞれ
独立に水素原子又は炭素数1〜15のヘテロ原子を含ん
でもよい1価の炭化水素基を示し、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、se
c−ブチル基、tert−ブチル基、tert−アミル
基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル
基、n−ノニル基、n−デシル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロペ
ンチルエチル基、シクロペンチルブチル基、シクロヘキ
シルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシ
ルブチル基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、
これらの水素原子の一部が水酸基、アルコキシ基、カル
ボキシ基、アルコキシカルボニル基、オキソ基、アミノ
基、アルキルアミノ基、シアノ基、メルカプト基、アル
キルチオ基、スルホ基等に置換されたものを例示でき
る。RL07〜RL16は互いに環を形成していてもよ
く(例えば、RL07とRL08、RL07
L09、RL08とRL10、R L09とRL10
L11とRL12、RL13とRL14等)、その場
合には炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい2価
の炭化水素基を示し、上記1価の炭化水素基で例示した
ものから水素原子を1個除いたもの等が例示できる。ま
た、RL07〜RL16は隣接する炭素に結合するもの
同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよい
(例えば、RL07とRL09、RL09とR L15
L13とRL15等)。
RL06Is a linear or branched C1-C8
Or a cyclic alkyl group or substituted with 6 to 20 carbon atoms
Represents an optionally substituted aryl group, specifically RL05Same as
Can be exemplified. RL07~ RL16Are each
Independently contains a hydrogen atom or a heteroatom having 1 to 15 carbon atoms
A monovalent hydrocarbon group which may be a methyl group, an ethyl group
Group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, se
c-butyl group, tert-butyl group, tert-amyl
Group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl
Group, n-nonyl group, n-decyl group, cyclopentyl group,
Cyclohexyl, cyclopentylmethyl, cyclope
Ethyl group, cyclopentylbutyl group, cyclohexyl
Silmethyl group, cyclohexylethyl group, cyclohexyl
A linear, branched or cyclic alkyl group such as a rubutyl group,
Some of these hydrogen atoms are hydroxyl, alkoxy,
Boxy group, alkoxycarbonyl group, oxo group, amino
Group, alkylamino group, cyano group, mercapto group,
Examples include those substituted with a thio group, a sulfo group, or the like.
You. RL07~ RL16May form a ring with each other
(For example, RL07And RL08, RL07When
RL09, RL08And RL10, R L09And RL10,
RL11And RL12, RL13And RL14Etc.), on the spot
Divalent optionally containing a heteroatom having 1 to 15 carbon atoms
And a hydrocarbon group represented by the above-mentioned monovalent hydrocarbon group.
Examples thereof include those in which one hydrogen atom has been removed therefrom. Ma
RL07~ RL16Is bonded to adjacent carbon
May bond to each other without any intervention to form a double bond
(For example, RL07And RL09, RL09And R L15,
RL13And RL15etc).

【0102】上記式(L1)で示される酸不安定基のう
ち直鎖状又は分岐状のものとしては、具体的には下記の
基が例示できる。
Specific examples of the linear or branched acid labile groups represented by the formula (L1) include the following groups.

【0103】[0103]

【化59】 Embedded image

【0104】上記式(L1)で示される酸不安定基のう
ち環状のものとしては、具体的にはテトラヒドロフラン
−2−イル基、2−メチルテトラヒドロフラン−2−イ
ル基、テトラヒドロピラン−2−イル基、2−メチルテ
トラヒドロピラン−2−イル基等が例示できる。
The cyclic group of the acid labile group represented by the above formula (L1) is specifically a tetrahydrofuran-2-yl group, a 2-methyltetrahydrofuran-2-yl group, a tetrahydropyran-2-yl group. And 2-methyltetrahydropyran-2-yl group.

【0105】上記式(L2)の酸不安定基としては、具
体的にはtert−ブトキシカルボニル基、tert−
ブトキシカルボニルメチル基、tert−アミロキシカ
ルボニル基、tert−アミロキシカルボニルメチル
基、1,1−ジエチルプロピルオキシカルボニル基、
1,1−ジエチルプロピルオキシカルボニルメチル基、
1−エチルシクロペンチルオキシカルボニル基、1−エ
チルシクロペンチルオキシカルボニルメチル基、1−エ
チル−2−シクロペンテニルオキシカルボニル基、1−
エチル−2−シクロペンテニルオキシカルボニルメチル
基、1−エトキシエトキシカルボニルメチル基、2−テ
トラヒドロピラニルオキシカルボニルメチル基、2−テ
トラヒドロフラニルオキシカルボニルメチル基等が例示
できる。
Specific examples of the acid labile group of the above formula (L2) include a tert-butoxycarbonyl group and a tert-butoxycarbonyl group.
Butoxycarbonylmethyl group, tert-amyloxycarbonyl group, tert-amyloxycarbonylmethyl group, 1,1-diethylpropyloxycarbonyl group,
1,1-diethylpropyloxycarbonylmethyl group,
1-ethylcyclopentyloxycarbonyl group, 1-ethylcyclopentyloxycarbonylmethyl group, 1-ethyl-2-cyclopentenyloxycarbonyl group, 1-
Examples thereof include an ethyl-2-cyclopentenyloxycarbonylmethyl group, a 1-ethoxyethoxycarbonylmethyl group, a 2-tetrahydropyranyloxycarbonylmethyl group, and a 2-tetrahydrofuranyloxycarbonylmethyl group.

【0106】上記式(L3)の酸不安定基としては、具
体的には1−メチルシクロペンチル、1−エチルシクロ
ペンチル、1−n−プロピルシクロペンチル、1−イソ
プロピルシクロペンチル、1−n−ブチルシクロペンチ
ル、1−sec−ブチルシクロペンチル、1−メチルシ
クロヘキシル、1−エチルシクロヘキシル、3−メチル
−1−シクロペンテン−3−イル、3−エチル−1−シ
クロペンテン−3−イル、3−メチル−1−シクロヘキ
セン−3−イル、3−エチル−1−シクロヘキセン−3
−イル等が例示できる。
Specific examples of the acid labile group of the above formula (L3) include 1-methylcyclopentyl, 1-ethylcyclopentyl, 1-n-propylcyclopentyl, 1-isopropylcyclopentyl, 1-n-butylcyclopentyl, -Sec-butylcyclopentyl, 1-methylcyclohexyl, 1-ethylcyclohexyl, 3-methyl-1-cyclopenten-3-yl, 3-ethyl-1-cyclopenten-3-yl, 3-methyl-1-cyclohexene-3- Yl, 3-ethyl-1-cyclohexene-3
-Il and the like.

【0107】上記式(L4)の酸不安定基としては、具
体的には下記の基が例示できる。
Specific examples of the acid labile group of the formula (L4) include the following groups.

【0108】[0108]

【化60】 [Of 60]

【0109】また、R015の酸不安定基の三級アルキ
ル基、トリアルキルシリル基、オキソアルキル基として
は、先に例示したものを挙げることができる。
Examples of the tertiary alkyl group, trialkylsilyl group and oxoalkyl group of the acid labile group represented by R 015 include those exemplified above.

【0110】なお、R015の酸不安定基は、1種を単
独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
複数種の酸不安定基を用いることにより、パターンプロ
ファイルの微調整を行うことができる。
The acid labile group of R 015 can be used alone or in combination of two or more.
By using a plurality of types of acid labile groups, fine adjustment of the pattern profile can be performed.

【0111】上記開環メタセシス重合体の水素添加物と
別の高分子化合物との配合比率は、100:0〜10:
90、特に100:0〜20:80の重量比の範囲内に
あることが好ましい。上記開環メタセシス重合体の水素
添加物の配合比がこれより少ないと、レジスト材料とし
て好ましい性能が得られないことがある。上記の配合比
率を適宜変えることにより、レジスト材料の性能を調整
することができる。
The mixing ratio of the hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer to another polymer compound is 100: 0 to 10:
It is preferably in the range of 90, especially 100: 0 to 20:80 by weight. If the compounding ratio of the hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer is less than this, favorable performance as a resist material may not be obtained. The performance of the resist material can be adjusted by appropriately changing the above mixing ratio.

【0112】なお、上記別の高分子化合物は1種に限ら
ず2種以上を添加することができる。複数種の高分子化
合物を用いることにより、レジスト材料の性能を調整す
ることができる。
The above-mentioned another polymer compound is not limited to one kind, and two or more kinds can be added. By using a plurality of types of polymer compounds, the performance of the resist material can be adjusted.

【0113】本発明のレジスト材料には、更に溶解制御
剤を添加することができる。溶解制御剤としては、平均
分子量が100〜1,000、好ましくは150〜80
0で、かつ分子内にフェノール性水酸基を2つ以上有す
る化合物の該フェノール性水酸基の水素原子を酸不安定
基により全体として平均0〜100モル%の割合で置換
した化合物又は分子内にカルボキシ基を有する化合物の
該カルボキシ基の水素原子を酸不安定基により全体とし
て平均50〜100モル%の割合で置換した化合物を配
合する。
The resist composition of the present invention may further contain a dissolution controlling agent. The dissolution controlling agent has an average molecular weight of 100 to 1,000, preferably 150 to 80.
0 and a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in the molecule, wherein a hydrogen atom of the phenolic hydroxyl group is substituted with an acid labile group at an average rate of 0 to 100 mol% or a carboxy group in the molecule. And a compound in which the hydrogen atom of the carboxy group of the compound having the formula (1) is substituted with an acid labile group at an average ratio of 50 to 100 mol% as a whole.

【0114】なお、フェノール性水酸基の水素原子の酸
不安定基による置換率は、平均でフェノール性水酸基全
体の0モル%以上、好ましくは30モル%以上であり、
その上限は100モル%、より好ましくは80モル%で
ある。カルボキシ基の水素原子の酸不安定基による置換
率は、平均でカルボキシ基全体の50モル%以上、好ま
しくは70モル%以上であり、その上限は100モル%
である。
Incidentally, the substitution rate of the hydrogen atom of the phenolic hydroxyl group by the acid labile group is 0 mol% or more, preferably 30 mol% or more of the whole phenolic hydroxyl group on average.
The upper limit is 100 mol%, more preferably 80 mol%. The substitution rate of the hydrogen atom of the carboxy group by the acid labile group is 50 mol% or more, preferably 70 mol% or more of the entire carboxy group on average, and the upper limit is 100 mol%.
It is.

【0115】この場合、かかるフェノール性水酸基を2
つ以上有する化合物又はカルボキシ基を有する化合物と
しては、下記式(D1)〜(D14)で示されるものが
好ましい。
In this case, the phenolic hydroxyl group is
As the compound having one or more compounds or the compound having a carboxy group, compounds represented by the following formulas (D1) to (D14) are preferable.

【0116】[0116]

【化61】 (但し、式中R201、R202はそれぞれ水素原子、
又は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基又は
アルケニル基を示す。R203は水素原子、又は炭素数
1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基又はアルケニル
基、或いは−(R 207COOHを示す。R204
は−(CH−(i=2〜10)、炭素数6〜10
のアリーレン基、カルボニル基、スルホニル基、酸素原
子又は硫黄原子を示す。R205は炭素数1〜10のア
ルキレン基、炭素数6〜10のアリーレン基、カルボニ
ル基、スルホニル基、酸素原子又は硫黄原子を示す。R
20 は水素原子、炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状の
アルキル基、アルケニル基、又はそれぞれ水酸基で置換
されたフェニル基又はナフチル基を示す。R207は炭
素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示
す。R208は水素原子又は水酸基を示す。jは0〜5
の整数である。u、hは0又は1である。s、t、
s’、t’、s’’、t’’はそれぞれs+t=8、
s’+t’=5、s’’+t’’=4を満足し、かつ各
フェニル骨格中に少なくとも1つの水酸基を有するよう
な数である。αは式(D8)、(D9)の化合物の分子
量を100〜1,000とする数である。)
Embedded image(Where R201, R202Is a hydrogen atom,
Or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or
Shows an alkenyl group. R203Is a hydrogen atom or carbon number
1-8 linear or branched alkyl or alkenyl
Group or-(R 207)hIndicates COOH. R204
Is-(CH2)i-(I = 2 to 10), carbon number 6 to 10
Arylene, carbonyl, sulfonyl, oxygen
Represents a hydrogen atom or a sulfur atom. R205Is a group having 1 to 10 carbon atoms.
Alkylene group, arylene group having 6 to 10 carbon atoms, carbonyl
A sulfonyl group, an oxygen atom or a sulfur atom. R
20 6Is a hydrogen atom, a linear or branched C1-8
Substituted with alkyl group, alkenyl group or each hydroxyl group
Phenyl group or naphthyl group. R207Is charcoal
Represents a linear or branched alkylene group having a prime number of 1 to 10
You. R208Represents a hydrogen atom or a hydroxyl group. j is 0-5
Is an integer. u and h are 0 or 1. s, t,
s ′, t ′, s ″, and t ″ are each s + t = 8,
s ′ + t ′ = 5, s ″ + t ″ = 4, and
To have at least one hydroxyl group in the phenyl skeleton
It is a number. α is a molecule of the compound of formulas (D8) and (D9)
It is a number that makes the amount 100 to 1,000. )

【0117】上記式中R201、R202としては、例
えば水素原子、メチル基、エチル基、ブチル基、プロピ
ル基、エチニル基、シクロヘキシル基、R203として
は、例えばR201、R202と同様なもの、或いは−
COOH、−CHCOOH、R204としては、例え
ばエチレン基、フェニレン基、カルボニル基、スルホニ
ル基、酸素原子、硫黄原子等、R205としては、例え
ばメチレン基、或いはR204と同様なもの、R206
としては例えば水素原子、メチル基、エチル基、ブチル
基、プロピル基、エチニル基、シクロヘキシル基、それ
ぞれ水酸基で置換されたフェニル基、ナフチル基等が挙
げられる。
In the above formula, R 201 and R 202 are, for example, hydrogen atom, methyl group, ethyl group, butyl group, propyl group, ethynyl group, cyclohexyl group, and R 203 are, for example, the same as R 201 and R 202. Thing, or-
COOH, as the -CH 2 COOH, R 204, an ethylene group, a phenylene group, a carbonyl group, a sulfonyl group, an oxygen atom, a sulfur atom, etc., as the R 205, for example a methylene group, or ones similar to R 204, R 206
Examples thereof include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a butyl group, a propyl group, an ethynyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group each substituted with a hydroxyl group, and a naphthyl group.

【0118】ここで、溶解制御剤の酸不安定基として
は、下記一般式(L1)〜(L4)で示される基、炭素
数4〜20の三級アルキル基、各アルキル基の炭素数が
それぞれ1〜6のトリアルキルシリル基、炭素数4〜2
0のオキソアルキル基等が挙げられる。
Here, the acid labile group of the dissolution controlling agent includes groups represented by the following formulas (L1) to (L4), tertiary alkyl groups having 4 to 20 carbon atoms, and carbon atoms of each alkyl group. 1 to 6 trialkylsilyl groups, 4 to 2 carbon atoms
And an oxoalkyl group of 0.

【0119】[0119]

【化62】 (式中、RL01、RL02は水素原子又は炭素数1〜
18の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。R
L03は炭素数1〜18の酸素原子等のヘテロ原子を有
してもよい1価の炭化水素基を示す。RL01とR
L02、RL01とR L03、RL02とRL03とは
環を形成してもよく、環を形成する場合にはR L01
L02、RL03はそれぞれ炭素数1〜18の直鎖状
又は分岐状のアルキレン基を示す。RL04は炭素数4
〜20の三級アルキル基、各アルキル基がそれぞれ炭素
数1〜6のトリアルキルシリル基、炭素数4〜20のオ
キソアルキル基又は上記一般式(L1)で示される基を
示す。RL05は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環
状のアルキル基又は炭素数6〜20の置換されていても
よいアリール基を示す。RL06は炭素数1〜8の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基又は炭素数6〜20の
置換されていてもよいアリール基を示す。RL07〜R
L16はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜15の
ヘテロ原子を含んでもよい1価の炭化水素基を示す。R
L07〜RL16は互いに環を形成していてもよく、そ
の場合には炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい
2価の炭化水素基を示す。また、RL07〜RL16
隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合
し、二重結合を形成してもよい。yは0〜6の整数であ
る。mは0又は1、nは0、1、2、3のいずれかであ
り、2m+n=2又は3を満足する数である。)
Embedded image(Where RL01, RL02Is a hydrogen atom or carbon number 1
It represents 18 linear, branched or cyclic alkyl groups. R
L03Has a heteroatom such as an oxygen atom having 1 to 18 carbon atoms.
And a monovalent hydrocarbon group which may be used. RL01And R
L02, RL01And R L03, RL02And RL03What is
A ring may be formed, and when a ring is formed, R L01,
RL02, RL03Is a linear group having 1 to 18 carbon atoms
Or a branched alkylene group. RL04Is carbon number 4
-20 tertiary alkyl groups, each alkyl group being carbon
A trialkylsilyl group having 1 to 6 carbon atoms,
A xoalkyl group or a group represented by the above general formula (L1)
Show. RL05Is a linear, branched or cyclic C1-8
Alkyl group or substituted with 6 to 20 carbon atoms
Shows good aryl groups. RL06Is a linear chain having 1 to 8 carbon atoms
, Branched or cyclic alkyl groups or C6-C20
It shows the aryl group which may be substituted. RL07~ R
L16Are each independently a hydrogen atom or a group having 1 to 15 carbon atoms.
It represents a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom. R
L07~ RL16May form a ring with each other,
May contain a heteroatom having 1 to 15 carbon atoms
Shows a divalent hydrocarbon group. Also, RL07~ RL16Is
Bonds between adjacent carbons without any intervention
Then, a double bond may be formed. y is an integer from 0 to 6
You. m is 0 or 1, and n is 0, 1, 2, or 3.
2m + n = 2 or 3. )

【0120】上記溶解制御剤の配合量は、ベース樹脂1
00部に対し、0〜50部、好ましくは5〜50部、よ
り好ましくは10〜30部であり、単独又は2種以上を
混合して使用できる。配合量が5部に満たないと解像性
の向上がない場合があり、50部を超えるとパターンの
膜減りが生じ、解像度が低下する場合がある。
The amount of the above-mentioned dissolution controlling agent was determined based on the amount of the base resin 1
It is 0 to 50 parts, preferably 5 to 50 parts, more preferably 10 to 30 parts with respect to 00 parts, and can be used alone or in combination of two or more. If the amount is less than 5 parts, the resolution may not be improved. If the amount is more than 50 parts, the pattern may be reduced in film thickness and the resolution may be reduced.

【0121】なお、上記のような溶解制御剤は、フェノ
ール性水酸基又はカルボキシ基を有する化合物に対し、
有機化学的処方を用いて酸不安定基を導入することによ
り合成される。
The dissolution controlling agent as described above is used for a compound having a phenolic hydroxyl group or a carboxy group.
It is synthesized by introducing an acid labile group using an organic chemical formulation.

【0122】更に、本発明のレジスト材料には、塩基性
化合物を配合することができる。塩基性化合物として
は、酸発生剤より発生する酸がレジスト膜中に拡散する
際の拡散速度を抑制することができる化合物が適してい
る。塩基性化合物の配合により、レジスト膜中での酸の
拡散速度が抑制されて解像度が向上し、露光後の感度変
化を抑制したり、基板や環境依存性を少なくし、露光余
裕度やパターンプロファイル等を向上することができ
る。
The resist composition of the present invention may further contain a basic compound. As the basic compound, a compound capable of suppressing the diffusion rate when the acid generated from the acid generator diffuses into the resist film is suitable. By compounding a basic compound, the diffusion rate of acid in the resist film is suppressed and the resolution is improved. Etc. can be improved.

【0123】このような塩基性化合物としては、第一
級、第二級、第三級の脂肪族アミン類、混成アミン類、
芳香族アミン類、複素環アミン類、カルボキシ基を有す
る含窒素化合物、スルホニル基を有する含窒素化合物、
水酸基を有する含窒素化合物、ヒドロキシフェニル基を
有する含窒素化合物、アルコール性含窒素化合物、アミ
ド誘導体、イミド誘導体等が挙げられる。
Such basic compounds include primary, secondary and tertiary aliphatic amines, hybrid amines, and the like.
Aromatic amines, heterocyclic amines, nitrogen-containing compounds having a carboxy group, nitrogen-containing compounds having a sulfonyl group,
Examples include a nitrogen-containing compound having a hydroxyl group, a nitrogen-containing compound having a hydroxyphenyl group, an alcoholic nitrogen-containing compound, an amide derivative, and an imide derivative.

【0124】具体的には、第一級の脂肪族アミン類とし
て、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、n−プ
ロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、イソブチルアミン、sec−ブチルアミン、ter
t−ブチルアミン、ペンチルアミン、tert−アミル
アミン、シクロペンチルアミン、ヘキシルアミン、シク
ロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、
ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、セチル
アミン、メチレンジアミン、エチレンジアミン、テトラ
エチレンペンタミン等が例示され、第二級の脂肪族アミ
ン類として、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−n
−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−n−ブ
チルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−sec−ブチル
アミン、ジペンチルアミン、ジシクロペンチルアミン、
ジヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジヘプチ
ルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシ
ルアミン、ジドデシルアミン、ジセチルアミン、N,N
−ジメチルメチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレ
ンジアミン、N,N−ジメチルテトラエチレンペンタミ
ン等が例示され、第三級の脂肪族アミン類として、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−プロピル
アミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルア
ミン、トリイソブチルアミン、トリ−sec−ブチルア
ミン、トリペンチルアミン、トリシクロペンチルアミ
ン、トリヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン、
トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニル
アミン、トリデシルアミン、トリドデシルアミン、トリ
セチルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルメチ
レンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチ
レンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルテト
ラエチレンペンタミン等が例示される。
Specifically, as primary aliphatic amines, ammonia, methylamine, ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, sec-butylamine, tertiary amine
t-butylamine, pentylamine, tert-amylamine, cyclopentylamine, hexylamine, cyclohexylamine, heptylamine, octylamine,
Nonylamine, decylamine, dodecylamine, cetylamine, methylenediamine, ethylenediamine, tetraethylenepentamine and the like are exemplified. As secondary aliphatic amines, dimethylamine, diethylamine, di-n
-Propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, diisobutylamine, di-sec-butylamine, dipentylamine, dicyclopentylamine,
Dihexylamine, dicyclohexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, didodecylamine, dicetylamine, N, N
-Dimethylmethylenediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-dimethyltetraethylenepentamine, and the like. Examples of the tertiary aliphatic amines include trimethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, and triisopropylamine. , Tri-n-butylamine, triisobutylamine, tri-sec-butylamine, tripentylamine, tricyclopentylamine, trihexylamine, tricyclohexylamine,
Triheptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, tridodecylamine, tricetylamine, N, N, N ', N'-tetramethylmethylenediamine, N, N, N', N'-tetra Examples include methylethylenediamine, N, N, N ', N'-tetramethyltetraethylenepentamine and the like.

【0125】また、混成アミン類としては、例えばジメ
チルエチルアミン、メチルエチルプロピルアミン、ベン
ジルアミン、フェネチルアミン、ベンジルジメチルアミ
ン等が例示される。芳香族アミン類及び複素環アミン類
の具体例としては、アニリン誘導体(例えばアニリン、
N−メチルアニリン、N−エチルアニリン、N−プロピ
ルアニリン、N,N−ジメチルアニリン、2−メチルア
ニリン、3−メチルアニリン、4−メチルアニリン、エ
チルアニリン、プロピルアニリン、トリメチルアニリ
ン、2−ニトロアニリン、3−ニトロアニリン、4−ニ
トロアニリン、2,4−ジニトロアニリン、2,6−ジ
ニトロアニリン、3,5−ジニトロアニリン、N,N−
ジメチルトルイジン等)、ジフェニル(p−トリル)ア
ミン、メチルジフェニルアミン、トリフェニルアミン、
フェニレンジアミン、ナフチルアミン、ジアミノナフタ
レン、ピロール誘導体(例えばピロール、2H−ピロー
ル、1−メチルピロール、2,4−ジメチルピロール、
2,5−ジメチルピロール、N−メチルピロール等)、
オキサゾール誘導体(例えばオキサゾール、イソオキサ
ゾール等)、チアゾール誘導体(例えばチアゾール、イ
ソチアゾール等)、イミダゾール誘導体(例えばイミダ
ゾール、4−メチルイミダゾール、4−メチル−2−フ
ェニルイミダゾール等)、ピラゾール誘導体、フラザン
誘導体、ピロリン誘導体(例えばピロリン、2−メチル
−1−ピロリン等)、ピロリジン誘導体(例えばピロリ
ジン、N−メチルピロリジン、ピロリジノン、N−メチ
ルピロリドン等)、イミダゾリン誘導体、イミダゾリジ
ン誘導体、ピリジン誘導体(例えばピリジン、メチルピ
リジン、エチルピリジン、プロピルピリジン、ブチルピ
リジン、4−(1−ブチルペンチル)ピリジン、ジメチ
ルピリジン、トリメチルピリジン、トリエチルピリジ
ン、フェニルピリジン、3−メチル−2−フェニルピリ
ジン、4−tert−ブチルピリジン、ジフェニルピリ
ジン、ベンジルピリジン、メトキシピリジン、ブトキシ
ピリジン、ジメトキシピリジン、1−メチル−2−ピリ
ジン、4−ピロリジノピリジン、1−メチル−4−フェ
ニルピリジン、2−(1−エチルプロピル)ピリジン、
アミノピリジン、ジメチルアミノピリジン等)、ピリダ
ジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピラ
ゾリン誘導体、ピラゾリジン誘導体、ピペリジン誘導
体、ピペラジン誘導体、モルホリン誘導体、インドール
誘導体、イソインドール誘導体、1H−インダゾール誘
導体、イン通りン誘導体、キノリン誘導体(例えばキノ
リン、3−キノリンカルボニトリル等)、イソキノリン
誘導体、シンノリン誘導体、キナゾリン誘導体、キノキ
サリン誘導体、フタラジン誘導体、プリン誘導体、プテ
リジン誘導体、カルバゾール誘導体、フェナントリジン
誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、1,1
0−フェナントロリン誘導体、アデニン誘導体、アデノ
シン誘導体、グアニン誘導体、グアノシン誘導体、ウラ
シル誘導体、ウリジン誘導体等が例示される。
Examples of the mixed amines include dimethylethylamine, methylethylpropylamine, benzylamine, phenethylamine and benzyldimethylamine. Specific examples of aromatic amines and heterocyclic amines include aniline derivatives (for example, aniline,
N-methylaniline, N-ethylaniline, N-propylaniline, N, N-dimethylaniline, 2-methylaniline, 3-methylaniline, 4-methylaniline, ethylaniline, propylaniline, trimethylaniline, 2-nitroaniline , 3-nitroaniline, 4-nitroaniline, 2,4-dinitroaniline, 2,6-dinitroaniline, 3,5-dinitroaniline, N, N-
Dimethyl toluidine), diphenyl (p-tolyl) amine, methyl diphenylamine, triphenylamine,
Phenylenediamine, naphthylamine, diaminonaphthalene, pyrrole derivatives (e.g., pyrrole, 2H-pyrrole, 1-methylpyrrole, 2,4-dimethylpyrrole,
2,5-dimethylpyrrole, N-methylpyrrole, etc.),
Oxazole derivatives (eg, oxazole, isoxazole, etc.), thiazole derivatives (eg, thiazole, isothiazole, etc.), imidazole derivatives (eg, imidazole, 4-methylimidazole, 4-methyl-2-phenylimidazole, etc.), pyrazole derivatives, furazane derivatives, Pyrroline derivatives (eg, pyrroline, 2-methyl-1-pyrroline, etc.), pyrrolidine derivatives (eg, pyrrolidine, N-methylpyrrolidine, pyrrolidinone, N-methylpyrrolidone, etc.), imidazoline derivatives, imidazolidine derivatives, pyridine derivatives (eg, pyridine, methyl) Pyridine, ethylpyridine, propylpyridine, butylpyridine, 4- (1-butylpentyl) pyridine, dimethylpyridine, trimethylpyridine, triethylpyridine, phenylpyridyl , 3-methyl-2-phenylpyridine, 4-tert-butylpyridine, diphenylpyridine, benzylpyridine, methoxypyridine, butoxypyridine, dimethoxypyridine, 1-methyl-2-pyridine, 4-pyrrolidinopyridine, 1-methyl- 4-phenylpyridine, 2- (1-ethylpropyl) pyridine,
Aminopyridine, dimethylaminopyridine, etc.), pyridazine derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolidine derivatives, piperidine derivatives, piperazine derivatives, morpholine derivatives, indole derivatives, isoindole derivatives, 1H-indazole derivatives, indone derivatives, Quinoline derivatives (for example, quinoline, 3-quinolinecarbonitrile, etc.), isoquinoline derivatives, cinnoline derivatives, quinazoline derivatives, quinoxaline derivatives, phthalazine derivatives, purine derivatives, pteridine derivatives, carbazole derivatives, phenanthridine derivatives, acridine derivatives, phenazine derivatives, 1 , 1
Examples thereof include 0-phenanthroline derivatives, adenine derivatives, adenosine derivatives, guanine derivatives, guanosine derivatives, uracil derivatives, uridine derivatives and the like.

【0126】更に、カルボキシ基を有する含窒素化合物
としては、例えばアミノ安息香酸、インドールカルボン
酸、アミノ酸誘導体(例えばニコチン酸、アラニン、ア
ルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、グリシン、
ヒスチジン、イソロイシン、グリシルロイシン、ロイシ
ン、メチオニン、フェニルアラニン、スレオニン、リジ
ン、3−アミノピラジン−2−カルボン酸、メトキシア
ラニン等)等が例示され、スルホニル基を有する含窒素
化合物として3−ピリジンスルホン酸、p−トルエンス
ルホン酸ピリジニウム等が例示され、水酸基を有する含
窒素化合物、ヒドロキシフェニル基を有する含窒素化合
物、アルコール性含窒素化合物としては、2−ヒドロキ
シピリジン、アミノクレゾール、2,4−キノリンジオ
ール、3−インドールメタノールヒドレート、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、N−エチルジエタノールアミン、N,N−ジエチ
ルエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、
2,2’−イミノジエタノール、2−アミノエタノ−
ル、3−アミノ−1−プロパノール、4−アミノ−1−
ブタノール、4−(2−ヒドロキシエチル)モルホリ
ン、2−(2−ヒドロキシエチル)ピリジン、1−(2
−ヒドロキシエチル)ピペラジン、1−[2−(2−ヒ
ドロキシエトキシ)エチル]ピペラジン、ピペリジンエ
タノール、1−(2−ヒドロキシエチル)ピロリジン、
1−(2−ヒドロキシエチル)−2−ピロリジノン、3
−ピペリジノ−1,2−プロパンジオール、3−ピロリ
ジノ−1,2−プロパンジオール、8−ヒドロキシユロ
リジン、3−クイヌクリジノール、3−トロパノール、
1−メチル−2−ピロリジンエタノール、1−アジリジ
ンエタノール、N−(2−ヒドロキシエチル)フタルイ
ミド、N−(2−ヒドロキシエチル)イソニコチンアミ
ド等が例示される。アミド誘導体としては、ホルムアミ
ド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズ
アミド等が例示される。イミド誘導体としては、フタル
イミド、サクシンイミド、マレイミド等が例示される。
Further, examples of the nitrogen-containing compound having a carboxy group include aminobenzoic acid, indolecarboxylic acid, and amino acid derivatives (eg, nicotinic acid, alanine, arginine, aspartic acid, glutamic acid, glycine,
Histidine, isoleucine, glycylleucine, leucine, methionine, phenylalanine, threonine, lysine, 3-aminopyrazine-2-carboxylic acid, methoxyalanine, etc.), and 3-pyridinesulfonic acid as a nitrogen-containing compound having a sulfonyl group. , Pyridinium p-toluenesulfonate, and the like. Examples of the nitrogen-containing compound having a hydroxyl group, the nitrogen-containing compound having a hydroxyphenyl group, and the alcoholic nitrogen-containing compound include 2-hydroxypyridine, aminocresol, and 2,4-quinolinediol. , 3-indolemethanol hydrate, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-ethyldiethanolamine, N, N-diethylethanolamine, triisopropanolamine,
2,2′-iminodiethanol, 2-aminoethanol
3-amino-1-propanol, 4-amino-1-
Butanol, 4- (2-hydroxyethyl) morpholine, 2- (2-hydroxyethyl) pyridine, 1- (2
-Hydroxyethyl) piperazine, 1- [2- (2-hydroxyethoxy) ethyl] piperazine, piperidineethanol, 1- (2-hydroxyethyl) pyrrolidine,
1- (2-hydroxyethyl) -2-pyrrolidinone, 3
-Piperidino-1,2-propanediol, 3-pyrrolidino-1,2-propanediol, 8-hydroxyurolidine, 3-quinuclidinol, 3-tropanol,
Examples thereof include 1-methyl-2-pyrrolidineethanol, 1-aziridineethanol, N- (2-hydroxyethyl) phthalimide, and N- (2-hydroxyethyl) isonicotinamide. Examples of the amide derivative include formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamido, N-methylacetamido,
Examples include N-dimethylacetamide, propionamide, benzamide and the like. Examples of the imide derivative include phthalimide, succinimide, and maleimide.

【0127】更に、下記一般式(B1)で示される塩基
性化合物から選ばれる1種又は2種以上を配合すること
もできる。
Further, one or more selected from basic compounds represented by the following general formula (B1) may be blended.

【0128】[0128]

【化63】 (式中、n=1、2又は3である。Yは各々独立に水素
原子又は直鎖状、分岐状又は環状の炭素数1〜20のア
ルキル基を示し、ヒドロキシ基又はエーテルを含んでも
よい。Xは各々独立に下記一般式(X1)〜(X3)で
表される基を示し、2個又は3個のXが結合して環を形
成してもよい。)
Embedded image (In the formula, n = 1, 2, or 3. Each Y independently represents a hydrogen atom or a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and may include a hydroxy group or an ether. X each independently represents a group represented by the following formulas (X1) to (X3), and two or three Xs may be bonded to form a ring)

【0129】[0129]

【化64】 (式中R300、R302、R305は炭素数1〜4の
直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示す。R301、R
304は水素原子、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルキル基を示し、ヒドロキシ基、エーテ
ル、エステル又はラクトン環を1個又は複数個含んでい
てもよい。R303は単結合又は炭素数1〜4の直鎖状
又は分岐状のアルキレン基を示す。)
Embedded image (Wherein R 300, R 302, R 305 is a straight or branched alkylene group of 1 to 4 carbon atoms .R 301, R
Reference numeral 304 denotes a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, which may contain one or more hydroxy groups, ethers, esters or lactone rings. R 303 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. )

【0130】上記一般式(B1)で表される化合物とし
て具体的には、トリス(2−メトキシメトキシエチル)
アミン、トリス{2−(2−メトキシエトキシ)エチ
ル}アミン、トリス{2−(2−メトキシエトキシメト
キシ)エチル}アミン、トリス{2−(1−メトキシエ
トキシ)エチル}アミン、トリス{2−(1−エトキシ
エトキシ)エチル}アミン、トリス{2−(1−エトキ
シプロポキシ)エチル}アミン、トリス[2−{2−
(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ}エチル]アミ
ン、4,7,13,16,21,24−ヘキサオキサ−
1,10−ジアザビシクロ[8.8.8]ヘキサコサ
ン、4,7,13,18−テトラオキサ−1,10−ジ
アザビシクロ[8.5.5]エイコサン、1,4,1
0,13−テトラオキサ−7,16−ジアザビシクロオ
クタデカン、1−アザ−12−クラウン−4、1−アザ
−15−クラウン−5、1−アザ−18−クラウン−
6、トリス(2−フォルミルオキシエチル)アミン、ト
リス(2−ホルミルオキシエチル)アミン、トリス(2
−アセトキシエチル)アミン、トリス(2−プロピオニ
ルオキシエチル)アミン、トリス(2−ブチリルオキシ
エチル)アミン、トリス(2−イソブチリルオキシエチ
ル)アミン、トリス(2−バレリルオキシエチル)アミ
ン、トリス(2−ピバロイルオキシキシエチル)アミ
ン、N,N−ビス(2−アセトキシエチル)2−(アセ
トキシアセトキシ)エチルアミン、トリス(2−メトキ
シカルボニルオキシエチル)アミン、トリス(2−te
rt−ブトキシカルボニルオキシエチル)アミン、トリ
ス[2−(2−オキソプロポキシ)エチル]アミン、ト
リス[2−(メトキシカルボニルメチル)オキシエチ
ル]アミン、トリス[2−(tert−ブトキシカルボ
ニルメチルオキシ)エチル]アミン、トリス[2−(シ
クロヘキシルオキシカルボニルメチルオキシ)エチル]
アミン、トリス(2−メトキシカルボニルエチル)アミ
ン、トリス(2−エトキシカルボニルエチル)アミン、
N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)2−(メトキシ
カルボニル)エチルアミン、N,N−ビス(2−アセト
キシエチル)2−(メトキシカルボニル)エチルアミ
ン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)2−(エト
キシカルボニル)エチルアミン、N,N−ビス(2−ア
セトキシエチル)2−(エトキシカルボニル)エチルア
ミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)2−(2
−メトキシエトキシカルボニル)エチルアミン、N,N
−ビス(2−アセトキシエチル)2−(2−メトキシエ
トキシカルボニル)エチルアミン、N,N−ビス(2−
ヒドロキシエチル)2−(2−ヒドロキシエトキシカル
ボニル)エチルアミン、N,N−ビス(2−アセトキシ
エチル)2−(2−アセトキシエトキシカルボニル)エ
チルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)2
−[(メトキシカルボニル)メトキシカルボニル]エチ
ルアミン、N,N−ビス(2−アセトキシエチル)2−
[(メトキシカルボニル)メトキシカルボニル]エチル
アミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)2−
(2−オキソプロポキシカルボニル)エチルアミン、
N,N−ビス(2−アセトキシエチル)2−(2−オキ
ソプロポキシカルボニル)エチルアミン、N,N−ビス
(2−ヒドロキシエチル)2−(テトラヒドロフルフリ
ルオキシカルボニル)エチルアミン、N,N−ビス(2
−アセトキシエチル)2−(テトラヒドロフルフリルオ
キシカルボニル)エチルアミン、N,N−ビス(2−ヒ
ドロキシエチル)2−[(2−オキソテトラヒドロフラ
ン−3−イル)オキシカルボニル]エチルアミン、N,
N−ビス(2−アセトキシエチル)2−[(2−オキソ
テトラヒドロフラン−3−イル)オキシカルボニル]エ
チルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)2
−(4−ヒドロキシブトキシカルボニル)エチルアミ
ン、N,N−ビス(2−ホルミルオキシエチル)2−
(4−ホルミルオキシブトキシカルボニル)エチルアミ
ン、N,N−ビス(2−ホルミルオキシエチル)2−
(2−ホルミルオキシエトキシカルボニル)エチルアミ
ン、N,N−ビス(2−メトキシエチル)2−(メトキ
シカルボニル)エチルアミン、N−(2−ヒドロキシエ
チル)ビス[2−(メトキシカルボニル)エチル]アミ
ン、N−(2−アセトキシエチル)ビス[2−(メトキ
シカルボニル)エチル]アミン、N−(2−ヒドロキシ
エチル)ビス[2−(エトキシカルボニル)エチル]ア
ミン、N−(2−アセトキシエチル)ビス[2−(エト
キシカルボニル)エチル]アミン、N−(3−ヒドロキ
シ−1−プロピル)ビス[2−(メトキシカルボニル)
エチル]アミン、N−(3−アセトキシ−1−プロピ
ル)ビス[2−(メトキシカルボニル)エチル]アミ
ン、N−(2−メトキシエチル)ビス[2−(メトキシ
カルボニル)エチル]アミン、N−ブチルビス[2−
(メトキシカルボニル)エチル]アミン、N−ブチルビ
ス[2−(2−メトキシエトキシカルボニル)エチル]
アミン、N−メチルビス(2−アセトキシエチル)アミ
ン、N−エチルビス(2−アセトキシエチル)アミン、
N−メチルビス(2−ピバロイルオキシキシエチル)ア
ミン、N−エチルビス[2−(メトキシカルボニルオキ
シ)エチル]アミン、N−エチルビス[2−(tert
−ブトキシカルボニルオキシ)エチル]アミン、トリス
(メトキシカルボニルメチル)アミン、トリス(エトキ
シカルボニルメチル)アミン、N−ブチルビス(メトキ
シカルボニルメチル)アミン、N−ヘキシルビス(メト
キシカルボニルメチル)アミン、β−(ジエチルアミ
ノ)−δ−バレロラクトン等が例示できる。
Specific examples of the compound represented by formula (B1) include tris (2-methoxymethoxyethyl)
Amine, tris {2- (2-methoxyethoxy) ethyl} amine, tris {2- (2-methoxyethoxymethoxy) ethyl} amine, tris {2- (1-methoxyethoxy) ethyl} amine, tris {2- ( 1-ethoxyethoxy) ethyl} amine, tris {2- (1-ethoxypropoxy) ethyl} amine, tris [2- {2-
(2-hydroxyethoxy) ethoxydiethyl] amine, 4,7,13,16,21,24-hexaoxa-
1,10-diazabicyclo [8.8.8] hexacosan, 4,7,13,18-tetraoxa-1,10-diazabicyclo [8.5.5] eicosan, 1,4,1
0,13-tetraoxa-7,16-diazabicyclooctadecane, 1-aza-12-crown-4, 1-aza-15-crown-5, 1-aza-18-crown-
6, tris (2-formyloxyethyl) amine, tris (2-formyloxyethyl) amine, tris (2
-Acetoxyethyl) amine, tris (2-propionyloxyethyl) amine, tris (2-butyryloxyethyl) amine, tris (2-isobutyryloxyethyl) amine, tris (2-valeryloxyethyl) amine, Tris (2-pivaloyloxyxyethyl) amine, N, N-bis (2-acetoxyethyl) 2- (acetoxyacetoxy) ethylamine, tris (2-methoxycarbonyloxyethyl) amine, tris (2-te
rt-butoxycarbonyloxyethyl) amine, tris [2- (2-oxopropoxy) ethyl] amine, tris [2- (methoxycarbonylmethyl) oxyethyl] amine, tris [2- (tert-butoxycarbonylmethyloxy) ethyl] Amine, tris [2- (cyclohexyloxycarbonylmethyloxy) ethyl]
Amine, tris (2-methoxycarbonylethyl) amine, tris (2-ethoxycarbonylethyl) amine,
N, N-bis (2-hydroxyethyl) 2- (methoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-acetoxyethyl) 2- (methoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) 2 -(Ethoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-acetoxyethyl) 2- (ethoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) 2- (2
-Methoxyethoxycarbonyl) ethylamine, N, N
-Bis (2-acetoxyethyl) 2- (2-methoxyethoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-
(Hydroxyethyl) 2- (2-hydroxyethoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-acetoxyethyl) 2- (2-acetoxyethoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) 2
-[(Methoxycarbonyl) methoxycarbonyl] ethylamine, N, N-bis (2-acetoxyethyl) 2-
[(Methoxycarbonyl) methoxycarbonyl] ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) 2-
(2-oxopropoxycarbonyl) ethylamine,
N, N-bis (2-acetoxyethyl) 2- (2-oxopropoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) 2- (tetrahydrofurfuryloxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis ( 2
-Acetoxyethyl) 2- (tetrahydrofurfuryloxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) 2-[(2-oxotetrahydrofuran-3-yl) oxycarbonyl] ethylamine, N,
N-bis (2-acetoxyethyl) 2-[(2-oxotetrahydrofuran-3-yl) oxycarbonyl] ethylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) 2
-(4-hydroxybutoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-formyloxyethyl) 2-
(4-formyloxybutoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-formyloxyethyl) 2-
(2-formyloxyethoxycarbonyl) ethylamine, N, N-bis (2-methoxyethyl) 2- (methoxycarbonyl) ethylamine, N- (2-hydroxyethyl) bis [2- (methoxycarbonyl) ethyl] amine, N -(2-acetoxyethyl) bis [2- (methoxycarbonyl) ethyl] amine, N- (2-hydroxyethyl) bis [2- (ethoxycarbonyl) ethyl] amine, N- (2-acetoxyethyl) bis [2 -(Ethoxycarbonyl) ethyl] amine, N- (3-hydroxy-1-propyl) bis [2- (methoxycarbonyl)
Ethyl] amine, N- (3-acetoxy-1-propyl) bis [2- (methoxycarbonyl) ethyl] amine, N- (2-methoxyethyl) bis [2- (methoxycarbonyl) ethyl] amine, N-butylbis [2-
(Methoxycarbonyl) ethyl] amine, N-butylbis [2- (2-methoxyethoxycarbonyl) ethyl]
Amine, N-methylbis (2-acetoxyethyl) amine, N-ethylbis (2-acetoxyethyl) amine,
N-methylbis (2-pivaloyloxyxyethyl) amine, N-ethylbis [2- (methoxycarbonyloxy) ethyl] amine, N-ethylbis [2- (tert
-Butoxycarbonyloxy) ethyl] amine, tris (methoxycarbonylmethyl) amine, tris (ethoxycarbonylmethyl) amine, N-butylbis (methoxycarbonylmethyl) amine, N-hexylbis (methoxycarbonylmethyl) amine, β- (diethylamino) -Δ-valerolactone and the like.

【0131】上記塩基性化合物の配合量は、酸発生剤1
部に対して0.001〜10部、好ましくは0.01〜
1部である。配合量が0.001部未満であると添加剤
としての効果が十分に得られない場合があり、10部を
超えると解像度や感度が低下する場合がある。
The compounding amount of the above-mentioned basic compound depends on the amount of the acid generator 1
0.001 to 10 parts, preferably 0.01 to 10 parts by weight
One copy. If the amount is less than 0.001 part, the effect as an additive may not be sufficiently obtained, and if it exceeds 10 parts, the resolution and sensitivity may be reduced.

【0132】更に、本発明のレジスト材料には、分子内
に≡C−COOHで示される基を有する化合物を配合す
ることができる。
Further, a compound having a group represented by ΔC-COOH in the molecule can be blended with the resist composition of the present invention.

【0133】分子内に≡C−COOHで示される基を有
する化合物としては、例えば下記I群及びII群から選
ばれる1種又は2種以上の化合物を使用することができ
るが、これらに限定されるものではない。本成分の配合
により、レジストのPED安定性が向上し、窒化膜基板
上でのエッジラフネスが改善されるのである。 [I群]下記一般式(A1)〜(A10)で示される化
合物のフェノール性水酸基の水素原子の一部又は全部を
−R401−COOH(R401は炭素数1〜10の直
鎖状又は分岐状のアルキレン基)により置換してなり、
かつ分子中のフェノール性水酸基(C)と≡C−COO
Hで示される基(D)とのモル比率がC/(C+D)=
0.1〜1.0である化合物。 [II群]下記一般式(A11)〜(A15)で示され
る化合物。
As the compound having a group represented by ≡C-COOH in the molecule, for example, one or more compounds selected from the following groups I and II can be used, but are not limited thereto. Not something. By blending this component, the PED stability of the resist is improved, and the edge roughness on the nitride film substrate is improved. [Group I] Part or all of the hydrogen atoms of the phenolic hydroxyl group of the compounds represented by the following general formulas (A1) to (A10) is -R 401 -COOH (R 401 is a linear or Substituted by a branched alkylene group),
And a phenolic hydroxyl group (C) in the molecule and ΔC-COO
The molar ratio with the group (D) represented by H is C / (C + D) =
A compound which is 0.1 to 1.0. [Group II] Compounds represented by the following general formulas (A11) to (A15).

【0134】[0134]

【化65】 (但し、式中R408は水素原子又はメチル基を示す。
402、R403はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜
8の直鎖状又は分岐状のアルキル基又はアルケニル基を
示す。R404は水素原子又は炭素数1〜8の直鎖状又
は分岐状のアルキル基又はアルケニル基、或いは−(R
409−COOR’基(R’は水素原子又は−R
409−COOH)を示す。R405は−(CH
−(i=2〜10)、炭素数6〜10のアリーレン基、
カルボニル基、スルホニル基、酸素原子又は硫黄原子を
示す。R406は炭素数1〜10のアルキレン基、炭素
数6〜10のアリーレン基、カルボニル基、スルホニル
基、酸素原子又は硫黄原子を示す。R407は水素原子
又は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基、ア
ルケニル基、それぞれ水酸基で置換されたフェニル基又
はナフチル基を示す。R 409は炭素数1〜10の直鎖
状又は分岐状のアルキレン基を示す。R410は水素原
子又は炭素数1〜8の直鎖状又は分岐状のアルキル基又
はアルケニル基又は−R411−COOH基を示す。R
411は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキレ
ン基を示す。jは0〜5の整数である。u、hは0又は
1である。s1、t1、s2、t2、s3、t3、s
4、t4はそれぞれs1+t1=8、s2+t2=5、
s3+t3=4、s4+t4=6を満足し、かつ各フェ
ニル骨格中に少なくとも1つの水酸基を有するような数
である。κは式(A6)の化合物を重量平均分子量1,
000〜5,000とする数である。λは式(A7)の
化合物を重量平均分子量1,000〜10,000とす
る数である。)
Embedded image(Where R408Represents a hydrogen atom or a methyl group.
R402, R403Is a hydrogen atom or carbon number 1
8 linear or branched alkyl or alkenyl groups
Show. R404Is a hydrogen atom or a straight chain having 1 to 8 carbon atoms or
Is a branched alkyl or alkenyl group, or-(R
409)h-COOR 'group (R' is a hydrogen atom or -R
409-COOH). R405Is-(CH2)i
-(I = 2 to 10), an arylene group having 6 to 10 carbon atoms,
A carbonyl group, a sulfonyl group, an oxygen atom or a sulfur atom
Show. R406Is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms,
Arylene group, carbonyl group, sulfonyl of the number 6 to 10
Represents a group, an oxygen atom or a sulfur atom. R407Is a hydrogen atom
Or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms,
A alkenyl group, a phenyl group each substituted with a hydroxyl group or
Represents a naphthyl group. R 409Is a linear chain having 1 to 10 carbon atoms
It represents a branched or branched alkylene group. R410Is hydrogen field
A linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or
Is an alkenyl group or -R411-COOH group is shown. R
411Is a linear or branched alkylene having 1 to 10 carbon atoms
Shows a substituent group. j is an integer of 0-5. u and h are 0 or
It is one. s1, t1, s2, t2, s3, t3, s
4 and t4 are respectively s1 + t1 = 8, s2 + t2 = 5,
s3 + t3 = 4, s4 + t4 = 6, and
A number having at least one hydroxyl group in the phenyl skeleton
It is. κ represents the compound of the formula (A6) having a weight average molecular weight of 1,
The number is 000 to 5,000. λ is the value of equation (A7)
The compound has a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000.
Number. )

【0135】[0135]

【化66】 (R402、R403、R411は上記と同様の意味を
示す。R412は水素原子又は水酸基を示す。s5、t
5は、s5≧0、t5≧0で、s5+t5=5を満足す
る数である。h’は0又は1である。)
Embedded image (R 402 , R 403 and R 411 have the same meaning as described above. R 412 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group. S5, t
5 is a number that s5 ≧ 0 and t5 ≧ 0, and s5 + t5 = 5. h ′ is 0 or 1. )

【0136】本成分として、具体的には下記一般式AI
−1〜14及びAII−1〜10で示される化合物を挙
げることができるが、これらに限定されるものではな
い。
As the component, specifically, the following general formula AI
Compounds represented by -1 to 14 and AII-1 to 10 can be exemplified, but are not limited thereto.

【0137】[0137]

【化67】 (R’’は水素原子又はCHCOOH基を示し、各化
合物においてR’’の10〜100モル%はCHCO
OH基である。α、κは上記と同様の意味を示す。)
Embedded image (R ″ represents a hydrogen atom or a CH 2 COOH group, and in each compound, 10 to 100 mol% of R ″ is CH 2 CO
OH group. α and κ have the same meanings as described above. )

【0138】[0138]

【化68】 Embedded image

【0139】なお、上記分子内に≡C−COOHで示さ
れる基を有する化合物は、1種を単独で又は2種以上を
組み合わせて用いることができる。
The compounds having a group represented by ≡C—COOH in the molecule can be used alone or in combination of two or more.

【0140】上記分子内に≡C−COOHで示される基
を有する化合物の添加量は、ベース樹脂100部に対し
て0〜5部、好ましくは0.1〜5部、より好ましくは
0.1〜3部、更に好ましくは0.1〜2部である。5
部より多いとレジスト材料の解像性が低下する場合があ
る。
The amount of the compound having a group represented by .DELTA.C-COOH in the molecule is 0 to 5 parts, preferably 0.1 to 5 parts, more preferably 0.1 to 5 parts with respect to 100 parts of the base resin. To 3 parts, more preferably 0.1 to 2 parts. 5
If the number is more than the number, the resolution of the resist material may be reduced.

【0141】更に、本発明のレジスト材料には、添加剤
としてアセチレンアルコール誘導体を配合することがで
き、これにより保存安定性を向上させることができる。
Further, an acetylene alcohol derivative can be added to the resist composition of the present invention as an additive, whereby the storage stability can be improved.

【0142】アセチレンアルコール誘導体としては、下
記一般式(S1)、(S2)で示されるものを好適に使
用することができる。
As the acetylene alcohol derivative, those represented by the following general formulas (S1) and (S2) can be suitably used.

【0143】[0143]

【化69】 (式中、R501、R502、R503、R504、R
505はそれぞれ水素原子、又は炭素数1〜8の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基であり、X、Yは0又
は正数を示し、下記値を満足する。0≦X≦30、0≦
Y≦30、0≦X+Y≦40である。)
Embedded image (Wherein R 501 , R 502 , R 503 , R 504 , R
505 is a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and X and Y each represent 0 or a positive number, and satisfy the following values. 0 ≦ X ≦ 30, 0 ≦
Y ≦ 30 and 0 ≦ X + Y ≦ 40. )

【0144】アセチレンアルコール誘導体として好まし
くは、サーフィノール61、サーフィノール82、サー
フィノール104、サーフィノール104E、サーフィ
ノール104H、サーフィノール104A、サーフィノ
ールTG、サーフィノールPC、サーフィノール44
0、サーフィノール465、サーフィノール485(A
ir Products and Chemicals
Inc.製)、サーフィノールE1004(日信化学
工業(株)製)等が挙げられる。
As acetylene alcohol derivatives, Surfynol 61, Surfynol 82, Surfynol 104, Surfynol 104E, Surfynol 104H, Surfynol 104A, Surfynol TG, Surfynol PC, Surfynol 44
0, Surfynol 465, Surfynol 485 (A
ir Products and Chemicals
Inc. And Surfynol E1004 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.).

【0145】上記アセチレンアルコール誘導体の添加量
は、レジスト組成物100重量%中0.01〜2重量
%、より好ましくは0.02〜1重量%である。0.0
1重量%より少ないと塗布性及び保存安定性の改善効果
が十分に得られない場合があり、2重量%より多いとレ
ジスト材料の解像性が低下する場合がある。
The acetylene alcohol derivative is added in an amount of 0.01 to 2% by weight, more preferably 0.02 to 1% by weight, based on 100% by weight of the resist composition. 0.0
If the amount is less than 1% by weight, the effect of improving coating properties and storage stability may not be sufficiently obtained.

【0146】本発明のレジスト材料には、上記成分以外
に任意成分として塗布性を向上させるために慣用されて
いる界面活性剤を添加することができる。なお、任意成
分の添加量は、本発明の効果を妨げない範囲で通常量と
することができる。
The resist composition of the present invention may contain, as an optional component, a surfactant which is commonly used for improving coating properties, in addition to the above components. In addition, the addition amount of the optional component can be a normal amount as long as the effect of the present invention is not impaired.

【0147】ここで、界面活性剤としては非イオン性の
ものが好ましく、パーフルオロアルキルポリオキシエチ
レンエタノール、フッ素化アルキルエステル、パーフル
オロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキル
EO付加物、含フッ素オルガノシロキサン系化合物等が
挙げられる。例えばフロラード「FC−430」、「F
C−431」(いずれも住友スリーエム(株)製)、サ
ーフロン「S−141」、「S−145」(いずれも旭
硝子(株)製)、ユニダイン「DS−401」、「DS
−403」、「DS−451」(いずれもダイキン工業
(株)製)、メガファック「F−8151」(大日本イ
ンキ工業(株)製)、「X−70−092」、「X−7
0−093」(いずれも信越化学工業(株)製)等を挙
げることができる。好ましくは、フロラード「FC−4
30」(住友スリーエム(株)製)、「X−70−09
3」(信越化学工業(株)製)が挙げられる。
Here, the surfactant is preferably a nonionic surfactant, and is preferably a perfluoroalkylpolyoxyethylene ethanol, a fluorinated alkyl ester, a perfluoroalkylamine oxide, a perfluoroalkylEO adduct, or a fluorine-containing organosiloxane-based surfactant. And the like. For example, Florad “FC-430”, “F
C-431 "(all manufactured by Sumitomo 3M Limited), Surflon" S-141 "," S-145 "(all manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Unidyne" DS-401 "," DS
-403 "," DS-451 "(all manufactured by Daikin Industries, Ltd.), Megafac" F-8151 "(manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.)," X-70-092 "," X-7 "
0-093 "(all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like. Preferably, Florad “FC-4”
30 "(manufactured by Sumitomo 3M Limited)," X-70-09 "
3 "(manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

【0148】本発明のレジスト材料を使用してパターン
を形成するには、公知のリソグラフィー技術を採用して
行うことができ、例えばシリコンウエハー等の基板上に
スピンコーティング等の手法で膜厚が0.3〜2.0μ
mとなるように塗布し、これをホットプレート上で60
〜150℃、1〜10分間、好ましくは80〜130
℃、1〜5分間プリベークする。次いで目的のパターン
を形成するためのマスクを上記のレジスト膜上にかざ
し、遠紫外線、エキシマレーザー、X線等の高エネルギ
ー線もしくは電子線を露光量1〜200mJ/cm
度、好ましくは10〜100mJ/cm程度となるよ
うに照射した後、ホットプレート上で60〜150℃、
1〜5分間、好ましくは80〜130℃、1〜3分間ポ
ストエクスポージャベーク(PEB)する。更に、0.
1〜5%、好ましくは2〜3%テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド(TMAH)等のアルカリ水溶液の現像
液を用い、0.1〜3分間、好ましくは0.5〜2分
間、浸漬(dip)法、パドル(puddle)法、ス
プレー(spray)法等の常法により現像することに
より基板上に目的のパターンが形成される。なお、本発
明材料は、特に高エネルギー線の中でも248〜193
nmの遠紫外線又はエキシマレーザー、X線及び電子線
による微細パターンニングに最適である。また、上記範
囲を上限及び下限から外れる場合は、目的のパターンを
得ることができない場合がある。
A pattern can be formed using the resist material of the present invention by a known lithography technique. For example, a film having a thickness of 0 is formed on a substrate such as a silicon wafer by a method such as spin coating. 0.3-2.0μ
m on a hot plate.
150150 ° C., 1 to 10 minutes, preferably 80 to 130
Pre-bake at 1 ° C for 1 to 5 minutes. Next, a mask for forming a target pattern is held over the above resist film, and a high energy ray such as far ultraviolet ray, excimer laser, or X-ray or an electron beam is exposed at a dose of about 1 to 200 mJ / cm 2 , preferably about 10 to 10 mJ / cm 2. After irradiating so as to be about 100 mJ / cm 2 , on a hot plate at 60 to 150 ° C.
Perform post-exposure bake (PEB) for 1 to 5 minutes, preferably 80 to 130 ° C. for 1 to 3 minutes. In addition, 0.
Using a developer of an aqueous alkali solution such as 1-5%, preferably 2-3% tetramethylammonium hydroxide (TMAH), for 0.1 to 3 minutes, preferably 0.5 to 2 minutes, a dip method A target pattern is formed on the substrate by developing using a conventional method such as a paddle method or a spray method. In addition, the material of the present invention is 248 to 193, especially among high energy rays.
It is most suitable for fine patterning by deep ultraviolet light of nm or excimer laser, X-ray and electron beam. In addition, when the above range is out of the upper limit and the lower limit, a desired pattern may not be obtained.

【0149】[0149]

【発明の効果】本発明で用いる開環メタセシス重合体の
水素添加物は、耐熱性、耐熱分解性、光透過性等に優れ
た紫外線や遠紫外線を用いた半導体微細加工用フォトレ
ジストに適した重合体であり、工業的に極めて価値があ
る。このものをベース樹脂として用いた本発明のレジス
ト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エ
ッチング耐性に優れているため、電子線や遠紫外線によ
る微細加工に有用である。特にArFエキシマレーザ
ー、KrFエキシマレーザーの露光波長での吸収が小さ
いため、微細でしかも基板に対して垂直なパターンを容
易に形成することができるという特徴を有する。
The hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer used in the present invention is suitable for a photoresist for semiconductor microfabrication using ultraviolet rays or far ultraviolet rays having excellent heat resistance, heat decomposition resistance, light transmittance and the like. It is a polymer and is extremely valuable industrially. The resist material of the present invention using this as a base resin is sensitive to high energy rays and is excellent in sensitivity, resolution, and etching resistance, and thus is useful for fine processing by an electron beam or far ultraviolet rays. In particular, since the absorption at the exposure wavelength of an ArF excimer laser or a KrF excimer laser is small, a fine pattern perpendicular to the substrate can be easily formed.

【0150】[0150]

【実施例】以下、合成例及び実施例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。 [合成例]実施例で使用する開環メタセシス重合体の水
素添加物を、下記の手順で合成した。なお、ここで得ら
れた重合体の物性値は、以下の方法により測定した。 平均分子量:GPCを使用し、得られた環状オレフィン
系開環メタセシス重合体、該重合体水素添加物をテトラ
ヒドロフランに溶解し、検出器として日本分光製830
−RI及び875−UV、カラムとしてShodexk
−805、804、803、802.5を使用し、室温
において流量1.0ml/minでポリスチレンスタン
ダードによって分子量を較正した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to Synthesis Examples and Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. [Synthesis Example] A hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer used in the examples was synthesized by the following procedure. The physical properties of the polymer obtained here were measured by the following methods. Average molecular weight: GPC was used to dissolve the obtained cyclic olefin-based ring-opening metathesis polymer and the hydrogenated polymer in tetrahydrofuran, and used as a detector was JASCO 830
-RI and 875-UV, Shodexk as column
Using -805, 804, 803, 802.5, the molecular weight was calibrated by polystyrene standards at room temperature with a flow rate of 1.0 ml / min.

【0151】水素添加率:環状オレフィン系開環メタセ
シス重合体水素添加物の粉末を重水素化クロロホルムに
溶解し、270MHz−H−NMRを用いてδ=4.
0〜6.5ppmの主鎖の炭素−炭素間二重結合に帰属
するピークが、水素添加反応によって減少する大きさを
算出した。 重合体中に含まれるカルボン酸の割合:ブロモチモ−ル
ブル−を指示薬とする、中和滴定により測定した。
Hydrogenation rate: The powder of the hydrogenated cyclic olefin-based ring-opening metathesis polymer was dissolved in deuterated chloroform, and δ = 4 using 270 MHz- 1 H-NMR.
The magnitude at which the peak attributed to the carbon-carbon double bond in the main chain at 0 to 6.5 ppm was reduced by the hydrogenation reaction was calculated. Ratio of carboxylic acid contained in the polymer: Measured by neutralization titration using bromothymol blue as an indicator.

【0152】[合成例1]Polymer1の合成 窒素下で300mlのシュレンクフラスコに環状オレフ
ィンモノマーとして4,10−ジオキサトリシクロ
[5.2.1.02,6]デカ−8−エン−3−オン
(2.43g、16mmol)と8−(1’−エチルシ
クロペントキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.
0.12,5.17,10]−3−ドデセン(7.21
g、24mmol)をテトラヒドロフラン(以後THF
と言う)に溶解した。これに開環メタセシス重合触蝶と
してW(N−2,6−Me)(CHCHCM
)(OC(CFMe)(PMe)(46
2mg、0.57mmol)を加え室温で1時間反応さ
せた。その後、ブチルアルデヒド(205mg、2.8
5mmol)を加え30分間撹件し、反応を停止させ
た。
[Synthesis Example 1] Synthesis of Polymer 1 In a 300 ml Schlenk flask under nitrogen, 4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] dec-8-ene-3 was used as a cyclic olefin monomer. -One (2.43 g, 16 mmol) and 8- (1′-ethylcyclopentoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.
0.1 2,5 . 17, 10 ] -3-dodecene (7.21
g, 24 mmol) in tetrahydrofuran (hereinafter THF)
Dissolved). This W as the ring-opening metathesis polymerization Sawacho (N-2,6-Me 2 C 6 H 3) (CHCHCM
e 2 ) (OC (CF 3 ) 2 Me) 2 (PMe 3 ) (46
2 mg, 0.57 mmol) and reacted at room temperature for 1 hour. Then, butyraldehyde (205 mg, 2.8
5 mmol) and stirred for 30 minutes to terminate the reaction.

【0153】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して9.46gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
This ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 9.46 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0154】その後、200mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末9.0gをTHF(100
ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調製したジ
クロロテトラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウ
ム(27mg、0.022mmol)とトリエチルアミ
ン(11.3mg、0.108mmol)のTHF(2
0ml)溶液を加え、水素圧8.1MPa、165℃で
5時間水素添加反応を行った後、温度を室温まで戻し水
素ガスを放出した。この開環メタセシス重合体水素添加
物溶液をメタノールに加えて開環メタセシス重合体水素
添加物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥を行うことによ
り白色粉末状の開環メタセシス重合体水素添加物を8.
0g得た。得られた開環メタセシス重合体水素添加物の
H−NMRから算出した水素添加率は主鎖のオレフィ
ンのプロトンに帰属するピークが認められず、その水素
添加率は100%であり、GPCで測定したポリスチレ
ンスタンダード換算の数平均分子量Mnは37,60
0、Mw/Mnは1.10であった。また、得られた重
合体の構造単位[A]/[B]の組成比は60/40で
あった。
Thereafter, 9.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder was placed in a 200 ml autoclave of THF (100 ml).
of dichlorotetrakis (triphenylphosphine) ruthenium (27 mg, 0.022 mmol) and triethylamine (11.3 mg, 0.108 mmol) prepared in advance as a hydrogenation catalyst in THF (2 mL).
0 ml) solution, and a hydrogenation reaction was performed at a hydrogen pressure of 8.1 MPa and 165 ° C. for 5 hours. Then, the temperature was returned to room temperature and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 8.
0 g was obtained. Of the resulting hydrogenated ring-opening metathesis polymer
As for the hydrogenation rate calculated from 1 H-NMR, no peak attributed to protons of the olefin in the main chain was observed, the hydrogenation rate was 100%, and the number average molecular weight Mn in terms of polystyrene standard measured by GPC was 37 , 60
0 and Mw / Mn were 1.10. The composition ratio of the structural units [A] / [B] of the obtained polymer was 60/40.

【0155】[合成例2]Polymer2の合成 合成例1において環状オレフィンモノマーをビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−エン−5−スピロ−3’−
オキソラン−2−オン(1.31g、8mmol)、
4,10−ジオキサトリシクロ[5.2.1.
2,6]デカ−8−エン−3−オン(1.82g、1
2mmol)と8−(1’−エチルシクロペントキシカ
ルボニル)テトラシクロ[4.4.0.12,5.1
7,10]−3−ドデセン(6.01g、20mmo
l)に代えた以外は合成例1と同様に開環メタセシス重
合を行い、9.10gの開環メタセシス重合体を得た。
[Synthesis Example 2] Synthesis of Polymer 2 In Synthesis Example 1, the cyclic olefin monomer was changed to bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5-spiro-3'-
Oxolan-2-one (1.31 g, 8 mmol),
4,10-dioxatricyclo [5.2.1.
0 2,6 ] dec-8-en-3-one (1.82 g, 1
2 mmol) and 8- (1′-ethylcyclopentoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1
7,10 ] -3-dodecene (6.01 g, 20 mmol
Ring-opening metathesis polymerization was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that l) was replaced, to obtain 9.10 g of a ring-opening metathesis polymer.

【0156】更に、得られた開環メタセシス重合体粉末
9.0gを合成例1と同様に水素圧8.1MPa、16
5℃で5時間水素添加反応を行い、白色粉末状の開環メ
タセシス重合体水素添加物を8.4g得た。得られた開
環メタセシス重合体水素添加物のH−NMRから算出
した水素添加率は主鎖のオレフィンのプロトンに帰属す
るピークが認められず、その水素添加率は100%であ
り、GPCで測定したポリスチレンスタンダード換算の
数平均分子量Mnは35,600、Mw/Mnは1.2
0であった。また、得られた重合体の構造単位[A]/
[B]/[C]の組成比は50/30/20であった。
Further, 9.0 g of the obtained ring-opening metathesis polymer powder was treated in the same manner as in Synthesis Example 1 under a hydrogen pressure of 8.1 MPa and a pressure of 16 MPa.
A hydrogenation reaction was performed at 5 ° C for 5 hours to obtain 8.4 g of a hydrogenated ring-opening metathesis polymer in the form of a white powder. The hydrogenation rate calculated from 1 H-NMR of the obtained hydrogenated ring-opening metathesis polymer did not show a peak attributed to protons of olefins in the main chain, and the hydrogenation rate was 100%. The measured number average molecular weight Mn in terms of polystyrene standard was 35,600, and Mw / Mn was 1.2.
It was 0. Further, the structural unit [A] /
The composition ratio of [B] / [C] was 50/30/20.

【0157】[合成例3]Polymer3の合成 合成例1において開環メタセシス重合触蝶をMo(N−
2,6−iPr)(CHCMe)(OC
(CFMe)(198mg、0.286mmo
l)に代えた以外は合成例1と同様に開環メタセシス重
合を行い、9.25gの開環メタセシス重合体を得た。
[Synthesis Example 3] Synthesis of Polymer 3 In Synthesis Example 1, the ring-opening metathesis polymer butterfly was replaced with Mo (N-
2,6-iPr 2 C 6 H 3 ) (CHCMe 3 ) (OC
(CF 3 ) 2 Me) 2 (198 mg, 0.286 mmol)
Ring-opening metathesis polymerization was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that l) was replaced, to obtain 9.25 g of a ring-opening metathesis polymer.

【0158】その後、200mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末9.0gをTHF(100
ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調製したク
ロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィ
ン)ルテニウム(27mg、0.022mmol)とト
リエチルアミン(11.3mg、0.108mmol)
のTHF(20ml)溶液を加え、水素圧8.1MP
a、165℃で5時間水素添加反応を行った後、温度を
室温まで戻し水素ガスを放出した。この開環メタセシス
重合体水素添加物溶液をメタノールに加えて開環メタセ
シス重合体水素添加物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥
を行うことにより白色粉末状の開環メタセシス重合体水
素添加物を8.1g得た。得られた開環メタセシス重合
体水素添加物のH−NMRから算出した水素添加率は
主鎖のオレフィンのプロトンに帰属するピークが認めら
れず、その水素添加率は100%であり、GPCで測定
したポリスチレンスタンダード換算の数平均分子量Mn
は75,200、Mw/Mnは1.15であった。ま
た、得られた重合体の構造単位[A]/[B]の組成比
は60/40であった。
Thereafter, 9.0 g of the ring-opening metathesis polymer powder was added to a 200 ml autoclave in THF (100 ml).
chlorohydridocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium (27 mg, 0.022 mmol) and triethylamine (11.3 mg, 0.108 mmol) previously prepared as hydrogenation catalysts.
Of THF (20 ml) was added, and the hydrogen pressure was set to 8.1MP.
a) After performing a hydrogenation reaction at 165 ° C. for 5 hours, the temperature was returned to room temperature, and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 8.1 g were obtained. The hydrogenation rate calculated from 1 H-NMR of the obtained hydrogenated ring-opening metathesis polymer did not show a peak attributed to protons of olefins in the main chain, and the hydrogenation rate was 100%. Measured number average molecular weight Mn in terms of polystyrene standard
Was 75,200 and Mw / Mn was 1.15. The composition ratio of the structural units [A] / [B] of the obtained polymer was 60/40.

【0159】[合成例4]Polymer4の合成 合成例2において開環メタセシス重合触蝶をRu(P
(C11(CHPh)Cl(470m
g、0.57mmol)に代えた以外は合成例2と同様
に開環メタセシス重合を行い、9.0gの開環メタセシ
ス重合体を得た。
[Synthesis Example 4] Synthesis of Polymer 4 In Synthesis Example 2, the ring-opening metathesis polymer butterfly was replaced with Ru (P
(C 6 H 11 ) 3 ) 2 (CHPh) Cl 2 (470 m
g, 0.57 mmol), except that ring-opening metathesis polymerization was carried out in the same manner as in Synthesis Example 2 to obtain 9.0 g of a ring-opening metathesis polymer.

【0160】更に、得られた開環メタセシス重合体粉末
9.0gを合成例2と同様に水素圧8.1MPa、16
5℃で5時間水素添加反応を行い、白色粉末状の開環メ
タセシス重合体水素添加物を8.6g得た。得られた開
環メタセシス重合体水素添加物のH−NMRから算出
した水素添加率は主鎖のオレフィンのプロトンに帰属す
るピークが認められず、その水素添加率は100%であ
り、GPCで測定したポリスチレンスタンダード換算の
数平均分子量Mnは33,100、Mw/Mnは1.3
7であった。また、得られた重合体の構造単位[A]/
[B]/[C]の組成比は50/30/20であった。
Further, 9.0 g of the obtained ring-opening metathesis polymer powder was treated in the same manner as in Synthesis Example 2 under a hydrogen pressure of 8.1 MPa and a pressure of 16 MPa.
A hydrogenation reaction was carried out at 5 ° C. for 5 hours to obtain 8.6 g of a hydrogenated ring-opening metathesis polymer as a white powder. The hydrogenation rate calculated from 1 H-NMR of the obtained hydrogenated ring-opening metathesis polymer did not show a peak attributed to protons of olefins in the main chain, and the hydrogenation rate was 100%. The measured number average molecular weight Mn in terms of polystyrene standard was 33,100, and Mw / Mn was 1.3.
It was 7. Further, the structural unit [A] /
The composition ratio of [B] / [C] was 50/30/20.

【0161】[合成例5]Polymer5の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した1,000mlのオー
トクレーブに環状オレフィンモノマーとして4,10−
ジオキサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−8
−エン−3−オン(17.0g、111.7mmol)
と8−(1’−エチルシクロペントキシカルボニル)テ
トラシクロ[4.4.0.12,5.1 7,10]−3
−ドデセン(33.57g、111.7mmol)をテ
トラヒドロフラン(550ml)に溶解した。これに連
鎖移動剤として1,5−ヘキサジエン(1.5ml、1
2.3mmol)及び開環メタセシス重合触蝶としてM
o(N−2,6−iPr)(CHCMe
(OC(CFMe) (786mg、1.12m
mol)を加え撹拌下室温で2時間反応させた。その
後、ブチルアルデヒド(404mg、5.60mmo
l)を加え30分間撹件し、反応を停止させた。
[Synthesis Example 5] Synthesis of Polymer 5 Under nitrogen, 1,000 ml of an air was equipped with a magnetic stirrer.
4,10-
Dioxatricyclo [5.2.1.02,6] Deca-8
-En-3-one (17.0 g, 111.7 mmol)
And 8- (1'-ethylcyclopentoxycarbonyl)
Toracyclo [4.4.0.12,5. 1 7,10] -3
-Dodecene (33.57 g, 111.7 mmol)
Dissolved in trahydrofuran (550 ml). To this
1,5-hexadiene (1.5 ml, 1
2.3 mmol) and M as ring-opening metathesis polymer butterfly
o (N-2,6-iPr2C6H3) (CHCMe3)
(OC (CF3)2Me) 2(786 mg, 1.12 m
mol) was added and reacted at room temperature for 2 hours with stirring. That
Then, butyraldehyde (404 mg, 5.60 mmol
l) was added and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction.

【0162】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して42.5gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
The ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 42.5 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0163】その後、1,000mlのオートクレーブ
にこの開環メタセシス重合体粉末40.0gをTHF
(400ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調
製したクロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニル
ホスフィン)ルテニウム(20mg、0.02mmo
l)のTHF(40ml)溶液を加え、水素圧6.0M
Pa、100℃で20時間水素添加反応を行った後、温
度を室温まで戻し水素ガスを放出した。この開環メタセ
シス重合体水素添加物溶液をメタノールに加えて開環メ
タセシス重合体水素添加物を沈殿させ、濾別分離後真空
乾燥を行うことにより白色粉末状の開環メタセシス重合
体水素添加物を38.5g得た。得られた開環メタセシ
ス重合体水素添加物のH−NMRから算出した水素添
加率は主鎖のオレフィンのプロトンに帰属するピークが
認められず、その水素添加率は100%であり、GPC
で測定したポリスチレンスタンダード換算の数平均分子
量Mnは8,260、Mw/Mnは1.32であった。
また、得られた重合体の構造単位[A]/[B]の組成
比は50/50であった。
Thereafter, 40.0 g of the ring-opening metathesis polymer powder was added to a 1,000 ml autoclave in THF.
(400 ml), and chlorohydridocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium (20 mg, 0.02 mmol) previously prepared as a hydrogenation catalyst was prepared.
l) in THF (40 ml) was added and a hydrogen pressure of 6.0 M was added.
After performing a hydrogenation reaction at Pa and 100 ° C. for 20 hours, the temperature was returned to room temperature, and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 38.5 g were obtained. The hydrogenation rate of the obtained hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer, which was calculated from 1 H-NMR, showed no peak attributed to protons of olefins in the main chain, and the hydrogenation rate was 100%.
The number average molecular weight Mn in terms of polystyrene standard measured in was 8,260, and Mw / Mn was 1.32.
The composition ratio of the structural units [A] / [B] of the obtained polymer was 50/50.

【0164】[合成例6]Polymer6の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した1,000mlのオー
トクレーブに環状オレフィンモノマーとして5,5−ジ
メチル−4,10−ジオキサトリシクロ[5.2.1.
2,6]デカ−8−エン−3−オン(11.41g、
75.0mmol)と8−(2’−エチル−2’−ノル
ボルニルオキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.
0.12,5.17,10]−3−ドデセン(36.7
3g、112.5mmol)をテトラヒドロフラン(5
00ml)に溶解した。これに連鎖移動剤として1,6
−ヘプタジエン(3.17ml、23.41mmol)
及び開環メタセシス重合触蝶としてW(N−2,6−i
Pr)(CHCMe)(OC(CF
Me)(740mg、0.935mmol)を加え室
温で3時間反応させた。その後、ブチルアルデヒド(3
60mg、5.00mmol)を加え30分間撹件し、
反応を停止させた。
[Synthesis Example 6] Synthesis of Polymer 6 In a 1,000 ml autoclave equipped with a magnetic stirrer under nitrogen, 5,5-dimethyl-4,10-dioxatricyclo [5.2.1] was used as a cyclic olefin monomer. .
0 2,6 ] dec-8-en-3-one (11.41 g,
75.0 mmol) and 8- (2′-ethyl-2′-norbornyloxycarbonyl) tetracyclo [4.4.
0.1 2,5 . 17, 10 ] -3-dodecene (36.7
3g, 112.5mmol) in tetrahydrofuran (5
00 ml). 1,6 as a chain transfer agent
-Heptadiene (3.17 ml, 23.41 mmol)
And W (N-2,6-i) as ring-opening metathesis polymer butterfly
Pr 2 C 6 H 3 ) (CHCMe 3 ) (OC (CF 3 ) 2
Me) 2 (740 mg, 0.935 mmol) was added and reacted at room temperature for 3 hours. Then, butyraldehyde (3
60 mg, 5.00 mmol) and stirred for 30 minutes.
The reaction was stopped.

【0165】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して48.9gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
The ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 48.9 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0166】その後、500mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末40.0g、水素添加触媒
として5%パラジウムカーボン(5.0g、パラジウム
として2.35mmol)、溶媒としてTHF(300
ml)を加え、水素圧8.0MPa、120℃で24時
間水素添加反応を行った後、温度を室温まで戻し水素ガ
スを放出した。濾過により触媒として用いたパラジウム
カーボンを除去した後、この開環メタセシス重合体水素
添加物溶液をメタノールに加えて開環メタセシス重合体
水素添加物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥を行うこと
により白色粉末状の開環メタセシス重合体水素添加物を
39.1g得た。得られた開環メタセシス重合体水素添
加物のH−NMRから算出した水素添加率は99%で
あり、GPCで測定したポリスチレンスタンダード換算
の数平均分子量Mnは4,690、Mw/Mnは1.3
8であった。また、得られた重合体の構造単位[A]/
[B]の組成比は60/40であった。
Thereafter, 40.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder, 5% palladium carbon (5.0 g, 2.35 mmol as palladium) as a hydrogenation catalyst and THF (300 as a solvent) were placed in a 500 ml autoclave.
ml), and a hydrogenation reaction was performed at a hydrogen pressure of 8.0 MPa and 120 ° C. for 24 hours. Then, the temperature was returned to room temperature, and hydrogen gas was released. After removing the palladium carbon used as a catalyst by filtration, this ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate a ring-opened metathesis polymer hydrogenated product, and then separated by filtration and vacuum-dried. 39.1 g of a hydrogenated ring-opening metathesis polymer in the form of a white powder was obtained. The hydrogenation rate of the obtained hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer was 99%, as calculated from 1 H-NMR. The number average molecular weight Mn of the polystyrene standard measured by GPC was 4,690, and Mw / Mn was 1%. .3
It was 8. Further, the structural unit [A] /
The composition ratio of [B] was 60/40.

【0167】[合成例7]Polymer7の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した1,000mlのオー
トクレーブに環状オレフィンモノマーとして5−メチル
−4,10−ジオキサトリシクロ[5.2.1.0
2,6]デカ−8−エン−3−オン(19.94、12
0.0mmol)と8−(2’−メチル−2’−アダマ
ンチルオキシカルボニル)テトラシクロ[4.4.0.
2,5.17,10]−3−ドデセン(28.20
g、80.0mmol)をトルエン600mlに溶解し
た。これに連鎖移動剤として1−オクテン(10.3m
l、65.0mmol)及び開環メタセシス重合触蝶と
してRe(CBu)(CHBu)(OC(CF
Me)(687.6mg、1.00mmol)を加
え50℃で6時間反応させた。その後、ブチルアルデヒ
ド(360mg、5.00mmol)を加え30分間撹
件し、反応を停止させた。
[Synthesis Example 7] Synthesis of Polymer 7 In a 1,000 ml autoclave equipped with a magnetic stirrer under nitrogen, 5-methyl-4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0] was used as a cyclic olefin monomer.
2,6 ] dec-8-en-3-one (19.94, 12
0.0 mmol) and 8- (2'-methyl-2'-adamantyloxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.
12,5 . 17, 10 ] -3-dodecene (28.20
g, 80.0 mmol) were dissolved in 600 ml of toluene. To this, 1-octene (10.3 m
l (65.0 mmol) and Re (CBu t ) (CHBu t ) (OC (CF 3 )
2 Me) 2 (687.6mg, 1.00mmol ) was reacted for 6 hours at 50 ° C. added. Thereafter, butyraldehyde (360 mg, 5.00 mmol) was added and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction.

【0168】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して46.3gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
The ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 46.3 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0169】その後、1,000mlのオートクレーブ
にこの開環メタセシス重合体粉末40.0g、水素添加
触媒としてジヒドリドテトラキス(トリフェニルホスフ
ィン)ルテニウム(12.0mg、0.013mmo
l)、トリエチルアミン(4.05mg、0.04mm
ol)、溶媒としてトルエン(600ml)を加え、水
素圧8.0MPa、100℃で24時間水素添加反応を
行った後、温度を室温まで戻し水素ガスを放出した。こ
の開環メタセシス重合体水素添加物溶液をメタノールに
加えて開環メタセシス重合体水素添加物を沈殿させ、濾
別分離後真空乾燥を行うことにより白色粉末状の開環メ
タセシス重合体水素添加物を38.8g得た。得られた
開環メタセシス重合体水素添加物のH−NMRから算
出した水素添加率は100%であり、GPCで測定した
ポリスチレンスタンダード換算の数平均分子量Mnは
2,880、Mw/Mnは1.42であった。また、得
られた重合体の構造単位[A]/[B]の組成比は40
/60であった。
Thereafter, 40.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder was placed in a 1,000 ml autoclave, and dihydridotetrakis (triphenylphosphine) ruthenium (12.0 mg, 0.013 mmol) was used as a hydrogenation catalyst.
l), triethylamine (4.05 mg, 0.04 mm)
ol) and toluene (600 ml) as a solvent were added, and a hydrogenation reaction was carried out at a hydrogen pressure of 8.0 MPa and 100 ° C. for 24 hours. Then, the temperature was returned to room temperature and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 38.8 g were obtained. The hydrogenation rate of the obtained hydrogenated ring-opening metathesis polymer was calculated from 1 H-NMR, which was 100%. .42. The composition ratio of the structural units [A] / [B] of the obtained polymer was 40.
/ 60.

【0170】[合成例8]Polymer8の合成 合成例5において得られた開環メタセシス重合体水素添
加物20.0gを2000mlナス形フラスコ中でトリ
フルオロ酢酸5.0mlのトルエン1,000ml溶液
に加え、70℃で3時間撹拌し、溶媒留去の後、更にT
HFに溶解させ、メタノールに加え、沈殿、濾過し、真
空乾燥して白色粉末状の部分的にエステル分解した開環
メタセシス重合体水素添加物17.8gを得た。得られ
た重合体の構成単位[A]/[B]/[D]の組成比は
30/50/20であり、GPCで測定した数平均分子
量Mnは8,150、Mw/Mnは1.33であった。
[Synthesis Example 8] Synthesis of Polymer 8 20.0 g of hydrogenated ring-opening metathesis polymer obtained in Synthesis Example 5 was added to a 1,000 ml solution of 5.0 ml of trifluoroacetic acid in 1,000 ml of toluene in a 2000 ml eggplant-shaped flask. The mixture was stirred at 70 ° C. for 3 hours.
It was dissolved in HF, added to methanol, precipitated, filtered, and dried under vacuum to obtain 17.8 g of a hydrogenated ring-opening metathesis polymer partially esterified as a white powder. The composition ratio of the constituent units [A] / [B] / [D] of the obtained polymer was 30/50/20, the number average molecular weight Mn measured by GPC was 8,150, and Mw / Mn was 1. 33.

【0171】[合成例9]Polymer9の合成 合成例6において得られた開環メタセシス重合体水素添
加物15.0gを2000mlナス形フラスコ中でトリ
フルオロ酢酸5.0mlのベンゼン1,000ml溶液
に加え、70℃で2時間撹拌し、溶媒留去の後、更にT
HFに溶解させ、メタノールに加え、沈殿、濾過し、真
空乾燥して白色粉末状の部分的にエステル分解した開環
メタセシス重合体水素添加物13.1gを得た。得られ
た重合体の構成単位[A]/[B]/[D]の組成比は
40/40/20であり、GPCで測定した数平均分子
量Mnは4,490、Mw/Mnは1.35であった。
[Synthesis Example 9] Synthesis of Polymer 9 15.0 g of the hydrogenated ring-opening metathesis polymer obtained in Synthesis Example 6 was added to a solution of 5.0 ml of trifluoroacetic acid in 1,000 ml of benzene in a 2000 ml eggplant-shaped flask. The mixture was stirred at 70 ° C. for 2 hours.
It was dissolved in HF, added to methanol, precipitated, filtered, and dried under vacuum to obtain 13.1 g of a hydrogenated ring-opening metathesis polymer partially decomposed as a white powder. The composition ratio of the structural units [A] / [B] / [D] of the obtained polymer was 40/40/20, the number average molecular weight Mn measured by GPC was 4,490, and Mw / Mn was 1. 35.

【0172】[合成例10]Polymer10の合成 合成例7において得られた開環メタセシス重合体水素添
加物15.0gを2000mlナス形フラスコ中で濃塩
酸10.0mlのTHF1,000ml溶液に加え、6
0℃で6時間撹拌し、メタノールに加え、沈殿、濾過
し、真空乾燥して白色粉末状の部分的にエステル分解し
た開環メタセシス重合体水素添加物13.0gを得た。
得られた重合体の構成単位[A]/[B]/[D]の組
成比は25/60/15であり、GPCで測定した数平
均分子量Mnは2,810、Mw/Mnは1.39であ
った。
[Synthesis Example 10] Synthesis of Polymer 10 15.0 g of the hydrogenated ring-opening metathesis polymer obtained in Synthesis Example 7 was added to a 1,000 ml solution of 10.0 ml of concentrated hydrochloric acid in 1,000 ml of THF in a 2000 ml eggplant-shaped flask.
The mixture was stirred at 0 ° C. for 6 hours, added to methanol, precipitated, filtered and dried under vacuum to obtain 13.0 g of a hydrogenated ring-opening metathesis polymer partially decomposed as a white powder.
The composition ratio of the constituent units [A] / [B] / [D] of the obtained polymer was 25/60/15, the number average molecular weight Mn measured by GPC was 2,810, and Mw / Mn was 1. 39.

【0173】[合成例11]Polymer11の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した500mlのオートク
レーブに環状オレフィンモノマーとして4,10−ジオ
キサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−8−エ
ン−3−オン(9.89g、65.0mmol)、8−
(1’−エチルシクロペントキシカルボニル)テトラシ
クロ[4.4.0.12,5.17,1 ]−3−ドデ
セン(11.72g、39.0mmol)及び8−te
rt−ブトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.
2,5.17,10]−3−ドデセン(6.77g、
26.0mmol)をテトラヒドロフラン300mlに
溶解した。これに連鎖移動剤として1,5−ヘキサジエ
ン(0.75ml、6.5mmol)及び開環メタセシ
ス重合触蝶としてMo(N−2,6−iPr
)(CHCMePh)(OC(CF
e)(536mg、0.70mmol)を加え室温で
2時間反応させた。その後、ブチルアルデヒド(250
mg、3.47mmol)を加え30分間撹件し、反応
を停止させた。
[Synthesis Example 11] Synthesis of Polymer 11 In a 500 ml autoclave equipped with a magnetic stirrer under nitrogen, 4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca was used as a cyclic olefin monomer. 8-en-3-one (9.89 g, 65.0 mmol), 8-
(1′-ethylcyclopentoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,1 0] -3- dodecene (11.72 g, 39.0 mmol) and 8-te
rt-butoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.
12,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene (6.77 g,
26.0 mmol) were dissolved in 300 ml of tetrahydrofuran. To this, 1,5-hexadiene (0.75 ml, 6.5 mmol) as a chain transfer agent and Mo (N-2,6-iPr 2 C) as a ring-opening metathesis polymer butterfly were added.
6 H 3) (CHCMe 2 Ph ) (OC (CF 3) 2 M
e) 2 (536 mg, 0.70 mmol) was added and reacted at room temperature for 2 hours. Then, butyraldehyde (250
mg, 3.47 mmol), and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction.

【0174】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して26.6gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
The ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 26.6 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0175】その後、500mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末20.0gをTHF(30
0ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調製した
ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)オスミウム
(30.0mg、0.029mmol)とトリエチルア
ミン(11.74mg、0.116mmol)のTHF
(20ml)溶液を加え、水素圧6.0MPa、100
℃で20時間水素添加反応を行った後、温度を室温まで
戻し水素ガスを放出した。この開環メタセシス重合体水
素添加物溶液をメタノールに加えて開環メタセシス重合
体水素添加物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥を行うこ
とにより白色粉末状の開環メタセシス重合体水素添加物
を18.8g得た。得られた開環メタセシス重合体水素
添加物の H−NMRから算出した水素添加率は100
%であり、GPCで測定したポリスチレンスタンダード
換算の数平均分子量Mnは9,110、Mw/Mnは
1.43であった。また、得られた重合体の構造単位
[A]/[B]/[E]の組成比は30/50/20で
あった。
Thereafter, the mixture was placed in a 500 ml autoclave.
20.0 g of the ring-opening metathesis polymer powder of
0 ml) and previously prepared as a hydrogenation catalyst
Dichlorotris (triphenylphosphine) osmium
(30.0 mg, 0.029 mmol) and triethyl alcohol
Min (11.74 mg, 0.116 mmol) in THF
(20 ml) solution, hydrogen pressure 6.0 MPa, 100 MPa
After performing the hydrogenation reaction at 20 ° C for 20 hours,
Back hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer water
Ring-opening metathesis polymerization by adding an additive solution to methanol
Precipitate the hydrogenated product, separate by filtration, and perform vacuum drying.
-Opened ring-opening metathesis polymer hydrogenated product
Was obtained 18.8 g. The resulting ring-opening metathesis polymer hydrogen
Additive 1The hydrogenation rate calculated from H-NMR was 100.
% And the polystyrene standard measured by GPC
The converted number average molecular weight Mn is 9,110, and Mw / Mn is
1.43. Also, the structural unit of the obtained polymer
The composition ratio of [A] / [B] / [E] is 30/50/20.
there were.

【0176】[合成例12]Polymer12の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した500mlのオートク
レーブに環状オレフィンモノマーとして4,10−ジオ
キサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−8−エ
ン−3−オン(9.13g、60.0mmol)、8−
(1’−エチルシクロペントキシカルボニル)テトラシ
クロ[4.4.0.12,5.17,1 ]−3−ドデ
セン(14.42g、48.0mmol)及び8−メト
キシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5
7,10]−3−ドデセン(2.62g、12.0m
mol)をトルエン350mlに溶解した。これに連鎖
移動剤として1,5−ヘキサジエン(0.70ml、
6.0mmol)及び開環メタセシス重合触蝶としてW
(N−2,6−Me)(CHCHCMe
(OC(CFMe)(440mg、0.60m
mol)を加え室温で5時間反応させた。その後、ブチ
ルアルデヒド(216mg、3.0mmol)を加え3
0分間撹件し、反応を停止させた。
[Synthesis Example 12] Synthesis of Polymer 12 In a 500 ml autoclave equipped with a magnetic stirrer under nitrogen, 4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca was used as a cyclic olefin monomer. 8-en-3-one (9.13 g, 60.0 mmol), 8-
(1′-ethylcyclopentoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,1 0] -3- dodecene (14.42 g, 48.0 mmol) and 8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2, 5.
1 7,10] -3-dodecene (2.62 g, 12.0m
mol) was dissolved in 350 ml of toluene. To this, 1,5-hexadiene (0.70 ml,
6.0 mmol) and W as ring-opening metathesis polymerized butterfly
(N-2,6-Me 2 C 6 H 3) (CHCHCMe 2)
(OC (CF 3 ) 2 Me) 2 (440 mg, 0.60 m
mol) was added and reacted at room temperature for 5 hours. Then, butyraldehyde (216 mg, 3.0 mmol) was added and 3
The reaction was stopped by stirring for 0 minutes.

【0177】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して24.7gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
The ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 24.7 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0178】その後、500mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末20.0gをトルエン(3
50ml)に溶解して、水素添加触媒としてジクロロビ
ス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(66.0m
g、0.094mmol)のトルエン(30ml)溶液
を加え、水素圧6.0MPa、100℃で20時間水素
添加反応を行った後、温度を室温まで戻し水素ガスを放
出した。この開環メタセシス重合体水素添加物溶液をメ
タノールに加えて開環メタセシス重合体水素添加物を沈
殿させ、濾別分離後真空乾燥を行うことにより白色粉末
状の開環メタセシス重合体水素添加物を17.9g得
た。得られた開環メタセシス重合体水素添加物のH−
NMRから算出した水素添加率は100%であり、GP
Cで測定したポリスチレンスタンダード換算の数平均分
子量Mnは8,810、Mw/Mnは1.24であっ
た。また、得られた重合体の構造単位[A]/[B]/
[E]の組成比は40/50/10であった。
Thereafter, 20.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder was placed in a 500 ml autoclave and treated with toluene (3
50 ml) and dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (66.0 m) as a hydrogenation catalyst.
g, 0.094 mmol) in toluene (30 ml), and a hydrogenation reaction was carried out at a hydrogen pressure of 6.0 MPa and 100 ° C. for 20 hours. Then, the temperature was returned to room temperature and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 17.9 g were obtained. The resulting hydrogenated ring-opening metathesis polymer 1 H-
The hydrogenation rate calculated from NMR was 100%, and GP
The number average molecular weight Mn in terms of polystyrene measured in C was 8,810, and Mw / Mn was 1.24. In addition, the structural units [A] / [B] /
The composition ratio of [E] was 40/50/10.

【0179】[合成例13]Polymer13の合成 合成例12において得られた開環メタセシス重合体水素
添加物9.0gを1,000mlのフラスコ中で5%水
酸化カリウムメタノール水溶液400mlに加え、80
℃で3時間撹拌し、その後、2%塩酸水溶液1,000
mlに加え、中和し、沈殿、濾過し、水洗浄し、真空乾
燥して白色粉末状の部分的に加水分解した開環メタセシ
ス重合体水素添加物8.4gを得た。得られた重合体の
構成単位[A]/[B]/[D]の組成比は40/50
/10であり、GPCで測定した数平均分子量Mnは
8,730、Mw/Mnは1.25であった。
[Synthesis Example 13] Synthesis of Polymer 13 9.0 g of the hydrogenated ring-opening metathesis polymer obtained in Synthesis Example 12 was added to 400 ml of a 5% aqueous solution of potassium hydroxide / methanol in a 1,000 ml flask.
Stir at 3 ° C for 3 hours, and then add
The mixture was neutralized, precipitated, filtered, washed with water, and dried under vacuum to obtain 8.4 g of a hydrogenated ring-opening metathesis polymer partially hydrolyzed as a white powder. The composition ratio of the structural units [A] / [B] / [D] of the obtained polymer was 40/50.
/ 10, and the number average molecular weight Mn measured by GPC was 8,730 and Mw / Mn was 1.25.

【0180】[合成例14]Polymer14の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した500mlのオートク
レーブに環状オレフィンモノマーとして4,10−ジオ
キサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−8−エ
ン−3−オン(9.13g、60.0mmol)、8−
(1’−エチルシクロペントキシカルボニル)テトラシ
クロ[4.4.0.12,5.17,1 ]−3−ドデ
セン(9.01g、30.0mmol)及び8−(テト
ラヒドロピラン−2’−イル)オキシカルボニルテトラ
シクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ド
デセン(8.65g、30.0mmol)をTHF32
0mlに溶解した。これに連鎖移動剤として1,5−ヘ
キサジエン(0.70ml、6.0mmol)及び開環
メタセシス重合触蝶としてW(N−2,6−Me
)(CHCHCMe)(OBu(PM
)(356mg、0.60mmol)を加え室温で
5時間反応させた。その後、ブチルアルデヒド(216
mg、3.0mmol)を加え30分間撹件し、反応を
停止させた。
[Synthesis Example 14] Synthesis of Polymer 14 In a 500 ml autoclave equipped with a magnetic stirrer under nitrogen, 4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca was used as a cyclic olefin monomer. 8-en-3-one (9.13 g, 60.0 mmol), 8-
(1′-ethylcyclopentoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,1 0] -3- dodecene (9.01 g, 30.0 mmol) and 8- (tetrahydropyran-2'-yl) oxycarbonyl tetracyclo [4.4.0.1 2, 5. 1 7,10 ] -3-dodecene (8.65 g, 30.0 mmol) in THF 32
Dissolved in 0 ml. This as a chain transfer agent 1,5-hexadiene (0.70 ml, 6.0 mmol) and ring-opening metathesis polymerization Sawacho as W (N-2,6-Me 2 C 6
H 3 ) (CHCHCMe 2 ) (OBu t ) 2 (PM
e 3 ) (356 mg, 0.60 mmol) was added and reacted at room temperature for 5 hours. Then, butyraldehyde (216
mg, 3.0 mmol), and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction.

【0181】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して24.3gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
This ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was filtered,
After washing with methanol and vacuum drying, 24.3 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0182】その後、500mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末20.0gをTHF(30
0ml)に溶解して、水素添加触媒としてクロロトリス
(トリフェニルホスフィン)ロジウム(91.0mg、
0.10mmol)のTHF(30ml)溶液を加え、
水素圧6.0MPa、100℃で20時間水素添加反応
を行った後、温度を室温まで戻し水素ガスを放出した。
この開環メタセシス重合体水素添加物溶液をメタノール
に加えて開環メタセシス重合体水素添加物を沈殿させ、
濾別分離後真空乾燥を行うことにより白色粉末状の開環
メタセシス重合体水素添加物を17.1g得た。得られ
た開環メタセシス重合体水素添加物のH−NMRから
算出した水素添加率は100%であり、GPCで測定し
たポリスチレンスタンダード換算の数平均分子量Mnは
9,620、Mw/Mnは1.19であった。また、得
られた重合体の構造単位[A]/[B]/[E]の組成
比は25/50/25であった。
Thereafter, 20.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder was added to a 500 ml autoclave in THF (30 ml).
0 ml), and chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (91.0 mg,
0.10 mmol) in THF (30 ml)
After performing a hydrogenation reaction at a hydrogen pressure of 6.0 MPa and 100 ° C. for 20 hours, the temperature was returned to room temperature, and hydrogen gas was released.
This ring-opening metathesis polymer hydrogenate solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer hydrogenate,
After filtration and separation, vacuum drying was performed to obtain 17.1 g of a hydrogenated ring-opening metathesis polymer as a white powder. The hydrogenation rate of the obtained ring-opening metathesis polymer hydrogenated product calculated from 1 H-NMR was 100%, the number average molecular weight Mn in terms of polystyrene standard measured by GPC was 9,620, and Mw / Mn was 1 .19. The composition ratio of the structural units [A] / [B] / [E] of the obtained polymer was 25/50/25.

【0183】[合成例15]Polymer15の合成 合成例14において得られた開環メタセシス重合体水素
添加物8.0gを1,000mlナス形フラスコ中でト
リフルオロ酢酸3.0mlのトルエン500ml溶液に
加え、30℃で1時間撹拌し、溶媒留去の後、更にTH
Fに溶解させ、メタノールに加え、沈殿、濾過し、真空
乾燥して白色粉末6.8gを得た。NMR分析の結果、
テトラヒドロピラニル基のみがエステル分解した開環メ
タセシス重合体水素添加物であった。得られた重合体の
構成単位[A]/[B]/[D]の組成比は25/50
/25であり、GPCで測定した数平均分子量Mnは
9,060、Mw/Mnは1.21であった。
[Synthesis Example 15] Synthesis of Polymer 15 8.0 g of the hydrogenated ring-opening metathesis polymer obtained in Synthesis Example 14 was added to a 500 ml solution of 3.0 ml of trifluoroacetic acid in a 1,000 ml eggplant-shaped flask. And stirred at 30 ° C. for 1 hour.
It was dissolved in F, added to methanol, precipitated, filtered, and dried under vacuum to obtain 6.8 g of a white powder. As a result of NMR analysis,
It was a hydrogenated ring-opening metathesis polymer in which only the tetrahydropyranyl group was esterified. The composition ratio of the structural units [A] / [B] / [D] of the obtained polymer was 25/50.
/ 25, the number average molecular weight Mn measured by GPC was 9,060, and Mw / Mn was 1.21.

【0184】[合成例16]Polymer16の合成 100ml滴下ロート、撹拌機及び三方コックを装着し
た500ml三口ナス形フラスコ中で、窒素気流下、合
成例8において得られた部分的にエステル分解した開環
メタセシス重合体水素添加物8.0gをp−トルエンス
ルホン酸・ピリジン塩80mgのトルエン200ml溶
液に加え、25℃で撹拌しながら5,6−ジヒドロピラ
ン(10g)のトルエン70ml溶液を約1時間かけて
滴下し、滴下終了後更に25℃で2時間撹拌した。溶媒
留去後、更にTHFに溶解させ、メタノールに加え、沈
殿、濾過し、真空乾燥して白色粉末状の部分的にエステ
ル化した開環メタセシス重合体水素添加物6.6gを得
た。得られた重合体の構成単位[A]/[B]/[D]
/[E]の組成比は30/50/5/15であり、GP
Cで測定した数平均分子量Mnは8,200、Mw/M
nは1.33であった。
[Synthesis Example 16] Synthesis of Polymer 16 Partially esterified ring-opening obtained in Synthesis Example 8 in a 500-ml three-necked eggplant-shaped flask equipped with a 100-ml dropping funnel, a stirrer and a three-way cock under a nitrogen stream. 8.0 g of hydrogenated metathesis polymer was added to a solution of 80 mg of p-toluenesulfonic acid / pyridine salt in 200 ml of toluene, and a solution of 5,6-dihydropyran (10 g) in 70 ml of toluene was stirred for about 1 hour at 25 ° C. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred at 25 ° C. for 2 hours. After the solvent was distilled off, the residue was further dissolved in THF, added to methanol, precipitated, filtered, and dried under vacuum to obtain 6.6 g of a partially powdered hydrogenated ring-opening metathesis polymer in the form of a white powder. Constituent units [A] / [B] / [D] of the obtained polymer
/ [E] is 30/50/5/15, and GP
C: 8,200, Mw / M
n was 1.33.

【0185】[合成例17]Polymer17の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した500mlのオートク
レーブに環状オレフィンモノマーとして4−オキサトリ
シクロ[5.2.1.02,6]デカ−8−エン−3−
オン(4.51g、30.0mmol)、8−(1’−
エチルシクロペントキシカルボニル)テトラシクロ
[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン
(12.02g、40.0mmol)及び5−(1’−
エチルシクロペントキシカルボニル)−6−メトキシカ
ルボニル−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−
2−エン(8.83g、30.0mmol)をTHF3
50mlに溶解した。これに連鎖移動剤として1−ヘキ
セン(0.42ml、3.5mmol)及び開環メタセ
シス重合触蝶としてW(N−2,6−iPr
)(CHCMe)(OBu(288m
g、0.50mmol)を加え室温で5時間反応させ
た。その後、ブチルアルデヒド(180mg、2.5m
mol)を加え30分間撹件し、反応を停止させた。
[Synthesis Example 17] Synthesis of Polymer 17 In a 500 ml autoclave equipped with a magnetic stirrer under nitrogen, 4-oxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] dec-8-ene was used as a cyclic olefin monomer. -3-
ON (4.51 g, 30.0 mmol), 8- (1′-
Ethylcyclopentoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 17, 10 ] -3-dodecene (12.02 g, 40.0 mmol) and 5- (1'-
Ethylcyclopentoxycarbonyl) -6-methoxycarbonyl-7-oxabicyclo [2.2.1] hept-
2-ene (8.83 g, 30.0 mmol) was added to THF3
Dissolved in 50 ml. 1-hexene (0.42 ml, 3.5 mmol) as a chain transfer agent and W (N-2,6-iPr 2 C) as a ring-opening metathesis polymer butterfly
6 H 3) (CHCMe 3) (OBu t) 2 (288m
g, 0.50 mmol) and reacted at room temperature for 5 hours. Then, butyraldehyde (180 mg, 2.5 m
mol) was added and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction.

【0186】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して23.3gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
The ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered,
After washing with methanol and vacuum drying, 23.3 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0187】その後、1,000mlのオートクレーブ
にこの開環メタセシス重合体粉末20.0gをTHF
(500ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調
製したジクロロビス(テトラヒドロフラン)ビス(トリ
フェニルホスフィン)ルテニウム(4.0mg、0.0
048mmol)とトリエチルアミン(4.86mg、
0.048mmol)のTHF(100ml)溶液を加
え、水素圧6.0MPa、100℃で20時間水素添加
反応を行った後、温度を室温まで戻し水素ガスを放出し
た。この開環メタセシス重合体水素添加物溶液をメタノ
ールに加えて開環メタセシス重合体水素添加物を沈殿さ
せ、濾別分離後真空乾燥を行うことにより白色粉末状の
開環メタセシス重合体水素添加物を18.1g得た。得
られた開環メタセシス重合体水素添加物のH−NMR
から算出した水素添加率は100%であり、GPCで測
定したポリスチレンスタンダード換算の数平均分子量M
nは12,600、Mw/Mnは1.39であった。ま
た、得られた重合体の構造単位[A]/[A]’/
[B]の組成比は40/30/30であった。
Thereafter, 20.0 g of the ring-opening metathesis polymer powder was placed in a 1,000 ml autoclave in THF.
(500 ml) and dichlorobis (tetrahydrofuran) bis (triphenylphosphine) ruthenium (4.0 mg, 0.0 mg) prepared in advance as a hydrogenation catalyst.
048 mmol) and triethylamine (4.86 mg,
(0.048 mmol) in THF (100 ml) was added, and a hydrogenation reaction was carried out at a hydrogen pressure of 6.0 MPa and 100 ° C. for 20 hours. Then, the temperature was returned to room temperature and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 18.1 g were obtained. 1 H-NMR of the hydrogenated ring-opening metathesis polymer obtained
Is 100%, and the number average molecular weight M in terms of polystyrene standard measured by GPC.
n was 12,600 and Mw / Mn was 1.39. Further, the structural unit [A] / [A] ′ /
The composition ratio of [B] was 40/30/30.

【0188】[合成例18]Polymer18の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した500mlのオートク
レーブに環状オレフィンモノマーとして6−オキサペン
タシクロ[9.2.1.13,9.02,10.0
4,8]−ペンタデカ−12−エン−5−オン(10.
81g、50.0mmol)及び5−(1’−エチルシ
クロペントキシカルボニル)−7−オキサビシクロ
[2.2.1]ヘプト−2−エン(11.82g、5
0.0mmol)をTHF250mlに溶解した。これ
に連鎖移動剤として1−ヘプテン(0.64ml、6.
5mmol)及び開環メタセシス重合触蝶としてW(N
−2,6−Me)(CHCHCMePh)
(OBu(PMe)(328mg、0.50m
mol)を加え室温で5時間反応させた。その後、ペン
チルアルデヒド(258mg、3.0mmol)を加え
30分間撹件し、反応を停止させた。
[Synthesis Example 18] Synthesis of Polymer 18 In a 500 ml autoclave equipped with a magnetic stirrer under nitrogen, 6-oxapentacyclo [9.2.1.1 3,9 . 0 2,10 . 0
4,8 ] -pentadec-12-en-5-one (10.
81 g, 50.0 mmol) and 5- (1′-ethylcyclopentoxycarbonyl) -7-oxabicyclo [2.2.1] hept-2-ene (11.82 g, 5
0.0 mmol) was dissolved in 250 ml of THF. 1-heptene (0.64 ml, 6.
5 mmol) and W (N
-2,6-Me 2 C 6 H 3 ) (CHCHCMePh)
(OBu t ) 2 (PMe 3 ) (328 mg, 0.50 m
mol) was added and reacted at room temperature for 5 hours. Thereafter, pentylaldehyde (258 mg, 3.0 mmol) was added, and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction.

【0189】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して20.8gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
The ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 20.8 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0190】その後、500mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末15.0gをTHF(30
0ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調製した
クロロヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフ
ィン)ルテニウム(9.5mg、0.01mmol)と
トリフェニルアミン(4.9mg、0.02mmol)
のTHF(30ml)溶液を加え、水素圧10.0MP
a、80℃で42時間水素添加反応を行った後、温度を
室温まで戻し水素ガスを放出した。この開環メタセシス
重合体水素添加物溶液をメタノールに加えて開環メタセ
シス重合体水素添加物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥
を行うことにより白色粉末状の開環メタセシス重合体水
素添加物を12.3g得た。得られた開環メタセシス重
合体水素添加物のH−NMRから算出した水素添加率
は100%であり、GPCで測定したポリスチレンスタ
ンダード換算の数平均分子量Mnは8,450、Mw/
Mnは1.29であった。また、得られた重合体の構造
単位[A]/[B]の組成比は50/50であった。
Thereafter, 15.0 g of the ring-opening metathesis polymer powder was added to a 500 ml autoclave in THF (30 ml).
0 ml), and chlorohydridocarbonyltris (triphenylphosphine) ruthenium (9.5 mg, 0.01 mmol) and triphenylamine (4.9 mg, 0.02 mmol) previously prepared as hydrogenation catalysts.
Of THF (30 ml) was added, and the hydrogen pressure was set to 10.0MP.
a) After performing a hydrogenation reaction at 80 ° C. for 42 hours, the temperature was returned to room temperature, and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 12.3 g were obtained. The hydrogenation rate of the obtained hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer was 100%, as calculated from 1 H-NMR, and the number average molecular weight Mn in terms of polystyrene measured by GPC was 8,450, Mw /
Mn was 1.29. The composition ratio of the structural units [A] / [B] of the obtained polymer was 50/50.

【0191】[合成例19]Polymer19の合成 窒素下で磁気撹拌装置を具備した500mlのオートク
レーブに環状オレフィンモノマーとして4,10−ジオ
キサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−8−エ
ン−3−オン(11.41g、75.0mmol)、8
−(1’−エチルシクロペントキシカルボニル)テトラ
シクロ[4.4.0.12,5.17, 10]−3−ド
デセン(7.51g、25.0mmol)及び8−
(2’−エチル−2’−ノルボルニルオキシカルボニ
ル)テトラシクロ[4.4.0.12,
7,10]−3−ドデセン(8.16g、25.0m
mol)をTHF300mlに溶解した。これに連鎖移
動剤として1,5−ヘキサジエン(1.04ml、9.
0mmol)及び開環メタセシス重合触蝶としてW(N
−2,6−iPr)(CHCMe)(OB
(PMe)(652mg、1.00mmo
l)を加え室温で5時間反応させた。その後、ブチルア
ルデヒド(432mg、6.0mmol)を加え30分
間撹件し、反応を停止させた。
[Synthesis Example 19] Synthesis of Polymer 19 In a 500 ml autoclave equipped with a magnetic stirrer under nitrogen, 4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca was used as a cyclic olefin monomer. 8-en-3-one (11.41 g, 75.0 mmol), 8
-(1'-ethylcyclopentoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 17, 10 ] -3-dodecene (7.51 g, 25.0 mmol) and 8-
(2'-ethyl-2'-norbornyl butyloxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2, 5.
1 7,10 ] -3-dodecene (8.16 g, 25.0 m
mol) was dissolved in 300 ml of THF. To this, 1,5-hexadiene (1.04 ml, 9.
0 mmol) and W (N
−2,6-iPr 2 C 6 H 3 ) (CHCMe 3 ) (OB
u t) 2 (PMe 3) (652mg, 1.00mmo
l) was added and reacted at room temperature for 5 hours. Thereafter, butyraldehyde (432 mg, 6.0 mmol) was added and the mixture was stirred for 30 minutes to stop the reaction.

【0192】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して25.1gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
This ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was filtered,
After washing with methanol and vacuum drying, 25.1 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0193】その後、1,000mlのオートクレーブ
にこの開環メタセシス重合体粉末10.0gをTHF
(350ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調
製したジクロロトリス(トリメチルホスフィト)ルテニ
ウム(44.8mg、0.10mmol)とトリエチル
アミン(15.2mg、0.15mmol)のTHF
(200ml)溶液を加え、水素圧10.0MPa、7
0℃で20時間水素添加反応を行った後、温度を室温ま
で戻し水素ガスを放出した。この開環メタセシス重合体
水素添加物溶液をメタノールに加えて開環メタセシス重
合体水素添加物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥を行う
ことにより白色粉末状の開環メタセシス重合体水素添加
物を8.8g得た。得られた開環メタセシス重合体水素
添加物のH−NMRから算出した水素添加率は100
%であり、GPCで測定したポリスチレンスタンダード
換算の数平均分子量Mnは8,330、Mw/Mnは
1.44であった。また、得られた重合体の構造単位
[A]/[A]’/[B]の組成比は20/20/60
であった。
Thereafter, 10.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder was placed in a 1,000 ml autoclave in THF.
(350 ml), and THF of dichlorotris (trimethylphosphite) ruthenium (44.8 mg, 0.10 mmol) and triethylamine (15.2 mg, 0.15 mmol) previously prepared as a hydrogenation catalyst were dissolved.
(200 ml) solution, hydrogen pressure 10.0 MPa, 7
After performing a hydrogenation reaction at 0 ° C. for 20 hours, the temperature was returned to room temperature, and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 8.8 g were obtained. The hydrogenation rate calculated from 1 H-NMR of the obtained hydrogenated ring-opening metathesis polymer was 100.
%, The number average molecular weight Mn in terms of polystyrene standard measured by GPC was 8,330, and Mw / Mn was 1.44. The composition ratio of the structural units [A] / [A] ′ / [B] of the obtained polymer was 20/20/60.
Met.

【0194】[合成例20]Polymer20の合成 窒素下で500mlのシュレンクフラスコに環状オレフ
ィンモノマーとして4,10−ジオキサトリシクロ
[5.2.1.02,6]デカ−8−エン−3−オン
(2.43g、16mmol)と8−(1’−エチルシ
クロペントキシカルボニル)−8−メチルテトラシクロ
[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン
(7.55g、24mmol)をテトラヒドロフラン2
00mlに溶解した。これに開環メタセシス重合触蝶と
してW(N−2,6−iPr)(CHCHC
Me)(OC(CFMe)(PMe)(6
06mg、0.70mmol)を加え室温で30分間反
応させた。その後、ブチルアルデヒド(202mg、
2.80mmol)を加え1時間撹件し、反応を停止さ
せた。
[Synthesis Example 20] Synthesis of Polymer 20 In a 500 ml Schlenk flask under nitrogen, 4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] dec-8-ene-3 was used as a cyclic olefin monomer. -One (2.43 g, 16 mmol) and 8- (1′-ethylcyclopentoxycarbonyl) -8-methyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 17, 10 ] -3-dodecene (7.55 g, 24 mmol) in tetrahydrofuran 2
Dissolved in 00 ml. To this, W (N-2,6-iPr 2 C 6 H 3 ) (CHCHC) was used as a ring-opening metathesis polymer butterfly.
Me 2 ) (OC (CF 3 ) 2 Me) 2 (PMe 3 ) (6
(0.6 mg, 0.70 mmol) and reacted at room temperature for 30 minutes. Then, butyraldehyde (202 mg,
(2.80 mmol) was added and the mixture was stirred for 1 hour to stop the reaction.

【0195】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して9.13gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
The ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 9.13 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0196】その後、500mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末9.0gをTHF(250
ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調製したジ
クロロテトラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウ
ム(27mg、0.022mmol)とトリエチルアミ
ン(11.3mg、0.108mmol)のTHF(5
0ml)溶液を加え、水素圧9.0MPa、120℃で
16時間水素添加反応を行った後、温度を室温まで戻し
水素ガスを放出した。この開環メタセシス重合体水素添
加物溶液をメタノールに加えて開環メタセシス重合体水
素添加物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥を行うことに
より白色粉末状の開環メタセシス重合体水素添加物を
7.4g得た。得られた開環メタセシス重合体水素添加
物のH−NMRから算出した水素添加率は100%で
あり、GPCで測定したポリスチレンスタンダード換算
の数平均分子量Mnは28,600、Mw/Mnは1.
07であった。また、得られた重合体の構造単位[A]
/[B]の組成比は60/40であった。
Thereafter, 9.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder was placed in a 500 ml autoclave of THF (250 ml).
ml), and dichlorotetrakis (triphenylphosphine) ruthenium (27 mg, 0.022 mmol) and triethylamine (11.3 mg, 0.108 mmol) previously prepared as hydrogenation catalysts in THF (5 mg) were dissolved.
0 ml) solution, and a hydrogenation reaction was performed at a hydrogen pressure of 9.0 MPa and 120 ° C. for 16 hours. Then, the temperature was returned to room temperature and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 7.4 g were obtained. The hydrogenation rate of the obtained hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer was 100%, as calculated from 1 H-NMR, the number average molecular weight Mn was 28,600 in terms of polystyrene standard measured by GPC, and .
07. Also, the structural unit [A] of the obtained polymer
The composition ratio of / [B] was 60/40.

【0197】[合成例21]Polymer21の合成 窒素下で500mlのシュレンクフラスコに環状オレフ
ィンモノマーとして4,10−ジオキサトリシクロ
[5.2.1.02,6]デカ−8−エン−3−オン
(4.56g、30.0mmol)と8−(1’−エチ
ルシクロペントキシカルボニルメチル)テトラシクロ
[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン
(6.29g、20.0mmol)をテトラヒドロフラ
ン200mlに溶解した。これに開環メタセシス重合触
蝶としてW(N−2,6−iPr )(CHC
HCMe)(OC(CFMe)(PMe
(606mg、0.70mmol)を加え室温で30分
間反応させた。その後、ブチルアルデヒド(202m
g、2.80mmol)を加え1時間撹件し、反応を停
止させた。
[Synthesis Example 21] Synthesis of Polymer 21 A cyclic olefin was placed in a 500 ml Schlenk flask under nitrogen.
4,10-dioxatricyclo as the monomer
[5.2.1.02,6] Dec-8-en-3-one
(4.56 g, 30.0 mmol) and 8- (1'-ethyl)
Rucyclopentoxycarbonylmethyl) tetracyclo
[4.4.0.12,5. 17,10] -3-dodecene
(6.29 g, 20.0 mmol) in tetrahydrofura
Dissolved in 200 ml. This is followed by ring-opening metathesis polymerization
W (N-2,6-iPr) as a butterfly2C6H 3) (CHC
HCMe2) (OC (CF3)2Me)2(PMe3)
(606 mg, 0.70 mmol) for 30 minutes at room temperature
Reaction. Then, butyraldehyde (202m
g, 2.80 mmol) and stirred for 1 hour to stop the reaction.
Stopped.

【0198】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して9.98gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
This ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 9.98 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0199】その後、500mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末9.0gをTHF(250
ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調製したジ
クロロテトラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウ
ム(61mg、0.05mmol)とトリエチルアミン
(10.1mg、0.10mmol)のTHF(50m
l)溶液を加え、水素圧9.0MPa、90℃で16時
間水素添加反応を行った後、温度を室温まで戻し水素ガ
スを放出した。この開環メタセシス重合体水素添加物溶
液をメタノールに加えて開環メタセシス重合体水素添加
物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥を行うことにより白
色粉末状の開環メタセシス重合体水素添加物を8.0g
得た。得られた開環メタセシス重合体水素添加物の
−NMRから算出した水素添加率は100%であり、G
PCで測定したポリスチレンスタンダード換算の数平均
分子量Mnは34,100、Mw/Mnは1.09であ
った。また、得られた重合体の構造単位[A]/[B]
の組成比は40/60であった。
Thereafter, 9.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder was placed in a 500 ml autoclave of THF (250 ml).
ml), and dichlorotetrakis (triphenylphosphine) ruthenium (61 mg, 0.05 mmol) and triethylamine (10.1 mg, 0.10 mmol) prepared in advance as a hydrogenation catalyst in THF (50 m2).
1) The solution was added, and a hydrogenation reaction was performed at 90 ° C. and a hydrogen pressure of 9.0 MPa for 16 hours. Then, the temperature was returned to room temperature and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 8.0g
Obtained. 1 H of the resulting hydrogenated ring-opening metathesis polymer
-The hydrogenation rate calculated from NMR was 100%,
The number average molecular weight Mn of the polystyrene standard measured by PC was 34,100, and Mw / Mn was 1.09. Also, the structural units [A] / [B] of the obtained polymer
Was 40/60.

【0200】[合成例22]Polymer22の合成 窒素下で500mlのシュレンクフラスコに環状オレフ
ィンモノマーとして5,5−ジメチル−4,10−ジオ
キサトリシクロ[5.2.1.02,6]デカ−8−エ
ン−3−オン(1.08g、6.0mmol)と8,9
−ジ(1’−エチルシクロペントキシカルボニル)テト
ラシクロ[4.4.0.12,5.1 ,10]−3−
ドデセン(6.17g、14.0mmol)をテトラヒ
ドロフラン200mlに溶解した。これに開環メタセシ
ス重合触蝶としてMo(N−2,6−iPr
)(CHCHCMe)(OC(CF
e)(206mg、0.35mmol)を加え室温で
30分間反応させた。その後、ブチルアルデヒド(10
8mg、1.50mmol)を加え1時間撹件し、反応
を停止させた。
[Synthesis Example 22] Synthesis of Polymer 22 In a 500 ml Schlenk flask under nitrogen, 5,5-dimethyl-4,10-dioxatricyclo [5.2.1.0 2,6 ] deca was used as a cyclic olefin monomer. -8-en-3-one (1.08 g, 6.0 mmol) and 8.9
-Di (1'-ethylcyclopentoxycarbonyl) tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 17 , 10 ] -3-
Dodecene (6.17 g, 14.0 mmol) was dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran. Mo (N-2,6-iPr 2 C) was used as a ring-opening metathesis polymer butterfly.
6 H 3) (CHCHCMe 2) (OC (CF 3) 2 M
e) 2 (206 mg, 0.35 mmol) was added and reacted at room temperature for 30 minutes. Then, butyraldehyde (10
(8 mg, 1.50 mmol) and stirred for 1 hour to stop the reaction.

【0201】この開環メタセシス重合体溶液をメタノー
ル中に加えて開環メタセシス重合体を析出させ、濾過、
メタノール洗浄し、真空乾燥して6.66gの開環メタ
セシス重合体粉末を得た。
This ring-opening metathesis polymer solution was added to methanol to precipitate a ring-opening metathesis polymer, which was then filtered.
After washing with methanol and vacuum drying, 6.66 g of a ring-opening metathesis polymer powder was obtained.

【0202】その後、500mlのオートクレーブにこ
の開環メタセシス重合体粉末6.0gをTHF(250
ml)に溶解して、水素添加触媒として予め調製したジ
クロロテトラキス(トリフェニルホスフィン)ルテニウ
ム(36.6mg、0.03mmol)とトリエチルア
ミン(10.1mg、0.10mmol)のTHF(5
0ml)溶液を加え、水素圧9.0MPa、100℃で
16時間水素添加反応を行った後、温度を室温まで戻し
水素ガスを放出した。この開環メタセシス重合体水素添
加物溶液をメタノールに加えて開環メタセシス重合体水
素添加物を沈殿させ、濾別分離後真空乾燥を行うことに
より白色粉末状の開環メタセシス重合体水素添加物を
5.4g得た。得られた開環メタセシス重合体水素添加
物のH−NMRから算出した水素添加率は100%で
あり、GPCで測定したポリスチレンスタンダード換算
の数平均分子量Mnは26,900、Mw/Mnは1.
06であった。また、得られた重合体の構造単位[A]
/[B]の組成比は30/70であった。
Thereafter, 6.0 g of this ring-opening metathesis polymer powder was placed in a 500 ml autoclave in THF (250 ml).
ml), and dichlorotetrakis (triphenylphosphine) ruthenium (36.6 mg, 0.03 mmol) and triethylamine (10.1 mg, 0.10 mmol) prepared in advance as a hydrogenation catalyst in THF (5 mL).
0 ml) solution, and a hydrogenation reaction was performed at a hydrogen pressure of 9.0 MPa and 100 ° C. for 16 hours. Then, the temperature was returned to room temperature and hydrogen gas was released. This ring-opening metathesis polymer hydrogenated solution was added to methanol to precipitate the ring-opening metathesis polymer hydrogenated product, and the precipitate was separated by filtration and vacuum-dried to obtain a white powdered ring-opened metathesis polymer hydrogenated product. 5.4 g were obtained. The hydrogenation rate of the obtained hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer calculated from 1 H-NMR was 100%, the number average molecular weight Mn in terms of polystyrene standard measured by GPC was 26,900, and Mw / Mn was 1 .
06. Also, the structural unit [A] of the obtained polymer
The composition ratio of / [B] was 30/70.

【0203】[0203]

【化70】 Embedded image

【0204】[0204]

【化71】 Embedded image

【0205】[0205]

【化72】 Embedded image

【0206】[0206]

【化73】 Embedded image

【0207】[0207]

【化74】 Embedded image

【0208】[0208]

【化75】 [Of 75]

【0209】[実施例I]本発明のレジスト材料につい
て、KrFエキシマレーザー露光における解像性の評価
を行った。 [実施例I−1〜12]レジストの解像性の評価 上記式で示されるポリマー(Polymer1、2)を
ベース樹脂とし、下記式で示される酸発生剤(PAG
1、2)、下記式で示される溶解制御剤(DRR1〜
4)、塩基性化合物、下記式で示される分子内に≡C−
COOHで示される基を有する化合物(ACC1、2)
及び溶剤を、表1に示す組成で混合した。次にそれらを
テフロン(登録商標)製フィルター(孔径0.2μm)
で濾過し、レジスト材料とした。
Example I The resist composition of the present invention was evaluated for its resolution in KrF excimer laser exposure. [Examples I-1 to 12] Evaluation of resist resolution The polymer (Polymer 1, 2) represented by the above formula was used as a base resin, and an acid generator (PAG) represented by the following formula was used.
1, 2), a dissolution controlling agent represented by the following formula (DRR1
4), a basic compound, ΔC- in the molecule represented by the following formula:
Compound having a group represented by COOH (ACC1, 2)
And the solvent were mixed in the composition shown in Table 1. Next, filter them with a Teflon (registered trademark) filter (pore size 0.2 μm).
To obtain a resist material.

【0210】[0210]

【化76】 Embedded image

【0211】[0211]

【化77】 Embedded image

【0212】[0212]

【化78】 Embedded image

【0213】レジスト液を反射防止膜(日産化学社製D
UV30、55nm)を塗布したシリコンウエハー上へ
回転塗布し、130℃、90秒間の熱処理を施して、厚
さ485nmのレジスト膜を形成した。これをKrFエ
キシマレーザーステッパー(ニコン社製、NA=0.
5)を用いて露光し、110℃、90秒間の熱処理を施
した後、2.38%のテトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド水溶液を用いて60秒間パドル現像を行い、1:
1のラインアンドスペースパターンを形成した。現像済
ウエハーを割断したものを断面SEM(走査型電子顕微
鏡)で観察し、0.30μmのラインアンドスペースを
1:1で解像する露光量(最適露光量=Eop、mJ/
cm)における分離しているラインアンドスペースの
最小線幅(μm)を評価レジストの解像度とした。ま
た、その際のパターンの形状を矩形、頭丸、T−トッ
プ、順テーパー、逆テーパーのいずれかに分類すること
とした。
The resist solution was coated with an antireflection film (D manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).
(UV 30 nm, 55 nm) was spin-coated on the silicon wafer, and heat-treated at 130 ° C. for 90 seconds to form a 485 nm-thick resist film. A KrF excimer laser stepper (manufactured by Nikon Corporation, NA = 0.
Exposure was performed using 5), heat treatment was performed at 110 ° C. for 90 seconds, and paddle development was performed using a 2.38% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide for 60 seconds.
One line and space pattern was formed. The cross section of the developed wafer is observed by a cross-sectional SEM (scanning electron microscope), and an exposure amount for resolving a 0.30 μm line and space at 1: 1 (optimum exposure amount = Eop, mJ /
The minimum line width (μm) of the separated lines and spaces in cm 2 ) was taken as the resolution of the evaluation resist. In addition, the shape of the pattern at that time is classified into any one of a rectangle, a round head, a T-top, a forward taper, and a reverse taper.

【0214】各レジストの組成及び評価結果を表1に示
す。なお、表1において、溶剤及び塩基性化合物は下記
の通りである。また、溶剤はすべてFC−430(住友
スリーエム(株)製)を0.05重量%含むものを用い
た。 CyHO:シクロヘキサノン TBA:トリブチルアミン TEA:トリエタノールアミン TMMEA:トリスメトキシメトキシエチルアミン TMEMEA:トリスメトキシエトキシメトキシエチル
アミン
Table 1 shows the composition and evaluation results of each resist. In Table 1, the solvent and the basic compound are as follows. All solvents used contained 0.05% by weight of FC-430 (manufactured by Sumitomo 3M Limited). CyHO: cyclohexanone TBA: tributylamine TEA: triethanolamine TMMEA: trismethoxymethoxyethylamine TMMEA: trismethoxyethoxymethoxyethylamine

【0215】[0215]

【表1】 [Table 1]

【0216】表1の結果より、本発明のレジスト材料
が、KrFエキシマレーザー露光において、高感度かつ
高解像性であることが確認された。
From the results shown in Table 1, it was confirmed that the resist material of the present invention had high sensitivity and high resolution in KrF excimer laser exposure.

【0217】[実施例II]本発明のレジスト材料につ
いて、ArFエキシマレーザー露光における解像性の評
価を行った。 [実施例II−1〜22]レジストの解像性の評価 上記と同様に、表2に示す組成でレジスト材料を調製し
た。
Example II The resist composition of the present invention was evaluated for resolution in ArF excimer laser exposure. [Examples II-1 to 22] Evaluation of resolution of resist In the same manner as described above, resist materials having the compositions shown in Table 2 were prepared.

【0218】レジスト液を反射防止膜(日産化学社製A
RC25、77nm)を塗布したシリコンウエハー上へ
回転塗布し、130℃、90秒間の熱処理を施して、厚
さ375nmのレジスト膜を形成した。これをArFエ
キシマレーザーステッパー(ニコン社製、NA=0.5
5)を用いて露光し、110℃、90秒間の熱処理を施
した後、2.38%のテトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド水溶液を用いて60秒間パドル現像を行い、1:
1のラインアンドスペースパターンを形成した。現像済
ウエハーを割断したものを断面SEM(走査型電子顕微
鏡)で観察し、0.25μmのラインアンドスペースを
1:1で解像する露光量(最適露光量=Eop、mJ/
cm)における分離しているラインアンドスペースの
最小線幅(μm)を評価レジストの解像度とした。ま
た、その際のパターンの形状を矩形、頭丸、T−トッ
プ、順テーパー、逆テーパーのいずれかに分類すること
とした。
A resist solution was applied to an antireflection film (A manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.).
(RC25, 77 nm) was applied on a silicon wafer, and heat-treated at 130 ° C. for 90 seconds to form a resist film having a thickness of 375 nm. This is an ArF excimer laser stepper (Nikon Corporation, NA = 0.5
Exposure was performed using 5), heat treatment was performed at 110 ° C. for 90 seconds, and paddle development was performed using a 2.38% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide for 60 seconds.
One line and space pattern was formed. The developed wafer is cut and observed with a cross-sectional SEM (scanning electron microscope), and an exposure amount (optimum exposure amount = Eop, mJ /
The minimum line width (μm) of the separated lines and spaces in cm 2 ) was taken as the resolution of the evaluation resist. In addition, the shape of the pattern at that time is classified into any one of a rectangle, a round head, a T-top, a forward taper, and a reverse taper.

【0219】各レジストの組成及び評価結果を表2に示
す。なお、表2において、溶剤及び塩基性化合物は下記
の通りである。また、溶剤はすべてFC−430(住友
スリーエム(株)製)を0.01重量%含むものを用い
た。 CyHO:シクロヘキサノン TMMEA:トリスメトキシメトキシエチルアミン
Table 2 shows the composition of each resist and the evaluation results. In Table 2, the solvent and the basic compound are as follows. In addition, all solvents used contained 0.01% by weight of FC-430 (manufactured by Sumitomo 3M Limited). CyHO: cyclohexanone TMMEA: trismethoxymethoxyethylamine

【0220】[0220]

【表2】 [Table 2]

【0221】表2の結果より、本発明のレジスト材料
が、ArFエキシマレーザー露光において、高感度かつ
高解像性であることが確認された。
From the results shown in Table 2, it was confirmed that the resist material of the present invention had high sensitivity and high resolution in ArF excimer laser exposure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】合成例1で得られた開環メタセシス重合体の水
素添加物のH−NMRスペクトルを示す。
FIG. 1 shows a 1 H-NMR spectrum of a hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer obtained in Synthesis Example 1.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 名倉 茂広 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28−1 信越化学工業株式会社合成技術研究所内 (72)発明者 小林 知洋 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28−1 信越化学工業株式会社合成技術研究所内 (72)発明者 渡辺 聡 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28−1 信越化学工業株式会社合成技術研究所内 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA02 AA09 AB16 AC04 AC06 AC08 AD03 BE00 BE10 BG00 CB08 CB41 CB55 CB56 FA17 4J032 BA07 CA32 CA34  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Shigehiro Nakura 28-1 Nishifukushima, Nishi-Jukumura, Nakakubijo-gun, Niigata Prefecture Within Synthetic Research Laboratory, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 28-1 Oishi Nishifukushima Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd. Synthetic Technology Laboratory (72) Inventor Satoshi Watanabe 28-1 Nishi-Fukushima Oaza, Nakakushiro-gun, Niigata Prefecture Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd. Synthetic Technology Laboratory F-term (reference) AA01 AA02 AA09 AB16 AC04 AC06 AC08 AD03 BE00 BE10 BG00 CB08 CB41 CB55 CB56 FA17 4J032 BA07 CA32 CA34

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも下記一般式[1] 【化1】 (式中、R〜Rのうち少なくとも一つが、下記一般
式[2] 【化2】 (式中、鎖線は結合手を示す。Rは水素原子、炭素数
1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素
数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアル
キル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状
のアシル基を示す。Rは炭素数1〜10の直鎖状、分
岐状又は環状のアルキル基を示す。Wは単結合又は炭
素数1〜10のk+2価の炭化水素基を示す。Zは炭素
数2〜15の2価の炭化水素基を示し、結合する炭素原
子と共に単環もしくは架橋環を形成する。kは0又は1
である。)で表される環状アルキルの三級エステル基を
有する官能基であり、その他はそれぞれ独立に、水素原
子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基、ハロゲン原子、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状
又は環状のハロゲン化アルキル基、炭素数1〜20の直
鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、炭素数2〜20
の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、炭
素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルカル
ボニルオキシ基、炭素数6〜20のアリールカルボニル
オキシ基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状の
アルキルスルホニルオキシ基、炭素数6〜20のアリー
ルスルホニルオキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニル基、又は炭素数3〜
20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニル
アルキル基から選ばれ、Xは−O−又は−CR
(Rは水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐
状のアルキル基を表す)であり、同一でも異なってもよ
い。jは0又は1〜3の整数を表す。)で表される構造
単位[A]と、下記一般式[3] 【化3】 (式中、R〜R11は、それぞれ独立に、水素原子又
は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル
基であり、Xは−O−又は−CR12 −(R 12
水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアル
キル基を表す)であり、同一でも異なってもよい。mは
0又は1〜3の整数を表す。)で表される構造単位
[B]及び/又は下記一般式[4] 【化4】 (式中、R13〜R16は、それぞれ独立に、水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキ
ル基であり、Xは−O−又は−CR17 −(R17
は水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のア
ルキル基を表す)であり、同一でも異なってもよい。Y
及びYは、一方が−(C=O)−であり、他方は、
−CR18 −(R18は水素原子又は炭素数1〜10
の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す)である。nは
0又は1〜3の整数を表す。)で表される構造単位
[C]から構成され、かつ、一般式[1]で表される構
造単位[A]のX、一般式[3]で表される構造単位
[B]のX、及び一般式[4]で表される構造単位
[C]のXのうち少なくとも1つが−O−であり、そ
の構成モル比[A]/([B]+[C])が20/80
〜99/1であり、かつ重量平均分子量Mwと数平均分
子量Mnとの比(Mw/Mn)が1.0〜2.0である
開環メタセシス重合体の水素添加物をベース樹脂として
含有することを特徴とするレジスト材料。
1. At least the following general formula [1](Where R1~ R4At least one of the following general
Formula [2](In the formula, a chain line indicates a bond. R5Is hydrogen atom, carbon number
1-10 linear, branched or cyclic alkyl groups, carbon
Linear, branched or cyclic alkoxyal having 2 to 10
A kill group, or a linear, branched or cyclic C1-C10 group
Represents an acyl group. R6Is a straight chain having 1 to 10 carbon atoms,
Shows a branched or cyclic alkyl group. W1Is a single bond or charcoal
And a k + 2 divalent hydrocarbon group having a prime number of 1 to 10. Z is carbon
A divalent hydrocarbon group represented by the following formulas 2 to 15;
Forms a single or bridged ring with the k is 0 or 1
It is. ) Represents a tertiary ester group of the cyclic alkyl
The other are each independently a hydrogen atom
, Linear, branched or cyclic alkyl having 1 to 20 carbon atoms
Group, halogen atom, C1-C20 linear or branched
Or a cyclic halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms
Chain, branched or cyclic alkoxy group, having 2 to 20 carbon atoms
Linear, branched or cyclic alkoxyalkyl group, charcoal
Linear, branched or cyclic alkyl carboxy having a prime number of 2 to 20
Bonyloxy group, arylcarbonyl having 6 to 20 carbon atoms
Oxy group, linear, branched or cyclic having 1 to 20 carbon atoms
Alkylsulfonyloxy group, aryl having 6 to 20 carbon atoms
Rusulfonyloxy group, C2-C20 linear, branched
Or cyclic alkoxycarbonyl group, or having 3 to 3 carbon atoms
20 linear, branched or cyclic alkoxycarbonyl
X selected from alkyl groups1Is -O- or -CR7 2
(R7Is a hydrogen atom or a straight or branched chain having 1 to 10 carbon atoms
Represents an alkyl group), which may be the same or different
No. j represents 0 or an integer of 1 to 3; )
The unit [A] is represented by the following general formula [3]:(Where R8~ R11Are each independently a hydrogen atom or
Is a linear, branched or cyclic alkyl having 1 to 10 carbons
X2Is -O- or -CR12 2− (R 12Is
A hydrogen atom or a linear or branched alkyl having 1 to 10 carbon atoms
Represents a kill group), and may be the same or different. m is
Represents an integer of 0 or 1 to 3. ) Structural unit
[B] and / or the following general formula [4]:(Where R13~ R16Is independently a hydrogen atom
Or a linear, branched or cyclic alkyl having 1 to 10 carbon atoms
And X3Is -O- or -CR17 2− (R17
Is a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Represents an alkyl group) and may be the same or different. Y
1And Y2Is that one is-(C = O)-and the other is
-CR18 2− (R18Is a hydrogen atom or 1 to 10 carbon atoms
Represents a linear or branched alkyl group). n is
Represents an integer of 0 or 1 to 3. ) Structural unit
[C] and represented by the general formula [1].
X of unit [A]1, A structural unit represented by the general formula [3]
X of [B]2And a structural unit represented by general formula [4]
X of [C]3At least one of which is -O-,
Has a molar ratio [A] / ([B] + [C]) of 20/80
9999/1, and the weight average molecular weight Mw and the number average
The ratio (Mw / Mn) to the molecular weight Mn is 1.0 to 2.0.
Using hydrogenated ring-opening metathesis polymer as base resin
A resist material characterized by containing.
【請求項2】 一般式[1]のR〜Rのうち少なく
とも一つとして選ばれる一般式[2]で表される環状ア
ルキルの三級エステル基を有する官能基が、1−アルキ
ルシクロペンチルエステル、2−アルキル−2−ノルボ
ニルエステル又は2−アルキル−2−アダマンチルエス
テルである請求項1に記載のレジスト材料。
2. The functional group having a cyclic alkyl tertiary ester group represented by the general formula [2] selected as at least one of R 1 to R 4 in the general formula [1] is 1-alkylcyclopentyl The resist material according to claim 1, which is an ester, 2-alkyl-2-norbornyl ester or 2-alkyl-2-adamantyl ester.
【請求項3】 開環メタセシス重合体の水素添加物が、
更に下記一般式[5] 【化5】 (式中、R19〜R22のうち少なくとも一つが、下記
一般式[6] 【化6】 (式中、鎖線は結合手を示す。R23は水素原子、炭素
数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭
素数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシア
ルキル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環
状のアシル基を示す。Wは単結合又は炭素数1〜10
のk+2価の炭化水素基を示す。qは0又は1であ
る。)で表されるカルボン酸基を有する官能基であり、
その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、ハロゲン原子、
炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化
アルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状
のアルコキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のアルコキシアルキル基、炭素数2〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキルカルボニルオキシ基、炭
素数6〜20のアリールカルボニルオキシ基、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルスルホニル
オキシ基、炭素数6〜20のアリールスルホニルオキシ
基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコ
キシカルボニル基、又は炭素数3〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基から選ば
れ、Xは−O−又は−CR24 −(R24は水素原
子又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基
を表す)であり、同一でも異なってもよい。pは0又は
1〜3の整数を表す。)で表される構造単位[D]を含
む請求項1又は2記載のレジスト材料。
3. The hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer,
Further, the following general formula [5] (Wherein at least one of R 19 to R 22 is represented by the following general formula [6]: (In the formula, a chain line represents a bond. R 23 is a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkyl group having 2 to 10 carbon atoms. Represents an alkoxyalkyl group or a linear, branched or cyclic acyl group having 1 to 10 carbon atoms, and W 2 is a single bond or 1 to 10 carbon atoms.
Represents a k + divalent hydrocarbon group. q is 0 or 1. ) Is a functional group having a carboxylic acid group represented by
Others are each independently a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom,
C1-C20 linear, branched or cyclic halogenated alkyl group, C1-C20 linear, branched or cyclic alkoxy group, C2-C20 linear or branched Or a cyclic alkoxyalkyl group, a linear, branched or cyclic alkylcarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, an arylcarbonyloxy group having 6 to 20 carbon atoms,
-20 linear, branched or cyclic alkylsulfonyloxy group, a C6-C20 arylsulfonyloxy group, a C2-C20 linear, branched or cyclic alkoxycarbonyl group, or 3-20 linear, selected from alkoxycarbonyl alkyl group branched or cyclic, X 4 is -O- or -CR 24 2 - (R 24 represents a linear hydrogen atom or a C1-10 or Represents a branched alkyl group), and may be the same or different. p represents 0 or an integer of 1 to 3. 3. The resist material according to claim 1, which comprises a structural unit [D] represented by the formula:
【請求項4】 ベース樹脂として含有する開環メタセシ
ス重合体の水素添加物において、一般式[1]で表され
る構造単位[A]、一般式[3]で表される構造単位
[B]及び一般式[4]で表される構造単位[C]に対
する一般式[5]で表される構造単位[D]の構成モル
比([A]+[B]+[C])/[D]が100/0〜
20/80である請求項3に記載のレジスト材料。
4. In a hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer contained as a base resin, a structural unit [A] represented by the general formula [1] and a structural unit [B] represented by the general formula [3] And the structural molar ratio of the structural unit [D] represented by the general formula [5] to the structural unit [C] represented by the general formula [4] ([A] + [B] + [C]) / [D ] Is 100/0
The resist material according to claim 3, which is 20/80.
【請求項5】 開環メタセシス重合体の水素添加物が、
更に一般式[7] 【化7】 (式中、R25〜R28のうち少なくとも一つが、下記
一般式[8] 【化8】 (式中、鎖線は結合手を示す。R29は水素原子、炭素
数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭
素数2〜10の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシア
ルキル基、又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環
状のアシル基を示す。R30は炭素数1〜10の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数2〜10の直
鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基、又は炭
素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化ア
ルキル基を示す。Wは単結合又は炭素数1〜10のk
+2価の炭化水素基を示す。sは0又は1である。)で
表されるカルボン酸エステル基を有する官能基であり、
その他はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜20の
直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、ハロゲン原子、
炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のハロゲン化
アルキル基、炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状
のアルコキシ基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は
環状のアルコキシアルキル基、炭素数2〜20の直鎖
状、分岐状又は環状のアルキルカルボニルオキシ基、炭
素数6〜20のアリールカルボニルオキシ基、炭素数1
〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキルスルホニル
オキシ基、炭素数6〜20のアリールスルホニルオキシ
基、炭素数2〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルコ
キシカルボニル基、又は炭素数3〜20の直鎖状、分岐
状又は環状のアルコキシカルボニルアルキル基から選ば
れ、Xは−O−又はCR31 −(R31は水素原子
又は炭素数1〜10の直鎖状又は分岐状のアルキル基を
表す)であり、同一でも異なってもよい。rは0又は1
〜3の整数を表す。)で表される構造単位[E]を含む
請求項1乃至4のいずれか1項記載のレジスト材料。
5. The hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer,
Furthermore, the general formula [7](Where R25~ R28At least one of the following
General formula [8](In the formula, a chain line indicates a bond. R29Is a hydrogen atom, carbon
A linear, branched or cyclic alkyl group of the formulas 1 to 10;
Linear, branched or cyclic alkoxya having a prime number of 2 to 10
Alkyl group, or linear, branched or cyclic C 1-10
Represents an acyl group. R30Is a linear chain having 1 to 10 carbon atoms
, Branched or cyclic alkyl groups having 2 to 10 carbon atoms
Chain, branched or cyclic alkoxyalkyl group, or charcoal
A linear, branched or cyclic halogenated amine having a prime number of 1 to 20;
Represents a alkyl group. W3Is a single bond or k having 1 to 10 carbon atoms
+ Represents a divalent hydrocarbon group. s is 0 or 1. )so
It is a functional group having a carboxylic acid ester group represented,
Others are each independently a hydrogen atom, having 1 to 20 carbon atoms.
Linear, branched or cyclic alkyl group, halogen atom,
Linear, branched or cyclic halogenation having 1 to 20 carbon atoms
Alkyl group, C1-C20 linear, branched or cyclic
An alkoxy group, having 2 to 20 carbon atoms, linear, branched or
Cyclic alkoxyalkyl group, straight chain having 2 to 20 carbon atoms
, Branched or cyclic alkylcarbonyloxy group, charcoal
An arylcarbonyloxy group having a prime number of 6 to 20, having 1 carbon atom
-20 linear, branched or cyclic alkylsulfonyl
Oxy group, arylsulfonyloxy having 6 to 20 carbon atoms
Group, a linear, branched or cyclic alcohol having 2 to 20 carbon atoms
Xycarbonyl group or C3-C20 linear, branched
Selected from linear or cyclic alkoxycarbonylalkyl groups
X5Is -O- or CR31 2− (R31Is a hydrogen atom
Or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
) And may be the same or different. r is 0 or 1
Represents an integer of 1 to 3. ) Contains the structural unit [E]
The resist material according to claim 1.
【請求項6】 ベース樹脂として含有する開環メタセシ
ス重合体の水素添加物において、一般式[1]で表され
る構造単位[A]、一般式[3]で表される構造単位
[B]及び一般式[4]で表される構造単位[C]に対
する一般式[7]で表される構造単位[E]の構成モル
比([A]+[B]+[C])/[E]が100/0〜
40/60である請求項5に記載のレジスト材料。
6. A hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer contained as a base resin, wherein a structural unit [A] represented by the general formula [1] and a structural unit [B] represented by the general formula [3] And the structural molar ratio of the structural unit [E] represented by the general formula [7] to the structural unit [C] represented by the general formula [4] ([A] + [B] + [C]) / [E] ] Is 100/0
The resist material according to claim 5, wherein the ratio is 40/60.
【請求項7】 ベース樹脂として含有する開環メタセシ
ス重合体の水素添加物のGPCで測定したポリスチレン
換算の数平均分子量Mnが500〜200,000であ
ることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載
のレジスト材料。
7. The hydrogenated product of a ring-opening metathesis polymer contained as a base resin, wherein the number average molecular weight Mn in terms of polystyrene measured by GPC is from 500 to 200,000. The resist material according to claim 1.
【請求項8】 ベース樹脂として含有する開環メタセシ
ス重合体の水素添加物のGPCで測定したポリスチレン
換算の数平均分子量Mnが3,000〜20,000で
あることを特徴とする請求項7に記載のレジスト材料。
8. The polystyrene-equivalent number average molecular weight Mn of the hydrogenated product of the ring-opening metathesis polymer contained as a base resin measured by GPC is from 3,000 to 20,000. The resist material as described.
【請求項9】 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の
レジスト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後フ
ォトマスクを介して高エネルギー線もしくは電子線で露
光する工程と、必要に応じて加熱処理した後、現像液を
用いて現像する工程とを含むことを特徴とするパターン
形成方法。
9. A step of applying the resist material according to claim 1 on a substrate, and a step of exposing the substrate to a high energy beam or an electron beam via a photomask after the heat treatment. And subjecting it to a heat treatment in accordance with the formula (1), and then developing using a developer.
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