JP2002193913A

JP2002193913A - スルファモイルフェノール化合物の製造方法

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Publication number: JP2002193913A
Application number: JP2000398675A
Authority: JP
Inventors: Kazuyoshi Yamakawa; 一義山川
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-12-27
Filing date: 2000-12-27
Publication date: 2002-07-10
Anticipated expiration: 2020-12-27
Also published as: JP4183224B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】短工程、高収率でスルファモイルフェノール
化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】一般式Ｉのスルファモイルフェノール化
合物を製造するに当り、一般式ＩＩのフェノールスルホ
ン酸化合物を無溶媒、またはハロゲン系有機溶剤を除く
有機溶媒中、ハロゲン化剤と反応させ、次いで一般式Ｉ
ＩＩのアミン化合物と反応させるスルファモイルフェノ
ール化合物の製造方法。（Ｘは、ベンゼン環に置換可能な原子または基。ｍは、
０〜４の整数。Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ独立にＨ、アル
キル基、またはアリール基。ここで、Ｒ^１とＲ^２が互い
に結合して、Ｎとともに５〜７員環を形成していてもよ
い。Ｍは水素原子またはカチオン。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感熱紙用顕色剤、
医薬中間体、オフセット印刷版およびフォトレジスト用
モノマー合成中間体などとして有用なスルファモイルフ
ェノール化合物の新規な製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】スルファモイルフェノール類は、例えば
特開２０００−２４７０３８号などに開示されている感
熱紙用顕色剤、ＢｉｏｏｒｇａｎｉｃａｎｄＭｅｄ
ｉｃｉｎａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，４，２１１５（１
９９６）、特表平１１−５０５８２０号などに開示され
ている医薬中間体、特開平６−２６３７１７号などに開
示されているオフセット印刷版およびフォトレジストな
どのモノマー合成中間体、などとして有用な化合物であ
る。

【０００３】この化合物の製造方法としては、合成する
際、ヒドロキシル基と生成するスルホン酸ハライドが反
応して樹脂化してしまい、収率が低下することを想定
し、一旦、フェノールのヒドロキシル基を適当な保護基
で保護した後、スルホン酸とハロゲン化剤を反応させ、
スルホン酸ハライドを合成し、次いでスルホン酸ハライ
ドとアミンを反応させた後に、脱保護するという非効率
な方法が取られる場合が多い（例えば、エトキシカルボ
ニル基による保護：特開平６−２６３７１７号；ピバロ
イル基による保護：Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃａｎｄ
ＭｅｄｉｃｉｎａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙ，４，２１１
５（１９９６））。保護基を用いない例は、特表平１
１−５０５８２０号にて開示されているが、ハロゲン化
剤、酸クロリドなどの反応性の高い反応剤、中間体と反
応させないという理由のためか、１，２−ジクロロエタ
ンのような環境に有害なハロゲン系溶剤を使用すること
が必要であり、工業的に大量に製造するためには改良が
必要である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来のスルファモイルフェノール化合物の製造方法の欠
点を克服し、短工程、高収率でスルファモイルフェノー
ル化合物を製造しうる方法を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、（１）
一般式（Ｉ）で表わされるスルファモイルフェノール化
合物を製造するに当り、一般式（II）で表わされるフェ
ノールスルホン酸化合物を無溶媒、またはハロゲン系有
機溶剤を除く有機溶媒中、ハロゲン化剤と反応させ、次
いで、一般式（III）で表わされるアミン化合物と反応
させることを特徴とする一般式（Ｉ）で表わされるスル
ファモイルフェノール化合物の製造方法、一般式（Ｉ）

【０００６】

【化４】

【０００７】（式中、Ｘは、ベンゼン環に置換可能な原
子または基を表わし、ｍは、０〜４の整数を表わし、Ｒ
¹、Ｒ²は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、また
はアリール基を表わす。ここでＲ¹とＲ²が互いに結合し
て、窒素原子とともに５〜７員環を形成していてもよ
い。）一般式（II)

【０００８】

【化５】

【０００９】（式中、Ｘ、ｍは一般式（Ｉ）と同じ意味
をもち、Ｍは水素原子またはカチオンを表わす。）一般式（III)

【００１０】

【化６】

【００１１】（式中、Ｒ¹、Ｒ²は一般式（Ｉ）と同じ意
味をもつ。）（２）用いる有機溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒である
ことを特徴とする（１）項記載の製造方法、及び（３）
ハロゲン化剤がホスゲン、五塩化リン、三塩化リン、オ
キシ塩化リン、塩化チオニル及びクロロスルホン酸から
なる群から選ばれることを特徴とする（１）項記載の製
造方法により達成された。

【００１２】

【発明の実施の形態】次に本発明の製造法について詳細
に説明する。一般式（Ｉ）において、Xは、ベンゼン環
に置換可能な原子または基を表わし、X同士が結合して
ベンゼン環あるいは５〜７員の複素環を形成してもよ
い。Xとしては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロア
ルキル基、ビシクロアルキル基のような環状アルキル基
を含む）、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキ
シル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカ
ルボニルオキシ、アシルアミノ基、アミノカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキ
シカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アル
キル及びアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル
基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、ア
リールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、アリール及び複素環アゾ基、イミド基
が例として挙げられる。

【００１３】好ましくは、Ｘは、ハロゲン原子（例え
ば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜３
０のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、２−ク
ロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシ
ル）、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール
基（例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロ
ロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、
５〜７員の複素環基（例えば、２−フリル、２−チエニ
ル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シア
ノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭素数１〜３０のア
ルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポ
キシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキ
シエトキシ）、炭素数６〜３０のアリールオキシ基（例
えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブ
チルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデ
カノイルアミノフェノキシ）、炭素数２〜３０のアルコ
キシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニル
アミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミ
ノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、炭素数
１〜３０のアルキルスルホニルアミノ基（例えば、メチ
ルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ）、炭素
数６〜３０のアリールスルホニルアミノ（例えば、フェ
ニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニ
ルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルア
ミノ）、

【００１４】炭素数１〜３０のアルキルチオ基（例えば
メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、炭
素数６〜３０のアリールチオ基（例えば、フェニルチ
オ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチ
オ）、炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基（例え
ば、メチルスルホニル、エチルスルホニル）、炭素数６
〜３０のアリールスルホニル基（例えば、フェニルスル
ホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、炭素数２〜
３０のアルキルカルボニル基（例えば、アセチル、ピバ
ロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル）、炭素数
７〜３０のアリールカルボニル基（例えば、ベンゾイ
ル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、炭
素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基（例えば、
フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニ
ル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチル
フェノキシカルボニル）、炭素数２〜３０のアルコキシ
カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシ
ルオキシカルボニル）を表わす。

【００１５】Ｘは互いに結合してベンゼン環あるいは５
〜７員の複素環を形成してもよい。複素環としては、飽
和、不飽和のものを含み、好ましくは、窒素原子、酸素
原子、硫黄原子から選ばれる少なくとも一つの原子を有
する環構造を表わす。この中で、５員複素環としては、
好ましくは、フラン、チオフェン、ピロール、ピラゾー
ル、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソ
オキサゾール、チアゾール、イソチアゾール並びにこれ
らのジヒドロ体、ジオキソランなどが挙げられ、６員複
素環としては、好ましくは、ピリジン、ピリミジン、ピ
ラジン、トリアジン並びにこれらのジヒドロ体、テトラ
ヒドロ体、ジオキサン、ジチアン、モルホリンなどが挙
げられ、７員複素環としては、アゼピン、オキセピン、
チエピン並びにこれらのジヒドロ体、テトラヒドロ体が
挙げられ、これら５〜７員の複素環は、ベンゼン環が縮
環していてもよい。さらに、これらの複素環の炭素原子
には、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、好ま
しくは、炭素数１〜３０のアルキル基（例えば、メチ
ル、エチル）、好ましくは、炭素数６〜３０のアリール
基（例えば、フェニル、ナフチル）などが、置換してい
てもよい。

【００１６】一般式（Ｉ）において、ｍは、０〜４の整
数を表わし、より好ましくは、０〜２の整数を表わし、
特に好ましくは、ｍは０を表わす。

【００１７】一般式（Ｉ）において、Ｒ¹、Ｒ²は、それ
ぞれ独立に、水素原子、好ましくは炭素数１〜３０の直
鎖または分岐アルキル基（シクロアルキル基を含む；例
えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ
−ブチル、シクロヘキシル、ｎ−オクチル、２−エチル
ヘキシル）、または、好ましくは、炭素数６〜３０の置
換もしくは無置換のアリール基（例えばフェニル、ナフ
チル）を表わし、Ｒ¹とＲ²が結合して、窒素原子ととも
に５〜７員環を形成していてもよい。アルキル基、ある
いは、アリール基は、Ｘで説明した置換基によって置換
されていてもよい。Ｒ¹とＲ²が結合して、窒素原子とと
もに５〜７員環を形成する場合、５員複素環としては、
好ましくは、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、ト
リアゾール並びにこれらのジヒドロ体などが挙げられ、
６員複素環としては、好ましくは、ピリジン、ピリミジ
ン、ピラジン、トリアジンのジヒドロ体、テトラヒドロ
体、モルホリンなどが挙げられ、７員複素環としては、
アゼピン並びにそのジヒドロ体、テトラヒドロ体が挙げ
られ、これら５〜７員の複素環は、ベンゼン環が縮環し
ていてもよい。さらに、これらの複素環の炭素原子に
は、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、好まし
くは、炭素数１〜３０のアルキル基（例えば、メチル、
エチル）、好ましくは、炭素数６〜３０のアリール基
（例えば、フェニル、ナフチル）などが、置換していて
もよい。特に好ましくは、Ｒ¹は水素原子を表わし、Ｒ²
は、フェニル基を表わす。

【００１８】一般式（II）において、Ｍは、水素原子ま
たはカチオンを表わす。カチオンとしては、金属イオン
（例えば、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオ
ン）、アンモニウム塩、有機アミンの４級塩（例えば、
テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモ
ニウム、ピリジニウム、イミダゾリウム）、ホスホニウ
ム塩（例えば、テトラフェニルホスホニウム）などが挙
げられ、好ましくは、金属イオンを表わす。Ｍは、特に
好ましくは、水素原子またはＮａ、Ｋを表わす。

【００１９】本発明において、一般式（II）で表される
フェノールスルホン酸化合物に反応されるハロゲン化剤
としては、ホスゲン、五塩化リン、三塩化リン、オキシ
塩化リン、一塩化硫黄、二塩化硫黄、塩化チオニル、塩
化スルフリル、クロロスルホン酸、ヘキサクロロシクロ
トリホスファゼン、トリフェニルホスフィンクロリド、
並びに、これらのハロゲン化剤の塩素を他のハロゲン原
子に置き換えたハロゲン化剤を挙げることができ、より
好ましくは、ホスゲン、五塩化リン、三塩化リン、オキ
シ塩化リン、塩化チオニル、クロロスルホン酸であり、
特に好ましくは、塩化チオニル、クロロスルホン酸であ
る。これらのハロゲン化剤は、一般式（II）で表される
スルホン酸化合物１モルに対して、０．２〜５モル、好
ましくは、０．５〜４モル、特に好ましくは、１〜３モ
ル用いられる。

【００２０】本発明において、一般式(III)で表される
アミン化合物中のＲ¹、Ｒ²は一般式（Ｉ）のＲ¹、Ｒ²で
説明したと同じ意味をもつ。したがってこのアミン化合
物の例としては、アンモニア、モノアルキルアミン、ジ
アルキルアミン、アルキルアリールアミン、モノアリー
ルアミン、ジアリールアミンなどをあげることができ、
特に好ましくは、アニリンが用いられる。これらのアミ
ン化合物は、スルホン酸化合物(II)のハロゲン化物１モ
ルに対して、０．２〜５モル、好ましくは、０．５〜４
モル、特に好ましくは、１〜３モル用いられる。アミン
化合物を過剰に用いて、脱酸剤を兼ねることもできる
が、新たに無機、有機の塩基を加えることもできる。

【００２１】本発明において反応は、無溶媒または、ハ
ロゲン系溶媒以外の有機溶媒を用いて行われるが、好ま
しくは、脂肪族炭化水素系溶媒（例えば、ヘキサン、ヘ
プタン、石油エーテル）、芳香族炭化水素系溶媒（例え
ば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン）、ニト
リル系溶媒（例えば、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ル）、アミド系溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン）、スル
ホランなどを挙げることができるが、さらに好ましくは
脂肪族炭化水素系溶媒または芳香族炭化水素系溶媒であ
り、特に好ましくは、芳香族炭化水素系溶媒である。こ
れらの非水系溶媒は水溶性溶媒と比較し、反応操作にお
ける抽出において、分液溶媒を兼ねることができるメリ
ットもある。これらの溶媒は、一般式(II)で表されるス
ルホン酸化合物に対して、０．５〜５０質量％、好まし
くは、５〜３０質量％用いられる。

【００２２】一般式（II）で表されるスルホン酸化合物
をハロゲン化剤と反応させる工程の反応温度は、好まし
くは、０℃〜１２０℃、より好ましくは、２０℃〜１０
０℃、特に好ましくは、４０℃〜８０℃である。反応
後、水を加えて、分液、水洗工程を入れることもでき
る。反応時間は、好ましくは、０．１〜５時間、より好
ましくは、０．５〜３時間である。一般式(II)で表され
る化合物のハロゲン化物をアミン化合物と反応させる工
程の反応温度は、好ましくは、０℃〜１２０℃、より好
ましくは、２０℃〜１００℃、特に好ましくは、２０℃
〜８０℃である。反応時間は、好ましくは、０．１〜５
時間、より好ましくは、０．５〜３時間である。

【００２３】以下に一般式（II）、一般式（III）、一
般式（Ｉ）で表わされる化合物の構造式を具体的に示す
が、本発明は、これらにより限定されるものではない。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【表２】

【００２６】

【表３】

【００２７】

【表４】

【００２８】

【表５】

【００２９】

【表６】

【００３０】

【表７】

【００３１】

【表８】

【００３２】

【表９】

【００３３】

【表１０】

【００３４】

【実施例】以下に実施例に基づき本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例により限定されるものではな
い。

【００３５】＜実施例１＞フェノールスルホン酸（II）
−６とアミン（III）−１０を用いる（Ｉ）−７の合成フェノールスルホン酸ナトリウム二水和物（化合物（I
I）−６）１１．６ｇ（０．０５ｍｏｌ）をトルエン５
０ｍｌに分散し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．３
ｍｌを加え、さらに、塩化チオニル３０．０ｇ（０．２
５ｍｏｌ）を加え、内温４８℃にて３０分、内温5８℃
にて４時間、さらに内温６５℃にて４時間、加熱攪拌し
た。室温に戻し、氷水１００ｍｌに注ぎ、分液、水洗を
行った後、アニリン（（III）−１０）９．３ｇ（０．
１ｍｏｌ）を加え、内温７０℃にて１．５時間加熱攪拌
した。室温に戻し、水洗、濃縮後、ｎ−ヘキサンを用い
て、結晶化を行い、析出した結晶を濾過し、目的の化合
物（Ｉ）−７を１０．４ｇ、収率８４％にて得た。融点
１１３〜１１５℃。なお、上記の操作において、攪拌性
および分液性はともに良好であり、問題はなかった。¹ Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ：ＤＭＳＯ−ｄ₆） δ_ppm ６．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）６．９７（１Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８．３，８．３Ｈｚ）７．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）７．１６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３，８．３Ｈｚ）７．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．７Ｈｚ）１０．００（１Ｈ，ｓ）１０．３９（１Ｈ，ｓ）

【００３６】＜実施例２＞実施例１におけるトルエンを
種々の等容量の溶媒に置き換え、反応を行った結果を以
下に示す。

【００３７】

【表１１】

【００３８】芳香族炭化水素系溶媒の場合、トルエンと
ほぼ同等の収率で目的物が得られるのに対し、他の有機
溶媒においては、若干の収率低下を招いたり、中間体の
溶解性が不十分なため、タール状（飴状）になって攪拌
性が悪化するものもあるが、塩化メチレンやクロロホル
ムと比較し、収率は良好である。ジクロロエタンの場合
は、トルエンよりも若干収率が低いものの、かなり良好
な収率で目的物が得られることがわかる。塩化メチレン
の場合は、反応温度が低いために反応が遅く、低収率で
あった。これらのハロゲン系炭化水素系溶媒は、酸クロ
リド形成などの反応に対して不活性であり、従来好まれ
て使用されてきた経緯があるが、環境有害物質であり、
大量に使用することは禁止的である。

【００３９】

【発明の効果】本発明の方法によれば、スルファモイル
フェノール化合物を短工程で、収率良く、経済的に得る
ことができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（Ｉ）で表わされるスルファモイ
ルフェノール化合物を製造するに当り、一般式（II）で
表わされるフェノールスルホン酸化合物を無溶媒、また
はハロゲン系有機溶剤を除く有機溶媒中、ハロゲン化剤
と反応させ、次いで、一般式（III）で表わされるアミ
ン化合物と反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）で
表わされるスルファモイルフェノール化合物の製造方
法。一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ｘは、ベンゼン環に置換可能な原子または基を
表わし、ｍは、０〜４の整数を表わし、Ｒ¹、Ｒ²は、そ
れぞれ独立に水素原子、アルキル基、またはアリール基
を表わす。ここで、Ｒ¹とＲ²が互いに結合して、窒素原
子とともに５〜７員環を形成していてもよい。）一般式（II) 【化２】（式中、Ｘ、ｍは一般式（Ｉ）と同じ意味をもち、Ｍは
水素原子またはカチオンを表わす。）一般式(III) 【化３】（式中、Ｒ¹、Ｒ²は一般式（Ｉ）と同じ意味をもつ。）
【請求項２】用いる有機溶媒が、芳香族炭化水素系溶
媒であることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項３】ハロゲン化剤がホスゲン、五塩化リン、
三塩化リン、オキシ塩化リン、塩化チオニル及びクロロ
スルホン酸からなる群から選ばれることを特徴とする請
求項１記載の製造方法。