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JP2002192647A - Plastic product and method of manufacturing the same - Google Patents

Plastic product and method of manufacturing the same

Info

Publication number
JP2002192647A
JP2002192647A JP2000394146A JP2000394146A JP2002192647A JP 2002192647 A JP2002192647 A JP 2002192647A JP 2000394146 A JP2000394146 A JP 2000394146A JP 2000394146 A JP2000394146 A JP 2000394146A JP 2002192647 A JP2002192647 A JP 2002192647A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
refractive index
plastic
meth
coating composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000394146A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Higuchi
俊彦 樋口
Satoshi Kondo
聡 近藤
Takashi Shibuya
崇 澁谷
Tomohiro Yamada
朋広 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2000394146A priority Critical patent/JP2002192647A/en
Publication of JP2002192647A publication Critical patent/JP2002192647A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 特に耐摩耗性に優れた反射防止層を有するプ
ラスチック製品およびその製造方法の提供。 【解決手段】 プラスチック基材の少なくとも一方の面
に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を1個以上有
する化合物(a)とポリシラザンを含む被覆組成物
(A)の硬化物層を形成し、その表面に反射防止層を形
成する。前記反射防止層は、基材側から順に高屈折率層
および低屈折率層の少なくとも2層からなる光吸収性反
射防止層であることが好ましい。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plastic product having an antireflection layer particularly excellent in abrasion resistance and a method for producing the same. SOLUTION: A cured material layer of a coating composition (A) containing a compound (a) having one or more active energy ray-curable polymerizable functional groups and polysilazane is formed on at least one surface of a plastic substrate. Then, an antireflection layer is formed on the surface. The antireflection layer is preferably a light-absorbing antireflection layer composed of at least two layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer in order from the substrate side.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、耐摩耗性および反
射防止性に優れた、反射防止層を有するプラスチック製
品およびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plastic article having an anti-reflection layer, which is excellent in abrasion resistance and anti-reflection property, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラスチック基材の表面に反射防止性を
付与した製品は、フィルムやシートなどの形態で、建築
用や車両用の窓材、各種ディスプレイ(ブラウン管、プ
ラズマディスプレイ、液晶表示装置など)またはその保
護板、鏡、ゴーグルなどとして利用されている。
2. Description of the Related Art Products having an anti-reflection property on the surface of a plastic substrate are provided in the form of films and sheets, for window materials for construction and vehicles, various displays (CRTs, plasma displays, liquid crystal displays, etc.). Or, it is used as a protective plate, a mirror, goggles, or the like.

【0003】プラスチック基材の表面に反射防止性を付
与する方法としては、基材の表面に反射防止塗料を塗布
する方法、金属蒸着膜を形成する方法または活性エネル
ギ線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂の硬化物層の表面に低屈
折率の反射防止層を形成する方法などが挙げられる。
[0003] As a method of imparting antireflection properties to the surface of a plastic substrate, a method of applying an antireflection coating to the surface of the substrate, a method of forming a metal deposition film, or an active energy ray-curable resin or a thermosetting resin A method of forming a low-refractive-index antireflection layer on the surface of a cured resin layer is exemplified.

【0004】このうち、活性エネルギ線硬化性樹脂や熱
硬化性樹脂の硬化物層の表面に低屈折率の反射防止層を
形成する方法は、プラスチック基材に反射防止性ととも
に耐擦傷性・耐摩耗性を付与する場合に有効な方法であ
る。耐久性に優れた無機材料からなる低屈折率の反射防
止層を形成する方法としては、スパッタリング、イオン
プレーティング、蒸着などの気層法やゾル−ゲル法など
が採用される。
Among these methods, a method of forming an antireflection layer having a low refractive index on the surface of a cured material layer of an active energy ray-curable resin or a thermosetting resin is known. This is an effective method for imparting wear properties. As a method for forming a low-refractive-index antireflection layer made of an inorganic material having excellent durability, a gas layer method such as sputtering, ion plating, or vapor deposition, or a sol-gel method is employed.

【0005】しかし、気層法では、複雑な装置が必要な
うえ、生産性も充分ではなく、また、ゾル−ゲル法では
高温で硬化を行うため、プラスチック基材では耐熱性に
難点がある。また、従来の反射防止層を有するプラスチ
ック製品は、特に表面の耐摩耗性が要求される用途にお
いては、その性能が充分ではなかった。
However, the gas layer method requires a complicated apparatus and the productivity is not sufficient, and the sol-gel method cures at a high temperature, so that the plastic substrate has a problem in heat resistance. Further, the performance of conventional plastic products having an anti-reflection layer has not been sufficient, particularly in applications requiring surface abrasion resistance.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、特に耐摩耗
性に優れた反射防止層を有するプラスチック製品および
その製造方法の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a plastic article having an antireflection layer having particularly excellent wear resistance and a method for producing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の一つは、プラスチック基材の少なくとも一
方の面に、基材側から順に透明硬化物層、反射防止層が
形成されてなるプラスチック製品であって、該透明硬化
物層が活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を1個以上
有する化合物(a)とポリシラザンとを含有する被覆組
成物(A)の硬化物層であることを特徴とするプラスチ
ック製品である。
Means for Solving the Problems To achieve the above object, one of the present invention is to form a transparent cured product layer and an antireflection layer on at least one surface of a plastic substrate in order from the substrate side. Wherein the transparent cured product layer is a cured product layer of a coating composition (A) containing a compound (a) having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group and polysilazane. A plastic product characterized in that:

【0008】上記発明においては、前記反射防止層が、
基材側から順に高屈折率層および低屈折率層の少なくと
も2層からなる光吸収性反射防止層であることが好まし
い。この態様によれば、耐擦傷性に優れ、かつ広範囲の
波長領域における充分な低反射性、高いコントラストを
確保するための適度な可視光線吸収率および安価で優れ
た生産性を有するプラスチック製品が得られる。
In the above invention, the anti-reflection layer comprises:
It is preferable that the light-absorbing anti-reflection layer is composed of at least two layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer in order from the substrate side. According to this aspect, a plastic product having excellent scratch resistance, sufficient low reflectivity in a wide wavelength range, appropriate visible light absorption for securing high contrast, and low cost and excellent productivity is obtained. Can be

【0009】また、前記ポリシラザンがペルヒドロポリ
シラザンであることが好ましい。
Preferably, the polysilazane is a perhydropolysilazane.

【0010】また、前記プラスチック基材の屈折率と被
覆組成物(A)の硬化物の屈折率との差の絶対値が0.
15以下であることが好ましい。この態様によれば、色
むらの発生による外観上の問題を改善することができ
る。
The absolute value of the difference between the refractive index of the plastic substrate and the refractive index of the cured product of the coating composition (A) is 0.1.
It is preferably 15 or less. According to this aspect, it is possible to improve the appearance problem due to the occurrence of color unevenness.

【0011】また、前記プラスチック基材が、芳香族ポ
リカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂ま
たはポリエチレンテレフタレート樹脂からなる群から選
ばれたプラスチック基材であることが好ましい。
Further, it is preferable that the plastic substrate is a plastic substrate selected from the group consisting of an aromatic polycarbonate resin, a polymethyl methacrylate resin or a polyethylene terephthalate resin.

【0012】本発明のもう一つは、前記のプラスチック
製品を製造する方法において、プラスチック基材の少な
くとも一方の面に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能
基を1個以上有する化合物(a)とポリシラザンとを含
有する被覆組成物(A)の硬化物層を形成した後、該硬
化物層の表面に反射防止層を形成することを特徴とす
る、プラスチック製品の製造方法である。
Another aspect of the present invention is the method for producing a plastic product, wherein the compound (a) having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group on at least one surface of the plastic substrate. A method for producing a plastic product, comprising: forming a cured product layer of a coating composition (A) containing a polysilazane and an antireflection layer on the surface of the cured product layer.

【0013】上記発明においては、プラスチック基材の
少なくとも一方の面に、活性エネルギ線硬化性の重合性
官能基を1個以上有する化合物(a)とポリシラザンと
を含有する被覆組成物(A)を塗工し、次に活性エネル
ギ線の照射による前記化合物(a)の硬化と、前記ポリ
シラザンの硬化を任意の順でまたは同時に行って、前記
被覆組成物(A)の硬化物層を形成した後、さらに該硬
化物層の表面に反射防止層を形成することが好ましい。
In the above invention, a coating composition (A) containing a compound (a) having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group and polysilazane on at least one surface of a plastic substrate. After coating, curing of the compound (a) by irradiation with active energy rays and curing of the polysilazane are performed in any order or simultaneously to form a cured layer of the coating composition (A). Further, it is preferable to form an antireflection layer on the surface of the cured product layer.

【0014】本発明によれば、特に耐摩耗性に優れた反
射防止層を有するプラスチック製品およびその製造方法
を提供できる。
According to the present invention, it is possible to provide a plastic product having an antireflection layer having particularly excellent wear resistance and a method for producing the same.

【0015】上記反射防止層は、相対的に柔らかいプラ
スチック基材に直接積層されているのではなく、耐擦傷
性の高い硬い被覆組成物(A)の硬化物層の上に高い密
着性を保持しつつ積層されているため、外力による反射
防止層の変位が小さくなり、耐摩耗性に優れると考えら
れる。
The antireflection layer is not directly laminated on a relatively soft plastic substrate, but maintains high adhesion on a cured layer of the hard coating composition (A) having high scratch resistance. It is considered that since the antireflection layer is displaced by external force, the displacement of the antireflection layer is reduced and the wear resistance is excellent.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明のプラスチック製品は、プ
ラスチック基材と、その少なくとも一方の面に形成され
た透明硬化物層と、さらにその表面に形成された反射防
止層とを備えている。なお、上記透明硬化物層は、2層
以上の種類の異なる硬化物層からなっていてもよいが、
通常、1層からなるのが好ましい。また、プラスチック
基材と透明硬化物層との間には、合成樹脂などからなる
第3の層(たとえば熱可塑性アクリル樹脂などの熱可塑
性樹脂の層や接着剤の層)が存在していてもよい。この
場合、第3の層はプラスチック基材と透明硬化物層に対
し充分な密着性を有することが好ましく、また該層の屈
折率とプラスチック基材の屈折率との差の絶対値は0.
15以下が好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The plastic product of the present invention comprises a plastic substrate, a transparent cured layer formed on at least one surface thereof, and an antireflection layer formed on the surface. The transparent cured product layer may be composed of two or more different types of cured product layers,
In general, it is preferable to consist of one layer. In addition, a third layer made of a synthetic resin or the like (for example, a layer of a thermoplastic resin such as a thermoplastic acrylic resin or a layer of an adhesive) exists between the plastic substrate and the transparent cured material layer. Good. In this case, the third layer preferably has sufficient adhesion to the plastic substrate and the transparent cured product layer, and the absolute value of the difference between the refractive index of the layer and the refractive index of the plastic substrate is 0.1.
It is preferably 15 or less.

【0017】前記プラスチック基材としては、各種透明
合成樹脂を使用できる。たとえば芳香族ポリカーボネー
ト樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂(アクリル樹
脂)、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリスチレン
樹脂などの透明合成樹脂などが挙げられる。本発明にお
いては、溶剤との相性の点から、芳香族ポリカーボネー
ト樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂またはポリエチ
レンテレフタレート樹脂が好ましい。
As the plastic substrate, various transparent synthetic resins can be used. For example, transparent synthetic resins such as aromatic polycarbonate resin, polymethyl methacrylate resin (acrylic resin), polyethylene terephthalate resin, and polystyrene resin are exemplified. In the present invention, an aromatic polycarbonate resin, a polymethyl methacrylate resin or a polyethylene terephthalate resin is preferred from the viewpoint of compatibility with a solvent.

【0018】前記透明硬化物層は、活性エネルギ線硬化
性の重合性官能基を1個以上有する化合物(a)(以
下、単に化合物(a)という。)とポリシラザンとを含
有する被覆組成物(A)の硬化物層である。なお、以下
の説明において、アクリロイル基およびメタクリロイル
基を総称して(メタ)アクリロイル基といい、(メタ)
アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリル酸、(メタ)
アクリレートなどの表現も同様とする。
The transparent cured layer is a coating composition containing a compound (a) having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group (hereinafter simply referred to as compound (a)) and polysilazane. It is a cured product layer of A). In the following description, an acryloyl group and a methacryloyl group are collectively referred to as a (meth) acryloyl group,
Acryloyloxy group, (meth) acrylic acid, (meth)
The same applies to expressions such as acrylate.

【0019】化合物(a)のうち、活性エネルギ線によ
って重合しうる重合性官能基を1個有する化合物(以
下、単に単官能性化合物という。)としては、(メタ)
アクリロイル基を有する化合物が好ましく、特にアクリ
ロイル基を有する化合物が好ましい。また、その他に水
酸基、エポキシ基などの官能基を有していてもよい。上
記単官能性化合物としては、たとえば以下のものが挙げ
られる。
Among the compounds (a), a compound having one polymerizable functional group polymerizable by an active energy ray (hereinafter, simply referred to as a monofunctional compound) includes (meth)
A compound having an acryloyl group is preferable, and a compound having an acryloyl group is particularly preferable. In addition, it may have a functional group such as a hydroxyl group and an epoxy group. Examples of the monofunctional compound include the following.

【0020】アルキル(メタ)アクリレート(アルキル
基の炭素数は1〜13)、アリル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル
(メタ)アクリレート、ブタンジオール(メタ)アクリ
レート、ブトキシトリエチレングリコールモノ(メタ)
アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)
アクリレート、2−シアノエチル(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペ
ンタニル(メタ)アクリレート、2,3−ジブロモプロ
ピル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル
(メタ)アクリレート、
Alkyl (meth) acrylate (alkyl group having 1 to 13 carbon atoms), allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, butanediol (meth) acrylate, butoxytriethylene glycol Things (meta)
Acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth)
Acrylate, 2-cyanoethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, 2,3-dibromopropyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl ( Meth) acrylates,

【0021】N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2(2−エトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリ
レート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グ
リセロール(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)
アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アク
リレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシ
プロピルトリメチルアンモニウムクロリド、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メ
タ)アクリレート、3−(メタ)アクリロイルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、2−メトキシエチル(メ
タ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコ
ール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリ
コール(メタ)アクリレート、メトキシ化シクロデカト
リエン(メタ)アクリレート、
N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2 (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, Ethylhexyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, glycidyl (meth)
Acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyltrimethylammonium chloride, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate , 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene Glycol (meth) acrylate, methoxylated cyclodecatriene (meth) acrylate,

【0022】モルホリン(メタ)アクリレート、ノニル
フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メ
タ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)ア
クリレート、フェノキシヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、
フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アク
リレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、
ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、スル
ホン酸ソーダエトキシ(メタ)アクリレート、テトラフ
ルオロプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフ
ルフリル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル
(メタ)アクリレート、ビニルアセテート、N−ビニル
カプロラクタム、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホ
ルムアミド、モルホリノ(メタ)アクリレート、2−モ
ルホリノエチル(メタ)アクリレート。
Morpholine (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, phenoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate,
Phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate,
Polypropylene glycol (meth) acrylate, sodium sulfonic acid (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, vinyl acetate, N-vinylcaprolactam, N- Vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, morpholino (meth) acrylate, 2-morpholinoethyl (meth) acrylate.

【0023】また、活性エネルギ線硬化性の重合性官能
基を2個以上有する化合物(以下、単に多官能性化合物
という。)としては、特開平11−240103号公報
の段落番号0016〜0020、0023〜0047に
記載された化合物が好ましく挙げられる。
As compounds having two or more active energy ray-curable polymerizable functional groups (hereinafter simply referred to as polyfunctional compounds), JP-A-11-240103, paragraphs [0016] to [0020], and [0023] Compounds described in Nos. To 0047 are preferred.

【0024】好ましい多官能性化合物としては、(メ
タ)アクリロイル基から選ばれる1種以上の重合性官能
基を2個以上(2〜50個が好ましく、より好ましくは
3〜30個)有する化合物が挙げられる。その中でも
(メタ)アクリロイルオキシ基を2個以上有する化合
物、すなわち多価アルコールなどの2個以上の水酸基を
有する化合物と(メタ)アクリル酸とのポリエステルが
好ましい。また、上記重合性官能基以外に種々の官能基
または結合を有する化合物であってもよい。特に、ウレ
タン結合を有する(メタ)アクリロイル基含有化合物
(以下、アクリルウレタンという。)と、ウレタン結合
を有しない(メタ)アクリル酸エステル化合物が好まし
い。
Preferred polyfunctional compounds include compounds having two or more (preferably 2 to 50, more preferably 3 to 30) at least one polymerizable functional group selected from (meth) acryloyl groups. No. Among them, a compound having two or more (meth) acryloyloxy groups, that is, a polyester of a compound having two or more hydroxyl groups such as a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid is preferable. Further, compounds having various functional groups or bonds other than the polymerizable functional groups may be used. In particular, a (meth) acryloyl group-containing compound having a urethane bond (hereinafter, referred to as acrylic urethane) and a (meth) acrylate compound having no urethane bond are preferable.

【0025】上記アクリルウレタンとしては、1)ペン
タエリスリトールまたはその多量体であるポリペンタエ
リスリトールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートとの反応生成物であるアクリル
ウレタンであり、かつ、活性エネルギ線硬化性の重合性
官能基を3個以上(より好ましくは4〜20個)有する
多官能性化合物、または、2)ペンタエリスリトールま
たはポリペンタエリスリトールの水酸基含有ポリ(メ
タ)アクリレートとポリイソシアネートとの反応生成物
であるアクリルウレタンであり、かつ、活性エネルギ線
硬化性の重合性官能基を3個以上(より好ましくは4〜
20個)有する多官能性化合物、が挙げられる。
The acrylic urethane is 1) acrylurethane which is a reaction product of pentaerythritol or its polymer, polypentaerythritol, polyisocyanate, and hydroxyalkyl (meth) acrylate, and which is active energy ray-curable. Of polyfunctional compounds having 3 or more (more preferably 4 to 20) polymerizable functional groups, or 2) reaction of pentaerythritol or poly (meth) acrylate containing hydroxyl group of polypentaerythritol with polyisocyanate Acryl urethane, and three or more active energy ray-curable polymerizable functional groups (more preferably 4 to 4).
20) having a polyfunctional compound.

【0026】また、ウレタン結合を有しない(メタ)ア
クリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトー
ル系ポリ(メタ)アクリレート、またはイソシアヌレー
ト系ポリ(メタ)アクリレートが挙げられる。なお、ペ
ンタエリスリトール系ポリ(メタ)アクリレートとは、
ペンタエリスリトールまたはポリペンタエリスリトール
と(メタ)アクリル酸とのポリエステル(好ましくは活
性エネルギ線硬化性の重合性官能基を4〜20個有す
る。)をいう。また、イソシアヌレート系ポリ(メタ)
アクリレートとは、トリス(ヒドロキシアルキル)イソ
シアヌレート、またはトリス(ヒドロキシアルキル)イ
ソシアヌレートの1モルに1〜6モルのカプロラクトン
またはアルキレンオキシドを付加して得られる化合物
と、(メタ)アクリル酸とのポリエステル(好ましくは
活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を2〜3個有す
る。)をいう。
Examples of the (meth) acrylate compound having no urethane bond include pentaerythritol poly (meth) acrylate and isocyanurate poly (meth) acrylate. In addition, pentaerythritol-based poly (meth) acrylate is
A polyester of pentaerythritol or polypentaerythritol and (meth) acrylic acid (preferably having 4 to 20 active energy ray-curable polymerizable functional groups). Also, isocyanurate-based poly (meth)
Acrylate is a polyester of tris (hydroxyalkyl) isocyanurate or a compound obtained by adding 1 to 6 mol of caprolactone or alkylene oxide to 1 mol of tris (hydroxyalkyl) isocyanurate, and (meth) acrylic acid. (Preferably having 2 to 3 active energy ray-curable polymerizable functional groups).

【0027】本発明においては、上記の好ましい多官能
性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を2個以上有する多官能性化合物(特に多価アルコール
のポリ(メタ)アクリレート)とを併用してもよい。
In the present invention, the above-mentioned preferred polyfunctional compound and another polyfunctional compound having two or more active energy ray-curable polymerizable functional groups (particularly poly (meth) acrylate of polyhydric alcohol) May be used in combination.

【0028】化合物(a)において、上記単官能性化合
物または上記多官能性化合物の割合は特に制限されな
い。
In the compound (a), the ratio of the monofunctional compound or the polyfunctional compound is not particularly limited.

【0029】被覆組成物(A)に含まれるポリシラザン
としては、特開平11−268196号公報の段落番号
0067〜0068に記載されたポリシラザンが好まし
く挙げられる。本発明においては、焼成温度の低さおよ
び焼成後の硬化物の緻密さの点でペルヒドロポリシラザ
ンが特に好ましい。また、ポリシラザンの数平均分子量
は200〜5万が好ましい。数平均分子量が200未満
では焼成しても均一な硬化物が得られにくく、5万超で
は溶剤に溶解しにくくなり、また被覆組成物(A)が粘
稠になるおそれがあるため好ましくない。
As the polysilazane contained in the coating composition (A), polysilazanes described in paragraphs 0067 to 0068 of JP-A-11-268196 are preferably exemplified. In the present invention, perhydropolysilazane is particularly preferred from the viewpoint of low firing temperature and denseness of a cured product after firing. The number average molecular weight of the polysilazane is preferably from 200 to 50,000. If the number average molecular weight is less than 200, it is difficult to obtain a uniform cured product even if it is fired, and if it exceeds 50,000, it becomes difficult to dissolve in a solvent, and the coating composition (A) may become viscous.

【0030】被覆組成物(A)におけるポリシラザンの
配合割合は、耐摩耗性、プラスチック基材および反射防
止層との密着性により適宜選択できるが、特に耐摩耗性
と密着性のバランスを考慮した場合には、化合物(a)
100質量部に対して、ポリシラザン1〜1000質量
部が好ましく、特に5〜100質量部が好ましい。ポリ
シラザンの配合割合が上記よりも少ないと耐摩耗性が不
充分になり、上記よりも多いとプラスチック基材との密
着性が不充分になるため好ましくない。
The mixing ratio of the polysilazane in the coating composition (A) can be appropriately selected depending on the abrasion resistance and the adhesion to the plastic substrate and the antireflection layer. In particular, when the balance between the abrasion resistance and the adhesion is taken into consideration. Include a compound (a)
With respect to 100 parts by mass, polysilazane is preferably from 1 to 1000 parts by mass, particularly preferably from 5 to 100 parts by mass. If the blending ratio of the polysilazane is less than the above, the abrasion resistance becomes insufficient, and if it is more than the above, the adhesion to the plastic substrate becomes insufficient, which is not preferable.

【0031】また、被覆組成物(A)は、上記の基本的
成分以外に下記の溶剤および種々の機能性配合剤などを
含むことができる。
The coating composition (A) may contain the following solvents and various functional ingredients in addition to the above basic components.

【0032】溶剤は通常必須の成分であり、化合物
(a)が特に低粘度の液体でないかぎり溶剤が使用され
る。溶剤としては、化合物(a)およびポリシラザンの
両方が可溶な溶剤を使用する。なお、基材となる樹脂の
種類に応じて適切な溶剤を用いることが好ましい。特に
ポリシラザンの貯蔵安定性を考慮した場合には、分子中
に水酸基を含まない溶剤が好ましく、たとえば炭化水素
類、ハロゲン化炭化水素類、ケトン類、エーテル類、エ
ステル類などが挙げられる。具体的には、特開平11−
268196号公報の段落番号0074に記載された溶
剤が挙げられる。本発明においては、キシレンまたはジ
ブチルエーテルが特に好ましい。
The solvent is usually an essential component, and a solvent is used unless the compound (a) is a liquid having a particularly low viscosity. As the solvent, a solvent in which both the compound (a) and the polysilazane are soluble is used. In addition, it is preferable to use an appropriate solvent according to the type of the resin serving as the base material. In particular, in consideration of storage stability of polysilazane, a solvent containing no hydroxyl group in the molecule is preferable, and examples thereof include hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ketones, ethers, and esters. Specifically, Japanese Patent Application Laid-Open
The solvent described in paragraph number 0074 of 268196 is mentioned. In the present invention, xylene or dibutyl ether is particularly preferred.

【0033】また、溶剤の量は必要とする組成物の粘
度、目的とする硬化物層の厚さ、乾燥温度などの条件に
より適宜変更できる。本発明において、溶剤は、被覆組
成物(A)中の化合物(a)に対して質量で100倍以
下、好ましくは0.1〜50倍用いられる。
The amount of the solvent can be appropriately changed depending on conditions such as the required viscosity of the composition, the desired thickness of the cured product layer, and the drying temperature. In the present invention, the solvent is used in an amount of 100 times or less, preferably 0.1 to 50 times by mass, relative to the compound (a) in the coating composition (A).

【0034】機能性配合剤としては、光重合開始剤、紫
外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重合防止剤、レ
ベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料(有機
着色顔料、無機顔料)、着色染料、赤外線吸収剤、蛍光
増白剤、分散剤、防汚性付与剤、指紋除去性付与剤、導
電性微粒子、帯電防止剤、防曇剤、硬化触媒、カップリ
ング剤からなる群から選ばれる1種以上の機能性配合剤
が挙げられる。
The functional compounding agents include a photopolymerization initiator, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, a leveling agent, a defoaming agent, a thickener, a sedimentation inhibitor, a pigment (organic Coloring pigments, inorganic pigments), coloring dyes, infrared absorbers, fluorescent whitening agents, dispersants, antifouling agents, fingerprint removing agents, conductive fine particles, antistatic agents, antifogging agents, curing catalysts, cups One or more functional compounding agents selected from the group consisting of ring agents are included.

【0035】被覆組成物(A)は、化合物(a)を効率
よく硬化させるために、光重合開始剤を含むことが好ま
しい。光重合開始剤としては、公知のものを使用でき、
特に入手容易な市販のものが好ましい。
The coating composition (A) preferably contains a photopolymerization initiator in order to cure the compound (a) efficiently. Known photopolymerization initiators can be used,
Particularly, commercially available products that are easily available are preferable.

【0036】光重合開始剤としては、アリールケトン系
光重合開始剤(たとえばアセトフェノン類、ベンゾフェ
ノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル
類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジ
メチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−ア
シロキシムエステル類など)、含硫黄系光重合開始剤
(たとえばスルフィド類、チオキサントン類など)、ア
シルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ジアシルホス
フィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始剤
が挙げられる。具体的には、特開平11−268196
号公報の段落番号0063〜0065に記載された化合
物が挙げられる。光重合開始剤は、複数の種類を併用し
てもよく、アミン類などの光増感剤と組み合わせて使用
してもよい。
Examples of the photopolymerization initiator include arylketone photopolymerization initiators (eg, acetophenones, benzophenones, alkylaminobenzophenones, benzyls, benzoins, benzoin ethers, benzyldimethyl ketals, benzoyl benzoates, α -Acyloxime esters), sulfur-containing photopolymerization initiators (eg, sulfides, thioxanthones, etc.), acylphosphine oxide photopolymerization initiators, diacylphosphine oxide photopolymerization initiators, and other photopolymerization initiators. No. Specifically, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 11-268196
Compounds described in Paragraph Nos. 0063 to 0065 of Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-163, 1988 are exemplified. A plurality of photopolymerization initiators may be used in combination, or may be used in combination with a photosensitizer such as an amine.

【0037】被覆組成物(A)における光重合開始剤の
量は、化合物(a)100質量部に対して0.01〜2
0質量部が好ましく、特に0.1〜10質量部が好まし
い。
The amount of the photopolymerization initiator in the coating composition (A) is 0.01 to 2 with respect to 100 parts by mass of the compound (a).
0 parts by mass is preferable, and 0.1 to 10 parts by mass is particularly preferable.

【0038】紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線
吸収剤として使用されているベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸
系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤な
どが好ましい。具体的には、特開平11−268196
号公報の段落番号0078に記載された化合物が挙げら
れる。本発明においては、2−{2−ヒドロキシ−5−
(2−アクリロイルオキシエチル)フェニル}ベンゾト
リアゾール、2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキ
シプロピル−3−(3−ベンゾトリアゾール−4−ヒド
ロキシ−5−t−ブチルフェニル)プロピオネート、2
−[4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピ
ルオキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ンの1モルとメタクリロイルオキシエチルイソシアネー
トの1モルとの反応生成物など分子内に光重合性の官能
基を有するものが好ましい。なかでも2−[4−(2−
ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピルオキシ)−2
−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメ
チルフェニル)−1,3,5−トリアジンの1モルとメ
タクリロイルオキシエチルイソシアネートの1モルとの
反応生成物などの、分子内に光重合性の官能基を持つト
リアジン系紫外線吸収剤が、硬化物層の黄変などの問題
がなく特に好ましい。
As the ultraviolet absorber, benzotriazole-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, salicylic acid-based ultraviolet absorbers, and phenyltriazine-based ultraviolet absorbers, which are used as synthetic resin ultraviolet absorbers, are preferred. Specifically, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 11-268196
And the compounds described in paragraph No. 0078 of the publication. In the present invention, 2- {2-hydroxy-5-
(2-acryloyloxyethyl) phenyl} benzotriazole, 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl-3- (3-benzotriazole-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) propionate, 2
1 mol of-[4- (2-hydroxy-3-dodecyloxypropyloxy) -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and methacryloyloxy Those having a photopolymerizable functional group in the molecule, such as a reaction product with 1 mol of ethyl isocyanate, are preferred. Above all, 2- [4- (2-
Hydroxy-3-dodecyloxypropyloxy) -2
-Hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and one mole of methacryloyloxyethyl isocyanate in a molecule, such as a reaction product. A triazine-based ultraviolet absorber having a functional group having no acidity is particularly preferable because it does not cause a problem such as yellowing of the cured product layer.

【0039】光安定剤としては、合成樹脂用光安定剤と
して使用されているヒンダードアミン系光安定剤が好ま
しい。具体的には、特開平11−268196号公報の
段落番号0080に記載された化合物が挙げられる。本
発明においては、N−メチル−4−メタクリロイルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどの、
分子内に重合性官能基を有するものが特に好ましい。
As the light stabilizer, a hindered amine light stabilizer used as a light stabilizer for a synthetic resin is preferable. Specifically, the compounds described in paragraph No. 0080 of JP-A-11-268196 can be mentioned. In the present invention, such as N-methyl-4-methacryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine,
Those having a polymerizable functional group in the molecule are particularly preferred.

【0040】酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブ
チル−p−クレゾールなどのヒンダードフェノール系酸
化防止剤、トリフェニルホスファイトなどのリン系酸化
防止剤などが挙げられる。レベリング剤としては、シリ
コーン樹脂系レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング
剤などが挙げられる。
Examples of the antioxidant include hindered phenolic antioxidants such as 2,6-di-t-butyl-p-cresol, and phosphorus-based antioxidants such as triphenylphosphite. Examples of the leveling agent include a silicone resin-based leveling agent and an acrylic resin-based leveling agent.

【0041】消泡剤としては、ポリジメチルシロキサン
などのシリコーン樹脂系消泡剤などが挙げられる。増粘
剤としては、ポリメチルメタクリレート系ポリマー、水
添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系化合物などが挙げ
られる。
Examples of the antifoaming agent include silicone resin antifoaming agents such as polydimethylsiloxane. Examples of the thickener include polymethyl methacrylate-based polymers, hydrogenated castor oil-based compounds, and fatty acid amide-based compounds.

【0042】赤外線吸収剤としては、ポリメチン系、フ
タロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、ジイモニ
ウム系、アントラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナ
フトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリ
アリールメタン系の化合物などが挙げられる。
Examples of the infrared absorber include polymethine, phthalocyanine, metal complex, aminium, diimonium, anthraquinone, dithiol metal complex, naphthoquinone, indolephenol, azo, and triarylmethane compounds. Is mentioned.

【0043】防汚性付与剤としては、シリコン樹脂系防
汚添加剤、フッ素樹脂系防汚添加剤などが挙げられる。
導電性微粒子としては、亜鉛、アルミニウム、ニッケル
などの金属粉、リン化鉄、アンチモンドープ型酸化スズ
などが挙げられる。
Examples of the antifouling agent include silicone resin antifouling additives and fluororesin antifouling additives.
Examples of the conductive fine particles include metal powders such as zinc, aluminum, and nickel, iron phosphide, and antimony-doped tin oxide.

【0044】カップリング剤としては、シランカップリ
ング剤、チタネートカップリング剤等が挙げられる。帯
電防止剤としては、ノニオン系帯電防止剤、カチオン系
帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤等が挙げられる。硬
化触媒としては、酸、アルカリまたは塩類などから選ば
れる硬化触媒が挙げられる。
Examples of the coupling agent include a silane coupling agent and a titanate coupling agent. Examples of the antistatic agent include a nonionic antistatic agent, a cationic antistatic agent, and an anionic antistatic agent. Examples of the curing catalyst include curing catalysts selected from acids, alkalis, and salts.

【0045】また、本発明においては、プラスチック基
材の屈折率と被覆組成物(A)の硬化物層の屈折率との
差の絶対値が小さいほど好ましい。上記屈折率の差を小
さくすることで、色むらが低減し、外観品位が向上す
る。具体的には、プラスチック基材の屈折率と被覆組成
物(A)の硬化物層の屈折率との差の絶対値が0.15
以下が好ましい。
In the present invention, it is preferable that the absolute value of the difference between the refractive index of the plastic substrate and the refractive index of the cured product layer of the coating composition (A) is as small as possible. By reducing the difference in the refractive index, color unevenness is reduced, and appearance quality is improved. Specifically, the absolute value of the difference between the refractive index of the plastic substrate and the refractive index of the cured product layer of the coating composition (A) is 0.15.
The following is preferred.

【0046】被覆組成物(A)の硬化物層の屈折率がプ
ラスチック基材の屈折率に比べて低い場合は、屈折率を
高める構造や官能基を有する化合物および/または高屈
折率超微粒子を被覆組成物(A)に配合して、両者の屈
折率の差を小さくするのが好ましい。特にプラスチック
基材の屈折率と被覆組成物(A)の硬化物層の屈折率と
の差の絶対値が大きい場合は、上記の化合物と高屈折率
超微粒子を併用するのが好ましい。
When the refractive index of the cured product layer of the coating composition (A) is lower than the refractive index of the plastic substrate, a compound having a structure or a functional group that enhances the refractive index and / or high refractive index ultrafine particles may be used. It is preferable that the difference in the refractive index between the two is reduced by blending it in the coating composition (A). In particular, when the absolute value of the difference between the refractive index of the plastic substrate and the refractive index of the cured product layer of the coating composition (A) is large, it is preferable to use the above compound in combination with high refractive index ultrafine particles.

【0047】上記屈折率を高める構造や官能基を有する
化合物としては、分子内に芳香環やハロゲン原子を有す
る化合物(a)が挙げられる。
The compound having a structure or a functional group for increasing the refractive index includes the compound (a) having an aromatic ring or a halogen atom in the molecule.

【0048】また、上記高屈折率超微粒子としては、Z
nO、TiO2、Sb25、Y23、La23、Zr
2、Al23、ITO、In23、SnO2およびCe
2などが挙げられる。
The high refractive index ultrafine particles include Z
nO, TiO 2, Sb 2 O 5, Y 2 O 3, La 2 O 3, Zr
O 2 , Al 2 O 3 , ITO, In 2 O 3 , SnO 2 and Ce
O 2 and the like.

【0049】被覆組成物(A)を用いて形成される硬化
物層の厚さは0.1〜50μmが好ましく、特に1〜2
0μmが好ましい。この層厚が50μm超では活性エネ
ルギ線による硬化が不充分になり、プラスチック基材や
反射防止層との密着性が損なわれやすくなり、0.1μ
m未満では耐摩耗性が不充分となるおそれがある。
The thickness of the cured product layer formed using the coating composition (A) is preferably from 0.1 to 50 μm, more preferably from 1 to 2 μm.
0 μm is preferred. When the thickness is more than 50 μm, curing by active energy rays becomes insufficient, and the adhesion to the plastic substrate and the antireflection layer is easily deteriorated.
If it is less than m, the abrasion resistance may be insufficient.

【0050】次に、反射防止層について説明する。上記
被覆組成物(A)の硬化物層の表面に形成される反射防
止層としては、低屈折率層が単層で形成されたもの、ま
たは高屈折率層と低屈折率層が多層で形成されたものが
挙げられる。
Next, the antireflection layer will be described. As the antireflection layer formed on the surface of the cured product layer of the coating composition (A), a low refractive index layer formed of a single layer, or a high refractive index layer and a low refractive index layer formed of multiple layers Examples include:

【0051】本発明においては、上記被覆組成物(A)
の硬化物層が比較的低い屈折率を有するシリカを含有す
るため、反射防止層としては、高屈折率層と低屈折率層
が多層で形成されたものが好ましく、特に基材側から順
に高屈折率層および低屈折率層の少なくとも2層からな
る光吸収性反射防止層が好ましい。
In the present invention, the above coating composition (A)
Since the cured product layer contains silica having a relatively low refractive index, the antireflection layer is preferably a multilayer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are formed, and in particular, a high refractive index layer and a high refractive index layer are sequentially formed from the substrate side. A light-absorptive antireflection layer composed of at least two layers of a refractive index layer and a low refractive index layer is preferred.

【0052】高屈折率層および低屈折率層から形成され
る反射防止層は、特開平10−230558号公報に記
載された高屈折率光吸収層および低屈折率層の簡単な層
構成からなる光吸収性反射防止層が、生産性が高く、反
射防止性に優れ、電磁波遮蔽に対応可能な低い表面抵抗
値を有し、さらに高いコントラストを確保できるので好
ましい。
The antireflection layer formed of the high refractive index layer and the low refractive index layer has a simple layer structure of a high refractive index light absorbing layer and a low refractive index layer described in JP-A-10-230558. The light-absorbing anti-reflection layer is preferable because it has high productivity, has excellent anti-reflection properties, has a low surface resistance value that can cope with electromagnetic wave shielding, and can ensure a higher contrast.

【0053】また、被覆組成物(A)の硬化物層の屈折
率をn0、高屈折率層の屈折率をn1、低屈折率層の屈折
率をn2とすると、低屈折率層が単層で形成された場合
はn2=√n0、高屈折率層と低屈折率層が多層で形成さ
れた場合はn2=√n1の関係を満たす場合に反射防止効
果が最も高くなるので、上記式の右辺の値と左辺の値が
近くなるようにすることが好ましい。
When the refractive index of the cured product layer of the coating composition (A) is n 0 , the refractive index of the high refractive index layer is n 1 , and the refractive index of the low refractive index layer is n 2 , There n 2 = √n 0 if it is a single layer, anti-reflection effect if the high refractive index layer and a low refractive index layer satisfies the relationship n 2 = √n 1 if it is formed in the multilayer most Therefore, it is preferable that the value on the right side and the value on the left side of the above equation be close to each other.

【0054】低屈折率層を形成する材料としては、以下
の無機材料または有機材料が使用できる。無機材料とし
ては、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム、フッ化ラ
ンタン、フッ化アルミニウム、フッ化リチウム、酸化シ
ランなどが挙げられる。
As a material for forming the low refractive index layer, the following inorganic materials or organic materials can be used. Examples of the inorganic material include magnesium fluoride, cerium fluoride, lanthanum fluoride, aluminum fluoride, lithium fluoride, and silane oxide.

【0055】有機材料としては、ポリテトラフルオロエ
チレン樹脂、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン共重合体樹脂、テトラフルオロエチレン−ペ
ルフルオロ(アルコキシエチレン)共重合体樹脂、ポリ
フッ化ビニリデン樹脂、エチレン−テトラフルオロエチ
レン共重合体樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン樹
脂などの含フッ素重合体が好ましく挙げられる。本発明
においては、非結晶性の含フッ素重合体が好ましい。非
結晶性の含フッ素重合体は結晶による光の散乱がないた
め透明性に優れる。非結晶性の含フッ素重合体として
は、テトラフルオロエチレン(37〜48質量%)、フ
ッ化ビニリデン(15〜35質量%)およびヘキサフル
オロプロピレン(26〜44質量%)の3元共重合体等
のフルオロオレフィン系共重合体または含フッ素脂肪族
環構造を有する重合体などが好ましく挙げられる。たと
えば含フッ素脂肪族環構造を有する重合体としては、含
フッ素環構造を有するモノマを重合して得られる重合体
(特公昭63−18964号公報参照)または二重結合
を2個以上有する含フッ素モノマを環化重合して得られ
る環構造を主鎖に有する重合体(特開昭63−2381
11号公報、特開昭63−238115号公報参照)が
挙げられる。
As the organic material, polytetrafluoroethylene resin, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer resin, tetrafluoroethylene-perfluoro (alkoxyethylene) copolymer resin, polyvinylidene fluoride resin, ethylene-tetrafluoroethylene resin Preferred are fluorine-containing polymers such as copolymer resins and polychlorotrifluoroethylene resins. In the present invention, a non-crystalline fluoropolymer is preferred. Amorphous fluoropolymers are excellent in transparency because there is no scattering of light by crystals. Examples of the non-crystalline fluorine-containing polymer include terpolymers of tetrafluoroethylene (37 to 48% by mass), vinylidene fluoride (15 to 35% by mass), and hexafluoropropylene (26 to 44% by mass). And a polymer having a fluorinated aliphatic ring structure. For example, as the polymer having a fluorinated aliphatic ring structure, a polymer obtained by polymerizing a monomer having a fluorinated ring structure (see Japanese Patent Publication No. 63-18964) or a fluorinated compound having two or more double bonds Polymers having a ring structure in the main chain obtained by cyclopolymerization of a monomer (JP-A-63-2381)
No. 11, JP-A-63-238115).

【0056】一方、高屈折率層を形成する材料として
は、以下の無機材料または有機材料が使用できる。無機
材料としては、ZnO、TiO2、Sb25、Y23
La23、ZrO2、Al23、ITO、In23、S
nO2およびCeO2などの金属酸化物が挙げられる。
On the other hand, as a material for forming the high refractive index layer, the following inorganic materials or organic materials can be used. As inorganic materials, ZnO, TiO 2 , Sb 2 O 5 , Y 2 O 3 ,
La 2 O 3 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , ITO, In 2 O 3 , S
metal oxides such as nO 2 and CeO 2 .

【0057】有機材料としては、ポリスチレン、ポリ
(o−クロロスチレン)、ポリ(2,6−ジクロロスチ
レン)、ポリ(o−ブロモスチレン)、ポリ(2,6−
ジブロモスチレン)、ポリスルホンなどの主鎖または側
鎖に芳香環を有する重合体、主鎖に硫黄原子を有する重
合体などが挙げられる。
As organic materials, polystyrene, poly (o-chlorostyrene), poly (2,6-dichlorostyrene), poly (o-bromostyrene), poly (2,6-
Polymers having an aromatic ring in the main chain or side chain, such as dibromostyrene) and polysulfone, and polymers having a sulfur atom in the main chain.

【0058】本発明において、反射防止層が低屈折率層
単層の場合、その厚さは60〜110nmが好ましい。
また、高屈折率層と低屈折率層が多層で形成された場
合、高屈折率層の厚さは2〜200nm、低屈折率層の
厚さは60〜110nmが好ましい。
In the present invention, when the antireflection layer is a single low refractive index layer, its thickness is preferably from 60 to 110 nm.
When the high refractive index layer and the low refractive index layer are formed in multiple layers, the thickness of the high refractive index layer is preferably from 2 to 200 nm, and the thickness of the low refractive index layer is preferably from 60 to 110 nm.

【0059】上記のような構成からなる本発明のプラス
チック製品は、たとえば以下のような方法で製造するこ
とができる。
The plastic product of the present invention having the above structure can be manufactured, for example, by the following method.

【0060】(1)プラスチック基材の少なくとも一方
の面に、被覆組成物(A)を塗工し、硬化させて、透明
硬化物層を形成する。被覆組成物(A)が溶剤を含む場
合は、塗工後に乾燥して溶剤を除いてから硬化するのが
好ましい。
(1) The coating composition (A) is applied to at least one surface of a plastic substrate and cured to form a transparent cured product layer. When the coating composition (A) contains a solvent, it is preferable that the coating composition is dried after application to remove the solvent, and then cured.

【0061】被覆組成物(A)を塗工する方法としては
特に制限されず、公知の方法を採用できる。たとえば、
ディップ法、フローコート法、スプレー法、バーコート
法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコー
ト法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリッ
トコート法、マイクログラビアコート法などの種々の方
法を採用できる。
The method for applying the coating composition (A) is not particularly limited, and a known method can be employed. For example,
Various methods such as dipping, flow coating, spraying, bar coating, gravure coating, roll coating, blade coating, air knife coating, spin coating, slit coating, and microgravure coating are used. it can.

【0062】また、被覆組成物(A)に含まれる化合物
(a)を硬化させる活性エネルギ線としては、特に紫外
線が好ましい。しかし、紫外線に限定されず、電子線や
その他の活性エネルギ線を使用できる。紫外線源として
は、キセノンランプ、パルスキセノンランプ、低圧水銀
灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドラン
プ、カーボンアーク灯、タングステンランプなどが使用
できる。
As the active energy ray for curing the compound (a) contained in the coating composition (A), ultraviolet rays are particularly preferable. However, it is not limited to ultraviolet rays, and an electron beam or other active energy rays can be used. Xenon lamps, pulsed xenon lamps, low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, carbon arc lamps, tungsten lamps, and the like can be used as the ultraviolet light source.

【0063】一方、ポリシラザンを硬化させてシリカと
するためには、通常、焼成と呼ばれる加熱を行うが、本
発明においては、プラスチック基材の耐熱性の観点から
ポリシラザンの焼成温度は250℃以下とすることが好
ましい。
On the other hand, in order to cure the polysilazane to silica, heating which is usually called calcination is performed. In the present invention, the calcination temperature of the polysilazane is set to 250 ° C. or less from the viewpoint of heat resistance of the plastic substrate. Is preferred.

【0064】ポリシラザンの焼成温度を低下させるため
に、触媒を使用することも好ましい。触媒の種類や量に
より低温で焼成でき、場合によっては室温でも硬化でき
る。また、硬化を行う雰囲気としては空気中などの酸素
の存在する雰囲気であることが好ましい。ポリシラザン
の焼成によりその窒素原子が酸素原子に置換しシリカが
生成する。充分な酸素の存在する雰囲気中で焼成するこ
とにより緻密なシリカの層が形成される。
It is also preferable to use a catalyst to lower the firing temperature of polysilazane. Depending on the type and amount of the catalyst, it can be calcined at a low temperature, and in some cases, can be cured at room temperature. The atmosphere for curing is preferably an atmosphere in which oxygen is present, such as in air. By firing polysilazane, its nitrogen atoms are replaced by oxygen atoms to produce silica. By firing in an atmosphere in which sufficient oxygen exists, a dense silica layer is formed.

【0065】触媒としては、より低温でポリシラザンを
硬化させる触媒を用いることが好ましい。そのような触
媒としては、たとえば特開平7−196986号公報に
記載されている金、銀、パラジウム、白金、ニッケルな
どの金属の微粒子、および特開平5−93275号公報
に記載されている上記金属のカルボン酸錯体が挙げられ
る。また、触媒は、被覆組成物(A)にあらかじめ添加
しておいてもよく、特開平9−31333号公報に記載
されているように、被覆組成物(A)を触媒溶液、具体
的にはアミン水溶液などに直接接触させる、またはその
蒸気に一定時間曝すといった方法も採用できる。
As the catalyst, it is preferable to use a catalyst which cures polysilazane at a lower temperature. Examples of such a catalyst include fine particles of a metal such as gold, silver, palladium, platinum and nickel described in JP-A-7-196886, and the above-mentioned metal described in JP-A-5-93275. And a carboxylic acid complex of Further, the catalyst may be added to the coating composition (A) in advance, and as described in JP-A-9-31333, the coating composition (A) is added to the catalyst solution, specifically, A method of directly contacting with an amine aqueous solution or the like or exposing it to the vapor for a certain time can also be adopted.

【0066】また、ポリシラザンは光ラジカル発生剤の
存在下、活性エネルギ線の照射により硬化が促進される
ことが特開平11−181290号公報に記載されてお
り、光ラジカル発生剤や活性エネルギ線の照射条件を最
適化することにより、上記触媒を含まない場合でも、活
性エネルギ線により硬化できる。
JP-A-11-181290 discloses that the curing of polysilazane is promoted by irradiation with an active energy ray in the presence of a photoradical generator. By optimizing the irradiation conditions, it is possible to cure with an active energy ray even when the catalyst is not contained.

【0067】本発明において、被覆組成物(A)を硬化
する方法としては、以下の3つ方法が好ましく挙げられ
る。
In the present invention, as the method for curing the coating composition (A), the following three methods are preferably mentioned.

【0068】被覆組成物(A)を塗工した後に充分な
量の活性エネルギ線を照射して充分に化合物(a)を硬
化させた後、加熱するか、室温に放置するか、またはポ
リシラザンの硬化触媒溶液の蒸気に曝すことでポリシラ
ザンの部分硬化物または未硬化物を硬化させる方法。
After applying the coating composition (A), the compound (a) is sufficiently cured by irradiating a sufficient amount of active energy rays, and then heated, left at room temperature, or treated with polysilazane. A method of curing a partially cured or uncured polysilazane by exposing it to the vapor of a curing catalyst solution.

【0069】被覆組成物(A)を塗工した後、加熱す
るか、室温に放置するか、またはポリシラザンの硬化触
媒溶液の蒸気に曝すことでポリシラザンの未硬化物を硬
化させた後、充分な量の活性エネルギ線を照射して化合
物(a)を硬化させる方法。
After coating the coating composition (A), the uncured polysilazane is cured by heating, leaving it at room temperature, or exposing it to the vapor of a curing catalyst solution of polysilazane. A method of irradiating an amount of active energy rays to cure the compound (a).

【0070】上記活性エネルギ線の照射による化合物
(a)の硬化とポリシラザンの硬化をほぼ同時に行う方
法。この方法では通常ポリシラザンの硬化が化合物
(a)の硬化よりも遅いので、実際はと同じプロセス
で硬化すると考えられる。
A method in which the curing of compound (a) and the curing of polysilazane by irradiation of the active energy ray are performed almost simultaneously. In this method, the curing of the polysilazane is usually slower than the curing of the compound (a).

【0071】(2)透明硬化物層の表面に反射防止層を
形成する。反射防止層を形成する方法としては、湿式
法、蒸着法、スパッタリング法などの公知の方法を採用
できる。たとえば湿式法では、MgF2、SiO2または
含フッ素重合体などの低屈折率層、TiO2またはZr
2などの高屈折率層などが形成できる。
(2) An antireflection layer is formed on the surface of the transparent cured product layer. As a method for forming the antireflection layer, a known method such as a wet method, an evaporation method, and a sputtering method can be employed. For example, in the wet method, a low refractive index layer such as MgF 2 , SiO 2 or a fluoropolymer, TiO 2 or Zr
A high refractive index layer such as O 2 can be formed.

【0072】湿式法で薄膜の低屈折率層および高屈折率
層を形成するためには、たとえば、低屈折材料および高
屈折材料をそれぞれ溶剤に溶解して液状組成物とし、こ
れをダイコート法、ディップコート法、スピンコート法
などの塗工方法でプラスチック基材上に塗布する方法を
選択することができる。
In order to form a low-refractive index layer and a high-refractive index layer of a thin film by a wet method, for example, a low-refractive material and a high-refractive material are respectively dissolved in a solvent to form a liquid composition. A method of applying on a plastic substrate by a coating method such as a dip coating method and a spin coating method can be selected.

【0073】乾式法で薄膜の低屈折率層および高屈折率
層を形成するためには、蒸着法、スパッタリング法など
を選択しうるが、特に高屈折率層として光吸収材料を用
いた光吸収性反射防止層を採用する場合には、特開平1
0−230558号公報に記載されたDCスパッタリン
グ法が好ましい。
In order to form a thin low-refractive index layer and a high-refractive index layer by a dry method, a vapor deposition method, a sputtering method and the like can be selected. In particular, light absorption using a light absorbing material as the high refractive index layer is possible. In the case of employing a reflective antireflection layer, see
The DC sputtering method described in JP-A-230558 is preferable.

【0074】本発明のプラスチック製品は、たとえば、
ディスプレーの前面板、光学レンズ、自動車窓ガラス、
計器類の前面板などの用途に適している。
The plastic product of the present invention is, for example,
Display front panel, optical lens, automotive window glass,
Suitable for applications such as front panels of instruments.

【0075】[0075]

【実施例】以下、例1(実施例)、例2(比較例)を挙
げて本発明を具体的に説明する。なお、各例において
は、プラスチック基材として、厚さ380μmの透明な
芳香族ポリカーボネート樹脂フィルム(以下、単にフィ
ルムという。)を用いた。また、得られたサンプルは下
記の方法により各種物性を測定し、その結果を表1に示
した。
The present invention will be specifically described below with reference to Example 1 (Example) and Example 2 (Comparative Example). In each example, a transparent aromatic polycarbonate resin film (hereinafter, simply referred to as a film) having a thickness of 380 μm was used as a plastic substrate. Various properties of the obtained sample were measured by the following methods, and the results are shown in Table 1.

【0076】[初期視感平均透過率(TV)]JIS−
Z8701に準拠して、分光光度計を使用して測定し
た。
[Initial luminous average transmittance (TV)] JIS-
Measured using a spectrophotometer according to Z8701.

【0077】[初期視感平均反射率(RV)]JIS−
Z8701に準拠して、分光光度計を使用して測定し
た。
[Initial luminous average reflectance (RV)] JIS-
Measured using a spectrophotometer according to Z8701.

【0078】[初期ヘーズ(H)]JIS−K7105
に準拠して測定した。
[Initial haze (H)] JIS-K7105
It measured according to.

【0079】[耐摩耗性]JIS−R3212における
耐摩耗試験法に準拠して、2つのCS−10F摩耗輪に
それぞれ500gの重りを組み合わせて、100回転ま
たは500回転させた後の視感透過率(TV)およびヘ
ーズ(H)を測定した。
[Abrasion Resistance] Based on the abrasion resistance test method in JIS-R3212, a luminous transmittance after 100 rotations or 500 rotations of the two CS-10F wear wheels combined with a 500 g weight respectively. (TV) and haze (H) were measured.

【0080】[密着性]サンプルを恒温恒湿槽(50
℃、相対湿度95%)に48時間投入した後、エタノー
ルを含ませたガーゼに約2kg/cm2の荷重をかけて
10往復こすり、層が剥離するかどうかを目視観察し
た。
[Adhesion] A sample was placed in a thermo-hygrostat (50
(At 90 ° C., relative humidity: 95%) for 48 hours, rubbed the gauze impregnated with ethanol for 10 reciprocations under a load of about 2 kg / cm 2 , and visually observed whether or not the layer was peeled off.

【0081】例1 撹拌機および冷却管を装着した100mLの4つ口フラ
スコに、ジブチルエーテル12g、キシレン13g、2
−[4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピ
ル)オキシ−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン0.2g、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フ
ェニル}−2−モルホリノプロパン−1−オン0.15
g、および1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピ
ペリジルメタクリレート0.2gを加え溶解させた。
Example 1 A 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer and a condenser was charged with 12 g of dibutyl ether, 13 g of xylene, and 2 g of xylene.
-[4- (2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy-2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine 0.2 g, 2- Methyl-1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropan-1-one 0.15
g, and 0.2 g of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate were added and dissolved.

【0082】続いて、トリス(2−アクリロイルオキシ
エチル)イソシアヌレート4.8g、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート3.2gと低温硬化性ペルヒ
ドロポリシラザンのキシレン溶液(固形分20質量%、
クラリアントジャパン社製、商品名「D110」)10
gを加え、窒素雰囲気下、常温で1時間撹拌して塗工液
1を得た。
Subsequently, a xylene solution of 4.8 g of tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, 3.2 g of dipentaerythritol hexaacrylate and a low-temperature curable perhydropolysilazane (solid content: 20% by mass,
(Clariant Japan, product name "D110") 10
g was added and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour under a nitrogen atmosphere to obtain a coating liquid 1.

【0083】フィルムの表面に、バーコート法にて塗工
液1を塗工(ウエット厚さ12μm)して、80℃の熱
風循環オーブン中で5分間保持した。そして空気雰囲気
中、高圧水銀灯を用いて2,000mJ/cm2(波長
300〜390nm領域の紫外線積算エネルギ量、以下
同様。)の紫外線を照射した後、23℃、相対湿度50
%の環境で24時間保持して、総膜厚2.4μmの透明
硬化物層を形成した。
The coating liquid 1 was applied to the surface of the film by a bar coating method (wet thickness: 12 μm), and kept in a hot air circulating oven at 80 ° C. for 5 minutes. Then, in an air atmosphere, ultraviolet rays of 2,000 mJ / cm 2 (integrated ultraviolet energy in a wavelength range of 300 to 390 nm, the same applies hereinafter) were irradiated using a high-pressure mercury lamp, and then 23 ° C. and a relative humidity of 50 were applied.
% Environment for 24 hours to form a transparent cured layer having a total thickness of 2.4 μm.

【0084】次に、真空槽内に、金属チタンと、比抵抗
1.2Ω・cmのN型ケイ素(リンドープ単結晶)とを
ターゲットとしてカソード上に設置し、また、10cm
角に切断した上記透明硬化物層を形成したフィルムを基
板ホルダーに設置した。
Next, in a vacuum chamber, metal titanium and N-type silicon (phosphorus-doped single crystal) having a specific resistance of 1.2 Ω · cm were set on the cathode as targets, and 10 cm
The film on which the transparent cured product layer cut into the corner was formed was placed on a substrate holder.

【0085】そして、真空槽を1.33mPaまで排気
した後、以下のようにして反射防止層を形成して、サン
プルを得た。
Then, after evacuation of the vacuum chamber to 1.33 mPa, an antireflection layer was formed as follows to obtain a sample.

【0086】(1)放電ガスとしてアルゴンを導入し、
圧力が133mPaになるようコンダクタンスを調整し
た。次いで、基板ホルダー(表面積約1,200c
2)に200WのRF電力を1分間投入し、RFプラ
ズマ処理を行った。このとき、電極の自己バイアス電圧
は−280Vであった。
(1) Argon is introduced as a discharge gas,
The conductance was adjusted so that the pressure became 133 mPa. Next, the substrate holder (surface area about 1,200 c
m 2 ), RF power of 200 W was applied for 1 minute to perform RF plasma processing. At this time, the self-bias voltage of the electrode was -280 V.

【0087】(2)放電ガスをアルゴンと窒素の混合ガ
ス(25vol%窒素)に切り替え、圧力を266mP
aに調整し、ケイ素ターゲットに電圧を印加して、ケイ
素ターゲットの間欠DCスパッタリングにより、幾何学
的膜厚2nmの窒化ケイ素膜(密着層)を形成した。
(2) The discharge gas is switched to a mixed gas of argon and nitrogen (25 vol% nitrogen), and the pressure is set to 266 mP.
a, a voltage was applied to the silicon target, and a silicon nitride film (adhesion layer) having a geometrical film thickness of 2 nm was formed by intermittent DC sputtering of the silicon target.

【0088】(3)放電ガスをアルゴンと窒素の混合ガ
ス(20vol%窒素)に切り替え、圧力を266mP
aに調整した後、チタンのカソードに負の直流電圧を印
加して、チタンターゲットのDCスパッタリングによ
り、幾何学的膜厚26nmの窒化チタンの膜(高屈折率
光吸収層)を成膜した。
(3) The discharge gas is switched to a mixed gas of argon and nitrogen (20 vol% nitrogen), and the pressure is set to 266 mP.
After adjusting to a, a negative DC voltage was applied to the titanium cathode, and a titanium nitride film (high-refractive-index light-absorbing layer) having a geometric film thickness of 26 nm was formed by DC sputtering of a titanium target.

【0089】(4)(3)と同一の放電ガス雰囲気にお
いて、ケイ素ターゲットに電圧を印加して、ケイ素ター
ゲットの間欠DCスパッタリングにより、幾何学的膜厚
26nmの窒化ケイ素膜(微吸収膜)を形成した。
(4) In the same discharge gas atmosphere as in (3), a voltage is applied to the silicon target, and a silicon nitride film (fine absorption film) having a geometric film thickness of 26 nm is formed by intermittent DC sputtering of the silicon target. Formed.

【0090】(5)放電ガスの導入を停止し、真空槽内
を高真空とした後、放電ガスとしてアルゴンと酸素の混
合ガス(67vol%酸素)を導入し、圧力を266m
Paに調整した。次いでケイ素ターゲットに電圧を印加
して、ケイ素ターゲットの間欠DCスパッタリングによ
り、幾何学的膜厚70nmのシリカ膜(屈折率が1.4
7の低屈折率層)を形成した。
(5) The introduction of the discharge gas was stopped, the inside of the vacuum chamber was evacuated to a high vacuum, and a mixed gas of argon and oxygen (67 vol% oxygen) was introduced as the discharge gas, and the pressure was increased to 266 m.
It was adjusted to Pa. Next, a voltage was applied to the silicon target, and a silicon film (having a refractive index of 1.4) having a geometric film thickness of 70 nm was formed by intermittent DC sputtering of the silicon target.
7 low refractive index layer).

【0091】例2 撹拌機および冷却管を装着した100mLの4つ口フラ
スコに、ジブチルエーテル9g、キシレン16g、2−
[4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロピ
ル)オキシ−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジ
ン0.2g、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フ
ェニル}−2−モルホリノプロパン−1−オン0.15
g、および1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピ
ペリジルメタクリレート0.2gを加え溶解させた。
Example 2 In a 100 mL four-necked flask equipped with a stirrer and a condenser, 9 g of dibutyl ether, 16 g of xylene,
[4- (2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy-2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine 0.2 g, 2-methyl -1- {4- (methylthio) phenyl} -2-morpholinopropan-1-one 0.15
g, and 0.2 g of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate were added and dissolved.

【0092】続いて、トリス(2−アクリロイルオキシ
エチル)イソシアヌレート4.8g、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート3.2gを加え、窒素雰囲気
下、常温で1時間撹拌して塗工液2を得た。
Subsequently, 4.8 g of tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate and 3.2 g of dipentaerythritol hexaacrylate were added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour under a nitrogen atmosphere to obtain a coating liquid 2.

【0093】フィルムの表面に、バーコート法にて塗工
液2を塗工(ウエット厚さ10μm)して、80℃の熱
風循環オーブン中で5分間保持した。そして空気雰囲気
中、高圧水銀灯を用いて2,000mJ/cm2の紫外
線を照射し、膜厚2.5μmの透明硬化物層を形成し
た。この透明硬化物層の表面に、例1と同様の方法で反
射防止層を形成し、サンプルを得た。
The coating liquid 2 was applied to the surface of the film by a bar coating method (wet thickness: 10 μm), and was kept in a hot air circulating oven at 80 ° C. for 5 minutes. Then, ultraviolet rays of 2,000 mJ / cm 2 were irradiated using a high-pressure mercury lamp in an air atmosphere to form a transparent cured layer having a thickness of 2.5 μm. An anti-reflection layer was formed on the surface of the transparent cured product layer in the same manner as in Example 1 to obtain a sample.

【0094】[0094]

【表1】 [Table 1]

【0095】[0095]

【発明の効果】本発明によれば、プラスチック基材の少
なくとも一方の面に、耐擦傷性の高い硬い被覆組成物
(A)の硬化物層を形成し、その表面に反射防止層を形
成することにより、外力による反射防止層の変位が小さ
くなり、特に耐摩耗性に優れた反射防止層を有するプラ
スチック製品を提供できる。
According to the present invention, a cured layer of a hard coating composition (A) having high scratch resistance is formed on at least one surface of a plastic substrate, and an antireflection layer is formed on the surface. Thereby, the displacement of the antireflection layer due to external force is reduced, and a plastic product having the antireflection layer having particularly excellent wear resistance can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 澁谷 崇 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 山田 朋広 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 Fターム(参考) 2K009 AA05 BB24 CC03 CC06 CC09 CC12 CC26 CC42 DD02 4F100 AA20 AD04 AD05 AH06B AK01A AK01B AK25A AK42A AK45A AL05B AR00B AR00C AR00D BA04 BA07 BA10A BA10D EH46 EH66 EJ52 EJ54 GB41 GB90 JB12B JB14B JN01B JN18A JN18B JN18C JN18D YY00A YY00B ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Takashi Shibuya 1150 Hazawa-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Asahi Glass Co., Ltd. (72) Inventor Tomohiro Yamada 1150 Hazawa-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Asahi Glass Co., Ltd. Terms (reference) 2K009 AA05 BB24 CC03 CC06 CC09 CC12 CC26 CC42 DD02 4F100 AA20 AD04 AD05 AH06B AK01A AK01B AK25A AK42A AK45A AL05B AR00B AR00C AR00D BA04 BA07 BA10A BA10D EH46 EHJ JBJB18J12 GB14

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチック基材の少なくとも一方の面
に、基材側から順に透明硬化物層、反射防止層が形成さ
れてなるプラスチック製品であって、該透明硬化物層が
活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を1個以上有する
化合物(a)とポリシラザンとを含有する被覆組成物
(A)の硬化物層であることを特徴とするプラスチック
製品。
1. A plastic product having a transparent cured product layer and an antireflection layer formed on at least one surface of a plastic substrate in order from the substrate side, wherein the transparent cured product layer has an active energy ray-curable property. A plastic product characterized by being a cured layer of a coating composition (A) containing a compound (a) having at least one polymerizable functional group and polysilazane.
【請求項2】 前記反射防止層が、基材側から順に高屈
折率層および低屈折率層の少なくとも2層からなる光吸
収性反射防止層である、請求項1に記載のプラスチック
製品。
2. The plastic product according to claim 1, wherein the antireflection layer is a light-absorbing antireflection layer composed of at least two layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer in order from the substrate side.
【請求項3】 前記ポリシラザンがペルヒドロポリシラ
ザンである、請求項1または2に記載のプラスチック製
品。
3. The plastic product according to claim 1, wherein the polysilazane is a perhydropolysilazane.
【請求項4】 前記プラスチック基材の屈折率と被覆組
成物(A)の硬化物の屈折率との差の絶対値が0.15
以下である、請求項1〜3のいずれか一つに記載のプラ
スチック製品。
4. The absolute value of the difference between the refractive index of the plastic substrate and the refractive index of the cured product of the coating composition (A) is 0.15.
The plastic product according to claim 1, wherein:
【請求項5】 前記プラスチック基材が、芳香族ポリカ
ーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂および
ポリエチレンテレフタレート樹脂からなる群から選ばれ
たプラスチック基材である、請求項1〜4のいずれか一
つに記載のプラスチック製品。
5. The plastic substrate according to claim 1, wherein the plastic substrate is a plastic substrate selected from the group consisting of an aromatic polycarbonate resin, a polymethyl methacrylate resin and a polyethylene terephthalate resin. Plastic products.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれかに記載のプラス
チック製品を製造する方法において、プラスチック基材
の少なくとも一方の面に、活性エネルギ線硬化性の重合
性官能基を1個以上有する化合物(a)とポリシラザン
とを含有する被覆組成物(A)の硬化物層を形成した
後、該硬化物層の表面に反射防止層を形成することを特
徴とする、プラスチック製品の製造方法。
6. The method for producing a plastic product according to claim 1, wherein at least one surface of the plastic substrate has at least one active energy ray-curable polymerizable functional group. A method for producing a plastic product, comprising: forming a cured product layer of a coating composition (A) containing (a) and polysilazane, and then forming an antireflection layer on the surface of the cured product layer.
【請求項7】 前記プラスチック製品の製造方法におい
て、プラスチック基材の少なくとも一方の面に、活性エ
ネルギ線硬化性の重合性官能基を1個以上有する化合物
(a)とポリシラザンとを含有する被覆組成物(A)を
塗工し、次に活性エネルギ線の照射による前記化合物
(a)の硬化と、前記ポリシラザンの硬化を任意の順で
または同時に行って、前記被覆組成物(A)の硬化物層
を形成した後、さらに該硬化物層の表面に反射防止層を
形成する、請求項6に記載のプラスチック製品の製造方
法。
7. A coating composition comprising a compound (a) having at least one active energy ray-curable polymerizable functional group and at least one polysilazane on at least one surface of a plastic substrate in the method for producing a plastic product. The composition (A) is applied, and then the curing of the compound (a) and the curing of the polysilazane by irradiation of active energy rays are performed in any order or at the same time, so that a cured product of the coating composition (A) is obtained. The method for producing a plastic product according to claim 6, wherein after forming the layer, an antireflection layer is further formed on the surface of the cured product layer.
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