JP2002131594A - 光ファイバ心線 - Google Patents
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/1065—Multiple coatings
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02395—Glass optical fibre with a protective coating, e.g. two layer polymer coating deposited directly on a silica cladding surface during fibre manufacture
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 石英ガラスファイバ上にプライマリ被覆
材を施し、次いでこの被覆材上にセカンダリ被覆材を施
した光ファイバ心線において、そのセカンダリ被覆材
が、 (A)数平均分子量20,000以下のポリウレタン(メタ)アクリレートオリ ゴマー 20〜90重量% (B)ホモポリマのガラス転移温度が50℃以上で、少なくともN−ビニル化合 物の1種を含むモノエチレン性不飽和化合物 80〜10重量% を含有してなる樹脂組成物を50〜125kVで加速さ
れた電子線で硬化させた硬化物であることを特徴とする
光ファイバ心線。 【効果】 本発明によれば、伝送損失の小さい光ファイ
バ心線を与えることができる。
材を施し、次いでこの被覆材上にセカンダリ被覆材を施
した光ファイバ心線において、そのセカンダリ被覆材
が、 (A)数平均分子量20,000以下のポリウレタン(メタ)アクリレートオリ ゴマー 20〜90重量% (B)ホモポリマのガラス転移温度が50℃以上で、少なくともN−ビニル化合 物の1種を含むモノエチレン性不飽和化合物 80〜10重量% を含有してなる樹脂組成物を50〜125kVで加速さ
れた電子線で硬化させた硬化物であることを特徴とする
光ファイバ心線。 【効果】 本発明によれば、伝送損失の小さい光ファイ
バ心線を与えることができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、石英ガラスファイ
バ上にプライマリ被覆材を施し、次いでこの被覆材上に
セカンダリ被覆材を施した光ファイバ心線に関する。
バ上にプライマリ被覆材を施し、次いでこの被覆材上に
セカンダリ被覆材を施した光ファイバ心線に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、光通信用ファイバとしては、石英系、多成分ガラス
系、プラスチック系等、種々のものが知られているが、
中でも、その軽量性、耐熱性、無誘導性量が良好であ
り、そして低損失で大伝送容量の点から、石英系ファイ
バが広く用いられてきている。
り、光通信用ファイバとしては、石英系、多成分ガラス
系、プラスチック系等、種々のものが知られているが、
中でも、その軽量性、耐熱性、無誘導性量が良好であ
り、そして低損失で大伝送容量の点から、石英系ファイ
バが広く用いられてきている。
【0003】この石英系の光通信用ファイバは、上記特
性を有するものの、極めて細くかつ脆く、外的要因によ
り折れ易く、また外部応力により伝送損失の増加をきた
すため、石英ガラスファイバを予め比較的軟らかいプラ
イマリ、あるいはバッファコーティング材と称される材
料により一次被覆した後、次いで、この上層にセカンダ
リ、あるいはトップコーティング材と称される材料によ
り二次被覆して一次被覆層を保護することが行われてい
る。
性を有するものの、極めて細くかつ脆く、外的要因によ
り折れ易く、また外部応力により伝送損失の増加をきた
すため、石英ガラスファイバを予め比較的軟らかいプラ
イマリ、あるいはバッファコーティング材と称される材
料により一次被覆した後、次いで、この上層にセカンダ
リ、あるいはトップコーティング材と称される材料によ
り二次被覆して一次被覆層を保護することが行われてい
る。
【0004】この二次被覆層は、軟らかい一次被覆層を
外力から保護し、最終的に光ファイバの強度を向上させ
るものであり、硬化後に高ヤング率かつ高温下でも高ヤ
ング率を保持し、かつ高伸長、高強度、低吸水率、耐加
水分解性などの特性を有することが要求される。更に、
生産性向上のため光ファイバの線引き速度の高速化によ
り、速硬化性であることと同時に、低粘度であることが
要求されている。
外力から保護し、最終的に光ファイバの強度を向上させ
るものであり、硬化後に高ヤング率かつ高温下でも高ヤ
ング率を保持し、かつ高伸長、高強度、低吸水率、耐加
水分解性などの特性を有することが要求される。更に、
生産性向上のため光ファイバの線引き速度の高速化によ
り、速硬化性であることと同時に、低粘度であることが
要求されている。
【0005】この二次被覆のコーティング材としては、
特開昭59−170155号公報に開示されているよう
に、両末端がエチレン性不飽和基で停止されたウレタン
オリゴマーを主成分として重合性モノマ化合物、光重合
開始剤からなる樹脂組成物が用いられている。これらの
二次被覆用の硬化性組成物による光ファイバの製造は、
紡糸された石英ガラスファイバにコーティングダイスに
より一次被覆組成物がコーティングされ、次いで紫外線
ランプが設置された照射装置により光を照射し、硬化、
被覆され、同様に先の二次被覆樹脂をコーティング、照
射装置により紫外線を照射し、硬化、被覆されることに
より行われる。
特開昭59−170155号公報に開示されているよう
に、両末端がエチレン性不飽和基で停止されたウレタン
オリゴマーを主成分として重合性モノマ化合物、光重合
開始剤からなる樹脂組成物が用いられている。これらの
二次被覆用の硬化性組成物による光ファイバの製造は、
紡糸された石英ガラスファイバにコーティングダイスに
より一次被覆組成物がコーティングされ、次いで紫外線
ランプが設置された照射装置により光を照射し、硬化、
被覆され、同様に先の二次被覆樹脂をコーティング、照
射装置により紫外線を照射し、硬化、被覆されることに
より行われる。
【0006】これら二次被覆のコーティング材は光(紫
外線)硬化性組成物であり、この組成物及びこれらの硬
化システムにより得られた二次被覆は、前記硬化皮膜の
特性をほぼ満足するが、高速線引き化に対する速硬化性
において、限界がある。
外線)硬化性組成物であり、この組成物及びこれらの硬
化システムにより得られた二次被覆は、前記硬化皮膜の
特性をほぼ満足するが、高速線引き化に対する速硬化性
において、限界がある。
【0007】即ち、この組成物及びこれらの硬化システ
ムによる硬化性の向上は、効率の良い光重合開始及び強
度の高い紫外線ランプの開発がなされなければならな
く、容易でない。一方、同類の輻射線硬化の中で、エチ
レン性不飽和基を重合せしめる電子線硬化は、光重合開
始剤を必要とせず、更に低照射量から高照射量まで照射
できる装置の設計が可能で速硬化が達成できる。しかし
ながら、高電圧で加速された電子線は被覆材を透過し、
光伝送路である光ファイバの石英コアガラスまで到達し
それを損傷し、伝送損失を増加する。
ムによる硬化性の向上は、効率の良い光重合開始及び強
度の高い紫外線ランプの開発がなされなければならな
く、容易でない。一方、同類の輻射線硬化の中で、エチ
レン性不飽和基を重合せしめる電子線硬化は、光重合開
始剤を必要とせず、更に低照射量から高照射量まで照射
できる装置の設計が可能で速硬化が達成できる。しかし
ながら、高電圧で加速された電子線は被覆材を透過し、
光伝送路である光ファイバの石英コアガラスまで到達し
それを損傷し、伝送損失を増加する。
【0008】本発明は、前記事情に鑑みなされたもの
で、硬化物が二次被覆層として前記の要求特性を有し、
更に速硬化に対応できる電子線硬化可能な二次被覆組成
物により被覆された、伝送損失の小さい光ファイバ心線
を提供することを目的とする。
で、硬化物が二次被覆層として前記の要求特性を有し、
更に速硬化に対応できる電子線硬化可能な二次被覆組成
物により被覆された、伝送損失の小さい光ファイバ心線
を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた
結果、従来から知られている光ファイバ用の紫外線硬化
型被覆組成物、即ち(A)ポリウレタン(メタ)アクリ
レートオリゴマー、(B)エチレン性不飽和化合物を含
有してなる樹脂組成物を一次被覆された光ファイバ上に
コーティングし、低電圧の50〜125kVで加速され
た電子線で硬化させた硬化物を被覆することにより、高
い生産性(高速線引き)で、伝送損失の増加のない光フ
ァイバ心線が得られることを知見し、本発明を完成させ
た。
発明者は、上記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた
結果、従来から知られている光ファイバ用の紫外線硬化
型被覆組成物、即ち(A)ポリウレタン(メタ)アクリ
レートオリゴマー、(B)エチレン性不飽和化合物を含
有してなる樹脂組成物を一次被覆された光ファイバ上に
コーティングし、低電圧の50〜125kVで加速され
た電子線で硬化させた硬化物を被覆することにより、高
い生産性(高速線引き)で、伝送損失の増加のない光フ
ァイバ心線が得られることを知見し、本発明を完成させ
た。
【0010】即ち、本発明は、石英ガラスファイバ上に
プライマリ被覆材を施し、次いでこの被覆材上にセカン
ダリ被覆材を施した光ファイバ心線において、そのセカ
ンダリ被覆材が、 (A)数平均分子量20,000以下のポリウレタン(メタ)アクリレートオリ ゴマー 20〜90重量% (B)ホモポリマのガラス転移温度(Tg)が50℃以上で、少なくともN−ビ ニル化合物の1種を含むモノエチレン性不飽和化合物 80〜10重量% を含有してなる樹脂組成物を50〜125kVで加速さ
れた電子線で硬化させた硬化物である光ファイバ心線を
提供する。
プライマリ被覆材を施し、次いでこの被覆材上にセカン
ダリ被覆材を施した光ファイバ心線において、そのセカ
ンダリ被覆材が、 (A)数平均分子量20,000以下のポリウレタン(メタ)アクリレートオリ ゴマー 20〜90重量% (B)ホモポリマのガラス転移温度(Tg)が50℃以上で、少なくともN−ビ ニル化合物の1種を含むモノエチレン性不飽和化合物 80〜10重量% を含有してなる樹脂組成物を50〜125kVで加速さ
れた電子線で硬化させた硬化物である光ファイバ心線を
提供する。
【0011】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の光ファイバ心線は、石英ガラスファイバ上にプ
ライマリ被覆材によるプライマリ層が被覆され、更にこ
の上にセカンダリ被覆材によるセカンダリ層が被覆され
ているものである。
本発明の光ファイバ心線は、石英ガラスファイバ上にプ
ライマリ被覆材によるプライマリ層が被覆され、更にこ
の上にセカンダリ被覆材によるセカンダリ層が被覆され
ているものである。
【0012】ここで、プライマリ層を形成するためのコ
ーティング組成物としては、公知のいずれのプライマリ
用コーティング組成物でも使用することができ、またそ
の硬化方式も紫外線硬化型、電子線硬化型などのいずれ
のものでもよい。
ーティング組成物としては、公知のいずれのプライマリ
用コーティング組成物でも使用することができ、またそ
の硬化方式も紫外線硬化型、電子線硬化型などのいずれ
のものでもよい。
【0013】本発明においては、上記プライマリ層上に
形成されるセカンダリ層を (A)数平均分子量20,000以下のポリウレタン
(メタ)アクリレートオリゴマー (B)ホモポリマのガラス転移温度(Tg)が50℃以
上で、少なくともN−ビニル化合物の1種以上を含むモ
ノエチレン性不飽和化合物を含有する樹脂組成物を用い
て形成する。以下、この樹脂組成物につき詳述する。
形成されるセカンダリ層を (A)数平均分子量20,000以下のポリウレタン
(メタ)アクリレートオリゴマー (B)ホモポリマのガラス転移温度(Tg)が50℃以
上で、少なくともN−ビニル化合物の1種以上を含むモ
ノエチレン性不飽和化合物を含有する樹脂組成物を用い
て形成する。以下、この樹脂組成物につき詳述する。
【0014】(A):数平均分子量20,000以下の
ポリウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー 本発明の樹脂組成物の第1成分であるポリウレタン(メ
タ)アクリレートオリゴマーは、(a)ポリオール、
(b)ポリイソシアネート及び(c)水酸基を有する
(メタ)アクリレート化合物のウレタン化反応により得
ることができる。ポリウレタン(メタ)アクリレートオ
リゴマーの数平均分子量は、例えば、20,000以
下、好ましくは10,000以下の範囲から選択でき
る。
ポリウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー 本発明の樹脂組成物の第1成分であるポリウレタン(メ
タ)アクリレートオリゴマーは、(a)ポリオール、
(b)ポリイソシアネート及び(c)水酸基を有する
(メタ)アクリレート化合物のウレタン化反応により得
ることができる。ポリウレタン(メタ)アクリレートオ
リゴマーの数平均分子量は、例えば、20,000以
下、好ましくは10,000以下の範囲から選択でき
る。
【0015】(a)ポリオール成分 ポリオール成分としては、ポリエーテルポリオール、ポ
リエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、
アルキルジオールなどが挙げられる。 (ポリエーテルポリオール)ポリエーテルポリオールと
しては、例えば、アルキレンオキシド(例えばエチレン
オキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、テ
トラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフランなど
のC2 〜 5アルキレンオキシド)の単独重合体又は共重合
体、脂肪族C12 〜 40ポリオール(例えば1,2−ヒドロ
キシステアリルアルコール、水添ダイマージオールな
ど)を開始剤とした上記アルキレンオキシド単独重合体
又は共重合体、ビスフェノールAのアルキレンオキシド
(例えばプロピレンオキシド、ブチレンオキシド、テト
ラヒドロフランなど)付加体、水添ビスフェノールAの
アルキレンオキシド(例えばプロピレンオキシド、ブチ
レンオキシド、テトラヒドロフランなど)付加体などが
挙げられる。これらのポリエーテルポリオールは単独で
又は2種以上組み合わせて使用できる。
リエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、
アルキルジオールなどが挙げられる。 (ポリエーテルポリオール)ポリエーテルポリオールと
しては、例えば、アルキレンオキシド(例えばエチレン
オキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、テ
トラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフランなど
のC2 〜 5アルキレンオキシド)の単独重合体又は共重合
体、脂肪族C12 〜 40ポリオール(例えば1,2−ヒドロ
キシステアリルアルコール、水添ダイマージオールな
ど)を開始剤とした上記アルキレンオキシド単独重合体
又は共重合体、ビスフェノールAのアルキレンオキシド
(例えばプロピレンオキシド、ブチレンオキシド、テト
ラヒドロフランなど)付加体、水添ビスフェノールAの
アルキレンオキシド(例えばプロピレンオキシド、ブチ
レンオキシド、テトラヒドロフランなど)付加体などが
挙げられる。これらのポリエーテルポリオールは単独で
又は2種以上組み合わせて使用できる。
【0016】好ましいポリエーテルポリオールは、C2
〜 4アルキレンオキシド、特にC3 〜 4アルキレンオキシ
ド(プロピレンオキシドやテトラヒドロフラン)の単独
又は共重合体(ポリオキシプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレンエーテルグリコール、プロピレンオキシ
ドとテトラヒドロフランとの共重合体)が挙げられる。
特に、高速テープ化のための樹脂の低粘度化あるいは硬
化物の低水素ガス発生のためには、オキシプロピレン構
造を含有するポリエーテルポリオール、あるいはポリプ
ロピレングリコールを併用することが好ましい。ポリエ
ーテルポリオールの数平均分子量は、例えば、200〜
10,000程度の範囲から選択できる。
〜 4アルキレンオキシド、特にC3 〜 4アルキレンオキシ
ド(プロピレンオキシドやテトラヒドロフラン)の単独
又は共重合体(ポリオキシプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレンエーテルグリコール、プロピレンオキシ
ドとテトラヒドロフランとの共重合体)が挙げられる。
特に、高速テープ化のための樹脂の低粘度化あるいは硬
化物の低水素ガス発生のためには、オキシプロピレン構
造を含有するポリエーテルポリオール、あるいはポリプ
ロピレングリコールを併用することが好ましい。ポリエ
ーテルポリオールの数平均分子量は、例えば、200〜
10,000程度の範囲から選択できる。
【0017】これらの市販品としては、例えば、(1)
ポリエチレングリコールとして、三洋化成工業社製の
「PEG600」、「PEG1000」、「PEG20
00」、(2)ポリオキシプロピレングリコールとし
て、武田薬品工業社製の「タケラックP−21」、「タ
ケラックP−22」、「タケラックP−23」、(3)
ポリテトラメチレンエーテルグリコールとして、保土谷
化学社製の「PTG650」、「PTG850」、「P
TG1000」、「PTG2000」、「PTG400
0」、(4)プロピレンオキサイドとエチレンオキサイ
ドの共重合体として三井東圧化学社製の「ED−2
8」、旭硝子社製の「エクセノール510」、(5)テ
トラヒドロフランとプロピレンオキサイドの共重合体と
して、保土谷化学社製の「PPTG1000」、「PP
TG2000」、「PPTG4000」、(6)テトラ
ヒドロフランとエチレンオキサイドの共重合体として、
日本油脂社製の「ユニセーフDC−1100」、「ユニ
セーフDC−1800」、(7)ビスフェノールAのエ
チレンオキサイドの付加体として、日本油脂社製の「ユ
ニオールDA−400」、「ユニオールDA−70
0」、(8)ビスフェノールAのプロピレンオキサイド
の付加体として、日本油脂社製の「ユニオールDB−4
00」等を挙げることができる。
ポリエチレングリコールとして、三洋化成工業社製の
「PEG600」、「PEG1000」、「PEG20
00」、(2)ポリオキシプロピレングリコールとし
て、武田薬品工業社製の「タケラックP−21」、「タ
ケラックP−22」、「タケラックP−23」、(3)
ポリテトラメチレンエーテルグリコールとして、保土谷
化学社製の「PTG650」、「PTG850」、「P
TG1000」、「PTG2000」、「PTG400
0」、(4)プロピレンオキサイドとエチレンオキサイ
ドの共重合体として三井東圧化学社製の「ED−2
8」、旭硝子社製の「エクセノール510」、(5)テ
トラヒドロフランとプロピレンオキサイドの共重合体と
して、保土谷化学社製の「PPTG1000」、「PP
TG2000」、「PPTG4000」、(6)テトラ
ヒドロフランとエチレンオキサイドの共重合体として、
日本油脂社製の「ユニセーフDC−1100」、「ユニ
セーフDC−1800」、(7)ビスフェノールAのエ
チレンオキサイドの付加体として、日本油脂社製の「ユ
ニオールDA−400」、「ユニオールDA−70
0」、(8)ビスフェノールAのプロピレンオキサイド
の付加体として、日本油脂社製の「ユニオールDB−4
00」等を挙げることができる。
【0018】(ポリエステルポリオール)ポリエステル
ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、1,5−ペンタグリコール、3−メチ
ル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオ
ール、ネオペンチルグリコールの如きジオール化合物と
ε−カプロラクタム又はβ−メチル−δ−バレロラクト
ンとの付加物;上記ジオール化合物とコハク酸、アジピ
ン酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロ
フタル酸の如き二塩基酸との反応生成物;上記ジオール
化合物と上記二塩基酸とε−カプロラクタム又はβ−メ
チル−δ−バレロラクトンとの三成分の反応生成物等を
挙げることができる。
ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、1,5−ペンタグリコール、3−メチ
ル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオ
ール、ネオペンチルグリコールの如きジオール化合物と
ε−カプロラクタム又はβ−メチル−δ−バレロラクト
ンとの付加物;上記ジオール化合物とコハク酸、アジピ
ン酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロ
フタル酸の如き二塩基酸との反応生成物;上記ジオール
化合物と上記二塩基酸とε−カプロラクタム又はβ−メ
チル−δ−バレロラクトンとの三成分の反応生成物等を
挙げることができる。
【0019】(ポリカーボネートポリオール)ポリカー
ボネートポリオールとしては、例えば、1,6−ヘキサ
ンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、
ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、
1,5−オクタンジオール、1,4−ビス−(ヒドロキ
シメチル)シクロヘキサン、2−メチルプロパンジオー
ル、ジプロピレングリコール、ジブチレングリコール、
ビスフェノールAのようなジオール化合物、あるいはこ
れらジオール化合物とエチレンオキサイド2〜6モル付
加反応物、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネー
ト等の短鎖ジアルキルカーボネートとの反応生成物から
なるポリカーボネートポリオールが挙げられる。
ボネートポリオールとしては、例えば、1,6−ヘキサ
ンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、
ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、
1,5−オクタンジオール、1,4−ビス−(ヒドロキ
シメチル)シクロヘキサン、2−メチルプロパンジオー
ル、ジプロピレングリコール、ジブチレングリコール、
ビスフェノールAのようなジオール化合物、あるいはこ
れらジオール化合物とエチレンオキサイド2〜6モル付
加反応物、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネー
ト等の短鎖ジアルキルカーボネートとの反応生成物から
なるポリカーボネートポリオールが挙げられる。
【0020】更に、これらポリカーボネートポリオール
のエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ε−カ
プロラクタム又はβ−メチル−δ−バレロラクトン付加
反応物であるポリエステルジオール等も用いることがで
きる。
のエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ε−カ
プロラクタム又はβ−メチル−δ−バレロラクトン付加
反応物であるポリエステルジオール等も用いることがで
きる。
【0021】ポリカーボネートポリオールの市販品とし
ては、住友バイエル社製の「デスモフェン2020
E」、日本ポリウレタン社製の「DN−980」、「D
N−982」、「DN−983]等が挙げられる。
ては、住友バイエル社製の「デスモフェン2020
E」、日本ポリウレタン社製の「DN−980」、「D
N−982」、「DN−983]等が挙げられる。
【0022】(アルキルジオール)アルキルジオールと
しては、例えば、1,6−ヘキサンジオール、3−メチ
ル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、1,4−ブタンジオール、1,5−オクタンジオー
ル、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン、1,4−ビ
ス−(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、2−メチル
プロパンジオール、トリシクロデカンジメタノール、
1,4−ビス−(ヒドロキシメチル)ベンゼン、ビスフ
ェノールA等が挙げられる。
しては、例えば、1,6−ヘキサンジオール、3−メチ
ル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、1,4−ブタンジオール、1,5−オクタンジオー
ル、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン、1,4−ビ
ス−(ヒドロキシメチル)シクロヘキサン、2−メチル
プロパンジオール、トリシクロデカンジメタノール、
1,4−ビス−(ヒドロキシメチル)ベンゼン、ビスフ
ェノールA等が挙げられる。
【0023】これらのポリオールの中で、本発明の樹脂
組成物の物性のバランス、耐久性の面から、ポリエーテ
ルポリオール、アルキルジオールが好ましい。
組成物の物性のバランス、耐久性の面から、ポリエーテ
ルポリオール、アルキルジオールが好ましい。
【0024】(b)ポリイソシアネート ポリイソシアネート成分としては、例えば、トリレンジ
イソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、水添4,4’−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレン
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイ
ソシアネート、トリジンジイソシアネート、p−フェニ
レンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−1,
4−ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、テト
ラメチルキシレンジイソシアネート、リジンエステルト
リイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソ
シアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシア
ネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレント
リイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネー
ト、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が使
用される。これらの中で、環状の構造を有するポリイソ
シアネートが、高ヤング率を有する硬化物が得られるの
で特に好ましい。
イソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、水添4,4’−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレン
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイ
ソシアネート、トリジンジイソシアネート、p−フェニ
レンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−1,
4−ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、テト
ラメチルキシレンジイソシアネート、リジンエステルト
リイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソ
シアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシア
ネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレント
リイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネー
ト、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が使
用される。これらの中で、環状の構造を有するポリイソ
シアネートが、高ヤング率を有する硬化物が得られるの
で特に好ましい。
【0025】(c)水酸基を有する(メタ)アクリレー
ト 水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、例え
ば、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート[例えば
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)
アクリレート、ペンタンジオールモノ(メタ)アクリレ
ート、ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレートなどの
ヒドロキシC2 〜 10アルキル(メタ)アクリレートな
ど]、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリロイルフォスフェート、4−ヒドロキシシク
ロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン1,
4−ジメタノールモノ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられ、更
にグリシジル基又はエポキシ基含有化合物[例えばアル
キルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、
グリシジル(メタ)アクリレートなど]と(メタ)アク
リル酸との付加反応により生成する化合物も挙げられ
る。これらの水酸基含有(メタ)アクリレートは、単独
で又は2種以上組み合わせて使用できる。好ましい水酸
基含有(メタ)アクリレートは、ヒドロキシC2 〜 4アル
キル(メタ)アクリレート、特に2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレートなどである。
ト 水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、例え
ば、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート[例えば
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒド
ロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)
アクリレート、ペンタンジオールモノ(メタ)アクリレ
ート、ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレートなどの
ヒドロキシC2 〜 10アルキル(メタ)アクリレートな
ど]、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリロイルフォスフェート、4−ヒドロキシシク
ロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン1,
4−ジメタノールモノ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられ、更
にグリシジル基又はエポキシ基含有化合物[例えばアル
キルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、
グリシジル(メタ)アクリレートなど]と(メタ)アク
リル酸との付加反応により生成する化合物も挙げられ
る。これらの水酸基含有(メタ)アクリレートは、単独
で又は2種以上組み合わせて使用できる。好ましい水酸
基含有(メタ)アクリレートは、ヒドロキシC2 〜 4アル
キル(メタ)アクリレート、特に2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレートなどである。
【0026】なお、ポリウレタン(メタ)アクリレート
オリゴマーは前記成分を反応させることにより調製する
ことができ、ポリウレタン(メタ)アクリレートオリゴ
マーを構成する各成分の割合は、例えば、ポリイソシア
ネートのイソシアネート基1モルに対して、ポリオール
成分の水酸基0.1〜0.8モル、好ましくは0.2〜
0.7モル、特に0.2〜0.5モル程度、水酸基含有
(メタ)アクリレート0.2〜0.9モル、好ましくは
0.3〜0.8モル、特に0.5〜0.8モル程度であ
る。
オリゴマーは前記成分を反応させることにより調製する
ことができ、ポリウレタン(メタ)アクリレートオリゴ
マーを構成する各成分の割合は、例えば、ポリイソシア
ネートのイソシアネート基1モルに対して、ポリオール
成分の水酸基0.1〜0.8モル、好ましくは0.2〜
0.7モル、特に0.2〜0.5モル程度、水酸基含有
(メタ)アクリレート0.2〜0.9モル、好ましくは
0.3〜0.8モル、特に0.5〜0.8モル程度であ
る。
【0027】また、前記成分の反応方法は特に限定され
ず、各成分を一括混合して反応させてもよく、ポリイソ
シアネートと、ポリオール成分及び水酸基含有(メタ)
アクリレートのうちいずれか一方の成分とを反応させた
後、他方の成分を反応させてもよい。
ず、各成分を一括混合して反応させてもよく、ポリイソ
シアネートと、ポリオール成分及び水酸基含有(メタ)
アクリレートのうちいずれか一方の成分とを反応させた
後、他方の成分を反応させてもよい。
【0028】これらウレタン化反応の触媒としては、例
えばスタナスオクトエート、ジブチルチンジアセテー
ト、ジブチルチンジラウレート、ナフテン酸コバルト、
ナフテン酸鉛などの有機金属系ウレタン化触媒や、例え
ばトリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ジアザビ
シクロウンデセンなどのアミン系触媒が使用できるが、
その他公知のウレタン化触媒も使用できる。
えばスタナスオクトエート、ジブチルチンジアセテー
ト、ジブチルチンジラウレート、ナフテン酸コバルト、
ナフテン酸鉛などの有機金属系ウレタン化触媒や、例え
ばトリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ジアザビ
シクロウンデセンなどのアミン系触媒が使用できるが、
その他公知のウレタン化触媒も使用できる。
【0029】(B)ホモポリマのTgが50℃以上のモ
ノエチレン性不飽和化合物 本発明に用いられる(B)成分のホモポリマのTgが5
0℃以上のモノエチレン性不飽和化合物としては、例え
ば、N−ビニルアセトアミド系化合物、アミノ基や水酸
基を含む化合物に(メタ)アクリル酸がアミド化反応又
はエステル化反応で結合した構造の化合物が挙げられ
る。
ノエチレン性不飽和化合物 本発明に用いられる(B)成分のホモポリマのTgが5
0℃以上のモノエチレン性不飽和化合物としては、例え
ば、N−ビニルアセトアミド系化合物、アミノ基や水酸
基を含む化合物に(メタ)アクリル酸がアミド化反応又
はエステル化反応で結合した構造の化合物が挙げられ
る。
【0030】N−ビニルアセトアミド系化合物として
は、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタ
ム、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド
などが挙げられ、またアミノ基や水酸基を含む化合物に
(メタ)アクリル酸がアミド化反応又はエステル化反応
で結合した構造の化合物として、シクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロ
ヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエン
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレー
ト、ジシクロペンテニルオキシ(メタ)アクリレート、
トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、トリシクロ
デカニルオキシ(メタ)アクリレート、モルホリン(メ
タ)アクリレート、ビニルピリジン、ビニルイミダゾー
ル等が挙げられる。
は、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタ
ム、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド
などが挙げられ、またアミノ基や水酸基を含む化合物に
(メタ)アクリル酸がアミド化反応又はエステル化反応
で結合した構造の化合物として、シクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレー
ト、ベンジル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロ
ヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエン
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレー
ト、ジシクロペンテニルオキシ(メタ)アクリレート、
トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、トリシクロ
デカニルオキシ(メタ)アクリレート、モルホリン(メ
タ)アクリレート、ビニルピリジン、ビニルイミダゾー
ル等が挙げられる。
【0031】これらの化合物の中で、電子線による硬化
性、硬化皮膜の特性(伸び、ヤング率、ヤング率の温度
依存性)から、N−ビニル化合物としてN−ビニルピロ
リドン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルアセト
アミド、N−ビニルホルムアミドのいずれかを含むこと
が好ましい。
性、硬化皮膜の特性(伸び、ヤング率、ヤング率の温度
依存性)から、N−ビニル化合物としてN−ビニルピロ
リドン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルアセト
アミド、N−ビニルホルムアミドのいずれかを含むこと
が好ましい。
【0032】これらのポリウレタン(メタ)アクリレー
トオリゴマーとモノエチレン性不飽和化合物の配合量
は、(A)成分のポリウレタン(メタ)アクリレートオ
リゴマーや(B)成分のモノエチレン性不飽和化合物の
種類、樹脂組成物の所望する粘度、あるいはその硬化物
の物性に応じて選択されるが、(A)成分と(B)成分
の合計重量に対して、(A)成分のポリウレタン(メ
タ)アクリレートオリゴマーは20〜90重量%であ
り、好ましくは40〜80重量%である。また、(B)
成分のモノエチレン性不飽和化合物は80〜10重量%
であり、好ましくは60〜20重量%である。更に、
(B)成分としてN−ビニル化合物を3〜20重量%、
好ましくは5〜15重量%含むことが好ましい。
トオリゴマーとモノエチレン性不飽和化合物の配合量
は、(A)成分のポリウレタン(メタ)アクリレートオ
リゴマーや(B)成分のモノエチレン性不飽和化合物の
種類、樹脂組成物の所望する粘度、あるいはその硬化物
の物性に応じて選択されるが、(A)成分と(B)成分
の合計重量に対して、(A)成分のポリウレタン(メ
タ)アクリレートオリゴマーは20〜90重量%であ
り、好ましくは40〜80重量%である。また、(B)
成分のモノエチレン性不飽和化合物は80〜10重量%
であり、好ましくは60〜20重量%である。更に、
(B)成分としてN−ビニル化合物を3〜20重量%、
好ましくは5〜15重量%含むことが好ましい。
【0033】また、分子中に複数個のエチレン性不飽和
基を有する化合物を配合してもよい。これらの化合物
は、2官能性化合物として、具体的には、2,2−ジメ
チル−3−ヒドロキシプロピル−2,2−ジメチル−3
−ヒドロキシプロピオネートのジ(メタ)アクリレー
ト、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、グリコールジ(メタ)アク
リレート、ネオペンチルグリセリンジ(メタ)アクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオ
キサイド付加物のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノ
ールAのプロピレンオキサイド付加物のジ(メタ)アク
リレート、2,2’−ジ(ヒドロキシエトキシフェニ
ル)プロパンのジ(メタ)アクリレート、トリシクロデ
カンジメチロールのジ(メタ)アクリレート、ジシクロ
ペンタジエンジ(メタ)アクリレート、ペンタンジ(メ
タ)アクリレート、2,27−ジ(グリシジルオキシフ
ェニル)プロパンのジ(メタ)アクリル酸付加物等が挙
げられる。
基を有する化合物を配合してもよい。これらの化合物
は、2官能性化合物として、具体的には、2,2−ジメ
チル−3−ヒドロキシプロピル−2,2−ジメチル−3
−ヒドロキシプロピオネートのジ(メタ)アクリレー
ト、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、グリコールジ(メタ)アク
リレート、ネオペンチルグリセリンジ(メタ)アクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオ
キサイド付加物のジ(メタ)アクリレート、ビスフェノ
ールAのプロピレンオキサイド付加物のジ(メタ)アク
リレート、2,2’−ジ(ヒドロキシエトキシフェニ
ル)プロパンのジ(メタ)アクリレート、トリシクロデ
カンジメチロールのジ(メタ)アクリレート、ジシクロ
ペンタジエンジ(メタ)アクリレート、ペンタンジ(メ
タ)アクリレート、2,27−ジ(グリシジルオキシフ
ェニル)プロパンのジ(メタ)アクリル酸付加物等が挙
げられる。
【0034】多官能性化合物としては、例えば、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、テ
トラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、トリ
ス(アクリロキシ)イソシアヌレート、トリス(2−ヒ
ドロキシ)イソシアヌレート、トリス(ヒドロキシプロ
ピル)イソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレート、
イソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレート、トリア
リルトリメリット酸、トリアリルイソシアヌレート等が
挙げられる。これらの配合量は、本発明の二次被覆材の
特性を満足すれば、特に限定はない。
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、テ
トラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、トリ
ス(アクリロキシ)イソシアヌレート、トリス(2−ヒ
ドロキシ)イソシアヌレート、トリス(ヒドロキシプロ
ピル)イソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレート、
イソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレート、トリア
リルトリメリット酸、トリアリルイソシアヌレート等が
挙げられる。これらの配合量は、本発明の二次被覆材の
特性を満足すれば、特に限定はない。
【0035】更に、必要であれば、重合開始剤を添加し
てもよい。重合開始剤としては、公知のものを使用する
ことができ、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル
−フェニル−ケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノン、フェニルアセトフェノンジエチルケ
タール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルメチルケ
タール、ベンゾフェノン及び3,3−ジメチル−4−メ
トキシベンゾフェノン、4,4−ジメトキシベンゾフェ
ノン、4,4−ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェ
ノン誘導体、ベンゾイル安息香酸アルキル、ビス(4−
ジアルキルアミノフェニル)ケトン、ベンジル及びベン
ジルメチルケタール等のベンジル誘導体、ベンゾイル及
びベンゾインブチルメチルケタール等のベンゾイン誘導
体、ベンゾインイソプロピルエーテル、2−ヒドロキシ
−2−メチルプロピオフェノン、2,4−ジエチルチオ
キサントン及び2,4−ジクロロチオキサントン等のチ
オキサントン誘導体、フルオレン、2−メチル−1−
[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロ
パン−1,2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−
(モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2,4,6−
トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−
トリメチルペンチルホスフィンオキシド等のホスフィン
オキシド誘導体、過酸化ベンゾイル、t−ブチルペルオ
キシド、クメンハイドロペルオキシドなどの有機過酸化
物、アゾビスシアノ吉草酸、アゾビスブチロニトリル、
アゾビス(2,4−ジメチル)バレロニトリル、アゾビ
ス(2−アミノプロパン)ハイドロクロライドのような
有機アゾ化合物等が挙げられる。
てもよい。重合開始剤としては、公知のものを使用する
ことができ、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル
−フェニル−ケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノン、フェニルアセトフェノンジエチルケ
タール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルメチルケ
タール、ベンゾフェノン及び3,3−ジメチル−4−メ
トキシベンゾフェノン、4,4−ジメトキシベンゾフェ
ノン、4,4−ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェ
ノン誘導体、ベンゾイル安息香酸アルキル、ビス(4−
ジアルキルアミノフェニル)ケトン、ベンジル及びベン
ジルメチルケタール等のベンジル誘導体、ベンゾイル及
びベンゾインブチルメチルケタール等のベンゾイン誘導
体、ベンゾインイソプロピルエーテル、2−ヒドロキシ
−2−メチルプロピオフェノン、2,4−ジエチルチオ
キサントン及び2,4−ジクロロチオキサントン等のチ
オキサントン誘導体、フルオレン、2−メチル−1−
[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロ
パン−1,2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−
(モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2,4,6−
トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−
トリメチルペンチルホスフィンオキシド等のホスフィン
オキシド誘導体、過酸化ベンゾイル、t−ブチルペルオ
キシド、クメンハイドロペルオキシドなどの有機過酸化
物、アゾビスシアノ吉草酸、アゾビスブチロニトリル、
アゾビス(2,4−ジメチル)バレロニトリル、アゾビ
ス(2−アミノプロパン)ハイドロクロライドのような
有機アゾ化合物等が挙げられる。
【0036】これらは、1種使用してもよいし、2種以
上使用してもよい。配合量は、同様に本発明の二次被覆
材の特性を満足すれば、特に限定はない。
上使用してもよい。配合量は、同様に本発明の二次被覆
材の特性を満足すれば、特に限定はない。
【0037】これらの樹脂組成物には、前記成分の他に
例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤等の安定剤、有機溶
剤、可塑剤、界面活性剤、シランカップリング剤、着色
顔料、有機又は無機粒子等の添加剤を、本発明の目的を
損なわない範囲で必要に応じて添加することができる。
例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤等の安定剤、有機溶
剤、可塑剤、界面活性剤、シランカップリング剤、着色
顔料、有機又は無機粒子等の添加剤を、本発明の目的を
損なわない範囲で必要に応じて添加することができる。
【0038】本発明の樹脂組成物の粘度は、塗布性の点
から通常1,000〜10,000mPa・s(25
℃)、特に高速の製造条件では1,000〜4,000
mPa・s(25℃)の範囲が望ましい。また、この組
成物は、通常の紫外線硬化型組成物の場合と同様に電子
線を照射することにより硬化し硬化物となるもので、こ
のようにして得られる硬化皮膜は、光ファイバ心線の外
被として外部力から心線を保護するのに望ましい300
〜900MPaのヤング率を有することが望ましい。
から通常1,000〜10,000mPa・s(25
℃)、特に高速の製造条件では1,000〜4,000
mPa・s(25℃)の範囲が望ましい。また、この組
成物は、通常の紫外線硬化型組成物の場合と同様に電子
線を照射することにより硬化し硬化物となるもので、こ
のようにして得られる硬化皮膜は、光ファイバ心線の外
被として外部力から心線を保護するのに望ましい300
〜900MPaのヤング率を有することが望ましい。
【0039】本発明の光ファイバ心線は前記の樹脂組成
物を一次被覆された光ファイバ上にコーティングし、低
電圧の50〜125kVで加速された電子線で硬化させ
た硬化物を被覆することにより得られる。現在、量産さ
れている通信用の石英光ファイバ心線の構造は、石英コ
アが直径約10μm、その外周に石英クラッドが、直径
約125μmとなるような厚みのガラスファイバの外周
に直径約200μmとなるような厚みで一次被覆材が被
覆され、最後にこの上層に直径約250μmとなるよう
な厚みで二次被覆材が被覆されたものとなっている。こ
のようなファイバ構造において、二次被覆樹脂組成物を
硬化させる電子線の加速電圧は、125kVを超える
と、電子線がコアまで到達、損傷を与え、伝送損失を増
加する。また、50kV未満であると、二次被覆層の最
底部まで電子線が到達できなく、未硬化の二次被覆層が
得られる可能性がある。従って電子線の加速電圧は、5
0〜125kVであり、好ましくは60〜100kVで
ある。また、二次被覆樹脂組成物に与える吸収線量は、
樹脂組成物の種類によって異なり、特に限定されない
が、10〜100kGyの範囲である。
物を一次被覆された光ファイバ上にコーティングし、低
電圧の50〜125kVで加速された電子線で硬化させ
た硬化物を被覆することにより得られる。現在、量産さ
れている通信用の石英光ファイバ心線の構造は、石英コ
アが直径約10μm、その外周に石英クラッドが、直径
約125μmとなるような厚みのガラスファイバの外周
に直径約200μmとなるような厚みで一次被覆材が被
覆され、最後にこの上層に直径約250μmとなるよう
な厚みで二次被覆材が被覆されたものとなっている。こ
のようなファイバ構造において、二次被覆樹脂組成物を
硬化させる電子線の加速電圧は、125kVを超える
と、電子線がコアまで到達、損傷を与え、伝送損失を増
加する。また、50kV未満であると、二次被覆層の最
底部まで電子線が到達できなく、未硬化の二次被覆層が
得られる可能性がある。従って電子線の加速電圧は、5
0〜125kVであり、好ましくは60〜100kVで
ある。また、二次被覆樹脂組成物に与える吸収線量は、
樹脂組成物の種類によって異なり、特に限定されない
が、10〜100kGyの範囲である。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、伝送損失の小さい光フ
ァイバ心線を与えることができる。
ァイバ心線を与えることができる。
【0041】
【実施例】以下、合成例、実施例及び比較例を示し、本
発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制
限されるものではない。
発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制
限されるものではない。
【0042】(A)ポリウレタンアクリレートオリゴマ
ーの合成 [合成例1]2,4−トルエンジイソシアネート31
9.6g、平均分子量1,000のポリテトラメチレン
エーテルグリコール502.5gの混合液を、窒素雰囲
気下、70〜80℃の温度で3時間反応させた。次い
で、この反応混合物を30℃まで冷却し、反応容器内を
乾燥空気で置換し、重合禁止剤2,6−ジ−tert−
ブチルヒドロキシトルエン0.4gを加え、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート310.1gを反応混合物が5
0℃以下となるように滴下した。次いで、徐々に昇温さ
せ、温度60〜70℃で6時間反応させ、赤外吸収スペ
クトルでイソシアネート基(NCO)に起因する吸収が
ないことを確認し、ポリウレタンアクリレートオリゴマ
ーIを得た。
ーの合成 [合成例1]2,4−トルエンジイソシアネート31
9.6g、平均分子量1,000のポリテトラメチレン
エーテルグリコール502.5gの混合液を、窒素雰囲
気下、70〜80℃の温度で3時間反応させた。次い
で、この反応混合物を30℃まで冷却し、反応容器内を
乾燥空気で置換し、重合禁止剤2,6−ジ−tert−
ブチルヒドロキシトルエン0.4gを加え、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート310.1gを反応混合物が5
0℃以下となるように滴下した。次いで、徐々に昇温さ
せ、温度60〜70℃で6時間反応させ、赤外吸収スペ
クトルでイソシアネート基(NCO)に起因する吸収が
ないことを確認し、ポリウレタンアクリレートオリゴマ
ーIを得た。
【0043】[合成例2]ヘキサメチレンジイソシアネ
ート14.04g、平均分子量約3,000のポリオキ
シプロピレンエーテルグリコール(OH価=34mgK
OH/g)385.5g、ポリテトラメチレンエーテル
グリコール(OH価=37.5mgKOH/g)14
9.5g、反応触媒ジブチル錫ジラウレート0.5gの
混合液を、窒素雰囲気下、70〜80℃の温度で4時間
反応させ、赤外吸収スペクトルでイソシアネート基(N
CO)に起因する吸収がないことを確認した。次いでこ
の反応混合物を30℃まで冷却した後、2,4−トルエ
ンジイソシアネート369.3gを加え、温度60〜7
0℃で2時間反応させた。この反応混合物を30℃まで
冷却し、反応容器内を乾燥空気で置換し、重合禁止剤
2,6−ジ−tert−ブチルヒドロキシトルエン0.
44gを加え、2−ヒドロキシエチルアクリレート47
2.4gを反応混合物が50℃以下となるように滴下し
た。次いで、反応触媒ジブチル錫ジラウレート0.9g
を添加し、徐々に昇温させ、温度60〜70℃で6時間
反応させ、赤外吸収スペクトルでイソシアネート基(N
CO)に起因する吸収がないことを確認し、ポリウレタ
ンアクリレートオリゴマーIIを得た。
ート14.04g、平均分子量約3,000のポリオキ
シプロピレンエーテルグリコール(OH価=34mgK
OH/g)385.5g、ポリテトラメチレンエーテル
グリコール(OH価=37.5mgKOH/g)14
9.5g、反応触媒ジブチル錫ジラウレート0.5gの
混合液を、窒素雰囲気下、70〜80℃の温度で4時間
反応させ、赤外吸収スペクトルでイソシアネート基(N
CO)に起因する吸収がないことを確認した。次いでこ
の反応混合物を30℃まで冷却した後、2,4−トルエ
ンジイソシアネート369.3gを加え、温度60〜7
0℃で2時間反応させた。この反応混合物を30℃まで
冷却し、反応容器内を乾燥空気で置換し、重合禁止剤
2,6−ジ−tert−ブチルヒドロキシトルエン0.
44gを加え、2−ヒドロキシエチルアクリレート47
2.4gを反応混合物が50℃以下となるように滴下し
た。次いで、反応触媒ジブチル錫ジラウレート0.9g
を添加し、徐々に昇温させ、温度60〜70℃で6時間
反応させ、赤外吸収スペクトルでイソシアネート基(N
CO)に起因する吸収がないことを確認し、ポリウレタ
ンアクリレートオリゴマーIIを得た。
【0044】[実施例1〜4、比較例1〜6]表1に示
すように、上記で合成したポリウレタンアクリレートオ
リゴマーI,II、エチレン性不飽和基を含有する化合
物を混合して実施例1〜4、比較例1〜6の電子線硬化
型樹脂組成物を調製した。次に、得られた組成物の物性
を下記に示すようにして測定した。また、下記に示す方
法により、実施例3の組成物を一次被覆組成物を被覆し
た石英ファイバに塗布し、電子線照射装置で硬化し、得
られた光ファイバ心線の伝送損失を測定した。結果を表
1に示す。
すように、上記で合成したポリウレタンアクリレートオ
リゴマーI,II、エチレン性不飽和基を含有する化合
物を混合して実施例1〜4、比較例1〜6の電子線硬化
型樹脂組成物を調製した。次に、得られた組成物の物性
を下記に示すようにして測定した。また、下記に示す方
法により、実施例3の組成物を一次被覆組成物を被覆し
た石英ファイバに塗布し、電子線照射装置で硬化し、得
られた光ファイバ心線の伝送損失を測定した。結果を表
1に示す。
【0045】評価方法: (1)硬化フィルムの作成 ガラス板上に上記電子線硬化型樹脂組成物を50〜60
μmの膜厚に塗布し、30〜100kVで加速された電
子線を、窒素下で吸収線量100kGyとなるように照
射し、硬化フィルムを得た。 (2)ヤング率の測定 25℃、相対湿度50%で硬化フィルムを24時間状態
調整した後、標線間25mm、引っ張り速度1mm/m
inの条件で2.5%引っ張り弾性率を測定した。 (3)引っ張り強さ及び破断伸びの測定 25℃、相対湿度50%で硬化フィルムを24時間状態
調整した後、標線間25mm、引っ張り速度50mm/
minの条件で測定した。 (4)硬化性 ガラス板上に上記電子線硬化型樹脂組成物を50〜60
μmの膜厚に塗布し、100kVで加速された電子線
を、窒素下で吸収線量20,30,100kGyとなる
ような照射条件で硬化し、硬化したフィルムのヤング率
を測定した。 (5)ヤング率比、ガラス転移温度の測定 25℃、相対湿度50%で硬化フィルムを24時間状態
調整した後、粘弾性挙動を測定する装置[Rheome
trics Solids AnalyzerRSAI
I(レオメトリックス・サイエンティフィックス・エフ
・イ(株)製]を用いて−40℃及び25℃のヤング率
を測定し、ヤング率比を計算した。また、ガラス転移温
度はtanδの温度変化を測定し、その極大値の温度と
した。 (6)光ファイバ心線の作成と伝送損失の測定 下記の一次被覆組成物を紡糸された石英ガラスファイバ
上に直径が200μmとなるように塗布し、紫外線照射
装置で硬化し、次いで直径が250μmとなるように、
表1の実施例3の樹脂組成物を塗布し、電子線照射装置
で、3方向から同時に各電圧で加速された電子線を吸収
線量100kGyとなるように照射して硬化し、3,0
00mの光ファイバ心線を得た。OTDRを用いて、得
られた光ファイバ心線の波長1,550nmの光の伝送
損失を測定した。一次被覆組成物 数平均分子量約4,000のポリプロピレングリコール
407.3g(三洋化成工業(株)製、サニックスPP
4000、OH基=27.6)、2,4−トリレンジイ
ソシアネート52.2gを反応容器に仕込み、窒素通気
下で、70〜80℃で2時間反応させた。その後、反応
温度を50〜60℃に下げ、ジブチルチンジラウレート
0.6g、2,6−ジ−tert−ブチルヒドロキシト
ルエン0.15g、2−ヒドロキシアクリレート23.
2gを添加し、5時間反応させ、数平均分子量約8,9
00のポリエーテルポリウレタンアクリレートオリゴマ
ーを得た。このオリゴマー60重量部、アロニックスM
−113(東亜合成工業(株)製)20重量部、ラウリ
ルアクリレート10重量部、N−ビニルカプロラクタム
10重量部、イルガキュア1700(チバスペシャリテ
ィケミカルズ社製)3重量部を混合し、一次被覆組成物
を得た。
μmの膜厚に塗布し、30〜100kVで加速された電
子線を、窒素下で吸収線量100kGyとなるように照
射し、硬化フィルムを得た。 (2)ヤング率の測定 25℃、相対湿度50%で硬化フィルムを24時間状態
調整した後、標線間25mm、引っ張り速度1mm/m
inの条件で2.5%引っ張り弾性率を測定した。 (3)引っ張り強さ及び破断伸びの測定 25℃、相対湿度50%で硬化フィルムを24時間状態
調整した後、標線間25mm、引っ張り速度50mm/
minの条件で測定した。 (4)硬化性 ガラス板上に上記電子線硬化型樹脂組成物を50〜60
μmの膜厚に塗布し、100kVで加速された電子線
を、窒素下で吸収線量20,30,100kGyとなる
ような照射条件で硬化し、硬化したフィルムのヤング率
を測定した。 (5)ヤング率比、ガラス転移温度の測定 25℃、相対湿度50%で硬化フィルムを24時間状態
調整した後、粘弾性挙動を測定する装置[Rheome
trics Solids AnalyzerRSAI
I(レオメトリックス・サイエンティフィックス・エフ
・イ(株)製]を用いて−40℃及び25℃のヤング率
を測定し、ヤング率比を計算した。また、ガラス転移温
度はtanδの温度変化を測定し、その極大値の温度と
した。 (6)光ファイバ心線の作成と伝送損失の測定 下記の一次被覆組成物を紡糸された石英ガラスファイバ
上に直径が200μmとなるように塗布し、紫外線照射
装置で硬化し、次いで直径が250μmとなるように、
表1の実施例3の樹脂組成物を塗布し、電子線照射装置
で、3方向から同時に各電圧で加速された電子線を吸収
線量100kGyとなるように照射して硬化し、3,0
00mの光ファイバ心線を得た。OTDRを用いて、得
られた光ファイバ心線の波長1,550nmの光の伝送
損失を測定した。一次被覆組成物 数平均分子量約4,000のポリプロピレングリコール
407.3g(三洋化成工業(株)製、サニックスPP
4000、OH基=27.6)、2,4−トリレンジイ
ソシアネート52.2gを反応容器に仕込み、窒素通気
下で、70〜80℃で2時間反応させた。その後、反応
温度を50〜60℃に下げ、ジブチルチンジラウレート
0.6g、2,6−ジ−tert−ブチルヒドロキシト
ルエン0.15g、2−ヒドロキシアクリレート23.
2gを添加し、5時間反応させ、数平均分子量約8,9
00のポリエーテルポリウレタンアクリレートオリゴマ
ーを得た。このオリゴマー60重量部、アロニックスM
−113(東亜合成工業(株)製)20重量部、ラウリ
ルアクリレート10重量部、N−ビニルカプロラクタム
10重量部、イルガキュア1700(チバスペシャリテ
ィケミカルズ社製)3重量部を混合し、一次被覆組成物
を得た。
【0046】
【表1】 *ホモポリマのガラス転移温度
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年11月1日(2000.11.
1)
1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0046
【補正方法】変更
【補正内容】
【0046】
【表1】 *ホモポリマのガラス転移温度
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小西 繁 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 (72)発明者 大庭 敏夫 群馬県安中市磯部2丁目13番1号 信越化 学工業株式会社精密機能材料研究所内 Fターム(参考) 2H050 BA17 BA32 BB03S BB07S BB09S BB14S BB17S BB34S BC03 BD00 BD03 4J011 QA03 QA12 QA13 QA23 QA24 QA25 QA26 QA27 QA34 QA38 QA39 QA45 QB16 QB24 SA20 SA22 SA24 SA25 SA26 SA34 SA42 SA51 SA64 SA76 SA79 SA84 UA03 VA01 WA03 4J027 AC03 AC04 AC06 AG02 AG03 AG04 AG09 AG12 AG14 AG23 AG24 AG27 AG28 AJ08 BA07 BA13 BA15 BA17 BA19 BA20 BA21 BA24 BA26 BA28 BA29 CB00 CB03 CB09 CC03 CD03
Claims (2)
- 【請求項1】 石英ガラスファイバ上にプライマリ被覆
材を施し、次いでこの被覆材上にセカンダリ被覆材を施
した光ファイバ心線において、そのセカンダリ被覆材
が、 (A)数平均分子量20,000以下のポリウレタン(メタ)アクリレートオリ ゴマー 20〜90重量% (B)ホモポリマのガラス転移温度が50℃以上で、少なくともN−ビニル化合 物の1種を含むモノエチレン性不飽和化合物 80〜10重量% を含有してなる樹脂組成物を50〜125kVで加速さ
れた電子線で硬化させた硬化物であることを特徴とする
光ファイバ心線。 - 【請求項2】 前記N−ビニル化合物が、N−ビニルピ
ロリドン、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルホル
ムアミドから選択されるものである請求項1記載の光フ
ァイバ心線。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000328129A JP2002131594A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | 光ファイバ心線 |
US09/983,615 US20020076555A1 (en) | 2000-10-27 | 2001-10-25 | Coated optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000328129A JP2002131594A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | 光ファイバ心線 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002131594A true JP2002131594A (ja) | 2002-05-09 |
Family
ID=18805032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000328129A Pending JP2002131594A (ja) | 2000-10-27 | 2000-10-27 | 光ファイバ心線 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20020076555A1 (ja) |
JP (1) | JP2002131594A (ja) |
Families Citing this family (3)
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---|---|---|---|---|
JP2002243995A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光ファイバ心線 |
US9658408B2 (en) * | 2015-01-13 | 2017-05-23 | Finisar Corporation | Reinforced optical fiber cable |
JP6190563B1 (ja) * | 2016-11-17 | 2017-08-30 | キヤノンアネルバ株式会社 | X線発生装置及びx線撮影システム |
-
2000
- 2000-10-27 JP JP2000328129A patent/JP2002131594A/ja active Pending
-
2001
- 2001-10-25 US US09/983,615 patent/US20020076555A1/en not_active Abandoned
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Publication number | Publication date |
---|---|
US20020076555A1 (en) | 2002-06-20 |
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