JP2002120234A - Method of manufacturing photocurable resin sheet - Google Patents
Method of manufacturing photocurable resin sheetInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光硬化樹脂シートの薄膜化が容易で、広面積
の光硬化樹脂シートも損傷なく成形できると共に、表面
平滑性を始めとする品質の良好な光硬化樹脂シートを生
産性よく製造する方法の提供。
【解決手段】 少なくとも一方が活性エネルギー線を透
過する一対の板状成形型を所定間隔を置いて対向させる
と共に周辺部をシールして形成され、且つ一対の板状成
形型の各内面にフィルムが粘着層を介して固定されてな
る成形キャビティーに光硬化性樹脂を注入し、活性エネ
ルギー線を透過する板状成形型を通して、該光硬化性樹
脂に活性エネルギー線を照射して光硬化性樹脂を硬化さ
せ、次いで光硬化性樹脂成形体を板状成形型から離型し
て光硬化樹脂シートを得る方法において、粘着層の厚み
が1〜30μmである。(57) [Problem] To provide a photocurable resin sheet which can be easily formed into a thin film, can form a wide area photocurable resin sheet without damage, and has good quality including surface smoothness. Providing a method of manufacturing with good productivity. SOLUTION: A pair of plate-shaped molds, at least one of which transmits an active energy ray, are formed at predetermined intervals to face each other and are formed by sealing a peripheral portion, and a film is formed on each inner surface of the pair of plate-shaped molds. The photocurable resin is injected into the molding cavity fixed through the adhesive layer, and the active photocurable resin is irradiated with active energy rays through a plate-shaped mold that transmits active energy rays. Is cured, and then the photocurable resin molded article is released from the plate-shaped mold to obtain a photocurable resin sheet, wherein the thickness of the adhesive layer is 1 to 30 μm.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、特に表面平滑度に
優れ、欠陥の少ない光硬化樹脂シートの製造方法に関す
る。詳しくは、成形型間に光硬化性樹脂を注入し、樹脂
を硬化させた後、成形型を除去し、平滑な光硬化樹脂シ
ートを製造する方法の改良に関する。本方法により成形
された光硬化樹脂シートは、有機EL表示パネル用、タ
ッチパネル用等の表示用、光ディスク等の記憶、記録
用、太陽電池パネル用、等の光学用部材、特に低複屈折
光学部材、殊に液晶表示パネル用に好適である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a photocurable resin sheet having particularly excellent surface smoothness and having few defects. More specifically, the present invention relates to an improvement in a method of manufacturing a smooth photocurable resin sheet by injecting a photocurable resin between molds, curing the resin, and then removing the mold. The photocurable resin sheet molded by the present method is used for display for organic EL display panels, display for touch panels, etc., storage and recording for optical disks and the like, optical members for solar cell panels, etc., particularly low birefringence optical members. It is particularly suitable for a liquid crystal display panel.
【0002】[0002]
【従来の技術】光硬化樹脂シートは、従来、成形型間に
光硬化性樹脂を注入し、光硬化性樹脂を硬化させた後、
成形型と成形体を離型して光硬化樹脂シートが成形し、
製造される。しかしながら、上記成形方法において、成
形型から光硬化樹脂シートを離型する場合、成形型と硬
化後の光硬化樹脂シートとの密着力が強いため、成形型
から光硬化樹脂シートを離型する際に、該シートが破損
しやすいという問題がある。また、その問題はシートの
厚みが小さい場合、また、シートの面積が大きい場合に
より顕著である。2. Description of the Related Art Conventionally, a photo-curable resin sheet is prepared by injecting a photo-curable resin between molding dies and curing the photo-curable resin.
The light-cured resin sheet is molded by releasing the mold and the molded body,
Manufactured. However, in the above molding method, when the photocurable resin sheet is released from the molding die, since the adhesive force between the molding die and the cured photocurable resin sheet is strong, when the photocurable resin sheet is released from the molding die. In addition, there is a problem that the sheet is easily damaged. Further, the problem is more remarkable when the thickness of the sheet is small and when the area of the sheet is large.
【0003】このため、一対の板状成形型の各内面にフ
ィルムを介在させた状態で光硬化性樹脂を成形し、破損
することなく光硬化樹脂を得る方法がこれ迄にいろいろ
と提案されており、例えば特開2000−832号公報
には、粘着剤等によりフィルムを内面に固定した成形型
を用いて成形型から光硬化樹脂シートを破損なく離型し
て製造する方法が提案されている。[0003] For this reason, various methods have been proposed for forming a photocurable resin in a state in which a film is interposed between the inner surfaces of a pair of plate-shaped molds and obtaining the photocurable resin without breakage. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-832 proposes a method in which a photocurable resin sheet is released from a molding die without damage using a molding die in which a film is fixed to an inner surface with an adhesive or the like. .
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この場
合、通常の粘着剤では、塗りムラや欠陥を生じやすく、
固定された状態でのフィルム表面の表面平滑性が低くな
り、従って成形された光硬化樹脂シートの表面平滑性も
低下してしまう欠点がある。このため、得られた樹脂シ
ートを表面平滑性を有することが重要な用途、例えば液
晶ディスプレイ用シートやタッチパネル用シートに応用
すると問題が生じる場合もある。However, in this case, with a normal pressure-sensitive adhesive, coating unevenness and defects are likely to occur,
There is a disadvantage that the surface smoothness of the film surface in the fixed state is reduced, and accordingly, the surface smoothness of the formed photocurable resin sheet is also reduced. For this reason, when the obtained resin sheet is applied to an application where it is important to have surface smoothness, for example, a liquid crystal display sheet or a touch panel sheet, a problem may occur.
【0005】本発明は、成形型を用いてキャビティーを
形成し、その周辺部をシールしてなる注入型に光硬化性
樹脂を注入し、活性エネルギー線を照射し光硬化性樹脂
を硬化させた後、成形型を離型して平滑な光硬化樹脂シ
ートを成形する方法において、液晶ディスプレイやタッ
チパネル用のシートとして使用しうる、表面粗さの小さ
い欠陥の非常に少ない光硬化樹脂シートの製造方法を提
供しようとするものである。According to the present invention, a photocurable resin is injected into an injection mold in which a cavity is formed using a molding die and a peripheral portion thereof is sealed, and the photocurable resin is cured by irradiating an active energy ray. Then, in a method of releasing a molding die to form a smooth photocurable resin sheet, producing a photocurable resin sheet having a small surface roughness and very few defects which can be used as a sheet for a liquid crystal display or a touch panel. It seeks to provide a way.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、かかる事情に
鑑み鋭意検討を重ねた結果、一対の板状成形型の各内面
に、フィルムをある特定の厚みの粘着剤で固定した状態
で成形した場合、所期の表面が平滑で欠陥の非常に少な
い樹脂シートが得られることを見い出し、本発明を完成
するに至った。In the present invention, as a result of intensive studies in view of the above circumstances, it has been found that a film is fixed on each inner surface of a pair of plate-shaped molds with an adhesive having a specific thickness. In such a case, it was found that a desired resin sheet having a smooth surface and very few defects was obtained, and the present invention was completed.
【0007】即ち、本発明の要旨は、少なくとも一方が
活性エネルギー線を透過する一対の板状成形型を所定間
隔を置いて対向させると共に周辺部をシールして形成さ
れ、且つ一対の板状成形型の各内面にフィルムが粘着層
を介して固定されてなる成形キャビティーに光硬化性樹
脂を注入し、活性エネルギー線を透過する板状成形型を
通して、該光硬化性樹脂に活性エネルギー線を照射して
光硬化性樹脂を硬化させ、次いで光硬化性樹脂成形体を
板状成形型から離型して光硬化樹脂シートを得る方法に
おいて、粘着層の厚みが1〜30μmであることを特徴
とする光硬化樹脂シートの製造方法、にある。[0007] That is, the gist of the present invention is to form a pair of plate-shaped molds in which at least one of them faces a pair of plate-shaped molds that transmit an active energy ray at a predetermined interval and seals a peripheral portion thereof. A photo-curable resin is injected into a molding cavity in which a film is fixed to each inner surface of the mold via an adhesive layer, and an active energy ray is applied to the photo-curable resin through a plate-shaped mold that transmits active energy rays. Irradiating to cure the photocurable resin, and then releasing the photocurable resin molded product from the plate mold to obtain a photocurable resin sheet, wherein the thickness of the adhesive layer is 1 to 30 μm. And a method of manufacturing a photocurable resin sheet.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 (光硬化性樹脂)本発明に用いられる光硬化性樹脂につ
いては、紫外線等の活性エネルギー線の照射により硬化
する樹脂であれば特に限定されるものではないが、その
具体例としては、例えば、ラジカル反応性不飽和結合を
有するアクリレート化合物よりなる樹脂組成物、ラジカ
ル反応性不飽和結合を有するアクリレート化合物と少な
くとも二官能性のメルカプト化合物よりなる光硬化性樹
脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶
融せしめた光硬化性樹脂組成物等が挙げられる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. (Photo-curable resin) The photo-curable resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin that can be cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays. Specific examples thereof include, for example, Resin composition comprising an acrylate compound having a radical-reactive unsaturated bond, photocurable resin composition comprising an acrylate compound having a radical-reactive unsaturated bond and at least a difunctional mercapto compound, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester Examples include a photocurable resin composition in which an oligomer such as acrylate or polyether acrylate is melted in a polyfunctional acrylate monomer.
【0009】これらの中、耐熱性、成形性、光学的性能
等の面で、アクリレート化合物と少なくとも二官能性の
メルカプト化合物よりなる光硬化性樹脂組成物が好まし
い。アクリレート化合物としては、下記一般式(I)で
表される化合物が好ましく、更に式(I)の化合物は下
記一般式(II)で表される化合物と併用するのが好まし
い。Among these, a photocurable resin composition comprising an acrylate compound and at least a bifunctional mercapto compound is preferred in terms of heat resistance, moldability, optical performance and the like. As the acrylate compound, a compound represented by the following formula (I) is preferable, and a compound represented by the formula (I) is preferably used in combination with a compound represented by the following formula (II).
【0010】[0010]
【化3】 (式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立して、水素原子
又はメチル基を示し、mは1又は2を示し、nは0又は
1を示し、p及びqは、それぞれ独立して、0、1又は
2を示す)Embedded image (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, m represents 1 or 2, n represents 0 or 1, p and q each independently represent 0, 1 or 2)
【0011】式(I)の化合物の中でも、ビス(ヒドロ
キシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン
=ジアクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシク
ロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート、
ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0
2,6]デカン=アクリレートメタクリレート及びこれら
の混合物が好ましい。Among the compounds of formula (I), bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = diacrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2 , 6 ] decane dimethacrylate,
Bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0
2,6 ] decane = acrylate methacrylate and mixtures thereof are preferred.
【0012】[0012]
【化4】 Embedded image
【0013】(式中、R3 は水素原子又はメチル基を示
し、mは1又は2を示し、nは0又は1を示し、r及び
sは、それぞれ独立して、0、1又は2を示す) 式(II)の化合物の中でもビス(ヒドロキシメチル)ト
リシクロ[5.2.1.02,6]デカン=モノアクリレ
ート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.
1.02,6]デカン=モノメタクリレート及びこれらの
混合物、が好ましい。(Wherein, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents 1 or 2, n represents 0 or 1, r and s each independently represent 0, 1 or 2) Among the compounds of formula (II), bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = monoacrylate, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.
1.0 2,6 ] decane = monomethacrylate and mixtures thereof are preferred.
【0014】式(I)の化合物と式(II)の化合物との
配合割合は、式(I)の化合物と式(II)の化合物との
合計量100重量部に対して、式(I)の化合物は、通
常70〜99重量部、好ましくは80〜98重量部、更
に好ましくは90〜96重量部、式(II)の化合物は、
通常1〜30重量部、好ましくは2〜20重量部、更に
好ましくは4〜10重量部である。式(II)の化合物の
割合が少なすぎると、硬化樹脂の機械的強度の改良効果
が得られず、多すぎると硬化樹脂の耐熱性が低下する惧
れがある。The compounding ratio of the compound of the formula (I) and the compound of the formula (II) is based on 100 parts by weight of the total amount of the compound of the formula (I) and the compound of the formula (II). Is usually 70 to 99 parts by weight, preferably 80 to 98 parts by weight, more preferably 90 to 96 parts by weight, and the compound of the formula (II) is
It is usually 1 to 30 parts by weight, preferably 2 to 20 parts by weight, more preferably 4 to 10 parts by weight. If the proportion of the compound of the formula (II) is too small, the effect of improving the mechanical strength of the cured resin cannot be obtained, and if it is too large, the heat resistance of the cured resin may be reduced.
【0015】少なくとも二官能性のメルカプト化合物と
しては、例えば下記一般式(III)、(IV)、(V)で示
される化合物が挙げられる。Examples of the at least bifunctional mercapto compound include compounds represented by the following formulas (III), (IV) and (V).
【0016】[0016]
【化5】 Embedded image
【0017】(式中、R4 はメチレン基又はエチレン基
を示し、R5 はエーテル酸素を含んでいてもよい炭素数
2〜15の炭化水素残基を示し、aは2〜6の整数を示
す) 式(III)において、R5 はエーテル酸素を含んでいて
もよい炭素数2〜15の炭化水素残基であるが、その具
体例としては、例えばペンタエリスリトール残基、ジペ
ンタエリスリトール残基、トリメチロールプロパン残
基、エチレングリコール残基、ジエチレングリコール残
基、トリエチレングリコール残基、ブタンジオール残
基、等が挙げられる。(Wherein, R 4 represents a methylene group or an ethylene group, R 5 represents a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain ether oxygen, and a represents an integer of 2 to 6) In the formula (III), R 5 is a hydrocarbon residue having 2 to 15 carbon atoms which may contain an ether oxygen. Specific examples thereof include, for example, a pentaerythritol residue and a dipentaerythritol residue. , A trimethylolpropane residue, an ethylene glycol residue, a diethylene glycol residue, a triethylene glycol residue, a butanediol residue, and the like.
【0018】式(III)のメルカプト化合物は、2〜6
価のチオグリコール酸エステル又はチオプロピオン酸エ
ステルであるが、その具体例としては、例えば、ペンタ
エリスリトールテトラキス(β−チオプロピオネー
ト)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレ
ート)、トリメチロールプロパントリス(β−チオプロ
ピオネート)、トリメチロールプロパントリス(チオグ
リコレート)、エチレングリコールビス(β−チオプロ
ピオネート)、エチレングリコールビス(チオグリコレ
ート)、ジエチレングリコールビス(β−チオプロピオ
ネート)、ジエチレングリコールビス(チオグリコレー
ト)、トリエチレングリコールビス(β−チオプロピオ
ネート)、トリエチレングリコール(チオグリコレー
ト)、ブタンジオールビス(β−チオプロピオネー
ト)、ブタンジオールビス(チオグリコレート)、ジペ
ンタエリスリトールヘキサキス(β−チオプロピオネー
ト)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(チオグリコ
レート)等が挙げられる。The mercapto compounds of the formula (III)
And thioerythritol tetrakis (β-thiopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), and trimethylolpropane tris (β -Thiopropionate), trimethylolpropane tris (thioglycolate), ethylene glycol bis (β-thiopropionate), ethylene glycol bis (thioglycolate), diethylene glycol bis (β-thiopropionate), diethylene glycol Bis (thioglycolate), triethylene glycol bis (β-thiopropionate), triethylene glycol (thioglycolate), butanediol bis (β-thiopropionate), butanediol bis (thio Rikoreto), dipentaerythritol hexakis (beta-thiopropionate), dipentaerythritol hexakis (thioglycolate), and the like.
【0019】[0019]
【化6】 Embedded image
【0020】(式中、XはHS−(CH2 )b −CO−
(OCH2 CH2 )d −(CH2 )c−を示す。但し、
b及びcは、それぞれ独立して、1〜8の整数を示し、
dは0、1又は2を示す) 式(IV)の化合物は、β−チオール基含有イソシアネー
トである。式(IV)の化合物の具体例としては、例え
ば、トリス[2−(β−チオプロピオニルオキシ)エチ
ル]イソシアヌレート、トリス(2−チオグリコニルオ
キシエチル)イソシアヌレート、トリス[2−(β−チ
オグリコニルオキシエトキシ)エチル]イソシアヌレー
ト、トリス(2−チオグリコニルオキシエトキシ)エチ
ル)イソシアヌレート、トリス[3−(β−チオプロピ
オニルオキシ)プロピル]イソシアヌレート、トリス
(3−チオグリコニルオキシプロピル)イソシアヌレー
ト等が挙げられる。(Wherein X is HS- (CH 2 ) b -CO-
(OCH 2 CH 2) d - (CH 2) c - shows a. However,
b and c each independently represent an integer of 1 to 8,
d represents 0, 1 or 2) The compound of the formula (IV) is a β-thiol group-containing isocyanate. Specific examples of the compound of the formula (IV) include, for example, tris [2- (β-thiopropionyloxy) ethyl] isocyanurate, tris (2-thioglyconyloxyethyl) isocyanurate, tris [2- (β- Thioglyconyloxyethoxy) ethyl] isocyanurate, tris (2-thioglyconyloxyethoxy) ethyl) isocyanurate, tris [3- (β-thiopropionyloxy) propyl] isocyanurate, tris (3-thioglyconyloxy Propyl) isocyanurate and the like.
【0021】[0021]
【化7】 Embedded image
【0022】(式中、R6 及びR7 は、それぞれ独立し
て、アルキレン基を示し、e及びfは、それぞれ独立し
て、0又は1を示し、gは1又は2を示す)(Wherein, R 6 and R 7 each independently represent an alkylene group, e and f each independently represent 0 or 1, and g represents 1 or 2)
【0023】式(V)の化合物はチオール基含有炭化水
素である。式(V)の化合物の具体例としては、例えば
ベンゼンジメルカプタン、キシリレンジメルカプタン、
4,4′−ジメルカプトジフェニルスルフィド、等が挙
げられる。メルカプト化合物の混合割合は、アクリレー
ト化合物100重量部に対して、通常1〜10重量部、
好ましくは4〜8重量部である。メルカプト化合物の割
合が少なすぎると硬化樹脂の複屈折が増大し、また、多
すぎると硬化樹脂の耐熱性が低下する惧れがある。The compound of the formula (V) is a thiol group-containing hydrocarbon. Specific examples of the compound of the formula (V) include, for example, benzenedimercaptan, xylylenedimercaptan,
4,4'-dimercaptodiphenyl sulfide and the like. The mixing ratio of the mercapto compound is usually 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylate compound.
Preferably it is 4 to 8 parts by weight. If the proportion of the mercapto compound is too small, the birefringence of the cured resin increases, and if it is too large, the heat resistance of the cured resin may be reduced.
【0024】通常、光硬化性樹脂組成物には、活性エネ
ルギー線によってラジカルを発生する光重合開始剤が混
合される。光重合開始剤としては公知の化合物を使用す
ることができる。光重合開始剤の混合割合は、光硬化性
樹脂組成物中のモノマー100重量部に対して、通常
0.01〜1重量部、好ましくは0.02〜0.3重量
部である。光重合開始剤の割合が少なすぎると組成物を
十分に硬化させることができず、また、多すぎると重合
が急激に進行し、複屈折の増大をもたらすだけでなく、
色相も悪化する惧れがある。光硬化性樹脂組成物には、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、レベリング
剤、染料、顔料、チクソトロピー性付与剤等の添加剤を
混合してもよい。Usually, a photopolymerization initiator which generates a radical by an active energy ray is mixed with the photocurable resin composition. Known compounds can be used as the photopolymerization initiator. The mixing ratio of the photopolymerization initiator is usually 0.01 to 1 part by weight, preferably 0.02 to 0.3 part by weight, based on 100 parts by weight of the monomer in the photocurable resin composition. If the proportion of the photopolymerization initiator is too small, the composition cannot be sufficiently cured, and if it is too large, the polymerization proceeds rapidly and not only increases the birefringence,
Hue may also deteriorate. In the photocurable resin composition,
Additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, dyes, pigments, and thixotropic agents may be mixed.
【0025】(成形型)光硬化性樹脂組成物を成形する
のに用いる成形型の一例は、図1の成形型1である。成
形型1は、図1に示すように、一対に板状成形型2a、
2bを所定間隔を置いて対向せしめ、その周辺部をシー
ル材3でシールされている。板状成形型2a、2bは、
図1に示すように平板とするほか、目的に応じて湾曲又
は波形状の板状態に賦型することができる。また、内面
にのみ波形、グレーティングレンズ構造等の物品形状又
は模様等を付すことができる。板状成形型2a、2bの
少なくとも一方は活性エネルギー線が透過し、熱又は溶
媒によって容易に変形しない材料が用いられ、例えば、
ガラス及びアクリル樹脂板等のプラスチック板等を用い
ることができるが、耐熱性、低熱膨張性等の面でガラス
板が好ましい。他方の板状成形型は、一方の板状成形型
と同一材料であってもよく、また、金属等の活性エネル
ギー線を透過しない異なる材料であってもよい。(Mold) A mold used for molding the photocurable resin composition is an example of the mold 1 shown in FIG. As shown in FIG. 1, the mold 1 includes a pair of plate-shaped molds 2 a,
2b are opposed to each other at a predetermined interval, and the periphery thereof is sealed with a sealing material 3. The plate-shaped molds 2a, 2b
In addition to being a flat plate as shown in FIG. 1, it can be shaped into a curved or corrugated plate state according to the purpose. Further, only the inner surface can be provided with an article shape or pattern such as a waveform, a grating lens structure or the like. At least one of the plate-shaped molds 2a and 2b is made of a material through which active energy rays pass and which is not easily deformed by heat or a solvent.
Glass and a plastic plate such as an acrylic resin plate can be used, but a glass plate is preferable in terms of heat resistance and low thermal expansion. The other plate-shaped mold may be the same material as the one plate-shaped mold, or may be a different material that does not transmit active energy rays, such as metal.
【0026】対向して設けられた板状成形型2a、2b
の周辺部をシールするシール材3の材質は特に制約され
ることはなく、ゴム、プラスチック、金属等を用いるこ
とができる。シール材3は、厚手のものを使用すれば板
状成形型2a、2bの間隔を規制するスペーサーとして
の作用をするが、必要に応じて板状成形型2a、2bの
間にスペーサー(図示せず)を介装しシール材としてテ
ープ等を用いることができる。Plate-shaped molds 2a, 2b provided opposite to each other
There is no particular limitation on the material of the sealing material 3 for sealing the peripheral portion of the device, and rubber, plastic, metal, or the like can be used. If a thick sealing material 3 is used, it acts as a spacer for regulating the interval between the plate-shaped molds 2a and 2b. However, if necessary, a spacer (shown in the figure) is provided between the plate-shaped molds 2a and 2b. And a tape or the like can be used as a sealing material.
【0027】本発明に用いる板状成形型2a、2bの内
面には、フィルム4a、4bが介在される。フィルム4
a、4bは、光硬化性樹脂を硬化させるのに十分な活性
エネルギー線を透過する材料が用いられる。通常、フィ
ルム4a、4bの透明度(光透過度)は80%以上であ
る。また、フィルム4a、4bは、光硬化性樹脂を硬化
させるための活性エネルギー線や、硬化時に発生する熱
等により容易にその形状を変形しない物質からなり、フ
ィルムのガラス転移温度(Tg)は通常100〜200
℃である。Films 4a and 4b are interposed on the inner surfaces of the plate-shaped molds 2a and 2b used in the present invention. Film 4
For a and 4b, a material that transmits an active energy ray sufficient to cure the photocurable resin is used. Usually, the transparency (light transmittance) of the films 4a and 4b is 80% or more. The films 4a and 4b are made of an active energy ray for curing the photocurable resin or a substance that does not easily deform its shape due to heat generated at the time of curing, and the glass transition temperature (Tg) of the film is usually 100-200
° C.
【0028】この目的に適する材料としては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリメチルペンテン、ポリカーボ
ネート等を用いることができるが、透明性、耐熱性、強
度及び光硬化性樹脂との密着性が低い等の点でポリエチ
レンテレフタレートが特に好ましい。また、フィルム4
a、4bの表面には、離型性付与、滑り性改良、表面粗
さ向上、ガスバリア性向上等種々の目的によりコーティ
ング処理、コロナ処理等の表面処理を施したものであっ
てもよい。フィルム4a、4bの表面粗さRaは通常5
0nm以下である。Raがこれより大きいと、得られる
光硬化樹脂シートの表面平滑性が得られなくなり好まし
くない。As a material suitable for this purpose, polyethylene terephthalate, polymethylpentene, polycarbonate and the like can be used, but polyethylene, for example, is low in transparency, heat resistance, strength and adhesion to a photocurable resin. Terephthalate is particularly preferred. Also, film 4
The surfaces of a and 4b may be subjected to surface treatment such as coating treatment and corona treatment for various purposes such as imparting releasability, improving slipperiness, improving surface roughness, and improving gas barrier properties. The surface roughness Ra of the films 4a and 4b is usually 5
0 nm or less. If Ra is larger than this, the surface smoothness of the obtained photocurable resin sheet cannot be obtained, which is not preferable.
【0029】本発明のフィルム4a、4bの厚みの好ま
しい範囲は、10〜500μmである。フィルムの厚み
が500μmより大きいと、フィルムのしなやかさが不
足し、光硬化樹脂シートを離型する際、光硬化樹脂シー
トが破損する傾向があり、広面積の光硬化樹脂シートを
成形する際にはこの傾向が特に顕著となる。一方フィル
ムの厚さが10μm未満では、フィルムを板状成形型か
ら除去する際に、フィルム部分が破損しやすくなる。本
発明のフィルム4a、4bは、粘着剤により成形型に固
定して使用される。これにより成形体の形状安定性を向
上させ、或いは成形型として繰り返し使用を容易にする
ことができる。また、フィルムが撓んだり、しわが寄っ
たりするのを防ぐため、予め粘着層が塗布形成されたフ
ィルムを用いるのがより好ましい。The preferred range of the thickness of the films 4a and 4b of the present invention is 10 to 500 μm. When the thickness of the film is larger than 500 μm, the flexibility of the film is insufficient, and when the photocurable resin sheet is released, the photocurable resin sheet tends to be damaged. This tendency is particularly remarkable. On the other hand, when the thickness of the film is less than 10 μm, the film portion is easily damaged when the film is removed from the plate-shaped mold. The films 4a and 4b of the present invention are used by being fixed to a mold with an adhesive. Thereby, the shape stability of the molded body can be improved, or repeated use as a molding die can be facilitated. Further, in order to prevent the film from bending or wrinkling, it is more preferable to use a film on which an adhesive layer has been applied in advance.
【0030】本発明のフィルムの粘着層としては公知の
粘着剤、特に溶剤系弱粘着(L型剥離強度150g/c
m以下)タイプの粘着剤を使用できるが、その具体例と
しては、市販のアクリル系粘着剤、市販のアクリル系粘
着剤及び市販のウレタン系硬化剤の混合系粘着剤等が挙
げられる。フィルムへの粘着層の塗工は、例えばグラビ
アコーター等のコーティング装置によって行うことがで
きる。本発明では、その粘着層の厚みが1〜30μm、
より好ましくは5〜30μmであることを特徴とする。
粘着層の厚みが1μmよりも小さいと、溶剤乾燥工程に
おいてクレーター状の欠陥が発生しやすいため好ましく
ない。これは粘着剤の粘度が低いために、微小な乾燥現
象のムラが直ちに欠陥形成を引き起こすためと推定され
る。逆に30μmよりも大きいと塗りムラが生じやす
く、従って固定された状態でのフィルム表面の平滑性が
損なわれ好ましくない。As the pressure-sensitive adhesive layer of the film of the present invention, a known pressure-sensitive adhesive, particularly a solvent-based weak pressure-sensitive adhesive (L-peel strength 150 g / c)
m or less) type pressure-sensitive adhesives can be used, and specific examples thereof include a commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive, a mixed pressure-sensitive adhesive of a commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive, and a commercially available urethane-based curing agent. The application of the adhesive layer to the film can be performed by a coating device such as a gravure coater. In the present invention, the thickness of the adhesive layer is 1 to 30 μm,
More preferably, the thickness is 5 to 30 μm.
If the thickness of the adhesive layer is less than 1 μm, crater-like defects are likely to occur in the solvent drying step, which is not preferable. This is presumed to be due to the low viscosity of the pressure-sensitive adhesive, which causes minute unevenness in the drying phenomenon to immediately cause defect formation. Conversely, if it is larger than 30 μm, coating unevenness is likely to occur, and therefore the smoothness of the film surface in a fixed state is impaired, which is not preferable.
【0031】粘着剤の溶剤としては、沸点が50〜15
0℃の有機溶剤が好ましく、中でもベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素と酢酸メチル、酢
酸エチルのような脂肪族カルボン酸エステルとを組み合
わせた混合溶剤が好ましい。これらの中、トルエン及び
酢酸エチルの混合溶剤(重量比:1/99〜99/1)
が、塗りムラを生じにくく、且つクレーター状の欠陥を
生じにくい点で特に好ましい。The solvent for the pressure-sensitive adhesive has a boiling point of 50 to 15
An organic solvent at 0 ° C. is preferable, and among them, a mixed solvent in which an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene, and xylene is combined with an aliphatic carboxylic acid ester such as methyl acetate and ethyl acetate is preferable. Among them, a mixed solvent of toluene and ethyl acetate (weight ratio: 1/99 to 99/1)
Is particularly preferable in that uneven coating is hardly generated and crater-shaped defects are hardly generated.
【0032】粘着剤は、フィルムへの塗工前に予めフィ
ルターによって濾過し、各種不純物やゲル分等を除去し
ておくと、より欠陥を減少できる点で好ましい。そのフ
ィルターの粗さは10μm以下、より好ましくは7μm
以下である。粘着層付きフィルムの固定手段としては、
ラミネータによりラミネートする方法等が好ましく用い
られる。この場合は、成形品の表面平滑性を確保するた
めに、そのラミネート圧力を比較的高く設定するのが好
ましく、ラミネート圧力は通常1.5MPa以上0.5
MPa以下程度である。また良好なラミネートを行う目
的で、ラミネートロールを加熱することができる。It is preferable that the pressure-sensitive adhesive is filtered through a filter in advance before coating on a film to remove various impurities, gel components, and the like, since defects can be further reduced. The roughness of the filter is 10 μm or less, more preferably 7 μm
It is as follows. As a fixing means of the film with the adhesive layer,
A method of laminating with a laminator is preferably used. In this case, in order to ensure the surface smoothness of the molded product, it is preferable to set the lamination pressure relatively high, and the lamination pressure is usually 1.5 MPa or more and 0.5 MPa or more.
MPa or less. The laminating roll can be heated for the purpose of performing good lamination.
【0033】(硬化反応)このような成形型1を用いて
光硬化樹脂シートを形成する際は、対向する板状成形型
2a、2bとシール材3で画製されたキャビティー5に
重合開始剤その他の添加剤を配合した光硬化性樹脂を注
入し、活性エネルギー線透過性の板状成形型2aの方向
から活性エネルギー線6を照射して光硬化性樹脂を硬化
させる。この際、必要に応じて成形型1を加熱或いは冷
却することができる。活性エネルギー線は、用いる光硬
化性樹脂を硬化させるものであればよく、例えば紫外
線、電子線等が挙げられる。活性エネルギー線の照射量
は、用いる光硬化性樹脂を硬化させる量であればよく、
モノマー及び重合開始剤の種類、量を参酌して、例え
ば、波長が200〜400nmの紫外線を通常0.1〜
200jの範囲で照射する。(Curing Reaction) When a photocurable resin sheet is formed using such a mold 1, polymerization is initiated in the cavity 5 defined by the opposing plate-shaped molds 2a and 2b and the sealing material 3. A photo-curable resin containing an agent and other additives is injected, and the photo-curable resin is cured by irradiating with an active energy ray 6 from the direction of the active energy ray-transmissive plate-shaped mold 2a. At this time, the mold 1 can be heated or cooled as needed. The active energy ray may be any as long as it cures the photocurable resin to be used, and examples thereof include ultraviolet rays and electron beams. The irradiation amount of the active energy ray may be an amount that cures the photocurable resin to be used,
Considering the type and amount of the monomer and the polymerization initiator, for example, ultraviolet light having a wavelength of 200 to 400 nm is usually 0.1 to 400 nm.
Irradiate in the range of 200j.
【0034】活性エネルギー線の照射は、1段で行って
もよいが、表面性状の良好な光硬化樹脂シートを得るた
めには、複数段で、少なくとも2段で行うことが好まし
い。照射を2段で行う場合、その第1段階では活性エネ
ルギー線の硬化所要量の通常15%以下、好ましくは1
0%以下、特に好ましくは7%以下を照射して、型内の
光硬化性樹脂組成物が自己保形性を有するように、即
ち、スペーサーを取外しても樹脂が漏洩しないようにゲ
ル化させる。なお、明細書において、活性エネルギー線
の硬化所要量とは、型内の光硬化性樹脂組成物のエチレ
ン性炭素−炭素二重結合の80%を消失させるのに要す
る照射量を指すものとする。なお、活性エネルギー線の
照射によるエチレン性炭素−炭素二重結合の消失の割合
は、下記式により算出される。Irradiation with active energy rays may be carried out in one step, but in order to obtain a photocurable resin sheet having good surface properties, it is preferable to carry out irradiation in a plurality of steps and at least two steps. When the irradiation is carried out in two stages, the first stage is usually 15% or less, preferably 1% or less of the required amount of the active energy ray for curing.
Irradiation is performed at 0% or less, particularly preferably at 7% or less, so that the photocurable resin composition in the mold has a self-retaining property, that is, gels so that the resin does not leak even if the spacer is removed. . In the specification, the required curing amount of the active energy ray refers to the irradiation amount required to eliminate 80% of the ethylenic carbon-carbon double bond of the photocurable resin composition in the mold. . The rate of disappearance of the ethylenic carbon-carbon double bond due to irradiation with active energy rays is calculated by the following equation.
【0035】[0035]
【数1】消失量=(1−K/M)×100(%) M=AM/BM AM:活性エネルギー線照射前の赤外吸収における二重
結合のピーク面積 BM:活性エネルギー線照射前の赤外吸収におけるC−
H結合のピーク面積 K=AK/BK AK:活性エネルギー線照射後の赤外吸収における二重
結合のピーク面積 BK:活性エネルギー線照射後の赤外吸収におけるC−
H結合のピーク面積 なお、二重結合のピークは1658.5〜1591cm
-1に出現し、C−H結合のピークは3210〜280
9.8cm-1に出現する。[Number 1] loss amount = (1-K / M) × 100 (%) M = A M / B M A M: peak area of the double bond in the infrared absorption before active energy ray irradiation B M: active energy C- in infrared absorption before X-ray irradiation
H bond peak area K = A K / B K A K: the peak area of the double bond in the infrared absorption after irradiation with an active energy ray B K: C-in infrared absorption after active energy ray irradiation
The peak area of the H bond is 1658.5 to 1591 cm.
-1 and the peak of CH bond is 3210-280.
Appears at 9.8 cm -1 .
【0036】第2段階では、モノマーの95〜100%
が反応するように照射を行い、重合を完結させる。活性
エネルギー線を照射する雰囲気は、通常の大気中又は不
活性ガス雰囲気のいずれでもよい。また、照射時の温度
は、通常、第1段階が常温〜100℃、第2段階が常温
〜300℃であり、照射時間は、通常、第1段階が1秒
〜1分、第2段階が10秒〜10分である。活性エネル
ギー線の光源としては、ケミカルランプ、キセノンラン
プ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライド
ランプ等が用いられる。In the second stage, 95-100% of the monomer
Irradiation is carried out so as to react to complete the polymerization. The atmosphere for irradiating the active energy ray may be any of ordinary air or an inert gas atmosphere. The temperature during irradiation is usually from room temperature to 100 ° C. in the first stage, from room temperature to 300 ° C. in the second stage, and the irradiation time is usually from 1 second to 1 minute in the first stage and from 2 seconds to 1 minute. 10 seconds to 10 minutes. As a light source of the active energy ray, a chemical lamp, a xenon lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used.
【0037】(離型)活性エネルギー線6を照射して硬
化が完了した後、板状成形型2a、2bを光硬化樹脂シ
ート7から離型する。通常、板状成形型2a、2bとフ
ィルム4a、4bとが固定されたままで、光硬化樹脂シ
ート7のみを離型する。光硬化樹脂シートを通常100
〜150℃程度に加熱しながら離型すると、フィルムが
軟化してしなやかさが増し、離型が容易となる。(Release) After the curing by irradiation with the active energy ray 6 is completed, the plate-shaped molds 2 a and 2 b are released from the photocurable resin sheet 7. Usually, only the photocurable resin sheet 7 is released while the plate-shaped molds 2a and 2b and the films 4a and 4b are fixed. Light curable resin sheet is usually 100
When the mold is released while being heated to about 150 ° C., the film is softened, the flexibility increases, and the release becomes easy.
【0038】また、板状成形型2a、2bからフィルム
4a、4bが付着した状態の光硬化樹脂シート7を離型
した後、フィルム4a、4bを剥離してもよい。この場
合、フィルム4a、4bを板状成形型2a、2bに固定
するため粘着層として、活性エネルギー線を照射するこ
とによってその粘着力が低下するものを用いると、板状
成形型2a、2bとフィルム4a、4bとの間で容易に
離型が行えるので好ましい。このようにして得られた光
硬化樹脂シールは、表面粗度Raが、通常20nm以
下、好ましくは10nm以下、また、表面粗度Rmax
が、通常150nm以下、好ましくは100nm以下で
あり、表面平滑性に優れている。得られた光硬化樹脂シ
ートの厚さは通常50〜3000μm、複屈折は通常1
0nm以下、好ましくは5nm以下である。After the photocurable resin sheet 7 with the films 4a and 4b attached thereto is released from the plate-shaped molds 2a and 2b, the films 4a and 4b may be peeled off. In this case, if the adhesive layer for fixing the films 4a and 4b to the plate-shaped molds 2a and 2b, the adhesive strength of which is reduced by irradiating active energy rays is used, This is preferable because the mold can be easily released between the films 4a and 4b. The photocurable resin seal thus obtained has a surface roughness Ra of usually 20 nm or less, preferably 10 nm or less, and a surface roughness Rmax.
However, it is usually 150 nm or less, preferably 100 nm or less, and is excellent in surface smoothness. The thickness of the obtained photocurable resin sheet is usually 50 to 3000 μm, and the birefringence is usually 1
It is 0 nm or less, preferably 5 nm or less.
【0039】[0039]
【実施例】以下、本発明の内容を実施例により更に具体
的に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限り以
下の実施例に限定されるものではない。なお、評価方法
は次の通りである。 離型性:成形型から硬化後の光硬化樹脂シートを離型す
る際に、シートが破損しないか、目視により外観を確認
した。 表面粗さ:サーフコム表面粗さ計(東京精密社製)によ
りRaを測定した。 欠陥:目視によりその個数を数えた。EXAMPLES Hereinafter, the content of the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. The evaluation method is as follows. Releasability: When releasing the cured photocurable resin sheet from the mold, the sheet was visually inspected for breakage or not. Surface roughness: Ra was measured with a Surfcom surface roughness meter (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.). Defects: The number was visually counted.
【0040】実施例1 粘着剤として、市販のアクリル系粘着剤100重量部、
ウレタン硬化剤1重量部を、トルエン/酢酸エチル=5
0/50(重量比)の溶剤に溶解し、固形分20%濃度
の溶液を調製した。この粘着剤を、厚さ25μmのポリ
エチレンテレフタレートフィルム(表面粗さRa=20
nm;三菱化学ポリエステルフィルム社製)に、グラビ
アコーターにてコーティングし(塗工速度5m/秒)、
70℃+120℃+80℃の三段階の乾燥処理を施し、
粘着層付きフィルムを得た。粘着層の厚みは15μmで
あった。得られた粘着層付きフィルムを、2枚のガラス
製平板(縦300mm×横300mm×厚さ5mm)に
それぞれラミネータによりラミネートして固定した。該
ポリエチレンテレフタレートフィルムが固定された面が
内面となるようにその2枚のガラス製平板を対向させ、
スペーサーとして幅5mm、厚さ1mmのシリコーン板
を用いキャビティーを形成させ周辺部をテープでシール
して注入型を形成した。Example 1 As an adhesive, 100 parts by weight of a commercially available acrylic adhesive was used.
1 part by weight of a urethane curing agent is added to toluene / ethyl acetate = 5
It was dissolved in a 0/50 (weight ratio) solvent to prepare a solution having a solid content of 20%. This adhesive was applied to a 25 μm thick polyethylene terephthalate film (surface roughness Ra = 20).
nm; manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co.) with a gravure coater (coating speed 5 m / sec),
Apply a three-stage drying process at 70 ° C + 120 ° C + 80 ° C,
A film with an adhesive layer was obtained. The thickness of the adhesive layer was 15 μm. The resulting film with an adhesive layer was laminated and fixed to two glass flat plates (300 mm long × 300 mm wide × 5 mm thick) using a laminator. The two glass flat plates are opposed to each other so that the surface on which the polyethylene terephthalate film is fixed is an inner surface,
A cavity was formed using a silicone plate having a width of 5 mm and a thickness of 1 mm as a spacer, and a peripheral portion was sealed with a tape to form an injection mold.
【0041】光硬化性樹脂としては、p−ビス(β−メ
タクリロイルオキシエチルチオ)キシリレン99重量
部、ペンタエリスリトールテトラキス(β−チオプロピ
オネート)1重量部、光重合開始剤として2,4,6−
トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド
(BASF社製)0.1重量部、ベンゾフェノン0.1
重量部を均一に撹拌混合した後、脱泡して得た組成物を
用いた。この組成物を、注入型に注入し、ガラス面より
距離400mmで上下両面から出力80W/cmのメタ
ルハライドランプで30秒間+5分間の二段階で紫外線
を照射し硬化させた。その後注入型全体を150℃のオ
ーブンに投入し、ポリエチレンテレフタレートフィルム
を軟化させ、シートを離型した。評価結果は表1の通り
であった。The photocurable resin includes 99 parts by weight of p-bis (β-methacryloyloxyethylthio) xylylene, 1 part by weight of pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate), and 2,4,4 as a photopolymerization initiator. 6-
0.1 parts by weight of trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (manufactured by BASF), benzophenone 0.1
After uniformly stirring and mixing parts by weight, a composition obtained by defoaming was used. This composition was poured into a casting mold, and cured by irradiating ultraviolet rays in two stages of 30 seconds and 5 minutes with a metal halide lamp having an output of 80 W / cm from both upper and lower surfaces at a distance of 400 mm from the glass surface for 30 seconds. Thereafter, the entire injection mold was put into an oven at 150 ° C. to soften the polyethylene terephthalate film and release the sheet. The evaluation results are as shown in Table 1.
【0042】実施例2 スペーサーとして幅5mm、厚さ0.5mmのシリコー
ン板を用いた以外は実施例1と同様に行った。評価結果
は表1の通りであった。Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that a silicone plate having a width of 5 mm and a thickness of 0.5 mm was used as a spacer. The evaluation results are as shown in Table 1.
【0043】実施例3 光硬化性樹脂の原料として、ビス(オキシメチル)トリ
シクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタクリレート
95重量部、ペンタエリスリトールテトラキス(β−チ
オプロピオネート)5重量部、光重合開始剤として2,
4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キシド0.1重量部、ベンゾフェノン0.1重量部を用
いた以外は実施例1と同様に行った。評価結果は表1の
通りであった。Example 3 As raw materials for a photocurable resin, 95 parts by weight of bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethacrylate, pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate) 5 parts by weight, 2,
Example 1 was repeated except that 0.1 part by weight of 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 0.1 part by weight of benzophenone were used. The evaluation results are as shown in Table 1.
【0044】実施例4 光硬化性樹脂の原料として、ビス(オキシメチル)トリ
シクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタクリレート
94重量部、ビス(オキシメチル)トリシクロ[5.
2.1.02,6]デカンモノメタクリレート6部、ペン
タエリスリトールテトラキス(β−チオプロピオネー
ト)5重量部、光重合開始剤として2,4,6−トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド0.1重
量部、ベンゾフェノン0.1重量部を用いた以外は実施
例1と同様に行った。評価結果は表1の通りであった。Example 4 As a raw material for a photocurable resin, 94 parts by weight of bis (oxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethacrylate and bis (oxymethyl) tricyclo [5.
2.1.0 2,6 ] decane monomethacrylate 6 parts, pentaerythritol tetrakis (β-thiopropionate) 5 parts by weight, photopolymerization initiator 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide 0.1 parts by weight Parts, and 0.1 parts by weight of benzophenone, in the same manner as in Example 1. The evaluation results are as shown in Table 1.
【0045】比較例1 実施例1において、フィルム及び粘着剤を使用しなかっ
た以外は同例と同様に行った。評価結果は表1の通りで
あった。Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated, except that the film and the adhesive were not used. The evaluation results are as shown in Table 1.
【0046】比較例2 実施例1において、粘着層の厚さを50μmに調整して
コーティングした以外は同例と同様に行った。評価結果
は表1の通りであった。Comparative Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that the thickness of the adhesive layer was adjusted to 50 μm for coating. The evaluation results are as shown in Table 1.
【0047】実施例5 実施例1において、粘着剤の溶剤として酢酸エチルのみ
を用いた以外は同例と同様に行った。粘着層の厚み15
μm。評価結果は表1の通りであった。Example 5 The procedure of Example 1 was repeated, except that only ethyl acetate was used as the solvent for the adhesive. Adhesive layer thickness 15
μm. The evaluation results are as shown in Table 1.
【0048】実施例6 実施例1において、粘着剤の溶剤としてトルエンのみを
用いた以外は同例と同様に行った。粘着層の厚み15μ
m。評価結果は表1の通りであった。Example 6 The procedure of Example 1 was repeated, except that only toluene was used as the solvent for the adhesive. Adhesive layer thickness 15μ
m. The evaluation results are as shown in Table 1.
【0049】[0049]
【表1】 [Table 1]
【0050】[0050]
【発明の効果】本発明の方法によれば、液晶ディスプレ
イ、タッチパネル用シート、透明導電性シート等の基板
として使用できる光硬化樹脂シートの薄膜化が容易で、
広面積の光硬化樹脂シートも損傷なく成形できると共
に、表面平滑性を始めとする品質の良好な光硬化樹脂シ
ートを生産性よく製造することができる。According to the method of the present invention, a photocurable resin sheet which can be used as a substrate for a liquid crystal display, a sheet for a touch panel, a transparent conductive sheet, or the like can be easily thinned.
A wide-area photocurable resin sheet can be molded without damage, and a photocurable resin sheet of good quality including surface smoothness can be manufactured with high productivity.
【図1】本発明の実施例を示す成形型の部分切り欠き斜
視図である。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view of a molding die showing an embodiment of the present invention.
1 成形型 2a、2b 板状成形型 3 シール材 4a、4b フィルム 5 キャビティー 6 活性エネルギー線 7 光硬化樹脂シート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mold 2a, 2b Plate-shaped mold 3 Sealing material 4a, 4b Film 5 Cavity 6 Active energy ray 7 Photocurable resin sheet
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 220/20 C08F 220/20 //(C08F 220/20 (C08F 220/20 220:28) 220:28) B29K 101:00 B29K 101:00 B29L 7:00 B29L 7:00 Fターム(参考) 4F202 AA44 AG01 AJ03 AR12 CA01 CB01 CD30 CK11 CK13 CK86 CL02 CM90 4F204 AA44 AG01 AJ03 AR12 EA03 EA05 EB01 EF27 EK22 EK24 EW01 EW34 4J011 AA01 BA03 BB06 DA02 DB12 DB14 FA06 FB01 FB19 GA05 GB08 PA45 PB40 PC02 QA03 QA12 QA34 QA45 UA01 VA05 WA10 4J100 AL08Q AL66P BA03Q BC12P BC12Q CA04 CA23 FA00 JA32 JA36 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08F 220/20 C08F 220/20 // (C08F 220/20 (C08F 220/20 220: 28) 220: 28 ) B29K 101: 00 B29K 101: 00 B29L 7:00 B29L 7:00 F term (reference) 4F202 AA44 AG01 AJ03 AR12 CA01 CB01 CD30 CK11 CK13 CK86 CL02 CM90 4F204 AA44 AG01 AJ03 AR12 EA03 EA05 EB01 EF27 EW01 EA24 EA27 BA03 BB06 DA02 DB12 DB14 FA06 FB01 FB19 GA05 GB08 PA45 PB40 PC02 QA03 QA12 QA34 QA45 UA01 VA05 WA10 4J100 AL08Q AL66P BA03Q BC12P BC12Q CA04 CA23 FA00 JA32 JA36
Claims (5)
過する一対の板状成形型を所定間隔を置いて対向させる
と共に周辺部をシールして形成され、且つ一対の板状成
形型の各内面にフィルムが粘着層を介して固定されてな
る成形キャビディーに光硬化性樹脂を注入し、活性エネ
ルギー線を透過する板状成形型を通して、該光硬化性樹
脂に活性エネルギー線を照射して光硬化性樹脂を硬化さ
せ、次いで光硬化性樹脂成形体を板状成形型から離型し
て光硬化樹脂シートを得る方法において、粘着層の厚み
が1〜30μmであることを特徴とする光硬化樹脂シー
トの製造方法。1. A pair of plate-shaped molds, at least one of which transmits an active energy ray, are formed at predetermined intervals to face each other and are formed by sealing a peripheral portion, and a film is formed on each inner surface of the pair of plate-shaped molds. The photocurable resin is injected into a molding cavity in which is fixed via an adhesive layer, and the photocurable resin is irradiated with active energy rays through a plate-shaped mold that transmits active energy rays to form a photocurable resin. A method for obtaining a photocurable resin sheet by curing a resin and then releasing the photocurable resin molded article from a plate-shaped mold, wherein the thickness of the adhesive layer is 1 to 30 μm. Manufacturing method.
樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載の方法。2. The method according to claim 1, wherein the film comprises a polyethylene terephthalate resin.
チルからなる溶剤系に溶解されてなる請求項1又は2に
記載の方法。3. The method according to claim 1, wherein the adhesive of the film is dissolved in a solvent system consisting of toluene and ethyl acetate.
ルターで濾過されたものである請求項1ないし3のいず
れかに記載の方法。4. The method according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive of the film is filtered through a filter having a size of 10 μm or less.
含有してなる光硬化性樹脂組成物(但し、各成分の割合
は、成分Aと成分Bとの合計を100重量部として表
す)である請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。 成分A:一般式(I)で表される含脂環骨格ビス(メ
タ)アクリレート:70〜99重量部 【化1】 (式中、R1 及びR2 は、それぞれ独立して、水素原子
又はメチル基を示し、mは1又は2を示し、nは0又は
1を示し、p及びqは、それぞれ独立して、0、1又は
2を示す) 成分B:一般式(II)で表される含脂環骨格モノ(メ
タ)アクリレート:1〜30重量部 【化2】 (式中、R3 は水素原子又はメチル基を示し、mは1又
は2を示し、nは0又は1を示し、r及びsは、それぞ
れ独立して、0、1又は2を示す) 成分C:少なくとも二官能性のメルカプト化合物:1〜
10重量部5. A photocurable resin composition in which the photocurable resin contains the following components A, B and C (provided that the proportion of each component is 100 parts by weight of the total of the component A and the component B). 5) The method according to any one of claims 1 to 4. Component A: alicyclic skeleton bis (meth) acrylate represented by the general formula (I): 70 to 99 parts by weight (Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, m represents 1 or 2, n represents 0 or 1, p and q each independently represent 0, 1, or 2) Component B: a monocyclic (meth) acrylate having an alicyclic ring skeleton represented by the general formula (II): 1 to 30 parts by weight (Wherein, R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents 1 or 2, n represents 0 or 1, r and s each independently represent 0, 1 or 2) C: at least bifunctional mercapto compound: 1 to
10 parts by weight
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JP2000314831A JP2002120234A (en) | 2000-10-16 | 2000-10-16 | Method of manufacturing photocurable resin sheet |
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2000
- 2000-10-16 JP JP2000314831A patent/JP2002120234A/en active Pending
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