JP2002117532A

JP2002117532A - 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法

Info

Publication number: JP2002117532A
Application number: JP2000310477A
Authority: JP
Inventors: Kazuishi Mitani; 一石三谷; Yasuhiro Saito; 靖弘斉藤; Tatsuro Umeyama; 竜郎梅山
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 2000-10-11
Filing date: 2000-10-11
Publication date: 2002-04-19
Also published as: US6715318B2; US20020064620A1

Abstract

(57)【要約】【課題】表面凹凸を最適化することによりフライング
ハイトの狭小化に寄与し、同時にヘッドクラッシュおよ
びサーマルアスペリティーを起こさない情報記録媒体用
ガラス基板およびその製造方法を提供する。【解決手段】ハードディスク等の情報記録装置に使用
される情報記録媒体用ガラス基板は、ガラスおよび結晶
化ガラスから成り、ガラス基板の表面層の改質のため
に、エッチングによるテクスチャー処理が施される。次
いで、エッチング処理により必然的に形成される異常突
起をスクラブ表面処理により除去する。このスクラブ表
面処理は、ディスク状のガラス基板２０を円筒状のブラ
シスポンジ２１で挟み、ガラス基板２０とブラシスポン
ジ２１を回転させることにより行う。このスポンジ２１
は、下地層（表面層以外の部分）２２と、表面層２３と
から成ってもよく、表面層２３の硬度が日本ゴム協会標
準規格ＳＲＩＳＯ１０１のアスカーＣで４０以上であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体用ガ
ラス基板およびその製造方法に関し、特に、ハードディ
スク等の情報記録装置に使用される情報記録媒体用ガラ
ス基板およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報のデジタル化の進展は目覚ま
しく、その情報を記録するための情報記録装置が各種開
発製造されている。これら装置の改良進歩はまさに日進
月歩であり、情報記憶容量および記録再生速度が年率十
数％の割合で向上している。このような状況において、
現在最も広く使用されている情報記録装置がハードディ
スクであり、その改良速度は他の装置以上である。

【０００３】ハードディスクでは、情報記録媒体用基板
（以下単に「基板」という）上に形成された情報記録層
に、磁気ヘッドにより、情報の記録再生が行われる。現
在では、ＣＳＳまたはランプロードと呼ばれる方式のハ
ードディスクが一般的に使用されている。ＣＳＳ方式と
は、基板が回転している間は磁気ヘッドがディスクのデ
ータゾーン上を滑空し、基板が移動開始または停止する
ときには基板のＣＳＳゾーン上を滑走するコンタクト・
スタート・ストップ方式と呼ばれる方式である。ここ
で、基板のＣＳＳゾーンとは、基板の一部（主に、内周
または外周に沿って設けられる）に高さ数十ｎｍオーダ
ーの均一な凹凸を意図的に設けた部分をいう。また、ラ
ンプロード方式とは、基板が回転している間は磁気ヘッ
ドが基板上を滑空し、基板が停止する時には磁気ヘッド
が格納位置に収納される方式である。なお、ランプロー
ド方式では、その機構上ＣＳＳゾーンは不要である。さ
らに、近年では磁気ヘッドと基板とが常時接触している
コンタクト方式と呼ばれるものも検討されている。

【０００４】ＣＳＳ方式およびランプロード方式では、
基板が回転している間、磁気ヘッドが数十ｎｍオーダー
の間隔（以下「フライングハイト」という）をもってそ
の表面（情報記録領域）上を滑空する。従って、情報記
録の高密度化を体現するためには、フライングハイトを
小さくする必要がある。しかし、基板の表面凹凸が大き
いと回転中に磁気ヘッドと基板表面の凸部が衝突し、ヘ
ッドクラッシュの起こる可能性が高くなる。また、ヘッ
ドクラッシュにまで至らないまでも、前記衝突による熱
で磁気ヘッドが異常な信号を検知し誤作動するいわゆる
サーマルアスペリティーが発生するおそれがある。特に
最近では、高感度のＭＲヘッドまたはＧＭＲヘッドが主
流となっており、サーマルアスペリティーの問題はより
深刻になってきている。

【０００５】従来は、情報記録領域の凹凸を小さくする
ことで、凸部との衝突に起因するヘッドクラッシュおよ
びサーマルアスペリティーは回避できると考えられたた
め、表面平滑性が高いほど高性能な基板であるとみなさ
れていた。表面凹凸を削り取って平滑な面を形成する技
術の代表的なものとしては、スウェード（人工皮革）を
用いて仕上げ研磨する、すなわち表面層を削り取ること
で平滑基板を形成する方法（特開２０００−５３４５０
号公報）や、ＰＶＡなどのスポンジを用いてスクラブ表
面処理することで、異物や表面凹凸を除去して基板を平
滑化する方法（特開２０００−１４９２４９号公報）な
どが提案されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術には、以下のような問題があった。

【０００７】発明者らの詳細な検討により、基板の表面
平滑性を高めることでヘッドクラッシュの発生頻度は確
かに低下するが、表面凹凸を小さくし過ぎると、かえっ
て磁気ヘッドの飛行安定性が低下し、磁気ヘッドと基板
表面との接触頻度が増大して、ヘッドクラッシュの起き
るおそれが高くなることが見い出された。このように磁
気ヘッドの飛行安定性が低下する原因は明らかでない
が、磁気ヘッドは情報記録領域上を揺らぎながら滑空す
るため基板との接触が避けられず、適度な表面凹凸（以
下「テクスチャー」という）がないと摩擦力が高まるた
めであると考えられている。特に最近では、記録密度を
高めるためにフライングハイトが著しく低く設定されて
おり、磁気ヘッドの揺らぎによるヘッドクラッシュは一
層起き易くなっていると考えられる。そこで、滑空して
いるヘッドと基板が接触する時に磁気ヘッドに過大な抵
抗が掛からないようにする必要があり、その手段として
基板表面を適度に荒らすこと（以下「テクスチャー処
理」という）が考えられる。

【０００８】ところがテクスチャー処理を施した基板で
は、突出した異常突起や基板表面に付着した異物を選択
的に除去するのは困難であり、例えば、ポリビニルホル
マールスポンジやポリウレタンスポンジのような柔らか
なスポンジでスクラブ表面処理した場合は、テクスチャ
ー処理を行った際に生じる異常突起や、強固に付着した
異物を除去するのが困難であったり、あるいは長時間、
高圧、高回転数といった過酷な条件で突出した異常突起
を無理に除去しようとすると、テクスチャーまで過剰に
削り取ってしまうという問題があった。また、研磨機を
用いた研磨、あるは仕上げ研磨についても、基板表面を
削り取ってしまうため、テクスチャーを過剰に削り取っ
てしまうという問題があった。

【０００９】この発明は、上述の問題に着目してなされ
たものであり、その目的とするところは、ガラス基板表
面の凹凸を最適化することによりフライングハイトの狭
小化に寄与し、同時にヘッドクラッシュおよびサーマル
アスペリティーを起こさない情報記録媒体用ガラス基板
およびその製造方法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、請求項１記載の製造方法は、ガラス基板の表面を
研磨し、該研磨されたガラス基板の表面を硬度が日本ゴ
ム協会標準規格ＳＲＩＳＯ１０１のアスカーＣで４０以
上であるスポンジを用いてスクラブ表面処理することを
特徴とする。

【００１１】請求項１記載の製造方法によれば、研磨さ
れたガラス基板の表面を硬度が日本ゴム協会標準規格Ｓ
ＲＩＳＯ１０１のアスカーＣで４０以上であるスポンジ
を用いてスクラブ表面処理するので、スポンジがガラス
基板と接触する部分が微視的に硬く、巨視的にしなやか
であることに起因するスポンジが持つ長所、すなわち、
異物等が混入した際にガラス基板に傷がつきにくかった
り、スポンジとガラス基板の平行度が多少ずれてもスポ
ンジのしなやかさにより緩和できるという長所を保ちつ
つ、ガラス基板の不均一エッチングが原因の異常突起や
強固に付着した異物を除去することが可能となり、異常
突起や突起高さの揃ったテクスチャーを作製することが
でき、その結果、このガラス基板を情報記録媒体として
用いたときに、フライハイトの狭小化と同時にヘッドク
ラッシュおよびサーマルアスペリティが発生するのを防
止することができる。

【００１２】請求項２記載の製造方法は、請求項１記載
の製造方法において、前記スポンジは、下地層と、該下
地層の表面層とから成り、該表面層の硬度が前記アスカ
ーＣで４０以上であることを特徴とする。

【００１３】請求項２記載の製造方法によれば、スポン
ジが、下地層と、該下地層の表面層とから成り、該表面
層の硬度がアスカーＣで４０以上であるので、請求項１
記載の製造方法による作用効果を確実に奏することがで
きる。

【００１４】請求項３記載の製造方法は、請求項２記載
の製造方法において、前記スポンジの表面層は、１００
％モデュラスが４５ｋｇ以上である樹脂から成ることを
特徴とする。

【００１５】請求項３記載の製造方法によれば、スポン
ジの表面層は、１００％モデュラスが４５ｋｇ以上であ
る樹脂から成るので、ガラス基板表面上のテクスチャー
を過剰に削り取らずに異常突起を除去することができ
る。

【００１６】請求項４記載の製造方法は、請求項３記載
の製造方法において、前記樹脂は、ポリカーボネート系
ポリウレタン樹脂であることを特徴とする。

【００１７】請求項４記載の製造方法によれば、樹脂
は、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂であるので、
スポンジの耐薬品特性を向上させることができる。

【００１８】請求項５記載の製造方法は、請求項１乃至
４のいずれか１項に記載の製造方法において、前記スポ
ンジの表面層は、平均開口径が３０μｍ以上の海綿体か
ら成ることを特徴とする。

【００１９】請求項５記載の製造方法によれば、スポン
ジの表面層は、平均開口径が３０μｍ以上の海綿体から
成るので、テクスチャーを過剰に削り取らずに異常突起
を良好に除去することができる。

【００２０】請求項６記載の製造方法は、請求項１乃至
５のいずれか１項に記載の製造方法において、前記スク
ラブ表面処理をｐＨ８以上のアルカリ性水溶液を用いて
行うことを特徴とする。

【００２１】請求項６記載の製造方法によれば、スクラ
ブ表面処理をｐＨ８以上のアルカリ性水溶液を用いて行
うので、除去した異常突起とガラス基板との間に静電反
発力を働かせて除去した異常突起の再付着を防止するこ
とができる。

【００２２】請求項７記載の製造方法は、請求項１乃至
６のいずれか１項に記載の製造方法において、前記スク
ラブ表面処理をｐＨ５以下の酸性水溶液を用いて行うこ
とを特徴とする。

【００２３】請求項７記載の製造方法によれば、スクラ
ブ表面処理をｐＨ５以下の酸性水溶液を用いて行うの
で、金属性の不純物を効果的に溶解し、除去することが
できる。

【００２４】請求項８記載の製造方法は、請求項１乃至
７のいずれか１項に記載の製造方法において、前記スク
ラブ表面処理を、前記ガラス基板の表面にテクスチャー
処理を施した後に当該テクスチャー処理が施されたガラ
ス基板の表面に施すことを特徴とする。

【００２５】請求項９記載の製造方法は、請求項８記載
の製造方法において、前記スクラブ表面処理が施された
ガラス基板の表面に化学強化処理を施すことを特徴とす
る。

【００２６】請求項１０記載の製造方法は、請求項１乃
至７のいずれか１項に記載の製造方法において、前記ス
クラブ表面処理を、前記ガラス基板の表面にテクスチャ
ー処理及び化学強化処理を順に施した後に当該化学強化
処理が施されたガラス基板の表面に施すことを特徴とす
る。

【００２７】上記目的を達成するために、請求項１１記
載の情報記録媒体用ガラス基板は、請求項１乃至１０の
いずれか１項に記載の製造方法によって製造された情報
記録媒体用ガラス基板であって、原子間力顕微鏡により
測定される接触比率が０．４％である前記ガラス基板の
表面のベアリングハイトＢＨ０４が２〜７μｍであるこ
とを特徴とする。

【００２８】請求項１１記載の情報記録媒体用ガラス基
板によれば、原子間力顕微鏡により測定される接触比率
が０．４％であるガラス基板の表面のベアリングハイト
ＢＨ０４が２〜７μｍであるので、異常突起や突起高さ
の揃ったテクスチャーを作製することができ、その結
果、このガラス基板を情報記録媒体として用いたとき
に、フライハイトの狭小化と同時にヘッドクラッシュお
よびサーマルアスペリティが発生するのを防止すること
ができる。

【００２９】上記目的を達成するために、請求項１２記
載の情報記録媒体用ガラス基板は、請求項１乃至１０の
いずれか１項に記載の製造方法によって製造された情報
記録媒体用ガラス基板であって、原子間力顕微鏡により
測定される接触比率が０．１％である前記ガラス基板の
表面のベアリングハイトＢＨ０１が２〜１０μｍである
ことを特徴とする。

【００３０】請求項１２記載の情報記録媒体用ガラス基
板によれば、原子間力顕微鏡により測定される接触比率
が０．１％であるガラス基板の表面のベアリングハイト
ＢＨ０１が２〜１０μｍであるので、異常突起や突起高
さの揃ったテクスチャーを作製することができ、その結
果、このガラス基板を情報記録媒体として用いたとき
に、フライハイトの狭小化と同時にヘッドクラッシュお
よびサーマルアスペリティが発生するのを防止すること
ができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態に係
るガラス基板及びその製造方法を詳細に説明する。ただ
し、本発明は斯かる実施の形態に限定されるものではな
い。

【００３２】本発明の実施の形態に係るガラス基板は、
ハードディスク等の情報記録装置に使用される情報記録
媒体用基板として使用され、この基板の母材の種類は、
特に限定されるものではなく、従来から使用されている
アルミニウム合金、カーボン、ガラス、結晶化ガラス、
ポリカーボネートオレフィンなどのプラスチックおよび
シリコンなどが利用可能である。これらのうち、本発明
の実施の形態に係るガラス基板の母材としては、表面平
滑性が高く、表面加工処理が容易でかつ弾性率と剛性、
強度の高いガラスおよび結晶化ガラスが好ましい。ま
た、ガラス基板の表面層の改質については、化学強化処
理によってガラス基板表面に圧縮応力層が形成されてい
る場合等も挙げられるが、特に限定されない。

【００３３】ガラス基板のテクスチャー処理方法として
は、公知の機械的研磨方法における作業条件をより精密
に制御することによっても実現可能である。しかし、ガ
ラスまたは結晶化ガラスを母材とするガラス基板の場
合、エッチング処理によってガラス基板表面を荒らすこ
とで、より簡単な方法でテクスチャー処理することがで
きる。エッチング処理では、理論的には多成分系のガラ
ス基板の表面が均一にエッチングされ、異常突起（まわ
りの微小突起に比べて異常に高い突起）は形成されない
はずであるが、現実には、エッチング処理を行った後で
もガラス基板の表面に異常突起が存在する場合がある。
すなわち、一般にガラス基板の表面層では、微視的に見
るとその組成が必ずしも均一ではなく、また、研磨時に
研磨材がガラス基板表面に強く押しつけられ、付着また
は埋まり込むなどし、ガラス基板表面上に蓋をしたよう
な部分が存在する。そのため、ガラス基板の表面にはエ
ッチング溶液によく溶ける部分とそうでない部分とが存
在し、結果として不均一なエッチングが進行し、異常突
起が発生する場合がある。テクスチャー処理を行ったガ
ラス基板表面は、後述する図２（ａ）に参照番号１で示
すような凹凸形状を有する。

【００３４】このような異常突起は、薬液処理条件や薬
液処理前の研磨条件を適宜調整することで抑制すること
もできるが、テクスチャー処理後にスクラブ表面処理を
行えば、より確実に異常突起を除去することができる。
本発明では、スポンジの表面（ガラス基板と接触する部
分）を微視的に硬く、巨視的にしなやかにすることで、
スポンジの持つ長所、異物等が混入した際にガラス基板
に傷がつき難い、あるはスポンジ−ガラス基板間の平行
度が多少ずれてもスポンジ部で緩和できる等の長所を活
かしつつ異常突起を優先的に除去できることを見い出し
た。

【００３５】以下、スクラブ表面処理について更に詳細
に説明する。

【００３６】スクラブ表面処理工程スクラブ表面処理を行う工程は、テクスチャー処理後で
あれば、特に限定されるものではない。

【００３７】スクラブ表面処理方法・装置ガラス基板の表面をスクラブする方法・装置は、特に限
定されるものではなく、市販のスクラブ表面処理装置を
用いることができる。例えば、スクラブ表面処理方法の
概略説明図として図１（ａ）に示すように、テクスチャ
ー処理が施されたディスク状のガラス基板２０を一対の
カップ状平面スポンジ２１で挟み、ガラス基板２０とブ
ラシスポンジ２１を回転させる。このスポンジ２１は、
図１（ｂ）に示すロール状スポンジ２１に置き換えても
よい。図１（ｂ）において、ガラス基板２０、スポンジ
２１は、図中矢印のように回転又は往復運動を行う。

【００３８】スクラブ表面処理に使用するスポンジスクラブ表面処理に使用するスポンジは、硬度が日本ゴ
ム協会標準規格ＳＲＩＳＯ１０１のアスカーＣで４０以
上であれば、異常突起を良好に除去できるので好まし
い。スポンジの表面の硬度（アスカーＣ）が４０以上で
あれば、スクラブ表面処理条件を適宜調整することで、
テクスチャーを過剰に削り取らずに異常突起を良好に除
去できるので更に好ましい。スポンジは、図１に示すよ
うに、下地層（表面層以外の部分）２２と、研磨パッド
としての表面層２３とから成ってもよい。下地層２２
は、種類、硬さ、厚み、積層数は特に限定されない。ま
た、表面層２３と下地層２１の接着方法も特に限定され
ない。下地層２２に表面層２３を直接形成してもよい
し、下地層２２と表面層２３と別々に形成してから両面
テープ等の接着剤で接着してもよい。

【００３９】スポンジ２１の表面層２３を構成する樹脂
種類は特に限定されないが、樹脂の１００％モデュラス
が４５ｋｇ以上であれば、スクラブ表面処理条件を適宜
調整することで、テクスチャーを過剰に削り取らずに異
常突起を除去できるので好ましい。樹脂の１００％モデ
ュラスが４５ｋｇ以上であればスポンジの表面層が微視
的に硬くなり。異常突起を除去する能力が高まるためと
推定している。スポンジ２１の表面層２３の材料として
は清浄度の観点からウレタン樹脂が好まれて使われる
が、ウレタン樹脂の場合、樹脂の種類を固定すれば１０
０％モデュラスが大きいほど、硬い結晶部の割合が増加
（柔らかい非結晶部の割合は減少）する。すなわち、ス
ポンジ２１の表面層２３が微視的に硬くなる。また、ウ
レタン樹脂はその出発原料によって様々な種類があり、
代表的なものとしてはポリエステル系ポリウレタン、ポ
リエーテル系ポリウレタン、ポリカーボネート系ポリウ
レタン等がある。ポリカーボネート系ポリウレタンは、
エステル系、エーテル系に比べて耐薬品特性が優れてお
り、アルカリ溶液などで使用する場合にスポンジ最表面
の微視的な硬さが維持できるという点で好ましい。

【００４０】スポンジ２１の表面層２３の構造は海綿体
であれば限定されないが、平均開口径が３０〜２００μ
ｍ、好ましくは８０μｍ程度の海綿体が形成されている
と、テクスチャーを過剰に削り取らずに異常突起を良好
に除去できるので好ましい。異常突起が選択的に除去さ
れる理由はよく分からないが、平均開口径が３０μｍ以
上であると、スクラブ中に異常突起とスポンジ表面が効
率よく接触するためと推定している。平均開口径が２０
０μｍ以下では、異常突起とスポンジ２１の表面層２３
との接触が効率的に行われる。また、平均開口径が３０
〜２００μｍの海綿体を形成するときの厚みは特に限定
されないが、海綿体の表面を削り取って開口部を露出さ
せる場合は、表面層の厚みは０．３〜１．０ｍｍにな
る。

【００４１】スクラブ液上記スクラブ表面処理は、スクラブ液を用いて行うのが
好ましい。スクラブ液は、特に限定されず、純粋、電解
イオン水、オゾン水、水素加水、酸性水溶液、アルカリ
性水溶液、あるいはこれらにキレート剤、界面活性剤、
塩類を添加したものを用いることができる。

【００４２】不均一エッチングが原因の異常突起を除去
する場合は、ガラスの結合を化学的に攻撃するアルカリ
性水溶液を使用するのがより好ましい。アルカリ性水溶
液を用いると、除去した異常突起とガラス基板との間に
静電反発力が働くので、除去された異常突起の再付着防
止の点でも好ましい。アルカリ性水溶液の濃度は特に限
定されないが、工程管理上ｐＨ８以上、特にｐＨ１２〜
１４が好ましい。

【００４３】金属異物を除去する場合は、金属に対して
溶解作用を持つ酸性水溶液を用いるのが好ましい。

【００４４】スクラブ液温度は特に限定されないが、液
の蒸発等の影響を考慮して１０〜５０℃程度の温度範囲
で通常は使用される。

【００４５】本発明に係るスクラブ表面処理は、ガラス
基板の表面にテクスチャー処理を施した後に、このテク
スチャー処理が施されたガラス基板の表面に施してもよ
く、このスクラブ表面処理が施されたガラス基板の表面
に化学強化処理を施してもよい。

【００４６】また、スクラブ表面処理は、ガラス基板の
表面にテクスチャー処理及び化学強化処理を順に施した
後に当該化学強化処理が施されたガラス基板の表面に施
してもよい。

【００４７】なお、本発明に係るスクラブ表面処理は、
テクスチャーが形成されていないガラス基板に対して
も、凹凸、異物あるいは汚れを効果的に除去するために
用いることができる。

【００４８】上記スクラブ表面処理されたガラス基板上
に少なくとも下地層、磁性層および保護膜が順次成膜さ
れることにより、情報記録媒体が構成される。なお、必
要に応じて、ガラス基板と下地層の間にシード層を設け
てもよいし、各層毎にバッファー層やシールド層を設け
て多層構造にしてもよい。

【００４９】そして、この情報記録媒体は、公知の方法
によりハードディスク等の情報記録装置に組み込まれ
る。上記の下地層、磁性層および保護膜の種類、膜厚お
よび成膜手段は特に限定されない。ガラス基板を用いる
場合は、シード層としてＮｉＡｌ、下地層としてＣｏ系
合金を用いることが、優れた情報記録再生特性、膜密着
性を確保する上で好ましい。成膜手段としては、通常は
スパッタリング法が用いられ、この方法によれはガラス
基板の表面凹凸形状がそのまま維持される。なお、成膜
後にテープバーニッシュ処理を施すことにより、保護膜
上に付着した異物や汚れを除去することができる。この
情報記録媒体は、ガラス基板表面の凹凸形状をそのまま
反映するものであるから、フライングハイトの狭小化に
よってもヘッドクラッシュやサーマルアスペリティーの
問題を起こし易い。

【００５０】上述のように、ヘッドクラッシュおよびサ
ーマルアスペリティの問題を解決するためにスクラブ表
面処理が施され、最適化されたガラス基板の表面上の凹
凸形状は、所定の基準により評価される。このガラス基
板表面の凹凸形状の評価基準は、平均面粗さＲａ、十点
平均面粗さＲｚ等があるが、本発明においては、以下に
説明するベアリングハイトを用いる。

【００５１】以下、ベアリングハイトを図２を参照しな
がら説明する。

【００５２】図２は、テクスチャー処理を行ったガラス
基板表面の凹凸の概念図であり、（ａ）は、ガラス基板
表面の凹凸を示し、（ｂ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ線断
面図であり、（ｃ）は、図２（ａ）のＢ−Ｂ線断面図で
ある。

【００５３】図２において、参照番号１は、ガラス基板
表面の凹凸形状、同１０は、ベアリングレシオ０．４％
のスライス面、同１１は、ベアリングレシオ５０％のス
ライス面（基準面）、同１２は、スライス面におけるガ
ラス基板表面の凸部の切断面を示す。

【００５４】ベアリングハイトは、ガラス基板の表面の
凸部にのみ着目して、凸部形状を評価する基準をもっ
て、ガラス基板の表面の凹凸を評価するものである。具
体的には、ガラス基板表面の凹凸の接触比率が５０％の
場合を基準高さとし、その接触比率が０．４％の場合の
高さ：ベアリングハイト（ＢＨ０４）が２〜７ｎｍの範
囲にあるか否かを評価基準とする。ここで、接触比率
は、ベアリングレシオで表される値であり、原子間力顕
微鏡（ＡＦＭ）により測定される。ベアリングレシオと
は、ガラス基板表面をある平面でスライスしたときに、
ガラス基板表面の凸部の切断面がそのスライス面に占め
る割合である。したがって、接触比率が５０％の場合と
は、スライス面において、凸部の切断面がそのスライス
面の半分を占める割合である（図２（ｃ））。接触比率
５０％の場合のスライス面を基準面とし、このスライス
面を凸部の先端方向に平行移動すると、接触比率は除々
に小さくなる。そして、接触面積が０．４％（図２
（ｂ））になるまで移動した距離が、接触比率０．４％
の場合の高さＢＨ０４に該当する。すなわち、接触比率
が５０％から０．４％になるまで、スライス面を移動し
た距離が、２から７ｎｍの場合に、ヘッドクラッシュお
よびサーマルアスペリティーの問題を解決可能なガラス
基板であることを見い出した。

【００５５】なお、図３にこの発明の代表例と共にベア
リングレシオとベアリングハイトの関係を簡単に示す。

【００５６】このような評価基準は、ガラス基板表面の
凹凸形状に関する本発明者らの多くの実験とその結果の
解析とにより初めて見い出され導入されたものである。
すなわち、磁気ヘッドとガラス基板表面の関係におい
て、それらの接触特性および磁気ヘッドの飛行安定性に
ついて詳細に比較検討した結果、ガラス基板表面のベア
リングハイトが磁気ヘッドの飛行安定性と直接的な関連
のあるパラメータであることを見い出したことに端緒す
る。これに関し、ＢＨ０４がそれぞれ異なる情報記録媒
体を多数作製し、これを減圧下２６．７ｋＰａ（２００
Ｔｏｒｒ）で磁気ヘッドの定点浮上テストを行った。そ
の結果の一部を図４に記載する。一般に磁気ヘッドの浮
上高さ（フライングハイト）は環境圧力の低下と共に小
さくなるため、減圧下では磁気ヘッドとガラス基板の接
触が一層生じ易くなる。よって、減圧下でのテストは、
ヘッドクラッシュ耐力に関する一種の加速試験として位
置付けられる。

【００５７】ＣＳＳ方式に関しては、従来からガラス基
板表面の凹凸形状について種々の検討が行われており、
Ｒａ、Ｒｍａｘ、最大突起高さＲｐ、突起密度、突起高
さまたは突起サイズなど種々のパラメータによる好適範
囲が提案されている。ここで、最大突起高さＲｐは、測
定エリア２０μｍ×２０μｍで観察され突起の最大値で
ある。

【００５８】しかし、これらの検討は、ＣＳＳゾーンに
おける摩擦、摩耗に関する最適化のためのものであり、
データゾーンにおける磁気ヘッドの低浮上時の飛行安定
性またはサーマルアスペリティを考慮したものではな
い。

【００５９】図４に示すように、ＢＨ０４が２ｎｍを境
として、それ未満では数時間でヘッドクラッシュが発生
するようになる。これは、ＢＨ０４が２ｎｍより小さく
なくなると、磁気ヘッドの飛行安定性が急激に低下する
ためであると考えられる。一方、ＢＨ０４が７ｎｍを越
えると、突出した凸部との衝突に起因するヘッドクラッ
シュの発生確率が高まり、またサーマルアスペリティの
発生頻度も上昇する。

【００６０】ＢＨ０４は、３〜６．５ｎｍがより好まし
く、さらには３．５〜６．０ｎｍが好適である。下限値
を３または３．５ｎｍ以上とするのは、上記ガラス基板
を情報記録媒体に加工する際にテープバーニッシュと呼
ばれる異物除去工程があり、そこでの削り代を残してお
くためである。このように高めに設定された下限値によ
り、目的とする性能を備えたガラス基板の生産歩留まり
が向上する。一方、上限値を低く設定することで、フラ
イングハイトの設計値が低くても、ヘッドクラッシュの
発生頻度を低下さえることができる。また、例えば高山
のような気圧の低い過酷な環境下でも、情報記録装置の
信頼性を向上させることができる。

【００６１】さらに、ガラス基板表面の凹凸形状は、接
触比率が５０％の場合を基準高さとしたときの接触比率
０．１％における高さＢＨ０１が２〜１０ｎｍであるこ
とが好ましい。これは、後述の実施例で証明されている
ように、ＢＨ０１が１０ｎｍを越えると、ヘッドクラッ
シュの発生確率が高まるためである。なお、通常は、Ｂ
Ｈ０１≧ＢＨ０４である。

【００６２】

【実施例】以下、実施例および比較例により本発明をさ
らに具体的に説明する。

【００６３】以下の工程を経て表１に示す情報記録媒体
用ガラス基板を製造した。

【００６４】

【表１】

【００６５】（実施例１）加工工程厚さ１．０ｍｍのアルミノシリケートガラス（Ｓｉ
Ｏ₂：６６．０ｍｏｌ％、Ａｌ₂Ｏ₃：１１．０ｍｏｌ
％、Ｌｉ：８．０ｍｏｌ％。Ｎａ₂Ｏ：９．０ｍｏｌ
％、ＭｇＯ：２．４ｍｏｌ％、ＣａＯ：３．６ｍｏｌ
％、Ｋ₂Ｏ：０．２ｍｏｌ％、ＳｒＯ：２．０ｍｏｌ
％）から、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍのドーナツ状デ
ィスクを切り出した。

【００６６】研磨工程このドーナツ状のディスクを、アルミナ砥粒を用いる定
法のラッピング、ポリッシングおよびファイナルポリッ
シングの各研磨工程に適し、厚さ０．６ｍｍまで表面研
磨した。なお、ファイナルポリッシングでは、酸化セリ
ウム（ＣｅＯ２）を含有する研磨剤（三井金属鉱業株式
会社製のミレーク）とスウェードパッド（鐘紡株式会社
製のBELLATRIX）を用いて研磨した。本工程で研磨され
たガラス基板表面の最大突起高さＲｐは５６．８ｎｍで
あった。

【００６７】洗浄、テクスチャー処理工程純粋のシャワーで洗って、ガラス基板表面に弱く付着し
た研磨剤を除去した後、５０℃に保持した０．０１質量
％フッ化水素溶液の浴中にガラス基板を２．５分間浸漬
し、約４８ｋＨｚ、１Ｗ／ｃｍ²の超音波を２．５分間
照射した。その後、４０℃に保持した市販のアルカリ溶
液（ｐＨ１１：株式会社ケミカルプロダクツ製のＲＢ２
５）の浴中にガラス基板を２．５分間浸漬し、約４８ｋ
Ｈｚ、１Ｗ／ｃｍ²の超音波を照射した。このガラス基
板をアルカリ溶液の浴中から引き上げて、純粋浴中に浸
しリンスしてアルカリ溶液を除去した。最後に、ガラス
基板を純粋浴中で３回リンスし、イソプロピルアルコー
ルの浴に浸漬して約４８ｋＨｚの超音波を２分間照射し
た後、イソプロピルアルコール蒸気中で１分間乾燥させ
た。本工程で処理されたガラス基板表面の最大突起高さ
Ｒｐは３５．９ｎｍであった。

【００６８】化学強化工程試薬１級の硝酸ナトリウム４０％と試薬１級の硝酸カリ
リウム６０％の混合溶液塩中にガラスを浸漬し、３８０
℃で３時間保持してイオン交換を行い化学強化した。化
学強化を終えたサンプルは除冷し、ガラス基板に付着し
た強化塩は純粋浴中で洗い流した。本工程で強化された
ガラス基板表面の最大突起高さＲｐは３６．５ｎｍであ
った。

【００６９】スクラブ表面処理（異常突起除去）工程続いて、ウレタンスポンジ（アスカー硬度１０、厚み１
０ｍｍ）にポリカービネート系ポリウレタン製の表面層
（硬度（アスカーＣ）＝７５、樹脂の１００％モデュラ
ス＝２００ｋｇ、平均開口径＝５０〜６０μｍ、厚み＝
０．６ｍｍ、海綿体状タイプ）を両面テープで貼り合わ
せたスクラブスポンジを用いてスクラブ洗浄を行った。
このとき、スポンジの回転数を４００ｒｐｍ、スポンジ
の押圧力は９８００Ｐａ（１００ｇｆ／ｃｍ²）とし、
回転する平面スポンジの中心部から毎分３０ｍｌで、ｐ
Ｈ１１の１質量％水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液をス
ポンジ中心部から毎分１００ｍｌで供給して、スクラブ
洗浄を２０秒間行った。

【００７０】仕上げ洗浄工程その後、４０℃に保持した市販のアルカリ溶液（ｐＨ１
１：株式会社ケミカルプロダクツ製のＲＢ２５）の浴中
にガラス基板を２．５分間浸漬し、約４８ｋＨｚ、１Ｗ
／ｃｍ²の超音波を２．５分間照射した。このガラス基
板をアルカリ溶液の浴中から引き上げて、純粋浴中に浸
しリンスしてアルカリ溶液を除去した。最後にガラス基
板を純粋浴中で３回リンスし、イソプロピルアルコール
の浴に浸漬して約４８ｋＨｚの超音波を２分間照射した
後、イソプロピルアルコール蒸気中で２分間乾燥させ
た。

【００７１】成膜工程このガラス基板上にスパッタリング法でＮｉＡｌシード
層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＣｒＰｔ磁性層及びＣ系保護
膜を順次形成し、さらに浸漬法によりパーフルオロポリ
エーテル系の潤滑剤を形成し、情報記録媒体を製造し
た。

【００７２】（実施例２〜４）スクラブ表面処理工程で
使用するスポンジ表面層のアスカー硬度が４０，７０，
８５のものを用いたこと以外は実施例１と同じ条件で処
理を行い、それぞれ実施例２，３，４とした。

【００７３】（実施例５〜６）スクラブ表面処理工程で
使用するスポンジ表面層の平均開口径が２０μｍ、１０
０μｍのものを用いたこと以外は実施例１と同じ条件で
処理を行い、それぞれ実施例５，６とした。

【００７４】（実施例７〜８）スクラブ表面処理工程で
使用するスポンジ表面層の樹脂種類がポリエステル系ポ
リウレタン、ポリエーテル系ポリウレタンのものを用い
たこと以外は実施例１と同じ条件で処理を行い、それぞ
れ実施例７，８とした。

【００７５】（実施例９〜１０）スクラブ表面処理工程
で使用する下地層のウレタンスポンジの厚みが０．５ｍ
ｍ、２０ｍｍのものを用いたこと以外は実施例１と同じ
条件で処理を行い、それぞれ実施例９，１０とした。

【００７６】（実施例１１）スクラブ表面処理工程で使
用する下地層のウレタンスポンジの硬度（アスカーＣ）
が３０〜４０のものを用いたこと以外は実施例１と同じ
条件で処理を行い、実施例１１とした。

【００７７】（実施例１２）スクラブ表面処理工程で使
用するスクラブ液にｐＨ３の０．０１質量％フッ酸（Ｈ
Ｆ）水溶液を用いたこと以外は実施例１と同じ条件で処
理を行い、実施例１２とした。

【００７８】（実施例１３）スクラブ表面処理工程で使
用するスポンジが下地層を有さないこと、スポンジの硬
度（アスカーＣ）が７０であること以外は実施例１と同
じ条件で処理を行い、実施例１３とした。

【００７９】（実施例１４）化学強化処理を行わなかっ
たことを除いて実施例１と同じ条件で処理を行い、実施
例１３とした。

【００８０】（比較例１）スクラブ表面処理工程で使用
するスポンジの厚みが１０ｍｍのＰＶＦスポンジを用い
たこと、スポンジの硬度（アスカーＣ）が５〜１０であ
ること以外は実施例１と同じ条件で処理を行い、比較例
１とした。

【００８１】（比較例２）スクラブ条件を１０％質量Ｋ
ＯＨ、７００ｒｐｍ、５００ｇｆ／ｃｍ²、８００ｓｅ
ｃとしたこと以外は実施例１と同じ条件で処理を行い、
比較例２とした。

【００８２】（比較例３）スクラブ表面処理工程で使用
するスポンジ表面層の硬度（アスカーＣ）が１５のもの
を用いたこと以外は実施例１と同じ条件で処理を行い、
比較例３とした。

【００８３】ガラス基板の形状評価上記実施例１〜１４および比較例１〜３のガラス基板の
異常突起をテクスチャーを走査形プローブ顕微鏡：ＡＦ
Ｍ（デジタルインスツルメンツ製のNanoscopeIIIa）、
タッピングモードを用いて測定した。異常突起の指標と
しては最大突起高さＲｐ、高さ２０ｎｍの突起数、高さ
１０ｎｍ突起数を測定した。ここで、最大突起高さＲｐ
は、測定エリア２０μｍ×２０μｍで観察される最大突
起高さを表す。高さ１０ｎｍ、２０ｎｍの突起数は、測
定エリア内の突起数を表すが、その存在確率からＡＦＭ
視野面積が合計で０．０１ｍｍ²になるように調整し
た。

【００８４】テクスチャーの指標としては、ガラス基板
の表面凹凸の接触比率が５０％の場合を基準高さとし、
その接触比率が０．４％の場合の高さであるベアリング
ハイトＢＨ０４を用いた。接触比率はベアリングレシオ
で表される値であり、ベアリングレシオとはガラス基板
である平面でスライスしたときに、ガラス基板表面の凸
部の切断面がそのスライス面に占める割合である。接触
比率５０％の場合のスライス面を基準面とし、このスラ
イス面を凸部の先端方向に平行移動すると、接触比率は
除々に小さくなる。そして、接触面積が０．４％になる
まで移動した距離が、接触比率の０．４％の場合の高さ
ＢＨ０４に相当する。

【００８５】本発明者らは、ガラス基板表面のベアリン
グハイトが磁気ヘッドの飛行安定性（磁気ヘッドが飛行
中にガラス基板表面と接触しないこと）と直接的な関連
のあるパラメータであること、すなわちＢＨ０４が２ｎ
ｍより小さくなると、あるいは７ｎｍを超えるとヘッド
クラッシュの発生確率が高まり、サーマルアスペリティ
ーの発生頻度も上昇することを見い出している。ＢＨ０
４が２ｎｍより小さいと磁気ヘッドの飛行安定性が急激
に低下し、７ｎｍを超えると突出した凸部との衝突に起
因するヘッドクラッシュの発生確率が高まると推定して
いる。ＢＨ０４がそれぞれ異なる情報記録媒体を多数作
製し、これを減圧下２６．７ｋＰａ（２００Ｔｏｒｒ）
で磁気ヘッドの定点浮上テストを行った結果を図４に示
した。

【００８６】情報記録媒体の性能評価情報記録媒体に対して、減圧下２６．７ｋＰａ（２００
Ｔｏｒｒ）で２４時間の定点浮上テストを行った。また
テスト後の磁気ヘッドと情報記録媒体の表面を光学顕微
鏡で観察し、傷や汚れの有無を確認した。

【００８７】２４時間の定点浮上テストでクラッシュせ
ず、テスト後の磁気ヘッドと情報記録媒体の表面に傷や
汚れが観察されなかったものについては、さらに、定法
に従いハードディスクドライブに組み込み、フライング
ハイト１５ｎｍ、回転数１０，００ｒｐｍで１０００時
間連続シークテストを行いヘッドクラッシュの有無を調
べた。

【００８８】実施例１〜１４から、スクラブ表面処理工
程で使用したスポンジの硬度（アスカーＣ）が４０以上
であると、１０ｎｍ、２０ｎｍの突起がなく、Ｒｐ値が
１０ｎｍ以下でＢＨ０４が２〜７ｎｍの高さの揃ったテ
クスチャーが得られることが分かる。また、情報記録媒
体にした時もヘッドクラッシュは発生せず、また、テス
ト後の磁気ヘッドおよび情報記録媒体の表面に傷および
汚れは認められなかった。これらの効果は、から、スク
ラブ表面処理工程で使用する水溶液として酸性のものを
用いても（実施例１２）、スポンジに下地層がなくても
（実施例１３）も、化学強化処理が施されなくても（実
施例１４）、得ることができることが分かる。

【００８９】比較例１から、スクラブ表面処理工程で使
用するスポンジがＰＶＦスポンジであると異常突起が除
去できないことが分かる。ＢＨ０４も７ｎｍより大きく
なり、情報記録媒体にした時に定点浮上テスト後にヘッ
ドやガラス基板に傷が発生した。

【００９０】比較例２では、ＰＶＦスポンジを用いてス
クラブを過剰にすると異常突起は減少するが、反面ＢＨ
０４は２ｎｍより小さくなりテクスチャー自体も過剰に
削られることが分かる。情報記録媒体にした時も定点浮
上テストでヘッドクラッシュが発生した。

【００９１】実施例１〜１４と比較例３とを比較するこ
とにより、スクラブ表面処理工程で使用するスポンジ表
面の硬度（アスカーＣ）が４０より小さいと異常突起が
除去できないことが分かる。ＢＨ０４も７ｎｍより大き
くなり、情報記録媒体にした時に定点浮上テスト後にヘ
ッドやガラス基板に傷が発生した。

【００９２】実施例１〜４を比較することにより、スポ
ンジの表面層樹脂の１００％モデュラスが４５ｋｇ以上
で１０ｎｍ、２０ｎｍの突起がない良好なテクスチャー
が得られ、１００％モデュラスが１３０ｋｇ以上ではＲ
ｐ値が５ｎｍ以下のより高さの揃ったテクスチャーを作
製することができることが分かる。

【００９３】実施例５〜６を比較することにより、スポ
ンジの表面層の開口径が２０μｍ以上で１０ｎｍ、２０
ｎｍの突起がなく、Ｒｐ値が１０ｎｍ以下の高さの揃っ
たテクスチャーが得られ、開口径が５０μｍ以上ではＲ
ｐ値が５ｎｍ以下のより高さの揃ったテクスチャーを作
製することができることが分かる。

【００９４】実施例１と実施例７〜８を比較することに
より、スポンジの表面層の樹脂種類は、ポリエーテル
系、ポリエステル系よりもポリカーボネート系ポリウレ
タンを使用する方が、Ｒｐ値はより減少し、高さの揃っ
たテクスチャーを作製することができることが分かる。

【００９５】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、請求項１記
載の製造方法によれば、研磨されたガラス基板の表面を
硬度が日本ゴム協会標準規格ＳＲＩＳＯ１０１のアスカ
ーＣで４０以上であるスポンジを用いてスクラブ表面処
理するので、スポンジがガラス基板と接触する部分が微
視的に硬く、巨視的にしなやかであることに起因するス
ポンジが持つ長所、すなわち、異物等が混入した際にガ
ラス基板に傷がつきにくかったり、スポンジとガラス基
板の平行度が多少ずれてもスポンジのしなやかさにより
緩和できるという長所を保ちつつ、ガラス基板の不均一
エッチングが原因の異常突起や強固に付着した異物を除
去することが可能となり、異常突起や突起高さの揃った
テクスチャーを作製することができ、その結果、このガ
ラス基板を情報記録媒体として用いたときに、フライハ
イトの狭小化と同時にヘッドクラッシュおよびサーマル
アスペリティが発生するのを防止することができる。

【００９６】請求項２記載の製造方法によれば、スポン
ジが、下地層と、該下地層の表面層とから成り、該表面
層の硬度がアスカーＣで４０以上であるので、請求項１
記載の製造方法による作用効果を確実に奏することがで
きる。

【００９７】請求項３記載の製造方法によれば、スポン
ジの表面層は、１００％モデュラスが４５ｋｇ以上であ
る樹脂から成るので、ガラス基板表面上のテクスチャー
を過剰に削り取らずに異常突起を除去することができ
る。

【００９８】請求項４記載の製造方法によれば、樹脂
は、ポリカーボネート系ポリウレタン樹脂であるので、
スポンジの耐薬品特性を向上させることができる。

【００９９】請求項５記載の製造方法によれば、スポン
ジの表面層は、平均開口径が３０μｍ以上の海綿体から
成るので、テクスチャーを過剰に削り取らずに異常突起
を良好に除去することができる。

【０１００】請求項６記載の製造方法によれば、スクラ
ブ表面処理をｐＨ８以上のアルカリ性水溶液を用いて行
うので、除去した異常突起とガラス基板との間に静電反
発力を働かせて除去した異常突起の再付着を防止するこ
とができる。

【０１０１】請求項７記載の製造方法によれば、スクラ
ブ表面処理をｐＨ５以下の酸性水溶液を用いて行うの
で、金属性の不純物を効果的に溶解し、除去することが
できる。

【０１０２】請求項１１記載の情報記録媒体用ガラス基
板によれば、原子間力顕微鏡により測定される接触比率
が０．４％であるガラス基板の表面のベアリングハイト
ＢＨ０４が２〜７μｍであるので、異常突起や突起高さ
の揃ったテクスチャーを作製することができ、その結
果、このガラス基板を情報記録媒体として用いたとき
に、フライハイトの狭小化と同時にヘッドクラッシュお
よびサーマルアスペリティが発生するのを防止すること
ができる。

【０１０３】請求項１２記載の情報記録媒体用ガラス基
板によれば、原子間力顕微鏡により測定される接触比率
が０．１％であるガラス基板の表面のベアリングハイト
ＢＨ０１が２〜１０μｍであるので、異常突起や突起高
さの揃ったテクスチャーを作製することができ、その結
果、このガラス基板を情報記録媒体として用いたとき
に、フライハイトの狭小化と同時にヘッドクラッシュお
よびサーマルアスペリティが発生するのを防止すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、スクラブ表面処理方法の概略説明図で
あり、（ａ）は、カップ状平面スポンジを使用する場
合、（ｂ）は、ロール状スポンジを使用する場合を夫々
示す。

【図２】テクスチャー処理を行ったガラス基板表面の凹
凸の概念図であり、（ａ）は、ガラス基板表面の凹凸を
示し、（ｂ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図であり、
（ｃ）は、図２（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。

【図３】ベアリングレシオとベアリングハイトの代表的
な関係図である。

【図４】ＢＨ０４とヘッドクラッシュの相関図である。

【符号の説明】

１ガラス基板表面の凹凸形状１０ベアリングレシオ０．４％のスライス面１１ベアリングレシオ５０％のスライス面（基準面）１２スライス面におけるガラス基板表面の凸部の切断
面２０ガラス基板２１スポンジ２２下地層２３表面層

フロントページの続き (72)発明者梅山竜郎大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号日本板硝子株式会社内Ｆターム(参考） 3C049 AA07 AC04 CA01 CA06 CB01 3C058 AA09 BA02 BA07 CB01 CB02 DA12 4G059 AA09 AB03 AB11 AC03 5D006 CB04 CB07 5D112 AA02 BA03 GA09 GA11 GA12 GA30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板の表面を研磨し、該研磨され
たガラス基板の表面を硬度が日本ゴム協会標準規格ＳＲ
ＩＳＯ１０１のアスカーＣで４０以上であるスポンジを
用いてスクラブ表面処理することを特徴とする情報記録
媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】前記スポンジは、下地層と、該下地層の
表面層とから成り、該表面層の硬度が前記アスカーＣで
４０以上であることを特徴とする請求項１記載の製造方
法。
【請求項３】前記スポンジの表面層は、１００％モデ
ュラスが４５ｋｇ以上である樹脂から成ることを特徴と
する請求項２記載の製造方法。
【請求項４】前記樹脂は、ポリカーボネート系ポリウ
レタン樹脂であることを特徴とする請求項３記載の製造
方法。
【請求項５】前記スポンジの表面層は、平均開口径が
３０μｍ以上の海綿体から成ることを特徴とする請求項
１乃至４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】前記スクラブ表面処理をｐＨ８以上のア
ルカリ性水溶液を用いて行うことを特徴とする請求項１
乃至５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】前記スクラブ表面処理をｐＨ５以下の酸
性水溶液を用いて行うことを特徴とする請求項１乃至６
のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】前記スクラブ表面処理を、前記ガラス基
板の表面にテクスチャー処理を施した後に当該テクスチ
ャー処理が施されたガラス基板の表面に施すことを特徴
とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の製造方
法。
【請求項９】前記スクラブ表面処理が施されたガラス
基板の表面に化学強化処理を施すことを特徴とする請求
項８記載の製造方法。
【請求項１０】前記スクラブ表面処理を、前記ガラス
基板の表面にテクスチャー処理及び化学強化処理を順に
施した後に当該化学強化処理が施されたガラス基板の表
面に施すことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１
項に記載の製造方法。
【請求項１１】請求項１乃至１０のいずれか１項に記
載の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス
基板であって、原子間力顕微鏡により測定される接触比
率が０．４％である前記ガラス基板の表面のベアリング
ハイトＢＨ０４が２〜７μｍであることを特徴とする情
報記録媒体用ガラス基板。
【請求項１２】請求項１乃至１０のいずれか１項に記
載の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス
基板であって、原子間力顕微鏡により測定される接触比
率が０．１％である前記ガラス基板の表面のベアリング
ハイトＢＨ０１が２〜１０μｍであることを特徴とする
情報記録媒体用ガラス基板。