JP2002116133A - 散乱式粒子径分布測定装置 - Google Patents
散乱式粒子径分布測定装置Info
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
- G01N15/0211—Investigating a scatter or diffraction pattern
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定の都度測定者によって煩わしい光軸調整
を行う必要がなく、常に測定に最適な状態に維持するこ
とができる散乱式粒子径分布測定装置を提供すること。 【解決手段】 光源１からの光２を試料８に対して照射
し、そのときに生ずる散乱光を光検出器で検出し、この
とき得られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒
子径分布を測定する散乱式粒子径分布測定装置におい
て、前記光源１の中心位置と光検出器の中心位置とを常
に合わせる自動調整機構１５，１９を設けた。
を行う必要がなく、常に測定に最適な状態に維持するこ
とができる散乱式粒子径分布測定装置を提供すること。 【解決手段】 光源１からの光２を試料８に対して照射
し、そのときに生ずる散乱光を光検出器で検出し、この
とき得られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒
子径分布を測定する散乱式粒子径分布測定装置におい
て、前記光源１の中心位置と光検出器の中心位置とを常
に合わせる自動調整機構１５，１９を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光源からの光を
試料に対して光を照射し、そのとき散乱光を集光レンズ
を介して光検出器に入射させ、このとき得られる散乱光
強度パターンに基づいて試料中の粒子径分布を測定する
散乱式粒子径分布測定装置に関する。
試料に対して光を照射し、そのとき散乱光を集光レンズ
を介して光検出器に入射させ、このとき得られる散乱光
強度パターンに基づいて試料中の粒子径分布を測定する
散乱式粒子径分布測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７は、従来の散乱式粒子径分布測定装
置の構成を概略的に示すもので、この図において、７１
はレーザ光７２を発する光源、７３はレーザ光７２を遮
断したり通過させたりするシャッタで、シャッタ部材７
３ａとその駆動部材７３ｂとからなる。７４はレーザ光
７２を適宜拡大するビームエクスパンダ、７５は試料７
６が供給される流通型のセル、７７はセル７５の後方に
設けられる集光レンズである。７８は集光レンズ７７を
経た散乱光や透過光を検出する光検出器で、詳細には図
示していないが、光軸中心部に設けられる透過光受光素
子を中心にして複数の円弧状の散乱光受光素子が適宜の
間隔をおいて設けられている。７９は光検出器７８から
の信号を取り込むマルチプレクサ、８０はマルチプレク
サ７９からの信号が入力され、散乱光強度パターンに基
づいて演算を行って粒子径分布を求めるＣＰＵ、８１は
装置全体を制御するパソコンで、演算結果などを表示す
るカラーディスプレイなどの表示装置８２を備えてい
る。
置の構成を概略的に示すもので、この図において、７１
はレーザ光７２を発する光源、７３はレーザ光７２を遮
断したり通過させたりするシャッタで、シャッタ部材７
３ａとその駆動部材７３ｂとからなる。７４はレーザ光
７２を適宜拡大するビームエクスパンダ、７５は試料７
６が供給される流通型のセル、７７はセル７５の後方に
設けられる集光レンズである。７８は集光レンズ７７を
経た散乱光や透過光を検出する光検出器で、詳細には図
示していないが、光軸中心部に設けられる透過光受光素
子を中心にして複数の円弧状の散乱光受光素子が適宜の
間隔をおいて設けられている。７９は光検出器７８から
の信号を取り込むマルチプレクサ、８０はマルチプレク
サ７９からの信号が入力され、散乱光強度パターンに基
づいて演算を行って粒子径分布を求めるＣＰＵ、８１は
装置全体を制御するパソコンで、演算結果などを表示す
るカラーディスプレイなどの表示装置８２を備えてい
る。
【０００３】前記散乱式粒子径分布測定装置において
は、セル７５に試料７６を供給しながらレーザ光７２を
セル７５に対して照射すると、レーザ光７２の一部がセ
ル７５内の試料７６中の粒子を照射して散乱光となり、
残りの光は粒子と粒子との間を通過して透過光となる。
そして、これら散乱光および透過光は、それぞれ、集光
レンズ７７を経て光検出器７８の散乱光受光素子および
透過光受光素子に入射する。
は、セル７５に試料７６を供給しながらレーザ光７２を
セル７５に対して照射すると、レーザ光７２の一部がセ
ル７５内の試料７６中の粒子を照射して散乱光となり、
残りの光は粒子と粒子との間を通過して透過光となる。
そして、これら散乱光および透過光は、それぞれ、集光
レンズ７７を経て光検出器７８の散乱光受光素子および
透過光受光素子に入射する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記散乱式
粒子径分布測定装置においては、光源７１と光検出器７
８との光軸が厳密に一致していなければならず、この例
においては、光源７１を発したレーザ光７２の光軸中心
と光検出器７８における散乱光受光素子の中心位置とが
一致している必要があるが、光源７１が熱歪みを起こし
たり、セル７５、集光レンズ７６、光検出器７８をそれ
ぞれ設けたベンチ（図示してない）が熱で歪んだり、ま
た、セル７５を交換したりする場合、その取付け位置が
変化するなどして、前記光軸にずれが生ずることがあっ
た。
粒子径分布測定装置においては、光源７１と光検出器７
８との光軸が厳密に一致していなければならず、この例
においては、光源７１を発したレーザ光７２の光軸中心
と光検出器７８における散乱光受光素子の中心位置とが
一致している必要があるが、光源７１が熱歪みを起こし
たり、セル７５、集光レンズ７６、光検出器７８をそれ
ぞれ設けたベンチ（図示してない）が熱で歪んだり、ま
た、セル７５を交換したりする場合、その取付け位置が
変化するなどして、前記光軸にずれが生ずることがあっ
た。
【０００５】そこで、従来の散乱式粒子径分布測定装置
においては、図７に示すように、光検出器７８を平行に
移動するＸＹステージ８３に設け、測定前に、ＸＹステ
ージ８３を測定者による手動操作によって、あるいは、
パソコン８１によるソフトオペレーションによって圧電
素子やステッピングモータなどの直動式のアクチューエ
ータ８４，８５を動作させて、前記ＸＹステージ８３を
Ｘ方向（紙面に垂直な方向）および／またはＹ方向（紙
面に沿う上下方向）に移動し、前記光軸のずれを矯正
し、光軸調整を行うようにしていた。
においては、図７に示すように、光検出器７８を平行に
移動するＸＹステージ８３に設け、測定前に、ＸＹステ
ージ８３を測定者による手動操作によって、あるいは、
パソコン８１によるソフトオペレーションによって圧電
素子やステッピングモータなどの直動式のアクチューエ
ータ８４，８５を動作させて、前記ＸＹステージ８３を
Ｘ方向（紙面に垂直な方向）および／またはＹ方向（紙
面に沿う上下方向）に移動し、前記光軸のずれを矯正
し、光軸調整を行うようにしていた。
【０００６】しかしながら、上記光軸調整作業は、測定
ごとに行う必要があるとともに、その調整に数分以上を
要し、測定者にとって手間と時間を要するものであっ
た。また、光軸調整作業と測定作業との間にタイムロス
があったり、装置に振動や温度変化など光学定盤を含め
た光学部品に影響を及ぼす何らかの要因が加わった場
合、最適な状態で測定が行われているとはいえなった。
ごとに行う必要があるとともに、その調整に数分以上を
要し、測定者にとって手間と時間を要するものであっ
た。また、光軸調整作業と測定作業との間にタイムロス
があったり、装置に振動や温度変化など光学定盤を含め
た光学部品に影響を及ぼす何らかの要因が加わった場
合、最適な状態で測定が行われているとはいえなった。
【０００７】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、測定の都度測定者によって煩わ
しい光軸調整を行う必要がなく、常に測定に最適な状態
に維持することができる散乱式粒子径分布測定装置を提
供することである。
たもので、その目的は、測定の都度測定者によって煩わ
しい光軸調整を行う必要がなく、常に測定に最適な状態
に維持することができる散乱式粒子径分布測定装置を提
供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明では、光源からの光を試料に対して照射
し、そのときに生ずる散乱光を光検出器で検出し、この
とき得られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒
子径分布を測定する散乱式粒子径分布測定装置におい
て、前記光源の中心位置と光検出器の中心位置とを常に
合わせる自動調整機構を設けている（請求項１）。
め、この発明では、光源からの光を試料に対して照射
し、そのときに生ずる散乱光を光検出器で検出し、この
とき得られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒
子径分布を測定する散乱式粒子径分布測定装置におい
て、前記光源の中心位置と光検出器の中心位置とを常に
合わせる自動調整機構を設けている（請求項１）。
【０００９】より具体的には、請求項２に記載している
ように、試料に入射する前の光量と光検出器上での光量
を常にモニターし、光源、光検出器またはこれらの間に
ある光学部品の位置を調整することにより光源の中心位
置と光検出器の中心位置とを測定に最適な状態に自動調
整する機構を設けたり、請求項３に記載しているよう
に、試料に入射する前の光量と光検出器上での光量を常
にモニターし、光検出器における光量が試料に入射する
前の光量に比べて著しく低下した場合、その低下する前
の制御データをホールドする機能を有するようにした
り、請求項４に記載しているように、光検出器における
光量が著しく低下し自動制御が不可能になった場合、自
動制御可能な範囲に最適位置を検索する機能を有するよ
うにするなど種々の態様を採用することができる。
ように、試料に入射する前の光量と光検出器上での光量
を常にモニターし、光源、光検出器またはこれらの間に
ある光学部品の位置を調整することにより光源の中心位
置と光検出器の中心位置とを測定に最適な状態に自動調
整する機構を設けたり、請求項３に記載しているよう
に、試料に入射する前の光量と光検出器上での光量を常
にモニターし、光検出器における光量が試料に入射する
前の光量に比べて著しく低下した場合、その低下する前
の制御データをホールドする機能を有するようにした
り、請求項４に記載しているように、光検出器における
光量が著しく低下し自動制御が不可能になった場合、自
動制御可能な範囲に最適位置を検索する機能を有するよ
うにするなど種々の態様を採用することができる。
【００１０】上記構成の散乱式粒子径分布測定装置にお
いては、光源の中心位置と光検出器の中心位置とを常に
合わせる自動調整機構を設けているので、従来、測定前
に必ず行う必要があった測定者による手動の光軸調整
や、パソコンからのソフトオペレーションを伴う光軸調
整を行う必要がなくなり、測定前における準備作業など
前処理の時間を短縮できる。そして、常に最適な状態で
測定を行うことができ、測定精度の高い散乱式粒子径分
布測定装置を得ることができる。
いては、光源の中心位置と光検出器の中心位置とを常に
合わせる自動調整機構を設けているので、従来、測定前
に必ず行う必要があった測定者による手動の光軸調整
や、パソコンからのソフトオペレーションを伴う光軸調
整を行う必要がなくなり、測定前における準備作業など
前処理の時間を短縮できる。そして、常に最適な状態で
測定を行うことができ、測定精度の高い散乱式粒子径分
布測定装置を得ることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、図面を
参照しながら説明する。図１は、この発明の第１の実施
の形態を示すもので、この図において、１はレーザ光２
を発する光源である。この光源１から発せられる光量
は、後述するＣＰＵ１５によって制御され、ＣＰＵ１５
によって把握される。３はレーザ光２を遮断したり通過
させたりするシャッタで、シャッタ部材４とその駆動部
材５とからなる。６は光源１を発したレーザ光２を適宜
拡大するビームエクスパンダ、７は試料８が供給される
流通型のセル、９はセル７の後方に設けられる集光レン
ズである。１０は集光レンズ９を経た散乱光や透過光を
検出する光検出器で、光軸中心部に設けられる透過光受
光素子１１を中心にして複数の円弧状の散乱光受光素子
１２が適宜の間隔をおいて設けられている。前記受光素
子１１，１２は例えばフォトダイオードよりなり、ベー
ス部材１３上の所定の位置に配置されている。
参照しながら説明する。図１は、この発明の第１の実施
の形態を示すもので、この図において、１はレーザ光２
を発する光源である。この光源１から発せられる光量
は、後述するＣＰＵ１５によって制御され、ＣＰＵ１５
によって把握される。３はレーザ光２を遮断したり通過
させたりするシャッタで、シャッタ部材４とその駆動部
材５とからなる。６は光源１を発したレーザ光２を適宜
拡大するビームエクスパンダ、７は試料８が供給される
流通型のセル、９はセル７の後方に設けられる集光レン
ズである。１０は集光レンズ９を経た散乱光や透過光を
検出する光検出器で、光軸中心部に設けられる透過光受
光素子１１を中心にして複数の円弧状の散乱光受光素子
１２が適宜の間隔をおいて設けられている。前記受光素
子１１，１２は例えばフォトダイオードよりなり、ベー
ス部材１３上の所定の位置に配置されている。
【００１２】１４は光検出器１０からの信号を取り込む
マルチプレクサ、１５はマルチプレクサ１４からの信号
が入力され、散乱光強度パターンに基づいて演算を行っ
て粒子径分布を求めるＣＰＵ、１６は装置全体を制御す
る演算制御装置としてのパソコンで、画像処理機能を備
えている。１７はパソコン１６と接続され、演算結果な
どを表示するカラーディスプレイなどの表示装置であ
る。
マルチプレクサ、１５はマルチプレクサ１４からの信号
が入力され、散乱光強度パターンに基づいて演算を行っ
て粒子径分布を求めるＣＰＵ、１６は装置全体を制御す
る演算制御装置としてのパソコンで、画像処理機能を備
えている。１７はパソコン１６と接続され、演算結果な
どを表示するカラーディスプレイなどの表示装置であ
る。
【００１３】ここまでの構成は、従来のこの種の散乱式
粒子径分布測定装置のそれと変わるところはなく、この
実施の形態における散乱式粒子径分布測定装置では、光
源１と光検出器１０との間の光路中に光軸調整の際に用
いる回折光発生手段１８を設けるとともに、光検出器１
０に光軸調整機構１９を設けた点が従来と大きく異な
る。以下、これらの詳細について説明する。
粒子径分布測定装置のそれと変わるところはなく、この
実施の形態における散乱式粒子径分布測定装置では、光
源１と光検出器１０との間の光路中に光軸調整の際に用
いる回折光発生手段１８を設けるとともに、光検出器１
０に光軸調整機構１９を設けた点が従来と大きく異な
る。以下、これらの詳細について説明する。
【００１４】すなわち、前記回折光発生手段１８は、光
遮断性素材よりなる板材２０の中央にピンホール２１を
開設したもので、前記光路への挿入、退避を手動ディジ
タル行ってもよいが、適宜の機構によって自動的に行わ
せるようにしてもよい。また、回折光発生手段１８とし
ては、光透過性素材よりなる板材の中央に光遮断性素材
よりなる球形の粒子を形成したものを用いてもよい。
遮断性素材よりなる板材２０の中央にピンホール２１を
開設したもので、前記光路への挿入、退避を手動ディジ
タル行ってもよいが、適宜の機構によって自動的に行わ
せるようにしてもよい。また、回折光発生手段１８とし
ては、光透過性素材よりなる板材の中央に光遮断性素材
よりなる球形の粒子を形成したものを用いてもよい。
【００１５】そして、前記光軸調整機構１９は、例えば
互いに直交する二つの方向Ｘ，Ｙに移動するＸＹステー
ジ１９よりなり、このＸＹステージ１９に光検出器１０
が保持される。２２，２３はＸＹステージ１９のＸ方向
（矢印２４で示す方向）、Ｙ方向（矢印２５で示す方
向）へそれぞれ駆動するアクチュエータで、例えば圧電
素子やステッピングモータなどの直動的に動作するもの
からなる。これらのアクチュエータ２２，２３は、パソ
コン１６からの信号によって制御される。
互いに直交する二つの方向Ｘ，Ｙに移動するＸＹステー
ジ１９よりなり、このＸＹステージ１９に光検出器１０
が保持される。２２，２３はＸＹステージ１９のＸ方向
（矢印２４で示す方向）、Ｙ方向（矢印２５で示す方
向）へそれぞれ駆動するアクチュエータで、例えば圧電
素子やステッピングモータなどの直動的に動作するもの
からなる。これらのアクチュエータ２２，２３は、パソ
コン１６からの信号によって制御される。
【００１６】上記構成の散乱式粒子径分布測定装置にお
いては、装置の立ち上げ時に、シャッタ３を開いた状態
で、回折光発生手段１８を光路内に挿入して、回折光発
生手段１８によって生じた回折光を用いて光軸検索を行
う。そして、この光軸検索が終了した後、回折光発生手
段１８を光路外に退避させた後も、光検出器１０は、常
にその光軸中心位置の情報をＣＰＵ１５にフィードバッ
クする。ＣＰＵ１５においては、前記情報に基づいて光
検出器１０に設けられた光軸調整機構１９を制御し、光
検出器１０が常に測定に最適な状態になるようにするの
である。
いては、装置の立ち上げ時に、シャッタ３を開いた状態
で、回折光発生手段１８を光路内に挿入して、回折光発
生手段１８によって生じた回折光を用いて光軸検索を行
う。そして、この光軸検索が終了した後、回折光発生手
段１８を光路外に退避させた後も、光検出器１０は、常
にその光軸中心位置の情報をＣＰＵ１５にフィードバッ
クする。ＣＰＵ１５においては、前記情報に基づいて光
検出器１０に設けられた光軸調整機構１９を制御し、光
検出器１０が常に測定に最適な状態になるようにするの
である。
【００１７】そして、上記散乱式粒子径分布測定装置に
おいて、通常の測定を行う場合、シャッタ３を開くとと
もに、回折光発生手段１８を光路外に退避させておくこ
とは言うまでもない。
おいて、通常の測定を行う場合、シャッタ３を開くとと
もに、回折光発生手段１８を光路外に退避させておくこ
とは言うまでもない。
【００１８】上述の実施の形態においては、回折光発生
手段１８を設けるとともに、光検出器１０に光軸調整機
構１９を設けて光軸調整を行うようにしていたが、例え
ば、光検出器１０の受光部の面積が小さい場合などにお
いては、前記光軸検索を、光を前記受光部にしらみ潰し
状態で入射させることによって行うことができ、したが
って、このようなしらみ潰しの手法で光軸検索を行うた
めのプログラムをＣＰＵ１５に設けてある場合、前記回
折光発生手段１８を省略することができる。
手段１８を設けるとともに、光検出器１０に光軸調整機
構１９を設けて光軸調整を行うようにしていたが、例え
ば、光検出器１０の受光部の面積が小さい場合などにお
いては、前記光軸検索を、光を前記受光部にしらみ潰し
状態で入射させることによって行うことができ、したが
って、このようなしらみ潰しの手法で光軸検索を行うた
めのプログラムをＣＰＵ１５に設けてある場合、前記回
折光発生手段１８を省略することができる。
【００１９】上述の実施の形態においては、光検出器１
０に光軸調整機構１９を設け、この光軸調整機構１９を
ＣＰＵ１５からの信号によって制御し、光検出器１０の
位置を調整することにより、光源１の中心位置と光検出
器１０の中心位置とを常に合わせる自動調整を行うよう
にしていたが、光源１と光検出器１０との間を結ぶ光路
上に設けられる光学部品に光軸調整機構を設け、これを
ＣＰＵ１５からの信号によって制御し、前記光学部品の
位置を調整することにより、光源１の中心位置と光検出
器１０の中心位置とを常に合わせる自動調整を行うよう
にしてもよい。以下、これについて、図２〜６を参照し
ながら説明する。
０に光軸調整機構１９を設け、この光軸調整機構１９を
ＣＰＵ１５からの信号によって制御し、光検出器１０の
位置を調整することにより、光源１の中心位置と光検出
器１０の中心位置とを常に合わせる自動調整を行うよう
にしていたが、光源１と光検出器１０との間を結ぶ光路
上に設けられる光学部品に光軸調整機構を設け、これを
ＣＰＵ１５からの信号によって制御し、前記光学部品の
位置を調整することにより、光源１の中心位置と光検出
器１０の中心位置とを常に合わせる自動調整を行うよう
にしてもよい。以下、これについて、図２〜６を参照し
ながら説明する。
【００２０】まず、図２は、光源１からのレーザ光２を
９０°曲げてビームエクスパンダ６方向に反射するミラ
ー２６に光軸調整機構２７を設けた第２の実施の形態を
示すもので、この実施の形態で用いる光軸調整機構２７
は、ＣＰＵ１５によって制御され、ミラー２４を矢印２
８で示す方向および／または矢印２９で示す方向に移動
させるように構成されている。
９０°曲げてビームエクスパンダ６方向に反射するミラ
ー２６に光軸調整機構２７を設けた第２の実施の形態を
示すもので、この実施の形態で用いる光軸調整機構２７
は、ＣＰＵ１５によって制御され、ミラー２４を矢印２
８で示す方向および／または矢印２９で示す方向に移動
させるように構成されている。
【００２１】そして、図３は、集光レンズ９に光軸調整
機構３０を設けた第３の実施の形態を示すもので、この
実施の形態で用いる光軸調整機構３０は、ＣＰＵ１５に
よって制御され、集光レンズ９を矢印２４で示すＸ方向
および／または矢印２５で示すＹ方向に移動させるよう
に構成されている。
機構３０を設けた第３の実施の形態を示すもので、この
実施の形態で用いる光軸調整機構３０は、ＣＰＵ１５に
よって制御され、集光レンズ９を矢印２４で示すＸ方向
および／または矢印２５で示すＹ方向に移動させるよう
に構成されている。
【００２２】また、図４は、ビームエクスパンダ６に光
軸調整機構３１を設けた第４の実施の形態を示すもの
で、この実施の形態で用いる光軸調整機構３１は、ＣＰ
Ｕ１５によって制御され、ビームエクスパンダ６を矢印
２４で示すＸ方向および／または矢印２５で示すＹ方向
に移動させるように構成されている。
軸調整機構３１を設けた第４の実施の形態を示すもの
で、この実施の形態で用いる光軸調整機構３１は、ＣＰ
Ｕ１５によって制御され、ビームエクスパンダ６を矢印
２４で示すＸ方向および／または矢印２５で示すＹ方向
に移動させるように構成されている。
【００２３】さらに、図５は、光源１に光軸調整機構３
２を設けた第５の実施の形態を示すもので、この実施の
形態で用いる光軸調整機構３２は、ＣＰＵ１５によって
制御され、光源１を矢印２４で示すＸ方向および／また
は矢印２５で示すＹ方向に移動させるように構成されて
いる。
２を設けた第５の実施の形態を示すもので、この実施の
形態で用いる光軸調整機構３２は、ＣＰＵ１５によって
制御され、光源１を矢印２４で示すＸ方向および／また
は矢印２５で示すＹ方向に移動させるように構成されて
いる。
【００２４】そして、図６は、光源１と光検出器１０と
を結ぶ光路内の適宜位置、例えばビームエクスパンダ６
とセル７との間に楔形のプリズム３３，３４を設けると
ともに、これらのプリズム３３，３４に光軸調整機構３
５を設けた第６の実施の形態を示すもので、この実施の
形態で用いる光軸調整機構３５は、ＣＰＵ１５によって
制御され、一方のプリズム３３を矢印２４で示すＸ方向
に、また、他方のプリズム３４を矢印２５で示すＹ方向
に移動させるように構成されている。
を結ぶ光路内の適宜位置、例えばビームエクスパンダ６
とセル７との間に楔形のプリズム３３，３４を設けると
ともに、これらのプリズム３３，３４に光軸調整機構３
５を設けた第６の実施の形態を示すもので、この実施の
形態で用いる光軸調整機構３５は、ＣＰＵ１５によって
制御され、一方のプリズム３３を矢印２４で示すＸ方向
に、また、他方のプリズム３４を矢印２５で示すＹ方向
に移動させるように構成されている。
【００２５】上記図２〜図６に示した実施の形態におけ
る光軸調整のための動作は、前記図１に示した第１の実
施の形態のそれと同様であるので、その詳細な説明は省
略する。
る光軸調整のための動作は、前記図１に示した第１の実
施の形態のそれと同様であるので、その詳細な説明は省
略する。
【００２６】上述の実施の形態においては、試料８に入
射する前の光量と光検出器１０上での光量を常にモニタ
ーし、光源１、光検出器１０またはこれらの間にある光
学部品の位置を調整することにより光源１の中心位置と
光検出器１０の中心位置とを測定に最適な状態に自動調
整するようにしていたが、この発明はこれに限られるも
のではなく、種々に変形して実施することができる。
射する前の光量と光検出器１０上での光量を常にモニタ
ーし、光源１、光検出器１０またはこれらの間にある光
学部品の位置を調整することにより光源１の中心位置と
光検出器１０の中心位置とを測定に最適な状態に自動調
整するようにしていたが、この発明はこれに限られるも
のではなく、種々に変形して実施することができる。
【００２７】すなわち、試料８に泡が混入したり、ブラ
ンク測定時にシャッタ３が閉じられたり、装置に衝撃が
加わるなどして、光検出器１０における光量が光源１を
発する光量に比べて著しく低下している場合、その低下
する前の制御データをホールドする機能をＣＰＵ１５に
持たせるようにしてもよい。
ンク測定時にシャッタ３が閉じられたり、装置に衝撃が
加わるなどして、光検出器１０における光量が光源１を
発する光量に比べて著しく低下している場合、その低下
する前の制御データをホールドする機能をＣＰＵ１５に
持たせるようにしてもよい。
【００２８】そして、衝撃が加わったときなど光検出器
１０における光量が光源１の光量に比べて著しく低下し
た場合、制御可能な範囲になるように最適制御位置を求
める機能をＣＰＵ１５に持たせたり、光軸検索の追尾制
御を自動的に行うことが不可能になった場合、装置の立
ち上げ時と同様に自動制御可能な範囲に最適位置を検索
するようにしてもよい。
１０における光量が光源１の光量に比べて著しく低下し
た場合、制御可能な範囲になるように最適制御位置を求
める機能をＣＰＵ１５に持たせたり、光軸検索の追尾制
御を自動的に行うことが不可能になった場合、装置の立
ち上げ時と同様に自動制御可能な範囲に最適位置を検索
するようにしてもよい。
【００２９】なお、上述の実施の形態においては、集光
レンズ９がセル７の後段側の光路に設けられていたが、
これに代えて、集光レンズ９をセル７の前段側の光路に
設けるようにしてあってもよい。
レンズ９がセル７の後段側の光路に設けられていたが、
これに代えて、集光レンズ９をセル７の前段側の光路に
設けるようにしてあってもよい。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、従来とは異なり、測定の都度測定者によって煩わし
い光軸調整を行う必要がなく、常に測定に最適な状態に
維持することができる。したがって、常に最適な状態で
測定を行うことができ、測定精度の高い散乱式粒子径分
布測定装置を得ることができる。
ば、従来とは異なり、測定の都度測定者によって煩わし
い光軸調整を行う必要がなく、常に測定に最適な状態に
維持することができる。したがって、常に最適な状態で
測定を行うことができ、測定精度の高い散乱式粒子径分
布測定装置を得ることができる。
【図１】この発明の第１の実施の形態を示す図である。
【図２】この発明の第２の実施の形態を示す図である。
【図３】この発明の第３の実施の形態を示す図である。
【図４】この発明の第４の実施の形態を示す図である。
【図５】この発明の第５の実施の形態を示す図である。
【図６】この発明の第６の実施の形態を示す図である。
【図７】従来技術を説明するための図である。
１…光源、２…光、６…ビームエクスパンダ、８…試
料、９…集光レンズ、１０…光検出器、１５…ＣＰＵ、
１９，２７，３０，３１，３２，３５…光軸調整機構、
２６…ミラー、３３，３４…プリズム。
料、９…集光レンズ、１０…光検出器、１５…ＣＰＵ、
１９，２７，３０，３１，３２，３５…光軸調整機構、
２６…ミラー、３３，３４…プリズム。
Claims (4)
- 【請求項１】 光源からの光を試料に対して照射し、そ
のときに生ずる散乱光を光検出器で検出し、このとき得
られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒子径分
布を測定する散乱式粒子径分布測定装置において、前記
光源の中心位置と光検出器の中心位置とを常に合わせる
自動調整機構を設けたことを特徴とする散乱式粒子径分
布測定装置。 - 【請求項２】 光源からの光を試料に対して照射し、そ
のときに生ずる散乱光を光検出器で検出し、このとき得
られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒子径分
布を測定する散乱式粒子径分布測定装置において、前記
試料に入射する前の光量と光検出器上での光量を常にモ
ニターし、光源、光検出器またはこれらの間にある光学
部品の位置を調整することにより光源の中心位置と光検
出器の中心位置とを測定に最適な状態に自動調整する機
構を設けたことを特徴とする散乱式粒子径分布測定装
置。 - 【請求項３】 光源からの光を試料に対して照射し、そ
のときに生ずる散乱光を光検出器で検出し、このとき得
られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒子径分
布を測定する散乱式粒子径分布測定装置において、前記
試料に入射する前の光量と光検出器上での光量を常にモ
ニターし、光検出器における光量が試料に入射する前の
光量に比べて著しく低下した場合、その低下する前の制
御データをホールドする機能を有することを特徴とする
散乱式粒子径分布測定装置。 - 【請求項４】 光源からの光を試料に対して照射し、そ
のときに生ずる散乱光を光検出器で検出し、このとき得
られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒子径分
布を測定する散乱式粒子径分布測定装置において、前記
光検出器における光量が著しく低下し自動制御が不可能
になった場合、自動制御可能な範囲に最適位置を検索す
る機能を有することを特徴とする散乱式粒子径分布測定
装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000310610A JP3822785B2 (ja) | 2000-10-11 | 2000-10-11 | 散乱式粒子径分布測定装置 |
| US09/974,659 US6833918B2 (en) | 2000-10-11 | 2001-10-09 | Light scattering particle size distribution measuring apparatus and method of use |
| DE10149917A DE10149917B4 (de) | 2000-10-11 | 2001-10-10 | Vorrichtung und Verfahren zum Messen einer Teilchengrößeverteilung auf Basis eines Lichtstreuungsverfahrens |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000310610A JP3822785B2 (ja) | 2000-10-11 | 2000-10-11 | 散乱式粒子径分布測定装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP2002116133A5 JP2002116133A5 (ja) | 2005-04-28 |
| JP3822785B2 JP3822785B2 (ja) | 2006-09-20 |
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| JP2000310610A Expired - Fee Related JP3822785B2 (ja) | 2000-10-11 | 2000-10-11 | 散乱式粒子径分布測定装置 |
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| JP2009063312A (ja) * | 2007-09-04 | 2009-03-26 | Shimadzu Corp | 粒度分布測定装置 |
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| WO2017073737A1 (ja) * | 2015-10-28 | 2017-05-04 | 国立大学法人東京大学 | 分析装置 |
| US10904415B2 (en) | 2016-08-15 | 2021-01-26 | Osaka University | Electromagnetic wave phase/amplitude generation device, electromagnetic wave phase/amplitude generation method, and electromagnetic wave phase/amplitude generation program |
| US11054363B2 (en) | 2015-02-24 | 2021-07-06 | The University Of Tokyo | Dynamic high-speed high-sensitivity imaging device and imaging method |
| WO2022080482A1 (ja) * | 2020-10-15 | 2022-04-21 | ソニーグループ株式会社 | 粒子検出装置、粒子検出システム、及び粒子検出方法 |
| US11788948B2 (en) | 2018-06-13 | 2023-10-17 | Thinkcyte, Inc. | Cytometry system and method for processing one or more target cells from a plurality of label-free cells |
| US12235202B2 (en) | 2019-12-27 | 2025-02-25 | Thinkcyte K.K. | Flow cytometer performance evaluation method and standard particle suspension |
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| JP4701892B2 (ja) * | 2005-07-20 | 2011-06-15 | 株式会社島津製作所 | 粒度分布測定装置 |
| ITFI20080095A1 (it) * | 2008-05-15 | 2009-11-16 | Oglio Giorgio Dall | Metodo e dispositivo di compensazione per segnali di luce di scattering generati da interazione di luce con particelle o cellule biologiche in movimento in correnti fluide come nella citometria a flusso. |
| US8928881B2 (en) * | 2009-01-23 | 2015-01-06 | University Of Washington | Cytometer with automatic continuous alignment correction |
| DE102010005962B4 (de) * | 2010-01-21 | 2012-01-26 | Alv-Laser Vertriebsgesellschaft Mbh | Verfahren zur Bestimmung der statischen und/oder dynamischen Lichtstreuung |
| JP6473580B2 (ja) * | 2013-07-29 | 2019-02-20 | 学校法人 東洋大学 | 粒径測定装置および粒径測定方法 |
| CN109075095B (zh) | 2016-05-23 | 2024-09-13 | 应用材料公司 | 用于基板处理的颗粒检测 |
| CN106198321A (zh) * | 2016-07-11 | 2016-12-07 | 哈尔滨理工大学 | 模型构建方法和光散射成分检测方法 |
| CN106442278B (zh) * | 2016-09-22 | 2023-06-09 | 华中农业大学 | 单粒子束散射光强分布的测量装置及测量方法 |
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| JP3049144B2 (ja) * | 1992-02-07 | 2000-06-05 | 株式会社小野測器 | 粒度分布測定装置 |
| US5576827A (en) * | 1994-04-15 | 1996-11-19 | Micromeritics Instrument Corporation | Apparatus and method for determining the size distribution of particles by light scattering |
| JP3285309B2 (ja) * | 1996-03-26 | 2002-05-27 | 株式会社堀場製作所 | 光検出器 |
| US5818583A (en) * | 1996-11-08 | 1998-10-06 | Purdue Research Foundation | Particle analysis system and method |
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-
2000
- 2000-10-11 JP JP2000310610A patent/JP3822785B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-10-09 US US09/974,659 patent/US6833918B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-10 DE DE10149917A patent/DE10149917B4/de not_active Expired - Fee Related
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| US6833918B2 (en) | 2004-12-21 |
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