JP2002107734A - Liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置に
関する。[0001] The present invention relates to a liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、コンピューターを中心とする情報
機器分野およびテレビなどを中心とする映像機器分野に
おいて、軽量で小型、かつ高精細な液晶表示装置が開発
されている。2. Description of the Related Art In recent years, light-weight, small-sized, and high-definition liquid crystal display devices have been developed in the field of information equipment mainly for computers and the field of video equipment mainly for televisions.
【0003】現在、一般的に用いられている液晶セルの
多くは、電極を有する2枚のガラス基板とその間に挟持
された液晶層から構成されている。At present, most of the liquid crystal cells generally used are composed of two glass substrates having electrodes and a liquid crystal layer sandwiched between them.
【0004】例えば、カラーアクティブマトリクス型液
晶表示装置においては、第1の基板であるアレイ基板上
にアモルファスシリコンやポリシリコンを半導体層とし
た薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタに接続さ
れた画素電極、走査線および信号線が設けられ、第2の
基板である対向基板上には、光の三原色に対応した着色
層であるカラーフィルタ層および対向電極が形成されて
いる。また、2枚の基板間には、両基板間の距離を一定
に保つためのスペーサが設置されている。なお、両基板
は、基板の周縁部に配置される接着剤で固定されてい
る。For example, in a color active matrix type liquid crystal display device, a thin film transistor using amorphous silicon or polysilicon as a semiconductor layer on an array substrate as a first substrate, a pixel electrode connected to the thin film transistor, a scanning line, and A signal line is provided, and a color filter layer, which is a coloring layer corresponding to three primary colors of light, and a counter electrode are formed on the counter substrate, which is the second substrate. A spacer is provided between the two substrates to keep the distance between the two substrates constant. The two substrates are fixed with an adhesive disposed on the peripheral edge of the substrate.
【0005】一方、近年、2枚の基板を貼り合わせる際
に要求される精度を低減するために、アレイ基板上に周
辺遮光層を形成したり、表示領域内に設けられるスペー
サに起因する光抜けを防止するために、アレイ基板上に
スペーサをパターニング形成する方法が用いられてい
る。On the other hand, in recent years, in order to reduce the accuracy required when two substrates are bonded, a peripheral light-shielding layer is formed on an array substrate, or light leakage caused by a spacer provided in a display area is reduced. In order to prevent this, a method of patterning and forming a spacer on an array substrate has been used.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上述した液晶セルの形
成方法およびその構成においては、スペーサの形状によ
っては、液晶セルに液晶組成物を注入するための注入時
間が増大して生産能力が低下する問題が生じる。また、
スペーサの大きさや形状によっては、液晶セルに液晶組
成物を注入する際に、気泡が生じる問題がある。In the above-described method and structure for forming a liquid crystal cell, depending on the shape of the spacer, the injection time for injecting the liquid crystal composition into the liquid crystal cell increases, and the production capacity decreases. Problems arise. Also,
Depending on the size and shape of the spacer, there is a problem that bubbles are generated when the liquid crystal composition is injected into the liquid crystal cell.
【0007】この発明の目的は、上述した問題点を解決
するために、液晶セルに液晶組成物を注入するための注
入時間および注入時に生じることのある気泡等を低減可
能なスペーサ構造を提供するものである。An object of the present invention is to provide a spacer structure capable of reducing an injection time for injecting a liquid crystal composition into a liquid crystal cell and reducing bubbles and the like which may be generated during the injection in order to solve the above-mentioned problems. Things.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】この発明は、上述した問
題点に基づきなされたもので、所定の間隔で対向された
2枚の基板間に液晶組成物が挟持された液晶表示装置に
おいて、前記2枚の基板は、少なくとも一方の前記基板
に、両基板間距離を一定に保つ機能を有するスペーサが
形成され、前記スペーサのうちの前記2枚の基板をシー
ルするシール材の一端と他の一端を結ぶ線分からの距離
が最短のスペーサは、液晶組成物が注入される液晶注入
口のある方向への正射影長さを「a」、同液晶注入口の
ある方向と直交する方向への正射影長さを「b」とする
とき、「a/b≦1.5」の関係が与えられることを特
徴とする液晶表示装置を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made on the basis of the above-mentioned problems, and has a liquid crystal display device in which a liquid crystal composition is sandwiched between two substrates opposed at a predetermined interval. In the two substrates, a spacer having a function of maintaining a constant distance between the two substrates is formed on at least one of the substrates, and one end of a sealing material for sealing the two substrates among the spacers and the other end. The spacer having the shortest distance from the line connecting the liquid crystal composition has an orthogonal projection length "a" in the direction of the liquid crystal injection port into which the liquid crystal composition is injected, and has a positive projection length in the direction orthogonal to the direction of the liquid crystal injection port. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device, wherein a relationship of “a / b ≦ 1.5” is given when a projection length is “b”.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0010】[実施例1]図1および図2は、この発明
の一実施例である液晶表示装置の液晶セルを説明する概
略図である。なお、図1は、液晶セルを表示面方向から
見た状態を示し、図2は、図1に示した液晶セルの1画
素を抜き出した状態で、A−A´方向において、画素の
断面方向を示している。Embodiment 1 FIGS. 1 and 2 are schematic views illustrating a liquid crystal cell of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 1 shows a state in which the liquid crystal cell is viewed from the direction of the display surface. FIG. 2 shows a state in which one pixel of the liquid crystal cell shown in FIG. 1 is extracted. Is shown.
【0011】図1および図2に示す液晶セル1は、第1
の基板であるアレイ基板10と、第2の基板である対向
基板100が、複数のスペーサ31によりアレイ基板1
0と所定間隔で対向されたシール材32により接着され
たものである。なお、アレイ基板10には、薄膜トラン
ジスタ(TFT)およびR(赤),G(緑)およびB
(青)の3つのカラーフィルタ層が設けられている。ま
た、対向基板100は、透明な絶縁性基板であるガラス
基板101上に配置されたインジウム−錫酸化物(Indi
um Tin Oxide,以下ITOと称する)等からなる透明部
材によって形成された対向電極102と、対向電極10
2を覆う配向膜103を有している。The liquid crystal cell 1 shown in FIG. 1 and FIG.
The array substrate 10 as a second substrate and the opposing substrate 100 as a second substrate are separated from each other by a plurality of spacers 31.
It is bonded by a seal material 32 facing 0 at a predetermined interval. The array substrate 10 includes thin film transistors (TFT) and R (red), G (green), and B
(Blue) three color filter layers are provided. The opposing substrate 100 is made of indium-tin oxide (Indi-tin oxide) disposed on a glass substrate 101 which is a transparent insulating substrate.
um Tin Oxide (hereinafter referred to as ITO)) and a counter electrode 102 formed of a transparent member such as
2 is provided.
【0012】アレイ基板10は、図2に、詳細に説明す
るように、透明な絶縁性基板であるガラス基板11を有
し、ガラス基板11上には、所定の厚さのアンダーコー
ト層12が形成されている。The array substrate 10 has a glass substrate 11 which is a transparent insulating substrate as described in detail in FIG. 2, and an undercoat layer 12 having a predetermined thickness is formed on the glass substrate 11. Is formed.
【0013】アンダーコート層12上には、所定の厚さ
の多結晶シリコン(ポリシリコン,以下、p−Siと称
する)膜である半導体層13と、半導体層13を覆うゲ
ート絶縁膜14が形成されている。また、ゲート絶縁膜
14上には、ゲート電極15と層間絶縁膜16が堆積さ
れている。On the undercoat layer 12, a semiconductor layer 13 which is a polycrystalline silicon (polysilicon, hereinafter referred to as p-Si) film having a predetermined thickness, and a gate insulating film 14 covering the semiconductor layer 13 are formed. Have been. On the gate insulating film 14, a gate electrode 15 and an interlayer insulating film 16 are deposited.
【0014】半導体層13のチャネル領域の両側には、
V族の元素が所定のドーズ量で注入され、層間絶縁膜1
6の貫通孔を通じて、ソース電極17およびドレイン電
極18が接続されている。なお、半導体層13、ゲート
絶縁膜14、ゲート線15、層間絶縁膜16、ソース電
極17およびドレイン電極18により、TFTを構成し
ている。On both sides of the channel region of the semiconductor layer 13,
A group V element is implanted at a predetermined dose, and an interlayer insulating film 1 is formed.
The source electrode 17 and the drain electrode 18 are connected through the through holes 6. Note that the semiconductor layer 13, the gate insulating film 14, the gate line 15, the interlayer insulating film 16, the source electrode 17 and the drain electrode 18 constitute a TFT.
【0015】また、半導体層13、ゲート絶縁膜14、
ゲート線15、層間絶縁膜16、ソース電極17および
ドレイン電極18は、パッシベーション膜19に覆わ
れ、さらに、各画素領域毎に、赤(R)、緑(G)、青
(B)の3色のカラーフィルタ層20R,20Gあるい
は20Bにより、それぞれ覆われている。なお、各カラ
ーフィルタ層20R,20Gおよび20B上の所定の位
置には、例えばITO等からなる画素電極21が形成さ
れている。また、画素電極21は、配向膜22により覆
われている。The semiconductor layer 13, the gate insulating film 14,
The gate line 15, the interlayer insulating film 16, the source electrode 17, and the drain electrode 18 are covered with a passivation film 19, and further, for each pixel region, three colors of red (R), green (G), and blue (B). Are respectively covered with the color filter layers 20R, 20G or 20B. At a predetermined position on each of the color filter layers 20R, 20G and 20B, a pixel electrode 21 made of, for example, ITO is formed. The pixel electrode 21 is covered with the alignment film 22.
【0016】次に、図1および図2に示した液晶セルの
製造方法を説明する。Next, a method of manufacturing the liquid crystal cell shown in FIGS. 1 and 2 will be described.
【0017】第1に、アレイ基板10のガラス基板11
の一方の面に、プラズマCVD法で窒化シリコンと酸化
シリコンからなるアンダーコート層12を形成する。First, the glass substrate 11 of the array substrate 10
An undercoat layer 12 made of silicon nitride and silicon oxide is formed on one surface of the substrate by a plasma CVD method.
【0018】次に、アンダーコート層12上に、アモル
ファスシリコン層(以下、a−Si層と称する)を、例
えばプラズマCVD法により、所定厚さに堆積する。Next, an amorphous silicon layer (hereinafter referred to as an a-Si layer) is deposited on the undercoat layer 12 to a predetermined thickness by, for example, a plasma CVD method.
【0019】続いて、窒素雰囲気中で、所定温度かつ所
定時間アニール処理し、a−Si膜中の水素濃度を低下
させてレーザアニールを行い、p−Si膜を成膜し、パ
ターニングして半導体層13を形成する。Subsequently, annealing is performed at a predetermined temperature and for a predetermined time in a nitrogen atmosphere to reduce the hydrogen concentration in the a-Si film, and then laser annealing is performed to form a p-Si film and pattern the semiconductor. The layer 13 is formed.
【0020】次に、プラズマCVD法によりゲート絶縁
膜14を堆積し、そのゲート絶縁膜14上に、スパッタ
リング法により、厚さ約0.3μmのMo膜またはMo
−W膜を堆積し、パターニングして、ゲート電極15お
よび図示しない走査線を形成する。Next, a gate insulating film 14 is deposited by a plasma CVD method, and a Mo film or Mo having a thickness of about 0.3 μm is formed on the gate insulating film 14 by a sputtering method.
A -W film is deposited and patterned to form a gate electrode 15 and a scanning line (not shown).
【0021】次に、ゲート電極15をマスクとして半導
体層13に、P(燐)を、所定のドーズ量で注入する。Next, P (phosphorus) is implanted into the semiconductor layer 13 at a predetermined dose using the gate electrode 15 as a mask.
【0022】続いて、層間絶縁膜16を形成して所定形
状にパターニングし、スルーホールを形成した後、Al
を堆積して所定形状にパターニングし、図示しない信号
線とソース電極17およびドレイン電極18を形成す
る。Subsequently, an interlayer insulating film 16 is formed and patterned into a predetermined shape to form a through hole.
Is deposited and patterned into a predetermined shape to form a signal line (not shown), a source electrode 17 and a drain electrode 18.
【0023】このようにして、順に堆積された半導体層
13、ゲート絶縁膜14、ゲート電極15、層間絶縁膜
16、ソース電極17およびドレイン電極18のそれぞ
れを覆うように、プラズマCVD法により、窒化シリコ
ンからなるパッシベーション膜19を形成する。In this manner, the semiconductor layer 13, the gate insulating film 14, the gate electrode 15, the interlayer insulating film 16, the source electrode 17, and the drain electrode 18, which are sequentially deposited, are nitrided by the plasma CVD method. A passivation film 19 made of silicon is formed.
【0024】次に、各画素領域毎に、赤(R)、緑
(G)、青(B)の3色のカラーフィルタ層を形成する
ために、所定の順、例えば、赤色の顔料を分散させたR
用の感光性レジストを塗布し、所定の形状に露光した
後、現像し、所定温度でベークして、スルーホール21
aを有するカラーフィルタ層20Rを形成する。このと
き、ゲート電極15上に、スペーサ31用のパターンも
同時に形成する。Next, in order to form three color filter layers of red (R), green (G) and blue (B) for each pixel area, a red pigment is dispersed in a predetermined order. Let R
A photosensitive resist is applied, exposed to a predetermined shape, developed, and baked at a predetermined temperature to form a through-hole 21.
The color filter layer 20R having a is formed. At this time, a pattern for the spacer 31 is also formed on the gate electrode 15 at the same time.
【0025】続いて、例えば緑色の顔料を分散させたG
用の感光性レジストを塗布し、カラーフィルタ層20R
と同様の工程で、カラーフィルタ層20Gを形成する。
このとき、ゲート電極15上に積層された赤のパターン
上に、スペーサ31用のパターンも同時に形成する。Subsequently, for example, G in which a green pigment is dispersed
For the color filter layer 20R
The color filter layer 20 </ b> G is formed in the same process as described above.
At this time, a pattern for the spacer 31 is simultaneously formed on the red pattern laminated on the gate electrode 15.
【0026】さらに、青色の顔料を分散させたB用の感
光性レジストを塗布し、カラーフィルタ層20Rと同様
の工程で、カラーフィルタ層20Bを形成する。このと
き、ゲート電極15上に積層された赤と緑のパターンの
上に、スペーサ31用のパターンも同時に形成する。Further, a photosensitive resist for B in which a blue pigment is dispersed is applied, and a color filter layer 20B is formed in the same process as the color filter layer 20R. At this time, a pattern for the spacer 31 is simultaneously formed on the red and green patterns stacked on the gate electrode 15.
【0027】従って、個々のカラーフィルタ層20R,
20Gおよび20Bと同時に形成される赤、緑および青
のパターンがゲート電極15上に互いに積層されること
で、対向基板100とアレイ基板10との間の間隔を一
定に維持するスペーサ31として機能する高さが与えら
れ、これによりスペーサ31が得られる。なお、スペー
サ31は、例えば各カラーフィルタ層20R,20Gお
よび20Bの境界部に設けてもよい。また、スペーサ3
1は、表示領域の周辺部を覆う図示しない遮光層を形成
する工程で、遮光層と同時に、その一部を所定の形状に
パターニングして形成されてもよい。この場合、スペー
サ31または遮光層は、黒色樹脂で形成される。Accordingly, the individual color filter layers 20R,
The red, green, and blue patterns formed simultaneously with 20G and 20B are stacked on the gate electrode 15 to function as spacers 31 that keep the distance between the counter substrate 100 and the array substrate 10 constant. A height is provided, whereby a spacer 31 is obtained. The spacer 31 may be provided, for example, at the boundary between the color filter layers 20R, 20G, and 20B. Spacer 3
Reference numeral 1 denotes a step of forming a light-shielding layer (not shown) that covers a peripheral portion of the display area. In this case, the spacer 31 or the light shielding layer is formed of a black resin.
【0028】次に、スパッタリング法によりITOを所
定の厚さ堆積して所定形状にパターニングすることで、
画素電極21が形成される。このとき、画素電極21の
一部は、スルーホール21aによりカラーフィルタ層の
下層のドレイン電極18と接触される。Next, ITO is deposited to a predetermined thickness by sputtering and patterned into a predetermined shape.
The pixel electrode 21 is formed. At this time, a part of the pixel electrode 21 is in contact with the drain electrode 18 below the color filter layer through the through hole 21a.
【0029】次に、各カラーフィルタ層20R,20G
および20Bならびに画素電極21上に、例えばポリイ
ミドからなる配向膜材料を塗布し、配向処理を施して配
向膜22を形成する。Next, each color filter layer 20R, 20G
An alignment film material made of, for example, polyimide is applied on the pixel electrodes 20B and the pixel electrode 21, and an alignment process is performed to form an alignment film 22.
【0030】一方、対向基板100においては、透明な
絶縁性基板であるガラス基板101上に図示しないアン
ダーコート層が設けられた後、ITO等からなる透明部
材の対向電極102が形成され、続いて、例えばポリイ
ミドからなる配向膜103が設けられる。On the other hand, in the counter substrate 100, after an undercoat layer (not shown) is provided on a glass substrate 101, which is a transparent insulating substrate, a counter electrode 102 of a transparent member made of ITO or the like is formed. For example, an alignment film 103 made of polyimide is provided.
【0031】次に、アレイ基板10の周囲にシール材3
2を、液晶注入口33を除いて塗布し、対向基板100
が接着されることで、空のセルができあがる。Next, a sealing material 3 is provided around the array substrate 10.
2 is applied except for the liquid crystal injection port 33, and the opposite substrate 100
By bonding, an empty cell is created.
【0032】この後、空のセルに、液晶注入口33から
液晶組成物50を注入し、液晶注入口33を図示しない
封止材で封止することで、液晶セル1が得られる。Thereafter, the liquid crystal composition 50 is injected into the empty cell from the liquid crystal injection port 33, and the liquid crystal injection port 33 is sealed with a sealing material (not shown), whereby the liquid crystal cell 1 is obtained.
【0033】スペーサ31は、図3に示すように、平面
方向から見た状態で、概ね長方形であって、例えば空の
セルの液晶注入口33が設けられる方向と平行な方向お
よび液晶注入口33が設けられる方向と直交する方向の
それぞれに、各辺が平行に向けられるものとする。As shown in FIG. 3, the spacer 31 has a substantially rectangular shape when viewed from the plane, and has, for example, a direction parallel to the direction in which the liquid crystal injection port 33 of the empty cell is provided and the liquid crystal injection port 33. It is assumed that each side is directed parallel to each of the directions orthogonal to the direction in which is provided.
【0034】図3に示したようなスペーサ31に関し、
スペーサ31の各辺のうち液晶注入口33のある方向へ
の正射影長さを「a」、同液晶注入口33のある辺と直
交する方向への正射影長さを「b」とし、各辺の長さの
比である「a/b」を以下に示す[表1]のAからFの
条件で形成し、Regarding the spacer 31 as shown in FIG.
Of each side of the spacer 31, the orthogonal projection length in the direction of the liquid crystal injection port 33 is "a", and the orthogonal projection length in the direction orthogonal to the side of the liquid crystal injection port 33 is "b". “A / b”, which is the ratio of the lengths of the sides, is formed under the conditions A to F in Table 1 below,
【表1】 [Table 1]
【0035】空のセルに液晶注入口33から液晶組成物
50を注入するために必要な注入時間を測定したとこ
ろ、図4に示すように、「E」の例で注入時間が著しく
増大することが認められた。なお、液晶注入口33のあ
る方向とは、シール材32の一端と他の一端とを結ぶ線
分32aに垂直な方向に記載してある方向である。When the injection time required to inject the liquid crystal composition 50 from the liquid crystal injection port 33 into the empty cell was measured, the injection time was significantly increased in the example of "E" as shown in FIG. Was observed. Note that the direction in which the liquid crystal injection port 33 exists is a direction described in a direction perpendicular to a line 32 a connecting one end of the sealing material 32 and the other end.
【0036】従って、「D」で示す「a/b=1.5
6」よりも「a/b」が大きい場合には、スペーサ31
の各辺の長さの比が適正ではないと判断できる。このこ
とから、スペーサ31において、各辺の長さの比「a/
b」は、1.56程度より小さく設定される必要があ
り、より好ましくは、「a/b」は、「a/b≦1.
5」であることが望まれる。Therefore, "a / b = 1.5" shown by "D"
When “a / b” is larger than “6”, the spacer 31
It can be determined that the ratio of the lengths of the sides is not appropriate. From this, in the spacer 31, the ratio of the length of each side “a /
b ”needs to be set to be smaller than about 1.56. More preferably,“ a / b ”is“ a / b ≦ 1.
5 ”is desired.
【0037】なお、このようにして求められた形状、す
なわち各辺の長さの比「a/b」の関係を維持しなけれ
ばならないスペーサは、液晶組成物50を注入する際に
液晶注入口33に最も近接しているスペーサ、すなわち
図3に示すように、シール材32の一端と他の一端を結
ぶ線分32aからの距離が最短のスペーサである。The spacer which must maintain the shape obtained in this manner, that is, the relationship of the ratio of the lengths of each side “a / b” is used when the liquid crystal composition 50 is injected. The spacer closest to 33, that is, the spacer having the shortest distance from a line segment 32a connecting one end of the sealing material 32 and the other end, as shown in FIG.
【0038】このようにして形成した液晶セル1のアレ
イ基板10および対向基板100のそれぞれの外側の面
に、図示しない偏光板を貼りつけて、液晶モジュールに
組み立て、図示しない駆動回路を取り付けてカラー画像
を表示させたところ、コントラストの高い表示が得られ
た。A polarizing plate (not shown) is attached to the outer surface of each of the array substrate 10 and the counter substrate 100 of the liquid crystal cell 1 thus formed, assembled into a liquid crystal module, and a driving circuit (not shown) is attached to the color plate. When the image was displayed, a display with high contrast was obtained.
【0039】[実施例2]上述した実施例1では、カラ
ーフィルタ層をアレイ基板に備えた液晶表示装置にこの
発明を適用した例について説明したが、カラーフィルタ
層は、以下に示すように、対向基板側に配置されてもよ
い。Embodiment 2 In Embodiment 1 described above, an example in which the present invention is applied to a liquid crystal display device provided with a color filter layer on an array substrate has been described. It may be arranged on the counter substrate side.
【0040】図5を用いて、カラーフィルタ層を対向基
板側に設ける例について説明する。なお、上述した実施
例1の構成と同一の構成については、200を加えた符
号を付して詳細な説明を省略する。また、表示面から見
た状態は、図1に類似であるから、断面のみを示す。An example in which a color filter layer is provided on the counter substrate side will be described with reference to FIG. Note that the same configuration as that of the first embodiment described above is denoted by the reference numeral obtained by adding 200, and the detailed description is omitted. Moreover, since the state viewed from the display surface is similar to FIG. 1, only the cross section is shown.
【0041】図5に示されるように、液晶セル201の
アレイ基板210と対向基板290は、以下に説明する
スペーサにより所定の間隔が維持されて、両基板間に、
液晶組成物50が注入されている。As shown in FIG. 5, a predetermined distance is maintained between the array substrate 210 and the opposing substrate 290 of the liquid crystal cell 201 by a spacer described below.
The liquid crystal composition 50 has been injected.
【0042】アレイ基板210は、透明な絶縁性基板で
あるガラス基板211の一方の面に形成されたアンダー
コート層212、p−Si膜である半導体層213、ゲ
ート絶縁膜214、ゲート電極215、層間絶縁膜21
6、ソース電極217、ドレイン電極218、パッシベ
ーション膜219、画素電極221および配向膜222
を有している。The array substrate 210 includes an undercoat layer 212 formed on one surface of a glass substrate 211 which is a transparent insulating substrate, a semiconductor layer 213 which is a p-Si film, a gate insulating film 214, a gate electrode 215, Interlayer insulating film 21
6, source electrode 217, drain electrode 218, passivation film 219, pixel electrode 221 and alignment film 222
have.
【0043】なお、画素電極221は、パッシベーショ
ン膜219の所定位置に開けられたスルーホール221
aを通じて、ドレイン電極218と接続されている。It should be noted that the pixel electrode 221 has a through hole 221 formed at a predetermined position of the passivation film 219.
Through a, it is connected to the drain electrode 218.
【0044】対向基板290は、透明な絶縁性基板であ
るガラス基板291上に配置された各画素領域毎の赤
(R)、緑(G)、青(B)の3色のカラーフィルタ層
292R,292Gおよび292Bと、それぞれのカラ
ーフィルタ層292R,292Gおよび292B上に積
層配置されたITO等の透明部材からなる対向電極29
3と、対向電極293を覆う配向膜294を有してい
る。The opposing substrate 290 has a color filter layer 292R of three colors of red (R), green (G), and blue (B) for each pixel region disposed on a glass substrate 291 which is a transparent insulating substrate. , 292G, and 292B, and a counter electrode 29 made of a transparent member such as ITO laminated on the respective color filter layers 292R, 292G, and 292B.
3 and an alignment film 294 that covers the counter electrode 293.
【0045】なお、カラーフィルタ層292Rの所定の
位置には、緑パターンと青パターンが、順に積層され、
アレイ基板210との間の間隔を維持するためのスペー
サ295として機能する。At a predetermined position of the color filter layer 292R, a green pattern and a blue pattern are sequentially laminated.
It functions as a spacer 295 for maintaining a space between the array substrate 210 and the array substrate 210.
【0046】[比較例]実施例2と同一の条件におい
て、スペーサを、以下に示す[表2]のMないしOの条
件で形成し、液晶組成物の注入に必要な注入時間を求め
た。[Comparative Example] Under the same conditions as in Example 2, spacers were formed under the conditions of M to O in Table 2 below, and the injection time required for injection of the liquid crystal composition was determined.
【0047】[0047]
【表2】 [Table 2]
【0048】しかしながら、MおよびNでは、液晶組成
物50がきちんと注入できたが、Oでは、液晶組成物5
0が液晶セル内に、きちんと充填されず、気泡が残るこ
とが確認されている。このように、スペーサの各辺の長
さの比「a/b」の下限値としては、2.5×10−4
である。However, in the case of M and N, the liquid crystal composition 50 could be injected properly.
It has been confirmed that 0 is not properly filled in the liquid crystal cell and bubbles remain. As described above, the lower limit of the length ratio “a / b” of each side of the spacer is 2.5 × 10 −4.
It is.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
液晶セルの表示エリア内に設けられるスペーサの形状を
定義する際に、スペーサの2辺に関し、液晶注入口側の
辺への正射影の長さを、それに垂直な方向への正射影の
1.5倍の長さ以下にすることで、空のセルに液晶組成
物を注入する際の注入時間を短くすることができ、生産
能力が向上する。As explained above, according to the present invention,
When defining the shape of the spacer provided in the display area of the liquid crystal cell, regarding the two sides of the spacer, the length of the orthogonal projection to the side on the liquid crystal injection port side and the orthogonal projection to the direction perpendicular to the two sides are set as follows. By making the length 5 times or less, the injection time for injecting the liquid crystal composition into an empty cell can be shortened, and the production capacity is improved.
【0050】また、樹脂を用いてスペーサを形成する場
合、非表示領域内に、選択的に形成できるため、表示領
域において、スペーサ周辺で生じることのある光抜けを
防止でき、コントラストの高い表示を提供することがで
きる。When a spacer is formed using a resin, the spacer can be selectively formed in a non-display area. Therefore, in the display area, light leakage that may occur around the spacer can be prevented, and a display with high contrast can be achieved. Can be provided.
【図1】この発明の実施の形態が適用される液晶セルを
表示面方向から見た概略図。FIG. 1 is a schematic view of a liquid crystal cell to which an embodiment of the present invention is applied, viewed from a display surface direction.
【図2】図1に示した液晶セルの1画素の拡大断面図。FIG. 2 is an enlarged sectional view of one pixel of the liquid crystal cell shown in FIG.
【図3】図1および図2に示した液晶セルのスペーサの
形状の特徴を説明する概略図。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating characteristics of a shape of a spacer of the liquid crystal cell shown in FIGS. 1 and 2;
【図4】図3に示したスペーサの形状と液晶セルへの液
晶組成物の注入時間との関係を説明するグラフ。4 is a graph illustrating the relationship between the shape of the spacer shown in FIG. 3 and the injection time of a liquid crystal composition into a liquid crystal cell.
【図5】図5は、図1および図2に示した実施例とは異
なる液晶セルの1画素の拡大断面図。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of one pixel of a liquid crystal cell different from the embodiment shown in FIGS. 1 and 2;
1,201・・・液晶セル、 10,210・・・アレイ基板、 20R,292R・・・カラーフィルタ層(R)、 20G,292G・・・カラーフィルタ層(G)、 20B,292B・・・カラーフィルタ層(B)、 31,295・・・スペーサ、 32 ・・・シール材、 33 ・・・液晶注入口、 50 ・・・液晶組成物、 100,290・・・対向基板。 1,201 ... liquid crystal cell, 10, 210 ... array substrate, 20R, 292R ... color filter layer (R), 20G, 292G ... color filter layer (G), 20B, 292B ... Color filter layer (B), 31, 295: spacer, 32: sealing material, 33: liquid crystal injection port, 50: liquid crystal composition, 100, 290: counter substrate.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 武志 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 (72)発明者 真鍋 敦行 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 2H089 LA09 LA10 LA11 LA12 LA13 LA18 LA19 LA20 MA03X NA08 NA14 PA09 QA16 TA09 TA12 5C094 AA43 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA05 EA07 EB02 EC03 ED03 GB10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takeshi Yamamoto 1-9-2, Hara-cho, Fukaya-shi, Saitama Prefecture Inside the Toshiba Fukaya Plant Co., Ltd. No. 2 F-term in Toshiba Fukaya Plant (reference) 2H089 LA09 LA10 LA11 LA12 LA13 LA18 LA19 LA20 MA03X NA08 NA14 PA09 QA16 TA09 TA12 5C094 AA43 BA03 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA05 EA07 EB02 EC03 ED03 GB10
Claims (4)
晶組成物が挟持された液晶表示装置において、 前記2枚の基板は、少なくとも一方の前記基板に、両基
板間距離を一定に保つ機能を有するスペーサが形成さ
れ、 前記スペーサのうちの前記2枚の基板をシールするシー
ル材の一端と他の一端を結ぶ線分からの距離が最短のス
ペーサは、液晶組成物が注入される液晶注入口のある方
向への正射影長さを「a」、同液晶注入口のある方向と
直交する方向への正射影長さを「b」とするとき、「a
/b≦1.5」の関係が与えられることを特徴とする液
晶表示装置。1. A liquid crystal display device in which a liquid crystal composition is sandwiched between two substrates opposed to each other at a predetermined interval, wherein the two substrates have a constant distance between at least one of the substrates. A liquid crystal composition is injected into a spacer having a shortest distance from a line connecting one end of the sealing material for sealing the two substrates and another end of the spacer among the spacers. When the orthographic length in a direction of the liquid crystal injection port is "a" and the orthographic length in a direction orthogonal to the direction of the liquid crystal injection port is "b", "a"
/B≦1.5 ”.
板に設けられるカラーフィルタ層が積層されたものであ
ることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is formed by laminating a color filter layer provided on the at least one substrate.
薄膜トランジスタを含む基板に設けられることを特徴と
する請求項1または2記載の液晶表示装置。3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is provided on a substrate including a thin film transistor among the two substrates.
対向電極を含む基板に設けられることを特徴とする請求
項1または2記載の液晶表示装置。4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the spacer is provided on a substrate including a counter electrode of the two substrates.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2000301378A JP2002107734A (en) | 2000-09-29 | 2000-09-29 | Liquid crystal display device |
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