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JP2002100827A - Semiconductor laser - Google Patents

Semiconductor laser

Info

Publication number
JP2002100827A
JP2002100827A JP2001284452A JP2001284452A JP2002100827A JP 2002100827 A JP2002100827 A JP 2002100827A JP 2001284452 A JP2001284452 A JP 2001284452A JP 2001284452 A JP2001284452 A JP 2001284452A JP 2002100827 A JP2002100827 A JP 2002100827A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
receiving element
light receiving
laser chip
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001284452A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaru Ogawa
勝 小川
Kazuyuki Yao
和幸 八尾
Hideki Ichikawa
英樹 市川
Katsushige Masui
克栄 増井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2001284452A priority Critical patent/JP2002100827A/en
Publication of JP2002100827A publication Critical patent/JP2002100827A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser of a structure such that, during works of a wire-bonding of a semiconductor laser chip and a wire boding of a light-receiving element, the operations of a change in the approaching direction of a capillary and the like are dispensed with, moreover, the output of the light-receiving element can be increased, and at the same time, a miniaturization of the whole laser is contrived. SOLUTION: A semiconductor laser is formed in a constitution that the laser is at least provided with a semiconductor laser chip 5 and a light-receiving element 6 for detecting the light output of the chip 5, by monitoring light emitter from the end surface on the side opposite to the laser beam emitting surface of the chip 5. The monitored light emitted from the chip 5 is received by the side surface of the element 6 which intersects orthogonally the carrier diffusion surface of the element 6 and has a microscopic roughened structure. The thickness of the side surface of the element 6 from the mounting surface of the chip 5 is thicker than the thickness of the chip 5 from the mounting surface of the chip 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザ装置
に関し、特に光ディスク装置の光源として用いられる半
導体レーザ装置や、ディスクで変調された反射光を受光
し変調信号を出力する機能をもつホログラムレーザ型半
導体レーザ装置、LD励起固体レーザ、或は変位測定器
やポインタとして使用される半導体レーザ装置等に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser device, and more particularly to a semiconductor laser device used as a light source of an optical disk device and a hologram laser type having a function of receiving reflected light modulated by a disk and outputting a modulation signal. The present invention relates to a semiconductor laser device, an LD-pumped solid-state laser, and a semiconductor laser device used as a displacement measuring device or a pointer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の技術について、図9(a)及び
(b)を参照して説明する。図9(a)及び(b)はそ
れぞれ、従来例による半導体レーザ装置の斜視図及びそ
の斜視図をY−Z軸を含む平面で切断した断面図であ
る。この従来例は、光軸を中心として円形状のステムを
有する構造例を示している。
2. Description of the Related Art A conventional technique will be described with reference to FIGS. 9 (a) and 9 (b). 9A and 9B are a perspective view of a semiconductor laser device according to a conventional example and a cross-sectional view of the perspective view taken along a plane including the YZ axes. This conventional example shows an example of a structure having a circular stem about the optical axis.

【0003】図9(a)及び(b)に示すように、この
半導体レーザ装置は、ステム101上に、半導体レーザ
チップ102と光出力検出用受光素子103(以下、受
光素子と記す)とが、略直角をなす位置に配置されてい
る。そして、受光素子103は、そのキャリア拡散面1
04が、半導体レーザチップ102の後方から出射され
る光105に対向するように配置されている。つまり、
受光素子103は半導体レーザチップ102の後方から
出射した光105をモニターして半導体レーザチップ1
02の光出力を検出するためのものである。半導体レー
ザチップ102の前面からはレーザ光106が出射され
る。
As shown in FIGS. 9A and 9B, in this semiconductor laser device, a semiconductor laser chip 102 and a light output detecting light receiving element 103 (hereinafter, referred to as a light receiving element) are provided on a stem 101. , At substantially right angles. Then, the light receiving element 103 has its carrier diffusion surface 1
04 is disposed so as to face the light 105 emitted from behind the semiconductor laser chip 102. That is,
The light receiving element 103 monitors the light 105 emitted from behind the semiconductor laser chip 102 and
02 is for detecting the light output of the light emitting device. Laser light 106 is emitted from the front surface of the semiconductor laser chip 102.

【0004】また、図中、107は受光素子103の電
気信号を出力する電極、108は半導体レーザチップ1
02の電極である。109、110はリード端子であ
り、それぞれリード端子109が半導体レーザチップ1
02に、またリード端子110が受光素子103の電極
107に金線111によって接続されている。ステム1
01の大きさは、その直径が例えばφ5.6mmであ
る。
In the figure, reference numeral 107 denotes an electrode for outputting an electric signal of the light receiving element 103, and reference numeral 108 denotes a semiconductor laser chip 1.
02 electrode. Reference numerals 109 and 110 denote lead terminals, respectively.
In addition, a lead terminal 110 is connected to the electrode 107 of the light receiving element 103 by a gold wire 111. Stem 1
The size of 01 has a diameter of, for example, φ5.6 mm.

【0005】図10(a)及び(b)はそれぞれ、他の
従来例による半導体レーザ装置の斜視図及びそのY−Z
軸を含む平面で切断した断面図である。
FIGS. 10 (a) and 10 (b) are perspective views of another conventional semiconductor laser device and YZ diagrams thereof.
It is sectional drawing cut | disconnected by the plane containing an axis | shaft.

【0006】図10(a)及び(b)に示すように、樹
脂パッケージ201内に設けられた金属板202上にS
iサブマウント203が配置されている。そして、Si
サブマウント203の端部上面には半導体レーザチップ
204が搭載され、また、他端方向には光検出用受光素
子205(以下、受光素子205と記す)が設けられて
いる。ここで、受光素子205と半導体レーザチップ2
04との位置関係は、半導体レーザチップ204の後面
から出射されたモニター光207の内の斜線部の光20
7’のみが受光素子205に入射する構造となってい
る。
[0006] As shown in FIGS. 10A and 10B, a metal plate 202 provided in a resin package 201 is placed on a metal plate 202.
An i-sub mount 203 is provided. And Si
A semiconductor laser chip 204 is mounted on the upper surface of the end of the submount 203, and a light detecting light receiving element 205 (hereinafter, referred to as light receiving element 205) is provided in the other end direction. Here, the light receiving element 205 and the semiconductor laser chip 2
The position of the light 20 in the hatched portion in the monitor light 207 emitted from the rear surface of the semiconductor laser chip 204
Only 7 'is incident on the light receiving element 205.

【0007】一方、半導体レーザチップ204の前面か
らY方向へ出射した光208は、プリズム206で反射
されZ方向に立ちあげられる。
On the other hand, light 208 emitted from the front surface of the semiconductor laser chip 204 in the Y direction is reflected by the prism 206 and rises in the Z direction.

【0008】図中、209は受光素子205のキャリア
の拡散面、210は受光素子205の電気信号を出力す
る電極、211は半導体レーザチップ204に設けられ
た電極、212〜215はリード端子で、リード端子2
12は金属板202に接続されアースされている。
In the figure, 209 is a carrier diffusion surface of the light receiving element 205, 210 is an electrode for outputting an electric signal of the light receiving element 205, 211 is an electrode provided on the semiconductor laser chip 204, 212 to 215 are lead terminals, Lead terminal 2
Reference numeral 12 is connected to the metal plate 202 and grounded.

【0009】また、受光素子205の電極210とリー
ド端子214間、及び半導体レーザチップ204の電極
211とリード端子213間が、金線216によってワ
イヤボンディングされている。また、リード端子215
は電気的に浮いた状態となっている。
[0009] A gold wire 216 is used for wire bonding between the electrode 210 of the light receiving element 205 and the lead terminal 214 and between the electrode 211 of the semiconductor laser chip 204 and the lead terminal 213. Also, the lead terminal 215
Is in an electrically floating state.

【0010】樹脂パッケージ201の大きさは、例えば
φ8.2mm×t4.8mm程度である。また、図9及
び図10ともに、受光素子の拡散層の深さは約1μm程
度である。
The size of the resin package 201 is, for example, about φ8.2 mm × t4.8 mm. 9 and 10, the depth of the diffusion layer of the light receiving element is about 1 μm.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図9に示し
た従来例においては、半導体レーザチップ102の電極
108を含む面と、受光素子103の電極107を含む
面とが略直角の方向に配置されている。このため、製造
時において以下のような不都合が生じる。
By the way, in the conventional example shown in FIG. 9, the surface of the semiconductor laser chip 102 including the electrode 108 and the surface of the light receiving element 103 including the electrode 107 are arranged at substantially right angles. Have been. For this reason, the following inconveniences occur during manufacturing.

【0012】即ち、半導体レーザチップ102の電極1
08とリード端子109間のワイヤボンディングは、キ
ャピラリをY軸方向から電極108とリード端子109
とに近付けて行う必要がある。一方、受光素子103の
電極107とリード端子110間のワイヤボンディング
はキャピラリをZ軸方向から近付けて行わなければなら
ない。
That is, the electrode 1 of the semiconductor laser chip 102
08 and the lead terminal 109, the capillary is connected to the electrode 108 and the lead terminal 109 from the Y-axis direction.
It is necessary to be done close to. On the other hand, wire bonding between the electrode 107 of the light receiving element 103 and the lead terminal 110 must be performed with the capillary approached from the Z-axis direction.

【0013】つまり、一旦装置をある位置にセットした
状態のままでは、一方のワイヤボンディングしかでき
ず、結局、半導体レーザチップ102のワイヤボンディ
ング時と受光素子103のワイヤボンディング時では、
装置全体をそれぞれのワイヤボンディングに必要な向き
に回転させるという作業が必要であった。
In other words, once the device is set at a certain position, only one wire bonding can be performed. In the end, the wire bonding of the semiconductor laser chip 102 and the light bonding of the light receiving element 103 are not performed.
It was necessary to rotate the entire device in a direction required for each wire bonding.

【0014】これに対して、図10に示す従来例におい
ては、半導体レーザチップ204の電極211を含む面
と受光素子205の電極210を含む面とは平行となる
構造であり、ワイヤボンディング時にはいずれもキャピ
ラリをZ軸方向から近付ければよく、ワイヤボンディン
グの作業性に関する限り、図9のような問題はない。し
かし、図10の従来例は以下に示すような問題点があ
る。
On the other hand, in the conventional example shown in FIG. 10, the surface including the electrode 211 of the semiconductor laser chip 204 and the surface including the electrode 210 of the light receiving element 205 are parallel to each other. Also, the capillary may be approached from the Z-axis direction, and there is no problem as shown in FIG. 9 as far as the workability of wire bonding is concerned. However, the conventional example of FIG. 10 has the following problems.

【0015】つまり、図10の構造では、受光素子20
5がSiサブマウント203に形成される一方、同じS
iサブマウント203上に受光素子205と水平方向に
半導体レーザチップ201がダイボンドされているの
で、図10(b)からも明らかなように、受光素子20
5は半導体レーザチップ204の後面から出射されるモ
ニター光207の一部の光207’しか受光できない。
従って、受光素子205が出力する電気信号は非常に小
さいレベルとなってしまう。
That is, in the structure shown in FIG.
5 is formed on the Si submount 203 while the same S
Since the semiconductor laser chip 201 is die-bonded to the i-submount 203 in the horizontal direction with respect to the light receiving element 205, as is apparent from FIG.
5 can receive only a part of the monitor light 207 emitted from the rear surface of the semiconductor laser chip 204.
Therefore, the electric signal output from the light receiving element 205 has a very small level.

【0016】これに対して、受光素子205の出力を大
きくする方法として、受光素子205の拡散面209を
図中、A方向に拡大することも考えられるが、これは即
ち、Siサブマウント203及び樹脂パッケージ201
の外形を大きくすることにつながる。受光素子205の
出力を大きくすることは、レーザチップのAPC(Au
tomatic Power Contorol)動作
にとって望ましいが、そのためにパッケージの外形を大
きくすることは、半導体レーザ装置の小型化とトレード
オフの関係にあり問題点が残る。
On the other hand, as a method of increasing the output of the light receiving element 205, it is conceivable to enlarge the diffusion surface 209 of the light receiving element 205 in the direction A in the figure. Resin package 201
Leads to an increase in the outer shape of the. Increasing the output of the light receiving element 205 requires the APC (Au) of the laser chip.
Although it is desirable for the operation of the PDP, an increase in the outer shape of the package for that purpose has a trade-off relationship with the miniaturization of the semiconductor laser device, and there remains a problem.

【0017】そこで、本発明の目的は、ワイヤボンディ
ング作業時、キャピラリの接近方向を変える等の操作が
不要で、しかも受光素子の出力を大きくできるととも
に、装置全体の小型化を図れる半導体レーザ装置を実現
することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor laser device which does not require an operation such as changing the approach direction of a capillary during wire bonding work, can increase the output of a light receiving element, and can reduce the size of the entire device. Is to make it happen.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、半導体レーザチップと、該半導体レーザ
チップのレーザ光出射面の反対側の端面から出射される
光をモニターして前記半導体レーザチップの光出力を検
出する受光素子と、を少なくとも備えた半導体レーザ装
置において、前記半導体レーザチップから出射されるモ
ニター光を、前記受光素子のキャリア拡散面と直交しか
つ微細な凹凸構造を有する側面部で受光してなり、前記
半導体レーザチップの実装面からの前記受光素子の側面
部の厚みが、前記半導体レーザチップの実装面からの該
半導体レーザチップの厚みよりも厚いことを特徴とす
る。前記半導体レーザチップと前記受光素子との間の距
離が300〜500μmであることとしても良い。
In order to achieve the above object, the present invention is directed to a semiconductor laser chip and a method of monitoring light emitted from an end face of the semiconductor laser chip opposite to a laser light emitting surface. A light-receiving element for detecting an optical output of the semiconductor laser chip, wherein the monitor light emitted from the semiconductor laser chip is provided with a fine uneven structure orthogonal to the carrier diffusion surface of the light-receiving element. The side surface of the semiconductor laser chip, the thickness of the side surface of the light receiving element from the mounting surface of the semiconductor laser chip is greater than the thickness of the semiconductor laser chip from the mounting surface of the semiconductor laser chip. I do. The distance between the semiconductor laser chip and the light receiving element may be 300 to 500 μm.

【0019】また、本発明は、半導体レーザチップと、
該半導体レーザチップのレーザ光出射面の反対側の端面
から出射される光をモニターして前記半導体レーザチッ
プの光出力を検出する受光素子と、を少なくとも備えた
半導体レーザ装置において、前記半導体レーザチップか
ら出射されるモニター光を、前記受光素子のキャリア拡
散面と直交しかつ微細な凹凸構造を有する側面部で受光
してなり、前記半導体レーザチップと前記受光素子との
間の距離が300〜500μmであることを特徴とす
る。
The present invention also provides a semiconductor laser chip,
A light-receiving element that monitors light emitted from an end surface of the semiconductor laser chip opposite to the laser light emission surface and detects light output of the semiconductor laser chip. Monitor light emitted from the light-receiving element is received by a side surface having a fine uneven structure perpendicular to the carrier diffusion surface of the light-receiving element, and the distance between the semiconductor laser chip and the light-receiving element is 300 to 500 μm. It is characterized by being.

【0020】また、本発明は、上記の半導体レーザ装置
であって、前記半導体レーザチップ及び前記受光素子が
パッケージ内に配され、該パッケージ内で、前記半導体
レーザチップの少なくとも一つの電極がリード端子にワ
イヤボンディングされると共に、前記受光素子の少なく
とも一つの電極がリード端子にワイヤボンディングされ
てなることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided the semiconductor laser device, wherein the semiconductor laser chip and the light receiving element are arranged in a package, and at least one electrode of the semiconductor laser chip is connected to a lead terminal in the package. And at least one electrode of the light receiving element is wire-bonded to a lead terminal.

【0021】本発明によれば、上記したように、半導体
レーザチップのモニター光は受光素子のキャリア拡散面
と直交する方向の側面で受光するようにしているので、
半導体レーザチップ及び受光素子の両素子を同一実装面
に平行にダイボンドできる。従って、従来であれば、両
素子が互いに直角方向に設置されているが故に、各素子
のワイヤボンディングの際にそれぞれ別方向からキャピ
ラリを近接させる必要のある場合があったが、本発明で
は同一方向からキャピラリを近付けてワイヤボンディン
グすれば良いので、従来のような手間が不要となる。
According to the present invention, as described above, the monitor light of the semiconductor laser chip is received on the side surface orthogonal to the carrier diffusion surface of the light receiving element.
Both the semiconductor laser chip and the light receiving element can be die-bonded in parallel on the same mounting surface. Therefore, in the related art, since the two elements are installed at right angles to each other, it is sometimes necessary to approach the capillaries from different directions at the time of wire bonding of the respective elements. Since the capillary may be approached from the direction and wire-bonded, it is not necessary to perform the conventional work.

【0022】また、モニター光の受光は受光素子の側面
で行うので、受光素子のキャリア拡散面の面積は電極を
設ける分のみあれば良く、従来に比べ格段の小型化が図
れる(約1/5)。また、この際、このままの構造であ
れば、従来に比べ受光素子の出力が十分得られないが、
本発明ではこれを解消し、さらに大きな出力が得られる
構造を供している。
Further, since the monitor light is received on the side surface of the light receiving element, the area of the carrier diffusion surface of the light receiving element only needs to be provided for the provision of the electrodes, and the size can be reduced remarkably as compared with the conventional case (about 1/5). ). Also, at this time, if the structure is as it is, the output of the light receiving element cannot be sufficiently obtained as compared with the related art,
The present invention solves this problem and provides a structure capable of obtaining a larger output.

【0023】また、例えば、受光素子のキャリア拡散面
が上方にあり、その反対面がダイボンドされている構造
においては、キャリア拡散層の深さを従来よりも深く、
10倍以上、例えば10μm以上に設ける。これによ
り、側面方向からモニター光が入射する構造であって
も、光電変換効率を向上できAPC回路を駆動できる程
度の十分な光出力が得られる。
Further, for example, in a structure in which the carrier diffusion surface of the light receiving element is above and the opposite surface is die-bonded, the depth of the carrier diffusion layer is deeper than in the prior art.
Provided at least 10 times, for example, at least 10 μm. Thus, even with a structure in which monitor light is incident from the side, a sufficient light output can be obtained to improve the photoelectric conversion efficiency and drive the APC circuit.

【0024】また、例えば、受光素子のキャリア拡散面
側をダイボンドする構造においては、受光素子のキャリ
ア拡散層の深さを、少なくとも前記半導体レーザチップ
の前記実装面から発光点までの距離以上に設ければ、半
導体レーザチップのモニター光の発光点と受光素子のキ
ャリア拡散層とがほぼ対向することとなり、モニター光
が有効に光電変換され大きな光出力が得られる。
Further, for example, in a structure in which the carrier diffusion surface side of the light receiving element is die-bonded, the depth of the carrier diffusion layer of the light receiving element is provided at least at a distance from the mounting surface of the semiconductor laser chip to the light emitting point. Then, the emission point of the monitor light of the semiconductor laser chip and the carrier diffusion layer of the light receiving element are substantially opposed to each other, and the monitor light is effectively photoelectrically converted, and a large optical output is obtained.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態について、
図1を参照して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described.
This will be described with reference to FIG.

【0026】図1(a)乃至(c)はそれぞれ、本実施
形態による半導体レーザ装置の外観斜視図、要部断面図
及び半導体レーザチップの拡散部拡大図である。
FIGS. 1A to 1C are an external perspective view, a main part sectional view, and an enlarged view of a diffusion portion of the semiconductor laser chip of the semiconductor laser device according to the present embodiment, respectively.

【0027】本実施形態の大きな特徴は、半導体レーザ
チップの後面から出射される光(モニター光)が受光素
子の側面(キャリアの拡散面と垂直な面)に入射される
構造とした点と、受光素子の拡散を深くした点にある。
以下、図面に基づいて詳細に説明する。
The major feature of this embodiment is that light (monitor light) emitted from the rear surface of the semiconductor laser chip is incident on the side surface (surface perpendicular to the carrier diffusion surface) of the light receiving element. The point is that the diffusion of the light receiving element is deepened.
The details will be described below with reference to the drawings.

【0028】図1(a)に示すように、リードフレーム
型樹脂モールドパッケージ1(以下、単にパッケージ1
と記す)内に設けた金属板2(後述するリード端子に一
体)上に、ステム3及びレーザ光立ち上げプリズム4
(以下、単にプリズム4と記す)を配している。そし
て、ステム3上に半導体レーザチップ5及び受光素子6
をダイボンドしている。
As shown in FIG. 1A, a lead frame type resin mold package 1 (hereinafter simply referred to as package 1) is used.
), A stem 3 and a laser beam rising prism 4 on a metal plate 2 (integrated with a lead terminal described later) provided therein.
(Hereinafter simply referred to as prism 4). Then, the semiconductor laser chip 5 and the light receiving element 6 are placed on the stem 3.
Is die-bonded.

【0029】ここで、半導体レーザチップ5の後面から
のモニター光15は受光素子6の側面に入射するよう配
置されている。また、半導体レーザチップ5の前面から
の出射光16はプリズム4の斜面に当たるよう配置され
ている。
Here, the monitor light 15 from the rear surface of the semiconductor laser chip 5 is arranged to enter the side surface of the light receiving element 6. Further, the emitted light 16 from the front surface of the semiconductor laser chip 5 is arranged so as to hit the slope of the prism 4.

【0030】また、7乃至10は外部接続用のリード端
子であり、半導体レーザチップ5はリード端子7に、受
光素子6はリード端子9にそれぞれ金線11によってワ
イヤボンディングされている。金属板2はリード端子8
と一体的に形成されている。リード端子10は電気的に
浮いた状態となっている。
Reference numerals 7 to 10 denote lead terminals for external connection. The semiconductor laser chip 5 is wire-bonded to the lead terminal 7 and the light receiving element 6 is wire-bonded to the lead terminal 9 by a gold wire 11, respectively. Metal plate 2 is lead terminal 8
And are formed integrally with it. The lead terminal 10 is in an electrically floating state.

【0031】なお、受光素子6は本発明に特定の特殊な
素子ではなく、一般的な構造のものでよい。例えば、拡
散面表面キャリア濃度については以下のようである。
1)SiのN型基板にB(ボロン)拡散する場合、10
18〜1019個/cm2、2)SiのP型基板にP(リ
ン)拡散する場合、1019〜1020個/cm2となる。
また、基板の濃度は一般的に1014〜1015個/cm2
である。
The light receiving element 6 is not a special element specific to the present invention, but may have a general structure. For example, the carrier concentration on the diffusion surface is as follows.
1) When B (boron) is diffused into an N-type Si substrate, 10
18 to 10 19 / cm 2 , 2) When P (phosphorus) is diffused into a Si P-type substrate, the density is 10 19 to 10 20 / cm 2 .
The concentration of the substrate is generally 10 14 to 10 15 / cm 2.
It is.

【0032】次に、半導体レーザチップ5と受光素子6
の位置関係について、図1(b)を参照して詳細に説明
する。図1(b)において、12は半導体レーザチップ
5上の電極、13は受光素子6におけるキャリアの拡散
層、14は受光素子6の電気信号出力用の電極である。
なお、金線11は省略している。図1(a)でも説明し
たように、半導体レーザチップ5の後面からのモニター
光15は、受光素子6の側面(キャリアの拡散面と垂直
な面)に入射される構造としている。半導体レーザチッ
プ5の前面から出射される光16はプリズム4で反射し
て上方に立ちあげられる。
Next, the semiconductor laser chip 5 and the light receiving element 6
Will be described in detail with reference to FIG. In FIG. 1B, 12 is an electrode on the semiconductor laser chip 5, 13 is a carrier diffusion layer in the light receiving element 6, and 14 is an electrode for outputting an electric signal of the light receiving element 6.
Note that the gold wire 11 is omitted. As described with reference to FIG. 1A, the monitor light 15 from the rear surface of the semiconductor laser chip 5 is incident on the side surface of the light receiving element 6 (the surface perpendicular to the carrier diffusion surface). Light 16 emitted from the front surface of the semiconductor laser chip 5 is reflected by the prism 4 and rises upward.

【0033】この構造においては、拡散面13は電極1
4を形成するに充分な広さがあれば良いので、図1
(b)におけるaの長さを従来に比べて約1/5以下、
100μm程度とすることができる。従って、特に半導
体レーザチップ5及び受光素子6を結ぶ方向の距離を短
縮でき、半導体レーザ装置としての小型化を図れる。
In this structure, the diffusion surface 13 corresponds to the electrode 1
1 only needs to be wide enough to form the first and second regions of FIG.
The length of a in (b) is about 1/5 or less of the conventional length,
It can be about 100 μm. Therefore, the distance in the direction connecting the semiconductor laser chip 5 and the light receiving element 6 can be reduced, and the size of the semiconductor laser device can be reduced.

【0034】ところで、上記のように半導体レーザチッ
プ5からの光を受光素子6の拡散面に対して垂直な面で
受光すると、単にその構造のままでは従来に比して出力
電気信号のレベルが小さくなる。これに対して、本実施
形態は下記のような構造としているので十分な出力信号
が得られる。
When the light from the semiconductor laser chip 5 is received on the surface perpendicular to the diffusion surface of the light receiving element 6 as described above, the level of the output electric signal becomes higher than that of the related art simply with the structure. Become smaller. In contrast, the present embodiment has the following structure, so that a sufficient output signal can be obtained.

【0035】即ち、本実施形態においては、受光素子6
の拡散層の深さfを通常の受光素子の10倍以上深く拡
散するようにしている。ここではf=10μmとした。
このような構造によって、光電変換に寄与するキャリア
密度を約10倍にできる。
That is, in the present embodiment, the light receiving element 6
Is diffused 10 times or more deeper than a normal light receiving element. Here, f = 10 μm.
With such a structure, the carrier density contributing to photoelectric conversion can be increased about 10 times.

【0036】また、受光素子6の側面と拡散層13’間
の距離bを従来構造の1/2以下、50μm程度として
いる。このように側面−拡散層13’間を狭くすること
によって、側面に入射したモニター光は容易に拡散層1
3’に到達し、有効な光電変換が行われるので光出力を
より向上できる。
Further, the distance b between the side surface of the light receiving element 6 and the diffusion layer 13 'is set to not more than 1/2 of the conventional structure and about 50 μm. By thus narrowing the space between the side surface and the diffusion layer 13 ′, the monitor light incident on the side surface can be easily diffused.
The light output reaches 3 'and effective photoelectric conversion is performed, so that the light output can be further improved.

【0037】ところで、拡散層13’の深さfを深くす
るには拡散時間を長くする等のプロセスによって実現で
きるが、拡散層13’を深くすればするほど、拡散層1
3’の形状が変化する。図1(c)に受光素子6の拡散
部の拡大図を示している。図1(c)に示すように、拡
散層13’はバスタブ型に拡散する特徴があるため、拡
散層深さ1に対して0.8の長さ分だけ拡散面13が広
がる。従って、実際の拡散層深さを決定する際には、こ
のバスタブ型の広がりを考慮して設計する必要がある。
ここでは、f=10μmとして各部の寸法を示してい
る。
The depth f of the diffusion layer 13 'can be increased by a process such as increasing the diffusion time. However, the deeper the diffusion layer 13' is, the more the diffusion layer 1 'is formed.
The shape of 3 ′ changes. FIG. 1C shows an enlarged view of the diffusion portion of the light receiving element 6. As shown in FIG. 1C, the diffusion layer 13 ′ has a feature of diffusing in a bathtub shape, so that the diffusion surface 13 spreads by a length of 0.8 with respect to the diffusion layer depth 1. Therefore, when determining the actual depth of the diffusion layer, it is necessary to take this bathtub type into consideration in designing.
Here, the dimensions of each part are shown with f = 10 μm.

【0038】また、半導体レーザチップ5と受光素子6
間の距離cは、300〜500μmとしている。従来の
ように、半導体レーザチップのモニター光を受光素子の
キャリア拡散面で受光する構造においては、半導体レー
ザチップ−受光素子間の距離は約1mmであった。これ
に対して両素子間の距離をより短くできるのは以下のよ
うな理由による。
The semiconductor laser chip 5 and the light receiving element 6
The distance c between them is 300 to 500 μm. In the conventional structure in which the monitor light of the semiconductor laser chip is received by the carrier diffusion surface of the light receiving element, the distance between the semiconductor laser chip and the light receiving element is about 1 mm. On the other hand, the distance between the two elements can be made shorter for the following reason.

【0039】即ち、一般にキャリア拡散面は鏡面に近
く、このため従来構造にあって両素子間の距離が短い
と、半導体レーザチップからのモニター光は受光素子面
で反射して再度半導体レーザチップに入射し、この結果
発振が不安定になるという問題があった。このため、従
来は1mm程度の距離を置いていた。
That is, generally, the carrier diffusion surface is close to the mirror surface, and therefore, if the distance between the two elements is short in the conventional structure, the monitor light from the semiconductor laser chip is reflected on the light receiving element surface and is again reflected on the semiconductor laser chip. And the oscillation becomes unstable as a result. For this reason, a distance of about 1 mm has conventionally been provided.

【0040】これに対して、本実施形態の場合、モニタ
ー光は受光素子6の側面に入射する訳であるが、この受
光素子6の側面は通常ダイシングカットによって切断さ
れた面であるので、その表面は微細な凹凸構造となって
いる。従って、キャリア拡散面のような鏡面ではないの
で、その面には光が入射し易くなっている。このため、
上述の距離まで近接することができる。
On the other hand, in the case of the present embodiment, the monitor light is incident on the side surface of the light receiving element 6. However, since the side surface of the light receiving element 6 is a surface which is usually cut by dicing cut, the The surface has a fine uneven structure. Therefore, since the light is not a mirror surface such as a carrier diffusion surface, light is easily incident on the surface. For this reason,
It can be close to the above-mentioned distance.

【0041】このように、半導体レーザチップ5からの
モニター光15は近接した位置の受光素子6で受光でき
るので、さらに光電変換の効率を向上できる。
As described above, the monitor light 15 from the semiconductor laser chip 5 can be received by the light receiving element 6 at a close position, so that the efficiency of photoelectric conversion can be further improved.

【0042】上記図1に示した構造の半導体レーザ装置
においては、レーザ出力5mW時において、受光素子の
出力電流は0.02mAを得た。これにより、半導体レ
ーザ装置をAPC駆動できた。また、試作では、直径φ
5.0mm、厚さt2.8mmの外形寸法を実現した。
従来構造においては、直径φ8.2mm、厚さt4.8
mmであったので、かなりの小型化を図れた。
In the semiconductor laser device having the structure shown in FIG. 1, the output current of the light receiving element was 0.02 mA when the laser output was 5 mW. As a result, the semiconductor laser device could be driven by APC. In the prototype, the diameter φ
Outer dimensions of 5.0 mm and thickness t2.8 mm were realized.
In the conventional structure, the diameter is 8.2 mm and the thickness is t4.8.
mm, it was possible to considerably reduce the size.

【0043】なお、図2は半導体レーザのAPC駆動回
路の一例を示した回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of an APC drive circuit for a semiconductor laser.

【0044】図1と同一機能部分には同一記号を付して
いる。点線部20がAPC駆動回路部であり、受光素子
6が半導体レーザチップ5のモニター光15を受光する
ことによって、半導体レーザチップ5の光出力を検出
し、一定出力を維持するように制御する。
The same functional portions as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. The dotted line part 20 is an APC drive circuit part, and the light receiving element 6 receives the monitor light 15 of the semiconductor laser chip 5 to detect the optical output of the semiconductor laser chip 5 and control so as to maintain a constant output.

【0045】以上のように、本実施形態によれば、半導
体レーザチップ5からの光を受光素子6の拡散面13に
対して垂直な側面で受光する構造とし小型化を実現でき
る一方、半導体レーザ装置をAPC駆動するのに十分な
高出力電気信号も得ることができる。
As described above, according to the present embodiment, the light from the semiconductor laser chip 5 is received on the side surface perpendicular to the diffusion surface 13 of the light receiving element 6 so that downsizing can be realized. A high output electrical signal sufficient to APC drive the device can also be obtained.

【0046】図3は本発明の他の実施の形態による半導
体レーザ装置の斜視図である。本実施形態は、図1に示
した半導体レーザチップと受光素子の配置関係を、円形
型金属アイレット型ステムを使用した半導体レーザ装置
に適用したものである。
FIG. 3 is a perspective view of a semiconductor laser device according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, the arrangement relationship between the semiconductor laser chip and the light receiving element shown in FIG. 1 is applied to a semiconductor laser device using a circular metal eyelet type stem.

【0047】図3に示すように、円形金属板20上に設
けられたステム21上に半導体レーザチップ22及び受
光素子23が搭載されている。24はプリズム、25乃
至27はリード端子であり、リード端子25と半導体レ
ーザチップ22、リード端子27と受光素子23がそれ
ぞれ金線24でワイヤボンディングされている。リード
端子26はステム21と一体となっている。半導体レー
ザチップ22、受光素子23、プリズム24の位置関係
については、図1と同じであるので説明は省略する。
As shown in FIG. 3, a semiconductor laser chip 22 and a light receiving element 23 are mounted on a stem 21 provided on a circular metal plate 20. Reference numeral 24 denotes a prism, and reference numerals 25 to 27 denote lead terminals. The lead terminal 25 and the semiconductor laser chip 22, and the lead terminal 27 and the light receiving element 23 are wire-bonded with gold wires 24, respectively. The lead terminal 26 is integral with the stem 21. The positional relationship among the semiconductor laser chip 22, the light receiving element 23, and the prism 24 is the same as that in FIG.

【0048】上記構造によれば、半導体レーザチップ2
2及び受光素子23のワイヤボンディングの際、キャピ
ラリはZ方向より近付けるだけでよく、図9の従来例の
ように各素子のワイヤボンディング毎に装置の位置を変
更するといった繁雑な工程がない。
According to the above structure, the semiconductor laser chip 2
At the time of wire bonding of the light receiving element 2 and the light receiving element 23, it is only necessary to bring the capillary closer than the Z direction, and there is no complicated step of changing the position of the apparatus for each wire bonding of each element as in the conventional example of FIG.

【0049】また、この半導体レーザ装置においては、
レーザ出力5mW時において、受光素子の出力は0.0
2mAを得た。これにより、半導体レーザ装置をAPC
駆動できる。また、この半導体レーザ装置の直径はφ
4.5である。従来構造の、例えば図7に示した装置の
直径はφ5.6であり、従来例に比較して小型化が図れ
た。
In this semiconductor laser device,
When the laser output is 5 mW, the output of the light receiving element is 0.0
2 mA was obtained. This allows the semiconductor laser device to be APC
Can be driven. The diameter of this semiconductor laser device is φ
4.5. The diameter of the device having the conventional structure, for example, as shown in FIG. 7, is φ5.6, and the size can be reduced as compared with the conventional example.

【0050】図4は本発明のさらに他の実施の形態によ
る半導体レーザ装置の断面図である。なお、ここでは、
半導体レーザチップと受光素子の位置関係のみを拡大図
にて説明する。
FIG. 4 is a sectional view of a semiconductor laser device according to still another embodiment of the present invention. Here,
Only the positional relationship between the semiconductor laser chip and the light receiving element will be described in an enlarged view.

【0051】一般に、半導体レーザチップの発光点は、
該チップのダイボンド面から極めて近い位置にある。特
に、活性層下型(Thin−Cap型)半導体レーザチ
ップでは、ダイボンド面から1〜10μmの位置に発光
点がある。このような半導体レーザチップを用いる場合
には、これに対向する受光素子の内部の光電変換に寄与
する領域が、ダイボンド面に近接した位置にある方が、
光電変換効率が良く、受光素子の出力信号レベルが大き
くなる。
Generally, the light emitting point of a semiconductor laser chip is
It is located very close to the die bonding surface of the chip. In particular, in the active layer lower type (Thin-Cap type) semiconductor laser chip, there is a light emitting point at a position of 1 to 10 μm from the die bonding surface. When such a semiconductor laser chip is used, the region contributing to the photoelectric conversion inside the light receiving element facing the semiconductor laser chip is located closer to the die bonding surface.
The photoelectric conversion efficiency is good, and the output signal level of the light receiving element increases.

【0052】本実施形態では上記のような点を考慮し、
キャリアの拡散面側をステムにダイボンドしたものであ
る。具体的には、図4に示すようにステム30上にダイ
ボンド面から2μmの位置に発光点がある活性層下(T
hin−Cap型)の半導体レーザチップ31と、これ
に対向する受光素子32を搭載している。そして、この
受光素子32はキャリアの拡散層33側をステム30に
対してダイボンドしている。ここで、拡散層33の厚み
を約10μmとしている。
In the present embodiment, taking the above points into consideration,
The carrier diffusion surface side is die-bonded to the stem. Specifically, as shown in FIG. 4, the active layer is located below the active layer (T
A (hin-Cap type) semiconductor laser chip 31 and a light receiving element 32 opposed thereto are mounted. In the light receiving element 32, the carrier diffusion layer 33 side is die-bonded to the stem 30. Here, the thickness of the diffusion layer 33 is about 10 μm.

【0053】図5に図4の受光素子32のステム30へ
のボンディング状態を示す。なお、受光素子32の大き
さを相対的に大きく描いている。
FIG. 5 shows a bonding state of the light receiving element 32 of FIG. 4 to the stem 30. In addition, the size of the light receiving element 32 is drawn relatively large.

【0054】図4及び図5中、34はSiO2膜で、受
光素子32の半導体基板35とステム30とが電気的に
接触しないようにするための絶縁膜である。その他の受
光素子32の側面とキャリア拡散層33間の距離、拡散
面の広さ、半導体レーザチップ31と受光素子32間の
距離等は図1および図2の実施形態と同じである。ま
た、36はモニター光、37は半導体レーザチップ31
の前方から出射されるレーザ光、38は受光素子32の
上面電極、39は受光素子32の拡散層33の拡散面全
面に形成した電極である。
4 and 5, reference numeral 34 denotes an SiO 2 film, which is an insulating film for preventing the semiconductor substrate 35 of the light receiving element 32 from coming into electrical contact with the stem 30. Other distances between the side surface of the light receiving element 32 and the carrier diffusion layer 33, the width of the diffusion surface, the distance between the semiconductor laser chip 31 and the light receiving element 32, and the like are the same as those in the embodiments of FIGS. 36 is a monitor light, 37 is a semiconductor laser chip 31
Is a laser beam emitted from the front of the light receiving element, 38 is an upper electrode of the light receiving element 32, and 39 is an electrode formed on the entire diffusion surface of the diffusion layer 33 of the light receiving element 32.

【0055】上記構造による半導体レーザ装置は、レー
ザ出力5mW時において、受光素子32の出力電流は
0.05mAが得られ、APC駆動ができた。
In the semiconductor laser device having the above structure, when the laser output was 5 mW, the output current of the light receiving element 32 was 0.05 mA, and the APC drive was possible.

【0056】ところで、図4及び図5に示した受光素子
32の拡散層の深さfは、半導体レーザチップ31の発
光点−ステム30間の距離程度かそれ以上とすることに
より、受光素子32の側面が半導体レーザチップ31か
らの光を確実に受光することができ、光電変換効率を十
分確保できる。
By the way, the depth f of the diffusion layer of the light receiving element 32 shown in FIGS. 4 and 5 is set to be equal to or greater than the distance between the light emitting point of the semiconductor laser chip 31 and the stem 30 so that the light receiving element 32 Can reliably receive the light from the semiconductor laser chip 31, and the photoelectric conversion efficiency can be sufficiently ensured.

【0057】従って、例えば図6に示すように、半導体
レーザチップ40の発光点の位置がダイボンド面から5
0μmの位置にある場合には、これに対する受光素子4
1の拡散層の深さfもやはり約50μm程度とするのが
望ましい。図6において、受光素子41の側面からキャ
リア拡散層42までの距離、拡散層42の拡散面の広
さ、半導体レーザチップ40と受光素子41間の距離等
は図1乃至図5の実施形態と同じである。また、図4と
同一機能部分には同一記号を付している。
Therefore, for example, as shown in FIG. 6, the position of the light emitting point of the semiconductor laser chip 40 is 5 from the die bonding surface.
When it is located at 0 μm, the light receiving element 4
It is desirable that the depth f of the first diffusion layer is also about 50 μm. 6, the distance from the side surface of the light receiving element 41 to the carrier diffusion layer 42, the width of the diffusion surface of the diffusion layer 42, the distance between the semiconductor laser chip 40 and the light receiving element 41, and the like are the same as those in FIGS. Is the same. The same functional portions as those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals.

【0058】図6の実施形態においては、レーザ出力5
mW時において、受光素子の出力電流は0.07mAを
得た。
In the embodiment shown in FIG.
At mW, the output current of the light receiving element was 0.07 mA.

【0059】図7は本発明のさらに他の実施の形態の断
面図である。ここでも、半導体レーザチップと受光素子
のみを取り上げて説明する。図6に示すように、セラミ
ックヒート型基板50(以下、単に基板50と記す)上
に半導体レーザチップ51と受光素子52とが搭載され
ている。半導体レーザチップ51の光が受光素子52の
側面(キャリア拡散面と垂直方向の面)に入射される
点、及びキャリアの拡散面側をダイボンドする点は図4
乃至図6の実施形態と同じである。なお、図8に受光素
子52を基板50に搭載する状態を示している。ここで
は、受光素子52を相対的に大きく描いている。
FIG. 7 is a sectional view of still another embodiment of the present invention. Here, only the semiconductor laser chip and the light receiving element will be described. As shown in FIG. 6, a semiconductor laser chip 51 and a light receiving element 52 are mounted on a ceramic heat type substrate 50 (hereinafter simply referred to as a substrate 50). FIG. 4 shows the point at which light from the semiconductor laser chip 51 is incident on the side surface (surface perpendicular to the carrier diffusion surface) of the light receiving element 52 and the point at which the carrier diffusion surface side is die-bonded.
6 to FIG. FIG. 8 shows a state where the light receiving element 52 is mounted on the substrate 50. Here, the light receiving element 52 is drawn relatively large.

【0060】本実施形態の特徴は、基板50に、受光素
子52のアノード、カソードと電気的に接続するような
パターン53、54を形成し、これによって受光素子5
2の電気信号を取り出すよう構成した点にある。図中、
55はSiO2等の膜で、この膜55が回路パターン3
3及び34で挟まれた基板50の部分に対向するように
受光素子52が搭載される。電極56と回路パターン5
4が、また電極57と回路パターン53がそれぞれ接触
しないように絶縁する絶縁膜である。なお、58は受光
素子52の拡散層、59は上面電極、60、61は半導
体レーザチップ51の下面電極、62は上面電極、63
はモニター光、64は前面からのレーザ光、65はワイ
ヤである。
The feature of this embodiment is that patterns 53 and 54 are formed on the substrate 50 so as to be electrically connected to the anode and the cathode of the light receiving element 52, whereby the light receiving element 5 is formed.
2 is configured to take out the electric signal. In the figure,
55 is a film of SiO 2 or the like, and this film 55
The light receiving element 52 is mounted so as to face the portion of the substrate 50 sandwiched between 3 and 34. Electrode 56 and circuit pattern 5
Reference numeral 4 denotes an insulating film that insulates the electrode 57 and the circuit pattern 53 so as not to contact each other. 58 is a diffusion layer of the light receiving element 52, 59 is an upper electrode, 60 and 61 are lower electrodes of the semiconductor laser chip 51, 62 is an upper electrode, 63
Is a monitor light, 64 is a laser beam from the front, and 65 is a wire.

【0061】本実施形態によれば、基板50上に設けら
れた電極から受光素子52の出力電気信号を取り出すこ
とができ、受光素子52のワイヤボンディングが不要と
なる効果が得られる。
According to the present embodiment, the output electric signal of the light receiving element 52 can be extracted from the electrode provided on the substrate 50, and the effect that wire bonding of the light receiving element 52 becomes unnecessary can be obtained.

【0062】なお、この構造は図1に示したリードフレ
ーム型樹脂モールドパッケージ及び図3に示した金属ア
イレット型ステムのいずれの場合にも適用できる。
This structure can be applied to both the lead frame type resin mold package shown in FIG. 1 and the metal eyelet type stem shown in FIG.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体レ
ーザ装置においては、半導体レーザチップのモニター光
は受光素子の側面で受光するようにしているので、両素
子を同一実装面に平行にダイボンドできる。従って、従
来であれば、両素子が互いに直角方向に設置されている
が故に、各素子のワイヤボンディングの際にそれぞれ別
方向からキャピラリを近接させる必要のある場合があっ
たが、本発明では同一方向からキャピラリを近付けてワ
イヤボンディングすれば良いので、従来のような手間が
不要となる。
As described above, in the semiconductor laser device of the present invention, the monitor light of the semiconductor laser chip is received on the side surface of the light receiving element, so that both elements are die-bonded in parallel to the same mounting surface. it can. Therefore, in the related art, since the two elements are installed at right angles to each other, it is sometimes necessary to approach the capillaries from different directions at the time of wire bonding of the respective elements. Since the capillary may be approached from the direction and wire-bonded, it is not necessary to perform the conventional work.

【0064】また、モニター光の受光は受光素子の側面
で行うので、受光素子のキャリア拡散面の面積は電極を
設ける分のみあれば良く、従来に比べ格段の小型化が図
れる(約1/5)。また、この際、このままの構造であ
れば、従来に比べ受光素子の出力が十分得られないが、
本発明ではこれを解消する構造を供している。
Further, since the monitor light is received on the side surface of the light receiving element, the area of the carrier diffusion surface of the light receiving element only needs to be equal to the provision of the electrodes, and the size can be reduced remarkably as compared with the conventional case (about 1/5). ). Also, at this time, if the structure is as it is, the output of the light receiving element cannot be sufficiently obtained as compared with the related art,
The present invention provides a structure for solving this problem.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)乃至(c)はそれぞれ、本発明の一実施
の形態による半導体レーザ装置の斜視図、断面図及び受
光素子の部分拡大図である。
FIGS. 1A to 1C are a perspective view, a sectional view, and a partially enlarged view of a light receiving element of a semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention, respectively.

【図2】APC駆動回路の一例の回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an example of an APC drive circuit;

【図3】本発明の他の実施の形態を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing another embodiment of the present invention.

【図4】本発明のさらに他の実施の形態を示す断面図で
ある。
FIG. 4 is a sectional view showing still another embodiment of the present invention.

【図5】図4の実施形態の素子搭載状態を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a device mounted state of the embodiment of FIG. 4;

【図6】本発明のさらに他の実施の形態を示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a sectional view showing still another embodiment of the present invention.

【図7】本発明のさらに他の実施の形態を示す断面図で
ある。
FIG. 7 is a sectional view showing still another embodiment of the present invention.

【図8】図7の実施形態の素子搭載状態を示す図であ
る。
FIG. 8 is a diagram showing a device mounted state of the embodiment of FIG. 7;

【図9】(a)及び(b)はそれぞれ、従来例による半
導体レーザ装置の斜視図および断面図である。
FIGS. 9A and 9B are a perspective view and a cross-sectional view, respectively, of a conventional semiconductor laser device.

【図10】(a)及び(b)はそれぞれ、他の従来例に
よる半導体レーザ装置の斜視図および断面図である。
10A and 10B are a perspective view and a cross-sectional view of a semiconductor laser device according to another conventional example, respectively.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 ステム(実装面) 5 半導体レーザチップ 6 受光素子 3 stem (mounting surface) 5 semiconductor laser chip 6 light receiving element

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市川 英樹 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 増井 克栄 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 5F073 AB25 BA06 BA09 EA15 FA27 FA30 GA01 GA12 5F088 BA01 BA16 BB10 JA03 JA10 JA20  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hideki Ichikawa 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Sharp Corporation (72) Inventor Katsue Masui 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka F-term (for reference) 5F073 AB25 BA06 BA09 EA15 FA27 FA30 GA01 GA12 5F088 BA01 BA16 BB10 JA03 JA10 JA20

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体レーザチップと、該半導体レーザ
チップのレーザ光出射面の反対側の端面から出射される
光をモニターして前記半導体レーザチップの光出力を検
出する受光素子と、を少なくとも備えた半導体レーザ装
置において、 前記半導体レーザチップから出射されるモニター光を、
前記受光素子のキャリア拡散面と直交しかつ微細な凹凸
構造を有する側面部で受光してなり、 前記半導体レーザチップの実装面からの前記受光素子の
側面部の厚みが、前記半導体レーザチップの実装面から
の該半導体レーザチップの厚みよりも厚いことを特徴と
する半導体レーザ装置。
1. A semiconductor laser chip comprising: a semiconductor laser chip; and a light receiving element for monitoring light emitted from an end face of the semiconductor laser chip opposite to a laser light emitting surface and detecting a light output of the semiconductor laser chip. In the semiconductor laser device, monitor light emitted from the semiconductor laser chip is
Light is received by a side surface portion having a fine uneven structure perpendicular to the carrier diffusion surface of the light receiving element, and the thickness of the side surface portion of the light receiving element from the mounting surface of the semiconductor laser chip is equal to the mounting of the semiconductor laser chip. A semiconductor laser device having a thickness greater than a thickness of the semiconductor laser chip from a surface.
【請求項2】 前記半導体レーザチップと前記受光素子
との間の距離が300〜500μmであることを特徴と
する請求項1に記載の半導体レーザ装置。
2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein a distance between the semiconductor laser chip and the light receiving element is 300 to 500 μm.
【請求項3】 半導体レーザチップと、該半導体レーザ
チップのレーザ光出射面の反対側の端面から出射される
光をモニターして前記半導体レーザチップの光出力を検
出する受光素子と、を少なくとも備えた半導体レーザ装
置において、 前記半導体レーザチップから出射されるモニター光を、
前記受光素子のキャリア拡散面と直交しかつ微細な凹凸
構造を有する側面部で受光してなり、 前記半導体レーザチップと前記受光素子との間の距離が
300〜500μmであることを特徴とする半導体レー
ザ装置。
3. A semiconductor laser chip comprising: a semiconductor laser chip; and a light receiving element for monitoring light emitted from an end surface of the semiconductor laser chip opposite to a laser light emitting surface and detecting a light output of the semiconductor laser chip. In the semiconductor laser device, monitor light emitted from the semiconductor laser chip is
A semiconductor device, wherein light is received by a side surface orthogonal to a carrier diffusion surface of the light receiving element and having a fine uneven structure, and a distance between the semiconductor laser chip and the light receiving element is 300 to 500 μm. Laser device.
【請求項4】 請求項1から3のいずれか1項に記載の
半導体レーザ装置であって、 前記半導体レーザチップ及び前記受光素子がパッケージ
内に配され、 該パッケージ内で、前記半導体レーザチップの少なくと
も一つの電極がリード端子にワイヤボンディングされる
と共に、前記受光素子の少なくとも一つの電極がリード
端子にワイヤボンディングされてなることを特徴とする
半導体レーザ装置。
4. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser chip and the light receiving element are arranged in a package, and the semiconductor laser chip is mounted in the package. At least one electrode is wire-bonded to a lead terminal, and at least one electrode of the light receiving element is wire-bonded to a lead terminal.
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