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JP2002090543A - Polarizing function element, optical isolator element, optical isolator and laser diode module - Google Patents

Polarizing function element, optical isolator element, optical isolator and laser diode module

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Publication number
JP2002090543A
JP2002090543A JP2000284984A JP2000284984A JP2002090543A JP 2002090543 A JP2002090543 A JP 2002090543A JP 2000284984 A JP2000284984 A JP 2000284984A JP 2000284984 A JP2000284984 A JP 2000284984A JP 2002090543 A JP2002090543 A JP 2002090543A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
polarizing
optical isolator
substrate
polarizing film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000284984A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Shiraki
健一 白木
Yoshihito Kasai
嘉仁 葛西
Nobuo Imaizumi
伸夫 今泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Namiki Precision Jewel Co Ltd
Original Assignee
Namiki Precision Jewel Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Namiki Precision Jewel Co Ltd filed Critical Namiki Precision Jewel Co Ltd
Priority to JP2000284984A priority Critical patent/JP2002090543A/en
Priority to PCT/JP2001/008152 priority patent/WO2002025325A1/en
Priority to US10/130,474 priority patent/US7002742B2/en
Publication of JP2002090543A publication Critical patent/JP2002090543A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 切断,洗浄等の取扱いを容易に行え、高精度
な偏光機能素子として安価で小型なものに構成すると共
に、性能のより優れたものに構成する。 【解決手段】 複数の平行に並ぶ金属格子2a…,2
a’…の間隔を誘電体2b…,2b’…で埋めまたは誘
電体格子2b…,2b’…の間隔を金属2a…,2a’
…で埋めた扁平な偏光膜2,2’と、その偏光膜の上に
重ねて形成する誘電体膜3,3’との積層膜全体を偏光
膜兼無反射膜として基板1の表面に設ける。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a high-precision polarizing function element that is easy to handle such as cutting and washing, and that is inexpensive and small, and that has better performance. SOLUTION: A plurality of parallel metal gratings 2a,.
a '... are filled with dielectrics 2b, 2b' ... or the dielectric gratings 2b, 2b 'are filled with metals 2a, 2a'.
The entire laminated film of the flat polarizing films 2, 2 'filled with ... and the dielectric films 3, 3' formed on the polarizing film is provided on the surface of the substrate 1 as a polarizing film and an anti-reflection film. .

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、偏光フィルター等
を構成する偏光機能素子、光アイソレータを構成する光
アイソレータ素子並びに光アイソレータ素子を備えて構
成する光アイソレータ、光アイソレータを搭載するレー
ザダイオードモジュールの改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polarization function element constituting a polarization filter, an optical isolator element constituting an optical isolator, an optical isolator comprising an optical isolator element, and a laser diode module having an optical isolator. It is about improvement.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、光アイソレータを例示すると、
その光アイソレータは少なくともファラデー回転子,光
入射側並びに出射側の偏光子,光軸方向に平行な磁界を
与えるマグネットを構成部品として備えることにより構
成されている。
2. Description of the Related Art Generally, when an optical isolator is exemplified,
The optical isolator includes at least a Faraday rotator, a polarizer on the light incident side and the light emitting side, and a magnet for providing a magnetic field parallel to the optical axis direction.

【0003】その構成中、偏光子は偏光プリズムや偏光
ガラスが用いられている。この偏光子は入射側,出射側
とでファラデー回転子を介し相互の角度を精密に決定す
る必要があるため、組み付けに手間が掛り、光アイソレ
ータとして製品価格を高価なものにする。また、ファラ
デー回転子を介して入射側,出射側の偏光子を個別に二
つ備えて構成するため、小型化を図るのに限界がある。
In the structure, a polarizing prism or a polarizing glass is used as a polarizer. Since it is necessary to precisely determine the mutual angle of the polarizer between the incident side and the output side via a Faraday rotator, it takes time and effort to assemble, and the product price becomes high as an optical isolator. In addition, since two polarizers are separately provided on the incident side and the output side via the Faraday rotator, there is a limit in downsizing.

【0004】その光アイソレータを安価に構成し、且
つ、小型を図るべく、光学軸が互いに45度傾く偏光膜
として導電性の金属格子をファラデー回転子の両面に設
けることが提案されている(特開平7―49468
号)。
In order to make the optical isolator inexpensive and compact, it has been proposed to provide a conductive metal grating on both sides of a Faraday rotator as a polarizing film whose optical axes are inclined at 45 degrees to each other (particularly). Kaihei 7-49468
issue).

【0005】そのアイソレータ素子は、量産方法として
金属格子を数cm程度のファラデー回転子に真空蒸着
等で形成してから、1mm〜3mm角程度の大きさに切
断することにより得られる。
[0005] The isolator element is obtained by mass-producing a metal grid by forming a metal grid on a Faraday rotator of about several cm 2 by vacuum evaporation or the like, and then cutting it into a size of about 1 mm to 3 mm square.

【0006】そのアイソレータ素子の切断の際に、偏光
膜が金属格子と格子間の間隔とにより凹凸を呈している
ため、このような偏光膜は破損や汚染が生じ易く、加
工,洗浄等の取扱いに注意を払う必要がある。また、偏
光面が凹凸を呈していることから、この上に更に別の光
学膜を重ねて無反射膜を構成する等のことは金属格子の
間隔が空隙を有することにより困難である。
[0006] When the isolator element is cut, the polarizing film has irregularities due to the spacing between the metal gratings and the metal grating. Therefore, such a polarizing film is liable to be damaged or contaminated. You need to pay attention to it. In addition, since the polarization surface has irregularities, it is difficult to form a non-reflection film by further laminating another optical film on the polarization surface due to the gaps between the metal gratings.

【0007】それに対し、ファラデー効果を有する磁気
光学結晶を備え、所定の幅,深さの平行な溝を磁気光学
結晶の表面に多数設けると共に、金属格子として金属層
を該溝内に充填することにより、偏平な偏光子一体型の
ファラデー回転子を構成することが提案されている(特
許第3067026号)。
On the other hand, a magneto-optical crystal having a Faraday effect is provided, a number of parallel grooves having a predetermined width and depth are provided on the surface of the magneto-optical crystal, and a metal layer is filled in the grooves as a metal lattice. Has proposed a flat polarizer-integrated Faraday rotator (Japanese Patent No. 3067026).

【0008】この偏光子一体型のファラデー回転子によ
ると、偏光膜の破損や汚染等の問題はないが、所定の幅
を維持し、且つ、その幅よりも大きい寸法深さの平行で
微小な溝をガーネット等の固い磁気光学結晶の表面に多
数設けるものであるため、この加工は実際上極めて困難
である。また、微小な溝を所定の深さ通りに正確に掘
り、その溝内に金属層を充填するという加工を高精度に
制御することも困難である。
According to the Faraday rotator integrated with the polarizer, there is no problem such as breakage or contamination of the polarizing film, but the parallel width of the mirror is maintained at a predetermined width and the dimension depth is larger than the width. Since a large number of grooves are provided on the surface of a hard magneto-optical crystal such as garnet, this processing is extremely difficult in practice. It is also difficult to precisely control the processing of digging a minute groove exactly to a predetermined depth and filling the groove with a metal layer.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、複数の平行
に並ぶ金属格子の間隔を基板の表面に設けても、切断,
洗浄等の取り扱いを容易に行え、高精度で且つ光透過
率,偏光性能に優れしかも安価で小型に構成可能な偏光
機能素子を並びに光アイソレータ素子を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, even if a plurality of parallel metal grids are provided on the surface of the substrate, the cutting,
It is an object of the present invention to provide a polarizing function element which can be easily handled such as washing, has high accuracy, is excellent in light transmittance and polarization performance, and can be configured inexpensively and compactly, and an optical isolator element.

【0010】また、本発明は高精度で特性に優れしかも
安価で小型に構成可能な光アイソレータを提供すること
を目的とする
It is another object of the present invention to provide an optical isolator which is highly accurate, has excellent characteristics, is inexpensive, and can be made compact.

【0011】更に、本発明は同じ電気入力に対して発振
出力が大きくしかも出力が安定するレーザダイオードモ
ジュールを提供することを目的とする。
A further object of the present invention is to provide a laser diode module having a large oscillation output and a stable output for the same electric input.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
偏光機能素子においては、複数の平行に並ぶ金属格子を
基板の表面に設けるもので、その金属格子の間隔を誘電
体で埋めまたは誘電体格子を金属で埋めた扁平な偏光膜
を偏光膜兼無反射膜として基板の表面に設けることによ
り構成されている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a polarizing function element, wherein a plurality of parallel metal gratings are provided on a surface of a substrate, and the gaps between the metal gratings are filled with a dielectric material. It is configured by providing a flat polarizing film in which a dielectric grating is filled with metal as a polarizing film and an anti-reflection film on the surface of a substrate.

【0013】本発明の請求項2に係る偏光機能素子にお
いては、複数の平行に並ぶ金属格子の間隔を誘電体で埋
めまたは誘電体格子を金属で埋めた扁平な偏光膜と、そ
の偏光膜の上に重ねて形成する誘電体膜との積層膜全体
を偏光膜兼無反射膜として基板の表面に設けることによ
り構成されている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a polarizing function element, wherein a gap between a plurality of parallel metal gratings is filled with a dielectric or a dielectric grating is filled with a metal; The entire laminated film with a dielectric film formed thereon is provided as a polarizing film and an anti-reflection film on the surface of the substrate.

【0014】本発明の請求項3に係る偏光機能素子にお
いては、偏光膜の金属格子を相平行に位置させて偏光膜
兼無反射膜を基板の両面に設けることにより構成されて
いる。
The polarizing function element according to the third aspect of the present invention is configured such that the metal grating of the polarizing film is positioned in parallel with each other, and the polarizing film and the antireflection film are provided on both sides of the substrate.

【0015】本発明の請求項4に係る光アイソレータ素
子においては、複数の平行に並ぶ金属格子を基板の表面
に設けるもので、ファラデー回転結晶体を基板とし、複
数の平行に並ぶ金属格子の間隔を誘電体で埋めまたは誘
電体格子を金属で埋めた扁平な偏光膜と、その偏光膜の
上に重ねて形成する誘電体膜との積層膜を偏光膜兼無反
射膜とし、各偏光膜の金属格子をファラデー回転角度に
対応した角度で傾けて基板の両面に設けることにより構
成されている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the optical isolator element, a plurality of parallel metal gratings are provided on the surface of the substrate. Is filled with a dielectric or a dielectric grating is filled with a metal, and a laminated film of a dielectric film formed on the polarizing film as a polarizing film and an anti-reflection film. It is configured such that the metal grid is provided on both sides of the substrate at an angle corresponding to the Faraday rotation angle.

【0016】本発明の請求項5に係る光アイソレータ素
子においては、基板として、外部磁界無しに磁気飽和し
ているファラデー回転結晶体を備えることにより構成さ
れている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the optical isolator element, the substrate is provided with a Faraday rotating crystal that is magnetically saturated without an external magnetic field.

【0017】本発明の請求項6に係る光アイソレータに
おいては、請求項4または5に記載の光アイソレータ素
子を組み付けることにより構成されている。
An optical isolator according to a sixth aspect of the present invention is constructed by assembling the optical isolator element according to the fourth or fifth aspect.

【0018】本発明の請求項7に係るレーザダイオード
モジュールにおいては、請求項6に記載の光アイソレー
タを搭載することにより構成されている。
A laser diode module according to a seventh aspect of the present invention is configured by mounting the optical isolator according to the sixth aspect.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して説明す
ると、図示実施の形態としては、図1〜図3で示す偏光
フィルタ等の偏光機能素子を構成するもの、図4で示す
光アイソレータ素子並びに図5で示す光アイソレータを
構成するもの、図6で示す光アイソレータ素子を搭載す
ることによりレーザダイオードモジュールを構成するも
のが挙げられている。図1〜図4中、基板厚みは一点鎖
線で示すように中間省略されている。また、各形態の共
通する構成部分は同じ符号で示されている。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of an optical isolator shown in FIG. 1; FIG. An element and an optical isolator shown in FIG. 5 and an optical isolator element shown in FIG. 6 are mounted to constitute a laser diode module. In FIGS. 1 to 4, the thickness of the substrate is omitted in the middle as shown by a dashed line. In addition, components common to the embodiments are denoted by the same reference numerals.

【0020】図1で示す偏光機能素子は、素子基板1を
備え、複数の平行に並ぶ金属格子2a…と、金属格子2
a…の間隔を埋める誘電体2b…でなる扁平な偏光膜2
を偏光膜兼無反射膜として基板1の表面に設けることに
より構成されている。
The polarization functional element shown in FIG. 1 includes an element substrate 1 and a plurality of parallel metal gratings 2a.
a flat polarizing film 2 made of a dielectric 2b filling the interval of a ...
Is provided on the surface of the substrate 1 as a polarizing film and an anti-reflection film.

【0021】その偏光機能素子の具体例としては、シリ
コン(Si)を素子基板1とし、タンタル(Ta)の金
属格子2a…と、金属格子2a…の間隔を埋める二酸化
珪素(SiO)の誘電体2b…とから扁平な偏光膜2
を偏光膜兼無反射膜として形成するものが挙げられる。
As a specific example of the polarization function element, silicon (Si) is used as the element substrate 1, and a metal lattice 2a of tantalum (Ta) and a dielectric material of silicon dioxide (SiO 2 ) which fills an interval between the metal lattices 2a. Polarizing film 2 flat from body 2b
Formed as a polarizing film and an anti-reflection film.

【0022】この場合には、金属格子2a…の幅:45
nm,二酸化珪素の誘電体2b…の幅:55nmとして
形成したとき、屈折率は波長1.55μmの光に対して
1.87のものに形成できる。また、扁平な偏光膜2の
膜厚は390nmに形成したとき、有効な偏光膜兼無反
射機能を発揮する。
In this case, the width of the metal grids 2a is 45.
nm, the width of the dielectric 2b of silicon dioxide: 55 nm, the refractive index can be formed to be 1.87 with respect to light having a wavelength of 1.55 μm. When the thickness of the flat polarizing film 2 is formed to be 390 nm, an effective polarizing film and anti-reflection function is exhibited.

【0023】このように構成する偏光機能素子では、複
数の平行に並ぶ金属格子2a…の間隔を誘電体2b…で
埋めた扁平な偏光膜2を偏光膜兼無反射膜として有する
ため、切断,洗浄等の取扱いを容易にできて高精度なも
のに形成できると共に、偏光膜兼無反射膜として機能す
る扁平な偏光膜2を素子基板1と一体に形成することに
より安価で小型なものに構成できる。
In the polarizing function element having such a configuration, the flat polarizing film 2 in which the intervals between the plurality of parallel metal gratings 2a are filled with the dielectrics 2b is used as the polarizing film and the anti-reflection film. In addition to being easy to handle such as washing, it can be formed with high precision, and a flat polarizing film 2 functioning as a polarizing film and an anti-reflection film is formed integrally with the element substrate 1 so as to be inexpensive and compact. it can.

【0024】図2で示す偏光機能素子は、素子基板1を
備え、複数の平行に並ぶ金属格子2a…と、金属格子2
a…の間隔を埋める誘電体2b…とでなる扁平な偏光膜
2と、その偏光膜2の上に重ねて形成する誘電体膜3と
の積層膜全体を偏光膜兼無反射膜として基板1の表面に
設けることにより構成されている。
The polarization functional element shown in FIG. 2 includes an element substrate 1 and a plurality of parallel metal gratings 2a.
The entire laminated film of a flat polarizing film 2 composed of a dielectric 2b that fills the space of a ... and a dielectric film 3 formed on the polarizing film 2 is formed as a polarizing film and an anti-reflection film. It is constituted by providing on the surface of.

【0025】その偏光機能素子の具体例としては、透明
ガラス(材質:BK−7ガラス)を素子基板1とし、ア
ルミニウム(Al)の金属格子2a…と、金属格子2a
…の間隔を埋める二酸化珪素(SiO)の誘電体2b
…とから扁平な偏光膜2を形成し、この偏光膜2の上に
重ねて二酸化珪素(SiO)の誘電体膜3を形成する
ことにより積層膜全体を無反射膜として形成するものが
挙げられる。
As a specific example of the polarizing function element, a transparent glass (material: BK-7 glass) is used as an element substrate 1, a metal grid 2a of aluminum (Al), and a metal grid 2a.
... dielectrics 2b of silicon dioxide (SiO 2 ) to fill the intervals
The flat polarizing film 2 is formed from the above, and a dielectric film 3 of silicon dioxide (SiO 2 ) is formed on the polarizing film 2 so as to form the entire laminated film as an anti-reflection film. Can be

【0026】この場合には、対応波長を1.55μmと
するとき、アルミニウムの金属格子2a…の幅:50n
m,二酸化珪素の誘電体2b…の幅:50nm,偏光膜
2の厚み:388nm,二酸化珪素の誘電体膜3の厚
み:388nm程度に設定すればよい。また、ガラス基
板1の屈折率:1.51,偏光膜2の屈折率:1.8
2,二酸化珪素の誘電体膜3の屈折率:1.46で、偏
光消光比:30dBのものに形成できる。
In this case, assuming that the corresponding wavelength is 1.55 μm, the width of the aluminum metal grids 2a is 50n.
m, the width of the dielectric 2b of silicon dioxide: 50 nm, the thickness of the polarizing film 2: 388 nm, and the thickness of the dielectric film 3 of silicon dioxide: 388 nm. The refractive index of the glass substrate 1 is 1.51, and the refractive index of the polarizing film 2 is 1.8.
2. The silicon dioxide dielectric film 3 can be formed with a refractive index of 1.46 and a polarization extinction ratio of 30 dB.

【0027】このように構成する偏光機能素子では、複
数の平行に並ぶ金属格子2a…の間隔を誘電体2b…で
埋めた扁平な偏光膜2と、その上に重ねて設ける誘電体
膜3との積層膜全体を偏光膜兼無反射膜として有するた
め、切断,洗浄等の取扱いを容易にできて高精度なもの
に形成でき、また、安価で小型なものに構成できるばか
りでなく、誘電体膜3を偏光膜2の上に重ねた積層膜全
体を無反射膜として形成することから光透過率並びに偏
光性能のより優れたものに構成できる。
In the polarizing function element thus constructed, a flat polarizing film 2 in which a plurality of parallel metal gratings 2a are filled with dielectrics 2b, and a dielectric film 3 provided on the flat polarizing film 2 are provided. Since the entire laminated film is used as a polarizing film and a non-reflective film, it is easy to handle such as cutting and washing, and can be formed to be a high-precision one. Since the entire laminated film in which the film 3 is superimposed on the polarizing film 2 is formed as a non-reflective film, it can be configured to have more excellent light transmittance and polarization performance.

【0028】図1並びに図2の実施の形態では、扁平な
偏光膜一層乃至は積層膜全体を偏光膜兼無反射膜として
素子基板1の片面に設ける場合で説明したが、図3で示
すように複数の平行に並ぶ金属格子2a…,2a’…の
間隔を誘電体2b…,2b’…で埋め、その偏光膜2,
2’の金属格子2a…,2a’…を互いに平行に位置さ
せて形成することにより偏光膜兼無反射膜として素子基
板1の両面に設けるようにもできる。
In the embodiments shown in FIGS. 1 and 2, a case where one or more flat polarizing films or the entire laminated film is provided on one surface of the element substrate 1 as a polarizing film and an anti-reflection film has been described, as shown in FIG. Are filled with dielectrics 2b... 2b ′.
By forming the 2 ′ metal gratings 2a... 2a ′... In parallel with each other, they can be provided on both sides of the element substrate 1 as a polarizing film and an anti-reflection film.

【0029】その具体例としては、シリコン(Si)を
素子基板1とし、タンタル(Ta)の金属格子2a…,
2a’…と、金属格子2a…,2a’…の間隔を埋める
二酸化珪素(SiO)の誘電体2b…,2b’…とか
ら扁平な偏光膜2,2’を形成し、その偏光膜2,2’
の上に重ねてフッ化マグネシウム(MgF)の誘電体
膜3,3’を形成することにより積層膜全体を無反射膜
として形成するものが挙げられる。
As a specific example, silicon (Si) is used as the element substrate 1 and tantalum (Ta) metal lattices 2a.
2a ', and dielectrics 2b, 2b' of silicon dioxide (SiO 2 ) filling the spaces between the metal gratings 2a, 2a ', and the like, form flat polarizing films 2, 2'. , 2 '
The dielectric films 3 and 3 ′ of magnesium fluoride (MgF 2 ) are formed on top of this to form the entire laminated film as an anti-reflection film.

【0030】この場合には、対応波長を1.55μmと
するとき、タンタルの金属格子2a…,2a’…の幅:
120nm,二酸化珪素の誘電体2b…,2b’…の
幅:100nm,偏光膜2,2’の厚み:180nm,
フッ化マグネシウムの誘電体膜3,3’の厚み:290
nm程度に設定すればよい。また、シリコン基板1の屈
折率:3.5,偏光膜2,2’の屈折率:2.2,フッ
化マグネシウムの誘電体膜3,3’の屈折率:1.38
で、偏光消光比:48dBのものに形成できる。
In this case, assuming that the corresponding wavelength is 1.55 μm, the width of the tantalum metal lattices 2a.
120 nm, width of silicon dioxide dielectrics 2b ..., 2b '...: 100 nm, thickness of polarizing films 2, 2': 180 nm,
Thickness of dielectric films 3, 3 'of magnesium fluoride: 290
It may be set to about nm. The refractive index of the silicon substrate 1 is 3.5, the refractive index of the polarizing films 2, 2 'is 2.2, the refractive index of the magnesium fluoride dielectric films 3, 3' is 1.38.
Thus, a polarizing extinction ratio of 48 dB can be formed.

【0031】このように構成する偏光機能素子では、偏
光膜兼無反射膜を基板1の両面に設けることにより、偏
光機能素子として性能を向上でき、偏光消光比を増大す
ることができる。
In the polarizing function element thus configured, by providing the polarizing film and the anti-reflection film on both sides of the substrate 1, the performance as the polarizing function element can be improved, and the polarization extinction ratio can be increased.

【0032】図4で示す光アイソレータ素子は、ファラ
デー回転結晶体を基板1とし、複数の平行に並ぶ金属格
子2a…,2a’…の間隔を誘電体2b…,2b’…で
埋めた扁平な偏光膜2,2’と、その偏光膜2,2’の
上に重ねて形成する誘電体膜3,3’との積層膜全体を
偏光膜兼無反射膜とし、各偏光膜2,2’の金属格子2
a…,2a’…を互いにファラデー回転角度に対応した
約45度傾けて(図中、傾き方向が点線で示されてい
る。)偏光膜兼無反射膜を基板1の両面に設けることに
より構成されている。
The optical isolator element shown in FIG. 4 has a flat Faraday rotating crystal as a substrate 1 and a plurality of parallel metal gratings 2a, 2a '... Filled with dielectrics 2b, 2b'. The entire laminated film of the polarizing films 2 and 2 ′ and the dielectric films 3 and 3 ′ formed on the polarizing films 2 and 2 ′ is a polarizing film and a non-reflection film. Metal grid 2
a, 2a 'are inclined at an angle of about 45 degrees corresponding to the Faraday rotation angle (the inclination direction is indicated by a dotted line in the drawing), and a polarizing film and an anti-reflection film are provided on both surfaces of the substrate 1. Have been.

【0033】その具体例としては、ファラデー回転結晶
体であるTbBiFeガーネットを基板1とし、銀(A
g)の金属格子2a…,2a’…と、この金属格子2a
…,2a’…の間隔を埋める二酸化珪素(SiO)の
誘電体2b…,2b’…とから扁平な偏光膜2,2’を
形成し、その偏光膜2,2’の膜上に重ねてフッ化マグ
ネシウム(MgF)の誘電体膜3,3’を形成し、こ
の積層膜全体を無反射膜として形成するものが挙げられ
る。
As a specific example, a substrate 1 is made of TbBiFe garnet, which is a Faraday rotating crystal, and silver (A)
g) of the metal grids 2a, 2a ',.
..., 2a 'dielectric 2b of ... silicon dioxide to fill the gap of the (SiO 2) ..., 2b' ... 'is formed and the polarizing film 2, 2' flat polarizing 2,2 from and superimposed on the film To form dielectric films 3 and 3 ′ of magnesium fluoride (MgF 2 ), and to form the entire laminated film as an anti-reflection film.

【0034】この場合には、対応波長を1.55μmと
するとき、ファラデー回転結晶基板1の厚み(45度回
転厚み):470μm,銀の金属格子2a…,2a’…
の幅:50nm,二酸化珪素の誘電体2b…,2b’…
の幅:50nm,偏光膜2,2’の厚み:200nm,
フッ化マグネシウムの誘電体膜3,3’の厚み:350
nm程度に設定すればよい。また、ファラデー回転結晶
基板1の屈折率:2.35、偏光膜2,2’の屈折率:
2.02、フッ化マグネシウムの誘電体膜3,3’の屈
折率:1.38で、アイソレータ特性:42dBのもの
に形成できる。
In this case, when the corresponding wavelength is 1.55 μm, the thickness of the Faraday rotating crystal substrate 1 (rotational thickness at 45 degrees): 470 μm, the silver metal lattices 2a.
Width: 50 nm, silicon dioxide dielectrics 2b ..., 2b '...
Width: 50 nm, thickness of the polarizing films 2 and 2 ′: 200 nm,
Thickness of dielectric films 3, 3 'of magnesium fluoride: 350
It may be set to about nm. The refractive index of the Faraday rotating crystal substrate 1 is 2.35, and the refractive indices of the polarizing films 2 and 2 ′ are:
2.02, the refractive index of the magnesium fluoride dielectric films 3 and 3 'is 1.38, and the isolator characteristics can be 42 dB.

【0035】その他に、対応波長を1.31μmとする
ときは、ファラデー回転結晶基板1の厚み(45度回転
厚み):400μm、銀の金属格子2a…,2a’…の
幅:50nm、二酸化珪素の誘電体2b…,2b’…の
幅:50nm,偏光膜2,2’の厚み:190nm,フ
ッ化マグネシウムの誘電体膜3,3’の厚み:330n
m程度に設定すればよい。また、ファラデー回転結晶基
板1の屈折率:2.35、偏光膜2,2’の屈折率:
2.05、フッ化マグネシウムの誘電体膜3,3’の屈
折率:1.38で、アイソレータ特性:41dBのもの
に形成できる。
In addition, when the corresponding wavelength is 1.31 μm, the thickness of the Faraday rotating crystal substrate 1 (rotational thickness at 45 °): 400 μm, the width of the silver metal lattices 2a. Of the dielectrics 2b ..., 2b '...: 50 nm, the thickness of the polarizing films 2, 2': 190 nm, and the thickness of the magnesium fluoride dielectric films 3, 3 ': 330 n
m may be set. The refractive index of the Faraday rotating crystal substrate 1 is 2.35, and the refractive indices of the polarizing films 2 and 2 ′ are:
2.05, the refractive index of the magnesium fluoride dielectric films 3 and 3 ′ is 1.38, and the isolator characteristics are 41 dB.

【0036】このように構成する光アイソレータ素子で
は、両面の偏光膜兼無反射膜が偏光機能を発揮し、且
つ、光の透過率を高めるよう機能するから、低光損失で
特性に優れた光アイソレータを構成できる。
In the optical isolator element configured as described above, the polarizing film and the anti-reflection film on both surfaces exhibit a polarizing function and also function to increase the light transmittance. An isolator can be configured.

【0037】その光アイソレータ素子によっては、図5
で示すように円筒状等のマグネット4,ステンレス製ホ
ルダー5を備え、上述したように光学軸が互いに45度
傾く偏光膜兼無反射膜を設けた光アイソレータ素子とし
てマグネット4の内部に嵌込み固定すると共に、マグネ
ット4を含む全体をホルダー5の内部に組み付けること
により高性能で特性に優れしかも安価で小型な光アイソ
レータを構成できる。
Depending on the optical isolator element, FIG.
As shown in the figure, a magnet 4 having a cylindrical shape or the like and a holder 5 made of stainless steel are provided. In addition, by assembling the whole including the magnet 4 inside the holder 5, it is possible to configure an inexpensive and compact optical isolator with high performance, excellent characteristics, and low cost.

【0038】図5で示す実施の形態に係る光アイソレー
タ素子に代えて、外部磁界無しに磁気飽和しているファ
ラデー回転結晶体を素子基板1として備えることにより
光アイソレータを構成できる。このファラデー回転結晶
体としては、例えばガーネットの中で、外部磁界無しに
磁気飽和している硬磁性ガーネット(特開平9―328
398号参照)のTb−Bi−Fe−Ga−Al−O系
基板を挙げることができる。
Instead of the optical isolator element according to the embodiment shown in FIG. 5, an optical isolator can be constituted by providing, as the element substrate 1, a Faraday rotating crystal that is magnetically saturated without an external magnetic field. As the Faraday rotating crystal, for example, a hard magnetic garnet which is magnetically saturated without an external magnetic field in garnet (Japanese Patent Laid-Open No. 9-328)
398) Tb-Bi-Fe-Ga-Al-O based substrate.

【0039】その外部磁界無しに磁気飽和しているファ
ラデー回転結晶体を素子基板1として備えるアイソレー
タ素子によると、マグネットを組み付ける必要がないた
め、より安価で小型な光アイソレータを構成できる。
According to the isolator element having the Faraday rotation crystal which is magnetically saturated without the external magnetic field as the element substrate 1, there is no need to mount a magnet, so that a cheaper and smaller optical isolator can be constructed.

【0040】上述した形態のいずれの光アイソレータを
備えても、図6で示すようにレーザダイオードモジュー
ルを構成できる。このレーザダイオードモジュールは、
光アイソレータ10の他に、光源として用いる半導体レ
ーザチップ11,半導体レーザチップ11用のヒートシ
ンク12,半導体レーザチップ11より発振するレーザ
光を集光するための円筒レンズ13,光ファイバー1
4,光ファイバー14を固定するジルコニア製のフェル
ール15,モジュールケース16を備えることにより構
成できる。
A laser diode module can be configured as shown in FIG. 6 using any of the optical isolators of the above-described embodiments. This laser diode module
In addition to the optical isolator 10, a semiconductor laser chip 11 used as a light source, a heat sink 12 for the semiconductor laser chip 11, a cylindrical lens 13 for condensing laser light oscillated from the semiconductor laser chip 11, and an optical fiber 1
4, a zirconia ferrule 15 for fixing the optical fiber 14 and a module case 16 are provided.

【0041】このように構成するレーザダイオードモジ
ュールでは、従来の偏光膜を用いた光アイソレータを備
えて構成するものよりも、同じ電気入力に対して発振出
力が大きくしかも出力の安定したものに構成できる。
In the laser diode module configured as described above, the oscillation output can be increased with respect to the same electrical input and the output can be stabilized as compared with the configuration including the optical isolator using the conventional polarizing film. .

【0042】その特性を検査するべく、本発明品に係る
対応波長:1.55μm(第1)、対応波長:1.31
μm(第2)の光アイソレータ素子を備えて光アイソレ
ータを各10個構成し、また、従来品(特開平7―49
468号参照)に係る対応波長:1.55μm(第
3)、対応波長:1.31μm(第4)の光アイソレー
タを各10個構成し、各光に対するアイソレーション並
びに透過損失特性を比較検討した。この結果は次の表1
で示す通りであり、本発明品が従来品に対して優れてい
ることを確認できた。
In order to inspect the characteristics, the corresponding wavelength according to the present invention: 1.55 μm (first), the corresponding wavelength: 1.31
A 10 μm (second) optical isolator element is provided, each having 10 μm (second) optical isolator elements.
No. 468), 10 optical isolators each having a corresponding wavelength of 1.55 μm (third) and a corresponding wavelength of 1.31 μm (fourth), and the isolation and transmission loss characteristics for each light were compared and examined. . The result is shown in Table 1 below.
And it was confirmed that the product of the present invention was superior to the conventional product.

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】上述した実施の形態では、素子基板として
BK―7ガラス,シリコン結晶,ファラデー回転結晶の
ガーネットまたは外部磁界無しに磁気飽和している硬磁
性ガーネットを例示したが、これ以外の他の種類の基板
も利用できる。例えば、鉛ガラス,ゲルマニウム結晶,
ニオブ酸リチューム結晶,ガーネット以外のファラデー
回転子としてカドミウム,マンガン,水銀,テルル等を
挙げられる。
In the above-described embodiment, the garnet of BK-7 glass, silicon crystal, Faraday rotating crystal or hard magnetic garnet which is magnetically saturated without an external magnetic field is exemplified as the element substrate. Substrates can also be used. For example, lead glass, germanium crystal,
Cadmium, manganese, mercury, tellurium, and the like can be cited as Faraday rotators other than niobate lithium crystals and garnets.

【0045】上述した実施の形態では、誘電体膜3,
3’を一層膜で形成する場合に基づいて説明したが、屈
折率の異なる誘電体材料を組み合せることにより多層膜
として形成することもできる。
In the above-described embodiment, the dielectric film 3
Although the description has been given based on the case where 3 ′ is formed as a single layer film, it may be formed as a multilayer film by combining dielectric materials having different refractive indexes.

【0046】なお、上述した実施の形態はいずれも一例
を示したものであり、本発明の内容を何ら限定するもの
ではない。このため、本発明の各形態と均等なものやそ
の一部を排除する意図はなく、特許が請求されている本
発明の範囲内で種々の変更を加えられる。例えば、上述
した実施の形態は金属格子の間隔を誘電体で埋めるとの
表現で説明したが、これは誘電体格子の間隔を金属で埋
めるという表現と実質的に同等のものとして解釈されな
ければならない。
The above-described embodiments are merely examples, and do not limit the present invention in any way. Therefore, there is no intention to exclude what is equivalent to each embodiment of the present invention or a part thereof, and various modifications can be made within the scope of the present invention as claimed. For example, although the above-described embodiment has been described in terms of filling the space between the metal grids with a dielectric, this must be interpreted as being substantially equivalent to the expression of filling the space between the dielectric grids with a metal. No.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上の如く、本発明の請求項1に係る偏
光機能素子に依れば、複数の平行に並ぶ金属格子の間隔
を誘電体で埋めまたは誘電体格子の間隔を金属で埋めた
扁平な偏光膜を偏光膜兼無反射膜として基板の表面に設
けることにより、切断,洗浄等の取扱いを容易にできて
高精度なものに形成でき、その偏光膜兼無反射膜を素子
基板と一体に形成することから安価で小型なものに構成
できる。
As described above, according to the polarization functional element according to the first aspect of the present invention, the interval between the plurality of parallel metal gratings is filled with the dielectric or the interval between the dielectric gratings is filled with the metal. By providing a flat polarizing film as a polarizing film and a non-reflective film on the surface of the substrate, handling such as cutting and washing can be easily performed and a highly accurate film can be formed. Since they are integrally formed, they can be configured to be inexpensive and small.

【0048】本発明の請求項2に係る偏光機能素子に依
れば、複数の平行に並ぶ金属格子の間隔を誘電体で埋め
または誘電体格子の間隔を金属で埋めた扁平偏光膜と、
その扁平偏光膜の上に重ねて形成する誘電体膜との積層
膜全体を偏光膜兼無反射膜として基板の表面に設けるこ
とにより、切断,洗浄等の取扱いを容易にできて高精度
なものに形成でき、また、安価で小型なものに構成でき
るばかりでなく、誘電体膜を偏光膜の上に重ねて形成す
るため、種々の基板の上に形成可能な無反射膜から性能
のより優れたものに構成できる。
According to the polarizing function element of the second aspect of the present invention, a flat polarizing film in which a gap between a plurality of parallel metal grids is filled with a dielectric or a gap between the dielectric grids is filled with a metal,
By providing the entire laminated film with the dielectric film formed on the flat polarizing film as a polarizing film and an anti-reflection film on the surface of the substrate, it is easy to handle such as cutting and washing, and it is highly accurate. In addition to being inexpensive and compact, it is possible to form a dielectric film on a polarizing film, so that it has better performance than an anti-reflection film that can be formed on various substrates. Can be configured.

【0049】本発明の請求項3に係る偏光機能素子に依
れば、複数の平行に並ぶ金属格子の間隔を誘電体で埋め
または誘電体格子の間隔を金属で埋めて形成する偏光膜
の金属格子を相平行に位置させて偏光膜兼無反射膜を基
板の両面に設けることにより、偏光機能素子として性能
を向上でき、偏光消光比を増大することができる。
According to the polarizing function element of the present invention, the metal of the polarizing film formed by filling the space between the plurality of parallel metal gratings with a dielectric or filling the space between the dielectric gratings with a metal. By providing the polarizing film and the anti-reflection film on both sides of the substrate with the gratings positioned in parallel with each other, the performance as a polarization functional element can be improved, and the polarization extinction ratio can be increased.

【0050】本発明の請求項4に係る光アイソレータ素
子に依れば、ファラデー回転結晶体を基板とし、複数の
平行に並ぶ金属格子の間隔を誘電体で埋めまたは誘電体
格子の間隔を金属で埋めた扁平な偏光膜と、その偏光膜
の上に重ねて形成する誘電体膜との積層膜全体を偏光膜
兼無反射膜とし、各偏光膜の金属格子をファラデー回転
角度に対応した角度で傾けて基板の両面に設けることに
より、両面の偏光膜兼無反射膜が光の透過率を高め、反
射率を抑えるよう機能するから、低光損失で特性に優れ
たものに構成できる。
According to the optical isolator element of the fourth aspect of the present invention, the Faraday rotation crystal is used as a substrate, and the interval between a plurality of parallel metal lattices is filled with a dielectric, or the interval between the dielectric lattices is filled with a metal. The entire laminated film of the buried flat polarizing film and the dielectric film formed on the polarizing film is a polarizing film and an anti-reflection film, and the metal grating of each polarizing film is set at an angle corresponding to the Faraday rotation angle. Since the polarizing film and the anti-reflection film on both surfaces function to increase the light transmittance and suppress the reflectivity by being inclined and provided on both surfaces of the substrate, it can be configured to have low light loss and excellent characteristics.

【0051】本発明の請求項5に係る光アイソレータ素
子に依れば、外部磁界無しに磁気飽和しているファラデ
ー回転結晶体を素子基板として備えることにより、マグ
ネットを組み付ける必要がないことから、より安価で小
型な光アイソレータを構成できる。
According to the optical isolator element of the fifth aspect of the present invention, since the Faraday rotating crystal that is magnetically saturated without an external magnetic field is provided as the element substrate, it is not necessary to mount a magnet, so An inexpensive and compact optical isolator can be configured.

【0052】本発明の請求項6に係る光アイソレータに
依れば、請求項4または5に記載の光アイソレータ素子
を組み付けることにより、高性能で特性に優れしかも安
価で小型なものに構成できる。
According to the optical isolator according to the sixth aspect of the present invention, by assembling the optical isolator element according to the fourth or fifth aspect, the optical isolator can be configured to have high performance, excellent characteristics, low cost and small size.

【0053】本発明の請求項7に係るレーザダイオード
モジュールに依れば、請求項6に記載の光アイソレータ
を搭載することにより、同じ電気入力に対して発振出力
が大きくしかも出力の安定したものに構成できる。
According to the laser diode module according to the seventh aspect of the present invention, by mounting the optical isolator according to the sixth aspect, the oscillation output is large and the output is stable for the same electric input. Can be configured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る偏光機能素子を示
す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a polarization functional element according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の別の実施の形態に係る偏光機能素子を
示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a polarization functional element according to another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の更に別の実施の形態に係る偏光機能素
子を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a polarization functional element according to still another embodiment of the present invention.

【図4】本発明に係る光アイソレータ素子を示す説明図
である。
FIG. 4 is an explanatory view showing an optical isolator element according to the present invention.

【図5】本発明に係る光アイソレータを示す説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an optical isolator according to the present invention.

【図6】本発明に係るレーザダイオードモジュールを示
す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view showing a laser diode module according to the present invention.

【符号の説明】 1 基板 2a…,2a’… 金属格子 2b…,2b’… 誘電体 2,2’ 偏光膜 3,3’ 誘電体膜 10 光アイソレータ[Description of Signs] 1 Substrate 2a ..., 2a '... Metal lattice 2b ..., 2b' ... Dielectric 2, 2 'Polarizing film 3, 3' Dielectric film 10 Optical isolator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今泉 伸夫 東京都足立区新田3丁目8番22号 並木精 密宝石株式会社内 Fターム(参考) 2H037 AA01 BA03 CA10 DA01 DA03 DA04 DA05 DA06 2H049 BA05 BA08 BA45 BB03 BB42 BC25 2H079 AA03 BA02 CA06 DA12 2H099 AA01 BA02 CA02 DA05 5F073 AB27 AB28 AB30 FA06  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Nobuo Imaizumi 3-8-22 Nitta, Adachi-ku, Tokyo Namiki Seiki Co., Ltd. F term (reference) 2H037 AA01 BA03 CA10 DA01 DA03 DA04 DA05 DA06 2H049 BA05 BA08 BA45 BB03 BB42 BC25 2H079 AA03 BA02 CA06 DA12 2H099 AA01 BA02 CA02 DA05 5F073 AB27 AB28 AB30 FA06

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の平行に並ぶ金属格子を基板の表面
に設ける偏光機能素子において、金属格子の間隔を誘電
体で埋めまたは誘電体格子を金属で埋めた扁平な偏光膜
を偏光膜兼無反射膜として基板の表面に設けたことを特
徴とする偏光機能素子。
1. A polarizing function element in which a plurality of parallel metal gratings are provided on the surface of a substrate. A polarizing function element provided on a surface of a substrate as a reflection film.
【請求項2】 上記扁平な偏光膜と、その偏光膜の上に
重ねて形成する誘電体膜との積層膜全体を偏光膜兼無反
射膜として基板の表面に設けたことを特徴とする請求項
1に記載の偏光機能素子。
2. The method according to claim 1, wherein an entire laminated film of the flat polarizing film and a dielectric film formed on the polarizing film is provided on the surface of the substrate as a polarizing film and an anti-reflection film. Item 2. The polarization functional element according to Item 1.
【請求項3】 上記偏光膜の金属格子を相平行に位置さ
せて偏光膜兼無反射膜を基板の両面に設けたことを特徴
とする請求項1または2に記載の偏光機能素子。
3. The polarizing function element according to claim 1, wherein the polarizing film and the anti-reflection film are provided on both sides of the substrate with the metal grating of the polarizing film positioned in parallel with each other.
【請求項4】 複数の平行に並ぶ金属格子を基板の表面
に設ける偏光機能素子において、ファラデー回転結晶体
を基板とし、複数の平行に並ぶ金属格子の間隔を誘電体
で埋めまたは誘電体格子を金属で埋めた扁平な偏光膜
と、その偏光膜の上に重ねて形成する誘電体膜との積層
膜全体を偏光膜兼無反射膜とし、各偏光膜の金属格子を
ファラデー回転角度に対応した角度で傾けて基板の両面
に設けたことを特徴とする光アイソレータ素子。
4. A polarizing function element in which a plurality of parallel metal gratings are provided on a surface of a substrate, wherein a Faraday rotation crystal is used as a substrate, and a gap between the plurality of parallel metal gratings is filled with a dielectric or a dielectric grating is provided. The entire laminated film consisting of a flat polarizing film filled with metal and a dielectric film formed on top of the polarizing film was used as a polarizing film and an anti-reflection film, and the metal grating of each polarizing film corresponded to the Faraday rotation angle. An optical isolator element provided on both sides of a substrate at an angle.
【請求項5】 上記基板として、外部磁界無しに磁気飽
和しているファラデー回転結晶体を備えてなることを特
徴とする請求項4に記載の光アイソレータ素子。
5. The optical isolator element according to claim 4, wherein the substrate comprises a Faraday rotating crystal that is magnetically saturated without an external magnetic field.
【請求項6】 請求項4または5に記載の光アイソレー
タ素子を組み付けてなることを特徴とする光アイソレー
タ。
6. An optical isolator comprising the optical isolator element according to claim 4 or 5.
【請求項7】 請求項6に記載の光アイソレータを搭載
してなることを特徴とするレーザダイオードモジュー
ル。
7. A laser diode module comprising the optical isolator according to claim 6.
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