JP2002025506A - Light emitting device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、発光デバイスに関
し、特に、液晶ディスプレイなどのバックライトや照明
装置に使用される発光デバイスに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device, and more particularly, to a light emitting device used for a backlight such as a liquid crystal display or a lighting device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来における発光デバイス(平行蛍光ラ
ンプ)は、例えば、特開平8−287869号公報に示
されている。この公報に示された発光デバイス1000
を図8に模式的に示す。2. Description of the Related Art A conventional light emitting device (parallel fluorescent lamp) is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-287869. Light emitting device 1000 disclosed in this publication
Is schematically shown in FIG.
【0003】図8に示したランプ1000は、いわゆる
誘電体バリア放電ランプであり、前面ガラス基板111
と背面ガラス基板112とから構成された密閉型の放電
容器110と、放電容器110内に封入された希ガス
(キセノン)116と、前面ガラス基板111および背
面ガラス基板112のそれぞれの上に形成された電極1
13と、電極113を覆うように前面ガラス基板111
および背面ガラス基板112のそれぞれの上に形成され
た誘電体層114と、誘電体層114上に形成された蛍
光体層115とを備えている。[0003] A lamp 1000 shown in FIG. 8 is a so-called dielectric barrier discharge lamp, and has a front glass substrate 111.
And a rear glass substrate 112, a hermetic discharge vessel 110, a rare gas (xenon) 116 sealed in the discharge vessel 110, and a front glass substrate 111 and a rear glass substrate 112. Electrode 1
13 and a front glass substrate 111 so as to cover the electrodes 113.
And a dielectric layer 114 formed on each of the rear glass substrate 112 and a phosphor layer 115 formed on the dielectric layer 114.
【0004】前面ガラス基板111は、例えばソーダガ
ラス等から構成されており、前面ガラス基板111と背
面ガラス基板112とは、ガラススペーサー118によ
って放電ギャップが確保された状態で対向配置されてい
る。ガラススペーサー118の外面にはフリットガラス
117が形成されており、フリットガラス117によっ
て放電容器110は密封状態にされている。The front glass substrate 111 is made of, for example, soda glass or the like. The front glass substrate 111 and the rear glass substrate 112 are arranged to face each other with a discharge gap secured by a glass spacer 118. A frit glass 117 is formed on the outer surface of the glass spacer 118, and the frit glass 117 seals the discharge vessel 110.
【0005】前面ガラス基板111および背面ガラス基
板112上に設けられた電極113は、銀またはITO
などから構成されており、電極113を覆うように前面
ガラス基板111と背面ガラス基板112の上には、透
光性の鉛ガラスなどから構成された誘電体層114(厚
さ:50μm)が膜状に塗布されている。誘電体層11
4の表面には、紫外放射によって励起されて可視発光す
る蛍光体層115が膜状に塗布されている。前面ガラス
基板111上の電極113aと背面ガラス基板112上
の電極113bとの間に、正弦波またはパルス波の交番
電圧が印加されると、封入ガス116が封入された放電
容器110内で放電が起こり、放電による紫外放射で蛍
光体層115が励起されて可視発光し、それによってラ
ンプ1000の発光が起こる。The electrodes 113 provided on the front glass substrate 111 and the rear glass substrate 112 are made of silver or ITO.
A dielectric layer 114 (thickness: 50 μm) made of translucent lead glass or the like is formed on the front glass substrate 111 and the back glass substrate 112 so as to cover the electrodes 113. It is applied in a shape. Dielectric layer 11
A phosphor layer 115 which is excited by ultraviolet radiation and emits visible light is applied in a film shape on the surface of No. 4. When an alternating voltage of a sine wave or a pulse wave is applied between the electrode 113a on the front glass substrate 111 and the electrode 113b on the rear glass substrate 112, discharge occurs in the discharge vessel 110 in which the gas 116 is sealed. As a result, the phosphor layer 115 is excited by ultraviolet radiation from the discharge to emit visible light, thereby causing the lamp 1000 to emit light.
【0006】上記従来のランプ1000の構成の場合、
前面ガラス基板111から出来るだけ多くの可視光を取
り出すために、前面ガラス基板111側に形成する蛍光
体層(前面蛍光体層)115aの厚さを薄くし、背面ガ
ラス基板112側に形成する蛍光体層(背面蛍光体層)
115bの厚さを厚くしている。このようにする理由
は、前面蛍光体層115aの厚さを薄くして、放電容器
110内部から前面ガラス基板111へと出射する光が
前面蛍光体層115aによってなるべく遮られないよう
にするとともに、前面ガラス基板111側でない背面蛍
光体層115bの厚さを厚くして、放電容器110内で
生じる紫外放射をなるべく多くの可視光にして、発光効
率を向上させるためである。上記公報では、ランプ10
00における前面蛍光体層115aの厚さを5〜20μ
mとし、背面蛍光体層115bの厚さを30μm以上と
することが好ましいことが記載されている。In the case of the above-described conventional lamp 1000,
In order to extract as much visible light as possible from the front glass substrate 111, the thickness of the phosphor layer (front phosphor layer) 115a formed on the front glass substrate 111 side is reduced, and the fluorescence formed on the rear glass substrate 112 side is reduced. Body layer (back phosphor layer)
The thickness of 115b is increased. The reason for this is to reduce the thickness of the front phosphor layer 115a so that light emitted from the inside of the discharge vessel 110 to the front glass substrate 111 is not blocked by the front phosphor layer 115a as much as possible. This is because the thickness of the rear phosphor layer 115b, which is not on the front glass substrate 111 side, is increased to make the ultraviolet radiation generated in the discharge vessel 110 as much visible light as possible, thereby improving the luminous efficiency. In the above publication, the lamp 10
00, the thickness of the front phosphor layer 115a is 5 to 20 μm.
m, and the thickness of the back phosphor layer 115b is preferably set to 30 μm or more.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本願発明者は、ランプ
1000の相対輝度と背面蛍光体層115bの厚さとの
関係を調べるために、図9(a)に示すように、背面蛍
光体層115bだけを形成したランプ1000の電極1
13にランプ点灯用電源20(ランプ電力:2W)を加
えてランプ1000の相対輝度を調べる実験を行った。
この結果を図9(b)に示す。背面蛍光体層115bを
構成する蛍光体としてBaAl12O2:Mnを用い、背
面蛍光体層115bの厚さを約10μmから約100μ
mまで変化させて、それぞれの膜厚についての相対輝度
を調べた。As shown in FIG. 9A, the inventor of the present invention examined the relationship between the relative luminance of the lamp 1000 and the thickness of the back phosphor layer 115b, as shown in FIG. Electrode 1 of lamp 1000 formed only
An experiment was conducted in which a lamp power supply 20 (lamp power: 2 W) was added to 13 and the relative luminance of the lamp 1000 was examined.
This result is shown in FIG. BaAl 12 O 2 : Mn is used as a phosphor constituting the back phosphor layer 115b, and the thickness of the back phosphor layer 115b is from about 10 μm to about 100 μm.
m, and the relative luminance for each film thickness was examined.
【0008】本願発明者は、図9(b)中の点線で示す
ように、蛍光体層115の厚さを比較的厚くしていった
場合、蛍光体層115の厚さの増加によってランプ10
00の相対輝度が下がるようなことはなく、相対輝度は
高くなっていくものと予想していた。その理由を述べる
と、蛍光体層(発光層)115は、図10に示すよう
に、蛍光体の各粒子(直径:5〜20μm程度)がそれ
ぞれ隙間を開けて配列された状態で形成されているた
め、放電の際に発生する電子(e)は、蛍光体層115
の隙間を容易にすり抜けていき、蛍光体層115を厚く
した場合でも蛍光体層115は放電の際に発生する電子
(e)に影響を与えないと考えられ、それゆえ、蛍光体
層115を厚くすればするほど、ランプ100の相対輝
度は100%の方に近づいていくものと予想されるから
である。As shown by the dotted line in FIG. 9B, the inventor of the present application has made the lamp 10 thicker by increasing the thickness of the phosphor layer 115 when the thickness of the phosphor layer 115 is relatively increased.
The relative luminance of 00 did not decrease, and it was expected that the relative luminance would increase. The reason is as follows. As shown in FIG. 10, the phosphor layer (light-emitting layer) 115 is formed in a state in which phosphor particles (diameter: about 5 to 20 μm) are arranged with a gap therebetween. Therefore, the electrons (e) generated at the time of discharge are
It is considered that the phosphor layer 115 does not affect the electrons (e) generated at the time of discharge even when the phosphor layer 115 is thickened. This is because the relative brightness of the lamp 100 is expected to approach 100% as the thickness increases.
【0009】しかしながら、驚くべきことに、図9
(b)中の実線で示すように、実際の測定結果による
と、膜厚30μmまでは相対輝度は上昇していくが、膜
厚30μmを越えると、相対輝度は減少していくことが
わかった。従来においては、蛍光体層115の厚さがラ
ンプ1000の放電に与える影響は考慮されていなかっ
たが、図9(b)中の実線で示す結果から推測すると、
蛍光体層115bの厚さの変化は、紫外発光効率に影響
を与えていると考えられる。However, surprisingly, FIG.
As shown by the solid line in (b), the actual measurement results show that the relative luminance increases up to a film thickness of 30 μm, but decreases after the film thickness exceeds 30 μm. . Conventionally, the effect of the thickness of the phosphor layer 115 on the discharge of the lamp 1000 has not been considered, but when estimated from the result indicated by the solid line in FIG.
It is considered that the change in the thickness of the phosphor layer 115b affects the ultraviolet emission efficiency.
【0010】従来のランプ1000の場合、図11
(a)に模式的に示すように、電極113上に誘電体層
114と蛍光体層115とが順に形成されており、蛍光
体層114を構成する蛍光体は誘電体であるため、図1
1(a)に示した構成を等価回路にして表すと、図11
(b)に示すように、各層からなるコンデンサが直列に
接続された構成となる。In the case of the conventional lamp 1000, FIG.
As schematically shown in FIG. 1A, a dielectric layer 114 and a phosphor layer 115 are sequentially formed on an electrode 113, and the phosphor constituting the phosphor layer 114 is a dielectric.
When the configuration shown in FIG. 1A is represented by an equivalent circuit, FIG.
As shown in (b), a configuration in which capacitors made of respective layers are connected in series is obtained.
【0011】図11(b)に示した等価回路から理解で
きるように、ランプ1000の紫外発光効率は、前面側
の誘電体層114aの静電容量CDfと背面側の誘電体
層114bの静電容量CDbとだけでなく、前面側の蛍
光体層115aの静電容量CPfと背面側の蛍光体層1
15bの静電容量CPbとの影響も受ける。ランプ10
00全体の静電容量は、CDf、CDb、CPf、CP
bや浮遊容量を含む静電容量によって規定されるので、
ランプ1000全体の静電容量を決定する際には、これ
らの静電容量の最適化を行うことが望ましい。As can be understood from the equivalent circuit shown in FIG. 11B, the ultraviolet luminous efficiency of the lamp 1000 depends on the capacitance CDf of the front dielectric layer 114a and the capacitance of the rear dielectric layer 114b. In addition to the capacitance CDb, the capacitance CPf of the phosphor layer 115a on the front side and the phosphor layer 1 on the back side
It is also affected by the capacitance CPb of 15b. Lamp 10
00 are CDf, CDb, CPf, CP
b and the capacitance including stray capacitance,
When determining the capacitance of the entire lamp 1000, it is desirable to optimize these capacitances.
【0012】図11(a)に示した構成において前面蛍
光体層115aの厚さを20μmとし、背面蛍光体層1
15bの厚さを30μmとした場合のランプ電圧とラン
プ電流との関係を図12に示す。なお、前面側の誘電体
層114aと、背面側の誘電体層114bとの厚さは共
に50μmである。In the structure shown in FIG. 11A, the thickness of the front phosphor layer 115a is set to 20 μm,
FIG. 12 shows the relationship between the lamp voltage and the lamp current when the thickness of 15b is 30 μm. The thickness of the front dielectric layer 114a and the thickness of the rear dielectric layer 114b are both 50 μm.
【0013】図12からわかるように、電極113に対
して正弦波の交番電圧(ランプ電圧:200V/di
v)を印加しているのにもかかわらず、ランプ電流の対
称性がくずれて、印加電圧が正のとき(グラフ上方)の
ランプ電流の方が、印加電圧が負のとき(グラフ下方)
のランプ電流よりも多くなっている。すなわち、ランプ
電流の正負のピーク値が異なるものとなっている。As can be seen from FIG. 12, a sinusoidal alternating voltage (lamp voltage: 200 V / di) is applied to the electrode 113.
Despite the application of v), the symmetry of the lamp current is lost, and the lamp current when the applied voltage is positive (upper graph) is negative when the applied voltage is lower (lower graph).
Lamp current. That is, the positive and negative peak values of the lamp current are different.
【0014】ランプ電流の正負のピーク値が異なる場合
には、いずれかのランプ電流が他方に対して大きくなる
か、または小さくなってしまう。真空紫外域におけるキ
セノンの発光過程によると、図13に示すように、基底
状態のキセノンが放電によって共鳴線励起準位(8.5
eV)まで励起された後、準安定状態の準位(8.3e
V)に移行し、次いで、エキシマ分子形成が起こり、そ
の後、172nmの紫外発光が生じる。この172nm
の紫外発光が蛍光体層115によって可視発光に変換さ
れる。このキセノン発光過程において、ランプ電流が大
きい場合には、キセノンが共鳴線励起準位(8.5e
V)よりも高い準位にまで励起されるため、最終的な可
視発光に寄与しない赤外発光が生じ、その結果、エネル
ギーロスが生じ、ランプの発光効率の低下を招く。一
方、ランプ電流が小さい場合には、共鳴線励起準位また
は準安定状態の準位まで励起させる確率が減少し、その
結果、ランプの発光効率が低下する。If the positive and negative peak values of the lamp current are different, one of the lamp currents becomes larger or smaller than the other. According to the xenon emission process in the vacuum ultraviolet region, as shown in FIG. 13, xenon in the ground state is excited by the resonance line excitation level (8.5).
eV), the metastable state (8.3 e)
V), then excimer molecule formation occurs, followed by 172 nm ultraviolet emission. This 172 nm
Is converted into visible light by the phosphor layer 115. In the xenon emission process, when the lamp current is large, xenon is excited by the resonance line excitation level (8.5 e).
Excitation to a level higher than V) causes infrared light emission not contributing to final visible light emission, resulting in energy loss and reduction in luminous efficiency of the lamp. On the other hand, when the lamp current is small, the probability of excitation to the resonance line excitation level or the level of the metastable state decreases, and as a result, the luminous efficiency of the lamp decreases.
【0015】図12に示した結果は、前面蛍光体層11
5aおよび背面蛍光体層115bのそれぞれの厚さの違
いによって生じた前面側と背面側との静電容量の対称性
がくずれたことによるものだと推測される。しかし、ラ
ンプ電流の正負のピーク値を一致させるために、前面側
に位置する前面蛍光体層115aと背面側に位置する背
面蛍光体層115bとのそれぞれの厚さを等しくする
と、前面蛍光体層115aの厚さが薄くされてないた
め、放電容器110内部から前面ガラス基板111へと
出射する光の量が減ることとなり、その結果、ランプの
発光効率が低下する。The result shown in FIG.
It is presumed that the symmetry of the capacitance between the front side and the back side caused by the difference in the thickness of each of 5a and the back phosphor layer 115b was lost. However, if the thicknesses of the front phosphor layer 115a located on the front side and the back phosphor layer 115b located on the back side are made equal to match the positive and negative peak values of the lamp current, the front phosphor layer Since the thickness of 115a is not reduced, the amount of light emitted from inside the discharge vessel 110 to the front glass substrate 111 is reduced, and as a result, the luminous efficiency of the lamp is reduced.
【0016】本発明はかかる諸点に鑑みてなされたもの
であり、その主な目的は、ランプの発光効率を向上させ
た発光デバイスを提供することにある。The present invention has been made in view of the above points, and a main object of the present invention is to provide a light emitting device with improved luminous efficiency of a lamp.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明による発光デバイ
スは、透光性の前面基板と、前記前面基板に対向して配
置された背面基板とから構成された密閉型の放電容器
と、前記放電容器内に封入された希ガスと、前記前面基
板および前記背面基板のそれぞれの内面上に形成され、
交番電圧が印加される電極と、前記電極を覆うように前
記前面基板および前記背面基板のそれぞれの前記内面上
に形成された誘電体層と、前記誘電体層上に形成された
蛍光体層とを備えた発光デバイスであって、前記前面基
板上の前記誘電体層の上に位置する前面蛍光体層が有す
る第1静電容量と、前記背面基板上の前記誘電体層の上
に位置する背面蛍光体層が有する第2静電容量とは互い
に異なり、前記前面基板上の前記誘電体層および前記前
面蛍光体層が有する第1合成静電容量と、前記背面基板
上の前記誘電体層および前記背面蛍光体層が有する第2
合成静電容量とは実質的に等しいことを特徴とする。According to the present invention, there is provided a light emitting device comprising: a sealed discharge vessel comprising a light-transmitting front substrate; and a rear substrate disposed opposite to the front substrate; A rare gas sealed in a container, formed on each inner surface of the front substrate and the rear substrate,
An electrode to which an alternating voltage is applied, a dielectric layer formed on the inner surface of each of the front substrate and the rear substrate so as to cover the electrode, and a phosphor layer formed on the dielectric layer And a first capacitance of the front phosphor layer located on the dielectric layer on the front substrate, and a first capacitance on the dielectric layer on the back substrate Different from the second capacitance of the back phosphor layer, the first combined capacitance of the dielectric layer on the front substrate and the front phosphor layer, and the dielectric layer on the back substrate And a second surface of the back phosphor layer
It is characterized by being substantially equal to the combined capacitance.
【0018】第1合成静電容量と第2合成静電容量と両
者のうち合成静電容量の小さい方を大きい方で割った値
は、1以下0.86以上であることが好ましい。It is preferable that a value obtained by dividing the smaller one of the first combined capacitance and the second combined capacitance by the larger one of the first combined capacitance and the second combined capacitance is not more than 1 and not less than 0.86.
【0019】第1合成静電容量と第2合成静電容量とに
よって規定されるランプ全体の静電容量は、1pF/c
m2〜50pF/cm2であることが好ましい。The capacitance of the entire lamp defined by the first combined capacitance and the second combined capacitance is 1 pF / c.
It is preferably m 2 to 50 pF / cm 2 .
【0020】ある実施形態では、前記前面蛍光体層の比
誘電率と前記背面蛍光体層の比誘電率とは等しく、前記
前面蛍光体層の厚さは、前記背面蛍光体層の厚さよりも
薄い。In one embodiment, the relative permittivity of the front phosphor layer and the relative permittivity of the back phosphor layer are equal, and the thickness of the front phosphor layer is greater than the thickness of the back phosphor layer. thin.
【0021】前記前面基板および前記背面基板の少なく
とも一方は、前記第1合成静電容量と前記第2合成静電
容量とを実質的に等しく調整するコンデンサに直列に接
続されていてもよい。At least one of the front substrate and the rear substrate may be connected in series to a capacitor for adjusting the first combined capacitance and the second combined capacitance substantially equally.
【0022】前記電極は、互いに平行する複数の線状電
極またはメッシュ状の電極であり、前記前面基板上の前
記電極の総面積は、前記背面基板上の前記電極の総面積
よりも小さいことが好ましい。The electrodes are a plurality of linear electrodes or mesh electrodes parallel to each other, and the total area of the electrodes on the front substrate is smaller than the total area of the electrodes on the rear substrate. preferable.
【0023】前記電極は、互いに平行する複数の線状電
極またはメッシュ状の電極であり、前記前面基板上の誘
電体層は、前記電極間に位置する領域において、前記電
極上に位置する誘電体層の厚さの50%以下0%以上の
部分を有していることが好ましい。The electrodes are a plurality of linear electrodes or mesh electrodes parallel to each other, and the dielectric layer on the front substrate has a dielectric layer located on the electrodes in a region located between the electrodes. It is preferable to have a portion of 50% or less and 0% or more of the thickness of the layer.
【0024】前記電極は、互いに平行する複数の線状電
極またはメッシュ状の電極であり、前記背面基板の前記
誘電体層上に形成された蛍光体層は、前記電極の上方に
位置する領域において、前記電極間に位置する前記誘電
体層上に形成された蛍光体層の厚さに対して5%以上9
5%以下の厚さを有する部分を有していることが好まし
い。The electrodes are a plurality of linear electrodes or mesh electrodes parallel to each other, and the phosphor layer formed on the dielectric layer of the back substrate is provided in a region located above the electrodes. 5% or more of the thickness of the phosphor layer formed on the dielectric layer located between the electrodes.
It is preferable to have a portion having a thickness of 5% or less.
【0025】本発明によると、前面基板上の誘電体層お
よび前面蛍光体層が有する第1合成静電容量と、背面基
板上の誘電体層および背面蛍光体層が有する第2合成静
電容量とが実質的に等しいように構成されているので、
ランプ電流の正負のピーク値を適切に制御することがで
き、その結果、ランプの発光効率を向上させた発光デバ
イスを提供することができる。第1合成静電容量と第2
合成静電容量と両者のうち合成静電容量の小さい方を大
きい方で割った値は例えば1以下0.86以上であり、
好ましくは1以下0.9以上であり、さらに好ましくは
1以下0.97以上である。ランプ全体の静電容量が1
pF/cm2〜50pF/cm2であると、ランプの発光
効率をさらに向上させることができる。前面基板および
背面基板の少なくとも一方がコンデンサに直列に接続さ
れた構成によって、第1合成静電容量と第2合成静電容
量とを実質的に等しくするようにしてもよい。According to the present invention, the first combined capacitance of the dielectric layer and the front phosphor layer on the front substrate and the second combined capacitance of the dielectric layer and the back phosphor layer on the back substrate Are configured to be substantially equal to
It is possible to appropriately control the positive and negative peak values of the lamp current, and as a result, it is possible to provide a light emitting device with improved luminous efficiency of the lamp. The first combined capacitance and the second
The value obtained by dividing the smaller of the combined capacitance and the larger of the combined capacitances is, for example, 1 or less and 0.86 or more,
Preferably it is 1 or less and 0.9 or more, more preferably 1 or less and 0.97 or more. The capacitance of the entire lamp is 1
If it is pF / cm 2 ~50pF / cm 2 , it is possible to further improve the luminous efficiency of the lamp. A configuration in which at least one of the front substrate and the rear substrate is connected in series to the capacitor may make the first combined capacitance substantially equal to the second combined capacitance.
【0026】電極としては、互いに平行する複数の線状
電極またはメッシュ状の電極を用いることができ、前面
基板上の電極の総面積が背面基板上の電極の総面積より
も小さいするように構成した場合、前面基板から出射す
る可視光をより多くすることができる。また、前面基板
上の誘電体層のうち電極間に位置する部分の厚さが前面
基板上の電極の厚さの半分以下(50%以下0%以上)
となるように構成することによっても、前面基板から出
射する可視光をより多くすることができる。さらに、誘
電体層上に形成された蛍光体層のうち電極上に位置する
部分の厚さが蛍光体層のうち電極間に位置する部分の厚
さの5%以上95%以下であるように構成した場合に
は、蛍光体層の輝度を均一化させることができる。As the electrodes, a plurality of linear electrodes or mesh electrodes parallel to each other can be used, and the total area of the electrodes on the front substrate is smaller than the total area of the electrodes on the rear substrate. In this case, the amount of visible light emitted from the front substrate can be increased. Also, the thickness of the portion of the dielectric layer on the front substrate located between the electrodes is less than half the thickness of the electrodes on the front substrate (50% or less and 0% or more).
With such a configuration, visible light emitted from the front substrate can be further increased. Further, the thickness of the portion of the phosphor layer formed on the dielectric layer located on the electrode is 5% to 95% of the thickness of the portion of the phosphor layer located between the electrodes. When configured, the luminance of the phosphor layer can be made uniform.
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明による実施の形態を説明する。以下の図面において
は、説明を簡明にするために、実質的に同一の機能を有
する構成要素を同一の参照符号で示す。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the drawings, components having substantially the same function are denoted by the same reference numeral for the sake of simplicity.
【0028】図1から図3を参照しながら、本実施形態
1にかかる発光デバイスを説明する。図1は、本実施形
態の発光デバイス(平板蛍光ランプ)100の構成を模
式的に示している。The light emitting device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 schematically shows a configuration of a light emitting device (flat fluorescent lamp) 100 of the present embodiment.
【0029】発光デバイス100は、透光性の前面基板
11と背面基板12とから構成された密閉型の放電容器
10と、放電容器10内に封入された希ガス(例えば、
キセノン)16と、前面基板11および背面基板12の
それぞれの上に形成された電極13と、電極13を覆う
ように前面基板11および背面基板12のそれぞれの上
に形成された誘電体層14と、誘電体層14上に形成さ
れた蛍光体層(発光層)15とを備えている。互いに対
向する電極13は、それぞれランプ点灯用電源20に電
気的に接続されており、例えば周波数20kHzの正弦
波が対向する電極13間に印加される。The light emitting device 100 includes a sealed discharge vessel 10 composed of a light-transmitting front substrate 11 and a rear substrate 12, and a rare gas (for example,
(Xenon) 16, an electrode 13 formed on each of the front substrate 11 and the back substrate 12, and a dielectric layer 14 formed on each of the front substrate 11 and the back substrate 12 so as to cover the electrode 13. And a phosphor layer (light emitting layer) 15 formed on the dielectric layer 14. The opposing electrodes 13 are each electrically connected to a lamp lighting power supply 20, and a sine wave having a frequency of 20 kHz is applied between the opposing electrodes 13, for example.
【0030】本実施形態では、前面基板11および背面
基板12のそれぞれは、ガラス基板であり、例えばソー
ダライムガラスなどから構成されている。前面基板11
と背面基板12とは、ガラススペーサー18(厚さ:例
えば0.55mm)によって所定の放電ギャップ(例え
ば0.55mm)が確保された状態で対向配置されてい
る。ガラススペーサ18は、ランプ100の放電ギャッ
プ長を固定する機能を有しており、例えばソーダライム
ガラスなどから構成されている。ガラススペーサー18
の外面には、封着材料であるフリットガラス17が形成
されており、フリットガラス17によって放電容器10
は密封状態にされている。なお、図1中の排気管19は
ランプ製造工程時に使用され、ランプ100には特に必
要ではない。In this embodiment, each of the front substrate 11 and the rear substrate 12 is a glass substrate, and is made of, for example, soda-lime glass. Front substrate 11
And the rear substrate 12 are opposed to each other with a predetermined discharge gap (for example, 0.55 mm) secured by a glass spacer 18 (for example, 0.55 mm). The glass spacer 18 has a function of fixing the discharge gap length of the lamp 100, and is made of, for example, soda lime glass. Glass spacer 18
A frit glass 17 serving as a sealing material is formed on an outer surface of the discharge vessel 10 by the frit glass 17.
Are sealed. Note that the exhaust pipe 19 in FIG. 1 is used during the lamp manufacturing process, and is not particularly necessary for the lamp 100.
【0031】前面基板11および背面基板12上に設け
られた電極13aおよび13bは、例えば銀から構成さ
れている。電極13を覆うように前面基板11と背面基
板12の上に形成された誘電体層14aおよび14b
は、例えば、透光性の鉛ガラスから構成されており、誘
電体層14aおよび14bのそれぞれの表面には、紫外
放射によって励起されて可視発光する蛍光体層15aお
よび15bが形成されている。The electrodes 13a and 13b provided on the front substrate 11 and the rear substrate 12 are made of, for example, silver. Dielectric layers 14a and 14b formed on front substrate 11 and rear substrate 12 so as to cover electrode 13
Is made of, for example, translucent lead glass, and phosphor layers 15a and 15b which are excited by ultraviolet radiation and emit visible light are formed on the surfaces of the dielectric layers 14a and 14b, respectively.
【0032】蛍光体層(発光層)15(15a、15
b)は、例えば、PDP用蛍光体から構成されており、
蛍光体層15に使用される蛍光体としては、例えば、4
55nm付近に発光の中心波長を持つユーロピウム付活
アルミン酸バリウムマグネシウム蛍光体、515nm付
近に発光の中心波長を持つマグネシウム付活アルミン酸
蛍光体、および590nm、610nm、630nm付
近に発光の中心波長を持つユーロピウム付活酸化イット
リウムガドリニウムほう酸塩蛍光体の混合蛍光体が挙げ
られる。本実施形態では、前面基板11上の誘電体層1
4aの上に位置する前面蛍光体層15aと、背面基板1
2上の誘電体層14bの上に位置する背面蛍光体層15
bとは、共に同一の比誘電率を有する同一の蛍光体(ま
たは同一の混合蛍光体)から構成している。The phosphor layer (light emitting layer) 15 (15a, 15
b) is composed of, for example, a phosphor for PDP,
The phosphor used for the phosphor layer 15 is, for example, 4
Europium-activated barium magnesium aluminate phosphor having a center wavelength of light emission near 55 nm, magnesium-activated aluminate phosphor with a center wavelength of light emission near 515 nm, and a center wavelength of light emission near 590 nm, 610 nm and 630 nm A mixed phosphor of europium-activated yttrium gadolinium borate phosphor is exemplified. In the present embodiment, the dielectric layer 1 on the front substrate 11 is
4a, a front phosphor layer 15a located on
Back phosphor layer 15 located on the upper dielectric layer 14b
b is made of the same phosphor (or the same mixed phosphor) having the same relative permittivity.
【0033】本実施形態のランプ100では、前面基板
11側からの光取り出し効率を高くするために、前面蛍
光体層15aの厚さは、背面蛍光体層15bの厚さより
も薄くされている。その結果、前面基板11上の誘電体
層14aの上に位置する前面蛍光体層15aが有する第
1静電容量(前面側蛍光体層15aの静電容量:CP
f)と、背面基板12上の誘電体層14bの上に位置す
る背面蛍光体層15bが有する第2静電容量(背面側蛍
光体層15bの静電容量:CPb)とは互いに異なるこ
ととなっている(CPf≠CPb)。本実施形態では、
光取り出し効率が最大になるように、前面蛍光体層(前
面側蛍光体層)15aの厚さを例えば20μmとし、背
面蛍光体層(背面側蛍光体層)15bの厚さを例えば6
0μmとしている。なお、これらの膜厚は例示であり、
光取り出し効率が最大になる最適の膜厚は、ランプ構
造、封入する希ガスの種類や圧力、あるいは点灯方式に
よって異なる。In the lamp 100 of the present embodiment, the thickness of the front phosphor layer 15a is smaller than the thickness of the back phosphor layer 15b in order to increase the light extraction efficiency from the front substrate 11 side. As a result, the first capacitance (the capacitance of the front-side phosphor layer 15a: CP) of the front phosphor layer 15a located on the dielectric layer 14a on the front substrate 11
f) is different from the second capacitance (capacitance of the backside phosphor layer 15b: CPb) of the backside phosphor layer 15b located on the dielectric layer 14b on the backside substrate 12. (CPf ≠ CPb). In this embodiment,
In order to maximize the light extraction efficiency, the thickness of the front phosphor layer (front phosphor layer) 15a is set to, for example, 20 μm, and the thickness of the back phosphor layer (back phosphor layer) 15b is set to, for example, 6 μm.
It is 0 μm. In addition, these film thicknesses are examples,
The optimum film thickness that maximizes the light extraction efficiency differs depending on the lamp structure, the type and pressure of the rare gas to be sealed, or the lighting method.
【0034】本実施形態では、前面蛍光体層15aの厚
さが背面蛍光体層15bの厚さよりも薄くされるように
構成されている一方で、前面基板11上の誘電体層14
aおよび前面蛍光体層15aが有する第1合成静電容量
(前面合成静電容量:Cf)と、背面基板12上の誘電
体層14bおよび背面蛍光体層15bが有する第2合成
静電容量(背面合成静電容量:Cb)とが実質的に等し
くなるように構成されている。第1合成静電容量(C
f)と第2合成静電容量(Cb)と両者のうち合成静電
容量の小さい方を大きい方で割った値は、例えば1以下
0.86以上であり、好ましくは1以下0.9以上であ
り、さらに好ましくは1以下0.97以上である。In the present embodiment, the thickness of the front phosphor layer 15a is configured to be smaller than the thickness of the rear phosphor layer 15b, while the thickness of the dielectric layer 14 on the front substrate 11 is reduced.
a and the first combined capacitance of the front phosphor layer 15a (the combined front capacitance: Cf) and the second combined capacitance of the dielectric layer 14b and the back phosphor layer 15b on the back substrate 12 ( And the back surface combined capacitance: Cb). First combined capacitance (C
f), the second combined capacitance (Cb), and the value obtained by dividing the smaller of the combined capacitance by the larger of the two is, for example, 1 or less and 0.86 or more, preferably 1 or less and 0.9 or more And more preferably 1 or less and 0.97 or more.
【0035】次に、本実施形態のランプ100の動作を
説明する。Next, the operation of the lamp 100 of this embodiment will be described.
【0036】まず、ランプ点灯用電源20を用いて、前
面基板11上の電極13aと背面基板12上の電極13
bとの間に、正弦波またはパルスの電極印加電圧を印加
すると、電極13上の誘電体層14と蛍光体層15とが
分極し、その結果、放電空間(放電ギャップ)10内に
電界が生じる。その後、放電容器10内に封入された希
ガス(例えば、キセノンガス)は、微小空間で放電を開
始し、それによって、蛍光体層15または誘電体層14
の表面に電荷が蓄積されていく。この電荷の蓄積による
内部電界と、誘電体層14と蛍光体層15の分極による
逆向きの外部電界との合成電界が放電維持電界を下回っ
たとき、放電は終了する。First, the electrode 13a on the front substrate 11 and the electrode 13a on the rear substrate 12 are
When a sine wave or pulse electrode application voltage is applied between the electrode 13 and the electrode b, the dielectric layer 14 and the phosphor layer 15 on the electrode 13 are polarized. As a result, an electric field is generated in the discharge space (discharge gap) 10. Occurs. Thereafter, the rare gas (for example, xenon gas) sealed in the discharge vessel 10 starts a discharge in a minute space, whereby the phosphor layer 15 or the dielectric layer 14 is started.
The electric charge is accumulated on the surface of. The discharge ends when the combined electric field of the internal electric field due to the accumulation of the electric charges and the external electric field in the opposite direction due to the polarization of the dielectric layer 14 and the phosphor layer 15 falls below the discharge sustaining electric field.
【0037】その後、電極13aと電極13bとの間に
逆向きの電圧が印加される。このとき、蛍光体層15ま
たは誘電体層14の表面に蓄積された電荷による電界
と、電極印加電圧によって放電ギャップ間に生じた電界
との和が放電開始電界を超えると、再び、放電が開始さ
れることになる。このように、電極印加電圧の印加方向
が変わるたびに、放電の開始および休止が繰り返し行わ
れる。Thereafter, a reverse voltage is applied between the electrode 13a and the electrode 13b. At this time, when the sum of the electric field due to the electric charge accumulated on the surface of the phosphor layer 15 or the dielectric layer 14 and the electric field generated between the discharge gaps by the electrode applied voltage exceeds the discharge start electric field, the discharge starts again. Will be done. Thus, each time the application direction of the electrode application voltage changes, the start and the pause of the discharge are repeatedly performed.
【0038】放電容器10内でキセノンガスの放電がお
こると、共鳴線発光(中心波長147nm)やエキシマ
分子発光(中心波長172nm)などの紫外線放射が生
じる。放電によって生じた紫外光は、蛍光体層15の蛍
光体によって可視光に変換され、その可視光は誘電体層
14を透過して、前面基板11および背面基板12の外
に照射される。When the xenon gas is discharged in the discharge vessel 10, ultraviolet radiation such as resonance line emission (center wavelength: 147 nm) and excimer molecule emission (center wavelength: 172 nm) is generated. Ultraviolet light generated by the discharge is converted into visible light by the phosphor of the phosphor layer 15, and the visible light passes through the dielectric layer 14 and is irradiated outside the front substrate 11 and the back substrate 12.
【0039】キセノンの放電で生じた紫外線放射のうち
エキシマ分子発光の中心波長(172nm)は、共鳴線
発光の中心波長(147nm)よりも長いため、蛍光体
による紫外光から可視光に変換する際の損失が少ない。
すなわち、ストークス則に従って変換損失が少なくな
る。また、エキシマ発光は自己吸収がほとんどないた
め、紫外光が減衰することなく蛍光体層15に到達する
ことができる。このため、高い効率で可視光を得るため
には、エキシマ発光の効率を上げることが必要となる。
エキシマ発光の効率を高めるためには、準安定状態の原
子数を最大限増やすようにすればよい。The center wavelength (172 nm) of excimer molecule emission of ultraviolet radiation generated by xenon discharge is longer than the center wavelength (147 nm) of resonance line emission. Less loss.
That is, the conversion loss is reduced according to the Stokes law. Further, since excimer light emission hardly absorbs itself, ultraviolet light can reach the phosphor layer 15 without attenuating. Therefore, in order to obtain visible light with high efficiency, it is necessary to increase the efficiency of excimer light emission.
In order to increase the efficiency of excimer light emission, the number of atoms in the metastable state may be increased as much as possible.
【0040】エキシマ発光の生成を説明すると、まず、
放電容器10内で放電で生成された電子が放電ギャップ
間の電界によって充分に加速される。その結果、一部の
電子は、キセノン原子を準安定状態のレベルへと励起
し、次いで、1個の準安定状態の原子は、2個の基底状
態の原子と3体衝突を起こし、それによって、1個のエ
キシマ分子と1個の基底状態の原子が生じる。このとき
に生じたエキシマ分子が2個の基底状態の原子に解離す
る際に、172nmのエキシマ発光が放たれる。したが
って、準安定状態の原子数を増やすことによって、エキ
シマ発光の効率を高めることができ、その結果、ランプ
の発光効率を向上させることができる。The generation of excimer light emission will be described first.
Electrons generated by the discharge in the discharge vessel 10 are sufficiently accelerated by the electric field between the discharge gaps. As a result, some of the electrons excite the xenon atom to a metastable state, and then one metastable atom undergoes a three-body collision with two ground state atoms, thereby One excimer molecule and one ground state atom result. When the excimer molecule generated at this time dissociates into two ground state atoms, excimer emission of 172 nm is emitted. Therefore, by increasing the number of atoms in the metastable state, the efficiency of excimer light emission can be increased, and as a result, the light emission efficiency of the lamp can be improved.
【0041】本実施形態のランプ100では、第1合成
静電容量(前面合成静電容量:Cf)と、第2合成静電
容量(背面合成静電容量:Cb)とが実質的に等しくな
るように構成されているので、従来のランプ1000と
異なり、ランプ電流の正負のピーク値を一致させること
ができる。したがって、準安定状態の原子数が最大限生
成するような条件になるようにランプ電流の正負いずれ
のピーク値も適正化することできるため、エキシマ発光
効率を高めることができ、その結果、ランプの発光効率
を向上させることができる。第1合成静電容量(Cf)
と第2合成静電容量(Cb)と両者のうち合成静電容量
の小さい方を大きい方で割った値は、例えば1以下0.
86以上であり、好ましくは1以下0.9以上であり、
さらに好ましくは1以下0.97以上である。In the lamp 100 of the present embodiment, the first combined capacitance (front combined capacitance: Cf) is substantially equal to the second combined capacitance (back combined capacitance: Cb). Thus, unlike the conventional lamp 1000, the positive and negative peak values of the lamp current can be matched. Therefore, both the positive and negative peak values of the lamp current can be optimized so that the condition that maximizes the number of atoms in the metastable state is generated, so that the excimer luminous efficiency can be increased, and as a result, the lamp Luminous efficiency can be improved. First combined capacitance (Cf)
And the second combined capacitance (Cb), and the value obtained by dividing the smaller of the combined capacitance by the larger of the two, for example, is 0.1 or less.
86 or more, preferably 1 or less and 0.9 or more,
More preferably, it is 1 or less and 0.97 or more.
【0042】第1合成静電容量(Cf)および第2合成
静電容量(Cb)ならびにランプ100全体の静電容量
(Ctotal)は、下式(I)に示すように、誘電体層1
4aの静電容量(CDf)、蛍光体層15aの静電容量
(CPf)、誘電体層14bの静電容量(CDb)、お
よび蛍光体層15bの静電容量(CPb)から求めるこ
とができる。The first combined capacitance (Cf), the second combined capacitance (Cb), and the total capacitance (Ctotal) of the lamp 100 are expressed by the following formula (I).
4a, the capacitance (CPf) of the phosphor layer 15a, the capacitance (CDb) of the dielectric layer 14b, and the capacitance (CPb) of the phosphor layer 15b. .
【0043】 1/Ctotal=1/CDf+1/CPf+1/CPb+1/CDb 式(I) なお、Ctotal、CDf、CPf、CDb、およびCP
bは、それぞれ単位面積あたりの静電容量を示してい
る。なお、単位面積あたりの静電容量は、比誘電率
(ε)×真空の誘電率(ε0)/膜厚(t)から算出す
ることができる。1 / Ctotal = 1 / CDf + 1 / CPf + 1 / CPb + 1 / CDb Formula (I) where Ctotal, CDf, CPf, CDb, and CP
b indicates the capacitance per unit area. The capacitance per unit area can be calculated from relative dielectric constant (ε) × dielectric constant of vacuum (ε 0 ) / film thickness (t).
【0044】下記の表1に、本実施形態のランプ100
におけるNo.1〜No.3についての条件、ならびに、
第1合成静電容量(Cf)、第2合成静電容量(C
b)、ランプ100全体の静電容量(Ctotal)、およ
びCbのCfに対する比(Cb/Cf)を示す。Table 1 below shows the lamp 100 of this embodiment.
Conditions for No. 1 to No. 3, and
The first combined capacitance (Cf), the second combined capacitance (Cf)
b), the capacitance (Ctotal) of the entire lamp 100, and the ratio of Cb to Cf (Cb / Cf).
【0045】[0045]
【表1】 表1中のεDfおよびεDbは、それぞれ誘電体層14
aおよび14bの比誘電率を表し、εPfおよびεPb
は、それぞれ蛍光体層15aおよび15bの比誘電率を
表している。また、tDf、tDb、tPf、およびt
Pbは、それぞれ、誘電体層14aおよび14b、蛍光
体層15aおよび15bの厚さを表している。[Table 1] ΕDf and εDb in Table 1 are the dielectric layers 14
a and 14b represent the relative dielectric constants of εPf and εPb
Represents the relative permittivity of the phosphor layers 15a and 15b, respectively. Also, tDf, tDb, tPf, and tDf
Pb represents the thicknesses of the dielectric layers 14a and 14b and the phosphor layers 15a and 15b, respectively.
【0046】No.2を例にとって具体的に構成を説明
すると、(a)前面誘電体層14a(鉛ガラス)の比誘
電率(εDf)8、厚さ(tDf)160μm;(b)
前面蛍光体層15a(PDP用3波長(3種混合))の
比誘電率(εPf)3、厚さ(tPf)20μm;
(c)背面蛍光体層15b(PDP用3波長(3種混
合))の比誘電率(εPb)3、厚さ(tPb)60μ
m;そして(d)背面誘電体層14b(鉛ガラス)の比
誘電率(εDb)8、厚さ(tDb)50μmである。The structure will be specifically described with reference to No. 2 as an example. (A) The relative dielectric constant (εDf) of the front dielectric layer 14a (lead glass) is 8 and the thickness (tDf) is 160 μm;
The relative permittivity (εPf) 3 and the thickness (tPf) of the front phosphor layer 15a (three wavelengths (for three types of PDPs) for PDP) are 20 μm;
(C) The relative permittivity (εPb) 3 and the thickness (tPb) of the rear phosphor layer 15 b (three wavelengths for PDP (mixture of three types))
m; and (d) the relative dielectric constant (εDb) of the rear dielectric layer 14b (lead glass) is 8 and the thickness (tDb) is 50 μm.
【0047】表1からわかるように、No.1〜No.3
は全て、第1合成静電容量(Cf)と第2合成静電容量
(Cb)とが実質的に等しくなるように構成されてお
り、Cb/Cbの値は、1以下0.97以上の範囲の値
となっている。No.1〜No.3のランプの構成は、C
fとCbとが実質的に等しくなるようにするとともに、
前面蛍光体層15aの厚さを背面蛍光体層15bの厚さ
よりも薄くしているので、エキシマ発光の効率を上げる
ことができるとともに、前面基板11側からの光取り出
し効率を高くすることができる。なお、上記公報に開示
されたランプの構成から算出したCb/Cbの値は、い
ずれのランプについても0.859以下であった。As can be seen from Table 1, No. 1 to No. 3
Are configured such that the first combined capacitance (Cf) and the second combined capacitance (Cb) are substantially equal, and the value of Cb / Cb is 1 or less and 0.97 or more. The value is in the range. The configuration of the lamps of No. 1 to No. 3 is C
f and Cb are made substantially equal, and
Since the thickness of the front phosphor layer 15a is smaller than the thickness of the rear phosphor layer 15b, the efficiency of excimer light emission can be increased, and the light extraction efficiency from the front substrate 11 can be increased. . The value of Cb / Cb calculated from the configuration of the lamp disclosed in the above publication was 0.859 or less for each lamp.
【0048】また、本願発明者は、ランプ100のラン
プ全体の静電容量(Ctotal)を変化させて、ランプ全
体の静電容量と発光効率との関係を調べた。なお、発光
効率(lm/W)は、全光束(lm)をランプ電力
(W)で割った値である。この例では、誘電体層14と
蛍光体層15による電圧降下の影響を考慮して、放電ギ
ャップに印加する電圧は350Vrmsとし、周波数2
0kHzの正弦波の印加電圧を印加することによって点
灯を行った。結果を表2および図2に示す。The inventors of the present application examined the relationship between the capacitance of the entire lamp and the luminous efficiency by changing the capacitance (Ctotal) of the entire lamp of the lamp 100. The luminous efficiency (lm / W) is a value obtained by dividing the total luminous flux (lm) by the lamp power (W). In this example, the voltage applied to the discharge gap is set to 350 Vrms and the frequency 2 is applied in consideration of the effect of the voltage drop due to the dielectric layer 14 and the phosphor layer 15.
Lighting was performed by applying a 0 kHz sine wave applied voltage. The results are shown in Table 2 and FIG.
【0049】[0049]
【表2】 表2および図2から、ランプ全体の静電容量(単位面積
あたりの静電容量)が1〜50pF/cm2の範囲内
(領域50内)にある場合には、20lm/W以上の発
光効率を得ることができることがわかる。25lm/W
を超える発光効率を得ようとする場合には、1〜10p
F/cm2の範囲内(領域52内)にすることが好まし
い。[Table 2] From Table 2 and FIG. 2, when the capacitance (capacitance per unit area) of the entire lamp is in the range of 1 to 50 pF / cm 2 (within the region 50), the luminous efficiency is 20 lm / W or more. It can be seen that can be obtained. 25 lm / W
To obtain a luminous efficiency exceeding 1 to 10 p
It is preferable to be within the range of F / cm 2 (in the region 52).
【0050】ランプ静電容量を高くしたときに、ランプ
の発光効率が減少するのは、放電容器10内の電子密度
が増大するため、キセノン原子のイオン化の確率が上昇
するとともに、生成されたエキシマ分子が発光する前に
壊される確率が上昇するためであると考えられる。すな
わち、生成するエキシマ分子の数が最大限となる条件か
ら外れていくためと考えられる。When the lamp capacitance is increased, the luminous efficiency of the lamp decreases because the electron density in the discharge vessel 10 increases, so that the ionization probability of xenon atoms increases and the generated excimer This is considered to be because the probability that the molecule is broken before emitting light increases. That is, it is considered that the number of excimer molecules to be produced is out of the condition for maximizing the number.
【0051】なお、表2および図2において、ランプ容
量が1pF/cm2未満のときには、誘電体層14およ
び蛍光体層15での電圧降下が大きくなる結果、始動電
圧が上昇してしまい、点灯させにくくなることが予想さ
れる。また、ランプ容量が50pF/cm2を超えると
きには、点灯時に誘電体層14または蛍光体層15に印
加される電圧が、誘電体層14または蛍光体層15の耐
圧値を超えてしまい、その結果、誘電体層14または蛍
光体層15が破壊されてしまうことが予想される。In Table 2 and FIG. 2, when the lamp capacity is less than 1 pF / cm 2 , the voltage drop in the dielectric layer 14 and the phosphor layer 15 becomes large, so that the starting voltage increases and the lighting is started. It is expected that this will be difficult. Further, when the lamp capacity exceeds 50 pF / cm 2 , the voltage applied to the dielectric layer 14 or the phosphor layer 15 at the time of lighting exceeds the withstand voltage of the dielectric layer 14 or the phosphor layer 15, and as a result, It is expected that the dielectric layer 14 or the phosphor layer 15 will be destroyed.
【0052】次に、ランプ100の製造方法を例示的に
説明する。Next, a method for manufacturing the lamp 100 will be exemplarily described.
【0053】まず、透光性のソーダライムガラスからな
る前面ガラス基板11および背面ガラス基板12を用意
した後、前面ガラス基板11および背面ガラス基板12
のそれぞれの表面に電極13を形成する。電極13の形
成は、導電性の金属ペースト(例えば、徳力本店株式会
社製の銀ペーストなど)を、卓上印刷機を用いたスクリ
ーン印刷によって塗布することによって行う。卓上印刷
機のメッシュ部は、線状に同幅かつ同間隔でパターニン
グされているため、卓上印刷機によるスクリーン印刷に
よって、前面ガラス基板11および背面ガラス基板12
上に線状(ストライプ状)の電極13を塗布することが
できる。First, a front glass substrate 11 and a rear glass substrate 12 made of translucent soda lime glass are prepared, and then the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 are prepared.
An electrode 13 is formed on each of the surfaces. The electrodes 13 are formed by applying a conductive metal paste (for example, a silver paste manufactured by Tokuriki Honten Co., Ltd.) by screen printing using a desktop printer. Since the mesh portions of the desktop printing machine are patterned linearly at the same width and the same interval, the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 are screen-printed by the desktop printing machine.
A linear (striped) electrode 13 can be applied thereon.
【0054】次に、電極13が塗布された前面ガラス基
板11および背面ガラス基板12を十分に乾燥させた
後、500〜600℃炉で焼成し、それによって金属ペ
ースト中の金属粉末を融解製膜し、次いで、樹脂溶媒を
焼成および飛散させて電極13を前面ガラス基板11お
よび背面ガラス基板12に固着させる。Next, after the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 coated with the electrodes 13 are sufficiently dried, they are baked in a furnace at 500 to 600 ° C., so that the metal powder in the metal paste is melt-formed. Then, the electrode 13 is fixed to the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 by firing and scattering the resin solvent.
【0055】次に、電極13が形成された前面ガラス基
板11および背面ガラス基板12の表面に誘電体層14
を形成する。誘電体層14の形成は、透光性の誘電体ペ
ースト(例えば、旭硝子株式会社製の鉛ガラスペースト
など)を、電極13を覆うように前面ガラス基板11お
よび背面ガラス基板12の表面に均一に印刷することに
よって行われる。この印刷は、卓上印刷機を用いて行う
ことができる。次いで、この誘電体ペーストを十分に乾
燥させ、500〜600℃の雰囲気温度で加熱焼成した
後、誘電体ペースト中の誘電体粉末を融解製膜し、樹脂
溶媒を焼成および飛散させる。このようにして誘電体層
14を前面ガラス基板11および背面ガラス基板12に
固着させる。Next, a dielectric layer 14 is formed on the surfaces of the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 on which the electrodes 13 are formed.
To form The dielectric layer 14 is formed by uniformly applying a transparent dielectric paste (for example, a lead glass paste manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) on the surfaces of the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 so as to cover the electrodes 13. This is done by printing. This printing can be performed using a desktop printing machine. Next, the dielectric paste is sufficiently dried and fired at an atmosphere temperature of 500 to 600 ° C., and then the dielectric powder in the dielectric paste is melt-formed into a film, and the resin solvent is fired and scattered. Thus, the dielectric layer 14 is fixed to the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12.
【0056】次に、誘電体層14の表面に蛍光体層15
を形成する。蛍光体層15の形成も上記工程とほぼ同様
にして行われる。まず、PDP用蛍光体を少量のαテル
ピオネールなどの樹脂溶媒で希釈し十分に攪拌し、次い
で、電極13が形成されている側の前面ガラス基板11
および背面ガラス基板12の表面に卓上印刷機によって
印刷することによって行う。卓上印刷機のメッシュ部
は、誘電体層14の表面上に均一に蛍光体層15を塗布
できる構造になっているものが用いられる。次に、蛍光
体層15が印刷された前面ガラス基板11および背面ガ
ラス基板12を十分に乾燥させた後、400〜500℃
の雰囲気温度で加熱焼成し、次いで、樹脂溶媒を焼成お
よび飛散させて蛍光体層15を誘電体層14の表面に固
着させる。Next, the phosphor layer 15 is formed on the surface of the dielectric layer 14.
To form The formation of the phosphor layer 15 is performed in substantially the same manner as in the above steps. First, the phosphor for PDP is diluted with a small amount of a resin solvent such as α-terpionel and sufficiently stirred, and then the front glass substrate 11 on the side where the electrode 13 is formed is formed.
The printing is performed by printing on the surface of the rear glass substrate 12 with a desktop printer. As the mesh portion of the desktop printer, a mesh portion having a structure capable of uniformly coating the phosphor layer 15 on the surface of the dielectric layer 14 is used. Next, after sufficiently drying the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 on which the phosphor layer 15 is printed, 400 to 500 ° C.
Then, the phosphor layer 15 is fixed to the surface of the dielectric layer 14 by baking and scattering the resin solvent.
【0057】次に、上記の工程を経て得られた前面ガラ
ス基板11と背面ガラス基板12とから放電容器10を
形成する。Next, the discharge vessel 10 is formed from the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 obtained through the above steps.
【0058】放電容器10の形成は、まず、1枚の背面
ガラス基板12上に、厚さ0.55mmのガラス基板ス
ペーサー18を配置する。ガラス基板スペーサー18
は、蛍光体層15の周辺に配置される。ガラス基板スペ
ーサー18は、放電ギャップ長を固定する役割を果た
し、ソーダライムガラスから構成されている。次いで、
封着材料であるフリットガラス17(例えば、旭硝子株
式会社製)を有機溶剤(例えば、東京応化工業株式会社
製のビークルCなど)によって分散させ、そのフリット
ガラスペーストを、ディスペンサーなどを用いて背面ガ
ラス基板12上のガラス基板スペーサー18周辺に均一
に形成する。To form the discharge vessel 10, first, a glass substrate spacer 18 having a thickness of 0.55 mm is arranged on one back glass substrate 12. Glass substrate spacer 18
Are arranged around the phosphor layer 15. The glass substrate spacer 18 serves to fix the discharge gap length, and is made of soda lime glass. Then
Frit glass 17 (for example, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) as a sealing material is dispersed with an organic solvent (for example, vehicle C manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), and the frit glass paste is dispersed using a dispenser or the like. It is formed uniformly around the glass substrate spacer 18 on the substrate 12.
【0059】次に、電極13、誘電体層14および蛍光
体層15が形成された前面ガラス基板11との貼り合わ
せを行い、この貼り合わせの後、互いに対向して配置さ
れた前面ガラス基板11と背面ガラス基板12とを耐熱
性の金具でしっかりと固定する。2枚のガラス基板の内
の一方には、ガス排気・封入用の穴が開けられており、
その部分に先程の封着材料を用いて、ガラス製の排気管
19を接続する。Next, bonding is performed with the front glass substrate 11 on which the electrodes 13, the dielectric layer 14, and the phosphor layer 15 are formed, and after this bonding, the front glass substrate 11 that is disposed to face each other is bonded. And the rear glass substrate 12 are firmly fixed with heat-resistant metal fittings. One of the two glass substrates is provided with a hole for gas exhaust and sealing,
An exhaust pipe 19 made of glass is connected to the portion using the sealing material described above.
【0060】次に、排気管19が接続された放電容器1
0を450℃の雰囲気温度で加熱焼成し、それによって
フリットガラスペースト中の鉛ガラス粉末を融解させ、
そして樹脂溶媒を焼成および飛散させる。このようにし
て、フリットガラス17によって前面ガラス基板11と
背面ガラス基板12との封着を行う。Next, the discharge vessel 1 to which the exhaust pipe 19 is connected
0 at an atmosphere temperature of 450 ° C., thereby melting the lead glass powder in the frit glass paste,
Then, the resin solvent is fired and scattered. Thus, the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12 are sealed by the frit glass 17.
【0061】最後に、封着済み前面ガラス基板11に接
続された排気管19を真空ポンプと接続し、350℃の
雰囲気中で不純ガスを排気した後、雰囲気を室温に戻
し、キセノン単体からなる希ガス16を13.3kPa
程度封入する。その後、排気管19用の穴をふさげば、
ランプ100が得られる。Finally, the exhaust pipe 19 connected to the sealed front glass substrate 11 is connected to a vacuum pump, and after exhausting impurity gases in an atmosphere of 350 ° C., the atmosphere is returned to room temperature, and is made of xenon alone. Noble gas 16 at 13.3 kPa
Enclose to a degree. Then, if you close the hole for the exhaust pipe 19,
A lamp 100 is obtained.
【0062】なお、本実施形態では、前面基板11およ
び背面基板12として、電極13、誘電体層14、およ
び蛍光体層15の順で形成された構成のガラス基板を用
いたが、これに限定されず、前面基板11および背面基
板12以外の部分にも蛍光体層15が形成された構成
や、その他の層(例えば、酸化マグネシウム層)が誘電
体層14と蛍光体層15との間に形成された構成につい
ても適用可能である。また、本実施形態では、対向する
ガラス基板11および12を用いた密閉型の放電容器1
0の例を示したが、これに限定されず、その他の形状
(例えば円筒状)のガラスなどを用いることも可能であ
る。In this embodiment, as the front substrate 11 and the rear substrate 12, a glass substrate having a structure in which the electrode 13, the dielectric layer 14, and the phosphor layer 15 are formed in this order is used. However, a configuration in which the phosphor layer 15 is formed in a portion other than the front substrate 11 and the back substrate 12 or another layer (for example, a magnesium oxide layer) is provided between the dielectric layer 14 and the phosphor layer 15 The formed configuration is also applicable. Further, in the present embodiment, the sealed discharge vessel 1 using the glass substrates 11 and 12 facing each other is used.
Although an example of 0 has been described, the present invention is not limited to this example, and glass of another shape (for example, cylindrical shape) can be used.
【0063】また、前面基板11および背面基板12の
基板材料としてガラスを用いたが、これに限定されず、
その他の材料(例えば、透光性セラミックスなど)を用
いることも可能である。さらに、銀から構成した電極1
3を用いたが、これに限定されず、その他の金属(銅ま
たは鉄など)から構成した電極13を用いてもよいし、
ITOなどの透明電極を用いてもよい。また、誘電体層
14として鉛ガラスを用いた例を示したが、その他の誘
電体、例えば、ソーダガラスなどのガラス類、また、フ
ェノール樹脂、尿素樹脂、ビニル樹脂などの樹脂類など
を用いることも可能である。Although glass was used as a substrate material for the front substrate 11 and the rear substrate 12, the present invention is not limited to this.
It is also possible to use other materials (for example, translucent ceramics). Further, an electrode 1 composed of silver
3, the electrode 13 is not limited to this, and an electrode 13 made of another metal (such as copper or iron) may be used.
A transparent electrode such as ITO may be used. Although an example in which lead glass is used as the dielectric layer 14 has been described, other dielectric materials, for example, glasses such as soda glass, and resins such as phenol resin, urea resin, and vinyl resin may be used. Is also possible.
【0064】本実施形態では、青色蛍光体、緑色蛍光
体、赤色蛍光体の3種類の蛍光体の組み合わせを用いた
いわゆる三波長域発光型蛍光ランプを例として説明した
が、これに限定されず、その他の組み合わせを用いた例
えば二波長型や五波長型の蛍光ランプについても適用可
能である。また、電極13、誘電体層14、蛍光体層1
5それぞれをガラス基板11および12に形成するため
にスクリーン印刷を用いたが、その他の方法、例えば蒸
着を用いることも可能である。なお、封入する希ガスに
キセノンの単体を13.3kPa用いたが、これに限定
されず、その他ガス圧またはその他のガスを用いること
ができる。例えば、クリプトン、ヘリウムなどの希ガ
ス、または、少なくとも1種類の希ガスに少なくとも1
種類のヨウ素、塩素などのハロゲンとを混合した混合ガ
スを用いることも可能である。また、印加電圧に20k
Hzの正弦波を用いた例で説明したが、その他の周波数
でも適用可能であるし、その他の矩形波などの任意の波
形についても適応可能である。なお、本実施形態の発光
デバイスは、放電ガスとして水銀を用いていないので、
環境に優しい構成となっている。 (実施形態2)図3を参照しながら、本発明による実施
形態2を説明する。本実施形態および後述する実施形態
の説明を簡単にするために、実施形態1と異なる点を主
に説明し、実施形態1と同様の点の説明は省略または簡
略化する。In the present embodiment, a so-called three-wavelength band fluorescent lamp using a combination of three kinds of phosphors of a blue phosphor, a green phosphor and a red phosphor has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. For example, the present invention can be applied to a two-wavelength or five-wavelength fluorescent lamp using other combinations. Further, the electrode 13, the dielectric layer 14, the phosphor layer 1
Although screen printing was used to form each of the glass substrates 5 on the glass substrates 11 and 12, other methods, such as vapor deposition, can be used. Note that xenon simple substance was used at 13.3 kPa as the rare gas to be sealed, but the present invention is not limited to this, and other gas pressures or other gases can be used. For example, at least one rare gas such as krypton, helium, or at least one rare gas
It is also possible to use a mixed gas obtained by mixing various kinds of halogens such as iodine and chlorine. The applied voltage is 20k
Although an example using a sine wave of Hz has been described, the present invention can be applied to other frequencies, and can be applied to other arbitrary waveforms such as a rectangular wave. Since the light emitting device of the present embodiment does not use mercury as a discharge gas,
It is environmentally friendly. (Embodiment 2) Embodiment 2 according to the present invention will be described with reference to FIG. In order to simplify the description of the present embodiment and an embodiment described later, points different from the first embodiment will be mainly described, and description of the same points as the first embodiment will be omitted or simplified.
【0065】図3は、本実施形態のランプ200の構成
を模式的に示している。本実施形態のランプ200は、
放電容器10内の前面基板11および背面基板12の少
なくとも一方はコンデンサ30を直列に接続されてお
り、このコンデンサ30によって、ランプ200の第1
合成静電容量(Cf)と第2合成静電容量(Cb)とは
実質的に等しく調整されている。すなわち、CfとCb
とを実質的に等しく調整するコンデンサ30を用いた構
成によっても、実施形態1のランプ100と同様に、第
1合成静電容量(Cf)と第2合成静電容量(Cb)と
が実質的に等しい発光デバイスを実現することができ
る。 (実施形態3)図4を参照しながら、本発明による実施
形態3を説明する。図4は、上記実施形態1の前面基板
11の改変例を模式的に示している。FIG. 3 schematically shows the configuration of the lamp 200 of the present embodiment. The lamp 200 according to the present embodiment includes:
At least one of the front substrate 11 and the rear substrate 12 in the discharge vessel 10 is connected with a capacitor 30 in series.
The combined capacitance (Cf) and the second combined capacitance (Cb) are adjusted to be substantially equal. That is, Cf and Cb
The first combined capacitance (Cf) and the second combined capacitance (Cb) are substantially the same as in the lamp 100 according to the first embodiment also by the configuration using the capacitor 30 that adjusts substantially the same. Can be realized. (Embodiment 3) Embodiment 3 according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 schematically shows a modification of the front substrate 11 of the first embodiment.
【0066】本実施形態3では、前面基板11側からの
光取り出し効率を高くするために、前面基板11上の電
極13aの総面積は、背面基板12上の電極13bの総
面積よりも小さくなるように構成されている。さらに、
前面基板11に形成された蛍光体層15aの面積に対し
て、蛍光体層15aと電極13aとの重なり部分の総面
積の割合が5%〜50%の範囲内になるように電極13
aが構成されていることが好ましい。上記面積の割合が
5%未満の場合には、電極13aを適切な抵抗を持つ電
極幅にしたときに、電極間隔が大きくなり過ぎ、その結
果、発光面に輝度むらが生じるからである。また、上記
面積の割合が50%を超える場合には、蛍光体層15で
の発光が電極13aによって吸収または散乱される確率
が大きくなり、全光束の低下を招くからである。発光面
の輝度むらおよび全光束の低下をより効果的に防止する
ために、上記面積の割合を10〜30%とするように電
極13aが構成されていることがさらに好ましい。In the third embodiment, the total area of the electrodes 13a on the front substrate 11 is smaller than the total area of the electrodes 13b on the rear substrate 12 in order to increase the light extraction efficiency from the front substrate 11 side. It is configured as follows. further,
The electrode 13 is formed such that the ratio of the total area of the overlapping portion of the phosphor layer 15a and the electrode 13a to the area of the phosphor layer 15a formed on the front substrate 11 is in the range of 5% to 50%.
a is preferably formed. If the ratio of the area is less than 5%, when the electrode 13a has an electrode width having an appropriate resistance, the electrode interval becomes too large, and as a result, luminance unevenness occurs on the light emitting surface. Further, when the area ratio exceeds 50%, the probability that the light emitted from the phosphor layer 15 is absorbed or scattered by the electrode 13a increases, which causes a reduction in the total luminous flux. In order to more effectively prevent the luminance unevenness of the light emitting surface and the reduction of the total luminous flux, it is more preferable that the electrode 13a is configured so that the area ratio is 10 to 30%.
【0067】また、図5に示すように、背面基板12に
形成された蛍光体層15bの面積に対して、蛍光体層1
5bと電極13bの重なり部分の総面積の割合が5%〜
100%となるように電極13bが構成されていること
が好ましい。図5は、上記実施形態1の背面基板12の
改変例を模式的に示している。上述した理由と同様に、
上記面積の割合が5%未満の場合、電極13bを適切な
抵抗を持つ電極幅にすると、電極13bの間隔が大きく
なり過ぎ、発光面に輝度むらが生じる。また、ランプの
内部(放電容器10の内部)から見て、背面方向に向か
う光を前面方向に集めるためには、上記面積の割合が大
きい方が望ましい。As shown in FIG. 5, the area of the phosphor layer 15b formed on the back substrate 12 is
The ratio of the total area of the overlapping portion of 5b and the electrode 13b is 5% to
It is preferable that the electrode 13b is configured to be 100%. FIG. 5 schematically shows a modification of the rear substrate 12 of the first embodiment. As with the reasons mentioned above,
When the area ratio is less than 5%, if the electrode 13b has an electrode width having an appropriate resistance, the interval between the electrodes 13b becomes too large, and luminance unevenness occurs on the light emitting surface. Further, in order to collect light traveling in the rear direction toward the front as viewed from the inside of the lamp (the interior of the discharge vessel 10), it is desirable that the ratio of the above-mentioned area is large.
【0068】さらに、前面方向への光取り出し効率を高
くするという観点から、前面基板11上の電極13a
は、透光性を有することが好ましい。また、透光性を有
する電極13は、低抵抗および高可視光透過率の観点か
ら、インジウム酸化錫または酸化錫のどちらか一方また
は両方から構成されていることが望ましい。Further, from the viewpoint of increasing the light extraction efficiency in the front direction, the electrode 13a on the front substrate 11 is
Preferably has a light-transmitting property. In addition, it is desirable that the light-transmitting electrode 13 be made of one or both of indium tin oxide and tin oxide from the viewpoints of low resistance and high visible light transmittance.
【0069】なお、上述した実施形態では、電極13
(13aおよび13b)として、互いに平行する複数の
線状電極を用いたが、これに限定されず、メッシュ状な
どのその他の電極形状を有する電極を用いることも可能
である。また、前面ガラス基板11から光を取り出す構
成を説明したが、背面ガラス基板12から光を取り出す
ときは、電極13の構成を前面ガラス基板11と背面ガ
ラス基板12とを交換すれば同様に実施可能である。 (実施形態4)図6を参照しながら、本発明による実施
形態4を説明する。図6は、上記実施形態1の前面基板
11の改変例を模式的に示している。図6に示した構成
は、誘電体層14aの形状において上記実施形態1の構
成と異なる。なお、図6において、蛍光体層15aは省
略している。In the above embodiment, the electrode 13
Although a plurality of linear electrodes parallel to each other are used as (13a and 13b), the present invention is not limited thereto, and electrodes having other electrode shapes such as a mesh shape can be used. Also, the configuration for extracting light from the front glass substrate 11 has been described. However, when light is extracted from the rear glass substrate 12, the configuration of the electrodes 13 can be similarly implemented by exchanging the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12. It is. (Embodiment 4) Embodiment 4 according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 schematically shows a modification of the front substrate 11 of the first embodiment. The configuration shown in FIG. 6 differs from the configuration of the first embodiment in the shape of the dielectric layer 14a. In FIG. 6, the phosphor layer 15a is omitted.
【0070】図6に示すように、本実施形態では、前面
基板11上の誘電体層14aは、電極13a間に位置す
る領域において、電極13a上に位置する誘電体層14
aの厚さの半分以下の部分14a’を有している。この
ようにすると、ランプ内部(放電容器10の内部)で発
生した可視光をより多く、前面ガラス基板11から外へ
取り出すことができる。すなわち、本実施形態の発光デ
バイスの構成上、電極13aの表面以外に形成された誘
電体層14aは放電に関係しないので、この部分に厚さ
の薄い部分14a’を形成することによって、誘電体層
14aによる可視光の吸収・散乱を抑制することがで
き、その結果、より多くの可視光を外へ取り出すことが
できる。具体的には、誘電体層14aの部分14a’の
厚さを、電極13a上に位置する誘電体層14aの厚さ
の例えば50%以下にすると、蛍光体層15からの発光
が誘電体層14aに吸収または散乱される確率を小さく
することができ、その結果、前面ガラス基板11から外
へ取り出せる可視光の量を多くすることができ、誘電体
層14aによる全光束の低下を抑制することができる。
全光束の低下をより効果的に抑制するには、電極13a
上に位置する誘電体層14aの厚さに対して、誘電体層
14aの部分14a’の厚さを0%〜20%とすること
がより好ましい。なお、部分14a’の厚さが0%と
は、誘電体層14aが形成されていないことを意味して
いる。As shown in FIG. 6, in the present embodiment, the dielectric layer 14a on the front substrate 11 is formed in a region located between the electrodes 13a.
It has a portion 14a 'that is less than half the thickness of a. In this way, more visible light generated inside the lamp (inside the discharge vessel 10) can be extracted from the front glass substrate 11 to the outside. That is, in the structure of the light emitting device of the present embodiment, the dielectric layer 14a formed on the surface other than the surface of the electrode 13a is not related to the electric discharge. Absorption and scattering of visible light by the layer 14a can be suppressed, and as a result, more visible light can be extracted outside. Specifically, when the thickness of the portion 14a 'of the dielectric layer 14a is set to, for example, 50% or less of the thickness of the dielectric layer 14a located on the electrode 13a, light emission from the phosphor layer 15 is reduced. The probability of being absorbed or scattered by the front glass substrate 11 can be reduced, and as a result, the amount of visible light that can be extracted from the front glass substrate 11 can be increased, and the reduction of the total luminous flux due to the dielectric layer 14a can be suppressed. Can be.
In order to more effectively suppress the reduction of the total luminous flux, the electrode 13a
More preferably, the thickness of the portion 14a 'of the dielectric layer 14a is 0% to 20% with respect to the thickness of the dielectric layer 14a located thereon. The thickness of the portion 14a 'of 0% means that the dielectric layer 14a is not formed.
【0071】なお、本実施形態では、誘電体層14とし
て、透光性の誘電体を用いたが、電極13の表面以外に
誘電体層14が全く形成されていない構成の場合には、
誘電体層14は透光性である必要はなく、可視光を透過
しない誘電体14について用いることができる。また、
前面ガラス基板11から光を取り出す構成の場合につい
て説明したが、背面ガラス基板12から光を取り出す構
成の場合には、本実施形態の構成の前面ガラス基板11
を背面ガラス基板12として用いればよい。In this embodiment, a translucent dielectric is used as the dielectric layer 14. However, in the case where the dielectric layer 14 is not formed except for the surface of the electrode 13,
The dielectric layer 14 does not need to be translucent, and can be used for the dielectric 14 that does not transmit visible light. Also,
Although the configuration in which light is extracted from the front glass substrate 11 has been described, in the case of a configuration in which light is extracted from the rear glass substrate 12, the front glass substrate 11 having the configuration of the present embodiment is used.
May be used as the rear glass substrate 12.
【0072】図6に示した構成の誘電体層14aを備え
た前面ガラス基板11は、次のようにして形成すればよ
い。The front glass substrate 11 having the dielectric layer 14a having the structure shown in FIG. 6 may be formed as follows.
【0073】まず、電極13aを形成した前面ガラス基
板11の表面に、透光性の誘電体ペースト(例えば旭硝
子株式会社製の鉛ガラスペーストなど)を卓上印刷機に
よって均一に印刷する。次に、印刷後の前面ガラス基板
11を十分に乾燥させた後、パターニングされた電極1
3aを充分に覆い隠せるようなパターンのメッシュマス
クを用意し、そのパターンどおりに卓上印刷機を用いて
印刷する。次に、この前面ガラス基板11を十分に乾燥
した後、500〜600℃の雰囲気温度で加熱焼成し、
次いで、誘電体ペースト中の誘電体粉末を融解製膜し、
樹脂溶媒を焼成および飛散させることによって、誘電体
層14aを前面ガラス基板11に固着させる。First, a translucent dielectric paste (for example, lead glass paste manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) is uniformly printed on the surface of the front glass substrate 11 on which the electrodes 13a are formed, using a desktop printer. Next, after the printed front glass substrate 11 is sufficiently dried, the patterned electrode 1
A mesh mask having a pattern capable of sufficiently covering 3a is prepared, and printing is performed using a table printing machine in accordance with the pattern. Next, after the front glass substrate 11 is sufficiently dried, it is heated and fired at an atmosphere temperature of 500 to 600 ° C.
Next, melt-forming the dielectric powder in the dielectric paste,
The dielectric layer 14a is fixed to the front glass substrate 11 by firing and scattering the resin solvent.
【0074】このようにして、上記2種類の印刷パター
ンを用いて、それぞれの印刷回数を調節することによっ
て、電極13aの表面あるいは電極13aの表面以外の
それぞれの誘電体層14aの厚さを変えることができ
る。なお、背面ガラス基板12上の誘電体層14bを形
成する方法は上記実施形態1と同様にすればよい。ま
た、本実施形態では、電極13aとして、互いに平行す
る複数の線状電極を用いたが、メッシュ状などのその他
の電極形状の電極も同様に用いることができる。 (実施形態5)図7を参照しながら、本発明による実施
形態5を説明する。図7は、上記実施形態1の背面基板
12の改変例を模式的に示している。図7に示した構成
は、蛍光体層14bの形状において上記実施形態1の構
成と異なる。As described above, the thickness of each dielectric layer 14a other than the surface of the electrode 13a or the surface of the electrode 13a is changed by adjusting the number of times of printing using the two types of printing patterns. be able to. The method of forming the dielectric layer 14b on the rear glass substrate 12 may be the same as in the first embodiment. Further, in the present embodiment, a plurality of linear electrodes parallel to each other are used as the electrodes 13a, but electrodes having other electrode shapes such as a mesh shape can also be used. Embodiment 5 Embodiment 5 according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 schematically shows a modification of the rear substrate 12 of the first embodiment. The configuration shown in FIG. 7 differs from the configuration of the first embodiment in the shape of the phosphor layer 14b.
【0075】図7に示すように、本実施形態では、背面
基板12の誘電体層14b上に形成された蛍光体層15
bは、電極13bの上方に位置する領域において、電極
13b間に位置する誘電体層14b上に形成された蛍光
体層15bの厚さに対して5%以上95%以下の厚さを
有する部分15b’を有している。このようにすると、
蛍光体層15bの輝度を均一化することが可能となる。
蛍光体層15bの部分15b’の厚さが5%未満の場合
または95%を超える場合には、蛍光体層15b’の輝
度と、それ以外の部分の蛍光体層15bの輝度との差が
大きくなり、その結果、発光面の輝度むらが顕著になる
ため好ましくない。発光面の輝度むらを効果的に抑制す
るには、蛍光体層15bの部分15b’の厚さを20%
〜70%にすることがさらに好ましい。As shown in FIG. 7, in this embodiment, the phosphor layer 15 formed on the dielectric layer 14b of the back substrate 12 is formed.
b is a portion having a thickness of 5% or more and 95% or less with respect to the thickness of the phosphor layer 15b formed on the dielectric layer 14b located between the electrodes 13b in a region located above the electrode 13b. 15b '. This way,
The luminance of the phosphor layer 15b can be made uniform.
When the thickness of the portion 15b 'of the phosphor layer 15b is less than 5% or more than 95%, the difference between the luminance of the phosphor layer 15b' and the luminance of the other portions of the phosphor layer 15b is different. As a result, the luminance unevenness on the light emitting surface becomes remarkable, which is not preferable. In order to effectively suppress the luminance unevenness on the light emitting surface, the thickness of the portion 15b 'of the phosphor layer 15b is set to 20%.
More preferably, it is set to about 70%.
【0076】図7に示した構成の蛍光体層15bを備え
た背面ガラス基板12は、次のようにして形成すればよ
い。The back glass substrate 12 provided with the phosphor layer 15b having the structure shown in FIG. 7 may be formed as follows.
【0077】まず、PDP用蛍光体を樹脂溶媒(例えば
少量のαテルピオネール)で希釈し充分に攪拌した後、
この蛍光体を、電極13bおよび誘電体層14bが形成
された背面ガラス基板12の表面に卓上印刷機によって
印刷する。このとき、卓上印刷機のメッシュ部は、誘電
体層14bの表面に対して均一に蛍光体を塗布できる構
造になっている。First, the phosphor for PDP is diluted with a resin solvent (for example, a small amount of α-terpionaire) and stirred sufficiently.
This phosphor is printed on the surface of the back glass substrate 12 on which the electrode 13b and the dielectric layer 14b are formed by a desktop printer. At this time, the mesh portion of the desktop printer has a structure that allows the phosphor to be uniformly applied to the surface of the dielectric layer 14b.
【0078】次に、上記工程後の背面ガラス基板12を
十分に乾燥させた後、パターニングされた電極13b上
に位置する誘電体層14bの表面を除く範囲に塗布可能
なパターンを有するメッシュマスクを用意し、次いで、
このようなメッシュマスクを備えた卓上印刷機によって
そのパターンどおりに印刷する。その後、400〜50
0℃の雰囲気温度で加熱焼成することによって、樹脂溶
媒を焼成および飛散させて、蛍光体層15bを誘電体層
14bの表面に固着させる。Next, after the back glass substrate 12 after the above-mentioned process is sufficiently dried, a mesh mask having a pattern applicable to a region excluding the surface of the dielectric layer 14b located on the patterned electrode 13b is formed. Prepare, then
Printing is performed according to the pattern by a desktop printing machine equipped with such a mesh mask. After that, 400-50
By heating and firing at an atmosphere temperature of 0 ° C., the resin solvent is fired and scattered, and the phosphor layer 15b is fixed to the surface of the dielectric layer 14b.
【0079】このようにして、上記2種類の印刷パター
ンを用いて、それぞれの印刷回数を調節することによっ
て、蛍光体層15bの部分15b’の厚さとそれ以外の
部分の蛍光体層15bの厚さとを変えることができる。
本実施形態では、背面ガラス基板12を用いた構成につ
いて説明したが、前面ガラス基板11、または前面ガラ
ス基板11および背面ガラス基板12の両方を用いた構
成の場合についても同様に適用可能である。なお、前面
ガラス基板11の構成においては上記実施形態4の構成
と組み合わせることも可能である。As described above, by adjusting the number of times of printing using each of the two types of printing patterns, the thickness of the portion 15b ′ of the phosphor layer 15b and the thickness of the phosphor layer 15b in the other portions are adjusted. Can be changed.
In the present embodiment, the configuration using the rear glass substrate 12 has been described. However, the present invention is similarly applicable to a configuration using the front glass substrate 11, or both the front glass substrate 11 and the rear glass substrate 12. The configuration of the front glass substrate 11 can be combined with the configuration of the fourth embodiment.
【0080】また、本実施形態では、蛍光体層15はP
DP用蛍光体を用いた例で説明したが、その他の紫外励
起され可視発光する発光物質も用いることができる。さ
らに、本実施形態では、電極13bとして、互いに平行
する複数の線状電極を用いたが、メッシュ状などのその
他の電極形状の電極も同様に用いることができる。ま
た、本実施形態では、蛍光体層15bの背面ガラス基板
12への形成方法として、スクリーン印刷を用いたが、
これに限定されず、その他の方法を用いることも可能で
ある。In this embodiment, the phosphor layer 15 is made of P
Although the example using the DP phosphor has been described, other luminescent materials that emit visible light when excited by ultraviolet light can also be used. Further, in the present embodiment, a plurality of linear electrodes parallel to each other are used as the electrodes 13b, but electrodes having other electrode shapes such as a mesh shape can also be used. In the present embodiment, screen printing is used as a method for forming the phosphor layer 15b on the back glass substrate 12, but
The method is not limited to this, and other methods can be used.
【0081】[0081]
【発明の効果】本発明によると、前面基板上の誘電体層
および前面蛍光体層が有する第1合成静電容量と、背面
基板上の誘電体層および背面蛍光体層が有する第2合成
静電容量とが実質的に等しいように構成されているの
で、ランプ電流の正負のピーク値を適切に制御すること
ができ、その結果、ランプの発光効率を向上させた発光
デバイスを提供することができる。According to the present invention, the first combined capacitance of the dielectric layer and the front phosphor layer on the front substrate and the second combined capacitance of the dielectric layer and the back phosphor layer on the rear substrate are provided. Since the capacitance is configured to be substantially equal, the positive and negative peak values of the lamp current can be appropriately controlled, and as a result, a light emitting device with improved luminous efficiency of the lamp can be provided. it can.
【図1】実施形態1の発光デバイス100の構成を模式
的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a configuration of a light emitting device 100 according to a first embodiment.
【図2】ランプ100における発光効率とランプ容量と
の関係を示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing a relationship between luminous efficiency and lamp capacity of the lamp 100.
【図3】実施形態2の発光デバイス200の構成を模式
的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically illustrating a configuration of a light emitting device 200 according to a second embodiment.
【図4】実施形態3における前面基板11の構成を模式
的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing a configuration of a front substrate 11 according to a third embodiment.
【図5】実施形態3における背面基板12の構成を模式
的に示す平面図である。FIG. 5 is a plan view schematically showing a configuration of a back substrate 12 according to a third embodiment.
【図6】実施形態4における前面基板11の構成を模式
的に示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a front substrate 11 according to a fourth embodiment.
【図7】実施形態5における背面基板12の構成を模式
的に示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view schematically illustrating a configuration of a back substrate 12 according to a fifth embodiment.
【図8】従来の発光デバイス1000の構成を模式的に
示す図である。FIG. 8 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional light emitting device 1000.
【図9】(a)は、前面側の蛍光体層115aを取り除
いた構成のランプ1000を示す断面図であり、(b)
は、(a)の構成における相対輝度(%)と背面蛍光体
層膜厚(μm)との関係を示すグラフである。FIG. 9A is a cross-sectional view showing a lamp 1000 having a configuration in which a phosphor layer 115a on the front side is removed, and FIG.
3 is a graph showing the relationship between the relative luminance (%) and the thickness of the back phosphor layer (μm) in the configuration of FIG.
【図10】蛍光体層115を模式的に拡大して示す図で
ある。FIG. 10 is a diagram schematically showing an enlarged phosphor layer 115;
【図11】(a)は、ランプ1000の断面図であり、
(b)は、(a)の等価回路である。FIG. 11A is a cross-sectional view of the lamp 1000;
(B) is an equivalent circuit of (a).
【図12】ランプ1000におけるランプ電圧(200
V/div)とランプ電流(10mA/div)との関
係を示すグラフである。FIG. 12 shows a lamp voltage (200
5 is a graph showing a relationship between V / div) and a lamp current (10 mA / div).
【図13】真空紫外域におけるキセノンの発光過程を説
明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining a light emission process of xenon in a vacuum ultraviolet region.
10 放電容器 11 前面基板(前面ガラス基板) 12 背面基板(背面ガラス基板) 13 電極 14 誘電体層 15 蛍光体層(発光層) 16 希ガス(封止ガス) 17 フリットガラス 18 ガラス基板スペーサー 19 排気管 20 ランプ点灯用電源 30 コンデンサ 100 発光デバイス(平板蛍光ランプ) 110 放電容器 111 前面ガラス基板 112 背面ガラス基板 113 電極 114 誘電体層 115 蛍光体層 116 希ガス(封止ガス) 117 フリットガラス 118 ガラス基板スペーサー 1000 発光デバイス(平板蛍光ランプ) Reference Signs List 10 discharge vessel 11 front substrate (front glass substrate) 12 rear substrate (back glass substrate) 13 electrode 14 dielectric layer 15 phosphor layer (light emitting layer) 16 rare gas (sealing gas) 17 frit glass 18 glass substrate spacer 19 exhaust Tube 20 Lamp lighting power supply 30 Capacitor 100 Light emitting device (flat fluorescent lamp) 110 Discharge vessel 111 Front glass substrate 112 Back glass substrate 113 Electrode 114 Dielectric layer 115 Phosphor layer 116 Rare gas (sealing gas) 117 Frit glass 118 Glass Substrate spacer 1000 Light emitting device (flat fluorescent lamp)
フロントページの続き (72)発明者 川▲崎▼ 充晴 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 松岡 富造 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 猪野原 誠 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C043 AA02 BB04 CD19 Continuing on the front page (72) Inventor Kawasaki Mitsuharu 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 72) Inventor Makoto Inohara 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F term (reference) 5C043 AA02 BB04 CD19
Claims (8)
向して配置された背面基板とから構成された密閉型の放
電容器と、 前記放電容器内に封入された希ガスと、 前記前面基板および前記背面基板のそれぞれの内面上に
形成され、交番電圧が印加される電極と、 前記電極を覆うように前記前面基板および前記背面基板
のそれぞれの前記内面上に形成された誘電体層と、 前記誘電体層上に形成された蛍光体層とを備えた発光デ
バイスであって、 前記前面基板上の前記誘電体層の上に位置する前面蛍光
体層が有する第1静電容量と、前記背面基板上の前記誘
電体層の上に位置する背面蛍光体層が有する第2静電容
量とは互いに異なり、 前記前面基板上の前記誘電体層および前記前面蛍光体層
が有する第1合成静電容量と、前記背面基板上の前記誘
電体層および前記背面蛍光体層が有する第2合成静電容
量とは実質的に等しい、発光デバイス。A closed gas discharge vessel comprising a light-transmitting front substrate, a rear substrate disposed opposite to the front substrate, a rare gas sealed in the discharge container, An electrode formed on the inner surface of each of the front substrate and the rear substrate, to which an alternating voltage is applied; and a dielectric layer formed on the inner surface of each of the front substrate and the rear substrate so as to cover the electrode A light emitting device comprising: a phosphor layer formed on the dielectric layer; a first capacitance of the front phosphor layer located on the dielectric layer on the front substrate; A second capacitance that is different from a second capacitance of a rear phosphor layer located on the dielectric layer on the rear substrate, and a first capacitance of the dielectric layer and the front phosphor layer that are on the front substrate. The combined capacitance and the A light emitting device, wherein the dielectric layer and the back phosphor layer have substantially the same second combined capacitance.
両者のうち合成静電容量の小さい方を大きい方で割った
値は、1以下0.86以上であることを特徴とする、請
求項1に記載の発光デバイス。2. A value obtained by dividing a smaller one of the first combined capacitance and the second combined capacitance by a larger one of the first combined capacitance and the second combined capacitance is not more than 1 and not less than 0.86. The light emitting device according to claim 1, wherein:
によって規定されるランプ全体の静電容量は、1pF/
cm2〜50pF/cm2である、請求項1または2に記
載の発光デバイス。3. The capacitance of the entire lamp defined by the first combined capacitance and the second combined capacitance is 1 pF /
The light emitting device according to claim 1, wherein the light emitting device has a cm 2 to 50 pF / cm 2 .
蛍光体層の比誘電率とは等しく、 前記前面蛍光体層の厚さは、前記背面蛍光体層の厚さよ
りも薄いことを特徴とする、請求項1から3の何れか一
つに記載の発光デバイス。4. The dielectric constant of the front phosphor layer and the dielectric constant of the back phosphor layer are equal, and the thickness of the front phosphor layer is smaller than the thickness of the back phosphor layer. The light-emitting device according to claim 1, wherein the light-emitting device is a light-emitting device.
くとも一方は、前記第1合成静電容量と前記第2合成静
電容量とを実質的に等しく調整するコンデンサに直列に
接続されている、請求項1から4の何れか一つに記載の
発光デバイス。5. At least one of the front substrate and the rear substrate is connected in series to a capacitor that adjusts the first combined capacitance and the second combined capacitance substantially equal. Item 5. The light emitting device according to any one of Items 1 to 4.
電極またはメッシュ状の電極であり、 前記前面基板上の前記電極の総面積は、前記背面基板上
の前記電極の総面積よりも小さい請求項1から5の何れ
か一つに記載の発光デバイス。6. The electrode is a plurality of linear electrodes or mesh electrodes parallel to each other, and a total area of the electrodes on the front substrate is smaller than a total area of the electrodes on the rear substrate. The light emitting device according to claim 1.
電極またはメッシュ状の電極であり、 前記前面基板上の誘電体層は、前記電極間に位置する領
域において、前記電極上に位置する誘電体層の厚さの5
0%以下0%以上の部分を有している、請求項1から6
の何れか一つに記載の発光デバイス。7. The electrode is a plurality of linear electrodes or mesh electrodes parallel to each other, and the dielectric layer on the front substrate is located on the electrode in a region located between the electrodes. 5 of dielectric layer thickness
7. The method according to claim 1, wherein said portion has a portion of 0% or less and 0% or more.
The light-emitting device according to any one of the above.
電極またはメッシュ状の電極であり、 前記誘電体層上に形成された蛍光体層は、前記電極の上
方に位置する領域において、前記電極間に位置する前記
誘電体層上に形成された蛍光体層の厚さに対して5%以
上95%以下の厚さを有する部分を有している、請求項
1から7の何れか一つに記載の発光デバイス。8. The electrode may be a plurality of linear electrodes or mesh electrodes parallel to each other, and the phosphor layer formed on the dielectric layer may be formed in a region located above the electrode. 8. The device according to claim 1, further comprising a portion having a thickness of 5% or more and 95% or less with respect to the thickness of the phosphor layer formed on the dielectric layer located between the electrodes. A light-emitting device according to any one of the above.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2007141963A1 (en) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Panasonic Corporation | Dielectric barrier discharge lamp, backlight device, and liquid crystal display |
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