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JP2001522785A - ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む光安定性化粧製剤 - Google Patents

ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む光安定性化粧製剤

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JP2001522785A
JP2001522785A JP2000520096A JP2000520096A JP2001522785A JP 2001522785 A JP2001522785 A JP 2001522785A JP 2000520096 A JP2000520096 A JP 2000520096A JP 2000520096 A JP2000520096 A JP 2000520096A JP 2001522785 A JP2001522785 A JP 2001522785A
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JP
Japan
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cosmetic preparation
inorganic particles
butylmethoxydibenzoylmethane
cosmetic
insoluble inorganic
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Application number
JP2000520096A
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English (en)
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クーツ、テクラ
ヴィラ、ドロテエ
ヒッツェル、ザビン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、有機光保護フィルターブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む化粧製剤の光安定性を向上させるための、UVA光線を吸収する不溶性無機粒子の使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 本発明は、特に、化粧製剤中における有機光保護フィルターブチルメトキシジ
ベンゾイルメタンの光安定性を向上させるための、UVA領域において吸光する
不溶性無機粒子の使用に関する。
【0002】 (背景技術) 知れているように、皮膚は太陽光線に感受性があり、太陽光線は一般的な日焼
けまたは紅斑を、または強度もしくは弱度の熱傷も引き起こし得る。
【0003】 しかしながら、太陽光線は、他のマイナス効果も有しており、皮膚の弾性を失
わせ、皺を形成させ、よって早期老化を引き起こす。ある場合には、皮膚病も観
察され得る。極端な場合、一部の人達に皮膚ガンを発生させる。
【0004】 知られているように、太陽光線の大部分の危険な部分は、400nmより低い
波長を有する紫外線により形成される。太陽放射線の一部を吸収する地球環境に
おけるオゾン層の存在の結果として、地球表面に達する紫外線の低限は薬280
nmであることも知られている。
【0005】 しかしながら、多くの日焼け止め製剤の問題は、多くの光保護フィルターが感
受性材料であり、紫外線に対して安定性が低く、高いまたは低い割合で分解する
ことである。これにより、対応する化粧製剤の貯蔵期間および効果の問題が生じ
る。これらの製剤は、長い日光照射中に永続的効果は示さず、それは一定間隔で
皮膚に繰り返し適用する必要性を意味している。
【0006】 化粧品において今日一般的に用いられている太陽保護フィルターは、UVAフ
ィルターとUVBフィルターとに分けられる。両方のUV領域のために、専門文
献には多くの化合物が試され試験されていることが知られているが、そこに引用
されている化合物は、単に例としてEusolex(登録商標)6300または
Eusolex(登録商標)232のようなジベンゾイルメタン類、Eusol
ex(登録商標)9020またはEusolex(登録商標)8020のような
ベンゾフェノン類およびオクチルトリアゾン(Uvinul(登録商標)T15
0)のみである。
【0007】 ブチルメトキシジベンゾイルメタン(BMDM,Eusolex(登録商標)
9020)は頻繁に使用されるUVAフィルターであるが、UV照射により著し
く劣化する。この物質を、製剤中において他の有機UVAフィルターと共に加工
した場合、BMDMの安定性は増加しない。
【0008】 従って、今でも、光保護フィルターBMDMを安定化させるために製剤に添加
することができるが、作用に有害とはならない物質、および化粧製剤の組成物は
無い。
【0009】 従って、光保護フィルターに関してより安定であり、少なくとも光保護フィル
ターブチルメトキシジベンゾイルメタンを含み、また、皮膚を焼くが老化も起こ
し紅斑反応も発生させ易いまたは特定の個体においてこの反応を高める又は光毒
性もしくは光アレルギー性反応も引き起こし得る波長が320〜400nmのU
VA光線を多量に吸収することができるが、要すれば、日光紅斑の形成に決定的
役割を果たす280〜320nmの波長を有するUVB光線を吸収することもで
きる、化粧製剤の提供が望まれているようである。
【0010】 驚くべきことに、我々は、UVA領域に優れた吸収を有する不溶性無機粒子を
添加すると、ブチルメトキシジベンゾイルメタンの光安定性が増加することを発
見した。
【0011】 これらの物質は、皮膚に対して毒性またはアレルギー性反応を示さないという
大きな利点を有する。
【0012】 無機UVAフィルターの効果は、不溶性物質であるが、皮膚を透過することが
できず、その結果、皮膚の層中に残るという事実に起因する。BMDMは、有機
分子であり、皮膚角質の最上層中に拡散し、これは、1回の製剤塗布により、2
層系が形成されることを示している。従って、下側層、すなわちブチルメトキシ
ジベンゾイルメタンには比較的少量のエネルギーしか到達せず、有機光保護フィ
ルターの劣化が低減される。
【0013】 この透過効果は、例えば、ジメチルスルホキシドまたはジエチルトルアミドの
ような透過促進剤の使用によりさらに高められる。
【0014】 (発明の開示) すなわち、本発明は、化粧製剤中の光保護フィルターブチルメトキシジベンゾ
イルメタンの光安定性を向上させるようにUVA領域で吸光する不溶性無機粒子
の使用を提供する。
【0015】 これらの粒子は、主に、ルチル形状の微小二酸化チタンを含むが、アナターゼ
形状のもの、微小な酸化鉄、酸化セリウムまたは酸化亜鉛でもあり得る。これら
の粒子の粒径は、10nm〜100μm、好ましくは10nm〜10μmの範囲
である。
【0016】 本発明の非常に特別に好ましい態様において、10μmまでの粒径を有する二
酸化チタンミクロルチルが使用される。この二酸化チタンミクロルチルは、Eu
solex(登録商標)T−2000の名で知られており、市販されている(ダ
ルムシュタット在Merck KGaA製)。ルチル形状の微小二酸化チタンは
、非常に優れたUVA吸収を有し、本発明によるBMDMの光安定性のために特
に高度に適している。
【0017】 例えば、セリルムまたは鉄イオンをドープした不溶性二酸化チタン粒子を用い
ることも可能である。
【0018】 本発明は、光保護フィルターブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む化粧製
剤であって、この光保護フィルターの光安定性を向上させるために、UVA領域
における良好な吸収を有する不溶性無機粒子が添加されていることを特徴とする
化粧製剤も提供する。
【0019】 本発明は、さらに、化粧製剤中におけるブチルメトキシジベンゾイルメタンの
光安定性を向上させる方法であって、不溶性無機UVAフィルター粒子を添加す
ることを特徴とする方法を提供する。
【0020】 本発明による化粧製剤中のブチルメトキシジベンゾイルメタンの含量は、好ま
しくは0.1〜10重量%、特に好ましくは0.5〜3重量%である。
【0021】 無機粒子の含量は0.1〜30重量%、特に好ましくは0.5〜10重量%で
ある。
【0022】 光保護フィルターブチルメトキシジベンゾイルメタンは、それ自体が、または
、各場合に0.01〜40重量%、好ましくは0.1〜10重量%の量で存在す
ることができる異なる種類の物質からの1種以上のUVフィルターと組み合わせ
て、本発明による化粧製剤中に存在することができる。
【0023】 対応する微小顔料は既知であり、市場で、例えば、ダルムシュタット在Mer
ck KGaAから入手することができる。
【0024】 これらは、毒性、アレルギー性または感作性を引き起こすことの無い非常に優
れた皮膚および粘膜適合性、および皮膚不透過性のような優れた特性を示す。
【0025】 この物質は高い化学的安定性も有する、すなわち、加水分解、光酸化または酸
化を引き起こさず、高い熱安定性および優れた耐汗性を有する。
【0026】 さらに、この物質は、一般的化粧および薬剤組成物ベースと高度の適合性およ
び混和性を有する。
【0027】 本発明は、さらに、本発明の化粧製剤が皮膚に適用される、皮膚を太陽光線か
ら保護する方法を提供する。
【0028】 本発明の製剤は、皮膚の炎症およびアレルギーの予防的治療のために、および
特定の種類のガンを予防するために用いることもできる。
【0029】 本発明の好ましい態様において、化粧製剤は、最初に適用される一方の製剤は
ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含み、続いて適用される第2の製剤は無機
粒子を含む一組の2つの別々の製剤からなる。これは、直ぐに望ましい2層系を
形成する。
【0030】 本発明の化粧製剤は、UV光線に対してヒトの表皮を保護するために用いる場
合、このタイプについて一般的に用いられる種々の形状を採る。例えば、これは
、特に、油性、油性水性、水性アルコール性、または油性アルコール性のローシ
ョン、エマルジョン、例えばクリームまたはミルク(W/OまたはO/W、ここ
でWは水、Oは油)の状態、油性アルコール性、油性水性または水性アルコール
性ゲルの状態、または固形スティックもしくは粉末として、あるいはスプレーも
しくはエアロゾルとして調製することができる。
【0031】 本発明の製剤は、例えば、増粘剤、軟化剤、加湿剤、界面活性剤、防腐剤、抑
泡剤、香料、ワックス、ラノリン、噴射剤、組成物そのものもしくは皮膚を着色
する染料および/または顔料、ならびに化粧品において一般的に用いられる他の
成分のような、この種の製剤において一般的に用いられているさらなる化粧用添
加剤を含むことができる。
【0032】 可溶化剤は、油、ワックスまたは他の脂肪物質、低級モノアルコール、または
低級ポリオール、あるいはそれらの混合物であり得る。特に好ましいモノアルコ
ールまたはポリオールは、エタノール、イソプロパノール、プロピレングリコー
ル、グリセロールおよびソルビトールを含む。
【0033】 本発明の好ましい態様は、保護クリームまたはミルクの状態であると共に、有
機光保護剤および無機UVAフィルターに加えて、脂肪アルコール、脂肪酸エス
テル、特に、脂肪酸のトリグリセリド、脂肪酸、ラノリン、天然または合成の油
もしくはワックス、および乳化剤を、水の存在下に含むエマルジョンである。
【0034】 さらに好ましい態様は、天然または合成の油およびワックス、ラノリン、脂肪
酸エステル、特に、脂肪酸のトリグリセリドに基づく油性ローション、または、
エタノールのような低級アルコール、プロピレングリコールのようなグリコール
、および/または、グリセロールのようなポリオール、および油、ワックス、お
よび脂肪酸のトリグリセリドのような脂肪酸エステルに基づく油性アルコール性
ローションである。
【0035】 本発明の化粧製剤は、エタノール、プロピレングリコールまたはグリセロール
のような低級アルコールまたはポリオールの1種以上、および珪藻土のような増
粘剤を含むアルコール性ゲルの状態でもあり得る。油性アルコール性ゲルは、天
然または合成の油またはワックスも含む。
【0036】 固形スティックは、天然または合成のワックスおよび油、脂肪アルコール、脂
肪酸、脂肪酸エステル、ラノリンおよび他の脂肪物質からなる。
【0037】 製剤がエアロゾルとして調製される場合、アルカン、フルオロアルカンおよび
クロロフルオロアルカンのような一般的噴射剤が用いられる。
【0038】 製剤をスプレーとして調製する場合、水性アルコール性溶液が用いられる。
【0039】 本発明の一般的製剤は、当業者に良く知られている技術を用いて調製すること
ができる。
【0040】 当業者は、さらに説明することなく前記記載を最も広い意味で利用し得ると考
えられる。従って、好ましい態様は、説明的開示としてのみ示され、決して限定
的なものではない。
【0041】 前記および下記の全ての出願、特許および公報の全ての開示を、参考のために
本出願に取り込む。
【0042】 (実施例) 以下の実施例は本発明をより詳細に説明するために役立つ。しかしながら、こ
れらは、本発明の実質的課題を与えられた実施例に限定するものではない。
【0043】 実施例1 以下の成分を用いて本発明の日焼け止めクリーム(O/W)を調製する。
【0044】 重量% (A) Eusolex(登録商標)9020(製品番号105844)(ブチルメト
キシジベンゾイルメタン) (1) 1.00 Eusolex(登録商標)T−2000(製品番号105373) (1) 5.00 Arlatone983S (2) 1.50 Arlatone985 (2) 2.20 Brij76 (2) 1.50 Miglyol812天然油 (3) 10.00 (B) ソルビトールF液(製品番号102993) (1) 2.50 1,2−プロパンジオール(製品番号107478) (1) 2.50 防腐剤 (1) 適量 脱イオン水 100にする残量 (C) Carbomer934 (4) 0.50 (D) トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(製品番号108386) (1) 0.36 脱イオン水 9.64
【0045】 [調製] 相Bを混合し、Carbomer934を添加し、混合物を均質になるまで膨
潤させる。次に、予備混合相Dを加え、混合物を均質化する。次に、80℃で加
熱する。相Aを併せ、75℃で加熱する。ゆっくり攪拌しつつ、相Aを、B〜D
から予め調製された層に攪拌混入する。
【0046】 [防腐剤] 4−ヒドロキシ安息香酸プロピル(製品番号107427) 0.05% 4−ヒドロキシ安息香酸メチル(製品番号106757) 0.15%
【0047】 [供給源] ダルムシュタット在Merck KGaA エッセン在ICI ヴィッテン在Huels Troisdorf AG ノイス在Goodrich
【0048】 実施例2 以下の成分を用いて、2つの別々の製剤からなる本発明の日焼け止めクリーム
(O/W)を調製する。
【0049】 [製剤I] 重量% (A) Eusolex(登録商標)T−2000(製品番号105373) (1) 5.00 Arlatone983S (2) 1.50 Arlatone985 (2) 2.20 Brij76 (2) 1.50 Miglyol812天然油 (3) 10.00 (B) ソルビトールF液(製品番号102993) (1) 2.50 1,2−プロパンジオール(製品番号107478) (1) 2.50 防腐剤 (1) 適量 脱イオン水 100にする残量 (C) Carbomer934 (4) 0.50 (D) トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(製品番号108386) (1) 0.36 脱イオン水 9.64
【0050】 [調製] 相Bを混合し、Carbomer934を添加し、混合物を均質になるまで膨
潤させる。次に、予備混合相Dを加え、混合物を均質化する。次に、80℃で加
熱する。相Aを併せ、75℃で加熱する。ゆっくり攪拌しつつ、相Aを、B〜D
から予め調製された相に攪拌混入する。
【0051】 [防腐剤] 4−ヒドロキシ安息香酸プロピル(製品番号107427) 0.05% 4−ヒドロキシ安息香酸メチル(製品番号106757) 0.15% [製剤II] 重量% (A) Eusolex(登録商標)9020(製品番号105844) (1) 5.00 Arlatone983S (2) 1.50 Arlatone985 (2) 2.20 Brij76 (2) 1.50 Miglyol812天然油 (3) 10.00 (B) ソルビトールF液(製品番号102993) (1) 2.50 1,2−プロパンジオール(製品番号107478) (1) 2.50 防腐剤 (1) 適量 脱イオン水 100にする残量 (C) Carbomer934 (4) 0.50 (D) トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(製品番号108386) (1) 0.36 脱イオン水 9.64
【0052】 [調製] 相Bを混合し、Carbomer934を添加し、混合物を均質になるまで膨
潤させる。次に、予備混合相Dを加え、混合物を均質化するまで膨潤させる。次
に、80℃で加熱する。相Aを併せ、75℃で加熱する。ゆっくり攪拌しつつ、
相Aを、B〜Dから予め調製された層に攪拌混入する。
【0053】 [防腐剤] 4−ヒドロキシ安息香酸プロピル(製品番号107427) 0.05% 4−ヒドロキシ安息香酸メチル(製品番号106757) 0.15%
【0054】 [供給源] ダルムシュタット在Merck KGaA エッセン在ICI ヴィッテン在Huels Troisdorf AG ノイス在Goodrich 2つの製剤を別々の容器に入れる。適用については、製剤Iをまず皮膚に塗布
し、次に製剤IIを塗布する。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成11年12月3日(1999.12.3)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 Frankfurter Str. 250, D−64293 Darmstadt,Fed eral Republic of Ge rmany (72)発明者 ヴィラ、ドロテエ ドイツ連邦共和国 デー−64291 ダルム シュタット イン デン ヴィンガーテン 29 (72)発明者 ヒッツェル、ザビン ドイツ連邦共和国 デー−64409 メッセ ル ランガッセ 34 Fターム(参考) 4C083 AA122 AB211 AB212 AB231 AB232 AB241 AB242 AC122 AC132 AC211 AC212 AC482 AC542 BB26 BB46 CC19 DD33 EE17

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光保護フィルターとしてブチルメトキシジベンゾイルメタン
    を含む化粧製剤であって、光安定性の向上のために、UVA領域において吸光す
    る不溶性無機粒子が添加されていることを特徴とする化粧製剤。
  2. 【請求項2】 その中に存在する不溶性無機粒子が二酸化チタン、酸化鉄、
    酸化セリウムおよび酸化亜鉛からなる群より選択される微小粒子である請求項1
    に記載の化粧製剤。
  3. 【請求項3】 不溶性無機粒子の粒径が10nm〜100μmである請求項
    1または2に記載の化粧製剤。
  4. 【請求項4】 その中に存在する不溶性無機粒子が、粒径が10μmまでで
    ある二酸化チタンミクロルチルである請求項1に記載の化粧製剤。
  5. 【請求項5】 化粧製剤中の無機粒子の含量が0.1〜30重量%である請
    求項1〜4の1以上に記載の化粧製剤。
  6. 【請求項6】 化粧製剤中のブチルメトキシジベンゾイルメタンの含量が0
    .1〜10重量%である請求項1〜5のいずれかに記載の化粧製剤。
  7. 【請求項7】 一方の製剤はブチルメトキシジベンゾイルメタンを含み、第
    2の製剤は無機粒子を含む一組の2つの別々の製剤からなる請求項1〜6のいず
    れかに記載の化粧製剤。
  8. 【請求項8】 化粧製剤中における光保護フィルターブチルメトキシジベン
    ゾイルメタンの光安定性を向上させるための、UVA領域において吸光する不溶
    性無機粒子の使用。
  9. 【請求項9】 請求項1〜7の化粧製剤の調製のための、請求項8のUVA
    領域において吸光する不溶性無機粒子の使用。
JP2000520096A 1997-11-12 1998-10-31 ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む光安定性化粧製剤 Pending JP2001522785A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19750030.7 1997-11-12
DE19750030A DE19750030A1 (de) 1997-11-12 1997-11-12 Lichtstabile kosmetische Formulierung enthaltend Butylmethoxydibenzoylmethan
PCT/EP1998/006902 WO1999024000A2 (de) 1997-11-12 1998-10-31 Lichtstabile kosmetische formulierung enthaltend butylmethoxydibenzoylmethan

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001522785A true JP2001522785A (ja) 2001-11-20

Family

ID=7848429

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000520096A Pending JP2001522785A (ja) 1997-11-12 1998-10-31 ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含む光安定性化粧製剤

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6436374B1 (ja)
EP (1) EP1030649B1 (ja)
JP (1) JP2001522785A (ja)
DE (2) DE19750030A1 (ja)
ES (1) ES2187072T3 (ja)
WO (1) WO1999024000A2 (ja)

Cited By (1)

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