JP2001337284A - 光導波路アレイを用いた光学装置 - Google Patents
光導波路アレイを用いた光学装置Info
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- JP2001337284A JP2001337284A JP2000156136A JP2000156136A JP2001337284A JP 2001337284 A JP2001337284 A JP 2001337284A JP 2000156136 A JP2000156136 A JP 2000156136A JP 2000156136 A JP2000156136 A JP 2000156136A JP 2001337284 A JP2001337284 A JP 2001337284A
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- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract 4
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 7
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】近接したビーム径とビーム形状の揃った複数の
ビームを発生させることが可能な光学装置を提供する。 【解決手段】複数のレーザ光は光導波路アレイ(9)から
出射し、光導波路アレイから出射する複数のビームは結
合レンズ(8)によりコリメートされ、結合レンズの像面
焦点位置に絞り(7)を設けた。
ビームを発生させることが可能な光学装置を提供する。 【解決手段】複数のレーザ光は光導波路アレイ(9)から
出射し、光導波路アレイから出射する複数のビームは結
合レンズ(8)によりコリメートされ、結合レンズの像面
焦点位置に絞り(7)を設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のビームで高
速に光記録するレーザプリンタ、光ディスク装置等の光
学装置に関するものである。
速に光記録するレーザプリンタ、光ディスク装置等の光
学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光記録装置である例えばレーザプリンタ
では、高速、高解像度化が要求されるようになり、一本
ビームの場合ではポリゴンミラーの回転速度、レーザ光
の変調速度などが限界を超えるようになってきた。その
ため複数本のビームを用いることが必要となってきてい
る。
では、高速、高解像度化が要求されるようになり、一本
ビームの場合ではポリゴンミラーの回転速度、レーザ光
の変調速度などが限界を超えるようになってきた。その
ため複数本のビームを用いることが必要となってきてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】半導体レーザアレイは
この目的でよく用いられているが、複数ビームの本数を
多くすることは難しく、青色のレーザ光を発生するいわ
ゆる青色半導体レーザのように最新の半導体レーザをア
レイ化することも、素子作成の歩留まり、設備投資の面
から見て困難である。
この目的でよく用いられているが、複数ビームの本数を
多くすることは難しく、青色のレーザ光を発生するいわ
ゆる青色半導体レーザのように最新の半導体レーザをア
レイ化することも、素子作成の歩留まり、設備投資の面
から見て困難である。
【０００４】従って、本発明の目的は、個々の半導体レ
ーザを集積して作られる半導体レーザアレイを用いるこ
となく個々の半導体レーザを複数個用い、近接したビー
ム径とビーム形状の揃っている複数のビームを発生させ
ることが可能な光学装置を実現することにある。
ーザを集積して作られる半導体レーザアレイを用いるこ
となく個々の半導体レーザを複数個用い、近接したビー
ム径とビーム形状の揃っている複数のビームを発生させ
ることが可能な光学装置を実現することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、複数のレ
ーザ光を変調走査し、感光材料上を走査する光学装置に
おいて、前記複数のレーザ光は光導波路アレイから出射
し、光導波路アレイから出射する複数のビームは結合レ
ンズによりコリメートされ、前記結合レンズの像面焦点
位置に絞りを設けることにより達成される。
ーザ光を変調走査し、感光材料上を走査する光学装置に
おいて、前記複数のレーザ光は光導波路アレイから出射
し、光導波路アレイから出射する複数のビームは結合レ
ンズによりコリメートされ、前記結合レンズの像面焦点
位置に絞りを設けることにより達成される。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１に本発明の請求項１および２
記載に対応する実施例を示す。半導体レーザモジュール
１０は、半導体レーザ１２から発生するレーザ光を効率
よく光ファイバ１１内に導き、光ファイバ１１の出射端
面を光導波路アレイ9内の一つの光導波路内の入射端面
に溶接することにより、光ファイバ１１内の光を光導波
路内に導いている。同様にして、光導波路アレイ９内の
すべての光導波路内に個々の半導体レーザから出射され
るレーザ光を導いている。光導波路アレイから出射され
る複数のビームはコリメータレンズ８を用いてコリメー
トされ、コリメータレンズ8の像面焦点位置に、その位
置を通過する複数のビームの最小径以下の直径を持つ絞
り７を設置する。
記載に対応する実施例を示す。半導体レーザモジュール
１０は、半導体レーザ１２から発生するレーザ光を効率
よく光ファイバ１１内に導き、光ファイバ１１の出射端
面を光導波路アレイ9内の一つの光導波路内の入射端面
に溶接することにより、光ファイバ１１内の光を光導波
路内に導いている。同様にして、光導波路アレイ９内の
すべての光導波路内に個々の半導体レーザから出射され
るレーザ光を導いている。光導波路アレイから出射され
る複数のビームはコリメータレンズ８を用いてコリメー
トされ、コリメータレンズ8の像面焦点位置に、その位
置を通過する複数のビームの最小径以下の直径を持つ絞
り７を設置する。
【０００７】絞り７を通過した複数のビームは、レンズ
６、レンズ５を通過することにより、ポリゴンミラー３
上で結合される。また、ポリゴンミラー前にシリンドリ
カルレンズを設置することにより、ポリゴンミラー上で
副走査方向にビームを絞り込み、ポリゴンミラーの面倒
れ補正を行なっている。ポリゴンミラー３上を反射した
ビームは、ｆθレンズを通過した後、感光ドラム上に結
像され、走査される。
６、レンズ５を通過することにより、ポリゴンミラー３
上で結合される。また、ポリゴンミラー前にシリンドリ
カルレンズを設置することにより、ポリゴンミラー上で
副走査方向にビームを絞り込み、ポリゴンミラーの面倒
れ補正を行なっている。ポリゴンミラー３上を反射した
ビームは、ｆθレンズを通過した後、感光ドラム上に結
像され、走査される。
【０００８】図２(a)に示したように、光導波路を出射
するビームは、出射端面から離れるにしたがってビーム
径が広がり、コリメータレンズを通過することによって
コリメートされ、絞りを通過することによって、絞りの
直径と同じビーム径を持ったビーム形状の等しい複数の
ビームが絞りから出射される。
するビームは、出射端面から離れるにしたがってビーム
径が広がり、コリメータレンズを通過することによって
コリメートされ、絞りを通過することによって、絞りの
直径と同じビーム径を持ったビーム形状の等しい複数の
ビームが絞りから出射される。
【０００９】図３および図４に本発明の請求項３および
４記載に対応する実施例を示す。半導体レーザモジュー
ル１０は、半導体レーザ１２から発生するレーザ光を効
率よく光ファイバ１１内に導き、光ファイバ１１の出射
端面を光導波路アレイ９内の一つの光導波路内の入射端
面に溶接することにより、光ファイバ１１内の光を光導
波路内に導いている。同様にして、光導波路アレイ９内
のすべての光導波路内に個々の半導体レーザから出射さ
れるレーザ光を導いている。光導波路アレイの出射端面
１７には、絞りをパターニングした膜が蒸着されている
石英ガラスを、絞りの中心の位置が光導波路アレイから
出射されるビームの光軸と一致する位置で密着させ、接
着されている。絞りから出射される複数のビームはコリ
メータレンズ８を通過することによりコリメートされ、
レンズ６、レンズ５を通過することにより、ポリゴンミ
ラー３上で結合される。また、ポリゴンミラー前にシリ
ンドリカルレンズを設置することにより、ポリゴンミラ
ー上で副走査方向にビームを絞り込み、ポリゴンミラー
の面倒れ補正を行っている。
４記載に対応する実施例を示す。半導体レーザモジュー
ル１０は、半導体レーザ１２から発生するレーザ光を効
率よく光ファイバ１１内に導き、光ファイバ１１の出射
端面を光導波路アレイ９内の一つの光導波路内の入射端
面に溶接することにより、光ファイバ１１内の光を光導
波路内に導いている。同様にして、光導波路アレイ９内
のすべての光導波路内に個々の半導体レーザから出射さ
れるレーザ光を導いている。光導波路アレイの出射端面
１７には、絞りをパターニングした膜が蒸着されている
石英ガラスを、絞りの中心の位置が光導波路アレイから
出射されるビームの光軸と一致する位置で密着させ、接
着されている。絞りから出射される複数のビームはコリ
メータレンズ８を通過することによりコリメートされ、
レンズ６、レンズ５を通過することにより、ポリゴンミ
ラー３上で結合される。また、ポリゴンミラー前にシリ
ンドリカルレンズを設置することにより、ポリゴンミラ
ー上で副走査方向にビームを絞り込み、ポリゴンミラー
の面倒れ補正を行っている。
【００１０】ポリゴンミラー３上を反射したビームは、
ｆθレンズを通過した後、感光ドラム上に結像され、走
査される。なお、石英ガラス１５上の蒸着膜１４は、光
導波路アレイ９から出射さえるビームを透過させないア
ルミまたはクロムなどにする。
ｆθレンズを通過した後、感光ドラム上に結像され、走
査される。なお、石英ガラス１５上の蒸着膜１４は、光
導波路アレイ９から出射さえるビームを透過させないア
ルミまたはクロムなどにする。
【００１１】図５に示したように、光導波路アレイから
出射される複数のビームは、絞りを通過することによ
り、ビーム径、ビーム形状の揃ったビームとして出射さ
れる。
出射される複数のビームは、絞りを通過することによ
り、ビーム径、ビーム形状の揃ったビームとして出射さ
れる。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、光
導波路アレイを用いた光記録装置において、光導波路ア
レイから出射される複数のビームをコリメーターレンズ
を用いてコリメートし、コリメーターレンズの像面焦点
位置にその位置を通過する複数のビームの最小径以下の
直径を持つ絞りを設置する。または、光導波路アレイの
出射端面に、絞りをパターニングした膜が蒸着されてい
る石英ガラスを、絞りの中心の位置が光導波路アレイか
ら出射されるビームの光軸と一致する位置で密着させ接
着する。このようにすることで、絞りを通過する複数の
ビームのビーム径とビーム形状を揃えることができる。
導波路アレイを用いた光記録装置において、光導波路ア
レイから出射される複数のビームをコリメーターレンズ
を用いてコリメートし、コリメーターレンズの像面焦点
位置にその位置を通過する複数のビームの最小径以下の
直径を持つ絞りを設置する。または、光導波路アレイの
出射端面に、絞りをパターニングした膜が蒸着されてい
る石英ガラスを、絞りの中心の位置が光導波路アレイか
ら出射されるビームの光軸と一致する位置で密着させ接
着する。このようにすることで、絞りを通過する複数の
ビームのビーム径とビーム形状を揃えることができる。
【図１】本発明の一実施例を示す模式図。
【図２】図１の構成における絞り部分の詳細図。
【図３】本発明の他の実施例を示す模式図。
【図４】図３の構成における光導波路アレイおよび絞り
部分の詳細図。
部分の詳細図。
【図５】図３の構成における絞り部分の詳細図。
１…感光ドラム、２…ｆθレンズ、３…ポリゴンミラ
ー、４…シリンドリカルレンズ、５,６…レンズ、７,１
３…絞り、８…コリメータレンズ、９…光導波路アレ
イ、１０…半導体レーザモジュール、１１…光ファイ
バ、１２…半導体レーザ、１４…蒸着膜、１５…石英ガ
ラス板、１６…光導波路、１７…出射端面、１８…光
軸。
ー、４…シリンドリカルレンズ、５,６…レンズ、７,１
３…絞り、８…コリメータレンズ、９…光導波路アレ
イ、１０…半導体レーザモジュール、１１…光ファイ
バ、１２…半導体レーザ、１４…蒸着膜、１５…石英ガ
ラス板、１６…光導波路、１７…出射端面、１８…光
軸。
Claims (4)
- 【請求項１】 複数のレーザ光を変調走査し、感光材料
上を走査する光学装置において、前記複数のレーザ光は
光導波路アレイから出射し、光導波路アレイから出射す
る複数のビームは結合レンズによりコリメートされ、前
記結合レンズの像面焦点位置に絞りを設けたことを特徴
とする光導波路アレイを用いた光学装置。 - 【請求項２】 前記絞りの直径を、絞りを通過する複数
のビームの最小径以下に設定したことを特徴とする請求
項１記載の光導波路アレイを用いた光学装置。 - 【請求項３】 複数のレーザ光を変調走査し、感光材料
上を走査する光学装置において、前記複数のレーザ光は
光導波路アレイから出射し、光導波路アレイの出射端面
には、絞りをパターニングした膜が形成されているガラ
ス板を接着したことを特徴とする光導波路アレイを用い
た光学装置。 - 【請求項４】前記絞りの直径を、絞りを通過する複数の
ビームの最小径以下に設定したことを特徴とする請求項
３記載の光導波路アレイを用いた光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000156136A JP4327991B2 (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | 光導波路アレイを用いた光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000156136A JP4327991B2 (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | 光導波路アレイを用いた光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001337284A true JP2001337284A (ja) | 2001-12-07 |
| JP4327991B2 JP4327991B2 (ja) | 2009-09-09 |
Family
ID=18660965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000156136A Expired - Fee Related JP4327991B2 (ja) | 2000-05-26 | 2000-05-26 | 光導波路アレイを用いた光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4327991B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007079426A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Ricoh Printing Systems Ltd | 光記録装置 |
| JP2007192896A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Ricoh Printing Systems Ltd | マルチビーム光源およびその製造方法ならびに光走査装置、画像形成装置 |
| US7327664B2 (en) | 2003-04-25 | 2008-02-05 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Optical recording apparatus |
-
2000
- 2000-05-26 JP JP2000156136A patent/JP4327991B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7327664B2 (en) | 2003-04-25 | 2008-02-05 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Optical recording apparatus |
| JP2007079426A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Ricoh Printing Systems Ltd | 光記録装置 |
| JP2007192896A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Ricoh Printing Systems Ltd | マルチビーム光源およびその製造方法ならびに光走査装置、画像形成装置 |
| US7477813B2 (en) | 2006-01-17 | 2009-01-13 | Ricoh Printing Systems, Ltd. | Multi-beam light source, method for manufacturing the same, light scanning unit using the same, and image forming apparatus using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4327991B2 (ja) | 2009-09-09 |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080704 |
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