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JP2001329379A - Metal surface treatment agent, surface treatment method for metal material, and surface treated metal material - Google Patents

Metal surface treatment agent, surface treatment method for metal material, and surface treated metal material

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Publication number
JP2001329379A
JP2001329379A JP2000145564A JP2000145564A JP2001329379A JP 2001329379 A JP2001329379 A JP 2001329379A JP 2000145564 A JP2000145564 A JP 2000145564A JP 2000145564 A JP2000145564 A JP 2000145564A JP 2001329379 A JP2001329379 A JP 2001329379A
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JP
Japan
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group
metal
compound
metal surface
treating agent
Prior art date
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Application number
JP2000145564A
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Japanese (ja)
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JP2001329379A5 (en
Inventor
Ryosuke Sako
良輔 迫
Keiichi Ueno
圭一 上野
Mayumi Yamamoto
真由美 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Parkerizing Co Ltd
Original Assignee
Nihon Parkerizing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Nihon Parkerizing Co Ltd filed Critical Nihon Parkerizing Co Ltd
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Priority to KR1020010017702A priority patent/KR20010106176A/en
Priority to CNB011105046A priority patent/CN1195025C/en
Publication of JP2001329379A publication Critical patent/JP2001329379A/en
Publication of JP2001329379A5 publication Critical patent/JP2001329379A5/ja
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D125/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D125/18Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen

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  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
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  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属材料に優れた耐食性(平面部、加工部、
キズ部)を付与するために用いるクロムを含まない金属
表面処理剤、金属表面処理方法、表面処理された金属材
料を提供することを目的とする。 【解決手段】 分子中に共鳴構造を有する有機化合物で
あって、かつ親電子反応性の官能基(a1)、及びリン
酸基、ホスホン酸基、シラノール基、アルコキシシリル
基、メルカプト基及びスルホニウム基から選ばれる少な
くとも1種の官能基(a2)から選ばれる少なくとも1
種の官能基(a)を有する有機化合物(A)を含有する
金属表面処理剤、及び金属表面処理方法及び表面処理さ
れた金属材料。
(57) [Summary] [PROBLEMS] Excellent corrosion resistance for metal materials (planar parts, processed parts,
It is an object of the present invention to provide a chromium-free metal surface treatment agent, a metal surface treatment method, and a surface-treated metal material used for imparting a flaw. SOLUTION: This is an organic compound having a resonance structure in a molecule and having an electrophilic functional group (a1), a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a silanol group, an alkoxysilyl group, a mercapto group and a sulfonium group. At least one selected from at least one functional group (a2) selected from
A metal surface treatment agent containing an organic compound (A) having a kind of functional group (a), a metal surface treatment method, and a surface-treated metal material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属を素材とした
シートコイル、成形品の表面に優れた耐食性(平面部、
加工部、キズ部)を付与でき、かつクロムを含まない皮
膜を形成させるために用いる金属表面処理剤、金属表面
処理方法、表面処理された金属材料に関する。さらに詳
しくは、本発明は、亜鉛系メッキ鋼板、鋼板、アルミニ
ウム系金属材料を素材とする自動車ボディー、自動車部
品、建材、家電用部品等の成形加工品、鋳造品、シート
コイル等に優れた耐食性(平面部、加工部、キズ部)を
付与でき、クロムを含まない皮膜を形成させるために用
いる表面処理剤、表面処理方法、表面処理された金属材
料に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sheet coil made of metal, and to a surface of a molded product having excellent corrosion resistance.
The present invention relates to a metal surface treatment agent, a metal surface treatment method, and a surface-treated metal material used for forming a film which can impart a processed portion and a flaw and which does not contain chromium. More specifically, the present invention provides excellent corrosion resistance for molded articles, cast articles, sheet coils, etc. of automobile bodies, automobile parts, building materials, parts for home appliances, etc. using zinc-based plated steel sheets, steel sheets, aluminum-based metal materials as materials. The present invention relates to a surface treatment agent, a surface treatment method, and a surface-treated metal material that can be provided with (a flat portion, a processed portion, and a flaw portion) and are used to form a chromium-free film.

【0002】[0002]

【従来の技術】亜鉛系メッキ鋼板、鋼板、アルミニウム
系金属材料等の金属材料は、大気中の酸素、水分、水分
中に含まれるイオン等によって酸化され腐食する。これ
らの腐食を防止する方法として、従来より、クロム酸ク
ロメート、リン酸クロメート等のクロムを含有する処理
液に金属材料表面を接触させてクロメート皮膜を形成さ
せる方法、クロムを含有する処理液を金属表面に塗布し
た後加熱乾燥して皮膜を形成させる塗布型クロメート処
理又は樹脂クロメート処理がある。かかるクロメート処
理を用いて形成された皮膜は耐食性、塗装密着性を有し
ているが、その処理液中に有害な6価クロムを有してい
るため廃水処理に手間やコストが掛かるほか、形成され
た皮膜中にも6価クロムを含有されているので環境面、
安全面から敬遠される傾向にある。
2. Description of the Related Art Metal materials such as galvanized steel sheets, steel sheets, and aluminum metal materials are oxidized and corroded by oxygen, moisture, ions contained in moisture, and the like in the atmosphere. As a method of preventing such corrosion, a method of forming a chromate film by contacting the surface of a metal material with a treatment solution containing chromium such as chromate chromate or phosphoric acid chromate, There is a coating type chromate treatment or a resin chromate treatment in which a film is formed by heating and drying after coating on the surface. Although the film formed by using such a chromate treatment has corrosion resistance and paint adhesion, since the treatment solution contains harmful hexavalent chromium, wastewater treatment is troublesome and costly. Environmentally friendly because hexavalent chromium is contained in the
They tend to be shunned from safety.

【0003】クロムを有さないノンクロメート処理液を
用いる方法としては、特開平7−278410号公報
に、特定構造のフェノール樹脂系重合体と酸性化合物と
を含有する金属材料表面処理用重合体組成物及び表面処
理方法、特開平8−73775号公報に、互いに異種で
かつ互いに反応し得る特定構造の反応性官能基を有する
2種以上のシランカップリング剤を含有する耐指紋性等
に優れた金属表面処理剤及び処理方法、特開平9−24
1576号公報に、特定構造のシランカップリング剤と
特定構造のフェノール樹脂系重合体とを含有する金属表
面処理剤及び処理方法、特開平10−1789号公報
に、少なくとも1個の窒素原子を有するエポキシ樹脂、
アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機高分子と特定の多
価アニオンとを含有する金属表面処理剤、処理方法及び
処理金属材料、特開平10−60233号公報に、
(1)特定構造のビスフェノールAエポキシ系樹脂を含
有する防錆剤、(2)フェノール系樹脂とそれ以外のポ
リエステル等の特定の樹脂とを混合時の固形分比が4:
1〜1:4になるように含有する防錆剤、(1)と
(2)とを用いる処理方法及び処理金属材料が開示され
ている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-278410 discloses a method for using a chromium-free non-chromate treating solution, which is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-278410. And a surface treatment method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-73775, which include two or more silane coupling agents having a reactive functional group having a specific structure which is different from each other and can react with each other. Metal surface treatment agent and treatment method, JP-A-9-24
No. 1576 discloses a metal surface treating agent containing a silane coupling agent having a specific structure and a phenolic resin-based polymer having a specific structure and a processing method. Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-1789 discloses a method having at least one nitrogen atom. Epoxy resin,
Acrylic resin, metal surface treatment agent containing an organic polymer such as urethane resin and a specific polyvalent anion, a treatment method and a treated metal material, JP-A-10-60233,
(1) a rust inhibitor containing a bisphenol A epoxy resin having a specific structure; (2) a solid content ratio of a phenolic resin and another specific resin such as polyester when mixed is 4:
Disclosed are a rust preventive contained in a ratio of 1 to 1: 4, a treatment method using (1) and (2), and a treated metal material.

【0004】亜鉛系メッキ鋼板、鋼板、アルミニウム系
金属等の金属材料シートの表面をコイルコート法により
処理する場合、コイルの巻き取り時または運送時にキズ
が発生することが多く、処理されたシートは、目的とす
る製品に成形加工する際に、切断、折り曲げ、張り出し
等を受けるため、キズ部、切断された端面、折り曲げ、
張り出し等の加工を受けた部位の腐食を抑制することが
真に必要であり、重要である。
[0004] When the surface of a metal material sheet such as a zinc-based plated steel sheet, a steel sheet, or an aluminum-based metal is treated by a coil coating method, scratches are often generated when winding or transporting the coil. In order to be cut, bent, overhanged, etc. when forming into the target product, scratches, cut end faces, bending,
It is truly necessary and important to control corrosion of parts that have undergone processing such as overhang.

【0005】しかしながら、上記したようなクロムを含
有しない金属表面処理剤の場合には、6価クロムを含有
しない利点がある反面、得られる皮膜の耐食性は従来の
クロメート皮膜に比べ劣っており、特に、処理後に生じ
た表面のキズ部、処理後に切断された端面、処理後に折
り曲げ、張り出し等の加工を受けた部位の耐食性はほと
んど無く、現状では、クロメート皮膜の代替になるよう
な皮膜を形成し得る処理剤は得られていない。
However, the metal surface treating agent containing no chromium as described above has the advantage of not containing hexavalent chromium, but the corrosion resistance of the obtained film is inferior to that of the conventional chromate film. There is almost no corrosion resistance on the scratches on the surface generated after the treatment, the end faces cut after the treatment, and the parts that have been bent, overhanged, etc. after the treatment. The resulting treating agent has not been obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記従来技術
の抱える問題を解決するために成されたものであって、
金属材料に優れた耐食性(平面部、加工部、キズ部)を
付与するために用いるクロムを含まない金属表面処理
剤、金属表面処理方法、表面処理された金属材料を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems of the prior art, and
An object of the present invention is to provide a chromium-free metal surface treatment agent, a metal surface treatment method, and a surface-treated metal material used for imparting excellent corrosion resistance (a flat portion, a processed portion, and a scratch portion) to a metal material. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決する手段について、鋭意検討した結果、特定の構造
を有する有機化合物を含有する表面処理剤を用いて金属
材料表面を処理することにより、優れた耐食性(平面
部、加工部、キズ部)を有する皮膜が形成されることを
見い出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明
の金属表面処理剤は、分子中に共鳴構造を有する有機化
合物であって、かつ親電子反応性の官能基(a1)及び
/又はリン酸基、ホスホン酸基、シラノール基、アルコ
キシシリル基、メルカプト基及びスルホニウム基から選
ばれる少なくとも1種の官能基(a2)を有する有機化
合物(A)を含有することを特徴とする。
Means for Solving the Problems The present inventors have intensively studied the means for solving the above-mentioned problems, and as a result, have found that a metal material surface is treated with a surface treating agent containing an organic compound having a specific structure. As a result, it was found that a film having excellent corrosion resistance (a flat portion, a processed portion, a scratch portion) was formed, and the present invention was completed. That is, the metal surface treating agent of the present invention is an organic compound having a resonance structure in the molecule and having an electrophilic reactive functional group (a1) and / or a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a silanol group, an alkoxysilyl group. Organic compound (A) having at least one functional group (a2) selected from a group, a mercapto group and a sulfonium group.

【0008】有機化合物(A)は芳香族化合物であるこ
とが好ましい。また、官能基(a1)は下記一般式
(1)で表され前記共鳴構造に直接結合した基、又は下
記一般式(2)で表される基であることが好ましい。 −CH2X (1) −ψ−CH2X (2) (式中、Xは−OR1、−NR23、−N+456-
又はハロゲン原子であり、R1〜R6は、互いに独立に、
水素原子、炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキル基
又は炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキ
ル基であり、A-は水酸イオン又は酸イオンであり、ψ
は電子供与的な誘因効果を有する基である)。
The organic compound (A) is preferably an aromatic compound. The functional group (a1) is preferably a group represented by the following general formula (1) and directly bonded to the resonance structure, or a group represented by the following general formula (2). —CH 2 X (1) —ψ—CH 2 X (2) (where X is —OR 1 , —NR 2 R 3 , —N + R 4 R 5 R 6 A
Or a halogen atom, and R 1 to R 6 are each independently
A hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A - is a hydroxyl ion or an acid ion;
Is a group having an electron donating inducing effect).

【0009】さらに、本発明の金属表面処理剤が、さら
なる成分として、バナジウム、ジルコニウム、チタニウ
ム、モリブデン、タングステン、マンガン及びセレンか
らなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を含む金属
化合物(B)を含有することが、皮膜の耐食性のさらな
る向上のために、好ましい。さらに、本発明の金属表面
処理剤が、さらなる成分として、重量平均分子量1,0
00〜1,000,000の有機高分子(C)を溶液又
は分散状態で含有することが、皮膜の耐食性のさらなる
向上、皮膜の耐指紋性、耐アルカリ性、耐溶剤性などの
向上のために、好ましい。さらに、本発明の金属表面処
理剤が、さらなる成分として、エッチング剤(D)を含
有することが、金属表面反応促進、皮膜の密着性増大の
ために、好ましい。
Further, the metal surface treating agent of the present invention comprises, as a further component, a metal compound (B) containing at least one metal selected from the group consisting of vanadium, zirconium, titanium, molybdenum, tungsten, manganese and selenium. It is preferable to contain it in order to further improve the corrosion resistance of the film. Further, the metal surface treating agent of the present invention comprises, as a further component, a weight average molecular weight of 1,0.
The addition of the organic polymer (C) of from 0 to 1,000,000 in a solution or dispersion state is intended to further improve the corrosion resistance of the film, and to improve the fingerprint resistance, alkali resistance and solvent resistance of the film. ,preferable. Further, it is preferable that the metal surface treating agent of the present invention contains an etching agent (D) as a further component in order to promote a metal surface reaction and increase the adhesion of a film.

【0010】本発明は、また、金属材料表面を、前記金
属表面処理剤で処理した後、前記材料の温度が50〜2
50℃になるように加熱乾燥することを特徴とする金属
材料の表面処理方法に関する。本発明は、また、前記表
面処理方法を用いて形成された皮膜を有する金属材料に
関する。
According to the present invention, the temperature of the material may be 50 to 2 after the surface of the metal material is treated with the metal surface treating agent.
The present invention relates to a method for treating a surface of a metal material, which is characterized by drying by heating to 50 ° C. The present invention also relates to a metal material having a film formed using the surface treatment method.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の表面処理剤で用いる有機
化合物(A)は共鳴構造を有する基本化合物に基a1及
び/又はa2が置換したものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The organic compound (A) used in the surface treating agent of the present invention is a basic compound having a resonance structure in which the groups a1 and / or a2 are substituted.

【0012】かかる基本化合物としては芳香族化合物、
共役ポリエン化合物等が挙げられる。芳香族化合物は、
同素環化合物及び複素環化合物を包含し、同素環化合物
としては、フェノール、クレゾール、ビスフェノール類
(ビスフェノールA、ビスフェノールF等)、ナフトー
ル等のフェノール系化合物、アニリン、ナフチルアミ
ン、トルイジン、スルファニル酸等のアニリン系化合
物、トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン系化合物
が挙げられ、複素環化合物としては、フラン、フルフリ
ルアルコール、フルフラール、クマロン等のフラン系化
合物、ピロール、インドール、カルバゾール等のピロー
ル系化合物、チオフェン、2−メチルチオフェン、チア
ナフテン等のチオフェン系化合物、オキサゾール、ベン
ゾオキサゾール等のオキサゾール系化合物、イミダゾー
ル、ベンズイミダゾール等のイミダゾール系化合物、ピ
ラゾール、インダゾール等のピラゾール系化合物、チア
ゾール、ベンゾチアゾール等のチアゾール系化合物、ト
リアゾール、ベンゾトリアゾール等のトリアゾール系化
合物、ピリジン、キノリン等のピリジン系化合物、ピリ
ミジン、キナゾリン、プテリジン等のピリミジン系化合
物、ピラジン、キノキサリン等のピラジン系化合物、ト
リアジン、メラミン、グアナミン等のトリアジン系化合
物、その他、チアミン、ピリドキシン、メナジオール等
が挙げられる。共役ポリエン化合物としては、レチノー
ル、レチネン等の共役ポリエン化合物が挙げられる。
As such a basic compound, an aromatic compound,
Conjugated polyene compounds and the like. The aromatic compound is
It includes homocyclic compounds and heterocyclic compounds, and examples of homocyclic compounds include phenol, cresol, bisphenols (bisphenol A, bisphenol F, etc.), phenolic compounds such as naphthol, aniline, naphthylamine, toluidine, sulfanilic acid, etc. Examples of the heterocyclic compound include furan compounds such as furan, furfuryl alcohol, furfural, and coumarone; pyrrole compounds such as pyrrole, indole and carbazole; and thiophene. , Thiophene-based compounds such as 2-methylthiophene and thianaphthene, oxazole-based compounds such as oxazole and benzoxazole, imidazole-based compounds such as imidazole and benzimidazole, pyrazole and indazole Pyrazole compounds such as thiazole and benzothiazole; triazole compounds such as triazole and benzotriazole; pyridine compounds such as pyridine and quinoline; pyrimidine compounds such as pyrimidine, quinazoline and pteridine; pyrazine and quinoxaline. And triazine compounds such as triazine, melamine and guanamine, and thiamine, pyridoxine and menadiol. Examples of the conjugated polyene compound include conjugated polyene compounds such as retinol and retinene.

【0013】かかる基本化合物としては、また、共鳴構
造を繰り返し構造単位の一部として含むオリゴマー、ポ
リマーが挙げられる。かかるオリゴマー、ポリマーとし
ては、前記の同素環化合物、複素環化合物をホルムアル
デヒド等のアルデヒド化合物で縮合したオリゴマー、ポ
リマー、及びポリヒドロキシスチレン、アミノ化ポリス
チレン、ポリビニルイミダゾール、ポリアセチレン等が
挙げられる。
[0013] Examples of such basic compounds include oligomers and polymers containing a resonance structure as a part of a repeating structural unit. Examples of such oligomers and polymers include oligomers and polymers obtained by condensing the above homocyclic compounds and heterocyclic compounds with aldehyde compounds such as formaldehyde, and polyhydroxystyrene, aminated polystyrene, polyvinylimidazole, and polyacetylene.

【0014】上記のごとき基本化合物に置換する親電子
反応性の官能基(a1)としては、下記一般式(1)で
表され前記共鳴構造に直接結合した基、又は下記一般式
(2)で表される基が挙げられる: −CH2X (1) −ψ−CH2X (2) (式中、Xは−OR1、−NR23、−N+456-
又はハロゲン原子であり、R1〜R6は、互いに独立に、
水素原子、炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキル基
又は炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキ
ル基であり、A-は水酸イオン又は酸イオンであり、ψ
は電子供与的な誘因効果を有する基である)。
The electrophilic reactive functional group (a1) to be substituted on the basic compound as described above is a group represented by the following general formula (1) and directly bonded to the resonance structure, or a group represented by the following general formula (2) include groups represented: -CH 2 X (1) -ψ -CH 2 X (2) ( wherein, X is -OR 1, -NR 2 R 3, -N + R 4 R 5 R 6 A -
Or a halogen atom, and R 1 to R 6 are each independently
A hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A - is a hydroxyl ion or an acid ion;
Is a group having an electron donating inducing effect).

【0015】上記でR1〜R6の定義中、炭素数1〜5の
アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基等が挙げられ、
炭素数1〜5のヒドロキシアルキル基としてはヒドロキ
シメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル
基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基等が挙
げられる。A-の定義中、酸イオンとしては、ハロゲン
イオン(塩素イオン、臭素イオン、フッ素イオン等)、
硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオン等の無機酸イオ
ン、酢酸イオン、ギ酸イオン等の有機酸イオンが挙げら
れる。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭
素原子等が挙げられる。基ψとしては−NH−、−CO
NH−(式(2)としてはこの右側にCH2Xが結合し
ている)が挙げられる。R1〜R6中のアルキル基又はヒ
ドロキシアルキル基の炭素数が5を超えると、有機化合
物(A)の処理剤中での安定性が低下するので好ましく
ない。
In the above definition of R 1 to R 6 , the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
Isopropyl group, butyl group, pentyl group and the like,
Examples of the hydroxyalkyl group having 1 to 5 carbon atoms include a hydroxymethyl group, a hydroxyethyl group, a hydroxypropyl group, a hydroxybutyl group, and a hydroxypentyl group. In the definition of A , acid ions include halogen ions (chlorine ions, bromine ions, fluorine ions, etc.),
Examples include inorganic acid ions such as sulfate ion, nitrate ion and phosphate ion, and organic acid ions such as acetate ion and formate ion. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. As the group は, -NH-, -CO
NH- (in the formula (2), CH 2 X is bonded to the right side). If the number of carbon atoms of the alkyl group or hydroxyalkyl group in R 1 to R 6 exceeds 5, the stability of the organic compound (A) in the treating agent is undesirably reduced.

【0016】上記のごとき基本化合物に置換する官能基
(a2)は、リン酸基(−OPO32、−OPO3HR
10又は−OPO3(R102)、ホスホン酸基(−PO3
2、−PO3HR11又は−PO3(R112)、シラノー
ル基(−Si(OH)3)、アルコキシシリル基(−S
iH2(OR12)、−SiH(OR122又は−Si(O
123)、メルカプト基及びスルホニウム基(−S
+(R13)(R14)B-)から選ばれる少なくとも1種の
官能基である。ここでR10〜R14は、それぞれ独立に、
炭素数1〜5のアルキル基を表し、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等が挙げら
れる。スルホニウム基中のB-は水酸イオン又は酸イオ
ンを表し、酸イオンとしてはハロゲンイオン(塩素イオ
ン、臭素イオン、フッ素イオン等)、硫酸イオン、硝酸
イオン、リン酸イオン等の無機酸イオン、酢酸イオン、
ギ酸イオン等の有機酸イオンが挙げられる。
The functional group (a2) substituted on the basic compound as described above is a phosphate group (—OPO 3 H 2 , —OPO 3 HR)
10 or —OPO 3 (R 10 ) 2 ), a phosphonic acid group (—PO 3
H 2 , —PO 3 HR 11 or —PO 3 (R 11 ) 2 ), a silanol group (—Si (OH) 3 ), an alkoxysilyl group (—S
iH 2 (OR 12 ), —SiH (OR 12 ) 2 or —Si (O
R 12 ) 3 ), a mercapto group and a sulfonium group (—S
+ (R 13 ) (R 14 ) B ) at least one type of functional group. Here, R 10 to R 14 are each independently:
Represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group. B in the sulfonium group represents a hydroxyl ion or an acid ion. Examples of the acid ion include inorganic ions such as a halogen ion (chlorine ion, bromine ion, fluorine ion), sulfate ion, nitrate ion, phosphate ion, and acetic acid. ion,
Organic acid ions such as formate ion are exemplified.

【0017】有機化合物(A)は官能基(a1)及び官
能基(a2)から選ばれる少なくとも1種の官能基
(a)を有する。かかる官能基の数としては、特に制限
ないが、共鳴混成構造(例えば、ベンゼン環、ナフタレ
ン環等の炭素環、フラン環、ピリジン環、キノリン環等
の複素環等)1個あたり、0.1〜7、特に0.2〜5
が適当である。また、かかる官能基(a1)及び官能基
(a2)の置換する位置としては、特に制限なく(−C
2Xの場合を除く)、有機化合物(A)の共鳴構造に
直接結合していても良いし、側鎖に結合していても良
い。
The organic compound (A) has at least one type of functional group (a) selected from a functional group (a1) and a functional group (a2). The number of such functional groups is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 0.1 per resonance hybrid structure (for example, a carbon ring such as a benzene ring or a naphthalene ring, a furan ring, a pyridine ring, or a heterocyclic ring such as a quinoline ring). ~ 7, especially 0.2 ~ 5
Is appropriate. In addition, the position where the functional group (a1) and the functional group (a2) are substituted is not particularly limited (-C
H 2 X), and may be directly bonded to the resonance structure of the organic compound (A), or may be bonded to a side chain.

【0018】有機化合物(A)は分子中に共鳴構造を有
し、かつ前記した少なくとも1種の官能基(a)を有し
ていればよく、特に限定されるものではないが、下記一
般式(I)、(II)又は(III)で表される化合物
であることが好ましい。
The organic compound (A) is not particularly limited as long as it has a resonance structure in the molecule and has at least one kind of the above-mentioned functional group (a). It is preferably a compound represented by (I), (II) or (III).

【0019】[0019]

【化2】 Embedded image

【0020】(一般式(I)、(II)又は(III)
において、φは共鳴混成構造を表し、Yは−OR9a、
−R9a、−Oa及び−aから選ばれ、ここでR9は炭素
数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキレン基、炭素数1〜
5の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキル基又は重合度
1〜10のポリオキシアルキレン基(各アルキレン基は
炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキレン基である)
であり、aは親電子反応性の官能基(a1)、及びリン
酸基、ホスホン酸基、シラノール基、アルコキシシリル
基、メルカプト基及びスルホニウム基から選ばれる少な
くとも1種の官能基(a2)から選ばれる少なくとも1
種の官能基(a)であり、R7は炭素数1〜5の直鎖も
しくは分枝アルキレン基、炭素数1〜5の直鎖もしくは
分枝ヒドロキシアルキレン基又は重合度1〜10のポリ
オキシアルキレン基(各アルキレン基は炭素数1〜5の
直鎖もしくは分枝アルキレン基である)であり、R8
水素原子又はメチル基であり、n1は0又は1〜30の
整数、n2は1〜15の整数、n3は3〜100の整
数、m1は0又は1〜7の整数、m2は0又は1〜7の
整数、m3は1〜7の整数、pは0又は1〜30の整数
であり、n3/(n3+p)=0.6〜1.0であり、
Zはn3で括られた構造とは異なる、エチレン性二重結
合を有する化合物のエチレン性二重結合が開いてできる
基である)。
(General formula (I), (II) or (III)
In the formula, φ represents a resonance hybrid structure, and Y represents —OR 9 a,
-R 9 a, selected from -Oa and -a, wherein R 9 is a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, 1 to carbon atoms
5 straight-chain or branched hydroxyalkyl groups or polyoxyalkylene groups having a degree of polymerization of 1 to 10 (each alkylene group is a straight-chain or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms)
A represents an electrophilic functional group (a1) and at least one functional group (a2) selected from a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a silanol group, an alkoxysilyl group, a mercapto group and a sulfonium group. At least one chosen
R 7 is a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, a linear or branched hydroxyalkylene group having 1 to 5 carbon atoms, or a polyoxy group having a polymerization degree of 1 to 10; An alkylene group (each alkylene group is a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms), R 8 is a hydrogen atom or a methyl group, n1 is 0 or an integer of 1 to 30, and n2 is 1 An integer of 15 to 15, n3 is an integer of 3 to 100, m1 is an integer of 0 or 1 to 7, m2 is an integer of 0 or 1 to 7, m3 is an integer of 1 to 7, p is an integer of 0 or 1 to 30 And n3 / (n3 + p) = 0.6 to 1.0,
Z is a group formed by opening the ethylenic double bond of a compound having an ethylenic double bond, which is different from the structure enclosed by n3).

【0021】一般式(III)の両末端基については、
重合開始剤としてAIBN(アゾビスイソブチロニトリ
ル)、BPO(過酸化ベンゾイル)、過硫酸塩等を用い
ることができ、これによって末端構造が異なる可能性が
あり、両末端基は特に限定されないが、水素原子、−C
(CH32(CN)、フェニル基、ベンゾイルオキシ基
などが挙げられる。
For both terminal groups of the general formula (III),
AIBN (azobisisobutyronitrile), BPO (benzoyl peroxide), persulfate and the like can be used as the polymerization initiator, which may have different terminal structures, and both terminal groups are not particularly limited. , Hydrogen atom, -C
(CH 3 ) 2 (CN), a phenyl group, a benzoyloxy group and the like.

【0022】一般式(I)、(II)、(III)にお
いて、共鳴混成構造φを与える化合物としては前記した
共鳴構造を有する基本化合物が挙げられ、R7、R9の定
義中、炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキレン基と
してはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、1,2
−ブチレン基、1,4−ブチレン基、ペンタメチレン基
等が挙げられ、炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝ヒドロ
キシアルキレン基としてはヒドロキシメチレン基、ヒド
ロキシエチレン基、ヒドロキシプロピレン基、ヒドロキ
シ-1,2−ブチレン基、ヒドロキシ-1,4−ブチレン
基、ヒドロキシペンタメチレン基等が挙げられ、重合度
1〜10のポリオキシアルキレン基としては重合度1〜
10のポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基
等が挙げられ、官能基(a1)、(a2)、(a)は前
記と同義であり、Zの定義中、n3で括られた構造とは
異なる、エチレン性二重結合を有する化合物としては
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル(炭
素数1から5のアルキルもしくはヒドロキシアルキルエ
ステル等)、スチレン、アクリロニトリル、マレイン酸
等が挙げられる。
In the general formulas (I), (II) and (III), examples of the compound giving the resonance hybrid structure φ include the basic compounds having the above-mentioned resonance structure, and in the definition of R 7 and R 9 , Examples of the linear or branched alkylene group of 1 to 5 include a methylene group, an ethylene group, a propylene group,
-Butylene group, 1,4-butylene group, pentamethylene group and the like. Examples of the linear or branched hydroxyalkylene group having 1 to 5 carbon atoms include hydroxymethylene group, hydroxyethylene group, hydroxypropylene group and hydroxy-1. , 2-butylene group, hydroxy-1,4-butylene group, hydroxypentamethylene group and the like. The polyoxyalkylene group having a polymerization degree of 1 to 10 includes a polymerization degree of 1 to 1.
And the functional groups (a1), (a2) and (a) have the same meanings as described above, and are different from the structure enclosed by n3 in the definition of Z Examples of the compound having an ethylenic double bond include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid esters (such as alkyl or hydroxyalkyl esters having 1 to 5 carbon atoms), styrene, acrylonitrile, and maleic acid.

【0023】一般式(I)に該当する化合物としては、
フェノール樹脂、トルエン樹脂、アニリン樹脂、キシレ
ン樹脂、フラン樹脂、グアナミン樹脂、メルカプトイミ
ダゾール、メチロールチオフェン、ピリジンチオール−
1−オキサイド等が挙げられる。一般式(II)に該当
する化合物としては、ビスフェノールエポキシのメルカ
プト変性物、リン酸変性物等が挙げられる。一般式(I
II)に該当する化合物としては、ポリヒドロキシスチ
レンのマンニッヒ変性物(ジアルキルアミノメチル化
物)、リン酸変性物、ポリビニルイミダゾールのメチロ
ール変性物等が挙げられる。
The compound corresponding to the general formula (I) includes
Phenol resin, toluene resin, aniline resin, xylene resin, furan resin, guanamine resin, mercaptoimidazole, methylolthiophene, pyridinethiol
1-oxide and the like. Examples of the compound corresponding to the general formula (II) include a mercapto-modified bisphenol epoxy compound and a phosphoric acid-modified compound. The general formula (I
Examples of the compound corresponding to II) include a Mannich-modified product (dialkylaminomethylated product) of polyhydroxystyrene, a phosphoric acid-modified product, and a methylol-modified product of polyvinylimidazole.

【0024】有機化合物(A)の具体例としては、さら
にメチロールメラミン、メトキシメチル化メラミン、メ
チロールグアナミン、ビニルイミダゾールとN−メチロ
ールアクリルアミドとの共重合物、ビニルフェノールと
N−ブトキシメチルメタクリルアミドとの共重合物、イ
ミダゾールとホルムアルデヒドとの縮合物、メルカプト
トリアジン等が挙げられる。
Specific examples of the organic compound (A) include methylolmelamine, methoxymethylated melamine, methylolguanamine, a copolymer of vinylimidazole and N-methylolacrylamide, and a copolymer of vinylphenol and N-butoxymethylmethacrylamide. Copolymers, condensates of imidazole and formaldehyde, mercaptotriazine, and the like.

【0025】前記基本化合物への官能基(a1)及び/
又は官能基(a2)の導入は、公知の有機化学反応を利
用して行うことができる。例えば、リン酸化とホスホン
化については、ハロゲン化リン、オキシハロゲン化リン
との脱ハロゲン化水素反応によってリン化するか、又は
フリーデルクラフツ反応を利用して求核性の高い部位に
三塩化リン、オキシ塩化リンを作用させてリン化した
後、加水分解する方法によって核置換誘導体を得ること
ができる。また、グリニャール反応を利用してリン含有
酸基を導入することもできる。シラノール基の導入は、
例えば、前記基本化合物の水酸基、アミノ基にトリアル
キルクロロシランを作用させてシリル化した後、加水分
解することによって達成することができ、アルコキシシ
リル基の導入は、例えば、前記基本化合物の水酸基、ア
ミノ基等にトリアルコキシクロロシラン、エポキシシラ
ン等のシランカップリング剤を作用させることによって
達成することができる。
The functional group (a1) and / or
Alternatively, the introduction of the functional group (a2) can be performed using a known organic chemical reaction. For example, for phosphorylation and phosphonation, phosphorylation is performed by a dehydrohalogenation reaction with a phosphorus halide or phosphorus oxyhalide, or phosphorus trichloride is added to a highly nucleophilic site using a Friedel-Crafts reaction. A nucleus-substituted derivative can be obtained by a method of phosphorylation by the action of phosphorus oxychloride and then hydrolysis. Further, a phosphorus-containing acid group can be introduced using a Grignard reaction. Introduction of silanol group
For example, it can be achieved by reacting a hydroxyl group or an amino group of the basic compound with a trialkylchlorosilane to perform silylation, followed by hydrolysis.Introduction of an alkoxysilyl group is performed, for example, by introducing a hydroxyl group or an amino group of the basic compound. It can be achieved by allowing a silane coupling agent such as trialkoxychlorosilane or epoxysilane to act on a group or the like.

【0026】メルカプト基の導入は、例えば、ハロゲン
化芳香族化合物に硫化水素しくは硫のアルカリ金属塩を
作用させてハロゲン化水素を脱離することによって達成
することができる。メルカプト基の導入は、また、フリ
ーデルクラフツ反応によっても達成することができる。
スルホニウム基の導入は、例えば、フェノール等の芳香
族化合物に、濃硫酸等の縮合剤の存在下、スルホキシド
を作用させることによって達成することができる。
The introduction of a mercapto group can be achieved, for example, by reacting a halogenated aromatic compound with hydrogen sulfide or an alkali metal salt of sulfur to remove hydrogen halide. Introduction of a mercapto group can also be achieved by a Friedel-Crafts reaction.
Introduction of a sulfonium group can be achieved, for example, by reacting an aromatic compound such as phenol with sulfoxide in the presence of a condensing agent such as concentrated sulfuric acid.

【0027】また、一般式(1)、すなわち−CH2
で表される基の導入については、例えば、芳香環等の電
子密度の高い部位にホルマリンを作用させることにより
メチロール化が可能である。アミノメチル化は、ホルマ
リンとアンモニアもしくはアミンとを作用させることに
よって達成することができる。また、ハロメチル化はホ
ルマリンとハロゲン化水素酸(塩酸、フッ化水素酸等)
を作用させることにより達成することができる。また、
一般式(2)、すなわち−ψ−CH2Xで表される基の
導入は、前記した共鳴構造を有する基本化合物、例えば
芳香族1級アミン、芳香族2級アミンもしくは芳香族2
級アミドにホルマリン、又はホルマリンとハロゲン化水
素酸を作用させることにより達成することができる。
Further, the compound represented by the general formula (1), namely, -CH 2 X
For the introduction of the group represented by the formula, for example, methylol can be formed by allowing formalin to act on a site having a high electron density such as an aromatic ring. Aminomethylation can be achieved by reacting formalin with ammonia or an amine. In addition, halomethylation involves formalin and hydrohalic acid (hydrochloric acid, hydrofluoric acid, etc.)
Can be achieved. Also,
Introduction of the group represented by the general formula (2), that is, -ψ-CH 2 X is performed by a basic compound having the above-described resonance structure, for example, an aromatic primary amine, an aromatic secondary amine, or an aromatic secondary amine.
It can be achieved by allowing formalin or formalin and hydrohalic acid to act on the lower amide.

【0028】本発明の金属表面処理剤は、さらなる成分
として、バナジウム、ジルコニウム、チタニウム、モリ
ブデン、タングステン、マンガン及びセリウムからなる
群から選ばれる少なくとも1種の金属を含む金属化合物
(B)を含有することが、皮膜の耐食性のさらなる向上
のために、好ましい。かかる金属化合物(B)は、前記
金属の酸化物、水酸化物、錯化合物、無機酸もしくは有
機酸との塩等であり、前記有機化合物(A)と相溶性の
良いものであることが好ましい。
The metal surface treating agent of the present invention contains, as a further component, a metal compound (B) containing at least one metal selected from the group consisting of vanadium, zirconium, titanium, molybdenum, tungsten, manganese and cerium. Is preferable for further improving the corrosion resistance of the coating. Such a metal compound (B) is an oxide, a hydroxide, a complex compound, a salt with an inorganic acid or an organic acid, or the like of the metal, and preferably has good compatibility with the organic compound (A). .

【0029】金属化合物(B)として、具体的には、五
酸化バナジウムV25、三酸化バナジウムV23、二酸
化バナジウムVO2、メタバナジン酸HVO3、メタバナ
ジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、オキ
シ硫酸バナジウムVOSO4、バナジウムオキシアセチ
ルアセトネートVO(OC(CH3)=CHCOC
3))2、バナジウムアセチルアセトネートV(OC
(CH3)=CHCOCH33、オキシ三塩化バナジウ
ムVOCl3、三塩化バナジウムVCl3、硝酸ジルコニ
ルZrO(NO32、硫酸ジルコニル、酢酸ジルコニ
ル、炭酸ジルコニルアンモニウム(NH42[Zr(C
32(OH)2]、フルオロジルコニウム酸H2ZrF
6、硫酸チタニルTiOSO4、ジイソプロポキシチタニ
ウムビスアセチルアセトン(C5722Ti[OCH
(CH322、乳酸とチタニウムアルコキシドとの反
応物、フルオロチタン酸H2TiF6、チタンラクテート
Ti(OH) 2(C3532、モリブデン酸H2MoO
4、モリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸ナトリウ
ム、モリブドリン酸化合物(例えば、モリブドリン酸ア
ンモニウム(NH43[PO4Mo1236]・3H2O、
モリブドリン酸ナトリウムNa 3[PO4・12Mo
3]・nH2O等)、メタタングステン酸H6[H212
40]、メタタングステン酸アンモニウム(NH4
6[H21240]、メタタングステン酸ナトリウム、パ
ラタングステン酸H10[W124610]、パラタングス
テン酸アンモニウム、パラタングステン酸ナトリウム、
過マンカン酸HMnO4、過マンガン酸カリウム、過マ
ンガン酸ナトリウム、リン酸二水素マンガンMn(H2
PO42、硝酸マンガンMn(NO32、硫酸マンガ
ン、フッ化マンガン、炭酸マンガン、酢酸マンガン、酢
酸セリウムCe(CH3CO23、硝酸セリウム、塩化
セリウム等が挙げられる。
As the metal compound (B), specifically,
Vanadium oxide VTwoOFive, Vanadium trioxide VTwoOThree, Diacid
Vanadium VOTwo, Metavanadate HVOThree, Metabana
Ammonium formate, sodium metavanadate, oki
Vanadium sulphate VOSOFour, Vanadium oxyacetyl
Luacetonate VO (OC (CHThree) = CHCOC
HThree))Two, Vanadium acetylacetonate V (OC
(CHThree) = CHCOCHThree)Three, Vanadium oxytrichloride
VOClThree, Vanadium trichloride VClThree, Zirconi nitrate
Le ZrO (NOThree)Two, Zirconyl sulfate, zirconium acetate
, Zirconyl ammonium carbonate (NHFour)Two[Zr (C
OThree)Two(OH)Two], Fluorozirconate HTwoZrF
6, Titanyl sulfate TiOSOFour, Diisopropoxy titani
Umbisacetylacetone (CFiveH7OTwo)TwoTi [OCH
(CHThree)Two]TwoThe reaction between lactic acid and titanium alkoxide
Corresponding substance, fluorotitanic acid HTwoTiF6, Titanium lactate
Ti (OH) Two(CThreeHFiveOThree)Two, Molybdic acid HTwoMoO
Four, Ammonium molybdate, sodium molybdate
Molybdophosphate compounds (eg, molybdophosphate compounds)
Ammonium (NHFour)Three[POFourMo12O36] ・ 3HTwoO,
Sodium molybdophosphate Na Three[POFour・ 12Mo
OThree] ・ NHTwoO), metatungstic acid H6[HTwoW12
O40], Ammonium metatungstate (NHFour)
6[HTwoW12O40], Sodium metatungstate,
Latungstic acid HTen[W12O46HTen], Palatungs
Ammonium formate, sodium paratungstate,
Permanganate HMnOFour, Potassium permanganate, perma
Sodium ganganate, manganese dihydrogen phosphate Mn (HTwo
POFour)Two, Manganese nitrate Mn (NOThree)Two, Sulfuric acid manga
Manganese fluoride, manganese carbonate, manganese acetate, vinegar
Cerium Ce (CH)ThreeCOTwo)Three, Cerium nitrate, chloride
Cerium and the like.

【0030】本発明の金属表面処理剤は、さらなる成分
として、重量平均分子量1,000〜1,000,00
0の有機高分子(C)を溶液又は分散状態で含有するこ
とが、皮膜の耐食性のさらなる向上、皮膜の耐指紋性、
耐アルカリ性、耐溶剤性の向上のために、好ましい。よ
り好ましい分子量は2,000〜500,000であ
る。前記分子量が1,000未満では皮膜形成性が不十
分で、1000,000を超えると処理剤の安定性を低
下させる原因となる。かかる有機高分子(C)は処理剤
中に混合可能なもので、水に溶解し得るもの、又はそれ
自体あるいは乳化剤の存在下、エマルジョン、ディスパ
ージョン等のように分散形態をなすもので、処理剤中で
安定で均一に存在し、水希釈可能な形態を取り得るもの
であることが好ましい。上記で乳化剤としては、特に制
限されないが、例えばアルキル硫酸塩等のアニオン性界
面活性剤、アルキル4級アンモニウム塩等のカチオン性
界面活性剤、アルキルフェニルエーテル等のノニオン性
界面活性剤、水溶性高分子などを用いることができる。
The metal surface treating agent of the present invention comprises, as an additional component, a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000.
Containing the organic polymer (C) in a solution or dispersion state, further improves the corrosion resistance of the film, the fingerprint resistance of the film,
It is preferable for improving alkali resistance and solvent resistance. A more preferred molecular weight is from 2,000 to 500,000. If the molecular weight is less than 1,000, the film-forming property is insufficient, and if it exceeds 1,000,000, the stability of the treating agent may be reduced. Such an organic polymer (C) can be mixed with a processing agent and can be dissolved in water, or can be a dispersion form such as an emulsion or a dispersion in itself or in the presence of an emulsifier. It is preferable that the agent is stable and uniform in the agent and can take a form that can be diluted with water. Examples of the emulsifier include, but are not particularly limited to, anionic surfactants such as alkyl sulfates, cationic surfactants such as alkyl quaternary ammonium salts, nonionic surfactants such as alkyl phenyl ethers, and water-soluble surfactants. A molecule or the like can be used.

【0031】かかる有機高分子(C)の例として、溶液
又は分散状態で含有させ得る合成高分子、例えば、(メ
タ)アクリル酸アルキル(炭素数1〜8)エステル(メ
チルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアク
リレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリ
レート、オクチルアクリレート等)、(メタ)アクリル
酸ヒドロキシアルキル(炭素数1〜4)エステル(2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキ
シプロピル(メタ)アクリレート等)、(メタ)アクリ
ル酸等のアクリルモノマーの単独もしくは共重合体、か
かるアクリルモノマー(30重量%以上)とスチレン、
アクリロニトリル、酢酸ビニル等の付加重合性不飽和モ
ノマーとの共重合体などのアクリル系樹脂;オレフィン
(炭素数1〜8)(エチレン、プロピレン、ブテン、ヘ
キセン、オクテン等)の単独もしくは共重合体、かかる
オレフィン(50重量%以上)と(メタ)アクリル酸等
との共重合体などのポリオレフィン系樹脂;
Examples of the organic polymer (C) include synthetic polymers which can be contained in a solution or dispersion state, for example, alkyl (meth) acrylate (C1-8) ester (methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl Acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl acrylate, etc.), hydroxyalkyl (meth) acrylate (1 to 4 carbon atoms) ester (2-
Hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc.), homo- or copolymers of acrylic monomers such as (meth) acrylic acid, such acrylic monomers (30% by weight or more) and styrene,
Acrylic resins such as copolymers with addition-polymerizable unsaturated monomers such as acrylonitrile and vinyl acetate; homo- or copolymers of olefins (1-8 carbon atoms) (ethylene, propylene, butene, hexene, octene, etc.); A polyolefin-based resin such as a copolymer of such an olefin (50% by weight or more) and (meth) acrylic acid;

【0032】アルキレン(炭素数1〜6)グリコール
(エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレ
ングリコール等)、ポリエーテルポリオール(ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール等のポリエチレ
ングリコール、ポリエチレン/プロピレングリコールな
ど)、ポリエステルポリオール(上記のようなアルキレ
ングリコールもしくはポリエーテルポリオール、ビスフ
ェノールA、水添ビスフェノールA、トリメチロールプ
ロパン、グリセリン等のポリオールとコハク酸、グルタ
ル酸、アジピン酸、セバチン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の多塩基酸との重
縮合によって得られる末端に水酸基を有するポリエステ
ルポリオール)、ポリカーボネートポリオールなどのポ
リオールと芳香族、脂環式もしくは脂肪族ポリイソシア
ネート(トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシ
クロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキシレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、リジンジイソシアネート等)との重縮合物であるウ
レタン樹脂;
Alkylene (C1-6) glycol (ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, hexamethylene glycol, etc.), polyether polyol (polyethylene glycol such as diethylene glycol, triethylene glycol, etc., polyethylene / propylene glycol) And polyester polyols (such as the above-mentioned alkylene glycols or polyether polyols, bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, trimethylolpropane, glycerin, and other polyols with succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, and isophthalic acid). Polyester polyol having a hydroxyl group at the terminal obtained by polycondensation with polybasic acids such as acid, terephthalic acid, trimellitic acid) Polycondensates of polyols such as carbonate polyols with aromatic, alicyclic or aliphatic polyisocyanates (tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, dicyclohexyl methane diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, etc.) A urethane resin;

【0033】ビスフェノール類、特にビスフェノールA
とエピクロルヒドリンとを反応させて得られる、ビスフ
ェノール型エポキシ樹脂を初めとして、フェノールノボ
ラック樹脂のフェノール性水酸基をグリシジルエーテル
化したノボラック型エポキシ樹脂、芳香族カルボン酸の
グリシジルエステル、エチレン性不飽和化合物の二重結
合を過酸でエポキシ化した過酸エポキシ型エポキシ樹脂
などのエポキシ樹脂;エチレングリコール、ネオペンチ
ルグリコールなどのポリオール成分とテレフタル酸、無
水トリメリット酸等の多塩基酸との縮合物であるポリエ
ステル樹脂;などが挙げられる。
Bisphenols, especially bisphenol A
Of bisphenol-type epoxy resin obtained by reacting phenol novolak resin with glycidyl ether of phenol novolak resin, glycidyl ester of aromatic carboxylic acid, and ethylenically unsaturated compound. Epoxy resins such as peroxyepoxy epoxy resins in which heavy bonds are epoxidized with peracid; polyesters which are condensates of polyol components such as ethylene glycol and neopentyl glycol with polybasic acids such as terephthalic acid and trimellitic anhydride Resin; and the like.

【0034】これらの有機高分子(C)において、可溶
化剤、乳化分散剤としての界面活性剤を使用しないソー
プフリー、或いはその使用量を極力抑えたものがより好
ましく、アクリル系樹脂については、スルホン酸基、リ
ン酸基、ホスホン酸基、カルボキシル基等のアニオン性
親水基、第1〜第3級アミノ基、第4アンモニウム基等
のカチオン性親水基、水酸基、ポリオキシエチレン鎖、
アミド基等のノニオン性親水基から選ばれる少なくとも
1種の親水基を有しているモノマーを共重合させて水溶
化、或いは自己乳化したもの、又は不飽和結合を有する
反応性界面活性剤を重合時に付加させて自己乳化させた
ものであることがより好ましい。ポリオレフィン系樹脂
については、前記親水基を有するモノマーを共重合成分
として用いる、ウレタン樹脂においては、ポリオール成
分の1つに前記親水基の内、重合時に反応しない親水基
を有するものを用いる、エポキシ樹脂においては、グリ
シジルエーテルの一部又は全部を変性して前記親水基を
導入する、ポリエステル樹脂においては、用いる多塩基
酸の一部に前記親水基を有する多塩基酸を用いる方法に
よって、水溶性、自己乳化性の樹脂を得ることができ
る。
In these organic polymers (C), it is more preferable to use a soap-free one which does not use a surfactant as a solubilizer or an emulsifying dispersant, or one in which the amount used is as small as possible. Sulfonic acid groups, phosphoric acid groups, phosphonic acid groups, anionic hydrophilic groups such as carboxyl groups, primary to tertiary amino groups, cationic hydrophilic groups such as quaternary ammonium groups, hydroxyl groups, polyoxyethylene chains,
Monomers having at least one hydrophilic group selected from nonionic hydrophilic groups such as amide groups are copolymerized to make them water-soluble or self-emulsified, or a reactive surfactant having an unsaturated bond is polymerized. It is more preferable that the emulsion is self-emulsified by occasional addition. For the polyolefin-based resin, the monomer having the hydrophilic group is used as a copolymer component. In the urethane resin, one of the polyol groups having a hydrophilic group that does not react during polymerization is used as one of the polyol components. In, to introduce the hydrophilic group by modifying part or all of the glycidyl ether, in the polyester resin, by using a polybasic acid having the hydrophilic group in part of the polybasic acid used, water-soluble, A self-emulsifying resin can be obtained.

【0035】本発明の表面処理剤が、さらなる成分とし
て、エッチング剤(D)を含有することが、金属表面の
エッチング、金属表面反応促進、皮膜の密着性増大か
ら、好ましい。かかるエッチング剤(D)としては、リ
ン酸、硫酸、塩酸、フッ化水素酸、硼酸等の無機酸、フ
ルオロジルコニウム酸H2ZrF6、フルオロチタン酸H
2TiF6、ケイフッ化水素酸H2SiF6、硼フッ化水素
酸HBF4、フッ化錫、フッ化第一鉄、フッ化第二鉄等
錯フッ化物・フッ化物、ギ酸、酢酸、酒石酸、フニルス
ルホン酸、フェニルホスホン酸等の有機酸を用いること
ができる。
The surface treating agent of the present invention may further comprise
Therefore, the content of the etching agent (D) can
Etching, metal surface reaction acceleration, increase of film adhesion?
Preferred. As such an etching agent (D),
Acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, hydrofluoric acid, boric acid, etc.
Luorodisilconic acid HTwoZrF6, Fluorotitanic acid H
TwoTiF6, Hydrofluorosilicic acid HTwoSiF6, Hydrogen borofluoride
Acid HBFFour, Tin fluoride, ferrous fluoride, ferric fluoride, etc.
Complex fluoride / fluoride, formic acid, acetic acid, tartaric acid, funils
Use of organic acids such as sulfonic acid and phenylphosphonic acid
Can be.

【0036】本発明の処理剤における各構成成分の量
は、有機化合物(A)、金属化合物(B)中の金属及び
有機高分子(C)の合計を100質量%とした場合、
(A)は3〜99質量%が好ましく、(B)は金属とし
て0.05〜30質量%が好ましく、0.1〜20質量
%がより好ましく、(C)は5〜95質量%が好まし
く、10〜90質量%がより好ましい。(A)、
(B)、(C)は、高耐食性を維持するために、上記の
好ましい範囲を選ぶことが望ましい。エッチング剤
(D)は本発明の処理剤中に0.05〜30g/Lが好
ましく、0.1〜20g/Lがより好ましい。0.05
g/Lを下回ると金属材料との反応が不十分で、30g
/Lを超えるとエッチング過剰で密着性を阻害する傾向
がある。
The amount of each component in the treating agent of the present invention is as follows, assuming that the total of the metal and the organic polymer (C) in the organic compound (A) and the metal compound (B) is 100% by mass.
(A) is preferably 3 to 99% by mass, (B) is preferably 0.05 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 20% by mass as a metal, and (C) is preferably 5 to 95% by mass. , 10 to 90% by mass. (A),
For (B) and (C), it is desirable to select the above preferable range in order to maintain high corrosion resistance. The amount of the etching agent (D) in the treatment agent of the present invention is preferably 0.05 to 30 g / L, and more preferably 0.1 to 20 g / L. 0.05
If the amount is less than g / L, the reaction with the metal material is insufficient, and the
If / L is exceeded, the adhesion tends to be impaired due to excessive etching.

【0037】本発明の処理剤において、皮膜の耐食性向
上、抗張力等の皮膜物性を調整するために水分散性のシ
リカゾル、及び/又はアルミナゾル、ジルコニアゾル、
チタニアゾル等の金属ゾルを加えることが有効であり、
この場合、添加する量は全不揮発成分の5〜40質量%
が好ましく、10〜30質量%がより好ましい。また、
本発明の表面処理剤中に、前記有機高分子(C)を架橋
し得る有機架橋剤、無機架橋剤を添加することができ
る。有機架橋剤としては、エポキシ系、メラミン系、ア
ルデヒド系、イソシアネート系が用いられる。無機架橋
剤としては、本発明で特定した金属化合物以外の鉄、コ
バルト、ニッケル、ニオブ、タンタル、亜鉛等の金属の
化合物が挙げられる。
In the treatment agent of the present invention, a water-dispersible silica sol, and / or an alumina sol, a zirconia sol, and the like are used to improve the corrosion resistance of the film and adjust the film properties such as tensile strength.
It is effective to add a metal sol such as titania sol,
In this case, the amount to be added is 5 to 40% by mass of the total nonvolatile components.
Is preferable, and 10 to 30% by mass is more preferable. Also,
An organic crosslinking agent and an inorganic crosslinking agent capable of crosslinking the organic polymer (C) can be added to the surface treatment agent of the present invention. Epoxy, melamine, aldehyde, and isocyanate-based organic crosslinking agents are used. Examples of the inorganic crosslinking agent include compounds of metals such as iron, cobalt, nickel, niobium, tantalum, and zinc other than the metal compounds specified in the present invention.

【0038】本発明の処理剤は、さらに、傷付き防止も
しくは潤滑性付与のためにエステル系ワックス、ポリオ
レフィン系ワックス、マイクロクリスタリン等の炭化水
素系ワックスなどの水系ワックス、メタクリル酸メチ
ル、ポリスチレン、メラミン等の樹脂パウダーなどのス
リップ剤、艶消し剤などを、本発明の目的を損なわない
範囲で、含有することができる。本発明の処理剤は、さ
らに、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい
剤、顔料、着色剤などを、本発明の目的を損なわない範
囲で、含有することができる。
The treating agent of the present invention may further contain an aqueous wax such as an ester wax, a polyolefin wax, or a hydrocarbon wax such as microcrystalline, methyl methacrylate, polystyrene, or melamine for the purpose of preventing scratching or imparting lubricity. Slip agents such as resin powders, matting agents and the like can be contained within a range that does not impair the object of the present invention. The treating agent of the present invention can further contain a surfactant, an antifoaming agent, a leveling agent, a germicidal and antifungal agent, a pigment, a coloring agent, and the like as long as the object of the present invention is not impaired.

【0039】本発明の表面処理剤で用いる溶媒は通常水
であるが、皮膜の乾燥性改善などの必要に応じてアルコ
ール、ケトン、セロソルブ系の水溶性有機溶剤を、水と
の合計を基準として好ましくは20v/v%以下、さら
に好ましくは10v/v%以下の量含有させることがで
きる。
The solvent used in the surface treatment agent of the present invention is usually water. However, if necessary for improving the drying property of the film, a water-soluble organic solvent of alcohol, ketone or cellosolve may be used, based on the sum of water and water. The content can be preferably 20 v / v% or less, more preferably 10 v / v% or less.

【0040】次に本発明の表面処理方法について述べ
る。処理方法については、処理液を金属素材の表面に塗
布した後、50〜250℃で加熱乾燥できれば構わず、
塗布方法、乾燥方法などについては特定しない。通常は
素材表面に処理剤をロール転写させて塗り付けるロール
コート法、或いはシャワーリンガー等によって流し掛け
た後ロールで絞る、またはエアーナイフで液切りをする
方法、処理液中に素材を浸漬する方法、素材に処理剤を
スプレーする方法が用いられる。処理液の温度は、特に
限定するものではないが、本処理剤の溶媒は水が主体で
あるため、処理温度は0〜60℃が好ましく、5〜40
℃がより好ましい。
Next, the surface treatment method of the present invention will be described. Regarding the treatment method, after applying the treatment liquid to the surface of the metal material, it is sufficient if the treatment liquid can be dried by heating at 50 to 250 ° C.
The method of application and the method of drying are not specified. Usually, a roll coating method in which the treatment agent is transferred to the material surface by roll transfer, or a method of squeezing with a roll after pouring with a shower ringer or the like, or a method of draining with an air knife, a method of immersing the material in the treatment liquid, A method of spraying a treatment agent on a material is used. The temperature of the treatment liquid is not particularly limited, but since the solvent of the treatment agent is mainly water, the treatment temperature is preferably from 0 to 60 ° C, and from 5 to 40 ° C.
C is more preferred.

【0041】また、処理工程についても特定はしない
が、通常は、本処理を行う前に素材に付着した油分、汚
れを取り除くためにアルカリ脱脂剤、又は酸性脱脂剤で
洗浄するか、湯洗、溶剤洗浄等を行う。その後、必要に
応じて酸、アルカリなどによる表面調整を行う。素材表
面の洗浄においては、洗浄剤が素材表面になるべく残留
しないように洗浄後に水洗することが好ましい。
Although there is no particular limitation on the treatment step, usually, before this treatment, the material is washed with an alkaline degreaser or an acidic degreaser to remove oil and dirt attached to the material, or washed with hot water. Perform solvent cleaning, etc. Thereafter, if necessary, the surface is adjusted with an acid, an alkali, or the like. In the cleaning of the material surface, it is preferable to wash with water after cleaning so that the cleaning agent does not remain on the material surface as much as possible.

【0042】乾燥工程は、有機高分子(C)の硬化を促
進する必要がなく付着水の除去だけ行う場合は、必ずし
も熱を必要とせず風乾、もしくはエアーブロー等の物理
的除去でも構わないが、有機高分子(C)の硬化促進、
もしくは軟化による被覆効果を高めるためには加熱乾燥
する必要がある。その場合の温度は、50〜250℃が
好ましく、60〜220℃がより好ましい。
In the drying step, when it is not necessary to promote the curing of the organic polymer (C) and only the adhering water is removed, heat is not necessarily required and air drying or physical removal such as air blowing may be used. , Curing of organic polymer (C),
Alternatively, it is necessary to heat and dry in order to enhance the coating effect by softening. In that case, the temperature is preferably from 50 to 250C, more preferably from 60 to 220C.

【0043】形成される皮膜の付着量は全皮膜質量で3
0〜5,000mg/m2が好ましく、50〜3,00
0mg/m2がより好ましい。30mg/m2未満では十
分な耐食性、上塗りとの密着性が得られず、それ以上で
は、皮膜にクラックなどが生じ皮膜自体の密着性が低下
する。
The coating weight of the formed film was 3 in the total weight of the film.
0 to 5,000 mg / m 2 , preferably 50 to 3,000 mg / m 2
0 mg / m 2 is more preferred. If it is less than 30 mg / m 2 , sufficient corrosion resistance and adhesion to the top coat cannot be obtained, and if it is more than 30 mg / m 2 , cracks or the like occur in the film, and the adhesion of the film itself decreases.

【0044】[0044]

【作用】本発明の表面処理剤及び表面処理方法を用いて
形成した皮膜は優れた耐食性を有するが、そのメカニズ
ムについて、以下に述べる。特定した有機化合物(A)
は、主に2つの機能を有する。すなわち、(1)金属表
面と反応し固着する機能、(2)腐食電子を非局在化す
る機能である。皮膜欠陥部及びキズ部などから腐食反応
であるアノード反応(すなわち、素材金属の溶解反応)
が進行するが、アノード反応によって生じた電子が局在
化するとその部位で溶解金属イオンと酸素及び水によっ
て腐食反応物を生成する(カソード反応)。本発明で特
定した共鳴構造を有する有機化合物(A)は、金属の溶
解によって生じた腐食電子を有機化合物(A)の共鳴π
軌道を利用して非局在化するため、腐食生成物形成反応
を抑制することができ、また、金属の溶解によって生じ
た表面電位差を緩和することができる。有機化合物
(A)が腐食電子をそのπ軌道中に取り込み、非局在化
させるためには、金属表面と有機化合物(A)とが金属
表面のπ軌道と有機化合物(A)のπ軌道とが重なり合
う程度に十分接近している必要がある。
The film formed by using the surface treatment agent and the surface treatment method of the present invention has excellent corrosion resistance. The mechanism is described below. Specified organic compound (A)
Has two main functions. That is, (1) a function of reacting and fixing with the metal surface, and (2) a function of delocalizing corrosion electrons. Anode reaction, which is a corrosion reaction from film defects and scratches (ie, dissolution reaction of base metal)
When electrons generated by the anodic reaction are localized, a corrosion reactant is generated by the dissolved metal ions, oxygen, and water at the site (cathode reaction). The organic compound (A) having the resonance structure specified in the present invention is capable of converting corrosion electrons generated by dissolution of metal into resonance π of the organic compound (A).
Since the delocalization is performed using the orbit, the corrosion product forming reaction can be suppressed, and the surface potential difference caused by the dissolution of the metal can be reduced. In order for the organic compound (A) to take in corrosive electrons into its π orbit and delocalize it, the metal surface and the organic compound (A) must be aligned with the π orbit of the metal surface and the π orbit of the organic compound (A). Must be close enough to overlap.

【0045】有機化合物(A)中の官能基(a)は、処
理剤塗布時及び/又は皮膜形成時に金属表面と反応し有
機化合物(A)を金属表面に固着する作用があり、共鳴
構造中に腐食電子を取り込むために十分な距離を保つ効
果がある。金属と反応し得る官能基(a)は、金属表面
の電子が豊富な部位に親電子的に反応するカチオノイド
である。酸塩基で表現すれば、金属表面は電子を供給す
る塩基で、有機化合物(A)は酸であると考えられる。
官能基(b)、すなわリン酸基、ホスホン酸基、シラノ
ール基、アルコキシシリル基、メルカプト基、スルホニ
ウム基も、リン、ケイ素、イオウのd軌道を利用する一
種のカチオノイド基であると考えられる。金属化合物
(B)は、未完成電子殻を有する遷移金属の化合物であ
り、一種のカチオノイドと考えられる。したがって、前
記の有機化合物(A)と同様に金属表面に対して親電子
的に固着反応し、有機化合物(A)の未完成電子軌道を
利用して腐食電子の非局在化する作用がある。
The functional group (a) in the organic compound (A) has a function of reacting with the metal surface at the time of applying a treating agent and / or forming a film, thereby fixing the organic compound (A) to the metal surface. This has the effect of keeping a sufficient distance to take in corrosive electrons. The functional group (a) capable of reacting with a metal is a cationion that reacts electrophilically with an electron-rich site on the metal surface. Expressed as an acid-base, it is considered that the metal surface is a base that supplies electrons, and the organic compound (A) is an acid.
The functional group (b), that is, the phosphoric acid group, the phosphonic acid group, the silanol group, the alkoxysilyl group, the mercapto group, and the sulfonium group are also considered to be a kind of cationoid group utilizing the d orbital of phosphorus, silicon, and sulfur. . The metal compound (B) is a compound of a transition metal having an incomplete electron shell, and is considered to be a kind of cationoid. Therefore, similarly to the organic compound (A), the organic compound (A) undergoes an electrophilic fixation reaction on the metal surface, and has an effect of delocalizing corrosion electrons by using the incomplete electron orbitals of the organic compound (A). .

【0046】本発明の処理剤に用いる有機高分子(C)
は、皮膜形成性の樹脂で、処理液の塗布時又は/及び乾
燥時に金属表面に形成される有機化合物(A)と金属化
合物(B)とからなる反応皮膜を覆う形で造膜し、酸
素、水分、腐食促進イオン等の透過を遮るバリヤー効果
があり、素材金属との界面に前記反応皮膜層が存在する
とき、一段と耐食性が向上する。また、同時に皮膜の耐
指紋性、耐アルカリ性、耐溶剤性なども向上させる効果
がある。エッチング剤(D)は、素材金属をエッチング
し表面の電子密度を高める作用があり、有機化合物
(A)及び金属化合物(B)の固着反応を促進する作用
がある。上記のメカニズムによって、本発明の表面処理
剤は、金属材料表面に優れた耐食性を付与することがで
き、特に、キズ部、加工部においても耐食性が優れると
考えられる。
Organic polymer (C) used in the treating agent of the present invention
Is a film-forming resin, which forms a film so as to cover a reaction film composed of an organic compound (A) and a metal compound (B) formed on a metal surface when a processing liquid is applied or / and dried, and It has a barrier effect of blocking permeation of moisture, corrosion promoting ions, etc., and when the reaction film layer is present at the interface with the base metal, the corrosion resistance is further improved. At the same time, there is an effect of improving fingerprint resistance, alkali resistance, solvent resistance, and the like of the film. The etching agent (D) has an effect of etching the material metal to increase the electron density on the surface, and has an effect of promoting a fixing reaction between the organic compound (A) and the metal compound (B). By the above mechanism, the surface treatment agent of the present invention can impart excellent corrosion resistance to the surface of the metal material, and it is considered that the surface treatment agent of the present invention is particularly excellent in corrosion resistance even in a flaw portion and a processed portion.

【0047】[0047]

【実施例】つぎに本発明を実施例及び比較例によって説
明するが、本実施例は単なる一例に過ぎず本発明を限定
するものではない。 1.素材 (a)電気亜鉛メッキ鋼板(板厚0.6mm) (b)溶融亜鉛メッキ鋼板(板厚0.8mm) (c)55%アルミ含有溶融亜鉛メッキ鋼板(板厚0.
5mm) 2.処理剤 (1)処理剤成分 使用した有機化合物(A)は次の通りである。
EXAMPLES Next, the present invention will be described with reference to examples and comparative examples. However, the present examples are merely examples and do not limit the present invention. 1. Material (a) Galvanized steel sheet (sheet thickness 0.6 mm) (b) Hot-dip galvanized steel sheet (sheet thickness 0.8 mm) (c) Hot-dip galvanized steel sheet containing 55% aluminum (sheet thickness 0.
5 mm) Treatment agent (1) Treatment agent component The organic compound (A) used is as follows.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】使用した金属化合物(B)は次の通りであ
る。 B1:炭酸ジルコニウムアンモニウム B2:フルオロジルコニウム酸 B3:チタンラクテート B4:メタバナジン酸アンモニウム B5:メタタングステン酸アンモニウム
The metal compound (B) used is as follows. B1: ammonium zirconium carbonate B2: fluorozirconate B3: titanium lactate B4: ammonium metavanadate B5: ammonium metatungstate

【0050】使用した有機高分子(C)は次の通りであ
る。 C1:水系アイオノマー樹脂(三井化学(株)製、ケミ
パールS−10)(カルボキシル基を有するポリオレフ
ィン樹脂) C2:水系アクリル樹脂(昭和高分子(株)製、ポリゾ
ールAP−6530) C3:水系アニオン変性エポキシ樹脂(旭電化工業
(株)製、アデカレジンEM−0433) C4:水系ウレタン樹脂(第一工業製薬(株)製、スー
パーフレックス150P) C5:水系ウレタン樹脂(旭電化工業(株)製、アデカ
ボンタイターHUX680)
The organic polymer (C) used is as follows. C1: Water-based ionomer resin (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., Chemipearl S-10) (polyolefin resin having a carboxyl group) C2: Water-based acrylic resin (Polysol AP-6530, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) C3: Water-based anion-modified Epoxy resin (Adeka Resin EM-0433, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) C4: Aqueous urethane resin (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Superflex 150P) C5: Aqueous urethane resin (Asahi Denka Kogyo, Adeka) Bon Titer HUX680)

【0051】使用したエッチング剤(D)は次の通りで
ある。 D1:HF D2:H2TiF6 D3:H2SiF6 D4:H3PO4
The etching agent (D) used is as follows. D1: HF D2: H 2 TiF 6 D3: H 2 SiF 6 D4: H 3 PO 4

【0052】(2)処理剤の調製 有機化合物(A)、金属化合物(B)、有機高分子
(C)及びエッチング剤(D)をそれぞれ別個に水に可
溶化もしくは分散して希釈した後、(B)液に(D)
液、(A)液の順で混合し、この混合液を(C)液中に
添加混合した。
(2) Preparation of treatment agent The organic compound (A), the metal compound (B), the organic polymer (C) and the etching agent (D) are separately solubilized or dispersed in water and diluted. (B) to liquid (D)
The liquid and the liquid (A) were mixed in this order, and this mixed liquid was added to the liquid (C) and mixed.

【0053】3.処理方法 (1)脱脂 日本パーカライジング(株)製アルカリ脱脂剤パルクリ
ーン364S(20g/L建浴、60℃、10秒スプレ
ー、スプレー圧50kPa)で素材を脱脂した後、スプ
レー水洗を10秒行った。 (2)塗布及び乾燥 I :濃度16質量%に調整した処理液を、バーコー
ター#3で塗布し、80℃(PMT)で乾燥した。 II :濃度20質量%に調整した処理液を、バーコー
ター#5で塗布し、100℃(PMT)で乾燥した。 III:濃度16質量%に調整した処理液を、バーコー
ター#3で塗布し、150℃(PMT)で乾燥した。
3. Treatment method (1) Degreasing The material was degreased with an alkali degreasing agent PALCLEAN 364S (manufactured by Nippon Parkerizing Co., Ltd., 20 g / L bath, 60 ° C., 10 seconds spray, spray pressure 50 kPa), and then spray-washed for 10 seconds. . (2) Coating and drying I: The treatment liquid adjusted to a concentration of 16% by mass was applied with a bar coater # 3 and dried at 80 ° C. (PMT). II: The treatment liquid adjusted to a concentration of 20% by mass was applied with a bar coater # 5 and dried at 100 ° C. (PMT). III: The treatment liquid adjusted to a concentration of 16% by mass was applied with a bar coater # 3 and dried at 150 ° C. (PMT).

【0054】4.評価方法 実施例、比較例において作製した処理板試料について、
無加工(平面部)、NTカッターで素地到達までクロス
カットしたもの(クロスカット部)、エリクセン7mm
押し出し加工したもの(加工部)について、耐食性試験
を行った。評価方法は次の通りである。 (平面部)塩水噴霧試験法JIS−Z−2371に基づ
き塩水噴霧72時間後の白錆発生面積を求め評価した。 評価基準:白錆発生面積 ◎10%未満、○10%以上
〜30%未満、△30%以上〜60%未満、×60%以
上 (クロスカット部)塩水噴霧試験法JIS−Z−237
1に基づき塩水噴霧72時間後の白錆発生状況を肉眼で
評価した。 評価基準:白錆発生状況 ◎ほとんど錆なし、○僅かに
錆あり、△錆発生が認められる、×錆発生が著しい (加工部)塩水噴霧試験法JIS−Z−2371に基づ
き塩水噴霧72時間後の白錆発生状況を肉眼で評価し
た。 評価基準:白錆発生状況 ◎ほとんど錆なし、○僅かに
錆あり、△錆発生が認められる、×錆発生が著しい
4. Evaluation method For the treated plate samples produced in the examples and comparative examples,
Unprocessed (flat part), cross cut with NT cutter until reaching the substrate (cross cut part), Erichsen 7mm
The extruded product (worked portion) was subjected to a corrosion resistance test. The evaluation method is as follows. (Planar part) The area of white rust occurrence 72 hours after salt spraying was determined and evaluated based on the salt spray test method JIS-Z-2371. Evaluation criteria: White rust generation area ◎ Less than 10%, ○ 10% or more to less than 30%, Δ30% or more to less than 60%, × 60% or more (Cross cut part) Salt spray test method JIS-Z-237
Based on No. 1, the state of white rust generation 72 hours after spraying with salt water was visually evaluated. Evaluation criteria: White rust generation status ◎ Almost no rust, ○ Slight rust, △ Rust generation is recognized, × Rust generation is remarkable (Processed part) 72 hours after salt water spray based on salt water spray test method JIS-Z-2371 Was visually evaluated for the occurrence of white rust. Evaluation criteria: White rust occurrence ◎ Almost no rust, ○ Slight rust, △ Rust generation observed, × Rust generation remarkable

【0055】実施例、比較例で用いた処理剤の組成、処
理条件を表2に示す。
Table 2 shows the compositions and processing conditions of the processing agents used in the examples and comparative examples.

【0056】[0056]

【表2】 [Table 2]

【0057】表2において、(A)〜(C)について各
々の数値は、不揮発性成分の質量(ただし、(B)の金
属化合物は金属としての質量)として(A)〜(C)の
合計に対する質量%を表し。(D)及びその他の成分に
ついての数値は、処理剤1kgに対する有効成分添加量
(g)を表す。A成分の比較化合物、比1としてはメチ
ロール基を有さない芳香族化合物としてフェノール、比
2としては共鳴構造を持たないメチロール化合物として
N−メチロールアクリルアミドを用いた。
In Table 2, each numerical value for (A) to (C) is the total of (A) to (C) as the mass of the non-volatile component (however, the mass of the metal compound of (B) is a metal). % By mass. The numerical values for (D) and other components represent the amount (g) of the active ingredient added to 1 kg of the treating agent. Comparative compound of component A, ratio 1 was phenol as an aromatic compound having no methylol group, and ratio 2 was N-methylolacrylamide as a methylol compound having no resonance structure.

【0058】(比較例5)前記脱脂条件で脱脂した素材
(a)に日本パーカライジング(株)製塗布型クロメー
ト処理剤ZM−1300ANを、クロム付着量で20m
g/m2になるようにロールコートし、PMT(素材到
達温度)80℃で乾燥した。
(Comparative Example 5) ZM-1300AN, a coating type chromate treatment agent manufactured by Nippon Parkerizing Co., Ltd., was added to the material (a) degreased under the above degreasing conditions in an amount of 20 m in chromium adhesion amount.
g / m 2 , and dried at 80 ° C. PMT (material arrival temperature).

【0059】実施例1〜9及び比較例1〜5において作
製した処理板試料について耐食性試験を行った。評価結
果を表3に示す。
The treated samples prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 5 were subjected to a corrosion resistance test. Table 3 shows the evaluation results.

【0060】[0060]

【表3】 [Table 3]

【0061】表3から明らかなように、本発明の表面処
理剤を用いて皮膜を形成させた実施例1〜9について
は、表面処理剤及び皮膜は、有害なクロムを含んでいな
いため安全性が高く、平面部、クロスカット部、加工部
のいずれもクロメート処理よりも優れた耐食性を有する
ことが判る。本発明の表面処理剤の必須成分である有機
化合物(A)を含まない表面処理剤を用いて皮膜を形成
させた比較例1と比較例2については、平面部、クロス
カット部、加工部のいずれも耐食性が著しく劣ってい
た。また、本発明で特定した構造を有さない有機化合物
を有機化合物(A)の代わりに用いた比較例3と比較例
4の場合にも、耐食性の発現はほとんどみられなかっ
た。塗布型クロメートを用いた比較例5の場合には、加
工部の耐食性がやや劣っていた。
As is clear from Table 3, in Examples 1 to 9 in which a film was formed using the surface treatment agent of the present invention, since the surface treatment agent and the film did not contain harmful chromium, the safety was high. It shows that all of the flat part, the cross cut part, and the processed part have better corrosion resistance than the chromate treatment. In Comparative Examples 1 and 2 in which a film was formed using a surface treatment agent not containing the organic compound (A), which is an essential component of the surface treatment agent of the present invention, the flat portion, the cross cut portion, and the processed portion In each case, the corrosion resistance was remarkably inferior. Also, in the case of Comparative Examples 3 and 4 in which the organic compound having no structure specified in the present invention was used instead of the organic compound (A), almost no development of corrosion resistance was observed. In the case of Comparative Example 5 using the coating type chromate, the corrosion resistance of the processed portion was slightly inferior.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明の表面処理剤は、有害なクロム化
合物を含まないノンクロメートタイプであり、本発明の
表面処理剤から形成される皮膜は、平面部のみならず、
キズ部、加工部においても、従来のクロメート皮膜と同
等もしくはそれ以上の耐食性を有しており、本発明の表
面処理剤、表面処理方法及び表面処理金属材料は、産業
上の利用価値が極めて高いものである。
The surface treating agent of the present invention is of a non-chromate type containing no harmful chromium compound.
The scratched part and the processed part also have the same or higher corrosion resistance as the conventional chromate film, and the surface treatment agent, surface treatment method and surface treated metal material of the present invention have extremely high industrial utility value. Things.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C09D 5/08 C09D 5/08 (72)発明者 山本 真由美 東京都中央区日本橋一丁目15番1号 日本 パーカライジング株式会社内 Fターム(参考) 4J038 CB011 CB081 CB121 CC021 CC091 CG071 CG141 CG161 CH031 CH041 CH121 CK021 CN001 DA001 DA041 DA061 DA101 DA131 DA141 DA161 DA171 DB061 DB191 DD041 DF012 DF042 DG071 DG091 DG111 DG121 DG131 DG261 DK001 GA02 GA05 GA08 GA09 GA12 GA13 GA14 GA15 HA096 HA126 HA216 HA246 HA296 HA336 HA376 HA416 JA37 JA39 JA43 JC02 JC13 JC17 JC23 JC24 JC26 JC32 JC33 JC38 MA14 NA03 NA27 PA19 PC02 4K026 AA02 AA07 AA12 AA13 AA22 BA01 BA03 BA08 BB08 CA16 CA18 CA26 CA28 CA29 CA30 CA31 CA37 CA39 DA11 4K044 AA02 AB02 BA10 BA21 BB03 BC02 CA11 CA18 CA53 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (Reference) // C09D 5/08 C09D 5/08 (72) Inventor Mayumi Yamamoto 1-15-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo No. Japan Parkerizing Co., Ltd. F-term (reference) 4J038 CB011 CB081 CB121 CC021 CC091 CG071 CG141 CG161 CH031 CH041 CH121 CK021 CN001 DA001 DA041 DA061 DA101 DA131 DA141 DA161 DA171 DB061 DB191 DD041 DG012 GA01 DG071 DG071 GA13 GA14 GA15 HA096 HA126 HA216 HA246 HA296 HA336 HA376 HA416 JA37 JA39 JA43 JC02 JC13 JC17 JC23 JC24 JC26 JC32 JC33 JC38 MA14 NA03 NA27 PA19 PC02 4K026 AA02 AA07 AA12 AA13 AA22 BA01 BA03 CA04 CA18 CA29 AB02 BA10 BA21 BB03 BC02 CA11 CA18 CA53

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 分子中に共鳴構造を有する有機化合物で
あって、かつ親電子反応性の官能基(a1)、及びリン
酸基、ホスホン酸基、シラノール基、アルコキシシリル
基、メルカプト基及びスルホニウム基から選ばれる少な
くとも1種の官能基(a2)から選ばれる少なくとも1
種の官能基(a)を有する有機化合物(A)を含有する
金属表面処理剤。
1. An organic compound having a resonance structure in its molecule and having an electrophilic functional group (a1), a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a silanol group, an alkoxysilyl group, a mercapto group and a sulfonium. At least one selected from at least one functional group (a2) selected from
A metal surface treating agent containing an organic compound (A) having a kind of functional group (a).
【請求項2】 有機化合物(A)が芳香族化合物である
請求項1記載の金属表面処理剤。
2. The metal surface treating agent according to claim 1, wherein the organic compound (A) is an aromatic compound.
【請求項3】 前記官能基(a1)が下記一般式(1)
で表され前記共鳴構造に直接結合した基、又は下記一般
式(2)で表される基である請求項1又は2記載の金属
表面処理剤。 −CH2X (1) −ψ−CH2X (2) (式中、Xは−OR1、−NR23、−N+456-
又はハロゲン原子であり、R1〜R6は、互いに独立に、
水素原子、炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキル基
又は炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキ
ル基であり、A-は水酸イオン又は酸イオンであり、ψ
は電子供与的な誘因効果を有する基である)。
3. The functional group (a1) has the following general formula (1):
3. The metal surface treating agent according to claim 1, wherein the group is a group represented by the following formula and directly bonded to the resonance structure, or a group represented by the following general formula (2). —CH 2 X (1) —ψ—CH 2 X (2) (where X is —OR 1 , —NR 2 R 3 , —N + R 4 R 5 R 6 A
Or a halogen atom, and R 1 to R 6 are each independently
A hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear or branched hydroxyalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A - is a hydroxyl ion or an acid ion;
Is a group having an electron donating inducing effect).
【請求項4】 有機化合物(A)が下記一般式(I)、
(II)又は(III)で示される化合物である請求項
1〜3のいずれか1項に記載の金属表面処理剤: 【化1】 (一般式(I)、(II)又は(III)において、 φは共鳴混成構造を表し、 Yは−OR9a、−R9a、−Oa及び−aから選ばれ、
ここでR9は炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキレ
ン基、炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアル
キレン基又は重合度1〜10のポリオキシアルキレン基
(各アルキレン基は炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝ア
ルキレン基である)であり、aは親電子反応性の官能基
(a1)、及びリン酸基、ホスホン酸基、シラノール
基、アルコキシシリル基、メルカプト基及びスルホニウ
ム基から選ばれる少なくとも1種の官能基(a2)から
選ばれる少なくとも1種の官能基(a)であり、 R7は炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキレン基、
炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝ヒドロキシアルキレン
基又は重合度1〜10のポリオキシアルキレン基(各ア
ルキレン基は炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝アルキレ
ン基である)であり、 R8は水素原子又はメチル基であり、 n1は0又は1〜30の整数、n2は1〜15の整数、
n3は3〜100の整数、m1は0又は1〜7の整数、
m2は0又は1〜7の整数、m3は1〜7の整数、pは
0又は1〜30の整数であり、n3/(n3+p)=
0.6〜1.0であり、 Zはn3で括られた構造とは異なる、エチレン性二重結
合を有する化合物のエチレン性二重結合が開いてできる
基である)。
4. The organic compound (A) is represented by the following general formula (I):
The metal surface treating agent according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by (II) or (III): (In the general formula (I), (II) or (III), φ represents a resonance hybrid structure, Y is selected from —OR 9 a, —R 9 a, —Oa, and −a,
Here, R 9 is a straight-chain or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, a straight-chain or branched hydroxyalkylene group having 1 to 5 carbon atoms, or a polyoxyalkylene group having a polymerization degree of 1 to 10 (each alkylene group is A is a linear or branched alkylene group of formulas 1 to 5, and a is an electrophilic reactive functional group (a1), and a phosphoric acid group, a phosphonic acid group, a silanol group, an alkoxysilyl group, a mercapto group and At least one functional group (a) selected from at least one functional group (a2) selected from a sulfonium group, R 7 is a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms,
A straight-chain or branched hydroxyalkylene group having 1 to 5 carbon atoms or a polyoxyalkylene group having a polymerization degree of 1 to 10 (each alkylene group is a straight-chain or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms); 8 is a hydrogen atom or a methyl group, n1 is 0 or an integer of 1 to 30, n2 is an integer of 1 to 15,
n3 is an integer of 3 to 100, m1 is 0 or an integer of 1 to 7,
m2 is 0 or an integer of 1 to 7, m3 is an integer of 1 to 7, p is 0 or an integer of 1 to 30, and n3 / (n3 + p) =
Z is a group formed by opening the ethylenic double bond of a compound having an ethylenic double bond, which is different from the structure enclosed by n3).
【請求項5】 さらに、バナジウム、ジルコニウム、チ
タニウム、モリブデン、タングステン、マンガン及びセ
リウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を
含む金属化合物(B)を含有する請求項1〜4のいずれ
か1項に記載の金属表面処理剤。
5. The method according to claim 1, further comprising a metal compound (B) containing at least one metal selected from the group consisting of vanadium, zirconium, titanium, molybdenum, tungsten, manganese and cerium. The metal surface treating agent according to the above item.
【請求項6】 さらに、重量平均分子量1,000〜
1,000,000の有機高分子(C)を溶液又は分散
状態で含有する請求項1〜5のいずれか1項に記載の金
属表面処理剤。
6. The weight average molecular weight of 1,000 to
The metal surface treating agent according to any one of claims 1 to 5, comprising 1,000,000 organic polymers (C) in a solution or dispersion state.
【請求項7】 さらに、エッチング剤(D)を含有する
請求項1〜6のいずれか1項に記載の金属表面処理剤。
7. The metal surface treating agent according to claim 1, further comprising an etching agent (D).
【請求項8】 金属材料表面を、請求項1〜7のいずれ
か1項に記載の金属表面処理剤で処理した後、前記材料
の温度が50〜250℃になるように加熱乾燥すること
を特徴とする金属材料の表面処理方法。
8. After the metal material surface is treated with the metal surface treating agent according to any one of claims 1 to 7, the material is heated and dried so that the temperature of the material is 50 to 250 ° C. Characteristic surface treatment method for metal materials.
【請求項9】 請求項8記載の表面処理方法を用いて形
成された皮膜を有する金属材料。
9. A metal material having a film formed by using the surface treatment method according to claim 8.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003253463A (en) * 2001-12-26 2003-09-10 Sumitomo Metal Ind Ltd Non-chromium treatment of galvanized steel sheet
JP2006108255A (en) * 2004-10-01 2006-04-20 Tdk Corp Rare earth bond magnet and manufacturing method thereof
WO2008062618A1 (en) * 2006-11-21 2008-05-29 Nihon Parkerizing Co., Ltd. Aqueous surface treatment for environment-friendly precoated metal materials, surface-treated metal materials, and environment-friendly precoated metal materials
WO2008065696A1 (en) * 2006-11-27 2008-06-05 Nihon Parkerizing Co., Ltd. Surface-treating agent, metallic material treated with the same, and novel compound and process for producing the same
JP2012514690A (en) * 2009-08-21 2012-06-28 攀鋼集団鋼鉄▲凡▼▲太▼股分有限公司 Passivation treatment agent for hot-dip galvanized sheet, its preparation method and application
JP2012527517A (en) * 2009-05-18 2012-11-08 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン On-demand free corrosion inhibitor composition
US8409661B2 (en) 2004-11-10 2013-04-02 Chemetall Gmbh Process for producing a repair coating on a coated metallic surface
US8784991B2 (en) 2005-04-04 2014-07-22 Chemetall Gmbh Process for coating metallic surfaces with an aqueous composition, and this composition
WO2014156695A1 (en) 2013-03-28 2014-10-02 日本ペイント株式会社 Agent for treating metal surface, and method for treating metal surface
US9963786B2 (en) 2013-03-15 2018-05-08 Henkel Ag & Co. Kgaa Inorganic composite coatings comprising novel functionalized acrylics
US11142655B2 (en) 2004-11-10 2021-10-12 Chemetall Gmbh Process for coating metallic surfaces with a multicomponent aqueous composition
CN117684232A (en) * 2024-02-02 2024-03-12 山西银光华盛镁业股份有限公司 Local conductive oxidation treatment method based on micro-arc oxidation of magnesium alloy

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4683582B2 (en) * 2005-02-02 2011-05-18 日本パーカライジング株式会社 Water-based metal material surface treatment agent, surface treatment method and surface treatment metal material
WO2006082946A1 (en) * 2005-02-02 2006-08-10 Nihon Parkerizing Co., Ltd. Aqueous surface treating agent for metal material, surface treating method and surface-treated metal material
CN100366801C (en) * 2005-08-30 2008-02-06 江阴长发耐指纹钢板有限公司 Surface treatment method for environment-friendly chromium-free zirconium-containing electro-galvanized fingerprint resistant steel sheet
CN101289741B (en) * 2007-04-18 2010-05-19 宝山钢铁股份有限公司 Chromium-free passivation solution for surface treatment of electro-galvanized steel sheet and application method thereof
CN101608306B (en) * 2008-06-18 2010-12-22 攀钢集团钢铁钒钛股份有限公司 Passivating solution and surface treatment method for galvanized material
CN103525282A (en) * 2013-09-29 2014-01-22 武汉市吉瑞化工科技有限公司 Fingerprint-resistant membrane paint and preparation method thereof
CN117004939A (en) * 2023-08-08 2023-11-07 湖南金裕环保科技有限公司 Manganese-zirconium series surface conditioner, preparation method and application

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003253463A (en) * 2001-12-26 2003-09-10 Sumitomo Metal Ind Ltd Non-chromium treatment of galvanized steel sheet
JP2006108255A (en) * 2004-10-01 2006-04-20 Tdk Corp Rare earth bond magnet and manufacturing method thereof
US8409661B2 (en) 2004-11-10 2013-04-02 Chemetall Gmbh Process for producing a repair coating on a coated metallic surface
US11142655B2 (en) 2004-11-10 2021-10-12 Chemetall Gmbh Process for coating metallic surfaces with a multicomponent aqueous composition
US9879349B2 (en) 2004-11-10 2018-01-30 Chemetall Gmbh Method for coating metallic surfaces with an aqueous composition
US9327315B2 (en) 2004-11-10 2016-05-03 Chemetall Gmbh Process for producing a repair coating on a coated metallic surface
US9254507B2 (en) 2004-11-10 2016-02-09 Chemetall Gmbh Process for producing a repair coating on a coated metallic surface
US8807067B2 (en) 2004-11-10 2014-08-19 Chemetall Gmbh Tool for the application of a repair coating to a metallic surface
US8784991B2 (en) 2005-04-04 2014-07-22 Chemetall Gmbh Process for coating metallic surfaces with an aqueous composition, and this composition
KR101129212B1 (en) 2006-11-21 2012-03-26 니혼 파커라이징 가부시키가이샤 Aqueous surface treatment for environment-friendly precoated metal materials, surface-treated metal materials, and environment-friendly precoated metal materials
WO2008062618A1 (en) * 2006-11-21 2008-05-29 Nihon Parkerizing Co., Ltd. Aqueous surface treatment for environment-friendly precoated metal materials, surface-treated metal materials, and environment-friendly precoated metal materials
JP4934677B2 (en) * 2006-11-27 2012-05-16 日本パーカライジング株式会社 Surface treatment agent, metal material using the same, novel compound and production method thereof
JPWO2008065696A1 (en) * 2006-11-27 2010-03-04 日本パーカライジング株式会社 Surface treatment agent, metal material using the same, novel compound and production method thereof
WO2008065696A1 (en) * 2006-11-27 2008-06-05 Nihon Parkerizing Co., Ltd. Surface-treating agent, metallic material treated with the same, and novel compound and process for producing the same
JP2012527517A (en) * 2009-05-18 2012-11-08 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン On-demand free corrosion inhibitor composition
KR101754690B1 (en) 2009-05-18 2017-07-06 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 Release on demand corrosion inhibitor composition
JP2012514690A (en) * 2009-08-21 2012-06-28 攀鋼集団鋼鉄▲凡▼▲太▼股分有限公司 Passivation treatment agent for hot-dip galvanized sheet, its preparation method and application
US9963786B2 (en) 2013-03-15 2018-05-08 Henkel Ag & Co. Kgaa Inorganic composite coatings comprising novel functionalized acrylics
WO2014156695A1 (en) 2013-03-28 2014-10-02 日本ペイント株式会社 Agent for treating metal surface, and method for treating metal surface
US9382635B2 (en) 2013-03-28 2016-07-05 Nippon Paint Surf Chemicals Co., Ltd. Metal surface treatment agent, and metal surface treatment method
CN117684232A (en) * 2024-02-02 2024-03-12 山西银光华盛镁业股份有限公司 Local conductive oxidation treatment method based on micro-arc oxidation of magnesium alloy

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