JP2001323367A - Method for vapor depositing organic compound, and method for purifying organic compound - Google Patents
Method for vapor depositing organic compound, and method for purifying organic compoundInfo
- Publication number
- JP2001323367A JP2001323367A JP2001056707A JP2001056707A JP2001323367A JP 2001323367 A JP2001323367 A JP 2001323367A JP 2001056707 A JP2001056707 A JP 2001056707A JP 2001056707 A JP2001056707 A JP 2001056707A JP 2001323367 A JP2001323367 A JP 2001323367A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic compound
- metal
- ceramic
- powder
- purifying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【技術分野】本発明は、有機化合物の蒸着方法、及び有
機化合物の精製方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for depositing an organic compound and a method for purifying an organic compound.
【0002】[0002]
【従来技術及びその問題点】有機エレクトロルミネッセ
ント素子(以下、有機EL素子)に代表される有機化合
物薄膜を有する素子の成膜方法として、一般に真空中で
の加熱蒸着方法が採用されている。具体的には、例え
ば、外側にフィラメントが巻かれたセラミックス製のる
つぼに有機化合物の粉体を収容し、フィラメントに通電
してるつぼを加熱することにより内部の有機化合物を昇
華させて被蒸着物に蒸着する方法である。2. Description of the Related Art As a method for forming an element having an organic compound thin film typified by an organic electroluminescent element (hereinafter referred to as an organic EL element), a heat evaporation method in a vacuum is generally adopted. . More specifically, for example, an organic compound powder is housed in a ceramic crucible having a filament wound on the outside, and the crucible is heated by energizing the filament to sublimate the organic compound inside to deposit a substance. This is a method of vapor deposition.
【0003】しかし、このような蒸着方法では、熱伝導
率の低い有機化合物をるつぼの外部から加熱するため、
熱が内部にまで行き渡らず、るつぼ内の有機化合物への
熱伝導が不均一となり、蒸着が進行するにつれて、昇華
される部分と昇華されない部分が生じ、昇華効率が悪く
蒸着速度の低下を招いていた。特に、内壁部に接触して
いる部分は、局所的に過度に加熱され、熱分解されてし
まう場合があった。熱分解されると、分解物が成膜中に
混入し、素子の性能を低下させる原因となる。さらに、
量産装置を視野に入れた場合、るつぼの容量は、必然的
に大きくなり、それに伴い、るつぼの開口径に比べ深さ
が大きくなるため、有機化合物が経時的に減少するにつ
れ、いわゆる煙突効果により有機化合物分子が指向性を
もつことになり、被蒸着面に均一に成膜できなくなる。
そのため、従来は、るつぼの開口部に複数の穴を有する
蓋体を配設して、煙突効果による有機化合物分子の指向
性を排除していた。However, in such a vapor deposition method, since an organic compound having low thermal conductivity is heated from outside the crucible,
The heat does not reach the inside, the heat conduction to the organic compound in the crucible becomes non-uniform, and as the deposition proceeds, there are portions that are sublimated and portions that are not sublimated, resulting in poor sublimation efficiency and a decrease in the deposition rate. Was. In particular, the portion that is in contact with the inner wall may be excessively locally heated and thermally decomposed. When thermally decomposed, a decomposed product is mixed during film formation, which causes a reduction in device performance. further,
In view of mass production equipment, the capacity of the crucible is inevitably large, and the depth is larger than the opening diameter of the crucible, so as the organic compound decreases with time, the so-called chimney effect Since the organic compound molecules have directivity, it becomes impossible to form a uniform film on the surface to be deposited.
Therefore, conventionally, a lid having a plurality of holes is provided at the opening of the crucible to eliminate the directivity of organic compound molecules due to the chimney effect.
【0004】また、有機化合物の精製においても、上述
のようにるつぼに有機化合物を収容して加熱し、昇華ま
たは気化させた有機化合物を冷却することによって該有
機化合物のみを抽出する精製方法が知られている。この
場合も、有機化合物への熱伝導が不均一であるため、精
製効率が悪く、また、るつぼの内壁部に接触している部
分の有機化合物が過剰加熱によって熱分解され、分解物
が不純物として混入してしまう場合があった。[0004] In the purification of organic compounds, a purification method is known in which an organic compound is contained in a crucible and heated as described above, and the sublimated or vaporized organic compound is cooled to extract only the organic compound. Have been. Also in this case, the heat conduction to the organic compound is not uniform, so the purification efficiency is poor, and the organic compound in the portion in contact with the inner wall portion of the crucible is thermally decomposed by excessive heating, and the decomposed product becomes an impurity. In some cases, it was mixed.
【0005】[0005]
【発明の目的】本発明は、以上の問題点に鑑みてなされ
たものであり、収容容器に収容された有機化合物が略均
一に加熱される、蒸着効率の高い有機化合物の蒸着方法
を得ることを目的とする本発明はまた、高効率、高純度
で精製可能な有機化合物の精製方法を得ることを目的と
する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a method for vapor-depositing an organic compound having a high vapor deposition efficiency, in which an organic compound contained in a container is heated substantially uniformly. Another object of the present invention is to provide a method for purifying an organic compound which can be purified with high efficiency and high purity.
【0006】[0006]
【発明の概要】本発明は、有機化合物の粉体が収容され
た収容容器を加熱して気化又は昇華させるに際し、有機
化合物の粉体を、セラミックス、金属、又はセラミック
スを被覆した金属などの熱伝導率の大きい物質と混合す
ると、セラミックス、金属、又はセラミックスを被覆し
た金属が内部まで熱を伝搬し、均一に加熱することがで
きることを見出してなされたものであり、蒸着方法の態
様と、精製方法の態様とがある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for heating and vaporizing or sublimating a container containing a powder of an organic compound by heating the powder of the organic compound with ceramics, metal, or metal coated with ceramics. It has been found that when mixed with a substance having high conductivity, ceramics, metal, or metal coated with ceramics can propagate heat to the inside and can be uniformly heated. There are embodiments of the method.
【0007】すなわち本発明は、蒸着方法の態様による
と、有機化合物の粉体が収容された収容容器を真空中に
おいて加熱し、該有機化合物を気化又は昇華させて被蒸
着面に付着させて、該被蒸着面上に有機化合物の薄膜を
形成する有機化合物の蒸着方法において、有機化合物の
粉体を、セラミックス、金属、及びセラミックスを被覆
した金属のうちの少なくとも1種の粉体または破砕体と
混合して収容容器に収容し、収容容器を加熱することを
特徴としている。セラミックス、金属、又はセラミック
スを被覆した金属は、有機化合物より熱伝導率が大き
く、有機化合物が気化又は昇華するとき気化又は昇華す
ることがない。That is, according to the present invention, according to the aspect of the vapor deposition method, the container containing the powder of the organic compound is heated in a vacuum, and the organic compound is vaporized or sublimated and adhered to the surface to be vapor-deposited. An organic compound vapor deposition method for forming a thin film of an organic compound on the surface to be vapor-deposited, wherein the powder of the organic compound is formed of a ceramic, a metal, and a powder or a crushed body of at least one of metals coated with the ceramic. It is characterized in that the mixture is mixed and stored in a storage container, and the storage container is heated. Ceramics, metals, or metals coated with ceramics have higher thermal conductivity than organic compounds, and do not vaporize or sublime when the organic compounds vaporize or sublime.
【0008】本発明は、精製方法の態様によると、有機
化合物の粉体が収容された収容容器を加熱し、該有機化
合物を気化又は昇華させて、有機化合物のみを抽出する
有機化合物の精製方法において、有機化合物の粉体を、
セラミックス、金属、及びセラミックスを被覆した金属
のうちの少なくとも1種の粉体または破砕体と混合して
収容容器に収容し、収容容器を加熱することを特徴とし
ている。According to an aspect of the present invention, there is provided a method for purifying an organic compound in which a container containing powder of an organic compound is heated to vaporize or sublime the organic compound and extract only the organic compound. In, the organic compound powder,
It is characterized in that it is mixed with at least one kind of powder or crushed body of ceramics, metal, and metal coated with ceramics, stored in a storage container, and the storage container is heated.
【0009】いずれの態様においても、有機化合物と、
セラミックス、金属、及びセラミックスを被覆した金属
のうちの少なくとも1種との混合比は体積比で、1:5
0〜50:1とすることが好ましい。[0009] In any of the embodiments, an organic compound;
The mixing ratio with at least one of ceramics, metal, and metal coated with ceramic is 1: 5 by volume.
It is preferably 0 to 50: 1.
【0010】セラミックス、金属、又はセラミックスを
被覆した金属の粉体の粒径は、0.01μm〜6mmと
することが好ましい。The particle size of the ceramic, metal, or metal powder coated with the ceramic is preferably 0.01 μm to 6 mm.
【0011】セラミックスは、多孔質体のものを使用す
ることができる。また、セラミックスは、より具体的に
は、金属酸化物、金属窒化物、炭化物、炭素のいずれか
とすることができる。例えば、窒化アルミニウム、炭化
ケイ素、炭素とすることができる。炭素としては、特に
制限はなく、様々なものを使用することができ、例え
ば、活性炭、カーボンブラック、グラファイトなどが挙
げられ、これらのうち理論値密度が高いグラファイトが
最も好ましい。As the ceramic, a porous ceramic can be used. Further, the ceramic can be more specifically any one of a metal oxide, a metal nitride, a carbide, and carbon. For example, aluminum nitride, silicon carbide, and carbon can be used. The carbon is not particularly limited and various carbons can be used. Examples thereof include activated carbon, carbon black, and graphite. Of these, graphite having a high theoretical density is most preferable.
【0012】本発明は、有機EL素子の蒸着又は精製に
適用することができ、この場合、有機化合物は有機EL
素子の形成に用いられる有機化合物である。また、収容
容器は、るつぼ又はボートとすることができる。The present invention can be applied to vapor deposition or purification of an organic EL device. In this case, the organic compound is an organic EL device.
An organic compound used for forming an element. Further, the storage container can be a crucible or a boat.
【0013】[0013]
【発明の実施形態】以下、本発明の有機化合物の蒸着方
法の実施形態について説明する。図1は本発明方法を実
施する蒸着装置10の一構成例を示す。この蒸着装置1
0は、蒸着物質を収容するるつぼ(収容容器)12、被
蒸着物13を支持する支持部材15、真空ポンプ16、
及び電源17を備えている。このうち、容器11と蓋体
18によって蒸着容器を形成しており、蒸着容器内は、
蒸着に際し、真空ポンプ16によって真空に保たれる。
蒸着物質及び被蒸着物13の出し入れは、蓋体18を脱
着して行う。るつぼ12は、外周部に、電源17に接続
された加熱用のフィラメント(電熱線)14が巻かれて
いて、フィラメント14は通電されると発熱してるつぼ
12を加熱する。以上のような蒸着装置は一般に使用さ
れているものであり周知である。また、本発明は、蒸着
装置自体の構成は問題にしない。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the method for depositing an organic compound according to the present invention will be described. FIG. 1 shows an example of the configuration of a vapor deposition apparatus 10 for implementing the method of the present invention. This vapor deposition device 1
0 denotes a crucible (accommodating container) 12 for accommodating the evaporation material, a support member 15 for supporting the object 13 to be evaporated,
And a power supply 17. Among these, the vapor deposition container is formed by the container 11 and the lid 18, and the inside of the vapor deposition container is
During the vapor deposition, the vacuum is maintained by the vacuum pump 16.
The deposition material and the deposition target 13 are taken in and out by detaching the lid 18. The crucible 12 has a heating filament (heating wire) 14 connected to a power supply 17 wound around the outer periphery thereof. When the filament 14 is energized, it generates heat and heats the crucible 12. The above-described vapor deposition apparatuses are generally used and well known. In the present invention, the configuration of the vapor deposition apparatus itself does not matter.
【0014】るつぼ12には、図2に示すように、有機
化合物粉体18とセラミックス粉体19とが撹拌混合さ
れた状態で収容されている。有機化合物粉体18とセラ
ミックス粉体19の混合比は、特に限定はないが、体積
比で、1:50〜50:1とすることが好ましい。蒸着
する有機化合物は、昇華性のものや、融解を経て気化す
るもの、融解しながら気化するものなどを用いることが
できる。セラミックスは、有機化合物より熱伝導率が高
く、かつ有機化合物が昇華(気化)する温度で、昇華
(気化)しないものを用いる。As shown in FIG. 2, the crucible 12 contains an organic compound powder 18 and a ceramic powder 19 in a state of being stirred and mixed. The mixing ratio of the organic compound powder 18 and the ceramic powder 19 is not particularly limited, but is preferably 1:50 to 50: 1 by volume. As the organic compound to be deposited, a sublimable compound, a compound that evaporates through melting, a compound that evaporates while melting, or the like can be used. Ceramics that have higher thermal conductivity than the organic compound and that do not sublimate (evaporate) at a temperature at which the organic compound sublimates (vaporizes) are used.
【0015】被蒸着物13に有機化合物を蒸着するに
は、まず、真空ポンプ16を稼動して蒸着装置10内部
を真空に保ち、フィラメント14に通電してるつぼ12
を加熱する。るつぼ12を加熱すると内部の有機化合物
粉体18とセラミックス粉体19は、るつぼ12の内壁
部から熱が伝搬して加熱される。セラミックスは熱伝導
率が高いため、るつぼ12の内壁部近傍で加熱されたセ
ラミックス粉体19は中心部のセラミックス粉体19ま
で連鎖的に熱を伝搬し、るつぼ12の内壁部から離れた
位置にあるセラミックス粉体19も加熱され、その周囲
に位置する有機化合物粉体18も加熱される。一定温度
に達すると、有機化合物粉体18は昇華(気化)し、被
蒸着物13に付着し堆積して薄膜が形成される。セラミ
ックス粉体は変化しない。In order to deposit an organic compound on the object 13, first, the vacuum pump 16 is operated to keep the inside of the vapor deposition apparatus 10 at a vacuum, and the crucible 12 is energized with the filament 14.
Heat. When the crucible 12 is heated, the internal organic compound powder 18 and the ceramic powder 19 are heated by the propagation of heat from the inner wall of the crucible 12. Since ceramics has a high thermal conductivity, the ceramic powder 19 heated near the inner wall of the crucible 12 propagates heat in a chain to the ceramic powder 19 at the center, and is moved away from the inner wall of the crucible 12. A certain ceramic powder 19 is also heated, and an organic compound powder 18 located around the ceramic powder 19 is also heated. When the temperature reaches a certain temperature, the organic compound powder 18 sublimates (vaporizes), adheres to and deposits on the object 13 to form a thin film. Ceramic powder does not change.
【0016】以上のように、本実施形態では、有機化合
物粉体18をセラミックス粉体19と混合してるつぼ1
2に収容しているため、セラミックス粉体19が、るつ
ぼ12の内壁部からの熱を中心部にまで伝搬させ、収容
した有機化合物粉体18全体を略均一に加熱して昇華
(気化)させ、効率よく蒸着をすることができる。るつ
ぼ12の内壁部近傍に位置する有機化合物粉体18は過
剰加熱されないため、熱分解が起こらず、有機化合物は
劣化しない。また、量産時に底が深いるつぼを使用した
場合においても、セラミックスの効果によってるつぼ内
の有機化合物全体から満遍なく昇華されるから、有機化
合物が減少した場合でも煙突効果を防止することができ
る。As described above, in this embodiment, the crucible 1 is prepared by mixing the organic compound powder 18 with the ceramic powder 19.
2, the ceramic powder 19 propagates heat from the inner wall of the crucible 12 to the central portion, and heats and uniformly sublimates (vaporizes) the whole of the contained organic compound powder 18. , And can be efficiently vapor-deposited. Since the organic compound powder 18 located near the inner wall of the crucible 12 is not overheated, thermal decomposition does not occur and the organic compound does not deteriorate. In addition, even when a crucible having a deep bottom is used during mass production, the effect of ceramics allows the entire organic compound in the crucible to be sublimated uniformly, so that the chimney effect can be prevented even when the amount of the organic compound decreases.
【0017】次に、本発明の有機化合物の精製方法の実
施形態について説明する。図3は、本発明方法を実施す
る昇華精製装置としての管状炉20を示している。管状
炉20は、図4の断面図に示すように、中心穴24の周
囲に位置させて、全体として筒状をなす高温フィラメン
ト26aと、低温フィラメント26bが軸方向に順に備
えられている。精製する有機化合物によって異なるが、
例えば、高温フィラメント26aは300℃程度の高温
に、低温フィラメント26bは150℃程度の低温に発
熱するように設定される。管状炉20の中心穴24に
は、両端に開口部25、27を有する炉心管28が挿入
される。炉心管28は、複数の透明の石英管28a〜2
8dが連結されて形成されていて、両端体の開口部2
5、27は、細径に形成されている。また、炉心管28
は、開口部25から窒素やアルゴンなどの不活性ガスが
流入され開口部27から排気される。また同時に、真空
ポンプ等によって開口部27から強制的に吸引して炉心
管28内部を減圧状態にしておいてもよい。Next, an embodiment of the method for purifying an organic compound of the present invention will be described. FIG. 3 shows a tubular furnace 20 as a sublimation purification apparatus for performing the method of the present invention. As shown in the cross-sectional view of FIG. 4, the tubular furnace 20 is provided with a high-temperature filament 26a and a low-temperature filament 26b, which are formed in a cylindrical shape as a whole, and are arranged in the axial direction around the center hole 24. Depending on the organic compound to be purified,
For example, the high-temperature filament 26a is set to generate heat at a high temperature of about 300 ° C., and the low-temperature filament 26b is set to generate heat at a low temperature of about 150 ° C. A furnace tube 28 having openings 25 and 27 at both ends is inserted into the center hole 24 of the tubular furnace 20. The furnace tube 28 includes a plurality of transparent quartz tubes 28a to 28a.
8d are connected to each other, and the openings 2 at both ends are formed.
5 and 27 are formed in a small diameter. The core tube 28
An inert gas such as nitrogen or argon flows into the opening 25 and is exhausted from the opening 27. At the same time, the inside of the furnace tube 28 may be depressurized by forcibly sucking it from the opening 27 using a vacuum pump or the like.
【0018】有機化合物を精製するには、周囲に高温フ
ィラメント26aが位置する石英管28a内に、不純物
を含有する精製すべき有機化合物粉体が収容されたボー
ト(収容容器)30を配置し、高温フィラメント26a
と低温フィラメント26bに通電するとともに、図4の
右端部から不活性ガスを流入させる。このボート30
は、高温フィラメント26aによって外部から加熱さ
れ、温度の上昇に伴い、抽出すべき純粋な有機化合物分
子が昇華(気化)し、不活性ガスの気流に流される。高
温フィラメント26aと低温フィラメント26bとの温
度差から、炉心管28内部には温度勾配があり、昇華
(気化)した有機化合物はその凝固点に達したところで
固化し石英管の内壁に付着する。低温フィラメント26
bによる温度でも揮発する有機化合物中の揮発性の不純
物は、不活性ガスの気流によって外部に排気される。ま
た、高温フィラメント26aでも揮発しない有機化合物
中の不揮発性の不純物は、ボート30内に残留する。精
製後の有機化合物は、有機化合物が付着した石英管を取
り外し、内壁に付着した有機化合物を掻き出して得る。
以上のような管状炉20を利用した精製は一般に行われ
ているものであり周知である。To purify the organic compound, a boat (container) 30 containing an organic compound powder to be purified containing impurities is placed in a quartz tube 28a around which a high-temperature filament 26a is located, High temperature filament 26a
And the low-temperature filament 26b, and an inert gas is caused to flow in from the right end of FIG. This boat 30
Is heated from the outside by the high-temperature filament 26a, and as the temperature rises, the pure organic compound molecules to be extracted are sublimated (vaporized) and flow into an inert gas stream. Due to the temperature difference between the high temperature filament 26a and the low temperature filament 26b, there is a temperature gradient inside the furnace tube 28, and the sublimated (vaporized) organic compound solidifies when it reaches its freezing point and adheres to the inner wall of the quartz tube. Low temperature filament 26
Volatile impurities in the organic compound which evaporate even at the temperature of b are exhausted to the outside by the flow of the inert gas. In addition, non-volatile impurities in the organic compound that do not volatilize even with the high-temperature filament 26a remain in the boat 30. The purified organic compound is obtained by removing the quartz tube to which the organic compound has adhered and scraping out the organic compound attached to the inner wall.
The above-described purification using the tubular furnace 20 is generally performed and is well known.
【0019】本発明による有機化合物の精製方法では、
上述の図2と同様に、有機化合物粉体18と、セラミッ
クス粉体19とを撹拌混合してボート30に収容し、管
状炉20によって同様に精製を行う。有機化合物粉体1
8をセラミックス粉体19と混合してボート30に収容
しているため、セラミックス粉体19が、ボート30の
内壁部からの熱を中心部にまで伝搬させ、収容した有機
化合物粉体18全体を略均一に加熱して昇華(気化)さ
せるため、効率よく精製をすることができる。また、ボ
ート30の内壁部近傍に位置する有機化合物は過剰加熱
されないため、熱分解が起こらず、不純物である分解物
が混入しない。In the method for purifying an organic compound according to the present invention,
As in FIG. 2 described above, the organic compound powder 18 and the ceramic powder 19 are stirred and mixed, accommodated in the boat 30, and similarly purified by the tubular furnace 20. Organic compound powder 1
Since the powder 8 is mixed with the ceramic powder 19 and stored in the boat 30, the ceramic powder 19 propagates heat from the inner wall portion of the boat 30 to the center, and the whole of the stored organic compound powder 18 is removed. Since the sublimation (vaporization) is performed by heating substantially uniformly, purification can be performed efficiently. In addition, since the organic compound located near the inner wall of the boat 30 is not overheated, thermal decomposition does not occur, and decomposition products as impurities do not mix.
【0020】本実施形態では、有機化合物粉体とセラミ
ックス粉体を、粉体の状態で混合してるつぼに収容した
が、両粉体を溶剤とともに混合してスラリー状とし、そ
の後乾燥させて粉体としたものを用いてもよい。In this embodiment, the organic compound powder and the ceramic powder are mixed in a powder state and stored in a crucible. However, both powders are mixed together with a solvent to form a slurry, and then dried to form a powder. A body may be used.
【0021】また、本実施形態では、管状炉を用いた精
製装置を示したが、有機化合物を加熱し、昇華(気化)
させて精製する精製装置であれば、他の精製装置にも適
用することができる。Further, in this embodiment, the purification apparatus using the tubular furnace is shown, but the organic compound is heated and sublimated (vaporized).
The present invention can be applied to other refining apparatuses as long as they are purified by refining.
【0022】本発明は、上述の有機化合物の蒸着方法
と、有機化合物の精製方法の両実施形態において、有機
化合物粉体と混合するセラミックスの種類を問わない
が、具体的には、少なくとも、金属酸化物、金属窒化
物、炭化物、炭素、例えば、窒化アルミニウムや、炭化
ケイ素、炭素(例えば、活性炭、カーボンブラック、グ
ラファイト、好ましくは理論値密度の高いグラファイ
ト)などを使用することができる。また、セラミックス
の代わりに金属、またはセラミックスを被覆した金属と
してもよい。使用できる金属としては、タンタルやタン
グステンなどがある。セラミックスを被覆した金属は、
例えば、CVDやスパッタ等の手法で金属粒の表面にセ
ラミックスを被覆して得ることができる。セラミック
ス、金属、またはセラミックスを被覆した金属のいずれ
の場合も、粉体または破砕体として混合することができ
る。その粒径は、0.01μm〜6mmとすることが好
ましい。The present invention is not limited to the type of ceramic mixed with the organic compound powder in both the above embodiments of the organic compound vapor deposition method and the organic compound purification method. Oxides, metal nitrides, carbides, carbon, for example, aluminum nitride, silicon carbide, carbon (for example, activated carbon, carbon black, graphite, preferably graphite having a high theoretical density) can be used. Further, instead of ceramics, metal or metal coated with ceramics may be used. Examples of metals that can be used include tantalum and tungsten. Metal coated ceramics
For example, it can be obtained by coating ceramics on the surface of metal particles by a technique such as CVD or sputtering. Any of ceramic, metal, and metal coated with ceramic can be mixed as a powder or a crushed body. The particle size is preferably 0.01 μm to 6 mm.
【0023】また、両実施形態において、有機化合物の
粉体を収容する収容容器として、るつぼとボートを例示
したが、その形態を問わない。Further, in both embodiments, the crucible and the boat are exemplified as the container for accommodating the powder of the organic compound, but the form is not limited.
【0024】本発明の有機化合物の蒸着方法、例えば、
有機EL素子における有機化合物の蒸着に適用すること
ができる。その有機化合物は、正孔注入層及び正孔輸送
性材料、電子注入層及び電子輸送性材料、発光材料及び
ドープ材料となりうる物質などを使用することができ、
各層を効率よく形成することができる。同様に、有機化
合物の精製方法は、有機EL素子に用いられる有機化合
物の精製に適用することができる。The method for vapor deposition of an organic compound according to the present invention, for example,
The present invention can be applied to vapor deposition of an organic compound in an organic EL device. As the organic compound, a hole injection layer and a hole transporting material, an electron injection layer and an electron transporting material, a substance which can be a light emitting material and a doping material, and the like can be used.
Each layer can be efficiently formed. Similarly, the method for purifying an organic compound can be applied to the purification of an organic compound used in an organic EL device.
【0025】[0025]
【発明の効果】本発明によると、収容容器に収容された
有機化合物が略均一に加熱される、蒸着効率の高い有機
化合物の蒸着方法を得ることができる。また、高効率、
高純度で精製可能な有機化合物の精製方法を得ることが
できる。According to the present invention, it is possible to obtain a method for vapor-depositing an organic compound having a high vapor deposition efficiency, in which the organic compound contained in the container is heated substantially uniformly. Also, high efficiency,
A method for purifying an organic compound that can be purified with high purity can be obtained.
【図1】本発明の蒸着方法を適用する蒸着装置の一例を
示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an evaporation apparatus to which an evaporation method of the present invention is applied.
【図2】有機化合物粉体とセラミックス粉体を収容した
るつぼの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a crucible containing an organic compound powder and a ceramic powder.
【図3】本発明の精製方法を適用する昇華精製装置(管
状炉)の一例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an example of a sublimation purification apparatus (tubular furnace) to which the purification method of the present invention is applied.
【図4】図3の管状炉の断面図である。FIG. 4 is a sectional view of the tubular furnace of FIG. 3;
10 蒸着装置 12 るつぼ(収容容器) 14 フィラメント 20 管状炉 24 中心穴 26a 高温フィラメント 26b 低温フィラメント 28 炉心管 30 ボート(収容容器) DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Evaporation apparatus 12 Crucible (container) 14 Filament 20 Tubular furnace 24 Center hole 26a High temperature filament 26b Low temperature filament 28 Core tube 30 Boat (Container)
フロントページの続き (72)発明者 遠藤 潤 神奈川県藤沢市桐原町3番地 株式会社ア イメス内 (72)発明者 森 浩一 神奈川県藤沢市桐原町3番地 株式会社ア イメス内 (72)発明者 横井 啓 神奈川県藤沢市桐原町3番地 株式会社ア イメス内Continued on the front page (72) Inventor Jun Endo 3 Kirihara-cho, Fujisawa-shi, Kanagawa Prefecture Inside A-Imes Corporation (72) Inventor Koichi Mori 3 Kirihara-cho, Fujisawa-shi, Kanagawa Prefecture A-Imes Corporation (72) Inventor Yokoi Kei 3 Kirihara-cho, Fujisawa-shi, Kanagawa Pref.
Claims (16)
を真空中において加熱し、該有機化合物を気化又は昇華
させて被蒸着面に付着させて、該被蒸着面上に有機化合
物の薄膜を形成する有機化合物の蒸着方法において、 上記有機化合物の粉体を、セラミックス、金属、及びセ
ラミックスを被覆した金属のうちの少なくとも1種の粉
体または破砕体と混合して上記収容容器に収容し、該収
容容器を加熱することを特徴とする有機化合物の蒸着方
法。A container containing powder of an organic compound is heated in a vacuum to vaporize or sublimate the organic compound and adhere to the surface to be deposited, and a thin film of the organic compound is formed on the surface to be deposited. In the method of vapor-depositing an organic compound, the powder of the organic compound is mixed with at least one kind of powder or crushed material of ceramics, metal, and metal coated with ceramics, and the mixture is stored in the storage container. And heating the container.
おいて、上記有機化合物と、上記セラミックス、金属、
及びセラミックスを被覆した金属のうちの少なくとも1
種との混合比は体積比で、1:50〜50:1である有
機化合物の蒸着方法。2. The method according to claim 1, wherein the organic compound, the ceramic, the metal,
And at least one of metals coated with ceramics
A method for vapor deposition of an organic compound, wherein a mixing ratio with a seed is 1:50 to 50: 1 by volume.
着方法において、上記セラミックス、金属、又はセラミ
ックスを被覆した金属の粉体の粒径は、0.01μm〜
6mmである有機化合物の蒸着方法。3. The method according to claim 1, wherein the ceramic, metal, or metal powder coated with the ceramic has a particle size of 0.01 μm or more.
An organic compound vapor deposition method of 6 mm.
有機化合物の蒸着方法において、上記セラミックスは多
孔質体からなる有機化合物の蒸着方法。4. The method according to claim 1, wherein the ceramic is a porous material.
有機化合物の蒸着方法において、上記セラミックスは、
金属酸化物、金属窒化物、炭化物、炭素のいずれかであ
る有機化合物の蒸着方法。5. The method for vapor-depositing an organic compound according to claim 1, wherein the ceramic is:
An evaporation method of an organic compound selected from metal oxides, metal nitrides, carbides, and carbon.
おいて、上記セラミックスは、窒化アルミニウム、炭化
ケイ素又は炭素からなる有機化合物の蒸着方法。6. The method according to claim 5, wherein the ceramic is an organic compound comprising aluminum nitride, silicon carbide or carbon.
有機化合物の蒸着方法において、上記有機化合物は有機
エレクトロルミネッセント素子の形成に用いられる有機
化合物である有機化合物の蒸着方法。7. The method for depositing an organic compound according to claim 1, wherein the organic compound is an organic compound used for forming an organic electroluminescent device.
有機化合物の蒸着方法において、上記収容容器は、るつ
ぼ又はボートである有機化合物の蒸着方法。8. The method for vapor deposition of an organic compound according to claim 1, wherein the container is a crucible or a boat.
た収容容器を加熱し、該有機化合物を気化又は昇華させ
て、有機化合物のみを抽出する有機化合物の精製方法に
おいて、 上記有機化合物の粉体を、セラミックス、金属、及びセ
ラミックスを被覆した金属のうちの少なくとも1種の粉
体または破砕体と混合して上記収容容器に収容し、該収
容容器を加熱することを特徴とする有機化合物の精製方
法。9. A method for purifying an organic compound in which a container containing powder of an organic compound to be purified is heated to vaporize or sublime the organic compound and extract only the organic compound, Organic compound characterized by mixing powder with at least one kind of powder or crushed material of ceramics, metal, and metal coated with ceramic, storing the mixed powder in the storage container, and heating the storage container. Purification method.
において、上記有機化合物と、上記セラミックス、金
属、及びセラミックスを被覆した金属のうちの少なくと
も1種との混合比は体積比で、1:50〜50:1であ
る有機化合物の精製方法。10. The method for refining an organic compound according to claim 9, wherein a mixing ratio of the organic compound to at least one of the ceramics, the metal, and the metal coated with the ceramic is 1: 1: A method for purifying an organic compound which is 50 to 50: 1.
の精製方法において、上記セラミックス、金属、又はセ
ラミックスを被覆した金属の粉体の粒径は、0.01μ
m〜6mmである有機化合物の精製方法。11. The method for refining an organic compound according to claim 9 or 10, wherein the particle diameter of the ceramic, metal, or metal powder coated with the ceramic is 0.01 μm.
A method for purifying an organic compound having a size of m to 6 mm.
載の有機化合物の精製方法において、上記セラミックス
は多孔質体からなる有機化合物の精製方法。12. The method for purifying an organic compound according to claim 9, wherein the ceramic is a porous body.
載の有機化合物の精製方法において、上記セラミックス
は、金属酸化物、金属窒化物、炭化物、炭素のいずれか
である有機化合物の精製方法。13. The method for purifying an organic compound according to claim 9, wherein the ceramic is any one of a metal oxide, a metal nitride, a carbide, and carbon.
法において、上記セラミックスは、窒化アルミニウム、
炭化ケイ素又は炭素からなる有機化合物の精製方法。14. The method for refining an organic compound according to claim 13, wherein the ceramic is aluminum nitride,
A method for purifying an organic compound comprising silicon carbide or carbon.
載の有機化合物の精製方法において、上記有機化合物は
有機エレクトロルミネッセント素子の形成に用いられる
有機化合物である有機化合物の精製方法。15. The method for purifying an organic compound according to claim 9, wherein the organic compound is an organic compound used for forming an organic electroluminescent device.
載の有機化合物の精製方法において、上記収容容器は、
るつぼ又はボートである有機化合物の精製方法。16. The method for purifying an organic compound according to claim 9, wherein the container is:
A method for purifying an organic compound which is a crucible or a boat.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001056707A JP2001323367A (en) | 2000-03-09 | 2001-03-01 | Method for vapor depositing organic compound, and method for purifying organic compound |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000064478 | 2000-03-09 | ||
JP2000-64478 | 2000-03-09 | ||
JP2001056707A JP2001323367A (en) | 2000-03-09 | 2001-03-01 | Method for vapor depositing organic compound, and method for purifying organic compound |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001323367A true JP2001323367A (en) | 2001-11-22 |
Family
ID=26587074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001056707A Pending JP2001323367A (en) | 2000-03-09 | 2001-03-01 | Method for vapor depositing organic compound, and method for purifying organic compound |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001323367A (en) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004152698A (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | Crucible for vapor deposition of sublimable material and vapor deposition method using the crucible |
JP2007084911A (en) * | 2005-03-23 | 2007-04-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Method for depositing metal oxide, method for producing composite material layer, and method for producing display device |
CN100380707C (en) * | 2002-02-11 | 2008-04-09 | 伊斯曼柯达公司 | Application of Organic Materials to Fabricate Organic Light-Emitting Devices |
JP2008291330A (en) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Ideal Star Inc | Vaporizer, and plasma treatment device having vaporizer |
KR100959824B1 (en) * | 2001-12-15 | 2010-05-28 | 에스케이씨 주식회사 | Purification Apparatus and Purification Method of Organic Electroluminescent Material |
JP2010534767A (en) * | 2007-07-26 | 2010-11-11 | セコ コーポレイション リミテッド | Multipurpose container for vacuum deposition material and method for manufacturing the same |
JP2011034812A (en) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Fujifilm Corp | Composition for organic electroluminescent element deposition, and method of manufacturing vapor deposited film |
JP2011246786A (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Optorun Co Ltd | Vapor deposition material for forming organic film |
US8357241B2 (en) | 2005-08-25 | 2013-01-22 | Canon Tokki Corporation | Method of organic material vacuum evaporation and apparatus thereof |
JP2014114491A (en) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Yuutekku:Kk | Vapor deposition source and vapor deposition apparatus |
JP2015182074A (en) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 出光興産株式会社 | Conveying jig, loading method, and purification method |
US9277619B2 (en) | 2010-03-23 | 2016-03-01 | UDC Ireland | Light emitting layer-forming solid material, organic electroluminescent device and method for producing the same |
JP7316599B1 (en) * | 2022-06-18 | 2023-07-28 | ノベリオンシステムズ株式会社 | steam generating material |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63235466A (en) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Vapor deposition method |
JPH01225769A (en) * | 1988-03-02 | 1989-09-08 | Sharp Corp | Vapor deposition source for thin vapor-deposited organic compound film |
JPH10330920A (en) * | 1997-06-05 | 1998-12-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Evaporation method and equipment |
-
2001
- 2001-03-01 JP JP2001056707A patent/JP2001323367A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63235466A (en) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Vapor deposition method |
JPH01225769A (en) * | 1988-03-02 | 1989-09-08 | Sharp Corp | Vapor deposition source for thin vapor-deposited organic compound film |
JPH10330920A (en) * | 1997-06-05 | 1998-12-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Evaporation method and equipment |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100959824B1 (en) * | 2001-12-15 | 2010-05-28 | 에스케이씨 주식회사 | Purification Apparatus and Purification Method of Organic Electroluminescent Material |
CN100380707C (en) * | 2002-02-11 | 2008-04-09 | 伊斯曼柯达公司 | Application of Organic Materials to Fabricate Organic Light-Emitting Devices |
JP2004152698A (en) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | Crucible for vapor deposition of sublimable material and vapor deposition method using the crucible |
JP2007084911A (en) * | 2005-03-23 | 2007-04-05 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Method for depositing metal oxide, method for producing composite material layer, and method for producing display device |
US8357241B2 (en) | 2005-08-25 | 2013-01-22 | Canon Tokki Corporation | Method of organic material vacuum evaporation and apparatus thereof |
TWI396758B (en) * | 2005-08-25 | 2013-05-21 | Canon Tokki Corp | Vacuum evaporation method and device for organic material |
JP2008291330A (en) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Ideal Star Inc | Vaporizer, and plasma treatment device having vaporizer |
JP2010534767A (en) * | 2007-07-26 | 2010-11-11 | セコ コーポレイション リミテッド | Multipurpose container for vacuum deposition material and method for manufacturing the same |
JP2011034812A (en) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Fujifilm Corp | Composition for organic electroluminescent element deposition, and method of manufacturing vapor deposited film |
KR101764810B1 (en) * | 2009-07-31 | 2017-08-03 | 유디씨 아일랜드 리미티드 | Composition for forming organic electroluminescence element, vapor deposition film, method for producing the vapor deposition film, and organic electroluminescence element |
US9277619B2 (en) | 2010-03-23 | 2016-03-01 | UDC Ireland | Light emitting layer-forming solid material, organic electroluminescent device and method for producing the same |
US10361387B2 (en) | 2010-03-23 | 2019-07-23 | Udc Ireland Limited | Light emitting layer-forming solid material, organic electroluminescent device and method for producing the same |
JP2011246786A (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Optorun Co Ltd | Vapor deposition material for forming organic film |
JP2014114491A (en) * | 2012-12-11 | 2014-06-26 | Yuutekku:Kk | Vapor deposition source and vapor deposition apparatus |
JP2015182074A (en) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 出光興産株式会社 | Conveying jig, loading method, and purification method |
JP7316599B1 (en) * | 2022-06-18 | 2023-07-28 | ノベリオンシステムズ株式会社 | steam generating material |
WO2023243109A1 (en) * | 2022-06-18 | 2023-12-21 | ノベリオンシステムズ株式会社 | Vapor generation material |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20010088412A (en) | Vapor deposition method of organic compound and refinement method of organic compound | |
KR100951493B1 (en) | A morecular beam epitaxy effusion cell for use in vacuum thin film deposition and a method therefor | |
JP2001323367A (en) | Method for vapor depositing organic compound, and method for purifying organic compound | |
TWI420721B (en) | Vapor deposition source and method | |
US4748313A (en) | Apparatus by the continuous vaporization of inorganic compositions by means of a photon-generating thermal source of radiation heat | |
SE458205B (en) | PROCEDURE AND DEVICE FOR COATING A SUBSTRATE OF MATERIAL THAT WAS TRANSFERRED ON THE ELECTRICAL ROAD | |
JP3929397B2 (en) | Method and apparatus for manufacturing organic EL element | |
KR101599454B1 (en) | The method of refining organic materials with impurities through ionic liquids and apparatus therefore | |
JP2004307877A (en) | Molecular beam source for depositing thin film, and thin-film depositing method using it | |
JP2004315898A (en) | Evaporation source in vapor deposition system | |
JP4110966B2 (en) | Vapor deposition apparatus and vapor deposition method | |
JP4172982B2 (en) | Method and apparatus for gasifying solid material and method and apparatus for forming thin film | |
JP2000248358A (en) | Evaporation apparatus and evaporation method | |
JP3616586B2 (en) | Molecular beam source cell for thin film deposition | |
JP4234681B2 (en) | Resistance heating boat manufacturing method | |
JPH0114170B2 (en) | ||
JP2010106357A (en) | Method for depositing film and film deposition apparatus | |
JPH0724205A (en) | Sublimating method | |
JP2005320572A (en) | Vapor deposition equipment for organic compound and vapor deposition method for organic compound | |
JP2005082872A (en) | Vapor deposition system and vapor deposition method | |
KR102686261B1 (en) | Deposition apparatus for sublimation materials | |
JP2006111920A (en) | Vapor deposition system and vapor deposition method | |
KR200365703Y1 (en) | Apparatus for vapor deposition of thin film | |
JP2004162108A (en) | Molecular beam source cell for thin film deposition | |
JP7425484B2 (en) | Cartridge and method for storing evaporable materials |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A625 | Written request for application examination (by other person) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625 Effective date: 20080303 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080422 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080422 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20080605 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080605 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110118 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110322 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110517 |