JP2001320099A - 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 - Google Patents
圧電/電歪デバイス及びその製造方法Info
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Abstract
と、これら薄板部12a及び12bを支持する固定部1
4を具備し、一対の薄板部12a及び12bにそれぞれ
圧電/電歪素子18a及び18bが配設された圧電/電
歪デバイス10において、可動部20a及び20bは、
互いに対向する端面34a及び34bを有し、薄板部1
2a及び12bと、固定部14、可動部20a及び20
bとの接合した境界線に充填物を有した空隙部20c及
び20dを形成する。
Description
変位動作に基づいて作動する可動部を備えた圧電/電歪
デバイス、もしくは可動部の変位を圧電/電歪素子によ
り検出できる圧電/電歪デバイス及びその製造方法に関
し、詳しくは、強度、耐衝撃性、耐湿性に優れ、効率よ
く可動部を大きく作動させることができる圧電/電歪デ
バイス及びその製造方法に関する。
野において、サブミクロンオーダーで光路長や位置を調
整可能な変位素子が必要とされており、圧電/電歪材料
(例えば強誘電体等)に電圧を印加したときに惹起され
る逆圧電効果や電歪効果による変位を利用した変位素子
の開発が進められている。
ば特開平10−136665号公報のように圧電/電歪
材料からなる材料を板状体に孔部を設けることにより、
固定部と可動部とこれらを支持する梁部とを一体に形成
し、更に、梁部に電極層を設けた圧電アクチュエータが
開示されている。この圧電アクチュエータにおいては、
電極層に電圧を印加すると、逆圧電効果や電歪効果によ
り、梁部が固定部と可動部とを結ぶ方向に伸縮するた
め、可動部を板状体の面内において弧状変位又は回転変
位させることが可能である。
は、バイモルフを用いたアクチュエータに関して、その
バイモルフの電極を分割して設け、分割された電極を選
択して駆動することにより、高精度な位置決めを高速に
行う技術が開示され、この公報(特に第4図)には、例
えば2枚のバイモルフを対向させて使用する構造が示さ
れている。
アクチュエータは、すべての部分を脆弱で比較的重い材
料によって構成しているため、機械的強度が低く、ハン
ドリング性、耐衝撃性に劣る問題点があった。また、こ
れらのアクチュエータの機械的強度を改良する場合、振
動しやすい部分の強度を向上させる事が従来から行われ
る。そして、これを達成するため、振動部の剛性を高め
る方向の改良を行う事となり、アクチュエータ自体の共
振特性・変位等の基本特性に影響を与え、その調整が困
難になる問題点があった。
が出願した特願平11−114669号、特願平11−
259006号、特願平11−259007号に記載し
た、力センサの耐衝撃性を改良する事に基づいて、想到
したものである。更に、米国出願09/501162号
に記載した、圧電体を利用した力センサについて、支台
の下面に形成した細溝に粘弾性体を配置することで、作
用体に加わる外的衝撃を吸収しやすくなり、もって振動
板の耐衝撃性を改善できることを背景に達成したもので
ある。
を小さくしながら耐衝撃性を向上させるために、請求項
1に係る発明は、相対向する一対の薄板部とこれら薄板
部を支持する固定部とを具備し、前記一対の薄板部の先
端部分に可動部を有し、前記一対の薄板部のうち、少な
くとも一つの薄板部に1以上の圧電/電歪素子が配置さ
れた圧電/電歪デバイスであって、少なくとも前記薄板
部と可動部あるいは、前記薄板部と固定部との間の空隙
部に充填物を配置する事を特徴とする圧電/電歪デバイ
スである。これにより、大きな外的衝撃により薄板部が
大きな変位を起こしても、薄板部と可動部又は薄板部と
固定部の接合した境界線付近に生じた応力が空隙部の充
填物に分散され、従来は応力集中により発生した破損が
無くなり薄板部の耐衝撃性が向上した。ここで、圧電/
電歪デバイスは、圧電/電歪素子により電気的エネルギ
と機械的エネルギとを相互に変換する素子を包含する概
念である。従って、各種アクチュエータや振動子等の能
動素子、特に、逆電圧効果や電歪効果による変位を利用
した変位素子として最も好適に用いられるほか、加速度
センサ素子や衝撃センサ素子等の受動素子としても好適
に使用され得る。
脂、ガラス、有機樹脂とセラミックスの混合物、金属、
金属とセラミックスの混合物等でよい。また、充填物は
多孔質であっても緻密質であっても良く、充填物が固い
ほど多孔質化していることが好ましく、柔軟度が高いほ
ど緻密化していることが好ましい。また、充填物層は、
薄板部と可動部及び固定部と接着していてそれ自体にバ
ネ性又は可撓性を持っていることが好ましい。更に、充
填物は、粘弾性体であることが望ましく、粘弾性の性質
によって外的衝撃を有効に吸収するからである。充填物
を配置する空隙部の形状は、直方形状の他、薄板部に対
向する、可動部又は固定部の内面は、階段状又は傾斜状
であっても良い。デバイスをグリーンシートにより積層
して製造する場合、空隙部を単層又は多層のどちらで形
成しても良い。単層の間隔で構成する場合の大きさは、
間隔厚さは0.01〜0.3mm、間隔深さは0.03
〜1mmとされ、更に(間隔厚さ)/(間隔深さ)は
0.01以上10以下が好ましく、更に0.1以上3以
下が好適である。一方、多層の場合、薄板部の長手方向
に従って間隙の厚みを向上させることが好ましい。ここ
で、空隙部の間隔厚さとは、間隔の最小部の長さを指す
ものであり、必ずしも全面にわたり均一な間隔である必
要はなく、入口部あるいは底部の間隔が大きくても構わ
ない。
する一対の薄板部と、これら薄板部を支持する固定部と
を具備し、前記一対の薄板部の先端部分に可動部を有
し、前記一対の薄板部のうち少なくとも一つの薄板部に
1以上の圧電/電歪素子が配置された圧電/電歪デバイ
スの製造方法であって、前記薄板部となる第1のセラミ
ックグリーンシートと第1の窓部を有する第2のセラミ
ックグリーンシートと前記第1の窓部よりも小さな窓部
を有する第3のセラミックグリーンシートとを準備する
成形工程と、少なくとも第2のセラミックグリーンシー
トを第1及び第3のセラミックグリーンシートの間に挟
んで、複数のセラミックグリーンシートの積層体を作製
する工程とを含むことを特徴とする圧電/電歪デバイス
の製造方法が好ましい。また、相対向する一対の薄板部
と、これら薄板部を支持する固定部とを具備し、前記一
対の薄板部の先端部分に可動部を有し、前記一対の薄板
部のうち少なくとも一つの薄板部に1以上の圧電/電歪
素子が配置された圧電/電歪デバイスの製造方法であっ
て、前記薄板部となる第1のセラミックグリーンシート
と窓部を有する第2のセラミックグリーンシートとを準
備する成形工程と、第1のセラミックグリーンシートと
第2のセラミックグリーンシートの間に、高融点金属を
含むシートを挟んで積層する工程を含むことを特徴とす
る圧電/電歪デバイスの製造方法も好ましい。更に、前
記高融点金属を含むシートが、印刷成形法で形成されて
いることが好ましい。
バイスを実施する形態を詳細に説明する。図1は、圧電
/電歪デバイス10の斜視図である。圧電/電歪デバイ
ス10は、相対向する一対の薄板部12a及び12bを
支持する固定部14とが一体に形成された基体16を具
備し、一対の薄板部12a及び12bの各一部にそれぞ
れ圧電/電歪素子18a及び18bが形成されて構成さ
れている。そして、この圧電/電歪デバイス10は、前
記圧電/電歪素子18a及び/又は18bの駆動によっ
て一対の薄板部12a及び12bが変位し、あるいは薄
板部12a及び12bの変位を圧電/電歪素子18a及
び/又は18bにより検出する構成を有する。また、一
対の薄板部12a及び12bは、各先端部分が内方に向
かって肉厚とされ、該肉厚部は、薄板部12a及び12
bの変位動作に伴って変位する可動部20a及び20b
として機能することになる。以下、一対の薄板部12a
及び12bの先端部分を可動部20a及び20bと記
す。
部20a及び20bを接合した境界部には、薄板部12
a及び12bの長手方向に沿って空隙部20c及び20
dが形成され、その空隙部には充填物が設けられてい
る。同様に、薄板部12a及び12bの基端部分と固定
部14を接合した境界部には、薄板部12a及び12b
の長手方向に沿って空隙部14a及び14bが形成さ
れ、これらの空隙部には充填物が設けられている。
ラミックスを用いて構成されたもののほか、セラミック
スと金属の材料で製造されたものを組み合わせたハイブ
リッド構造としてもよい。
ス等の接着剤で接着してなる構造、セラミックグリーン
積層体を焼成により一体化してなるセラミック一体構
造、ロウ付け、半田付け、共晶接合もしくは溶接等で一
体化した金属一体構造等の構成を採用することができ、
好ましくはセラミックグリーン積層体を焼成により一体
化したセラミック積層体で基体16を構成することが望
ましい。
の接合部に接着剤が介在しないことから、経時的な状態
変化がほとんど生じないため、接合部位の信頼性が高
く、かつ、剛性確保に有利な構造であることに加え、後
述するセラミックグリーンシート積層法により、容易に
製造することが可能である。
は、後述のとおり別体として圧電/電歪素子18a及び
18bを準備して、基体16に有機樹脂、ガラス等の接
着剤や、ロウ付け、半田付け、共晶接合等で貼り付けら
れるほか、膜形成法を用いることにより、前記貼り付け
ではなく直接基体16に形成されることとなる。
/電歪層22と、該圧電/電歪層22の両側に形成され
た一対の電極24及び26とを有して構成され、該一対
の電極24及び26のうち、一方の電極24が少なくと
も一対の薄板部12a及び12bに形成されている。
に一対の電極24及び26をそれぞれ多層構造とし、一
方の電極24と他方の電極26を断面ほぼ櫛歯状となる
ようにそれぞれ互い違いに積層し、これら一方の電極2
4と他方の電極26が圧電/電歪層22を間に挟んで重
なる部分が多段構成とされた圧電/電歪素子18a及び
18bとした場合を主体に説明するが、多層構造に限ら
ず単層構造であってもよい。この場合、多層の数は特に
限定しないが、10層以下が好ましく、更に好ましくは
5層以下である。更に、圧電/電歪素子18aあるいは
18bのどちらか一方のみとすることも可能であり、多
数の数を異ならせてもよい。
し、一方の電極24が1層目の下面(薄板部12a及び
12bの側面)と2層目の上面に位置するように櫛歯状
に形成し、他方の電極26が1層目の上面と3層目の上
面に位置するように櫛歯状に形成した例を示している。
この構成の場合、一方の電極24同士並びに他方の電極
26同士をそれぞれつなぎ共通化することで、端子28
及び30の数を減らすことができるため、圧電/電歪素
子18a及び18bの多層化に伴うサイズの大型化を抑
えることができる。
印加は、各電極24及び26のうち、それぞれ固定部1
4の両側面(素子形成面)上に形成された端子(パッ
ド)28及び30を通じて行われるようになっている。
各端子28及び30の位置は、一方の電極24に対応す
る端子28が固定部14の後端寄りに形成され、外部空
間側の他方の電極26に対応する端子30が固定部14
の内壁寄りに形成されている。
を、端子28及び30が配置された面とは別の面を利用
してそれぞれ別個に行うことができ、結果として、圧電
/電歪デバイス10の固定と、回路と端子28及び30
間の電気的接続の双方に高い信頼性を得ることができ
る。この構成においては、フレキシブルプリント回路
(FPCとも称される)、フレキシブルフラットケーブ
ル(FFCとも称される)、ワイヤボンディング等によ
って端子28及び30と回路との電気的接続が行われ
る。
a及び18bを用いることにより、アクチュエータ部1
9a及び19bの駆動力が増大し、もって大変位が図ら
れると共に、圧電/電歪デバイス10自体の剛性が増す
ことで、高共振周波数化が図られ、変位動作の高速化が
容易に達成できる。
部19a及び19bの駆動力の増大は図られるが、それ
に伴い消費電力も増えるため、実施する場合には、用
途、使用状態に応じて適宜段数等を決めればよい。ま
た、この実施の形態に係る圧電/電歪デバイス10で
は、圧電/電歪素子18a及び18bを用いることによ
って、アクチュエータ部19a及び19bの駆動力を上
げても、基本的に薄板部12a及び12bの幅(Y軸方
向の距離)は不変であるため、例えば非常に狭い間隙に
おいて使用されるハードディスク用磁気ヘッドの位置決
め、リンギング制御等のアクチュエータに適用する上で
非常に好ましいデバイスとなる。
いて図2で説明する。まず、2つの圧電/電歪素子18
a及びは18bが自然状態、即ち、圧電/電歪素子18
a及び18bが共に変位動作を行っていない場合は、圧
電/電歪デバイス10の長軸mと固定部14の中心軸と
がほぼ一致している。
aにおける一対の電極24及び26に所定のバイアス電
位Vbを有するサイン波Waをかけ、他方の圧電/電歪
素子18bにおける一対の電極24及び26に前記サイ
ン波Waとはほぼ180°位相の異なるサイン波Wbを
かける。
ける一対の電極24及び26に対して例えば最大値の電
圧が印加された段階においては、一方の圧電/電歪素子
18aにおける圧電/電歪層22はその主面方向に収縮
変位する。これにより、例えば図2に示すように、一方
の薄板部12aに対し、矢印Aに示すように、該薄板部
12aを例えば右方向に撓ませる方向の応力が発生する
ことから、該一方の薄板部12aは、右方向に撓み、こ
のとき、他方の圧電/電歪素子18bにおける一対の電
極24及び26には、電圧は印加されていない状態とな
るため、他方の薄板部12bは一方の薄板部12aの撓
みに追従して右方向に撓む。その結果、可動部20a及
び20b並びにスペーサ部材37は、圧電/電歪デバイ
ス10bの長軸mに対して例えば右方向に変位する。な
お、変位量は、各圧電/電歪素子18a及び18bに印
加される電圧の最大値に応じて変化し、例えば最大値が
大きくなるほど変位量も大きくなる。
て、高い抗電界を有する圧電/電歪材料を適用した場合
には、前述のサイン波Wa・Wbの最小値のレベルが僅
かに負のレベルとなるように、前記バイアス電位を調整
するようにしてもよい。この場合、該負のレベルが印加
されている圧電/電歪素子(例えば他方の圧電/電歪素
子18b)の駆動によって、例えば他方の薄板部12b
に一方の薄板部12aの撓み方向と同じ方向の応力が発
生し、可動部20a及び20b並びにスペーサ部材37
の変位量をより大きくすることが可能となる。つまり、
前述したような波形を使用することで、負のレベルが印
加されている圧電/電歪素子18b又は18aが、変位
動作の主体となっている圧電/電歪素子18a又は18
bをサポートとするという機能を持たせることができ
る。
歪デバイス10においては、圧電/電歪素子18a及び
18bの微小な変位が薄板部12a及び12bの撓みを
利用して大きな変位動作に増幅されて、可動部20a及
び20bに伝達することになるため、可動部20a及び
20bを、圧電/電歪デバイス10bの長軸mに対して
大きく変位させることが可能となる。
及び20bに互いに対向する取付面34a及び34bを
設け、取付面34a及び34b間の距離Lcを可動部2
0a及び20bの長さDfの約1.5倍に設定し、か
つ、1つの大きなスペーサ部材37を接着剤38を介し
て取付面34a及び34b間に接着させるようにしてい
る。この場合、互いに対向する取付面34a及び34b
の間を空隙にしたり、前記互いに対向する取付面34a
及び34bの間に可動部20a及び20bの構成部材よ
りも軽いスペーサ部材37を介在させることで、可動部
20a及び20bの軽量化を有効に図ることができ、可
動部20a及び20bの変位量を低下させることなく、
共振周波数を高めることが可能となる。
26に印加する電圧を交番的に切り換えて、可動部20
a及び20bを左右に変位させたときの電圧波形の周波
数を示し、共振周波数とは、可動部20a及び20bの
変位動作が所定の振動モードで追従できる最大の周波数
を示す。
バイス10においては、可動部20a及び20b、薄板
部12a及び12b並びに固定部14が一体化されてお
り、すべての部分を脆弱で比較的重い材料である圧電/
電歪材料によって構成する必要がないため、機械的強度
が高く、ハンドリング性、耐衝撃性、耐湿性に優れ、動
作上、有害な振動(例えば、高速作動時の残留振動やノ
イズ振動)の影響を受け難いという利点を有する。
対向する取付面34a及び34bの間を空隙とした場
合、一方の取付面34aを含む可動部20aと、他方の
取付面34bを含む可動部20bとが撓みやすくなり、
変形に強くなる。そのため、圧電/電歪デバイス10の
ハンドリング性に優れることとなる。
び34bの存在により、可動部20a及び20bの表面
積が大きくなる。従って、可動部20a及び20bに他
の部品を取り付ける場合に、その取付面積を大きくとる
ことができ、部品の取付性を向上させることができる。
ここで、部品を例えば接着剤等によって固着する場合を
考えると、物品は、可動部20a及び20bの主面(前
面及び/又は背面)だけでなく、互いに対向する取付面
34a及び34bを通じて接着されることになり、部品
を確実に固着することができる。
電歪素子18a及び18bを、圧電/電歪層22と、該
圧電/電歪層22の両側に形成された一対の電極24及
び26とを有して構成し、一対の電極24及び26のう
ち、一方の電極24を少なくとも薄板部12a及び12
bの側面に直接形成するようにしたので、圧電/電歪素
子18a及び18bによる振動を薄板部12a及び12
bを通じて効率よく可動部20a及び20bに伝達する
ことができ、応答性の向上を図ることができる。
図1に示すように、一対の電極24及び26が圧電/電
歪層22を間に挟んで重なる部分(実質的駆動部分4
0)を固定部14の一部から薄板部12a及び12bの
一部にかけて連続的に形成するようにしている。実質的
駆動部分40を更に可動部20a及び20bの一部にか
けて形成した場合、可動部20a及び20bの変位動作
が前記実質的駆動部分40の変形と薄板部12a及び1
2bの変形とが相反し、大きな変位を得ることができな
くなるおそれがあるが、この実施の形態では、前記実質
的駆動部分40を可動部20a及び20bと固定部14
の両方にかけないように形成しているため、可動部20
a及び20bの変位動作が制限されるという不都合が回
避され、可動部20a及び20bの変位量を大きくする
ことができる。
電/電歪素子18a及び18bを形成する場合は、前記
実質的駆動部分40が可動部20a及び20bの一部か
ら薄板部12a及び12bの一部にかけて位置させるよ
うに形成することが好ましい。これは、実質的駆動部分
40が固定部14の一部にまでわたって形成されると、
上述したように、可動部20a及び20bの変位動作が
制限されるからである。
取付面34a及び34bを設け、その間にスペーサ部材
37を接着した例を示したが、その他、固定部14に端
面34a及び34bを設けるようにしてもよい。この場
合、例えば一対の薄板部12a及び12bの先端部分に
設けられる可動部20a及び20bは一体に連結された
形状を有し、固定部14に互いに対向する端面34a及
び34bが設けられることとなる。
0bに互いに対向する取付面34a及び34bを有する
場合の効果に加え、圧電/電歪デバイス10cを所定の
固定部分に強固に固定することが可能となり、信頼性の
向上を図ることができる。実質的駆動部分40の長さ
は、薄板部12a及び12bの長さの20%〜95%と
することが好ましく、40%〜80%とすることが更に
好ましい。
合の充填物の形状は、図3のような実施形態がある。図
1では直方体形状の空隙部の開口部まで充填できるのに
対し、図3(a)は充填物が空隙部の中程まで充填さ
れ、開口部付近は開放されているもので、空隙部に所定
量の充填物が充填される。充填物の端面形状を一定に揃
える効果がある。なお、空隙部の底部に、充填物が充填
されない空洞部が形成されても応力分散力には影響は少
ない。逆に、図3(b)は、充填物が空隙部の開口部よ
り外側まで配置されたものであり、充填物の付着力が弱
い場合に、付着面積を大きくし全体の付着力を大きくす
ることができる。特に、充填物の外面はR形状とする事
により定着性を高め端部からの剥離を防止できる。ま
た、図3(c)のように成形された形状で充填物を配置
しても良い。この場合、充填物の物性に加え、薄板部と
固定部又は可動部との間の角部の形状が、段付き形状、
換言すれば、角部のコーナ取り構造に類するものとなり
形状効果が加わって、薄板部の根元部での応力集中がよ
り低減できる効果がある。
イス10の好ましい構成例について説明する。
を確実なものとするために、圧電/電歪素子18a及び
18bの実質的駆動部分40が固定部14もしくは可動
部20a及び20bにかかる距離Dgを薄板部12a及
び12bの厚みDdの1/2以上とすることが好まし
い。
の距離(X軸方向の距離)Daと薄板部12a及び12
bの幅(Y軸方向の距離)Dbとの比Da/Dbが0.
5〜20となるように構成する。前記比Da/Dbは、
好ましくは1〜15とされ、更に好ましくは1〜10と
される。この比Da/Dbの規定値は、可動部20a及
び20bの変位量を大きくし、X−Z平面内での変位を
支配的に得られることの発見に基づく規定である。
軸方向の距離)Deと薄板部12a及び12bの内壁間
の距離Daとの比De/Daにおいては、好ましくは
0.5〜10とされ、更に好ましくは0.5〜5とする
ことが望ましい。この比De/Daの規定値は、スペー
サ部材37が介在された可動部20a及び20bの変位
量を大きくでき、かつ、高い共振周波数で変位動作を行
うことができる(高い応答速度を達成できる)という発
見に基づく規定である。
デバイス10をY軸方向への煽り変位、あるいは振動を
抑制し、かつ、高速応答性に優れ、相対的に低電圧で大
きな変位を併せ持つ構造とするには、比Da/Dbを
0.5〜20とし、かつ、比De/Daを0.5〜10
にすることが好ましく、更に好ましくは比Da/Dbを
1〜10とし、かつ、比De/Daを0.5〜5にする
ことである。
いては、一対の薄板部12a及び12bの両内壁と可動
部20a及び20bの内壁とスペーサ部材37の内壁
(及び接着剤38の内壁)と固定部14の内壁とにより
孔部42が形成されることになるが、この孔部42にゲ
ル状の材料、例えばシリコンゲルを充填することが好ま
しい。通常は、充填材の存在によって、可動部20a及
び20bの変位動作が制限を受けることになるが、この
実施の形態では、可動部20a及び20bへの端面34
a及び34bの形成に伴う軽量化や可動部20a及び2
0bの変位量の増大化を図るようにしているため、前記
充填材による可動部20a及び20bの変位動作の制限
が打ち消され、充填材の存在による効果、即ち、高共振
周波数化や剛性の確保を実現させることができる。
軸方向の距離)Dfは、短いことが好ましい。短くする
ことで軽量化と共振周波数の増大が図られるからであ
る。更に、物品を挟持する際、変位を向上させることが
できる。しかしながら、可動部20a及び20bのX軸
方向の剛性を確保し、その変位を確実なものとするため
には、薄板部12a及び12bの厚みDdとの比Df/
Ddを2以上、好ましくは5以上とすることが望まし
い。
20bへの部品の取り付けのための接合面積、固定部1
4を他の部材に取り付けるための接合面積、電極用端子
などの取り付けのための接合面積、圧電/電歪デバイス
10全体の強度、耐久度、必要な変位量並びに共振周波
数、そして、駆動電圧等を考慮して定められることにな
る。
bの内壁間の距離Daは、100μm〜2000μmが
好ましく、更に好ましくは200μm〜1600μmで
ある。薄板部12a及び12bの幅Dbは、50μm〜
2000μmが好ましく、更に好ましくは100μm〜
500μmである。薄板部12a及び12bの厚みDd
は、Y軸方向への変位成分である煽り変位が効果的に抑
制できるように、薄板部12a及び12bの幅Dbとの
関係においてDb>Ddとされ、かつ、2μm〜100
μmが好ましく、更に好ましくは10μm〜80μmで
ある。
00μm〜3000μmが好ましく、更に好ましくは3
00μm〜2000μmである。可動部20a及び20
bの長さDfは、50μm〜2000μmが好ましく、
更に好ましくは100μm〜1000μmであり、より
好ましくは200μm〜600μmである。
向の変位に対してY軸方向の変位が10%を超えない
が、上述の寸法比率と実寸法の範囲で適宜調整を行うこ
とで低電圧駆動が可能で、Y軸方向への変位成分を5%
以下に抑制できるというきわめて優れた効果を示す。つ
まり、可動部20a及び20bは、実質的にX軸方向と
いう1軸方向に変位することになり、しかも、高速応答
性に優れ、相対的に低電圧で大きな変位を得ることがで
きる。
ては、デバイスの形状が従来のような板状(変位方向に
直交する方向の厚みが小さい)ではなく、可動部20a
及び20bと固定部14が直方体の形状(変位方向に直
交する方向の厚みが大きい)を呈しており、可動部20
a及び20bと固定部14の側面が連続するように一対
の薄板部12a及び12bが設けられているため、圧電
/電歪デバイス10のY軸方向の剛性を選択的に高くす
ることができる。
デバイス10では、平面内(XZ平面内)における可動
部20a及び20bの動作のみを選択的に発生させるこ
とができ、可動部20a及び20bのYZ面内の動作
(いわゆる煽り方向の動作)を抑制することができる。
バイス10の各構成要素について説明する。
に、薄板部12a及び12bの駆動量に基づいて作動す
る部分であり、圧電/電歪デバイス10の使用目的に応
じて種々の部材が取り付けられる。例えば、圧電/電歪
デバイス10を変位素子として使用する場合であれば、
光シャッタの遮蔽板等が取り付けられ、特に、ハードデ
ィスクドライブの磁気ヘッドの位置決めやリンギング抑
制機構に使用するのであれば、磁気ヘッド、磁気ヘッド
を有するスライダ、スライダを有するサスペンション等
の位置決めを必要とする部材が取り付けられる。
2a及び12b並びに可動部20a及び20bを支持す
る部分であり、例えば前記ハードディスクドライブの磁
気ヘッドの位置決めに利用する場合には、VCM(ボイ
スコイルモータ)に取り付けられたキャリッジアーム、
該キャリッジアームに取り付けられた固定プレート又は
サスペンション等に固定部14を支持固定することによ
り、圧電/電歪デバイス10の全体が固定される。ま
た、この固定部14には、圧電/電歪素子18a及び1
8bを駆動するための端子28及び30その他の部材が
配置される場合もある。
を構成する材料としては、剛性を有する限りにおいて特
に限定されないが、後述するセラミックグリーンシート
積層法を適用できるセラミックスを好適に用いることが
できる。具体的には、安定化ジルコニア、部分安定化ジ
ルコニアをはじめとするジルコニア、アルミナ、マグネ
シア、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化チタンを主成
分とする材料等が挙げられるほか、これらの混合物を主
成分とした材料が挙げられるが、機械的強度や靱性が高
い点において、ジルコニア、特に安定化ジルコニアを主
成分とする材料と部分安定化ジルコニアを主成分とする
材料が好ましい。
に、圧電/電歪素子18a及び18bの変位により駆動
する部分である。薄板部12a及び12bは、可撓性を
有する薄板状の部材であって、表面に配設された圧電/
電歪素子18a及び18bの伸縮変位を屈曲変位として
増幅して、可動部20a及び20bに伝達する機能を有
する。従って、薄板部12a及び12bの形状や材質
は、可撓性を有し、屈曲変形によって破損しない程度の
機械的強度を有するものであれば足り、可動部20a及
び20bの応答性、操作性を考慮して適宜選択すること
ができる。
μm〜100μm程度とすることが好ましく、薄板部1
2a及び12bと圧電/電歪素子18a及び18bとを
合わせた厚みは7μm〜500μmとすることが好まし
い。電極24及び26の厚みは0.1μm〜50μm、
圧電/電歪層22の厚みは3μm〜300μmとするこ
とが好ましい。
しては、可動部20a及び20bや固定部14と同様の
セラミックスを好適に用いることができ、ジルコニア、
中でも安定化ジルコニアを主成分とする材料と部分安定
化ジルコニアを主成分とする材料は、薄肉であっても機
械的強度が大きいこと、靱性が高いこと、圧電/電歪層
や電極材との反応性が小さいことから最も好適に用いら
れる。
ルコニアにおいては、次のように安定化並びに部分安定
化されたものが好ましい。即ち、ジルコニアを安定化並
びに部分安定化させる化合物としては、酸化イットリウ
ム、酸化イッテルビウム、酸化セリウム、酸化カルシウ
ム、及び酸化マグネシウムがあり、少なくともそのうち
の1つの化合物を添加、含有させることにより、あるい
は1種類の化合物の添加のみならず、それら化合物を組
み合わせて添加することによっても、目的とするジルコ
ニアの安定化は可能である。
は、酸化イットリウムや酸化イッテルビウムの場合にあ
っては、1〜30モル%、好ましくは1.5〜10モル
%、酸化セリウムの場合にあっては、6〜50モル%、
好ましくは8〜20モル%、酸化カルシウムや酸化マグ
ネシウムの場合にあっては、5〜40モル%、好ましく
は5〜20モル%とすることが望ましいが、その中でも
特に酸化イットリウムを安定化剤として用いることが好
ましく、その場合においては、1.5〜10モル%、更
に好ましくは2〜4モル%とすることが望ましい。ま
た、焼結助剤等の添加物としてアルミナ、シリカ、遷移
金属酸化物等を0.05〜20wt%の範囲で添加する
ことが可能であるが、圧電/電歪素子18a及び18b
の形成手法として、膜形成法による焼成一体化を採用す
る場合は、アルミナ、マグネシア、遷移金属酸化物等を
添加物として添加することも好ましい。
れるように、ジルコニアの平均結晶粒子径を0.05〜
3μm、好ましくは0.05〜1μmとすることが望ま
しい。また、上述のように、薄板部12a及び12bに
ついては、可動部20a及び20b並びに固定部14と
同様のセラミックスを用いることができるが、好ましく
は、実質的に同一の材料を用いて構成することが、接合
部分の信頼性、圧電/電歪デバイス10の強度、製造の
煩雑さの低減を図る上で有利である。
くとも圧電/電歪層22と、該圧電/電歪層22に電界
をかけるための一対の電極24及び26を有するもので
あり、ユニモルフ型、バイモルフ型等の圧電/電歪素子
を用いることができるが、薄板部12a及び12bと組
み合わせたユニモルフ型の方が、発生する変位量の安定
性に優れ、軽量化に有利であるため、このような圧電/
電歪デバイス10に適している。
図1に示すように、薄板部12a及び12bの側面に形
成する方が薄板部12a及び12bをより大きく駆動さ
せることができる点で好ましい。
が好適に用いられるが、電歪セラミックスや強誘電体セ
ラミックス、あるいは反強誘電体セラミックスを用いる
ことも可能である。但し、この圧電/電歪デバイス10
をハードディスクドライブの磁気ヘッドの位置決め等に
用いる場合は、可動部20a及び20bの変位量と駆動
電圧又は出力電圧とのリニアリティが重要とされるた
め、歪み履歴の小さい材料を用いることが好ましく、抗
電界が10kV/mm以下の材料を用いることが好まし
い。
タン酸鉛、マグネシウムニオブ酸鉛、ニッケルニオブ酸
鉛、亜鉛ニオブ酸鉛、マンガンニオブ酸鉛、アンチモン
スズ酸鉛、マンガンタングステン酸鉛、コバルトニオブ
酸鉛、チタン酸バリウム、チタン酸ナトリウムビスマ
ス、ニオブ酸カリウムナトリウム、タンタル酸ストロン
チウムビスマス等を単独であるいは混合物として含有す
るセラミックスが挙げられる。
有し、圧電/電歪層22の焼結時における薄板部(セラ
ミックス)12a及び12bとの反応性が小さく、安定
した組成のものが得られる点において、ジルコン酸鉛、
チタン酸鉛、及びマグネシウムニオブ酸鉛を主成分とす
る材料、もしくはチタン酸ナトリウムビスマスを主成分
とする材料が好適に用いられる。
ム、ストロンチウム、モリブデン、タングステン、バリ
ウム、ニオブ、亜鉛、ニッケル、マンガン、セリウム、
カドミウム、クロム、コバルト、アンチモン、鉄、イッ
トリウム、タンタル、リチウム、ビスマス、スズ等の酸
化物等を単独で、もしくは混合したセラミックスを用い
てもよい。
ン酸鉛及びマグネシウムニオブ酸鉛に、ランタンやスト
ロンチウムを含有させることにより、抗電界や圧電特性
を調整可能となる等の利点を得られる場合がある。
加は避けることが望ましい。なぜならば、シリカ等の材
料は、圧電/電歪層22の熱処理時に、圧電/電歪材料
と反応し易く、その組成を変動させ、圧電特性を劣化さ
せるからである。
一対の電極24及び26は、室温で固体であり、導電性
に優れた金属で構成されていることが好ましく、例えば
アルミニウム、チタン、クロム、鉄、コバルト、ニッケ
ル、銅、亜鉛、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、パラ
ジウム、ロジウム、銀、スズ、タンタル、タングステ
ン、イリジウム、白金、金、鉛等の金属単体、もしくは
これらの合金が用いられ、更に、これらに圧電/電歪層
22あるいは薄板部12a及び12bと同じあるいは異
なる材料を分散させたサーメット材料を用いてもよい。
電極24及び26の材料選定は、圧電/電歪層22の形
成方法に依存して決定される。例えば薄板部12a及び
12b上に一方の電極24を形成した後、該一方の電極
24上に圧電/電歪層22を焼成により形成する場合
は、一方の電極24には、圧電/電歪層22の焼成温度
においても変化しない白金、パラジウム、白金−パラジ
ウム合金、銀−パラジウム合金等の高融点金属を使用す
る必要があるが、圧電/電歪層22を形成した後に、該
圧電/電歪層22上に形成される最外層の他方の電極2
6は、低温で電極形成を行うことができるため、アルミ
ニウム、金、銀等の低融点金属を主成分として使用する
ことができる。
らず圧電/電歪素子18a及び18bの変位を低下させ
る要因ともなるため、特に圧電/電歪層22の焼成後に
形成される電極には、焼成後に緻密でより薄い膜が得ら
れる有機金属ペースト、例えば金レジネートペースト、
白金レジネートペースト、銀レジネートペースト等の材
料を用いることが好ましい。
先端部分に一体に形成される可動部20a及び20bの
厚みを薄板部12a及び12bの厚みDdよりも厚くし
た場合を示したが、その他、可動部20a及び20bの
厚みを薄板部12a及び12bの厚みDdとほぼ同じに
してもよい。これにより、可動部20a及び20bに物
品を取り付ける場合に、可動部20a及び20b間に薄
板部12a及び12b間の距離に相当する大きさの物品
を挟み込むように取り付けることが可能となる。この場
合、物品を取り付けるための接着剤領域(例えば接着剤
38)が可動部20a及び20bに対応することにな
る。
波センサや加速度センサ、角速度センサや衝撃センサ、
質量センサ等の各種センサに好適に利用でき、端面34
a及び34bないし薄板部12a及び12b間に取り付
けられる物体のサイズを適宜調整することにより、セン
サの感度調整が容易に行えるという更なる利点がある。
第2〜第4の変形例に係る圧電/電歪デバイス10につ
いて好ましい態様として端面34a及び34bを含む場
合について図4以下を参照しながら説明する。従って、
端面34a及び34bを含まない実施形態であっても本
発明は構わない。
イス10aは、図4に示すように、これまでに説明した
圧電/電歪デバイス10とほぼ同様な構成を有するが、
空隙部及び充填物の構成等が以下の点で異なる。空隙部
14a及び14bは段付き構造になっており、薄板部に
近いほど溝深さが深くなっている。これにより、薄板部
と可動部及び固定部との境界線で発生する集中応力をよ
り効果的に分散させることができ、幅の大きい空隙箇所
の方が衝撃吸収に大きく寄与し効率的に応力集中を分散
させることができる。特に、1層目の下面に位置する他
方の電極26は、薄板部12a及び12b、可動部20
a及び20b、固定部14の各側面にかけてほぼ連続し
て形成され、更に、固定部14の側面において一部分離
されてスリット70を構成している。このスリット70
を設けた趣旨は、:圧電/電歪素子18a及び18b
の後端部72(スリット70の後端側端部から固定部1
4の後端までの部分)におけるアクチュエータを駆動さ
せないこと、:一方の端子28の端部で短絡が生じに
くくすること、:圧電/電歪素子18a及び18bの
後端部における圧電/電歪層22の下面に電極材料を配
置することである。なお、スリット70を設けることが
反対に好ましくない場合は、スリット70は必ずしも設
ける必要はなく、省略してもかまわない。また、図5は
空隙部に充填する充填物の形状を示しており、図5
(a)は充填物が空隙部の中程まで充填され、開口部付
近は開放されている。なお、空隙部の底部に、充填物が
充填されない空洞部が形成されても応力分散力には影響
は少ない。逆に、図5(b)は、充填物が空隙部の開口
部より外側まで配置されたものであり、充填物の付着力
が弱い場合に、付着面積を大きくし全体の付着力を大き
くすることができる。特に、充填物の外面はR形状とす
る事により定着性を高め端部からの剥離を防止できる。
図5(c)は、空隙部を形成する各層毎に充填物の材質
を異ならせたものである。弾性率・気孔率等の物性、更
に構成材に対する付着力等を適宜選択し、応力分散の効
果を発現する組み合わせとすることが好ましい。
イス10bは、図4では空隙部の深さが2段階となって
いるのに対し、図6の空隙部は無限の多段階になって斜
め形状の構造である。これにより、薄板部と可動部及び
固定部との境界線で発生する集中応力をより効果的に分
散させることができ、幅の大きい空隙箇所の方が衝撃吸
収に大きく寄与し効率的に応力集中を分散させることが
できる。また、図7は空隙部に充填する充填物の形状を
示しており、図7(a)は充填物が空隙部の中程まで充
填され、開口部付近は開放されている。なお、空隙部の
底部に、充填物が充填されない空洞部が形成されても応
力分散力には影響は少ない。逆に、図7(b)は、充填
物が空隙部の開口部より外側まで配置されたものであ
り、充填物の付着力が弱い場合に、付着面積を大きくし
全体の付着力を大きくすることができる。特に、充填物
の外面はR形状とする事により定着性を高め端部からの
剥離を防止できる。
イス10cは、図8に示すように薄板部と可動部及び固
定部との間の空隙部に充填物がほぼ均一な厚みで配置さ
れている。このような充填物は、薄板部と可動部及び固
定部とをセラミックで一体形成するのと同時に形成する
ことが好ましく、高融点金属あるいは高融点金属とセラ
ミックの混合物であることが好ましい。
を図9〜図12を参照しながら説明する。圧電/電歪デ
バイス10は、各部材の構成材料をセラミックスとし、
圧電/電歪デバイス10の構成要素として、圧電/電歪
素子18a及び18bを除く基体16、即ち、薄板部1
2a及び12b、固定部14並びに可動部20a及び2
0bについてはセラミックグリーンシート積層法を用い
て製造することが好ましく、一方、圧電/電歪素子18
a及び18bをはじめとして、各端子28及び30につ
いては、薄膜や厚膜等の膜形成手法を用いて製造するこ
とが好ましい。
る各部材を一体的に成形することが可能なセラミックグ
リーンシート積層法によれば、各部材の接合部の経時的
な状態変化がほとんど生じないため、接合部位の信頼性
が高く、かつ、剛性確保に有利な方法である。
形性に優れるため、所定形状の圧電/電歪デバイス10
を短時間に、かつ、再現性よく得ることができる。
バイス10の第1の製造方法について説明する。ここ
で、定義付けをしておく。セラミックグリーンシートを
積層して得られた積層体をセラミックグリーン積層体5
8(例えば図10参照)と定義し、このセラミックグリ
ーン積層体58を焼成して一体化したものをセラミック
積層体60(例えば図11参照)と定義し、このセラミ
ック積層体60から不要な部分を切除して可動部20a
及び20b、薄板部12a及び12b並びに固定部14
が一体化されたものをセラミック基体16(図12参
照)と定義する。
歪デバイス10を同一基板内に縦方向及び横方向にそれ
ぞれ複数個配置した形態で、最終的にセラミック積層体
60をチップ単位に切断して、圧電/電歪デバイス10
を同一工程で多数個取りするものであるが、説明を簡単
にするために、圧電/電歪デバイス10の1個取りを主
体にして説明する。
インダ、溶剤、分散剤、可塑剤等を添加混合してスラリ
ーを作製し、これを脱泡処理後、リバースロールコータ
ー法、ドクターブレード法等の方法により、所定の厚み
を有するセラミックグリーンシートを作製する。
等の方法により、セラミックグリーンシートを図9のよ
うな種々の形状や厚さに加工して、複数枚の基体形成用
のセラミックグリーンシートを得る。
50D、51A及び51B、52A及び52Bは、少な
くとも薄板部12a及び12b間に空間を形成するため
の窓部54が形成された複数枚(例えば4枚)のセラミ
ックグリーンシート50A〜50Dと、薄板部12a及
び12b間に空間を形成するための窓部54と互いに対
向する端面34a及び34bを有する可動部20a及び
20bを形成するための窓部100とが連続形成された
複数枚(例えば7枚)のセラミックグリーンシート10
2A〜102Gと、空隙部14a、14bとなる窓部1
00aが連続形成された複数枚(例えば2枚)のセラミ
ックグリーンシート51A及び51Bと、後に薄板部1
2a及び12bとなる複数枚(例えば2枚)のセラミッ
クグリーンシート52A及び52Bとを用意する。
グリーンシート52A及び52Bでセラミックグリーン
シート50A〜50D、セラミックグリーンシート51
A〜51B並びに102A〜102Gを挟み込むように
して、これらセラミックグリーンシート50A〜50
D、51A、51B、52A及び52B並びに102A
〜102Gを積層・圧着して、セラミックグリーン積層
体58とする。この積層にあたってはセラミックグリー
ンシート102A〜102Gを中央に位置させて積層す
る。このとき、窓部100、100aの存在により、圧
着時に圧力がかからない部位が発生するため、積層、圧
着の順番等を変更し、そのような部位が生じないように
する必要がある。その後、セラミックグリーン積層体5
8を焼成してセラミック積層体60(図11参照)を得
る。
は限定されない。構造に応じて、例えば窓部54の形
状、セラミックグリーンシートの枚数等により所望の構
造を得るように適宜決めることができる。
はなく、所望の機能に応じて決定することができる。ま
た、セラミックグリーンシートの枚数、各セラミックグ
リーンシートの厚みも特に限定されない。
向上させることができる。また、セラミック粉末(セラ
ミックグリーンシートに使用されたセラミックスと同一
又は類似した組成であると、信頼性確保の点で好まし
い)、バインダを主体としたペースト、スラリー等をセ
ラミックグリーンシート上に塗布、印刷して、接合補助
層とすることで、セラミックグリーンシート界面の積層
性を向上させることができる。なお、セラミックグリー
ンシート52A及び52Bが薄い場合には、プラスチッ
クフィルム、中でも表面にシリコーン系の離型剤をコー
ティングしたポリエチレンテレフタレートフィルムを用
いて取り扱うことが好ましい。
ク積層体60の両表面、即ち、セラミックグリーンシー
ト52A及び52Bが積層された表面に相当する表面に
それぞれ圧電/電歪素子18a及び18bを形成する。
圧電/電歪素子18a及び18bの形成法としては、ス
クリーン印刷法、ディッピング法、塗布法、電気泳動法
等の厚膜形成法や、イオンビーム法、スパッタリング
法、真空蒸着、イオンプレーティング法、化学気相成長
法(CVD)、めっき等の薄膜形成法を用いることがで
きる。
子18a及び18bを形成することにより、接着剤を用
いることなく、圧電/電歪素子18a及び18bと薄板
部12a及び12bとを一体的に接合、配設することが
でき、信頼性、再現性を確保できると共に、集積化を容
易にすることができる。
子18a及び18bを形成することが好ましい。特に、
圧電/電歪層22の形成において厚膜形成法を用いれ
ば、平均粒径0.01〜5μm、好ましくは0.05〜
3μmの圧電セラミックスの粒子、粉末を主成分とする
ペーストやスラリー、又はサスペンションやエマルジョ
ン、ゾル等を用いて膜化することができ、それを焼成す
ることによって良好な圧電/電歪特性を得ることができ
るからである。
つ、高い形状精度で形成できるという利点がある。ま
た、スクリーン印刷法は、膜形成とパターン形成とを同
時にできるため、製造工程の簡略化に有利である。
bの形成について説明する。まず、セラミックグリーン
積層体58を1200℃〜1600℃の温度で焼成、一
体化してセラミック積層体60を得た後、該セラミック
積層体60の両表面の所定位置に薄板部12a及び12
bの第1の一方の電極24を印刷、焼成し、次いで、圧
電/電歪層22を印刷、焼成し、更に、前記第1の一方
の電極24と対をなす他方の電極26を印刷、焼成し、
これらを所定回数繰り返して(圧電/電歪素子18a及
び18bが多層の圧電/電歪層22から構成される場
合)、圧電/電歪素子18a及び18bを形成する。そ
の後、各電極24及び26を駆動回路に電気的に接続す
るための端子28及び30を印刷、焼成する。
刷、焼成し、圧電/電歪層22と第1の一方の電極24
と対をなす第1の他方の電極26を印刷、焼成し、この
単位で所定回数だけ印刷、焼成を繰り返して、圧電/電
歪素子18a及び18bを形成してもよい。
t)、圧電/電歪層22としてジルコン酸チタン酸鉛
(PZT)、他方の電極26として金(Au)、更に、
端子28及び30として銀(Ag)というように、各部
材の焼成温度が積層順に従って低くなるように材料を選
定すると、ある焼成段階において、それより以前に焼成
された材料の再焼結が起こらず、電極材等の剥離や凝集
といった不具合の発生を回避することができる。
圧電/電歪素子18a及び18bの各部材と端子28及
び30を逐次印刷して、1回で一体焼成することも可能
であり、最外層の圧電/電歪層22を形成した後に低温
で最外層の電極26等を設けることもできる。
各部材と端子28及び30は、スパッタ法や蒸着法等の
薄膜形成法によって形成してもよく、この場合には、必
ずしも熱処理を必要としない。
おいては、セラミックグリーン積層体58の両表面、即
ち、セラミックグリーンシート52A及び52Bの各表
面に予め圧電/電歪素子18a及び18bを形成してお
き、該セラミックグリーン積層体58と圧電/電歪素子
18a及び18bとを同時に焼成することも好ましく行
われる。同時焼成にあたっては、セラミックグリーン積
層体58と圧電/電歪素子18a及び18bのすべての
構成膜に対して焼成を行うようにしてもよく、一方の電
極24とセラミックグリーン積層体58とを同時焼成し
たり、他方の電極26を除く他の構成膜とセラミックグ
リーン積層体58とを同時焼成する方法等が挙げられ
る。
ックグリーン積層体58とを同時焼成する方法として
は、スラリー原料を用いたテープ成形法等によって圧電
/電歪層22の前駆体を成形し、この焼成前の圧電/電
歪層22の前駆体をセラミックグリーン積層体58の表
面上に熱圧着等で積層し、同時に焼成して可動部20a
及び20b、薄板部12a及び12b、圧電/電歪層2
2、固定部14とを同時に作製する方法が挙げられる。
但し、この方法では、上述した膜形成法を用いて、セラ
ミックグリーン積層体58の表面及び/又は圧電/電歪
層22に予め電極24を形成しておく必要がある。
ン積層体58の少なくとも最終的に薄板部12a及び1
2bとなる部分にスクリーン印刷により圧電/電歪素子
18a及び18bの各構成層である電極24及び26、
圧電/電歪層22を形成し、同時に焼成することが挙げ
られる。
の焼成温度は、これを構成する材料によって適宜決定さ
れるが、一般には、500℃〜1500℃であり、圧電
/電歪層22に対しては、好ましくは1000℃〜14
00℃である。この場合、圧電/電歪層22の組成を制
御するためには、圧電/電歪層22の材料の蒸発源の存
在下に焼結することが好ましい。なお、圧電/電歪層2
2とセラミックグリーン積層体58を同時焼成する場合
には、両者の焼成条件を合わせることが必要である。圧
電/電歪素子18a及び18bは、必ずしもセラミック
積層体60もしくはセラミックグリーン積層体58の両
面に形成されるものではなく、片面のみでももちろんよ
い。
形成されたセラミック積層体60のうち、切断線C1、
C2、C5に沿って切断することにより、セラミック積
層体60の側部と先端部を切除する。この切除によっ
て、図12に示すように、セラミック基体16に圧電/
電歪素子18a及び18bが形成され、かつ、互いに対
向する端面34a及び34bを有する可動部20a及び
20bが形成された圧電/電歪デバイス10を得る。切
断のタイミングは、切断線C1及びC2に沿って切断し
た後に切断線C5に沿って切断してもよく、切断線C5
に沿って切断した後に切断線C1及びC2に沿って切断
してもよい。もちろん、これらの切断を同時に行うよう
にしてもよい。また、切断線C5と対向する固定部14
の端面も、例えば圧電/電歪デバイスの全長を精密に制
御する等の際に適宜切断するようにしてもよい。
体60から不要な部分を切除したと同時に、セラミック
基体16に圧電/電歪素子18a及び18bが形成さ
れ、かつ、互いに対向する端面34a及び34bを有す
る可動部20a及び20bが形成された圧電/電歪デバ
イス10を得ることができるため、製造工程の簡略化を
図ることができると共に、圧電/電歪デバイス10の歩
留まりを向上させることができる。この場合、同一基板
内に圧電/電歪デバイス10を縦方向及び横方向にそれ
ぞれ複数個配置して、同一工程で多数個取りする際に特
に好ましい。切除の方法としては、ダイシング加工、ワ
イヤソー加工等の機械加工のほか、YAGレーザ、エキ
シマレーザ等のレーザ加工や電子ビーム加工を適用する
ことが可能である。
は、これらの加工方法を組み合わせて加工することにな
る。例えば切断線C1及びC2(図11参照)は、ワイ
ヤソー加工とし、切断線C1及びC2に直交する固定部
14、可動部20a及び20bの端面をダイシング加工
とすることが好ましい。
の製造方法においては、一体焼成によって薄板部12a
及び12b上に圧電/電歪素子18a及び18bを形成
するようにしているため、焼成時に生じる圧電/電歪層
22の収縮や一対の電極24及び26と圧電/電歪層2
2並びに薄板部12a及び12bとの熱膨張率の違い等
によって、例えば、薄板部12a及び12b並びに圧電
/電歪素子18a及び18bは、孔部42に向かって凸
となるようにわずかに変位し、形状的に歪みが生じた状
態となり、圧電/電歪素子18a及び18b(特に圧電
/電歪層22)や薄板部12a及び12bに内部残留応
力が発生しやすくなる。
層22での内部残留応力の発生は、上述した一体焼成の
ほか、薄板部12a及び12bに別体の圧電/電歪素子
18a及び18bを例えば接着剤で貼り合わせる場合に
も生じる。即ち、接着剤を固定化もしくは硬化する際
に、接着剤等の硬化収縮によって薄板部12a及び12
bや圧電/電歪層22に内部残留応力が発生することと
なる。更に、その固定化もしくは硬化に加熱が必要な場
合には、内部残留応力が大きなものとなる。
すると、圧電/電歪層22に所定電界を与えても、可動
部20a及び20bにおいて所望の変位を示さない場合
がある。これは、圧電/電歪層22の材料特性及び可動
部20a及び20bの変位動作が、前記薄板部12a及
び12bや圧電/電歪層22に発生している内部残留応
力によって阻害されているからである。
18a及び18b形成後、可動部20a及び20bの周
辺を切除するようにしている。この切除によって、可動
部20a及び20bに互いに対向する端面34a及び3
4bが形成されるが、薄板部12a及び12bや圧電/
電歪層22に発生していた内部残留応力によって、これ
ら端面34a及び34bが互いに近づく方向に移動し、
移動後の各端面34a及び34bの幅は、前記所定幅W
1よりも短い例えば第2の所定幅W2となる。より詳述
すると、第2の所定幅W2は、厳密に平行では無く先端
の方がより短くなる。
板部12a及び12bや圧電/電歪層22に発生してい
た内部残留応力の解放に伴うものである。内部残留応力
を解放した状態で圧電/電歪デバイス10を使用する
と、可動部20a及び20bは、ほぼ設計通りの変位動
作を示し、良好なデバイス特性を示すこととなる。この
効果は、固定部14となる部分の一部を切除して、固定
部14に互いに対向する端面34a及び34bを形成し
た場合においても同様であり、この場合は、薄板部12
a及び12bや圧電/電歪層22に発生していた内部残
留応力が、固定部14に形成された互いに対向する端面
34a及び34bの移動によって解放されることとな
る。なお、対向する端面34a及び34bについては、
必ずしも可動部20a及び20bもしくは固定部14の
中心部分のみならず、中心からそれた部分を形成するこ
とによっても同様の効果が得られる。
300℃〜800℃で加熱処理することが好ましい。こ
れは、加工により圧電/電歪デバイス10内にマイクロ
クラック等の欠陥が生じやすいが、前記熱処理によって
前記欠陥を取り除くことができ、信頼性が向上するから
である。更に、前記熱処理後に80℃程度の温度で少な
くとも10時間程度放置し、エージング処理を施すこと
が好ましい。このエージング処理で、製造過程の中で受
けた種々の応力等を更に緩和でき、特性の向上に寄与す
るからである。
明によれば、少なくとも前記薄板部と可動部あるいは、
前記薄板部と固定部との間に充填物を配置した空隙部が
存在することにより、大きな外的衝撃により薄板部が大
きな変位を起こしても、薄板部と可動部又は薄板部と固
定部の接合した境界線付近に生じた応力が空隙部に分散
され、従来は応力集中により発生した破損が無くなり、
圧電/電歪デバイスの基本特性への影響を小さくして薄
板部の耐衝撃性を向上させることができた。
る。
明図である。
図である。
る。
図である。
る。
図である。
る。
ある。
る。
b・・、12、12a、12b・・薄板部、14・・固
定部、14a,14b・・空隙部、16・・基体、18
a,18b・・圧電/電歪素子、19a,19b・・圧
電/電歪層、20a,20b・・可動部、20c,20
d・・空隙部、22・・圧電/電歪層、24,26・・
電極、28,30・・端子、34a,34b・・取付
面、36・・空隙、37・・スペーサ部材、38/・接
着剤、40・・実質的駆動部分、42・・孔部、50A
〜50G,51A,51B,52A,52B,102A
〜102G・・セラミックグリーンシート、54,10
0,100a・・窓部、58・・セラミックグリーン積
層体、60・・セラミック積層体、C1,C2,C5・
・切断線。
Claims (6)
- 【請求項1】 相対向する一対の薄板部とこれら薄板部
を支持する固定部とを具備し、前記一対の薄板部の先端
部分に可動部を有し、前記一対の薄板部のうち、少なく
とも一つの薄板部に1以上の圧電/電歪素子が配置され
た圧電/電歪デバイスであって、 少なくとも前記薄板部と可動部あるいは、前記薄板部と
固定部との間の空隙部に充填物を配置することを特徴と
する圧電/電歪デバイス。 - 【請求項2】 請求項1記載の充填物が、前記薄板部と
前記可動部あるいは、前記薄板部と前記固定部との面で
接着作用を有していることを特徴とする圧電/電歪デバ
イス。 - 【請求項3】 請求項1又は2記載の充填物が、粘弾性
の性質を有することを特徴とする圧電/電歪デバイス。 - 【請求項4】 相対向する一対の薄板部と、これら薄板
部を支持する固定部とを具備し、前記一対の薄板部の先
端部分に可動部を有し、前記一対の薄板部のうち少なく
とも一つの薄板部に1以上の圧電/電歪素子が配置され
た圧電/電歪デバイスの製造方法であって、 前記薄板部となる第1のセラミックグリーンシートと第
1の窓部を有する第2のセラミックグリーンシートと前
記第1の窓部よりも小さな窓部を有する第3のセラミッ
クグリーンシートとを準備する成形工程と、 少なくとも第2のセラミックグリーンシートを第1及び
第3のセラミックグリーンシートの間に挟んで、複数の
セラミックグリーンシートの積層体を作製する工程とを
含むことを特徴とする圧電/電歪デバイスの製造方法。 - 【請求項5】 相対向する一対の薄板部と、これら薄板
部を支持する固定部とを具備し、前記一対の薄板部の先
端部分に可動部を有し、前記一対の薄板部のうち少なく
とも一つの薄板部に1以上の圧電/電歪素子が配置され
た圧電/電歪デバイスの製造方法であって、 前記薄板部となる第1のセラミックグリーンシートと窓
部を有する第2のセラミックグリーンシートとを準備す
る成形工程と、 第1のセラミックグリーンシートと第2のセラミックグ
リーンシートの間に、高融点金属を含むシートを挟んで
積層する工程を含むことを特徴とする圧電/電歪デバイ
スの製造方法。 - 【請求項6】 請求項5記載の高融点金属を含むシート
が、印刷成形法で形成されていることを特徴とする圧電
/電歪デバイス。
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US09/663,145 US6455981B1 (en) | 1999-10-01 | 2000-09-15 | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
EP00308615A EP1089359B1 (en) | 1999-10-01 | 2000-09-29 | Piezoelectric/electrostrictive device and method for producing the same |
DE60034853T DE60034853T2 (de) | 1999-10-01 | 2000-09-29 | Piezoelektrisches/elektrostriktives Bauelement und dessen Herstellungsverfahren |
PCT/JP2001/004804 WO2001097296A1 (fr) | 2000-06-16 | 2001-06-07 | Dispositif piezoelectrique/electrostrictif et son procede de fabrication |
EP01938552A EP1306908A4 (en) | 2000-06-16 | 2001-06-07 | PIEZOELECTRIC / ELECTROSTRICTIVE COMPONENT AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
US09/878,773 US6531805B2 (en) | 2000-06-16 | 2001-06-11 | Piezoelectric/electrostrictive device and method of producing the same |
US10/211,872 US6772492B2 (en) | 1999-10-01 | 2002-08-02 | Piezo-electric/electrostrictive device and method of manufacturing |
US10/237,495 US6766568B2 (en) | 2000-06-16 | 2002-09-09 | Method of producing a piezoelectric/electrostrictive device |
US10/832,077 US7089637B2 (en) | 2000-06-16 | 2004-04-26 | Method of producing a piezoelectric/electrostrictive device |
US10/862,843 US6910250B2 (en) | 1999-10-01 | 2004-06-07 | Piezo-electric/electrostrictive device, and method of manufacturing same |
US11/127,511 US7138749B2 (en) | 1999-10-01 | 2005-05-12 | Piezo-electric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
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---|---|
US (3) | US6910250B2 (ja) |
JP (1) | JP3965515B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002299713A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪デバイスおよびその製造方法 |
US6809459B2 (en) | 2002-01-11 | 2004-10-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
WO2005020341A1 (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-03 | Ngk Insulators, Ltd. | 圧電/電歪デバイス |
US7007355B2 (en) | 2001-09-11 | 2006-03-07 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of manufacturing a piezoelectric/electrostrictive device |
JP2006108652A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-04-20 | Denso Corp | 積層型圧電素子及びとその製造方法 |
JP2007042266A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Shinka Jitsugyo Kk | マイクロアクチュエータ、ヘッドジンバルアセンブリ及びディスクドライブユニット |
WO2007026687A1 (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-08 | Kyocera Corporation | 積層型圧電素子及びこれを用いた噴射装置 |
US7596841B2 (en) | 2004-04-23 | 2009-10-06 | Agency For Science Technology And Research | Micro-electromechanical devices and methods of fabricating thereof |
CN111464070A (zh) * | 2020-03-19 | 2020-07-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种直线超声电机定子及其电激励方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5510448B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2014-06-04 | 富士通株式会社 | 圧電発電装置 |
KR101569231B1 (ko) * | 2011-06-30 | 2015-11-16 | 삼성전기주식회사 | 압전진동모듈 |
KR102482842B1 (ko) * | 2015-11-13 | 2022-12-29 | 삼성전자 주식회사 | 발전 기능을 수행하는 정전 유도 장치 |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1438974A (en) * | 1920-11-13 | 1922-12-19 | Western Electric Co | Piezo-electrical voltage indicator |
US2980811A (en) | 1956-09-10 | 1961-04-18 | Astatic Corp | Ceramic transducer elements |
US3336529A (en) * | 1962-12-03 | 1967-08-15 | Lockheed Aircraft Corp | Vibrating reed frequency responsive device |
GB2050671B (en) | 1979-06-09 | 1983-08-17 | Sony Corp | Rotary transducer head assemblies |
DE3332949A1 (de) * | 1983-09-13 | 1985-04-04 | Finnigan MAT GmbH, 2800 Bremen | Vorrichtung zur einstellung von spaltweiten bei spektrometern |
JPS60135756A (ja) * | 1983-12-24 | 1985-07-19 | Ngk Insulators Ltd | 電気化学的セルの製造方法 |
US4565940A (en) | 1984-08-14 | 1986-01-21 | Massachusetts Institute Of Technology | Method and apparatus using a piezoelectric film for active control of vibrations |
JPS61150287A (ja) | 1984-12-24 | 1986-07-08 | Japan Storage Battery Co Ltd | 圧電体変位装置 |
US4680595A (en) | 1985-11-06 | 1987-07-14 | Pitney Bowes Inc. | Impulse ink jet print head and method of making same |
JPS6364640A (ja) | 1986-09-06 | 1988-03-23 | Olympus Optical Co Ltd | アクチユエ−タ |
US4806295A (en) | 1986-10-31 | 1989-02-21 | Gte Laboratories Incorporated | Ceramic monolithic structure having an internal cavity contained therein and a method of preparing the same |
US5166571A (en) * | 1987-08-28 | 1992-11-24 | Nec Home Electronics, Ltd. | Vibration gyro having an H-shaped vibrator |
DE4135408A1 (de) | 1991-10-26 | 1993-04-29 | Man Nutzfahrzeuge Ag | Verfahren zur umwandlung elektrischer energie in mechanische schwingungen, sowie vorrichtungen zur durchfuehrung dieses verfahrens |
JP3144949B2 (ja) * | 1992-05-27 | 2001-03-12 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪アクチュエータ |
US5500777A (en) * | 1993-05-19 | 1996-03-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head drive which uses independently controlled piezo-electric elements |
DE4318978C2 (de) | 1993-06-08 | 1996-09-05 | Heidelberger Druckmasch Ag | Piezoelektrischer Aktuator |
IT1268870B1 (it) | 1993-08-23 | 1997-03-13 | Seiko Epson Corp | Testa di registrazione a getto d'inchiostro e procedimento per la sua fabbricazione. |
JP3280799B2 (ja) * | 1993-10-14 | 2002-05-13 | 日本碍子株式会社 | 薄肉ジルコニアダイヤフラム構造体及びその製造法並びにそれを用いた圧電/電歪膜型素子 |
JP3162584B2 (ja) | 1994-02-14 | 2001-05-08 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法 |
BR9506242A (pt) | 1994-05-20 | 1997-08-12 | Shinsei Corp | Dispositivo gerador de som |
JP3235099B2 (ja) | 1994-11-07 | 2001-12-04 | 松下電器産業株式会社 | 圧電アクチュエータおよびそれを用いた焦電型赤外線センサ |
JP3471447B2 (ja) * | 1994-11-16 | 2003-12-02 | 日本碍子株式会社 | セラミックダイヤフラム構造体およびその製造方法 |
JPH08279631A (ja) | 1995-04-05 | 1996-10-22 | Brother Ind Ltd | 積層型圧電素子の製造方法 |
JPH10136665A (ja) | 1996-10-31 | 1998-05-22 | Tdk Corp | 圧電アクチュエータ |
JP3592023B2 (ja) | 1997-03-04 | 2004-11-24 | 日本碍子株式会社 | 機能性膜素子の製造方法 |
JPH1126834A (ja) | 1997-07-04 | 1999-01-29 | Toshio Fukuda | Pzt薄膜バイモルフ形の平行平板構造体、及びその製造方法 |
JP3890738B2 (ja) | 1998-04-09 | 2007-03-07 | 日本ゼオン株式会社 | 軟質重合体配合樹脂組成物 |
US6455981B1 (en) * | 1999-10-01 | 2002-09-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
EP1089359B1 (en) * | 1999-10-01 | 2007-05-16 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method for producing the same |
JP3845544B2 (ja) | 1999-10-01 | 2006-11-15 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
WO2001097296A1 (fr) | 2000-06-16 | 2001-12-20 | Ngk Insulators, Ltd. | Dispositif piezoelectrique/electrostrictif et son procede de fabrication |
JP4007767B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2007-11-14 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイスおよびその製造方法 |
JP4038400B2 (ja) * | 2001-09-11 | 2008-01-23 | 日本碍子株式会社 | セラミック積層体、セラミック積層体の製造方法、圧電/電歪デバイス、圧電/電歪デバイスの製造方法及びセラミック焼結体 |
JPWO2003061023A1 (ja) * | 2002-01-11 | 2005-05-19 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及びその製造方法 |
JP4272408B2 (ja) * | 2002-06-05 | 2009-06-03 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪デバイス及び圧電/電歪素子、並びにそれらの製造方法 |
-
2000
- 2000-06-16 JP JP2000182354A patent/JP3965515B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2004
- 2004-06-07 US US10/862,843 patent/US6910250B2/en not_active Expired - Fee Related
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-
2006
- 2006-10-10 US US11/539,999 patent/US7345405B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002299713A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-11 | Ngk Insulators Ltd | 圧電/電歪デバイスおよびその製造方法 |
US7007355B2 (en) | 2001-09-11 | 2006-03-07 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of manufacturing a piezoelectric/electrostrictive device |
US6809459B2 (en) | 2002-01-11 | 2004-10-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
US7336020B2 (en) | 2002-01-11 | 2008-02-26 | Ngk Insulators, Ltd. | Piezoelectric/electrostrictive device and method of manufacturing same |
WO2005020341A1 (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-03 | Ngk Insulators, Ltd. | 圧電/電歪デバイス |
US7596841B2 (en) | 2004-04-23 | 2009-10-06 | Agency For Science Technology And Research | Micro-electromechanical devices and methods of fabricating thereof |
JP2006108652A (ja) * | 2004-09-07 | 2006-04-20 | Denso Corp | 積層型圧電素子及びとその製造方法 |
JP2007042266A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Shinka Jitsugyo Kk | マイクロアクチュエータ、ヘッドジンバルアセンブリ及びディスクドライブユニット |
WO2007026687A1 (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-08 | Kyocera Corporation | 積層型圧電素子及びこれを用いた噴射装置 |
US8339017B2 (en) | 2005-08-29 | 2012-12-25 | Kyocera Corporation | Multi-layer piezoelectric element and injection apparatus using the same |
CN111464070A (zh) * | 2020-03-19 | 2020-07-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种直线超声电机定子及其电激励方法 |
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