JP2001295032A - 光学複合薄膜の形成方法およびそれを用いた光学物品 - Google Patents
光学複合薄膜の形成方法およびそれを用いた光学物品Info
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 116
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 title 1
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 110
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 16
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 23
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000004831 organic oxygen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000001268 conjugating effect Effects 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002927 oxygen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
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- C03C2217/21—Oxides
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 所望の屈折率を有し、膜設計を容易に行うこ
とのできる光学複合薄膜を形成する方法と、これを用い
た物品とを提供する。 【解決手段】 フッ素化炭化水素含有の有機物ガスを導
入した雰囲気下で、無機光学薄膜材料を反応性イオンプ
レーティングによって基板上に堆積させて無機光学薄膜
の固有屈折率を変化させた光学複合薄膜を形成する。
とのできる光学複合薄膜を形成する方法と、これを用い
た物品とを提供する。 【解決手段】 フッ素化炭化水素含有の有機物ガスを導
入した雰囲気下で、無機光学薄膜材料を反応性イオンプ
レーティングによって基板上に堆積させて無機光学薄膜
の固有屈折率を変化させた光学複合薄膜を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この出願の発明は、光学薄膜
の形成方法およびそれを用いた光学物品に関するもので
ある。さらに詳しくは、この出願の発明は、無機光学薄
膜原材料に有機物を複合させて成膜することで、所望の
屈折率を有する光学複合薄膜を形成することのできる方
法に関するものである。
の形成方法およびそれを用いた光学物品に関するもので
ある。さらに詳しくは、この出願の発明は、無機光学薄
膜原材料に有機物を複合させて成膜することで、所望の
屈折率を有する光学複合薄膜を形成することのできる方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術とその課題】眼鏡レンズ、液晶、光ディス
クやダイクロイックミラー等のようにとりわけ光学用途
に使用される製品には、目的に応じた機能を有する光学
薄膜が施されている。その代表的なものの１つである反
射防止膜は、低屈折率膜、多層干渉膜、多孔質膜などと
して考慮されており、中でも、酸化亜鉛、酸化ケイ素な
どを蒸着した低屈折率膜が一般的に利用されている。
クやダイクロイックミラー等のようにとりわけ光学用途
に使用される製品には、目的に応じた機能を有する光学
薄膜が施されている。その代表的なものの１つである反
射防止膜は、低屈折率膜、多層干渉膜、多孔質膜などと
して考慮されており、中でも、酸化亜鉛、酸化ケイ素な
どを蒸着した低屈折率膜が一般的に利用されている。
【０００３】この低屈折率膜は、屈折率：ｎの異なる媒
質界面に対して垂直に光が入射すると、その光の位相に
ずれが生じるという特性を利用したものである。たとえ
ば、ガラスやプラスチック等の基板上に低屈折率の薄膜
を形成すると、薄膜へ入射した光がガラス等に反射した
光を打ち消すことで実現される。薄膜の光学膜厚：ｎｄ
をλ／４（λ：入射光の波長）と設計した場合に、入射
光の位相のずれが１８０°で最大となり、反射は最小と
なる。たとえば、単層膜を例に挙げると、その屈折率が
ガラス等の物品表面を構成する材質の屈折率の平方根と
等しくなるように、また、膜厚がλ／４となるように設
計される。このようにして、反射防止膜は広く実用され
ている。
質界面に対して垂直に光が入射すると、その光の位相に
ずれが生じるという特性を利用したものである。たとえ
ば、ガラスやプラスチック等の基板上に低屈折率の薄膜
を形成すると、薄膜へ入射した光がガラス等に反射した
光を打ち消すことで実現される。薄膜の光学膜厚：ｎｄ
をλ／４（λ：入射光の波長）と設計した場合に、入射
光の位相のずれが１８０°で最大となり、反射は最小と
なる。たとえば、単層膜を例に挙げると、その屈折率が
ガラス等の物品表面を構成する材質の屈折率の平方根と
等しくなるように、また、膜厚がλ／４となるように設
計される。このようにして、反射防止膜は広く実用され
ている。
【０００４】このような反射防止膜の膜構成や、薄膜の
製造方法などに関する多くの提案（特願平１１−１１９
００２、特願平８−２８２２７９）がなされている。し
かしながら、その設計は、膜材料の持つ固有屈折率に大
きく制限されており、材料の組み合わせと、膜厚および
膜数を制御するだけにとどまっていた。
製造方法などに関する多くの提案（特願平１１−１１９
００２、特願平８−２８２２７９）がなされている。し
かしながら、その設計は、膜材料の持つ固有屈折率に大
きく制限されており、材料の組み合わせと、膜厚および
膜数を制御するだけにとどまっていた。
【０００５】そこで、この出願の発明は、以上の通りの
事情に鑑みてなされたものであり、従来技術の問題点を
解消し、所望の屈折率を有し、膜設計を容易に行うこと
のできる光学複合薄膜を形成する方法と、これを用いた
物品を提供することを課題としている。
事情に鑑みてなされたものであり、従来技術の問題点を
解消し、所望の屈折率を有し、膜設計を容易に行うこと
のできる光学複合薄膜を形成する方法と、これを用いた
物品を提供することを課題としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この出願の発明は、上記
の課題を解決するものとして、以下の通りの発明を提供
する。
の課題を解決するものとして、以下の通りの発明を提供
する。
【０００７】すなわち、まず第１には、この出願の発明
は、フッ素化炭化水素含有の有機物ガスを導入した雰囲
気下で、無機光学薄膜材料を反応性イオンプレーティン
グによって基板上に堆積させて無機光学薄膜の固有屈折
率を変化させた光学複合薄膜を形成することを特徴とす
る光学複合薄膜の形成方法を提供する。
は、フッ素化炭化水素含有の有機物ガスを導入した雰囲
気下で、無機光学薄膜材料を反応性イオンプレーティン
グによって基板上に堆積させて無機光学薄膜の固有屈折
率を変化させた光学複合薄膜を形成することを特徴とす
る光学複合薄膜の形成方法を提供する。
【０００８】そして、第２には、この出願の発明は、上
記第１の発明において、無機光学薄膜材料がＳｉＯ2で
あることや、第３には、無機光学薄膜がＩＴＯ（インジ
ウム錫オキサイド）であること、第４には、有機物ガス
が、フッ素化炭化水素からなるガスであること、第５に
は、有機物ガスが、フッ素化炭化水素とともに、飽和炭
化水素、不飽和炭化水素、有機含酸素化合物、有機ケイ
素化合物、および有機含酸素高分子化合物から選ばれる
少くとも１種からなるものであること、第６には、有機
物ガスが、フッ素化炭化水素からなるガスと、ＣＨ4、
Ｃ2Ｈ6、Ｃ2Ｈ4、Ｃ2Ｈ2、ＰＭＭＡおよびＨＭＤＳＯか
ら選ばれる少なくとも１種からなるガスであることを特
徴とする光学複合薄膜の形成方法を提供する。
記第１の発明において、無機光学薄膜材料がＳｉＯ2で
あることや、第３には、無機光学薄膜がＩＴＯ（インジ
ウム錫オキサイド）であること、第４には、有機物ガス
が、フッ素化炭化水素からなるガスであること、第５に
は、有機物ガスが、フッ素化炭化水素とともに、飽和炭
化水素、不飽和炭化水素、有機含酸素化合物、有機ケイ
素化合物、および有機含酸素高分子化合物から選ばれる
少くとも１種からなるものであること、第６には、有機
物ガスが、フッ素化炭化水素からなるガスと、ＣＨ4、
Ｃ2Ｈ6、Ｃ2Ｈ4、Ｃ2Ｈ2、ＰＭＭＡおよびＨＭＤＳＯか
ら選ばれる少なくとも１種からなるガスであることを特
徴とする光学複合薄膜の形成方法を提供する。
【０００９】また、第７には、この出願の発明は、上記
いずれかの方法に真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーティングの少なくとも１種の方法を組み合わせて多
層膜を形成することや、第８には、形成された光学複合
薄膜に、保護膜を設けるかあるいはアニールすること特
徴とする光学複合薄膜の形成方法を提供する。
いずれかの方法に真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーティングの少なくとも１種の方法を組み合わせて多
層膜を形成することや、第８には、形成された光学複合
薄膜に、保護膜を設けるかあるいはアニールすること特
徴とする光学複合薄膜の形成方法を提供する。
【００１０】さらに、第９には、この出願の発明は、上
記いずれかの発明の方法により形成された光学複合薄膜
を用いて作製された光学物品をも提供する。
記いずれかの発明の方法により形成された光学複合薄膜
を用いて作製された光学物品をも提供する。
【００１１】
【発明の実施の形態】この出願の発明は、上記の通りの
特徴を持つものであるが、以下にその実施の形態につい
て説明する。
特徴を持つものであるが、以下にその実施の形態につい
て説明する。
【００１２】この出願の発明が提供する光学複合薄膜の
形成方法は、フッ素化炭化水素含有の有機物ガスを導入
した雰囲気下で、無機光学薄膜材料を反応性イオンプレ
ーティングによって基板上に堆積させて無機光学薄膜の
固有屈折率を変化させた光学複合薄膜を形成する。
形成方法は、フッ素化炭化水素含有の有機物ガスを導入
した雰囲気下で、無機光学薄膜材料を反応性イオンプレ
ーティングによって基板上に堆積させて無機光学薄膜の
固有屈折率を変化させた光学複合薄膜を形成する。
【００１３】フッ素化炭化水素は、この出願の発明にお
いては、一般式として、ＣnＨmＦl（ｎ，ｌは各々１以
上の数であり、ｍは０または１以上の数を示し、ｍ＋ｌ
は、２ｎまたは２ｎ＋２である）で表わされるものとす
るが、より好ましくは、ｍ＝０であって、ｌ＝２ｎ＋２
である、一般式ＣnＦ2n+2で表される物質であり、これ
らの物質が、無機光学薄膜材料の屈折率を変化させる目
的で複合される。例えば、好適なフッ素化炭化水素とし
ては、ＣＦ4、Ｃ2Ｆ6、Ｃ3Ｆ8等が例示される。
いては、一般式として、ＣnＨmＦl（ｎ，ｌは各々１以
上の数であり、ｍは０または１以上の数を示し、ｍ＋ｌ
は、２ｎまたは２ｎ＋２である）で表わされるものとす
るが、より好ましくは、ｍ＝０であって、ｌ＝２ｎ＋２
である、一般式ＣnＦ2n+2で表される物質であり、これ
らの物質が、無機光学薄膜材料の屈折率を変化させる目
的で複合される。例えば、好適なフッ素化炭化水素とし
ては、ＣＦ4、Ｃ2Ｆ6、Ｃ3Ｆ8等が例示される。
【００１４】有機物ガスは、上記のとおりのフッ素化炭
化水素のみであってもよいし、これと、飽和炭化水素、
不飽和炭化水素、有機含酸素化合物、有機ケイ素化合
物、および有機含酸素高分子化合物から選ばれる１種以
上のものとの組合わせであってもよい。たとえば、工業
的に生産されている代表的な光学ポリマーであるポリメ
タクリル酸メチルやポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリテトラフルオロ
エチレン、ＰＦＡ、サイトップおよびヘキサメチルジシ
ロキサン（ＨＭＤＳＯ）等や、（Ｃ3Ｆ6）3、（ＣＦ3）
2＝ＣＦＯＣＨ3、ＣＦ2ＣＦＣｌやアセチレン、エチレ
ン等が、その一例として示される。これらの有機物は、
単独で用いてよいのはもちろんのこと、複数種類を混合
して用いてもよい。
化水素のみであってもよいし、これと、飽和炭化水素、
不飽和炭化水素、有機含酸素化合物、有機ケイ素化合
物、および有機含酸素高分子化合物から選ばれる１種以
上のものとの組合わせであってもよい。たとえば、工業
的に生産されている代表的な光学ポリマーであるポリメ
タクリル酸メチルやポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリテトラフルオロ
エチレン、ＰＦＡ、サイトップおよびヘキサメチルジシ
ロキサン（ＨＭＤＳＯ）等や、（Ｃ3Ｆ6）3、（ＣＦ3）
2＝ＣＦＯＣＨ3、ＣＦ2ＣＦＣｌやアセチレン、エチレ
ン等が、その一例として示される。これらの有機物は、
単独で用いてよいのはもちろんのこと、複数種類を混合
して用いてもよい。
【００１５】無機光学薄膜材料は、広く一般に使用され
ているものが対象とされる。例えば、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2
等の低屈折率を有するものをはじめとして、ＩＴＯ（イ
ンジウム錫オキサイド）、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｒＯ2
およびＴｉＯ2等の高屈折率を有するものなどが例示さ
れる。
ているものが対象とされる。例えば、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2
等の低屈折率を有するものをはじめとして、ＩＴＯ（イ
ンジウム錫オキサイド）、Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｒＯ2
およびＴｉＯ2等の高屈折率を有するものなどが例示さ
れる。
【００１６】基板についても、その材質については特に
限定されず、たとえば、ＰＣ、ＰＥＴ等のプラスチック
材料や、ステンレス、アルミニウム等の金属材料、ガラ
ス等の無機材料にも幅広く適用することができる。
限定されず、たとえば、ＰＣ、ＰＥＴ等のプラスチック
材料や、ステンレス、アルミニウム等の金属材料、ガラ
ス等の無機材料にも幅広く適用することができる。
【００１７】この出願の発明が提供する光学複合薄膜の
形成の様子を、図１に示した。
形成の様子を、図１に示した。
【００１８】この発明の方法では、たとえば図１に例示
したように、無機光学薄膜材料（６）を配置した真空槽
（１）内に、供給口（４）よりフッ素化炭化水素を含む
有機物ガス（７）を導入し、反応性イオンプレーティン
グ法によって、基板（３）上に光学複合薄膜（１０）を
形成する。
したように、無機光学薄膜材料（６）を配置した真空槽
（１）内に、供給口（４）よりフッ素化炭化水素を含む
有機物ガス（７）を導入し、反応性イオンプレーティン
グ法によって、基板（３）上に光学複合薄膜（１０）を
形成する。
【００１９】反応性イオンプレーティング法としては、
一般に知られている方法が利用できる。例えば、真空槽
（１）内に設置された高周波コイル（５）に高周波を印
加し、無機光学薄膜材料（６）を高周波励起させて低温
プラズマ（８）を発生させる方法などが例示される。こ
の場合、無機光学薄膜材料（６）と共に有機物ガス
（７）も同時にイオン化あるいは活性化されされるた
め、有機物ガス（７）は物質イオン（９）として存在す
る。基板（３）をプラズマの暗黒部に設置することで、
高い運動エネルギーを持つ電子によって基板（３）は自
動的に負電位となり、電界が生じる。そのため、電界に
よって無機光学薄膜材料の低温プラズマ（８）および有
機物ガスの物質イオン（９）は加速され、基板（３）上
に付着し、光学複合薄膜（１０）を形成する。この光学
複合薄膜の形成には、たとえば、この出願の発明者らに
よって提案されたプラズマＣＶＤ装置（特開平１−３３
９３５）などを利用することもできる。
一般に知られている方法が利用できる。例えば、真空槽
（１）内に設置された高周波コイル（５）に高周波を印
加し、無機光学薄膜材料（６）を高周波励起させて低温
プラズマ（８）を発生させる方法などが例示される。こ
の場合、無機光学薄膜材料（６）と共に有機物ガス
（７）も同時にイオン化あるいは活性化されされるた
め、有機物ガス（７）は物質イオン（９）として存在す
る。基板（３）をプラズマの暗黒部に設置することで、
高い運動エネルギーを持つ電子によって基板（３）は自
動的に負電位となり、電界が生じる。そのため、電界に
よって無機光学薄膜材料の低温プラズマ（８）および有
機物ガスの物質イオン（９）は加速され、基板（３）上
に付着し、光学複合薄膜（１０）を形成する。この光学
複合薄膜の形成には、たとえば、この出願の発明者らに
よって提案されたプラズマＣＶＤ装置（特開平１−３３
９３５）などを利用することもできる。
【００２０】上記のように基板（３）上に形成された光
学複合薄膜（１０）は、無機光学薄膜材料中に有機物が
バインダー的な存在として均質に入り込んだ組成とな
る。そのため、密着性のよい光学複合薄膜（１０）を得
ることができる。
学複合薄膜（１０）は、無機光学薄膜材料中に有機物が
バインダー的な存在として均質に入り込んだ組成とな
る。そのため、密着性のよい光学複合薄膜（１０）を得
ることができる。
【００２１】さらに、基板（３）の材質や選択した無機
光学薄膜材料（６）にあわせて、基板（３）温度、高周
波の出力、および有機物ガス（７）の種類と圧力等を調
節することができる。そのため、光学複合薄膜（１０）
の膜厚および組成などを精密に制御することができる。
光学薄膜材料（６）にあわせて、基板（３）温度、高周
波の出力、および有機物ガス（７）の種類と圧力等を調
節することができる。そのため、光学複合薄膜（１０）
の膜厚および組成などを精密に制御することができる。
【００２２】これによって、光学材料の基本特性である
透明性を損ねることなく、従来固定されていた無機光学
材料の固有屈折率を変化させ、所望の屈折率を有する光
学複合薄膜の形成を可能とする。このことは、反射防止
膜の設計において屈折率の変化を容易なものとし、反射
率をシミュレーションする場合にも極めて有用である。
透明性を損ねることなく、従来固定されていた無機光学
材料の固有屈折率を変化させ、所望の屈折率を有する光
学複合薄膜の形成を可能とする。このことは、反射防止
膜の設計において屈折率の変化を容易なものとし、反射
率をシミュレーションする場合にも極めて有用である。
【００２３】また、この出願の発明は、上記発明の方法
において、無機光学薄膜材料がＳｉＯ2であることを特
徴とする光学複合薄膜の形成方法を提供する。
において、無機光学薄膜材料がＳｉＯ2であることを特
徴とする光学複合薄膜の形成方法を提供する。
【００２４】ＳｉＯ2は、光学材料としてはもちろん、
反射防止膜としても広く一般に使用されている材料であ
る。このＳｉＯ2に、フッ素化炭化水素、より好ましく
はＣＦ4を上記発明の方法で複合させて、薄膜を形成す
る。このようにして得られた光学複合薄膜の屈折率は、
ＳｉＯ2の固有屈折率（ｎ＝１．４６）よりも低い値を
とる。さらに、フッ素化炭化水素の導入量を調節するこ
とにより、所望の屈折率を有するＳｉＯ2薄膜を得るこ
とができる。
反射防止膜としても広く一般に使用されている材料であ
る。このＳｉＯ2に、フッ素化炭化水素、より好ましく
はＣＦ4を上記発明の方法で複合させて、薄膜を形成す
る。このようにして得られた光学複合薄膜の屈折率は、
ＳｉＯ2の固有屈折率（ｎ＝１．４６）よりも低い値を
とる。さらに、フッ素化炭化水素の導入量を調節するこ
とにより、所望の屈折率を有するＳｉＯ2薄膜を得るこ
とができる。
【００２５】これによって、ＳｉＯ2という安価で一般
的な光学材料に対して、反射防止膜に求められる低屈折
率特性を所望の値で実現することを可能とする。
的な光学材料に対して、反射防止膜に求められる低屈折
率特性を所望の値で実現することを可能とする。
【００２６】また、無機光学薄膜材料としてＩＴＯ（イ
ンジウム錫オキサイド）が用いられる場合には、低屈折
率特性とともに、導電性の光学薄膜の形成も可能とされ
る。
ンジウム錫オキサイド）が用いられる場合には、低屈折
率特性とともに、導電性の光学薄膜の形成も可能とされ
る。
【００２７】また、この出願の発明の光学複合薄膜の形
成において、フッ素化炭化水素に加えてＣ2Ｈ2、ＰＭＭ
ＡおよびＨＭＤＳＯ等から選ばれるガスが複合されるこ
とで、膜の密着性を向上させたり、膜割れを防止する等
の効果を得ることができる。特に、ＣＦ4にＨＭＤＳＯ
を複合することで、得られる光学複合薄膜の安定性を高
めることが可能となる。
成において、フッ素化炭化水素に加えてＣ2Ｈ2、ＰＭＭ
ＡおよびＨＭＤＳＯ等から選ばれるガスが複合されるこ
とで、膜の密着性を向上させたり、膜割れを防止する等
の効果を得ることができる。特に、ＣＦ4にＨＭＤＳＯ
を複合することで、得られる光学複合薄膜の安定性を高
めることが可能となる。
【００２８】これらの有機物ガスは、無機光学薄膜材料
の性質を向上したり、さらなる機能を付与する目的で複
合されるものであるため、上記以外にも様々な有機物が
複合されてもよいことはいうまでもない。加えて、新規
な特性を持つ光学薄膜材料の創製にもつながる可能性が
期待できる。
の性質を向上したり、さらなる機能を付与する目的で複
合されるものであるため、上記以外にも様々な有機物が
複合されてもよいことはいうまでもない。加えて、新規
な特性を持つ光学薄膜材料の創製にもつながる可能性が
期待できる。
【００２９】そしてこの出願の発明の方法では、上記の
いずれかの光学複合薄膜の形成方法、もしくはこれに真
空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングの少な
くとも１種の方法を組み合わせて多層膜を形成すること
を可能としている。
いずれかの光学複合薄膜の形成方法、もしくはこれに真
空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングの少な
くとも１種の方法を組み合わせて多層膜を形成すること
を可能としている。
【００３０】反射防止膜をはじめとする光学薄膜は、例
えば、多層干渉を利用した多層膜等として考慮されてい
る。このような多層膜の形成は、この出願の発明の光学
複合薄膜の形成方法、もしくはこれに真空蒸着、スパッ
タリング、イオンプレーティングの少なくとも１種の方
法を組み合わせて行うことができる。たとえば、高屈折
率層を真空蒸着法、スパッタリング法またはイオンプレ
ーティング法によって形成し、低屈折率層をこの発明の
方法で形成するなどの方法が例示される。
えば、多層干渉を利用した多層膜等として考慮されてい
る。このような多層膜の形成は、この出願の発明の光学
複合薄膜の形成方法、もしくはこれに真空蒸着、スパッ
タリング、イオンプレーティングの少なくとも１種の方
法を組み合わせて行うことができる。たとえば、高屈折
率層を真空蒸着法、スパッタリング法またはイオンプレ
ーティング法によって形成し、低屈折率層をこの発明の
方法で形成するなどの方法が例示される。
【００３１】上記いずれかに記載の方法により形成され
た光学複合薄膜に、保護膜を設けるかあるいはアニール
処理を施すこともできる。
た光学複合薄膜に、保護膜を設けるかあるいはアニール
処理を施すこともできる。
【００３２】保護膜としては、たとえば、反応性イオン
プレーティング方等によって高硬度の材料を最上層とし
て形成することなどが示される。一方、アニール処理
は、得られた光学複合薄膜を、適当な温度にまで加熱し
てからゆっくり冷却することなどが例示される。
プレーティング方等によって高硬度の材料を最上層とし
て形成することなどが示される。一方、アニール処理
は、得られた光学複合薄膜を、適当な温度にまで加熱し
てからゆっくり冷却することなどが例示される。
【００３３】これにより、光学複合薄膜の表面硬度を向
上させることができ、また、得られた光学複合薄膜を経
時的に安定させることも可能となる。さらに、アニール
処理は、光学複合薄膜の密着性の向上やひずみの除去な
どといった効果が期待できる。
上させることができ、また、得られた光学複合薄膜を経
時的に安定させることも可能となる。さらに、アニール
処理は、光学複合薄膜の密着性の向上やひずみの除去な
どといった効果が期待できる。
【００３４】この出願の発明は、上記いずれかに記載の
方法により形成された光学複合薄膜を用いて作製された
ことを特徴とする光学物品を提供する。
方法により形成された光学複合薄膜を用いて作製された
ことを特徴とする光学物品を提供する。
【００３５】上記発明の方法で形成された光学複合薄膜
を用いた光学物品としては、たとえば、レンズなどの反
射防止膜付き部品、エッジフィルター、ダイクロイック
ミラー等が示される。この光学複合薄膜は、有機物と複
合化されているために基板との密着性および耐久性に優
れ、高い表面硬度を有している。さらに、設計自由度の
高い製造方法によって作製されているため、所望の屈折
率を有し、高品質な光学複合薄膜を実現している。
を用いた光学物品としては、たとえば、レンズなどの反
射防止膜付き部品、エッジフィルター、ダイクロイック
ミラー等が示される。この光学複合薄膜は、有機物と複
合化されているために基板との密着性および耐久性に優
れ、高い表面硬度を有している。さらに、設計自由度の
高い製造方法によって作製されているため、所望の屈折
率を有し、高品質な光学複合薄膜を実現している。
【００３６】これによって、高い品質と光学特性が付与
された光学物品が提供される。
された光学物品が提供される。
【００３７】以下、添付した図面に沿って実施例を示
し、この発明の実施の形態についてさらに詳しく説明す
る。
し、この発明の実施の形態についてさらに詳しく説明す
る。
【００３８】
【実施例】（実施例１）ガラス基板上に、ＳｉＯ2にＣ
Ｆ4を複合させた光学複合膜を、膜厚３／４λの設計で
作製した。なお、ＣＦ4の複合量は、ＣＦ4導入ガス圧を
変化させることで５段階に変化させて成膜し、試料１〜
５とした。それぞれの成膜条件は、表１に示したとおり
である。
Ｆ4を複合させた光学複合膜を、膜厚３／４λの設計で
作製した。なお、ＣＦ4の複合量は、ＣＦ4導入ガス圧を
変化させることで５段階に変化させて成膜し、試料１〜
５とした。それぞれの成膜条件は、表１に示したとおり
である。
【００３９】成膜直後、および１０日後の光学複合膜の
屈折率と、密着性、鉛筆硬度、波長シフト幅を調べ、そ
の結果も表１に示した。なお、波長シフト幅は、成膜直
後から１０日後までの間に中心波長のピークがシフトし
た幅をｎｍで表したものである。
屈折率と、密着性、鉛筆硬度、波長シフト幅を調べ、そ
の結果も表１に示した。なお、波長シフト幅は、成膜直
後から１０日後までの間に中心波長のピークがシフトし
た幅をｎｍで表したものである。
【００４０】
【表１】
【００４１】表１より、ＳｉＯ2（ｎ＝１．４６）にＣ
Ｆ4を複合させることで、光学複合膜の屈折率を低下さ
せることが可能なことが確認された。さらに、ＣＦ4の
複合量を増やすにつれて、光学複合膜の屈折率が低下し
ていくことがわかった。すべての試料は、成膜１０日後
の屈折率に大きな変化がなく、光学複合膜の屈折率が安
定していることが確認された。
Ｆ4を複合させることで、光学複合膜の屈折率を低下さ
せることが可能なことが確認された。さらに、ＣＦ4の
複合量を増やすにつれて、光学複合膜の屈折率が低下し
ていくことがわかった。すべての試料は、成膜１０日後
の屈折率に大きな変化がなく、光学複合膜の屈折率が安
定していることが確認された。
【００４２】ＣＦ4導入ガス圧を６×１０-2Ｐａとして
成膜した試料４は、波長シフト幅が最も少なく、膜硬度
も鉛筆硬度でＨＢと硬く、品質のよいものが得られた。
（実施例２）ガラス基板上に、１層目としてＡｌ2Ｏ3膜
をＡ：真空蒸着法（ＶＤ）およびＢ：高周波イオンプレ
ーティング法（ＲＦ−ＩＰ）により成膜した。２層目と
してＳｉＯ2にＣＦ4を複合させた光学複合膜を、実施例
１の試料４と同じ条件で成膜し、反射防止膜とした。
成膜した試料４は、波長シフト幅が最も少なく、膜硬度
も鉛筆硬度でＨＢと硬く、品質のよいものが得られた。
（実施例２）ガラス基板上に、１層目としてＡｌ2Ｏ3膜
をＡ：真空蒸着法（ＶＤ）およびＢ：高周波イオンプレ
ーティング法（ＲＦ−ＩＰ）により成膜した。２層目と
してＳｉＯ2にＣＦ4を複合させた光学複合膜を、実施例
１の試料４と同じ条件で成膜し、反射防止膜とした。
【００４３】これらの成膜条件を、表２に示した。ま
た、得られた反射防止膜の分光反射曲線を図２の
（Ａ）、（Ｂ）に示した。図中の（Ａ）、（Ｂ）は分光
反射特性の実測値を、Ｓは設計シミュレーションによる
値を示している。なお、比較のために、１層目および３
層目がＴｉＯ2膜、２層目および４層目がＳｉＯ2膜の無
機４層反射防止膜の分光反射曲線をＲとして示した。
た、得られた反射防止膜の分光反射曲線を図２の
（Ａ）、（Ｂ）に示した。図中の（Ａ）、（Ｂ）は分光
反射特性の実測値を、Ｓは設計シミュレーションによる
値を示している。なお、比較のために、１層目および３
層目がＴｉＯ2膜、２層目および４層目がＳｉＯ2膜の無
機４層反射防止膜の分光反射曲線をＲとして示した。
【００４４】得られた反射防止膜の波長５５０ｎｍにお
ける反射率と、鉛筆硬度および密着性試験の結果も表２
に示した。
ける反射率と、鉛筆硬度および密着性試験の結果も表２
に示した。
【００４５】
【表２】
【００４６】その結果、作成２日後に、得られた反射防
止膜の反射率が少し上昇していることが確認された。密
着性および膜硬度については良好な反射防止膜が作製で
きたことがわかった。
止膜の反射率が少し上昇していることが確認された。密
着性および膜硬度については良好な反射防止膜が作製で
きたことがわかった。
【００４７】また、図２より、試料Ａ、Ｂともに、設計
シミュレーションに近く、波長４６０〜６２０ｎｍの可
視光全域で低い反射率を示す反射防止膜が得られたこと
が確認された。
シミュレーションに近く、波長４６０〜６２０ｎｍの可
視光全域で低い反射率を示す反射防止膜が得られたこと
が確認された。
【００４８】特に、１層目のＡｌ2Ｏ3膜を真空蒸着法で
成膜し、２層目のＣＦ4導入ガス圧を６×１０-2Ｐａと
して成膜した試料Ａは、極めて良好な反射特性を示すこ
とがわかった。 （実施例３） ＜１＞ ガラス基板上に、ＳｉＯ2にＣＦ4およびＨＭＤ
ＳＯを複合させた単層複合膜を、膜厚が３／４λとなる
ように成膜した。成膜条件は表３のとおりであり、ＣＦ
4とＨＭＤＳＯの導入ガス圧が合わせて６×１０-2Ｐａ
となるように４種類の配合を設定し、試料６〜９とし
た。
成膜し、２層目のＣＦ4導入ガス圧を６×１０-2Ｐａと
して成膜した試料Ａは、極めて良好な反射特性を示すこ
とがわかった。 （実施例３） ＜１＞ ガラス基板上に、ＳｉＯ2にＣＦ4およびＨＭＤ
ＳＯを複合させた単層複合膜を、膜厚が３／４λとなる
ように成膜した。成膜条件は表３のとおりであり、ＣＦ
4とＨＭＤＳＯの導入ガス圧が合わせて６×１０-2Ｐａ
となるように４種類の配合を設定し、試料６〜９とし
た。
【００４９】成膜直後、および１ヶ月後の複合膜の屈折
率と、密着性、鉛筆硬度、波長シフト幅を調べ、その結
果を表３に示した。なお、波長シフト幅は、成膜直後か
ら１ヶ月後までの間に中心波長のピークがシフトした幅
をｎｍで表したものである。
率と、密着性、鉛筆硬度、波長シフト幅を調べ、その結
果を表３に示した。なお、波長シフト幅は、成膜直後か
ら１ヶ月後までの間に中心波長のピークがシフトした幅
をｎｍで表したものである。
【００５０】＜２＞ ガラス基板上に、１層目としてＡ
ｌ2Ｏ3膜を、真空蒸着法（ＶＤ）によって実施例２と同
様に成膜した。次いで、２層目として、ＳｉＯ2にＣＦ4
およびＨＭＤＳＯを複合させた膜厚２／４λの複合膜
を、上記＜１＞と同様に成膜し、試料１０〜１３とし
た。
ｌ2Ｏ3膜を、真空蒸着法（ＶＤ）によって実施例２と同
様に成膜した。次いで、２層目として、ＳｉＯ2にＣＦ4
およびＨＭＤＳＯを複合させた膜厚２／４λの複合膜
を、上記＜１＞と同様に成膜し、試料１０〜１３とし
た。
【００５１】得られた膜の成膜１ヶ月後の波長シフト幅
と、密着性を調べ、その結果を表３に示した。
と、密着性を調べ、その結果を表３に示した。
【００５２】
【表３】
【００５３】表３より、ＨＭＤＳＯの複合量が増える
と、単層膜（試料６〜９）では反射率が上昇することが
確認され、２層膜（試料１１〜１３）では波長シフト幅
が少なくなることが確認された。
と、単層膜（試料６〜９）では反射率が上昇することが
確認され、２層膜（試料１１〜１３）では波長シフト幅
が少なくなることが確認された。
【００５４】試料１０は、１層目をＡｌ2Ｏ3膜として２
層目に（ＳｉＯ2＋ＣＦ4）膜を成膜した実施例２のＡに
相当する。この場合、成膜１ヶ月後の密着性試験で膜割
れを起こしてしまい、密着性がよくない結果となった。
しかし、ＨＭＤＳＯを複合する（試料１１〜１３）こと
で、膜割れを起こさず、密着性のよい複合膜が得られる
ことがわかった。
層目に（ＳｉＯ2＋ＣＦ4）膜を成膜した実施例２のＡに
相当する。この場合、成膜１ヶ月後の密着性試験で膜割
れを起こしてしまい、密着性がよくない結果となった。
しかし、ＨＭＤＳＯを複合する（試料１１〜１３）こと
で、膜割れを起こさず、密着性のよい複合膜が得られる
ことがわかった。
【００５５】また、高周波を印加して成膜した試料９お
よび試料１３は、波長シフト幅が少なく、経時的に安定
した複合膜となることが確認された。
よび試料１３は、波長シフト幅が少なく、経時的に安定
した複合膜となることが確認された。
【００５６】以上の結果から、ＳｉＯ2にＣＦ4およびＨ
ＭＤＳＯを併用し、周波数を高くして複合膜を作製する
ことで、ＳｉＯ2の固有屈折率の低下、波長シフトの低
減、膜密着力の改善につながることがわかった。 （実施例４）ガラス基板上に、ＩＴＯ(Indium Tin Oxid
e)にＣＦ4を複合させた光学複合膜を、膜厚λ／４の設
計で作製した。なお、ＣＦ4の複合量は、ＣＦ4導入ガス
圧を変化させることで５段階に変化させて成膜し、試料
１４〜１８とした。それぞれの成膜条件は、表４に示し
たとおりである。
ＭＤＳＯを併用し、周波数を高くして複合膜を作製する
ことで、ＳｉＯ2の固有屈折率の低下、波長シフトの低
減、膜密着力の改善につながることがわかった。 （実施例４）ガラス基板上に、ＩＴＯ(Indium Tin Oxid
e)にＣＦ4を複合させた光学複合膜を、膜厚λ／４の設
計で作製した。なお、ＣＦ4の複合量は、ＣＦ4導入ガス
圧を変化させることで５段階に変化させて成膜し、試料
１４〜１８とした。それぞれの成膜条件は、表４に示し
たとおりである。
【００５７】成膜直後、および１０日後の光学複合膜の
屈折率と、密着性、鉛筆硬度、波長シフト幅を調べ、そ
の結果も表１に示した。なお、波長シフト幅は、成膜直
後から１０日後までの間に中心波長のピークがシフトし
た幅をｎｍで表したものである。
屈折率と、密着性、鉛筆硬度、波長シフト幅を調べ、そ
の結果も表１に示した。なお、波長シフト幅は、成膜直
後から１０日後までの間に中心波長のピークがシフトし
た幅をｎｍで表したものである。
【００５８】
【表４】
【００５９】表４より、ＩＴＯ（ｎ＝１．９２０）にＣ
Ｆ4を複合させることで、光学複合膜の屈折率を低下さ
せることが可能なことが確認された。さらに、ＣＦ4の
複合量を増やすにつれて、光学複合膜の屈折率が低下し
ていくことがわかった。すべての試料は、成膜１０日後
の屈折率に大きな変化がなく、光学複合膜の屈折率が安
定していることが確認された。 （実施例５）表４の試料１６の成膜条件でＰＣ板にＩＴ
Ｏを膜厚２０００Åにて成膜したところ、光学薄膜とし
て使用できる図３のチャートを得た。 （実施例６）表４の試料１８の成膜条件でガラス板上に
ＩＴＯを膜厚２０００Åで成膜したところ、光学薄膜と
して品質良く使用できる図４のチャートを得た。 （実施例７）表４の試料１５の成膜条件で光学多層膜を
形成し、その特性を調べた。
Ｆ4を複合させることで、光学複合膜の屈折率を低下さ
せることが可能なことが確認された。さらに、ＣＦ4の
複合量を増やすにつれて、光学複合膜の屈折率が低下し
ていくことがわかった。すべての試料は、成膜１０日後
の屈折率に大きな変化がなく、光学複合膜の屈折率が安
定していることが確認された。 （実施例５）表４の試料１６の成膜条件でＰＣ板にＩＴ
Ｏを膜厚２０００Åにて成膜したところ、光学薄膜とし
て使用できる図３のチャートを得た。 （実施例６）表４の試料１８の成膜条件でガラス板上に
ＩＴＯを膜厚２０００Åで成膜したところ、光学薄膜と
して品質良く使用できる図４のチャートを得た。 （実施例７）表４の試料１５の成膜条件で光学多層膜を
形成し、その特性を調べた。
【００６０】すなわちＰＣ基板上に高周波イオンプレー
ティングにてＩＴＯにＣＦ4を複合させた光学薄膜と、
Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＣ2膜をλ／４波長にて積層させ、両面
４層の光学反射防止膜を作成した。
ティングにてＩＴＯにＣＦ4を複合させた光学薄膜と、
Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＣ2膜をλ／４波長にて積層させ、両面
４層の光学反射防止膜を作成した。
【００６１】ＩＴＯの導伝性を利用した導伝性ＡＲ（反
射防止膜）が得られた。
射防止膜）が得られた。
【００６２】本薄膜の光学特性は、図５のように、品質
の良い反射防止膜であることを示した。
の良い反射防止膜であることを示した。
【００６３】この場合の導電性の薄膜の構成は 基 板 ＰＣ 第１層 ＩＴＯ＋ＣＦ4 第２層 ＳｉＯ2 第３層 ＩＴＯ＋ＣＦ4 第４層 Ａｌ2Ｏ3 であり、成膜後の膜割れもなく、常温放置および加湿後
も同様であった。
も同様であった。
【００６４】ガラス基板やＰＣ以外のＰＥＴ、ＰＭＭＡ
板にもＩＴＯ＋ＣＦ4で成膜した一層膜や多層膜として
の光学薄膜の形成が可能となることがわかった。 （実施例８）ガラス基板上に高周波イオンプレーティン
グにて、表４の試料１７の成膜条件を使い導電性ＡＲ膜
を作成した。
板にもＩＴＯ＋ＣＦ4で成膜した一層膜や多層膜として
の光学薄膜の形成が可能となることがわかった。 （実施例８）ガラス基板上に高周波イオンプレーティン
グにて、表４の試料１７の成膜条件を使い導電性ＡＲ膜
を作成した。
【００６５】この場合の導電薄膜の構成は 基 板 ガラス板 第１層 ＩＴＯ＋ＣＦ4 第２層 ＳｉＯ2 第３層 ＴｉＯ2 第４層 ＳｉＯ2 で、ＩＴＯにＣＦ4を複合させた光学薄膜とＳｉＯ2、Ｔ
ｉＯ2、ＳｉＯ2膜をλ／４波長にて積層させ、４層の光
学反射防止膜を作成した。
ｉＯ2、ＳｉＯ2膜をλ／４波長にて積層させ、４層の光
学反射防止膜を作成した。
【００６６】作成した膜は、図６のように、常態、加湿
後においても変化なく、導電性ＡＲ膜としての特性を示
した。
後においても変化なく、導電性ＡＲ膜としての特性を示
した。
【００６７】もちろん、この発明は以上の例に限定され
るものではなく、細部については様々な態様が可能であ
ることは言うまでもない。
るものではなく、細部については様々な態様が可能であ
ることは言うまでもない。
【００６８】
【発明の効果】以上詳しく説明した通り、この発明によ
って、基板との密着性および耐久性に優れており、さら
に、所望の屈折率を実現できるため、自由度の高い設計
を可能とする光学複合薄膜の形成方法が提供される。
って、基板との密着性および耐久性に優れており、さら
に、所望の屈折率を実現できるため、自由度の高い設計
を可能とする光学複合薄膜の形成方法が提供される。
【図１】この発明の方法による光学複合薄膜の形成の概
略を例示した図である。
略を例示した図である。
【図２】反射防止膜の分光反射曲線と、設計シミュレー
ションによる分光反射曲線を例示した図である。
ションによる分光反射曲線を例示した図である。
【図３】ＰＣ板ＩＴＯ成膜品の透過率曲線を例示した図
である。
である。
【図４】ガラス板ＩＴＯ成膜品の透過率曲線を例示した
図である。
図である。
【図５】多層膜の反射率特性を例示した図である。
【図６】別の多層膜の反射率特性を例示した図である。
１ 真空槽 ２ 排気口 ３ 基板 ４ ガス供給口 ５ 高周波コイル ６ 無機光学薄膜材料 ７ 有機物ガス ８ 無機光学薄膜材料の低温プラズマ ９ 有機物ガスの物質イオン １０ 光学複合薄膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２３Ｃ 14/24 Ｃ２３Ｃ 14/24 Ｎ 14/34 14/34 Ｎ 14/58 14/58 Ｂ Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ 1/10 Ｚ (72)発明者 村山 洋一 東京都新宿区下落合３丁目17番44号 ドム ス目白304 (72)発明者 柏木 邦宏 埼玉県志木市本町２−11−47 Ｆターム(参考） 2K009 AA04 AA07 AA15 BB02 BB06 BB11 CC02 CC03 CC26 CC42 DD03 DD06 DD07 4G059 AA11 AB01 AB09 AB11 AB17 AC04 EA01 EA02 EA03 EA04 EA05 EB02 EB03 EB04 GA01 GA02 GA04 GA12 4K029 AA09 BA42 BA43 BA44 BA46 BA48 BB02 BC07 CA01 CA03 CA05 DD02 GA03
Claims (9)
- 【請求項１】 フッ素化炭化水素含有の有機物ガスを導
入した雰囲気下で、無機光学薄膜材料を反応性イオンプ
レーティングによって基板上に堆積させて無機光学薄膜
の固有屈折率を変化させた光学複合薄膜を形成すること
を特徴とする光学複合薄膜の形成方法。 - 【請求項２】 無機光学薄膜材料がＳｉＯ2であること
を特徴とする請求項１記載の光学複合薄膜の形成方法。 - 【請求項３】 無機光学薄膜材料が、ＩＴＯであること
を特徴とする請求項１記載の光学複合薄膜の形成方法。 - 【請求項４】 有機物ガスが、フッ素化炭化水素からな
るガスであることを特徴とする請求項１ないし３のいず
れかに記載の光学複合薄膜の形成方法。 - 【請求項５】 有機物ガスが、フッ素化炭化水素ととも
に、飽和炭化水素、不飽和炭化水素、有機含酸素化合
物、有機ケイ素化合物、および有機含酸素高分子化合物
から選ばれる少くとも１種からなることを特徴とする請
求項１ないし４のいずれかに記載の光学複合薄膜の形成
方法。 - 【請求項６】 フッ素化炭化水素とともに含有される有
機物ガスが、ＣＨ4、Ｃ2Ｈ6、Ｃ2Ｈ4、Ｃ2Ｈ2、ＰＭＭ
ＡおよびＨＭＤＳＯから選ばれる少なくとも１種からな
るガスであることを特徴とする請求項５記載の光学複合
薄膜の形成方法。 - 【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかに記載の方
法に真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
の少なくとも１種の方法を組み合わせて多層膜を形成す
ることを特徴とする光学複合薄膜の形成方法。 - 【請求項８】 請求項１ないし７いずれかに記載の方法
により形成された光学複合薄膜に、保護膜を設けるかあ
るいはアニール処理を施すことを特徴とする光学複合薄
膜の形成方法。 - 【請求項９】 請求項１ないし８いずれかに記載の方法
により形成された光学複合薄膜を用いて作製されたこと
を特徴とする光学物品。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000362927A JP2001295032A (ja) | 2000-02-10 | 2000-11-29 | 光学複合薄膜の形成方法およびそれを用いた光学物品 |
| EP01301190A EP1123905A3 (en) | 2000-02-10 | 2001-02-12 | Process for forming an optical composite film and for producing optical articles from the same |
| US09/780,410 US20020008018A1 (en) | 2000-02-10 | 2001-02-12 | Process for forming optical composite film and optical articles producing from the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-34096 | 2000-02-10 | ||
| JP2000034096 | 2000-02-10 | ||
| JP2000362927A JP2001295032A (ja) | 2000-02-10 | 2000-11-29 | 光学複合薄膜の形成方法およびそれを用いた光学物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001295032A true JP2001295032A (ja) | 2001-10-26 |
Family
ID=26585249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000362927A Pending JP2001295032A (ja) | 2000-02-10 | 2000-11-29 | 光学複合薄膜の形成方法およびそれを用いた光学物品 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020008018A1 (ja) |
| EP (1) | EP1123905A3 (ja) |
| JP (1) | JP2001295032A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005274327A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Citizen Watch Co Ltd | 時計用風防ガラスおよび時計 |
| JP2006316306A (ja) * | 2005-05-11 | 2006-11-24 | Shimadzu Corp | フッ素系光学重合膜の製造方法及び紫外域用反射ミラー |
| JP2008063629A (ja) * | 2006-09-08 | 2008-03-21 | Asahi Glass Co Ltd | 低屈折率膜の製膜方法および低屈折率膜を有する物品 |
| JP2009128844A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Canon Inc | 光学系及びそれを有する光学機器 |
| JP2009179866A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Shimadzu Corp | 紫外波長域用反射防止膜の製造方法 |
| WO2012133216A1 (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-04 | Hoya株式会社 | プラスチックレンズ |
| JP2016069720A (ja) * | 2014-10-02 | 2016-05-09 | 吉田 國雄 | 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子 |
| JP2019521376A (ja) * | 2016-06-13 | 2019-07-25 | ヴァイアヴィ・ソリューションズ・インコーポレイテッドＶｉａｖｉ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ Ｉｎｃ． | 保護コーティングを含む保護されたアイテム |
Families Citing this family (10)
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|---|---|---|---|---|
| CA2408113C (en) | 2001-10-25 | 2005-10-04 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
| JP4220232B2 (ja) | 2002-12-26 | 2009-02-04 | Ｈｏｙａ株式会社 | 反射防止膜を有する光学部材 |
| DE10336041A1 (de) * | 2003-08-01 | 2005-02-17 | Merck Patent Gmbh | Optisches Schichtsystem mit Antireflexeigenschaften |
| DE102005007825B4 (de) | 2005-01-10 | 2015-09-17 | Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh | Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung, reflexionsmindernde Schicht auf einem transparenten Substrat sowie Verwendung einer derartigen Schicht |
| WO2016075435A1 (en) * | 2014-11-12 | 2016-05-19 | Pilkington Group Limited | Coated glass article, display assembly made therewith and method of making a display assembly |
| FR3045672B1 (fr) | 2015-12-18 | 2018-03-16 | Corporation De L'ecole Polytechnique De Montreal | Article comprenant une couche organique-inorganique de bas indice de refraction |
| EP3296799B1 (en) | 2016-09-20 | 2024-05-22 | Essilor International | Optical article with blue cut, high uv cut and high clarity |
| JP7157976B2 (ja) | 2018-07-31 | 2022-10-21 | 國雄 吉田 | 薄膜の形成方法及び多孔性薄膜 |
| EP3693765B1 (en) | 2019-02-05 | 2023-04-19 | Essilor International | Article coated with an antireflective coating having improved optical properties |
| EP3693766B1 (en) | 2019-02-05 | 2024-10-30 | Corporation de L'Ecole Polytechnique de Montreal | Article coated with a low refractive index layer based on fluorinated organosilicon compounds |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0642003B2 (ja) * | 1983-09-20 | 1994-06-01 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学部品の反射防止膜とその形成方法 |
| CS273586B1 (en) * | 1988-04-08 | 1991-03-12 | Vaclav Ing Svec | Device for straightening presses' tool and semiproduct distance measuring |
-
2000
- 2000-11-29 JP JP2000362927A patent/JP2001295032A/ja active Pending
-
2001
- 2001-02-12 EP EP01301190A patent/EP1123905A3/en not_active Withdrawn
- 2001-02-12 US US09/780,410 patent/US20020008018A1/en not_active Abandoned
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| JPWO2012133216A1 (ja) * | 2011-03-25 | 2014-07-28 | Hoya株式会社 | プラスチックレンズ |
| US9022585B2 (en) | 2011-03-25 | 2015-05-05 | Hoya Corporation | Plastic lens |
| JP2016069720A (ja) * | 2014-10-02 | 2016-05-09 | 吉田 國雄 | 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1123905A3 (en) | 2001-09-05 |
| EP1123905A2 (en) | 2001-08-16 |
| US20020008018A1 (en) | 2002-01-24 |
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