JP2001276720A - Thick film forming method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、スクリーン印刷法
を用いた厚膜の形成方法の改良に関する。The present invention relates to an improvement in a method for forming a thick film using a screen printing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】スクリーン印刷を利用して厚膜材料を印
刷することにより、導体や絶縁体の厚膜パターンを有す
る厚膜式PDP(Plasma Display Panel)基板、プラズ
マ・アドレス液晶パネル(Plasma Addressd Liquid Cry
stal Panel)のプラズマ・スイッチング用基板、VFD
(Vacuum Fluorescent Display)の厚膜陽極基板、或い
は厚膜配線基板等が製造されることが知られている。こ
れらの厚膜基板では、印刷パターンの大型化および高精
細化への要求が年々高まる傾向にある。例えば、PDP
基板やプラズマ・スイッチング基板においては、HDT
V等の大型且つ高解像度の表示装置が望まれており、ま
た、VFDの厚膜陽極基板や厚膜配線基板等では、表示
密度或いは配線密度を高めると共に多数個取りにより製
造効率を高めることが望まれているためである。2. Description of the Related Art A thick film type PDP (Plasma Display Panel) substrate having a thick film pattern of a conductor or an insulator and a plasma addressed liquid crystal panel (Plasma Addressed Liquid) are formed by printing a thick film material using screen printing. Cry
stal Panel) plasma switching substrate, VFD
It is known that a thick-film anode substrate of Vacuum Fluorescent Display or a thick-film wiring board is manufactured. In these thick-film substrates, there is a tendency that demands for larger print patterns and higher definition are increasing year by year. For example, PDP
HDT for substrates and plasma switching substrates
Large and high-resolution display devices such as V are desired, and in the case of thick film anode substrates and thick film wiring substrates of VFDs, it is necessary to increase the display density or wiring density and to increase the manufacturing efficiency by multi-cavity production. It is because it is desired.
【0003】上記のような厚膜スクリーン印刷に用いら
れるスクリーン製版(以下「製版」という。)は、矩形
枠状を成す版枠の一面に所定メッシュのスクリーンが張
設されたものであり、そのスクリーンには感光性樹脂
(エマルジョン)等でパターン形成された所定形状の開
口部(印刷パターン)が設けられている。スクリーン印
刷をするに際しては、被印刷面から予め定められた一定
の版間隔だけ離隔して配置した製版のスクリーン上に厚
膜印刷ペーストを載置し、そのスクリーンを被印刷面に
向かって押し下げつつその上でスキージを所定の摺動方
向に沿って摺動することにより、その厚膜印刷ペースト
をスクリーンの開口部から押し出して被印刷面に印刷す
る。A screen plate (hereinafter, referred to as "plate making") used for thick film screen printing as described above has a screen of a predetermined mesh stretched on one surface of a plate frame having a rectangular frame shape. The screen is provided with openings (print patterns) of a predetermined shape formed by patterning with a photosensitive resin (emulsion) or the like. When performing screen printing, a thick-film printing paste is placed on a screen of a plate making arranged at a predetermined fixed plate interval from a printing surface, and the screen is pressed down toward the printing surface. Then, by sliding the squeegee along a predetermined sliding direction, the thick film printing paste is extruded from the opening of the screen and printed on the printing surface.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な厚膜スクリーン印刷法で形成される厚膜の厚さは、一
般に、固着された感光性樹脂の厚みを含めたスクリーン
の全厚さの1/3程度である。そのため、膜厚を厚くす
る場合には、例えば固着する感光性樹脂の厚さを増し、
或いは同じ製版を用いて繰り返し印刷して厚膜印刷ペー
ストを積層すること等が行われる。一方、膜厚を薄くす
る場合には、例えば、厚膜印刷ペースト中の樹脂量を多
くして焼成後の残存率を低下させ、或いはスクリーンの
厚さを薄くすること等が行われている。By the way, the thickness of the thick film formed by the above-described thick film screen printing method is generally equal to the total thickness of the screen including the thickness of the fixed photosensitive resin. It is about 1/3. Therefore, when increasing the film thickness, for example, increase the thickness of the photosensitive resin to be fixed,
Alternatively, printing is repeatedly performed using the same plate making to laminate a thick film printing paste. On the other hand, when the film thickness is reduced, for example, the amount of resin in the thick film printing paste is increased to reduce the residual ratio after firing, or to reduce the thickness of the screen.
【0005】しかしながら、膜厚を薄くするために樹脂
量を多くすると、ペースト粘度が高くなって版離れが悪
くなる問題がある。一方、スクリーンの厚さは、例えば
よく用いられているメッシュ・スクリーンではメッシュ
を構成する繊維の線径で決定されるが、その線径は版離
れ性や耐久性を考慮して製版の大きさに応じて設定され
る。そのため、製版が小さい小面積印刷の場合にはスク
リーンを薄くすることで容易に薄い厚膜を形成できる
が、大面積印刷のために製版が大きくなるほどスクリー
ンを厚くする必要があることから膜厚を薄くすることが
困難であった。製版が大きくなると、スクリーンの自重
やペースト重量の増大に起因してそのスクリーンに作用
する引張力が増大するため、版離れ性を確保するために
付与すべき張力が高くなることから、スクリーンの塑性
的な伸びを抑制するためにスクリーンを厚くしなければ
ならないのである。However, if the amount of resin is increased in order to reduce the film thickness, there is a problem that the paste viscosity is increased and the separation from the printing plate is deteriorated. On the other hand, the thickness of the screen is determined, for example, by the wire diameter of the fibers constituting the mesh in a commonly used mesh screen. It is set according to. Therefore, in the case of small area printing where the plate making is small, a thin thick film can be easily formed by making the screen thin.However, for a large area printing, it is necessary to make the screen thicker as the plate making becomes larger. It was difficult to make it thin. As the plate making becomes larger, the tensile force acting on the screen increases due to the weight of the screen and the weight of the paste, and the tension to be applied to secure the plate separation increases. The screen must be made thicker in order to control the natural elongation.
【0006】したがって、例えば、40型(対角40イン
チ)程度以上の大型のPDP用基板において、 5〜 10
(μm)程度の比較的薄い厚膜を形成したい場合にも、 20
(μm)程度以上の厚い膜しか得らないという問題があっ
た。例えば、3電極交流型の厚膜式PDPにおいては、
放電電極が形成された前面板内面にその略全面を隙間な
く覆う比較的大面積パターン(すなわち「べた」パター
ン)の誘電体膜が設けられる。このような誘電体膜で
は、絶縁耐圧が確保できる範囲で高い放電特性が得られ
るように、その膜厚を 10(μm)程度以下に薄くすること
が望まれるのである。Therefore, for example, in a large PDP substrate of about 40 inches (40 inches diagonal) or more, 5 to 10
(μm) to form a relatively thin thick film.
(μm) or more. For example, in a three-electrode AC type thick film type PDP,
A dielectric film having a relatively large area pattern (that is, a “solid” pattern) that covers substantially the entire surface of the front plate on which the discharge electrodes are formed without any gap is provided. It is desired that the thickness of such a dielectric film be reduced to about 10 (μm) or less so that high discharge characteristics can be obtained in a range where a withstand voltage can be ensured.
【0007】本発明は、以上の事情を背景として為され
たものであって、その目的は、製版が大きくなる大面積
印刷の場合にも膜厚を薄くすることが容易な厚膜の形成
方法を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method of forming a thick film which can easily reduce the film thickness even in large-area printing in which plate making is large. Is to provide.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】斯かる目的を達成するた
め、本発明の要旨とするところは、厚膜スクリーン印刷
を用いて被印刷面に所定範囲を隙間なく覆う厚膜を形成
する方法であって、(a) スクリーンの前記所定範囲に対
応する開口領域内に所定の一方向における断面で断続す
るように開口部を設けたスクリーン製版を用いて厚膜印
刷ペーストを前記被印刷面に塗布する印刷工程と、(b)
前記被印刷面の前記所定範囲内に前記開口部を通して塗
布された厚膜印刷ペーストをレベリング処理することに
より、その開口部の形状に倣って断続するその厚膜印刷
ペーストをその縁だれを利用して相互に接続し、その厚
膜印刷ペーストから前記所定範囲を隙間なく覆い且つ略
一様な厚みの塗布膜を生成するレベリング工程とを、含
むことにある。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the gist of the present invention is to provide a method of forming a thick film that covers a predetermined area of a printing surface without gaps by using thick film screen printing. (A) applying a thick film printing paste to the printing surface by using a screen plate having an opening provided so as to be intermittent in a cross section in a predetermined direction in an opening area corresponding to the predetermined range of the screen; Printing process, and (b)
By performing a leveling process on the thick-film printing paste applied through the opening in the predetermined area of the printing surface, the thick-film printing paste intermittently following the shape of the opening is used by using the edge dripping. And a leveling step of forming a coating film having a substantially uniform thickness by covering the predetermined range from the thick-film printing paste without gaps.
【0009】[0009]
【発明の効果】このようにすれば、印刷工程において
は、被印刷面の厚膜を形成する所定範囲内において開口
部の形状に倣った断続した形状で厚膜印刷ペーストが塗
布されるが、その厚膜印刷ペーストは、レベリング工程
においてレベリング処理されることにより、その縁だれ
によってその断続部分が相互に接続され、所定範囲を隙
間なく覆い且つ略一様な厚みの塗布膜に生成される。そ
のため、塗布された厚膜印刷ペーストの厚みは、当初は
スクリーンの厚さに応じた比較的大きな厚みであるが、
レベリング処理される過程でその所定範囲内のうちの塗
布されていない部分を含む全面でその厚さが平均化さ
れ、当初のペースト厚みに開口部の断続の程度に応じて
定められる開口領域の開口率を乗じた程度の薄い膜厚に
変化する。したがって、上記一方向における開口部の断
続形状を適宜設定することによって、スクリーン厚さを
薄くすることが困難な大面積印刷の場合にも、容易に薄
い厚膜を形成することが可能となる。In this way, in the printing process, the thick film printing paste is applied in an intermittent shape following the shape of the opening within a predetermined range for forming the thick film on the surface to be printed. The thick film printing paste is subjected to a leveling process in a leveling step, so that the interrupted portions are connected to each other by the edge dripping, and a predetermined range is covered without a gap, and a coating film having a substantially uniform thickness is generated. Therefore, the thickness of the applied thick film printing paste is initially a relatively large thickness according to the thickness of the screen,
During the leveling process, the thickness of the entire surface including the uncoated portion within the predetermined range is averaged, and the opening of the opening region is determined by the initial paste thickness according to the degree of intermittent opening. It changes to a thin film thickness multiplied by the ratio. Therefore, by appropriately setting the intermittent shape of the opening in the one direction, a thin thick film can be easily formed even in the case of large-area printing in which it is difficult to reduce the screen thickness.
【0010】[0010]
【発明の他の態様】ここで、好適には、前記印刷工程
は、前記開口部が前記の開口領域内において略一様に分
布するように設けられたスクリーン製版を用いるもので
ある。このようにすれば、前記所定範囲内に略一様な分
布で厚膜印刷ペーストが塗布されるため、レベリング処
理によってその膜厚を一様化することが一層容易にな
る。なお、開口領域内に開口部が略一様に分布する態様
としては、例えば、略一様な幅寸法の帯状(スリット
状)開口部がその幅方向に略一様な中心間隔で配置され
たもの、略一様な面積のドット状開口部が略等間隔で配
置されたもの、或いは、略一様な面積のドット状の非開
口部が略等間隔で配置されたもの等が挙げられる。In another preferred embodiment of the present invention, the printing step uses a screen plate provided so that the openings are substantially uniformly distributed in the opening area. With this configuration, the thick-film printing paste is applied in a substantially uniform distribution within the predetermined range, so that it is easier to make the thickness uniform by the leveling process. In addition, as an aspect in which the openings are substantially uniformly distributed in the opening region, for example, strip-shaped (slit-shaped) openings having substantially uniform width dimensions are arranged at substantially uniform center intervals in the width direction. Examples thereof include those in which dot-shaped openings having a substantially uniform area are arranged at substantially equal intervals, those in which dot-shaped non-openings having a substantially uniform area are arranged at substantially equal intervals, and the like.
【0011】また、好適には、前記レベリング工程は、
前記厚膜印刷ペーストを所定温度、好ましくは室温より
も5 〜6(℃) 程度だけ高い温度で加熱しつつ静置するも
のである。このようにすれば、厚膜印刷ペースト中に含
まれる樹脂成分が加熱によって軟化させられることによ
りその流動性が高められるため、一層短時間で一層一様
な膜厚にレベリングすることが可能となる。Preferably, the leveling step comprises:
The thick film printing paste is allowed to stand while being heated at a predetermined temperature, preferably about 5 to 6 (° C.) higher than room temperature. In this case, the resin component contained in the thick-film printing paste is softened by heating, so that the fluidity thereof is enhanced. Therefore, it is possible to perform leveling to a more uniform film thickness in a shorter time. .
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図面を
参照して詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0013】図1は、本発明の厚膜の形成方法の一実施
例を適用して製造されたPDP用の前面板10の要部構
成を説明するための斜視図である。図において、前面板
10は、40型程度の大型の表示面を備えた所謂3電極構
造のAC型PDPの前面板を構成するものであって、例
えば、透光性を備えたソーダライム・ガラス等から成る
平板である。PDPの放電空間内に位置することとなる
前面板10の一面12には、一方向に沿って伸びる複数
本の放電電極14が、互いに平行且つ2本を一組として
表示の精細度に応じて定められる一定の中心間隔を以て
配設されている。この放電電極14は、例えば厚膜銀等
の厚膜導電材料から成るものであり、通常はこれに加え
て薄膜プロセスで形成された透明電極が併設されるが、
図においては省略した。FIG. 1 is a perspective view for explaining a main structure of a front panel 10 for a PDP manufactured by applying an embodiment of a method for forming a thick film according to the present invention. In the figure, a front plate 10 constitutes a front plate of an AC type PDP having a so-called three-electrode structure having a large display surface of about 40 inches, for example, soda lime glass having translucency. And the like. On one surface 12 of the front plate 10 which is to be located in the discharge space of the PDP, a plurality of discharge electrodes 14 extending in one direction are parallel to each other and two are set as a set according to the definition of display. They are arranged with a fixed center interval. The discharge electrode 14 is made of, for example, a thick-film conductive material such as thick-film silver. In addition to this, a transparent electrode formed by a thin-film process is usually provided in addition to this.
It is omitted in the figure.
【0014】また、上記の放電電極14上には、硼珪酸
ガラス等の低軟化点ガラスから成る誘電体層16が一面
12の周縁部を残す略全面を隙間なく覆って「べた形
状」に設けられており、更にその上には、MgO 等から成
る保護膜18がその誘電体層16の略全面を覆って設け
られている。上記の誘電体層16は、厚膜スクリーン印
刷法を用いて形成されたものであるが、例えば一面12
からの厚さがt= 10(μm)程度であって、40型程度の大
型のPDP用基板としては比較的薄い膜厚に形成されて
いる。本実施例においては、この誘電体層16が請求の
範囲でいう厚膜に相当し、被印刷面である一面12上の
所定範囲はその略全面に設定されている。On the discharge electrode 14, a dielectric layer 16 made of a low softening point glass such as borosilicate glass is provided in a "solid shape" so as to cover almost the entire surface 12 except for the peripheral portion of the surface 12 without any gap. Further, a protective film 18 made of MgO or the like is provided thereon to cover substantially the entire surface of the dielectric layer 16. The dielectric layer 16 is formed by using a thick film screen printing method.
Is about 10 (μm), which is relatively small for a large PDP substrate of about 40 inches. In the present embodiment, the dielectric layer 16 corresponds to a thick film in the claims, and a predetermined range on one surface 12, which is a printing surface, is set to substantially the entire surface.
【0015】上記の誘電体層16は、例えば図2に示さ
れる工程に従って形成されたものである。先ず、ガラス
・ペースト塗布工程S1においては、図示しない工程に
おいて予め放電電極14を設けた前面板10の一面12
上に、その誘電体層16の構成成分である低軟化点ガラ
ス粉末を含む厚膜絶縁ペースト22を厚膜スクリーン印
刷法によって塗布する。この塗布工程S1は、例えば図
3に示すようにスクリーン製版20を一面12から上方
に僅かに離隔した高さ位置に配置し、その上に厚膜絶縁
ペースト22を適量載せてスキージ24を矢印Sで示す
一方向に沿って摺動させることにより、その厚膜絶縁ペ
ースト22をそのS方向に送りつつ一面12上に押し出
すことによって行われる。上記の厚膜絶縁ペースト22
は、例えば硼珪酸ガラス等の低軟化点ガラス、アルミ
ナ、チタニア等のフィラー、およびクロム酸化物等の顔
料等から成るものであり、粘度が20〜200(Pa・s)程度の
特性を有するものである。The above-described dielectric layer 16 is formed, for example, according to the process shown in FIG. First, in a glass paste application step S1, one surface 12 of the front plate 10 provided with the discharge electrodes 14 in advance in a step (not shown).
A thick film insulating paste 22 containing a glass powder having a low softening point, which is a component of the dielectric layer 16, is applied thereon by a thick film screen printing method. In this application step S1, for example, as shown in FIG. 3, the screen plate 20 is arranged at a height slightly above the one surface 12 and an appropriate amount of the thick film insulating paste 22 is placed thereon, and the squeegee 24 This is performed by extruding the thick-film insulating paste 22 onto the one surface 12 while sending the thick-film insulating paste 22 in the S direction by sliding along one direction indicated by the arrow. The above thick film insulating paste 22
Is composed of, for example, low softening point glass such as borosilicate glass, fillers such as alumina and titania, and pigments such as chromium oxide, and has a viscosity of about 20 to 200 (Pas). It is.
【0016】図4は、上記の製版20の要部構成を説明
する図である。図において、製版20は、例えば対辺が
互いに平行な四辺によって囲まれた矩形の版枠26と、
その版枠26に周縁部において接着剤等で接着されたス
クリーン28とを備えている。版枠26は、例えばアル
ミニウムや軽合金等の軽量金属材料から成るものであ
り、例えば、1000〜2000(mm)程度の枠寸法を有する。一
方、スクリーン28は、例えばステンレス鋼等の金属製
の細線を縦糸および横糸として織ったメッシュ(網)で
あり、例えば325メッシュ(#325)程度のものが
用いられる。このスクリーン28は、例えば株式会社ト
ープロテック社製のSTG−75G型テンションゲージ
を用いて測定した値で0.8 〜0.85(mm)程度に相当する張
力を付与された状態で版枠26に接着されている。FIG. 4 is a view for explaining the structure of a main part of the plate making 20 described above. In the figure, the plate making 20 includes, for example, a rectangular plate frame 26 whose opposite sides are surrounded by four sides parallel to each other,
A screen 28 is attached to the plate frame 26 at the peripheral edge thereof with an adhesive or the like. The plate frame 26 is made of a lightweight metal material such as aluminum or a light alloy, and has a frame size of, for example, about 1000 to 2000 (mm). On the other hand, the screen 28 is a mesh (net) in which fine wires made of metal such as stainless steel are woven as warps and wefts, for example, about 325 mesh (# 325) is used. The screen 28 is adhered to the plate frame 26 in a state where a tension equivalent to about 0.8 to 0.85 (mm) is applied by a value measured using, for example, an STG-75G type tension gauge manufactured by Toprotec Co., Ltd. ing.
【0017】また、スクリーン28の全面には、例えば
10〜200(μm)程度の厚みを備えた感光性樹脂30が固着
されている。そのため、スクリーン28の感光性樹脂3
0を含めた全厚みは、例えば50〜500(μm)程度である。
この感光性樹脂30は、露光により重合が進行させられ
て機械的強度が高められており、印刷時において厚膜絶
縁ペースト22を透過させないレジスト層として機能さ
せられる。但し、スクリーン28の中央部には、上記感
光性樹脂30が露光後に所定パターンで除去されること
により複数の開口部32が形成された厚膜絶縁ペースト
22の透過領域A、すなわち、印刷領域が備えられてい
る。図4においては、斜線を施して示す範囲に感光性樹
脂30が固着されており、白抜きの範囲は感光性樹脂3
0が除去された部分である。On the entire surface of the screen 28, for example,
A photosensitive resin 30 having a thickness of about 10 to 200 (μm) is fixed. Therefore, the photosensitive resin 3 of the screen 28
The total thickness including 0 is, for example, about 50 to 500 (μm).
The photosensitive resin 30 has its mechanical strength increased by the progress of polymerization by light exposure, and functions as a resist layer that does not transmit the thick film insulating paste 22 during printing. However, the transmission region A of the thick film insulating paste 22 in which the plurality of openings 32 are formed by removing the photosensitive resin 30 in a predetermined pattern after exposure, that is, the printing region Provided. In FIG. 4, the photosensitive resin 30 is fixed in a range indicated by hatching, and a white area indicates the photosensitive resin 3.
0 is the removed portion.
【0018】上記の印刷領域Aは、例えば 500〜1400(m
m)× 300〜800(mm) 程度の大きさに設定されており、そ
の中に形成された複数の開口部32は、図3に示すスキ
ージング方向Sに沿って伸びる互いに平行な帯状パター
ンである。開口部32は、各々が例えばw= 300〜500
(μm)程度の幅寸法と印刷領域Aの略全長に亘る長さと
を備えたものであって、例えばd= 50(μm)程度の相互
間隔を以て略一様な中心間隔で設けられている。したが
って、開口部32は、印刷領域A内にスキ−ジング方向
Sに垂直な方向の断面において断続するように複数が略
一様な分布で設けられており、その印刷領域Aにおける
開口率(印刷領域Aの全面積に対する開口部32の占め
る割合)は、50〜 80(%) 程度である。本実施例におい
ては、請求の範囲にいう開口領域は上記の印刷領域Aに
一致する。The printing area A is, for example, 500 to 1400 (m
m) × 300-800 (mm), and the plurality of openings 32 formed therein are formed in parallel belt-like patterns extending along the squeezing direction S shown in FIG. is there. Each of the openings 32 has, for example, w = 300 to 500.
It has a width dimension of about (μm) and a length that extends over substantially the entire length of the print area A, and is provided at a substantially uniform center interval with a mutual interval of, for example, d = 50 (μm). Therefore, a plurality of openings 32 are provided in the print area A with a substantially uniform distribution so as to be intermittent in a cross section in a direction perpendicular to the scanning direction S. The ratio of the opening 32 to the entire area of the region A) is about 50 to 80 (%). In the present embodiment, the opening area referred to in the claims corresponds to the printing area A described above.
【0019】そのため、図5(a-1) (a-2) に塗布工程S
1直後の前面板10の断面および上から見た状態を示す
ように、上記の製版20を用いて開口部32を通して厚
膜絶縁ペースト22を塗布することにより形成されたペ
ースト膜34は、印刷領域A内の開口部32の形状に従
い、その開口部32と略同様な幅寸法を備えて同様な相
互間隔を以てスキージング方向Sに垂直な方向において
断続して互いに平行に並ぶものとなる。また、そのペー
スト膜34の厚さ(一面12からの高さ)は、15〜170
(μm)程度である。すなわち、ペースト膜34は、スク
リーン28の全厚みの1/3程度の厚さで形成されてい
る。Therefore, the coating step S is shown in FIGS.
The paste film 34 formed by applying the thick film insulating paste 22 through the opening 32 by using the above-described plate making 20 is a printing In accordance with the shape of the opening 32 in A, the opening 32 has substantially the same width dimension as that of the opening 32, and is intermittently arranged in a direction perpendicular to the squeezing direction S with a similar mutual interval and arranged in parallel to each other. The thickness (height from one surface 12) of the paste film 34 is 15 to 170.
(μm). That is, the paste film 34 is formed with a thickness of about 1 / of the entire thickness of the screen 28.
【0020】図2に戻って、レベリング工程S2におい
ては、上述したように塗布形成されたペースト膜34の
レベリング処理を行う。このレベリング処理は、例え
ば、塗布工程S1が終了してから直ちに、ペースト膜3
4の流動性が殆ど低下しない間に、室温若しくは加熱、
好ましくは室温よりも5 〜6(℃) 程度だけ高い温度に加
熱しつつ1 〜20分程度の静置するものである。例えば、
印刷ラインから乾燥ラインへ流れていく過程で室温に放
置させ、或いは保管用マガジンやキャリア等で一定数量
を滞留させつつ室温或いは加熱下に保つ。これにより、
塗布直後においては開口部32の形状に倣って断続して
(すなわち独立して島状に)形成されていたペースト膜
34は、各々が縁だれさせられてその幅方向に広がるこ
とによって隣接するものと接合させられて一体化し、印
刷範囲全体に亘ってこれを隙間なく覆い且つ一様な厚さ
のペースト膜36が形成される。図5(b) は、この状態
を示している。このとき、ペースト膜36の厚みはペー
スト膜34から生成される過程で平均化されるため、印
刷範囲内における非塗布面積に応じた割合で膜厚が薄く
なる。そのため、スクリーン28の全厚みが前述したよ
うに比較的大きい値に設定されているにも拘わらず、ペ
ースト膜36の厚みは、塗布直後のペースト膜34の厚
みに開口率を乗じた値、すなわち、スクリーン28の全
厚みの1/3程度の値に開口率を乗じた小さい値になっ
ている。本実施例においては、ペースト膜36が塗布膜
に相当する。Returning to FIG. 2, in the leveling step S2, the leveling process of the paste film 34 applied and formed as described above is performed. This leveling process is performed, for example, immediately after the application step S1 is completed.
Room temperature or heating while the fluidity of 4 hardly decreases
Preferably, it is allowed to stand still for about 1 to 20 minutes while heating to a temperature about 5 to 6 (° C.) higher than room temperature. For example,
In the process of flowing from the printing line to the drying line, it is allowed to stand at room temperature, or is kept at room temperature or under heating while retaining a certain amount in a storage magazine or carrier. This allows
Immediately after the application, the paste films 34 formed intermittently (that is, independently in the form of islands) following the shape of the opening 32 are adjacent to each other by being edged and spreading in the width direction thereof. To form a paste film 36 having a uniform thickness and covering the entire printing area without any gap. FIG. 5B shows this state. At this time, since the thickness of the paste film 36 is averaged in the process of being generated from the paste film 34, the thickness is reduced at a rate corresponding to the non-application area within the printing range. Therefore, despite the fact that the entire thickness of the screen 28 is set to a relatively large value as described above, the thickness of the paste film 36 is a value obtained by multiplying the thickness of the paste film 34 immediately after application by the aperture ratio, that is, , A small value obtained by multiplying a value of about 3 of the total thickness of the screen 28 by the aperture ratio. In this embodiment, the paste film 36 corresponds to a coating film.
【0021】続く乾燥工程S3においては、隙間なく連
続させられ且つ膜厚が一様化させられたペースト膜36
を、数十〜百数十 (℃) 程度の温度で乾燥してペースト
中の溶剤を除去する。乾燥後の膜厚は、例えば、 10(μ
m)程度である。そして、焼成工程S4において、ペース
ト膜36中のガラス成分の種類に応じて予め定められた
焼成温度で加熱処理を施すことにより、ペースト中の有
機成分が除去され且つガラス成分が熔融させられ、冷却
過程で硬化させられて前記の誘電体層16が生成される
こととなる。In the subsequent drying step S3, the paste film 36 which is continuously formed without gaps and has a uniform thickness is formed.
Is dried at a temperature of several tens to one hundred and several tens (° C.) to remove the solvent in the paste. The film thickness after drying is, for example, 10 (μ
m). Then, in the firing step S4, by performing a heat treatment at a predetermined firing temperature according to the type of the glass component in the paste film 36, the organic component in the paste is removed, and the glass component is melted. The dielectric layer 16 is formed by curing during the process.
【0022】要するに、本実施例によれば、ガラス・ペ
ースト塗布工程S1においては、一面12の印刷領域A
に対応する範囲内において開口部32の形状に倣った断
続した形状でその開口率に応じた塗布面積割合を以て厚
膜絶縁ペースト22が塗布されるが、その厚膜絶縁ペー
スト22は、レベリング工程S2においてレベリング処
理されることにより、その縁だれによってその断続部分
が相互に接続され、その印刷範囲を隙間なく覆い且つ略
一様な厚みのペースト膜36に生成される。そのため、
塗布形成されたペースト膜34の厚みは、当初はスクリ
ーン28の全厚さに応じた比較的大きな厚みであるが、
レベリング処理される過程で印刷範囲内のうちの塗布さ
れていない部分を含む全面でその厚さが平均化され、当
初のペースト厚みに開口率を乗じた程度の薄い膜厚に変
化する。したがって、前記のように開口部32を断続し
た形状で低い開口率で設けることによって、本実施例の
ように印刷面積が大きいことからスクリーン厚さを薄く
することが困難な場合にも、容易に薄い誘電体層16を
形成することが可能となる。In short, according to the present embodiment, in the glass paste application step S1, the printing area A
The thick film insulating paste 22 is applied in an intermittent shape following the shape of the opening 32 in a range corresponding to the opening ratio in a range corresponding to the opening ratio, and the thick film insulating paste 22 is subjected to the leveling step S2. , The intermittent portions are connected to each other by the edge dripping, and the printing area is covered without any gap, and a paste film 36 having a substantially uniform thickness is generated. for that reason,
The thickness of the paste film 34 formed by coating is initially a relatively large thickness corresponding to the entire thickness of the screen 28,
In the course of the leveling process, the thickness is averaged over the entire surface including the uncoated portion within the printing range, and changes to a thin film thickness such that the initial paste thickness is multiplied by the aperture ratio. Therefore, by providing the opening 32 in an intermittent shape with a low opening ratio as described above, even when it is difficult to reduce the screen thickness due to a large printing area as in the present embodiment, it is easy to perform. It is possible to form a thin dielectric layer 16.
【0023】また、本実施例によれば、印刷工程S1
は、開口部32が印刷領域A内において略一様に分布す
るように設けられたスクリーン製版20を用いて実施さ
れる。そのため、印刷範囲内に略一様な分布で厚膜絶縁
ペースト22が塗布されるため、レベリング処理によっ
てその膜厚を一様化することが一層容易になる。Further, according to the present embodiment, the printing step S1
Is performed using the screen plate 20 provided so that the openings 32 are distributed substantially uniformly in the printing area A. Therefore, since the thick film insulating paste 22 is applied with a substantially uniform distribution in the printing range, it is easier to make the film thickness uniform by the leveling process.
【0024】また、本実施例においては、レベリング工
程S2は、印刷ラインから乾燥ラインへ流れる過程で室
温若しくは加熱下で静置するものであるため、特に工数
を増加させること無く好適に一様な厚さの厚膜が得られ
る。特に、加熱を伴う場合には、印刷領域A内において
略一様な分布で塗布された厚膜絶縁ペースト22が樹脂
成分の軟化に伴ってその厚みが速やかに一様化させられ
るため、所望の膜厚を一層容易に得ることができる。In this embodiment, since the leveling step S2 is performed at room temperature or under heating in the process of flowing from the printing line to the drying line, the leveling step S2 is preferably performed uniformly without increasing the number of steps. A thick film having a thickness is obtained. In particular, when heating is involved, the thickness of the thick film insulating paste 22 applied with a substantially uniform distribution in the printing region A is quickly uniformed with the softening of the resin component. The film thickness can be more easily obtained.
【0025】次に、本発明の他の実施例を説明する。な
お、以下の実施例において前述の実施例と共通する部分
には同一の符号を付して説明を省略する。Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, portions common to the above-described embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
【0026】図6は、他の実施例に用いられるスクリー
ン製版38の要部構成を説明する平面図である。スクリ
ーン28の印刷領域A内には、例えば直径50〜150(μm)
程度の略円形を成す複数の開口部40がその全面に略一
様に分布するように設けられている。すなわち、開口部
40は、スクリーン28の面方向に沿った何れの方向に
おいても断続した形状に設けられている。本実施例にお
いて、印刷領域A内の開口率は、例えば20〜 50(%) 程
度である。FIG. 6 is a plan view illustrating the configuration of a main part of a screen plate 38 used in another embodiment. In the printing area A of the screen 28, for example, a diameter of 50 to 150 (μm)
A plurality of openings 40 having a substantially circular shape are provided so as to be substantially uniformly distributed over the entire surface. That is, the opening 40 is provided in an intermittent shape in any direction along the surface direction of the screen 28. In this embodiment, the aperture ratio in the print area A is, for example, about 20 to 50 (%).
【0027】上記の製版38を用いて前記の図3に示さ
れるように前面板10にスクリーン印刷を施した場合に
は、その一面12上の開口部40に対応する位置に、厚
膜絶縁ペースト22が塗布され、ペースト膜34が点状
に形成される。そして、前述の実施例と同様にレベリン
グ工程S2を実施することにより、相互に独立して形成
された複数のペースト膜34が周囲に広がって隣接する
ものと連続させられ、被印刷面(一面12)上の印刷領
域Aに対応する位置の全域に亘って一様な厚みの薄いペ
ースト膜36が形成される。すなわち、印刷領域A内に
形成される開口部40は、開口部32のように帯状を成
すものに限られず、点(ドット)状のものであっても同
様な作用効果をもたらすこととなる。When screen printing is performed on the front plate 10 as shown in FIG. 3 using the above-described plate making 38, the thick film insulating paste is placed at a position corresponding to the opening 40 on one surface 12 thereof. 22 is applied, and the paste film 34 is formed in a dot shape. Then, by performing the leveling step S2 in the same manner as in the above-described embodiment, the plurality of paste films 34 formed independently from each other are spread around and continuous with the adjacent ones, and the printing surface (one surface 12) is formed. 2) A thin paste film 36 having a uniform thickness is formed over the entire area corresponding to the upper print area A. That is, the opening 40 formed in the printing area A is not limited to a band-like one like the opening 32, and a similar effect can be obtained even if it is a dot (dot) -like one.
【0028】図7は、更に他の実施例のスクリーン製版
42の要部構成を説明する図である。本実施例において
は、印刷領域A内に矩形の外周部輪郭を有する開口部4
4が設けられると共に、その開口部44内に前記の感光
性樹脂30が点(ドット)状に残存させられることによ
り複数の非透過部46が備えられている。非透過部46
は、例えば直径50〜150(μm)程度の略円形を成すもので
あって、印刷領域A内に略一様に分布しており、その印
刷領域A内における開口率は20〜 50(%) 程度である。
すなわち、本実施例においては、開口部44がその非透
過部46を通る断面で断続するように設けられている
が、その開口部44は印刷領域A内に一つだけが設けら
れている。なお、開口部44は、全体が印刷領域A内に
位置し且つそれよりも僅かに小さい大きさに形成されて
いる。FIG. 7 is a view for explaining a main structure of a screen plate 42 according to still another embodiment. In the present embodiment, the opening 4 having a rectangular outer peripheral portion contour in the printing area A is used.
4, and a plurality of non-transmissive portions 46 are provided by leaving the photosensitive resin 30 in the form of dots (dots) in the opening 44 thereof. Non-transmissive part 46
Has a substantially circular shape with a diameter of, for example, about 50 to 150 (μm), and is substantially uniformly distributed in the print area A, and the aperture ratio in the print area A is 20 to 50 (%). It is about.
That is, in this embodiment, the opening 44 is provided so as to be intermittent in a cross section passing through the non-transmissive portion 46, but only one opening 44 is provided in the print area A. The entire opening 44 is located in the printing area A and is formed to have a slightly smaller size.
【0029】上記のような製版42を用いて前述の実施
例と同様に前面板10に厚膜絶縁ペースト22を塗布し
た場合には、穴明き形状のペースト膜34が形成され
る。そして、レベリング工程S2においてレベリング処
理が施されると、ペースト膜34のうちのその穴の周囲
を構成する部分がその穴内に向かうように縁だれにより
流動してそこを埋め尽くすと共にその周縁部が外側に広
がり、印刷領域Aの全体に亘って一様な膜厚のペースト
膜36が生成される。開口部44が印刷領域Aの内周側
に設けられているのは、このようにペースト膜34が流
動して広がった後に、その印刷領域Aに対応する範囲に
丁度ペースト膜36が形成されるようにするためであ
る。このように、当初から全体が連続するペースト膜3
4が形成されるように開口部44がパターン設計される
場合にも、開口率が適切な値に設定されることによって
前述の島状にペースト膜34が形成される場合と同様に
適切な薄いペースト膜36を形成し、延いては薄い誘電
体層16を形成することができる。When the thick film insulating paste 22 is applied to the front plate 10 using the plate making 42 as described above, a perforated paste film 34 is formed. Then, when the leveling process is performed in the leveling step S2, the portion of the paste film 34 that forms the periphery of the hole flows toward the inside of the hole by edging and fills it, and the peripheral portion is A paste film 36 that spreads outward and has a uniform thickness over the entire printing area A is generated. The opening 44 is provided on the inner peripheral side of the print area A because the paste film 34 flows and spreads as described above, and then the paste film 36 is formed just in the area corresponding to the print area A. That's why. Thus, the paste film 3 that is entirely continuous from the beginning
Also in the case where the openings 44 are designed in a pattern such that the openings 4 are formed, the opening ratio is set to an appropriate value, so that the opening 44 is appropriately thin similarly to the case where the paste film 34 is formed in an island shape. The paste film 36 is formed, and the thin dielectric layer 16 can be formed.
【0030】以上、本発明の一実施例を図面を参照して
詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施でき
る。While one embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings, the present invention can be implemented in other embodiments.
【0031】例えば、実施例においては、本発明がAC
型PDPの誘電体層16の形成に適用された場合につい
て説明したが、本発明は、大面積の被印刷面にべた厚膜
を形成するものであれば、VFDの厚膜陽極基板や厚膜
回路基板、オゾナイザ用基板等に誘電体膜や導体膜を形
成する場合にも同様に適用される。また、比較的小面積
への印刷であっても、本発明を適用すれば、スクリーン
28の厚さを比較的厚く設計することができるため、耐
久性の高い製版20を構成することができる。For example, in an embodiment, the present invention
Although the case where the present invention is applied to the formation of the dielectric layer 16 of the type PDP has been described, the present invention is not limited to the case where a thick film anode substrate or a thick film The same applies to the case where a dielectric film or a conductor film is formed on a circuit board, an ozonizer substrate, or the like. Further, even if printing is performed on a relatively small area, by applying the present invention, the thickness of the screen 28 can be designed to be relatively thick, so that the plate making 20 having high durability can be configured.
【0032】また、実施例においては、開口率が20〜 8
0(%) 程度と成るようにスクリーン20に開口部32、
40、44等が設けられている場合について説明した
が、その開口率は、用いられるスクリーン20の厚さや
ペーストの粘性等によって決定される塗布厚みと、必要
な膜厚とに応じて適宜設定される。In the embodiment, the aperture ratio is 20 to 8
An opening 32 is formed in the screen 20 so as to be about 0 (%),
Although the case where 40, 44, etc. are provided has been described, the aperture ratio is appropriately set according to the coating thickness determined by the thickness of the screen 20 used, the viscosity of the paste, and the like, and the required film thickness. You.
【0033】また、実施例においては、開口部32等が
略一様な分布で設けられている場合について説明した
が、その分布は厚膜印刷ペーストの流動性や粘性等に応
じて適宜定められ、最終的に一様な膜厚のペースト膜3
6を得られるのであれば、開口部32の分布の一様性は
必要ではない。In the embodiment, the case where the openings 32 and the like are provided with a substantially uniform distribution has been described, but the distribution is appropriately determined according to the fluidity and viscosity of the thick film printing paste. And finally a paste film 3 having a uniform thickness.
6, the uniformity of the distribution of the openings 32 is not required.
【0034】また、実施例においては、ステンレス製メ
ッシュから成るスクリーン28を用いた製版20等に本
発明が適用された場合について説明したが、樹脂製メッ
シュから成るスクリーンやメタル・スクリーン等を用い
る場合にも本発明を同様に適用できる。Further, in the embodiment, the case where the present invention is applied to the plate making 20 or the like using the screen 28 made of stainless steel mesh has been described. However, the case where a screen made of resin mesh or a metal screen is used. The present invention can be similarly applied to this.
【0035】また、実施例においては、印刷領域Aに対
応する一面12の略全面にそこを隙間なく覆う誘電体層
16が形成される場合、すなわち、請求の範囲にいう
「所定範囲」が一つである所謂「べた厚膜」を形成する
場合に本発明が適用された場合について説明したが、そ
の「所定範囲」が印刷領域A内の複数箇所に設けられて
いる場合、すなわち、種々の厚膜パターンが形成される
場合にも本発明は同様に適用される。要するに、本発明
は、スクリーン28の厚さにより定められる値よりも薄
い厚膜を形成するものであれば、一面12上に相互に独
立した複数の厚膜パターンを形成する場合にも同様に適
用される。In the embodiment, when the dielectric layer 16 is formed on almost the entire surface 12 corresponding to the print area A without any gap, that is, the "predetermined range" in the claims is one. The case where the present invention is applied to the case of forming a so-called "solid thick film" is described. However, when the "predetermined range" is provided at a plurality of locations in the print area A, The present invention is similarly applied to a case where a thick film pattern is formed. In short, the present invention is similarly applied to the case where a plurality of mutually independent thick film patterns are formed on one surface 12 as long as the thick film is formed thinner than the value determined by the thickness of the screen 28. Is done.
【0036】また、実施例においては、開口部32等が
帯状或いは円形状等の場合について説明したが、開口部
32等は、所望の膜厚を得るために必要な開口率となる
ように形成され且つ形成する厚膜パターンに対応する開
口領域内において一方向に沿った断面で断続するもので
あれば、適宜の形状に形成することができる。例えば、
矩形の開口部が点状に配置されるものであってもよく、
種々の曲線を組み合わせた輪郭をもつ形状であってもよ
く、或いは、渦巻き状に連続するもの等であってもよ
い。In the embodiment, the case where the openings 32 and the like have a band shape or a circular shape has been described. However, the openings 32 and the like are formed so as to have an aperture ratio necessary for obtaining a desired film thickness. Any shape may be used as long as it is intermittent in a cross section along one direction in the opening region corresponding to the thick film pattern to be formed. For example,
A rectangular opening may be arranged in a point shape,
The shape may be a shape having an outline combining various curves, or may be a shape continuous in a spiral.
【0037】その他、一々例示はしないが、本発明はそ
の主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加えた態様で実施
することができる。Although not specifically exemplified, the present invention can be embodied in variously modified forms without departing from the gist thereof.
【図1】本発明が適用されて形成された誘電体層を備え
たPDPの前面板の要部構成を説明する斜視図である。FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of a main part of a front panel of a PDP having a dielectric layer formed by applying the present invention.
【図2】図1の誘電体層の形成方法を説明する工程図で
ある。FIG. 2 is a process chart illustrating a method for forming a dielectric layer in FIG. 1;
【図3】図2のガラス・ペースト塗布工程を説明する図
である。FIG. 3 is a view for explaining a glass paste application step in FIG. 2;
【図4】図3の塗布工程に用いられるスクリーン製版の
構成を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of a screen plate used in the coating step of FIG.
【図5】(a) は図2の塗布工程において厚膜ペーストを
塗布した直後の状態を示す図であり、(b) は図2のレベ
リング工程を実施した後の状態を示す図である。5 (a) is a diagram showing a state immediately after the thick film paste is applied in the application step of FIG. 2, and FIG. 5 (b) is a view showing a state after the leveling step of FIG. 2 is performed.
【図6】本発明の他の実施例に用いられるスクリーン製
版の構成を説明する図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a screen plate used in another embodiment of the present invention.
【図7】本発明の更に他の実施例に用いられるスクリー
ン製版の構成を説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of a screen plate used in still another embodiment of the present invention.
12:一面(被印刷面) 34:ペースト膜(塗布後) 36:ペースト膜(レベリング後) 12: One surface (printed surface) 34: Paste film (after coating) 36: Paste film (after leveling)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B41M 1/12 B41M 1/12 5C058 Fターム(参考) 2H113 AA01 AA02 AA03 AA06 BA10 BB09 BC00 BC12 CA17 DA04 FA36 FA48 2H114 AB09 AB15 AB16 AB17 BA02 DA80 EA02 EA04 4D075 AC45 DA06 DB13 DC21 5C027 AA06 5C040 GD09 JA02 JA04 JA12 JA32 KB19 LA17 MA24 MA25 5C058 AA03 AA06 AA11 BA35 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) // B41M 1/12 B41M 1/12 5C058 F term (reference) 2H113 AA01 AA02 AA03 AA06 BA10 BB09 BC00 BC12 CA17 DA04 FA36 FA48 2H114 AB09 AB15 AB16 AB17 BA02 DA80 EA02 EA04 4D075 AC45 DA06 DB13 DC21 5C027 AA06 5C040 GD09 JA02 JA04 JA12 JA32 KB19 LA17 MA24 MA25 5C058 AA03 AA06 AA11 BA35
Claims (1)
所定範囲を隙間なく覆う厚膜を形成する方法であって、 スクリーンの前記所定範囲に対応する開口領域内に所定
の一方向における断面で断続するように開口部を設けた
スクリーン製版を用いて厚膜印刷ペーストを前記被印刷
面に塗布する印刷工程と、 前記被印刷面の前記所定範囲内に前記開口部を通して塗
布された厚膜印刷ペーストをレベリング処理することに
より、その開口部の形状に倣って断続するその厚膜印刷
ペーストをその縁だれを利用して相互に接続し、その厚
膜印刷ペーストから前記所定範囲を隙間なく覆い且つ略
一様な厚みの塗布膜を生成するレベリング工程とを、含
むことを特徴とする厚膜の形成方法。1. A method for forming a thick film that covers a predetermined area without gaps on a surface to be printed using thick film screen printing, wherein a cross section in a predetermined one direction is formed in an opening area corresponding to the predetermined area of the screen. A printing step of applying a thick-film printing paste to the printing surface by using a screen plate provided with an opening so as to be intermittent, and a thick film applied through the opening within the predetermined range of the printing surface. By performing a leveling process on the printing paste, the thick-film printing paste intermittently following the shape of the opening is connected to each other by using the edges, and the predetermined range is completely covered from the thick-film printing paste. And a leveling step of generating a coating film having a substantially uniform thickness.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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---|---|---|---|
JP2000093209A JP2001276720A (en) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | Thick film forming method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family
ID=18608427
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---|---|---|---|
JP2000093209A Pending JP2001276720A (en) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | Thick film forming method |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2001276720A (en) |
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