JP2001267282A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液に大量の汚染物質が混入することが懸
念される基板処理において、処理液が大気に触れて変質
することなく、処理液の消費量を減少してランニングコ
ストを低減した処理槽を提供する 【解決手段】 第１の再使用液タンク５５を出て、第１
の開閉弁Ｖ１１、第１のポンプＰ１１、第１のフィルタ
ー５６を順次通過して、第４の配管６１を経由して、そ
の途中に介装された第７の開閉弁Ｖ１７を通過して再び
第１の再使用液タンク５５へ戻る処理槽２を経由しない
有機剥離液に関するフィルター循環配管が構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶装置製造用のガラス基板などの電子部品製造用の基板
を、有機剥離液やリンス液などの処理液で洗浄処理する
基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述のような基板では、洗浄処理中に、
基板に付着している多量の汚染物質が処理液中に混入す
る。例えば、基板表面に形成されたフォトレジスト皮膜
を剥離して除去する洗浄処理では、剥離されたフォトレ
ジスト皮膜が処理液中に大量に混入することとなる。

【０００３】このように基板を処理する際に、大量の汚
染物質が発生した処理液で、次ぎ々と基板を処理する
と、汚染物質が混入前の新鮮な処理液で先に処理した基
板と比較して、汚染物質が大量に混入している古い処理
液で処理した基板では洗浄が不足したり、洗浄ムラが生
じたりする。これは、処理液の有効成分が基板表面に接
触する頻度が、汚染物質に邪魔されて低下したりするも
のと推される。

【０００４】このため、従来、処理液を新鮮な液と頻繁
に交換することが為されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、処理液を新鮮
な液と頻繁に交換することは、経済的でなく、処理液の
消費を少なくすることが要望されている。

【０００６】また、或る基板を処理した後、次ぎの基板
を処理するまでの間、少々間が空くと、処理液が大気中
の酸素や水蒸気と触れて変質し、基板を安定して洗浄す
るに支障ななることがある。そのため、次ぎの基板を処
理するまでに間が空くと、処理が不安定に成らないよう
に、先の基板を処理した処理液を廃棄して、新鮮な処理
液で次ぎの基板を処理することがあり、これまた、多く
を処理液を多く消費することとなり、経済的でない不具
合がある。

【０００７】なお、処理液を大量に消費することは、経
済性の不具合だけでなく、廃液を環境に負荷を掛けない
ように対処する手間と費用も要する。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、処理液に大量の汚染物質が混入するこ
とが懸念される基板処理において、処理液が大気に触れ
て変質することなく、処理液の消費量を減少してランニ
ングコストを低減した処理槽を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。

【００１０】すなわち、請求項１に記載の発明は、基板
を収容する処理槽と、前記基板を浸漬処理している状態
で前記処理槽内からオーバーフローされる処理液を受け
るオーバーフロー槽と、前記オーバーフロー槽の処理液
を前記処理槽内へ戻すオーバーフロー循環配管と、前記
処理槽の底部に連通し、前記処理槽から処理液を回収す
る回収配管と、前記回収配管と連通し、前記処理槽から
回収された処理液を貯める気密性の再使用液タンクと、
再使用液タンクに貯められた処理液を処理槽へ戻す再供
給配管と、前記再使用液タンク内の液を、前記処理槽を
経由せず、フィルター通過して処理液タンクへ戻すファ
イルタを介装したフィルタ循環配管とを備えたことを特
徴とする基板処理装置である。

【００１１】また、請求項２の発明は、請求項１に記載
の基板処理装置において、基板は表面にフォトレジスト
皮膜が形成された半導体ウエハであって、処理液は有機
剥離液であって、処理槽から再使用液タンクに回収され
た処理液は、ファイルター循環配管を循環する間に、基
板表面から剥離されたフォトレジスト皮膜が前記フィル
ターで除去するようにしたことを特徴とする基板処理装
置である。

【００１２】前記、有機剥離液としては、１−メチル−
２ピロリドン、テトラヒドロチオフェン１．１−ジオキ
シド、イソプロパノールアミン、ジメチルスルホシキ
ド、モノエタノールアミン、２−（２アミノエトキシ）
エタノール、ヒドロキシアミン、カテコール、Ｎ−メチ
ルピロリドン、アロマテイックジオール、パーフレン、
フェノールを主成分とする薬液が使用される。

【００１３】より具体的な例としては、１−メチル−２
ピロリドンとテトラヒドロチオフェン１．１−ジオキシ
ドとイソプロパノールアミンとの混合液（第１例）と
か、ジメチルスルホシキドとモノエタノールアミンとの
混合液（第２例）とか、２−（２アミノエトキシ）エタ
ノールとヒドロキシアミンとカテコールとの混合液（第
３例）とか、２−（２アミノエトキシ）エタノールとＮ
−メチルピロリドンとの混合液（第４例）とか、モノエ
タノールアミンと水とアロマテイックジオールとの混合
液（第５例）とか、パーフレンとフェノールとの混合液
（第６例）とかが挙げられる。

【００１４】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例の基板処理
装置を図面を用いて詳細に説明する。

【００１５】図１は、本発明に係る実施例の基板処理装
置を示す縦断正面図、図２は縦断側面図である。これら
の図において、１はケーシングを示し、このケーシング
１内の下方に処理槽２が設けられている。処理槽２は、
その上部の周囲にオーバーフロー槽４を付設して構成さ
れている。

【００１６】処理槽２の上部に近い位置に、第１の処理
液としての、後述する使用済みの有機剥離液を吐出供給
するパイプ状のシャワーノズル５が設けられている。

【００１７】ケーシング１には、最上部箇所に上部シャ
ッター７が設けられ、ケーシング１の上下方向中間であ
るシャワーノズル５近くの上方箇所に中間シャッター８
が設けられ、両シャッター７，８を閉じた状態で、両シ
ャッター７、８の間にて、乾燥ゾーンが形成されるよう
に構成されている。

【００１８】その乾燥ゾーン内において、ケーシング１
の側壁に、加熱装置としてのパネルヒータ９と、揮発し
たイソプロピルアルコール蒸気を排出する排気管１０と
が設けられている。図示しないが、排気管１０にはブロ
ワーが接続されている。

【００１９】ケーシング１の上方箇所と処理槽２内とに
わたって昇降可能に、多数の基板Ｗを立姿勢で水平方向
に所定間隔を隔てて保持する基板リフター１１が設けら
れている。この基板リフター１１と、ケーシング１外に
設けられた昇降装置１２とが、ケーシング１に鉛直方向
に摺動可能に設けられたリフトロッド１３を介して連動
連結され、基板リフター１１を駆動昇降するように構成
されている。

【００２０】図３は、前記基板処理装置における概略配
管構成図である。処理槽５にては、一度使用した後の有
機剥離液を再使用のために、貯留する第１の再使用液タ
ンク５５が、第１の開閉弁Ｖ１１と第１のポンプＰ１１
と第１のフィルター５６と第２の開閉弁Ｖ１２とを介装
した第１の配管５７を介して接続され、一度使用した後
の有機剥離液をシャワーノズル５から基板Ｗに吐出供給
できるように構成されている。

【００２１】すなわち、第１の再使用液タンク５５に貯
留されている有機剥離液が、第１の開閉弁Ｖ１１と第１
のポンプＰ１１と第１のフィルター５６と第２の開閉弁
Ｖ１２を経由して、シャワーノズル５へ供給されるよう
に、第１の再使用液タンク５５とシャワーノズル５とが
第１の配管５７で接続されている。

【００２２】第１の配管５７において、第１の開閉弁Ｖ
１１と第１のポンプＰ１１との間の箇所には、新しい有
機剥離液を貯留する有機剥離液タンク５８へ連通する第
２の配管５９が接続している。第２の配管５９には第３
の開閉弁Ｖ１３が介装されている。。これにより、新し
い有機剥離液が第２の配管５９を経て、第１の配管５７
を経て、シャワーノズル５より、基板Ｗへ吐出供給でき
る。

【００２３】第１の配管５７において、第２の開閉弁Ｖ
１２と第１のフィルター５６との間の箇所には、処理槽
２の底部へ連通する第３の配管６０が接続されている。
この第３の配管６０には、第４の開閉弁Ｖ１４が介装さ
れている。。これにより、第１の配管５７や、第３の配
管６０を経て、再使用液タンク５５内の有機剥離液を処
理槽５の底部から供給できるように構成されている。

【００２４】処理槽２の底部には、前記した第１の再使
用液タンク５５へ連通する第４の配管６１が接続してい
る。この第４の配管６１の処理槽２の底部への接続は、
処理槽２内の液が余すことなく流れ込れこむことができ
る処理槽内で最も低い箇所に、第４の配管の端部開口が
臨むように配置されている。また、第４の配管６１に
は、第５の開閉弁Ｖ１５および第６の開閉弁Ｖ１６が介
装されている。

【００２５】第４の配管６１において、第５の開閉弁Ｖ
１５と第６の開閉弁Ｖ１６との間の箇所には、オーバー
フロー槽４から処理液を回収する第５の配管６２が接続
されている。これらの構成により、基板Ｗを浸漬処理し
た後の処理槽２およびオーバーフロー槽４の各々に在る
有機剥離液を第１の再使用液タンク５５に回収して貯留
できるように構成されている。

【００２６】第１の配管５７において、第２の開閉弁Ｖ
１２と第１のフィルター５６との間にて、第１のフィル
ター５６寄りの箇所には、第１のフィルター５６で濾過
された有機剥離液を第１の再使用液タンク５５へ戻すべ
く、第１の再使用液タンク５５へ連通する第６の配管６
３が接続されている。この第６の配管６３には、第７の
開閉弁Ｖ１７が介装されている。

【００２７】このように構成することにより、第１の再
使用液タンク５５に回収した一度使用した後の有機剥離
液を、第１のフィルター５６によって混入した汚染物質
を除去して、再び第１の再使用液タンク５５へ戻すこと
ができる。すなわち、この第１の再使用液タンク５５を
出て、第１の開閉弁Ｖ１１、第１のポンプＰ１１、第１
のフィルター５６を順次通過して、第４の配管６１を経
由して、その途中に介装された第７の開閉弁Ｖ１７を通
過して再び第１の再使用液タンク５５へ戻る処理槽２を
経由しない有機剥離液に関するフィルター循環配管が構
成される。

【００２８】第４の配管６１において、第５の開閉弁Ｖ
１５と第６の開閉弁Ｖ１６との間の箇所には、第８の開
閉弁Ｖ１８を介装した排液管６４が接続されている。シ
ャワーノズル５から基板Ｗに吐出供給した有機剥離液な
どの廃液を処理槽５３の底部から、第４の配管６１およ
び排液管６４を経由して排出できるように構成されてい
る。

【００２９】第１の配管５７において、第２の開閉弁Ｖ
１２とシャワーノズル５との間の箇所には、一度使用し
た後のイソプロピルアルコール液を再使用のために貯留
する第２の再使用液タンク６５より連通している第７の
配管６７が接続されている。この第７の配管６７には、
第９の開閉弁Ｖ１９、第２のポンプＰ１２、第２のフィ
ルター６６、および、第１０の開閉弁Ｖ２０が介装され
ている。このように構成することにより、、第２の再使
用液タンク６５に貯留されている一度使用した後のイソ
プロピルアルコール液をシャワーノズル５４から基板Ｗ
に吐出供給できる。

【００３０】第３の配管６０における第４の開閉弁Ｖ１
４と処理槽２の底部との間の箇所と、第７の配管６７に
おける第２のフィルター６６と第１０の開閉弁Ｖ２０と
の間の箇所とは、第８の配管６８を介して接続されてい
る。この第８の配管６８には、第１１の開閉弁Ｖ２１が
介装されている。このように構成することにより、第２
の再使用液タンク６５内のイソプロピルアルコール液を
処理槽５３の底部から供給できる。

【００３１】第４の配管６１において、第５の配管６２
との接続箇所と、第６の開閉弁Ｖ１６との間に、第９の
配管６９が接続している。この第９の配管６９は、第２
の再使用液タンク６５へ連通しており、第１２の開閉弁
Ｖ２２を介装している。このように構成することによ
り、基板Ｗを浸漬処理した後のイソプロピルアルコール
液を第２の再使用液タンク６５に回収して貯留できる。

【００３２】第７の配管６７において、第８の配管６８
との接続箇所と、第２のフィルター６６との間には、第
２の再使用液タンク６５へ連通する第１０の配管７０が
接続している。この第１０の配管７０には、第１３の開
閉弁Ｖ２３が介装されている。このように構成すること
により、第２の再使用液タンク６５に回収した一度使用
した後のイソプロピルアルコール液を、第２のフィルタ
ー６６によって混入した汚染物質を除去して、再び第２
の再使用液タンク６５へ戻すことができる。すなわち、
この第２の再使用液タンク６５を出て、第９の開閉弁Ｖ
１９、第２のポンプＰ１２、第２のフィルター６６を順
次通過して、第１０の配管７０を経由して、その途中に
介装された第１３の開閉弁Ｖ２３を通過して再び第２の
再使用液タンク６５へ戻る処理槽２を経由しないイソプ
ロピルアルコール液に関するフィルター循環配管が構成
される。

【００３３】第７の配管６７において、第９の開閉弁Ｖ
１９と第２のフィルター６６との間には、と、新しいイ
ソプロピルアルコール液を貯留するイソプロピルアルコ
ール液タンク７１から連通する第１１の配管７２が接続
している。この第１１の配管７２には、第１４の開閉弁
Ｖ２４が介装されている。

【００３４】次に、上記実施例の基板処理装置による有
機剥離液とイソプロピルアルコール液とによる一連の処
理について説明する。（以下、図４から図１１までの概
略配管構成図および、図１４の概略配管構成図におい
て、白抜きの開閉弁は開き状態を、中黒の開閉弁は閉じ
状態をそれぞれ示している。また、白抜きのポンプは駆
動状態を、中黒のポンプは駆動を停止している状態をそ
れぞれ示している。）

【００３５】先ず、基板リフター１１（図１参照）を下
降して基板Ｗを処理槽２に収容する。図４の概略配管構
成図に示すように、第１、第２、第５および第８の開閉
弁Ｖ１１，Ｖ１２，Ｖ１５，Ｖ１８を開くとともに第１
のポンプＰ１１のみを駆動し、シャワーノズル５から基
板Ｗに有機剥離液の再使用液を吐出供給し、その流下液
は排液管６４を通じて排出する（処理時間は約30秒程度
である）。これにより、基板Ｗ上のレジスト膜やアッシ
ング処理後の

【００３６】滓など、基板Ｗ上の汚染物質の大半を洗浄
除去し、それらが混入した有機剥離液は、再使用するに
はあまりに大量に汚染物質が混入しているので廃液とし
て排出する。

【００３７】引き続き、図５の概略配管構成図に示すよ
うに、第１、第４および第６の開閉弁Ｖ１１，Ｖ１４，
Ｖ１６を開くとともに第１のポンプＰ１１のみを駆動
し、有機剥離液の再使用液を第３の配管６０を通じて処
理槽２内に供給して、処理槽２内に溜め、更に供給して
オーバーフローさせ、そのオーバーフローした液を第１
の再使用液タンク５５内に戻し、基板Ｗを有機剥離液の
再使用液によって浸漬処理する（処理時間は約２分程度
である）。これにより、基板Ｗ上に付着した不要な膜等
の汚染物質を洗浄除去する。

【００３８】その後、図６の概略配管構成図に示すよう
に、第５および第６の開閉弁Ｖ１５，Ｖ１６を開き、処
理槽２およびオーバーフロー槽４内の有機剥離液を、第
４および第５の配管６１，６２を通じて第１の再使用液
タンク５５内に戻して回収する。これと同時に、又は、
この後に、第１および第７の開閉弁Ｖ１１，Ｖ１７を開
くとともに、第１のポンプＰ１１を駆動する。このよう
のすることにより、処理槽２を経由することなく、第１
の再使用液タンク５５に回収した一度使用した後の有機
剥離液を、第１のフィルター５６によって混入した汚染
物質を除去して、再び第１の再使用液タンク５５へ戻
す。

【００３９】すなわち、この第１の再使用液タンク５５
を出て、第１の開閉弁Ｖ１１、第１のポンプＰ１１、第
１のフィルター５６を順次通過して、第４の配管６１を
経由して、その途中に介装された第７の開閉弁Ｖ１７を
通過して再び第１の再使用液タンク５５へ戻るようにし
て構成される処理槽２を経由しない有機剥離液に関する
フィルター循環配管を循環する流れを形成し、第１のフ
ィルター５６にて混入している汚染物質を除去する。

【００４０】しかる後、図７の概略配管構成図に示すよ
うに、第２、第５、第６および第３の開閉弁Ｖ１２，Ｖ
１５，Ｖ１６，Ｖ１３を開くとともに第１のポンプＰ１
１のみを駆動し、第２および第１の配管５９，５７を通
じて、有機剥離液タンク５８内の新しい有機剥離液をシ
ャワーノズル５から処理槽２内の基板Ｗに吐出供給し、
第４の配管６１を通じて第１の再使用液タンク５５内に
回収して貯留する。

【００４１】次に、図８の概略構成図に示すように、第
５、第８、第９および第１０の開閉弁Ｖ１５，Ｖ１８，
Ｖ１９，Ｖ２０を開くとともに第２のポンプＰ１２のみ
を駆動し、第２の再使用液タンク６５内から第７および
第１の配管６７，５７を通じてシャワーノズル５から処
理槽２内の基板Ｗに第２の処理液であるイソプロピルア
ルコール液の再使用液を吐出供給するとともに、その供
給されたイソプロピルアルコール液を第４の配管６１お
よび排液管６４を通じ、廃液として排出する。これによ
り、基板Ｗに付着した有機剥離液の大半をイソプロピル
アルコール液に置換する。

【００４２】次いで、図９の概略配管構成図に示すよう
に、第９、第１１および第１２の開閉弁Ｖ１９，Ｖ２
１，Ｖ２２を開くとともに第２のポンプＰ１２のみを駆
動し、イソプロピルアルコール液の再使用液を第７の配
管６７および第２のフィルター６６を通じて処理槽２内
に供給して溜め、更に供給してオーバーフローさせ、そ
のオーバーフローしたイソプロピルアルコール液を第５
および第９の配管６２，６９を通じて第２の再使用液タ
ンク６５内に戻す。このように処理槽２を経由ウエハす
る循環流動により、基板Ｗを第２のフィルター６６を通
じて循環流動されるイソプロピルアルコール液の再使用
液によって浸漬処理する（処理時間は約２分程度であ
る）。これにより、基板Ｗに残存付着している有機剥離
液をイソプロピルアルコール液に置換する。

【００４３】次ぎに、図１０の概略配管構成図に示すよ
うに、第５および第１２の開閉弁Ｖ１５，Ｖ２２を開
き、イソプロピルアルコール液の再使用液を第５および
第９の配管６２，６９を通じて第２の再使用液タンク６
５内に戻して回収する。これと同時に、又は、この後
に、第９および第１３の開閉弁Ｖ９、Ｖ１３を開くとと
もに第２のポンプＰ１２のみを駆動する。このようのす
ることにより、処理槽２を経由することなく、第２の再
使用液タンク６５に回収した一度使用した後のイソプロ
ピルアルコール液を、第２のフィルター６６によって混
入した汚染物質を除去して、再び第２の再使用液タンク
６５へ戻す。

【００４４】すなわち、この第２の再使用液タンク６５
を出て、第９の開閉弁Ｖ１９、第２のポンプＰ１２、第
２のフィルター６６を順次通過して、第１０の配管７０
を経由して、その途中に介装された第１３の開閉弁Ｖ２
３を通過して再び第２の再使用液タンク６５へ戻るよう
にして構成される処理槽２を経由しないイソプロピルア
ルコール液に関するフィルター循環配管を循環する流れ
を形成し、第２のフィルター５６にて混入している汚染
物質を除去する。

【００４５】しかる後、図１１の概略構成図に示すよう
に、第５、第１０、第１２および第１４の開閉弁Ｖ１
５，Ｖ２０，Ｖ２２，Ｖ２４を開くとともに第２のポン
プＰ１２のみを駆動し、第１１、第７および第１の配管
７２，６７，５７を通じて、シャワーノズル５から処理
槽２内の基板Ｗに、イソプロピルアルコール液タンク７
１からの新しい未使用のイソプロピルアルコール液を吐
出供給し、その基板処理後のイソプロピルアルコール液
を第４および第９の配管６１，６９を通じて第２の再使
用液タンク６５内に戻し、一度使用した第２の処理液と
して回収して貯める。処理槽２内に基板Ｗを所定時間留
置するなどにより、基板Ｗに残存付着した有機剥離液を
イソプロピルアルコール液に良好に置換する。

【００４６】引き続き、図１２の概略構成図に示すよう
に、昇降装置１２を駆動して基板リフター１１を乾燥ゾ
ーンまで上昇させ、中間シャッター８を閉じてからパネ
ルヒータ９を起動し、イソプロピルアルコール液の揮発
を加熱によって促進し、排気管１０を通じてイソプロピ
ルアルコールの蒸気をケーシング１外に排出し、乾燥処
理する。このとき、基板Ｗに付着したイソプロピルアル
コール液を揮発させて乾燥処理する。

【００４７】このとき、図１４の概略構成図に示すよう
に、第９および第１３の開閉弁Ｖ１９，Ｖ２３を開くと
ともに第２のポンプＰ１２のみを駆動し、第２のフィル
ター６６と第７および第１０の配管６７，７０を介して
循環させ、混入した不要物を除去して清浄化した状態で
イソプロピルアルコール液を再使用液タンク６５内に回
収貯留する。

【００４８】前記乾燥処理が終了すると、図１３の概略
構成図に示すように、パネルヒータ９の起動を停止し、
上部シャッター７を開いてから昇降装置１２を駆動して
基板リフター１１をケーシング１の上方まで上昇させ、
ケーシング１外に取り出し、一連の処理を終了する。

【００４９】上記実施例の基板処理装置では、有機剥離
液およびイソプロピルアルコール液の吐出供給を、同じ
シャワーノズル５や共通配管部分（第１の配管５７の一
部）を用いて行っているが、それぞれ別の配管で構成す
るようにしても良い。

【００５０】上記実施例の基板処理装置において、第１
および第２の再使用液タンク５５，６５それぞれが特許
請求の範囲に記載の再使用液タンクに相当する。なお、
第１および第２の再使用液タンク５５，６５は、各々、
有機剥離液やイソプロピルアルコール液等の処理液の出
入りを速やかにするために、図示しないがエアー抜き用
の微少開口を備えているが、かから開口を介して貯留し
ている有機剥離液やイソプロピルアルコール液等の処理
液が大気中の酸素や水蒸気と接する程度は極僅かであ
り、処理槽のように上方全域が大気開放したもと違っ
て、それら処理液を気密に収容することに支障はない。

【００５１】また、上記実施例の基板処理装置では、有
機剥離液による処理とイソプロピルアルコール液による
処理とを同じ処理槽２で行うように構成しているが、本
発明は有機剥離液およびイソプロピルアルコールそれぞ
れよる処理を専用の処理槽で行うように構成してもよ
い。

【００５２】上記実施例では、多数枚の基板Ｗを処理す
るように構成しているが、本発明は基板Ｗを１枚づつ処
理する場合にも適用できる。

【００５３】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、例えば、複数種の処理液が交
代するようにして基板を浸漬させる場合や、或いは、先
に基板を浸漬処理した後、次ぎに基板を浸漬処理するま
でのに時間的に間が空く場合等のように、基板を浸漬処
理する処理液が、基板浸漬処理に供することなく待機さ
せるにつけ、前記処理槽の底部に連通する回収配管を経
て回収された処理液を、気密性の再使用液タンクに処理
槽から貯めるので、処理液が大気中の酸素や水蒸気等と
触れて変質することが解消され、基板を安定して処理す
ることができる。

【００５４】さらに、前記再使用液タンク内の液を、前
記処理槽を経由せず、フィルター通過して処理液タンク
へ戻すファイルタを介装したフィルタ循環配管を備える
ので、前記再使用液タンクに処理液を貯留している間
に、前記フィルターで処理液中に混入している汚染物質
を濾過して除去できる。かかる循環濾過に際しては、処
理槽を経由しないので、処理槽にて大気と触れることが
無く、処理液が大気中の酸素や水蒸気等と触れて変質す
ることが解消され、基板を安定して洗浄することができ
る。

【００５５】したがって、処理液を無駄にすることなく
安定して基板を処理することができる。

【００５６】また、請求項２に記載の発明は、基板は表
面のフォトレジスト皮膜が短時間に大量に剥離して、一
度に大量の汚染物質が処理液に混入するようなことが生
じても、また、有機剥離液が水蒸気を吸収して強アルカ
リを生ずる等して不安定になる性質を有していても、安
定して、消費量を少なくして、剥離処理を行なうことが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る実施例の基板処理装置を示す縦断
正面図である。

【図２】図１の縦断側面図である。

【図３】基板処理装置の概略配管構成図である。

【図４】基板処理装置での基板処理の説明に供する概略
配管構成図である。

【図５】基板処理装置での基板処理の説明に供する概略
配管構成図である。

【図６】基板処理装置での基板処理の説明に供する概略
配管構成図である。

【図７】基板処理装置での基板処理の説明に供する概略
配管構成図である。

【図８】基板処理装置での基板処理の説明に供する概略
配管構成図である。

【図９】基板処理装置での基板処理の説明に供する概略
配管構成図である。

【図１０】基板処理装置での基板処理の説明に供する概
略配管構成図である。

【図１１】基板処理装置での基板処理の説明に供する概
略配管構成図である。

【図１２】基板処理装置での基板処理の説明に供する概
略構成図である。

【図１３】基板処理装置での基板処理の説明に供する概
略構成図である。

【図１４】基板処理装置での基板処理の説明に供する概
略配管構成図である。

【符号の説明】

２…処理槽 ４…オーバーフロー槽 ５…シャワーノズル ５５…第１の再使用液タンク ５６…第１のフィルター ５７…第１の配管 ６０…第３の配管 ６１…第４の配管 ６２…第５の配管 ６３…第６の配管 ６４…排液管 ６５…第２の再使用液タンク ６６…第２のフィルター ６７…第７の配管 ７０…第１０の配管 Ｗ…基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内田 博章 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 5F043 BB27 CC16 EE21 EE24 EE30 EE33 5F046 MA02 MA10

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を収容する処理槽と、 前記基板を浸漬処理している状態で前記処理槽内からオ
   ーバーフローされる処理液を受けるオーバーフロー槽
   と、 前記オーバーフロー槽の処理液を前記処理槽内へ戻すオ
   ーバーフロー循環配管と、 前記処理槽の底部に連通し、前記処理槽から処理液を回
   収する回収配管と、 前記回収配管と連通し、前記処理槽から回収された処理
   液を貯める気密性の再使用液タンクと、 再使用液タンクに貯められた処理液を処理槽へ戻す再供
   給配管と、 前記再使用液タンク内の液を、前記処理槽を経由せず、
   フィルター通過して処理液タンクへ戻すファイルタを介
   装したフィルタ循環配管と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 基板は表面にフォトレジスト皮膜が形成された半導体ウ
   エハであって、 処理液は有機剥離液であって、 処理槽から再使用液タンクに回収された処理液は、ファ
   イルター循環配管を循環する間に、基板表面から剥離さ
   れたフォトレジスト皮膜が前記フィルターで除去するよ
   うにしたことを特徴とする基板処理装置。