JP2001261585A - Synthetic method of vinyl halide compounds - Google Patents
Synthetic method of vinyl halide compoundsInfo
- Publication number
- JP2001261585A JP2001261585A JP2000073173A JP2000073173A JP2001261585A JP 2001261585 A JP2001261585 A JP 2001261585A JP 2000073173 A JP2000073173 A JP 2000073173A JP 2000073173 A JP2000073173 A JP 2000073173A JP 2001261585 A JP2001261585 A JP 2001261585A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- halogen
- general formula
- vinyl halide
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 vinyl halide compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 23
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 11
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 9
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 7
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VVFIZEWCXRQNGK-KAMYIIQDSA-N [(z)-1-chloro-2-phenylethenyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(/Cl)=C/C1=CC=CC=C1 VVFIZEWCXRQNGK-KAMYIIQDSA-N 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 6
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 6
- ONAQMVIXQXMCIL-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobut-1-enylbenzene Chemical compound CCC=C(Cl)C1=CC=CC=C1 ONAQMVIXQXMCIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC1=CC=CC=C1 OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- FFSAXUULYPJSKH-UHFFFAOYSA-N butyrophenone Chemical compound CCCC(=O)C1=CC=CC=C1 FFSAXUULYPJSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHAFIUUYXQFJEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC(=C)C1=CC=CC=C1 XHAFIUUYXQFJEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMOXTMGJZNCXEI-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-2-pyridin-2-ylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC1=CC=CC=N1 CMOXTMGJZNCXEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- SMNDYUVBFMFKNZ-UHFFFAOYSA-N 2-furoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CO1 SMNDYUVBFMFKNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMZCDNSFRSVYKQ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylacetyl chloride Chemical compound ClC(=O)CC1=CC=CC=C1 VMZCDNSFRSVYKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100439288 Bombyx mori nuclear polyhedrosis virus CG30 gene Proteins 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical class ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004983 alkyl aryl ketones Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N butyryl chloride Chemical compound CCCC(Cl)=O DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N methanesulfonic acid Substances CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NSNPSJGHTQIXDO-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)Cl)=CC=CC2=C1 NSNPSJGHTQIXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000001968 nicotinic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N propanoyl chloride Chemical compound CCC(Cl)=O RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSAYJRPASWETSH-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-carbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=N1 PSAYJRPASWETSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000002130 sulfonic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- QERYCTSHXKAMIS-UHFFFAOYSA-N thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CS1 QERYCTSHXKAMIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B39/00—Halogenation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、原料としてケトン
と酸ハロゲン化物を用いたハロゲン化ビニルの新規な製
造方法に関する。The present invention relates to a novel method for producing vinyl halide using ketones and acid halides as raw materials.
【0002】[0002]
【従来の技術】塩化ビニル誘導体は、対応するケトンと
五塩化リンとを反応させることにより製造することは、
古くから知られている。しかし、この反応方法では種々
の物質が副生し、選択性が低いという問題があり、従来
から五塩化リンに代わる試薬の開発がいろいろ検討され
てきたが、いずれも一長一短であり、画期的方法は今だ
見つけられていない。2. Description of the Related Art A vinyl chloride derivative can be produced by reacting a corresponding ketone with phosphorus pentachloride.
It has been known for a long time. However, this reaction method has a problem that various substances are produced as by-products and the selectivity is low, and various developments of reagents replacing phosphorus pentachloride have been conventionally studied. The way has not yet been found.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ハロゲン化
ビニルを高い選択率により、高収率で製造する新しい方
法を提供する点にある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a new method for producing vinyl halide with high selectivity and high yield.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
(1)Means for Solving the Problems The present invention provides the following general formula (1)
【化4】 (式中、R1〜R5は、水素、ハロゲン、アルキル基、
アルコキシ基、アリル基、アラルキル基、アリール基、
アミノ基、アルキルアミノ基、水酸基、カルボキシル
基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、カルボン酸エス
テル基およびスルホン酸エステル基よりなる群からそれ
ぞれ独立して選ばれた基であり、これらは一緒になって
縮合環を形成していてもよく、その縮合環に前記基が結
合していてもよく、Aは、水素、ハロゲン、アルキル
基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基、アルキルア
ミノ基および水酸基よりなる群から選ばれた基である)
で示される芳香族ケトンと、 下記一般式(2)Embedded image (Wherein, R 1 to R 5 are hydrogen, halogen, an alkyl group,
Alkoxy group, allyl group, aralkyl group, aryl group,
Amino group, alkylamino group, hydroxyl group, carboxyl group, formyl group, nitro group, cyano group, carboxylate group and sulfonate group, each independently selected from the group consisting of May form a condensed ring, and the group may be bonded to the condensed ring, and A is selected from hydrogen, halogen, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an amino group, an alkylamino group and a hydroxyl group. Group selected from the group
And an aromatic ketone represented by the following general formula (2)
【化5】 (式中、Qは置換基を有することもある脂肪族基または
置換基を有することもある芳香族基であり、Xはハロゲ
ンである)で示される酸ハロゲン化物とを反応させるこ
とを特徴とする下記一般式(3)Embedded image Wherein Q is an aliphatic group which may have a substituent or an aromatic group which may have a substituent, and X is a halogen. The following general formula (3)
【化6】 (式中、R1〜R5は、水素、ハロゲン、アルキル基、
アルコキシ基、アリル基、アラルキル基、アリール基、
アミノ基、アルキルアミノ基、水酸基、カルボキシル
基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、エステル基およ
びスルホニルエステル基よりなる群からそれぞれ独立し
て選ばれた基であり、これらは一緒になって縮合環を形
成していてもよく、その縮合環に前記基が結合していて
もよく、Aは、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキ
シ基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基および
水酸基よりなる群から選ばれた基であり、Xはハロゲン
である)で示されるハロゲン化ビニル化合物の合成法に
関する。Embedded image (Wherein, R 1 to R 5 are hydrogen, halogen, an alkyl group,
Alkoxy group, allyl group, aralkyl group, aryl group,
An amino group, an alkylamino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a formyl group, a nitro group, a cyano group, an ester group and a sulfonyl ester group, each independently selected from the group consisting of May be bonded to the condensed ring thereof, and A is selected from the group consisting of hydrogen, halogen, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an amino group, an alkylamino group, and a hydroxyl group. Selected groups, and X is a halogen).
【0005】前記反応は、ルイス酸、とくに例えば、Z
nX2、FeX3、SnX2(Xはハロゲン)などの弱
いルイス酸を用いることにより収率を高めることができ
る。ルイス酸の例としては、ZnCl2、ZnBr2、
ZnF2、ZnI2、FeCl3、FeBr3、SnC
l2、SnBr2などを挙げることができる。The reaction is carried out in a Lewis acid, in particular, for example, Z
The yield can be increased by using a weak Lewis acid such as nX 2 , FeX 3 or SnX 2 (X is a halogen). Examples of Lewis acids include ZnCl 2 , ZnBr 2 ,
ZnF 2 , ZnI 2 , FeCl 3 , FeBr 3 , SnC
l 2 , SnBr 2 and the like.
【0006】前記ルイス酸は、担体に担持させて、固体
触媒として使用することが好ましい。担体としての制限
はないが、担体としては、たとえば、シリカ、アルミ
ナ、モレキュラーシーブなどを挙げることができる。と
くに、シリカにZnCl2を担持させた触媒は、収率が
高く、好ましいものである。The Lewis acid is preferably supported on a carrier and used as a solid catalyst. The carrier is not limited, and examples of the carrier include silica, alumina, and molecular sieve. In particular, a catalyst in which ZnCl 2 is supported on silica has a high yield and is preferable.
【0007】本発明の反応は、通常、大気下で反応を行
うことができ、窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気
下で行うこともできる。また、反応温度は0〜200
℃、好ましくは10〜80℃、さらに好ましくは20〜
40℃である。溶媒は、反応系に不活性なものであれ
ば、特に制限はないが、例えば、ジクロロエチレンのよ
うなハロゲン化合物、ヘキサンのような脂肪族炭化水
素、ベンゼンのような芳香族炭化水素のように、水と相
溶せず余り極性の強くないものが好ましい。[0007] The reaction of the present invention can usually be carried out in the atmosphere, and can also be carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon. The reaction temperature is 0 to 200.
° C, preferably 10 to 80 ° C, more preferably 20 to
40 ° C. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction system.For example, as in a halogen compound such as dichloroethylene, an aliphatic hydrocarbon such as hexane, and an aromatic hydrocarbon such as benzene, Those which are not compatible with water and are not very strong are preferred.
【0008】本発明の一方の原料である一般式(1)で
示される化合物におけるR1〜R5におけるアルキル基
としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、sec−ブチル、t−ブチルなどを挙
げることができ、通常炭素数1〜20程度のものが好ま
しい。アルコキシ基としては前述のアルキル基に対応す
るアルコキシ基を挙げることができる。The alkyl group for R 1 to R 5 in the compound represented by the general formula (1), which is one of the raw materials of the present invention, includes methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, T-butyl and the like can be mentioned, and usually those having about 1 to 20 carbon atoms are preferable. Examples of the alkoxy group include an alkoxy group corresponding to the above-described alkyl group.
【0009】前記アリル基としては、プロペニル基(ア
リル基)、ブテニル基、ペンテニル基のような通常炭素
数1〜6程度の直鎖または分岐状のものが使用できる。As the allyl group, a linear or branched one having usually about 1 to 6 carbon atoms, such as a propenyl group (allyl group), a butenyl group or a pentenyl group can be used.
【0010】前記アリール基としては、フェニル基、置
換基をもつフェニル基などを挙げることができ、アラル
キル基としては、置換基を有することもあるベンジル基
などを挙げることができ、置換基としては〔0008〕
で述べたアルキル基やExamples of the aryl group include a phenyl group and a phenyl group having a substituent. Examples of the aralkyl group include a benzyl group which may have a substituent. [0008]
The alkyl group mentioned in
〔0009〕で述べたアリル基を
挙げることができる。Allyl groups described in [0009] can be mentioned.
【0011】前記アルキルアミノ基としては、前記アル
キル基に対応するアルキル部分を有するアルキルアミノ
基を挙げることができる。The alkylamino group includes an alkylamino group having an alkyl moiety corresponding to the alkyl group.
【0012】前記カルボン酸エステル基としては、蟻酸
エステル、酢酸エステル、プロピオン酸エステル、ニコ
チン酸エステル、チオフェンカルボン酸エステル、フラ
ンカルボン酸エステルなどを挙げることができ、エステ
ル部分は通常炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルキ
ル基であっても、アリール基であってもよく、アリール
基は単環または2〜6個の縮合環であってもよい。Examples of the carboxylate group include formate, acetate, propionate, nicotinate, thiophenecarboxylate, and furancarboxylate. The ester portion usually has 1 to 20 carbon atoms. May be a linear or branched alkyl group or an aryl group, and the aryl group may be a single ring or 2 to 6 condensed rings.
【0013】前記スルホン酸エステル基としては、メタ
ンスルホン酸エステル、エタンスルホン酸エステル、プ
ロパンスルホン酸エステルなどを挙げることができ、エ
ステル部分については、カルボン酸エステルの場合と同
様である。Examples of the sulfonic acid ester group include methanesulfonic acid ester, ethanesulfonic acid ester, and propanesulfonic acid ester. The ester portion is the same as in the case of the carboxylic acid ester.
【0014】R1〜R5の隣接基が一緒になって形成す
る縮合環としては、一般式(1)の化合物における芳香
族部分が下記式で示される基であってもよい。As the condensed ring formed by the adjacent groups of R 1 to R 5 together, the aromatic moiety in the compound of the general formula (1) may be a group represented by the following formula.
【0015】[0015]
【化7】 Zは、O、S、NH、NR(Rはアルキル、アルコキ
シ、アリール、アラルキル基)、CR20(R20は、
水素、C1〜12のアルキル、アリール)Embedded image Z is O, S, NH, NR (R is an alkyl, alkoxy, aryl, aralkyl group), CR 20 (R 20 is
Hydrogen, C 1-12 alkyl, aryl)
【0016】前記一般式(1)で示される化合物の代表
的なものとしては、アセトフェノン、プロピオフェノ
ン、ブチロフェノンのようなアルキルアリールケトン
類、ベンジルフェニルケトンのようなアラルキルアリー
ルケトン類、フェニルピコリルケトンのようなヘテロア
リールアリールケトン類などを挙げることができる。Representative examples of the compound represented by the general formula (1) include alkyl aryl ketones such as acetophenone, propiophenone and butyrophenone, aralkyl aryl ketones such as benzyl phenyl ketone, and phenyl picolyl ketone. And heteroaryl aryl ketones such as tons.
【0017】前記一般式(2)で示される化合物におい
て、Qが脂肪族基の場合の例としては、アセチルクロラ
イド、プロピオン酸クロライド、ブタン酸クロライドな
どを挙げることができ、Qが芳香族基の場合の例として
は、安息香酸クロライド、ナフトエ酸クロライドなど
を、また複素環基の場合の例としては、ピコリン酸クロ
ライド、アラルキル基の場合の例としては、フェニル酢
酸クロライドなどを挙げることができる。In the compound represented by the general formula (2), when Q is an aliphatic group, examples thereof include acetyl chloride, propionic acid chloride and butanoic acid chloride. Examples of such a case include benzoic acid chloride and naphthoic acid chloride, and examples of a heterocyclic group include picolinic acid chloride, and examples of an aralkyl group include phenylacetic acid chloride.
【0018】本発明の目的化合物である一般式(3)の
化合物の例としては、α−クロロスチレン、α−クロロ
スチルベン、α−クロロスチルバゾールなどが挙げられ
る。Examples of the compound of the general formula (3) which is the target compound of the present invention include α-chlorostyrene, α-chlorostilbene, α-chlorostilbazole and the like.
【0019】前記一般式(1)で示される芳香族ケトン
と前記一般式(2)で示される酸ハロゲン化物の使用割
合は、酸ハロゲン化物を過剰モルで使用することが好ま
しい。好ましい使用割合は、1.1当量から20当量、
とくに好ましくは、芳香族ケトンに対して酸ハロゲン化
物を8当量程度を使用することである。The proportion of the aromatic ketone represented by the general formula (1) and the acid halide represented by the general formula (2) is preferably such that the acid halide is used in an excess mole. A preferred use ratio is 1.1 equivalent to 20 equivalents,
It is particularly preferable to use about 8 equivalents of the acid halide with respect to the aromatic ketone.
【0020】[0020]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれにより何ら限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The present invention is not limited thereby.
【0021】実施例1 その1:シリカゲル担持塩化亜鉛(ZnCl2/SiO
2)の製造 塩化亜鉛10gを水100mlに溶かし、これにシリカ
ゲル(WakogelC−200)40gを加える。3
0分撹拌後、エバポレータで水を留去し、10時間減圧
乾燥(150℃/14mmHg)してシリカゲル担持塩
化亜鉛(ZnCl2/SiO2)触媒を得た。このシリ
カゲル担持塩化亜鉛1gは1.467mmolの塩化亜
鉛を含むものである。Example 1 Part 1: Zinc chloride supported on silica gel (ZnCl 2 / SiO 2)
2 ) Production 10 g of zinc chloride is dissolved in 100 ml of water, and 40 g of silica gel (Wakogel C-200) is added thereto. Three
After stirring for 0 minutes, water was distilled off with an evaporator and dried under reduced pressure (150 ° C./14 mmHg) for 10 hours to obtain a silica gel-supported zinc chloride (ZnCl 2 / SiO 2 ) catalyst. 1 g of zinc chloride supported on silica gel contains 1.467 mmol of zinc chloride.
【0022】その2:1−クロロ−1,2−ジフェニル
エテン(α−クロロスチルベン)の合成 50mlのナス型フラスコにベンジルフェニルケトン
(0.196g、1mmol)、塩化アセチル(0.6
28g、8mmol)、ZnCl2/SiO2触媒
(0.136g、ZnCl2:0.2mmolに相当)
を入れ、溶媒1,2−ジクロロエタン(10ml)を加
えて30℃、4時間撹拌する。反応混合物を濾過し、Z
nCl2/SiO2触媒をジクロロエタンで洗浄する。
濾液と洗液を合わせ、これを飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄して過剰の塩化アセチルを除く。さらに飽和
食塩水で洗浄する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、エバポレーターで溶媒を留去、濃縮する。フラッシ
ュカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)
により残留分から生成物である1−クロロ−1,2−ジ
フェニルエテン(α−クロロスチルベンともいう)を単
離する。収量0.194g(90%)。白色結晶(メタ
ノールで再結晶)、融点53〜4℃であった。このもの
のH−NMRにおける0〜10ppmの範囲のチャート
を図1に、その7〜8ppmの範囲の拡大図を図2に、
このもののC13−NMRの全域チャートを図3に、そ
の125ppm〜140ppm付近の拡大図を図4に、
そのIRチャートを図5に、その質量分析チャートを図
6に示した。Part 2: Synthesis of 1-chloro-1,2-diphenylethene (α-chlorostilbene) In a 50 ml eggplant-shaped flask, benzylphenyl ketone (0.196 g, 1 mmol) and acetyl chloride (0.6
28 g, 8 mmol), ZnCl 2 / SiO 2 catalyst (0.136 g, corresponding to ZnCl 2 : 0.2 mmol)
, And the solvent 1,2-dichloroethane (10 ml) was added, followed by stirring at 30 ° C. for 4 hours. The reaction mixture is filtered and Z
Wash the nCl 2 / SiO 2 catalyst with dichloroethane.
The combined filtrate and washings are washed with saturated aqueous sodium bicarbonate to remove excess acetyl chloride. Further wash with saturated saline. After the organic layer is dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent is distilled off using an evaporator and concentrated. Flash column chromatography (silica gel, hexane)
To isolate the product, 1-chloro-1,2-diphenylethene (also referred to as α-chlorostilbene) from the residue. Yield 0.194 g (90%). White crystals (recrystallized from methanol), mp 53-4 ° C. FIG. 1 is a chart showing the range of 0 to 10 ppm in H-NMR, and FIG. 2 is an enlarged view of the range of 7 to 8 ppm.
FIG. 3 shows a full-range chart of C 13 -NMR of this product, and FIG.
The IR chart is shown in FIG. 5, and the mass spectrometry chart is shown in FIG.
【0023】同様にして、0.2mmol相当のAlC
l3、FeCl3、SnCl2、ZnCl2、SiO2
を用いて前記方法を繰り返し、表1の結果を得た。な
お、反応式は下記のとおりである。Similarly, 0.2 mmol of AlC
l 3 , FeCl 3 , SnCl 2 , ZnCl 2 , SiO 2
Was used to obtain the results shown in Table 1. The reaction formula is as follows.
【0024】[0024]
【化8】 Embedded image
【0025】[0025]
【表1】 [Table 1]
【0026】塩化第二鉄、塩化亜鉛、塩化第一スズなど
の弱いルイス酸を用いると、かなりの収率で目的物を生
成する。塩化第二鉄を用いたときは収率はよいが、反応
溶液が暗褐色に着色する。一方、シリカゲル担体に塩化
第一スズを担持した場合は反応溶液は全く着色せず、収
率も高い結果が得られた。The use of weak Lewis acids such as ferric chloride, zinc chloride and stannous chloride produces the desired product in considerable yields. The yield is good when ferric chloride is used, but the reaction solution is colored dark brown. On the other hand, when stannous chloride was supported on the silica gel carrier, the reaction solution was not colored at all, and a high yield was obtained.
【0027】実施例2(1−クロロ−1−フェニルブテ
ンの合成) 50mlのナス型フラスコにn−ブチロフェノン(0.
151g、1mmol)、塩化アセチル(0.628
g、8mmol)、ZnCl2/SiO2(0.136
g、ZnCl2:0.2mmolに相当)を入れ、溶媒
1,2−ジクロロエタン(10ml)を加えて30℃で
4時間撹拌する。反応混合物を濾過し、ZnCl2/S
iO2触媒をジクロロエタンで洗浄する。濾液と洗液を
合わせ、これを飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し
て過剰の塩化アセチルを除く。さらに飽和食塩水で洗浄
する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、エバポレ
ーターで溶媒を留去、濃縮する。フラッシュクロマトグ
ラフィー(シリカゲル、ヘキサン)により残留分から生
成物である1−クロロ−1−フェニルブテンを単離(無
色油状物)した。収量0.13g(77%)。なお、反
応式は下記のとおりである。Example 2 (Synthesis of 1-chloro-1-phenylbutene) In a 50 ml eggplant-shaped flask, n-butyrophenone (0.
151 g, 1 mmol), acetyl chloride (0.628
g, 8 mmol), ZnCl 2 / SiO 2 (0.136
g, ZnCl 2 : 0.2 mmol), and the solvent 1,2-dichloroethane (10 ml) was added, followed by stirring at 30 ° C. for 4 hours. The reaction mixture is filtered and ZnCl 2 / S
Wash the iO 2 catalyst with dichloroethane. The combined filtrate and washings are washed with saturated aqueous sodium bicarbonate to remove excess acetyl chloride. Further wash with saturated saline. After the organic layer is dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent is distilled off using an evaporator and concentrated. The product, 1-chloro-1-phenylbutene, was isolated from the residue by flash chromatography (silica gel, hexane) (colorless oil). Yield 0.13 g (77%). The reaction formula is as follows.
【0028】[0028]
【化9】 Embedded image
【0029】[0029]
【発明の効果】(1)本発明により、ハロゲン化ビニル
化合物の新規な合成法を提供することができた。 (2)本発明により、ハロゲン化ビニル化合物を高い選
択率で、かつ高い収率で得ることができた。(1) According to the present invention, a novel method for synthesizing a vinyl halide compound can be provided. (2) According to the present invention, a vinyl halide compound can be obtained with a high selectivity and a high yield.
【図1】1−クロロ−1,2−ジフェニルエテンのH−
NMRにおける0〜10ppmの範囲のチャートを示
す。FIG. 1. H- of 1-chloro-1,2-diphenylethene
1 shows a chart in the range of 0 to 10 ppm in NMR.
【図2】図1の7〜8ppm範囲の拡大H−NMRチャ
ートを示す。FIG. 2 shows an enlarged H-NMR chart in the range of 7 to 8 ppm in FIG.
【図3】1−クロロ−1,2−ジフェニルエテンのC
13−NMRの全域チャートを示す。FIG. 3. C of 1-chloro-1,2-diphenylethene
1 shows an entire chart of 13- NMR.
【図4】図3の125〜140ppm付近の拡大C13
−NMRチャートを示す。4 is an enlarged C 13 around 125 to 140 ppm in FIG.
3 shows an NMR chart.
【図5】1−クロロ−1,2−ジフェニルエテンのIR
チャートを示す。FIG. 5. IR of 1-chloro-1,2-diphenylethene
The chart is shown.
【図6】1−クロロ−1,2−ジフェニルエテンの質量
分析チャートを示す。FIG. 6 shows a mass spectrometry chart of 1-chloro-1,2-diphenylethene.
【図7】1−クロロ−1−フェニルブテンのH−NMR
における0〜10ppmの範囲のチャートを示す。FIG. 7: H-NMR of 1-chloro-1-phenylbutene
2 shows a chart in the range of 0 to 10 ppm in the above.
【図8】1−クロロ−1−フェニルブテンのIRチャー
トを示す。FIG. 8 shows an IR chart of 1-chloro-1-phenylbutene.
【図9】1−クロロ−1−フェニルブテンの質量分析チ
ャートを示す。FIG. 9 shows a mass spectrometry chart of 1-chloro-1-phenylbutene.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 22/04 C07C 22/04 37/00 37/00 39/19 39/19 41/22 41/22 43/225 43/225 B 45/63 45/63 47/55 47/55 51/363 51/363 63/04 63/04 67/307 67/307 69/76 69/76 Z 201/12 201/12 205/06 205/06 209/74 209/74 211/44 211/44 253/30 253/30 255/50 255/50 303/30 303/30 309/39 309/39 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 武田 孝 兵庫県神戸市中央区東川崎町1丁目3番3 号 ケミプロ化成株式会社内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC13 AC30 BA07 BA11 BA19 BA37 BA67 BJ50 BM10 BN30 BP30 BQ30 BS30 BU26 BU46 4H039 CA21 CA50 CB40 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C07C 22/04 C07C 22/04 37/00 37/00 39/19 39/19 41/22 41/22 43 / 225 43/225 B 45/63 45/63 47/55 47/55 51/363 51/363 63/04 63/04 67/307 67/307 69/76 69/76 Z 201/12 201/12 205 / 06 205/06 209/74 209/74 211/44 211/44 253/30 253/30 255/50 255/50 303/30 303/30 309/39 309/39 // C07B 61/00 300 300 C07B 61 / 00 300 (72) Inventor Takashi Takeda 1-3-3 Higashikawasaki-cho, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo F-term (reference) in Chemipro Kasei Co., Ltd. 4H006 AA02 AC13 AC30 BA07 BA11 BA19 BA37 BA67 BJ50 BM10 BN30 BP30 BQ30 BS30 BU26 BU46 4H039 CA21 CA50 CB40
Claims (6)
アルコキシ基、アリル基、アラルキル基、アリール基、
アミノ基、アルキルアミノ基、水酸基、カルボキシル
基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、カルボン酸エス
テル基およびスルホン酸エステル基よりなる群からそれ
ぞれ独立して選ばれた基であり、これらは一緒になって
縮合環を形成していてもよく、その縮合環に前記基が結
合していてもよく、Aは、水素、ハロゲン、アルキル
基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基、アルキルア
ミノ基および水酸基よりなる群から選ばれた基である)
で示される芳香族ケトンと、 下記一般式(2) 【化2】 (式中、Qは置換基を有することもある脂肪族基または
置換基を有することもある芳香族基であり、Xはハロゲ
ンである)で示される酸ハロゲン化物とを反応させるこ
とを特徴とする下記一般式(3) 【化3】 (式中、R1〜R5は、水素、ハロゲン、アルキル基、
アルコキシ基、アリル基、アラルキル基、アリール基、
アミノ基、アルキルアミノ基、水酸基、カルボキシル
基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、エステル基およ
びスルホニルエステル基よりなる群からそれぞれ独立し
て選ばれた基であり、これらは一緒になって縮合環を形
成していてもよく、その縮合環に前記基が結合していて
もよく、Aは、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキ
シ基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基および
水酸基よりなる群から選ばれた基であり、Xはハロゲン
である)で示されるハロゲン化ビニル化合物の合成法。(1) The following general formula (1): (Wherein, R 1 to R 5 are hydrogen, halogen, an alkyl group,
Alkoxy group, allyl group, aralkyl group, aryl group,
Amino group, alkylamino group, hydroxyl group, carboxyl group, formyl group, nitro group, cyano group, carboxylate group and sulfonate group, each independently selected from the group consisting of May form a condensed ring, and the group may be bonded to the condensed ring, and A is selected from hydrogen, halogen, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an amino group, an alkylamino group and a hydroxyl group. Group selected from the group
And an aromatic ketone represented by the following general formula (2): Wherein Q is an aliphatic group which may have a substituent or an aromatic group which may have a substituent, and X is a halogen. The following general formula (3) (Wherein, R 1 to R 5 are hydrogen, halogen, an alkyl group,
Alkoxy group, allyl group, aralkyl group, aryl group,
An amino group, an alkylamino group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a formyl group, a nitro group, a cyano group, an ester group and a sulfonyl ester group, each independently selected from the group consisting of May be bonded to the condensed ring thereof, and A is selected from the group consisting of hydrogen, halogen, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an amino group, an alkylamino group, and a hydroxyl group. X is a selected group, and X is a halogen).
である請求項1記載のハロゲン化ビニル化合物の合成
法。2. The method according to claim 1, wherein the reaction is performed in the presence of a Lewis acid.
ある請求項2〜3いずれか記載のハロゲン化ビニル化合
物の合成法。3. The method for synthesizing a vinyl halide compound according to claim 2, wherein the Lewis acid is carried on a carrier.
SnX2(たゞし、Xはハロゲンである)よりなる群か
ら選ばれたものである請求項3〜4いずれか記載のハロ
ゲン化ビニル化合物の合成法。4. The vinyl halide according to claim 3 , wherein the Lewis acid is selected from the group consisting of ZnX 2 , FeX 3 and SnX 2 (where X is a halogen). Method for synthesizing compounds.
2(Xはハロゲンである)である請求項1記載のハロゲ
ン化ビニル化合物の合成法。5. The carrier is silica gel and the Lewis acid is ZnX.
2. The method for synthesizing a vinyl halide compound according to claim 1, wherein X is a halogen.
ンに対して、前記一般式(2)で示される酸ハロゲン化
物を過剰モルで使用する請求項1記載のハロゲン化ビニ
ル化合物の合成法。6. The synthesis of the vinyl halide compound according to claim 1, wherein the acid halide represented by the general formula (2) is used in an excess mole relative to the aromatic ketone represented by the general formula (1). Law.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000073173A JP2001261585A (en) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | Synthetic method of vinyl halide compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000073173A JP2001261585A (en) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | Synthetic method of vinyl halide compounds |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001261585A true JP2001261585A (en) | 2001-09-26 |
Family
ID=18591460
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000073173A Pending JP2001261585A (en) | 2000-03-15 | 2000-03-15 | Synthetic method of vinyl halide compounds |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001261585A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008010578A1 (en) * | 2006-07-21 | 2008-01-24 | Ono Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for production of styrene derivative |
US8487009B2 (en) | 2001-01-18 | 2013-07-16 | Glaxo Group Limited | 1,2-diphenylethene derivatives for treatment of immune diseases |
US10647649B2 (en) | 2017-11-10 | 2020-05-12 | Dermavant Sciences GmbH | Process for preparing tapinarof |
-
2000
- 2000-03-15 JP JP2000073173A patent/JP2001261585A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8487009B2 (en) | 2001-01-18 | 2013-07-16 | Glaxo Group Limited | 1,2-diphenylethene derivatives for treatment of immune diseases |
WO2008010578A1 (en) * | 2006-07-21 | 2008-01-24 | Ono Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for production of styrene derivative |
US10647649B2 (en) | 2017-11-10 | 2020-05-12 | Dermavant Sciences GmbH | Process for preparing tapinarof |
US10961175B2 (en) | 2017-11-10 | 2021-03-30 | Dermavant Sciences GmbH | Process for preparing tapinarof |
US11597692B2 (en) | 2017-11-10 | 2023-03-07 | Dermavant Sciences GmbH | Process for preparing tapinarof |
US12275696B2 (en) | 2017-11-10 | 2025-04-15 | Dermavant Sciences GmbH | Process for preparing tapinarof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5633400A (en) | Process for the preparation of biphenyl derivatives | |
JP2005336155A (en) | Method for producing cyclic disulfonic acid ester | |
KR101100064B1 (en) | Method for preparing nitrooxy derivatives of naproxen | |
US7485744B2 (en) | Iron-catalyzed allylic alkylation | |
JP2001261585A (en) | Synthetic method of vinyl halide compounds | |
CN114560832A (en) | Method for synthesizing dibenzofuran compound | |
JP4481589B2 (en) | Method for producing bisphosphine | |
JP4759722B2 (en) | Process for producing aromatic carboxylic acid ester having a substituent | |
JP2003201263A (en) | Method for producing triphenylene compound | |
JP3120409B2 (en) | Method for producing optically active 1-alkenes | |
JPH0429957A (en) | Production of biaryl derivative | |
JPH09176063A (en) | Production of alcohols | |
JPH11217362A (en) | Process for producing β-hydrazino esters, pyrazolidinones, pyrazolones and β-amino acid derivatives | |
JPH11255759A (en) | Production of optically active beta-lactone | |
EP0661263A2 (en) | Process for the preparation of 2,4,5-tribromopyrrole-3-carbonitrile | |
JPH09188637A (en) | Process for producing 3-bromo-2- (substituted phenyl) -1-propenes | |
JP2002173458A (en) | Method for producing acetophenone compound containing trifluoromethyl group | |
JPH06145086A (en) | Binaphthol derivative and method for producing the same | |
CN119462372A (en) | A method for preparing conjugated enol ester compound | |
JPH09169690A (en) | Production of acyl compounds | |
JP2000336066A (en) | Preparation of 2-(4-methylphenyl)benzoic acid derivative | |
CN110015942A (en) | A kind of method for directly synthesizing biaromatic compounds without metal catalysis | |
CN116768745A (en) | A kind of synthesis method of light-induced N-aryl benzamide compound | |
JPH02172986A (en) | Method for producing 3-hydroxy-2-thiophenecarboxylic acid derivative | |
JP2001294580A (en) | Optically active oxazoline compound and method for producing optically active allyl alcohol derivative by using the compound |