JP2001255517A - Substrate for liquid crystal display device and the liquid crystal display device - Google Patents
Substrate for liquid crystal display device and the liquid crystal display deviceInfo
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用基
板及び液晶表示装置であり、フラットディスプレイ、特
に大型で広視野角な液晶ディスプレイに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate for a liquid crystal display device and a liquid crystal display device, and more particularly to a flat display, particularly a large liquid crystal display having a wide viewing angle.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、液晶ディスプレイ、例えばTF
T液晶表示装置は、透明な板ガラスの基板に透明電極を
形成し、そして、CF基板とTFT基板とを透明電極が
互いに向かい合うように設置し、その間に液晶を挟みこ
み、基板の外側に偏光板を互いに直交するように貼りあ
わせた構成をしている。液晶の配向状態を外部電圧で調
整することによって、液晶ディスプレイに入射した光
は、透過状態又は非透過状態になり、階調を表示する。2. Description of the Related Art Generally, liquid crystal displays such as TF
In the T liquid crystal display device, a transparent electrode is formed on a transparent plate glass substrate, and a CF substrate and a TFT substrate are placed so that the transparent electrodes face each other, a liquid crystal is sandwiched between the substrates, and a polarizing plate is provided outside the substrate. Are attached so as to be orthogonal to each other. By adjusting the alignment state of the liquid crystal with an external voltage, the light incident on the liquid crystal display becomes a transmission state or a non-transmission state, and displays a gray scale.
【0003】液晶ディスプレイの画面サイズは大型化へ
と進んでいる。液晶ディスプレイの大型化の方向とし
て、プラズマアドレス液晶(以下、「PALC」と呼
ぶ。)が知られている。プラズマアドレス方式液晶表示
装置は、図1に示すように、CF基板31と誘電体層基
板21とプラズマ基板11とを備えている。透明電極を
形成したCF基板31と誘電体層基板21とで液晶層3
5を挟み、そして、誘電体層基板21とプラズマ基板1
1の間のプラズマ室内にアノード電極12とカソード電
極13が設けられている。プラズマ室内に存在する希ガ
スのプラズマ状態により、スイッチングが行われ、仮想
電極と透明電極との間に、液晶層35への電圧が印加さ
れ、表示が可能となる。プラズマアドレス液晶は、黒表
示のときに光漏れが生じ、その光漏れが輝度むらとして
現れて、表示品位を落とす場合があった。[0003] The screen size of a liquid crystal display is increasing. As a direction for increasing the size of a liquid crystal display, a plasma-addressed liquid crystal (hereinafter, referred to as “PALC”) is known. As shown in FIG. 1, the plasma addressed liquid crystal display device includes a CF substrate 31, a dielectric layer substrate 21, and a plasma substrate 11. The liquid crystal layer 3 is formed by the CF substrate 31 on which the transparent electrode is formed and the dielectric layer substrate 21.
5 and the dielectric layer substrate 21 and the plasma substrate 1
An anode electrode 12 and a cathode electrode 13 are provided in the plasma chamber between the two. Switching is performed according to the plasma state of the rare gas existing in the plasma chamber, and a voltage is applied to the liquid crystal layer 35 between the virtual electrode and the transparent electrode, thereby enabling display. In the plasma-addressed liquid crystal, light leakage occurs during black display, and the light leakage appears as uneven brightness, which may degrade display quality.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、光弾性定数
Cとガラスの厚みdとの積が限定されたガラス等を使用
することにより、黒表示時の光漏れを防ぐことができ、
黒表示の均一な表示品位の高い液晶ディスプレイとする
ことができる液晶表示装置用基板及び液晶表示装置を提
供することを目的とする。According to the present invention, light leakage during black display can be prevented by using glass or the like in which the product of the photoelastic constant C and the thickness d of the glass is limited.
It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device substrate and a liquid crystal display device which can provide a liquid crystal display having a uniform black display and a high display quality.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、厚みdCFと
光弾性定数CCFの積が、0以上2.32[brews
ter・mm]以下である液晶表示装置用CF基板であ
る。According to the present invention, the product of the thickness d CF and the photoelastic constant C CF is 0 or more and 2.32 [blews].
ter · mm] or less.
【0006】また、本発明は、材質は、ガラス又はプラ
スチックである液晶表示装置CF用基板である。Further, the present invention is a substrate for a liquid crystal display device CF whose material is glass or plastic.
【0007】そして、本発明は、上記ガラスは、PbO
を0.1wt%以上76.9wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用CF基板である。In the present invention, the glass is preferably made of PbO
Is a CF substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 76.9 wt% or less.
【0008】更に、本発明は、上記ガラスは、CaOを
0.1wt%以上86.5wt%以下の成分割合で有す
る液晶表示装置用CF基板である。Further, the present invention is a CF substrate for a liquid crystal display device, wherein the glass contains CaO in a component ratio of 0.1 wt% or more and 86.5 wt% or less.
【0009】また、本発明は、上記ガラスは、Na2O
を0.1wt%以上51.9wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用CF基板である。In the present invention, the glass is preferably made of Na 2 O
Is a CF substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 51.9 wt% or less.
【0010】そして、本発明は、上記ガラスは、BaO
を0.1wt%以上63.5wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用CF基板である。In the present invention, the glass is preferably made of BaO
Is a CF substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 63.5 wt% or less.
【0011】更に、本発明は、厚みdPLと光弾性定数
CPLの積が、0以上2.32[brewster・m
m]以下である液晶表示装置用プラズマ基板である。Further, according to the present invention, the product of the thickness d PL and the photoelastic constant C PL is 0 or more and 2.32 [brewster · m].
m] or less.
【0012】また、本発明は、材質は、ガラス又はプラ
スチックである液晶表示装置用プラズマ基板である。Further, the present invention is a plasma substrate for a liquid crystal display device, whose material is glass or plastic.
【0013】そして、本発明は、上記ガラスは、PbO
を0.1wt%以上76.9wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用プラズマ基板である。In the present invention, the above-mentioned glass is preferably made of PbO
In a component ratio of 0.1 wt% or more and 76.9 wt% or less.
【0014】更に、本発明は、上記ガラスは、CaOを
0.1wt%以上86.5wt%以下の成分割合で有す
る液晶表示装置用プラズマ基板である。Further, the present invention is the plasma substrate for a liquid crystal display device, wherein the glass contains CaO in a component ratio of 0.1 wt% or more and 86.5 wt% or less.
【0015】また、本発明は、上記ガラスは、Na2O
を0.1wt%以上51.9wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用プラズマ基板である。In the present invention, the glass is preferably made of Na 2 O
Is a plasma substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 51.9 wt% or less.
【0016】そして、本発明は、上記ガラスは、BaO
を0.1wt%以上63.5wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用プラズマ基板である。In the present invention, the glass is BaO
Is a plasma substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 63.5 wt% or less.
【0017】更に、本発明は、厚みdμと光弾性定数C
μの積が、0以上2.32[brewster・mm]
以下である液晶表示装置用誘電体層基板である。Further, according to the present invention, the thickness d μ and the photoelastic constant C
The product of μ is 0 or more and 2.32 [brewster · mm]
The following is a dielectric layer substrate for a liquid crystal display device.
【0018】また、本発明は、材質は、ガラス又はプラ
スチックである液晶表示装置用誘電体層基板である。Further, the present invention is a dielectric layer substrate for a liquid crystal display device, whose material is glass or plastic.
【0019】そして、本発明は、上記ガラスは、PbO
を0.1wt%以上76.9wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用誘電体層基板である。In the present invention, the glass is preferably made of PbO
Is a dielectric layer substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 76.9 wt% or less.
【0020】更に、本発明は、上記ガラスは、CaOを
0.1wt%以上86.5wt%以下の成分割合で有す
る液晶表示装置用誘電体層基板である。Further, the present invention is a dielectric layer substrate for a liquid crystal display device, wherein said glass contains CaO in a component ratio of 0.1 wt% or more and 86.5 wt% or less.
【0021】また、本発明は、上記ガラスは、Na2O
を0.1wt%以上51.9wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用誘電体層基板である。Further, in the present invention, the glass is preferably made of Na 2 O
Is a dielectric layer substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 51.9 wt% or less.
【0022】そして、本発明は、上記ガラスは、BaO
を0.1wt%以上63.5wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用誘電体層基板である。In the present invention, the glass is BaO
Is a dielectric layer substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 63.5 wt% or less.
【0023】更に、本発明は、厚みdTFTと光弾性定
数CTFTの積が、0以上2.32[brewster
・mm]以下である液晶表示装置用TFT基板である。Further, according to the present invention, the product of the thickness d TFT and the photoelastic constant C TFT is 0 or more and 2.32 [brewster].
[Mm] or less.
【0024】また、本発明は、材質は、ガラス又はプラ
スチックである液晶表示装置用TFT基板である。Further, the present invention is a TFT substrate for a liquid crystal display device whose material is glass or plastic.
【0025】そして、本発明は、上記ガラスは、PbO
を0.1wt%以上76.9wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用TFT基板である。In the present invention, the glass is preferably made of PbO
Is a TFT substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 76.9 wt% or less.
【0026】更に、本発明は、上記ガラスは、CaOを
0.1wt%以上86.5wt%以下の成分割合で有す
る液晶表示装置用TFT基板である。Further, the present invention is a TFT substrate for a liquid crystal display device, wherein said glass contains CaO at a component ratio of 0.1 wt% or more and 86.5 wt% or less.
【0027】また、本発明は、上記ガラスは、Na2O
を0.1wt%以上51.9wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用TFT基板である。In the present invention, the glass is preferably made of Na 2 O
Is a TFT substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 51.9 wt% or less.
【0028】そして、本発明は、上記ガラスは、BaO
を0.1wt%以上63.5wt%以下の成分割合で有
する液晶表示装置用TFT基板である。In the present invention, the glass is BaO
Is a TFT substrate for a liquid crystal display device having a component ratio of 0.1 wt% or more and 63.5 wt% or less.
【0029】更に、本発明は、上記に記載のCF基板と
プラズマ基板と誘電体層基板とを構成要素とするプラズ
マアドレス方式の液晶表示装置である。Further, the present invention is a plasma-addressed liquid crystal display device comprising the above-described CF substrate, plasma substrate and dielectric layer substrate as components.
【0030】また、本発明は、上記に記載のCF基板と
TFT基板とを構成要素とするTFT液晶表示装置であ
る。Further, the present invention is a TFT liquid crystal display device comprising the above-described CF substrate and TFT substrate as constituent elements.
【0031】本発明の作用を説明する。液晶ディスプレ
イを構成するガラスは、熱応力のかかっていない状態の
ときは、透明な光等方性体であるため、2枚の偏光板を
クロスニコルの状態にして、その間にガラスをはさんで
も、黒状態であり、光漏れは無く、輝度むらは無い。と
ころが、液晶ディスプレイを構成するバックライトや駆
動回路からは発熱があり、液晶パネルに熱応力を発生さ
せる。ガラスに応力がかかると、入射した光は、2つの
主応力方向に別れて進み、ガラスから出る時に位相差を
生ずる。このときの位相差は、実験的に次式が成り立つ
ことがわかっている(光学的測定ハンドブック、朝倉書
店刊、参照)。 Δ=2πC・d・(σx−σy)/λ…式1 ここで、Δ:位相差、C:光弾性定数、σx,σy:第
1の軸、第2の軸方向の主応力、λ:光の波長、d:ガ
ラスの厚み、である。The operation of the present invention will be described. When the glass that composes the liquid crystal display is in a state where no thermal stress is applied, it is a transparent light isotropic body, so the two polarizing plates are in a crossed Nicols state, and the glass is sandwiched between them. , Black state, no light leakage, and no brightness unevenness. However, heat is generated from the backlight and the driving circuit that constitute the liquid crystal display, and generates thermal stress on the liquid crystal panel. When stress is applied to the glass, the incident light travels separately in the two principal stress directions and produces a phase difference when exiting the glass. It is known experimentally that the following equation holds for the phase difference at this time (see the Optical Measurement Handbook, published by Asakura Shoten). Δ = 2πC · d · (σx−σy) / λ Equation 1 where Δ: phase difference, C: photoelastic constant, σx, σy: principal stress in the first axis and second axis directions, λ: The wavelength of light, d: thickness of glass.
【0032】この位相差Δを使用して、光強度Iは、 I=a2sin2(2α)sin2(Δ/2)…式2 となることが導かれることがわかっている。ここで、
α:光の偏光方向と主応力のなす角、である。Using this phase difference Δ, it is known that the light intensity I is derived as follows: I = a 2 sin 2 (2α) sin 2 (Δ / 2) (2) here,
α: The angle between the polarization direction of light and the principal stress.
【0033】光強度Iが大きくなると、光漏れが増大
し、表示の均一性を下げることとなる。そのため、ガラ
スのC・dを小さくすれば、式1より、発生する位相差
Δが小さくなり、光強度Iが低下するため、液晶デイス
レイの黒表示時における光漏れが低下し、輝度分布が非
常に少ない表示品位の高い液晶パネルを得ることができ
る。As the light intensity I increases, light leakage increases and the uniformity of the display decreases. Therefore, if the C · d of the glass is reduced, the phase difference Δ that occurs is reduced according to Equation 1, and the light intensity I is reduced. Therefore, light leakage during black display of the liquid crystal display is reduced, and the luminance distribution is extremely low. Thus, a liquid crystal panel with low display quality can be obtained.
【0034】輝度の均一性の程度について、説明する。
理想的には黒表示の光強度は0であるが、現実には黒と
いっても光強度は0ではなく有限の値を持つ。パネルが
黒表示であるとき、光強度は場所により相違するという
分布を持つ。この分布のばらつきが小さく、かつ絶対値
が低いほど均一性が高いといえる。経験的に、液晶パネ
ルの黒表示における最大輝度点の輝度(Lmax)を各
点での輝度の平均値(Lave)で割った値が1.5倍
以下であれば、不均一と感じにくいことがわかった。The degree of luminance uniformity will be described.
Ideally, the light intensity for black display is 0, but in reality, even if it is black, the light intensity is not 0 but has a finite value. When the panel displays black, the light intensity has a distribution that varies depending on the location. It can be said that the smaller the variation of the distribution and the lower the absolute value, the higher the uniformity. Empirically, if the value obtained by dividing the luminance (Lmax) at the maximum luminance point in the black display of the liquid crystal panel by the average value (Lave) of the luminance at each point is 1.5 times or less, it is difficult to feel unevenness. I understood.
【0035】[0035]
【発明の実施の形態】本発明の発明の実施の形態につい
て説明する。一例として、上記広視野角化技術とPAL
Cを組み合わせたディスプレイについて記述する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described. As an example, the wide viewing angle technology and PAL
A display combining C will be described.
【0036】PALCの構造について、説明する。プラ
ズマアドレス液晶ディスプレイの断面図を、図1に示
す。PALCは、大きく分けるとプラズマスイッチ部分
とカラーフィルター(以後、「CF」と略す。)部分に
分けられる。まず、プラズマスイッチ部分は、厚みが約
2mmのガラスのプラズマ基板11にアノード電極12
とカソード電極13を行状に設け、アノード電極12上
のプラズマ発生領域を分離するために隔壁14が形成さ
れている。その上に、プラズマ領域と液晶部分を分離す
るために、誘電体層21が形成されている。この誘電体
層21には、ガラスの薄板を使用している(以後、この
薄板ガラスを「マイクロシート」と呼ぶ。)。隔壁14
間は、プラズマ放電をさせるために、真空にした後、希
ガスが充填されている。誘電体層21とCF基板31の
対向面側には、それぞれ配向膜22、32が塗布され、
そして、壁33を形成し、規定のセルギャップを維持す
るためにスペーサ34を分散して貼り合わせられてい
る。この間隙に液晶35が充填されている。プラズマ基
板11とCF基板31の両外面に、偏光板41、42が
偏光軸を上下で直交するように貼り合わされている。プ
ラズマ基板11側の偏光板41の外側にバックライト
(図示せず)が設置されている。The structure of PALC will be described. FIG. 1 is a sectional view of a plasma addressed liquid crystal display. PALC is broadly divided into a plasma switch portion and a color filter (hereinafter abbreviated as “CF”) portion. First, an anode electrode 12 is formed on a glass plasma substrate 11 having a thickness of about 2 mm.
And a cathode electrode 13 are provided in a row, and a partition wall 14 is formed to separate a plasma generation region on the anode electrode 12. On top of this, a dielectric layer 21 is formed to separate the plasma region from the liquid crystal portion. A glass thin plate is used for the dielectric layer 21 (hereinafter, this thin glass is referred to as a “microsheet”). Partition wall 14
During the interval, a rare gas is filled after vacuuming for plasma discharge. Orientation films 22 and 32 are applied to the facing surfaces of the dielectric layer 21 and the CF substrate 31, respectively.
Then, a wall 33 is formed, and spacers 34 are dispersed and bonded to maintain a specified cell gap. The gap is filled with the liquid crystal 35. Polarizing plates 41 and 42 are attached to both outer surfaces of the plasma substrate 11 and the CF substrate 31 so that the polarization axes are perpendicular to each other. A backlight (not shown) is provided outside the polarizing plate 41 on the plasma substrate 11 side.
【0037】CF基板31、プラズマ基板11及び誘電
体層基板21の材質について、説明する。各基板の材質
は、代表的にはガラスであるが、石英やプラスチックも
使用できる。The materials of the CF substrate 31, the plasma substrate 11, and the dielectric layer substrate 21 will be described. The material of each substrate is typically glass, but quartz or plastic can also be used.
【0038】各基板における光弾性定数Cとガラスの厚
みdの積について、説明する。式2によると、光強度I
は、 I∝sin2(Δ/2) であり、そして、液晶パネルのバックライトや駆動回路
によって発生する熱分布の偏りによって生じる熱応力は
小さいので、Δ≪1であるから、 I∝(Δ/2)2…式3 と近似できる。式3は、 I∝(C・d)2…式4 と書き換えられる。実際のパネルでは、光の散乱がある
ため、漏れ光Iは、A+B・(C・d)2となる。実験
から、輝度比(最大/平均)1.5となる最大のC・d
は、2.32となった。The product of the photoelastic constant C of each substrate and the thickness d of the glass will be described. According to equation 2, the light intensity I
Is I∝sin 2 (Δ / 2), and since the thermal stress generated by the bias of the heat distribution generated by the backlight and the driving circuit of the liquid crystal panel is small, and Δ≪1, it follows that I∝ (Δ / 2) 2 ... Equation 3 can be rewritten as I∝ (C · d) 2 . In an actual panel, since light is scattered, the leakage light I is A + B · (C · d) 2 . From experiments, it was found that the maximum C · d at which the luminance ratio (maximum / average) was 1.5
Was 2.32.
【0039】誘電体層(マイクロシート)ガラスとその
材質について、説明する。マイクロシートは、通常50
μmと非常に薄いため、光弾性定数Cμは46.4以下
で良い。ところで、薄くて取り扱いしにくいので、マイ
クロシートには力学的強度が求められている。特開平4
−313788号公報に示す構造のマイクロシートで
は、より厚いマイクロシートが製造可能になる。そのた
め、0.7mm以上の厚みでの光弾性定数Cμは、3.
3[brewster]以下とする必要である。ガラス
(SiO2)にPbO(51)、BaO(52)、Ca
O(53)、Na2O(54)、B2O3(55)を添
加して組成を変えたときの光弾性定数の変化特性を図2
に示す。(Schwiecker著、題名:Kompo
nentabhangigkeit der spaa
ungsoptischen Koeffizient
en von Glas.Glastech.Ber.
30,84−88(1957)参照)。横軸は各添加物
の成分割合を示していて、残部はSiO2であり、一
方、縦軸は光弾性定数Cを示している。PbO、Ba
O、CaO、Na2Oをガラス(残SiO2)に成分添
加すると、図2に示すように、光弾性定数Cを3.3以
下に下げることができる。光弾性定数Cは正の値でなけ
ればならないので、PbOは0.1wt%以上76.9
wt%以下、CaOは0.1wt%以上86.5wt%
以下、Na2Oは0.1wt%以上51.9wt%以
下、BaOは0.1wt%以上63.5wt%以下でな
ければならない。特に光弾性定数が2.32以下となる
のは、PbO63.5wt%以上、CaO44.2wt
%以上、Na2O26.9wt%以上、BaO46.2
wt%以上である。マイクロシートは、液晶に触れるの
で、ノンアルカリガラスが望ましいが、アルカリガラス
でもSiO2等のアルカリ溶出防止の薄膜を施すことに
より使用できる。The dielectric layer (microsheet) glass and its material will be described. Microsheets are usually 50
The photoelastic constant Cμ may be 46.4 or less because it is very thin, μm. By the way, the microsheet is required to have mechanical strength because it is thin and difficult to handle. JP 4
In the microsheet having the structure disclosed in JP-A-313788, a thicker microsheet can be manufactured. Therefore, the photoelastic constant C μ at a thickness of 0.7 mm or more is 3.
It is necessary to set it to 3 [brewster] or less. PbO (51), BaO (52), Ca on glass (SiO 2 )
FIG. 2 shows the change characteristic of the photoelastic constant when the composition is changed by adding O (53), Na 2 O (54) and B 2 O 3 (55).
Shown in (Schwiecker, Title: Kompo
nentabhangigkeit der spaa
ungsoptischen Koeffificent
en von Glas. Glastech. Ber.
30, 84-88 (1957)). The horizontal axis shows the component ratio of each additive, and the balance is SiO2, while the vertical axis shows the photoelastic constant C. PbO, Ba
When O, CaO, and Na 2 O are added to glass (residual SiO 2 ), the photoelastic constant C can be reduced to 3.3 or less as shown in FIG. Since the photoelastic constant C must be a positive value, PbO is 0.1 wt% or more and 76.9.
wt% or less, CaO is 0.1 wt% or more and 86.5 wt%
Hereinafter, Na 2 O must be 0.1 wt% or more and 51.9 wt% or less, and BaO must be 0.1 wt% or more and 63.5 wt% or less. In particular, the photoelastic constant of 2.32 or less is at least 63.5 wt% of PbO and 44.2 wt% of CaO.
% Or more, Na 2 O26.9wt% or more, BaO46.2
wt% or more. A non-alkali glass is desirable for the microsheet because it touches the liquid crystal, but an alkali glass can also be used by applying a thin film for preventing elution of alkali such as SiO 2 .
【0040】プラズマ基板用ガラスについて、説明す
る。プラズマスイッチ部分のガラスは、PALCの構造
上の強度を受け持つので、厚いガラスが必要である。し
かも、そのガラスは、2枚の偏光板の間に挟まれるの
で、光学特性が重要である。PALCを構成するガラス
の内、最も厚いもので、式1によると、光弾性の影響が
最も大きい。よって、他の構成ガラスのうち、光弾性定
数Cの小さなガラスが必要である。プラズマ基板用ガラ
スは、液晶に触れないので、アルカリガラスが使用でき
る。強度の観点から、厚みは0.7mm以上必要であ
る。ガラスにPbO、BaO、CaO、Na2Oを添加
することによって、図2に示すように、光弾性定数Cを
下げることができる。光弾性定数は正の値でなければな
らないので、PbOは0.1wt%以上76.9wt%
以下、CaOは0.1wt%以上86.5wt%以下、
Na2Oは0.1wt%以上51.9wt%以下、Ba
Oは0.1wt%以上63.5wt%以下でなければな
らない。The glass for a plasma substrate will be described. Since the glass of the plasma switch part is responsible for the structural strength of the PALC, a thick glass is required. Moreover, the glass is sandwiched between two polarizing plates, so that the optical characteristics are important. It is the thickest of the glasses that make up PALC, and according to Equation 1, the effect of photoelasticity is greatest. Therefore, among other constituent glasses, a glass having a small photoelastic constant C is required. Alkali glass can be used for the plasma substrate glass because it does not touch the liquid crystal. From the viewpoint of strength, the thickness needs to be 0.7 mm or more. By adding PbO, BaO, CaO, and Na 2 O to the glass, the photoelastic constant C can be reduced as shown in FIG. Since the photoelastic constant must be a positive value, PbO is 0.1 wt% or more and 76.9 wt%.
Hereinafter, CaO is 0.1 wt% or more and 86.5 wt% or less,
Na 2 O is 0.1 wt% or more and 51.9 wt% or less, Ba
O must be not less than 0.1 wt% and not more than 63.5 wt%.
【0041】CF基板について、説明する。CF基板
は、約1mmの厚みのガラス上にRGB色を各々ストラ
イプ状に形成し、各色の間隙を黒色樹脂で埋めて遮光部
を形成する。The CF substrate will be described. In the CF substrate, RGB colors are formed in stripes on glass having a thickness of about 1 mm, and a gap between the colors is filled with black resin to form a light shielding portion.
【0042】CF基板用ガラスとその材質について、説
明する。プラズマ基板用ガラスで構造上の強度を得てい
るため、CF用ガラスは、厚みが薄くできるが、やは
り、強度の観点から0.7mmは必要である。ガラスに
PbO、BaO、CaO、Na 2Oを添加することによ
って、図2に示すように、光弾性定数Cを下げることが
できる。光弾性定数Cは正の値でなければならないの
で、PbOは0.1wt%以上76.9wt%以下、C
aOは0.1wt%以上86.5wt%以下、Na 2O
は0.1wt%以上51.9wt%以下、BaOは0.
1wt%以上63.5wt%以下でなければならない。
CF基板用ガラスも、直接液晶に触れることはないの
で、アルカリガラスが使用できる。The glass substrate for CF and its material will be discussed.
I will tell. Structural strength obtained with glass for plasma substrates
Therefore, the CF glass can be made thinner,
Therefore, 0.7 mm is necessary from the viewpoint of strength. On glass
PbO, BaO, CaO, Na 2By adding O
Therefore, as shown in FIG.
it can. The photoelastic constant C must be a positive value
And PbO is 0.1 wt% or more and 76.9 wt% or less, and C
aO is 0.1 wt% or more and 86.5 wt% or less, Na 2O
Is 0.1 wt% or more and 51.9 wt% or less, and BaO is 0.1 wt% or less.
It must be 1 wt% or more and 63.5 wt% or less.
The glass for CF substrate does not directly touch the liquid crystal
And alkali glass can be used.
【0043】壁の形成について、説明する。RGB画素
を格子状に壁で囲む必要があるので、ネガ型のレジスト
を格子状に形成することによって高さ約3μmの壁を作
成することができる。The formation of the wall will be described. Since it is necessary to surround the RGB pixels with a lattice-like wall, a wall having a height of about 3 μm can be formed by forming a negative resist in a lattice-like manner.
【0044】配向膜形成について、説明する。パネルに
注入する液晶は、n型液晶なので、液晶と接する両側の
基板に液晶を立たせる垂直性の配向膜を形成しなければ
ならない。CF基板とマイクロシート上に配向膜を形成
する。The formation of the alignment film will be described. Since the liquid crystal injected into the panel is an n-type liquid crystal, it is necessary to form a vertical alignment film that allows the liquid crystal to stand on both substrates in contact with the liquid crystal. An alignment film is formed on a CF substrate and a microsheet.
【0045】CF基板とプラズマ基板の貼り合せについ
て、説明する。CF基板に6μmの球形のプラスチック
ビーズ(積水化学製)を散布し、シール材(三井東圧
製)を基板周辺部に塗布し、CF基板とプラズマ基板を
貼り合せ、熱硬化させた。(以後、「セル」と呼ぶ。)The bonding of the CF substrate and the plasma substrate will be described. 6 μm spherical plastic beads (manufactured by Sekisui Chemical) were sprayed on the CF substrate, a sealing material (manufactured by Mitsui Toatsu) was applied to the periphery of the substrate, and the CF substrate and the plasma substrate were bonded and thermally cured. (Hereafter referred to as "cell")
【0046】液晶混合物について、説明する。液晶材料
に、光硬化性樹脂として、下記化合物1と重合開始剤を
混合した。重合開始剤には、Irgacure 651
(チバガイギー社製)等がある。光硬化性樹脂は、液晶
分子の配向を固定するために必要である。The liquid crystal mixture will be described. The following compound 1 and a polymerization initiator were mixed in the liquid crystal material as a photocurable resin. The polymerization initiator includes Irgacure 651
(Made by Ciba-Geigy). The photocurable resin is necessary to fix the orientation of the liquid crystal molecules.
【化1】 Embedded image
【0047】液晶には、S811(メルク社製)をセル
厚で40〜110°好ましくは90°捩じれるように混
合すると、パネルの明状態で最も明るいパネルが得られ
る。When S811 (manufactured by Merck) is mixed with the liquid crystal so that the cell thickness is twisted by 40 to 110 °, preferably 90 °, the brightest panel in the bright state of the panel can be obtained.
【0048】注入について、説明する。この液晶混合物
をあらかじめセルに開けられた穴から注入し、そして、
穴を樹脂で封止する。The injection will be described. The liquid crystal mixture is injected through a hole previously formed in the cell, and
Seal the hole with resin.
【0049】軸対称配向制御方法について、説明する。
このセルにプラズマ放電のための回路と液晶駆動用の回
路を接続して、プラズマを放電させた状態で液晶が少し
動くような電圧を印加した。プラズマ基板側からUV光
を照射して、液晶の配向を固定する。The method of controlling the axisymmetric alignment will be described.
A circuit for driving plasma discharge and a circuit for driving liquid crystal were connected to the cell, and a voltage was applied so that the liquid crystal moved slightly while the plasma was discharged. Irradiation of UV light from the plasma substrate side fixes the orientation of the liquid crystal.
【0050】位相差板について、説明する。位相差板を
偏光板の間に設置することにより、偏光軸と45°方向
の視角特性が改善される。The phase difference plate will be described. By providing the retardation plate between the polarizing plates, the viewing angle characteristics in the direction of 45 ° with respect to the polarization axis are improved.
【0051】実施例1を説明する。プラズマ基板用ガラ
スは、光弾性定数2.80、厚み0.8mm(C×d=
2.24)のOA−2(日本電気ガラス製)を研磨して
得た。そのガラスの一箇所に排気用の穴を開け、Niペ
ーストをガラス上にスクリーン印刷によって、塗布、焼
成して、アノード電極とカソード電極を列状に設けた。Embodiment 1 will be described. The glass for a plasma substrate has a photoelastic constant of 2.80 and a thickness of 0.8 mm (C × d =
2.24) was obtained by polishing OA-2 (manufactured by NEC Corporation). A hole for evacuation was made in one place of the glass, and an Ni paste was applied and baked on the glass by screen printing to form an anode electrode and a cathode electrode in a row.
【0052】アノード電極上にガラスペーストを数回ス
クリーン印刷し、焼成して約200μmの高さの隔壁を
形成した。隔壁を研磨して、高さを均一にし、50μm
厚のマイクロシート(光弾性定数3.26[brews
ter] (C×d=0.163)の周辺部にガラスフリ
ットを線状に塗布して、隔壁の上に貼り合せた。焼成
し、排気口から空気を10−6Torr(1.33×1
0−4Pa)程度に排気し、そして、数10Torr
(約7×103Pa)まで希ガスを封入した。CF基板
用ガラスは、光弾性定数2.80[brewster]、
厚み0.7mm(C×d=1.96)のOA−10(日
本電気ガラス製)を使用した。CF基板に、信号書き込
み用にITOで、RGB単色画素に対応してストライプ
状に信号電極を形成した。A glass paste was screen-printed several times on the anode electrode and fired to form a partition having a height of about 200 μm. Polish the partition walls to make the height uniform, 50 μm
Thick microsheet (photoelastic constant 3.26 [brews]
ter] (C × d = 0.163), a glass frit was linearly applied to the periphery, and bonded on the partition wall. After firing, air was exhausted from the exhaust port at 10 −6 Torr (1.33 × 1
0 -4 Pa) and exhaust several Torr.
(About 7 × 10 3 Pa). Glass for CF substrate has a photoelastic constant of 2.80 [brewster],
OA-10 (manufactured by NEC Corporation) having a thickness of 0.7 mm (C × d = 1.96) was used. On the CF substrate, signal electrodes were formed in stripes corresponding to the RGB monochrome pixels using ITO for signal writing.
【0053】壁の形成について、説明する。CF基板に
OMR83(東京応化社製)で、格子状に高さ約3μm
の壁をBM部分に作成した。The formation of the wall will be described. OMR83 (manufactured by Tokyo Ohkasha Co., Ltd.) on the CF substrate, about 3 μm high in a grid
Was made in the BM part.
【0054】配向膜形成について、説明する。JALS
−204:垂直配向膜(日本合成ゴム社製)をCF基板
とマイクロシートの両方に形成した。The formation of the alignment film will be described. JALS
-204: A vertical alignment film (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was formed on both the CF substrate and the microsheet.
【0055】CF基板の非表示部を液晶注入用とするた
め、非表示部分にドリルで2箇所穴を開けた。セル厚を
保持するためにスペーサを散布し、このCF基板のBM
部分(ブラックストライプ)とプラズマ基板の隔壁が対
応し、かつ、CFのITO信号電極とプラズマ基板の隔
壁が直交するように貼り合わせた。CF基板に開けた2
個所の穴から空気を排気し、液晶と光硬化性樹脂の混合
物を注入し、封止材料で封止した。In order to fill the non-display area of the CF substrate with liquid crystal injection, two holes were drilled in the non-display area. Spacers are sprayed to maintain the cell thickness, and the BM
The portions (black stripes) corresponded to the partition walls of the plasma substrate, and the ITO signal electrodes of CF and the partition walls of the plasma substrate were bonded so as to be orthogonal to each other. 2 opened on CF substrate
Air was evacuated from the holes, a mixture of liquid crystal and a photocurable resin was injected, and the mixture was sealed with a sealing material.
【0056】液晶混合物について、説明する。n型液晶
材料(Δε=−4.0、Δn=0.08)に、光硬化性
樹脂として、上記化合物1を0.3wt%、重合開始剤
Irgacure 651を0.1wt%混合した。液
晶には、S811(メルク社製)を6μmで90°捩じ
れるように混合した。The liquid crystal mixture will be described. 0.3 wt% of the above compound 1 and 0.1 wt% of a polymerization initiator Irgacure 651 were mixed as a photo-curable resin with an n-type liquid crystal material (Δε = −4.0, Δn = 0.08). In the liquid crystal, S811 (manufactured by Merck) was mixed at 6 μm so as to be twisted by 90 °.
【0057】軸対称配向制御方法について、説明する。
このセルにプラズマ放電のための回路と液晶駆動用の回
路を接続して、プラズマを放電させた状態で液晶混合物
に10V前後の電圧を印加した。この状態を維持しなが
ら、プラズマ基板側からUV光(365nm、強度6m
W/cm2)を10分間照射して、液晶の配向を固定し
た。The method of controlling the axisymmetric alignment will be described.
A circuit for plasma discharge and a circuit for driving liquid crystal were connected to this cell, and a voltage of about 10 V was applied to the liquid crystal mixture while the plasma was discharged. While maintaining this state, UV light (365 nm, intensity 6 m
(W / cm 2 ) for 10 minutes to fix the orientation of the liquid crystal.
【0058】偏光板貼り合せについて、説明する。以上
のようにして作成したパネルの表裏に、偏光板(日東電
工製、EG1425DUHC)をクロスニコルになるよ
うに貼り付けた。A description will be given of the attachment of the polarizing plate. A polarizing plate (EG1425DUHC, manufactured by Nitto Denko) was attached to the front and back of the panel prepared as described above so as to form a cross Nicol.
【0059】実施例2を説明する。プラズマ基板用ガラ
スは、光弾性定数1.36、厚み1.7mm(C×d=
2.312)のSF4(SCHOTT製、図4参照)を
使用した。そのガラスの一箇所に排気用の穴を開け、N
iペーストをガラス上にスクリーン印刷によって、塗
布、焼成して、アノード電極とカソード電極を列状に設
けた。アノード電極上にガラスペーストを数回スクリー
ン印刷し、焼成して約200μmの高さの隔壁を形成し
た。隔壁を研磨して高さを均一にし、50μm厚のマイ
クロシート(光弾性定数3.26[brewster]、
C×d=0.163)の周辺部にガラスフリットを線状
に塗布して、隔壁の上に貼り合せた。焼成し、排気口か
ら空気を10−6Torr(1.33×10−4Pa)
程度に排気し、数10Torr(約7×103Pa)ま
で希ガスを封入した。CF基板用ガラスは、光弾性定数
2.34[brewster]、厚み0.99mm(C×
d=2.32)のSF5(SCHOTT製)を使用した。
CF基板に、信号書き込み用にITOでRGB単色画素
に対応してストライプ状に信号電極を形成した。Embodiment 2 will be described. The glass for a plasma substrate has a photoelastic constant of 1.36 and a thickness of 1.7 mm (C × d =
2.34) SF4 (manufactured by SCHOTT, see FIG. 4). A hole for exhaust was made in one place of the glass, and N
The i-paste was applied and baked on glass by screen printing to form an anode electrode and a cathode electrode in a row. A glass paste was screen-printed several times on the anode electrode and fired to form a partition having a height of about 200 μm. The partition is polished to make the height uniform, and a 50 μm thick microsheet (photoelastic constant 3.26 [brewster],
A glass frit was linearly applied to the periphery of (C × d = 0.163) and stuck on the partition walls. After firing, air is exhausted from the exhaust port at 10 −6 Torr (1.33 × 10 −4 Pa).
It was evacuated to a degree, and a rare gas was sealed up to several tens Torr (about 7 × 10 3 Pa). The glass for a CF substrate has a photoelastic constant of 2.34 [brewster] and a thickness of 0.99 mm (C ×
d = 2.32) SF5 (manufactured by SCHOTT) was used.
On the CF substrate, signal electrodes were formed in stripes corresponding to RGB single color pixels using ITO for signal writing.
【0060】壁の形成、配向膜形成、液晶注入用穴、液
晶混合物、軸対称配向制御方法及び偏光板貼り合せにつ
いては、実施例1と同様であり、説明を省略する。The formation of the wall, the formation of the alignment film, the hole for injecting the liquid crystal, the liquid crystal mixture, the method of controlling the axially symmetric alignment, and the bonding of the polarizing plate are the same as those in Example 1, and the description is omitted.
【0061】比較例について、説明する。偏光板をクロ
スニコル状態に設置して、その間にAF45ガラス(大
きさ640×1000×1.9mmt、光弾性定数3.
26、C×d=6.19):SCHOTT製)を置い
た。背後からバックライトを当てて、黒状態の輝度を測
定した。その時、ガラスに温度分布が生じないように、
ガラスをバックライトから離して観察した。次に、ガラ
スをバックライトに密着させて、ガラスに熱分布が出る
ようにして、同様な輝度測定を行なった。A comparative example will be described. The polarizing plate was placed in a crossed Nicols state, and AF45 glass (size: 640 × 1000 × 1.9 mmt, photoelastic constant: 3.times.
26, Cxd = 6.19): manufactured by SCHOTT). A backlight was applied from behind to measure the luminance in the black state. At that time, so that the temperature distribution does not occur in the glass,
The glass was viewed away from the backlight. Next, the same luminance measurement was performed by bringing the glass into close contact with the backlight so that heat distribution appeared in the glass.
【0062】実施例1、2及び比較例についての観察結
果を説明する。実施例1、2及び比較例で説明したよう
に作成したパネルを、バックライト上に置いてオフ状態
で観察した。観察個所は、液晶パネル全体について、縦
を4分割、横を6分割に仮想的に分割して24領域と
し、各領域の中央部と液晶パネルの4隅及びパネル全体
中央部の29点における輝度を輝度計(BM−5A:ト
プコン社製)で測定した。測定結果を図3に示す。測定
結果に示すように、輝度分布を最大輝度/平均輝度と定
義すると、実施例1(C×d=2.24、0.163、
1.96)では1.43倍、実施例2(C×d=2.3
1、0.163、2.32)では1.50倍となり、実
施例1、2では、バックライトが熱飽和しても、いずれ
も輝度分布は1.5倍以下となり、光漏れは発生しなか
った。一方、比較例(C×d=6.19)の輝度分布は
2.7倍となり、光漏れが発生した。The observation results of Examples 1 and 2 and Comparative Example will be described. The panels prepared as described in Examples 1 and 2 and Comparative Example were placed on a backlight and observed in an off state. Observation points are as follows. The entire liquid crystal panel is virtually divided into four parts in the vertical and six parts in the horizontal to form 24 regions. Was measured with a luminance meter (BM-5A: manufactured by Topcon Corporation). FIG. 3 shows the measurement results. As shown in the measurement results, when the luminance distribution is defined as maximum luminance / average luminance, Example 1 (C × d = 2.24, 0.163,
1.96), 1.43 times, Example 2 (C × d = 2.3)
1, 0.163, 2.32), it becomes 1.50 times, and in Examples 1 and 2, even if the backlight is thermally saturated, the luminance distribution becomes 1.5 times or less and light leakage occurs. Did not. On the other hand, the luminance distribution of the comparative example (C × d = 6.19) was 2.7 times, and light leakage occurred.
【0063】本発明によれば、機械的応力や熱的応力が
パネルに印加されても、ガラスの光弾性定数とガラスの
厚みの積が小さいため、パネルには複屈折が発生しにく
いので、黒表示の均一性が高く、輝度むらの少ない表示
品位に優れた液晶表示パネルを実現することができた。According to the present invention, even when a mechanical stress or a thermal stress is applied to the panel, the product of the photoelastic constant of the glass and the thickness of the glass is small. A liquid crystal display panel with high uniformity of black display and excellent display quality with little luminance unevenness was realized.
【0064】実施例1、2においては、CF基板とプラ
ズマ基板と誘電体層基板とを構成要素とするプラズマア
ドレス方式液晶表示装置で説明したが、CF基板とTF
T基板とを構成要素とする液晶表示装置でも、同様に黒
表示の均一な表示品位の高い液晶ディスプレイとするこ
とができる。In the first and second embodiments, the plasma addressing type liquid crystal display device including the CF substrate, the plasma substrate, and the dielectric layer substrate has been described.
Similarly, a liquid crystal display device having a T substrate as a component can provide a liquid crystal display having a uniform black display and a high display quality.
【0065】[0065]
【発明の効果】本発明によれば、光弾性定数Cとガラス
の厚みdとの積が限定されたガラス等を使用することに
より、黒表示時の光漏れを防ぐことができ、黒表示の均
一な表示品位の高い液晶ディスプレイとすることができ
る液晶表示装置用基板及び液晶表示装置を得ることがで
きる。According to the present invention, by using a glass or the like in which the product of the photoelastic constant C and the thickness d of the glass is limited, light leakage at the time of black display can be prevented, and the black display can be prevented. A substrate for a liquid crystal display device and a liquid crystal display device that can be a liquid crystal display with high uniform display quality can be obtained.
【図1】PALCの構造説明図。FIG. 1 is a structural explanatory view of a PALC.
【図2】ガラスの組成を変えたときの光弾性定数の変化
特性の説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram of a change characteristic of a photoelastic constant when a composition of glass is changed.
【図3】実施例1、2及び比較例についての観察結果の
図表。FIG. 3 is a table showing observation results of Examples 1 and 2 and Comparative Example.
【符号の説明】 11 プラズマ基板 12 電極 13 電極 14 隔壁 21 誘電体層 22 配向膜 31 CF基板 32 配向膜 33 壁 34 スペーサ 35 液晶層 41、42 偏光板DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Plasma substrate 12 Electrode 13 Electrode 14 Partition wall 21 Dielectric layer 22 Alignment film 31 CF substrate 32 Alignment film 33 Wall 34 Spacer 35 Liquid crystal layer 41, 42 Polarizer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H090 JA09 JB02 JB03 JD01 LA04 LA15 4G062 AA04 BB01 DA02 DB01 DC01 DD01 DE01 DF02 DF03 DF04 DF05 DF06 DF07 EA01 EB02 EB03 EB04 EB05 EB06 EC01 ED01 EE02 EE03 EE04 EE05 EE06 EE07 EF01 EG02 EG03 EG04 EG05 EG06 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN01 5C094 AA16 AA55 BA03 BA43 DA09 EA05 EB02 ED14 ED20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H090 JA09 JB02 JB03 JD01 LA04 LA15 4G062 AA04 BB01 DA02 DB01 DC01 DD01 DE01 DF02 DF03 DF04 DF05 DF06 DF07 EA01 EB02 EB03 EB04 EB05 EB06 EC01 ED01 EE04 EE03 EE03 EG04 EG05 EG06 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 KK03 NN05 KK07 JJ05 KK07 JJ05 KK EB02 ED14 ED20
Claims (26)
0以上2.32[brewster・mm]以下である
液晶表示装置用CF基板。1. The product of the thickness d CF and the photoelastic constant C CF is
A CF substrate for a liquid crystal display device having a value of 0 or more and 2.32 [brewster · mm] or less.
請求項1記載の液晶表示装置CF用基板。2. The substrate for a liquid crystal display device CF according to claim 1, wherein the material is glass or plastic.
上76.9wt%以下の成分割合で有する請求項2記載
の液晶表示装置用CF基板。3. The CF substrate for a liquid crystal display device according to claim 2, wherein said glass contains PbO at a component ratio of 0.1 wt% or more and 76.9 wt% or less.
上86.5wt%以下の成分割合で有する請求項2記載
の液晶表示装置用CF基板。4. The CF substrate for a liquid crystal display device according to claim 2, wherein said glass contains CaO in a component ratio of 0.1 wt% or more and 86.5 wt% or less.
以上51.9wt%以下の成分割合で有する請求項2記
載の液晶表示装置用CF基板。5. The glass according to claim 1, wherein the glass contains 0.1 wt% of Na 2 O.
The CF substrate for a liquid crystal display device according to claim 2, wherein the CF substrate has a component ratio of 51.9 wt% or less.
上63.5wt%以下の成分割合で有する請求項2記載
の液晶表示装置用CF基板。6. The CF substrate for a liquid crystal display device according to claim 2, wherein said glass contains BaO in a component ratio of 0.1 wt% or more and 63.5 wt% or less.
0以上2.32[brewster・mm]以下である
液晶表示装置用プラズマ基板。7. The product of the thickness d PL and the photoelastic constant C PL is:
A plasma substrate for a liquid crystal display device having a value of 0 or more and 2.32 [brewster · mm] or less.
請求項7記載の液晶表示装置用プラズマ基板。8. The plasma substrate for a liquid crystal display device according to claim 7, wherein the material is glass or plastic.
上76.9wt%以下の成分割合で有する請求項8記載
の液晶表示装置用プラズマ基板。9. The plasma substrate for a liquid crystal display device according to claim 8, wherein said glass contains PbO in a component ratio of 0.1 wt% or more and 76.9 wt% or less.
以上86.5wt%以下の成分割合で有する請求項8記
載の液晶表示装置用プラズマ基板。10. The glass contains 0.1% by weight of CaO.
The plasma substrate for a liquid crystal display device according to claim 8, wherein the plasma substrate has a component ratio of at least 86.5 wt% or less.
%以上51.9wt%以下の成分割合で有する請求項8
記載の液晶表示装置用プラズマ基板。11. The glass contains 0.1 wt% of Na 2 O.
9. The composition according to claim 8, wherein the component ratio is not less than 51.9% by weight.
A plasma substrate for a liquid crystal display device according to the above.
以上63.5wt%以下の成分割合で有する請求項8記
載の液晶表示装置用プラズマ基板。12. The glass according to claim 1, wherein the glass contains 0.1% by weight of BaO.
9. The plasma substrate for a liquid crystal display device according to claim 8, having a component ratio of at least 63.5 wt% or less.
以上2.32[brewster・mm]以下である液
晶表示装置用誘電体層基板。13. The product of the thickness d μ and the photoelastic constant C μ is 0
A dielectric layer substrate for a liquid crystal display device having a value of 2.32 [brewster · mm] or less.
る請求項13記載の液晶表示装置用誘電体層基板。14. The dielectric layer substrate for a liquid crystal display device according to claim 13, wherein the material is glass or plastic.
以上76.9wt%以下の成分割合で有する請求項14
記載の液晶表示装置用誘電体層基板。15. The glass according to claim 1, wherein PbO is 0.1 wt%.
15. It has a component ratio of at least 76.9 wt%.
The dielectric layer substrate for a liquid crystal display device according to the above.
以上86.5wt%以下の成分割合で有する請求項14
記載の液晶表示装置用誘電体層基板。16. The above glass contains 0.1 wt% of CaO.
15. It has a component ratio of at least 86.5 wt% or less.
The dielectric layer substrate for a liquid crystal display device according to the above.
%以上51.9wt%以下の成分割合で有する請求項1
4記載の液晶表示装置用誘電体層基板。17. The glass according to claim 1, wherein the glass contains 0.1 wt% of Na 2 O.
2. The composition according to claim 1, which has a component ratio of not less than 51.9% by weight and not more than 51.9% by weight.
5. The dielectric layer substrate for a liquid crystal display device according to 4.
以上63.5wt%以下の成分割合で有する請求項14
記載の液晶表示装置用誘電体層基板。18. The glass according to claim 1, wherein the glass contains 0.1 wt% of BaO.
15. It has a component ratio of 63.5 wt% or less.
The dielectric layer substrate for a liquid crystal display device according to the above.
積が、0以上2.32[brewster・mm]以下
である液晶表示装置用TFT基板。19. A TFT substrate for a liquid crystal display device, wherein a product of a thickness d TFT and a photoelastic constant C TFT is 0 or more and 2.32 [brewster · mm] or less.
る請求項19記載の液晶表示装置用TFT基板。20. The TFT substrate for a liquid crystal display device according to claim 19, wherein the material is glass or plastic.
以上76.9wt%以下の成分割合で有する請求項20
記載の液晶表示装置用TFT基板。21. The above-mentioned glass contains 0.1 wt% of PbO.
21. The composition having a component ratio of at least 76.9 wt% or less.
The TFT substrate for a liquid crystal display device according to the above.
以上86.5wt%以下の成分割合で有する請求項20
記載の液晶表示装置用TFT基板。22. The glass according to claim 1, wherein the glass contains 0.1% by weight of CaO.
21. The composition having a component ratio of at least 86.5 wt% or less.
The TFT substrate for a liquid crystal display device according to the above.
%以上51.9wt%以下の成分割合で有する請求項2
0記載の液晶表示装置用TFT基板。23. The glass according to claim 1, wherein Na 2 O is 0.1 wt.
3. The composition according to claim 2, which has a component ratio of not less than 51.9% by weight and not more than 51.9% by weight.
0. A TFT substrate for a liquid crystal display device according to 0.
以上63.5wt%以下の成分割合で有する請求項20
記載の液晶表示装置用TFT基板。24. The glass according to claim 1, wherein the glass contains 0.1% by weight of BaO.
21. It has a component ratio of 63.5 wt% or less.
The TFT substrate for a liquid crystal display device according to the above.
載のプラズマ基板と請求項13記載の誘電体層基板とを
構成要素とするプラズマアドレス方式の液晶表示装置。25. A plasma addressed liquid crystal display device comprising the CF substrate according to claim 1, the plasma substrate according to claim 7, and the dielectric layer substrate according to claim 13.
記載のTFT基板とを構成要素とするTFT液晶表示装
置。26. The CF substrate according to claim 1, wherein
A TFT liquid crystal display device comprising the TFT substrate described above as a component.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000068967A JP2001255517A (en) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | Substrate for liquid crystal display device and the liquid crystal display device |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004002062A (en) * | 2002-05-29 | 2004-01-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Glass substrate for flat panel display unit |
WO2013173117A1 (en) * | 2012-05-14 | 2013-11-21 | Apple Inc. | Displays with minimized light leakage |
-
2000
- 2000-03-13 JP JP2000068967A patent/JP2001255517A/en active Pending
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WO2013173117A1 (en) * | 2012-05-14 | 2013-11-21 | Apple Inc. | Displays with minimized light leakage |
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