JP2001253769A - 酸化物磁性材料、この酸化物磁性材料を使用したチップ部品及び酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法 - Google Patents
酸化物磁性材料、この酸化物磁性材料を使用したチップ部品及び酸化物磁性材料の製造方法とチップ部品の製造方法Info
- Publication number
- JP2001253769A JP2001253769A JP2000068199A JP2000068199A JP2001253769A JP 2001253769 A JP2001253769 A JP 2001253769A JP 2000068199 A JP2000068199 A JP 2000068199A JP 2000068199 A JP2000068199 A JP 2000068199A JP 2001253769 A JP2001253769 A JP 2001253769A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic material
- oxide magnetic
- less
- sintered body
- inductance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/34—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials non-metallic substances, e.g. ferrites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/26—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on ferrites
- C04B35/265—Compositions containing one or more ferrites of the group comprising manganese or zinc and one or more ferrites of the group comprising nickel, copper or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/26—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on ferrites
- C04B35/2666—Other ferrites containing nickel, copper or cobalt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0206—Manufacturing of magnetic cores by mechanical means
- H01F41/0246—Manufacturing of magnetic circuits by moulding or by pressing powder
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
- H01F41/041—Printed circuit coils
- H01F41/046—Printed circuit coils structurally combined with ferromagnetic material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49075—Electromagnet, transformer or inductor including permanent magnet or core
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49075—Electromagnet, transformer or inductor including permanent magnet or core
- Y10T29/49076—From comminuted material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Magnetic Ceramics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Compounds Of Iron (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】母材の主成分と反応しても電磁気特性の劣化が
最小であり、さらにインダクタンスの温度特性の劣化が
最小となる添加物を添加することにより、非常に低い焼
成温度で内部導体の安定性を図ることは勿論のこと、１
００ＭＨｚ以上の高周波帯域における特性が優れたＮｉ
−Ｃｕ−Ｚｎ系酸化物磁性材料を提供すること。 【解決手段】このため、本発明の酸化物磁性材料では、
モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯ
が１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％
及びＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）からなること
を特徴とする。
最小であり、さらにインダクタンスの温度特性の劣化が
最小となる添加物を添加することにより、非常に低い焼
成温度で内部導体の安定性を図ることは勿論のこと、１
００ＭＨｚ以上の高周波帯域における特性が優れたＮｉ
−Ｃｕ−Ｚｎ系酸化物磁性材料を提供すること。 【解決手段】このため、本発明の酸化物磁性材料では、
モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯ
が１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％
及びＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）からなること
を特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、チップインダクタ
ー、チップビーズのようなチップ部品、または、バルク
型インダクターのような電磁波の遮蔽部品等に使用され
る酸化物磁性材料とその製造方法、及びこの酸化物磁性
材料を使用したバルク型コイル部品や積層型コイル部品
とその製造方法に関する。より詳しくは、チップ部品の
内部導体に用いるＡｇの融点以下において焼成が可能で
あり、優れた高周波特性を有する酸化物磁性材料及びそ
れを用いたバルク型またはチップ型インダクターの製造
方法に関する。
ー、チップビーズのようなチップ部品、または、バルク
型インダクターのような電磁波の遮蔽部品等に使用され
る酸化物磁性材料とその製造方法、及びこの酸化物磁性
材料を使用したバルク型コイル部品や積層型コイル部品
とその製造方法に関する。より詳しくは、チップ部品の
内部導体に用いるＡｇの融点以下において焼成が可能で
あり、優れた高周波特性を有する酸化物磁性材料及びそ
れを用いたバルク型またはチップ型インダクターの製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日の電子・通信機器の著しい発展は電
子部品の小型化、薄膜化及び実装性の改良等が基礎とな
って新しい産業構造を構築しているが、このような産業
構造の発展は、以前には無視することのできた新しい問
題点、即ち環境および通信障害等を誘発することによっ
て、社会的問題を生じさせる両面性を持つようになっ
た。
子部品の小型化、薄膜化及び実装性の改良等が基礎とな
って新しい産業構造を構築しているが、このような産業
構造の発展は、以前には無視することのできた新しい問
題点、即ち環境および通信障害等を誘発することによっ
て、社会的問題を生じさせる両面性を持つようになっ
た。
【０００３】特に無線通信機器が一般に常用されること
により悪化した電磁気環境に関する各国の電磁気障害規
制が強化されることにより、例えば有害な電波を出さな
いようにした電磁波障害除去（ＥＭＩ／ＥＭＣ）素子に
対する開発が要求され、その部品の需要が急増すると共
に、磁気特性と温度特性等の機能の複雑化、高集積化及
び周波数帯域が広い等の高効率化へと発展している。
により悪化した電磁気環境に関する各国の電磁気障害規
制が強化されることにより、例えば有害な電波を出さな
いようにした電磁波障害除去（ＥＭＩ／ＥＭＣ）素子に
対する開発が要求され、その部品の需要が急増すると共
に、磁気特性と温度特性等の機能の複雑化、高集積化及
び周波数帯域が広い等の高効率化へと発展している。
【０００４】その際に、電磁波障害除去素子用または電
力用トランスのような電子部品などの素材として使用さ
れる酸化物磁性材料の適用範囲も特性別、例えば周波数
帯域別に細分化され、その製造方法も従来の粉末冶金学
的な製造方法から積層型部品製造方法の研究が活発に進
められ、実用化されており、今日、セラミック電子部品
製造分野に小型チップ部品の製造技術として定着するよ
うになった。
力用トランスのような電子部品などの素材として使用さ
れる酸化物磁性材料の適用範囲も特性別、例えば周波数
帯域別に細分化され、その製造方法も従来の粉末冶金学
的な製造方法から積層型部品製造方法の研究が活発に進
められ、実用化されており、今日、セラミック電子部品
製造分野に小型チップ部品の製造技術として定着するよ
うになった。
【０００５】一般的にチップインダクター、チップＬＣ
フィルター及びチップトランス等のチップ部品に用いら
れる酸化物磁性材料は、高いインダクタンスを必要とし
ており、そのような酸化物磁性材料では、Ｍｎ−Ｚｎフ
ェライト、Ｎｉフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト又は
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライト等をあげることができる。
フィルター及びチップトランス等のチップ部品に用いら
れる酸化物磁性材料は、高いインダクタンスを必要とし
ており、そのような酸化物磁性材料では、Ｍｎ−Ｚｎフ
ェライト、Ｎｉフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト又は
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェライト等をあげることができる。
【０００６】Ｍｎ−Ｚｎフェライトの場合、透磁率が高
く電力損失が非常に少ないため、電源用トランスコア、
電力ライン用フィルター等の磁芯材料に用いられるが、
高周波特性が低いために１ＭＨｚ以上の周波数帯域では
適用するのが難しい短所がある。現在このような高周波
帯域において用いられる磁芯材料としては、Ｎｉフェラ
イト、Ｎｉ−ＺｎフェライトまたはＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフ
ェライト等が適用されている。
く電力損失が非常に少ないため、電源用トランスコア、
電力ライン用フィルター等の磁芯材料に用いられるが、
高周波特性が低いために１ＭＨｚ以上の周波数帯域では
適用するのが難しい短所がある。現在このような高周波
帯域において用いられる磁芯材料としては、Ｎｉフェラ
イト、Ｎｉ−ＺｎフェライトまたはＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフ
ェライト等が適用されている。
【０００７】一方、上記酸化物磁性材料を製造する従来
の方法は、焼成の工程が約１０００〜１４００℃で１〜
５時間程度で行われる。しかし積層型チップインダクタ
ー等の電子部品の内部導体は普通Ａｇ電極を用いるが、
上記のような焼成温度は内部導体のＡｇの溶融点（９６
０℃）を超えており、非常に高い温度条件で製造した部
品はＡｇが溶解するために高周波において損失が非常に
大きいという短所を持っているために、要求されるイン
ダクタンスを実現するのが非常に難しいという問題点が
ある。
の方法は、焼成の工程が約１０００〜１４００℃で１〜
５時間程度で行われる。しかし積層型チップインダクタ
ー等の電子部品の内部導体は普通Ａｇ電極を用いるが、
上記のような焼成温度は内部導体のＡｇの溶融点（９６
０℃）を超えており、非常に高い温度条件で製造した部
品はＡｇが溶解するために高周波において損失が非常に
大きいという短所を持っているために、要求されるイン
ダクタンスを実現するのが非常に難しいという問題点が
ある。
【０００８】そこで焼成温度を下げて高周波における損
失の少ないチップを得るために用いる添加物として、Ｃ
ｏＯが一般的に常用されている（特開平９−６３８２６
号公報）。しかしＣｏＯはその添加量に比例してインダ
クタンスの温度特性を劣化させ、製品の信頼性に影響を
及ぼすという問題があった。
失の少ないチップを得るために用いる添加物として、Ｃ
ｏＯが一般的に常用されている（特開平９−６３８２６
号公報）。しかしＣｏＯはその添加量に比例してインダ
クタンスの温度特性を劣化させ、製品の信頼性に影響を
及ぼすという問題があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
の問題点を解決するために、母材の主成分と反応しても
電磁気特性の劣化が最小であり、さらにインダクタンス
の温度特性の劣化が最小となる添加物を添加することに
より、非常に低い焼成温度で内部導体の安定性を図るこ
とは勿論のこと、１００ＭＨｚ以上の高周波帯域におけ
る特性が優れたＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系酸化物磁性材料、こ
の酸化物磁性材料を使用したチップ部品及び酸化物磁性
材料の製造方法とチップ部品の製造方法を提供すること
を目的とする。
の問題点を解決するために、母材の主成分と反応しても
電磁気特性の劣化が最小であり、さらにインダクタンス
の温度特性の劣化が最小となる添加物を添加することに
より、非常に低い焼成温度で内部導体の安定性を図るこ
とは勿論のこと、１００ＭＨｚ以上の高周波帯域におけ
る特性が優れたＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系酸化物磁性材料、こ
の酸化物磁性材料を使用したチップ部品及び酸化物磁性
材料の製造方法とチップ部品の製造方法を提供すること
を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明では下記（１）〜（９）の酸化物磁性材料、この
酸化物磁性材料を使用したチップ部品及び酸化物磁性材
料の製造方法とチップ部品の製造方法を提供する。
本発明では下記（１）〜（９）の酸化物磁性材料、この
酸化物磁性材料を使用したチップ部品及び酸化物磁性材
料の製造方法とチップ部品の製造方法を提供する。
【００１１】（１）モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜
５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３
８．０〜６４．０％及びＺｎＯが０〜１０．０％（０を
含む）からなる酸化物磁性材料を特徴とする。
５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３
８．０〜６４．０％及びＺｎＯが０〜１０．０％（０を
含む）からなる酸化物磁性材料を特徴とする。
【００１２】（２）前記（１）に記載された酸化物磁性
材料において、Ｃａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）
含有することを特徴とする。
材料において、Ｃａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）
含有することを特徴とする。
【００１３】（３）前記（２）に記載された酸化物磁性
材料において、ＣｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含ま
ず）含有することを特徴とする。
材料において、ＣｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含ま
ず）含有することを特徴とする。
【００１４】（４）酸化物磁性材料の製造方法におい
て、モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、Ｃ
ｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．
０％及びＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）からなる
酸化物磁性材料に、Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％
以下（０は含まず）含有させ焼成することを特徴とす
る。
て、モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、Ｃ
ｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．
０％及びＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）からなる
酸化物磁性材料に、Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％
以下（０は含まず）含有させ焼成することを特徴とす
る。
【００１５】（５）前記（４）に記載された酸化物磁性
材料の製造方法において、ＣｏＯを０．７ｗｔ％以下含
有させ焼成することを特徴とする。
材料の製造方法において、ＣｏＯを０．７ｗｔ％以下含
有させ焼成することを特徴とする。
【００１６】（６）チップ部品において、モル％で、Ｆ
ｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３
５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％、ＺｎＯが０
〜１０．０％（０を含む）からなる酸化物磁性材料又は
これにＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）含有す
る、又はＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）及びＣ
ｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含まず）含有する酸化物
磁性材料の焼結体を用い、バルク型コイル部品を構成し
たことを特徴とする。
ｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３
５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％、ＺｎＯが０
〜１０．０％（０を含む）からなる酸化物磁性材料又は
これにＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）含有す
る、又はＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）及びＣ
ｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含まず）含有する酸化物
磁性材料の焼結体を用い、バルク型コイル部品を構成し
たことを特徴とする。
【００１７】（７）チップ部品において、モル％で、Ｆ
ｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３
５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％、ＺｎＯが０
〜１０．０％（０を含む）からなる酸化物磁性材料又は
これにＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）含有す
る、又はＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）及びＣ
ｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含まず）含有する酸化物
磁性材料の焼結体を用い、かつ焼結体内に導電体層を有
して積層型コイル部品を構成したことを特徴とする。
ｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３
５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％、ＺｎＯが０
〜１０．０％（０を含む）からなる酸化物磁性材料又は
これにＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）含有す
る、又はＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）及びＣ
ｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含まず）含有する酸化物
磁性材料の焼結体を用い、かつ焼結体内に導電体層を有
して積層型コイル部品を構成したことを特徴とする。
【００１８】（８）前記（７）に記載されたチップ部品
において、内部導体がＡｇまたはＡｇとＰｄの合金を主
成分とした導体で構成されたことを特徴とする。
において、内部導体がＡｇまたはＡｇとＰｄの合金を主
成分とした導体で構成されたことを特徴とする。
【００１９】（９）チップ部品の製造方法において、モ
ル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが
１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％、
ＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）からなる酸化物磁
性材料又はこれにＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含ま
ず）含有する、又はＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含ま
ず）及びＣｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含まず）含有
する酸化物磁性材料の焼結体を用い、かつ焼結体内に導
電体層又は導電体としてＡｇ又はＡｇとＰｄの合金を主
成分とした導体を用いたチップ部品の製造方法におい
て、粉砕された酸化物磁性材料と内部導体とを８８０℃
〜９２０℃で焼成することを特徴とする。これにより下
記の作用効果を奏することができる。
ル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが
１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％、
ＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）からなる酸化物磁
性材料又はこれにＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含ま
ず）含有する、又はＣａを０．３ｗｔ％以下（０は含ま
ず）及びＣｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含まず）含有
する酸化物磁性材料の焼結体を用い、かつ焼結体内に導
電体層又は導電体としてＡｇ又はＡｇとＰｄの合金を主
成分とした導体を用いたチップ部品の製造方法におい
て、粉砕された酸化物磁性材料と内部導体とを８８０℃
〜９２０℃で焼成することを特徴とする。これにより下
記の作用効果を奏することができる。
【００２０】（１）使用する高周波帯域１００ＭＨｚ以
上において、初透磁率の小さい、焼結体密度が大きく、
渦電流損失の少ない、低温焼成可能な酸化物磁性体を得
ることができる。
上において、初透磁率の小さい、焼結体密度が大きく、
渦電流損失の少ない、低温焼成可能な酸化物磁性体を得
ることができる。
【００２１】（２）Ｃａを０．３ｗｔ％以下添加させた
ことにより、初透磁率の低い、焼結体密度の大きいイン
ダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を得ること
ができる。
ことにより、初透磁率の低い、焼結体密度の大きいイン
ダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を得ること
ができる。
【００２２】（３）Ｃａを０．３ｗｔ％以下添加させ、
さらにＣｏＯを０．７ｗｔ％以下添加させることによ
り、初透磁率の小さい、焼結体密度の大きな、インダク
タンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を得ることがで
きる。
さらにＣｏＯを０．７ｗｔ％以下添加させることによ
り、初透磁率の小さい、焼結体密度の大きな、インダク
タンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を得ることがで
きる。
【００２３】（４）Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％
以下添加させることにより、初透磁率の低い、焼結体密
度の大きい、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物
磁性体を得ることができる。
以下添加させることにより、初透磁率の低い、焼結体密
度の大きい、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物
磁性体を得ることができる。
【００２４】（５）Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 の他に更にＣｏ
Ｏを０．７ｗｔ％以下添加させたので、更に初透磁率の
低い、焼結体密度の大きい、インダクタンスの温度特性
の良好な酸化物磁性体を得ることができる。
Ｏを０．７ｗｔ％以下添加させたので、更に初透磁率の
低い、焼結体密度の大きい、インダクタンスの温度特性
の良好な酸化物磁性体を得ることができる。
【００２５】（６）初透磁率の低い、焼結体密度の大き
い、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体に
よりチップ部品を構成したので、これらの各特性の良好
なすぐれたチップ部品を提供することができる。
い、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体に
よりチップ部品を構成したので、これらの各特性の良好
なすぐれたチップ部品を提供することができる。
【００２６】（７）初透磁率の低い、焼結体密度の大き
い、インダクタンスの温度特性の良好な焼成温度の低い
酸化物磁性体により積層型コイル部品を構成したので、
これらの各特性の良好なインダクタンスの品質係数Ｑの
すぐれた積層型コイル部品を提供することができる。
い、インダクタンスの温度特性の良好な焼成温度の低い
酸化物磁性体により積層型コイル部品を構成したので、
これらの各特性の良好なインダクタンスの品質係数Ｑの
すぐれた積層型コイル部品を提供することができる。
【００２７】（８）初透磁率の低い、焼結体密度の大き
い、インダクタンスの温度特性の良好な、焼成温度の低
い酸化物磁性体を使用し、内部導体がＡｇまたはＡｇ・
Ｐｄ合金を主成分とした導体でチップ部品を構成したの
で、これらの各特性の良好なインダクタンスの品質係数
Ｑのすぐれたチップ部品を提供することができる。
い、インダクタンスの温度特性の良好な、焼成温度の低
い酸化物磁性体を使用し、内部導体がＡｇまたはＡｇ・
Ｐｄ合金を主成分とした導体でチップ部品を構成したの
で、これらの各特性の良好なインダクタンスの品質係数
Ｑのすぐれたチップ部品を提供することができる。
【００２８】（９）初透磁率の低い、焼結体密度の大き
い、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を
使用し、ＡｇまたはＡｇ・Ｐｄ合金を主成分とした導体
を内部導体とし、８８０℃〜９２０℃の温度で焼成して
チップ部品を製造するので、これらの各特性の良好な、
しかもインダクタンスの品質係数Ｑのすぐれたチップ部
品を製造することができる。
い、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を
使用し、ＡｇまたはＡｇ・Ｐｄ合金を主成分とした導体
を内部導体とし、８８０℃〜９２０℃の温度で焼成して
チップ部品を製造するので、これらの各特性の良好な、
しかもインダクタンスの品質係数Ｑのすぐれたチップ部
品を製造することができる。
【００２９】
【発明の実施の形態】次に本発明の一実施の形態を説明
する。磁性材料は一般的にその組成により周波数帯域に
よる特性が異なっている。本発明においては、使用する
高周波帯域１００ＭＨｚ以上において、適合するＮｉ−
Ｃｕ−Ｚｎフェライトは、ＺｎＯの成分が少なく、相対
的にＮｉＯ成分が多い軟磁性フェライトを使用する。
する。磁性材料は一般的にその組成により周波数帯域に
よる特性が異なっている。本発明においては、使用する
高周波帯域１００ＭＨｚ以上において、適合するＮｉ−
Ｃｕ−Ｚｎフェライトは、ＺｎＯの成分が少なく、相対
的にＮｉＯ成分が多い軟磁性フェライトを使用する。
【００３０】本発明の一実施の形態では、Ｎｉ−Ｃｕ−
Ｚｎ系酸化物磁性材料において、モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3
が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０
％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％及びＺｎＯが０〜１
０．０％の酸化物磁性材料を提供するものである。
Ｚｎ系酸化物磁性材料において、モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3
が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０
％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％及びＺｎＯが０〜１
０．０％の酸化物磁性材料を提供するものである。
【００３１】また透磁率や焼結体密度、インダクタンス
の温度特性等の特性に影響しない程度であれば、不純物
としてＳｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｂ
ｉ、Ｐｂ、Ｗ、Ｖ、Ｍｏ等を含有してもよい。
の温度特性等の特性に影響しない程度であれば、不純物
としてＳｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｂ
ｉ、Ｐｂ、Ｗ、Ｖ、Ｍｏ等を含有してもよい。
【００３２】これにより、初透磁率が２５以下で、焼結
体密度が、４．７５ｇ／ｃｍ3 以上で、インダクタンス
の温度特性が±２０％以内の特性を有する酸化物磁性材
料が得られる。
体密度が、４．７５ｇ／ｃｍ3 以上で、インダクタンス
の温度特性が±２０％以内の特性を有する酸化物磁性材
料が得られる。
【００３３】主相をなすＦｅ2 Ｏ3 は３５．０モル％よ
り少ないと焼結密度が４．７５ｇ／ｃｍ3 以下となり、
また５１．０モル％を超えると電気抵抗率が低下して渦
電流損失が増加するため磁気損失の増加につながる。
り少ないと焼結密度が４．７５ｇ／ｃｍ3 以下となり、
また５１．０モル％を超えると電気抵抗率が低下して渦
電流損失が増加するため磁気損失の増加につながる。
【００３４】ＣｕＯは低温焼結を促進させる効果があ
り、その意味では増量するとよいが、３５．０モル％を
超えると結晶粒界に異相として折出し、粒界ストレスが
発生してインダクタンスの温度特性が劣化する。またＣ
ｕＯが１モル％以下では焼結体密度が劣化する。
り、その意味では増量するとよいが、３５．０モル％を
超えると結晶粒界に異相として折出し、粒界ストレスが
発生してインダクタンスの温度特性が劣化する。またＣ
ｕＯが１モル％以下では焼結体密度が劣化する。
【００３５】ＺｎＯは初透磁率に影響する。周波数特性
は初透磁率に依存し、求められる周波数帯域が高くなる
ほど初透磁率は低く抑えることが必要となる。初透磁率
は好ましくは２５以下、より好ましくは１８以下、さら
に好ましくは１３以下である。初透磁率はＺｎＯの含有
量に比例して高くなるため、１００ＭＨｚ〜５００ＭＨ
ｚ以上の帯域にて使用される酸化物磁性材料において
は、ＺｎＯは１０モル％以下である。
は初透磁率に依存し、求められる周波数帯域が高くなる
ほど初透磁率は低く抑えることが必要となる。初透磁率
は好ましくは２５以下、より好ましくは１８以下、さら
に好ましくは１３以下である。初透磁率はＺｎＯの含有
量に比例して高くなるため、１００ＭＨｚ〜５００ＭＨ
ｚ以上の帯域にて使用される酸化物磁性材料において
は、ＺｎＯは１０モル％以下である。
【００３６】したがって相対的に残部を置換するＮｉＯ
を３８．０〜６４．０モル％にする必要がある。
を３８．０〜６４．０モル％にする必要がある。
【００３７】更に本発明は、前記Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系酸
化物磁性材料において、すなわち、モル％でＦｅ2 Ｏ3
が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０
％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％及びＺｎＯが０〜１
０．０％からなる酸化物磁性材料において、Ｃａを０．
３ｗｔ％以下含有させるか、Ｃａを０．３ｗｔ％以下及
びＣｏＯを０．７ｗｔ％以下含有させるか、Ｃａ3 （Ｐ
Ｏ4 ）2 を０．５ｗｔ％以下添加して焼成するか、Ｃａ
3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％以下及びＣｏＯを０．７
ｗｔ％以下添加して焼成するものである。
化物磁性材料において、すなわち、モル％でＦｅ2 Ｏ3
が３５．０〜５１．０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０
％、ＮｉＯが３８．０〜６４．０％及びＺｎＯが０〜１
０．０％からなる酸化物磁性材料において、Ｃａを０．
３ｗｔ％以下含有させるか、Ｃａを０．３ｗｔ％以下及
びＣｏＯを０．７ｗｔ％以下含有させるか、Ｃａ3 （Ｐ
Ｏ4 ）2 を０．５ｗｔ％以下添加して焼成するか、Ｃａ
3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％以下及びＣｏＯを０．７
ｗｔ％以下添加して焼成するものである。
【００３８】本発明の実施例を説明する。Ｎｉ−Ｃｕ−
Ｚｎフェライトすなわち酸化物磁性材料の主成分とし
て、ＮｉＯが４５．５モル％、ＣｕＯが６．０モル％、
ＺｎＯが０モル％、Ｆｅ2 Ｏ3 が４８．５モル％からな
る組成のものを、媒体ビースとして直径３ｍｍの部分安
定化ジルコニア（Ｐａｒｔｉａｌｌｙ Ｓｔａｂｉｌｉ
ｚｅｄ Ｚｉｒｃｏｎｉａ：ＰＳＺ）を使用して、湿式
内部循環方式のメディア攪拌型ミルにより湿式で混合
し、乾燥した後に７８０°にて仮焼成した。
Ｚｎフェライトすなわち酸化物磁性材料の主成分とし
て、ＮｉＯが４５．５モル％、ＣｕＯが６．０モル％、
ＺｎＯが０モル％、Ｆｅ2 Ｏ3 が４８．５モル％からな
る組成のものを、媒体ビースとして直径３ｍｍの部分安
定化ジルコニア（Ｐａｒｔｉａｌｌｙ Ｓｔａｂｉｌｉ
ｚｅｄ Ｚｉｒｃｏｎｉａ：ＰＳＺ）を使用して、湿式
内部循環方式のメディア攪拌型ミルにより湿式で混合
し、乾燥した後に７８０°にて仮焼成した。
【００３９】次にこの仮焼成物を媒体ビースであるＰＳ
Ｚを用い、再び湿式内部循環方式のメディア攪拌型ミル
により湿式で仮焼成物の濃度を３３％とし微粉砕した。
この際、上記の仮焼した粉末にＣｏＯ、Ｃａ3 （Ｐ
Ｏ4 ）2 、Ｃａ、Ｐを表１に示す如く、選択、添加した
ものを粉砕した。なお表１において、ＣｏＯ、Ｃａ、Ｐ
はＣｏ3 Ｏ4 、ＣａＣＯ3 、Ｐ2 Ｏ5 を添加したものを
示す。
Ｚを用い、再び湿式内部循環方式のメディア攪拌型ミル
により湿式で仮焼成物の濃度を３３％とし微粉砕した。
この際、上記の仮焼した粉末にＣｏＯ、Ｃａ3 （Ｐ
Ｏ4 ）2 、Ｃａ、Ｐを表１に示す如く、選択、添加した
ものを粉砕した。なお表１において、ＣｏＯ、Ｃａ、Ｐ
はＣｏ3 Ｏ4 、ＣａＣＯ3 、Ｐ2 Ｏ5 を添加したものを
示す。
【００４０】材料の平均粒径が０．５μｍ、すなわち比
表面積が８ｍ2 ／ｇとなったところで乾燥し、最終粉末
を得た。
表面積が８ｍ2 ／ｇとなったところで乾燥し、最終粉末
を得た。
【００４１】この乾燥粉末を、ふるいを通して均一な粒
子として取り出した後に、これにバインダーとしてＰＶ
Ａ１２４の３％水溶液を１０ｗｔ％加えて造粒し、後述
の測定条件により所定の形状に成形し、得られた成形体
を空気中で９１０℃で２時間焼成して作成した。
子として取り出した後に、これにバインダーとしてＰＶ
Ａ１２４の３％水溶液を１０ｗｔ％加えて造粒し、後述
の測定条件により所定の形状に成形し、得られた成形体
を空気中で９１０℃で２時間焼成して作成した。
【００４２】
【表１】
【００４３】表１のサンプル１は、前記仮焼し、微粉砕
した主成分に、添加物を加えずに、前記と同様に造粒、
成形して、空気中で９１０℃で２時間焼成したものであ
る。
した主成分に、添加物を加えずに、前記と同様に造粒、
成形して、空気中で９１０℃で２時間焼成したものであ
る。
【００４４】サンプル２〜サンプル４は、前記仮焼し、
微粉砕した主成分に、添加物としてＣｏ3 Ｏ4 をＣｏＯ
換算で表１に示す添加量だけ加えて、前記と同様に造
粒、成形、焼成したものである。
微粉砕した主成分に、添加物としてＣｏ3 Ｏ4 をＣｏＯ
換算で表１に示す添加量だけ加えて、前記と同様に造
粒、成形、焼成したものである。
【００４５】サンプル５〜サンプル１０は、前記仮焼
し、微粉砕した主成分に添加物としてＣａＣＯ3 をＣａ
換算で表１に示す添加量だけ加えて、前記と同様に造
粒、成形、焼成したものである。
し、微粉砕した主成分に添加物としてＣａＣＯ3 をＣａ
換算で表１に示す添加量だけ加えて、前記と同様に造
粒、成形、焼成したものである。
【００４６】サンプル１１〜サンプル１３は、前記仮焼
し、微粉砕した主成分に添加物としてＰ2 Ｏ5 をＰ換算
で表１に示す量の添加量だけ加えて、前記と同様に造
粒、成形、焼成したものである。
し、微粉砕した主成分に添加物としてＰ2 Ｏ5 をＰ換算
で表１に示す量の添加量だけ加えて、前記と同様に造
粒、成形、焼成したものである。
【００４７】サンプル１４〜１９は、前記仮焼し、微粉
砕した主成分に添加物としてＣａ3（ＰＯ4 ）2 を表１
に示す添加量だけ加えて、前記と同様に造粒、成形、焼
成したものである。なお、例えばサンプル１８に示す如
く、Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％添加したとき、
焼成後は酸化物磁性材料中にＣａが０．２ｗｔ％、Ｐが
０．１ｗｔ％存在する。
砕した主成分に添加物としてＣａ3（ＰＯ4 ）2 を表１
に示す添加量だけ加えて、前記と同様に造粒、成形、焼
成したものである。なお、例えばサンプル１８に示す如
く、Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％添加したとき、
焼成後は酸化物磁性材料中にＣａが０．２ｗｔ％、Ｐが
０．１ｗｔ％存在する。
【００４８】サンプル２０、２１は、前記仮焼し、微粉
砕した主成分に添加物としてＣｏ3Ｏ4 とＣａＣＯ3 を
ＣｏＯ及びＣａ換算で表１に示す添加量だけ加えて、前
記と同様に造粒、成形、焼成したものである。
砕した主成分に添加物としてＣｏ3Ｏ4 とＣａＣＯ3 を
ＣｏＯ及びＣａ換算で表１に示す添加量だけ加えて、前
記と同様に造粒、成形、焼成したものである。
【００４９】サンプル２２〜２６は、前記仮焼し、微粉
砕した主成分に添加物としてＣｏ3Ｏ4 とＣａ3 （ＰＯ
4 ）2 を、Ｃｏ3 Ｏ4 についてはＣｏＯ換算で表１に示
す添加量だけＣａ3 （ＰＯ4 ）2 については表１に示す
添加量だけ複合して加えて、前記と同様に造粒、成形、
焼成したものである。
砕した主成分に添加物としてＣｏ3Ｏ4 とＣａ3 （ＰＯ
4 ）2 を、Ｃｏ3 Ｏ4 についてはＣｏＯ換算で表１に示
す添加量だけＣａ3 （ＰＯ4 ）2 については表１に示す
添加量だけ複合して加えて、前記と同様に造粒、成形、
焼成したものである。
【００５０】磁性材料としての評価は、表１に示す初透
磁率と、見かけ密度と、インダクタンスの温度特性を評
価することにより行った。
磁率と、見かけ密度と、インダクタンスの温度特性を評
価することにより行った。
【００５１】初透磁率とインダクタンスの温度特性の測
定は、外径１８ｍｍ、内径１０ｍｍ、高さ３．１ｍｍの
トロイダル型となるように成形し、空気中で前記所定温
度にて焼成し、ワイヤーを２０回巻いて実際にコイルを
作製し、インピーダンスアナライザ（ヒューレットパッ
カード社製４２９１Ａ）により、磁界を０．４Ａ／ｍ印
加し、１００ＫＨｚのインダクタンスを測定し、形状か
ら得られた定数から算出して初透磁率を求めた。
定は、外径１８ｍｍ、内径１０ｍｍ、高さ３．１ｍｍの
トロイダル型となるように成形し、空気中で前記所定温
度にて焼成し、ワイヤーを２０回巻いて実際にコイルを
作製し、インピーダンスアナライザ（ヒューレットパッ
カード社製４２９１Ａ）により、磁界を０．４Ａ／ｍ印
加し、１００ＫＨｚのインダクタンスを測定し、形状か
ら得られた定数から算出して初透磁率を求めた。
【００５２】ここで初透磁率は焼結体の高周波特性をみ
るためのものである。そして初透磁率が低い程ピーク周
波数は高周波側へシフトする。本発明の条件を満たすと
ころとなる周波数帯域での特性を得られる初透磁率は好
ましくは２５以下（１００ＭＨｚ帯）、より好ましくは
１８以下（３００ＭＨｚ帯）、さらに好ましくは１３以
下（５００ＭＨｚ〜）である。
るためのものである。そして初透磁率が低い程ピーク周
波数は高周波側へシフトする。本発明の条件を満たすと
ころとなる周波数帯域での特性を得られる初透磁率は好
ましくは２５以下（１００ＭＨｚ帯）、より好ましくは
１８以下（３００ＭＨｚ帯）、さらに好ましくは１３以
下（５００ＭＨｚ〜）である。
【００５３】インダクタンスの温度特性は、焼結体の特
性測定時に、２０℃でのインダクタンス値Ｌを基準に、
−２０と＋８０℃とに温度を変化させ、得られた各温度
での基準インダクタンス値Ｌとの変化率（ΔＬ／Ｌ）よ
り求めた、インダクタンスの温度特性はそのまま信頼性
へ関わるため、可能な限り変化率を抑える必要がある。
信頼性を確保できるインダクタンスの温度特性は好まし
くは±２０％以内、より好ましくは±１５％以内であ
る。
性測定時に、２０℃でのインダクタンス値Ｌを基準に、
−２０と＋８０℃とに温度を変化させ、得られた各温度
での基準インダクタンス値Ｌとの変化率（ΔＬ／Ｌ）よ
り求めた、インダクタンスの温度特性はそのまま信頼性
へ関わるため、可能な限り変化率を抑える必要がある。
信頼性を確保できるインダクタンスの温度特性は好まし
くは±２０％以内、より好ましくは±１５％以内であ
る。
【００５４】見かけ密度は焼結体の寸法から体積を求
め、その質量をこの体積で除算して求めた。ここで見か
け密度は焼結体の焼結性の良し悪しを見るためのもので
ある。見かけ密度が低いことは焼結体内部の空孔が多い
ことを示すものであり、素子化した場合において、高い
温湿度での使用により、この空孔の存在が原因となって
ショート不良等の信頼性に影響を及ぼしたり、物理的強
度が脆弱となるという問題が生じる。このような問題が
生じない見かけ密度は、一般にＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェラ
イトの理論密度５．２４ｇ／ｃｍ3 の９０％以上となる
４．７５ｇ／ｃｍ 3 以上である。
め、その質量をこの体積で除算して求めた。ここで見か
け密度は焼結体の焼結性の良し悪しを見るためのもので
ある。見かけ密度が低いことは焼結体内部の空孔が多い
ことを示すものであり、素子化した場合において、高い
温湿度での使用により、この空孔の存在が原因となって
ショート不良等の信頼性に影響を及ぼしたり、物理的強
度が脆弱となるという問題が生じる。このような問題が
生じない見かけ密度は、一般にＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎフェラ
イトの理論密度５．２４ｇ／ｃｍ3 の９０％以上となる
４．７５ｇ／ｃｍ 3 以上である。
【００５５】以上より下記のことが明らかである。
【００５６】サンプル１、すなわち本発明の基本組成の
ものは、前記の如く、初透磁率が２５以下と小さく、焼
結体密度が４．７５ｇ／ｃｍ3 以上の大きな値であっ
て、しかもインダクタンスの温度特性が±２０％以下の
特性を有するものである。
ものは、前記の如く、初透磁率が２５以下と小さく、焼
結体密度が４．７５ｇ／ｃｍ3 以上の大きな値であっ
て、しかもインダクタンスの温度特性が±２０％以下の
特性を有するものである。
【００５７】サンプル２〜４に示す如く、基本組成にＣ
ｏＯを単体で添加してもインダクタンスの温度特性が大
きく、本発明の範囲外となる。
ｏＯを単体で添加してもインダクタンスの温度特性が大
きく、本発明の範囲外となる。
【００５８】サンプル５〜９に示す如く、Ｃａが０．３
ｗｔ％以下の（０を含まず）の場合、初透磁率、焼結体
密度、インダクタンスの温度特性等は前記所定の値を満
たすものとなるが、サンプル１０に示す如く、Ｃａが
０．３ｗｔ％を超えると焼結体密度が小さくなり、所定
の値を満たさないものとなる。
ｗｔ％以下の（０を含まず）の場合、初透磁率、焼結体
密度、インダクタンスの温度特性等は前記所定の値を満
たすものとなるが、サンプル１０に示す如く、Ｃａが
０．３ｗｔ％を超えると焼結体密度が小さくなり、所定
の値を満たさないものとなる。
【００５９】サンプル１１〜１３に示す如く、Ｐを単体
で添加しても焼結体密度が小さく、所定の値を満たさな
い。
で添加しても焼結体密度が小さく、所定の値を満たさな
い。
【００６０】サンプル１４〜１８に示す如く、Ｃａ
3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％以下（０を含まず）添加
させ焼成する場合、初透磁率、焼結体密度、インダクタ
ンスの温度特性等は所定の値を満たすものとなるが、サ
ンプル１９に示す如く、Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 の添加量が
０．５ｗｔ％を超えると焼結体密度が小さく所定の値を
満たさない。
3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％以下（０を含まず）添加
させ焼成する場合、初透磁率、焼結体密度、インダクタ
ンスの温度特性等は所定の値を満たすものとなるが、サ
ンプル１９に示す如く、Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 の添加量が
０．５ｗｔ％を超えると焼結体密度が小さく所定の値を
満たさない。
【００６１】サンプル２０、２１に示す如く、Ｃａを
０．３ｗｔ％以下含有させたものにＣｏＯを０．７ｗｔ
％以下含有させることにより初透磁率の小さい、焼結体
密度の大きな、インダクタンスの温度特性の良好なもの
を得る。
０．３ｗｔ％以下含有させたものにＣｏＯを０．７ｗｔ
％以下含有させることにより初透磁率の小さい、焼結体
密度の大きな、インダクタンスの温度特性の良好なもの
を得る。
【００６２】サンプル２２〜２５に示す如く、Ｃａ
3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％以下添加しているときで
ＣｏＯを０．７ｗｔ％以下含有させる場合、初透磁率、
焼結体密度、インダクタンスの温度特性等は所定の値を
満たすものとなるが、サンプル２６に示す如く、ＣｏＯ
が０．７ｗｔ％を超えると焼結体密度が所定の値より小
さくなり、またインダクタンスの温度特性が大きくなっ
て所定の値を超えるものとなり、所定の値を満たすもの
とはならない。
3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％以下添加しているときで
ＣｏＯを０．７ｗｔ％以下含有させる場合、初透磁率、
焼結体密度、インダクタンスの温度特性等は所定の値を
満たすものとなるが、サンプル２６に示す如く、ＣｏＯ
が０．７ｗｔ％を超えると焼結体密度が所定の値より小
さくなり、またインダクタンスの温度特性が大きくなっ
て所定の値を超えるものとなり、所定の値を満たすもの
とはならない。
【００６３】なお本発明によるバルク型コイル用のコア
は、前記の如く、仮焼成し、湿式粉砕した酸化物磁性材
料にバインダーを加え、造粒した後に所定の形成に成
形、加工し、空気中で９００〜１３００℃程度で焼成し
て作る。なおこのコアは、焼成後に加工してもよい。そ
してこのコアに、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｐ
ｔ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ａｌ、Ｃｏまたはこれらの合金
からなるワイヤを巻いて作成する。
は、前記の如く、仮焼成し、湿式粉砕した酸化物磁性材
料にバインダーを加え、造粒した後に所定の形成に成
形、加工し、空気中で９００〜１３００℃程度で焼成し
て作る。なおこのコアは、焼成後に加工してもよい。そ
してこのコアに、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｐ
ｔ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ａｌ、Ｃｏまたはこれらの合金
からなるワイヤを巻いて作成する。
【００６４】一方、積層型コイルは、通常の手法であ
る、酸化物磁性材料からなる磁性体層ペーストと内部導
電体層とを、印刷法やドクターブレード法の如き厚膜技
術により積層し一体化した後、焼成し、得られた焼結体
表面に外部電極用ペーストを印刷し、焼き付けることに
より製造される。内部導電体用ペーストは、通常、導電
性素子とバインダーと溶剤とを含有する。導電性素子の
材質は、インダクタの品質係数Ｑが向上するという理由
から、ＡｇまたはＡｇ・Ｐｄ合金が好適である。焼成条
件や焼成雰囲気は磁性体や導電性素子の材質等に応じて
適宜決定すればよいが、焼成温度は好ましくは８００〜
９５０℃、より好ましくは８８０〜９２０℃程度であ
る。焼成温度が８８０℃未満の場合は焼結不足になり易
いので長時間焼成することが必要となり、９２０℃を超
えるとフェライト中に電極材料が拡散し易く、チップの
電磁気的特性を悪化させるので、短時間焼成することに
なる。８００℃未満では焼結不良となり、９５０℃を超
えると電極材料が拡散する。なお焼成時間は８８０〜９
２０℃で５分〜３時間程度である。
る、酸化物磁性材料からなる磁性体層ペーストと内部導
電体層とを、印刷法やドクターブレード法の如き厚膜技
術により積層し一体化した後、焼成し、得られた焼結体
表面に外部電極用ペーストを印刷し、焼き付けることに
より製造される。内部導電体用ペーストは、通常、導電
性素子とバインダーと溶剤とを含有する。導電性素子の
材質は、インダクタの品質係数Ｑが向上するという理由
から、ＡｇまたはＡｇ・Ｐｄ合金が好適である。焼成条
件や焼成雰囲気は磁性体や導電性素子の材質等に応じて
適宜決定すればよいが、焼成温度は好ましくは８００〜
９５０℃、より好ましくは８８０〜９２０℃程度であ
る。焼成温度が８８０℃未満の場合は焼結不足になり易
いので長時間焼成することが必要となり、９２０℃を超
えるとフェライト中に電極材料が拡散し易く、チップの
電磁気的特性を悪化させるので、短時間焼成することに
なる。８００℃未満では焼結不良となり、９５０℃を超
えると電極材料が拡散する。なお焼成時間は８８０〜９
２０℃で５分〜３時間程度である。
【００６５】
【発明の効果】本発明により下記の効果を奏することが
できる。
できる。
【００６６】（１）使用する高周波帯域１００ＭＨｚ以
上において、初透磁率の小さい、焼結体密度が大きく、
渦電流損失の少ない、低温焼成可能な酸化物磁性体を得
ることができる。
上において、初透磁率の小さい、焼結体密度が大きく、
渦電流損失の少ない、低温焼成可能な酸化物磁性体を得
ることができる。
【００６７】（２）Ｃａを０．３ｗｔ％以下添加させた
ことにより、初透磁率の低い、焼結体密度の大きいイン
ダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を得ること
ができる。
ことにより、初透磁率の低い、焼結体密度の大きいイン
ダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を得ること
ができる。
【００６８】（３）Ｃａを０．３ｗｔ％以下添加させ、
さらにＣｏＯを０．７ｗｔ％以下添加させることによ
り、初透磁率の小さい、焼結体密度の大きな、インダク
タンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を得ることがで
きる。
さらにＣｏＯを０．７ｗｔ％以下添加させることによ
り、初透磁率の小さい、焼結体密度の大きな、インダク
タンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を得ることがで
きる。
【００６９】（４）Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 を０．５ｗｔ％
以下添加させることにより、初透磁率の低い、焼結体密
度の大きい、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物
磁性体を得ることができる。
以下添加させることにより、初透磁率の低い、焼結体密
度の大きい、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物
磁性体を得ることができる。
【００７０】（５）Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 の他に更にＣｏ
Ｏを０．７ｗｔ％以下添加させたので、更に初透磁率の
低い、焼結体密度の大きい、インダクタンスの温度特性
の良好な酸化物磁性体を得ることができる。
Ｏを０．７ｗｔ％以下添加させたので、更に初透磁率の
低い、焼結体密度の大きい、インダクタンスの温度特性
の良好な酸化物磁性体を得ることができる。
【００７１】（６）初透磁率の低い、焼結体密度の大き
い、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体に
よりチップ部品を構成したので、これらの各特性の良好
なすぐれたチップ部品を提供することができる。
い、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体に
よりチップ部品を構成したので、これらの各特性の良好
なすぐれたチップ部品を提供することができる。
【００７２】（７）初透磁率の低い、焼結体密度の大き
い、インダクタンスの温度特性の良好な焼成温度の低い
酸化物磁性体により積層型コイル部品を構成したので、
これらの各特性の良好なインダクタンスの品質係数Ｑの
すぐれた積層型コイル部品を提供することができる。
い、インダクタンスの温度特性の良好な焼成温度の低い
酸化物磁性体により積層型コイル部品を構成したので、
これらの各特性の良好なインダクタンスの品質係数Ｑの
すぐれた積層型コイル部品を提供することができる。
【００７３】（８）初透磁率の低い、焼結体密度の大き
い、インダクタンスの温度特性の良好な、焼成温度の低
い酸化物磁性体を使用し、内部導体がＡｇまたはＡｇ・
Ｐｄ合金を主成分とした導体でチップ部品を構成したの
で、これらの各特性の良好なインダクタンスの品質係数
Ｑのすぐれたチップ部品を提供することができる。
い、インダクタンスの温度特性の良好な、焼成温度の低
い酸化物磁性体を使用し、内部導体がＡｇまたはＡｇ・
Ｐｄ合金を主成分とした導体でチップ部品を構成したの
で、これらの各特性の良好なインダクタンスの品質係数
Ｑのすぐれたチップ部品を提供することができる。
【００７４】（９）初透磁率の低い、焼結体密度の大き
い、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を
使用し、ＡｇまたはＡｇ・Ｐｄ合金を主成分とした導体
を内部導体とし、８８０℃〜９２０℃の温度で焼成して
チップ部品を製造するので、これらの各特性の良好な、
しかもインダクタンスの品質係数Ｑのすぐれたチップ部
品を製造することができる。
い、インダクタンスの温度特性の良好な酸化物磁性体を
使用し、ＡｇまたはＡｇ・Ｐｄ合金を主成分とした導体
を内部導体とし、８８０℃〜９２０℃の温度で焼成して
チップ部品を製造するので、これらの各特性の良好な、
しかもインダクタンスの品質係数Ｑのすぐれたチップ部
品を製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G002 AA06 AA08 AA10 AB01 AE02 4G018 AA01 AA23 AA24 AA25 AC12 4G048 AA03 AB05 AC03 AE05 5E041 AA11 AA19 BD01 CA10 HB03
Claims (9)
- 【請求項１】モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．
０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０
〜６４．０％及びＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）
からなることを特徴とする酸化物磁性材料。 - 【請求項２】請求項１に記載された酸化物磁性材料にお
いて、Ｃａを０．３ｗｔ％以下（０は含まず）含有する
ことを特徴とする酸化物磁性材料。 - 【請求項３】請求項２に記載された酸化物磁性材料にお
いて、ＣｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は含まず）含有す
ることを特徴とする酸化物磁性材料。 - 【請求項４】モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．
０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０
〜６４．０％及びＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）
からなる酸化物磁性材料に、Ｃａ3 （ＰＯ4 ）2 を０．
５ｗｔ％以下（０は含まず）含有させ焼成することを特
徴とする酸化物磁性材料の製造方法。 - 【請求項５】請求項４に記載された酸化物磁性材料の製
造方法において、ＣｏＯを０．７ｗｔ％以下含有させ焼
成することを特徴とする酸化物磁性材料の製造方法。 - 【請求項６】モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．
０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０
〜６４．０％、ＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）か
らなる酸化物磁性材料又はこれにＣａを０．３ｗｔ％以
下（０は含まず）含有する、又はＣａを０．３ｗｔ％以
下（０は含まず）及びＣｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は
含まず）含有する酸化物磁性材料の焼結体を用い、バル
ク型コイル部品を構成したことを特徴とするチップ部
品。 - 【請求項７】モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．
０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０
〜６４．０％、ＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）か
らなる酸化物磁性材料又はこれにＣａを０．３ｗｔ％以
下（０は含まず）含有する、又はＣａを０．３ｗｔ％以
下（０は含まず）及びＣｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は
含まず）含有する酸化物磁性材料の焼結体を用い、かつ
焼結体内に導電体層を有して積層型コイル部品を構成し
たことを特徴とするチップ部品。 - 【請求項８】請求項７に記載のチップ部品において、内
部導体がＡｇまたはＡｇとＰｄの合金を主成分とした導
体で構成されたことを特徴とするチップ部品。 - 【請求項９】モル％で、Ｆｅ2 Ｏ3 が３５．０〜５１．
０％、ＣｕＯが１．０〜３５．０％、ＮｉＯが３８．０
〜６４．０％、ＺｎＯが０〜１０．０％（０を含む）か
らなる酸化物磁性材料又はこれにＣａを０．３ｗｔ％以
下（０は含まず）含有する、又はＣａを０．３ｗｔ％以
下（０は含まず）及びＣｏＯを０．７ｗｔ％以下（０は
含まず）含有する酸化物磁性材料の焼結体を用い、かつ
焼結体内に導電体層又は導電体としてＡｇ又はＡｇとＰ
ｄの合金を主成分とした導体を用いたチップ部品の製造
方法において、粉砕された酸化物磁性材料と内部導体と
を８８０℃〜９２０℃で焼成することを特徴とするチッ
プ部品の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000068199A JP4255044B2 (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 酸化物磁性材料及び酸化物磁性材料の製造方法 |
| KR1020010012505A KR100643413B1 (ko) | 2000-03-13 | 2001-03-12 | 산화물 자성재료, 이 산화물 자성재료를 사용한 칩부품 및산화물 자성재료의 제조방법과 칩부품의 제조방법 |
| CNB011116587A CN1251254C (zh) | 2000-03-13 | 2001-03-12 | 氧化磁性材料、使用所述材料的片式元件及它们的制备方法 |
| TW090105674A TW490686B (en) | 2000-03-13 | 2001-03-12 | Oxide magnetic materials, chip components using the same, and method for producing oxide magnetic materials and chip components |
| US09/802,922 US6558566B2 (en) | 2000-03-13 | 2001-03-12 | Oxide magnetic materials, chip components using the same, and method for producing oxide magnetic materials and chip components |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000068199A JP4255044B2 (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 酸化物磁性材料及び酸化物磁性材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001253769A true JP2001253769A (ja) | 2001-09-18 |
| JP4255044B2 JP4255044B2 (ja) | 2009-04-15 |
Family
ID=18587288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000068199A Expired - Lifetime JP4255044B2 (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 酸化物磁性材料及び酸化物磁性材料の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6558566B2 (ja) |
| JP (1) | JP4255044B2 (ja) |
| KR (1) | KR100643413B1 (ja) |
| CN (1) | CN1251254C (ja) |
| TW (1) | TW490686B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100455510B1 (ko) * | 2000-08-21 | 2004-11-06 | 티디케이가부시기가이샤 | 페라이트 재료 |
| JP4204329B2 (ja) * | 2002-01-21 | 2009-01-07 | 三洋電機株式会社 | 酸化物磁性材料の製造方法 |
| JP5134696B2 (ja) * | 2010-03-18 | 2013-01-30 | 日本碍子株式会社 | Ｎｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系セラミック焼結体を製造するために使用される粉末およびその製造方法 |
| DE102012201847A1 (de) * | 2012-02-08 | 2013-08-08 | Würth Elektronik eiSos Gmbh & Co. KG | Elektronisches Bauelement |
| CN103594242B (zh) * | 2013-11-12 | 2016-08-17 | 上海华源磁业股份有限公司 | 一种日字型软磁铁氧体磁芯的制备方法 |
| CN113735573B (zh) * | 2021-08-27 | 2022-08-16 | 西安交通大学 | 一种NFC用低损耗NiCuZn软磁铁氧体材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06151146A (ja) * | 1992-11-04 | 1994-05-31 | Tokin Corp | 酸化物磁性材料及びその製造方法 |
| JP2963041B2 (ja) * | 1995-06-15 | 1999-10-12 | 日立金属株式会社 | 磁性セラミクスおよび積層型電子部品 |
| JP3672161B2 (ja) * | 1997-07-16 | 2005-07-13 | Ｔｄｋ株式会社 | フェライトの製造方法およびインダクタの製造方法 |
| JP3769137B2 (ja) * | 1998-12-28 | 2006-04-19 | Ｔｄｋ株式会社 | インダクタンス素子及びその製造方法 |
| JP2000252112A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Murata Mfg Co Ltd | 磁性体磁器組成物およびそれを用いたインダクタ部品 |
-
2000
- 2000-03-13 JP JP2000068199A patent/JP4255044B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-03-12 US US09/802,922 patent/US6558566B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-12 CN CNB011116587A patent/CN1251254C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-12 TW TW090105674A patent/TW490686B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-03-12 KR KR1020010012505A patent/KR100643413B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010028051A1 (en) | 2001-10-11 |
| CN1313609A (zh) | 2001-09-19 |
| TW490686B (en) | 2002-06-11 |
| JP4255044B2 (ja) | 2009-04-15 |
| US6558566B2 (en) | 2003-05-06 |
| KR100643413B1 (ko) | 2006-11-10 |
| CN1251254C (zh) | 2006-04-12 |
| KR20010089994A (ko) | 2001-10-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106057393B (zh) | 复合铁氧体组合物和电子部件 | |
| TWI540112B (zh) | 複合鐵氧體組合物以及電子部件 | |
| JP6740817B2 (ja) | フェライト組成物，フェライト焼結体、電子部品およびチップコイル | |
| JP2010018482A (ja) | フェライト及びその製造方法 | |
| JPH10163018A (ja) | インダクター用軟磁性材料およびそれを用いたインダクターの製造方法 | |
| JPH10163017A (ja) | 低温焼成用高周波軟磁性材料およびそれを用いたインダクターの製造方法 | |
| JP2000252112A (ja) | 磁性体磁器組成物およびそれを用いたインダクタ部品 | |
| JP2002141215A (ja) | 酸化物磁性材料とその製造方法および積層チップインダクタ | |
| JP3492802B2 (ja) | 低損失フェライト材料 | |
| JP2003002656A (ja) | 軟磁性六方晶フェライト複合粒子粉末、該軟磁性六方晶フェライト複合粒子粉末を用いたグリーンシート並びに軟磁性六方晶フェライト焼結体 | |
| JP2002015913A (ja) | 磁性フェライト粉末、磁性フェライト焼結体、積層型フェライト部品および積層型フェライト部品の製造方法 | |
| JP4255044B2 (ja) | 酸化物磁性材料及び酸化物磁性材料の製造方法 | |
| JPH0891919A (ja) | 酸化物磁性材料組成物とその製造方法、ならびにインダクタ、積層チップインダクタ、および複合積層部品 | |
| JP2003272914A (ja) | 酸化物磁性材料とその製造方法および積層チップインダクタ | |
| JP3407725B2 (ja) | 酸化物磁性材料とその製造方法および積層チップインダクタ | |
| JP4045410B2 (ja) | 軟磁性六方晶フェライト複合粒子粉末、該軟磁性六方晶フェライト複合粒子粉末を用いたグリーンシート並びに軟磁性六方晶フェライト焼結体 | |
| JP3326358B2 (ja) | コイル用非磁性材料及びコイル部品 | |
| JP4436493B2 (ja) | 高周波低損失フェライト材料及びこれを用いたフェライトコア | |
| JP3570825B2 (ja) | フェライトコア | |
| JPH02109202A (ja) | セラミックインダクタ部品およびセラミックｌｃ部品 | |
| WO2024093990A1 (zh) | 磁性材料和包含其的多层电感器 | |
| JP3739977B2 (ja) | 磁性材料とそれを用いたバルク型コイル部品と積層型コイル部品 | |
| JP2725227B2 (ja) | 積層インダクタおよび該積層インダクタの製造方法 | |
| JPH0897025A (ja) | チップトランス用磁性材料及びチップトランス | |
| JPH11307335A (ja) | 酸化物磁性材および積層チップインダクタとその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041209 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060711 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060824 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060919 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061114 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061019 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090123 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4255044 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130206 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140206 Year of fee payment: 5 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |