[go: up one dir, main page]

JP2001250474A - プラズマディスプレイの製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイの製造方法

Info

Publication number
JP2001250474A
JP2001250474A JP2000059538A JP2000059538A JP2001250474A JP 2001250474 A JP2001250474 A JP 2001250474A JP 2000059538 A JP2000059538 A JP 2000059538A JP 2000059538 A JP2000059538 A JP 2000059538A JP 2001250474 A JP2001250474 A JP 2001250474A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
intaglio
raw material
forming surface
manufacturing
substrate glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000059538A
Other languages
English (en)
Inventor
Seikan Go
済煥 呉
Yoshitaka Terao
芳孝 寺尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung R&D Institute Japan Co Ltd
Original Assignee
Samsung Yokohama Research Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Yokohama Research Institute filed Critical Samsung Yokohama Research Institute
Priority to JP2000059538A priority Critical patent/JP2001250474A/ja
Publication of JP2001250474A publication Critical patent/JP2001250474A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電極や隔壁等の微細パターンの寸法精度や位
置精度を十分に高精度に確保でき、量産性が良く、かつ
低コスト化を図ることのできるプラズマディスプレイの
製造方法の提供を課題とする。 【解決手段】 ドライフィルム11の凹版形成面11a
に、電極パターンと同形状の凸部13が形成された転写
ロール12を押し当てて複数の凹部19を形成する凹版
製造工程と、該凹版製造工程後の凹版形成面11aに、
前記電極パターンの原材料である厚膜材17を塗布して
各凹部19を充填しながら、各凹部19よりはみ出した
厚膜材17を掻き取る原材料充填工程と、該原材料充填
工程後のドライフィルム11の凹版形成面11aを、基
板ガラス15に貼り付ける凹版貼り付け工程と、該凹版
貼り付け工程後のドライフィルム11を基板ガラス15
より除去する凹版除去工程とを有する製造方法を採用し
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスとし
て用いられるプラズマディスプレイの製造方法に用いて
好適な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プラズマディスプレイは、図13
に示すように、互いに対向する2枚の基板ガラス10
1,102により構成され、この基板ガラス101の、
基板ガラス102に対向する一面には、MgO等からな
る保護膜を有する透明な誘電体層103で覆われた複数
組の電極104が構成されている。また、他方の基板ガ
ラス102の対向面には、これら電極104と直交する
方向に、反射率の高い誘電体105で覆われた複数組の
電極106が配置され、さらにその上には、ガス放電を
行う空間である放電セル107を形成するために、電極
106と平行で、かつ、これら各電極106の間に位置
する複数の隔壁108が設けられている。また、各放電
セル107の内側には、RGB(赤、緑、青)に対応す
る蛍光体109が配置されている。そして、これら対向
する2枚の基板ガラス101,102を合わせて、放電
セル107内部にNe,He等の希ガスを封入した状態
で、周囲をシールガラス等により封着される構成となっ
ている。
【0003】前記電極104および電極106は、それ
ぞれ外部に引き出されており、これらに接続された端子
に選択的に電圧を印加することにより、選択的に放電セ
ル107内の各電極104,106間に放電を発生さ
せ、この放電により放電セル107内の蛍光体109か
らの励起光を外部に表示するようになっている。
【0004】上記説明の基板ガラス102上への電極1
06及び隔壁108の形成や、基板ガラス101の下面
への電極104の形成においては、印刷などによって直
接、電極104,106や隔壁108の微細パターンを
形成する方法や、あるいは、感光性材やフォトリソによ
って所望のパターンを形成する方法などがある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記印
刷法は、スクリーンマスクの歪みや位置合わせ精度の問
題から、精度良く微細パターンを形成することが困難と
なっている。一方、上記フォトリソによる形成方法にお
いては、全面塗布された感光性厚膜材をフォトマスクを
用いて光で硬化させて微細パターンを得るか、あるいは
ドライフィルムレジスタ(DFR)の微細パターンを設
けた後、サンドブラス等の物理的エッチングによって微
細パターンを得ることが可能である。しかし、工数が多
い上に、微細パターン部分以外の箇所の感光性厚膜材は
無駄に廃棄されてしまうので、プラズマディスプレイの
製造コストが高くなることや、環境保護の観点から廃棄
物を適切に処理しなければならないなどの問題を有して
いた。
【0006】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
ので、以下の目的を達成しようとするものである。すな
わち、電極や隔壁等の微細パターンの寸法精度や位置精
度を十分に高精度に確保でき、量産性が良く、かつ低コ
スト化を図ることのできるプラズマディスプレイの製造
方法の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイの製造方法は、上記課題を解決するために以下の
手段を採用した。すなわち、請求項1記載のプラズマデ
ィスプレイの製造方法は、プラズマディスプレイの基板
ガラスに電極や隔壁等の微細パターンを形成する方法で
あって、前記微細パターンの型となる凹部が形成される
凹版の凹版形成面に、前記微細パターンと同形状の凸部
が形成された凸版を押し当てて複数の前記凹部を形成す
る凹版製造工程と、該凹版製造工程後の前記凹版形成面
に、前記微細パターンの原材料を塗布して前記各凹部を
充填しながら、前記各凹部よりはみ出した前記原材料を
掻き取る原材料充填工程と、該原材料充填工程後の前記
凹版の凹版形成面を、前記基板ガラスに貼り付ける凹版
貼り付け工程と、該凹版貼り付け工程後の前記凹版を前
記基板ガラスより除去する凹版除去工程とを有すること
を特徴とする。
【0008】上記請求項1記載のプラズマディスプレイ
の製造方法によれば、各工程を経て基板ガラス上に形成
される電極や隔壁等の微細パターンは、凹版の凹部形状
に合致した精密な外形状と、各凹部間の間隔寸法と同一
の精密なピッチ間隔寸法とを有した精密形状及び精密配
置に形成される。
【0009】また、請求項2記載のプラズマディスプレ
イの製造方法は、請求項1記載のプラズマディスプレイ
の製造方法において、前記原材料充填工程での前記原材
料の充填及び掻き取りが、前記凹版形成面上に置かれた
前記原材料を、前記凹版形成面に刃先が密接したドクタ
ーブレードが、前記各凹部上を通過するように前記凹版
形成面に沿って押しながら移動させることで行うことを
特徴とする。
【0010】上記請求項2記載のプラズマディスプレイ
の製造方法によれば、ドクターブレードを凹版形成面に
沿って移動させる一工程だけで、各凹部への原材料の充
填と、各凹部からはみ出した余剰原材料の除去とを同時
に行うことができる。
【0011】また、請求項3記載のプラズマディスプレ
イの製造方法は、請求項1または2記載のプラズマディ
スプレイの製造方法において、前記凹版除去工程での前
記凹版の除去が、前記凹版を、純水やアルカリ水溶液等
の溶剤で溶かすか、もしくは焼成して燃やすことで前記
基板ガラスより剥離することを特徴とする。
【0012】上記請求項3記載のプラズマディスプレイ
の製造方法によれば、凹版の残留付着を生じることな
く、基板ガラスより凹版を容易に除去することができ
る。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明は、プラズマディスプレイ
の基板ガラスに電極や隔壁等の微細パターンを形成する
方法であり、その第1〜第4の実施の形態を図面を参照
しながら以下に説明する。しかしながら、本発明がこれ
らに限定解釈されるものでないことは、もちろんであ
る。
【0014】第1の実施の形態についての説明を、図1
〜図4を参照しながら以下に行う。なお、本実施の形態
では、前記微細パターンとして電極を基板ガラス上に複
数形成する場合を例に説明する。まず、図1に示すよう
に、電極(微細パターン)の型となる凹部が形成される
凹版である樹脂製のドライフィルム1の凹版形成面2
に、前記電極と同形状の凸部3が形成された転写ロール
4(凸版)を押し当てて、複数の前記凹部5を形成する
凹版製造工程を行う。
【0015】すなわち、水平配置されたドライフィルム
1の凹版形成面2上で、ラインパターン状の凸部3が外
周に複数本設けられた転写ロール4を転動させること
で、各凸部3に合致する形状の各凹部5が凹版形成面2
に転写される。この転写の際には、転写ロール4の各凸
部3を適切な温度に昇温させたり、または、適切な押圧
力を持って凹版形成面2に向かって付勢しながら転動さ
せたりすることで、所望のファインパターンをより容易
に形成することが可能となる。なお、転写ロール4の凸
部3は、形成しようとするライン形状や、パターン形状
寸法、前記基板ガラスの大きさなどに適するように、図
1に示した転写ロール4の回転方向と直交する方向また
は平行な方向に設けることが可能である。
【0016】続いて、図2に示すように、前記凹版製造
工程後の凹版形成面2に、前記電極の原材料となる厚膜
材6を塗布して各凹部5を充填しながら、各凹部5より
はみ出した厚膜材6を掻き取る原材料充填工程を行う。
この原材料充填工程での厚膜材6の充填及び掻き取り
は、凹版形成面2上に置かれた厚膜材6を、凹版形成面
2に刃先7aが密接したドクターブレード7で、該ドク
ターブレード7が各凹部5上を通過するように凹版形成
面2に沿って押しながら移動させることで行う。
【0017】すなわち、ドクターブレード7の下端縁に
形成された刃先7aを凹版形成面2上に密着させるとと
もに、進行方向に向かってその上部側を傾けるように保
持した後、その進行方向前面7bで、凹版形成面2上に
置かれた厚膜材6を押しながら各凹部5の上方を(図2
の紙面右側から左側に向かって)通過させていく。する
と、前記進行方向前面7bで押されながら凹版形成面2
上を移動する厚膜材6の内、凹部5の上部に至ったもの
は、凹部5内に入り込んでこれを満たす。そして、余剰
となって凹部5よりはみ出ている厚膜材6は、ドクター
ブレード7の刃先7aによって掻き取られ、他の凹部5
を満たすためにドクターブレード7と共に移動を続け
る。このようにして処理された後の各凹部5は、充填さ
れた厚膜材6によって凹版形成面2と面一になる上に、
この凹部5以外の箇所には厚膜材6が残らないようにな
る。
【0018】続いて、図3に示すように、前記原材料充
填工程後のドライフィルム1の凹版形成面2を、基板ガ
ラス8に貼り付ける凹版貼り付け工程を行う。すなわ
ち、全ての凹部5に厚膜材6が充填され、凹版形成面2
上の各凹部5以外の箇所の厚膜材6が取り除かれた後の
ドライフィルム1をラミネートして、凹版形成面2にお
いて基板ガラス8の上面に密着させるように貼り付け
る。このとき、厚膜材6は各凹部5に設けられているの
で、ラミネートの際にパターンが滲むことなく、所望の
パターン寸法や形状を保つことができる。すなわち、凹
版形成面2全面の内、各凹部5が有る箇所以外の部分
は、前工程で厚膜材6が除去されているので、基板ガラ
ス8との間に厚膜材6が介在することがない。したがっ
て、電極形成後に、電極以外の箇所に厚膜材6が残る、
いわゆる滲みを生じることがない。
【0019】続いて、図4に示すように、前記凹版貼り
付け工程後のドライフィルム1を、基板ガラス8より除
去する凹版除去工程を行う。すなわち、ドライフィルム
1の除去は、まず光あるいは熱で厚膜材6を硬化させた
後、純水やアルカリ水溶液等の溶剤でドライフィルム1
のみを溶かして剥離するか、もしくは、後に行われる予
定の厚膜材6の焼成工程における焼成熱を利用して、ド
ライフィルム1を燃やして飛ばすことで基板ガラス8か
らドライフィルム1を剥離する。ドライフィルム1の剥
離方法としては、例えば以上説明の2案が考えられる
が、どちらかというと、アルカリ水溶液等を用いる方法
では、形成された電極パターンを崩す恐れが全く無いわ
けではないので、焼成熱を利用して剥離する方法の方が
より好ましいと言える。以上の凹版製造工程と原材料充
填工程と凹版貼り付け工程と凹版除去工程とを行うこと
で、図4に示すように、基板ガラス8上に所望の外形と
ピッチ間隔を有する複数の電極9が形成される。
【0020】本実施の形態のプラズマディスプレイの製
造方法(電極形成方法)によれば、凹版製造工程と原材
料充填工程と凹版貼り付け工程と凹版除去工程とを経て
基板ガラス8上に形成された各電極9は、ドライフィル
ム1の各凹部5の形状に合致した精密な外形状と、各凹
部5間の間隔寸法と同一の精密なピッチ間隔寸法とを有
した精密形状及び精密配置に形成されるので、各電極9
の寸法精度や位置精度を十分に高精度に確保することが
可能となる。また、各凹部5に厚膜材6を充填したドラ
イフィルム1を基板ガラス8に貼り付けた後、基板ガラ
ス8よりドライフィルム1のみを除去するだけの容易な
方法で滲みのない精密な電極パターンを形成することが
できるので、量産性が良い。しかも、従来のように、製
造過程において余分な厚膜材6が発生してこれを廃棄す
ることがないので、プラズマディスプレイの低コスト化
を図ることも可能である。
【0021】また、本実施の形態の電極形成方法によれ
ば、原材料充填工程において、ドクターブレード7を凹
版形成面2に沿って移動させる一工程だけで、各凹部5
への厚膜材6の充填と、各凹部5からはみ出した余剰厚
膜材6の除去とを同時に行えるので、製造工程を少なく
してプラズマディスプレイの製造コストを抑えることが
可能となる。
【0022】また、本実施の形態の電極形成方法によれ
ば、凹版除去工程におけるドライフィルム1の除去を、
純水やアルカリ水溶液等の溶剤で溶かして剥離するか、
もしくは焼成して燃やすことで基板ガラス8より剥離す
る方法を採用したことで、ドライフィルム1の残留付着
を生じることなく、容易に基板ガラス8よりドライフィ
ルム1を除去することが可能となる。
【0023】次に、本発明の第2の実施の形態について
の説明を、図5を参照しながら以下に行う。なお、本実
施の形態においても、前記微細パターンとして電極を基
板ガラス上に複数形成する場合を例に説明する。本実施
の形態は、上記第1の実施の形態の凹版製造工程と原材
料充填工程と凹版貼り付け工程とを一括して処理する点
が、上記第1の実施の形態と特に異なっている。
【0024】すなわち、本実施の形態では、大型のバッ
クアップロール10の外周に樹脂製のドライフィルム1
1を巻回し、このバックアップロール10を上下から挟
むと共に各軸心の位置が一直線上に並ぶように、バック
アップロール10の上側に転写ロール12(前記転写ロ
ール4と同様の構造を有し、その外周に、前記電極と同
形状の凸部13が複数形成されている)を配置し、バッ
クアップロール10の下側に駆動輪14が配置されてい
る。そして、転写ロール12とバックアップロール10
との間には、ドライフィルム11が挟み込まれており、
また、駆動輪14とバックアップロール10との間に
は、ドライフィルム11と基板ガラス15とが挟み込ま
れている。なお、符号16は、その刃先16aにおいて
ドライフィルム11の表面に密着しているドクターブレ
ードであり、符号17は、前記電極の原材料となる厚膜
材である。
【0025】以上説明の製造装置を用いることにより、
一括処理で基板ガラス15上に所望の電極18を連続形
成することができる。すなわち、駆動輪14を紙面左回
りに回転駆動させると、間にドライフィルム11と基板
ガラス15とを挟み込むバックアップロール10が連動
して右回転する。すると、このバックアップロール10
の右回転に連動して転写ロール12が左回転を行い、そ
の各凸部13が、ドライフィルム11の凹版形成面11
aに押し当てられ、各凹部19が形成される(凹版製造
工程に相当する)。この様にして凹部19が形成された
ドライフィルム11は、バックアップロール10の回転
と共にドクターブレード16へと向かい、その手前に有
る厚膜材17の下を通過する際に、各凹部19内への厚
膜材17の充填が行われる。さらに、各凹部19に厚膜
材17が充填された後のドライフィルム11は、バック
アップロール10の回転と共にドクターブレード16の
刃先16aを通過する際に、各凹部19よりはみ出して
いる余分な厚膜材17が、刃先16aによって掻き取ら
れる(原材料充填工程に相当する)。
【0026】この様にして各凹部19のみに厚膜材17
が充填されたドライフィルム11は、ラミネートされ、
バックアップロール10の回転と共に基板ガラス15と
バックアップロール10との間に挟み込まれて貼り付け
られる(凹版貼り付け工程に相当する)。なお、このと
きのバックアップロール10は、ドライフィルム11を
基板ガラス15に圧着するための圧着ロールの役目をな
す。この後、光あるいは熱で厚膜材17を硬化させた
後、純水やアルカリ水溶液等の溶剤でドライフィルム1
1のみを溶かして剥離するか、もしくは、後に行われる
予定の厚膜材17の焼成工程における焼成熱を利用し
て、ドライフィルム11を燃やして飛ばすことで基板ガ
ラス15からドライフィルム11を剥離する(凹版除去
工程に相当する)。ドライフィルム11の剥離方法とし
ては、どちらかというと、焼成熱を利用して剥離する方
法の方がより好ましいのは、前述した通りである。以上
の凹版製造工程と原材料充填工程と凹版貼り付け工程と
凹版除去工程とを行うことで、基板ガラス15上に所望
の外形とピッチ間隔を有する複数の電極が形成される。
【0027】本実施の形態の電極形成方法においても、
上記第1の実施の形態と同様の効果を得ることが可能で
ある。
【0028】次に、本発明の第3の実施の形態について
の説明を、図6を参照しながら以下に行う。なお、本実
施の形態では、前記微細パターンとして隔壁を基板ガラ
ス上に複数形成する場合を例に説明する。まず、図6
(a)に示すように、隔壁(微細パターン)の型となる
凹部が形成される凹版である樹脂製のドライフィルム2
1の凹版形成面22に、前記隔壁と同形状の凸部23が
形成された転写ロール24(凸版)を押し当てて、複数
の前記凹部25を形成する凹版製造工程を行う。
【0029】すなわち、ドライフィルム21の凹版形成
面22上で、ラインパターン状の凸部23が外周に複数
本設けられた転写ロール24を転動させることで、各凸
部23に合致する形状の各凹部25が転写される。この
転写の際には、転写ロール24の各凸部23を適切な温
度に昇温させたり、または、適切な押圧力を持って凹版
形成面22に向かって付勢しながら転動させたりするこ
とで、所望のファインパターンをより容易に形成するこ
とが可能となる。なお、転写ロール24の凸部23は、
形成しようとするライン形状や、パターン形状寸法、前
記基板ガラスの大きさなどに適するように、図6(a)
に示した転写ロール24の回転方向と直交する方向また
は平行な方向に設けることが可能である。また、この凹
版製造工程において、形成しようとする隔壁の高さ、上
部幅、下部幅などの形状は、これに応じて前記各凸部2
3の形状を合わせることで、自由に所望とするパターン
形状を有するドライフィルム21を製造することができ
る。
【0030】続いて、前記凹版製造工程後の凹版形成面
22に、前記隔壁の原材料となるリブ用材を塗布して各
凹部25を充填しながら、各凹部25よりはみ出した前
記リブ用材を掻き取る原材料充填工程を行う(図示省
略)。この原材料充填工程での前記リブ用材の充填及び
掻き取りは、凹版形成面22上に置かれた前記リブ用材
を、凹版形成面22に刃先が密接したドクターブレード
で、該ドクターブレードが各凹部25上を通過するよう
に凹版形成面22に沿って押しながら移動させることで
行う(図示省略)。
【0031】すなわち、前記ドクターブレードの下端縁
に形成された刃先を凹版形成面22上に密着させるとと
もに、進行方向に向かってその上部側を傾けるように保
持した後、前記ドクターブレードの進行方向前面で、凹
版形成面22上に置かれた前記リブ用材を押しながら各
凹部25の上方を通過させていく。すると、前記進行方
向前面で押されながら凹版形成面22上を移動する前記
リブ用材の内、凹部25の上部に至ったものは、凹部2
5内に入り込んでこれを満たす。そして、余剰となって
凹部25よりはみ出ている前記リブ用材は、前記ドクタ
ーブレードの刃先によって掻き取られ、他の凹部25を
満たすために前記ドクターブレードと共に移動を続け
る。このようにして処理された後の各凹部25は、充填
された前記リブ用材によって凹版形成面22と面一にな
る上に、この凹部25以外の箇所には前記リブ用材が残
らないようになる。
【0032】続いて、図6(b)に示すように、前記原
材料充填工程後のドライフィルム21の凹版形成面22
を、基板ガラス28に貼り付ける凹版貼り付け工程を行
う。すなわち、全ての凹部25に前記リブ用材26が充
填され、凹版形成面22上の各凹部25以外の箇所のリ
ブ用材26が取り除かれた後のドライフィルム21をラ
ミネートして、凹版形成面22において基板ガラス28
の上面に密着させるように貼り付ける。このとき、リブ
用材26は各凹部25内に設けられているので、ラミネ
ートの際にパターンが滲むことなく、所望のパターン寸
法や形状を保つことができる。すなわち、凹版形成面2
2全面の内、各凹部25が有る箇所以外の部分は、前工
程でリブ用材26が除去されているので、基板ガラス2
8との間にリブ用材26が介在することがない。したが
って、隔壁形成後に、前記隔壁以外の箇所にリブ用材2
6が残る、いわゆる滲みを生じることがない。
【0033】続いて、前記凹版貼り付け工程後のドライ
フィルム21を、基板ガラス28より除去する凹版除去
工程を行う(以下、図示省略)。すなわち、ドライフィ
ルム21の除去は、まず光あるいは熱でリブ用材26を
硬化させた後、純水やアルカリ水溶液等の溶剤でドライ
フィルム21のみを溶かして剥離するか、もしくは、後
に行われる予定のリブ用材26の焼成工程における焼成
熱を利用して、ドライフィルム21を燃やして飛ばすこ
とで基板ガラス15からドライフィルム21を剥離す
る。ドライフィルム21の剥離方法としては、どちらか
というと、焼成熱を利用して剥離する方法の方がより好
ましいのは、前述した通りである。以上の凹版製造工程
と原材料充填工程と凹版貼り付け工程と凹版除去工程と
を行うことで、基板ガラス28上に所望の外形とピッチ
間隔を有する複数の隔壁が形成される。
【0034】本実施の形態のプラズマディスプレイの製
造方法(隔壁形成方法)によれば、凹版製造工程と原材
料充填工程と凹版貼り付け工程と凹版除去工程とを経て
基板ガラス28上に形成された各隔壁は、ドライフィル
ム21の各凹部25の形状に合致した精密な外形状と、
各凹部25間の間隔寸法と同一の精密なピッチ間隔寸法
とを有した精密形状及び精密配置に形成されるので、各
隔壁の寸法精度や位置精度を十分に高精度に確保するこ
とが可能となる。また、各凹部25にリブ用材26を充
填したドライフィルム21を基板ガラス28に貼り付け
た後、基板ガラス28よりドライフィルム21のみを除
去するだけの容易な方法で滲みのない精密な隔壁パター
ンを形成することができるので、量産性が良い。しか
も、従来のように、製造過程において余分なリブ用材2
6が発生してこれを廃棄することがないので、プラズマ
ディスプレイの低コスト化を図ることも可能である。
【0035】また、本実施の形態の隔壁形成方法によれ
ば、原材料充填工程において、前記ドクターブレードを
凹版形成面22に沿って移動させる一工程だけで、各凹
部25へのリブ用材26の充填と、各凹部25からはみ
出した余剰リブ用材26の除去とを同時に行えるので、
製造工程を少なくしてプラズマディスプレイの製造コス
トを抑えることが可能となる。
【0036】また、本実施の形態の隔壁形成方法によれ
ば、凹版除去工程におけるドライフィルム21の除去
を、純水やアルカリ水溶液等の溶剤で溶かして剥離する
か、もしくは焼成して燃やすことで基板ガラス28より
剥離する方法を採用したことで、ドライフィルム21の
残留付着を生じることなく、容易に基板ガラス28より
ドライフィルム21を除去することが可能となる。
【0037】次に、本発明の第4の実施の形態について
の説明を、図7〜図12を参照しながら以下に行う。な
お、本実施の形態では、前記微細パターンとして、電極
と隔壁との両方を基板ガラス上に形成する方法を説明す
るものであるが、これら電極及び隔壁の焼成を同時に行
って、電極及び隔壁の両パターンを簡単に形成すること
が可能となっている。これを以下に詳説すると、まず、
図7に示すように、凹版となる樹脂製のドライフィルム
31上で、電極と同形状の凸部32が形成された電極パ
ターン形成用の転写ロール33を押し当てながら転動さ
せ、複数の凹部34を形成する第1回目の凹版製造工程
を行う。
【0038】続いて、図8に示すように、この第1回目
の凹版製造工程後のドライフィルム31の凹版形成面3
5に、前記電極の原材料となる厚膜材36を塗布して各
凹部34を充填しながら、各凹部34よりはみ出した厚
膜材36を掻き取る第1回目の原材料充填工程を行う。
この第1回目の原材料充填工程での厚膜材36の充填及
び掻き取りは、凹版形成面35上に置かれた厚膜材36
を、凹版形成面35に刃先37aが密接したドクターブ
レード37で、該ドクターブレード37が各凹部34上
を通過するように凹版形成面35に沿って押しながら移
動させることで行う。
【0039】続いて、図9に示すように、この第1回目
の原材料充填工程後のドライフィルム31の凹版形成面
35上で、隔壁と同形状の凸部38が形成された隔壁パ
ターン形成用の転写ロール39を押し当てながら転動さ
せ、複数の凹部40を形成する第2回目の凹版製造工程
を行う。続いて、図10に示すように、この第2回目の
凹版製造工程後のドライフィルム31の凹版形成面35
に、前記隔壁の原材料となるリブ用材41を塗布して各
凹部40を充填しながら、各凹部40よりはみ出したリ
ブ用材41を掻き取る第2回目の原材料充填工程を行
う。この第2回目の原材料充填工程でのリブ用材41の
充填及び掻き取りは、凹版形成面35上に置かれたリブ
用材41を、凹版形成面35に刃先37aが密接した前
記ドクターブレード37で、該ドクターブレード37が
各凹部40上を通過するように凹版形成面35に沿って
押しながら移動させることで行う。
【0040】続いて、図11に示すように、この第2回
目の原材料充填工程の後のドライフィルム31の凹版形
成面35を、基板ガラス42に貼り付ける凹版貼り付け
工程を行う。続いて、図12に示すように、この凹版貼
り付け工程後のドライフィルム31を、基板ガラス42
より除去する凹版除去工程を行う。すなわち、ドライフ
ィルム31の除去は、まず光あるいは熱で厚膜材36及
びリブ用材41を硬化させた後、純水やアルカリ水溶液
等の溶剤でドライフィルム31のみを溶かして剥離する
か、もしくは、後に行われる予定の電極43及び隔壁4
4の焼成工程における焼成熱を利用して、ドライフィル
ム31を燃やして飛ばすことで基板ガラス42からドラ
イフィルム31を剥離する。ドライフィルム31の剥離
方法としては、どちらかというと、焼成熱を利用して剥
離する方法の方がより好ましいのは、前述した通りであ
る。以上の第1回目の凹版製造工程と第1回目の原材料
充填工程と第2回目の凹版製造工程と第2回目の原材料
充填工程と凹版貼り付け工程と凹版除去工程とを行うこ
とで、図12に示すように、基板ガラス42上に所望の
外形とピッチ間隔を有する複数の電極43と隔壁44と
がそれぞれ形成される。しかも、上記凹版貼り付け工程
及び凹版除去工程によって基板ガラス42上には、電極
43と隔壁44との両方が同時にパターニングされるの
で、この後に行われる焼成はたった1回で済むこととな
る。すなわち、従来の製造方法では、電極43と隔壁4
4のパターニングを別々に行い、各パターニング後に1
回づつの焼成(すなわち合計2回の焼成)を行っていた
のに対して、本実施の形態の方法では、電極43と隔壁
44とを同時に1回の焼成を加えることで済むこととな
る。したがって、従来の複数回焼成を行う方法に比較し
て、本実施の形態の方法は、焼成工程数を減らせること
は勿論、製造コストを下げることも可能となる上に、焼
成回数の削減に伴う前記基板ガラス42の歪み防止にも
極めて有効な方法となっている。
【0041】本実施の形態のプラズマディスプレイの製
造方法(電極及び隔壁形成方法)によれば、上記第1〜
第3の実施の形態と同様の効果を得ることが可能とな
る。
【0042】
【発明の効果】本発明の請求項1記載のプラズマディス
プレイの製造方法は、凹版の凹版形成面に凸版を押し当
てて複数の凹部を形成する凹版製造工程と、該凹版製造
工程後の凹版形成面に原材料を塗布して各凹部を充填し
ながら各凹部よりはみ出した原材料を掻き取る原材料充
填工程と、該原材料充填工程後の凹版の凹版形成面を基
板ガラスに貼り付ける凹版貼り付け工程と、該凹版貼り
付け工程後の凹版を基板ガラスより除去する凹版除去工
程とを有する方法を採用した。
【0043】この製造方法によれば、凹版製造工程と原
材料充填工程と凹版貼り付け工程と凹版除去工程とを経
て基板ガラス上に形成される電極や隔壁等の微細パター
ンは、凹版の凹部形状に合致した精密な外形状と、各凹
部間の間隔寸法と同一の精密なピッチ間隔寸法とを有し
た精密形状及び精密配置に形成されるので、微細パター
ンの寸法精度や位置精度を十分に高精度に確保すること
が可能となる。また、各凹部に原材料を充填した凹版を
基板ガラスに貼り付けた後、基板ガラスより凹版のみを
除去するだけの容易な方法で滲みのない精密な微細パタ
ーンを形成することができるので、量産性が良い。しか
も、従来のように、製造過程において余分な原材料が発
生してこれを廃棄することがないので、プラズマディス
プレイの低コスト化を図ることも可能である。
【0044】また、請求項2記載のプラズマディスプレ
イの製造方法は、原材料充填工程での原材料の充填及び
掻き取りを、凹版形成面上に置かれた原材料を、凹版形
成面に刃先が密接したドクターブレードで、該ドクター
ブレードが各凹部上を通過するように凹版形成面に沿っ
て押しながら移動させることで行うものとした。この製
造方法によれば、ドクターブレードを凹版形成面に沿っ
て移動させる一工程だけで、各凹部への原材料の充填
と、各凹部からはみ出した余剰原材料の除去とを同時に
行えるので、製造工程を少なくしてプラズマディスプレ
イの製造コストを抑えることが可能となる。
【0045】また、請求項3記載のプラズマディスプレ
イの製造方法は、凹版除去工程での凹版の除去を、純水
やアルカリ水溶液等の溶剤で溶かして剥離するか、もし
くは焼成して燃やすことで前記基板ガラスより剥離する
方法を採用した。この製造方法によれば、凹版の残留付
着を生じることなく、容易に基板ガラスより凹版を除去
することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るプラズマディスプレイの製造
方法の第1の実施の形態を示す断面図である。
【図2】 同実施の形態の製造方法の続き示す断面図
である。
【図3】 同実施の形態の製造方法の続き示す断面図
である。
【図4】 同実施の形態の製造方法の続き示す断面図
である。
【図5】 本発明に係るプラズマディスプレイの製造
方法の第2の実施の形態を示す断面図である。
【図6】 (a)は、本発明に係るプラズマディスプ
レイの製造方法の第3の実施の形態を示す断面図であ
り、(b)は、その続きを示す断面図である。
【図7】 本発明に係るプラズマディスプレイの製造
方法の第4の実施の形態を示す断面図である。
【図8】 同実施の形態の製造方法の続き示す断面図
である。
【図9】 同実施の形態の製造方法の続き示す断面図
である。
【図10】 同実施の形態の製造方法の続き示す断面
図である。
【図11】 同実施の形態の製造方法の続き示す断面
図である。
【図12】 同実施の形態の製造方法の続き示す断面
図である。
【図13】 プラズマディスプレイの構造を説明する
ためにその一部を分解した斜視図である。
【符号の説明】
1,11,21,31・・・ドライフィルム(凹版) 2,11a,22,35・・・凹版形成面 3,13,23,32,38・・・凸部 4,12,24,33,39・・・転写ロール(凸版) 5,19,25,34,40・・・凹部 6,17,26,36,41・・・厚膜材,リブ用材(原
材料) 7,16,37・・・ドクターブレード 7a,16a,37a・・・刃先 8,15,28,42・・・基板ガラス 9,43,44・・・電極,隔壁(微細パターン)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラズマディスプレイの基板ガラスに
    電極や隔壁等の微細パターンを形成する方法であって、 前記微細パターンの型となる凹部が形成される凹版の凹
    版形成面に、前記微細パターンと同形状の凸部が形成さ
    れた凸版を押し当てて複数の前記凹部を形成する凹版製
    造工程と、 該凹版製造工程後の前記凹版形成面に、前記微細パター
    ンの原材料を塗布して前記各凹部を充填しながら、前記
    各凹部よりはみ出した前記原材料を掻き取る原材料充填
    工程と、 該原材料充填工程後の前記凹版の凹版形成面を、前記基
    板ガラスに貼り付ける凹版貼り付け工程と、 該凹版貼り付け工程後の前記凹版を前記基板ガラスより
    除去する凹版除去工程とを有することを特徴とするプラ
    ズマディスプレイの製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のプラズマディスプレイ
    の製造方法において、 前記原材料充填工程での前記原材料の充填及び掻き取り
    は、前記凹版形成面上に置かれた前記原材料を、前記凹
    版形成面に刃先が密接したドクターブレードが、前記各
    凹部上を通過するように前記凹版形成面に沿って押しな
    がら移動させることで行うことを特徴とするプラズマデ
    ィスプレイ。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載のプラズマディ
    スプレイの製造方法において、 前記凹版除去工程での前記凹版の除去は、前記凹版を、
    純水やアルカリ水溶液等の溶剤で溶かすか、もしくは焼
    成して燃やすことで前記基板ガラスより剥離することを
    特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。
JP2000059538A 2000-03-03 2000-03-03 プラズマディスプレイの製造方法 Pending JP2001250474A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000059538A JP2001250474A (ja) 2000-03-03 2000-03-03 プラズマディスプレイの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000059538A JP2001250474A (ja) 2000-03-03 2000-03-03 プラズマディスプレイの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001250474A true JP2001250474A (ja) 2001-09-14

Family

ID=18579974

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000059538A Pending JP2001250474A (ja) 2000-03-03 2000-03-03 プラズマディスプレイの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001250474A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024177327A1 (ko) * 2023-02-23 2024-08-29 주식회사 엘지에너지솔루션 전극의 패턴 형성 방법 및 전극을 제조하는 방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024177327A1 (ko) * 2023-02-23 2024-08-29 주식회사 엘지에너지솔루션 전극의 패턴 형성 방법 및 전극을 제조하는 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100434977B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널, 그 제조방법 및 그 제조장치
JPH0912336A (ja) 基板上への隔壁形成方法
JP4162039B2 (ja) 表示パネルの組立てに用いる基板構体の製造方法
US20030040245A1 (en) Method for manufacturing additive soft mold for forming barrier ribs of PDP and method for forming barrier ribs
JP2001250474A (ja) プラズマディスプレイの製造方法
JPH10319875A (ja) プラズマアドレス表示装置の製造方法
KR100560485B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 인쇄장치 및 이를이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법
JP2001287473A (ja) 厚膜パターン形成用凸版、これを用いた厚膜パターン形成方法、および厚膜パターン形成用凸版の製造方法
EP1760750B1 (en) Master mold for offset process and pattern formation method using the same
JPH08222135A (ja) プラズマディスプレイパネルの製造方法
JPH11329226A (ja) 平面表示装置用ガラス基板の製造方法
JP3918897B2 (ja) プラズマディスプレイパネル隔壁形成方法
JP4200289B2 (ja) プラズマディスプレイ装置の製造方法
JP4232534B2 (ja) プラズマディスプレイ装置の製造方法
JP4447710B2 (ja) フラットパネルディスプレイ用ガラス構造の作成方法
JP4590664B2 (ja) プラズマアドレス液晶パネルの背面板及びその製造方法
JP2000277011A (ja) 放電型表示装置の背面側基板の製造方法
JP4195987B2 (ja) プラズマディスプレイ装置の製造方法
JP2007080825A (ja) プラズマディスプレイパネルの製造方法
KR100366092B1 (ko) 감광성 필름과, 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의제조방법
JPH10289656A (ja) プラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法及びそれに用いられる隔壁形成用部材の製造方法
JP4265278B2 (ja) プラズマディスプレイ装置の製造方法
KR100519913B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법
JP3480175B2 (ja) 表示パネルの隔壁形成方法
JP2002134006A (ja) プラズマディスプレイ表示装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20040812

A621 Written request for application examination

Effective date: 20040812

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20060606

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20060620

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060920

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20061017

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20070313

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02