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JP2001244782A - Surface acoustic wave device and its manufacturing method - Google Patents

Surface acoustic wave device and its manufacturing method

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Publication number
JP2001244782A
JP2001244782A JP2000051006A JP2000051006A JP2001244782A JP 2001244782 A JP2001244782 A JP 2001244782A JP 2000051006 A JP2000051006 A JP 2000051006A JP 2000051006 A JP2000051006 A JP 2000051006A JP 2001244782 A JP2001244782 A JP 2001244782A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acoustic wave
surface acoustic
wave device
base substrate
coating film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000051006A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Reiko Kobayashi
林 玲 子 小
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2000051006A priority Critical patent/JP2001244782A/en
Publication of JP2001244782A publication Critical patent/JP2001244782A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cap-less surface acoustic wave device that prevents production of chipping or cracks and enhances reliability and yield. SOLUTION: A coating film 4 for protecting a non-electrode forming face is formed on the non-electrode forming face of a surface acoustic wave element 10. The coating film 4 is made of a resin or a silicon oxide film. Thus, occurrence of chipping or cracks of the element can be prevented and reliability and yield are enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面波デバイス及
びその製造方法に係わり、特に移動体通信用端末の周波
数フィルタ等として好適な弾性表面波デバイス及びその
製造方法に関する。
The present invention relates to a surface acoustic wave device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a surface acoustic wave device suitable as a frequency filter of a mobile communication terminal and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】弾性表面波デバイスは、圧電体上に薄膜
金属から成る櫛歯状電極(IDT:InterDigital Transduce
r)が設けられており、電気信号と弾性表面波(SAW)と
の変換を行って信号を送受信するデバイスであり、弾性
表面波フィルタや弾性表面波共振子、遅延回路等に用い
られている。
2. Description of the Related Art A surface acoustic wave device is composed of a comb-shaped electrode (IDT: InterDigital Transduce) made of a thin film metal on a piezoelectric body.
r) is a device that converts an electric signal to a surface acoustic wave (SAW) to transmit and receive signals, and is used for surface acoustic wave filters, surface acoustic wave resonators, delay circuits, etc. .

【0003】このような弾性表面波デバイスは、薄型化
・小型化が可能であるという長所を有することにより、
近年、特に携帯電話等の移動体通信の分野で広く用いら
れるに至っている。
[0003] Such a surface acoustic wave device has an advantage that it can be made thinner and smaller.
In recent years, it has been widely used especially in the field of mobile communication such as a mobile phone.

【0004】そして、携帯電話等の小型化に伴い、弾性
表面波デバイスヘの小型化・薄型化の要求も益々厳しく
なってきている。
[0004] With the downsizing of mobile phones and the like, demands for downsizing and thinning of surface acoustic wave devices have become more and more severe.

【0005】そこで、弾性表面波デバイスのパッケージ
を、圧電体とほぼ同じ面積の平板状べ一ス基板と圧電体
とで構成し、キャップレス構造とすることが行われてい
る。
[0005] Therefore, a package of a surface acoustic wave device is constituted by a plate-like base substrate having substantially the same area as a piezoelectric body and a piezoelectric body to form a capless structure.

【0006】従来のキャップレス型弾性表面波デバイス
は、次のような方法により製造されていた。
A conventional capless surface acoustic wave device has been manufactured by the following method.

【0007】図5(a)に示されるように、圧電体21
上に櫛歯状電極22及び端子電極23を形成し、弾性表
面波素子30を構成する。
[0007] As shown in FIG.
A comb-shaped electrode 22 and a terminal electrode 23 are formed thereon to form a surface acoustic wave device 30.

【0008】図5(b)に示されるように、端子電極2
3上に金属バンプ等の凸状導電物25を、ボンディング
又はスクリーン印刷等によって形成する。
[0008] As shown in FIG.
3, a convex conductive material 25 such as a metal bump is formed by bonding, screen printing, or the like.

【0009】一方、図6(a)に示されたように、平板
31に外部接続端子33及び素子接続端子32を形成
し、平板状のベース基板40を構成する。
On the other hand, as shown in FIG. 6A, external connection terminals 33 and element connection terminals 32 are formed on a flat plate 31 to form a flat base substrate 40.

【0010】図6(b)のように、素子接続端子32及
び基板外周部の表面上に、スクリーン印刷等により導電
性接着剤34、35を塗布形成する。
As shown in FIG. 6B, conductive adhesives 34 and 35 are applied on the element connection terminals 32 and the outer peripheral surface of the substrate by screen printing or the like.

【0011】図7(a)に示されたように、弾性表面波
素子30をベース基板40に対して、凸状導電物25に
よりフェイスダウンボンディングする。この後、熱工程
により導電性接着剤34、35を硬化させることによ
り、図7(b)のように弾性表面波素子30をベース基
板40上に固定するとともに、素子表面を封止する。
As shown in FIG. 7A, the surface acoustic wave element 30 is face-down bonded to the base substrate 40 by the convex conductive material 25. Thereafter, by curing the conductive adhesives 34 and 35 by a heat process, the surface acoustic wave element 30 is fixed on the base substrate 40 and the element surface is sealed as shown in FIG. 7B.

【0012】ここで、弾性表面波素子30は、ウェーハ
の表面状に多数個取りで形成された状態から、個片にダ
イシングにより切断された後、ベース基板40上にフェ
イスダウンボンディングにより接続される。
Here, the surface acoustic wave element 30 is cut into individual pieces by dicing from a state in which a plurality of pieces are formed on the surface of the wafer, and then connected to the base substrate 40 by face-down bonding. .

【0013】一方、べ一ス基板40は多数個取りで形成
された後、弾性表面波素子30を実装された後に個片に
切断される。
On the other hand, after the base substrate 40 is formed in multiple pieces, the surface acoustic wave element 30 is mounted and then cut into individual pieces.

【0014】しかし、弾性表面波素子30とベース基板
40とは寸法が同一である。このため、べース基板40
の材質や厚さの選定次第では、多数個取りの素子を多数
個取りのべ一ス基板40に接続して接着剤で固定した後
に、素子30とベース基板40とをまとめて個々のデバ
イスに切断する場合もある。
However, the dimensions of the surface acoustic wave element 30 and the base substrate 40 are the same. For this reason, the base substrate 40
Depending on the selection of the material and thickness of the device, after the multi-cavity element is connected to the multi-cavity base substrate 40 and fixed with an adhesive, the device 30 and the base substrate 40 are put together into individual devices. It may be cut.

【0015】このように、素子30とベース基板40の
切断は、材質や厚さ等に応じて都合の良い段階で行われ
ていた。
As described above, the cutting of the element 30 and the base substrate 40 has been performed at a convenient stage according to the material, thickness and the like.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の表面波
デバイス及びその製造方法には、次のような問題があっ
た。
However, the conventional surface acoustic wave device and its manufacturing method have the following problems.

【0017】上述したように、小型化・薄型化のため弾
性波素子30の裏面側にはキャップがマウントされてい
ない。このため、図8(a)に示されたように、弾性波
素子30の裏面は露出している。よって、切断工程や搬
送行程、あるいはデバイスのプリント基板への実装工程
等において、図8(b)に示されたようにチップ欠けが
生じたり、図8(c)のように割れ等が発生し、信頼性
や歩留まりの低下を招いていた。
As described above, the cap is not mounted on the back surface of the acoustic wave device 30 for miniaturization and thinning. Therefore, as shown in FIG. 8A, the back surface of the acoustic wave device 30 is exposed. Therefore, in the cutting step, the transporting step, the step of mounting the device on the printed circuit board, or the like, chip chipping occurs as shown in FIG. 8B, or cracks occur as shown in FIG. This has led to a decrease in reliability and yield.

【0018】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、キャップレス型のデバイスにおいて、信頼性及
び歩留まりの向上を実現することが可能な弾性表面波デ
バイス及びその製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a surface acoustic wave device capable of improving reliability and yield in a capless device and a method of manufacturing the same. With the goal.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明の弾性表面波デバ
イスは、圧電体上に櫛歯状電極及び端子電極が形成され
た弾性表面波素子と、外部接続端子及び素子接続端子が
表面上に形成されたベース基板と、前記弾性表面波素子
の前記端子電極と前記べース基板の前記素子接続端子と
を電気的に接続する接続体と、前記弾性表面波素子と前
記ベース基板の外周部とを封止する封止体と、前記弾性
表面波素子の非電極形成面に成膜された被覆膜とを備え
たことを特徴としている。
A surface acoustic wave device according to the present invention comprises a surface acoustic wave element having a comb-shaped electrode and a terminal electrode formed on a piezoelectric body, and an external connection terminal and an element connection terminal on the surface. A formed base substrate, a connection body for electrically connecting the terminal electrode of the surface acoustic wave element and the element connection terminal of the base substrate, and an outer peripheral portion of the surface acoustic wave element and the base substrate And a coating film formed on the non-electrode forming surface of the surface acoustic wave element.

【0020】ここで、前記被覆膜は樹脂を用いて成膜さ
れていてもよく、あるいは圧電体より硬度の高い材料を
用いて成膜されていてもよい。
Here, the coating film may be formed using a resin, or may be formed using a material having a higher hardness than the piezoelectric body.

【0021】本発明の弾性表面波デバイスの製造方法
は、圧電体上に櫛歯状電極及び端子電極を設けて弾性表
面波素子を形成する工程と、前記圧電体の非電極形成面
に被覆膜を成膜する工程と、前記弾性表面波素子の前記
端子電極上に接続体を設ける工程と、外部接続端子及び
素子接続端子が形成されたベース基板における前記素子
接続端子上に導電性を有する接着剤を塗布し、外周領域
に導電性又は絶縁性を有する接着剤を塗布する工程と、
前記弾性表面波素子の前記端子電極と前記ベース基板の
前記素子接続端子とを、前記接続体を介して接続した状
態で、前記弾性表面波素子と前記ベース基板とを前記接
着剤で固定及び封止する工程とを備えたことを特徴とす
る ここで、被覆膜を樹脂のスクリーン印刷により成膜して
もよく、あるいは樹脂のスピンコートにより成膜しても
よい。あるいはまた、薄膜をスパッタリング又は蒸着に
より成膜してもよい。
According to the method of manufacturing a surface acoustic wave device of the present invention, a step of providing a comb-shaped electrode and a terminal electrode on a piezoelectric body to form a surface acoustic wave element, and a step of coating the non-electrode forming surface of the piezoelectric body Forming a film, providing a connection body on the terminal electrode of the surface acoustic wave element, and having conductivity on the element connection terminal of the base substrate on which the external connection terminal and the element connection terminal are formed. Applying an adhesive, a step of applying an adhesive having conductivity or insulation in the outer peripheral region,
In a state where the terminal electrode of the surface acoustic wave element and the element connection terminal of the base substrate are connected via the connection body, the surface acoustic wave element and the base substrate are fixed and sealed with the adhesive. Here, the step of stopping is provided. The coating film may be formed by screen printing of a resin, or may be formed by spin coating of a resin. Alternatively, a thin film may be formed by sputtering or vapor deposition.

【0022】このように、本発明の弾性表面波デバイス
は、素子の裏面を被覆膜で保護することにより、キャッ
プレスで小型かつ薄型を確保した状態で、素子の欠けや
割れ等の発生を防止することができる。このような弾性
表面波デバイスは、本発明の製造方法により得ることが
できる。
As described above, the surface acoustic wave device of the present invention protects the back surface of the element with the coating film to prevent chipping and cracking of the element in a state where the element is small and thin without caps. Can be prevented. Such a surface acoustic wave device can be obtained by the manufacturing method of the present invention.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態による
弾性表面波デバイスの構成及びその製造方法について、
工程別の素子断面図を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a configuration of a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention and a method of manufacturing the same will be described.
A description will be given with reference to element cross-sectional views for each process.

【0024】図1(a)に示されるように、圧電体1上
に櫛歯状電極2及び端子電極3を形成し、弾性表面波素
子10を構成する。
As shown in FIG. 1A, a comb-shaped electrode 2 and a terminal electrode 3 are formed on a piezoelectric body 1 to form a surface acoustic wave device 10.

【0025】図1(b)のように、圧電体1における電
極2及び3が形成されていない裏面に、樹脂をスクリー
ン印刷又はスピンコート等で1〜50μmの厚さで塗布
し、被覆膜4を形成する。塗布成膜する樹脂としてはシ
リコン系樹脂、エポキシ系樹脂や、ポリイミド等の樹脂
材料を用いることができる。
As shown in FIG. 1B, a resin is applied to the back surface of the piezoelectric body 1 on which the electrodes 2 and 3 are not formed by screen printing or spin coating to a thickness of 1 to 50 μm. 4 is formed. As a resin to be applied and formed, a resin material such as a silicon-based resin, an epoxy-based resin, and polyimide can be used.

【0026】図1(c)のように、端子電極3上に金属
バンプ等の凸状導電物5を、ボンディング又はスクリー
ン印刷等によって形成する。
As shown in FIG. 1C, a convex conductive material 5 such as a metal bump is formed on the terminal electrode 3 by bonding or screen printing.

【0027】一方、図2(a)に示されたように、平板
11に外部接続端子13及び素子接続端子12を形成
し、平板状のベース基板20を構成する。
On the other hand, as shown in FIG. 2A, an external connection terminal 13 and an element connection terminal 12 are formed on a flat plate 11 to form a flat base substrate 20.

【0028】図2(b)のように、素子接続端子12及
び基板外周部の表面上に、スクリーン印刷等により導電
性接着剤14、15を塗布形成する。
As shown in FIG. 2B, conductive adhesives 14 and 15 are applied on the element connection terminals 12 and the outer peripheral surface of the substrate by screen printing or the like.

【0029】図3(a)に示されたように、弾性表面波
素子10をベース基板20に対して、凸状導電物5によ
りフェイスダウンボンディングする。この後、熱工程に
より導電性接着剤14、15を硬化させることにより、
図3(b)のように弾性表面波素子10をベース基板2
0上に固定するとともに素子表面を封止し、弾性表面波
デバイスを得る。
As shown in FIG. 3A, the surface acoustic wave device 10 is face-down bonded to the base substrate 20 by the convex conductive material 5. Thereafter, by curing the conductive adhesives 14 and 15 by a heat process,
As shown in FIG. 3B, the surface acoustic wave element 10 is
The surface of the element is fixed on the substrate and the surface of the element is sealed to obtain a surface acoustic wave device.

【0030】ここで、素子接続端子12には導電性接着
剤14を塗布形成する必要があるが、基板外周領域に塗
布形成する接着剤15は、必ずしも導電性接着剤である
必要はなく、絶縁性接着剤であってもよい。この場合
は、接着剤14、15の塗布を2回に分けて行うことで
実現が可能である。
Here, it is necessary to apply a conductive adhesive 14 to the element connection terminals 12, but the adhesive 15 applied to the outer peripheral region of the substrate is not necessarily required to be a conductive adhesive. An adhesive may be used. In this case, the application of the adhesives 14 and 15 can be realized by performing the application twice.

【0031】ここで、弾性表面波素子10は、ウェーハ
の表面上に多数個取りで形成した状態からダイシングに
より個片に切断した後、ベース基板20上にフェイスダ
ウンボンディングにより接続してもよい。
Here, the surface acoustic wave device 10 may be cut into individual pieces by dicing from a state of being formed in multiple pieces on the surface of the wafer, and then connected to the base substrate 20 by face-down bonding.

【0032】一方、べ一ス基板20は多数個取りで形成
された後、弾性表面波素子10を実装した後、個片に切
断してもよい。
On the other hand, after the base substrate 20 is formed in multiple pieces, the surface acoustic wave element 10 may be mounted and then cut into individual pieces.

【0033】しかし、素子10とベース基板20とは寸
法が同一である。このため、ベース基板20の材料や厚
さの選定によっては、多数個取りの素子10を多数個取
りのベース基板20にフェイスダウンボンディングして
接着固定した後、素子10及びベース基板20とをまと
めて個片に切断することが可能である。このような工程
とすることで、製造効率が向上する。
However, the dimensions of the element 10 and the base substrate 20 are the same. For this reason, depending on the selection of the material and thickness of the base substrate 20, after the multi-piece device 10 is face-down bonded and fixed to the multi-piece base substrate 20, the device 10 and the base substrate 20 are combined. Can be cut into individual pieces. By adopting such a process, manufacturing efficiency is improved.

【0034】また、弾性表面波素子10に被覆膜4を成
膜する工程は、ウェーハに多数個取りをしており切断す
る前の段階で行うことにより効率が向上する。
Further, the efficiency of the process of forming the coating film 4 on the surface acoustic wave element 10 is improved by performing the process before cutting the wafer by cutting a large number of wafers.

【0035】本実施の形態によれば、図4(a)に示さ
れたように素子の裏面側に被覆膜4が成膜されている。
従って、搬送、切断、搭載等の工程において応力が印加
された場合にも、図4(b)のように割れや欠け等の発
生が防止される。
According to the present embodiment, as shown in FIG. 4A, the coating film 4 is formed on the back side of the device.
Accordingly, even when stress is applied in the steps of transporting, cutting, mounting, and the like, the occurrence of cracks, chips, and the like as shown in FIG. 4B is prevented.

【0036】塗布成膜された樹脂膜は、チップに外力が
加わった場合に応力を緩和する働きをするため、チップ
の破損を防ぐことができる。またこの樹脂膜は、スクリ
ーン印刷やスピンコート等の成膜方法によりチップ裏面
に平滑に形成される。このため、フェイスダウンボンデ
ィング時に、ボンディングされる各バンプに均一に圧力
を印加することができ、良好な接続状態を得ることがで
きる。また樹脂膜の厚みは、チップに加わる応力を緩和
するために1μmであることが好ましい。また成膜後に
チップの分離を行うため、ダイシングの容易さを考慮す
ると50μm以下であることが好ましい。
The resin film formed by coating acts to relieve stress when an external force is applied to the chip, so that damage to the chip can be prevented. Further, this resin film is formed smoothly on the back surface of the chip by a film forming method such as screen printing or spin coating. Therefore, during face-down bonding, pressure can be uniformly applied to each of the bumps to be bonded, and a good connection state can be obtained. The thickness of the resin film is preferably 1 μm in order to reduce the stress applied to the chip. In addition, in order to separate chips after film formation, the thickness is preferably 50 μm or less in consideration of easiness of dicing.

【0037】また被覆膜として、シリコン酸化膜、シリ
コン窒化膜等の無機膜を用いることもできる。即ち、圧
電基板よりも硬度が高いものを用いることにより、チッ
プを補強して破損を防ぐことができる。これらの膜はス
パッタリング法、蒸着法等の成膜方法を用いて形成され
る。その際被覆膜の厚みは、チップの外力耐性向上させ
るために50nm以上であることが好ましく、また薄膜
工程により製作されるため生産効率を考慮すると1μm
以下であることが好ましい。
Further, as the coating film, an inorganic film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film can be used. That is, by using a material having a higher hardness than the piezoelectric substrate, the chip can be reinforced to prevent breakage. These films are formed by a film formation method such as a sputtering method or an evaporation method. At this time, the thickness of the coating film is preferably 50 nm or more in order to improve the external force resistance of the chip.
The following is preferred.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、キ
ャップレス型の弾性表面波素子における非電極形成面に
被覆膜を成膜したことにより、小型・薄型を確保しつ
つ、素子の割れや欠け等の破損を防止し、信頼性及び歩
留まりの向上を実現することが可能である。
As described above, according to the present invention, a coating film is formed on a non-electrode forming surface of a capless surface acoustic wave device, so that the device can be reduced in size and thickness while maintaining a small size. It is possible to prevent breakage such as cracking and chipping, and to improve reliability and yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による弾性表面波デバイ
スの構成及びその製造方法を工程別に示した素子の縦断
面図。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an element showing a configuration of a surface acoustic wave device according to an embodiment of the present invention and a method for manufacturing the same in each step.

【図2】同実施の形態による弾性表面波デバイスの構成
及びその製造方法を工程別に示した素子の縦断面図。
FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of an element showing a configuration of the surface acoustic wave device according to the embodiment and a method of manufacturing the same in each step.

【図3】同実施の形態による弾性表面波デバイスの構成
及びその製造方法を工程別に示した素子の縦断面図。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of the element showing the configuration of the surface acoustic wave device according to the embodiment and a method of manufacturing the same in each step.

【図4】同実施の形態による弾性表面波デバイスに応力
が印加された場合にも割れや欠けの発生が防止されるこ
とを示した縦断面図。
FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing that occurrence of cracks and chips is prevented even when stress is applied to the surface acoustic wave device according to the embodiment.

【図5】従来の弾性表面波デバイスの構成及びその製造
方法を工程別に示した素子の縦断面図。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view of an element showing a configuration of a conventional surface acoustic wave device and a method of manufacturing the same in each step.

【図6】同弾性表面波デバイスの構成及びその製造方法
を工程別に示した素子の縦断面図。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view of the element showing the configuration of the surface acoustic wave device and the method of manufacturing the same for each process.

【図7】同弾性表面波デバイスの構成及びその製造方法
を工程別に示した素子の縦断面図。
FIG. 7 is a longitudinal sectional view of an element showing the configuration of the surface acoustic wave device and a method of manufacturing the same for each process.

【図8】同弾性表面波デバイスに応力が印加された場合
に割れや欠けが発生することを示した縦断面図。
FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing that cracking and chipping occur when stress is applied to the surface acoustic wave device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 圧電体 2 櫛歯状電極 3 端子電極 4 被覆膜 5 導電物 10 弾性表面波素子 11 平板 12 素子接続端子 13 外部接続端子 14、15 接着剤 20 ベース基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Piezoelectric body 2 Comb-shaped electrode 3 Terminal electrode 4 Coating film 5 Conductor 10 Surface acoustic wave element 11 Flat plate 12 Element connection terminal 13 External connection terminal 14, 15 Adhesive 20 Base substrate

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】圧電体上に櫛歯状電極及び端子電極が形成
された弾性表面波素子と、 外部接続端子及び素子接続端子が表面上に形成されたベ
ース基板と、 前記弾性表面波素子の前記端子電極と前記べース基板の
前記素子接続端子とを電気的に接続する接続体と、 前記弾性表面波素子と前記ベース基板の外周部とを封止
する封止体と、 前記弾性表面波素子の非電極形成面に成膜された被覆膜
と、 を備えたことを特徴とする弾性表面波デバイス。
A surface acoustic wave element having a comb-shaped electrode and terminal electrodes formed on a piezoelectric body; a base substrate having external connection terminals and element connection terminals formed on a surface; A connection body for electrically connecting the terminal electrode and the element connection terminal of the base substrate; a sealing body for sealing the surface acoustic wave element and an outer peripheral portion of the base substrate; And a coating film formed on the non-electrode forming surface of the wave element.
【請求項2】前記被覆膜は、樹脂を用いて成膜されてい
ることを特徴とする請求項1記載の弾性表面波デバイ
ス。
2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein said coating film is formed using a resin.
【請求項3】前記被覆膜は、圧電体より硬度の高い材料
を用いて成膜されていることを特徴とする請求項1項記
載の弾性表面波デバイス。
3. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein said coating film is formed using a material having a higher hardness than a piezoelectric material.
【請求項4】圧電体上に櫛歯状電極及び端子電極を設け
て弾性表面波素子を形成する工程と、 前記圧電体の非電極形成面に被覆膜を成膜する工程と、 前記弾性表面波素子の前記端子電極上に接続体を設ける
工程と、 外部接続端子及び素子接続端子が形成されたベース基板
における前記素子接続端子上に導電性を有する接着剤を
塗布し、外周領域に導電性又は絶縁性を有する接着剤を
塗布する工程と、 前記弾性表面波素子の前記端子電極と前記ベース基板の
前記素子接続端子とを、前記接続体を介して接続した状
態で、前記弾性表面波素子と前記ベース基板とを前記接
着剤で固定及び封止する工程と、 を備えたことを特徴とする弾性表面波デバイスの製造方
法。
4. A step of forming a surface acoustic wave element by providing a comb-shaped electrode and a terminal electrode on a piezoelectric body; a step of forming a coating film on a non-electrode forming surface of the piezoelectric body; Providing a connector on the terminal electrode of the surface acoustic wave element; applying an adhesive having conductivity to the element connection terminal on the base substrate on which the external connection terminal and the element connection terminal are formed; Applying an adhesive having a property or an insulating property, and the surface acoustic wave in a state where the terminal electrode of the surface acoustic wave element and the element connection terminal of the base substrate are connected via the connection body. Fixing and sealing the element and the base substrate with the adhesive. A method for manufacturing a surface acoustic wave device, comprising:
【請求項5】前記被覆膜を成膜する工程は、樹脂をスク
リーン印刷により成膜することを特徴とする請求項4記
載の弾性表面波デバイスの製造方法。
5. The method for manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 4, wherein in the step of forming the coating film, a resin is formed by screen printing.
【請求項6】前記被覆膜を成膜する工程は、樹脂をスピ
ンコートにより成膜することを特徴とする請求項4記載
の弾性表面波デバイスの製造方法。
6. The method for manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 4, wherein in the step of forming the coating film, a resin is formed by spin coating.
【請求項7】前記被覆膜を成膜する工程は、薄膜をスパ
ッタリング又は蒸着により成膜することを特徴とする請
求項4記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
7. The method for manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 4, wherein in the step of forming the coating film, a thin film is formed by sputtering or vapor deposition.
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