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JP2001239526A - Mold, method of manufacturing the same, and method of manufacturing anisotropic conductive sheet - Google Patents

Mold, method of manufacturing the same, and method of manufacturing anisotropic conductive sheet

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Publication number
JP2001239526A
JP2001239526A JP2000057220A JP2000057220A JP2001239526A JP 2001239526 A JP2001239526 A JP 2001239526A JP 2000057220 A JP2000057220 A JP 2000057220A JP 2000057220 A JP2000057220 A JP 2000057220A JP 2001239526 A JP2001239526 A JP 2001239526A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
layer
mold
particles
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000057220A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazumi Hanawa
一美 塙
Masaya Naoi
雅也 直井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP2000057220A priority Critical patent/JP2001239526A/en
Publication of JP2001239526A publication Critical patent/JP2001239526A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 シート成形材料層に対して十分な強度分布を
有する磁場を形成することができ、ピッチが小さくて複
雑なパターンの導電部を有し、かつ、導電部間において
所要の絶縁性を有する異方導電性シートを成形すること
が可能な金型およびその製造方法、並びにこの金型を用
いた異方導電性シートの製造方法。 【解決手段】 本発明の金型は、磁性体よりなる基板上
に、複数の磁性体部が互いに離間して形成されてなる金
型であって、前記基板上に形成された、複数の貫通孔を
有する非磁性体層と、この非磁性体層の貫通孔を塞ぐよ
う設けられた蓋材とを有し、前記磁性体部は、前記非磁
性体層の貫通孔内における前記基板と前記蓋材との間の
空間に充填された磁性体粒子によって構成されている。
(57) [Problem] To form a magnetic field having a sufficient intensity distribution with respect to a sheet molding material layer, to have a conductive part of a complicated pattern with a small pitch, and Kind Code: A1 A mold capable of forming an anisotropic conductive sheet having a required insulating property, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing an anisotropic conductive sheet using the mold. SOLUTION: The mold according to the present invention is a mold in which a plurality of magnetic portions are formed on a substrate made of a magnetic material while being separated from each other, and a plurality of through-holes formed on the substrate are provided. A non-magnetic material layer having a hole, and a cover member provided to close the through-hole of the non-magnetic material layer, wherein the magnetic material portion includes the substrate and the substrate in the through-hole of the non-magnetic material layer. It is composed of magnetic particles filled in a space between the cover and the cover.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電子部品な
どの回路装置相互間の電気的接続や、プリント回路基
板、半導体集積回路などの回路装置の電気的検査に用い
られるコネクターとして好適な異方導電性シートを成形
するために好ましく用いられる金型およびその製造方
法、並びにこの金型を用いた異方導電性シートの製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anisotropic connector suitable for use in electrical connection between circuit devices such as electronic components and for electrical inspection of circuit devices such as printed circuit boards and semiconductor integrated circuits. The present invention relates to a mold preferably used for forming a conductive sheet and a method for producing the same, and a method for producing an anisotropic conductive sheet using the mold.

【0002】[0002]

【従来の技術】異方導電性シートは、厚み方向にのみ導
電性を示すもの、または厚み方向に加圧されたときに厚
み方向にのみ導電性を示す加圧導電性導電部を有するも
のであり、ハンダ付けあるいは機械的嵌合などの手段を
用いずにコンパクトな電気的接続を達成することが可能
であること、機械的な衝撃やひずみを吸収してソフトな
接続が可能であることなどの特長を有するため、このよ
うな特長を利用して、例えば電子計算機、電子式デジタ
ル時計、電子カメラ、コンピューターキーボードなどの
分野において、回路装置、例えばプリント回路基板とリ
ードレスチップキャリアー、液晶パネルなどとの相互間
の電気的な接続を達成するためのコネクターとして広く
用いられている。
2. Description of the Related Art An anisotropic conductive sheet is a sheet having conductivity only in a thickness direction or a pressurized conductive portion having conductivity only in the thickness direction when pressed in the thickness direction. Yes, compact electrical connection can be achieved without using means such as soldering or mechanical fitting, and soft connection is possible by absorbing mechanical shock and strain Utilizing such features, circuit devices such as printed circuit boards and leadless chip carriers, liquid crystal panels, etc., in the fields of electronic calculators, electronic digital watches, electronic cameras, computer keyboards, etc. It is widely used as a connector for achieving an electrical connection between the two.

【0003】また、プリント回路基板や半導体集積回路
などの回路装置の電気的検査においては、検査対象であ
る回路装置の一面に形成された被検査電極と、検査用回
路基板の表面に形成された検査用電極との電気的な接続
を達成するために、回路装置の被検査電極領域と検査用
回路基板の検査用電極領域との間に異方導電性シートを
介在させることが行われている。
In electrical inspection of a circuit device such as a printed circuit board or a semiconductor integrated circuit, an electrode to be inspected formed on one surface of a circuit device to be inspected and an electrode formed on the surface of the inspection circuit substrate. In order to achieve electrical connection with the test electrode, an anisotropic conductive sheet is interposed between the test electrode region of the circuit device and the test electrode region of the test circuit board. .

【0004】従来、このような異方導電性シートとして
は、種々の構造のものが知られており、例えば特開昭5
1−93393号公報等には、金属粒子をエラストマー
中に均一に分散して得られる異方導電性シート(以下、
これを「分散型異方導電性シート」という。)が開示さ
れ、また、特開昭53−147772号公報等には、導
電性磁性体粒子をエラストマー中に不均一に分布させる
ことにより、厚み方向に伸びる多数の導電部と、これら
を相互に絶縁する絶縁部とが形成されてなる異方導電性
シート(以下、これを「偏在型異方導電性シート」とい
う。)が開示され、更に、特開昭61−250906号
公報等には、導電部の表面と絶縁部との間に段差が形成
された偏在型異方導電性シートが開示されている。そし
て、偏在型異方導電性シートは、接続すべき回路装置の
電極パターンと対掌のパターンに従って導電部が形成さ
れているため、分散型異方導電性エラストマーシートに
比較して、接続すべき電極が小さいピッチで配置されて
いる回路装置などに対しても電極間の電気的接続を高い
信頼性で達成することができる点で、有利である。
Conventionally, as such an anisotropic conductive sheet, those having various structures are known.
Patent Document 1-93393 discloses an anisotropic conductive sheet obtained by uniformly dispersing metal particles in an elastomer (hereinafter, referred to as an anisotropic conductive sheet).
This is called a “dispersed anisotropic conductive sheet”. JP-A-53-147772 discloses that a large number of conductive portions extending in the thickness direction are formed by distributing conductive magnetic particles unevenly in an elastomer. An anisotropic conductive sheet formed with an insulating portion to be insulated (hereinafter referred to as an “eccentrically-distributed anisotropic conductive sheet”) is disclosed. Further, JP-A-61-250906 discloses a sheet. An unevenly distributed anisotropic conductive sheet in which a step is formed between a surface of a conductive portion and an insulating portion is disclosed. Then, since the unevenly distributed anisotropic conductive sheet has a conductive portion formed in accordance with the pattern opposite to the electrode pattern of the circuit device to be connected, it should be connected compared to the dispersed type anisotropic conductive elastomer sheet. This is advantageous in that electrical connection between the electrodes can be achieved with high reliability even in a circuit device in which the electrodes are arranged at a small pitch.

【0005】上記のような偏在型異方導電性シートを製
造する方法としては、特殊な異方導電性シート成形金型
を用い、この異方導電性シート成形金型の成形空間内
に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質用材料
中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなるシート成形
材料層を形成し、このシート成形材料層に対してその厚
み方向に強度分布を有する磁場を作用させ、その磁力の
作用によって導電性粒子を移動させて導電部となる部分
に集合させ、更には導電性粒子を厚み方向に並ぶよう配
向させ、その状態で当該シート成形材料層を硬化する方
法が知られている。
[0005] As a method for producing the above-described unevenly distributed anisotropic conductive sheet, a special anisotropic conductive sheet molding die is used, and a curing space is formed in the molding space of the anisotropic conductive sheet molding die. Forming a sheet molding material layer containing conductive particles exhibiting magnetism in a material for a polymer substance to be an elastic polymer substance, and having a strength distribution in the thickness direction with respect to the sheet molding material layer. A magnetic field is applied, and the conductive particles are moved by the action of the magnetic force to be aggregated in a portion to be a conductive portion, and further the conductive particles are oriented so as to be aligned in a thickness direction, and the sheet molding material layer is cured in that state. There are known ways to do this.

【0006】上記の異方導電性シートの製造方法に用い
られる異方導電性シート成形金型は、それぞれ全体の形
状が略平板状であって互いに対応する上型と下型とより
なり、上型および下型が電磁石に装着可能に構成される
か、若しくは電磁石と一体的に構成され、シート成形材
料層に磁場を作用させながら当該シート成形材料層を加
熱硬化することができる構造のものである。また、シー
ト成形材料層に磁場を作用させて適正な位置に導電部を
形成するために、異方導電性シート成形金型における上
型、あるいは上型および下型の両方は、鉄、ニッケル等
の強磁性体からなる基板上に、金型内の磁場に強度分布
を生じさせるための鉄、ニッケル等よりなる強磁性体部
分と、銅等の非磁性金属若しくは樹脂よりなる非磁性体
部分とをモザイク状に配列した層(以下、「モザイク
層」という。)を有する構成のものであり、上型および
下型の成形面は、平坦であるか若しくは形成すべき異方
導電性シートの導電部に対応してわずかな凹凸を有する
ものである。
The anisotropic conductive sheet molding dies used in the above-described method for producing an anisotropic conductive sheet have an upper plate and a lower die, each of which has a substantially flat plate shape and correspond to each other. The mold and the lower mold are configured to be attachable to the electromagnet, or are configured integrally with the electromagnet, and have a structure capable of heating and curing the sheet molding material layer while applying a magnetic field to the sheet molding material layer. is there. Further, in order to form a conductive portion at an appropriate position by applying a magnetic field to the sheet molding material layer, the upper mold, or both the upper mold and the lower mold in the anisotropic conductive sheet molding mold are made of iron, nickel, or the like. On a substrate made of a ferromagnetic material, a ferromagnetic portion made of iron, nickel, or the like for generating an intensity distribution in a magnetic field in a mold, and a nonmagnetic material portion made of a nonmagnetic metal or resin such as copper. Are arranged in a mosaic pattern (hereinafter, referred to as a “mosaic layer”), and the molding surfaces of the upper mold and the lower mold are flat or conductive of an anisotropic conductive sheet to be formed. It has slight irregularities corresponding to the portions.

【0007】上記の異方導電性シート成形金型によれ
ば、シート成形材料層に対して電磁石によって強度分布
を有する磁場を形成することができる。そして、このよ
うな異方導電性シート成形金型において、モザイク層に
おける強磁性体部分と非磁性体部分との配置、形状等
は、成形すべき異方導電性シートに基づいて決定され
る。すなわち、異方導電性シートの導電部に相当する箇
所に強磁性体部分が配置され、その強磁性体部分の形状
が導電部の断面形状に適合したものである。そして、ピ
ッチが小さくて複雑なパターンの導電部を有し、かつ、
隣接する導電部間において所要の絶縁性を有する異方導
電性シートを製造するためには、シート成形材料層に対
して十分な強度分布を有する磁場を作用させること、す
なわちシート成形材料層における導電部を形成すべき部
分(以下、「導電部形成部分」ともいう。)に、当該導
電部形成部分以外の部分よりも極めて高い強度の磁場を
作用させることが必要であり、そのためには、異方導電
性シート成形用金型においては、アスペクト比(径また
は幅に対する厚みの比率)が高い強磁性体部分を有する
モザイク層を形成することが要求される。
According to the anisotropic conductive sheet molding die described above, a magnetic field having an intensity distribution can be formed on the sheet molding material layer by an electromagnet. In such an anisotropic conductive sheet molding die, the arrangement, shape, and the like of the ferromagnetic portion and the nonmagnetic portion in the mosaic layer are determined based on the anisotropic conductive sheet to be formed. That is, the ferromagnetic portion is disposed at a position corresponding to the conductive portion of the anisotropic conductive sheet, and the shape of the ferromagnetic portion is adapted to the cross-sectional shape of the conductive portion. And it has a conductive part of a complicated pattern with a small pitch, and
In order to produce an anisotropic conductive sheet having a required insulating property between adjacent conductive portions, a magnetic field having a sufficient intensity distribution is applied to the sheet forming material layer, that is, the conductive property in the sheet forming material layer is increased. It is necessary to apply a magnetic field having a much higher intensity to a portion where a portion is to be formed (hereinafter also referred to as a “conductive portion forming portion”) than to a portion other than the conductive portion forming portion. In a mold for forming an electroconductive sheet, it is required to form a mosaic layer having a ferromagnetic portion having a high aspect ratio (ratio of thickness to diameter or width).

【0008】従来、異方導電性シート成形用金型の製造
において、モザイク層を形成する方法としては、以下の
ような方法が知られている。 (1)強磁性体よりなる板状体から非磁性体部分を構成
すべき部分をエッチングによって除去し、形成された除
去部分に樹脂を流し込むか若しくは銅等の非磁性金属を
メッキすることによって非磁性体を充填してモザイク層
を形成する方法。 (2)強磁性体よりなる板状体から非磁性体部分を構成
すべき部分を切削によって除去し、形成された除去部分
に樹脂を流し込むか若しくは銅等の非磁性金属をメッキ
することによって非磁性体を充填してモザイク層を形成
する方法。 (3)強磁性体よりなる板状体の表面に、フォトリソグ
ラフィーの手法によって、形成すべき強磁性体部分の配
列パターンに従って貫通孔が形成された放射線硬化性樹
脂よりなる非磁性体部分を形成し、その後、非磁性体部
分に形成された貫通孔内に、メッキによって強磁性体を
充填してモザイク層を形成する方法(特開平6−103
820号公報参照)。 (4)強磁性体よりなる板状体の表面に、フォトリソグ
ラフィーの手法によって、形成すべき強磁性体部分の配
列パターンに従って貫通孔が形成された放射線硬化性樹
脂よりなる非磁性体部分を形成し、その後、非磁性体部
分に形成された貫通孔内に、強磁性体粒子を充填すると
共に当該強磁性体粒子を固着するためのバインダーとし
て硬化性樹脂材料を充填して硬化する方法(特開平7−
135062号公報参照)。
Conventionally, as a method of forming a mosaic layer in the production of a mold for forming an anisotropic conductive sheet, the following method is known. (1) A portion constituting a nonmagnetic portion is removed from a plate made of a ferromagnetic material by etching, and a resin is poured into the formed removed portion, or a nonmagnetic metal such as copper is plated by plating. A method of filling a magnetic material to form a mosaic layer. (2) A portion constituting a non-magnetic material portion is removed from the ferromagnetic plate by cutting, and a resin is poured into the formed removed portion or a non-magnetic metal such as copper is plated to form a non-magnetic material. A method of filling a magnetic material to form a mosaic layer. (3) A non-magnetic material portion made of a radiation-curable resin having through holes formed according to an array pattern of the ferromagnetic material portions to be formed is formed on the surface of a plate-like material made of a ferromagnetic material by a photolithography technique. Thereafter, a ferromagnetic material is filled in the through-hole formed in the non-magnetic material portion by plating to form a mosaic layer (Japanese Patent Laid-Open No. 6-103).
No. 820). (4) A non-magnetic portion made of a radiation-curable resin having through holes formed in accordance with an arrangement pattern of ferromagnetic portions to be formed is formed on the surface of a plate made of a ferromagnetic material by photolithography. After that, the ferromagnetic particles are filled into the through holes formed in the non-magnetic material portion, and a curable resin material is filled as a binder for fixing the ferromagnetic particles, and the method is followed by curing. Kaihei 7-
No. 1355062).

【0009】しかしながら、上記の方法によって得られ
る異方導電性シート成形金型には、以下のような問題が
ある。上記(1)の方法によりモザイク層を形成する場
合には、サイドエッチングが生じるために、強磁性体部
分のピッチ、すなわち隣接する強磁性体部分の中心間距
離が小さくてそのアスペクト比が高いモザイク層を形成
することは相当に困難である。上記(2)の方法により
モザイク層を形成する場合には、上記(1)の方法に比
較して強磁性体部分のピッチが小さいモザイク層を形成
することが可能である。然るに、強磁性体部分の配列パ
ターンが複雑なモザイク層を形成するためには、手間や
時間がかかりすぎ、従って、得られる異方導電性シート
成形金型は、製造コストの高いものとなる、あるいは実
際上製造することができない。
However, the mold for forming an anisotropic conductive sheet obtained by the above method has the following problems. When the mosaic layer is formed by the method (1), since the side etching occurs, the pitch of the ferromagnetic portions, that is, the distance between the centers of the adjacent ferromagnetic portions is small, and the mosaic has a high aspect ratio. Forming the layers is quite difficult. When the mosaic layer is formed by the method (2), it is possible to form a mosaic layer in which the pitch of the ferromagnetic portions is smaller than in the method (1). However, in order to form a complex mosaic layer in which the arrangement pattern of the ferromagnetic portions is complicated, it takes too much work and time, and therefore, the resulting anisotropic conductive sheet molding die has a high manufacturing cost. Or it cannot be manufactured in practice.

【0010】上記(3)の方法によりモザイク層を形成
する場合には、強磁性体部分を形成するための材料とし
て、例えばニッケルなどのメッキが可能な金属材料が用
いられる。然るに、ニッケルは、強磁性を示すものであ
るではあるが、鉄、コバルトなどに比較して磁化の強さ
が小さいものであるため、アスペクト比が高い強磁性体
部分を形成することが可能であっても、シート成形材料
層に対して十分な強度分布を有する磁場を形成すること
が困難となり、従って、目的とする異方導電性シートの
導電部のピッチが小さいものであるときには、隣接する
導電部間において所要の絶縁性が得られない。上記
(4)の方法によりモザイク層を形成する場合には、強
磁性体粒子のバインダーとして非磁性体である硬化性樹
脂材料を用いるため、強磁性体部分における強磁性体の
密度が低くなり、結局、シート成形材料層に対して十分
な強度分布を有する磁場を形成することが困難となり、
従って、目的とする異方導電性シートの導電部のピッチ
が小さいものであるときには、隣接する導電部間におい
て所要の絶縁性が得られない。
When the mosaic layer is formed by the method (3), a metal material which can be plated, such as nickel, is used as a material for forming the ferromagnetic material portion. Although nickel shows ferromagnetism, it has a smaller magnetization intensity than iron, cobalt, etc., so it is possible to form a ferromagnetic material part with a high aspect ratio. Even if it is, it is difficult to form a magnetic field having a sufficient intensity distribution with respect to the sheet forming material layer. The required insulation cannot be obtained between the conductive parts. In the case where the mosaic layer is formed by the method (4), a non-magnetic curable resin material is used as a binder for the ferromagnetic particles, so that the density of the ferromagnetic material in the ferromagnetic portion decreases. Eventually, it becomes difficult to form a magnetic field having a sufficient intensity distribution on the sheet molding material layer,
Therefore, when the pitch of the conductive portions of the intended anisotropic conductive sheet is small, required insulation between the adjacent conductive portions cannot be obtained.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その第1の目
的は、シート成形材料層に対して十分な強度分布を有す
る磁場を形成することができ、ピッチが小さくて複雑な
パターンの導電部を有し、かつ、導電部間において所要
の絶縁性を有する異方導電性シートを成形することが可
能な金型を提供することにある。本発明の第2の目的
は、シート成形材料層に対して十分な強度分布を有する
磁場を形成することができ、ピッチが小さくて複雑なパ
ターンの導電部を有し、かつ、導電部間において所要の
絶縁性を有する異方導電性シートを成形することが可能
な金型を製造することができる方法を提供することにあ
る。本発明の第3の目的は、導電部のピッチが小さくて
複雑なパターンのものであっても、隣接する導電部間に
おいて所要の絶縁性を有する異方導電性シートを製造す
ることができる方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the invention is to provide a magnetic field having a sufficient intensity distribution with respect to a sheet molding material layer. To provide a mold which can be formed, has a conductive portion having a small pitch and a complicated pattern, and can form an anisotropic conductive sheet having a required insulating property between the conductive portions. It is in. A second object of the present invention is to form a magnetic field having a sufficient intensity distribution with respect to a sheet molding material layer, to have a conductive pattern having a small pitch and a complicated pattern, and It is an object of the present invention to provide a method capable of manufacturing a mold capable of forming an anisotropic conductive sheet having a required insulating property. A third object of the present invention is to provide a method for manufacturing an anisotropic conductive sheet having a required insulating property between adjacent conductive parts even if the conductive parts have a small pitch and a complicated pattern. Is to provide.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の金型は、磁性体
よりなる基板上に、複数の磁性体部が互いに離間して設
けられた金型であって、前記基板上に形成された、複数
の貫通孔を有する非磁性体層と、この非磁性体層の貫通
孔を塞ぐよう設けられた蓋材とを有し、前記磁性体部
は、前記非磁性体層の貫通孔内における前記基板と前記
蓋材との間の空間に充填された磁性体粒子によって形成
されていることを特徴とする。
A mold according to the present invention is a mold in which a plurality of magnetic parts are provided apart from each other on a substrate made of a magnetic substance, and is formed on the substrate. A non-magnetic layer having a plurality of through-holes, and a cover material provided to cover the through-holes of the non-magnetic layer, wherein the magnetic portion is formed in the through-hole of the non-magnetic layer. It is characterized by being formed of magnetic particles filled in a space between the substrate and the lid member.

【0013】このような金型においては、前記非磁性体
層の貫通孔内における前記基板と前記蓋材との間の空間
に占める当該空間に充填された磁性体粒子の割合が、3
0体積%以上であることが好ましい。
In such a mold, the ratio of the magnetic particles filled in the space occupying the space between the substrate and the lid member in the through hole of the nonmagnetic layer is 3%.
It is preferably at least 0% by volume.

【0014】また、本発明の金型は、磁性体よりなる基
板上に、複数の磁性体部が互いに離間して形成されてな
る金型であって、前記基板上に形成された、複数の貫通
孔を有する非磁性体層と、この非磁性体層の貫通孔を塞
ぐよう設けられた蓋材とを有し、前記磁性体部は、前記
非磁性体層の貫通孔内における前記基板と前記蓋材との
間の空間に充填された磁性体粒子と、この磁性体粒子の
周囲に形成された磁性体相とによって構成されているこ
とを特徴とする。
[0014] The mold of the present invention is a mold in which a plurality of magnetic parts are formed on a substrate made of a magnetic material while being separated from each other. A non-magnetic layer having a through-hole, and a cover material provided to close the through-hole of the non-magnetic layer, the magnetic portion includes the substrate in the through-hole of the non-magnetic layer. It is characterized by comprising magnetic particles filled in the space between the lid material and a magnetic phase formed around the magnetic particles.

【0015】本発明の金型は、異方導電性シートを成形
するための金型として好ましく用いることができる。本
発明の金型においては、前記非磁性体層は、放射線によ
って硬化された樹脂材料よりなることが好ましい。ま
た、前記蓋材は、熱または放射線によって硬化された樹
脂材料よりなることが好ましい。
The mold of the present invention can be preferably used as a mold for forming an anisotropic conductive sheet. In the mold of the present invention, it is preferable that the nonmagnetic layer is made of a resin material cured by radiation. Further, it is preferable that the lid member is made of a resin material cured by heat or radiation.

【0016】本発明の金型の製造方法は、磁性体よりな
る基板上に、複数の貫通孔を有する非磁性体層を形成
し、この非磁性体層の貫通孔内に磁性体粒子を充填し、
前記非磁性体層にその貫通孔を塞ぐよう蓋材を形成する
工程を有することを特徴とする。
According to the method of manufacturing a mold of the present invention, a nonmagnetic layer having a plurality of through holes is formed on a substrate made of a magnetic material, and magnetic particles are filled in the through holes of the nonmagnetic layer. And
A step of forming a cover material on the nonmagnetic layer so as to cover the through hole.

【0017】また、本発明の金型の製造方法は、磁性体
よりなる基板上に、複数の貫通孔を有する非磁性体層を
形成し、この非磁性体層の貫通孔内に磁性体粒子を充填
し、前記非磁性体層の貫通孔に充填された磁性体粒子に
対して磁性金属のメッキ処理を行うことにより、当該磁
性体粒子の周囲に磁性体相を形成し、前記非磁性体層
に、その貫通孔を塞ぐよう蓋材を形成する工程を有する
ことを特徴とする。
Further, according to the method of manufacturing a mold of the present invention, a nonmagnetic layer having a plurality of through holes is formed on a substrate made of a magnetic substance, and magnetic particles are contained in the through holes of the nonmagnetic layer. To form a magnetic phase around the magnetic particles by plating the magnetic particles filled in the through-holes of the nonmagnetic layer with a magnetic metal, thereby forming the nonmagnetic material. The method is characterized by having a step of forming a lid material on the layer so as to close the through hole.

【0018】このような金型の製造方法においては、前
記非磁性体層の貫通孔内に磁性体粒子を充填した後、当
該非磁性体層に、その貫通孔から前記磁性体粒子が漏出
せずかつメッキ液が通過するよう仮蓋を形成し、メッキ
液中において当該非磁性体層の貫通孔に充填された磁性
体粒子に対して磁性金属のメッキ処理を行うことが好ま
しい。
In such a method of manufacturing a mold, after the magnetic particles are filled in the through-holes of the non-magnetic layer, the magnetic particles may leak from the through-holes into the non-magnetic layer. Preferably, a temporary lid is formed so that the plating solution can pass through, and the magnetic particles filled in the through-holes of the nonmagnetic layer in the plating solution are plated with a magnetic metal.

【0019】本発明の異方導電性シートの製造方法は、
厚み方向に伸びる複数の導電部が絶縁部によって相互に
絶縁された状態で配置されてなる異方導電性シートを製
造する方法であって、上記の金型を用い、金型内に、硬
化されて弾性高分子物質となる弾性高分子用材料中に磁
性を示す導電性粒子が含有されてなるシート成形材料を
充填し、このシート成形材料に前記金型を介して強度分
布を有する磁場を作用させると共に、当該シート成形材
料を硬化処理する工程を有することを特徴とする。
The method for producing an anisotropic conductive sheet of the present invention comprises:
A method for manufacturing an anisotropic conductive sheet in which a plurality of conductive portions extending in the thickness direction are arranged in a state in which they are insulated from each other by an insulating portion, using the above-described mold, and cured in a mold. A sheet molding material containing conductive particles exhibiting magnetism in a material for an elastic polymer to be an elastic polymer substance is filled, and a magnetic field having an intensity distribution is applied to the sheet molding material via the mold. And a step of curing the sheet molding material.

【0020】[0020]

【作用】(1)磁性体部は、主として磁性体粒子によっ
て構成されており、当該磁性体粒子を形成する磁性体材
料の種類には制限がないため、磁性体部を構成する磁性
体材料として磁化の強さの大きいものを用いることがで
きる。 (2)磁性体粒子は、非磁性体層の貫通孔内における基
板と蓋材との間の空間に充填されることによって固定さ
れており、磁性体部の形成において、磁性体粒子を固定
するために非磁性体よりなるバインダーを用いることが
不要となるため、磁性体材料の密度が高い磁性体部を形
成することができる。 (3)磁性体粒子の周囲に磁性体相を形成することによ
り、磁性体材料の密度が極めて高い磁性体部を形成する
ことができる。 (4)磁性体部の寸法は、非磁性体層の貫通孔の寸法に
応じて定めることができ、非磁性体層を構成する材料と
して、放射線によって硬化された樹脂材料を用いること
により、当該非磁性体層をフォトリソグラフィーの手法
によって形成することが可能であるため、目的とする磁
性体部のピッチが小さいものであっても、アスペクト比
の高い磁性体部を形成することができる。
(1) The magnetic portion is mainly composed of magnetic particles, and there is no limitation on the type of magnetic material forming the magnetic particles. A material having a large magnetization intensity can be used. (2) The magnetic particles are fixed by filling the space between the substrate and the cover material in the through holes of the nonmagnetic layer, and fix the magnetic particles in forming the magnetic part. Therefore, it is not necessary to use a binder made of a non-magnetic material, so that a magnetic material portion having a high density of a magnetic material can be formed. (3) By forming a magnetic phase around the magnetic particles, a magnetic part having an extremely high density of the magnetic material can be formed. (4) The size of the magnetic portion can be determined according to the size of the through-hole of the non-magnetic layer, and by using a resin material cured by radiation as a material forming the non-magnetic layer, Since the nonmagnetic layer can be formed by photolithography, a magnetic part having a high aspect ratio can be formed even if the pitch of the target magnetic part is small.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図1は、本発明に係る異方導電性シ
ート成形用金型の一例における下型の要部の構成を示す
説明用断面図である。この異方導電性シート成形用金型
の下型においては、強磁性体よりなる基板10上に、複
数の貫通孔21を有する非磁性体層20が形成され、こ
の非磁性体層20の貫通孔21の各々には、当該貫通孔
21の開口を塞ぐよう蓋材22が設けられている。非磁
性体部20の貫通孔21のパターンは、成形すべき異方
導電性シートの導電部のパターンに対応するパターンで
ある。そして、非磁性体層20の各貫通孔21内におけ
る基板10と蓋材22との間の空間には、例えば球状の
磁性体粒子26が充填され、この磁性体粒子26によっ
て、当該貫通孔21内に磁性体部25が形成されてい
る。また、この例における異方導電性シート成形用金型
は、絶縁部の表面から突出する導電部を有する異方導電
性シートを成形するためのものであって、非磁性体層2
0の表面上に、蓋材22上に位置する個所に孔31を有
するキャビティ形成層30が一体的に形成されている。
このキャビティ形成層30における孔31は、絶縁部の
表面から突出する導電部を形成するためのものである。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part of a lower mold in an example of a mold for forming an anisotropic conductive sheet according to the present invention. In the lower mold for forming the anisotropic conductive sheet, a nonmagnetic layer 20 having a plurality of through holes 21 is formed on a substrate 10 made of a ferromagnetic material. Each of the holes 21 is provided with a lid member 22 so as to close the opening of the through hole 21. The pattern of the through-holes 21 of the non-magnetic material part 20 is a pattern corresponding to the pattern of the conductive part of the anisotropic conductive sheet to be formed. The space between the substrate 10 and the cover member 22 in each through hole 21 of the non-magnetic layer 20 is filled with, for example, spherical magnetic particles 26. A magnetic part 25 is formed therein. The mold for forming an anisotropic conductive sheet in this example is for forming an anisotropic conductive sheet having a conductive portion protruding from the surface of an insulating portion, and includes a nonmagnetic material layer 2.
A cavity forming layer 30 having a hole 31 at a position located on the lid member 22 is integrally formed on the surface of the cover member 22.
The hole 31 in the cavity forming layer 30 is for forming a conductive part protruding from the surface of the insulating part.

【0022】基板10を構成する磁性体としては、鉄、
ニッケル、コバルトまたはこれらの合金などの強磁性体
を用いることができる。基板10の厚みは、好ましくは
0.05〜20mm、より好ましくは1.5〜10mm
である。また、基板10としては、その表面が平滑で、
化学的に脱脂処理され、また、機械的に研摩処理された
ものを用いることが好ましい。
The magnetic material constituting the substrate 10 is iron,
A ferromagnetic material such as nickel, cobalt, or an alloy thereof can be used. The thickness of the substrate 10 is preferably 0.05 to 20 mm, more preferably 1.5 to 10 mm
It is. The surface of the substrate 10 is smooth,
It is preferable to use one chemically degreased and mechanically polished.

【0023】非磁性体層20を構成する材料は、フォト
リソグラフィーの手法により、貫通孔21を有する非磁
性体層20を高い寸法精度で容易に形成することができ
る点で、放射線によって硬化された樹脂材料であること
が好ましい。非磁性体層20を形成するための感放射線
性樹脂材料としては、アクリル系のドライフィルムレジ
スト、エポキシ系の液状レジスト、ポリイミド系の液状
レジストなどのフォトレジストを用いることができる。
非磁性体層20の厚みは、好ましくは20μm以上、よ
り好ましくは25〜500μmである。この厚みが20
μm未満である場合には、磁性体部25を形成するため
の空間の厚みが過小となって、シート成形材料層に対し
て所期の強度分布を有する磁場を作用させることが困難
となることがある。
The material constituting the non-magnetic layer 20 is cured by radiation in that the non-magnetic layer 20 having the through holes 21 can be easily formed with high dimensional accuracy by a photolithography technique. It is preferably a resin material. As the radiation-sensitive resin material for forming the nonmagnetic layer 20, a photoresist such as an acrylic dry film resist, an epoxy liquid resist, or a polyimide liquid resist can be used.
The thickness of the nonmagnetic layer 20 is preferably 20 μm or more, and more preferably 25 to 500 μm. This thickness is 20
When the thickness is less than μm, the thickness of the space for forming the magnetic body portion 25 becomes too small, and it becomes difficult to apply a magnetic field having an intended intensity distribution to the sheet molding material layer. There is.

【0024】蓋材22を構成する材料としては、当該蓋
材22を容易に形成することができる点で、熱硬化性ま
たは放射線硬化性の樹脂材料を用いることが好ましい。
このような樹脂材料の具体例としては、アクリル系樹
脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド、ポリシラザンなどが
挙げられる。蓋材22の厚みは、好ましくは10〜10
0μm、より好ましくは20〜50μmである。この厚
みが10μm未満である場合には、当該蓋材22の強度
が低いものとなるため、十分に高い耐久性を有する金型
を得ることが困難となることがある。一方、この厚みが
100μmを超える場合には、シート成形材料層におけ
る導電部形成部分に大きい強度の磁場を作用させること
が困難となることがある。
It is preferable to use a thermosetting or radiation-curable resin material as a material for forming the lid member 22 because the lid member 22 can be easily formed.
Specific examples of such a resin material include an acrylic resin, an epoxy resin, polyimide, and polysilazane. The thickness of the lid member 22 is preferably 10 to 10
0 μm, more preferably 20 to 50 μm. If the thickness is less than 10 μm, the strength of the lid member 22 is low, so that it may be difficult to obtain a mold having sufficiently high durability. On the other hand, if the thickness exceeds 100 μm, it may be difficult to apply a high-intensity magnetic field to the conductive portion forming portion in the sheet molding material layer.

【0025】基板10と蓋材22との間の空間(以下、
「磁性体部形成空間」ともいう。)の厚みは、好ましく
は10μm以上、より好ましくは25μm以上である。
この磁性体部形成空間の厚みが10μm未満である場合
には、シート成形材料層における導電部形成部分に大き
い強度の磁場を作用させることが困難となることがあ
る。磁性体部形成空間のアスペクト比(磁性体部25の
アスペクト比)は、0.7以上であることが好ましく、
より好ましくは0.9以上である。このアスペクト比が
0.7未満である場合には、シート成形材料層に対して
所期の強度分布を有する磁場を作用させることが困難と
なることがある。
A space between the substrate 10 and the lid member 22 (hereinafter, referred to as a space)
It is also referred to as “magnetic body part forming space”. ) Is preferably 10 μm or more, more preferably 25 μm or more.
When the thickness of the magnetic body part formation space is less than 10 μm, it may be difficult to apply a strong magnetic field to the conductive part formation part in the sheet molding material layer. The aspect ratio of the magnetic body part formation space (the aspect ratio of the magnetic body part 25) is preferably 0.7 or more,
It is more preferably 0.9 or more. If the aspect ratio is less than 0.7, it may be difficult to apply a magnetic field having an intended intensity distribution to the sheet molding material layer.

【0026】磁性体部25を構成する磁性体粒子26と
しては、鉄、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金な
どの強磁性体からなる粒子を用いることができ、これら
の中では、磁化の強さが大きい点で、鉄またはその合金
からなる粒子が好ましい。磁性体粒子26の粒子径は、
磁性体部形成空間に充填され得るものであれば特に限定
されないが、取扱い性が良好で、充填作業が容易である
点で2〜100μm、特に20〜70μmであることが
好ましい。
As the magnetic particles 26 constituting the magnetic portion 25, particles made of a ferromagnetic material such as iron, nickel, cobalt, or an alloy thereof can be used. Particles composed of iron or an alloy thereof are preferred because of their large size. The particle diameter of the magnetic particles 26 is
The material is not particularly limited as long as it can be filled in the magnetic material portion forming space, but it is preferably 2 to 100 μm, particularly preferably 20 to 70 μm in terms of easy handling and easy filling operation.

【0027】磁性体部形成空間に占める当該磁性体部形
成空間に充填された磁性体粒子26の割合は、30体積
%以上であることが好ましく、より好ましくは50体積
%以上、特に好ましくは60体積%以上である。この割
合が30体積%未満である場合には、シート成形材料層
における導電部形成部分に大きい強度の磁場を作用させ
ることが困難となることがある。
The ratio of the magnetic particles 26 filled in the magnetic part forming space to the magnetic part forming space is preferably 30% by volume or more, more preferably 50% by volume or more, and particularly preferably 60% by volume or more. % By volume or more. If this ratio is less than 30% by volume, it may be difficult to apply a high-intensity magnetic field to the conductive portion of the sheet molding material layer.

【0028】キャビティ形成層30を構成する材料は、
フォトリソグラフィーの手法により、孔31を有するキ
ャビティ形成層30を高い寸法精度で形成することがで
きる点で、放射線によって硬化された樹脂材料であるこ
とが好ましい。キャビティ形成層30を形成するための
感放射線性樹脂材料としては、アクリル系のドライフィ
ルムレジスト、エポキシ系の液状レジスト、ポリイミド
系の液状レジストなどのフォトレジストを用いることが
でき、非磁性体層20を形成するための感放射線性樹脂
材料と同じ種類のものであってもよいが、得られるキャ
ビティ形成層30における非磁性体層20との接着性が
確保されるものであれば、非磁性体層20を形成するた
めの感放射線性樹脂材料と異なる種類のものであっても
よい。キャビティ形成層30の厚みは、成形すべき異方
導電性シートにおける導電部の突出高さに応じて設計さ
れるが、好ましくは5〜200μm、より好ましくは1
5〜60μmである。
The material forming the cavity forming layer 30 is as follows:
A resin material cured by radiation is preferable because the cavity forming layer 30 having the holes 31 can be formed with high dimensional accuracy by a photolithography technique. As the radiation-sensitive resin material for forming the cavity forming layer 30, a photoresist such as an acrylic dry film resist, an epoxy liquid resist, or a polyimide liquid resist can be used. May be the same as the radiation-sensitive resin material for forming the non-magnetic material, provided that the adhesiveness to the non-magnetic material layer 20 in the obtained cavity forming layer 30 is ensured. The radiation-sensitive resin material for forming the layer 20 may be of a different type. The thickness of the cavity forming layer 30 is designed according to the protruding height of the conductive portion in the anisotropic conductive sheet to be formed, but is preferably 5 to 200 μm, more preferably 1 to 200 μm.
5 to 60 μm.

【0029】また、この例における異方導電性シート成
形用金型は、上記の下型と、これと対となる上型とによ
って構成される。この上型は、磁性体部が下型の磁性体
部と対掌なパターンに従って配置されていること以外
は、基本的に下型と同様の構成である。
The mold for forming an anisotropic conductive sheet in this embodiment is composed of the lower mold described above and an upper mold that is paired with the lower mold. The upper mold has basically the same configuration as the lower mold except that the magnetic body is arranged in a pattern opposite to the magnetic body of the lower mold.

【0030】上記の異方導電性シート成形用金型は、例
えば以下のようにして製造することができる。先ず、図
2に示すように、磁性体よりなる基板10を用意し、こ
の基板10上に、複数の貫通孔21を有する非磁性体層
20を形成する。非磁性体層20を形成する手段として
は、フォトリソグラフィーの手法を利用することができ
る。具体的には、基板10上にフォトレジスト層を形成
し、このフォトレジスト層上に、形成すべき貫通孔21
に対応するパターンに従って放射線遮光部が形成された
マスクを配置し、その後、フォトレジスト層に対して放
射線照射処理および現像処理を行う。フォトレジスト層
を形成する方法としては、液状のフォトレジストを、ス
クリーン印刷、スピンコート、アプリケーター塗工など
の方法によって基板10の表面に塗布する方法、ドライ
フィルムフォトレジストを基板10の表面にラミネート
する方法などが挙げられる。また、厚みの大きい非磁性
体層20を形成する場合には、形成すべき非磁性体層2
0の厚みより小さい厚みのフォトレジスト層を形成し、
このフォトレジスト層に対して放射線処理および現像処
理を行う工程を複数回繰り返すことにより、目的とする
厚みを有する非磁性体層20を形成することもできる。
The above-described mold for forming an anisotropic conductive sheet can be manufactured, for example, as follows. First, as shown in FIG. 2, a substrate 10 made of a magnetic material is prepared, and a nonmagnetic layer 20 having a plurality of through holes 21 is formed on the substrate 10. As a means for forming the nonmagnetic layer 20, a photolithography technique can be used. Specifically, a photoresist layer is formed on the substrate 10, and the through holes 21 to be formed are formed on the photoresist layer.
A mask on which a radiation shielding portion is formed in accordance with the pattern corresponding to the above is arranged, and thereafter, the photoresist layer is subjected to radiation irradiation processing and development processing. As a method of forming a photoresist layer, a method of applying a liquid photoresist on the surface of the substrate 10 by a method such as screen printing, spin coating, or applicator coating, or laminating a dry film photoresist on the surface of the substrate 10 And the like. When the non-magnetic layer 20 having a large thickness is formed, the non-magnetic layer 2 to be formed is formed.
Forming a photoresist layer having a thickness smaller than 0;
By repeating the step of performing the radiation treatment and the development treatment on the photoresist layer a plurality of times, the nonmagnetic layer 20 having the target thickness can be formed.

【0031】次いで、図3に示すように、非磁性体層2
0の貫通孔21内に磁性体粒子26を充填し、その後、
図4に示すように、非磁性体層20上に、その貫通孔2
1を塞ぐよう、硬化性樹脂材料よりなる蓋材形成材料層
22Aを形成する。蓋材形成材料層22Aを形成する方
法としては、液状の硬化性樹脂材料を、スクリーン印
刷、スピンコート、アプリケーター塗工などの方法によ
って非磁性体層20の表面に塗布する方法、硬化性樹脂
シートを非磁性体層20の表面に配置する方法などが挙
げられる。そして、蓋材形成材料層22Aの硬化処理、
具体的には、加熱処理、熱圧着処理または放射線照射処
理を行い、その後、得られる硬化樹脂層の表面を研摩処
理することにより、図5に示すように、非磁性体層20
における貫通孔21の開口を塞ぐ蓋材22が形成され
る。
Next, as shown in FIG.
0 through holes 21 are filled with magnetic particles 26, and then
As shown in FIG. 4, the through holes 2 are formed on the nonmagnetic layer 20.
The cover material forming material layer 22A made of a curable resin material is formed so as to cover the first material. As a method of forming the lid material forming material layer 22A, a method of applying a liquid curable resin material to the surface of the nonmagnetic material layer 20 by a method such as screen printing, spin coating, or applicator coating, or a curable resin sheet Is disposed on the surface of the non-magnetic layer 20. Then, a curing treatment of the lid material forming material layer 22A,
Specifically, a heat treatment, a thermocompression treatment, or a radiation irradiation treatment is performed, and then the surface of the obtained cured resin layer is polished to form the nonmagnetic material layer 20 as shown in FIG.
Is formed, which covers the opening of the through hole 21 in FIG.

【0032】次いで、図6に示すように、非磁性体層2
0および蓋材22の表面に、フォトレジスト層を形成
し、このフォトレジスト層上に、非磁性体層20の貫通
孔21に対応するパターンに従って放射線遮光部が形成
されたマスクを配置し、その後、フォトレジスト層に対
して放射線照射処理および現像処理を行うことにより、
キャビティ形成層が形成され、以て図1に示す構成の下
型が製造される。そして、上記の下型の製造方法と基本
的に同様の方法によって上型が製造され、以て、目的と
する異方導電性シート成形用金型が製造される。
Next, as shown in FIG.
0, a photoresist layer is formed on the surface of the lid member 22, and a mask on which a radiation shielding portion is formed in accordance with a pattern corresponding to the through hole 21 of the nonmagnetic layer 20 is arranged on the photoresist layer. By performing radiation irradiation processing and development processing on the photoresist layer,
The cavity forming layer is formed, and the lower mold having the configuration shown in FIG. 1 is manufactured. Then, the upper mold is manufactured by basically the same method as the above-described method of manufacturing the lower mold, thereby manufacturing the desired anisotropic conductive sheet molding die.

【0033】以上のような異方導電性シート成形用金型
によれば、磁性体部25は磁性体粒子26によって構成
されており、当該磁性体粒子26を形成する磁性体材料
の種類には何ら制限がないため、磁性体部20を構成す
る磁性体材料として磁化の強さの大きいものを用いるこ
とができる。しかも、磁性体粒子26は、非磁性体層2
0の貫通孔21内における基板10と蓋材22との間の
空間に充填されることによって固定されており、磁性体
部25の形成において、磁性体粒子26を固定するため
に非磁性体材料よりなるバインダーを用いることが不要
となるため、磁性体材料の密度が高い磁性体部25を形
成することができる。従って、シート成形材料層に対し
て十分な強度分布を有する磁場を作用させることがで
き、ピッチが小さくて複雑なパターンの導電部を有し、
かつ、隣接する導電部間において所要の絶縁性を有する
異方導電性シートを成形することができる。
According to the mold for forming an anisotropic conductive sheet as described above, the magnetic part 25 is constituted by the magnetic particles 26, and the type of the magnetic material forming the magnetic particles 26 is as follows. Since there is no limitation, a magnetic material having a high magnetization strength can be used as the magnetic material constituting the magnetic body portion 20. In addition, the magnetic particles 26 are formed in the non-magnetic layer 2.
In the through-hole 21, the space between the substrate 10 and the cover member 22 is fixed by being filled, and in forming the magnetic body portion 25, a non-magnetic material is used to fix the magnetic particles 26. Since it is unnecessary to use a binder made of a magnetic material, the magnetic material portion 25 having a high density of the magnetic material can be formed. Therefore, it is possible to cause a magnetic field having a sufficient intensity distribution to act on the sheet molding material layer, and to have a conductive portion having a small pitch and a complicated pattern,
In addition, it is possible to form an anisotropic conductive sheet having required insulation between adjacent conductive portions.

【0034】また、磁性体部25の寸法は、非磁性体層
20の貫通孔21の寸法に応じて定めることができ、非
磁性体層20を構成する材料として、放射線によって硬
化された樹脂材料を用いることにより、当該非磁性体層
20をフォトリソグラフィーの手法によって形成するこ
とが可能であるため、目的とする磁性体部25のピッチ
が小さいものであっても、アスペクト比の高い磁性体部
25を高い寸法精度で形成することができる。
The size of the magnetic portion 25 can be determined according to the size of the through-hole 21 of the non-magnetic layer 20, and the material constituting the non-magnetic layer 20 is a resin material cured by radiation. Is used, it is possible to form the nonmagnetic layer 20 by a photolithography technique. Therefore, even if the pitch of the target magnetic part 25 is small, the magnetic part having a high aspect ratio can be used. 25 can be formed with high dimensional accuracy.

【0035】図7は、本発明に係る異方導電性シート成
形用金型の他の例における下型の要部の構成を示す説明
用断面図である。この異方導電性シート成形用金型の下
型においては、非磁性体層20の貫通孔21内における
基板10と蓋材22との間の空間に、磁性体粒子26が
充填され、更に、この磁性体粒子26の周囲には、磁性
体相27が形成されており、この磁性体粒子26および
磁性体相27によって、磁性体部25が形成されてい
る。その他は図1に示す異方導電性シート成形用金型の
下型と同様の構成である。
FIG. 7 is an explanatory sectional view showing the structure of the main part of the lower mold in another example of the anisotropic conductive sheet molding die according to the present invention. In the lower mold of the anisotropic conductive sheet molding die, the space between the substrate 10 and the cover member 22 in the through hole 21 of the nonmagnetic layer 20 is filled with the magnetic particles 26, A magnetic phase 27 is formed around the magnetic particles 26, and a magnetic section 25 is formed by the magnetic particles 26 and the magnetic phase 27. The other configuration is the same as that of the lower die of the die for forming an anisotropic conductive sheet shown in FIG.

【0036】磁性体相27を構成する磁性体としては、
当該磁性体相27を容易に形成することができる点で、
電界メッキまたは無電解メッキが可能なものを用いるこ
とが好ましく、その具体例としてはニッケルなどを挙げ
ることができる。磁性体部形成空間に占める当該磁性体
部形成空間に充填された磁性体粒子および磁性体相の合
計の割合は、70体積%以上であることが好ましく、よ
り好ましくは80体積%以上である。この割合が70体
積%未満である場合には、シート成形材料層における導
電部形成部分に大きい強度の磁場を作用させることが困
難となることがある。また、磁性体粒子26および磁性
体相27の合計の体積に対する磁性体粒子26の体積の
割合は、70%であることが好ましく、より好ましくは
80%である。
The magnetic material constituting the magnetic material phase 27 includes:
In that the magnetic phase 27 can be easily formed,
It is preferable to use a material capable of electroplating or electroless plating, and specific examples thereof include nickel. The total ratio of the magnetic particles and the magnetic phase filled in the magnetic part forming space in the magnetic part forming space is preferably 70% by volume or more, more preferably 80% by volume or more. If this ratio is less than 70% by volume, it may be difficult to apply a high-intensity magnetic field to the conductive portion forming portion in the sheet molding material layer. The ratio of the volume of the magnetic particles 26 to the total volume of the magnetic particles 26 and the magnetic phase 27 is preferably 70%, more preferably 80%.

【0037】また、この例における異方導電性シート成
形用金型は、上記の下型と、これと対となる上型とによ
って構成される。この上型は、磁性体部が下型の磁性体
部と対掌なパターンに従って配置されていること以外
は、基本的に下型と同様の構成である。
The mold for forming an anisotropic conductive sheet in this embodiment is composed of the above-mentioned lower mold and an upper mold that is paired with the lower mold. The upper mold has basically the same configuration as the lower mold except that the magnetic body is arranged in a pattern opposite to the magnetic body of the lower mold.

【0038】上記の異方導電性シート成形用金型は、例
えば以下のようにして製造することができる。先ず、前
述の図1に示す構成の異方導電性シート成形用金型の製
造方法と同様にして、磁性体よりなる基板10上に、複
数の貫通孔21を有する非磁性体層20を形成し(図2
参照)、この非磁性体層20の貫通孔21内に磁性体粒
子26を充填する(図3参照)。
The mold for forming an anisotropic conductive sheet described above can be manufactured, for example, as follows. First, a non-magnetic material layer 20 having a plurality of through holes 21 is formed on a substrate 10 made of a magnetic material in the same manner as in the method of manufacturing the anisotropic conductive sheet molding die having the configuration shown in FIG. (Fig. 2
The magnetic particles 26 are filled in the through holes 21 of the nonmagnetic layer 20 (see FIG. 3).

【0039】次いで、図8に示すように、非磁性体層2
0に、その貫通孔21から磁性体粒子26が漏出せずか
つメッキ液が通過するよう仮蓋23を形成する。具体的
には、この仮蓋23は、図9に示すように、非磁性体層
20の貫通孔21における矩形の開口の中央領域のみを
塞ぐよう形成され、貫通孔21の開口縁と仮蓋23の周
縁との間には、磁性体粒子26の粒子径より小さい幅の
間隙が形成されている。この間隙のの幅は、用いられる
磁性体粒子26の粒子径によって適宜設定されるが、メ
ッキ液が容易に通過し得る点で、20μm以上であるこ
とが好ましい。このような仮蓋23を形成する手段とし
ては、フォトリソグラフィーの手法を利用することがで
きる。具体的には、非磁性体層20上にフォトレジスト
層を形成し、このフォトレジスト層上に、形成すべき仮
蓋23に対応するパターンに従って放射線遮光部が形成
されたマスクを配置し、その後、フォトレジスト層に対
して放射線照射処理および現像処理を行うことにより、
仮蓋23を形成することができる。そして、メッキ液中
において、非磁性体層20の貫通孔21内に充填された
磁性体粒子26に対して、磁性金属を例えば電解メッキ
などによってメッキ処理することにより、図10に示す
ように,磁性体粒子26の周囲に磁性体相27が形成さ
れる。
Next, as shown in FIG.
At 0, a temporary lid 23 is formed so that the magnetic particles 26 do not leak from the through hole 21 and the plating solution passes therethrough. Specifically, as shown in FIG. 9, the temporary lid 23 is formed so as to cover only the central region of the rectangular opening in the through hole 21 of the non-magnetic layer 20, and the opening edge of the through hole 21 and the temporary lid A gap having a width smaller than the particle diameter of the magnetic particles 26 is formed between the outer peripheral portion 23 and the peripheral edge of the magnetic particle 26. The width of the gap is appropriately set depending on the particle diameter of the magnetic particles 26 used, but is preferably 20 μm or more from the viewpoint that the plating solution can easily pass through. As a means for forming such a temporary lid 23, a photolithography technique can be used. Specifically, a photoresist layer is formed on the nonmagnetic layer 20, and a mask on which a radiation shielding portion is formed according to a pattern corresponding to the temporary lid 23 to be formed is arranged on the photoresist layer. By performing radiation irradiation processing and development processing on the photoresist layer,
The temporary lid 23 can be formed. Then, in the plating solution, the magnetic particles 26 filled in the through holes 21 of the nonmagnetic layer 20 are plated with a magnetic metal by, for example, electrolytic plating, as shown in FIG. A magnetic phase 27 is formed around the magnetic particles 26.

【0040】次いで、図11に示すように、非磁性体層
20上に、その貫通孔21を塞ぐよう、硬化性樹脂材料
よりなる蓋材形成材料層22Aを形成し、当該蓋材形成
材料層22Aの硬化処理を行い、その後、得られる硬化
樹脂層の表面を研摩処理することにより、図12に示す
ように、非磁性体層20における貫通孔21の開口を塞
ぐ蓋材22が形成される。
Next, as shown in FIG. 11, a lid material forming material layer 22A made of a curable resin material is formed on the non-magnetic material layer 20 so as to cover the through holes 21. By performing a hardening treatment of 22A, and then polishing the surface of the obtained cured resin layer, a cover material 22 for closing the opening of the through hole 21 in the non-magnetic material layer 20 is formed as shown in FIG. .

【0041】次いで、図13に示すように、非磁性体層
20および蓋材22の表面に、フォトレジスト層を形成
し、このフォトレジスト層上に、非磁性体層20の貫通
孔21に対応するパターンに従って放射線遮光部が形成
されたマスクを配置し、その後、フォトレジスト層に対
して放射線照射処理および現像処理を行うことにより、
キャビティ形成層が形成され、以て図7に示す構成の下
型が製造される。そして、上記の下型の製造方法と基本
的に同様の方法によって上型が製造され、以て、目的と
する異方導電性シート成形用金型が製造される。
Next, as shown in FIG. 13, a photoresist layer is formed on the surfaces of the non-magnetic layer 20 and the lid member 22, and the photoresist layer is formed on the photoresist layer so as to correspond to the through holes 21 of the non-magnetic layer 20. By arranging a mask on which a radiation shielding portion is formed according to the pattern to be formed, and then performing radiation irradiation processing and development processing on the photoresist layer,
The cavity forming layer is formed, and the lower mold having the configuration shown in FIG. 7 is manufactured. Then, the upper mold is manufactured by basically the same method as the above-described method of manufacturing the lower mold, thereby manufacturing the desired anisotropic conductive sheet molding die.

【0042】以上のような異方導電性シート成形用金型
によれば、磁性体部25を構成する磁性体粒子26とし
て、磁化の強さの大きい磁性体材料を用いることがで
き、しかも、磁性体粒子26の周囲には、磁性体相27
が形成されているため、磁性体材料の密度が極めて高い
磁性体部25を形成することができ、従って、シート成
形材料層に対して一層十分な強度分布を有する磁場を作
用させることができ、ピッチが小さくて複雑なパターン
の導電部を有し、かつ、隣接する導電部間において所要
の絶縁性を有する異方導電性シートを成形することがで
きる。また、磁性体部25の寸法は、非磁性体層20の
貫通孔21の寸法に応じて定めることができ、非磁性体
層20を構成する材料として、放射線によって硬化され
た樹脂材料を用いることにより、当該非磁性体層20を
フォトリソグラフィーの手法によって形成することが可
能であるため、目的とする磁性体部25のピッチが小さ
いものであっても、アスペクト比の高い磁性体部25を
高い寸法精度で形成することができる。
According to the above-described mold for forming an anisotropic conductive sheet, a magnetic material having a high magnetization strength can be used as the magnetic particles 26 constituting the magnetic portion 25. Around the magnetic particles 26, a magnetic phase 27
Is formed, it is possible to form the magnetic portion 25 having a very high density of the magnetic material, and therefore, it is possible to apply a magnetic field having a more sufficient intensity distribution to the sheet molding material layer, It is possible to form an anisotropic conductive sheet having a conductive portion having a small pitch and a complicated pattern and having a required insulating property between adjacent conductive portions. The size of the magnetic portion 25 can be determined according to the size of the through-hole 21 of the non-magnetic layer 20, and a resin material cured by radiation is used as the material of the non-magnetic layer 20. Accordingly, the nonmagnetic layer 20 can be formed by a photolithography technique, so that even if the pitch of the target magnetic section 25 is small, the magnetic section 25 having a high aspect ratio can be formed at a high height. It can be formed with dimensional accuracy.

【0043】本発明の異方導電性シート成形金型によれ
ば、例えば以下のようにして異方導電性シートを製造す
ることができる。先ず、硬化されて弾性高分子物質とな
る高分子物質用材料中に磁性を示す導電性粒子が分散さ
れてなるシート成形材料を調製し、図14に示すよう
に、シート成形材料を異方導電性シート成形金型内に注
入してシート成形材料層1Aを形成する。
According to the mold for forming an anisotropic conductive sheet of the present invention, an anisotropic conductive sheet can be manufactured, for example, as follows. First, a sheet molding material in which conductive particles exhibiting magnetism are dispersed in a material for a polymer substance which is cured to become an elastic polymer substance is prepared. As shown in FIG. 14, the sheet molding material is anisotropically conductive. The sheet molding material layer 1A is formed by injecting it into a flexible sheet molding die.

【0044】シート成形材料の調製に用いられる硬化性
の高分子物質用材料としては、種々のものを用いること
ができ、その具体例としては、ポリブタジエンゴム、天
然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共
重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴ
ムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、
スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、
スチレン−イソプレンブロック共重合体などのブロック
共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレ
ン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒ
ドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン共
重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴ
ムなどが挙げられる。以上において、得られる異方導電
性シートに耐候性が要求される場合には、共役ジエン系
ゴム以外のものを用いることが好ましく、特に、成形加
工性および電気特性の観点から、シリコーンゴムを用い
ることが好ましい。
Various materials can be used as the curable polymer material used for preparing the sheet molding material. Specific examples thereof include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, and styrene-butadiene. Conjugated diene rubbers such as copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, and hydrogenated products thereof;
Styrene-butadiene-diene block copolymer rubber,
Block copolymer rubbers such as styrene-isoprene block copolymers and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer And polymer rubber. In the above, when weather resistance is required for the obtained anisotropic conductive sheet, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber, and particularly, from the viewpoint of moldability and electrical characteristics, use of silicone rubber Is preferred.

【0045】シリコーンゴムとしては、液状シリコーン
ゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコ
ーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105
アズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のも
の、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのい
ずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン
生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニ
ルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。
As the silicone rubber, those obtained by crosslinking or condensing a liquid silicone rubber are preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of condensation type, addition type, and those containing a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specifically, dimethylsilicone raw rubber, methylvinylsilicone raw rubber, methylphenylvinylsilicone raw rubber and the like can be mentioned.

【0046】これらの中で、ビニル基を含有する液状シ
リコーンゴム(ビニル基含有ポリジメチルシロキサン)
は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジア
ルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまたは
ジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、加
水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の
繰り返しによる分別を行うことにより得られる。また、
ビニル基を両末端に含有する液状シリコーンゴムは、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロキ
サンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止
剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを用い、そ
の他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重
合停止剤の量)を適宜選択することにより得られる。こ
こで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムな
どのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用
いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃で
ある。このようなビニル基含有ポリジメチルシロキサン
は、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分
子量をいう。以下同じ。)が10000〜40000の
ものであることが好ましい。また、得られる異方導電性
シートの耐熱性の観点から、分子量分布指数(標準ポリ
スチレン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換
算数平均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下
同じ。)が2.0以下のものが好ましい。
Among these, liquid group-containing silicone rubber (vinyl group-containing polydimethylsiloxane)
Is usually obtained by subjecting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane to hydrolysis and condensation reaction in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation. Also,
The liquid silicone rubber containing vinyl groups at both ends is anionically polymerized with a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, and uses, for example, dimethyldivinylsiloxane as a polymerization terminator and other reaction conditions (for example, , The amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator). Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such a vinyl group-containing polydimethylsiloxane preferably has a molecular weight Mw (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene; the same applies hereinafter) of 10,000 to 40,000. In addition, from the viewpoint of heat resistance of the obtained anisotropic conductive sheet, the molecular weight distribution index (refers to the value of the ratio Mw / Mn between the standard polystyrene equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene equivalent number average molecular weight Mn; the same applies hereinafter). Is preferably 2.0 or less.

【0047】一方、ヒドロキシル基を含有する液状シリ
コーンゴム(ヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサ
ン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチル
ジアルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシランま
たはジメチルヒドロアルコキシシランの存在下におい
て、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−
沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン
重合し、重合停止剤として、例えばジメチルヒドロクロ
ロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたはジメチル
ヒドロアルコキシシランなどを用い、その他の反応条件
(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)
を適宜選択することによっても得られる。ここで、アニ
オン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニ
ウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカ
リまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることが
でき、反応温度は、例えば80〜130℃である。この
ようなヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサンは、
その分子量Mwが10000〜40000のものである
ことが好ましい。また、得られる導電路素子の耐熱性の
観点から、分子量分布指数が2.0以下のものが好まし
い。本発明においては、上記のビニル基含有ポリジメチ
ルシロキサンおよびヒドロキシル基含有ポリジメチルシ
ロキサンのいずれか一方を用いることもでき、両者を併
用することもできる。
On the other hand, a liquid silicone rubber containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by hydrolyzing dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane. And condensation reaction, for example,
It is obtained by performing fractionation by repeating precipitation.
Further, cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst, and dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane is used as a polymerization terminator, and other reaction conditions (for example, the amount of the cyclic siloxane and the polymerization termination) are used. Amount of agent)
Can also be obtained by appropriately selecting Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane is,
It is preferable that the molecular weight Mw is 10,000 to 40,000. Further, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element, those having a molecular weight distribution index of 2.0 or less are preferable. In the present invention, either one of the above-mentioned vinyl group-containing polydimethylsiloxane and hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane can be used, or both can be used in combination.

【0048】シート成形材料の調製に用いられる導電性
粒子としては、ニッケル、鉄、コバルトなどの磁性を示
す金属の粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれら
の金属を含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子と
し、当該芯粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウム
などの導電性の良好な金属のメッキを施したもの、ある
いは非磁性金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物
質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の
表面に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性体のメッ
キを施したもの、あるいは芯粒子に、導電性磁性体およ
び導電性の良好な金属の両方を被覆したものなどが挙げ
られる。これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、
その表面に金や銀などの導電性の良好な金属のメッキを
施したものを用いることが好ましい。芯粒子の表面に導
電性金属を被覆する手段としては、特に限定されるもの
ではないが、例えば化学メッキまたは無電解メッキによ
り行うことができる。
As the conductive particles used for preparing the sheet molding material, particles of magnetic metals such as nickel, iron and cobalt, particles of alloys thereof, particles containing these metals, or particles of these metals are used. The core particles are obtained by plating the surface of the core particles with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, and rhodium, or inorganic particles or polymer particles such as nonmagnetic metal particles or glass beads. Particles, such as those obtained by plating the surface of the core particles with a conductive magnetic material such as nickel or cobalt, or those in which the core particles are coated with both a conductive magnetic material and a metal having good conductivity. No. In these, nickel particles are used as core particles,
It is preferable to use a material whose surface is plated with a metal having good conductivity such as gold or silver. Means for coating the surface of the core particles with a conductive metal is not particularly limited, but may be, for example, chemical plating or electroless plating.

【0049】導電性粒子として、芯粒子の表面に導電性
金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な導
電性が得られる観点から、粒子表面における導電性金属
の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面
積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに
好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%で
ある。また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の0.5〜
50重量%であることが好ましく、より好ましくは1〜
30重量%、さらに好ましくは3〜25重量%、特に好
ましくは4〜20重量%である。被覆される導電性金属
が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の2.5〜
30重量%であることが好ましく、より好ましくは3〜
20重量%、さらに好ましくは3.5〜15重量%であ
る。また、被覆される導電性金属が銀である場合には、
その被覆量は、芯粒子の3〜50重量%であることが好
ましく、より好ましくは4〜40重量%、さらに好まし
くは5〜30重量%、特に好ましくは6〜20重量%で
ある。
When the conductive particles are formed by coating the surface of a core particle with a conductive metal, from the viewpoint of obtaining good conductivity, the coverage of the conductive metal on the particle surface (core particle) Is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%. Further, the coating amount of the conductive metal is 0.5 to
It is preferably 50% by weight, more preferably 1 to
The content is 30% by weight, more preferably 3 to 25% by weight, particularly preferably 4 to 20% by weight. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is from 2.5 to 2.5
It is preferably 30% by weight, more preferably 3 to
It is 20% by weight, more preferably 3.5 to 15% by weight. When the conductive metal to be coated is silver,
The coating amount is preferably 3 to 50% by weight of the core particles, more preferably 4 to 40% by weight, further preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 6 to 20% by weight.

【0050】また、導電性粒子の粒子径は、1〜100
0μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50
0μm、さらに好ましくは5〜300μm、特に好まし
くは10〜200μmである。また、導電性粒子の粒子
径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好まし
く、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは
1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。この
ような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、
得られる異方導電性シートの導電部は、加圧変形が容易
なものとなり、また、当該導電部において導電性粒子間
に十分な電気的接触が得られる。また、導電性粒子の形
状は、特に限定されるものではないが、高分子物質用材
料中に容易に分散させることができる点で、球状のも
の、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子に
よる塊状のものであることが好ましい。
The conductive particles have a particle size of 1 to 100.
0 μm, more preferably 2 to 50 μm.
0 μm, more preferably 5 to 300 μm, particularly preferably 10 to 200 μm. Further, the particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, further preferably 1.05 to 5, and particularly preferably 1.1 to 1. 4. By using conductive particles that satisfy such conditions,
The conductive portion of the obtained anisotropic conductive sheet is easily deformed under pressure, and sufficient electrical contact between the conductive particles is obtained in the conductive portion. In addition, the shape of the conductive particles is not particularly limited. However, since the conductive particles can be easily dispersed in the polymer substance material, the conductive particles have a spherical shape, a star shape, or a secondary shape in which these are aggregated. It is preferably a lump formed by particles.

【0051】また、導電性粒子の含水率は、5%以下で
あることが好ましく、より好ましくは3%以下、さらに
好ましくは2%以下、とくに好ましくは1%以下であ
る。このような条件を満足する導電性粒子を用いること
により、後述する製造方法において、高分子物質用材料
層を硬化処理する際に、当該高分子物質用材料層内に気
泡が生ずることが防止または抑制される。
The water content of the conductive particles is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less. By using the conductive particles satisfying such conditions, it is possible to prevent bubbles from being generated in the polymer material layer when the polymer material layer is cured in the manufacturing method described below or Is suppressed.

【0052】また、導電性粒子として、その表面がシラ
ンカップリング剤などのカップリング剤で処理されたも
のを適宜用いることができる。導電性粒子の表面がカッ
プリング剤で処理されることにより、当該導電性粒子と
弾性高分子物質との接着性が高くなり、その結果、得ら
れる異方導電性シートの導電部は、繰り返しの使用にお
ける耐久性が高いものとなる。カップリング剤の使用量
は、導電性粒子の導電性に影響を与えない範囲で適宜選
択されるが、導電性粒子表面におけるカップリング剤の
被覆率(導電性芯粒子の表面積に対するカップリング剤
の被覆面積の割合)が5%以上となる量であることが好
ましく、より好ましくは上記被覆率が7〜100%、さ
らに好ましくは10〜100%、特に好ましくは20〜
100%となる量である。
As the conductive particles, those whose surfaces have been treated with a coupling agent such as a silane coupling agent can be used as appropriate. By treating the surface of the conductive particles with the coupling agent, the adhesion between the conductive particles and the elastic polymer material is increased, and as a result, the conductive portion of the obtained anisotropic conductive sheet has a repetitive structure. The durability in use becomes high. The amount of the coupling agent used is appropriately selected within a range that does not affect the conductivity of the conductive particles. However, the coverage of the coupling agent on the surface of the conductive particles (the ratio of the coupling agent to the surface area of the conductive core particles). Is preferably 5% or more, more preferably 7 to 100%, more preferably 10 to 100%, and particularly preferably 20 to 100%.
It is an amount that becomes 100%.

【0053】このような導電性粒子は、得られる異方導
電性シートの導電部における導電性粒子の割合が体積分
率で30〜60%、好ましくは35〜50%となる割合
で用いられることが好ましい。この割合が30%未満の
場合には、十分に電気抵抗値の小さい導電部が得られな
いことがある。一方、この割合が60%を超える場合に
は、得られる異方導電性シートの導電部は脆弱なものと
なりやすく、導電部として必要な弾性が得られないこと
がある。
The conductive particles are used in such a proportion that the proportion of the conductive particles in the conductive portion of the obtained anisotropic conductive sheet is 30 to 60% by volume, preferably 35 to 50%. Is preferred. If this ratio is less than 30%, a conductive portion having a sufficiently low electric resistance may not be obtained. On the other hand, when this ratio exceeds 60%, the conductive part of the obtained anisotropic conductive sheet tends to be fragile, and the elasticity required for the conductive part may not be obtained.

【0054】シート成形材料中には、高分子物質用材料
を硬化させるための硬化触媒を含有させることができ
る。このような硬化触媒としては、有機過酸化物、脂肪
酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒などを用いることが
できる。硬化触媒として用いられる有機過酸化物の具体
例としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ビスジシクロベ
ンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジターシャリーブチ
ルなどが挙げられる。 硬化触媒として用いられる脂肪
酸アゾ化合物の具体例としては、アゾビスイソブチロニ
トリルなどが挙げられる。ヒドロシリル化反応の触媒と
して使用し得るものの具体例としては、塩化白金酸およ
びその塩、白金−不飽和基含有シロキサンコンプレック
ス、ビニルシロキサンと白金とのコンプレックス、白金
と1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンとのコン
プレックス、トリオルガノホスフィンあるいはホスファ
イトと白金とのコンプレックス、アセチルアセテート白
金キレート、環状ジエンと白金とのコンプレックスなど
の公知のものが挙げられる。硬化触媒の使用量は、高分
子物質用材料の種類、硬化触媒の種類、その他の硬化処
理条件を考慮して適宜選択されるが、通常、高分子物質
用材料100重量部に対して3〜15重量部である。
The sheet molding material may contain a curing catalyst for curing the polymer material. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, or the like can be used. Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile. Specific examples of the catalyst which can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include chloroplatinic acid and salts thereof, a siloxane complex containing a platinum-unsaturated group, a complex of vinylsiloxane and platinum, and platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane. And a complex of triorganophosphine or phosphite with platinum, acetylacetate platinum chelate, and a complex of cyclic diene and platinum. The amount of the curing catalyst used is appropriately selected in consideration of the type of the polymer material, the type of the curing catalyst, and other curing conditions. 15 parts by weight.

【0055】また、シート成形材料中には、必要に応じ
て、通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲルシ
リカ、アルミナなどの無機充填材を含有させることがで
きる。このような無機充填材を含有させることにより、
当該シート成形材料のチクソトロピー性が確保され、そ
の粘度が高くなり、しかも、導電性粒子の分散安定性が
向上すると共に、得られる異方導電性シートの強度が高
くなる。このような無機充填材の使用量は、特に限定さ
れるものではないが、多量に使用すると、磁場による導
電性粒子の配向を十分に達成することができなくなるた
め、好ましくない。また、シート成形材料の粘度は、温
度25℃において10000〜1000000cpの範
囲内であることが好ましい。
Further, the sheet molding material may contain an inorganic filler such as ordinary silica powder, colloidal silica, airgel silica, and alumina, if necessary. By including such an inorganic filler,
The thixotropy of the sheet molding material is ensured, the viscosity is increased, and the dispersion stability of the conductive particles is improved, and the strength of the obtained anisotropic conductive sheet is increased. The use amount of such an inorganic filler is not particularly limited, but using a large amount is not preferable because the orientation of the conductive particles cannot be sufficiently achieved by the magnetic field. The viscosity of the sheet molding material is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000 cp at a temperature of 25 ° C.

【0056】そして、異方導電性シート成形金型の上型
および下型に電磁石を配置してこれを作動させることに
より、基板10および磁性体部25を介して、シート成
形材料層1Aの厚み方向に平行磁場を作用させる。その
結果、シート成形材料層1Aにおいては、当該シート成
形材料層1A中に分散されていた導電性粒子が、上型の
磁性体部25と下型の磁性体部25との間の位置、すな
わちシート成形材料層1Aにおける導電部形成部分2A
に集合し、更に好ましくは当該シート成形材料層1Aの
厚み方向に配向する。そして、この状態において、シー
ト成形材料層1Aを硬化処理することにより、図15に
示すように、上型の磁性体部25と下型の磁性体部25
との間の位置に配置された、導電性粒子が密に充填され
た導電部2と、導電性粒子が全くあるいは殆ど存在しな
い絶縁部3が形成される。そして、異方導電性シート成
形金型から離型させることにより、図16に示す構成の
異方導電性シート1が得られる。
By arranging and operating the electromagnets on the upper and lower molds of the anisotropic conductive sheet molding die, the thickness of the sheet molding material layer 1A is interposed via the substrate 10 and the magnetic portion 25. A parallel magnetic field acts in the direction. As a result, in the sheet molding material layer 1A, the conductive particles dispersed in the sheet molding material layer 1A are positioned between the upper magnetic body portion 25 and the lower magnetic body portion 25, that is, Conductive portion forming portion 2A in sheet forming material layer 1A
And more preferably oriented in the thickness direction of the sheet forming material layer 1A. Then, in this state, the sheet forming material layer 1A is subjected to a hardening treatment, so that the upper magnetic member 25 and the lower magnetic member 25 as shown in FIG.
And a conductive portion 2 densely filled with conductive particles and an insulating portion 3 having no or almost no conductive particles are formed. Then, the anisotropic conductive sheet 1 having the configuration shown in FIG. 16 is obtained by releasing the anisotropic conductive sheet molding die.

【0057】以上において、シート成形材料層1Aの硬
化処理は、平行磁場を作用させたままの状態で行うこと
もできるが、平行磁場の作用を停止させた後に行うこと
もできる。シート成形材料層1Aに作用される平行磁場
の強度は、平均で200〜10000ガウスとなる大き
さが好ましい。また、平行磁場を作用させる手段として
は、電磁石の代わりに永久磁石を用いることもできる。
このような永久磁石としては、上記の範囲の平行磁場の
強度が得られる点で、アルニコ(登録商標)(Fe−A
l−Ni−Co系合金)、フェライトなどよりなるもの
が好ましい。このようにして得られる導電部2は、導電
性粒子が異方導電性シート1の厚み方向に並ぶよう配向
しているため、導電性粒子の割合が小さくても良好な導
電性が得られる。
In the above, the curing treatment of the sheet molding material layer 1A can be performed while the parallel magnetic field is applied, but can also be performed after the application of the parallel magnetic field is stopped. The strength of the parallel magnetic field applied to the sheet forming material layer 1A is preferably in a range of 200 to 10000 gauss on average. As a means for applying a parallel magnetic field, a permanent magnet can be used instead of an electromagnet.
As such a permanent magnet, Alnico (registered trademark) (Fe-A
1-Ni-Co alloy), ferrite, and the like. In the conductive portion 2 thus obtained, since the conductive particles are oriented so as to be arranged in the thickness direction of the anisotropic conductive sheet 1, good conductivity can be obtained even if the ratio of the conductive particles is small.

【0058】シート成形材料層1Aの硬化処理は、使用
される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱処理
によって行われる。加熱によりシート成形材料層1Aの
硬化処理を行う場合において、具体的な加熱温度および
加熱時間は、シート成形材料層1Aを構成する高分子物
質用材料などの種類、導電性粒子の移動に要する時間な
どを考慮して適宜選定される。
The curing treatment of the sheet molding material layer 1A is appropriately selected depending on the material to be used, but is usually carried out by a heating treatment. In the case where the curing treatment of the sheet molding material layer 1A is performed by heating, the specific heating temperature and heating time are determined by the type of the material for the polymer substance constituting the sheet molding material layer 1A and the time required for moving the conductive particles. It is appropriately selected in consideration of such factors.

【0059】このような方法によれば、上型の磁性体部
25と下型の磁性体部25との間に形成される磁場の強
度が、当該上型の非磁性体層20と当該下型20の非磁
性体層20との間に形成される磁場の強度に比して極め
て高いものであるため、シート成形材料層1Aにおける
導電部形成部分2Aに、当該導電部形成部分2A以外の
部分よりも十分に大きい磁場を作用させることができ、
その結果、成形すべき異方導電性シート1の導電部2の
ピッチが小さくて複雑なパターンのものであっても、隣
接する導電部2間において所要の絶縁性を有する異方導
電性シート1を製造することができる。
According to such a method, the strength of the magnetic field formed between the upper magnetic member 25 and the lower magnetic member 25 is reduced by the upper non-magnetic layer 20 and the lower magnetic member 25. Since the strength of the magnetic field formed between the mold 20 and the non-magnetic material layer 20 is extremely high, the conductive portion forming portion 2A in the sheet molding material layer 1A has a portion other than the conductive portion forming portion 2A. A magnetic field that is sufficiently larger than the part,
As a result, even if the pitch of the conductive portions 2 of the anisotropic conductive sheet 1 to be formed is small and has a complicated pattern, the anisotropic conductive sheet 1 having a required insulating property between adjacent conductive portions 2 is formed. Can be manufactured.

【0060】本発明は、上記の実施の形態に限定され
ず、種々の変更を加えることが可能である。 (1)磁性体粒子は、非磁性体層の貫通孔内に充填し得
るものであれば、その形状が球状のものに限定されず、
例えば棒状、柱状、その他の形状のものであってもよ
く、また、形状または粒子径の異なる磁性体粒子が混合
されてなるものを用いてもよい。具体的には、図17に
示すように、形状または粒子径の異なる磁性体粒子26
を用いることにより、非磁性体層20の貫通孔21内に
おける磁性体部形成空間に占める磁性体粒子26の割合
を高めることができる。また、図18に示すように、非
磁性体層の貫通孔の断面形状に適合する断面形状を有す
る複数の磁性体粒子26を、非磁性体層の貫通孔内にお
ける磁性体部形成空間に積重して充填することにより、
或いは、図19に示すように、非磁性体層の貫通孔内に
おける磁性体部形成空間の形状に適合する形状を有する
磁性体粒子26を、非磁性体層の貫通孔内における磁性
体部形成空間に充填することにより、非磁性体層20の
貫通孔21内における磁性体部形成空間に占める磁性体
粒子26の割合を一層高めることができる。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made. (1) The shape of the magnetic particles is not limited to a spherical one as long as they can be filled in the through holes of the non-magnetic layer.
For example, it may have a rod shape, a column shape, or another shape, or may be a mixture of magnetic particles having different shapes or particle diameters. Specifically, as shown in FIG. 17, the magnetic particles 26 having different shapes or particle diameters are used.
By using, the ratio of the magnetic particles 26 occupying the magnetic portion forming space in the through holes 21 of the nonmagnetic layer 20 can be increased. As shown in FIG. 18, a plurality of magnetic particles 26 having a cross-sectional shape matching the cross-sectional shape of the through-hole of the nonmagnetic layer are stacked in the magnetic portion forming space in the through-hole of the nonmagnetic layer. By filling and filling
Alternatively, as shown in FIG. 19, the magnetic particles 26 having a shape conforming to the shape of the magnetic portion forming space in the through-hole of the non-magnetic layer are formed by forming the magnetic particles 26 in the through-hole of the non-magnetic layer. By filling the space, the ratio of the magnetic particles 26 occupying the magnetic portion forming space in the through hole 21 of the nonmagnetic layer 20 can be further increased.

【0061】(2)キャビティ形成層は、本発明におい
て必須のものではなく、例えば表面が平坦な異方導電性
シートを成形する場合には、キャビティ形成層は不要で
ある。 (3)非磁性体層20の形成方法としては、例えば熱硬
化性樹脂からなる層を基板10上に形成し、この層にレ
ーザーを照射することによって貫通孔21を形成する方
法を採用することもできる。
(2) The cavity forming layer is not essential in the present invention. For example, when forming an anisotropic conductive sheet having a flat surface, the cavity forming layer is unnecessary. (3) As a method for forming the nonmagnetic layer 20, for example, a method of forming a layer made of a thermosetting resin on the substrate 10 and irradiating the layer with a laser to form the through holes 21 is adopted. Can also.

【0062】[0062]

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will now be described by way of specific examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.

【0063】〈実施例1〉 (1)非磁性体層の形成:寸法150mm×200mm
×6mmの軟鉄SS400よりなる基板を用意し、この
基板の表面に、厚みが50μmのドライフィルムレジス
トをラミネートすることにより、フォトレジスト層を形
成した。このフォトレジスト層の表面に、形成すべき非
磁性体層の貫通孔に対応するパターンに従って放射線遮
光部が形成されたマスクを位置合わせして配置し、当該
フォトレジスト層に対して、高圧水銀灯を光源として8
0mJ/cm2 の露光量で放射線照射処理を行った後、
現像液として1%炭酸ナトリウム水溶液を用いて1分間
スプレー現像を行った。以上の工程を合計で3回行うこ
とにより、基板上に厚みが150μmの非磁性体層を形
成した。この非磁性体層の貫通孔は、寸法が80μm×
320μmの矩形の断面で、ピッチが160μmのもの
であった。
Example 1 (1) Formation of Nonmagnetic Layer: Dimension 150 mm × 200 mm
A substrate made of soft iron SS400 having a size of 6 mm was prepared, and a 50 μm-thick dry film resist was laminated on the surface of the substrate to form a photoresist layer. On the surface of the photoresist layer, a mask on which a radiation shielding portion is formed is positioned and arranged in accordance with a pattern corresponding to a through hole of a nonmagnetic layer to be formed, and a high-pressure mercury lamp is applied to the photoresist layer. 8 as light source
After performing radiation irradiation treatment with an exposure amount of 0 mJ / cm 2 ,
Spray development was performed for 1 minute using a 1% aqueous sodium carbonate solution as a developer. By performing the above steps three times in total, a nonmagnetic layer having a thickness of 150 μm was formed on the substrate. The through-hole of this nonmagnetic layer has a size of 80 μm ×
It had a rectangular cross section of 320 μm and a pitch of 160 μm.

【0064】(2)磁性体部の形成:非磁性体層の貫通
孔内に、略球状の磁性体粒子(鉄製、平均粒子径40μ
m)を充填した後、非磁性体層上に、液状のアクリル系
熱硬化性樹脂「NPR−60」(日本ポリテック(株)
製)をスクリーン印刷機によって塗布することにより、
蓋材形成材料層を形成し、160℃、120分間の条件
で加熱処理した後、ラッピング装置「ハイプレッツEJ
−380」(日本エンギス社製)によって、研摩材とし
てダイヤモンド砥粒コンパウンド(日本エンギス社製)
を用いて、80rpmで30分間の条件で、得られた硬
化樹脂層の表面を研摩処理することにより、非磁性体層
の貫通孔の各々に蓋材を形成した。この蓋材の厚みは1
5μm(基板と蓋材との間の空間の厚みが150μ
m)、磁性体部形成空間に占める当該磁性体部形成空間
に充填された磁性体粒子の割合は、平均で65体積%で
あった。
(2) Formation of magnetic material portion: Substantially spherical magnetic particles (made of iron, having an average particle size of 40 μm) are provided in the through holes of the nonmagnetic material layer.
m), and a liquid acrylic thermosetting resin "NPR-60" (Nippon Polytech Co., Ltd.)
By a screen printer.
After forming a lid material forming material layer and performing a heat treatment at 160 ° C. for 120 minutes, the wrapping device “Hipratez EJ
-380 "(manufactured by Nippon Engis) and diamond abrasive compound (manufactured by Nippon Engis) as an abrasive
The surface of the obtained cured resin layer was polished under the conditions of 80 rpm for 30 minutes to form a lid material in each of the through holes of the nonmagnetic layer. The thickness of this lid is 1
5 μm (the thickness of the space between the substrate and the lid material is 150 μm)
m), the ratio of the magnetic particles filled in the magnetic part forming space to the magnetic part forming space was 65% by volume on average.

【0065】(3)キャビティ形成層の形成:非磁性体
層および蓋材の表面に、厚みが50μmのドライフィル
ムレジストをラミネートすることにより、フォトレジス
ト層を形成した。このフォトレジスト層の表面に、形成
すべきキャビティ形成層の孔に対応するパターンに従っ
て放射線遮光部が形成されたマスクを位置合わせして配
置し、当該フォトレジスト層に対して、高圧水銀灯を光
源として80mJ/cm2 の露光量で放射線照射処理を
行った後、現像液として1%炭酸水素ナトリウム水溶液
を用いて1分間スプレー現像を行うことにより、キャビ
ティ形成層を形成し、以て、図1に示す構成の下型を製
造した。
(3) Formation of a cavity forming layer: A photoresist layer was formed by laminating a dry film resist having a thickness of 50 μm on the surfaces of the nonmagnetic layer and the cover material. On the surface of this photoresist layer, a mask on which a radiation shielding part is formed is positioned and arranged in accordance with a pattern corresponding to the hole of the cavity forming layer to be formed, and a high-pressure mercury lamp is used as a light source for the photoresist layer. After performing a radiation irradiation treatment at an exposure amount of 80 mJ / cm 2 , a cavity forming layer was formed by performing spray development for 1 minute using a 1% aqueous solution of sodium hydrogen carbonate as a developing solution. A lower mold having the configuration shown was manufactured.

【0066】また、上記の(1)〜(3)の方法と同様
にして、非磁性体層の形成、磁性体部の形成およびキャ
ビティ層の形成を行うことにより、上記の下型と対とな
る上型を製造し、目的とする異方導電性シート成形用金
型を製造した。
By forming the non-magnetic layer, forming the magnetic portion, and forming the cavity layer in the same manner as in the above-mentioned methods (1) to (3), the lower mold and the pair are formed. An upper mold was manufactured, and a desired mold for forming an anisotropic conductive sheet was manufactured.

【0067】〈実施例2〉 (1)非磁性体層の形成:寸法150mm×200mm
×6mmの軟鉄SS400よりなる基板を用意し、この
基板の表面に、厚みが40μmのドライフィルムレジス
トをラミネートすることにより、フォトレジスト層を形
成した。このフォトレジスト層の表面に、形成すべき非
磁性体層の貫通孔に対応するパターンに従って放射線遮
光部が形成されたマスクを位置合わせして配置し、当該
フォトレジスト層に対して、高圧水銀灯を光源として3
00mJ/cm2 の露光量で放射線照射処理を行った
後、現像液として1%炭酸水素ナトリウム水溶液を用い
て1分間スプレー現像を行った。以上の工程を合計で3
回行うことにより、基板上に厚みが120μmの非磁性
体層を形成した。この非磁性体層の貫通孔は、寸法が8
0μm×320μmの矩形の断面で、ピッチが160μ
mのものであった。
Example 2 (1) Formation of Nonmagnetic Layer: Dimension 150 mm × 200 mm
A substrate made of soft iron SS400 having a size of 6 mm was prepared, and a 40 μm-thick dry film resist was laminated on the surface of the substrate to form a photoresist layer. On the surface of the photoresist layer, a mask on which a radiation shielding portion is formed is positioned and arranged in accordance with a pattern corresponding to a through hole of a nonmagnetic layer to be formed, and a high-pressure mercury lamp is applied to the photoresist layer. 3 as a light source
After performing a radiation irradiation treatment at an exposure amount of 00 mJ / cm 2 , spray development was performed for 1 minute using a 1% aqueous sodium hydrogen carbonate solution as a developing solution. The above process is 3 in total
This was repeated twice to form a non-magnetic layer having a thickness of 120 μm on the substrate. The through-hole of this non-magnetic layer has a size of 8
0μm × 320μm rectangular cross section, 160μ pitch
m.

【0068】(2)磁性体部の形成:非磁性体層の貫通
孔内に、略球状の磁性体粒子(鉄製、平均粒子径60μ
m)を充填した後、アクリル系のフォトレジストをスク
リーン印刷機によって塗布してフォトレジスト層を形成
し、形成すべき仮蓋に対応するパターンに従って放射線
遮光部が形成されたマスクを位置合わせして配置し、当
該フォトレジスト層に対して、高圧水銀灯を光源として
300mJ/cm2 の露光量で放射線照射処理を行った
後、現像液として1%炭酸水素ナトリウム水溶液を用い
て1分間スプレー現像を行うことにより、非磁性体層
に、図9に示すような仮蓋を形成した。この仮蓋の寸法
は、100μm×260μm×15μmであり、非磁性
体層の貫通孔の開口縁と仮蓋の周縁との間の間隙の幅は
30μmであった。次いで、基板における非磁性体層が
形成されていない面を、メッキ用リード線電極部として
利用する部分を残してレジストテープでマスキングし、
その後、スルファミン酸ニッケルを主剤とするニッケル
メッキ液中で、温度60℃、電流値0.5A/dm2
条件で2時間、電界メッキ処理を施すことにより、非磁
性体層の貫通孔内に充填された磁性体粒子の周囲に磁性
体相を形成した。そして、非磁性体層上に、液状のアク
リル系熱硬化性樹脂をスクリーン印刷機によって塗布す
ることにより、蓋材形成材料層を形成し、160℃、1
20分間の条件で加熱処理した後、ラッピング装置「ハ
イプレッツEJ−380」によって、研摩材としてダイ
ヤモンド砥粒コンパウンド(日本エンギス社製)を用い
て、80rpmで30分間の条件で、得られた硬化樹脂
層の表面を研摩処理することにより、非磁性体層の貫通
孔の各々に蓋材を形成した。この蓋材の厚みは20μm
(磁性体部形成空間の厚みが120μmで、アスペクト
比が1.5)、磁性体部形成空間に占める当該磁性体部
形成空間に充填された磁性体粒子および磁性体相の割合
は、平均で85体積%であり、磁性体粒子と磁性体相と
の体積比は、平均で65:20であった。
(2) Formation of magnetic material portion: Substantially spherical magnetic particles (made of iron, having an average particle size of 60 μm) were formed in the through-holes of the non-magnetic material layer.
After filling m), an acrylic photoresist is applied by a screen printing machine to form a photoresist layer, and a mask on which a radiation shielding portion is formed is aligned in accordance with a pattern corresponding to a temporary lid to be formed. After irradiating the photoresist layer with a high-pressure mercury lamp as a light source and irradiating it with an exposure amount of 300 mJ / cm 2 , spray development is performed for 1 minute using a 1% aqueous sodium hydrogen carbonate solution as a developing solution. As a result, a temporary lid as shown in FIG. 9 was formed on the nonmagnetic layer. The dimensions of the temporary lid were 100 μm × 260 μm × 15 μm, and the width of the gap between the opening edge of the through hole of the non-magnetic layer and the peripheral edge of the temporary lid was 30 μm. Next, the surface of the substrate on which the nonmagnetic layer is not formed is masked with a resist tape, leaving a portion to be used as a lead electrode portion for plating.
Then, in a nickel plating solution containing nickel sulfamate as a main component, an electrolytic plating process is performed for 2 hours at a temperature of 60 ° C. and a current value of 0.5 A / dm 2 , so that the through-holes in the nonmagnetic layer are formed. A magnetic phase was formed around the filled magnetic particles. Then, a liquid acrylic thermosetting resin is applied on the non-magnetic material layer by a screen printer to form a lid material forming material layer.
After the heat treatment under the condition of 20 minutes, the hardening obtained by the lapping apparatus “Hiprates EJ-380” using the diamond abrasive compound (manufactured by Nippon Engis Co., Ltd.) as the abrasive at 80 rpm for 30 minutes. By polishing the surface of the resin layer, a lid material was formed in each of the through holes of the nonmagnetic layer. The thickness of this lid material is 20 μm
(The thickness of the magnetic part forming space is 120 μm and the aspect ratio is 1.5), and the ratio of the magnetic particles and the magnetic phase filled in the magnetic part forming space to the magnetic part forming space is an average. It was 85% by volume, and the volume ratio between the magnetic particles and the magnetic phase was 65:20 on average.

【0069】(3)キャビティ形成層の形成:非磁性体
層および蓋材の表面に、厚みが50μmのドライフィル
ムレジストをラミネートすることにより、フォトレジス
ト層を形成した。このフォトレジスト層の表面に、形成
すべきキャビティ形成層の孔に対応するパターンに従っ
て放射線遮光部が形成されたマスクを位置合わせして配
置し、当該フォトレジスト層に対して、高圧水銀灯を光
源として80mJ/cm2 の露光量で放射線照射処理を
行った後、現像液として1%炭酸水素ナトリウム水溶液
を用いて1分間スプレー現像を行うことにより、キャビ
ティ形成層を形成し、以て、図1に示す構成の下型を製
造した。
(3) Formation of cavity forming layer: A photoresist layer was formed by laminating a dry film resist having a thickness of 50 μm on the surfaces of the nonmagnetic layer and the cover material. On the surface of this photoresist layer, a mask on which a radiation shielding part is formed is positioned and arranged in accordance with a pattern corresponding to the hole of the cavity forming layer to be formed, and a high-pressure mercury lamp is used as a light source for the photoresist layer. After performing a radiation irradiation treatment at an exposure amount of 80 mJ / cm 2 , a cavity forming layer was formed by performing spray development for 1 minute using a 1% aqueous solution of sodium hydrogen carbonate as a developing solution. A lower mold having the configuration shown was manufactured.

【0070】また、上記の(1)〜(3)の方法と同様
にして、非磁性体層の形成、磁性体部の形成およびキャ
ビティ層の形成を行うことにより、上記の下型と対とな
る上型を製造し、目的とする異方導電性シート成形用金
型を製造した。
The formation of the nonmagnetic layer, the formation of the magnetic part, and the formation of the cavity layer are carried out in the same manner as in the above methods (1) to (3), whereby the lower mold and the pair are formed. An upper mold was manufactured, and a desired mold for forming an anisotropic conductive sheet was manufactured.

【0071】〈比較例1〉寸法150mm×200mm
×6mmの軟鉄SS400よりなる基板を用意し、この
基板の表面に、厚みが50μmのドライフィルムレジス
トをラミネートすることにより、フォトレジスト層を形
成した。このフォトレジスト層の表面に、形成すべき非
磁性体層の貫通孔に対応するパターンに従って放射線遮
光部が形成されたマスクを位置合わせして配置し、当該
フォトレジスト層に対して、高圧水銀灯を光源として8
0mJ/cm2 の露光量で放射線照射処理を行った後、
現像液として1%炭酸水素ナトリウム水溶液を用いて1
分間スプレー現像を行った。以上の工程を合計で2回行
うことにより、基板上に厚みが100μmの非磁性体層
を形成した。この非磁性体層の貫通孔は、寸法が80μ
m×320μmの矩形の断面で、ピッチが160μmの
ものであった。
<Comparative Example 1> dimensions 150 mm x 200 mm
A substrate made of soft iron SS400 having a size of 6 mm was prepared, and a 50 μm-thick dry film resist was laminated on the surface of the substrate to form a photoresist layer. On the surface of the photoresist layer, a mask on which a radiation shielding portion is formed is positioned and arranged in accordance with a pattern corresponding to a through hole of a nonmagnetic layer to be formed, and a high-pressure mercury lamp is applied to the photoresist layer. 8 as light source
After performing radiation irradiation treatment with an exposure amount of 0 mJ / cm 2 ,
1% aqueous sodium hydrogen carbonate solution
Spray development for minutes. By performing the above steps twice in total, a nonmagnetic layer having a thickness of 100 μm was formed on the substrate. The size of the through-hole of this non-magnetic layer is 80 μm.
It had a rectangular cross section of m × 320 μm and a pitch of 160 μm.

【0072】基板における非磁性体層が形成されていな
い面を、メッキ用リード線電極部として利用する部分を
残してレジストテープでマスキングし、その後、スルフ
ァミン酸ニッケルを主剤とするニッケルメッキ液中で、
温度45℃、電流値2A/dm2 の条件で3時間、電界
メッキ処理を施すことにより、非磁性体層の貫通孔内に
ニッケルの堆積体を形成し、ラッピング装置「ハイプレ
ッツEJ−380」によって、研摩材としてダイヤモン
ド砥粒コンパウンド(日本エンギス社製)を用いて、8
0rpmで30分間の条件で研摩処理することにより、
非磁性体層と同一の厚みを有する磁性体部を形成した。
この磁性体部のアスペクト比は1.25である。
The surface of the substrate on which the non-magnetic layer is not formed is masked with a resist tape except for a portion to be used as a plating lead wire electrode portion, and then is plated in a nickel plating solution mainly containing nickel sulfamate. ,
Electroplating is performed for 3 hours at a temperature of 45 ° C. and a current value of 2 A / dm 2 to form a nickel deposit in the through-hole of the non-magnetic layer, and a wrapping device “HIPLETS EJ-380” Using diamond abrasive compound (made by Nippon Engis Co., Ltd.) as an abrasive
By polishing at 0 rpm for 30 minutes,
A magnetic part having the same thickness as the non-magnetic layer was formed.
The aspect ratio of this magnetic body is 1.25.

【0073】非磁性体層および磁性体部の表面に、厚み
が50μmのドライフィルムレジストをラミネートする
ことにより、フォトレジスト層を形成した。このフォト
レジスト層の表面に、形成すべきキャビティ形成層の孔
に対応するパターンに従って放射線遮光部が形成された
マスクを位置合わせして配置し、当該フォトレジスト層
に対して、高圧水銀灯を光源として80mJ/cm2
露光量で放射線照射処理を行った後、現像液として1%
炭酸水素ナトリウム水溶液を用いて1分間スプレー現像
を行うことにより、キャビティ形成層を形成して下型を
製造した。また、上記の方法と同様にして、非磁性体層
の形成、磁性体部の形成およびキャビティ層の形成を行
うことにより、上記の下型と対となる上型を製造し、目
的とする異方導電性シート成形用金型を製造した。
A photoresist layer was formed by laminating a dry film resist having a thickness of 50 μm on the surfaces of the nonmagnetic layer and the magnetic portion. On the surface of this photoresist layer, a mask on which a radiation shielding part is formed is positioned and arranged in accordance with a pattern corresponding to the hole of the cavity forming layer to be formed, and a high-pressure mercury lamp is used as a light source for the photoresist layer. After performing a radiation irradiation treatment at an exposure amount of 80 mJ / cm 2 , 1%
By performing spray development for 1 minute using an aqueous solution of sodium hydrogencarbonate, a cavity forming layer was formed to produce a lower mold. In addition, by forming a non-magnetic layer, forming a magnetic portion, and forming a cavity layer in the same manner as described above, an upper mold that is to be paired with the lower mold described above is manufactured, and the desired difference is obtained. A mold for forming an electroconductive sheet was manufactured.

【0074】〔異方導電性シートの製造〕実施例1〜2
および比較例1で得られた異方導電性シート製造用金型
を用い、以下のようにして異方導電性シートを製造し
た。上型および下型の成形面に、フッ素系離型剤「ダイ
フリーA441」(ダイキン工業社製)をスプレー塗布
した。次いで、枠状スペーサとして厚みが100μmの
ポリイミドシートを用い、室温硬化型シリコーンゴム中
に平均粒子径が40μmのニッケル粒子が25体積%と
なる割合で含有されてなるシート成形材料を金型内に注
入した。この金型における上型の上面および下型の下面
に電磁石を配置し、当該電磁石によって3000ガウス
の磁場を作用させながら、120℃で30分間の条件で
加熱処理することにより、絶縁部の表面から突出した導
電部を有する異方導電性シートを製造した。得られた各
異方導電性シートは、いずれも絶縁部の厚みが150μ
m、導電部のピッチが160μm、表面の突出高さが5
0μmのものであった。
[Production of Anisotropically Conductive Sheet] Examples 1 and 2
Using the mold for producing an anisotropic conductive sheet obtained in Comparative Example 1, an anisotropic conductive sheet was produced as follows. The fluorine-based release agent “DAIFREE A441” (manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was spray-coated on the molding surfaces of the upper mold and the lower mold. Next, a polyimide sheet having a thickness of 100 μm is used as a frame-shaped spacer, and a sheet molding material in which nickel particles having an average particle diameter of 40 μm are contained in a room-temperature-curable silicone rubber in a ratio of 25% by volume is placed in a mold. Injected. An electromagnet is arranged on the upper surface of the upper die and the lower surface of the lower die in this mold, and a heat treatment is performed at 120 ° C. for 30 minutes while applying a magnetic field of 3000 gauss by the electromagnet. An anisotropic conductive sheet having a protruding conductive portion was manufactured. Each of the obtained anisotropic conductive sheets had an insulating portion thickness of 150 μm.
m, the pitch of the conductive parts is 160 μm, and the protrusion height of the surface is 5
It was 0 μm.

【0075】〔異方導電性シートの評価〕得られた異方
導電性シートの各々について、以下の評価を行った。 (1)導電部の導電性:図20に示すように、抵抗測定
器40(日置電機社製「ミリオームハイテスター」)、
プローブピン41、短絡板42、リード線43により構
成された抵抗測定装置を用いて、異方導電性シート1の
導電部2の電気抵抗を測定した。 (2)導電部間の絶縁性:図21に示すように、抵抗測
定器40(日置電機社製「ミリオームハイテスタ
ー」)、一対のプローブピン41、リード線43により
構成された抵抗測定装置を用いて、異方導電性シート1
における隣接する導電部2間の電気抵抗を測定した。以
上、結果を表1に示す。
[Evaluation of Anisotropic Conductive Sheet] Each of the obtained anisotropic conductive sheets was evaluated as follows. (1) Conductivity of conductive part: As shown in FIG. 20, a resistance measuring device 40 ("Milliohm Hi Tester" manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.)
The electrical resistance of the conductive part 2 of the anisotropic conductive sheet 1 was measured using a resistance measuring device composed of the probe pins 41, the short-circuiting plate 42, and the lead wires 43. (2) Insulation between conductive parts: As shown in FIG. 21, a resistance measuring device composed of a resistance measuring device 40 (“Milliohm High Tester” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.), a pair of probe pins 41 and lead wires 43 is used. Using an anisotropic conductive sheet 1
Was measured for the electrical resistance between adjacent conductive parts 2. The results are shown in Table 1.

【0076】[0076]

【表1】 [Table 1]

【0077】表1の結果から明らかなように、実施例1
〜2に係る異方導電性シート成形用金型によれば、導電
部のピッチが小さいものでありながら、当該導電部は良
好な導電性を有すると共に、隣接する導電部間において
所要の絶縁性を有する異方導電性シートが得られること
が確認された。
As is clear from the results in Table 1, Example 1
According to the molds for forming an anisotropic conductive sheet according to (2), while the pitch of the conductive portion is small, the conductive portion has good conductivity and has a required insulation property between adjacent conductive portions. It was confirmed that an anisotropic conductive sheet having the following formula was obtained.

【0078】[0078]

【発明の効果】本発明の金型によれば、磁性体部は主と
して磁性体粒子によって構成されており、当該磁性体粒
子を形成する磁性体材料の種類には何ら制限がないた
め、磁性体部を構成する磁性体材料として磁化の強さの
大きいものを用いることができる。しかも、磁性体粒子
は、非磁性体層の貫通孔内における基板と蓋材との間の
空間に充填されることによって固定されており、磁性体
部の形成において、磁性体粒子を固定するために非磁性
体材料よりなるバインダーを用いることが不要となるた
め、磁性体材料の密度が高い磁性体部を形成することが
できる。従って、シート成形材料層に対して十分な強度
分布を有する磁場を作用させることができ、ピッチが小
さくて複雑なパターンの導電部を有する異方導電性シー
トを成形することができる。また、磁性体粒子の周囲に
磁性体相を形成することにより、磁性体材料の密度が極
めて高い磁性体部を形成することができるので、シート
成形材料層に対して一層十分な強度分布を有する磁場を
作用させることができる。
According to the mold of the present invention, the magnetic part is mainly composed of magnetic particles, and there is no limitation on the type of magnetic material forming the magnetic particles. A magnetic material having a high magnetization intensity can be used as the magnetic material constituting the portion. Moreover, the magnetic particles are fixed by filling the space between the substrate and the cover material in the through-holes of the non-magnetic layer, and are used to fix the magnetic particles in forming the magnetic part. Since it is not necessary to use a binder made of a non-magnetic material, a magnetic part having a high density of the magnetic material can be formed. Therefore, a magnetic field having a sufficient intensity distribution can be applied to the sheet forming material layer, and an anisotropic conductive sheet having a conductive pattern with a small pitch and a complicated pattern can be formed. Further, by forming a magnetic phase around the magnetic particles, it is possible to form a magnetic portion having a very high density of the magnetic material, and thus have a more sufficient strength distribution with respect to the sheet molding material layer. A magnetic field can be applied.

【0079】本発明の金型の製造方法によれば、シート
成形材料層に対して十分な強度分布を有する磁場を形成
することができ、ピッチが小さくて複雑なパターンの導
電部を有し、かつ、導電部間において所要の絶縁性を有
する異方導電性シートを成形することが可能な金型を製
造することができる。本発明の異方導電性シートの製造
方法によれば、導電部のピッチが小さくて複雑なパター
ンのものであっても、隣接する導電部間において所要の
絶縁性を有する異方導電性シートを製造することができ
る。
According to the method for manufacturing a mold of the present invention, a magnetic field having a sufficient intensity distribution can be formed on a sheet molding material layer, and a conductive pattern having a small pitch and a complicated pattern is provided. In addition, it is possible to manufacture a mold capable of forming an anisotropic conductive sheet having a required insulating property between conductive portions. According to the method of manufacturing an anisotropic conductive sheet of the present invention, even if the pitch of the conductive portions is small and has a complicated pattern, the anisotropic conductive sheet having a required insulating property between adjacent conductive portions can be formed. Can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る異方導電性シート成形用金型の一
例における下型の要部の構成を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part of a lower mold in an example of a mold for forming an anisotropic conductive sheet according to the present invention.

【図2】基板上に非磁性体層が形成された状態を示す説
明用断面図である。
FIG. 2 is an explanatory sectional view showing a state in which a non-magnetic layer is formed on a substrate.

【図3】非磁性体層の貫通孔内に磁性体粒子が充填され
た状態を示す説明用断面図である。
FIG. 3 is an explanatory cross-sectional view showing a state where magnetic particles are filled in through holes of a nonmagnetic layer.

【図4】非磁性体層上に蓋材形成材料層が形成された状
態を示す説明用断面図である。
FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a lid material forming material layer is formed on a non-magnetic material layer.

【図5】非磁性体層の貫通孔の開口に蓋材が形成された
状態を示す説明用断面図である。
FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a lid member is formed in an opening of a through hole in a nonmagnetic layer.

【図6】非磁性体層および蓋材の表面にフォトレジスト
層が形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a photoresist layer is formed on the surfaces of a nonmagnetic layer and a lid member.

【図7】本発明に係る異方導電性シート成形用金型の他
の例における下型の要部の構成を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part of a lower mold in another example of the anisotropic conductive sheet molding die according to the present invention.

【図8】非磁性体層に仮蓋が形成された状態を示す説明
用断面図である。
FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a temporary lid is formed on a nonmagnetic layer.

【図9】非磁性体層に仮蓋が形成された状態を示す平面
図である。
FIG. 9 is a plan view showing a state where a temporary lid is formed on a non-magnetic layer.

【図10】非磁性体層の貫通孔内における磁性体粒子の
周囲に磁性体相が形成された状態を示す説明用断面図で
ある。
FIG. 10 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a magnetic phase is formed around magnetic particles in a through hole of a nonmagnetic layer.

【図11】非磁性体層上に蓋材形成材料層が形成された
状態を示す説明用断面図である。
FIG. 11 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a lid material forming material layer is formed on a non-magnetic material layer.

【図12】非磁性体層の貫通孔の開口に蓋材が形成され
た状態を示す説明用断面図である。
FIG. 12 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a cover material is formed in an opening of a through hole in a nonmagnetic layer.

【図13】非磁性体層および蓋材の表面にフォトレジス
ト層が形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 13 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a photoresist layer is formed on the surfaces of a nonmagnetic layer and a lid member.

【図14】異方導電性シート成形用金型内に成形材料層
が形成された状態を示す説明用断面図である。
FIG. 14 is an explanatory sectional view showing a state in which a molding material layer is formed in a mold for molding an anisotropic conductive sheet.

【図15】異方導電性シート成形用金型内の成形材料層
に強度分布を有する磁場が作用された状態を示す説明用
断面図である。
FIG. 15 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a magnetic field having an intensity distribution is applied to a molding material layer in a mold for molding an anisotropic conductive sheet.

【図16】本発明の製造方法によって得られる異方導電
性シートの一例における構成を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 16 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of an example of an anisotropic conductive sheet obtained by a manufacturing method of the present invention.

【図17】本発明に係る異方導電性シート成形用金型の
更に他の例における下型の要部の構成を示す説明用断面
図である。
FIG. 17 is an explanatory sectional view showing a configuration of a main part of a lower die in still another example of the anisotropic conductive sheet forming die according to the present invention.

【図18】本発明に係る異方導電性シート成形用金型の
更に他の例における下型の要部の構成を示す説明用断面
図である。
FIG. 18 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part of a lower die in still another example of the anisotropic conductive sheet forming die according to the present invention.

【図19】本発明に係る異方導電性シート成形用金型の
更に他の例における下型の要部の構成を示す説明用断面
図である。
FIG. 19 is an explanatory sectional view showing a configuration of a main part of a lower die in still another example of the anisotropic conductive sheet forming die according to the present invention.

【図20】実施例において製造した異方導電性シートに
おける導電部の抵抗を測定するための装置を示す説明図
である。
FIG. 20 is an explanatory view showing an apparatus for measuring the resistance of a conductive portion in an anisotropic conductive sheet manufactured in an example.

【図21】実施例において製造した異方導電性シートに
おける隣接する導電部間の抵抗を測定するための装置を
示す説明図である。
FIG. 21 is an explanatory view showing an apparatus for measuring a resistance between adjacent conductive portions in an anisotropic conductive sheet manufactured in an example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 異方導電性シート 1A シート成形材料層 2 導電部 2A 導電部形成部分 3 絶縁部 10 基板 20 非磁性体層 21 貫通孔 22 蓋材 22A 蓋材形成材料層 23 仮蓋 25 磁性体部 26 磁性体粒子 27 磁性体相 30 キャビティ形成層 30A フォトレジスト層 31 孔 40 抵抗測定器 41 プローブピン 42 短絡板 43 リード線 REFERENCE SIGNS LIST 1 anisotropic conductive sheet 1A sheet forming material layer 2 conductive portion 2A conductive portion forming portion 3 insulating portion 10 substrate 20 nonmagnetic layer 21 through hole 22 lid 22A lid material forming layer 23 temporary lid 25 magnetic portion 26 magnetic Body particles 27 Magnetic phase 30 Cavity forming layer 30A Photoresist layer 31 Hole 40 Resistance measuring instrument 41 Probe pin 42 Short circuit board 43 Lead wire

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁性体よりなる基板上に、複数の磁性体
部が互いに離間して形成されてなる金型であって、 前記基板上に形成された、複数の貫通孔を有する非磁性
体層と、この非磁性体層の貫通孔を塞ぐよう設けられた
蓋材とを有し、 前記磁性体部は、前記非磁性体層の貫通孔内における前
記基板と前記蓋材との間の空間に充填された磁性体粒子
によって構成されていることを特徴とする金型。
1. A mold comprising a plurality of magnetic members formed on a substrate made of a magnetic material and spaced apart from each other, the non-magnetic material having a plurality of through holes formed on the substrate. And a cover material provided so as to close the through-hole of the non-magnetic material layer. The magnetic material portion is provided between the substrate and the cover material in the through-hole of the non-magnetic material layer. A mold comprising magnetic particles filled in a space.
【請求項2】 非磁性体層の貫通孔内における基板と蓋
材との間の空間に占める磁性体粒子の割合が、30体積
%以上であることを特徴とする請求項1に記載の金型。
2. The gold according to claim 1, wherein the ratio of the magnetic particles occupying the space between the substrate and the cover material in the through hole of the nonmagnetic layer is 30% by volume or more. Type.
【請求項3】 磁性体よりなる基板上に、複数の磁性体
部が互いに離間して形成されてなる金型であって、 前記基板上に形成された、複数の貫通孔を有する非磁性
体層と、この非磁性体層の貫通孔を塞ぐよう設けられた
蓋材とを有し、 前記磁性体部は、前記非磁性体層の貫通孔内における前
記基板と前記蓋材との間の空間に充填された磁性体粒子
と、この磁性体粒子の周囲に形成された磁性体相とによ
って構成されていることを特徴とする金型。
3. A mold comprising a plurality of magnetic members formed on a substrate made of a magnetic material and spaced apart from each other, the non-magnetic material having a plurality of through holes formed on the substrate. And a cover material provided so as to close the through-hole of the non-magnetic material layer. The magnetic material portion is provided between the substrate and the cover material in the through-hole of the non-magnetic material layer. A mold comprising magnetic particles filled in a space and a magnetic phase formed around the magnetic particles.
【請求項4】 異方導電性シート成形用であることを特
徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の金
型。
4. The mold according to claim 1, which is used for forming an anisotropic conductive sheet.
【請求項5】 非磁性体層は、放射線によって硬化され
た樹脂材料よりなることを特徴とする請求項1乃至請求
項4のいずれかに記載の金型。
5. The mold according to claim 1, wherein the nonmagnetic layer is made of a resin material cured by radiation.
【請求項6】 蓋材は、熱または放射線によって硬化さ
れた樹脂材料よりなることを特徴とする請求項1乃至請
求項5のいずれかに記載の金型。
6. The mold according to claim 1, wherein the lid member is made of a resin material cured by heat or radiation.
【請求項7】 請求項1に記載の金型を製造する方法で
あって、 磁性体よりなる基板上に、複数の貫通孔を有する非磁性
体層を形成し、 この非磁性体層の貫通孔内に磁性体粒子を充填し、 前記非磁性体層にその貫通孔を塞ぐよう蓋材を形成する
工程を有することを特徴とする金型の製造方法。
7. The method for manufacturing a mold according to claim 1, wherein a non-magnetic layer having a plurality of through holes is formed on a substrate made of a magnetic substance, and the non-magnetic layer is formed through the non-magnetic layer. A method for manufacturing a mold, comprising a step of filling magnetic particles in a hole and forming a cover material in the nonmagnetic layer so as to cover the through hole.
【請求項8】 請求項3に記載の金型を製造する方法で
あって、 磁性体よりなる基板上に、複数の貫通孔を有する非磁性
体層を形成し、 この非磁性体層の貫通孔内に磁性体粒子を充填し、 前記非磁性体層の貫通孔に充填された磁性体粒子に対し
て磁性金属のメッキ処理を行うことにより、当該磁性体
粒子の周囲に磁性体相を形成し、 前記非磁性体層に、その貫通孔を塞ぐよう蓋材を形成す
る工程を有することを特徴とする金型の製造方法。
8. The method for manufacturing a mold according to claim 3, wherein a non-magnetic layer having a plurality of through holes is formed on a substrate made of a magnetic substance, The magnetic particles are filled in the holes, and a magnetic metal plating process is performed on the magnetic particles filled in the through holes of the non-magnetic layer to form a magnetic material phase around the magnetic particles. And a step of forming a lid material on the nonmagnetic layer so as to close the through hole.
【請求項9】 非磁性体層の貫通孔内に磁性体粒子を充
填した後、当該非磁性体層に、その貫通孔から前記磁性
体粒子が漏出せずかつメッキ液が通過するよう仮蓋を形
成し、メッキ液中において当該非磁性体層の貫通孔に充
填された磁性体粒子に対して磁性金属のメッキ処理を行
うことを特徴とする請求項8に記載の金型の製造方法。
9. After filling magnetic particles in the through-holes of the non-magnetic layer, a temporary cover is provided in the non-magnetic layer so that the magnetic particles do not leak out of the through-holes and the plating solution passes therethrough. 9. The method according to claim 8, wherein a magnetic metal is plated on the magnetic particles filled in the through holes of the nonmagnetic layer in a plating solution.
【請求項10】 厚み方向に伸びる複数の導電部が絶縁
部によって相互に絶縁された状態で配置されてなる異方
導電性シートを製造する方法であって、 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の金型を用い、 金型内に、硬化されて弾性高分子物質となる弾性高分子
用材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなるシー
ト成形材料を充填し、 このシート成形材料に前記金型を介して強度分布を有す
る磁場を作用させると共に、当該シート成形材料を硬化
処理する工程を有することを特徴とする異方導電性シー
トの製造方法。
10. A method of manufacturing an anisotropic conductive sheet comprising a plurality of conductive portions extending in a thickness direction arranged in a state in which the conductive portions are insulated from each other by an insulating portion. Using a mold described in any of (1) to (5), a mold is filled with a sheet molding material containing conductive particles exhibiting magnetism in a material for an elastic polymer which is cured to become an elastic polymer material. A method for producing an anisotropic conductive sheet, comprising a step of applying a magnetic field having an intensity distribution to a molding material via the mold and curing the sheet molding material.
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