JP2001233669A - 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板 - Google Patents
高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板Info
- Publication number
- JP2001233669A JP2001233669A JP2000047255A JP2000047255A JP2001233669A JP 2001233669 A JP2001233669 A JP 2001233669A JP 2000047255 A JP2000047255 A JP 2000047255A JP 2000047255 A JP2000047255 A JP 2000047255A JP 2001233669 A JP2001233669 A JP 2001233669A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composite material
- dielectric
- dielectric constant
- filler
- high dielectric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 91
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 47
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 3
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 67
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 32
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 24
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 9
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 5
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- KNRCVAANTQNTPT-UHFFFAOYSA-N methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1(C)C=CC2C1 KNRCVAANTQNTPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100116283 Arabidopsis thaliana DD11 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000777301 Homo sapiens Uteroglobin Proteins 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 102100031083 Uteroglobin Human genes 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた耐熱衝撃性と、十分な誘電率とを兼備
した高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板
並びに多層プリント配線板を提供すること。 【構成】 以下の(a)乃至(d)の構成を具備する高
誘電率複合材料を用いる。 (a)熱硬化性樹脂と誘電体フィラーとを少なくとも含
む。 (b)該誘電体フィラーが2種の平均粒子径を有する。 (c)少なくとも大きい平均粒子径を有する誘電体フィ
ラーの粒子形状が略球状である。 (d)該高誘電率複合材料100体積%中に含まれる該
誘電体フィラーが65〜90体積%である。
した高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板
並びに多層プリント配線板を提供すること。 【構成】 以下の(a)乃至(d)の構成を具備する高
誘電率複合材料を用いる。 (a)熱硬化性樹脂と誘電体フィラーとを少なくとも含
む。 (b)該誘電体フィラーが2種の平均粒子径を有する。 (c)少なくとも大きい平均粒子径を有する誘電体フィ
ラーの粒子形状が略球状である。 (d)該高誘電率複合材料100体積%中に含まれる該
誘電体フィラーが65〜90体積%である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線板に用い
る高誘電率複合材料に関する。ICパッケージ、モジュ
ール基板、電子部品等に一体化した高誘電体層を形成す
るのに好適である。特には、多層型のプリント配線板の
内層キャパシタ層を形成するのに好適である。
る高誘電率複合材料に関する。ICパッケージ、モジュ
ール基板、電子部品等に一体化した高誘電体層を形成す
るのに好適である。特には、多層型のプリント配線板の
内層キャパシタ層を形成するのに好適である。
【0002】
【従来の技術】IC(集積回路)のデーターエラーの原
因の一つとして、電気的雑音の影響の問題がある。電気
的雑音の影響を抑えるために、プリント配線板に容量の
大きなキャパシタを設けて電気的雑音(特に高周波雑
音)を取り除く方法が知られている。
因の一つとして、電気的雑音の影響の問題がある。電気
的雑音の影響を抑えるために、プリント配線板に容量の
大きなキャパシタを設けて電気的雑音(特に高周波雑
音)を取り除く方法が知られている。
【0003】プリント配線板にキャパシタを設ける方法
として、チップコンデンサ等の外部キャパシタをプリン
ト配線板に取り付ける方法の他、誘電体フィラーをプリ
ント配線板の内層に用いてプリント配線板自体にキャパ
シタの機能を持たせる方法がある。近年の電子製品の小
型化を考慮すると、誘電体フィラーを内層に用いてキャ
パシタにする後者の方法が望ましい。
として、チップコンデンサ等の外部キャパシタをプリン
ト配線板に取り付ける方法の他、誘電体フィラーをプリ
ント配線板の内層に用いてプリント配線板自体にキャパ
シタの機能を持たせる方法がある。近年の電子製品の小
型化を考慮すると、誘電体フィラーを内層に用いてキャ
パシタにする後者の方法が望ましい。
【0004】熱可塑性樹脂と誘電体フィラーとを混合し
た複合材料を内層キャパシタに用いたプリント配線板が
特開平5−57851号公報、特開平5−57852号
公報に開示されている。また、熱硬化性樹脂と誘電体フ
ィラーとを混合した複合材料を内層キャパシタに用いた
プリント配線板が特開平7−9609号公報に開示され
ている。
た複合材料を内層キャパシタに用いたプリント配線板が
特開平5−57851号公報、特開平5−57852号
公報に開示されている。また、熱硬化性樹脂と誘電体フ
ィラーとを混合した複合材料を内層キャパシタに用いた
プリント配線板が特開平7−9609号公報に開示され
ている。
【0005】しかし、従来の熱可塑性樹脂または熱硬化
性樹脂と誘電体フィラーとを混合した複合材料系で得ら
れる内層キャパシタの誘電率の値は20未満(6〜1
6)と低い問題があった。単に誘電体フィラーの添加量
を増やすだけでは、十分な誘電率(50以上、望ましく
は90以上、更に望ましくは100以上)に上げるのは
困難であった。
性樹脂と誘電体フィラーとを混合した複合材料系で得ら
れる内層キャパシタの誘電率の値は20未満(6〜1
6)と低い問題があった。単に誘電体フィラーの添加量
を増やすだけでは、十分な誘電率(50以上、望ましく
は90以上、更に望ましくは100以上)に上げるのは
困難であった。
【0006】上記の複合材料系の誘電率が上がらないの
は、Newnham等の論文(R.E.Newnham
et.al.,Mat.Res.Bull.vol1
3,p.525〜536.,1978.)に記載されて
いる理由によると考えられる。すなわち、樹脂中に誘電
体フィラーが分散している複合材料を等価回路で考えた
とき、誘電体フィラーの容量成分と誘電体フィラー間を
埋める樹脂成分の容量成分が直列的につながった、いわ
ゆる「直列モデル」回路に近くなる。したがって、複合
材料系としての誘電率は、樹脂成分の誘電率に大きく影
響されるため、いくら高い静電容量を持った誘電体フィ
ラーを多量に添加してもあまり効果が無いものと思われ
る。
は、Newnham等の論文(R.E.Newnham
et.al.,Mat.Res.Bull.vol1
3,p.525〜536.,1978.)に記載されて
いる理由によると考えられる。すなわち、樹脂中に誘電
体フィラーが分散している複合材料を等価回路で考えた
とき、誘電体フィラーの容量成分と誘電体フィラー間を
埋める樹脂成分の容量成分が直列的につながった、いわ
ゆる「直列モデル」回路に近くなる。したがって、複合
材料系としての誘電率は、樹脂成分の誘電率に大きく影
響されるため、いくら高い静電容量を持った誘電体フィ
ラーを多量に添加してもあまり効果が無いものと思われ
る。
【0007】複合材料の誘電率を上げるには、誘電体フ
ィラーの容量成分と誘電体フィラー間を埋める樹脂成分
の容量成分が並列的につながった、いわゆる「並列モデ
ル」回路に近づければ良いが、単に添加量や誘電体フィ
ラーの粒子径等を変更するだけでは十分な効果は得られ
なかった。そこで、用いる誘電体フィラーとして、2種
以上の粒度分布、すなわち、2種以上の平均粒径を有す
る粉末を用いて高充填化する方法が、特開昭53−88
198号公報に開示されている。
ィラーの容量成分と誘電体フィラー間を埋める樹脂成分
の容量成分が並列的につながった、いわゆる「並列モデ
ル」回路に近づければ良いが、単に添加量や誘電体フィ
ラーの粒子径等を変更するだけでは十分な効果は得られ
なかった。そこで、用いる誘電体フィラーとして、2種
以上の粒度分布、すなわち、2種以上の平均粒径を有す
る粉末を用いて高充填化する方法が、特開昭53−88
198号公報に開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、熱硬化性樹脂
と誘電体フィラーとを少なくとも含む高誘電率複合材料
を用いてプリント配線板に内層キャパシタを形成した場
合、耐熱衝撃試験において誘電体層にクラックが発生す
る問題がある。この問題は、特に多層プリント配線板を
形成した場合において顕在化する。本発明は、優れた耐
熱衝撃性と、十分な誘電率(50以上、望ましくは90
以上、更に望ましくは100以上)を兼備した高誘電率
複合材料及びそれを用いたプリント配線板及び多層プリ
ント配線板を提供することを目的とする。
と誘電体フィラーとを少なくとも含む高誘電率複合材料
を用いてプリント配線板に内層キャパシタを形成した場
合、耐熱衝撃試験において誘電体層にクラックが発生す
る問題がある。この問題は、特に多層プリント配線板を
形成した場合において顕在化する。本発明は、優れた耐
熱衝撃性と、十分な誘電率(50以上、望ましくは90
以上、更に望ましくは100以上)を兼備した高誘電率
複合材料及びそれを用いたプリント配線板及び多層プリ
ント配線板を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、以下
の(a)乃至(d)の構成を具備することで耐熱衝撃性
を向上した高誘電率複合材料を要旨とする。各構成要件
について、以下に分説する。
の(a)乃至(d)の構成を具備することで耐熱衝撃性
を向上した高誘電率複合材料を要旨とする。各構成要件
について、以下に分説する。
【0010】(a)熱硬化性樹脂と誘電体フィラーとを
少なくとも含むこと。熱硬化性樹脂と誘電体フィラーを
ベースとした高誘電率複合材料とすることで、プリント
配線板上での誘電体層の形成を容易に行うことができ
る。得られた誘電体層は熱硬化されているため、熱可塑
性樹脂を用いた場合のようにハンダリフロー(最高温度
260℃以上)時の熱変形等の問題が発生することはな
い。高誘電率複合材料を用いて誘電体層を形成するに
は、シート状にしてラミネートしたり、ワニス状にして
スクリーン印刷したりといった公知の形成方法を用いる
ことができる。
少なくとも含むこと。熱硬化性樹脂と誘電体フィラーを
ベースとした高誘電率複合材料とすることで、プリント
配線板上での誘電体層の形成を容易に行うことができ
る。得られた誘電体層は熱硬化されているため、熱可塑
性樹脂を用いた場合のようにハンダリフロー(最高温度
260℃以上)時の熱変形等の問題が発生することはな
い。高誘電率複合材料を用いて誘電体層を形成するに
は、シート状にしてラミネートしたり、ワニス状にして
スクリーン印刷したりといった公知の形成方法を用いる
ことができる。
【0011】前記熱硬化性樹脂の硬化収縮率が3〜20
%であるとよい。硬化収縮の大きな樹脂を用いて誘電体
フィラー同士を強制的に接触し合うようにすると、三次
元的に連続な高誘電体成分が形成される。この状態の等
価回路は、従来の「直列モデル」から理想的な「並列モ
デル」に近づき、よって複合材料全体の誘電率は上昇す
るものと推察される。
%であるとよい。硬化収縮の大きな樹脂を用いて誘電体
フィラー同士を強制的に接触し合うようにすると、三次
元的に連続な高誘電体成分が形成される。この状態の等
価回路は、従来の「直列モデル」から理想的な「並列モ
デル」に近づき、よって複合材料全体の誘電率は上昇す
るものと推察される。
【0012】熱硬化性樹脂の硬化収縮率は3〜20%の
範囲であればよいが、好ましくは3〜10%、特には3
〜7%である。熱衝撃試験後の誘電体層の容量値の変化
率を小さく抑えることができるからである。熱硬化性樹
脂の硬化収縮率を所定の範囲に設定することで、誘電体
フィラーに圧縮応力がかかって誘電体フィラー間の接触
状態が良好に保たれるとともに、誘電体層自体の熱応力
に対する耐久性を高めることができる。
範囲であればよいが、好ましくは3〜10%、特には3
〜7%である。熱衝撃試験後の誘電体層の容量値の変化
率を小さく抑えることができるからである。熱硬化性樹
脂の硬化収縮率を所定の範囲に設定することで、誘電体
フィラーに圧縮応力がかかって誘電体フィラー間の接触
状態が良好に保たれるとともに、誘電体層自体の熱応力
に対する耐久性を高めることができる。
【0013】(b)誘電体フィラーが2種の平均粒子径
を有すること。2種の平均粒子径を有する、いわゆる
「バイモーダル」の誘電体フィラーを用いることで、高
誘電率複合材料中の誘電体フィラーの充填量及び充填密
度を効果的に向上できる。その結果、誘電体フィラー同
士の接触状態が良好になり、誘電率εを高くすることが
できる。
を有すること。2種の平均粒子径を有する、いわゆる
「バイモーダル」の誘電体フィラーを用いることで、高
誘電率複合材料中の誘電体フィラーの充填量及び充填密
度を効果的に向上できる。その結果、誘電体フィラー同
士の接触状態が良好になり、誘電率εを高くすることが
できる。
【0014】(c)少なくとも大きい平均粒子径を有す
る誘電体フィラーの粒子形状が略球状であること。少な
くとも大きい粒子径を持つ誘電体フィラーの形状を略球
状とすることで、高誘電率複合材料中の大きい粒子径を
持つ誘電体フィラーの状態が理想的な最密充填の状態に
近づく。更に、小さい粒子径の誘電体フィラーが、上記
の最密充填した大きい誘電体フィラーの隙間に充填され
ることにより、さらなる充填量及び粒子同士の接触性の
向上が可能となる。その結果、それまで独立で存在して
いた誘電体フィラーの接触性も向上し、誘電率εが更に
向上できる。小さい粒子径の誘電体フィラーの形状も略
球状とすることで、誘電体フィラーの接触性も更に向上
し、誘電率εが飛躍的に向上できる。
る誘電体フィラーの粒子形状が略球状であること。少な
くとも大きい粒子径を持つ誘電体フィラーの形状を略球
状とすることで、高誘電率複合材料中の大きい粒子径を
持つ誘電体フィラーの状態が理想的な最密充填の状態に
近づく。更に、小さい粒子径の誘電体フィラーが、上記
の最密充填した大きい誘電体フィラーの隙間に充填され
ることにより、さらなる充填量及び粒子同士の接触性の
向上が可能となる。その結果、それまで独立で存在して
いた誘電体フィラーの接触性も向上し、誘電率εが更に
向上できる。小さい粒子径の誘電体フィラーの形状も略
球状とすることで、誘電体フィラーの接触性も更に向上
し、誘電率εが飛躍的に向上できる。
【0015】本発明において「略球状」とは、電子顕微
鏡や光学顕微鏡観察下で粒子全体が丸くなっている形状
のことをいう。この形状は、凹凸を有する不定形的球状
体や、四面体、六面体等の多面体(ただし、必ずしも正
多面体でなくてもよい。)の角部や辺部を丸く面取りし
た多面体的球状体も含まれる。このように、本発明にお
ける「略球状」とは、必ずしも真球状であることは要し
ない概念である。この略球状の誘電体フィラーは、一個
の独立した粒子、複数の略球状体が集合したもの、或い
は、これらの混合物がよい。特には、緻密に焼結した一
個の独立した粒子を主体とするのがよい。高誘電率複合
材料の誘電特性を効果的に向上できるからである。
鏡や光学顕微鏡観察下で粒子全体が丸くなっている形状
のことをいう。この形状は、凹凸を有する不定形的球状
体や、四面体、六面体等の多面体(ただし、必ずしも正
多面体でなくてもよい。)の角部や辺部を丸く面取りし
た多面体的球状体も含まれる。このように、本発明にお
ける「略球状」とは、必ずしも真球状であることは要し
ない概念である。この略球状の誘電体フィラーは、一個
の独立した粒子、複数の略球状体が集合したもの、或い
は、これらの混合物がよい。特には、緻密に焼結した一
個の独立した粒子を主体とするのがよい。高誘電率複合
材料の誘電特性を効果的に向上できるからである。
【0016】(d)該高誘電率複合材料100体積%中
に含まれる該誘電体フィラーが65〜90体積%である
こと。誘電体フィラーの添加量は、高誘電率複合材料全
体(100体積%)の65〜90体積%がよい。
に含まれる該誘電体フィラーが65〜90体積%である
こと。誘電体フィラーの添加量は、高誘電率複合材料全
体(100体積%)の65〜90体積%がよい。
【0017】誘電体フィラーの添加量が65体積%以上
であれば、誘電体フィラー同士の接触性が向上して、従
来の直列モデルから理想的な並列モデルに近づくため、
誘電率εが急激に上昇するからである。
であれば、誘電体フィラー同士の接触性が向上して、従
来の直列モデルから理想的な並列モデルに近づくため、
誘電率εが急激に上昇するからである。
【0018】これは、最密充填の状態に近づけて高充填
された大きい平均粒子径を持つ誘電体フィラーの隙間
に、小さい平均粒子径を持つ誘電体フィラーが充填さ
れ、更に誘電体フィラーの含有量を65体積%以上にす
ることで、誘電体フィラーがよりいっそう高充填される
からである。一方、90体積%以上では高誘電率複合材
料の成形性が悪くなり、ボイドやクラックが発生しやす
くなってしまうので好ましくない。
された大きい平均粒子径を持つ誘電体フィラーの隙間
に、小さい平均粒子径を持つ誘電体フィラーが充填さ
れ、更に誘電体フィラーの含有量を65体積%以上にす
ることで、誘電体フィラーがよりいっそう高充填される
からである。一方、90体積%以上では高誘電率複合材
料の成形性が悪くなり、ボイドやクラックが発生しやす
くなってしまうので好ましくない。
【0019】請求項1の発明は、大きい平均粒子径を有
する誘電体フィラーの平均粒子径と、小さい平均粒子径
を有する誘電体フィラーの平均粒子径とを所定の範囲に
特定した高誘電率複合材料であるとよい。
する誘電体フィラーの平均粒子径と、小さい平均粒子径
を有する誘電体フィラーの平均粒子径とを所定の範囲に
特定した高誘電率複合材料であるとよい。
【0020】大きいフィラーの平均粒子径は5〜50μ
mで、最大粒径が80μm以下であり、小さいフィラー
の平均粒子径は0.5〜3μmであるとよい。この範囲
以外であると、樹脂混連の際に増粘してしまい、誘電体
フィラーの高充填が難しくなるからである。すなわち、
平均粒子径の差は最小でも1μm以上必要である。
mで、最大粒径が80μm以下であり、小さいフィラー
の平均粒子径は0.5〜3μmであるとよい。この範囲
以外であると、樹脂混連の際に増粘してしまい、誘電体
フィラーの高充填が難しくなるからである。すなわち、
平均粒子径の差は最小でも1μm以上必要である。
【0021】大きいフィラーの平均粒子径が50μm以
上で最大が80μmを越えると内層キャパシタとしてシ
ート状に形成するときの成形性が悪くなり、ボイドが発
生してしまう。また、小さいフィラーの平均粒子径が
0.5μm以下であると、樹脂混連の際に増粘してしま
い、誘電体フィラーの高充填が難しくなる。
上で最大が80μmを越えると内層キャパシタとしてシ
ート状に形成するときの成形性が悪くなり、ボイドが発
生してしまう。また、小さいフィラーの平均粒子径が
0.5μm以下であると、樹脂混連の際に増粘してしま
い、誘電体フィラーの高充填が難しくなる。
【0022】高誘電率複合材料100質量%中に含まれ
る大きい平均粒子径を有する誘電体フィラーと、小さい
平均粒子径を有する誘電体フィラーの各配合率の関係を
特定した高誘電率複合材料であると尚よい。各誘電体フ
ィラーの配合率としては、大きい平均粒子径を有する誘
電体フィラーが80〜95質量%、小さい平均粒子径を
有する誘電体フィラーが5〜20質量%がよい。この範
囲外では、大きい誘電体フィラーの隙間を小さい誘電体
フィラーが充分に埋めることができず、高充填化できな
いからである。また、小さい誘電体フィラー所定の範囲
よりも多いと、増粘により高充填できない。
る大きい平均粒子径を有する誘電体フィラーと、小さい
平均粒子径を有する誘電体フィラーの各配合率の関係を
特定した高誘電率複合材料であると尚よい。各誘電体フ
ィラーの配合率としては、大きい平均粒子径を有する誘
電体フィラーが80〜95質量%、小さい平均粒子径を
有する誘電体フィラーが5〜20質量%がよい。この範
囲外では、大きい誘電体フィラーの隙間を小さい誘電体
フィラーが充分に埋めることができず、高充填化できな
いからである。また、小さい誘電体フィラー所定の範囲
よりも多いと、増粘により高充填できない。
【0023】請求項2の発明は、用いる誘電体フィラー
が、略球状に成型された粉末を焼成する事によって得ら
れるものを用いた高誘電率複合材料を要旨とする。誘電
体フィラーを成形体の段階から略球状に成型しておくこ
とで、用いる誘電体フィラーの形状を容易に略球状にす
ることができる。焼結ブロック体を粉砕した粉末よりも
高充填な高誘電率複合材料が安価に得られる。
が、略球状に成型された粉末を焼成する事によって得ら
れるものを用いた高誘電率複合材料を要旨とする。誘電
体フィラーを成形体の段階から略球状に成型しておくこ
とで、用いる誘電体フィラーの形状を容易に略球状にす
ることができる。焼結ブロック体を粉砕した粉末よりも
高充填な高誘電率複合材料が安価に得られる。
【0024】請求項3の発明は、用いる誘電体フィラー
が、スプレードライ法によって略球状に成型された粉末
を焼成する事によって得られるものを用いた高誘電率複
合材料を要旨とする。誘電体フィラーを公知のスプレー
ドライ法によって略球状に成型することで、用いる誘電
体フィラーの形状をより容易に略球状にすることができ
る。焼結ブロック体を粉砕した粉末よりも粒度分布の調
整が簡便で、かつ、高充填な高誘電率複合材料が安価に
得られる。
が、スプレードライ法によって略球状に成型された粉末
を焼成する事によって得られるものを用いた高誘電率複
合材料を要旨とする。誘電体フィラーを公知のスプレー
ドライ法によって略球状に成型することで、用いる誘電
体フィラーの形状をより容易に略球状にすることができ
る。焼結ブロック体を粉砕した粉末よりも粒度分布の調
整が簡便で、かつ、高充填な高誘電率複合材料が安価に
得られる。
【0025】請求項4の発明は、前記熱硬化性樹脂の硬
化収縮率が3〜20%である高誘電率複合材料を要旨と
する。用いる熱硬化性樹脂の硬化収縮率を所定の範囲に
規定することにより高誘電率複合材料の誘電率が上昇す
る理由の詳細は不明であるが、熱硬化性樹脂の硬化収縮
により高誘電率複合材料に含まれる高誘電率フィラー同
士が強制的に接触し合うためと推察される。硬化収縮の
大きな樹脂を用いて誘電体フィラー同士を強制的に接触
し合うようにすると、三次元的に連続な高誘電体成分が
形成される。この状態の等価回路は、従来の「直列モデ
ル」から理想的な「並列モデル」に近づき、よって複合
材料全体の誘電率は上昇するものと推察される。
化収縮率が3〜20%である高誘電率複合材料を要旨と
する。用いる熱硬化性樹脂の硬化収縮率を所定の範囲に
規定することにより高誘電率複合材料の誘電率が上昇す
る理由の詳細は不明であるが、熱硬化性樹脂の硬化収縮
により高誘電率複合材料に含まれる高誘電率フィラー同
士が強制的に接触し合うためと推察される。硬化収縮の
大きな樹脂を用いて誘電体フィラー同士を強制的に接触
し合うようにすると、三次元的に連続な高誘電体成分が
形成される。この状態の等価回路は、従来の「直列モデ
ル」から理想的な「並列モデル」に近づき、よって複合
材料全体の誘電率は上昇するものと推察される。
【0026】熱硬化性樹脂の硬化収縮率は3〜20%の
範囲であればよいが、好ましくは3〜10%、特には3
〜7%である。熱衝撃試験後の誘電体層の容量値の変化
率を小さく抑えることができるからである。熱硬化性樹
脂の硬化収縮率を所定の範囲に設定することで、誘電体
フィラーに圧縮応力がかかって誘電体フィラー間の接触
状態が良好に保たれるとともに、誘電体層自体の熱応力
に対する耐久性(特には、耐熱衝撃性)を高めることが
できる。
範囲であればよいが、好ましくは3〜10%、特には3
〜7%である。熱衝撃試験後の誘電体層の容量値の変化
率を小さく抑えることができるからである。熱硬化性樹
脂の硬化収縮率を所定の範囲に設定することで、誘電体
フィラーに圧縮応力がかかって誘電体フィラー間の接触
状態が良好に保たれるとともに、誘電体層自体の熱応力
に対する耐久性(特には、耐熱衝撃性)を高めることが
できる。
【0027】一方、熱硬化性樹脂の硬化収縮率が範囲外
になると、誘電体層の信頼性が低下する傾向である。硬
化収縮率が3%以下であると、高誘電率フィラー同士を
引き寄せて連続的に接触させる力が小さいため高誘電率
フィラー同士の接触が少なくなり、複合材料の誘電率が
小さくなる。硬化収縮率が20%以上であると熱硬化時
に発生する内部応力が大きくなり、複合材料にクラック
が発生することがある。
になると、誘電体層の信頼性が低下する傾向である。硬
化収縮率が3%以下であると、高誘電率フィラー同士を
引き寄せて連続的に接触させる力が小さいため高誘電率
フィラー同士の接触が少なくなり、複合材料の誘電率が
小さくなる。硬化収縮率が20%以上であると熱硬化時
に発生する内部応力が大きくなり、複合材料にクラック
が発生することがある。
【0028】ここにいう「硬化収縮率」とは、以下の方
法により求めたものをいう。すなわち、型(φ83mm
のテフロン製シャーレ)に熱硬化性樹脂単体を流し込
み、150℃×5時間の条件にて加熱硬化させ、得られ
た硬化体の寸法と型の寸法から以下の数式1を用いて算
出する。
法により求めたものをいう。すなわち、型(φ83mm
のテフロン製シャーレ)に熱硬化性樹脂単体を流し込
み、150℃×5時間の条件にて加熱硬化させ、得られ
た硬化体の寸法と型の寸法から以下の数式1を用いて算
出する。
【0029】
【数1】硬化収縮率={1−(硬化後の樹脂寸法/型寸
法)3}×100(%)
法)3}×100(%)
【0030】請求項5の発明は、以上説明した高誘電率
複合材料からなる誘電体層を有するプリント配線板を要
旨とする。高性能な誘電体層を容易に内蔵可能である。
コンデンサ内蔵配線基板を得るのに好適である。
複合材料からなる誘電体層を有するプリント配線板を要
旨とする。高性能な誘電体層を容易に内蔵可能である。
コンデンサ内蔵配線基板を得るのに好適である。
【0031】高性能な誘電体層を内層キャパシタ等に用
いれば、プリント配線板の小型化、高性能化を図ること
ができる。係るプリント配線板は、ICパッケージ、高
周波用途のモジュール基板、電子部品等に適用可能であ
る。特には、電気的雑音(高周波雑音等)の影響を受け
やすい用途に好適である。
いれば、プリント配線板の小型化、高性能化を図ること
ができる。係るプリント配線板は、ICパッケージ、高
周波用途のモジュール基板、電子部品等に適用可能であ
る。特には、電気的雑音(高周波雑音等)の影響を受け
やすい用途に好適である。
【0032】具体的な構成としては、例えば図1及び図
2の構造が挙げられる。図1は樹脂層3及び樹脂層4で
誘電体層2を挟んだラミネート法の例である。誘電体層
2を第1キャパシタ用配線層6及び第2キャパシタ用配
線層7で挟んだ部分がキャパシタを構成している。ま
た、図2はコア基板8の上に誘電体層18を形成した例
である。誘電体層18を第1キャパシタ用配線層17及
び第2キャパシタ用配線層20で挟んだ部分がキャパシ
タを構成している。
2の構造が挙げられる。図1は樹脂層3及び樹脂層4で
誘電体層2を挟んだラミネート法の例である。誘電体層
2を第1キャパシタ用配線層6及び第2キャパシタ用配
線層7で挟んだ部分がキャパシタを構成している。ま
た、図2はコア基板8の上に誘電体層18を形成した例
である。誘電体層18を第1キャパシタ用配線層17及
び第2キャパシタ用配線層20で挟んだ部分がキャパシ
タを構成している。
【0033】本発明は図1及び図2に示す具体的構成や
製造方法にのみ限定されるものではなく、内層キャパシ
タとしての機能を有効に発揮できる構成であればよい。
プリント配線板の構成は、片面のみに形成する型でも両
面に形成する型でも利用できる。必要に応じて感光性の
永久レジストを保護膜として形成するのがよい。
製造方法にのみ限定されるものではなく、内層キャパシ
タとしての機能を有効に発揮できる構成であればよい。
プリント配線板の構成は、片面のみに形成する型でも両
面に形成する型でも利用できる。必要に応じて感光性の
永久レジストを保護膜として形成するのがよい。
【0034】請求項6の発明は、以上説明した高誘電率
複合材料からなる誘電体層を有する多層プリント配線板
を要旨とする。高性能な誘電体層を容易に内蔵可能であ
るとともに、高密度配線化及び高容量化に対応したコン
デンサ内蔵配線基板を得るのに好適である。特には、層
間接続用のビアホールやスルーホールをレーザーを用い
て多層プリント配線板を形成する場合(いわゆるレーザ
ービアプロセス)に好適である。高誘電率複合材料に用
いる熱硬化性樹脂に感光性を持たせる必要がないので、
プレッシャークッカーバイアス試験等に対して高い信頼
性を得ることができるからである。
複合材料からなる誘電体層を有する多層プリント配線板
を要旨とする。高性能な誘電体層を容易に内蔵可能であ
るとともに、高密度配線化及び高容量化に対応したコン
デンサ内蔵配線基板を得るのに好適である。特には、層
間接続用のビアホールやスルーホールをレーザーを用い
て多層プリント配線板を形成する場合(いわゆるレーザ
ービアプロセス)に好適である。高誘電率複合材料に用
いる熱硬化性樹脂に感光性を持たせる必要がないので、
プレッシャークッカーバイアス試験等に対して高い信頼
性を得ることができるからである。
【0035】高性能な誘電体層を多層化技術を用いて内
層キャパシタ等として内蔵すれば、プリント配線板のよ
り一層の小型化、高性能化を図ることができる。係るプ
リント配線板は、多層ICパッケージ、高周波用途の多
層モジュール基板、多層電子部品等に適用可能である。
特には、電気的雑音(高周波雑音等)の影響を受けやす
い用途に好適である。
層キャパシタ等として内蔵すれば、プリント配線板のよ
り一層の小型化、高性能化を図ることができる。係るプ
リント配線板は、多層ICパッケージ、高周波用途の多
層モジュール基板、多層電子部品等に適用可能である。
特には、電気的雑音(高周波雑音等)の影響を受けやす
い用途に好適である。
【0036】具体的な構成としては、例えば図3及び図
4の構造が挙げられる。図3はビルドアップ法の一例を
示す。スルーホール内を充填材9で充填したコア基板8
上に第1樹脂絶縁層10を形成し、フォトリソグラフィ
技術とメッキ技術を用いて第1ビア配線層11及び第1
キャパシタ用配線層12を形成する。次いで高誘電体層
13を形成し、その上にレーザービア技術とメッキ技術
を用いて第2ビア配線層14及び第2キャパシタ用配線
層15を形成する。更にその上に第2樹脂絶縁層16を
形成する。図4もビルドアップ法による例である。スル
ーホール内を充填材9で充填したコア基板8上にフォト
リソグラフィ技術とメッキ技術を用いて第1キャパシタ
用配線層17を形成する。次いで高誘電体層18を形成
し、その上にレーザービア技術とメッキ技術を用いて第
2ビア配線層19及び第2キャパシタ用配線層20を形
成する。更にその上に樹脂絶縁層21を形成する。
4の構造が挙げられる。図3はビルドアップ法の一例を
示す。スルーホール内を充填材9で充填したコア基板8
上に第1樹脂絶縁層10を形成し、フォトリソグラフィ
技術とメッキ技術を用いて第1ビア配線層11及び第1
キャパシタ用配線層12を形成する。次いで高誘電体層
13を形成し、その上にレーザービア技術とメッキ技術
を用いて第2ビア配線層14及び第2キャパシタ用配線
層15を形成する。更にその上に第2樹脂絶縁層16を
形成する。図4もビルドアップ法による例である。スル
ーホール内を充填材9で充填したコア基板8上にフォト
リソグラフィ技術とメッキ技術を用いて第1キャパシタ
用配線層17を形成する。次いで高誘電体層18を形成
し、その上にレーザービア技術とメッキ技術を用いて第
2ビア配線層19及び第2キャパシタ用配線層20を形
成する。更にその上に樹脂絶縁層21を形成する。
【0037】本発明は図3及び図4に示す具体的構成や
製造方法にのみ限定されるものではなく、内層キャパシ
タとしての機能を有効に発揮できる構成であればよい。
多層プリント配線板の構成は、片面積層型でも両面積層
型でも利用できる。多層化には、ラミネート法、ビルド
アップ法等の公知技術を用いて形成できる。必要に応じ
て感光性の永久レジストを保護膜として形成するのがよ
い。
製造方法にのみ限定されるものではなく、内層キャパシ
タとしての機能を有効に発揮できる構成であればよい。
多層プリント配線板の構成は、片面積層型でも両面積層
型でも利用できる。多層化には、ラミネート法、ビルド
アップ法等の公知技術を用いて形成できる。必要に応じ
て感光性の永久レジストを保護膜として形成するのがよ
い。
【0038】
【実施例】(1)高誘電率複合材料の作製 樹脂及びフィラーを、表1に示す混合比で混合し、3本
ロールミルにて混練を行い、高誘電率複合材料を作製す
る。用いる樹脂及びフィラーの詳細を以下に示す。尚、
「バイモーダル」は誘電体フィラーが2種の平均粒子径
を有する実施例の場合をいい、一方、「シングルモー
ド」は誘電体フィラーが単一の平均粒子径を有する比較
例の場合をいう。
ロールミルにて混練を行い、高誘電率複合材料を作製す
る。用いる樹脂及びフィラーの詳細を以下に示す。尚、
「バイモーダル」は誘電体フィラーが2種の平均粒子径
を有する実施例の場合をいい、一方、「シングルモー
ド」は誘電体フィラーが単一の平均粒子径を有する比較
例の場合をいう。
【0039】表1中の表記において、 樹脂A;エポキシ樹脂(油化シェル製、YL983U)95質量% イミダゾール系硬化剤(四国化成製、2E4MZ−CN)5質量% 樹脂B;エポキシ樹脂(油化シェル製、E−828)100質量% イミダゾール系硬化剤(四国化成製、2E4MZ−CN)5質量% 酸無水物硬化剤(日本化薬製、カヤハードMCD)85質量% 樹脂C;エポキシ樹脂(油化シェル製、E−828)100質量% 酸無水物硬化剤(日本化薬製、カヤハードMCD)85質量% トリフェニルフォスフィン 1質量% フィラー:略球状チタン酸バリウム(スプレードライ作製粉末の焼成品) バイモーダル:20μm(90質量%)+2μm(10質量%) シングルモード:20μm である。
【0040】これら樹脂成分の硬化収縮率は、以下の方
法により求める。すなわち、型(φ83mmのテフロン
シャーレ)に上記樹脂成分を流し込み、150℃×5時
間の条件にて加熱硬化させ、得られた硬化体の寸法と金
型の寸法から前記の数式1を用いて算出する。これら樹
脂成分の硬化収縮率は、樹脂Aでは6.4%、樹脂Bで
は2.5%、樹脂Cでは1.0%である。
法により求める。すなわち、型(φ83mmのテフロン
シャーレ)に上記樹脂成分を流し込み、150℃×5時
間の条件にて加熱硬化させ、得られた硬化体の寸法と金
型の寸法から前記の数式1を用いて算出する。これら樹
脂成分の硬化収縮率は、樹脂Aでは6.4%、樹脂Bで
は2.5%、樹脂Cでは1.0%である。
【0041】(2)高誘電率複合材料の硬化体の誘電率
の測定 厚み0.8mmの銅基板上に(1)で作製した高誘電率
複合材料を厚さ300μmに塗布し、150℃×5時間
で硬化させ、高誘電率複合材料の硬化体を作製する。上
記硬化体の1MHzにおける誘電率をインピーダンスア
ナライザ(ヒューレットパッカード製、HP4194
A)を用いて、JIS K 6911に準じて測定す
る。結果を表1に示す。
の測定 厚み0.8mmの銅基板上に(1)で作製した高誘電率
複合材料を厚さ300μmに塗布し、150℃×5時間
で硬化させ、高誘電率複合材料の硬化体を作製する。上
記硬化体の1MHzにおける誘電率をインピーダンスア
ナライザ(ヒューレットパッカード製、HP4194
A)を用いて、JIS K 6911に準じて測定す
る。結果を表1に示す。
【0042】(3)耐熱衝撃試験 上記(2)で誘電率を測定した試料をタバイエスペック
製熱衝撃試験機に入れ、−55〜+125℃の条件で1
000サイクル行う。試験終了後の試料を再び上記
(2)と同じ条件で誘電率を測定し、その変化率を求め
た。結果を表1に併記する。
製熱衝撃試験機に入れ、−55〜+125℃の条件で1
000サイクル行う。試験終了後の試料を再び上記
(2)と同じ条件で誘電率を測定し、その変化率を求め
た。結果を表1に併記する。
【0043】
【表1】
【0044】表1の結果より、本発明によれば、広い範
囲の誘電率を有する高誘電率複合材料が得られることが
わかる。誘電体フィラーの含有量を65体積%以上にす
ることで、誘電率が50以上の優れた高誘電率複合材料
が得られることがわかる。特に、誘電体フィラーの含有
量を70体積%以上にすることで、誘電率が90以上の
極めて優れた高誘電率複合材料が得られることがわか
る。図5に試料番号1〜試料番号8までの誘電体フィラ
ーの含有量に対する誘電率εの変化を表わすグラフを示
す。誘電体フィラーの含有量が65質量%を越えると、
誘電率εが急激に上昇することがわかる。
囲の誘電率を有する高誘電率複合材料が得られることが
わかる。誘電体フィラーの含有量を65体積%以上にす
ることで、誘電率が50以上の優れた高誘電率複合材料
が得られることがわかる。特に、誘電体フィラーの含有
量を70体積%以上にすることで、誘電率が90以上の
極めて優れた高誘電率複合材料が得られることがわか
る。図5に試料番号1〜試料番号8までの誘電体フィラ
ーの含有量に対する誘電率εの変化を表わすグラフを示
す。誘電体フィラーの含有量が65質量%を越えると、
誘電率εが急激に上昇することがわかる。
【0045】表1の結果より、熱硬化性樹脂の硬化収縮
率が3%未満では、熱衝撃試験後の変化率が大きくなる
ことがわかる。熱硬化性樹脂の硬化収縮率を3%以上に
設定することで、誘電体フィラーに圧縮応力がかかるこ
とで、誘電体フィラー間の接触状態が良好に保たれると
ともに、誘電体層自体が熱応力に対して耐久性が高まっ
ていることがわかる。
率が3%未満では、熱衝撃試験後の変化率が大きくなる
ことがわかる。熱硬化性樹脂の硬化収縮率を3%以上に
設定することで、誘電体フィラーに圧縮応力がかかるこ
とで、誘電体フィラー間の接触状態が良好に保たれると
ともに、誘電体層自体が熱応力に対して耐久性が高まっ
ていることがわかる。
【0046】
【発明の効果】本発明の高誘電率複合材料は、熱硬化性
樹脂と高誘電率粒子との混合物を主成分としながらも高
い誘電率を発現できる。係る高誘電率複合材料からなる
高誘電率層は、MPU用プラスチック製ICパッケージ
等で問題となる電気的雑音(特に高周波雑音)を除去す
る為の、内層キャパシタとして用いることができる。係
る高性能な高誘電率層を内層キャパシタ等に用いたプリ
ント配線板は、小型化、高性能化を図ることができる。
樹脂と高誘電率粒子との混合物を主成分としながらも高
い誘電率を発現できる。係る高誘電率複合材料からなる
高誘電率層は、MPU用プラスチック製ICパッケージ
等で問題となる電気的雑音(特に高周波雑音)を除去す
る為の、内層キャパシタとして用いることができる。係
る高性能な高誘電率層を内層キャパシタ等に用いたプリ
ント配線板は、小型化、高性能化を図ることができる。
【図1】誘電体層を有するプリント配線板の一実施例の
構造図。
構造図。
【図2】誘電体層を有するプリント配線板の一実施例の
構造図。
構造図。
【図3】誘電体層を有する多層プリント配線板の一実施
例の構造図。
例の構造図。
【図4】誘電体層を有する多層プリント配線板の一実施
例の構造図。
例の構造図。
【図5】誘電体フィラーの含有量に対する誘電率εの変
化を示すグラフ。
化を示すグラフ。
1 多層プリント配線板 2 高誘電体層 3 樹脂絶縁層 4 樹脂絶縁層 5 銅配線層 6 キャパシタ用銅配線層 7 キャパシタ用銅配線層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G031 AA06 AA11 BA09 CA07 5E082 AB03 BC23 BC33 FF14 FG26 FG34 FG51 KK01 PP03 PP09 PP10 5E346 AA06 AA13 BB01 BB20 CC09 CC16 CC21 DD01 DD07 DD11 EE33 FF04 FF45 GG15 GG17 HH01 HH18
Claims (6)
- 【請求項1】 以下の(a)乃至(d)の構成を具備す
ることを特徴とする高誘電率複合材料。 (a)熱硬化性樹脂と誘電体フィラーとを少なくとも含
む。 (b)該誘電体フィラーが2種の平均粒子径を有する。 (c)少なくとも大きい平均粒子径を有する誘電体フィ
ラーの粒子形状が略球状である。 (d)該高誘電率複合材料100体積%中に含まれる該
誘電体フィラーが65〜90体積%である。 - 【請求項2】 前記略球状の誘電体フィラーが、略球状
に成型された粉末を焼成する事によって得られることを
特徴とする請求項1に記載の高誘電率複合材料。 - 【請求項3】 前記略球状に成型された粉末が、スプレ
ードライ法によって成形されたことを特徴とする請求項
1又は請求項2に記載の高誘電率複合材料。 - 【請求項4】 前記熱硬化性樹脂の硬化収縮率が3〜2
0%であることを特徴とする請求項1乃至請求項3に記
載の高誘電率複合材料。 - 【請求項5】 請求項1乃至請求項4に記載の高誘電率
複合材料からなる誘電体層を有するプリント配線板。 - 【請求項6】 請求項1乃至請求項4に記載の高誘電率
複合材料からなる誘電体層を有する多層プリント配線
板。 【課題を解決するための手段】
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000047255A JP2001233669A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000047255A JP2001233669A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001233669A true JP2001233669A (ja) | 2001-08-28 |
Family
ID=18569535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000047255A Pending JP2001233669A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001233669A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004319561A (ja) * | 2003-04-11 | 2004-11-11 | Toppan Printing Co Ltd | 素子内蔵基板及びその製造方法 |
WO2004102589A1 (ja) * | 2003-05-19 | 2004-11-25 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 絶縁材料、フィルム、回路基板及びこれらの製造方法 |
US7381468B2 (en) | 2003-08-18 | 2008-06-03 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology | Polymer/ceramic composite paste for embedded capacitor and method for fabricating capacitor using same |
JP2009206380A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Nitto Denko Corp | 配線回路基板 |
JP2010278217A (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-09 | Nec Corp | コンデンサ、配線基板およびそれらの製造方法 |
JP2011222923A (ja) * | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Korea Institute Of Ceramic Engineering And Technology | 無焼結mimキャパシタ及びその製造方法 |
JP2013155072A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 誘電体セラミック材料及びそれに用いるペロブスカイト型複合酸化物粗粒子の製造方法 |
JP2013254879A (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-19 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 回路基板及び電子部品搭載基板 |
JP2014506001A (ja) * | 2010-12-09 | 2014-03-06 | テッセラ,インコーポレイテッド | 高密度3次元集積コンデンサ |
US9058912B2 (en) | 2003-04-04 | 2015-06-16 | Toray Industries, Inc. | Paste composition and dielectric composition using the same |
CN114591638A (zh) * | 2022-03-14 | 2022-06-07 | 广东剑鑫科技股份有限公司 | 一种uv双固化电路板三防漆及其制备方法 |
CN115850946A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-03-28 | 广东圆融新材料有限公司 | Ppo基介电复合材料及其制备方法 |
-
2000
- 2000-02-24 JP JP2000047255A patent/JP2001233669A/ja active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9058912B2 (en) | 2003-04-04 | 2015-06-16 | Toray Industries, Inc. | Paste composition and dielectric composition using the same |
JP2004319561A (ja) * | 2003-04-11 | 2004-11-11 | Toppan Printing Co Ltd | 素子内蔵基板及びその製造方法 |
WO2004102589A1 (ja) * | 2003-05-19 | 2004-11-25 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 絶縁材料、フィルム、回路基板及びこれらの製造方法 |
US7700185B2 (en) | 2003-05-19 | 2010-04-20 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Insulation material, film, circuit board and method of producing them |
US7381468B2 (en) | 2003-08-18 | 2008-06-03 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology | Polymer/ceramic composite paste for embedded capacitor and method for fabricating capacitor using same |
JP2009206380A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Nitto Denko Corp | 配線回路基板 |
JP2010278217A (ja) * | 2009-05-28 | 2010-12-09 | Nec Corp | コンデンサ、配線基板およびそれらの製造方法 |
JP2011222923A (ja) * | 2010-04-06 | 2011-11-04 | Korea Institute Of Ceramic Engineering And Technology | 無焼結mimキャパシタ及びその製造方法 |
JP2014506001A (ja) * | 2010-12-09 | 2014-03-06 | テッセラ,インコーポレイテッド | 高密度3次元集積コンデンサ |
US10157978B2 (en) | 2010-12-09 | 2018-12-18 | Tessera, Inc. | High density three-dimensional integrated capacitors |
US11004930B2 (en) | 2010-12-09 | 2021-05-11 | Tessera, Inc. | High density three-dimensional integrated capacitors |
JP2013155072A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 誘電体セラミック材料及びそれに用いるペロブスカイト型複合酸化物粗粒子の製造方法 |
JP2013254879A (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-19 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 回路基板及び電子部品搭載基板 |
CN114591638A (zh) * | 2022-03-14 | 2022-06-07 | 广东剑鑫科技股份有限公司 | 一种uv双固化电路板三防漆及其制备方法 |
CN115850946A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-03-28 | 广东圆融新材料有限公司 | Ppo基介电复合材料及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100896548B1 (ko) | 상호접속 모듈 및 상호접속 모듈의 제조 방법 | |
US9420689B2 (en) | Method of making a circuitized substrate | |
CN1263354C (zh) | 部件内置模块及其制造方法 | |
US7449381B2 (en) | Method of making a capacitive substrate for use as part of a larger circuitized substrate, method of making said circuitized substrate and method of making an information handling system including said circuitized substrate | |
JP4970789B2 (ja) | 容量デバイス、有機誘電ラミネート、およびそのようなデバイスを組み込んだプリント配線板、ならびにそれらの製造方法 | |
JP2006210911A (ja) | 回路基板内で使用されるコンデンサ材料と、コンデンサ材料を利用する回路基板と、回路基板の製造方法及び回路基板を利用する情報処理システム | |
KR100674848B1 (ko) | 고유전율 금속-세라믹-폴리머 복합 유전체 및 이를 이용한임베디드 커패시터의 제조 방법 | |
JP2001233669A (ja) | 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板 | |
JP2007053347A (ja) | 容量性デバイス、有機誘電体積層物、かかるデバイスを組み込んだ多層構造物、およびそれらの作製方法 | |
WO2007046776A1 (en) | Capacitor interconnection | |
US7381468B2 (en) | Polymer/ceramic composite paste for embedded capacitor and method for fabricating capacitor using same | |
US7384856B2 (en) | Method of making an internal capacitive substrate for use in a circuitized substrate and method of making said circuitized substrate | |
KR20090083568A (ko) | 커패시터 내장형 인쇄회로기판 및 그 제조방법 | |
WO2004102589A1 (ja) | 絶縁材料、フィルム、回路基板及びこれらの製造方法 | |
CN101147434A (zh) | 带优化c(t)的itfc | |
JP2001237507A (ja) | 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板並びに多層プリント配線板 | |
JP2004146495A (ja) | プリント配線板内蔵用チップコンデンサ及びそれを内蔵した素子内蔵基板 | |
KR20110139462A (ko) | 절연수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 인쇄회로기판 | |
JP2004281169A (ja) | ポリマーコンポジット高誘電率材料、多層配線板及びモジュール基板 | |
US12256487B2 (en) | Hybrid boards with embedded planes | |
JP3167503B2 (ja) | メモリモジュールの製造方法 | |
JPH10190241A (ja) | 多層配線基板 | |
JP2001068803A (ja) | 高誘電率複合材料及びそれを用いたプリント配線板 | |
JPH10135591A (ja) | 熱伝導性基板および熱伝導性配線基板 | |
JP2008300846A (ja) | 内部レジスタを有する回路基板、およびこの回路基板を利用する電気アセンブリ |