JP2001185522A - 矩形基板の処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は矩形基板を回転させながら上下面
を洗浄処理できるようにした処理装置を提供することを
目的とする。 【解決手段】 矩形基板３５の上下面を処理する処理装
置において、外形が円形状をなし内周に上記矩形基板の
周縁部を保持する段部３４を有する保持孔３３が形成さ
れた保持部材３２と、この保持部材をほぼ水平な状態で
保持する３本の軸体８ａ〜８ｃと、この軸体に保持され
た上記保持部材を周方向に回転駆動する回転駆動源２１
と、上記保持部材の保持孔に保持された上記矩形基板の
上面を処理する上部処理機構４１と、上記保持部材の保
持孔に保持された上記矩形基板の下面を処理する下部処
理機構４２とを具備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は矩形基板の上面と
下面とを処理するための処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶表示装置の製造工程におい
ては、ガラス製の矩形基板を高い清浄度で洗浄処理する
ことが要求される工程がある。矩形基板を洗浄処理する
方式としては、洗浄液中に矩形基板を浸漬するデイップ
方式や矩形基板を１枚ずつ洗浄処理する枚葉方式があ
り、最近では高い清浄度が得られるとともに、コスト的
に有利な枚葉方式が採用されることが多くなってきてい
る。

【０００３】枚葉方式の１つとして矩形基板を搬送ロー
ラで搬送しながらその上下面を洗浄処理する処理装置が
知られている。このような搬送方式によると、通常、所
定間隔で配設された搬送ローラによって矩形基板の幅方
向両端部を保持しならが搬送するようにしている。

【０００４】しかしながら、矩形基板が大型化した場合
には幅方向中央部に生じるたわみが大きくなるから、た
わみが生じないようにするため、幅方向中途部の裏面の
１乃至複数個所を支持ローラで支持するようにしてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、矩形基板を
搬送ローラによって搬送しながら洗浄処理する方式の場
合、装置の全長が長くなるということがある。とくに、
矩形基板が大型化すると、その傾向が顕著になる。その
ため、クリーンルーム内に大きな設置スペースが必要に
なるということがある。

【０００６】そこで、搬送ローラを用いた搬送方式に代
えて矩形基板を回転させながらその上下面を洗浄処理す
るスピン処理方式とすることが考えられている。しかし
ながら、従来のスピン処理方式は、矩形基板を保持する
回転テーブルが回転モータの回転軸に取り付けられる基
部から４本のアームを放射状に突出させた構成であるた
め、この回転テーブルに保持された矩形基板の下面側に
処理ツールを進入させることができなかった。

【０００７】そのため、回転テーブルに保持された矩形
基板の上面は確実に洗浄処理することができても、下面
は確実に洗浄処理することができないので、上面を洗浄
処理してから上下面を反転させ、再度上面を洗浄処理し
なければならないということになり、洗浄処理を能率よ
く行うことができないということがあった。

【０００８】この発明は、基板の上下両面を同時に、し
かも良好に処理することができるようにした矩形基板の
処理装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、矩形
基板の上下面を処理する処理装置において、外形が円形
状をなし上記矩形基板が挿入される挿入孔及びこの挿入
孔に入れられた矩形基板の周縁部を保持する保持部を有
する保持孔が形成された保持部材と、この保持部材をほ
ぼ水平な状態で保持する支持手段と、この保持手段に保
持された上記保持部材を周方向に回転駆動する回転駆動
機構と、上記保持部材の保持部に保持された上記矩形基
板の上面を処理する上部処理機構と、上記保持部材の保
持部に保持された上記矩形基板の下面を処理する下部処
理機構とを具備したことを特徴とする矩形基板の処理装
置にある。

【００１０】請求項２の発明は、上記保持手段は、軸線
をほぼ垂直にして回転可能に設けられ上端部を小径軸部
とすることで上記保持部材の周辺部を係合保持する段部
が形成された少なくとも３本の軸体からなることを特徴
とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。

【００１１】請求項３の発明は、上記回転駆動機構は、
上記軸体の少なくと１本を回転駆動する駆動手段と、上
記軸体の回転を上記保持部材に伝達する動力伝達手段と
から構成されていることを特徴とする請求項２記載の矩
形基板の処理装置にある。

【００１２】請求項４の発明は、上記回転駆動機構は、
上記軸体の少なくと１本を回転駆動する駆動手段と、上
記保持部材の外周面に形成された第１の歯車と、上記軸
体の小径軸部の外周面に形成され上記第１の歯車と噛合
する第２の歯車とから構成されていることを特徴とする
請求項２記載の矩形基板の処理装置にある。

【００１３】請求項５の発明は、上記回転駆動機構は、
回転軸に駆動プーリが設けられた第１の駆動源と、上記
保持部材に一体的に設けられた従動プーリと、この従動
プーリと上記駆動プーリとに張設された伝動ベルトから
構成されていることを特徴とする請求項１記載の矩形基
板の処理装置にある。

【００１４】請求項６の発明は、上記上部処理機構と下
部処理機構は、先端に処理ツールが設けられたアームを
有し、少なくとも上部処理機構のアームは第２の駆動源
によって上記処理ツールが上記保持部材に保持された矩
形基板の板面に対向する位置と、その板面から退避する
位置との間で駆動されることを特徴とする請求項１記載
の矩形基板の処理装置にある。

【００１５】請求項７の発明は、上記保持部材の下方に
は、保持部に保持された矩形基板を保持部材から押し上
げる押し上げ手段が設けられていることを特徴とする請
求項１記載の矩形基板の処理装置にある。

【００１６】請求項８の発明は、上記保持部材に形成さ
れた保持部は、矩形基板の周縁部の全長を保持する構成
であることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理
装置にある。

【００１７】請求項９の発明は、上記保持部材に形成さ
れる挿入孔は、上記保持部に保持される矩形基板の外周
面との間に所定の隙間を形成する形状であることを特徴
とする請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。

【００１８】請求項１０の発明は、上記保持部材の保持
部に保持された矩形基板の下面を支持してこの矩形基板
が撓むのを制限する撓み防止手段を有することを特徴と
する請求項１記載の矩形基板の処理装置にある。

【００１９】請求項１乃至請求項５の発明によれば、保
持部材の保持部に矩形基板を保持し、この保持部材をほ
ぼ水平な状態で保持して回転させるようにしたから、保
持部材の上面側と下面側とにそれぞれ処理機構を進入さ
せ、矩形基板の上面と下面とを処理することが可能とな
る。

【００２０】請求項６の発明によれば、少なくとも上部
処理機構のアームを保持部材に保持された基板の板面と
対向する位置から退避する位置へ移動させれば、ロボッ
トなどによって保持部材に対する矩形基板の着脱を自動
で行うことが可能となる。

【００２１】請求項７の発明によれば、矩形基板を保持
部材の保持部から押し上げることができるため、それに
よって保持部材から矩形基板を容易に取り出すことが可
能となる。

【００２２】請求項８の発明によれば、矩形基板は保持
部材の保持部によって周縁部の全長が保持されるため、
下方への撓み量が低減されることになる。

【００２３】請求項９の発明によれば、保持部材の保持
部に保持される矩形基板の外周面と挿入孔との間に隙間
が形成されるようにしたことで、その隙間にロボットの
ハンドを入れることができるから、保持部材に対する矩
形基板の着脱を自動化することが可能となる。

【００２４】請求項１０の発明によれば、矩形基板が大
型化しても、保持部材の保持部に保持された矩形基板が
撓み過ぎるのを防止することができる。

【００２５】

【発明の実施形態】以下、この発明の形態を図面を参照
して説明する。

【００２６】図１乃至図３はこの発明の第１の実施の形
態で、図１に示すこの発明の処理装置は処理槽１を備え
ている。この処理槽１はベース板２上に設けられた筒状
ケース３を有する。この筒状ケース３内の高さ方向中途
部には仕切板５が設けられている。この仕切板５には周
壁６によって囲まれた複数の挿通孔、この実施の形態で
は３つの挿通孔７がほぼ同一円周上に位置するよう形成
されている。各挿通孔７にはそれぞれ軸体８ａ〜８ｃが
挿通されている。３本の軸体のうちの１本は駆動軸８ａ
で、残りの２本は従動軸８ｂ、８ｃとなっている。

【００２７】なお、各軸体８ａ〜８ｃには上記周壁６と
でラビリンス構造をなす周壁９が設けられ、それによっ
て上記挿通孔７から処理槽１に供給される処理液が漏れ
出るのを防止するようになっている。

【００２８】上記筒状ケース３の下方には支持板１１が
配設されている。この支持板１１には第１の軸受体１２
が設けられている。この第１の軸受体１２には、軸線を
ほぼ垂直にした上記駆動軸８ａの下端部が回転可能に支
持されている。

【００２９】２本の従動軸８ｂ，８ｃは、同じく軸線を
ほぼ垂直にして第２の軸受体１３によって下端部が回転
可能に支持されている。上記第２の軸受体１３は上記支
持板１１の下面に接合固定された保持板１４によって保
持固定され、図示せぬ調整ねじで矢印方向に位置決め調
整可能となっている。

【００３０】上記駆動軸８ａの下端部は上記支持板１１
に形成された通孔１８から下面側に突出し、その突出端
には従動プーリ１９が嵌着されている。

【００３１】上記駆動軸８ａの支持板１１からの突出端
の近傍には駆動手段である回転駆動源２１が配設されて
いる。この回転駆動源２１の出力軸２２には駆動プーリ
２３が嵌着され、この駆動プーリ２３と上記従動プーリ
１９とにはベルト２４が張設されている。したがって、
上記回転駆動源２１が作動すれば、上記駆動軸８ａが回
転駆動されるようになっている。

【００３２】上記駆動軸８ａと従動軸８ｂ、８ｃの上端
部はそれぞれ小径軸部２５，２６，２７に形成されてい
る。この小径軸部２５，２６，２７によって各軸体の上
端部には保持手段を構成する段部２８，２９，３０が形
成されている。

【００３３】３本の軸体８ａ〜８ｃの段部２８〜３０に
は外形が円形をなした保持部材３２が周辺部の下面を係
合させて保持されている。この保持部材３２には矩形状
の挿入孔３３が穿設されている。この挿入孔３３の内周
には保持部としての段部３４が形成され、この段部３４
には液晶表示装置に用いられるガラス製の矩形基板３５
が周辺部を係合させて着脱可能に保持されている。

【００３４】上記保持部材３２は上記駆動軸８ａによっ
て回転駆動されるようになっている。つまり、図３に示
すように保持部材３２の外周面には第１の歯車５１が形
成され、各軸体８ａ〜８ｃの小径軸部２５〜２７の外周
面には上記第１の歯車５１に噛合する第２の歯車５２が
形成されている。

【００３５】それによって、駆動軸８ａが回転駆動され
ると、その小径軸部２５の第２の歯車５２に噛合した第
１の歯車５１が形成された保持部材３２が回転駆動され
ることになるから、その回転に一対の従動軸８ｂ，８ｃ
がこれらの小径軸２６、２７に形成された第２歯車５２
を介して連動することになる。つまり、保持部材３２は
３本の軸体８ａ〜８ｃの段部２８〜３０によってほぼ水
平に保持された状態で周方向に回転駆動されることにな
る。

【００３６】なお、第１の歯車５１に噛合する第２の歯
車５２は、駆動軸８ａだけに形成し、一対の従動軸８
ｂ，８ｃには形成しなくともよい。

【００３７】保持部材３２に保持された基板３５の下方
には、この基板３５を保持部材３２から押し上げる押上
げ手段としての３本の押上げ軸３６が軸線をほぼ垂直に
して設けられている。各押上げ軸３６の下端部は仕切板
５に穿設された挿通孔７１に挿通され、連結板７２に連
結固定されている。この連結板７２は上記支持板１１上
に配設されたシリンダ３７によって上下方向に駆動され
るようになっている。

【００３８】上記挿通孔７１の周囲は周壁７３によって
囲まれ、上記押上げ軸３６には上記周壁７３とでラビリ
ンス構造をなす周壁７４が設けられている。それによっ
て、上記挿通孔７１から処理液が流出するのを阻止して
いる。

【００３９】さらに、保持部材３２に保持された基板３
５の下面は回転自在に設けられた複数のローラ３８によ
って支持され、それによって基板３５の下方への撓み量
が制限されている。なお、各ローラ３８は基板３５が回
転することで一緒に回転するように配置されている。そ
れによって、基板３５とローラ３８との間に生じる摩擦
力が低減されるようになっている。

【００４０】保持部材３２に保持された基板３５の上方
には上部処理機構４１が配置され、下方には下部処理機
構４２が配置されている。各処理機構４１，４２はアー
ム４３を有する。上部処理機構４１のアーム４３の一端
は上部回転駆動源４４の回転軸４５に連結され、他端に
は上部処理ツール４６が設けられている。下部処理機構
４２のアーム４３の一端は下部回転駆動源４７の回転軸
４８に連結され、他端には下部処理ツール４９が設けら
れている。

【００４１】上記上部回転駆動源４４と下部回転駆動源
４７とはそれぞれアーム４３を所定の範囲内で回動させ
るようになっている。つまり、各アーム４３に設けられ
た上部処理ツール４６と下部処理ツール４９とは、図２
に実線で示すように保持部材３２に保持された矩形基板
３５から退避した位置と、同図に鎖線で示すように矩形
基板３５の上面及び下面のほぼ中心部に対向する位置の
間で回動駆動されるようになっている。

【００４２】なお、上記押上げ軸３６とローラ３８と
は、回動するアーム４３に干渉することのない位置に配
設されている。

【００４３】上記各処理ツール４６，４９としては処理
液を噴射するノズル体、処理液に超音波振動を与えて噴
射する超音波ノズル体、矩形基板３５をブラシ洗浄する
ディスクブラシなどを選択的に使用することが可能であ
り、この実施の形態では矩形基板３５に洗浄液を噴射し
て洗浄処理するノズル体が用いられている。

【００４４】矩形基板３５の処理としては洗浄処理に限
られず、上面に付着したレジストを薬液によって剥離処
理し、下面を洗浄処理する場合にも適用でき、さらに上
面にエッチング液を供給してエッチング処理し、下面を
洗浄処理する場合などのように、上面と下面とで異なる
処理をする場合にも適用することができる。

【００４５】つぎに、上記構成の処理装置を用いて矩形
基板３５の上下面を洗浄処理する場合について説明す
る。

【００４６】まず、３本の軸体８ａ〜８ｃによってほぼ
水平に保持された保持部材３２の挿入孔３３に矩形基板
３５が図示しないロボットによって供給され、周縁部を
段部３４に係合して保持される。つまり、押上げ軸３６
を上昇させておき、その上端に矩形基板３５をロボット
のハンドによって供給したならば、上記押上げ軸３６を
下降させることで、矩形基板３５が挿入孔３３に入り込
んで周縁部が段部３４に係合して保持されることにな
る。

【００４７】矩形基板３５が供給されたならば、回転駆
動源２１を作動させて駆動軸８ａを回転させる。それに
よって、駆動軸８ａの回転がその小径軸部２５の第２の
歯車５２から保持部材３２の第１の歯車５１に伝達され
るから、保持部材３２は周方向に回転駆動されることに
なる。

【００４８】保持部材３２を回転駆動したならば、上部
処理機構４１と下部処理機構４２との回転駆動源４４、
４７を作動させてそれぞれのアーム４３を図２に矢印で
示すように矩形基板３５の径方向に沿って所定の範囲で
回動駆動すると同時に、各処理機構４１，４２の処理ツ
ール４６、４９から矩形基板３５の上面と下面とに向け
て洗浄液を噴射する。それによって、矩形基板３５の上
面と下面とが同時に洗浄処理されることになる。

【００４９】このようにして矩形基板３５の上下面を所
定時間洗浄処理したならば、各処理ツール４６、４９か
らの洗浄液の噴射を停止すると共に、各処理機構４１、
４２のアーム４３を図２に実線で示す位置に退避させ
る。ついで、押上げ軸３６を上昇方向に駆動して保持部
材３２の段部３４に保持された矩形基板３５を上昇させ
る。

【００５０】矩形基板３５を保持部材３２から上昇させ
たならば、図示しないロボットのハンドによって矩形基
板３５の周縁部を保持し、処理槽１から搬出する。つい
で未処理の矩形基板３５を供給し、上述した洗浄処理が
繰り返して行われることになる。

【００５１】このように、矩形基板３５を保持した保持
部材３２を３本の軸体８ａ〜８ｃに保持して回転駆動す
ると共に、その上面と下面とに処理ツール４６、４９に
よって処理液を噴射することができるようにした。その
ため、矩形基板３５の上下面をスピン方式によって同時
に洗浄処理することができる。

【００５２】つまり、保持部材３２を３本の軸体８ａ〜
８ｃに形成された段部２８〜３０よって支持した。その
ため、保持部材３２の挿入孔３３に入れられて周縁部が
段部３４に保持された矩形基板３５の下面側に、アーム
４３の先端に設けられた下部処理ツール４９を、このア
ーム４３を回動させることで進入させることができるか
ら、矩形基板３５を回転させながら処理するスピン方式
であっても、矩形基板３５の下面を上面と同時に処理す
ることが可能となる。

【００５３】上部処理機構４１の上部処理ツール４６と
下部処理機構４２の下部処理ツール４９とを、それぞれ
アーム４３を回動させることで矩形基板３５の上面及び
下面に対向する位置から退避させることができるように
した。そのため、保持部材３２に対して矩形基板３５を
ロボットによって着脱する際、上部処理ツール４６が邪
魔になることがない。

【００５４】保持部材３２の挿入孔３３に保持された矩
形基板３５を押上げ軸３６によって押し上げることがで
きるようにした。そのため、ロボットによって保持部材
３２の保持孔３２から処理された矩形基板３２を取り出
すときや供給するときに、そのロボットのハンドによっ
て矩形基板３５の周辺部を確実に保持することが可能と
なる。

【００５５】保持部材３２の保持孔３３に保持された矩
形基板３５の下面はローラ３８によって支持されてい
る。そのため、矩形基板３５が大型化しても、その下方
への撓み量が制限されることになるから、矩形基板３５
が撓み過ぎて損傷するのを防止できる。

【００５６】上記ローラ３８が矩形基板３５の下面に接
触すると、接触による汚れの発生を招く虞がある。しか
しながら、矩形基板３５が回転駆動されることで、ロー
ラ３８が矩形基板３５の同一部分に接触し続けることが
ないから、矩形基板３５のローラ３８と接触する部分で
あっても、非接触時に洗浄されるため、矩形基板３５の
裏面が部分的に汚れるということがない。

【００５７】矩形基板３５は挿入孔３４の内周に形成さ
れた段部３４によって周辺部の全長が保持されている。
そのため、ローラ搬送時のように、幅方向両端部だけが
保持される場合に比べて下方への撓みが発生しにくくな
っているから、その点でもローラ搬送方式に比べて優れ
ている。

【００５８】なお、上記第１の実施の形態では下部処理
ツール４９をアーム４３によって保持部材３２に保持さ
れた基板３５に対向する位置と退避する位置との間で回
動できるようにしたが、矩形基板３５の下面に対向する
位置に固定的に配置するようにしてもよい。

【００５９】また、一対の処理ツール４６，４９はアー
ム４３によって回動駆動させるようにしたが、直線駆動
によって矩形板３５に対向する位置と退避する位置との
間で移動させるようにしてもよい。さらに、各処理ツー
ル４６，４７がディスクブラシなどの場合には、回転駆
動だけでなく、上下駆動できる構成とした方がよい。

【００６０】図４（ａ），（ｂ）はこの発明の第２の実
施の形態を示す。この第２の実施の形態は保持部材３２
を回転駆動するための機構の変形例である。つまり、保
持部材３２の下面にはこの保持部材３２と一体に従動プ
ーリ５５が形成されている。保持部材３２の近傍には回
転駆動源５６が配設されている。この回転駆動源５６の
回転軸５７には駆動プーリ５８が嵌着されている。そし
て、この駆動プーリ５８と上記従動プーリ５５とにはた
とえばタイミングベルトなどの伝動ベルト５９が張設さ
れている。

【００６１】したがって、上記回転駆動源５６が作動す
れば、伝動ベルト５９を介して保持部材３２が回転駆動
されることになる。

【００６２】なお、この第２の実施の形態において、各
軸体８ａ〜８ｃは保持部材３２を回転可能に支持するだ
けでよく、駆動軸８ａを回転駆動する構成は不要となる
こと明らかである 第１、第２の実施の形態において、３本の軸体及び保持
部材の外周面を歯車とせず、一対の従動軸８ｂ、８ｃを
図示しない直線駆動源によって駆動軸８ａに対して接離
する方向に駆動できる構成とし、それによって３本の軸
体８ａ〜８ｃの小径軸２５〜２７の外周面を保持部材３
２の外周面に圧接させるようにすれば、これらの摩擦力
によって駆動軸８ａの回転を保持部材３２に伝達するこ
とが可能となる。

【００６３】図５（ａ）、（ｂ）はこの発明の第３の実
施の形態を示す。この第３の実施の形態は保持部材３２
に形成される挿入孔３３の変形例で、この挿入孔３３に
は、ここに保持される矩形基板３５の対向する一対の両
側辺に対向する部分に、この矩形基板３５の両側辺との
間に所定の隙間を形成する凹部６１が形成されている。

【００６４】また、矩形基板３５は挿入孔３３の四隅部
にだけに設けられた段部３４ａによって保持されるよう
になっている。

【００６５】このような構成の保持部材３２によれば、
矩形基板３５をロボットによって着脱する際、そのハン
ドを凹部６１に挿入することで、矩形基板３５の両側部
を保持することができる。したがって、矩形基板３５を
第１の実施の形態に示された押上げ軸３６によって挿入
孔３３から押し上げることなく着脱することが可能とな
る。

【００６６】

【発明の効果】請求項１乃至請求項５の発明によれば、
保持部材の保持部に矩形基板を保持し、この保持部材を
ほぼ水平な状態で保持して回転させるようにした。

【００６７】そのため、保持部材の上面側と下面側とに
それぞれ処理機構を進入させ、矩形基板の上面と下面と
を同時に処理することが可能となるから、処理能率の向
上を図ることができる。

【００６８】請求項６の発明によれば、少なくとも上部
処理機構の処理ツールを保持部材に保持された基板の板
面と対向する位置から退避する位置へ駆動できるように
した。

【００６９】そのため、上部処理機構の処理ツールを退
避させることで、保持部材からロボットによって矩形基
板を着脱する際、処理ツールにロボットが干渉するのを
防止できるから、ロボットによる矩形基板の着脱を自動
で行うことが可能となる。

【００７０】請求項７の発明によれば、矩形基板を保持
部材の挿入孔から押し上げることができるため、それに
よって保持部材から矩形基板を容易に取り出すことが可
能となる。

【００７１】請求項８の発明によれば、矩形基板は保持
部材の保持部によって周縁部の全長が保持されるため、
下方への撓み量が低減されることになる。

【００７２】請求項９の発明によれば、保持部材の保持
孔と、この保持孔に保持される矩形基板の外周面との間
に隙間が形成されるようにした。

【００７３】そのため、保持孔と矩形基板との隙間にロ
ボットのハンドを入れることができるから、保持部材に
対する矩形基板の着脱を自動化することが可能となる。

【００７４】請求項１０の発明によれば、保持部材に保
持された矩形基板の下面を支持するようにした。

【００７５】そのため、矩形基板が大型化しても、保持
部材に保持された矩形基板が撓み過ぎるのを防止するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施の形態を示す処理装置の
概略的構成を示す縦断面図。

【図２】同じく上部処理機構と下部処理機構の配置状態
を示す平面図。

【図３】同じく保持部材を回転駆動する回転駆動機構の
側面図。

【図４】（ａ）はこの発明の第２の実施の形態を示す回
転駆動機構の平面図、（ｂ）は同じく側面図。

【図５】（ａ）はこの発明の第３の実施の形態を示す保
持部材の平面図、（ｂ）は同じく断面図。

【符号の説明】

８ａ〜８ｃ…軸体 ２１…回転駆動源 ３２…保持部材 ３３…挿入孔 ３４…段部（保持部） ３５…矩形基板 ３６…押上げ軸 ４１…上部処理機構 ４２…下部処理機構 ４４…上部回転駆動源（第２の駆動源） ４６…上部処理ツール ４７…下部回転駆動源 ４９…下部処理ツール ５６…回転駆動源（第１の駆動源）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ 1/1333 ５００ 1/1333 ５００ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｎ Ｆターム(参考） 2H088 FA17 FA21 FA30 HA01 MA20 2H090 JB02 JC19 3B116 AA02 AB33 AB42 BA02 BA08 BA13 BA34 BB24 BB32 BB45 BB55 BB83 3B201 AA02 AB33 AB42 BA02 BA08 BA13 BA34 BB24 BB32 BB45 BB55 BB83 BB92 BB94 BB95 5F031 CA05 FA05 FA12 HA25 HA59 MA23 PA18 PA30

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 矩形基板の上下面を処理する処理装置に
   おいて、 外形が円形状をなし上記矩形基板が挿入される挿入孔及
   びこの挿入孔に入れられた矩形基板の周縁部を保持する
   保持部を有する保持部材と、 この保持部材をほぼ水平な状態で保持する支持持手段
   と、 この保持手段に保持された上記保持部材を周方向に回転
   駆動する回転駆動機構と、 上記保持部材の保持部に保持された上記矩形基板の上面
   を処理する上部処理機構と、 上記保持部材の保持部に保持された上記矩形基板の下面
   を処理する下部処理機構とを具備したことを特徴とする
   矩形基板の処理装置。
2. 【請求項２】 上記支持手段は、軸線をほぼ垂直にして
   回転可能に設けられ上端部を小径軸部とすることで上記
   保持部材の周辺部を係合保持する段部が形成された少な
   くとも３本の軸体からなることを特徴とする請求項１記
   載の矩形基板の処理装置。
3. 【請求項３】 上記回転駆動機構は、上記軸体の少なく
   と１本を回転駆動する駆動手段と、上記軸体の回転を上
   記保持部材に伝達する動力伝達手段とから構成されてい
   ることを特徴とする請求項２記載の矩形基板の処理装
   置。
4. 【請求項４】 上記回転駆動機構は、上記軸体の少なく
   と１本を回転駆動する駆動手段と、上記保持部材の外周
   面に形成された第１の歯車と、上記軸体の小径軸部の外
   周面に形成され上記第１の歯車と噛合する第２の歯車と
   から構成されていることを特徴とする請求項２記載の矩
   形基板の処理装置。
5. 【請求項５】 上記回転駆動機構は、回転軸に駆動プー
   リが設けられた第１の駆動源と、上記保持部材に一体的
   に設けられた従動プーリと、この従動プーリと上記駆動
   プーリとに張設された伝動ベルトから構成されているこ
   とを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理装置。
6. 【請求項６】 上記上部処理機構と下部処理機構は、先
   端に処理ツールが設けられたアームを有し、少なくとも
   上部処理機構のアームは第２の駆動源によって上記処理
   ツールが上記保持部材に保持された矩形基板の板面に対
   向する位置と、その板面から退避する位置との間で駆動
   されることを特徴とする請求項１記載の矩形基板の処理
   装置。
7. 【請求項７】 上記保持部材の下方には、保持部に保持
   された矩形基板を保持部材から押し上げる押し上げ手段
   が設けられていることを特徴とする請求項１記載の矩形
   基板の処理装置。
8. 【請求項８】 上記保持部材に形成された保持部は、矩
   形基板の周縁部の全長を保持する構成であることを特徴
   とする請求項１記載の矩形基板の処理装置。
9. 【請求項９】 上記保持部材に形成される挿入孔は、上
   記保持部に保持される矩形基板の外周面との間に所定の
   隙間を形成する形状であることを特徴とする請求項１記
   載の矩形基板の処理装置。
10. 【請求項１０】 上記保持部材の保持部に保持された矩
    形基板の下面を支持してこの矩形基板が撓むのを制限す
    る撓み防止手段を有することを特徴とする請求項１記載
    の矩形基板の処理装置。