JP2001174617A - Color filter for liquid crystal - Google Patents
Color filter for liquid crystalInfo
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- JP2001174617A JP2001174617A JP35482999A JP35482999A JP2001174617A JP 2001174617 A JP2001174617 A JP 2001174617A JP 35482999 A JP35482999 A JP 35482999A JP 35482999 A JP35482999 A JP 35482999A JP 2001174617 A JP2001174617 A JP 2001174617A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は液晶用カラーフィル
ターに関する。The present invention relates to a color filter for liquid crystal.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の液晶表示装置は、液晶層の厚み
(セルギャップ)を保持するために、2枚の液晶表示装
置用基板間に柱状スペーサを介在させている。柱状スペ
ーサは、特開平9―73088号公報、特開平3―12
7028号公報、及び特開昭50−50054号公報等
に記載されている。柱状スペーサは樹脂又は感光性樹脂
(フォトレジスト)を用いて形成される。ここで、スペ
ーサはフォトレジストからなり、フォトレジストは透明
電極であるITO(酸化スズインジウム(In2O3S
n))上に形成され、スペーサは透明電極上に形成され
ている。2. Description of the Related Art In a conventional liquid crystal display device, a columnar spacer is interposed between two substrates for a liquid crystal display device in order to maintain the thickness (cell gap) of a liquid crystal layer. The columnar spacers are disclosed in JP-A-9-73088 and JP-A-3-12.
No. 7028, JP-A-50-50054, and the like. The columnar spacer is formed using a resin or a photosensitive resin (photoresist). Here, the spacer is made of a photoresist, and the photoresist is ITO (indium tin oxide (In 2 O 3 S) which is a transparent electrode.
n)), and the spacer is formed on the transparent electrode.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ITO
とフォトレジストとの接着強度は比較的低いため剥がれ
やすい。特に、液晶用カラーフィルタ製造時のラビング
工程においては、スペーサ上を引っ掻くので、上記剥が
れ現象が最も顕著に起きる。そこで、ITO表面を研磨
加工すると、スペーサは剥がれにくくなるが、この上に
充填される液晶に配向不良が生じる。幾つかの試行を行
った結果、スペーサが剥がれにくく、且つ、配向不良を
生じにくくするのは困難であると思われた。本発明は、
上述の問題点に鑑みてなされたものであり、スペーサが
剥がれにくく、且つ、液晶の配向不良を抑制可能な液晶
用カラーフィルターを提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION However, ITO
Since the adhesive strength between the photoresist and the photoresist is relatively low, it is easy to peel off. In particular, in the rubbing step at the time of manufacturing the color filter for liquid crystal, the above-mentioned peeling phenomenon occurs most remarkably because the spacer is scratched. Therefore, when the ITO surface is polished, the spacers are less likely to be peeled off, but poor alignment occurs in the liquid crystal filled thereon. As a result of several trials, it was considered that it was difficult to make the spacer hard to peel off and to cause poor alignment. The present invention
The present invention has been made in view of the above-described problems, and has as its object to provide a color filter for liquid crystal in which spacers are hardly peeled off and in which poor alignment of liquid crystal can be suppressed.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、印加電圧に応じて透過光量が変化する液晶が充填さ
れる空間をカラーフィルターの一方面上に提供するよう
に、この一方面上に設けられた樹脂製スペーサを備える
液晶用カラーフィルターにおいて、樹脂製スペーサは上
記一方面に接着され、上記液晶は前述の一方面に接触
し、且つ、上記一方面の中心線平均粗さ(Ra)は、1
〜20nmであることを特徴とする。Means for Solving the Problems To solve the above-mentioned problems, a space filled with liquid crystal whose transmitted light quantity changes according to an applied voltage is provided on one surface of a color filter so as to provide the space on one surface of the color filter. In a color filter for a liquid crystal provided with a resin spacer provided, the resin spacer is adhered to the one surface, the liquid crystal is in contact with the one surface, and the center line average roughness (Ra) of the one surface is provided. Is 1
2020 nm.
【0005】カラーフィルターの一方面のRaが小さい
場合にはスペーサの接着強度が低くなり、大きい場合に
は液晶に配向不良が発生する。液晶用カラーフィルター
においては、接着強度はラビング処理に耐え得るもので
あればよいが、例えば、縦断面が長方形の場合には、ラ
ビング処理に耐えられる接着強度の要求値は高くなる。
本発明のカラーフィルターにおいては、上記一方面の中
心線平均粗さ(Ra)を1〜20nmに設定すること
で、液晶の配向不良を発生させずに、ラビング処理にも
十分に耐えられることとし、また、樹脂製スペーサの接
着面の面積を、その先端側の面積よりも大きくすること
で、液晶配向不良及びラビング処理劣化を更に抑制する
こととした。[0005] When Ra on one surface of the color filter is small, the adhesive strength of the spacer is low, and when Ra is large, poor alignment occurs in the liquid crystal. In the color filter for liquid crystal, the adhesive strength may be any as long as it can withstand the rubbing treatment. For example, when the longitudinal section is rectangular, the required value of the adhesive strength to withstand the rubbing treatment increases.
In the color filter of the present invention, by setting the center line average roughness (Ra) of the one surface to 1 to 20 nm, it is possible to sufficiently withstand the rubbing treatment without causing poor alignment of the liquid crystal. Further, by making the area of the bonding surface of the resin spacer larger than the area of the tip side, poor liquid crystal alignment and deterioration of the rubbing treatment are further suppressed.
【0006】樹脂製スペーサのITOとの接着面の面積
SBOTTOMを、その先端側の面積STO Pよりも大きくする
ことで、配向及びラビングに介して良好な数値範囲を設
定することが可能となるが、これらの設定が更に十分と
なる面積は、SBOTTOM=200〜600μm2、面積S
TOP=50〜150μm2である。これらの効果を更に達
成するためのスペーサの高さHの好適範囲は、上記範囲
においてH=1〜9μmであり、H=2〜8μm、H=
3〜7μmが、この順番でより好ましいものとされる。[0006] The area S BOTTOM of the surface to be adhered to the ITO of the resin spacer is made larger than the area S TO P of the distal end side, it is possible to set the preferable numerical ranges over the orientation and rubbing However, the area where these settings are more sufficient is S BOTTOM = 200 to 600 μm 2 , and the area S
TOP = 50 to 150 μm 2 . A preferable range of the height H of the spacer for further achieving these effects is H = 1 to 9 μm, H = 2 to 8 μm, and H =
3-7 μm is more preferred in this order.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】以下、実施の形態に係る液晶用カ
ラーフィルターについて説明する。なお、本液晶用カラ
ーフィルターは、フォトレジスト/ITO積層体を含ん
でいる。同一要素には同一符号を用いることとし、重複
する説明は省略する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a liquid crystal color filter according to an embodiment will be described. The present color filter for liquid crystal includes a photoresist / ITO laminate. The same elements will be denoted by the same reference symbols, without redundant description.
【0008】まず、カラーフィルターの構造について説
明する。First, the structure of the color filter will be described.
【0009】図1はカラーフィルターの斜視図であり、
図2は図1に示したカラーフィルターのII−II矢印
断面図、図4は図1に示したカラーフィルターの平面図
である。FIG. 1 is a perspective view of a color filter.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of the color filter shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a plan view of the color filter shown in FIG.
【0010】透明基板6上には遮光層としてのブラック
マスク(ブラックマトリクス)7が格子状に堆積されて
おり、格子状の遮光層7の開口内には光学フィルターと
しての着色樹脂領域R,G,Bが設けられている。換言
すれば、遮光層7は画素間の非表示領域に形成されてお
り、着色樹脂領域R,G,Bの透過光を分離している。
遮光層7の配置により、これを組み合せてなる液晶表示
装置(液晶ディスプレイ)のコントラストの向上や、光
による液晶表示装置の駆動素子の誤動作を防止すること
ができる。A black mask (black matrix) 7 as a light-shielding layer is deposited on the transparent substrate 6 in a grid pattern, and colored resin regions R and G as optical filters are provided in the openings of the grid-shaped light-shielding layer 7. , B are provided. In other words, the light-shielding layer 7 is formed in a non-display region between pixels, and separates transmitted light of the colored resin regions R, G, and B.
The arrangement of the light shielding layer 7 can improve the contrast of a liquid crystal display device (liquid crystal display) formed by combining the light shielding layer 7 and prevent malfunction of a driving element of the liquid crystal display device due to light.
【0011】遮光層7及び着色樹脂領域R,G,Bは、
保護膜4によって覆われており、保護膜4上には液晶を
駆動するための透明電極3が全面に形成されている。な
お、透明電極3は、遮光層7直上の着色樹脂領域R,
G,B上に直接堆積されることとしもよい。この場合、
遮光層7直上に位置する保護膜4は着色樹脂に置換さ
れ、着色樹脂領域R,G,Bはストライプ形状を呈する
こととなる。ここで、保護膜4又は着色樹脂R,G,B
の表面粗さ(中心線平均粗さ)Raは1〜20nmであ
る。The light shielding layer 7 and the colored resin regions R, G, B
The transparent electrode 3 for driving the liquid crystal is formed on the entire surface of the protective film 4. Note that the transparent electrode 3 is provided with a colored resin region R,
It may be deposited directly on G and B. in this case,
The protective film 4 located immediately above the light-shielding layer 7 is replaced with a colored resin, and the colored resin regions R, G, and B assume a stripe shape. Here, the protective film 4 or the colored resins R, G, B
Has a surface roughness (center line average roughness) Ra of 1 to 20 nm.
【0012】透明電極3上には、フォトレジスト(樹
脂)からなる柱状スペーサ1が複数設けられる。スペー
サ1は遮光層7の直上に位置している。スペーサ1は、
カラーフィルター8と後述のTFT基板(電子素子基
板)との間に介在し、その液晶が充填される空間を提供
する。透明電極3の表面粗さ(Ra)は、製造方法上、
下地の表面粗さRaと同一となり、1〜20nmであ
る。この表面粗さは、中心線平均粗さ(Ra)である。
中心線平均粗さ(Ra)は、露出表面上の長さに対する
高さを規定する関数(粗さ曲線)から、その平均線(高
さの平均値を示す線)の方向に基準長さ分を抜き取り、
この抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶
対値を合計し、基準長さで平均した値である。On the transparent electrode 3, a plurality of columnar spacers 1 made of a photoresist (resin) are provided. The spacer 1 is located immediately above the light shielding layer 7. Spacer 1
It is interposed between the color filter 8 and a later-described TFT substrate (electronic element substrate) to provide a space in which the liquid crystal is filled. The surface roughness (Ra) of the transparent electrode 3 depends on the manufacturing method.
It is the same as the surface roughness Ra of the base, and is 1 to 20 nm. This surface roughness is the center line average roughness (Ra).
The center line average roughness (Ra) is calculated from a function (roughness curve) defining the height with respect to the length on the exposed surface, by a reference length in the direction of the average line (line indicating the average value of height). And extract
This is a value obtained by summing the absolute values of the deviations from the average line of the extracted portion to the measurement curve and averaging the absolute values with the reference length.
【0013】スペーサ1の高さは、1〜9μmが好まし
く、さらには2〜8μm、さらには3〜7μmが好まし
い。スペーサ1の高さが1μmよりも低いと、十分なセ
ルギャップを確保することが困難になり、例えば、TN
モードでは、デスクリネーションが生じるなどの問題が
起きやすい。一方、9μmを超えると液晶表示装置のセ
ルギャップが大きくなり過ぎ、このため駆動に要する電
圧が高くなり、好ましくない。なお、ここで、スペーサ
1の高さdとは、1個のスペーサ1に着目し、底面と最
上表面との間の距離の最大を意味する。The height of the spacer 1 is preferably 1 to 9 μm, more preferably 2 to 8 μm, and further preferably 3 to 7 μm. If the height of the spacer 1 is smaller than 1 μm, it becomes difficult to secure a sufficient cell gap.
In the mode, problems such as occurrence of disclination are likely to occur. On the other hand, if the thickness exceeds 9 μm, the cell gap of the liquid crystal display device becomes too large, and the voltage required for driving increases, which is not preferable. Here, the height d of the spacer 1 refers to one spacer 1 and means the maximum distance between the bottom surface and the top surface.
【0014】以上のように、上記液晶用カラーフィルタ
は、印加電圧に応じて透過光量が変化する液晶が充填さ
れる空間をカラーフィルターの一方面(ITO材料3)
上に提供するように、この一方面上に設けられた樹脂製
スペーサ1を備える液晶用カラーフィルターにおいて、
樹脂製スペーサ1は一方面3に接着され、液晶は一方面
3に接触し、樹脂製スペーサ1の接着面の面積はその先
端側の面積よりも大きく、且つ、一方面3の中心線平均
粗さ(Ra)は、1〜20nmである。As described above, in the color filter for liquid crystal, the space filled with the liquid crystal in which the amount of transmitted light changes according to the applied voltage is provided on one side of the color filter (ITO material 3).
As provided above, in a liquid crystal color filter including a resin spacer 1 provided on one side thereof,
The resin spacer 1 is bonded to the one surface 3, the liquid crystal contacts the one surface 3, the area of the bonding surface of the resin spacer 1 is larger than the area of the tip side, and the center line average roughness of the one surface 3 is large. The thickness (Ra) is 1 to 20 nm.
【0015】カラーフィルターの一方面のRaが小さい
場合にはスペーサの接着強度が低くなり、大きい場合に
は液晶に配向不良が発生する。液晶用カラーフィルター
においては、接着強度はラビング処理に耐え得るもので
あればよいが、例えば、縦断面が長方形の場合には、ラ
ビング処理に耐えられる接着強度の要求値は高くなる。
本発明のカラーフィルターにおいては、上記一方面の中
心線平均粗さ(Ra)を1〜20nmに設定すること
で、液晶の配向不良を発生させずに、ラビング処理にも
十分に耐えられることとし、また、樹脂製スペーサの接
着面の面積を、その先端側の面積よりも大きくすること
で、液晶配向不良及びラビング処理劣化を更に抑制する
こととした。If Ra on one side of the color filter is small, the adhesive strength of the spacer is low, and if Ra is large, poor alignment occurs in the liquid crystal. In the color filter for liquid crystal, the adhesive strength may be any as long as it can withstand the rubbing treatment. For example, when the longitudinal section is rectangular, the required value of the adhesive strength to withstand the rubbing treatment increases.
In the color filter of the present invention, by setting the center line average roughness (Ra) of the one surface to 1 to 20 nm, it is possible to sufficiently withstand the rubbing treatment without causing poor alignment of the liquid crystal. Further, by making the area of the bonding surface of the resin spacer larger than the area of the tip side, poor liquid crystal alignment and deterioration of the rubbing treatment are further suppressed.
【0016】樹脂製スペーサ1の接着面の面積SBOTTOM
を、その先端側の面積STOPよりも大きくすることで、
配向及びラビングに介して良好な数値範囲を設定するこ
とが可能となるが、これらの設定が更に十分となる面積
は、SBOTTOM=200〜600μm2、面積STOP=50
〜150μm2である。これらの効果を更に達成するた
めのスペーサの高さHの好適範囲は、上述のように、上
記範囲においてH=1〜9μmであり、H=2〜8μ
m、H=3〜7μmが、この順番でより好ましい。The area S BOTTOM of the bonding surface of the resin spacer 1
Is larger than the area S TOP on the tip side,
A good numerical range can be set through orientation and rubbing, but the areas where these settings are more sufficient are S BOTTOM = 200 to 600 μm 2 and area S TOP = 50.
150150 μm 2 . As described above, the preferable range of the height H of the spacer for further achieving these effects is H = 1 to 9 μm in the above range, and H = 2 to 8 μm.
m and H = 3 to 7 μm are more preferable in this order.
【0017】次に、これらの構成材料について詳説す
る。Next, these constituent materials will be described in detail.
【0018】透明基板6は、ポリエーテルサルホン、ポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロ
ピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等のプラスチ
ックシート、各種ガラス板等を用いることができるが、
本例ではガラス板を用いる。なお、ポリエーテルサルホ
ンは耐熱性及び光透過性の観点から好ましい材料であ
る。透明基板6の表面は、コロナ放電処理、オゾン処
理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種
ポリマーの薄膜処理等を行ってもよい。As the transparent substrate 6, plastic sheets such as polyesters such as polyethersulfone and polyethylene terephthalate, and polyolefins such as polypropylene and polyethylene, and various glass plates can be used.
In this example, a glass plate is used. Note that polyethersulfone is a preferable material from the viewpoint of heat resistance and light transmittance. The surface of the transparent substrate 6 may be subjected to a corona discharge treatment, an ozone treatment, a thin film treatment of various polymers such as a silane coupling agent and a urethane polymer, or the like.
【0019】遮光層7としては、Cr、Mn、Al、N
i、Tiなどの金属とその酸化物、窒化物及び/又は炭
化物を積層してなる多層膜や、樹脂中に遮光剤を分散さ
せた樹脂膜、黒色のカラーフィルターレジストが用いら
れる。As the light shielding layer 7, Cr, Mn, Al, N
A multilayer film formed by laminating a metal such as i or Ti and its oxide, nitride and / or carbide, a resin film in which a light-shielding agent is dispersed in a resin, and a black color filter resist are used.
【0020】着色樹脂領域R,G,Bは、液晶中に表示
不良の原因となる不純物を溶出しなければ、いかなる材
質のものであっても良い。具体的な材質としては、任意
の光のみを透過するように膜厚制御された無機膜や、染
色、染料分散あるいは顔料分散された樹脂などがある。
この樹脂の種類には、特に制限は無いが、アクリル、ポ
リビニルアルコール、ポリイミドなどを含む樹脂材料か
ら構成され、なお、製造プロセスの簡便さや耐候性など
の面から、着色樹脂領域R,G,Bには、顔料分散され
た樹脂膜を用いることが好ましい。The colored resin regions R, G, and B may be of any material as long as impurities causing display defects do not elute in the liquid crystal. Specific examples of the material include an inorganic film whose film thickness is controlled so as to transmit only arbitrary light, and a resin in which dyeing, dye dispersion, or pigment dispersion is performed.
The type of the resin is not particularly limited, but is made of a resin material including acrylic, polyvinyl alcohol, polyimide, and the like. In view of simplicity of the manufacturing process and weather resistance, the colored resin regions R, G, and B are used. It is preferable to use a resin film in which a pigment is dispersed.
【0021】スペーサ1は、着色樹脂領域R,G,Bを
構成するものから顔料及び染料を除いた樹脂材料から構
成される。但し、スペーサ1と樹脂領域R,G,Bは同
一樹脂材料であってもよいが、異なる樹脂材料であって
もよい。また、スペーサ1に顔料や染料等の着色材料を
含有させることとしてもよく、この場合にもスペーサと
しての機能を奏する。これらの樹脂材料は、熱硬化性を
有するが、加工の面からは感エネルギー線(光)樹脂組
成分(フォトレジスト)から構成されることが好まし
い。本例に用いられるこれらの樹脂材料は熱硬化性樹脂
であるが、加熱温度が180℃以上の所定温度であれば
硬化時間が短時間(1時間以下)でよいフォトレジスト
である。なお、エネルギー線とは、X線、紫外線、可視
光又は赤外線を含むものとする。The spacer 1 is made of a resin material other than those constituting the colored resin regions R, G, and B, except for pigments and dyes. However, the spacer 1 and the resin regions R, G, and B may be the same resin material, or may be different resin materials. The spacer 1 may contain a coloring material such as a pigment or a dye. In this case, the spacer 1 also functions as a spacer. These resin materials have thermosetting properties, but are preferably composed of an energy-sensitive ray (light) resin component (photoresist) from the viewpoint of processing. These resin materials used in the present example are thermosetting resins, but if the heating temperature is a predetermined temperature of 180 ° C. or more, the curing time is a photoresist that requires a short curing time (1 hour or less). Note that energy rays include X-rays, ultraviolet light, visible light, and infrared light.
【0022】ここで、上記フォトレジストについて説明
すると、フォトレジストは、エネルギー線(光)重合性
組成物であって、エネルギー線(光)を吸収してラジカ
ルを発生するエネルギー線重合開始系と、該ラジカルに
より重合が誘起される付加重合性のエチレン性不飽和二
重結合を少なくとも1個有する化合物(エチレン性化合
物)を含有し、好ましくは、エネルギー線重合性組成物
の結合剤を含有させたものである。Here, the above-mentioned photoresist will be described. The photoresist is an energy ray (light) polymerizable composition, and an energy ray polymerization initiation system which absorbs the energy ray (light) to generate radicals; It contains a compound (ethylenic compound) having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond whose polymerization is induced by the radical, and preferably contains a binder of the energy ray-polymerizable composition. Things.
【0023】このようなフォトレジストは、特開平8−
129104号公報、特開平8−183819号公報等
に記載されており、光重合開始系としては、例えば、エ
ネルギー線としての紫外光を吸収してラジカルを発生す
る紫外光感応型光重合開始系、例えば、ジアルキルアセ
トフェノン系、ベンジルジアルキルケタール系、ベンゾ
イン、ベンゾインアルキルエーテル系、チオモサントン
誘導体、アルシホスフィンオキサイド系等、ヘキサアリ
ールビイミダゾール系、s−トリハロメチルトリアジン
系等が知られており、この他にも可視光感応型光重合開
始系等が知られている。Such a photoresist is disclosed in
JP-A-129104, JP-A-8-183819, and the like. Examples of the photopolymerization initiation system include, for example, an ultraviolet light-sensitive photopolymerization initiation system that absorbs ultraviolet light as energy rays to generate radicals, For example, dialkyl acetophenone type, benzyl dialkyl ketal type, benzoin, benzoin alkyl ether type, thiomosantone derivative, alcyphosphine oxide type, etc., hexaarylbiimidazole type, s-trihalomethyl triazine type and the like are known. A visible light sensitive type photopolymerization initiation system and the like are known.
【0024】エチレン性化合物としては、単量体、二量
体、三量体又はオリゴマー、側鎖もしくは主鎖にエチレ
ン性不飽和二重結合を有する重合体のいずれでも良く、
例えば、不飽和カルボン酸、脂肪族ポリヒドロキシ化合
物と不飽和カルボン酸とのエステル、芳香族ポリヒドロ
キシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、不飽和カ
ルボン酸と多価カルボン酸及び脂肪族ポリヒドロキシ化
合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ
化合物とのエステル化反応により得られるエステル等が
挙げられる。The ethylenic compound may be any of a monomer, a dimer, a trimer or an oligomer, and a polymer having an ethylenically unsaturated double bond in a side chain or a main chain.
For example, unsaturated carboxylic acids, esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids, esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids, unsaturated carboxylic acids and polyvalent carboxylic acids and aliphatic polyhydroxy compounds And esters obtained by an esterification reaction with a polyvalent hydroxy compound such as an aromatic polyhydroxy compound.
【0025】光重合性組成物の結合剤として使用される
有機物質としては、メチル(メタ)アクリル酸等の(メ
タ)アクリル酸のアルキルエステル、酢酸ビニル等の酸
ビニル、アクリロニトリル等が挙げられ、基板との接着
性の観点から特に好ましいものとしては、スチレン、α
−メチルスチレン、ベンジル(メタ)アクリレート、ヒ
ドロキシフェニル(メタ)アクリル酸、メトキシフェニ
ル(メタ)アクリル酸、ヒドロキシフェニル(メタ)ア
クリルアミド、ヒドロキシフェニル(メタ)アクリルス
ルホアミド等のフェニル基を有する共重合モノマーを1
0〜80モル%、好ましくは20〜70モル%、より好
ましくは30〜60モル%の割合で含有し、その他(メ
タ)アクリル酸を2〜50重量%、好ましくは5〜40
重量%、より好ましくは5〜30重量%の割合で含有す
る共重合体、或いは、全共重合モノマーに対して2〜5
0モル%、好ましくは5〜40モル%、より好ましくは
10〜30モル%のエポキシ(メタ)アクリレートが付
加された反応物が挙げられる。Examples of the organic substance used as a binder of the photopolymerizable composition include alkyl esters of (meth) acrylic acid such as methyl (meth) acrylic acid, vinyl acid such as vinyl acetate, and acrylonitrile. Particularly preferred from the viewpoint of adhesiveness to the substrate include styrene, α
Copolymer monomers having a phenyl group such as methylstyrene, benzyl (meth) acrylate, hydroxyphenyl (meth) acrylic acid, methoxyphenyl (meth) acrylic acid, hydroxyphenyl (meth) acrylamide, and hydroxyphenyl (meth) acrylsulfonamide; 1
0-80 mol%, preferably 20-70 mol%, more preferably 30-60 mol%, and other (meth) acrylic acid is 2-50 wt%, preferably 5-40 wt%.
% By weight, more preferably 5 to 30% by weight, or 2 to 5% by weight of all copolymerized monomers.
A reaction product to which 0 mol%, preferably 5 to 40 mol%, more preferably 10 to 30 mol% of epoxy (meth) acrylate has been added may be mentioned.
【0026】フォトレジストの塗布に用いられる溶剤と
しては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチル
セロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン、トルエン、クロロホルム、ジクロロメ
チン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラハ
イドロフラン等が挙げられる。Solvents used for coating the photoresist include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, toluene, chloroform, dichloromethine, ethyl acetate, Examples include methyl lactate, ethyl lactate, methanol, ethanol, propanol, butanol, tetrahydrofuran and the like.
【0027】透明電極3としては、ITO(酸化スズイ
ンジウム(In2O3Sn)が用いられる。As the transparent electrode 3, ITO (indium tin oxide (In 2 O 3 Sn)) is used.
【0028】図3は、上記カラーフィルターの製造方法
を説明するための説明図である。以下、同図にしたがっ
て、上記カラーフィルターの製造方法について説明す
る。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a method of manufacturing the color filter. Hereinafter, a method for manufacturing the color filter will be described with reference to FIG.
【0029】(基材形成工程)まず、透明基板6を用意
し、透明基板6上にホトリソグラフィ技術を用いて格子
状の遮光層7を形成する(図3(a))。次に、遮光層
7の開口内に、赤、緑、青に着色したフォトレジストを
順次ホトリソグラフィ技術を用いて形成し、着色樹脂領
域R,G,Bを形成する。さらに、この上に樹脂からな
る保護膜4を形成する。なお、保護膜4は無くても良
く、この場合には、着色樹脂領域R,G,Bはストライ
プ形状を呈する。このようにして、透明電極が堆積され
るべき基材が形成される。ここで、基材とは、保護膜4
を用いる場合には保護膜4が、用いない場合は着色樹脂
領域R,G,Bが露出表面を有する基板である。(Base Material Forming Step) First, a transparent substrate 6 is prepared, and a grid-like light-shielding layer 7 is formed on the transparent substrate 6 by photolithography (FIG. 3A). Next, red, green, and blue colored photoresists are sequentially formed in the openings of the light-shielding layer 7 using a photolithography technique to form colored resin regions R, G, and B. Further, a protective film 4 made of a resin is formed thereon. Note that the protective film 4 may not be provided, and in this case, the colored resin regions R, G, and B have a stripe shape. In this way, the substrate on which the transparent electrode is to be deposited is formed. Here, the substrate is the protective film 4
Is used, and when not used, the colored resin regions R, G, and B are exposed substrates.
【0030】(露出表面加工工程)次に、基材の露出表
面の表面粗さを調整する。露出表面は、これが保護膜4
である場合も、着色樹脂R,G,Bである場合も、これ
らはフォトレジストからなるので、フォトレジストが溶
解する現像液を適度に露出表面に接触させることによっ
て表面粗さ調整を行う。現像液は、例えば、水酸化カリ
ウム(KOH)の1%水溶液等を用い、ノズルからこれ
を露出表面に向けて噴出させることによって現像(表面
加工)処理を行う。なお、このフォトレジストは、現像
前に70〜100℃程度でプリベークされており、現像
後に純水洗浄が行われ、しかる後、ポストベークされ
る。露出表面の表面粗さRaは、現像液濃度、現像液噴
出の際の噴出圧及び時間、プリベーク時の温度、純水洗
浄時の噴出圧及び時間に依存し、所望の表面粗さRaが
得られるように適宜調整する。(Exposed Surface Processing Step) Next, the surface roughness of the exposed surface of the substrate is adjusted. The exposed surface is the protective film 4
In both cases of coloring and the colored resins R, G and B, since these are made of photoresist, the surface roughness is adjusted by appropriately bringing a developing solution in which the photoresist is dissolved into contact with the exposed surface. As a developing solution, for example, a 1% aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) or the like is used, and a developing (surface processing) process is performed by ejecting the developing solution from a nozzle toward an exposed surface. The photoresist is pre-baked at about 70 to 100 ° C. before development, washed with pure water after development, and then post-baked. The surface roughness Ra of the exposed surface depends on the developer concentration, the ejection pressure and time during ejection of the developer, the temperature during prebaking, and the ejection pressure and time during cleaning with pure water, and a desired surface roughness Ra is obtained. Is adjusted appropriately so that
【0031】(透明電極堆積工程)しかる後、上記基材
の露出表面上に透明電極3を堆積する。上述のように、
透明電極3はITO材料からなり、この堆積工程はスパ
ッタ法を用いて行われる。すなわち、ターゲット材料と
してITO焼結体を用い、これをスパッタリングして露
出表面上に堆積させる。堆積時のITO材料3の成膜温
度(基材温度)は150℃よりも高い。本方法において
は、比較的高温である150℃よりも高い温度でITO
材料3を基材上に堆積する。なお、成膜温度は150℃
以下の温度であってもよい。上述のように、透明電極3
の表面粗さRaは、下地の表面粗さRaと同一となる。(Transparent Electrode Deposition Step) Thereafter, the transparent electrode 3 is deposited on the exposed surface of the substrate. As mentioned above,
The transparent electrode 3 is made of an ITO material, and this deposition step is performed using a sputtering method. That is, an ITO sintered body is used as a target material, which is sputtered and deposited on the exposed surface. The deposition temperature (base temperature) of the ITO material 3 at the time of deposition is higher than 150 ° C. In this method, the ITO is heated at a temperature higher than the relatively high temperature of 150 ° C.
Material 3 is deposited on the substrate. The film formation temperature was 150 ° C.
The following temperatures may be used. As described above, the transparent electrode 3
Has the same surface roughness Ra as the underlayer.
【0032】(樹脂塗布工程)次に、ITO材料3上に
ネガ型フォトレジストを溶剤に溶かしてなる樹脂材料2
を塗布し、プリベークを行う。プリベーク時の加熱温度
は180℃未満の温度で行われる。本例では加熱温度は
50℃〜100℃であり、加熱時間は1分〜15分であ
る。(Resin Coating Step) Next, a resin material 2 is prepared by dissolving a negative photoresist in a solvent on the ITO material 3.
Is applied and pre-baked. The heating temperature during prebaking is lower than 180 ° C. In this example, the heating temperature is 50C to 100C, and the heating time is 1 minute to 15 minutes.
【0033】(露光工程)次に、ホトマスク18を介し
て長方形のスペーサ形成予定領域上に露光光を照射する
(図3(b))。この露光によって、樹脂材料2内に略
長方形の潜像濃度分布が複数形成される。(Exposure Step) Next, an exposure light is irradiated onto a rectangular spacer formation planned area via the photomask 18 (FIG. 3B). By this exposure, a plurality of substantially rectangular latent image density distributions are formed in the resin material 2.
【0034】(現像工程)次に、樹脂材料2を現像処理
し、スペーサ1対応部分を残留させる。なお、スペーサ
1の配設箇所は遮光層7上とし、これは遮光層7は対向
するアクティブマトリクス基板の配線にほぼ対応して配
置される。なお、ホトマスク18の開口の大きさを変化
させることにより、大きさの違うスペーサを形成するこ
とができる。(Developing Step) Next, the resin material 2 is subjected to a developing process to leave a portion corresponding to the spacer 1. The spacer 1 is disposed on the light shielding layer 7, and the light shielding layer 7 is disposed substantially corresponding to the wiring of the opposing active matrix substrate. By changing the size of the opening of the photomask 18, spacers having different sizes can be formed.
【0035】(加熱工程)更に、スペーサ対応部分1に
ベーキングを行うことによって、その角部が丸まった縦
断面台形状のスペーサ(樹脂材料)1が形成される(図
3(c))。ここで、ベーキングの温度は180℃以上
である。加熱時間は、樹脂材料の種類、この中に含まれ
る溶剤の濃度により適宜設定されるが、本例では10分
〜1時間とする。これにより、樹脂材料の硬化が起こ
る。ITO材料3の成膜温度が150℃よりも大きい場
合には結晶の良好性に起因して、成膜温度が150℃以
下の場合にはITO材料3の結晶状態はアモルファスで
あるが、本加熱によって樹脂硬化と同時にアニールが同
時に行われることにより、ITO材料/樹脂材料間の接
着強度を著しく向上させることができる。(Heating Step) Further, by baking the spacer corresponding portion 1, a spacer (resin material) 1 having a trapezoidal vertical cross section with rounded corners is formed (FIG. 3C). Here, the baking temperature is 180 ° C. or higher. The heating time is appropriately set depending on the type of the resin material and the concentration of the solvent contained therein, but in this example, it is set to 10 minutes to 1 hour. Thereby, curing of the resin material occurs. When the film forming temperature of the ITO material 3 is higher than 150 ° C., the crystal state is amorphous. When the film forming temperature is 150 ° C. or lower, the crystal state of the ITO material 3 is amorphous. By performing the annealing simultaneously with the curing of the resin, the adhesive strength between the ITO material and the resin material can be significantly improved.
【0036】加熱工程の温度は、フォトレジストの硬化
が起ればよいので、180℃以上であれば接着強度向上
の面からは十分である。しかしながら、温度が高過ぎる
とフォトレジスト2が変形するため、この温度は250
℃以下であることが更に好ましい。The temperature of the heating step is sufficient if the photoresist is cured, so that a temperature of 180 ° C. or higher is sufficient from the viewpoint of improving the adhesive strength. However, if the temperature is too high, the photoresist 2 will be deformed.
It is more preferable that the temperature is lower than or equal to ° C.
【0037】この方法によると、ラビング時に剥離が生
じるスペーサの底面積を小さくすることができる。本実
施形態の液晶用カラーフィルター8は、表示品質を劣化
させず剥がれにくいスペーサ1を備えることとなり、こ
れを用いれば従来に比して著しく鮮明な画像を提供する
ことができる。According to this method, it is possible to reduce the bottom area of the spacer that causes peeling during rubbing. The liquid crystal color filter 8 of the present embodiment includes the spacer 1 that does not degrade the display quality and is hardly peeled off, and by using this, it is possible to provide a significantly clearer image than in the related art.
【0038】(液晶表示装置)図5は、上記カラーフィ
ルター8を用いた液晶表示装置20の斜視図である。液
晶表示装置は、液晶の電気光学応答を用いることによ
り、画像や文字の表示を行うものであって、情報処理な
どに用いられる。具体的には、パソコン、ワードプロセ
ッサー、ナビゲーションシステム、液晶テレビ、ビデオ
などの表示画面や、液晶プロジェクターなどに用いられ
る。(Liquid Crystal Display) FIG. 5 is a perspective view of a liquid crystal display 20 using the color filter 8 described above. The liquid crystal display device displays images and characters by using the electro-optical response of liquid crystal, and is used for information processing and the like. Specifically, it is used for display screens of personal computers, word processors, navigation systems, liquid crystal televisions, videos, etc., and liquid crystal projectors.
【0039】透明基板6上には偏光板9が設けられ、カ
ラーフィルター8のスペーサ1(図1参照)上には配向
膜(図示せず)が形成される。この配向膜は、スペーサ
1上に樹脂を塗布した後、これをラビング処理すること
によって形成される。この上に配向膜が形成されたTF
T基板12が取付けられる。カラーフィルター8とTF
T基板12との間にはスペーサ1及びカラーフィルター
8の外周部に位置する外枠15が設けられており、これ
らによって規定される空間内に液晶が充填される。な
お、TFT基板12は、カラーフィルター8側から透明
基板(ガラス)11及び偏光板10を順次設けてなり、
透明基板11上には、液晶の偏光方向をスイッチングに
よって可変するための薄膜トランジスタ(TFT)(図
示せず)が画素に対応して設けられている。A polarizing plate 9 is provided on the transparent substrate 6, and an alignment film (not shown) is formed on the spacer 1 (see FIG. 1) of the color filter 8. This alignment film is formed by applying a resin on the spacer 1 and then rubbing the resin. TF on which an alignment film is formed
The T board 12 is mounted. Color filter 8 and TF
An outer frame 15 is provided between the T substrate 12 and the outer periphery of the spacer 1 and the color filter 8, and a space defined by these is filled with liquid crystal. The TFT substrate 12 is provided with a transparent substrate (glass) 11 and a polarizing plate 10 sequentially provided from the color filter 8 side.
On the transparent substrate 11, thin film transistors (TFTs) (not shown) for changing the polarization direction of the liquid crystal by switching are provided corresponding to the pixels.
【0040】TFT基板12の背面に配置されるバック
ライト16によってTFT基板12を照明すると、この
照明光はTFTによる液晶のスイッチングによって、画
素毎にTFT基板12を通過し、カラーフィルター8に
入射する。カラーフィルター8には画素に対応して着色
樹脂領域R,G,Bが設けられているので、カラーフィ
ルター8からは画素毎に発光色が制御された画像が出力
される。なお、TFT基板12の代わりに、メタル・イ
ンシュレーター・メタル(MIM)、バリスタ、ダイオ
ードなどのアクティブ素子を有する電子素子基板を用い
てもよい。カラーフィルター8は印刷や電着などの方法
によって形成してもよい。また、スペーサ1に用いられ
る材料は樹脂である。When the TFT substrate 12 is illuminated by the backlight 16 disposed on the back surface of the TFT substrate 12, the illumination light passes through the TFT substrate 12 for each pixel and enters the color filter 8 by switching of the liquid crystal by the TFT. . Since the color filter 8 is provided with the colored resin regions R, G, and B corresponding to the pixels, the color filter 8 outputs an image whose emission color is controlled for each pixel. Note that, instead of the TFT substrate 12, an electronic element substrate having an active element such as a metal insulator metal (MIM), a varistor, or a diode may be used. The color filter 8 may be formed by a method such as printing or electrodeposition. The material used for the spacer 1 is a resin.
【0041】以上、説明したように、上記カラーフィル
ターは、液晶をスイッチングするTFT等の電子素子が
複数配列してなる電子素子基板12に対向して取り付け
られ、二次元状に配列された複数の着色樹脂領域R,
G,Bと、着色樹脂領域R,G,Bの透過光を分離する
遮光層7と、遮光層7と電子素子基板12との間に介在
し液晶が充填される空間を提供するためのスペーサ1と
を備える液晶用カラーフィルターであり、スペーサ1の
形状及び下地の表面粗さRaを調整することにより、接
着強度及び液晶配向の面から好適なカラーフィルターを
提供することとした。As described above, the color filter is attached to the electronic element substrate 12 in which a plurality of electronic elements such as TFTs for switching the liquid crystal are arranged, and is opposed to the electronic element substrate 12. Colored resin region R,
G, B, a light shielding layer 7 for separating transmitted light of the colored resin regions R, G, B, and a spacer for providing a space between the light shielding layer 7 and the electronic element substrate 12 to be filled with liquid crystal. 1 and a suitable color filter in terms of adhesive strength and liquid crystal alignment by adjusting the shape of the spacer 1 and the surface roughness Ra of the base.
【0042】[0042]
【実施例】(実施例1)偏光板9を含まない上記カラー
フィルター8を以下の工程〜にしたがって製作し、
その特性について評価した。(Example 1) The color filter 8 not including the polarizing plate 9 was manufactured according to the following steps.
The characteristics were evaluated.
【0043】まず、上述のように、透明基板6を用意
し、透明基板6上にホトリソグラフィ技術を用いてクロ
ムの酸化物、窒化物及び/炭化物を積層してなる格子状
の遮光層7を形成した。First, as described above, the transparent substrate 6 is prepared, and the lattice-shaped light-shielding layer 7 formed by stacking chromium oxide, nitride, and / or carbide on the transparent substrate 6 by photolithography is used. Formed.
【0044】次に、遮光層7の開口内に、赤、緑、青
に着色したフォトレジストを順次ホトリソグラフィ技術
を用いて形成し、着色樹脂領域R,G,Bを形成した。
ここでは、保護膜4を形成せずに、着色樹脂領域R,
G,Bを透明電極のRaを規定する下地層とし、この表
面を現像(加工)した。なお、現像前には、70℃で1
分間のプリベークを行い、現像後に純水洗浄を行い、最
後に230℃で20分間のポストベークを行った後、保
護膜の形成を行った。この工程により、得られた中心線
平均粗さRaは10nmである。この表面粗さの測定
は、JIS B0601に従った。Next, red, green, and blue colored photoresists were sequentially formed in the openings of the light-shielding layer 7 by photolithography to form colored resin regions R, G, and B.
Here, without forming the protective film 4, the colored resin regions R,
G and B were used as an underlayer for defining Ra of the transparent electrode, and the surface was developed (processed). In addition, before development, at 70 ° C., 1
After pre-baking for 20 minutes, washing with pure water after development, and finally post-baking at 230 ° C. for 20 minutes, a protective film was formed. The center line average roughness Ra obtained by this step is 10 nm. The measurement of the surface roughness was in accordance with JIS B0601.
【0045】下地層として使用したフォトレジストは、
富士フィルムオーリン製(CR−7050L(赤)、C
G−7050L(緑)、CB−7050L(青))であ
り、現像条件は以下の通りである。The photoresist used as the underlayer is
Fuji Film Ohlin (CR-7050L (red), C
G-7050L (green), CB-7050L (blue)), and the developing conditions are as follows.
【0046】[0046]
【表1】 [Table 1]
【0047】さらに、ITO焼結体をターゲットとす
るマグネトロンスパッタ法を用い、基板温度(T1=)
180℃で透明電極(ITO材料)3を成膜した。次
に、透明電極3上の全面にネガ型フォトレジストからな
る樹脂材料2(JSR製NN700)をスピナーを用い
て塗布した後、80℃で2分間のプリベークを行った。Further, the substrate temperature (T1 =) was determined by magnetron sputtering using an ITO sintered body as a target.
A transparent electrode (ITO material) 3 was formed at 180 ° C. Next, a resin material 2 (NN700 manufactured by JSR) made of a negative photoresist was applied to the entire surface of the transparent electrode 3 using a spinner, and then prebaked at 80 ° C. for 2 minutes.
【0048】次に、正方形の開口を有するホトマスク
18を介して樹脂材料2のスペーサ形成予定領域に露光
光(波長365nm、露光量200mJ/cm2)を照
射した。なお、スペーサ形成予定領域は、スペーサ1の
底面の形状に相当する。この露光によって、樹脂材料2
内に略正方形の潜像濃度分布が形成される。Next, an exposure light (wavelength: 365 nm, exposure amount: 200 mJ / cm 2 ) was applied to a region of the resin material 2 where a spacer is to be formed, through a photomask 18 having a square opening. The region where the spacer is to be formed corresponds to the shape of the bottom surface of the spacer 1. By this exposure, the resin material 2
, A substantially square latent image density distribution is formed.
【0049】次に、これを現像処理(水酸化カリウム
(KOH)の1%水溶液で60秒間)し、縦断面形状が
台形の樹脂材料を得た。すなわち、樹脂製スペーサの接
着面の面積SBOTTOMがその先端側の面積STOPよりも大
きくなるように現像処理を行った。Next, this was subjected to a development treatment (for 60 seconds with a 1% aqueous solution of potassium hydroxide (KOH)) to obtain a resin material having a trapezoidal longitudinal cross section. That is, the development process was performed so that the area S BOTTOM of the bonding surface of the resin spacer was larger than the area S TOP of the tip side.
【0050】しかる後、基板温度(T2=)230℃
でITO透明電極3及び樹脂材料2の形成された基板を
20分間加熱(ポストベーク)することによって、スペ
ーサ1を具備したカラーフィルターの作製を行なった。Thereafter, the substrate temperature (T2 =) 230 ° C.
The substrate on which the ITO transparent electrode 3 and the resin material 2 were formed was heated (post-baked) for 20 minutes to produce a color filter having the spacer 1.
【0051】(比較例1)上記工程において、Raが
25nmとなるまで純水洗浄時の噴出圧を上昇させ(噴
出圧=150kg/cm2)、しかる後、上記実施例と
同様に工程以降を行い、スペーサ1を具備したカラー
フィルターの作製を行なった。(Comparative Example 1) In the above process, the jet pressure during the pure water washing was increased until Ra became 25 nm (jet pressure = 150 kg / cm 2 ). Then, a color filter including the spacer 1 was manufactured.
【0052】(比較例2)上記工程において、表面加
工のための現像処理を行わないことでRaを0.8nm
とし、しかる後、上記実施例と同様に工程以降を行
い、スペーサ1を具備したカラーフィルターの作製を行
なった。(Comparative Example 2) In the above step, Ra was set to 0.8 nm by not performing a developing process for surface processing.
Thereafter, the same steps and subsequent steps were performed as in the above example, and a color filter having the spacer 1 was manufactured.
【0053】(結果及び評価)上記実施例1及び比較例
1、2のカラーフィルターを製作し、スペーサ1及び透
明電極3の露出面を覆うように厚さ数μmの樹脂膜(配
向膜)を形成し、この樹脂膜をラビング装置を用いて引
っ掻いた(ラビング処理)。実施例1及び比較例1のス
ペーサは剥離しなかったが、比較例1に係るカラーフィ
ルター上に液晶を充填した場合には、液晶の配向方向が
表面粗さによって乱され、配向不良が発生した。また、
比較例2に係るスペーサはラビング処理時に剥離した。(Results and Evaluation) The color filters of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 were manufactured, and a resin film (alignment film) having a thickness of several μm was formed so as to cover the exposed surfaces of the spacer 1 and the transparent electrode 3. It was formed and this resin film was scratched using a rubbing device (rubbing treatment). Although the spacers of Example 1 and Comparative Example 1 were not peeled off, when the liquid crystal was filled on the color filter according to Comparative Example 1, the alignment direction of the liquid crystal was disturbed by the surface roughness, and poor alignment occurred. . Also,
The spacer according to Comparative Example 2 was peeled off during the rubbing treatment.
【0054】[0054]
【発明の効果】本発明に係る液晶用カラーフィルター
は、接着強度の高い樹脂/ITO積層体を備えるので、
カラーフィルターの画質の劣化及びスペーサの剥離を抑
制し、これを用いることにより、鮮明な画像を提供する
液晶表示装置を作製することができる。The color filter for liquid crystal according to the present invention comprises a resin / ITO laminate having high adhesive strength.
By suppressing the deterioration of the image quality of the color filter and the separation of the spacer, a liquid crystal display device that provides a clear image can be manufactured by using this.
【図1】カラーフィルターの斜視図。FIG. 1 is a perspective view of a color filter.
【図2】図1に示したカラーフィルターのII−II矢
印断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view of the color filter shown in FIG.
【図3】スペーサ1の製造方法を説明するための説明
図。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a method of manufacturing the spacer 1.
【図4】カラーフィルターの平面図。FIG. 4 is a plan view of a color filter.
【図5】カラーフィルター8を用いた液晶ディスプレイ
20の斜視図。FIG. 5 is a perspective view of a liquid crystal display 20 using the color filter 8;
1…スペーサ、2…スペーサ用樹脂、3…透明電極、4
…保護膜、R,G,B…着色樹脂領域、6…透明基板、
7…遮光層。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Spacer, 2 ... Spacer resin, 3 ... Transparent electrode, 4
... Protective film, R, G, B ... colored resin area, 6 ... transparent substrate,
7 ... Light shielding layer.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BB02 BB08 BB44 2H089 LA09 LA16 LA19 NA14 NA17 QA15 QA16 RA05 TA01 TA09 TA12 TA13 TA15 2H091 FA02Y FA35Y FB03 FB04 FB08 FB12 GA01 GA08 GA13 HA07 LA17 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H048 BB02 BB08 BB44 2H089 LA09 LA16 LA19 NA14 NA17 QA15 QA16 RA05 TA01 TA09 TA12 TA13 TA15 2H091 FA02Y FA35Y FB03 FB04 FB08 FB12 GA01 GA08 GA13 HA07 LA17
Claims (2)
晶が充填される空間をカラーフィルターの一方面上に提
供するように、前記一方面上に設けられた樹脂製スペー
サを備える液晶用カラーフィルターにおいて、前記樹脂
製スペーサは前記一方面に接着され、前記液晶は前記一
方面に接触し、且つ、前記一方面の中心線平均粗さ(R
a)は、1〜20nmであることを特徴とする液晶用カ
ラーフィルター。1. A liquid crystal color comprising a resin spacer provided on one side of a color filter so as to provide a space on the one side of the color filter for filling a liquid crystal in which the amount of transmitted light changes according to an applied voltage. In the filter, the resin spacer is adhered to the one surface, the liquid crystal contacts the one surface, and the center line average roughness (R
a) a color filter for a liquid crystal, which has a thickness of 1 to 20 nm.
その先端側の面積よりも大きいことを特徴とする請求項
1に記載の液晶用カラーフィルター。2. The area of the adhesive surface of the resin spacer is:
2. The liquid crystal color filter according to claim 1, wherein the area of the color filter is larger than the area of the front end side.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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---|---|
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Family
ID=18440192
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Country Status (1)
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060609 |