JP2001158415A - Plastic bottle for atmospheric low temperature plasma treatment and its manufacturing method - Google Patents
Plastic bottle for atmospheric low temperature plasma treatment and its manufacturing methodInfo
- Publication number
- JP2001158415A JP2001158415A JP34297399A JP34297399A JP2001158415A JP 2001158415 A JP2001158415 A JP 2001158415A JP 34297399 A JP34297399 A JP 34297399A JP 34297399 A JP34297399 A JP 34297399A JP 2001158415 A JP2001158415 A JP 2001158415A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plastic bottle
- plasma
- gas
- thin film
- barrier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 70
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 title 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 50
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 110
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 56
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 35
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 15
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 5
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 abstract description 3
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 21
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 17
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 17
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 14
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 11
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 10
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 8
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Natural products CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- WOUUFVMQNDKHSY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silane Chemical compound CO[SiH](C)OC WOUUFVMQNDKHSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- UFRKOOWSQGXVKV-UHFFFAOYSA-N ethene;ethenol Chemical compound C=C.OC=C UFRKOOWSQGXVKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000013334 alcoholic beverage Nutrition 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 150000004683 dihydrates Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 235000014214 soft drink Nutrition 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- HYZQBNDRDQEWAN-LNTINUHCSA-N (z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;manganese(3+) Chemical compound [Mn+3].C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O.C\C(O)=C\C(C)=O HYZQBNDRDQEWAN-LNTINUHCSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGNSMKDDFAUGFT-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-2-phenyl-5h-1,3-oxazole Chemical compound CC1(C)COC(C=2C=CC=CC=2)=N1 UGNSMKDDFAUGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJOABLGQELFFFL-UHFFFAOYSA-N CC[Fe] Chemical compound CC[Fe] QJOABLGQELFFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033007 Carbonic anhydrase 14 Human genes 0.000 description 1
- 102100033029 Carbonic anhydrase-related protein 11 Human genes 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N Cyclopropane Chemical compound C1CC1 LVZWSLJZHVFIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMVSDNDAUGGCCE-TYYBGVCCSA-L Ferrous fumarate Chemical class [Fe+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O PMVSDNDAUGGCCE-TYYBGVCCSA-L 0.000 description 1
- OKGNXSFAYMSVNN-SYAJEJNSSA-L Ferrous gluconate Chemical compound O.O.[Fe+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O OKGNXSFAYMSVNN-SYAJEJNSSA-L 0.000 description 1
- 101000867862 Homo sapiens Carbonic anhydrase 14 Proteins 0.000 description 1
- 101000867841 Homo sapiens Carbonic anhydrase-related protein 11 Proteins 0.000 description 1
- 101001075218 Homo sapiens Gastrokine-1 Proteins 0.000 description 1
- 101001034314 Homo sapiens Lactadherin Proteins 0.000 description 1
- MXSMLDVUIRKKID-UHFFFAOYSA-N Ingol Natural products C1=C(C)C(O)C(O)C2C(C)(C)C2C(O)C(C)C(=O)C23CC(C)C(O)C21O3 MXSMLDVUIRKKID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100039648 Lactadherin Human genes 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100288971 Mus musculus Lgals3bp gene Proteins 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100219325 Phaseolus vulgaris BA13 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- ZDWYFWIBTZJGOR-UHFFFAOYSA-N bis(trimethylsilyl)acetylene Chemical group C[Si](C)(C)C#C[Si](C)(C)C ZDWYFWIBTZJGOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- FQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;tungsten Chemical group [W].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] FQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKCVNYJQLIWBHK-UHFFFAOYSA-N carbonodiperoxoic acid Chemical compound OOC(=O)OO NKCVNYJQLIWBHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- JWORPXLMBPOPPU-MUCWUPSWSA-K chromium(3+);(e)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Cr+3].C\C([O-])=C/C(C)=O.C\C([O-])=C/C(C)=O.C\C([O-])=C/C(C)=O JWORPXLMBPOPPU-MUCWUPSWSA-K 0.000 description 1
- WUZCBSQKHJJABD-YNEVXYPXSA-K chromium(3+);(z)-3-oxo-1-phenylbut-1-en-1-olate Chemical class [Cr+3].CC(=O)\C=C(/[O-])C1=CC=CC=C1.CC(=O)\C=C(/[O-])C1=CC=CC=C1.CC(=O)\C=C(/[O-])C1=CC=CC=C1 WUZCBSQKHJJABD-YNEVXYPXSA-K 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- RHCQEPWEBDOALW-MUCWUPSWSA-K cobalt(3+);(e)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Co+3].C\C([O-])=C/C(C)=O.C\C([O-])=C/C(C)=O.C\C([O-])=C/C(C)=O RHCQEPWEBDOALW-MUCWUPSWSA-K 0.000 description 1
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical compound [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000001 cobalt(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HETNZCCEWRBDGT-UHFFFAOYSA-N cobalt;cyclohexyl butanoate Chemical compound [Co].CCCC(=O)OC1CCCCC1 HETNZCCEWRBDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N copper;4-hydroxypent-3-en-2-one Chemical compound [Cu].CC(O)=CC(C)=O.CC(O)=CC(C)=O ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L copper;diacetate;hydrate Chemical compound O.[Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O NWFNSTOSIVLCJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- SPKJCVZOZISLEI-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;1-cyclopenta-1,3-dien-1-ylethanone;iron(2+) Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.CC(=O)C1=CC=C[CH-]1 SPKJCVZOZISLEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGVCXIFXLGLHG-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;manganese(2+) Chemical compound [Mn+2].C1C=CC=[C-]1.C1C=CC=[C-]1 LCGVCXIFXLGLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUGHSWZPYHDAMD-UHFFFAOYSA-K decanoate;iron(3+) Chemical compound [Fe+3].CCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCC([O-])=O XUGHSWZPYHDAMD-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- MQIKJSYMMJWAMP-UHFFFAOYSA-N dicobalt octacarbonyl Chemical group [Co+2].[Co+2].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] MQIKJSYMMJWAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBBQQQJUOYRZCA-UHFFFAOYSA-N diethoxymethylsilane Chemical compound CCOC([SiH3])OCC NBBQQQJUOYRZCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 OLLFKUHHDPMQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[SiH2]C1=CC=CC=C1 VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- IQSBKDJPSOMMRZ-UHFFFAOYSA-N ethenyl(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]C=C IQSBKDJPSOMMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEWCZPTVOYXPGG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-dimethylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C=C JEWCZPTVOYXPGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004222 ferrous gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000013924 ferrous gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L fumarate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-L 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- MXSMLDVUIRKKID-IWHJHRENSA-N ingol Chemical compound C/1=C(C)/[C@H](O)[C@H](O)[C@@H]2C(C)(C)[C@@H]2[C@H](O)[C@H](C)C(=O)[C@@]23C[C@H](C)[C@H](O)[C@]2\1O3 MXSMLDVUIRKKID-IWHJHRENSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XHQSLVIGPHXVAK-UHFFFAOYSA-K iron(3+);octadecanoate Chemical compound [Fe+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XHQSLVIGPHXVAK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- AMWUFXLSROXQFP-UHFFFAOYSA-N iron(3+);pentane-2,4-dione Chemical compound [Fe+3].CC(=O)CC(C)=O AMWUFXLSROXQFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L nickel(2+);(z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound [Ni+2].C\C([O-])=C\C(C)=O.C\C([O-])=C\C(C)=O BMGNSKKZFQMGDH-FDGPNNRMSA-L 0.000 description 1
- HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);diformate Chemical compound [Ni+2].[O-]C=O.[O-]C=O HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004347 surface barrier Methods 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRLCXMPFXYVHGS-UHFFFAOYSA-N tetramethylgermane Chemical compound C[Ge](C)(C)C ZRLCXMPFXYVHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N tetramethyltin Chemical compound C[Sn](C)(C)C VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J titanium tetraiodide Chemical compound I[Ti](I)(I)I NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKLYMYLJOXIVFB-UHFFFAOYSA-N triethoxymethylsilane Chemical compound CCOC([SiH3])(OCC)OCC NKLYMYLJOXIVFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N triethylgallium Chemical compound CC[Ga](CC)CC RGGPNXQUMRMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N triethylindigane Chemical compound CC[In](CC)CC OTRPZROOJRIMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYWCXWRMUZYRPH-UHFFFAOYSA-N trimethyl(prop-2-enyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CC=C HYWCXWRMUZYRPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H tungsten hexafluoride Chemical compound F[W](F)(F)(F)(F)F NXHILIPIEUBEPD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- WDHVIZKSFZNHJB-UHFFFAOYSA-L zinc;butanoate Chemical compound [Zn+2].CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O WDHVIZKSFZNHJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NHXVNEDMKGDNPR-UHFFFAOYSA-N zinc;pentane-2,4-dione Chemical compound [Zn+2].CC(=O)[CH-]C(C)=O.CC(=O)[CH-]C(C)=O NHXVNEDMKGDNPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBOMINCSAYZPGH-UHFFFAOYSA-L zinc;undecanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCC([O-])=O OBOMINCSAYZPGH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Containers Having Bodies Formed In One Piece (AREA)
- Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、内容物として品質
面から酸化を嫌い、かつ容器壁から炭酸ガスの逃散がな
いことを必要とするビールなどのアルコール飲料、清涼
飲料用などの酸素および炭酸ガスバリア性を有する飲料
用プラスチックボトル、より詳しくは酸素および炭酸バ
リア層としての外表面と内表面の少なくとも一方に、有
機質および/または無機質の薄膜コーティング、または
不活性ガスプラズマまたは反応性ガスプラズマによる表
面処理により表面バリア層を形成させた、安価であって
軽量であり、耐衝撃性、リサイクル性に優れた熱可塑性
プラスチックボトル及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to oxygen and carbon dioxide for alcoholic beverages such as beer, soft drinks and the like, which need to be free from oxidation from the aspect of quality as a content and need not escape carbon dioxide gas from the container wall. Plastic bottles for beverages having gas barrier properties, more particularly, an organic and / or inorganic thin film coating on at least one of the outer surface and inner surface as an oxygen and carbonic acid barrier layer, or a surface formed by inert gas plasma or reactive gas plasma The present invention relates to an inexpensive and lightweight thermoplastic bottle excellent in impact resistance and recyclability, in which a surface barrier layer is formed by a treatment, and a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】ビールはヨーロッパにおいては古代から
人々の飲料として親しまれ、近年においては全世界で庶
民のアルコール性飲料として大量に消費されている。近
年においてはビールは工場において大量に醸造され、こ
れを小型の容器に充填して消費地に輸送し、貯蔵し、販
売されている。このようなビールは輸送、貯蔵の間にお
いても香気の保持を必要とするだけでなく、易酸化性で
あり、炭酸ガスを含有するため、これらの容器として従
来はガラスびん、アルミニウム缶などが主として用いら
れていた。2. Description of the Related Art Beer has been popular in Europe since ancient times as a beverage for people, and in recent years has been consumed in large quantities as alcoholic beverages for common people worldwide. In recent years, beer has been brewed in large quantities in factories, filled in small containers, transported to consuming areas, stored, and sold. Such beer not only requires retention of aroma during transportation and storage, but also is easily oxidizable and contains carbon dioxide gas. Was used.
【0003】アルミニウム缶は、軽量であり、リサイク
ル性、ガスバリア性、耐衝撃性、遮光性に優れ、美麗で
あるなどの利点を有しており、易酸化性または酸化され
てはならない内容物の包装材としては極めて理想的な材
料と思われ、最近においては、ビール用容器としてその
主流を占めるまでに使用量が増大しつつある。反面、原
料が高価格であり、アルミニウム缶の製造設備、内容物
の充填設備などの製造設備が大型、高性能なものが必要
であって極めて大型の投資額を必要とするものであり、
小品種大量生産のものにしか対応できないものである。
そのうえアルミニウム材は耐食処理を必要とし、製品価
格も高価格であり、また容器としての大型化は困難であ
って、しかも食品市場においては内容物が見えることも
大きな商品コンセプトのひとつであり、通常は再封止不
可能な1リットル以下の小型容器に主として使用されて
いる。[0003] Aluminum cans have the advantages of being lightweight, being excellent in recyclability, gas barrier properties, impact resistance, light-shielding properties, and being beautiful, and having an easily oxidizable or non-oxidizable content. It is considered to be a very ideal material for packaging materials, and recently, its use has been increasing to occupy the mainstream as a container for beer. On the other hand, raw materials are expensive, manufacturing equipment such as aluminum can manufacturing equipment, contents filling equipment, etc. requires large, high-performance equipment, and requires a very large investment amount,
It can only deal with small varieties and mass production.
In addition, aluminum requires corrosion treatment, the product price is high, it is difficult to increase the size of the container, and the visibility of the contents in the food market is one of the major product concepts. Is mainly used for small containers of 1 liter or less that cannot be resealed.
【0004】従来から最も大量に使用されてきたガラス
びんは、リサイクル性、ガスバリア性、耐食性、再封止
性に優れており、多品種少量生産にも対応でき、製品価
格も比較的安価に生産できる利点はあるが、しかしアル
ミニウム缶やプラスチックボトルに比して製品重量が重
くかつ耐衝撃性が極めて弱いという重大な欠点を有して
おり、その市場は徐々にアルミニウム缶などに置き代わ
りつつあり、この対策としてボトル壁を薄くし軽量化を
図るなどの対策が取られつつあるようであるが限度があ
るのでその効果は不明である。[0004] Glass bottles that have been used in the largest quantities in the past have excellent recyclability, gas barrier properties, corrosion resistance, and resealability, can be used in a wide variety of small-quantity production, and are relatively inexpensive to produce. Although there are advantages that can be achieved, it has the serious disadvantage that the product weight is heavy and the impact resistance is extremely weak compared to aluminum cans and plastic bottles, and the market is gradually replacing aluminum cans etc. Although it seems that measures such as thinning the wall of the bottle to reduce its weight are being taken as a countermeasure, its effect is unclear because there is a limit.
【0005】またプラスチック容器は、透明で軽量性、
耐衝撃性、耐食性に優れ、製品価格も安価であり、設備
投資額も小さくて済み、多品種少量生産の容器にも対応
できるなど優れた包装材ではあるが、アルミニウム缶、
ガラスびんにおいてはまったく問題のなかったガスバリ
ア性が低く、品質面で酸化を嫌う、また炭酸ガスの逃散
を嫌う内容物、例えばビール用の容器としては、酸素ガ
ス透過性、炭酸ガス透過性などのガスバリア性が低いと
いう重大な欠点を有している。このようなプラスチック
容器のガスバリア性の改善策として、構造材樹脂層とと
もにガスバリア性樹脂層を積層しガスバリア性を改善し
た多層プラスチックボトルが数多く提案されている。[0005] Plastic containers are transparent and lightweight,
It is an excellent packaging material that has excellent impact resistance, corrosion resistance, low product price, small capital investment, and can be used for containers of high-mix low-volume production.
Glass bottles have no problem at all and have low gas barrier properties.They dislike oxidation in terms of quality, and contents that dislike escape of carbon dioxide gas.For example, as a container for beer, oxygen gas permeability, carbon dioxide gas permeability, etc. It has a serious drawback of low gas barrier properties. As a measure for improving the gas barrier properties of such a plastic container, a number of multilayer plastic bottles having improved gas barrier properties by laminating a gas barrier resin layer together with a structural material resin layer have been proposed.
【0006】従来の多層プラスチックボトルの製造法と
しては、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」
という。)またはポリプロピレン(以下「PP」とい
う。)などの熱可塑性プラスチック(構造材樹脂)とエ
チレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物(エチレン−ビ
ニルアルコール共重合体;以下「EVOH」とい
う。)、ポリアミド、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリ
ロニトリルなどのガスバリア性樹脂とを、該ガスバリア
性樹脂を中間層とする多層押出しによりパリソンを成形
し、これをブロー成形するダイレクトブロー成形方法、
プラスチックボトルを成形した後、その表面にEVOH
などのバリア性樹脂を塗布する方法(特開昭60−25
1027号公報)、上記のように塗布したEVOHが吸
湿するとガスバリア性が低下するのでこれを防止するた
めに該バリア性樹脂の表面を疎水性樹脂で被覆した収縮
性フィルムを用いてボトルを被覆する方法(特公昭62
−7060号公報)など多数の提案があるが、薄肉であ
っても製品の強度を高く維持できるストレッチブロー多
層ボトルが最も発展性のある方法として期待されてい
る。しかし、このような方法においても、従来の清涼飲
料用の単層PETボトルに比べ、生産性(成形サイク
ル)、成形機コスト、成形機および金型の維持等のコス
トの問題、さらにはリサイクル性の問題があり、これに
対し一般に使用されているPETボトル用成形機が使用
でき、さらに、ビールボトルに必要な性能を満足するよ
うな高機能性薄膜コート単層PETボトルの開発が望ま
れている。As a conventional method for producing a multilayer plastic bottle, polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as “PET”) is used.
That. ) Or a thermoplastic (structural material resin) such as polypropylene (hereinafter referred to as “PP”) and a saponified product of ethylene-vinyl acetate copolymer (ethylene-vinyl alcohol copolymer; hereinafter referred to as “EVOH”), polyamide. A gas blown resin such as polyvinylidene chloride and polyacrylonitrile, a parison is formed by multilayer extrusion using the gas barrier resin as an intermediate layer, and a direct blow molding method for blow molding the parison;
After molding a plastic bottle, EVOH
(Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-25 / 1985)
No. 1027), when the EVOH applied as described above absorbs moisture, the gas barrier property is reduced. To prevent this, a bottle is covered with a shrinkable film in which the surface of the barrier resin is covered with a hydrophobic resin. Method (Japanese Patent Publication Sho 62)
Although many proposals have been made, a stretch blow multi-layer bottle capable of maintaining high product strength even with a thin wall is expected as the most viable method. However, even in such a method, compared with the conventional single-layer PET bottle for soft drinks, there are problems of productivity (molding cycle), molding machine cost, cost of maintaining the molding machine and the mold, and further, recyclability. In response to this, a commonly used PET bottle molding machine can be used, and furthermore, the development of a high-functional thin-film coated single-layer PET bottle that satisfies the performance required for beer bottles is desired. I have.
【0007】ビールなどのように、充填後比較的短期間
のシェルフライフがあれば良い容器類としては、アルミ
ニウム缶やガラスびんなどのように完全なガスバリア性
がなくとも、通常20℃、相対湿度65%における酸素
ガス透過度が2cc/m2 ・day・atm以下、CO
2 ガス透過度が20cc/m2 ・day・atm以下を
満足れば、ビール用容器に必要とされる4ないし25℃
で300日間の保存で、酸素の侵入量が内容物であるビ
ール重量に対し1ppm以下、また180日間の保存で
炭酸ガスの逃散量が、炭酸ガスの充填量の減少として1
0%未満の水準を確保できる。したがって、上記の基準
を満足するガスバリア層を形成したコストの安いリサイ
クル可能な高機能性薄膜コート単層プラスチックボトル
の開発が必要となる。[0007] Containers such as beer that only need to have a shelf life of a relatively short time after filling are usually 20 ° C and relative humidity even if they do not have perfect gas barrier properties like aluminum cans and glass bottles. Oxygen gas permeability at 65% is 2 cc / m 2 · day · atm or less, CO 2
2 If the gas permeability is less than 20 cc / m 2 · day · atm, 4 ~ 25 ° C required for beer containers
After storage for 300 days, the amount of infiltration of oxygen is 1 ppm or less based on the weight of the content beer, and the amount of carbon dioxide gas escaped after storage for 180 days is 1
A level of less than 0% can be secured. Therefore, it is necessary to develop a low-cost and recyclable high-functional thin-film coated single-layer plastic bottle having a gas barrier layer that satisfies the above criteria.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、プラスチッ
クボトルであって20℃、相対湿度65%における酸素
ガス透過度が2cc/m2 ・day・atm以下、CO
2 ガス透過度が20cc/m2 ・day・atm以下の
条件をクリアできる、かつ簡単な表面処理により安価
で、軽量であり、耐衝撃性、リサイクル性に優れた熱可
塑性プラスチックボトル、さらに詳しくは従来のプラス
チックボトルの設備を利用可能な、製造設備が簡便、安
価であり、生産速度の非常な高速化が可能になったバリ
ア性プラスチックボトルの製造方法の開発を目的とす
る。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a plastic bottle having an oxygen gas permeability of 2 cc / m 2 · day · atm or less at 20 ° C. and a relative humidity of 65%.
(2) Thermoplastic plastic bottles that can meet the conditions of gas permeability of 20 cc / m 2 · day · atm or less, are inexpensive, lightweight, and have excellent impact resistance and recyclability due to simple surface treatment. It is an object of the present invention to develop a method of manufacturing a barrier plastic bottle that can use conventional plastic bottle equipment, has simple and inexpensive manufacturing equipment, and enables extremely high production speed.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は、[1] 大気
圧低温プラズマを用いて、プラスチックボトルの外表面
及び内表面の少なくとも一方に、コーティングまたは表
面処理をしたことを特徴とするバリア性プラスチックボ
トル、[2] プラスチックボトルの外表面及び内表面
の少なくとも一方に有機質または/および無機質の薄膜
コーティングをした上記[1]に記載のバリア性プラス
チックボトル、[3] 薄膜コーティングにおいて、有
機質の薄膜である時は炭化水素ポリマー、フッ素含有ポ
リマー、窒素含有ポリマーから成るプラズマ重合薄膜で
あり、無機質の薄膜である時は炭化水素化合物薄膜(D
LC:ダイアモンドライクカーボン)、シリコン化合物
薄膜、金属化合物薄膜であるプラズマ薄膜コーティング
である上記[1]または[2]に記載のバリア性プラス
チックボトル、[4] プラスチックボトルの外表面及
び内表面の少なくとも一方を不活性ガスプラズマまたは
反応性ガスプラズマによる表面処理により不活性表面層
を形成させた上記[1]に記載のバリア性プラスチック
ボトル、According to the present invention, there is provided [1] a barrier property wherein at least one of an outer surface and an inner surface of a plastic bottle is coated or surface-treated using atmospheric pressure low-temperature plasma. The plastic bottle, [2] the barrier plastic bottle according to the above [1], wherein at least one of the outer surface and the inner surface of the plastic bottle is coated with an organic or / and inorganic thin film, [3] the organic thin film in the thin film coating Is a plasma-polymerized thin film composed of a hydrocarbon polymer, a fluorine-containing polymer, and a nitrogen-containing polymer, and an inorganic thin film is a hydrocarbon compound thin film (D
LC: diamond-like carbon), a barrier plastic bottle according to the above [1] or [2], which is a plasma thin film coating that is a silicon compound thin film or a metal compound thin film, [4] at least the outer surface and the inner surface of the plastic bottle. The barrier plastic bottle according to the above [1], wherein one of the barrier plastic bottles is formed with an inert surface layer by surface treatment with an inert gas plasma or a reactive gas plasma.
【0010】[5] 大気圧低温プラズマ法により、プ
ラスチックボトルの外表面及び内表面の少なくとも一方
に薄膜をコーティングまたは表面処理により表面層を形
成させることを特徴とするバリア性プラスチックボトル
の製造方法、[6] 大気圧低温プラズマコーティング
をするに際し、不活性ガスをメインガスとして発生させ
た大気圧グロー放電ビームプラズマに、有機質および/
または無機質の薄膜コーティング層を形成することがで
きる原料をガス状で供給して、プラスチックボトルの外
表面及び内表面の少なくとも一方に薄膜コーティングす
ることを特徴とする上記[5]に記載のバリア性プラス
チックボトルの製造方法、[7] 大気圧低温プラズマ
表面処理をするに際し、不活性ガスをメインガスとして
発生させた大気圧グロー放電ビームプラズマおよび/ま
たは反応性ガスを用い、プラスチックボトルの外表面及
び内表面の少なくとも一方にバリア性の表面改質層(不
活性表面層)を形成させることを特徴とする上記[5]
に記載のバリア性プラスチックボトルの製造方法、を開
発することにより上記の課題を解決した。[5] A method for producing a barrier plastic bottle, characterized in that at least one of the outer surface and the inner surface of the plastic bottle is coated with a thin film or a surface layer is formed by surface treatment by an atmospheric pressure low temperature plasma method, [6] Atmospheric-pressure glow discharge beam plasma generated by using an inert gas as a main gas when performing atmospheric-pressure low-temperature plasma coating is applied with organic and / or
Alternatively, a raw material capable of forming an inorganic thin film coating layer is supplied in gaseous form, and thin film coating is performed on at least one of the outer surface and the inner surface of the plastic bottle. Manufacturing method of plastic bottle, [7] Atmospheric pressure low temperature plasma surface treatment, using an atmospheric pressure glow discharge beam plasma and / or a reactive gas generated by using an inert gas as a main gas, The above-mentioned [5], wherein a surface-modified layer having a barrier property (an inert surface layer) is formed on at least one of the inner surfaces.
The above problem was solved by developing a method for manufacturing a barrier plastic bottle described in (1).
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】バリア性コーティングをした場合
において、プラスチックボトルのリサイクル性に障害を
与えない方法としては、該バリア性コーティングを同系
統のバリア性樹脂を使用するかまたは該コーティングを
ボトルのバルク樹脂に対して混合してもまったく物性に
影響を与えない無視できる量のバリア性コーティングを
することが必要である。前者の方法においてはPETや
PPにおいては適当なうまいバリア性樹脂がないためそ
の可能性が見いだせない。一方、大気圧低温プラズマに
よる有機質および/または無機質のコーティングをする
ときは極めて薄い層でもバリア性を有するコーティング
が得られること、また希ガスプラズマにより熱可塑性樹
脂を表面処理をする時は表面が改質されて同様にバリア
性を有する表面に改質されることが知られている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION When a barrier coating is applied, a method of not impairing the recyclability of a plastic bottle is to use the same barrier resin as the barrier coating or to apply the coating to the bottle. It is necessary to provide a negligible amount of barrier coating that does not affect the physical properties at all when mixed with the bulk resin. In the former method, there is no suitable good barrier resin in PET or PP, so the possibility cannot be found. On the other hand, when organic and / or inorganic coating is performed by atmospheric pressure low-temperature plasma, a coating having a barrier property can be obtained even with an extremely thin layer, and when a thermoplastic resin is surface-treated by rare gas plasma, the surface is modified. It is known that the surface is modified and similarly has a barrier property.
【0012】バリア層薄膜コーティングをする方法とし
て、低温プラズマを利用したプラズマ重合法、プラズマ
CVD法、スパッタリング法、イオンプレーティング法
などがある。従来低温プラズマ状態は低圧下の安定的な
グロー放電が利用されていた。このような低圧グロー放
電プラズマ装置は、高真空装置が必要で、装置も大がか
りで、複雑な周辺機器が必要になってくる。また、工業
的な製造設備を考える場合、高真空度の必要は装置コス
トが高くなるだけではなく、生産速度にも重大な欠点を
有している。そのため、工業化においてはこのようなコ
ーティングの利用は使用面が極端に限定されているのが
現状である。As a method of coating the barrier layer thin film, there are a plasma polymerization method using low-temperature plasma, a plasma CVD method, a sputtering method, an ion plating method and the like. Conventionally, in a low-temperature plasma state, a stable glow discharge under a low pressure has been used. Such a low-pressure glow discharge plasma device requires a high vacuum device, requires a large-scale device, and requires complicated peripheral devices. In addition, when considering an industrial manufacturing facility, the need for a high vacuum degree not only increases the equipment cost, but also has a serious drawback in the production speed. Therefore, the use of such a coating is extremely limited in industrialization at present.
【0013】従来、低温プラズマ状態を大気圧下で安定
的に生じさせることは困難であった。つまり、大気圧状
態でグロー放電を安定に生じさせることは出来なかっ
た。それは以下の理由によることが知られている。大気
圧状態は低電界では絶縁体であるが、直流、交流、イン
パルス等の高電界を印加すると絶縁破壊を起こし電流が
流れるようになる(自続放電)。自続放電はコロナ放
電、グロー放電、アーク放電に分けられる。平等電界の
ときには自続放電に移るとただちに全路破壊し、グロー
放電もしくはアーク放電に移行するが、不平等電界のと
きにはまず、電界の強い局部のみ絶縁破壊がおこり、コ
ロナ放電が起こる。その後さらに電界を強くすると全路
破壊に発展していく。大気圧空気中では通常全路破壊に
移行するとき、グロー放電を経ずに速やかにアーク放電
に移行することが多い。これは、アーク放電の特徴は入
射イオンに起因する電極加熱による熱電子放出(陰極輝
点の存在)であるが、高圧力では電極に入射するイオン
数が低圧力時に比べて多いため、非常に短い時間で電極
が加熱され、熱電子放出されるようになるためと考えら
れている。また、電流が2A以下の場合にはグロー放電
する場合も知られているが、制御性が良くなく実用的で
はない。一般に溶接加工、切断等の応用に用いられてい
るのはアーク放電である。Conventionally, it has been difficult to stably generate a low-temperature plasma state under atmospheric pressure. That is, the glow discharge could not be stably generated at the atmospheric pressure. It is known that it is due to the following reasons. At atmospheric pressure, an insulator is used in a low electric field, but when a high electric field such as a direct current, an alternating current, or an impulse is applied, a dielectric breakdown occurs and a current flows (self-sustaining discharge). The self-sustaining discharge is classified into corona discharge, glow discharge, and arc discharge. In the case of a uniform electric field, the entire circuit is immediately destroyed when the self-sustained discharge is started, and the glow discharge or the arc discharge is started. In the case of the non-uniform electric field, however, first, dielectric breakdown occurs only in a strong electric field, and corona discharge occurs. After that, if the electric field is further strengthened, the road will be destroyed. In the atmospheric pressure air, when the operation normally shifts to all-road breakdown, it often shifts quickly to arc discharge without going through glow discharge. The characteristic of arc discharge is thermionic emission (existence of a cathode luminescent spot) due to electrode heating caused by incident ions. However, at high pressure, the number of ions incident on the electrode is larger than at low pressure, so it is extremely high. It is considered that the electrodes are heated in a short time to emit thermoelectrons. It is also known that glow discharge occurs when the current is 2 A or less, but this is not practical because of poor controllability. Generally, arc discharge is used for applications such as welding and cutting.
【0014】グロー放電を利用するため、大気圧での放
電を安定に生じさせる試みが行われている(S.Kan
azawz et.al.J.Phys.D:App
l.Phys.21(1988)838〜840)。大
気圧で安定にグロー放電させるためには、 1.放電空間をHeで充満する事、 2.電極間に(放電経路に)絶縁体を挿入する事、 3.少なくとも一方の電極は針状もしくはブラシ状とす
る事、 4.印加電界の周波数は3kHz以上とする事、 が必要条件として知られ、これを行うことにより比較的
安定に放電を行わせることが可能となった。絶縁体は放
電がアーク放電に移行しないようにするため、印加電界
周波数が3kHz以上なのは絶縁体を通して電流を流す
ため、電極形状を針状もしくはブラシ状とするのは、電
界を不均一電界とすることにより放電を開始しやすいよ
うにするためである。In order to utilize glow discharge, attempts have been made to stably generate discharge at atmospheric pressure (S. Kan).
azawz et. al. J. Phys. D: App
l. Phys. 21 (1988) 838-840). For stable glow discharge at atmospheric pressure: 1. filling the discharge space with He; 2. Insert an insulator between the electrodes (in the discharge path); 3. at least one of the electrodes has a needle or brush shape; It is known that the frequency of the applied electric field should be 3 kHz or more as a necessary condition. By performing this, it is possible to cause the discharge to be performed relatively stably. In order to prevent the discharge from shifting to arc discharge in the insulator, the applied electric field frequency of 3 kHz or more causes a current to flow through the insulator. Therefore, if the electrode shape is a needle shape or a brush shape, the electric field is a non-uniform electric field. This is to make it easier to start discharge.
【0015】このような知見に基づき大気圧状態におい
て安定的なグロー放電が可能になり、この分野では活発
な研究開発が進められている。希ガスとしては周期律表
第0族の元素からなるガス類であり、ヘリウム、アルゴ
ン、ネオン及びクセノンなどが挙げられ、これらは単独
であってもまた2種以上混合して用いてもよい。なおこ
の場合、同時に窒素あるいはアンモニアを共存させて処
理を行っても構わない。上記混合ガス中における水素ガ
スの混合量は、使用される混合ガスの組成や製膜圧力な
どによって適宜決定され特に限定されるものではない。
本発明において、大気圧低温プラズマを用いた薄膜コー
ティングにおける有機質の薄膜としては、炭化水素ポリ
マー、フッ素含有ポリマー、窒素含有ポリマーからな
り、プラズマ重合法を適用し、無機質の薄膜は、炭化水
素化合物薄膜(DLC:ダイアモンドライクカーボ
ン)、シリコン化合物薄膜、金属化合物薄膜からなり、
プラズマCVD法を適用する。[0015] Based on such knowledge, stable glow discharge can be performed in the atmospheric pressure state, and active research and development are being advanced in this field. The rare gas is a gas composed of an element of Group 0 of the periodic table, such as helium, argon, neon, and xenon. These may be used alone or as a mixture of two or more. In this case, the treatment may be performed simultaneously with the coexistence of nitrogen or ammonia. The mixing amount of the hydrogen gas in the mixed gas is appropriately determined depending on the composition of the mixed gas used, the film forming pressure, and the like, and is not particularly limited.
In the present invention, the organic thin film in the thin film coating using the atmospheric pressure low temperature plasma is composed of a hydrocarbon polymer, a fluorine-containing polymer, and a nitrogen-containing polymer, and a plasma polymerization method is applied, and the inorganic thin film is a hydrocarbon compound thin film. (DLC: diamond-like carbon), silicon compound thin film, metal compound thin film,
A plasma CVD method is applied.
【0016】プラズマ重合法による炭化水素ポリマーに
よる薄膜コーティングに使用される原料ガスは、通常の
ラジカル重合反応のように単に二重結合の開裂によって
ポリマー鎖が生長していく重合メカニズムとは大きく異
なっているため、重合対象となるモノマーとしては、飽
和炭化水素、不飽和炭化水素化合物、環状炭化水素化合
物など、ほぼどのような炭化水素化合物もプラズマ重合
の対象になる。プラズマCVD法による炭化水素化合物
による薄膜コーティングに使用される原料ガスは、通常
炭素と水素を含有する原料ガスが使用される。このよう
な炭素と水素を含有する原料ガスとしては、例えばメタ
ン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサンな
どのアルカン系ガス類、エチレン、プロピレン、ブテ
ン、ペンテンなどのアルケン系ガス類、ブタジエン、ペ
ンタジエンなどのアルカジエン系ガス類、アセチレン、
メチルアセチレンなどのアルキン系ガス類、ベンゼン、
トルエン、キシレン、インデン、ナフタレン、フェナン
トレンなどの芳香族炭化水素ガス類、シクロプロパン、
シクロヘキサン等のシクロアルカン系ガス類、シクロペ
ンテン、シクロヘキセンなどのシクロアルケン系ガス
類、メタノール、エタノールなどのアルコール系ガス
類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系ガス
類、フォルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアル
デヒド系ガス類などが挙げられる。上記ガス類は単独で
使用してもよいし二種以上が混合使用されてもよい。The raw material gas used for the thin film coating with a hydrocarbon polymer by the plasma polymerization method is greatly different from a polymerization mechanism in which a polymer chain grows simply by cleavage of a double bond as in a normal radical polymerization reaction. Therefore, as a monomer to be polymerized, almost any hydrocarbon compound such as a saturated hydrocarbon, an unsaturated hydrocarbon compound, and a cyclic hydrocarbon compound can be subjected to plasma polymerization. As a raw material gas used for thin film coating with a hydrocarbon compound by the plasma CVD method, a raw material gas containing carbon and hydrogen is usually used. Examples of such a raw material gas containing carbon and hydrogen include alkane-based gases such as methane, ethane, propane, butane, pentane and hexane; alkene-based gases such as ethylene, propylene, butene and pentene; butadiene and pentadiene. Alkadiene-based gases such as acetylene,
Alkyne gases such as methylacetylene, benzene,
Aromatic hydrocarbon gases such as toluene, xylene, indene, naphthalene and phenanthrene, cyclopropane,
Cycloalkane gases such as cyclohexane, cycloalkene gases such as cyclopentene and cyclohexene, alcohol gases such as methanol and ethanol, ketone gases such as acetone and methyl ethyl ketone, and aldehyde gases such as formaldehyde and acetaldehyde. And the like. The above gases may be used alone or in combination of two or more.
【0017】またその他の炭素と水素を含有する原料と
しては、上記に挙げたガス類と水素ガスの混合物、一酸
化炭素ガスまたは二酸化炭素ガスなどの炭素と酸素のみ
から構成されるガス類と上記に挙げた炭化水素ガスまた
は水素ガスの混合物などが挙げられる。更に炭素と水素
を含有する原料としては、上記に挙げたガス類または混
合ガス類に希ガスを混合した混合ガスを挙げることがで
きる。Other raw materials containing carbon and hydrogen include the above-mentioned mixture of gases and hydrogen gas, gases such as carbon monoxide gas or carbon dioxide gas, which consist only of carbon and oxygen, And mixtures of the hydrocarbon gases or hydrogen gases mentioned above. Further, as a raw material containing carbon and hydrogen, a mixed gas obtained by mixing a rare gas with the above-mentioned gases or mixed gases can be used.
【0018】プラズマ重合法によるフッ素含有ポリマー
のよる薄膜コーティングに使用される原料ガスとして
は、C2 F6 +H2 のような飽和フッ素化パラフィンと
水素の混合物、C2 F4 、 C4 F8 、C4 F6 のよう
な不飽和フッ素化オレフィン、C6 F6 、C6 F10のよ
うなフッ素化環状化合物のようなものが挙げられる。プ
ラズマ重合法による窒素含有ポリマーのよる薄膜コーテ
ィングに使用される原料ガスとしては、アクリロニトリ
ル、プロピオニトリルのようなニトリル化合物、プロピ
ルアミン、アリールアミンのようなアミン化合物、各種
炭化水素と窒素の混合物、各種炭化水素とアンモニアの
混合物などが挙げられる。The raw material gas used for the thin film coating of the fluorine-containing polymer by the plasma polymerization method includes a mixture of a saturated fluorinated paraffin such as C 2 F 6 + H 2 and hydrogen, C 2 F 4 and C 4 F 8. , An unsaturated fluorinated olefin such as C 4 F 6 and a fluorinated cyclic compound such as C 6 F 6 and C 6 F 10 . Raw material gases used for thin film coating with a nitrogen-containing polymer by a plasma polymerization method include acrylonitrile, nitrile compounds such as propionitrile, propylamine, amine compounds such as arylamine, mixtures of various hydrocarbons and nitrogen, Examples include mixtures of various hydrocarbons and ammonia.
【0019】大気圧低温プラズマによる無機質の薄膜と
しては、けい素系化合物、チタン系化合物、金属化合物
系化合物などがある。中でもけい素系化合物がバリア
性、不活性表面において優れた薄膜を得ることができ
る。プラズマCVD法によるシリコン化合物による薄膜
コーティングに使用される原料ガスとしては、Si含有
有機物としてジメトキシ(メチル)シラン、エトキシジ
メチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、トリメトキ
シメチルシラン、テトラメトキシシラン、テトラメチル
シラン、ジメトキシメチルビニルシラン、エトキシトリ
メチルシラン、ジエトキシメチルシラン、エトキシジメ
チルビニルシラン、アリルトリメチルシラン、ジエトキ
シジメチルシラン、トリエチルシラン、ヘキサメチルジ
シロキサン、ヘキサメチルジシラン、ジエトキシメチル
ビニルシラン、トリエトキシメチルシラン、トリエトキ
シビニルシラン、ビス(トリメチルシリル)アセチレ
ン、テトラエトキシシラン、トリメトキシフェニルシラ
ン、γ−グリシドキシプロピル(ジメトキシ)メチルシ
ラン、γ−グリシドキシプロピル(トリメトキシ)メチ
ルシラン、γ−メタクリロキシプロピル(ジメトキシ)
メチルシラン、γ−メタクリロキシプロピル(トリメト
キシ)シラン、ジヒドロキシジフェニルシラン、ジフェ
ニルシラン、トリエトキシフェニルシラン、テトライソ
プロポキシシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジエ
トキシジフェニルシラン、テトラ−n−ブトキシシラ
ン、テトラフェノキシシラン、ポリ(メチルハイドロジ
ェンシロキサン)などを挙げることができる。Examples of the inorganic thin film formed by low-temperature plasma at atmospheric pressure include a silicon compound, a titanium compound, and a metal compound compound. Above all, a silicon compound can provide a thin film having excellent barrier properties and an inert surface. The raw material gas used for the thin film coating with the silicon compound by the plasma CVD method includes dimethoxy (methyl) silane, ethoxydimethyl silane, dimethoxy dimethyl silane, trimethoxy methyl silane, tetramethoxy silane, tetramethoxy silane, and dimethoxy as Si-containing organic substances. Methylvinylsilane, ethoxytrimethylsilane, diethoxymethylsilane, ethoxydimethylvinylsilane, allyltrimethylsilane, diethoxydimethylsilane, triethylsilane, hexamethyldisiloxane, hexamethyldisilane, diethoxymethylvinylsilane, triethoxymethylsilane, triethoxyvinylsilane , Bis (trimethylsilyl) acetylene, tetraethoxysilane, trimethoxyphenylsilane, γ-glycidoxyp Pill (dimethoxy) methylsilane, .gamma.-glycidoxypropyl (trimethoxy) methyl silane, .gamma.-methacryloxypropyl (dimethoxy)
Methylsilane, γ-methacryloxypropyl (trimethoxy) silane, dihydroxydiphenylsilane, diphenylsilane, triethoxyphenylsilane, tetraisopropoxysilane, dimethoxydiphenylsilane, diethoxydiphenylsilane, tetra-n-butoxysilane, tetraphenoxysilane, poly (Methyl hydrogen siloxane).
【0020】プラズマCVD法による金属化合物による
薄膜コーティングに使用される原料ガスにおけるコーテ
ィング用金属化合物としては、例えば以下のようなもの
が挙げられる。フェロセン、アセチルフェロセン、モノ
エチルフマル酸鉄(II、III)塩、フマル酸鉄(II)
塩、グルコン酸鉄(II)塩・二水塩、アセチルアセトン
鉄(III)塩、デカン酸鉄(III)塩、ステアリン酸鉄
(III)セ等のFe源;酢酸コバルト(II)・4水塩、
アセチルアセトンコバルト(II)塩、アセチルアセトン
コバルト(III)塩、シクロヘキシル酪酸コバルト塩、
ジコバルトオクタカルボニるなどのCo源;ギ酸ニッケ
ル(II)・2水塩、アセチルアセトンニッケル(II)
塩、酢酸ニッケル(II)・4水塩等のNi源;ヒドロオ
キシ炭酸銅、酢酸銅・一水和塩、アセチルアセトン銅
(II)塩、フマル酸モノエチル銅塩等のCu源;、酢酸
亜鉛・2水和塩、ジエチル亜鉛、アセチルアセトン亜鉛
(II)塩、酪酸亜鉛塩、ウンデカン酸亜鉛等のZn源;Examples of the metal compound for coating in the raw material gas used for the thin film coating with the metal compound by the plasma CVD method include the following. Ferrocene, acetylferrocene, monoethyl iron (II, III) fumarate, iron (II) fumarate
Salts, iron sources such as iron (II) gluconate / dihydrate, iron (III) acetylacetone, iron (III) decanoate, iron (III) stearate, etc .; cobalt (II) acetate / 4 hydrate ,
Acetylacetonate cobalt (II) salt, acetylacetone cobalt (III) salt, cyclohexyl butyrate cobalt salt,
Co sources such as dicobalt octacarbonyl; nickel formate (II) dihydrate, nickel acetylacetonate (II)
Salts, nickel sources such as nickel (II) acetate tetrahydrate; Cu sources such as copper hydroxycarbonate, copper acetate monohydrate, copper acetylacetonate (II), copper monoethyl fumarate; zinc acetate .2 Zn sources such as hydrated salts, diethyl zinc, zinc acetylacetonate (II) salt, zinc butyrate, zinc undecanoate;
【0021】アセチルアセトンクロム(III)塩、トリ
ス(1−フェニル−1,3−ブタンジオナト)クロム塩
(III)、クロムカルボニル等のCr源;ジボラン、ボ
ロンクロライド等のB源;アルミニウムクロライド、ア
ルミニウムボロナイド、トリメチルアルミニウム、アル
ミニウムアセチルアセトナト等のAl源;チタンクロラ
イド、チタンアイオダイド、チタンイソプロポキシド、
Ti(OR)4 (Rは低級アルキル基)等のTi源;ジ
シクロペンタジエニルマンガン、マンガンアセチルアセ
トナト等のMn源;トリエチルガリウムのGa源;テト
ラメチルゲルマニウムのGe源;モリブデンカルボニ
ル、モリブデンクロライド等のMo源;トリエチルイン
ジウムのIn源;テトラメチルスズ、スズクロライド等
のSn源;タングステンカルボニル、タングステンフル
オライド等のW源;などが考えられる。Chromium sources such as acetylacetone chromium (III) salt, tris (1-phenyl-1,3-butanedionato) chromium salt (III) and chromium carbonyl; B sources such as diborane and boron chloride; aluminum chloride and aluminum boronide , Trimethylaluminum, aluminum sources such as aluminum acetylacetonate; titanium chloride, titanium iodide, titanium isopropoxide,
Ti sources such as Ti (OR) 4 (R is a lower alkyl group); Mn sources such as dicyclopentadienyl manganese and manganese acetylacetonate; Ga sources of triethyl gallium; Ge sources of tetramethyl germanium; molybdenum carbonyl and molybdenum Mo sources such as chloride; In sources of triethylindium; Sn sources such as tetramethyltin and tin chloride; W sources such as tungsten carbonyl and tungsten fluoride;
【0022】中でもけい素、アルミニウム、チタンなど
はコスト、性能の面から好ましい材料である。以上のよ
うな金属源に各種ガス:炭化水素、窒素含有化合物(ニ
トリル類、アミン類など)、フッ素含有化合物、塩素含
有化合物、希ガス、窒素、水素、酸素のような単体ガス
のようなものを混合して原料ガスとなる。Among them, silicon, aluminum, titanium and the like are preferable materials in view of cost and performance. Various gases for the above metal sources: hydrocarbons, nitrogen-containing compounds (nitrites, amines, etc.), fluorine-containing compounds, chlorine-containing compounds, and rare gases, such as simple gases such as nitrogen, hydrogen, and oxygen Are mixed to form a raw material gas.
【0023】また、熱可塑性樹脂を大気圧低温プラズマ
を用いて表面処理することにより、その表面を不活性表
面(ガスバリア性のみならず、バルク樹脂からのすべて
の成分の溶出を防止すると同時に、内容物からのあらゆ
る成分を吸着をしない表面)に改質する方法として、不
活性ガスプラズマまたは反応性ガスプラズマで表面処理
する方法がある。本発明において使用される不活性ガス
としてはヘリウム、アルゴンのような希ガスが挙げら
れ、反応性ガスとしてはCF4 、NF3 、BF3、Si
F4 のようなものが挙げられる。Further, the surface treatment of the thermoplastic resin using low-temperature plasma at atmospheric pressure allows the surface to have an inert surface (not only to prevent gas barrier properties but also to elute all components from the bulk resin, As a method for modifying any components from a substance into a surface that does not adsorb), there is a method of performing a surface treatment with an inert gas plasma or a reactive gas plasma. The inert gas used in the present invention includes rare gases such as helium and argon, and the reactive gases include CF 4 , NF 3 , BF 3 and Si.
Include those such as F 4.
【0024】本発明において、プラズマ重合膜の作成は
プラズマ重合装置内を大気圧あるいはわずかな減圧で放
電によるプラズマ状態を形成させ、そこに気化させたモ
ノマーを導入することにより行う。放電により形成され
たプラズマ中には高エネルギー状態の電子、イオン、ラ
ジカル、光子などの重合反応に用いられる活性種が多種
多様に存在するため、導入された低分子モノマー気体も
活性化され、直接高分子膜を得ることができる。プラズ
マ重合は、モノマーが熱的に分解しやすい有機化合物で
あり、またプラスチックボトルへのコーティングである
ため、一般に低温プラズマであるグロー放電が使用され
る。グロー放電によって得られるプラズマ中には、10
eVにも達する高エネルギー電子が存在しているが、大
部分の気体は電離せずに低いエネルギー状態で存在す
る。このようなエネルギー状態が異なるプラズマを非平
衡プラズマといい、有機化合物のプラズマ反応に利用す
るときは熱分解されにくく都合がよい。低温で安定なグ
ロー放電を形成させるために13.56MHzの高周波
(RF)や2.45GHzのマイクロ波が主に利用され
ている。In the present invention, the plasma polymerization film is formed by forming a plasma state by discharge at atmospheric pressure or a slightly reduced pressure in the plasma polymerization apparatus, and introducing the vaporized monomer there. The plasma formed by the discharge contains a wide variety of active species used for the polymerization reaction of high-energy electrons, ions, radicals, photons, etc., so the introduced low-molecular monomer gas is also activated and directly A polymer film can be obtained. Since plasma polymerization is an organic compound in which a monomer is easily decomposed thermally and is a coating on a plastic bottle, glow discharge, which is low-temperature plasma, is generally used. In the plasma obtained by glow discharge, 10
Although there are high-energy electrons reaching up to eV, most gases exist in a low energy state without ionization. Such plasma having different energy states is called non-equilibrium plasma, and when it is used for a plasma reaction of an organic compound, it is difficult to be thermally decomposed and is convenient. In order to form a stable glow discharge at a low temperature, a radio frequency (RF) of 13.56 MHz or a microwave of 2.45 GHz is mainly used.
【0025】重合用モノマーとしては、従来の化学重合
法とは異なり不飽和結合や特定の官能基をもたない前記
した各種化合物でも重合が進行し、薄膜化できる。一般
にモノマーの形態としては、常温、常圧でガス状あるい
は液状有機化合物、昇華性固体状有機化合物などがあ
り、これらを単独あるいは複数用いて重合が行われる。
また、反応時にスパッタリングや加熱蒸発により重合膜
中に金属粒子を混入した有機金属複合膜も作成すること
ができる。薄膜の構造と特性は、プラズマ重合条件によ
り異なるので、目的にかなった適切な重合条件を見つけ
ることが極めて重要となる。プラズマ重合反応における
制御因子として、 プラズマ条件:放電周波数、出力(電圧、電流)、電
極形態(容量型、誘導型、無電極、外部電極、内部電
極)、電極間距離、面積等、 流体力学的条件:真空度、反応ガス流量・流速、反応
ガス濃度、反応ガス種類等 反応器条件:反応器性質・形状、反応器温度、電極材
質等 があり、それらを適切に制御し、目的に応じた膜(例え
ば高密度に架橋した不溶、不融の膜)にすることが大切
である。As the monomer for polymerization, unlike the conventional chemical polymerization method, the above-mentioned various compounds having neither an unsaturated bond nor a specific functional group undergo polymerization and can be formed into a thin film. In general, the form of the monomer includes a gaseous or liquid organic compound, a sublimable solid organic compound, and the like at normal temperature and normal pressure, and polymerization is performed using one or a plurality of these.
In addition, an organometallic composite film in which metal particles are mixed into a polymer film by sputtering or heating and evaporating during the reaction can also be prepared. Since the structure and properties of the thin film depend on the plasma polymerization conditions, it is extremely important to find appropriate polymerization conditions for the purpose. Control factors in the plasma polymerization reaction: Plasma conditions: discharge frequency, output (voltage, current), electrode configuration (capacitive, inductive, no electrode, external electrode, internal electrode), distance between electrodes, area, etc., hydrodynamics Conditions: Degree of vacuum, reaction gas flow rate / flow rate, reaction gas concentration, reaction gas type, etc. Reactor conditions: There are reactor properties / shape, reactor temperature, electrode material, etc. It is important to form a film (for example, a high-density crosslinked insoluble or infusible film).
【0026】プラズマCVD膜の作成は、低温プラズマ
を利用した化学反応によって行われる。そのためのプラ
ズマCVD装置に使用されるプラズマ発生方法は、多岐
に分かれ、さらに目的とする膜質、膜面積、膜成長速度
などに応じて、直流プラズマ、低周波プラズマ、高周波
プラズマ、パルス波プラズマ、三極構造によるプラズ
マ、マイクロ波プラズマ、ダウンストリームプラズマ、
カラムナープラズマ、プラズマアシステッドエピタキシ
ーなどによるプラズマCVD装置が使用できる。プラズ
マCVDにおける反応パラメーターとして、(1)ガス
種、(2)ガス流量、(3)反応圧力、(4)プラズマ
の電力密度、(5)プラズマ励起周波数、(6)プラズ
マ発生方式および電極構造、(7)プラスチックボトル
温度、(8)電極電位、(9)プラスチックボトル位
置、(10)ボトルの特性(プラスチックの種類と組
成、熱膨張係数、充填材、着色材などによる熱伝導率の
変化など)などが挙げられる。反応パラメーターが多い
ため、多種多様な反応条件の設定が可能となり、目的と
する物質の諸特性を比較的任意に制御することができ
る。The plasma CVD film is formed by a chemical reaction using low-temperature plasma. The plasma generation method used in the plasma CVD apparatus for this purpose is diversified, and depending on the target film quality, film area, film growth rate, etc., DC plasma, low frequency plasma, high frequency plasma, pulse wave plasma, Plasma by pole structure, microwave plasma, downstream plasma,
A plasma CVD apparatus using columnar plasma, plasma assisted epitaxy, or the like can be used. Reaction parameters in plasma CVD include (1) gas type, (2) gas flow rate, (3) reaction pressure, (4) plasma power density, (5) plasma excitation frequency, (6) plasma generation method and electrode structure, (7) Plastic bottle temperature, (8) Electrode potential, (9) Plastic bottle position, (10) Bottle characteristics (change in thermal conductivity due to plastic type and composition, thermal expansion coefficient, filler, coloring material, etc.) ). Since there are many reaction parameters, various reaction conditions can be set, and various characteristics of a target substance can be relatively arbitrarily controlled.
【0027】プラズマ表面処理とは、固体被処理物をプ
ラズマ雰囲気にさらしその表面の性質を物理的あるいは
化学的に変化させる手法である。本発明においてプラズ
マによる表面処理とは、非重合性ガスを用いたプラズマ
による表面改質をいい、プラズマ重合をはじめ他のプラ
ズマを利用した技術と区別される。すなはち、改質され
るのは最表面層(スキン層の作成)のみで、プラズマ重
合のように表面層に薄膜を堆積したり、エッチングのよ
うに表面から取り除いたりしない表面改質法である。非
重合性ガスによる表面処理も、ガスの種類によりさらに
2つに大別され、本発明ではその両方を意味する。すな
わち一つはヘリウム、アルゴンなどの不活性ガスで化学
的に反応しないもので、他の一つは、水素、酸素、窒
素、水蒸気、アンモニア、CF4 のように重合はしない
が化学反応にあずかるものである。The plasma surface treatment is a method of exposing a solid workpiece to a plasma atmosphere to physically or chemically change its surface properties. In the present invention, the surface treatment by plasma refers to surface modification by plasma using a non-polymerizable gas, and is distinguished from a technique using plasma, such as plasma polymerization. In other words, only the outermost layer (formation of skin layer) is modified, and a surface modification method that does not deposit a thin film on the surface layer like plasma polymerization or remove it from the surface like etching is used. is there. The surface treatment with a non-polymerizable gas is further roughly classified into two types depending on the type of gas, and the present invention means both of them. That One is not chemically react helium, an inert gas such as argon, other one is hydrogen, oxygen, nitrogen, water vapor, ammonia, although not polymerized as CF 4 participate in chemical reactions Things.
【0028】本発明は、反応容器及び排気装置を必要と
せず、開放系の大気圧状態で円筒状プラズマを発生させ
る装置を提供し、これにより開放系において飲料用プラ
スチックボトルの内表面または外表面に高速でバリア性
薄膜コーティングを可能としたものである。以下、本発
明に使用できる大気圧低温プラズマ重合、プラズマCV
D、プラズマ表面処理が可能な装置の態様を図1(外表
面コート装置)、図2(内表面コート装置)により説明
する。該装置に使用する部品の概要を簡単に説明する。The present invention provides an apparatus for generating a cylindrical plasma in an open system at atmospheric pressure without the need for a reaction vessel and an exhaust device, thereby providing an inner or outer surface of a beverage plastic bottle in an open system. This enables high-speed barrier thin film coating. Hereinafter, atmospheric pressure low temperature plasma polymerization and plasma CV which can be used in the present invention
D, an embodiment of an apparatus capable of performing plasma surface treatment will be described with reference to FIG. 1 (outer surface coating apparatus) and FIG. 2 (inner surface coating apparatus). An outline of components used in the apparatus will be briefly described.
【0029】図1はプラスチックボトルの外表面にプラ
ズマコーティングをする装置の一態様及びその操作の仕
方を示す。プラスチックボトル1を絶縁支持台4に固定
し、外側導体2を被せる。回転可能とした中心導体3を
プラスチックボトル1の内部に挿入し、回転させながら
プラズマを発生させる。外側導体2に交流電源5を接続
し、プラスチックボトル外表面と外側導体2の間の放電
空間6に、流量制御装置7を経由したヘリウム、アルゴ
ンなどの不活性ガス供給源および反応ガス供給源9をか
ら不活性ガス及び反応性ガスを供給しながらプラズマコ
ーティングを行う。反応ガスが液体のときには、反応ガ
ス蒸発装置10を使用してここに不活性ガスをキャリア
ーガスとして通過させるようにする。FIG. 1 shows an embodiment of an apparatus for plasma coating the outer surface of a plastic bottle and how to operate the apparatus. The plastic bottle 1 is fixed to the insulating support 4 and covered with the outer conductor 2. The rotatable center conductor 3 is inserted into the plastic bottle 1 and plasma is generated while rotating. An AC power supply 5 is connected to the outer conductor 2, and an inert gas supply source such as helium or argon and a reaction gas supply source 9 via a flow rate control device 7 are provided in a discharge space 6 between the outer surface of the plastic bottle and the outer conductor 2. The plasma coating is performed while supplying an inert gas and a reactive gas from the above. When the reaction gas is liquid, the reaction gas evaporator 10 is used to pass the inert gas as a carrier gas.
【0030】図2は、プラスチックボトルの内表面にプ
ラズマコーティングをする装置の一態様及びその操作の
仕方を示す。プラスチックボトル1を絶縁支持台4に固
定し、交流電源5に接続された外側導体2を被せる。次
いで内部が中空になっており、ヘリウム、アルゴンなど
の不活性ガス及び反応ガスを流せる構造を有する中心導
体3をプラスチックボトル1の内部に挿入し、回転させ
ながらプラズマを発生させる。プラスチックボトル1内
部であって外側導体2と中心導体3の間の放電空間6
に、流量制御器7を経由して不活性ガス供給源8及び反
応性ガス供給源9から中心導体3を経由して不活性ガス
および反応ガスを供給しながら、プラズマコーティング
を行う。反応性ガスが液体のときには反応ガス蒸発装置
10を使用する。FIG. 2 shows an embodiment of an apparatus for plasma coating the inner surface of a plastic bottle and how to operate the apparatus. The plastic bottle 1 is fixed to the insulating support 4 and covered with the outer conductor 2 connected to the AC power supply 5. Next, the center conductor 3 having a hollow inside and having a structure capable of flowing an inert gas such as helium or argon and a reaction gas is inserted into the plastic bottle 1, and plasma is generated while rotating. Discharge space 6 inside plastic bottle 1 and between outer conductor 2 and center conductor 3
Next, plasma coating is performed while supplying an inert gas and a reactive gas from the inert gas supply source 8 and the reactive gas supply source 9 via the flow rate controller 7 and the central conductor 3. When the reactive gas is liquid, the reactive gas evaporator 10 is used.
【0031】[0031]
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例によりさらに
具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によりなん
ら限定されるものではない。なお実施例に使用した熱可
塑性樹脂はPET[日本ユニペット(株)製、ユニペッ
トRT543:極限粘度(IV=0.75)]を用い
た。プラスチックボトルは、上記PETを単層インジェ
クション成形機(住友重機械サイキャップ75トン)を
用い、シリンダ温度280℃、金型温度10℃で、PE
T樹脂をホッパーに導入し、プリフォーム(重量31
g、高さ110mm、直径25mm)を得た。次いでそ
のプリフォームをKrupp社製ストレッチブロー成形
機を使用して、100℃に温度調節し、圧縮空気を用い
て延伸ブロー成形して、容量500ml、ボトル胴部の
平均肉厚350μm高さ180mmのボトルサンプルを
得た。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. The thermoplastic resin used in the examples was PET [Unipet RT543: intrinsic viscosity (IV = 0.75) manufactured by Nippon Unipet Co., Ltd.]. For the plastic bottle, a single-layer injection molding machine (75 tons of Sumitomo Heavy Industries Cycap) was used to mold the PET at a cylinder temperature of 280 ° C and a mold temperature of 10 ° C.
T resin is introduced into the hopper and the preform (weight 31
g, height 110 mm, diameter 25 mm). Then, the preform was adjusted to a temperature of 100 ° C. using a stretch blow molding machine manufactured by Krupp Co., and stretch blow-molded using compressed air to have a capacity of 500 ml and an average wall thickness of the bottle body of 350 μm and a height of 180 mm. A bottle sample was obtained.
【0032】(実施例1)反応ガスとしてアセチレンを
5%含むヘリウムガスを使用し、薄膜組成:DLCを製
造した。内表面コート用装置に上記で得たPETボトル
(500ml用)をセットする。その後ヘリウムガスと
反応ガス混合ガス(アセチレン5%を含むヘリウムガ
ス)を100cc/minで供給し続ける。3分後に高
周波電源から13.56MHz・105Wの電力を供給
し、放電空間をプラズマ状態にした。1分間DLC膜を
堆積させ、電源を止めた。Example 1 A helium gas containing 5% of acetylene was used as a reaction gas, and a thin film composition: DLC was manufactured. The PET bottle (for 500 ml) obtained above is set in the inner surface coating device. Thereafter, a mixed gas of helium gas and reaction gas (helium gas containing 5% of acetylene) is continuously supplied at 100 cc / min. Three minutes later, a power of 13.56 MHz · 105 W was supplied from a high frequency power supply to bring the discharge space into a plasma state. The DLC film was deposited for one minute and the power was turned off.
【0033】(実施例2)反応ガスとしてアセチレンを
5%含むヘリウムガスを使用し、薄膜組成:DLCを製
造した。外表面コート用装置に PETボトル(500
ml用)をセットする。その後ヘリウムガスと反応ガス
混合ガス(アセチレン5%を含むヘリウムガス)を10
0cc/minで供給し続ける。3分後に高周波電源か
ら13.56MHz・105Wの電力を供給し、放電空
間をプラズマ状態にした。1分間DLC膜を堆積させ、
電源を止めた。Example 2 A helium gas containing 5% of acetylene was used as a reaction gas, and a thin film composition: DLC was manufactured. PET bottle (500
(for ml). After that, a mixed gas of helium gas and a reaction gas (helium gas containing 5% of acetylene) was added to 10
Supply is continued at 0 cc / min. Three minutes later, a power of 13.56 MHz · 105 W was supplied from a high frequency power supply to bring the discharge space into a plasma state. Deposit the DLC film for 1 minute,
I turned off the power.
【0034】(実施例3)内表面コート装置を用い、反
応ガスとしてメタンを5%含有ヘリウムガスを使用した
他は実施例1と同様にプラズマコーティングを行い薄膜
組成:DLCのプラスチックボトルを製造した。 (実施例4)内表面コート装置を用い、反応ガスとして
テトラメトキシシラン2%含有ヘリウムガスを使用した
ほかは実施例1と同様にプラズマコーティングして薄膜
組成:SiO2 のプラスチックボトルを得た。Example 3 A plastic bottle having a thin film composition: DLC was manufactured by performing plasma coating in the same manner as in Example 1 except that a helium gas containing 5% of methane was used as a reaction gas using an inner surface coating apparatus. . (Example 4) in surface-coating apparatus, except using tetramethoxysilane 2% containing helium gas was likewise plasma coating as in Example 1 film composition as the reaction gas: obtain a plastic bottle SiO 2.
【0035】(実施例5)内表面コート装置を用い、反
応ガスとして、SiH4 /NH3 :2%/2%含有ヘリ
ウムガスを使用したほかは実施例1と同様にプラズマコ
ーティングして薄膜組成:SiN2 のプラスチックボト
ルを得た。 (実施例6)内表面コート装置を用い、反応ガスとして
AlCl3 /NH3 :2%/2%含有ヘリウムガスを使
用したほかは実施例1と同様にプラズマコーティングし
て薄膜組成:Al2 O3 のプラスチックボトルを得た。(Example 5) Plasma coating was performed in the same manner as in Example 1 except that a helium gas containing SiH 4 / NH 3 : 2% / 2% was used as a reaction gas using an inner surface coating apparatus, and a thin film composition was prepared. : A plastic bottle of SiN 2 was obtained. (Example 6) Plasma coating was performed in the same manner as in Example 1 except that a helium gas containing AlCl 3 / NH 3 : 2% / 2% was used as a reaction gas using an inner surface coating apparatus, and a thin film composition: Al 2 O was used. I got 3 plastic bottles.
【0036】(実施例7)内表面コート装置を用い、反
応ガスとしてテトライソプロポキシチタン2%含有ヘリ
ウムガスを使用したほかは実施例1と同様にプラズマコ
ーティングして薄膜組成:TiO2 のプラスチックボト
ルを得た。 (実施例8)内表面コート装置を用い、反応ガスとして
アクリロニトリル10%含有ヘリウムガスを使用したほ
かは実施例1と同様にプラズマコーティングして薄膜組
成:窒素含有ポリマーのプラスチックボトルを得た。 (実施例9)内表面コート装置を用い、反応ガスとして
CF2 =CF2 10%含有アルゴンガスを使用したほか
は実施例1と同様にプラズマコーティングして 薄膜組
成:フッ素含有ポリマーのプラスチックボトルを得た。Example 7 A plastic bottle of thin film composition: TiO 2 was formed by plasma coating in the same manner as in Example 1 except that an inner surface coating apparatus was used and a helium gas containing 2% of tetraisopropoxytitanium was used as a reaction gas. I got (Example 8) A plastic bottle having a thin film composition: nitrogen-containing polymer was obtained by plasma coating in the same manner as in Example 1 except that helium gas containing 10% of acrylonitrile was used as a reaction gas using an inner surface coating apparatus. Example 9 Plasma coating was performed in the same manner as in Example 1 except that an inner surface coater was used and argon gas containing 10% of CF 2 = CF 2 was used as a reaction gas. Thin film composition: Fluorine-containing polymer plastic bottle Obtained.
【0037】(実施例10)内表面コート装置を用い、
不活性ガスとしてアルゴンを使用したほかは実施例1と
同様にプラズマによる表面処理を行い、ボトル内表面に
表面架橋をしたスキン層を有するプラスチックボトルを
得た (実施例11)内表面コート装置を用い、反応ガスとし
てNF3 5%含有アルゴンガスを使用したほかは実施例
1と同様にプラズマによる表面処理を行い、ボトル内表
面を表面フッ素化したスキン層を有するプラスチックボ
トルを得た。 (比較例1)単層PETボトルをなんらの処理をするこ
となくサンプルとした。(Embodiment 10) Using an inner surface coating apparatus,
A plastic bottle having a skin layer having a surface cross-linked on the inner surface of the bottle was obtained by performing surface treatment with plasma in the same manner as in Example 1 except that argon was used as an inert gas. (Example 11) A plastic bottle having a skin layer whose surface was fluorinated was obtained by performing plasma surface treatment in the same manner as in Example 1 except that an argon gas containing 5% of NF 3 was used as a reaction gas. Comparative Example 1 A single-layer PET bottle was used as a sample without any treatment.
【0038】(評価方法)実施例1〜11、比較例1の
ボトルサンプルを下記の方法によりガスバリア性を測定
した。結果を表1に示す。 1)酸素透過度 モコン社製、OX−TRAN2/20MLにより酸素透
過度を測定した。測定条件は、23℃で内表面、外表面
共に65%RHである。 2)酸素侵入量 ソフトパッケージサンプリング装置を備えたIngol
d Instruments社製ポーラログラフ酸素セ
ンサー IL 307型を用いて、完全に炭酸ガス置換
したヘッドスペースにおける酸素含量が大気から侵入し
てくる酸素により酸素濃度が1ppmに到達するまでの
期間を測定した。 保存条件:温度 23℃ :相対湿度 ボトル内側100%、外側65%(Evaluation Method) The gas barrier properties of the bottle samples of Examples 1 to 11 and Comparative Example 1 were measured by the following method. Table 1 shows the results. 1) Oxygen permeability The oxygen permeability was measured using OX-TRAN2 / 20ML manufactured by Mocon. The measurement conditions are 23 ° C. and 65% RH for both the inner and outer surfaces. 2) Oxygen penetration Ingol equipped with a soft package sampling device
d Using a polarographic oxygen sensor model IL 307 manufactured by Instruments, the period until the oxygen concentration in the head space completely replaced with carbon dioxide gas reached 1 ppm due to oxygen entering from the atmosphere was measured. Storage condition: temperature 23 ° C: relative humidity 100% inside the bottle, 65% outside
【0039】3)炭酸ガス損失量 500mlのボトルサンプルにガスボリユーム3の炭酸
水を500ml入れた。重量の経時変化を測定し、炭酸
ガスの損失量が10%に達するに必要な日数を求めた。 保存条件:温度 23℃ :相対湿度 ボトル内側 100%RH、外側65%RH 上記2)と同等の炭酸水充填容器で測定した。3) Amount of carbon dioxide gas loss A 500 ml bottle sample was charged with 500 ml of carbonated water of gas volume 3. The change over time of the weight was measured, and the number of days required for the loss of carbon dioxide gas to reach 10% was determined. Storage conditions: temperature 23 ° C .: relative humidity 100% RH inside bottle, 65% RH outside Measured in a carbonated water-filled container equivalent to 2) above.
【0040】4)PETに対する比透明度 実施例、比較例で使用したボトルと同じ形状の単層PE
Tボトルを成形し、それとの透明度を比較した。なるべ
く層厚さの同じ場所からサンプリングを行い、波長40
0nmから700nmまでの光透過率を島津(株)製U
V−160を使用して測定した。 PETに対する比透明度(%)=[実施例、比較例ボト
ルの400〜700nmの光透過率積分]÷[単層PE
Tボトルの400〜700nmの光透過率積分]×10
04) Relative transparency to PET Single-layer PE having the same shape as the bottle used in Examples and Comparative Examples
A T bottle was molded and its transparency was compared. Sampling should be performed from the same layer thickness as much as possible, and a wavelength of 40
The light transmittance from 0 nm to 700 nm is measured by U (manufactured by Shimadzu Corporation).
It measured using V-160. Specific transparency with respect to PET (%) = [Integration of light transmittance of 400-700 nm bottles of Examples and Comparative Examples] ÷ [Single-layer PE
Integration of light transmittance at 400 to 700 nm of T bottle] × 10
0
【0041】[0041]
【表1】 [Table 1]
【0042】[0042]
【発明の効果】本発明のガスバリア性プラスチックボト
ルは、従来の単層PETボトルをを使用し、内表面と外
表面の少なくとも一方に有機質または/および無機質の
バリア性薄膜コーティングまたは不活性ガスプラズマま
たは反応性ガスプラズマによる表面処理によりバリア性
表面層を形成させた極めて高い酸素バリア性及び炭酸ガ
スを有するビールボトルを提供するものである。また、
本発明は、反応容器及び排気装置を必要とせず、開放系
の大気圧状態で円筒状プラズマを発生させる装置を提供
し、これにより開放系において飲料用プラスチックボト
ルの内表面または外表面に高速でバリア性薄膜コーティ
ングを可能とし、従来の低圧グロー放電プラズマ装置の
ような高真空装置、複雑な周辺機器が不要である、工業
的な製造設備を考える場合、装置コストだけではなく、
生産速度にも非常に優れている。そのため、今後、工業
化において用途展開が大いに期待される。According to the gas barrier plastic bottle of the present invention, a conventional single-layer PET bottle is used, and at least one of the inner surface and the outer surface has an organic or / and inorganic barrier thin film coating or an inert gas plasma or An object of the present invention is to provide a beer bottle having an extremely high oxygen barrier property and a carbon dioxide gas in which a barrier surface layer is formed by a surface treatment using reactive gas plasma. Also,
The present invention provides an apparatus for generating a cylindrical plasma in an open system at atmospheric pressure without the need for a reaction vessel and an exhaust device, whereby an inner surface or an outer surface of a plastic bottle for beverages can be formed at a high speed in an open system. When considering industrial manufacturing equipment that enables barrier thin film coating and does not require high vacuum equipment such as conventional low pressure glow discharge plasma equipment and complicated peripheral equipment, not only equipment cost,
The production speed is also very good. Therefore, application development is expected in industrialization in the future.
【図1】プラスチックボトル外面コーティング装置の概
要。FIG. 1 is an outline of a plastic bottle outer surface coating apparatus.
【図2】プラスチックボトル内面コーティング装置の概
要。FIG. 2 is an outline of a plastic bottle inner surface coating apparatus.
1 プラスチックボトル 2 外側導体 3 中心導体 4 絶縁支持体 5 交流電源 6 放電空間 7 流量制御器 8 ガスボンベ 9 ガスボンベ 10 蒸発器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plastic bottle 2 Outer conductor 3 Center conductor 4 Insulating support 5 AC power supply 6 Discharge space 7 Flow controller 8 Gas cylinder 9 Gas cylinder 10 Evaporator
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大西 健介 東京都千代田区飯田橋3丁目6番5号 昭 和アルミニウム缶株式会社内 Fターム(参考) 3E033 AA01 BA13 BB08 CA03 CA14 CA16 DB01 DD05 EA10 GA02 4F073 AA16 AA17 BA24 BB03 CA01 CA02 CA65 CA70 CA72 HA01 HA09 HA11 HA12 4K030 AA04 AA06 AA09 AA11 AA13 AA16 BA01 BA02 BA18 BA28 BA29 BA35 BA40 BA44 BA46 BA61 CA07 CA11 FA01 JA09 LA01 LA24 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kensuke Onishi 3-6-5 Iidabashi, Chiyoda-ku, Tokyo Showa Aluminum Can Co., Ltd. F-term (reference) 3E033 AA01 BA13 BB08 CA03 CA14 CA16 DB01 DD05 EA10 GA02 4F073 AA16 AA17 BA24 BB03 CA01 CA02 CA65 CA70 CA72 HA01 HA09 HA11 HA12 4K030 AA04 AA06 AA09 AA11 AA13 AA16 BA01 BA02 BA18 BA28 BA29 BA35 BA40 BA44 BA46 BA61 CA07 CA11 FA01 JA09 LA01 LA24
Claims (7)
ックボトルの外表面及び内表面の少なくとも一方に、コ
ーティングまたは表面処理をしたことを特徴とするバリ
ア性プラスチックボトル。1. A barrier plastic bottle, wherein at least one of an outer surface and an inner surface of the plastic bottle is coated or surface-treated using atmospheric pressure low-temperature plasma.
の少なくとも一方に有機質または/および無機質の薄膜
コーティングをした請求項1に記載のバリア性プラスチ
ックボトル。2. The barrier plastic bottle according to claim 1, wherein at least one of the outer surface and the inner surface of the plastic bottle is coated with an organic or / and inorganic thin film.
膜である時は炭化水素ポリマー、フッ素含有ポリマー、
窒素含有ポリマーから成るプラズマ重合薄膜であり、無
機質の薄膜である時は炭化水素化合物薄膜(DLC:ダ
イアモンドライクカーボン)、シリコン化合物薄膜、金
属化合物薄膜であるプラズマ薄膜コーティングである請
求項1または2に記載のバリア性プラスチックボトル。3. In a thin film coating, when it is an organic thin film, a hydrocarbon polymer, a fluorine-containing polymer,
3. A plasma thin-film coating comprising a nitrogen-containing polymer, wherein the inorganic thin film is a plasma thin-film coating comprising a hydrocarbon compound thin film (DLC: diamond-like carbon), a silicon compound thin film, or a metal compound thin film. A barrier plastic bottle as described.
の少なくとも一方を不活性ガスプラズマまたは反応性ガ
スプラズマによる表面処理により不活性表面層を形成さ
せた請求項1に記載のバリア性プラスチックボトル。4. The barrier plastic bottle according to claim 1, wherein at least one of the outer surface and the inner surface of the plastic bottle has a surface treated with inert gas plasma or reactive gas plasma to form an inert surface layer.
ックボトルの外表面及び内表面の少なくとも一方に薄膜
をコーティングまたは表面処理により表面層を形成させ
ることを特徴とするバリア性プラスチックボトルの製造
方法。5. A method for producing a barrier plastic bottle, characterized in that at least one of an outer surface and an inner surface of a plastic bottle is coated with a thin film or a surface layer is formed by surface treatment by an atmospheric pressure low temperature plasma method.
に際し、不活性ガスをメインガスとして発生させた大気
圧グロー放電ビームプラズマに、有機質および/または
無機質の薄膜コーティング層を形成することができる原
料をガス状で供給して、プラスチックボトルの外表面及
び内表面の少なくとも一方に薄膜コーティングすること
を特徴とする請求項5に記載のバリア性プラスチックボ
トルの製造方法。6. An atmospheric pressure glow discharge beam plasma generated by using an inert gas as a main gas at the time of atmospheric pressure low temperature plasma coating, using a raw material capable of forming an organic and / or inorganic thin film coating layer as a gas. The method for producing a barrier plastic bottle according to claim 5, wherein the plastic bottle is supplied in a form and at least one of an outer surface and an inner surface of the plastic bottle is coated with a thin film.
し、不活性ガスをメインガスとして発生させた大気圧グ
ロー放電ビームプラズマおよび/または反応性ガスを用
い、プラスチックボトルの外表面及び内表面の少なくと
も一方にバリア性の表面改質層(不活性表面層)を形成
させることを特徴とする請求項5に記載のバリア性プラ
スチックボトルの製造方法。7. At least one of an outer surface and an inner surface of a plastic bottle is subjected to an atmospheric pressure low temperature plasma surface treatment using an atmospheric pressure glow discharge beam plasma generated by using an inert gas as a main gas and / or a reactive gas. 6. The method for producing a barrier plastic bottle according to claim 5, wherein a barrier surface modified layer (inactive surface layer) is formed on one side.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34297399A JP2001158415A (en) | 1999-12-02 | 1999-12-02 | Plastic bottle for atmospheric low temperature plasma treatment and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34297399A JP2001158415A (en) | 1999-12-02 | 1999-12-02 | Plastic bottle for atmospheric low temperature plasma treatment and its manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001158415A true JP2001158415A (en) | 2001-06-12 |
Family
ID=18357952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34297399A Pending JP2001158415A (en) | 1999-12-02 | 1999-12-02 | Plastic bottle for atmospheric low temperature plasma treatment and its manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001158415A (en) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005264175A (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Toppan Printing Co Ltd | Three-dimensional container manufacturing method and plasma processing apparatus |
JP2006503406A (en) * | 2002-09-30 | 2006-01-26 | フジ フォト フィルム ビー.ブイ. | Method and apparatus for generating atmospheric pressure glow discharge plasma |
JP2006176865A (en) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Utec:Kk | DLC film or SiO2 film, container and CVD film forming apparatus |
JP2007084843A (en) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Konica Minolta Holdings Inc | Thin film deposition method and article manufactured by the same |
JP2007327089A (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Kirin Brewery Co Ltd | Coated plastic products and coatings |
JP2009167323A (en) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Osaka Prefecture Univ | Surface-coated resin substrate, method for producing the same, and apparatus for producing the same |
JP2010070615A (en) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Univ Of Tsukuba | Crosslinked polymer composition for surface treatment of support |
US20130164537A1 (en) * | 2011-12-21 | 2013-06-27 | Gwangju Institute Of Science And Technology | Method for modifying surface of hydrophobic polymer film and surface-modified hydrophobic polymer film |
JP2013220987A (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-28 | Mitsuba Corp | Carbon film, polymer product, method for manufacturing carbon film coated material, method of forming film, and film forming device |
JP2014231635A (en) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 株式会社吉野工業所 | Vapor deposition container |
US11467356B2 (en) | 2019-10-09 | 2022-10-11 | Corning Research & Development Corporation | Retained adhesion of a cable-connector using a plasma process |
-
1999
- 1999-12-02 JP JP34297399A patent/JP2001158415A/en active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006503406A (en) * | 2002-09-30 | 2006-01-26 | フジ フォト フィルム ビー.ブイ. | Method and apparatus for generating atmospheric pressure glow discharge plasma |
JP4921710B2 (en) * | 2002-09-30 | 2012-04-25 | フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー.ブイ. | Method for generating atmospheric pressure glow discharge plasma |
JP2005264175A (en) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Toppan Printing Co Ltd | Three-dimensional container manufacturing method and plasma processing apparatus |
JP2006176865A (en) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Utec:Kk | DLC film or SiO2 film, container and CVD film forming apparatus |
JP2007084843A (en) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Konica Minolta Holdings Inc | Thin film deposition method and article manufactured by the same |
JP2007327089A (en) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Kirin Brewery Co Ltd | Coated plastic products and coatings |
JP2009167323A (en) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Osaka Prefecture Univ | Surface-coated resin substrate, method for producing the same, and apparatus for producing the same |
JP2010070615A (en) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Univ Of Tsukuba | Crosslinked polymer composition for surface treatment of support |
US20130164537A1 (en) * | 2011-12-21 | 2013-06-27 | Gwangju Institute Of Science And Technology | Method for modifying surface of hydrophobic polymer film and surface-modified hydrophobic polymer film |
JP2013220987A (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-28 | Mitsuba Corp | Carbon film, polymer product, method for manufacturing carbon film coated material, method of forming film, and film forming device |
JP2014231635A (en) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 株式会社吉野工業所 | Vapor deposition container |
US11467356B2 (en) | 2019-10-09 | 2022-10-11 | Corning Research & Development Corporation | Retained adhesion of a cable-connector using a plasma process |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU2002308940B2 (en) | Silicon oxide membrane | |
US4667620A (en) | Method and apparatus for making plastic containers having decreased gas permeability | |
AU2006250336B2 (en) | Apparatus for manufacturing gas barrier plastic container, method for manufacturing the container, and the container | |
US6589619B1 (en) | Recycling method | |
CA2822599C (en) | Gas-barrier plastic molded product and manufacturing process therefor | |
US20070281108A1 (en) | Process for Plasma Coating | |
US20030157345A1 (en) | Plasma deposited barrier coating comprising an interface layer, method of obtaining same and container coated therewith | |
US4478874A (en) | Methods for improving the gas barrier properties of polymeric containers | |
JP4545073B2 (en) | Gas barrier membrane and container | |
US20040149225A1 (en) | Process and apparatus for depositing plasma coating onto a container | |
JP2001158415A (en) | Plastic bottle for atmospheric low temperature plasma treatment and its manufacturing method | |
AU2006216352A1 (en) | Vapor deposited film by plasma CVD method | |
US20050003124A1 (en) | Barrier coating | |
JP4877934B2 (en) | Preform for gas barrier plastic container and method for producing gas barrier plastic container | |
JP3993971B2 (en) | Plastic container having gas barrier coating layer and method for producing the same | |
JP2003236976A (en) | Silicon oxide coating film with excellent gas barrier property and packaging body using it | |
JP2008248374A (en) | Barrier membrane-coating base material and deposition method of barrier membrane | |
JP4973081B2 (en) | Method for producing polylactic acid molded product | |
JP2001158976A (en) | Di can treated by atmospheric low-temperature plasma and method for manufacturing the same | |
AU2011236081B2 (en) | Apparatus for manufacturing gas barrier plastic container, method for manufacturing the container, and the container | |
JP2004107689A (en) | Diamond like carbon film deposition method and deposition system | |
JP2001097387A (en) | Di can coated or surface-treated by low-pressure low- temperature plasma, and its manufacturing method | |
JP2003328131A (en) | Silicon oxide film with excellent gas barrier property, and packaging body | |
JP3864126B2 (en) | Inner coated polyester resin container | |
JP4715063B2 (en) | Gas barrier plastic container |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20050609 |