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JP2001126313A - Optical information recording medium and method for producing same - Google Patents

Optical information recording medium and method for producing same

Info

Publication number
JP2001126313A
JP2001126313A JP30014199A JP30014199A JP2001126313A JP 2001126313 A JP2001126313 A JP 2001126313A JP 30014199 A JP30014199 A JP 30014199A JP 30014199 A JP30014199 A JP 30014199A JP 2001126313 A JP2001126313 A JP 2001126313A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protective film
recording medium
layer
optical
optical information
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30014199A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Teruyuki Ota
輝之 太田
Kazutomo Miyata
一智 宮田
Makoto Watanabe
渡辺  誠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP30014199A priority Critical patent/JP2001126313A/en
Publication of JP2001126313A publication Critical patent/JP2001126313A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a carbon protective layer excellent in wear and corrosion resistances and less liable to absorb light. SOLUTION: At least a recording-reproducing layer and a carbon protective film are successively laminated on a substrate to obtain the objective optical information recording medium in which information is recorded and reproduced by irradiation with light from the protective film side. The extinction coefficient of the carbon protective film at 300-500 nm wavelength is <=0.1. The protective film contains hydrogen and has 25-30 at.% hydrogen content. The recording- reproducing layer is, e.g. a magneto-optical recording layer. The carbon protective film is formed by DC sputtering using carbon as a target in an inert gaseous atmosphere containing 10-15% gaseous hydrogen or gaseous hydrocarbon.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体及
びその製造方法に関するものであり、特にカーボン保護
膜の成膜法の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium and a method for manufacturing the same, and more particularly to an improvement in a method for forming a carbon protective film.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、産業機械や各種装置等に含まれ
る数々の摺動性を必要とする部品に対しては、耐摩耗性
や耐熱性、耐蝕性等の特性が要求されている。特に、こ
れら機械や装置の高速化により摺動部品が他の部材に対
して高速に動作するようになるに伴って、この要求は一
層強いものになってきている。
2. Description of the Related Art For example, components requiring a large number of slidable properties, such as industrial machines and various devices, are required to have properties such as wear resistance, heat resistance, and corrosion resistance. In particular, as the speed of these machines and devices has increased, the sliding parts have been operating at higher speeds with respect to other members, this requirement has become even stronger.

【0003】そこで、これらの要求を満たすために、摺
動部品の表面に形成されるセラミックス等の保護膜の開
発が熱心に行われている。
[0003] In order to satisfy these requirements, a protective film made of ceramics or the like formed on the surface of a sliding component has been eagerly developed.

【0004】このことは、ハードディスク装置に含まれ
る磁気ディスクや磁気テープ等の磁気記録媒体、光磁気
ディスクや相変化ディスク等の光情報記録媒体のような
情報記録の分野においても当てはまる。
[0004] This also applies to the field of information recording such as a magnetic recording medium such as a magnetic disk and a magnetic tape included in a hard disk drive, and an optical information recording medium such as a magneto-optical disk and a phase change disk.

【0005】磁気記録媒体は、基板やフィルム上に磁気
記録材料からなる信号記録層等が積層された積層膜が形
成されてなり、信号記録層側から磁気ヘッドにより情報
信号の読み出しや書き込みが行われる。
[0005] The magnetic recording medium has a laminated film in which a signal recording layer made of a magnetic recording material is laminated on a substrate or a film, and a magnetic head reads and writes information signals from the signal recording layer side. Will be

【0006】これらの磁気記録媒体においては、できる
だけ多くの情報を記録可能とすべく高記録密度化が盛ん
に進められている。
In these magnetic recording media, high recording densities have been actively promoted in order to record as much information as possible.

【0007】このような磁気記録媒体の高密度記録化に
伴って、磁気記録媒体に対する浮上型磁気ヘッドの浮上
量が年々減少してきている。そのため、浮上型磁気ヘッ
ドと磁気記録媒体との衝突や接触により磁気記録媒体に
損傷や摩耗を生じる可能性がでてきている。これを防ぐ
ため、磁気記録媒体の最表面には、保護膜としてカーボ
ン保護膜が用いられている。
With the increase in the density of the magnetic recording medium, the flying height of the flying magnetic head with respect to the magnetic recording medium is decreasing year by year. Therefore, there is a possibility that the magnetic recording medium may be damaged or worn due to collision or contact between the flying magnetic head and the magnetic recording medium. To prevent this, a carbon protective film is used as a protective film on the outermost surface of the magnetic recording medium.

【0008】これに対して、光磁気ディスクや相変化型
光ディスク等のように、基板上に信号記録層や誘電体層
等が積層された積層膜が形成され、信号記録層に光が照
射されることにより情報信号の読み出しや書き込みが行
われる光情報記録媒体においても、磁気記録媒体と同様
に、高記録密度化が盛んに研究されている。
On the other hand, a laminated film in which a signal recording layer, a dielectric layer, and the like are laminated on a substrate, such as a magneto-optical disk and a phase change optical disk, is formed, and the signal recording layer is irradiated with light. As with magnetic recording media, high recording densities are also being actively studied in optical information recording media in which information signals are read and written.

【0009】このような光情報記録媒体の高密度記録化
に伴って、光情報記録媒体に対して情報信号の読み出し
や書き込みを行う光学ヘッドに対しても、信号記録層に
照射する光のスポット径を小さくすべく種々の検討が行
われている。
With the increase in the recording density of the optical information recording medium, the optical spot for irradiating the signal recording layer with respect to the optical head for reading and writing the information signal from and to the optical information recording medium is also required. Various studies have been made to reduce the diameter.

【0010】特に、近年では、ハードディスク装置等に
おける浮上型磁気ヘッドの技術を応用し、対物レンズを
スライダに搭載して浮上型光学ヘッドとし、この浮上型
光学ヘッドを光情報記録媒体の基板上に形成された積層
膜と対向するように浮上させて、光情報記録媒体に対し
て積層膜が形成された側から情報信号の読み出しや書き
込みを行う試みがなされている。
In particular, in recent years, the technology of a floating magnetic head in a hard disk device or the like has been applied, and an objective lens is mounted on a slider to form a floating optical head, and the floating optical head is mounted on a substrate of an optical information recording medium. Attempts have been made to read and write information signals from the side where the laminated film is formed on the optical information recording medium by floating so as to face the formed laminated film.

【0011】浮上型光学ヘッドを光情報記録媒体の基板
上に形成された積層膜と対向するように浮上させて情報
信号の読み出しや書き込みを行うことにより、対物レン
ズと光情報記録媒体の信号記録層との距離を、光学ヘッ
ドからの光を基板を介して信号記録層に照射させる場合
に比べて大幅に短くすることが可能となる。これによ
り、対物レンズの高NA化を図ることが可能となり、信
号記録層に照射される光のスポット径を小さくすること
ができる。
The floating type optical head is floated so as to face the laminated film formed on the substrate of the optical information recording medium to read and write information signals, thereby recording the signal between the objective lens and the optical information recording medium. The distance from the layer can be greatly reduced as compared with the case where the light from the optical head is applied to the signal recording layer via the substrate. Accordingly, it is possible to increase the NA of the objective lens, and it is possible to reduce the spot diameter of light applied to the signal recording layer.

【0012】ところで、従来の光学ヘッドからの光を基
板を介して信号記録層に照射させる場合には、対物レン
ズと光情報記録媒体の信号記録層との距離も長く、光学
ヘッドと光情報記録媒体との衝突や接触も問題にはなら
ない。また、仮に光学ヘッドと光情報記録媒体との衝突
や接触が生じた場合においても、光学ヘッドは基板側か
ら対向するように設置されているので、積層膜自体に損
傷や摩耗を生じるということはない。
When the light from the conventional optical head is applied to the signal recording layer through the substrate, the distance between the objective lens and the signal recording layer of the optical information recording medium is long, and the optical head and the optical information recording medium have to be long. Collision or contact with the medium is not a problem. Also, even if the optical head and the optical information recording medium collide or come into contact with each other, since the optical head is installed so as to be opposed from the substrate side, damage or wear to the laminated film itself does not occur. Absent.

【0013】一方、浮上型光学ヘッドを光情報記録媒体
の積層膜と対向するように浮上させて情報信号の読み出
しや書き込みを行う場合、対物レンズと光情報記録媒体
の信号記録層との距離が大幅に短くなるため、浮上型光
学ヘッドと積層膜との衝突や接触により積層膜に損傷や
摩耗を生じるという問題がある。
On the other hand, when reading and writing information signals by floating the flying optical head so as to face the laminated film of the optical information recording medium, the distance between the objective lens and the signal recording layer of the optical information recording medium is increased. Since the length is greatly shortened, there is a problem that the laminated film is damaged or worn due to collision or contact between the floating optical head and the laminated film.

【0014】このため、磁気記録媒体の保護層の技術を
応用して、光情報記録媒体の積層膜の最表面にカーボン
保護膜を用いることが検討されている。
For this reason, it has been studied to use a carbon protective film on the outermost surface of the laminated film of the optical information recording medium by applying the technology of the protective layer of the magnetic recording medium.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
カーボン保護膜は、磁気ヘッドとの衝突や接触に耐え得
るだけの機械的強度は十分に有するものの、光情報記録
媒体への応用を考えた場合には、浮上型光学ヘッドから
照射される光に対する透過性という点で不満を残してい
る。
However, although the conventional carbon protective film has sufficient mechanical strength to withstand collision or contact with the magnetic head, it is not suitable for optical information recording media. Are dissatisfied with respect to the transmittance of light emitted from the floating optical head.

【0016】特に、より一層の高記録密度化を狙って記
録再生光を短波長化すると、光透過性は急激に低下し、
前記光透過性の不足が顕著な問題となる。
In particular, when the wavelength of the recording / reproducing light is shortened in order to further increase the recording density, the light transmittance sharply decreases,
The lack of light transmittance is a significant problem.

【0017】そこで、本発明は、耐摩耗性や耐蝕性に優
れ、且つ光の吸収の少ないカーボン保護層を実現し、こ
れにより高記録密度化に対応し得る光情報記録媒体を提
供することを目的とする。さらには、前記のような光の
吸収の少ないカーボン保護膜を成膜する技術を提供し、
高記録密度化に対応し得る光情報記録媒体の製造方法を
提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention is to provide an optical information recording medium which realizes a carbon protective layer which is excellent in abrasion resistance and corrosion resistance and has little light absorption, and which can cope with high recording density. Aim. Furthermore, the present invention provides a technique for forming a carbon protective film having less light absorption as described above,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical information recording medium that can cope with high recording density.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光情報記録媒体は、基板上に少なくとも
記録再生層及びカーボン保護膜が順次積層されてなり、
カーボン保護膜側から光を照射して情報の記録及び/又
は再生を行う光情報記録媒体において、上記カーボン保
護膜は、波長300nm〜500nmにおける消光係数
が0.1以下であることを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, an optical information recording medium of the present invention comprises at least a recording / reproducing layer and a carbon protective film sequentially laminated on a substrate,
In an optical information recording medium for recording and / or reproducing information by irradiating light from the carbon protective film side, the carbon protective film has an extinction coefficient at a wavelength of 300 nm to 500 nm of 0.1 or less. Things.

【0019】また、本発明の製造方法は、基板上に少な
くとも記録再生層及びカーボン保護膜を順次成膜する光
情報記録媒体の製造方法において、上記カーボン保護膜
は、水素ガス及び/又は炭化水素ガスを含む不活性ガス
雰囲気中でカーボンをターゲットとする直流(DC)ス
パッタリングにより成膜することを特徴とするものであ
る。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, there is provided a method for manufacturing an optical information recording medium in which at least a recording / reproducing layer and a carbon protective film are sequentially formed on a substrate. A film is formed by direct current (DC) sputtering using carbon as a target in an inert gas atmosphere containing a gas.

【0020】カーボン保護膜を成膜する際に、直流スパ
ッタリングを採用し、不活性ガス雰囲気中に含まれる水
素ガスや炭化水素ガスの割合を適正な値に設定すること
で、短波長域においても消光係数の小さな光透過性に優
れた膜となる。
When a carbon protective film is formed, direct current sputtering is adopted, and the ratio of hydrogen gas or hydrocarbon gas contained in an inert gas atmosphere is set to an appropriate value, so that it can be used even in a short wavelength region. A film with a small extinction coefficient and excellent light transmittance is obtained.

【0021】具体的には、カーボン保護膜の波長300
nm〜500nmにおける消光係数を0.1以下とする
ことができる。このような光透過性はこれまで実現され
たことのないものである。
Specifically, the wavelength of the carbon protective film is 300
The extinction coefficient at nm to 500 nm can be 0.1 or less. Such light transmission has never been realized before.

【0022】かかるカーボン保護膜を有する光情報記録
媒体においては、カーボン保護膜側から光を照射して記
録や再生を行う際に、カーボン保護膜が悪影響を及ぼす
ことがなく、したがって信号特性を損なうことなく耐摩
耗性が改善される。
In an optical information recording medium having such a carbon protective film, when recording or reproduction is performed by irradiating light from the carbon protective film side, the carbon protective film does not adversely affect the signal characteristics, thus impairing signal characteristics. The abrasion resistance is improved without.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した光情報記
録媒体及び光情報記録媒体の製造方法について、図面を
参照して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an optical information recording medium to which the present invention is applied and a method for manufacturing the optical information recording medium will be described with reference to the drawings.

【0024】ここでは、樹脂材料がディスク状に成形さ
れてなるディスク基板上に光磁気記録層を含む複数の層
が形成されてなる光磁気ディスクに本発明を適用した例
について説明する。なお、本発明は、この例に限定され
るものではなく、例えば、相変化を利用して信号の記録
再生を行う相変化型ディスク等、記録方式の異なる他の
光情報記録媒体に適用することも可能である。
Here, an example in which the present invention is applied to a magneto-optical disk in which a plurality of layers including a magneto-optical recording layer are formed on a disk substrate formed of a resin material and formed into a disk shape will be described. The present invention is not limited to this example. For example, the present invention is applicable to other optical information recording media having different recording methods, such as a phase change type disc that records and reproduces a signal using a phase change. Is also possible.

【0025】本発明を適用した光磁気ディスクは、例え
ば浮上型光学ヘッドのように、信号記録層に近い位置に
ある光学ヘッドにより、信号記録層側(ディスク基板と
は反対側)から光が照射されることにより情報信号の読
み出しや書き込みが行われるタイプの光磁気ディスクで
ある。
A magneto-optical disk to which the present invention is applied is irradiated with light from the signal recording layer side (the side opposite to the disk substrate) by an optical head close to the signal recording layer, for example, a floating optical head. This is a type of magneto-optical disk in which reading and writing of information signals are carried out.

【0026】この光磁気ディスク1は、図1に示すよう
に、ディスク基板2上の表面を逆スパッタした後、下地
層3と、熱拡散層4と、第2誘電体層5と、光磁気記録
層6と、第1誘電体層7と、カーボン保護膜8とがこの
順で積層されてなる。
As shown in FIG. 1, the magneto-optical disk 1 has a surface on a disk substrate 2 reversely sputtered, and then a base layer 3, a thermal diffusion layer 4, a second dielectric layer 5, and a magneto-optical disk. The recording layer 6, the first dielectric layer 7, and the carbon protective film 8 are laminated in this order.

【0027】さらに、この光磁気ディスク1において
は、第1誘電体層7は、誘電体層7Aと誘電体保護層7
Bとの2層膜により形成されることが望ましい。また、
第2誘電体層5は、例えば磁気的超解像を用いている場
合のような記録膜が光学的に充分に厚い光磁気ディスク
の場合には、寧ろ無い方がよい場合もある。
Further, in the magneto-optical disk 1, the first dielectric layer 7 includes the dielectric layer 7A and the dielectric protection layer 7A.
It is desirably formed of a two-layer film of B and B. Also,
In the case of a magneto-optical disk whose recording film is optically sufficiently thick, as in the case of using magnetic super-resolution, for example, the second dielectric layer 5 may be better not provided.

【0028】ディスク基板2は、例えばゼオネクス、ポ
リカーボネート等の樹脂材料が射出成形等の手法により
ディスク状に成形されてなる。
The disk substrate 2 is formed by molding a resin material such as ZEONEX or polycarbonate into a disk shape by a technique such as injection molding.

【0029】ディスク基板2は、記録膜各層が成膜され
る前に、その表面を逆スパッタされる。この逆スパッタ
は、ディスク基板2と下地層3との密着性を向上させる
働きがある。
The surface of the disk substrate 2 is reverse-sputtered before each layer of the recording film is formed. This reverse sputtering has a function of improving the adhesion between the disk substrate 2 and the underlayer 3.

【0030】下地層3は、ディスク基板2からの水分が
熱拡散層4あるいは第2誘電体層5、光磁気記録層6へ
到達することを抑えることにより、ディスクの腐食を低
減させるためのものであり、例えば、厚さ10nm程度
のSiO2 、SiNが成膜されてなる。
The underlayer 3 serves to reduce the corrosion of the disk by suppressing the moisture from the disk substrate 2 from reaching the thermal diffusion layer 4 or the second dielectric layer 5 and the magneto-optical recording layer 6. For example, a film of SiO 2 or SiN having a thickness of about 10 nm is formed.

【0031】熱拡散層4は、光磁気記録層6に光が照射
されることにより発生する熱を拡散することにより、光
磁気記録層6の記録マークの大きさをコントロールし、
記録再生特性を良好なものとするためのものであり、例
えば、厚さ40nm程度のAlが成膜されてなる。
The thermal diffusion layer 4 controls the size of the recording mark of the magneto-optical recording layer 6 by diffusing the heat generated by irradiating the magneto-optical recording layer 6 with light.
This is for improving the recording / reproducing characteristics. For example, an Al film having a thickness of about 40 nm is formed.

【0032】光磁気記録層6は、光磁気効果を発揮する
層であり、例えば、希土類としてTb、遷移金属として
Fe、Coを用いたTbFeCo膜等が20nm程度の
膜厚で熱拡散層4上に成膜されてなる。なお、熱拡散層
4と光磁気記録層6との間には、光学的エンハンスメン
トの効果を狙ったSiN等よりなる厚さ20nm程度の
第2誘電体層5を介してもよい。
The magneto-optical recording layer 6 is a layer exhibiting a magneto-optical effect. For example, a TbFeCo film using Tb as a rare earth element and Fe or Co as a transition metal is formed on the thermal diffusion layer 4 to a thickness of about 20 nm. It is formed into a film. Note that a second dielectric layer 5 made of SiN or the like and having a thickness of about 20 nm for the purpose of optical enhancement may be interposed between the thermal diffusion layer 4 and the magneto-optical recording layer 6.

【0033】第1誘電体層7を構成する誘電体層7A
は、光磁気ディスク1の光学的な効率の向上を図るため
のものであり、例えば、SiNが30nm程度の膜厚で
光磁気記録層6上に成膜され、さらにその上に誘電体保
護層7BであるZnS・SiO2 が60nm程度の膜厚
で成膜される。このように、第1誘電体層7を誘電体層
7A(SiN)と誘電体保護層7B(ZnS・Si
2 )との2層膜により構成することにより、SiN単
層により第1誘電体層7を構成する場合よりも、膜厚を
薄くすることができ、応力を低減させる効果がある。ま
た、膜厚を薄くすることにより、タクトを向上させる効
果も併せ持っている。
The dielectric layer 7A constituting the first dielectric layer 7
Is for improving the optical efficiency of the magneto-optical disk 1. For example, SiN is formed on the magneto-optical recording layer 6 to a thickness of about 30 nm, and a dielectric protection layer is further formed thereon. ZnS.SiO 2 of 7B is formed to a thickness of about 60 nm. As described above, the first dielectric layer 7 is formed by the dielectric layer 7A (SiN) and the dielectric protection layer 7B (ZnS.Si).
By using a two-layer film of O 2 ), the thickness can be made smaller than in the case where the first dielectric layer 7 is made of a single SiN layer, and there is an effect of reducing stress. Further, by reducing the film thickness, there is also an effect of improving tact.

【0034】カーボン保護膜8は、浮上型光学ヘッドと
の衝突や接触の際の光磁気ディスク1の損傷や摩耗に対
する耐性の向上を図るためのものであり、カーボンが1
0nm程度の膜厚で誘電体保護層7B上に成膜されてな
る。
The carbon protective film 8 is for improving the resistance to damage and abrasion of the magneto-optical disk 1 at the time of collision or contact with the flying optical head.
It is formed on the dielectric protection layer 7B with a thickness of about 0 nm.

【0035】そして、本発明の光磁気ディスク1におい
ては、カーボン保護膜8は、波長300nm〜500n
mにおける消光係数を0.1以下である。
In the magneto-optical disk 1 of the present invention, the carbon protective film 8 has a wavelength of 300 nm to 500 nm.
The extinction coefficient at m is 0.1 or less.

【0036】かかるカーボン保護膜8を設けることによ
り、浮上型光学ヘッドとの衝突や接触の際の光磁気ディ
スク1の損傷や摩耗を抑制することができるばかりでな
く、カーボン保護膜8の光の吸収も少ないことから光磁
気ディスク1の信号特性も同時に改善することができ
る。したがって、例えば波長300nm〜500nmの
光を記録再生光に用いることもできる。
By providing such a carbon protective film 8, not only the damage and wear of the magneto-optical disk 1 at the time of collision or contact with the flying optical head can be suppressed, but also the light of the carbon protective film 8 can be suppressed. Since the absorption is small, the signal characteristics of the magneto-optical disk 1 can be improved at the same time. Therefore, for example, light having a wavelength of 300 nm to 500 nm can be used as the recording / reproducing light.

【0037】上記カーボン保護膜8には、水素が含まれ
るが、その含有量は25〜30原子%であることが好ま
しい。水素の含有量が30原子%を越えると、硬度が急
激に低下し、また消光係数も急激に大きくなる。逆に、
水素の含有量が25原子%未満になると、再び消光係数
が激増し、不活性ガス雰囲気における水素ガス及び炭化
水素ガス流量比が0%において消光係数は最も大きくな
る。
The carbon protective film 8 contains hydrogen, and its content is preferably 25 to 30 atomic%. If the content of hydrogen exceeds 30 atomic%, the hardness decreases rapidly and the extinction coefficient also increases rapidly. vice versa,
When the content of hydrogen is less than 25 atomic%, the extinction coefficient sharply increases again, and becomes the largest when the flow ratio of hydrogen gas and hydrocarbon gas in the inert gas atmosphere is 0%.

【0038】上記のようなカーボン保護膜8は、雰囲気
コントロールした直流(DC)スパッタリングにより形
成することができる。
The carbon protective film 8 as described above can be formed by direct current (DC) sputtering with controlled atmosphere.

【0039】すなわち、水素ガスや炭化水素ガスを含む
不活性ガス雰囲気中で直流スパッタリングすることによ
り形成することができる。
That is, it can be formed by DC sputtering in an inert gas atmosphere containing hydrogen gas or hydrocarbon gas.

【0040】このとき、キャリアガス(不活性ガス)と
しては、例えば、Arガス、Neガス、Xeガス、Kr
ガス等の不活性ガスを用いることができる。
At this time, examples of the carrier gas (inert gas) include Ar gas, Ne gas, Xe gas, and Kr gas.
An inert gas such as a gas can be used.

【0041】また、炭化水素ガスとしては、メタン、エ
チレン、アセチレン、プロパン等の炭化水素ガスを用い
ることができる。さらに、水素ガスと炭化水素ガスの混
合ガスを用いることも可能である。
As the hydrocarbon gas, a hydrocarbon gas such as methane, ethylene, acetylene, and propane can be used. Furthermore, it is also possible to use a mixed gas of hydrogen gas and hydrocarbon gas.

【0042】成膜に際しては、不活性ガス雰囲気中の水
素ガスあるいは炭化水素ガスの割合を適正に設定する必
要があり、不活性ガス雰囲気における水素ガス、炭化水
素ガスの流量比を10〜15%とする。
At the time of film formation, the ratio of hydrogen gas or hydrocarbon gas in the inert gas atmosphere needs to be properly set, and the flow rate ratio of the hydrogen gas and the hydrocarbon gas in the inert gas atmosphere is 10 to 15%. And

【0043】これらの条件を満たすことによって、これ
までにない光透過性に優れたカーボン保護膜が実現され
る。
By satisfying these conditions, it is possible to realize a carbon protective film having an unprecedented light transmittance.

【0044】例えば、高周波(RF)スパッタリングで
は、水素や炭化水素の比率を10〜15%としても、波
長300nm〜500nmにおける消光係数を0.1以
下とすることはできない。RFスパッタリングでは、水
素ガスの比率を高める方向で消光係数の低下が見られる
が、この場合には硬度の低下を招き、しかも、水素ガス
の比率を高めても波長300nm〜500nmの全域に
おいて消光係数を0.1以下とすることはできない。
For example, in high frequency (RF) sputtering, the extinction coefficient at a wavelength of 300 nm to 500 nm cannot be made 0.1 or less even if the ratio of hydrogen or hydrocarbon is 10 to 15%. In RF sputtering, a decrease in the extinction coefficient is observed in the direction of increasing the ratio of the hydrogen gas. In this case, however, the hardness is reduced. Cannot be less than 0.1.

【0045】直流スパッタリングでは、特定の水素ガス
の比率において光透過性が急激に向上し、硬度も高いレ
ベルに維持される。
In DC sputtering, the light transmittance is sharply improved at a specific hydrogen gas ratio, and the hardness is maintained at a high level.

【0046】以上のディスク基板2上に形成される各層
は、これらの各層を構成する材料が例えばスパッタリン
グ等の薄膜形成方法により、ディスク基板2上に順次成
膜されることにより形成される。
Each of the layers formed on the disk substrate 2 is formed by sequentially forming the materials constituting these layers on the disk substrate 2 by a thin film forming method such as sputtering.

【0047】なお、光磁気ディスク1の各層の材料およ
び膜厚は、この例に限定されるものではない。
The material and thickness of each layer of the magneto-optical disk 1 are not limited to this example.

【0048】例えば、光磁気ディスク1の熱拡散層4の
材料としては、Alの他に例えばAlTiやAlMg、
AlSi、AgPdCu等を用いるようにしてもよい。
熱拡散層4の膜厚は、以上の例に限定されるものではな
いが、23〜50nm程度とされていることが望まし
い。
For example, as a material of the thermal diffusion layer 4 of the magneto-optical disk 1, in addition to Al, for example, AlTi, AlMg,
AlSi, AgPdCu or the like may be used.
The thickness of the thermal diffusion layer 4 is not limited to the above example, but is desirably about 23 to 50 nm.

【0049】また、第2誘電体層5の材料としては、S
iNの他に、例えば、ZnS・SiO2 やSiO2 等を
用いるようにしてもよいし、もちろん無くても構わな
い。
The material of the second dielectric layer 5 is S
In addition to iN, for example, ZnS.SiO 2 , SiO 2, or the like may be used, or may be omitted.

【0050】光磁気記録層6の材料としては、TbFe
Coの他に、例えばTbFeCoにCrやNi等の添加
物を加えたものや、DyFeCo、GdFeCo等、あ
るいはこれらの合金膜を用いるようにしてもよい。ま
た、光磁気記録層6の膜厚は以上の例に限定されるもの
ではないが、15〜120nm程度とされていることが
望ましい。また、この光磁気記録層6は、合金ターゲッ
トを用いたスパッタリングにより形成する以外に、T
b、Dy、Gd、Fe、Co、FeCo等の各ターゲッ
トを用いた同時スパッタリングにより形成するようにし
てもよい。
The material of the magneto-optical recording layer 6 is TbFe
In addition to Co, for example, a material obtained by adding an additive such as Cr or Ni to TbFeCo, DyFeCo, GdFeCo, or an alloy film thereof may be used. Further, the thickness of the magneto-optical recording layer 6 is not limited to the above example, but is desirably about 15 to 120 nm. The magneto-optical recording layer 6 is formed by sputtering using an alloy target.
It may be formed by simultaneous sputtering using targets such as b, Dy, Gd, Fe, Co, and FeCo.

【0051】さらに、この光磁気記録層6は、異なる性
質の複数の光磁気記録膜からなる多層膜、あるいは、光
磁気記録膜以外との多層膜とし、磁気的超解像や磁区拡
大再生を行うようなものでもよい。
Further, the magneto-optical recording layer 6 is a multilayer film composed of a plurality of magneto-optical recording films having different properties or a multilayer film other than the magneto-optical recording film to perform magnetic super-resolution and magnetic domain expansion reproduction. What you do may be.

【0052】また、第1誘電体層7を構成する誘電体層
7Aの膜厚は、以上の例に限定されるものではないが、
10〜30nm程度とされていることが望ましい。
The thickness of the dielectric layer 7A constituting the first dielectric layer 7 is not limited to the above example.
It is desirable that the thickness be about 10 to 30 nm.

【0053】上記各層を形成する際のスパッタリングの
電源は、カーボン保護膜8を除き直流電源、高周波電源
のどちらでもよい。
The power source for sputtering for forming each of the above layers may be either a DC power source or a high frequency power source except for the carbon protective film 8.

【0054】[0054]

【実施例】以下、本発明を具体的な実験例に基づいて説
明する。
The present invention will be described below with reference to specific experimental examples.

【0055】実験1 本実験では、カーボン保護膜を、直流スパッタリング及
び高周波スパッタリングのそれぞれにおいてArガスと
水素ガスの流量比を振って作製し、形成されるカーボン
保護膜の消光係散kの波長依存性を調べた。
Experiment 1 In this experiment, a carbon protective film was prepared by varying the flow ratio of Ar gas and hydrogen gas in each of DC sputtering and high frequency sputtering, and the wavelength dependence of the extinction dispersion k of the formed carbon protective film was determined. The sex was examined.

【0056】先ず、真空チャンバー内にカーボンターゲ
ットを設置した。そして、この真空チャンバー内にSi
基板を収容して、1×10-5Paまで真空引きをした
後、Arガスに加えて水素ガスを真空チャンバー内に導
入し、ガス圧を0.5Pa程度に設定した。そして、1
kWの直流電力あるいは高周波電力を印加してカーボン
ターゲットによる直流スパッタリング及び高周波スパッ
タリングを行って、厚さ200nm程度のカーボン保護
膜を形成した。
First, a carbon target was set in a vacuum chamber. And, in this vacuum chamber, Si
After accommodating the substrate and evacuating to 1 × 10 −5 Pa, hydrogen gas was introduced into the vacuum chamber in addition to Ar gas, and the gas pressure was set to about 0.5 Pa. And 1
DC power or high-frequency power of kW was applied to perform DC sputtering and high-frequency sputtering with a carbon target to form a carbon protective film having a thickness of about 200 nm.

【0057】直流スパッタリングにより作製されたカー
ボン保護膜の消光係散kの測定結果を図2に、高周波ス
パッタリングにより作製されたカーボン保護膜の消光係
散kの測定結果を図3に示す。消光係散は、波長300
nm〜600nmの光を中心に測定した。
FIG. 2 shows the result of measurement of the extinction coefficient k of the carbon protective film produced by DC sputtering, and FIG. 3 shows the result of measurement of the extinction coefficient k of the carbon protective film produced by high frequency sputtering. Extinction extinction is 300 wavelength
The measurement was performed centering on light of nm to 600 nm.

【0058】これらの図を比較すると明らかなように、
直流スパッタリングにより作製されたカーボン保護膜
は、適切なArガスと水素ガスの流量比において、光の
吸収が極めて少ないということがわかる。
As is clear from comparison of these figures,
It can be seen that the carbon protective film produced by direct-current sputtering has extremely low light absorption at an appropriate flow ratio of Ar gas and hydrogen gas.

【0059】また、図4に直流スパッタリングにより作
製されたカーボン保護膜中の水素含有量分析結果を示
す。水素ガス流量比が増加するのに伴ってカーボン保護
膜中の水素含有量も増加しており、上記適切な水素ガス
流量比(10〜15%)では、カーボン保護膜中の水素
含有量は25〜30原子%となる。
FIG. 4 shows the results of analyzing the hydrogen content in the carbon protective film formed by DC sputtering. As the hydrogen gas flow ratio increases, the hydrogen content in the carbon protective film also increases. At the appropriate hydrogen gas flow ratio (10 to 15%), the hydrogen content in the carbon protective film becomes 25%. -30 atomic%.

【0060】実験2 本実験では、本発明を適用した例として、カーボン保護
膜を水素ガスを含む不活性ガス(Arガス)雰囲気中で
の直流スパッタリングにより形成した光磁気ディスクを
作製し、光磁気ディスクの信号特性を測定した。
Experiment 2 In this experiment, as an example to which the present invention was applied, a magneto-optical disk in which a carbon protective film was formed by DC sputtering in an inert gas (Ar gas) atmosphere containing hydrogen gas was produced, and a magneto-optical disk was produced. The signal characteristics of the disk were measured.

【0061】先ず、真空チャンバー内にゼオネクスより
なるディスク基板をセットした。この真空チャンバーに
0.2〜0.8Pa程度のガス圧でArガスを導入し、
ディスク基板の逆スパッタを行った。
First, a disk substrate made of Zeonex was set in a vacuum chamber. Ar gas is introduced into the vacuum chamber at a gas pressure of about 0.2 to 0.8 Pa,
Reverse sputtering of the disk substrate was performed.

【0062】次に、真空チャンバー内にSiO2 ターゲ
ットを設置した。そして、この真空チャンバー内に逆ス
パッタを行ったディスク基板を収容し、0.2〜0.8
Pa程度のガス圧でArガスを導入し、SiO2ターゲ
ットによるスパッタリングを行って厚さ10nm程度の
SiO2 膜よりなる下地層を形成した。
Next, an SiO 2 target was set in the vacuum chamber. Then, the disk substrate subjected to reverse sputtering is accommodated in this vacuum chamber, and 0.2 to 0.8
Ar gas was introduced at a Pa of about gas pressure, to form a base layer made of about 10nm in thickness of the SiO 2 film by performing a sputtering by SiO2 target.

【0063】続いて、真空チャンバー内にAlMgター
ゲットを設置した。そして、この真空チャンバー内に下
地層が成膜されたディスク基板を収容した後、真空チャ
ンバー内に0.2〜0.8Pa程度のガス圧でArガス
を導入し、AlMgターゲットによるスパッタリングを
行って厚さ40nm程度のAlMg膜よりなる熱拡徴層
を形成した。
Subsequently, an AlMg target was set in the vacuum chamber. Then, after accommodating the disk substrate on which the underlayer is formed in the vacuum chamber, Ar gas is introduced into the vacuum chamber at a gas pressure of about 0.2 to 0.8 Pa, and sputtering is performed using an AlMg target. A heat spreading layer made of an AlMg film having a thickness of about 40 nm was formed.

【0064】次に、真空チャンバ内にSiターゲットを
設置した。そして、この真空チャンバー内に下地層と熱
拡散層が形成されたディスク基板を収容して、Arガス
に加えてN2 ガスを導入し、ガス圧を0.1〜0.7P
a程度に設定した後、Siターゲットによる反応性スパ
ッタリングを行って厚さ20nm程度のSiNよりなる
第2誘電体層を形成した。なお、Siターゲットによる
反応性スパッタリングでSiNを形成する以外にもSi
NターゲットによるスパッタリングでSiNを形成する
ようにしてもよい。
Next, a Si target was set in the vacuum chamber. Then, the disk substrate on which the base layer and the thermal diffusion layer are formed is accommodated in the vacuum chamber, and N 2 gas is introduced in addition to Ar gas, and the gas pressure is adjusted to 0.1 to 0.7 P.
After setting the thickness to about a, the second dielectric layer made of SiN having a thickness of about 20 nm was formed by performing reactive sputtering using a Si target. In addition, in addition to forming SiN by reactive sputtering using a Si target,
SiN may be formed by sputtering with an N target.

【0065】さらに、真空チャンバー内にTbFeCo
のターゲットを設置した。そして、この真空チャンバー
内に下地層、熱拡散層及び第2誘電体層が形成されたデ
ィスク基板を収容し、真空チャンバー内を再度5×10
-5Pa程度まで真空引きした。この状態で真空チャンバ
ー内に0.1〜0.8Pa程度のガス圧でArガスを導
入し、TbFeCoターゲットによるスパッタリングを
行って厚さ20nm程度のTbFeCo膜を光磁気記録
層として形成した。
Further, TbFeCo is placed in a vacuum chamber.
Was set up. Then, the disk substrate on which the underlayer, the thermal diffusion layer and the second dielectric layer are formed is accommodated in this vacuum chamber, and the inside of the vacuum chamber is again filled with 5 × 10
It was evacuated to about -5 Pa. In this state, Ar gas was introduced into the vacuum chamber at a gas pressure of about 0.1 to 0.8 Pa, and sputtering was performed with a TbFeCo target to form a TbFeCo film having a thickness of about 20 nm as a magneto-optical recording layer.

【0066】次いで、再び真空チャンバー内にSiター
ゲットを設置した。そして、この真空チャンバー内に下
地層、熱拡散層、第2誘電体層及び光磁気記録層が形成
されたディスク基板を収容して、Arガスに加えてN2
ガスを導入し、ガス圧を0.1〜0.7Pa程度に設定
した。そして、Siターゲットによる反応性スパッタリ
ングを行って厚さ30nm程度のSiN膜からなる誘電
体層を第1誘電体層を構成する誘電体層として形成し
た。なお、Siターゲットによる反応性スパッタリング
でSiNを形成する以外にも、SiNターゲットによる
スパッタリングでSiN膜を形成するようにしてもよ
い。
Next, the Si target was set in the vacuum chamber again. Then, the disk substrate on which the underlayer, the thermal diffusion layer, the second dielectric layer, and the magneto-optical recording layer are formed is housed in the vacuum chamber, and N 2 gas is added in addition to Ar gas.
Gas was introduced and the gas pressure was set at about 0.1 to 0.7 Pa. Then, a dielectric layer made of a SiN film having a thickness of about 30 nm was formed as a dielectric layer constituting the first dielectric layer by performing reactive sputtering using a Si target. Note that, other than forming SiN by reactive sputtering using a Si target, an SiN film may be formed by sputtering using a SiN target.

【0067】続いて、真空チャンバー内にZnS・Si
2 ターゲットを設置した。そして、この真空チャンバ
ー内に下地層、熱拡散層、第2誘電体層、光磁気記録層
及び第1誘電体層の誘電体層が形成されたディスク基板
を収容して、Arガスを導入し、ガス圧を0.1〜0.
7Pa程度に設定した。そして、ZnS・SiO2 ター
ゲットによるスパッタリングを行って厚さ60nm程度
のZnS・SiO2 膜を第1誘電体層を構成する誘電体
保護層として形成した。
Subsequently, ZnS.Si is placed in a vacuum chamber.
An O 2 target was set. Then, the disk substrate on which the dielectric layers of the underlayer, the thermal diffusion layer, the second dielectric layer, the magneto-optical recording layer and the first dielectric layer are formed is accommodated in the vacuum chamber, and Ar gas is introduced. , The gas pressure is 0.1-0.
It was set to about 7 Pa. Then, to form a ZnS · SiO 2 film having a thickness of about 60nm performing sputtering with ZnS · SiO 2 target as dielectric protective layer constituting the first dielectric layer.

【0068】最後に、真空チャンバー内にカーボンター
ゲットを設置した。そして、この真空チャンバー内に下
地層、熱拡散層、第2誘電体層、光磁気記録層及び第1
誘電体層(誘電体層+誘電体保護層)が形成されたディ
スク基板を収容して、Arガスに加えて水素ガスを導入
し、ガス圧を0.5Pa程度に設定した。そして、1k
Wの直流電力を印加してカーボンターゲットによる直流
スパッタリングを行って厚さ10nm程度のカーボン保
護膜を形成した。
Finally, a carbon target was set in the vacuum chamber. The underlayer, the thermal diffusion layer, the second dielectric layer, the magneto-optical recording layer, and the first
The disk substrate on which the dielectric layer (dielectric layer + dielectric protective layer) was formed was housed, and hydrogen gas was introduced in addition to Ar gas, and the gas pressure was set to about 0.5 Pa. And 1k
DC power of W was applied to perform DC sputtering with a carbon target to form a carbon protective film having a thickness of about 10 nm.

【0069】この光磁気ディスクについての信号特性を
測定したところ、カーボン保護膜の消光係数kが波長3
00nm〜500nmにおいて0.1以下であり、カー
ボン保護膜を形成しないものと同等の信号特性が得られ
た。
When the signal characteristics of the magneto-optical disk were measured, the extinction coefficient k of the carbon protective film was 3 wavelengths.
It was 0.1 or less in the range of 00 nm to 500 nm, and the same signal characteristics as those without forming the carbon protective film were obtained.

【0070】比較のため、RFスパッタリングによりカ
ーボン保護膜を形成した光磁気ディスクについても同様
の測定を試みたが、カーボン保護膜の消光係数kが波長
300nm〜500nmにおいて0.1を越えており、
信号特性の急激な悪化が見られた。
For comparison, a similar measurement was attempted on a magneto-optical disk on which a carbon protective film was formed by RF sputtering, but the extinction coefficient k of the carbon protective film exceeded 0.1 at a wavelength of 300 nm to 500 nm.
Sudden deterioration of signal characteristics was observed.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明によれば、耐摩耗性や耐蝕性に優れるとともに、光の
吸収も十分小さいカーボン保護膜を得ることができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to obtain a carbon protective film having excellent wear resistance and corrosion resistance and sufficiently low light absorption.

【0072】したがって、浮上型光学ヘッドを基板上に
形成された積層膜と対向するように浮上させて記録再生
を行う光情報記録媒体においても、耐摩耗性や耐蝕性を
大幅に改善することができるとともに、光学的な特性を
損なうことなぐ情報信号の読み出しや書き込みを行うこ
とができる。
Therefore, even in an optical information recording medium in which a flying type optical head is floated so as to face a laminated film formed on a substrate to perform recording / reproduction, abrasion resistance and corrosion resistance can be greatly improved. It is possible to read and write information signals without deteriorating optical characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に適用した光磁気ディスクの構成例を示
す要部概略断面図である
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a main part showing a configuration example of a magneto-optical disk applied to the present invention.

【図2】直流スパッタリングにより形成したカーボン保
護膜の消光係数kの水素ガス流量比依存性を示す特性図
である。
FIG. 2 is a characteristic diagram showing a hydrogen gas flow ratio dependency of an extinction coefficient k of a carbon protective film formed by DC sputtering.

【図3】高周波スパッタリングにより形成したカーボン
保護膜の消光係数kの水素ガス流量比依存性を示す特性
図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram showing a hydrogen gas flow ratio dependency of an extinction coefficient k of a carbon protective film formed by high frequency sputtering.

【図4】直流スパッタリングにより作製されたカーボン
保護膜中の水素含有量分析結果を示す特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing an analysis result of hydrogen content in a carbon protective film produced by DC sputtering.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光磁気ディスク、2 ディスク基板、3 下地層、
4 熱拡散層、5 第2誘電体層、6 光磁気記録層、
7 第1誘電体層、7A 誘電体層、7B 誘電体保護
層、8 カーボン保護膜
1 magneto-optical disk, 2 disk substrate, 3 underlayer,
4 thermal diffusion layer, 5 second dielectric layer, 6 magneto-optical recording layer,
7 first dielectric layer, 7A dielectric layer, 7B dielectric protective layer, 8 carbon protective film

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 11/105 531 G11B 11/105 531D 546 546F (72)発明者 渡辺 誠 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5D029 LA12 LB04 LC05 LC21 5D075 EE03 FG04 GG03 GG16 5D121 AA04 EE03 EE13 EE17 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) G11B 11/105 531 G11B 11/105 531D 546 546F (72) Inventor Makoto Watanabe 6-7-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo No. Sony Corporation F term (reference) 5D029 LA12 LB04 LC05 LC21 5D075 EE03 FG04 GG03 GG16 5D121 AA04 EE03 EE13 EE17

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも記録再生層及びカー
ボン保護膜が順次積層されてなり、カーボン保護膜側か
ら光を照射して情報の記録及び/又は再生を行う光情報
記録媒体において、 上記カーボン保護膜は、波長300nm〜500nmに
おける消光係数が0.1以下であることを特徴とする光
情報記録媒体。
1. An optical information recording medium comprising a substrate, on which at least a recording / reproducing layer and a carbon protective film are sequentially laminated, and recording and / or reproducing information by irradiating light from the carbon protective film side. An optical information recording medium, wherein the protective film has an extinction coefficient at a wavelength of 300 nm to 500 nm of 0.1 or less.
【請求項2】 上記記録及び/又は再生は、波長300
nm〜500nmの光を用いて行われることを特徴とす
る請求項1記載の光情報記録媒体。
2. The recording and / or reproducing method according to claim 1, wherein the wavelength is 300
2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the optical information recording medium is performed using light of nm to 500 nm.
【請求項3】 上記カーボン保護膜は、水素を含有し、
且つ水素含有量が25〜30原子%であることを特徴と
する請求項1記載の光情報記録媒体。
3. The carbon protective film contains hydrogen,
2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the hydrogen content is 25 to 30 atomic%.
【請求項4】 上記記録再生層は、光磁気記録層である
ことを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。
4. The optical information recording medium according to claim 1, wherein said recording / reproducing layer is a magneto-optical recording layer.
【請求項5】 基板上に少なくとも記録再生層及びカー
ボン保護膜を順次成膜する光情報記録媒体の製造方法に
おいて、 上記カーボン保護膜は、水素ガス及び/又は炭化水素ガ
スを含む不活性ガス雰囲気中でカーボンをターゲットと
する直流スパッタリングにより成膜することを特徴とす
る光情報記録媒体の製造方法。
5. A method for manufacturing an optical information recording medium, wherein at least a recording / reproducing layer and a carbon protective film are sequentially formed on a substrate, wherein the carbon protective film is formed of an inert gas atmosphere containing hydrogen gas and / or hydrocarbon gas. A method for manufacturing an optical information recording medium, wherein a film is formed by DC sputtering in which carbon is used as a target.
【請求項6】 上記不活性ガス雰囲気における水素ガス
及び/又は炭化水素ガスの流量比が10〜15%である
ことを特徴とする請求項5記載の光情報記録媒体の製造
方法。
6. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 5, wherein a flow ratio of hydrogen gas and / or hydrocarbon gas in said inert gas atmosphere is 10 to 15%.
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