JP2001119916A - Linear-motor apparatus, stage and aligner using the same driving methods of linear-motor and stage apparatus, exposure method, and manufacturing method of device - Google Patents
Linear-motor apparatus, stage and aligner using the same driving methods of linear-motor and stage apparatus, exposure method, and manufacturing method of deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、リニアモータ装
置、これを用いたステージ装置、露光装置、リニアモー
タの駆動方法、ステージ装置の駆動方法、露光方法、及
び、デバイスの製造方法に関し、特に固定子側に複数の
コイルが配置されたムービングマグネット型リニアモー
タ装置及びこれを用いたステージ装置等に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a linear motor device, a stage device using the same, an exposure device, a driving method of a linear motor, a driving method of a stage device, an exposure method, and a method of manufacturing a device. The present invention relates to a moving magnet type linear motor device in which a plurality of coils are arranged on a slave side, a stage device using the same, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、固定子側に複数のコイルが配
置され、可動子側に複数の磁石が配置されたリニアモー
タ(ムービングマグネット型リニアモータ)が提案され
ている。かかるムービングマグネット型リニアモータ
は、廉価なコイルが移動方向に長さの長い固定子側に配
置され、高価な永久磁石が長さの短い可動子側に配置さ
れて、全体としてコストを低くできること、及び、電流
を供給するための配線を可動子側に接続する必要がない
等、ムービングコイル型のリニアモータに対して利点が
ある。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been proposed a linear motor (moving magnet type linear motor) in which a plurality of coils are arranged on a stator side and a plurality of magnets are arranged on a mover side. In such a moving magnet type linear motor, an inexpensive coil is arranged on the stator having a long length in the moving direction, and an expensive permanent magnet is arranged on the mover having a short length, so that the cost can be reduced as a whole. Further, there is an advantage over a moving coil type linear motor, for example, there is no need to connect a wire for supplying a current to the mover side.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ムービングマグネット型リニアモータにあっては、固定
子側に配置された全てのコイルに、可動子の移動位置に
関わらず常に電流を流す構成となっていたため、実際に
は固定子の移動に寄与していないコイルにも常時電流が
流れ、電力が余分に消費されるという不具合があった。However, in the conventional moving magnet type linear motor, a current always flows through all the coils arranged on the stator side regardless of the moving position of the mover. Therefore, a current always flows through the coil that does not actually contribute to the movement of the stator, and there is a problem that power is consumed extra.
【0004】又、この余分な電流により、可動子の移動
に寄与しないコイル部分でも発熱がある。この発熱は、
ゆらぎを生じさせ、例えば、ムービングマグネット型リ
ニアモータを用いたステージ装置では、このゆらぎが、
ステージ位置の検出(干渉計による位置検出)を不正確
なものとしていた。本発明は、かかる事情に鑑みてなさ
れたもので、余分な電力の消費、発熱を抑えることがで
きるリニアモータ装置、これを用いたステージ装置、露
光装置、リニアモータの駆動方法、ステージ装置の駆動
方法、露光方法、及び、デバイスの製造方法を提供する
ことを目的とする。[0004] Further, due to this extra current, heat is generated also in the coil portion that does not contribute to the movement of the mover. This fever
This causes fluctuations. For example, in a stage device using a moving magnet type linear motor, this fluctuation
The detection of the stage position (position detection by an interferometer) was made inaccurate. The present invention has been made in view of such circumstances, and a linear motor device capable of suppressing excessive power consumption and heat generation, a stage device using the same, an exposure device, a driving method of a linear motor, and driving of a stage device. It is an object to provide a method, an exposure method, and a method for manufacturing a device.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1の発明は、複数のコイルを有するコイルユ
ニットが配置された固定子と、複数の磁石を有する磁石
ユニットが配置された可動子と、前記複数のコイルに電
流を供給する電流制御部と、前記電流制御部と前記コイ
ルとの間に設けられた複数のスイッチと、前記可動子の
位置に応じて前記複数のスイッチを制御するスイッチ制
御手段とを備えたことを特徴とするリニアモータ装置で
ある。このリニアモータ装置は、可動子の移動に関与し
ないコイルについて、電流を遮断することができる。According to a first aspect of the present invention, there is provided a stator having a coil unit having a plurality of coils and a magnet unit having a plurality of magnets. Mover, a current control unit that supplies current to the plurality of coils, a plurality of switches provided between the current control unit and the coil, and the plurality of switches according to a position of the mover. And a switch control means for controlling the linear motor. This linear motor device can cut off current for a coil that is not involved in the movement of the mover.
【0006】又、請求項2の発明は、請求項1のリニア
モータ装置において、スイッチ制御手段が、前記磁石ユ
ニットの磁極の数に応じた数のスイッチをオンするよう
になっている。これにより、可動子側の永久磁石との間
で、推進力を生じさせるコイルに対して選択的に電流を
流すことができる。又、請求項3の発明は、請求項2に
記載のスイッチ制御手段が、前記複数のコイルのうち、
前記磁石ユニットに対向しているコイルの少なくとも1
つに電流が供給されるように前記複数のスイッチを制御
するものである。これにより、当該少なくとも1つのコ
イルが、通電されることで可動子側の永久磁石との間で
推進力を生じさせることができる。According to a second aspect of the present invention, in the linear motor device according to the first aspect, the switch control means turns on a number of switches corresponding to the number of magnetic poles of the magnet unit. Thus, a current can be selectively passed between the permanent magnet on the mover side and the coil generating the propulsion force. According to a third aspect of the present invention, the switch control means according to the second aspect is configured such that,
At least one of the coils facing the magnet unit
The plurality of switches are controlled so that current is supplied to each of the switches. Thus, when the at least one coil is energized, a propulsive force can be generated between the at least one coil and the permanent magnet on the mover side.
【0007】又、請求項4及び請求項5の発明は、複数
のコイルを有するコイルユニットが配置された固定子
と、複数の磁石を有する磁石ユニットが配置された可動
子とを有し、前記複数のコイルが少なくとも2つのコイ
ル群に分けられ、各コイル群に応じて2以上の相の電流
が供給されて駆動されると共に、前記磁石ユニットに対
向するコイルの数が、各コイル群毎に前記可動子の位置
に応じて変化するリニアモータ装置であって、前記複数
のコイルに電流を供給する電流制御部と、前記電流制御
部と前記コイルとの間に設けられた複数のスイッチと、
前記可動子の位置に応じて前記複数のスイッチを制御す
るスイッチ制御手段と、を備え、前記スイッチ制御手段
が、各コイル群に属する複数のコイルに対して、前記変
化するコイルの数の最小値に1を加算した数のコイルに
電流が供給されるように前記複数のスイッチを制御する
ものである。そして、前記磁石ユニットと対向している
コイルの数が、前記最小の値となっているコイル群に対
しては、当該対向しているコイルと、これに隣接する1
つのコイルに対して電流が供給されるように、前記スイ
ッチがオン/オフ制御される。これにより、永久磁石と
の間で推進力を生じさせるコイルに対しての通電が行わ
れ、かつ、各コイル群において、通電されるコイルの数
を十分なものとすることができる。これにより、モータ
定数の向上が図られる。The invention according to claims 4 and 5 has a stator in which a coil unit having a plurality of coils is arranged, and a mover in which a magnet unit having a plurality of magnets is arranged. A plurality of coils are divided into at least two coil groups, currents of two or more phases are supplied and driven in accordance with each coil group, and the number of coils facing the magnet unit is reduced for each coil group. A linear motor device that changes according to the position of the mover, a current control unit that supplies a current to the plurality of coils, a plurality of switches provided between the current control unit and the coil,
Switch control means for controlling the plurality of switches in accordance with the position of the mover, wherein the switch control means, for a plurality of coils belonging to each coil group, the minimum value of the number of the changing coils And controlling the plurality of switches so that current is supplied to the number of coils obtained by adding 1. Then, for the coil group in which the number of coils facing the magnet unit is the minimum value, the facing coil and one adjacent coil are set.
The switch is on / off controlled so that current is supplied to the two coils. Thus, energization is performed on the coils that generate the propulsive force with the permanent magnet, and the number of energized coils in each coil group can be made sufficient. Thereby, the motor constant is improved.
【0008】又、請求項6及び請求項7の発明は、複数
のコイルを有するコイルユニットが配置された固定子
と、複数の磁石を有する磁石ユニットが配置された可動
子とを有し、前記複数のコイルが少なくとも2つのコイ
ル群に分けられ、各コイル群に応じて2以上の相の電流
が供給されて駆動されると共に、前記磁石ユニットに対
向するコイルの数が、各コイル群毎に前記可動子の位置
に応じて変化するリニアモータ装置であって、前記複数
のコイルに電流を供給する電流制御部と、前記電流制御
部と前記コイルとの間に設けられた複数のスイッチと、
前記可動子の位置に応じて前記複数のスイッチを制御す
るスイッチ制御手段と、を備え、前記スイッチ制御手段
が、各コイル群に属する複数のコイルに対して、前記変
化するコイルの数の最小値に2を加算した数のコイルに
電流が供給されるように前記複数のスイッチを制御する
ものである。そして、前記磁石ユニットと対向している
コイルの数が、前記最小の値となっているコイル群に対
しては、当該対向しているコイルと、これに隣接する2
つのコイルに対して電流が供給されるように、前記スイ
ッチがオン/オフ制御される。これにより、永久磁石と
の間で推進力を生じさせるコイルに対しての通電が行わ
れ、かつ、各コイル群において、通電されるコイルの数
を、必要かつ十分なものとすることができる。これによ
り、モータ定数の向上が図られる。The invention according to claims 6 and 7 has a stator in which a coil unit having a plurality of coils is arranged, and a movable element in which a magnet unit having a plurality of magnets is arranged. A plurality of coils are divided into at least two coil groups, currents of two or more phases are supplied and driven in accordance with each coil group, and the number of coils facing the magnet unit is reduced for each coil group. A linear motor device that changes according to the position of the mover, a current control unit that supplies a current to the plurality of coils, a plurality of switches provided between the current control unit and the coil,
Switch control means for controlling the plurality of switches in accordance with the position of the mover, wherein the switch control means, for a plurality of coils belonging to each coil group, the minimum value of the number of the changing coils And controlling the plurality of switches so that current is supplied to the number of coils obtained by adding 2. Then, for the coil group in which the number of coils facing the magnet unit is the minimum value, the facing coil and two adjacent coils are set.
The switch is on / off controlled so that current is supplied to the two coils. Thereby, energization is performed on the coils that generate the propulsion force with the permanent magnets, and the number of energized coils in each coil group can be made necessary and sufficient. Thereby, the motor constant is improved.
【0009】又、請求項8の発明は、請求項1から請求
項7の何れかに記載のリニアモータ装置において、前記
スイッチが、互いに並列又は直列に接続された2以上の
コイルと前記電流制御部との間に配置され、もって、1
つのスイッチで2以上のコイルの通電/遮断が行われる
ものである。これにより、固定子内の複数のコイルに電
流を流すための入力側の配線を少なくすることができ
る。According to an eighth aspect of the present invention, in the linear motor device according to any one of the first to seventh aspects, the switch comprises two or more coils connected in parallel or in series with each other and the current control means. Between the parts
One switch switches on and off two or more coils. Thereby, the number of wirings on the input side for supplying current to the plurality of coils in the stator can be reduced.
【0010】又、請求項9の発明は、請求項1から請求
項8の何れかに記載のリニアモータ装置において、前記
複数のコイルのうち、固定子の所定の領域に位置するコ
イルが、前記電流制御部に、常時、電気的に接続された
ものである。これにより、固定子内の複数のコイルに電
流を流すための入力側の配線を少なくすることができ
る。According to a ninth aspect of the present invention, in the linear motor device according to any one of the first to eighth aspects, among the plurality of coils, a coil located in a predetermined region of the stator is provided. It is always electrically connected to the current control unit. Thereby, the number of wirings on the input side for supplying current to the plurality of coils in the stator can be reduced.
【0011】又、請求項10の発明は、請求項1から請
求項9に記載のリニアモータ装置がステージ部の駆動手
段として用いられたものである。この場合、備えられた
リニアモータ装置のモータ定数が高まるので、ステージ
部全体として高機能化が図られる。又、請求項11の発
明は、露光用光学系を用いて基板上に所定のパターンを
形成する露光装置に、請求項10に記載のステージ装置
を備えたものである。この露光装置は、ステージ部のリ
ニアモータ装置のモータ定数が高まるので、露光装置全
体として高機能化が図られる。According to a tenth aspect of the present invention, the linear motor device according to any one of the first to ninth aspects is used as driving means for the stage. In this case, since the motor constant of the provided linear motor device is increased, the overall function of the stage is enhanced. According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for forming a predetermined pattern on a substrate using an optical system for exposure, comprising the stage device according to the tenth aspect. In this exposure apparatus, the motor constant of the linear motor device of the stage section is increased, so that the overall function of the exposure apparatus is enhanced.
【0012】又、請求項12の発明は、請求項11に記
載の露光装置を用いて、所定のパターンが形成されたデ
バイスを製造するものである。高機能化が図られた露光
装置により、効率のよいデバイスの製造が可能になる。
又、請求項13の発明は、複数のコイルを有するコイル
ユニットが配置された固定子と、複数の磁石を有する磁
石ユニットが配置された可動子とを有するリニアモータ
の駆動方法において、前記複数のコイルに対して、前記
可動子の位置に応じて電流を供給するコイルを選択する
ものである。この駆動方法によれば、リニアモータのモ
ータ定数が高まる。According to a twelfth aspect of the present invention, a device having a predetermined pattern is manufactured using the exposure apparatus according to the eleventh aspect. Efficient device manufacturing is made possible by an exposure apparatus with high functionality.
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the method for driving a linear motor having a stator in which a coil unit having a plurality of coils is arranged and a mover in which a magnet unit having a plurality of magnets is arranged, A coil for supplying a current to the coil according to the position of the mover is selected. According to this driving method, the motor constant of the linear motor increases.
【0013】又、請求項14の発明は、駆動手段として
リニアモータを有するステージ装置の駆動方法におい
て、請求項13記載のリニアモータの駆動方法を用いて
前記リニアモータを駆動するものである。このステージ
装置では、リニアモータのモータ定数が高まるので、ス
テージ装置全体として高機能化が図られる。又、請求項
15の発明は、ステージ装置に載置された基板上に所定
のパターンを形成する露光方法において、前記ステージ
装置を駆動する際に、請求項14に記載のステージ装置
の駆動方法を用いるものである。この方法により駆動さ
れる露光装置は、ステージ装置のリニアモータのモータ
定数が高まるので、露光装置全体として高機能化が図ら
れる。According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a driving method of a stage device having a linear motor as a driving means, wherein the linear motor is driven by using the linear motor driving method according to the thirteenth aspect. In this stage device, since the motor constant of the linear motor is increased, the overall function of the stage device is enhanced. According to a fifteenth aspect of the present invention, in the exposure method for forming a predetermined pattern on a substrate mounted on a stage device, the driving method of the stage device according to the fourteenth aspect is provided when the stage device is driven. It is used. Since the motor constant of the linear motor of the stage device is increased in the exposure apparatus driven by this method, the overall function of the exposure apparatus is enhanced.
【0014】又、請求項16の発明は、所定のパターン
が形成されたデバイスの製造方法であって、請求項15
に記載の露光方法を用いるものである。この露光方法を
用いることで、デバイスを製造するにあたり、リニアモ
ータのモータ定数が高まる分、効率のよいデバイスの製
造が実現できる。According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a device on which a predetermined pattern is formed.
Are used. By using this exposure method, in manufacturing a device, an efficient device can be manufactured because the motor constant of the linear motor is increased.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)以下、本発
明の第1の実施の形態について、図1〜図14を用いて
説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0016】この第1の実施の形態のリニアモータ10
0は、図1、図2に示すように、固定子110と、可動
子120とからなる。尚、この実施の形態では、リニア
モータ100と、後述の制御部200、スイッチ(S01
〜S30)によってリニアモータ装置が構成されている。
ここで、固定子110は、第1列のコイル111,11
1…と、第2列のコイル112,112…と、これを囲
むように形成されたハウジング113とによって構成さ
れている。尚、ハウジング113は、図3(a)に示す
ように、第1列のコイル111,111…と、第2列の
コイル112,112…とを水密に密封するものであ
り、このハウジング113の内部には、上記第1列のコ
イル111,111…、第2列のコイル112,112
…を冷却するための冷却液用の流路115が形成されて
いる。尚、多数のコイル111,111…は、ハウジン
グ113に固定部材114,114…によって固定され
ている。The linear motor 10 according to the first embodiment
0 is composed of a stator 110 and a mover 120 as shown in FIGS. In this embodiment, the linear motor 100, a control unit 200, and a switch (S01
To S30) constitute a linear motor device.
Here, the stator 110 is provided with the coils 111 and 11 of the first row.
, A second row of coils 112, 112, and a housing 113 formed so as to surround them. As shown in FIG. 3 (a), the housing 113 seals the coils 111, 111... Of the first row and the coils 112, 112. Inside, the coils 111, 111... Of the first row and the coils 112, 112 of the second row are provided.
Are formed for cooling liquid. Are fixed to the housing 113 by fixing members 114, 114.
【0017】一方、可動子120は、図3(b)に示す
ように、基体部121A,121Bと、これにビス止め
されたヨーク122,122と、ヨーク122,122
の内面に配置された第1列の永久磁石123,123
…、第2列の永久磁石124,124…とによって構成
されている。これら永久磁石123,…、124,…に
よって、後述の磁石ユニット120Aが構成される。On the other hand, as shown in FIG. 3B, the mover 120 includes base portions 121A and 121B, yokes 122 and 122 screwed to the base portions 121A and 121B, and yokes 122 and 122.
Of the first row of permanent magnets 123, 123 disposed on the inner surface of the
.., The second row of permanent magnets 124, 124. The permanent magnets 123,..., 124,.
【0018】尚、磁石ユニット120Aにおける磁束の
発生手段として永久磁石123,124を用いたが、電
磁石等地の構成を用いても良い。そして、可動子120
の中空部分120Sに、固定子110が挿入されて、リ
ニアモータ100が構成されている(図4)。リニアモ
ータ100の固定子110に設けられる第1列のコイル
111,111…、第2列のコイル112,112…
は、これに流れる電流の波形(W相、V相、U相)に応
じて、各々、W相のコイル群111(W)…,112
(W)…、V相のコイル群111(V)…,112
(V)…、U相のコイル群111(U)…,112
(U)…に分けられる。Although the permanent magnets 123 and 124 are used as the magnetic flux generating means in the magnet unit 120A, a ground structure such as an electromagnet may be used. And the mover 120
The stator 110 is inserted into the hollow portion 120S, thereby forming the linear motor 100 (FIG. 4). .. Provided in the stator 110 of the linear motor 100 in the first row, the coils 112 in the second row, and so on.
Are W-phase coil groups 111 (W)..., 112 according to the waveforms of the current flowing therethrough (W-phase, V-phase, U-phase).
(W) ..., V-phase coil group 111 (V) ..., 112
(V)..., U-phase coil group 111 (U).
(U) ...
【0019】そして、各コイル群毎に、所定の位相差の
電流(Iu、Iv、Iw)が流されて、前記可動子12
0が固定子110に対して、図1中、矢印Xで示す方向
に移動する。ここで、固定子110内に配置された第1
列のコイル111,111…、第2列のコイル112,
112…の形状、並びに、配列について、図5〜図7を
用いて説明する。Then, a current (Iu, Iv, Iw) having a predetermined phase difference flows through each coil group,
0 moves in the direction indicated by arrow X in FIG. Here, the first
.., A second row of coils 112,
The shape and arrangement of 112 will be described with reference to FIGS.
【0020】この実施の形態の固定子110は、所謂
「ドッグボーン型」の固定子であり、この固定子110
を構成する第1列のコイル111,111…、第2列の
コイル112,112…は、図5に示すように、角形に
巻かれたロ字型のコイルである。固定子110の、図5
中、手前側に配置される第1列のコイル111,111
…は、その縦方向に延びる部分(以下「極部分」とい
う。)111i,111jが奥側に折り曲げられてい
る。尚、この極部分111i,111jが、磁石ユニッ
ト150の磁極と作用しあって、推進力Fを生じさせ
る。The stator 110 according to this embodiment is a so-called "dog bone type" stator.
, And the coils 112, 112,... Of the second row are square-shaped coils, as shown in FIG. FIG. 5 of the stator 110
First row of coils 111, 111 arranged on the middle and front sides
.. Have their longitudinally extending portions (hereinafter referred to as “pole portions”) 111i and 111j bent toward the back. The pole portions 111i and 111j act on the magnetic poles of the magnet unit 150 to generate a propulsive force F.
【0021】一方、図5中、奥側に配置される第2列の
コイル112,112…は、極部分112i,112j
が手前側に折り曲げられている。そして、第1列のコイ
ル111,111…、第2列のコイル112,112…
は、図5の矢印で示すように、互いの中空部分に、対向
する第2列のコイル112の極部分112i,112
j、第1列のコイル111の極部分111i,111j
が嵌め合わされる。On the other hand, in FIG. 5, the second row of coils 112, 112...
Is bent to the near side. .., And the second row of coils 112, 112,.
5, pole portions 112i and 112 of the coils 112 of the second row facing each other, as indicated by arrows in FIG.
j, pole portions 111i and 111j of the coil 111 in the first row
Are fitted.
【0022】この結果、第1列のコイル111,111
…、第2列のコイル112,112…は、その極部分1
11i,111j…、112i,112j…が、固定子
110の中央部分で一直線上に整列されることになる
(図2、図6)。極部分111i,111j、112
i、112jが一直線上に配置された第1列のコイル1
11,111…、第2列のコイル112,112…に対
しては、図7に示すように、可動子120側の永久磁石
123,123…、124,124…が、その両側よ
り、これを挟み込むように配置されることになる。As a result, the coils 111 of the first row, 111
.., The second row of coils 112, 112.
.., 112i, 112j... Are aligned in a straight line at the center of the stator 110 (FIGS. 2 and 6). Pole parts 111i, 111j, 112
i, the first row of coils 1 in which 112j are arranged in a straight line
As shown in FIG. 7, the permanent magnets 123, 123,..., 124, 124 on the mover 120 are moved from both sides of the coils 112, 112,. It will be arranged so as to sandwich it.
【0023】次に、リニアモータ100の動作原理につ
いて、図8〜図10を用いて説明する。この図8では、
説明を簡単にするために、合計8つの永久磁石123,
…124,…によって磁石ユニット120Aを構成する
例を示している。尚、図8に示す磁石ユニット120A
には補極を形成する永久磁石は図示されていない。この
磁石ユニット120Aでは、永久磁石123,123
…、124,124…によって、4つの磁極が形成され
ている。図8中、波線で磁石ユニット120Aによる磁
束密度の分布を示し、そのピーク数が磁極の数である。Next, the operation principle of the linear motor 100 will be described with reference to FIGS. In this FIG.
In order to simplify the explanation, a total of eight permanent magnets 123,
., 124,... Show an example in which the magnet unit 120A is configured. The magnet unit 120A shown in FIG.
Does not show a permanent magnet forming an auxiliary pole. In the magnet unit 120A, the permanent magnets 123, 123
, 124, 124 form four magnetic poles. In FIG. 8, the distribution of the magnetic flux density by the magnet unit 120A is shown by a dashed line, and the number of peaks is the number of magnetic poles.
【0024】又、図8では、第1列のコイル111,1
11…、第2列のコイル112,112…について、電
流Iuが流されるコイルに符号“U”が、電流Ivが流
されるコイルに符号“V”が、電流Iwが流されるコイ
ルに符号“W”が付されている。又、電流Iuについ
て、その流れる方向の一例を図8に示す。以下、推進力
の発生方向について説明する際は、図8の方向に電流が
流れることを前提に行うものとする。In FIG. 8, the coils 111, 1 in the first row are shown.
11, the second row of coils 112, 112..., The symbol “U” is applied to the coil through which the current Iu flows, the symbol “V” is applied to the coil through which the current Iv flows, and the symbol “W” is applied to the coil through which the current Iw flows "Is attached. FIG. 8 shows an example of the direction in which the current Iu flows. Hereinafter, the description of the direction in which the propulsive force is generated is based on the assumption that the current flows in the direction of FIG.
【0025】ここで、リニアモータ100の可動子12
0の、コイル111,111…、112,112…に流
れる「U相」の電流Iu、「V相」の電流Iv、「W
相」の電流Iwについて説明する。可動子120が図8
に示す位置にあるときには、図中、斜線で示した極部分
111i,111j、112i,112jに、図9のt
0時点に示すImaxの電流が流れる。このとき、図8の右
方向への推進力Fが得られる。Here, the mover 12 of the linear motor 100
, 112, 112,..., “V-phase” current Iv, “W”
The phase “current Iw” will be described. The mover 120 is shown in FIG.
At the position shown in FIG. 9, the pole portions 111i, 111j, 112i, and 112j indicated by oblique lines in FIG.
A current of Imax shown at time 0 flows. At this time, a propulsive force F to the right in FIG. 8 is obtained.
【0026】ここで、U相のコイル群111(U)…,
112(U)…、V相のコイル群111(V)…,11
2(V)…、W相のコイル群111(W)…,112
(W)…に流れる電流Iu、Iv、Iwを、図9に示す
ように変化させることで、可動子120が固定子110
に対して、図8中、右方向に移動することになる。尚、
電流Iu、Iv、Iwは、その波形が互いに2π/3の
位相差となっている。Here, the U-phase coil group 111 (U),.
112 (U), V-phase coil group 111 (V), 11,
2 (V)..., W-phase coil group 111 (W).
(W)... The currents Iu, Iv, and Iw flowing through the movable element 120 are changed as shown in FIG.
8 moves to the right in FIG. still,
The waveforms of the currents Iu, Iv, and Iw have a phase difference of 2π / 3 from each other.
【0027】尚、コイル111,111…、112,1
12…への電流の流れを遮断すれば、可動子120は停
止する。又、コイル111,111…、112,112
…に流す電流Iu、Iv、Iwの位相を、図9に示す波
形に対して180度ずらせば、可動子120は、左方向
に移動することになる。この第1の実施の形態のリニア
モータ100では、固定子110側のコイル111,1
11…、112,112…の全てを通電するのではな
く、磁石ユニット120Aの磁極の数に応じた数のコイ
ル111,111…、112,112…のみを通電する
ことで、消費電力を抑え、そのモータ定数を高めてい
る。The coils 111, 111..., 112, 1
If the flow of current to 12 is interrupted, the mover 120 stops. Also, the coils 111, 111 ..., 112, 112
If the phases of the currents Iu, Iv, and Iw flowing through are shifted by 180 degrees with respect to the waveform shown in FIG. 9, the mover 120 moves to the left. In the linear motor 100 according to the first embodiment, the coils 111 and 1 on the stator 110 side are used.
.., 112, 112... Rather than energizing all of the coils 111, 111, 112, 112... In accordance with the number of magnetic poles of the magnet unit 120A. The motor constant is raised.
【0028】磁石ユニット120Aと対向しているコイ
ル111,111…、112,112…の少なくとも1
つに通電を行うことで、その可動子120を駆動させる
ための推力を得ることができる。この実施の形態では、
十分な推力を得るために、磁石ユニット120Aと対向
するコイル111,111…、112,112…の数に
応じた数のコイルを通電している。, 112, 112,... Facing at least one of the magnet units 120A.
When the current is supplied to one of the contacts, a thrust for driving the mover 120 can be obtained. In this embodiment,
In order to obtain a sufficient thrust, the number of coils corresponding to the number of coils 111, 111..., 112, 112.
【0029】ところで、磁石ユニット120Aと対向す
るコイル111,111…、112,112…の数は、
可動子120の位置に応じて変化する。図10(a)〜
(f)には、磁石ユニット120Aの移動位置に応じ
て、これに対向するコイル111,111…、112,
112…の数が変化する様子を示す。図中実線で示すコ
イル111,111…、112,112…が、磁石ユニ
ット120Aと対向するコイルである。By the way, the number of coils 111, 111..., 112, 112.
It changes according to the position of the mover 120. FIG.
(F), according to the moving position of the magnet unit 120A, the coils 111, 111,.
This shows how the number of 112 changes. , 112, 112,... Shown by solid lines in the drawing are coils facing the magnet unit 120A.
【0030】ここで、U相のコイル111(U),11
1(U)…、112(U),112(U)…にのみ着目
して対向するコイルの数を考える。この図に示すよう
に、磁石ユニット120A(磁極の数が4)と対向する
U相のコイル111(U),…、112(U),…(斜
線で示す)の数は、「3」→「3」→「2」→「2」→
「2」→「3」…と変化する。Here, the U-phase coils 111 (U), 11
Focus on only 1 (U), 112 (U), 112 (U), and consider the number of opposing coils. As shown in this figure, the number of U-phase coils 111 (U),..., 112 (U),... (Indicated by diagonal lines) facing the magnet unit 120 </ b> A (the number of magnetic poles is 4) is “3” → "3" → "2" → "2" →
It changes from “2” to “3”.
【0031】すなわち、磁極の数が「4」の磁石ユニッ
ト120Aに関しては、これと対向するU相のコイル1
11(U),111(U)…、112(U),112
(U)…の数は、2個と3個の間で変化することにな
る。これは、V相、W相のコイルについても同じであ
る。図11(a)には、U相の2個のコイル、V相の3
個のコイル、W相の3個のコイル(一点鎖線で囲う計8
個)が、磁石ユニット120Aと対向している状態を示
している。That is, regarding the magnet unit 120A having the number of magnetic poles of “4”, the U-phase coil 1
11 (U), 111 (U)..., 112 (U), 112
(U) will vary between two and three. This is the same for the V-phase and W-phase coils. FIG. 11A shows two coils of the U phase and three coils of the V phase.
Coils, W-phase three coils (total of 8
) Indicates a state in which the magnet unit 120A faces the magnet unit 120A.
【0032】リニアモータ100のモータ定数の最適値
を考えるならば、磁石ユニット120Aに対向するこれ
ら8個のコイル111,111…、112,112…の
みを励磁すればよい。しかし、リニアモータ100で
は、U相、V相、W相の各コイル群での抵抗の合計が同
じ値にしなければならないという要請がある。When considering the optimum value of the motor constant of the linear motor 100, only the eight coils 111, 111..., 112, 112. However, in the linear motor 100, there is a demand that the sum of the resistances of the U-phase, V-phase, and W-phase coil groups must be the same.
【0033】従って、上記のように通電するコイルを、
U相では2個、V相では3個、W相では3個とすると、
不釣り合いになってしまう。この不釣り合いは、制御上
問題となる。よって、U相、V相、W相の3つの相のコ
イル群で通電される個数を、そろえる必要がある。そこ
で、この実施の形態では、これらの要請を考慮しつつ、
そのモータ定数を高めるべく、以下に示す2つの方法
で、U相、V相、W相の各コイル群における通電対象の
コイル111,111…、112,112…の個数、及
び、実際に通電するコイルを決定している。Therefore, the coil to be energized as described above is
If there are two in the U phase, three in the V phase and three in the W phase,
It will be out of proportion. This imbalance is a control problem. Therefore, it is necessary to make the number of coils energized in the three-phase coil group of U-phase, V-phase, and W-phase equal. Therefore, in this embodiment, while considering these requirements,
In order to increase the motor constant, the number of coils 111, 111..., 112, 112... To be energized in each of the U-phase, V-phase, and W-phase coil groups and the actual energization are performed by the following two methods. Determine the coil.
【0034】(1)第1の方法 この第1の方法では、U相、V相、W相の各コイル群
で、磁石ユニット120A(磁極の数が4)と対向する
コイル111,111…、112,112…の数が変化
したとき、その最小の値が「2」であることに着目し、
かつ、磁石ユニット120Aが左右に移動することを考
慮して、対向する2個のコイルと、これの左右に1個宛
のコイル(対向していない2個のコイル)を通電する。
この場合には、通電するコイルの数は、U相、V相、W
相の何れでも各コイル群当たり合計「4個」となる。(1) First Method In this first method, coils 111, 111,... Opposed to the magnet unit 120A (the number of magnetic poles is 4) in each of the U-phase, V-phase, and W-phase coil groups. When the number of 112, 112 ... changes, paying attention to the fact that the minimum value is "2",
In addition, in consideration of the fact that the magnet unit 120A moves left and right, two opposing coils and one coil (two non-opposite coils) are energized to the left and right of the two coils.
In this case, the number of coils to be energized is U-phase, V-phase, W-phase.
In any of the phases, a total of "4" is provided for each coil group.
【0035】図11(b)〜(d)は、上記した磁石ユ
ニット120Aが2個のU相のコイル、3個のV相のコ
イル、3個のW相のコイルと対向している状態で通電さ
れるコイル111,111…、112,112…をU
相、V相、W相毎に、各々、示したものである。この図
示例では、磁石ユニット120Aと対向するU相のコイ
ルは2個である(一点鎖線で囲む8個のうち斜線で示す
2個)。従って、通電すべき残りの2個については、図
11(b)に示すように、隣接する両側の2つのコイル
である(破線で示すコイルのうち斜線を引いたコイ
ル)。FIGS. 11B to 11D show a state in which the magnet unit 120A is opposed to two U-phase coils, three V-phase coils, and three W-phase coils. .., 112, 112.
This is shown for each phase, V phase, and W phase. In the illustrated example, the number of the U-phase coils opposed to the magnet unit 120A is two (two of the eight coils surrounded by a dashed line are shown by oblique lines). Therefore, the remaining two coils to be energized are, as shown in FIG. 11B, two coils on both sides adjacent to each other (coils indicated by oblique lines among coils indicated by broken lines).
【0036】このとき、磁石ユニット120Aと対向す
るV相、W相のコイルは、図11(c)(d)に各々示
すように、共に3個である(一点鎖線で囲む8個のうち
斜線で示す3個)。通電すべき残りの1個については、
磁石ユニット120Aの側端からより近い方のコイルで
ある(破線で示すコイルのうち斜線を引いたコイル)。At this time, as shown in FIGS. 11C and 11D, the number of V-phase and W-phase coils opposed to the magnet unit 120A is three (the hatched lines out of the eight enclosed by the dashed line). 3). For the remaining one to be energized,
The coil closer to the side end of the magnet unit 120A (the coil indicated by oblique lines among the coils indicated by broken lines).
【0037】尚、磁石ユニット120Aが、固定子11
0の端部Xoに寄っているときには、通電すべき残りの
コイルは、端部X0とは逆側の隣接するコイルである。
尚、磁石ユニット120Aと対向するコイルが2個のコ
イル群(図11(e)のU相)については、通電される
残りの2個のコイルは、共に端部X0の逆側となる。
(2)第2の方法 第2の方法では、磁石ユニット120A(磁極の数が
4)の移動に伴って、これと対向するコイル111,1
11…、112,112…の数が変化したとき、U相、
V相、W相の各々で、その最小の値が「2」であること
に着目し、可動子120の駆動に必要最小限の電流を流
すように、この2個のコイルの左右の何れかで隣接する
1個のコイルのみを通電する。この場合には、通電する
コイルの数は、U相、V相、W相の何れでも各コイル群
当たり「3個」となる。It should be noted that the magnet unit 120A is
When approaching the end Xo of 0, the remaining coils to be energized are adjacent coils on the opposite side of the end X0.
In the case of a coil group having two coils facing the magnet unit 120A (U phase in FIG. 11E), the remaining two coils to be energized are both on the opposite side of the end portion X0.
(2) Second Method In the second method, as the magnet unit 120A (the number of magnetic poles is four) moves, the coils 111 and 1 facing the magnet unit 120A move.
When the number of 11..., 112, 112.
Paying attention to the fact that the minimum value is “2” in each of the V phase and the W phase, any one of the left and right coils of the two coils is supplied so that the minimum current required for driving the mover 120 is passed. To energize only one adjacent coil. In this case, the number of coils to be energized is "3" for each coil group in any of the U-phase, V-phase, and W-phase.
【0038】図12(a)は、図11(a)と同様に、
磁石ユニット120Aが2個のU相のコイル、3個のV
相のコイル、3個のW相のコイル(一点鎖線で囲う計8
個)と対向しているときに通電されるコイル111,1
11…、112,112…をU相、V相、W相毎に、各
々、示したものである。この図示例では、磁石ユニット
120Aと対向するU相のコイルは2個である。従っ
て、通電すべき残りの1個については、図12(a)で
示すように、隣接する両側の2つのコイルのうち当該磁
石ユニット120Aにより近い方を選択する(破線で示
すコイルのうち斜線を引いたコイル)。FIG. 12A is similar to FIG.
The magnet unit 120A has two U-phase coils and three V-phase coils.
Phase coil, three W phase coils (total of 8
Coils 111, 1 that are energized when facing
11, 112, 112... Are shown for each of the U phase, the V phase, and the W phase. In the illustrated example, the number of U-phase coils opposed to the magnet unit 120A is two. Therefore, as for the remaining one to be energized, as shown in FIG. 12A, the one closer to the magnet unit 120A is selected from the two coils on both sides adjacent to each other. Coil drawn).
【0039】このとき、磁石ユニット120Aと対向す
るV相、W相のコイルは、図12(b)(c)に各々示
すように、共に3個である(一点鎖線で囲む8個のうち
斜線で示す3個)。従って、V相、W相に関しては、こ
れらのコイルのみに通電すればよい。このように第2の
方法では、第1の方法に比べて、通電するコイルの数を
少なくできる(3個)。これは、以下の理由による。At this time, as shown in FIGS. 12 (b) and 12 (c), the number of V-phase and W-phase coils facing the magnet unit 120A is three (both of eight enclosed by a dashed line). 3). Therefore, only the coils need to be energized for the V and W phases. Thus, in the second method, the number of coils to be energized can be reduced (three) as compared with the first method. This is for the following reason.
【0040】第1の方法では、磁石ユニット120Aが
左右に移動することを考慮してその両側を通電していた
が、詳細は後述するスイッチ(S01)〜(S30)を用い
たコイル111,111…、112,112…の通電/
遮断制御(図13,図14)では、その切換速度が、リ
ニアモータ100の移動速度に比べてはるかに速いた
め、磁石ユニット120Aの細かな動きに十分追従可能
だからである。又、後述するように、スイッチ(S01)
〜(S30)の切換を、電流Iu、Iv、Iwが“0”と
なった時点で行うことで、L成分による電流の立ち上が
り遅れや、電流過渡応答を考慮する必要がなくなるから
である。In the first method, both sides of the magnet unit 120A are energized in consideration of the fact that the magnet unit 120A moves to the left and right, but the coils 111, 111 using the switches (S01) to (S30) described later in detail. ..., 112, 112 ...
This is because, in the cutoff control (FIGS. 13 and 14), since the switching speed is much faster than the moving speed of the linear motor 100, the switching speed can sufficiently follow the fine movement of the magnet unit 120A. Also, as described later, the switch (S01)
This is because the switching of (S30) to (S30) is performed when the currents Iu, Iv, and Iw become "0", so that it is not necessary to consider a delay in current rise due to the L component and a current transient response.
【0041】次に、リニアモータ100のコイル11
1,111…、コイル112,112…の、各コイル群
111(W)…,112(W)…、111(V)…,1
12(V)…、111(U)…,112(U)…毎に流
れる電流Iu、Iv、Iwを、スイッチ(S01,S02,
…S30)を用いて、各コイル111…、112…毎にオ
ン(通電)/オフ(遮断)するリニアモータ100の制
御について、図13〜図14を用いて説明する。Next, the coil 11 of the linear motor 100
, 111 (W), 112 (W), 111 (V), 1
The currents Iu, Iv, Iw flowing for each of 12 (V), 111 (U), 112 (U), are set to the switches (S01, S02,
The control of the linear motor 100 that is turned on (energized) / off (cut off) for each of the coils 111, 112,... Using S30) will be described with reference to FIGS.
【0042】この実施の形態では、電流値制御部210
から供給される電流Iv、Iu、Iwを、V相のスイッ
チ(S01)〜(S10)、U相のスイッチ(S11)〜(S
20)、W相のスイッチ(S21)〜(S30)をスイッチ切
換制御部(スイッチ制御手段)230によってオン/オ
フ制御することで、実際に推進力Fを生じさせるコイル
のみを通電させ、もって、その消費電力を抑え、余分な
発熱が生じないようにしている。In this embodiment, the current value control unit 210
Currents Iv, Iu, Iw supplied from the V-phase switches (S01) to (S10) and U-phase switches (S11) to (S11).
20) By turning on / off the W-phase switches (S21) to (S30) by the switch changeover control unit (switch control means) 230, only the coil that actually generates the propulsion force F is energized. The power consumption is suppressed so that no extra heat is generated.
【0043】すなわち、図13に示すように、制御部2
00は、電流Iv、Iu、Iwを生成するための電流値
制御部(電流制御部)210と、電流値制御部210の
3つの端子に現れた電圧値に応じて、所望の電流Iv、
Iu、Iwを発生させる3つのアンプ部221,22
2,223と、上記したV相、U相、W相の各スイッチ
(S01)〜(S30)のオン/オフ(切換)を行うスイッ
チ切換制御部230とによって構成されている。尚、ス
イッチ切換制御部230には、リニアモータ100の可
動子120の目標位置を入力するための入力部240
と、可動子120の現在位置を検出する位置センサ(干
渉計による位置検出手段)241が接続されている。That is, as shown in FIG.
00 is a current value control unit (current control unit) 210 for generating the currents Iv, Iu, Iw, and a desired current Iv,
Three amplifier units 221 and 22 for generating Iu and Iw
2, 223, and a switch switching control unit 230 for turning on / off (switching) the above-described V-phase, U-phase, and W-phase switches (S01) to (S30). The switch switching control unit 230 has an input unit 240 for inputting a target position of the mover 120 of the linear motor 100.
And a position sensor (position detecting means using an interferometer) 241 for detecting the current position of the mover 120 are connected.
【0044】前記制御部200のアンプ部(V相)22
1,アンプ部(U相)222,アンプ部(W相)223
と、V相のコイル群111(V)…、112(V)…、
U相のコイル群111(U)…,112(U)…、W相
のコイル群111(W)…,112(W)…との間に
は、各々、V相のスイッチ(S01)〜(S10)、U相の
スイッチ(S11)〜(S20)、W相のスイッチ(S21)
〜(S30)が配置されている。The amplifier section (V phase) 22 of the control section 200
1, amplifier section (U phase) 222, amplifier section (W phase) 223
, 112 (V)..., V-phase coil groups 111 (V).
Between the U-phase coil groups 111 (U), 112 (U), and the W-phase coil groups 111 (W), 112 (W), the V-phase switches (S01) to ( S10), U-phase switches (S11) to (S20), W-phase switches (S21)
To (S30).
【0045】尚、固定子110での、実際のU相のコイ
ル群111(U)、112(U)、W相のコイル群11
1(W),112(W)、V相のコイル群111
(V),112(V)の配置は、図6に示したように、
左からW相、V相、U相となっている。この実施の形態
では、リニアモータ100のスイッチ(S01)〜(S3
0)のオン/オフ制御は、以下に示すように、各スイッ
チ(S01)〜(S30)毎に、個別に行われる。The actual U-phase coil groups 111 (U) and 112 (U) of the stator 110 and the W-phase coil group 11
1 (W), 112 (W), V-phase coil group 111
The arrangement of (V) and 112 (V) is as shown in FIG.
The W, V, and U phases are from the left. In this embodiment, the switches (S01) to (S3) of the linear motor 100
The on / off control of 0) is individually performed for each of the switches (S01) to (S30) as described below.
【0046】尚、U相、V相、W相の各コイル群で通電
されるコイルの数は、同じ数となっている。これはU
相、V相、W相で、通電されるコイルの総ての抵抗値
を、各相で一致させるためである。この通電すべきコイ
ルは、上記した第1の方法、第2の方法の何れかで決定
される。このようにU相、V相、W相で、通電されるコ
イルの数が一致しているので、図10に示す例では、出
力側の端子(G)が共通化された、所謂、スター結線と
なっている。これにより、ハウジング113で水密に密
封された第1列のコイル111,111…、第2列のコ
イル112,112…から外部に引き出す配線(特に出
力側の配線)の数を減らすことができる。The number of coils energized in each of the U-phase, V-phase, and W-phase coil groups is the same. This is U
This is because all the resistance values of the energized coils in the phase, the V phase, and the W phase are matched in each phase. The coil to be energized is determined by one of the first and second methods described above. As described above, the number of coils to be energized is the same in the U phase, the V phase, and the W phase. Therefore, in the example illustrated in FIG. 10, a so-called star connection in which the output terminal (G) is shared. It has become. Thus, the number of wires (especially wires on the output side) drawn out from the first-row coils 111, 111... And the second-row coils 112, 112.
【0047】尚、図11に示すダミー抵抗(Dumm
y)は、ハウジング113内に、U相、V相、W相のコ
イルの数を同数(図11の例では、30個のコイルが必
要)にするだけのスペースがない場合に備えたものであ
る。これにより、全スイッチ(S01〜S30)をオンした
ときであっても、各相の抵抗値を合わせることができ
る。次に、スイッチ切換制御部230で実行される「通
電/遮断制御プログラム」について説明する。The dummy resistor (Dumm) shown in FIG.
y) is provided in the case where there is not enough space in the housing 113 to make the number of U-phase, V-phase, and W-phase coils the same (in the example of FIG. 11, 30 coils are required). is there. Thereby, even when all the switches (S01 to S30) are turned on, the resistance value of each phase can be matched. Next, the “energization / shutoff control program” executed by the switch switching control unit 230 will be described.
【0048】この通電/遮断制御プログラムを実行する
ことで、各コイル群(V相、U相、W相)の各スイッチ
(S01)〜(S30)が個別にオン/オフ制御されて、推
進力の発生に寄与するコイルが選択的に通電され、もっ
て、消費電力が少なく、発熱量の少ないリニアモータ1
00の動作制御が行われる。By executing the energization / interruption control program, the switches (S01) to (S30) of each coil group (V phase, U phase, W phase) are individually turned on / off, and the propulsion force The coil contributing to the generation of the motor is selectively energized, so that the linear motor 1 consumes less power and generates less heat.
00 is performed.
【0049】この通電/遮断制御プログラムが開始され
ると、先ず、ステップS01で、入力部240より入力
された可動子120の目標位置と、位置センサ241で
検出された可動子120の現在位置が比較されて、その
差分ΔLが求められる。次のステップS02では、差分
(ΔL)が“0”であるか否かが判別される。この判別
結果が“Yes”のときには、可動子120が既に目標
位置にあると判断して、可動子120の停止処理(ステ
ップS03〜ステップS11)が実行される。When the energization / cutoff control program is started, first, in step S 01, the target position of the mover 120 input from the input unit 240 and the current position of the mover 120 detected by the position sensor 241 are determined. The difference ΔL is obtained by comparison. In the next step S02, it is determined whether or not the difference (ΔL) is “0”. When the determination result is “Yes”, it is determined that the mover 120 is already at the target position, and the stop processing of the mover 120 (steps S03 to S11) is performed.
【0050】一方、ステップS02の判別結果が“N
o”のときには、更に、差分(ΔL)が正の値であるか
負の値であるかが判別され(ステップS12)、正の値
のときには可動子120を正の方向(図8中、右方向)
に移動させる処理(ステップS13〜ステップS22)
が、負の値のときには可動子120を負の方向(図8
中、左方向)に移動させる処理(ステップS23〜ステ
ップS32)が、各々、行われる。On the other hand, if the decision result in the step S02 is "N
In the case of “o”, it is further determined whether the difference (ΔL) is a positive value or a negative value (step S12). If the difference (ΔL) is a positive value, the mover 120 is moved in the positive direction (rightward in FIG. 8). direction)
(Step S13 to Step S22)
Is a negative value, the mover 120 is moved in the negative direction (FIG. 8).
The processing of moving in the middle and left directions (steps S23 to S32) is performed.
【0051】先ず、可動子120の停止処理について、
説明する。可動子120の停止処理(ステップS3以降
の処理)に移行すると、先ず、ステップS03で、前回
ループでU相のスイッチ(S11)〜(S20)が全てオフ
となっていたか否かが判別される。この判別結果が“Y
es”のとき、すなわち、前回ループで既に、U相のス
イッチ(S11)〜(S20)が全てオフであったならば、
そのまま、ステップS06に進む。First, regarding the stop processing of the mover 120,
explain. When the process proceeds to the stop process of the mover 120 (process after step S3), first, in step S03, it is determined whether or not all the U-phase switches (S11) to (S20) have been turned off in the previous loop. . The result of this determination is “Y
es ", that is, if all the U-phase switches (S11) to (S20) were already off in the previous loop,
It proceeds to step S06 as it is.
【0052】一方、未だ、U相のスイッチ(S11〜(S
20)が全てオフでないならば、ステップS04で、U相
の電流Iuが“0”であるか否かが判別される。この判
別結果が“No”であるうちは、次のステップS05を
スキップして、ステップS6以降に進む。一方、“Ye
s”のときには、ステップS05で、この時点でオンと
なっているU相のスイッチ(S11)〜(S20)を全てオ
フして、電流IuがU相のコイル111(U)…,11
2(U)…に流れないようにし、ステップS06に進
む。On the other hand, the U-phase switches (S11 to (S
If all of 20) are not off, it is determined in step S04 whether the U-phase current Iu is “0”. While the determination result is “No”, the next step S05 is skipped, and the process proceeds to step S6 and subsequent steps. On the other hand, "Ye
s ", in step S05, all the U-phase switches (S11) to (S20) that are on at this time are turned off, and the current Iu is changed to the U-phase coils 111 (U),.
2 (U)... And the process proceeds to step S06.
【0053】ステップS06では、前回ループでV相の
スイッチ(S01)〜(S10)が全てオフとなっていたか
否かが判別される。この判別結果が“Yes”のときに
は、V相のスイッチ(S01)〜(S10)が既に全てオフ
なので、そのまま、ステップS09に進む。未だ、V相
のスイッチ(S01)〜(S20)が全てオフでないなら
ば、ステップS07で、V相の電流Ivが“0”である
か否かが判別され、判別結果が“No”であるうちは、
次のステップS08をスキップして、ステップS9以降
に進み、“Yes”のときには、ステップS08で、こ
の時点でオンとなっているV相のスイッチ(S01)〜
(S20)を全てオフして、ステップS09に進む。In step S06, it is determined whether or not all the V-phase switches (S01) to (S10) have been turned off in the previous loop. When the result of this determination is “Yes”, the switches (S01) to (S10) of the V phase are all off, and the process proceeds to step S09. If not all of the V-phase switches (S01) to (S20) have been turned off, it is determined in step S07 whether or not the V-phase current Iv is "0", and the determination result is "No". we are,
The next step S08 is skipped, and the process proceeds to step S9 and the subsequent steps. If "Yes", in step S08, the V-phase switches (S01) to ON which are on at this time are set.
(S20) is all turned off, and the process proceeds to step S09.
【0054】ステップS09〜ステップS11では、W
相についての、同様の処理が行われ、電流IwがW相の
コイル111(W),112(W)に流れないように制
御される。上記のように電流Iu、Iv、Iwの値が
“0”となった時点で、U相、V相、W相の各スイッチ
(S1)〜(S30)をオフするのは、第1列のコイル1
11,111…、第2列のコイル112,112…の各
コイルでの通電時から遮断時への過渡特性をよくするた
めである。In steps S09 to S11, W
Similar processing is performed for the phase, and control is performed so that the current Iw does not flow through the W-phase coils 111 (W) and 112 (W). When the values of the currents Iu, Iv, Iw become "0" as described above, the switches (S1) to (S30) of the U-phase, V-phase, and W-phase are turned off in the first row. Coil 1
., And the second row of coils 112, 112... In order to improve the transient characteristics from energization to interruption.
【0055】次に、可動子120を正の方向に移動させ
る処理(ステップS13〜ステップS22)について説
明する。この処理では、先ず、ステップS13で、可動
子120の現在位置に基づいて、オンすべきスイッチ
(S01)〜(S20)が決定される。ここで、オンすべき
対象のスイッチ(S01)〜(S20)は、前述した第1の
方法、第2の方法によって決定された「通電すべきコイ
ル」に接続されたスイッチである。Next, the process of moving the mover 120 in the positive direction (steps S13 to S22) will be described. In this process, first, in step S13, switches (S01) to (S20) to be turned on are determined based on the current position of the mover 120. Here, the switches to be turned on (S01) to (S20) are the switches connected to the "coil to be energized" determined by the above-described first and second methods.
【0056】次のステップS14では、先ず、今回ルー
プでオンすべきU相のスイッチ(S11)〜(S20)が、
既にオンとなっているか否かが判別される。この判別結
果が“Yes”のときには、そのまま、ステップS17
に進む。一方、オンすべき対象となっているU相のスイ
ッチ(S11〜S20の何れか)と既にオンしているスイッ
チとが一致していないならば、ステップS15で、U相
の電流Iuが“0”であるか否かが判別される。In the next step S14, first, the U-phase switches (S11) to (S20) to be turned on in this loop are
It is determined whether the switch is already on. If the result of this determination is "Yes", the process proceeds to step S17.
Proceed to. On the other hand, if the U-phase switch to be turned on (any of S11 to S20) does not match the already-on switch, in step S15, the U-phase current Iu is set to "0". Is determined.
【0057】この判別結果が“No”であるうちは、次
のステップS16をスキップして、ステップS17以降
に進み、“Yes”のときに、ステップS16に進む。
このステップS16では、オフとなっているU相のスイ
ッチ(S11〜S20)のうち今回新たにオンすべき対象と
なったスイッチがオンされ、オンとなっているU相のス
イッチ(S11〜S20)のうち今回新たにオフすべきスイ
ッチがオフされる。While the result of this determination is "No", the next step S16 is skipped, and the process proceeds to step S17 and thereafter, and when "Yes", the process proceeds to step S16.
In step S16, among the U-phase switches (S11 to S20) that are turned off, the switch that is to be newly turned on this time is turned on, and the U-phase switch (S11 to S20) that is turned on is turned on. The switch which should be newly turned off this time is turned off.
【0058】これにより、W相の電流Iuが、オンすべ
き対象となるW相のコイル111(W)…、112
(W)…にのみ流れる。次のステップS17〜ステップ
S19ではV相について、ステップS20〜ステップS
22ではW相について、同様に、オンすべき対象となっ
ているスイッチをオンし、対象から外れたスイッチをオ
フする制御が行われる。As a result, the W-phase current Iu is changed to the W-phase coils 111 (W)...
(W) flows only to ... In the next steps S17 to S19, for the V phase, steps S20 to S
At 22, the control for turning on the switch to be turned on and turning off the switch not to be turned on is similarly performed for the W phase.
【0059】上記のように、スイッチ(S01)〜スイッ
チ(S30)をオンからオフ、オフからオンするときに
も、電流Iu、Iv、Iwの値が“0”となった時点で
その切換を行うのは、コイル111,111…、11
2,112…の遮断時から通電時への過渡特性をよくす
るためである。又、可動子120を負の方向に移動させ
る処理(ステップS23〜ステップS32)でも、先
ず、ステップS23で、可動子120の現在位置に基づ
いて、オンすべきスイッチ(S01)〜(S30)が決定さ
れる。このオンすべきスイッチ(S01)〜(S30)を決
定する方法も、前記した第1の方法、第2の方法の何れ
かである。As described above, even when the switches (S01) to (S30) are turned on from off and from on to off, the switching is performed when the values of the currents Iu, Iv and Iw become "0". .., 11
This is for improving the transient characteristics from the time of interruption of 2,112. In the process of moving the mover 120 in the negative direction (steps S23 to S32), first, in step S23, the switches (S01) to (S30) to be turned on are set based on the current position of the mover 120. It is determined. The method of determining the switches (S01) to (S30) to be turned on is either the first method or the second method described above.
【0060】次のステップS24〜ステップS26では
U相について、可動子120を負の方向に移動させるべ
く、所望のスイッチ(S11)〜(S20)をオンからオ
フ、オフからオンに切り換える処置が行われる。尚、こ
のスイッチ(S11)〜(S20)のオンへの切換は、前記
したステップS14〜ステップS16と略同様の手順で
行われる。In the next steps S24 to S26, for the U phase, in order to move the mover 120 in the negative direction, a process of switching the desired switches (S11) to (S20) from on to off and from off to on is performed. Will be The switching of the switches (S11) to (S20) to ON is performed in substantially the same procedure as in steps S14 to S16 described above.
【0061】ステップS27〜ステップS29ではV相
について、ステップS30〜ステップS32ではW相に
ついて、各々、オンすべき対象となっているスイッチ
(S01)〜(S10)、スイッチ(S21)〜(S30)を実
際にオンからオフ、オフからオンに切り換える制御が行
われる。 (第2の実施の形態)次に、本発明の第2の実施の形態
について、図15を用いて説明する。The switches (S01) to (S10) and the switches (S21) to (S30) to be turned on for the V phase in steps S27 to S29 and for the W phase in steps S30 to S32, respectively. Is actually switched from on to off and off to on. (Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【0062】尚、この第2の実施の形態のリニアモータ
350は、固定子360内のコイル111,111…、
112,112…の配列、及び、これに接続されるスイ
ッチ(S01)〜(S05)、(S11)〜(S15)、(S2
1)〜(S25)の配置が、上記した第1の実施の形態と
異なる。すなわち、リニアモータ350では、コイル1
11,112を水密に密封するハウジング113(図3
参照)から引き出される配線の数を少なくするために、
U相のコイル群111(U),112(U)、V相のコ
イル群111(V),112(V)、W相のコイル群1
11(W),112(W)において、第1列のコイル1
11と第2列のコイル112とを並列に接続し、この並
列に接続されたコイル111,112と制御部300と
の間に1つのスイッチを設けている。The linear motor 350 according to the second embodiment has coils 111, 111,.
.., And switches (S01) to (S05), (S11) to (S15), (S2)
The arrangement of 1) to (S25) is different from that of the first embodiment. That is, in the linear motor 350, the coil 1
A housing 113 (see FIG.
To reduce the number of wires drawn from
U-phase coil groups 111 (U), 112 (U), V-phase coil groups 111 (V), 112 (V), W-phase coil group 1
11 (W) and 112 (W), the first row of coils 1
11 and the second row of coils 112 are connected in parallel, and one switch is provided between the coils 111 and 112 connected in parallel and the control unit 300.
【0063】これにより、ハウジング113から外部に
引き出される配線の数を、1/2に減らすことができ
る。この結果、ハウジング113の水密性は高められ、
冷却効率が向上する。As a result, the number of wirings drawn out from the housing 113 can be reduced to half. As a result, the water tightness of the housing 113 is enhanced,
Cooling efficiency is improved.
【0064】尚、第2の実施の形態のリニアモータ35
0の他の構造、並びに、スイッチ(S01)〜(S05)、
(S11)〜(S15)、(S21)〜(S25)の切換制御の
手順等は、上記した第1の実施の形態のリニアモータ1
00と略同一であり、その詳細な説明は省略する。尚、
第1列のコイル111と第2列のコイル112とを並列
に接続した場合について説明したが、直列に接続しても
よい。この場合も配線の数を減らすことができる。The linear motor 35 according to the second embodiment
0, and switches (S01) to (S05),
The switching control procedure of (S11) to (S15) and (S21) to (S25) is the same as that of the linear motor 1 of the first embodiment.
00 is substantially the same as that of FIG. still,
Although the case where the coils 111 in the first row and the coils 112 in the second row are connected in parallel has been described, they may be connected in series. Also in this case, the number of wirings can be reduced.
【0065】(第3の実施の形態)次に、本発明の第3
の実施の形態について、図16を用いて説明する。尚、
この第3の実施の形態のリニアモータ450は、固定子
460内のコイル111,111…、112,112…
と、制御部400との間に介在されたスイッチ(S01)
〜(S06)、(S11)〜(S15)、(S21)〜(S25)
の配置が、上記した第1の実施の形態と異なる。(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described.
The embodiment will be described with reference to FIG. still,
The linear motor 450 according to the third embodiment includes coils 111, 111, 112, 112,.
And a switch (S01) interposed between the controller and the controller 400
-(S06), (S11)-(S15), (S21)-(S25)
Is different from the above-described first embodiment.
【0066】このリニアモータ450も、ハウジング1
13(図3参照)から引き出される配線の数を少なくす
るための工夫がなされている。すなわち、第3の実施の
形態では、複数のコイル111,111…、112,1
12…のうち、固定子460の所定の領域(ここでは中
央部)に位置するコイル(図16では、V相、U相、W
相の各コイル群の中央の4個)が、スイッチを介するこ
となく、直接、制御部400の電流値制御部410に接
続されている。The linear motor 450 is also mounted on the housing 1
A device has been devised to reduce the number of wirings drawn from the wiring 13 (see FIG. 3). That is, in the third embodiment, the plurality of coils 111, 111,.
12, the coils (V-phase, U-phase, W-phase in FIG.
The center four coils of each phase coil group) are directly connected to the current value control unit 410 of the control unit 400 without using a switch.
【0067】このように、中央部に位置するコイル11
1,…、112,…を常時、電流値制御部410に接続
させておくのは、固定子460の中央部は、通常の使用
状態(例えば、リニアモータ450をステージ装置に利
用した場合)で、可動子460が、高い確率で、存在す
る箇所だからである。この場合には、第1の実施の形態
のリニアモータ100に比べて、電力消費量がやや増え
るものの、ハウジング113から引き出される配線の数
を減らすことができ、その冷却効率が向上する。又、ス
イッチ(S01)〜(S06)、(S11)〜(S15)、(S
21)〜(S25)の数が少ない分、オン/オフ制御を容易
に行うことができる。As described above, the coil 11 located at the center is
, 112,... Are always connected to the current value control unit 410 because the central part of the stator 460 is in a normal use state (for example, when the linear motor 450 is used for a stage device). This is because the mover 460 exists at a high probability. In this case, the power consumption is slightly increased as compared with the linear motor 100 according to the first embodiment, but the number of wires drawn from the housing 113 can be reduced, and the cooling efficiency is improved. Also, the switches (S01) to (S06), (S11) to (S15), (S
On / off control can be easily performed because the number of (21) to (S25) is small.
【0068】尚、常時通電しておく領域は中央部に限定
されるものではなく、可動子460が高い確率で存在す
る箇所があればその領域を常時通電するようにすればよ
い。又、上記した第1〜第3の実施の形態では、磁極の
数が4つの可動子120を有するリニアモータ100を
例にあげて説明したが、図17に示す、磁極が8つの可
動子520を有するリニアモータ500、更には、図1
8に示す、磁極が11の可動子570を有するリニアモ
ータ550にも、本発明は適用できるのは勿論である。It should be noted that the region where the current is always supplied is not limited to the central portion. If there is a portion where the mover 460 exists with a high probability, the region may be always supplied with the current. In the first to third embodiments, the linear motor 100 having the mover 120 having four magnetic poles has been described as an example. However, the mover 520 having eight magnetic poles shown in FIG. The linear motor 500 having
The present invention can of course be applied to a linear motor 550 shown in FIG. 8 and having a mover 570 having 11 magnetic poles.
【0069】尚、上記した第1〜第3の実施の形態で
は、少なくとも磁石ユニット120Aと対向しているコ
イルを通電して、可動子120を駆動する例をあげて説
明したが、当該磁石ユニット120Aと対向する少なく
とも1つのコイルを通電するだけでも、可動子120を
駆動することができる。 (第4の実施の形態)次に、本発明の第4の実施の形態
について、図19を用いて説明する。In the first to third embodiments, an example has been described in which at least the coil facing the magnet unit 120A is energized to drive the mover 120. The mover 120 can be driven simply by energizing at least one coil facing the 120A. (Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【0070】この第4の実施の形態は、半導体の製造に
用いられるステージ装置600に、上記した第1〜第3
の実施の形態によって得られるリニアモータ(100
等)を用いたものである。以下では、第1の実施の形態
のリニアモータ100(図1)をステージ装置600に
組み込んだ場合を例にあげて説明する。第1の実施の形
態のリニアモータ100は、各コイル111,111
…、112,112…への通電/遮断が、可動子120
の位置に応じて制御されているため、固定子110での
発熱量Qが可及的に少なくなるように構成されており、
当該リニアモータ100は、そのモータ定数が高くな
る。In the fourth embodiment, the first to third stages described above are applied to a stage device 600 used for manufacturing a semiconductor.
The linear motor (100) obtained by the embodiment
Etc.). Hereinafter, a case where the linear motor 100 (FIG. 1) of the first embodiment is incorporated in a stage device 600 will be described as an example. The linear motor 100 according to the first embodiment includes the coils 111, 111
, 112, 112...
Is controlled in accordance with the position of, so that the heat value Q of the stator 110 is configured to be as small as possible.
The linear motor 100 has a high motor constant.
【0071】この第4の実施の形態では、モータ定数の
高いリニアモータ100が、ステージ装置600のXス
テージ(可動ステージ)600Xの駆動に用いられてい
る。ここで、固定子110のハウジング113とコイル
111,111…、112,112…との間の冷却液用
流路115に温度調節用の流体を流したとき、固定子1
10から生じる熱が吸収される。In the fourth embodiment, the linear motor 100 having a high motor constant is used for driving the X stage (movable stage) 600X of the stage device 600. Here, when a fluid for temperature adjustment is passed through the coolant passage 115 between the housing 113 of the stator 110 and the coils 111, 111, 112, 112,.
Heat from 10 is absorbed.
【0072】尚、Yステージ600Yの駆動に用いられ
る2つのリニアモータ620(図19には一方のみ図
示)の構成は、リニアモータ100と同一であり、その
詳細な説明は省略する。これらリニアモータ100,6
20が駆動手段として用いられるステージ装置600
は、その用途は限定されないが、この実施の形態では、
ウェハ(基板)W上にマスク(図示省略)に形成された
パターンを転写する露光装置における、ウェハWの移動
手段として用いられる。The configuration of the two linear motors 620 (only one is shown in FIG. 19) used for driving the Y stage 600Y is the same as that of the linear motor 100, and a detailed description thereof will be omitted. These linear motors 100, 6
Stage device 600 in which 20 is used as driving means
Is not limited in its use, but in this embodiment,
It is used as a means for moving the wafer W in an exposure apparatus that transfers a pattern formed on a mask (not shown) onto the wafer (substrate) W.
【0073】すなわち、ステージ装置600は、X軸及
びY軸の2軸のX−Yステージ装置であり、ベース部6
02上をX方向(図中矢印Xで示す方向)に駆動される
Xステージ600X、Y方向(矢印Yで示す方向)に駆
動されるYステージ600Y、及び試料台(可動体)6
04を、主たる構成要素としている。ここで試料台60
4は、前記Yステージ600Y上に配置され、この試料
台604にウェハホルダ(図示省略)を介してウェハ
(基板)Wが搭載される。That is, the stage device 600 is a two-axis XY stage device of X-axis and Y-axis,
02, an X stage 600X driven in the X direction (direction indicated by arrow X in the figure), a Y stage 600Y driven in the Y direction (direction indicated by arrow Y), and a sample stage (movable body) 6
04 is a main component. Here, the sample stage 60
Reference numeral 4 is arranged on the Y stage 600Y, and a wafer (substrate) W is mounted on the sample stage 604 via a wafer holder (not shown).
【0074】このウェハWの上方には、図示省略の照射
部が配置されており、照射部からマスク(共に図示省
略)を介して照射された露光光によって、前記ウェハW
上に予め塗布されたレジスト(図示省略)に、マスク上
の回路パターンが転写されるようになっている。ステー
ジ装置600におけるXステージ600X及びYステー
ジ600Yの移動量は、各々、試料台604のX方向の
端部、Y方向の端部に固定された移動鏡605X,60
5Yと、これに対向するように、ベース部602に各々
固定されたレーザ干渉計606X,606Yとによって
計測される。そして、主制御装置(図示省略)が、この
計測結果を基に、試料台604をベース部602上の所
望の位置に移動制御するようになっている。An irradiation unit (not shown) is arranged above the wafer W, and the wafer W is irradiated with exposure light irradiated from the irradiation unit via a mask (both not shown).
The circuit pattern on the mask is transferred to a resist (not shown) previously applied thereon. The amounts of movement of the X stage 600X and the Y stage 600Y in the stage device 600 are determined by the movable mirrors 605X and 60X fixed to the X-direction end and the Y-direction end of the sample stage 604, respectively.
5Y and the laser interferometers 606X and 606Y fixed to the base 602 so as to face each other. Then, a main controller (not shown) controls the movement of the sample table 604 to a desired position on the base 602 based on the measurement result.
【0075】又、レーザ干渉計606X,606Yは、
それぞれ各軸方向に駆動するリニアモータにおいて、第
1〜第3の実施の形態における位置センサ241の機能
を有するものである。各干渉計606X,606Yから
の出力は、図13に示すスイッチ切換制御部240を介
して各スイッチS01〜S30のオン/オフの切換え制
御に用いられる。The laser interferometers 606X and 606Y are
Each of the linear motors driven in each axis direction has the function of the position sensor 241 in the first to third embodiments. Outputs from the interferometers 606X and 606Y are used for on / off switching control of each of the switches S01 to S30 via a switch switching control unit 240 shown in FIG.
【0076】このステージ装置600のXステージ60
0X、Yステージ600Yは、共に、多数のコイル11
1,111…、112,112…が軸方向に配置された
固定子110を用いたリニアモータ100,100,6
20,620によって、各々、ベース部602上をX方
向、Y方向に駆動される。ここで、2つのリニアモータ
100,100の固定子110,110は、共にベース
602上に取付部116,116にて固定され、可動子
120,120は、各々、固定板607,607を介し
てXステージ600Xに固定されている。The X stage 60 of the stage device 600
Both the 0X and Y stages 600Y have many coils 11
Linear motors 100, 100, 6 using a stator 110 in which 1, 111..., 112, 112.
20 and 620, the base portion 602 is driven in the X and Y directions, respectively. Here, the stators 110, 110 of the two linear motors 100, 100 are both fixed on mounting portions 116, 116 on the base 602, and the movers 120, 120 are respectively fixed via fixing plates 607, 607. Fixed to X stage 600X.
【0077】又、リニアモータ620,620の、各々
の固定子621,621は共にXステージ600Xに固
定され、可動子622,622(一方のみ図示)はYス
テージ600Yに固定されている。各固定子110,1
10,621,621は、その内部の流路に流される温
度調整用の流体によって冷却されるが、この流体は、温
度調節機631にて温度調節される。尚、固定子11
0,110,621,621と温度調節機631とは、
吐出配管632、配管633等によって接続されてい
る。Further, the stators 621 and 621 of the linear motors 620 and 620 are both fixed to the X stage 600X, and the movers 622 and 622 (only one is shown) are fixed to the Y stage 600Y. Each stator 110, 1
10, 621 and 621 are cooled by a fluid for temperature adjustment flowing in a flow path inside thereof, and the temperature of this fluid is adjusted by a temperature controller 631. The stator 11
0,110,621,621 and the temperature controller 631
They are connected by a discharge pipe 632, a pipe 633, and the like.
【0078】又、ステージ装置600には、エアガイド
640と静圧気体軸受け(図示省略)とが設けられて、
エア吹き出し口641、エア吸引口642によって静圧
空気軸受式のステージが構成されている。 (第5の実施の形態)次に、本発明の第5の実施の形態
について、図20を用いて説明する。The stage device 600 is provided with an air guide 640 and a static pressure gas bearing (not shown).
The air blowing port 641 and the air suction port 642 constitute a static pressure air bearing type stage. (Fifth Embodiment) Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【0079】この第5の実施の形態は、上記した第1〜
第3の実施の形態によって得られたリニアモータ(10
0)を露光装置700のレチクル(マスク)ステージ7
50の駆動手段として用いたものである。この第5の実
施の形態では、第1の実施の形態のリニアモータ100
(図1)がレチクルステージ750に組み込まれてい
る。The fifth embodiment is different from the first to the fifth embodiments.
The linear motor (10) obtained by the third embodiment
Reticle (mask) stage 7 of exposure apparatus 700
50 are used as driving means. In the fifth embodiment, the linear motor 100 according to the first embodiment is used.
(FIG. 1) is incorporated in reticle stage 750.
【0080】ここで露光装置700は、いわゆるステッ
プ・アンド・スキャン露光方式の走査型露光装置であ
る。この露光装置700は、図20に示すように、照明
系710と、レチクル(フォトマスク)Rを保持するス
テージ可動部751と、投影光学系PLと、ウェハ(基
板)UをX−Y平面内でX方向−Y方向の2次元方向に
駆動するステージ装置800と、これらを制御する主制
御装置720等を備えている。The exposure apparatus 700 is a so-called step-and-scan exposure type scanning exposure apparatus. As shown in FIG. 20, the exposure apparatus 700 includes an illumination system 710, a stage movable unit 751 for holding a reticle (photomask) R, a projection optical system PL, and a wafer (substrate) U in an XY plane. , A stage device 800 for driving in a two-dimensional direction of the X direction and the Y direction, and a main control device 720 for controlling these.
【0081】前記照明系710は、光源ユニットから照
射された露光光を、レチクルR上の矩形(あるいは円弧
状)の照明領域IARに均一な照度で照射するものであ
る。又、レチクルステージ750では、ステージ可動部
751がレチクルベース(図示省略)上を所定の走査速
度でガイドレール(図示省略)に沿って移動される。
又、ステージ可動部751の上面にはレチクルRが、例
えば真空吸着により固定される。又、ステージ可動部7
51のレチクルRの下方には、露光光通過穴(図示省
略)が形成されている。The illumination system 710 irradiates the exposure light emitted from the light source unit to a rectangular (or arc-shaped) illumination area IAR on the reticle R with uniform illuminance. In the reticle stage 750, the stage movable section 751 is moved on a reticle base (not shown) at a predetermined scanning speed along a guide rail (not shown).
A reticle R is fixed on the upper surface of the stage movable section 751, for example, by vacuum suction. Also, the stage movable part 7
An exposure light passage hole (not shown) is formed below the reticle R of 51.
【0082】このステージ可動部751の移動位置は、
反射鏡715、レチクルレーザ干渉計716によって検
出され、ステージ制御系719は、この検出されたステ
ージ可動部751の移動位置に基づく主制御装置720
からの指示に応じて、ステージ可動部751を駆動す
る。又、投影光学系PLは縮小光学系であり、レチクル
ステージ750の下方に配置され、その光軸AX(照明
光学系の光軸IXに一致)の方向がZ軸方向とされる。
ここではテレセントリックな光学配置となるように光軸
AX方向に沿って所定間隔で配置された複数枚のレンズ
エレメントから成る屈折光学系が使用されている。従っ
て、上記照明系710によりレチクルRの照明領域IA
Rが照明されると、レチクルRの照明領域IAR内の回
路パターンの縮小像(部分倒立像)が、ウェハW上の照
明領域IARに共役な露光領域IAに形成される。The moving position of the stage movable portion 751 is
The stage control system 719 is detected by the reflecting mirror 715 and the reticle laser interferometer 716, and the main controller 720 based on the detected moving position of the stage movable section 751 is used.
The stage movable section 751 is driven in accordance with the instruction from. The projection optical system PL is a reduction optical system, and is disposed below the reticle stage 750, and the direction of its optical axis AX (coincident with the optical axis IX of the illumination optical system) is defined as the Z-axis direction.
Here, a refraction optical system including a plurality of lens elements arranged at predetermined intervals along the optical axis AX direction so as to have a telecentric optical arrangement is used. Therefore, the illumination area IA of the reticle R by the illumination system 710
When R is illuminated, a reduced image (partially inverted image) of the circuit pattern in the illumination area IAR of the reticle R is formed in the exposure area IA conjugate to the illumination area IAR on the wafer W.
【0083】尚、ステージ装置800は、コイルを電機
子として用いた平面モータ870を駆動手段として、テ
ーブル818をX−Y面内で2次元方向に駆動するもの
である。すなわち、ステージ装置800は、ベース部8
21と、このベース部821の上面の上方に数μm程度
のクリアランスを介して浮上されるテーブル818と、
このテーブル818を移動させる平面モータ870とを
具えている。ここでテーブル818には、露光処理時、
その上面にウェハ(基板)Wが、例えば真空吸着によっ
て固定される。The stage device 800 drives the table 818 in a two-dimensional direction in the XY plane by using a plane motor 870 using a coil as an armature as a driving means. That is, the stage device 800 includes the base unit 8
21, a table 818 that floats above the upper surface of the base portion 821 through a clearance of about several μm,
A flat motor 870 for moving the table 818 is provided. Here, the table 818 stores the values of
A wafer (substrate) W is fixed on the upper surface by, for example, vacuum suction.
【0084】又、テーブル818には移動鏡827が固
定され、ウェハ干渉計831からレーザビームが照射さ
れて、当該テーブル818のX−Y面内での移動位置が
検出されるようになっている。このとき得られた移動位
置の情報は、ステージ制御系719を介して主制御装置
720に送られる。そして、ステージ制御系719は、
この情報に基づく主制御装置720からの指示に従っ
て、平面モータ870を作動させ、テーブル818をX
−Y面内の所望の位置に移動させる。A moving mirror 827 is fixed to the table 818, and a laser beam is emitted from the wafer interferometer 831 to detect the moving position of the table 818 in the XY plane. . Information on the movement position obtained at this time is sent to main controller 720 via stage control system 719. Then, the stage control system 719
In accordance with an instruction from main controller 720 based on this information, planar motor 870 is operated and table 818 is set to X
-Move to a desired position in the Y plane.
【0085】テーブル818は、平面モータ870を構
成する可動子(図示省略)の上面に、支持機構(図示省
略)によって異なる3点で支持されており、平面モータ
870によって、X方向、Y方向に駆動するのみならず
X−Y面に対して傾斜させたり、Z軸方向(上方)に駆
動させることができるようになっている。尚、平面モー
タ870は、公知の構成であり、平面モータ870のそ
の他の説明は省略する。The table 818 is supported on the upper surface of a mover (not shown) constituting the plane motor 870 at three different points by a support mechanism (not shown). The table 818 is moved in the X and Y directions by the plane motor 870. Not only can it be driven, but also it can be tilted with respect to the XY plane or driven in the Z-axis direction (upward). Note that the planar motor 870 has a known configuration, and other descriptions of the planar motor 870 are omitted.
【0086】尚、図中、符号821はベース部であり、
その内部から生じる熱による温度上昇を防ぐための流体
が、供給管792、排出管793、温度調節装置779
の作用によって、循環されるようになっている。斯かる
構成のレチクルステージ750を含む露光装置700に
おいては、概ね、以下の手順で露光処理が行われる。In the figure, reference numeral 821 denotes a base portion,
A fluid for preventing a temperature rise due to heat generated from the inside thereof is supplied to a supply pipe 792, a discharge pipe 793, and a temperature control device 779.
It is circulated by the action of. In exposure apparatus 700 including reticle stage 750 having such a configuration, exposure processing is generally performed in the following procedure.
【0087】先ず、レチクルR、ウェハWがロードさ
れ、次いで、レチクルアラインメント、ベースライン計
測、アラインメント計測等が実行される。アライメント
計測の終了後には、ステップ・アンド・スキャン方式の
露光動作が行われる。露光動作にあたっては、レチクル
干渉計716によるレチクルRの位置情報、ウェハ干渉
計831によるウェハWの位置情報に基づき、主制御装
置720がステージ制御系719に指令を出し、レチク
ルステージ750のリニアモータ100,100及び平
面モータ870によって、レチクルRとウェハ9とが同
期して移動し、もって、所望の走査露光が行われる。First, reticle R and wafer W are loaded, and then reticle alignment, baseline measurement, alignment measurement, and the like are performed. After the completion of the alignment measurement, an exposure operation of a step-and-scan method is performed. In the exposure operation, main controller 720 issues a command to stage control system 719 based on position information of reticle R by reticle interferometer 716 and position information of wafer W by wafer interferometer 831, and controls linear motor 100 of reticle stage 750. , 100 and the plane motor 870, the reticle R and the wafer 9 are moved synchronously, thereby performing a desired scanning exposure.
【0088】又、レチクル干渉計716は、第1〜第3
の実施の形態における位置センサ241の機能を有する
ものであり、レチクル干渉計716からの出力は、図1
3に示すスイッチ切換制御部240を介して各スイッチ
S01〜S30のオン/オフの切換え制御に用いられ
る。このようにして、1つのショット領域に対するレチ
クルパターンの転写が終了すると、テーブル818が1
ショット領域分だけステッピングされて、次のショット
領域に対する走査露光が行われる。このステッピングと
走査露光とが順次繰り返され、ウェハ9上に必要なショ
ット数のパターンが転写される。The reticle interferometer 716 has first to third
1 has the function of the position sensor 241 in the embodiment, and the output from the reticle interferometer 716 is
3 is used for on / off switching control of each of the switches S01 to S30 via a switch switching control unit 240 shown in FIG. In this way, when the transfer of the reticle pattern to one shot area is completed, the table 818 becomes 1
Stepping is performed by the shot area, and scanning exposure is performed on the next shot area. This stepping and scanning exposure are sequentially repeated, and the required number of shot patterns are transferred onto the wafer 9.
【0089】ここで、上記のレチクルステージ750に
おいては、リニアモータ100,100の固定子11
0,110を構成する各コイル20,20…に、3相の
電流が適宜供給され、その移動量が制御される。この露
光装置700のレチクルステージ750は、推進力が大
きく、余分に電力を消費することもない。尚、本発明の
第4の実施の形態、第5の実施の形態のステージ装置6
00、又は露光装置700を用いた半導体デバイスの製
造は、概ね、図21、図22に示す手順で行われる。Here, in reticle stage 750, stators 11 of linear motors 100, 100
.. Constituting the coils 0, 110 are appropriately supplied with three-phase currents, and the amount of movement is controlled. Reticle stage 750 of exposure apparatus 700 has a large propulsive force and does not consume extra power. Note that the stage device 6 according to the fourth and fifth embodiments of the present invention.
Manufacturing of a semiconductor device using the exposure apparatus 700 or the exposure apparatus 700 is generally performed according to the procedure shown in FIGS.
【0090】すなわち、半導体デバイスは、デバイスの
機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基
づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料から
ウェハを製作するステップ、前述した実施の形態の露光
装置によりレチクルのパターンをウェハに転写するステ
ップ、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボ
ンディング工程、パッケージ工程を含む)、検査ステッ
プ等を経て製造される。That is, for a semiconductor device, a step of designing the function and performance of the device, a step of manufacturing a reticle based on this design step, a step of manufacturing a wafer from a silicon material, and a reticle by the exposure apparatus of the above-described embodiment. Is manufactured through a step of transferring the above pattern to a wafer, a device assembling step (including a dicing step, a bonding step, and a package step), an inspection step, and the like.
【0091】以下、デバイス製造方法について、更に詳
細に説明する。図21には、デバイス(ICやLSI等
の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートが示
されている。 この図に示されるように、まず、ステッ
プ1001(設計ステップ)において、デバイスの機能
・性能設計(例えば、半導体テバイスの回路設計等)を
行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。
引き続き、ステップ1002(マスク製作ステップ)に
おいて、設計した回路パターンを形成したマスク(レチ
クル)を製作する。一方、ステップ1003(ウェハ製
造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウェ
ハを製造する。Hereinafter, the device manufacturing method will be described in more detail. FIG. 21 shows a flowchart of an example of manufacturing a device (a semiconductor chip such as an IC or LSI, a liquid crystal panel, a CCD, a thin-film magnetic head, a micromachine, etc.). As shown in this figure, first, in step 1001 (design step), a function / performance design of a device (for example, a circuit design of a semiconductor device) is performed, and a pattern design for realizing the function is performed.
Subsequently, in step 1002 (mask manufacturing step), a mask (reticle) on which the designed circuit pattern is formed is manufactured. On the other hand, in step 1003 (wafer manufacturing step), a wafer is manufactured using a material such as silicon.
【0092】次に、ステップ1004(ウェハ処理ステ
ップ)において、ステップ1001〜ステップ1003
で用意したマスク(レチクル)とウェハを使用して、後
述するように、リソグラフィ技術等によってウェハ上に
実際の回路等を形成する。次いで、ステップ1005
(テバイス組立ステップ)において、ステップ1004
で処理されたウェハを用いてテバイス組立を行う。この
ステップ1005には、ダイシング工程、ボンディング
工程、及びパッケージング工程(チップ封入)等の工程
が必要に応じて含まれる。Next, in step 1004 (wafer processing step), steps 1001 to 1003
Using the mask (reticle) and the wafer prepared in the above, an actual circuit or the like is formed on the wafer by lithography technology or the like as described later. Next, step 1005
In (Tevaise assembly step), step 1004
Is assembled by using the wafer processed in the above step. Step 1005 includes processes such as a dicing process, a bonding process, and a packaging process (chip encapsulation) as necessary.
【0093】最後に、ステップ1006(検査ステッ
プ)において、ステップ1005で作製されたテバイス
の動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こう
した工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷され
る。Finally, in step 1006 (inspection step), inspections such as an operation confirmation test and a durability test of the device manufactured in step 1005 are performed. After these steps, the device is completed and shipped.
【0094】図22には、半導体テバイスの場合におけ
る、上記ステップ1004の詳細なフロー例が示されて
いる。図22において、ステップ1011(酸化ステッ
プ)においてはウェハの表面を酸化させる。ステップ1
012(CVDステップ)においてはウェハ表面に酸化
絶縁膜を形成する。ステップ1013(電極形成ステッ
プ)においてはウェハ上に電極を蒸着によって形成す
る。ステップ1014(イオン打込みステップ)におい
てはウェハにイオンを打ち込む。FIG. 22 shows a detailed flow example of step 1004 in the case of a semiconductor device. In FIG. 22, in step 1011 (oxidation step), the surface of the wafer is oxidized. Step 1
In 012 (CVD step), an oxide insulating film is formed on the wafer surface. In step 1013 (electrode forming step), electrodes are formed on the wafer by vapor deposition. In step 1014 (ion implantation step), ions are implanted into the wafer.
【0095】以上のステップ1011〜ステップ101
4それぞれは、ウェハ処理の各段階の前処理工程を構成
しており、各段階において必要な処理に応じて選択され
て実行される。ウェハプロセスの各段階において、上述
の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工
程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップ
1015(レジスト形成ステップ)において、ウェハに
感光剤を塗布する。引き続き、ステップ1016(露光
ステップ)において、上で説明した露光装置を用いてマ
スクの回路パターンをウェハに転写する。次に、ステッ
プ1017(現像ステップ)においては露光されたウェ
ハを現像し、ステップ1018(エッチングステップ)
において、レジストが残存している部分以外の部分の露
出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップ
1019(レジスト除去ステップ)においてエッチング
が済んで不要となったレジストを取り除く。The above steps 1011 to 101
Each of the components 4 constitutes a pre-processing step in each stage of the wafer processing, and is selected and executed according to a necessary process in each stage. In each stage of the wafer process, when the above-described pre-processing step is completed, the post-processing step is executed as follows. In this post-processing step, first, in step 1015 (resist forming step), a photosensitive agent is applied to the wafer. Subsequently, in step 1016 (exposure step), the circuit pattern of the mask is transferred onto the wafer by using the above-described exposure apparatus. Next, in step 1017 (development step), the exposed wafer is developed, and in step 1018 (etching step)
In, the exposed member other than the portion where the resist remains is removed by etching. Then, in step 1019 (resist removing step), unnecessary resist after etching is removed.
【0096】これらの前処理工程と後処理工程とを繰り
返し行うことによって、ウェハ上に多重に回路パターン
が形成される。尚、本発明のリニアモータ100、35
0、450は、実施の形態で示した露光装置以外の、マ
スクと基板とを同期移動してマスクのパターンを露光す
る走査型の露光装置(例えば、米国特許第5,473,
410号)の駆動手段としても適用することができる。By repeating these pre-processing and post-processing steps, multiple circuit patterns are formed on the wafer. In addition, the linear motors 100 and 35 of the present invention
Reference numerals 0 and 450 denote scanning-type exposure apparatuses other than the exposure apparatuses described in the embodiment, which expose the pattern of the mask by synchronously moving the mask and the substrate (for example, US Pat. No. 5,473,473).
No. 410).
【0097】又、本発明のリニアモータが適用された装
置は、マスクと基板とを静止した状態でマスクのパター
ンを露光し、基板を順次ステップ移動させるステップ・
アンド・リピート型の露光装置にも適用することができ
る。又、本発明のリニアモータが適用された装置は、投
影光学系を用いることなくマスクと基板とを密接させて
マスクのパターンを露光するプロキシミディ露光装置に
も適用することができる。In the apparatus to which the linear motor of the present invention is applied, the mask pattern is exposed while the mask and the substrate are stationary, and the substrate is sequentially moved step by step.
The present invention can also be applied to an AND repeat type exposure apparatus. The apparatus to which the linear motor of the present invention is applied can also be applied to a proxy midi exposure apparatus that exposes a mask pattern by bringing a mask and a substrate into close contact without using a projection optical system.
【0098】又、本発明のリニアモータが適用された露
光装置は、半導体製造用の露光装置に限定されることな
く、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パタ
ーンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを
製造するための露光装置にも、本発明は広く適用でき
る。又、第5の実施の形態の露光装置の光源は、g線
(436nm)、i線(365nm)、KrFエキシマ
レーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193
nm)、F2レーザ(157nm)のみならず、X線や
電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例え
ば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射
型のランタンヘキサホライド(LaB6)、タンタル
(Ta)を用いることができる。さらに、電子線を用い
る場合は、マスクを用いる構成としてもよいし、マスク
を用いずに直接基板上にパターンを形成する構成として
もよい。The exposure apparatus to which the linear motor of the present invention is applied is not limited to an exposure apparatus for manufacturing semiconductors. For example, an exposure apparatus for a liquid crystal for exposing a liquid crystal display element pattern to a square glass plate. The present invention can be widely applied to an apparatus and an exposure apparatus for manufacturing a thin-film magnetic head. The light source of the exposure apparatus according to the fifth embodiment includes g-line (436 nm), i-line (365 nm), KrF excimer laser (248 nm), and ArF excimer laser (193).
nm) and F2 laser (157 nm), as well as charged particle beams such as X-rays and electron beams. For example, when an electron beam is used, thermionic emission type lanthanum hexafluoride (LaB6) or tantalum (Ta) can be used as an electron gun. Further, when an electron beam is used, a structure using a mask may be used, or a pattern may be formed directly on a substrate without using a mask.
【0099】この場合には、投影光学系として、エキシ
マレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英
や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レー
ザやX線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学
系にし(レチクルも反射型タイプのものを用いる)、ま
た、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズお
よび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、
電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまで
もない。In this case, when far-ultraviolet light such as excimer laser is used as the projection optical system, a material that transmits far-ultraviolet light such as quartz or fluorite is used as a glass material, and when F2 laser or X-ray is used, reflection is used. An optical system of a refraction system or a refraction system (a reticle of a reflection type is used). When an electron beam is used, an electron optical system including an electron lens and a deflector may be used as the optical system. In addition,
It goes without saying that the optical path through which the electron beam passes is in a vacuum state.
【0100】又、本発明のリニアモータが駆動手段とし
て適用される露光装置の投影光学系の倍率は、縮小系の
みならず等倍および拡大系であってもよい。又、ウェハ
ステージやレチクルステージに、本発明のリニアモータ
を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型お
よびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮
上型のどちらを用いてもよい。The magnification of the projection optical system of the exposure apparatus to which the linear motor of the present invention is applied as a driving means may be not only a reduction system but also an equal magnification and an enlargement system. When the linear motor of the present invention is used for a wafer stage or a reticle stage, either an air levitation type using an air bearing or a magnetic levitation type using Lorentz force or reactance force may be used.
【0101】又、本発明のリニアモータが適用されるス
テージとしては、ガイドに沿って移動するタイプに限ら
ず、ガイドを必要としないガイドレスタイプであっても
よい。尚、ウェハステージの移動により発生する反力に
関しては、特開平8−166475号公報にて提案され
ている発明を利用して、フレーム部材を用いて、機械的
に床側(大地)に逃がすようにしてもよい。The stage to which the linear motor of the present invention is applied is not limited to a type that moves along a guide, but may be a guideless type that does not require a guide. The reaction force generated by the movement of the wafer stage may be mechanically released to the floor (ground) by using a frame member by using the invention proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-166475. It may be.
【0102】又、レチクルステージの移動により発生す
る反力に関しては、特開平8−330224号公報にて
提案されている発明を利用して、フレーム部材を用い
て、機械的に床側(大地)に逃がすようにしてもよい。
以上に説明した本発明のリニアモータが適用される露光
装置は、特許請求の範囲に挙げた各構成要素を含む各種
サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学
的精度を保つように、組み立てることで製造される。Regarding the reaction force generated by the movement of the reticle stage, utilizing the invention proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-330224, a frame member is used to mechanically move the floor side (ground). You may make it escape to.
The exposure apparatus to which the linear motor according to the present invention described above is applied is designed to maintain various mechanical subsystems including the respective constituent elements recited in the claims with predetermined mechanical accuracy, electrical accuracy, and optical accuracy. And manufactured by assembling.
【0103】これら各種精度を確保するために、この組
み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を
達成するための調整、各種機械系については機械的精度
を達成するための調整、各種電気系については電気的精
度を達成するための調整が行われる。又、各種サブシス
テムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステ
ム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路
の配管接続等が含まれる。In order to ensure these various precisions, before and after this assembly, adjustments to achieve optical precision for various optical systems, adjustments to achieve mechanical precision for various mechanical systems, various Adjustments are made to the electrical system to achieve electrical accuracy. In addition, the process of assembling the exposure apparatus from the various subsystems includes mechanical connection, wiring connection of an electric circuit, and piping connection of a pneumatic circuit between the various subsystems.
【0104】この各種サブシステムから露光装置への組
み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程
があることはいうまでもない。又、各種サブシステムの
露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行
われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。な
お、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理さ
れたクリーンルームで行うことが望ましい。It goes without saying that there is an assembling process for each subsystem before the assembling process from these various subsystems to the exposure apparatus. When the process of assembling the various subsystems into the exposure apparatus is completed, comprehensive adjustment is performed, and various precisions of the entire exposure apparatus are secured. It is desirable that the manufacture of the exposure apparatus be performed in a clean room in which the temperature, cleanliness, and the like are controlled.
【0105】[0105]
【発明の効果】以上説明した請求項1の発明によれば、
リニアモータ装置が、複数のコイルを有するコイルユニ
ットが配置された固定子と、複数の磁石を有する磁石ユ
ニットが配置された可動子と、前記複数のコイルに電流
を供給する電流制御部と、前記電流制御部と前記コイル
との間に設けられた複数のスイッチと、前記可動子の位
置に応じて前記複数のスイッチを制御するスイッチ制御
手段とを備えているので、可動子の移動に関与しないコ
イルについて、電流を遮断することができ、その電力消
費量を抑え、余分な発熱が生じないようにすることがで
き、モータ定数が向上する。According to the first aspect of the present invention described above,
A linear motor device, a stator in which a coil unit having a plurality of coils is arranged, a mover in which a magnet unit having a plurality of magnets is arranged, a current control unit that supplies current to the plurality of coils, Since there are provided a plurality of switches provided between the current control unit and the coil, and switch control means for controlling the plurality of switches according to the position of the mover, the switch is not involved in the movement of the mover. With respect to the coil, the current can be cut off, the power consumption thereof can be suppressed, unnecessary heat generation can be prevented, and the motor constant can be improved.
【0106】又、請求項2の発明によれば、コイルに接
続されたスイッチが、前記可動子側に配置された磁石ユ
ニットの磁極の数に応じてオン/オフ制御されるので、
可動子側の磁石との間で、推進力を生じさせるコイルに
対して、選択的に、電流を流すことができ、リニアモー
タ装置の消費電力を抑えることができ、モータ定数が向
上する。According to the second aspect of the present invention, the switch connected to the coil is turned on / off in accordance with the number of magnetic poles of the magnet unit disposed on the mover side.
A current can be selectively passed to the coil that generates the propulsion force between the magnet on the mover side and the coil, and the power consumption of the linear motor device can be suppressed, and the motor constant can be improved.
【0107】又、請求項3の発明によれば、請求項2記
載のスイッチ制御手段が、前記複数のコイルのうち、前
記磁石ユニットに対向しているコイルの少なくとも1つ
に電流が供給されるように前記複数のスイッチを制御す
るので、必要最小限のコイルへの電流の供給により、可
動子側の磁石との間で推進力を生じさせることができ
る。この結果、電力消費量を抑え、余分な発熱が生じな
いようにすることができ、モータ定数が向上する。According to a third aspect of the present invention, the switch control means according to the second aspect supplies a current to at least one of the plurality of coils facing the magnet unit. Since the plurality of switches are controlled as described above, it is possible to generate a propulsive force with the magnet on the mover side by supplying a minimum necessary current to the coil. As a result, power consumption can be suppressed, and unnecessary heat generation can be prevented, and the motor constant can be improved.
【0108】又、請求項4及び請求項5の発明によれ
ば、リニアモータ装置が、複数のコイルを有するコイル
ユニットが配置された固定子と、複数の磁石を有する磁
石ユニットが配置された可動子とを有し、前記複数のコ
イルが少なくとも2つのコイル群に分けられ、各コイル
群に応じて2以上の相の電流が供給されて駆動されると
共に、前記磁石ユニットに対向するコイルの数が、各コ
イル群毎に前記可動子の位置に応じて変化するリニアモ
ータ装置において、スイッチ制御手段が、各コイル群に
属する複数のコイルに対して、前記変化するコイルの数
の最小値に1を加算した数のコイルに電流が供給される
ように電流制御部と前記コイルとの間に設けられた複数
のスイッチを制御するようになっており、更に、前記磁
石ユニットと対向しているコイルの数が、前記最小の値
となっているコイル群に対しては、当該対向しているコ
イルと、これに隣接する1つのコイルに対して電流が供
給されるように、前記スイッチがオン/オフ制御される
ので、磁石との間で推進力を生じさせるコイルに対して
の通電が行われ、かつ、各コイル群において、通電され
るコイルの数を、必要かつ十分なものとすることができ
る。この結果、モータ定数が向上する。According to the fourth and fifth aspects of the present invention, the linear motor device comprises a stator on which a coil unit having a plurality of coils is disposed, and a movable unit on which a magnet unit having a plurality of magnets is disposed. The plurality of coils are divided into at least two coil groups, two or more phase currents are supplied and driven in accordance with each coil group, and the number of coils facing the magnet unit is controlled. However, in a linear motor device that changes according to the position of the mover for each coil group, the switch control means sets a minimum value of the changing number of coils to 1 for a plurality of coils belonging to each coil group. And controls a plurality of switches provided between the current control unit and the coil so that current is supplied to the number of coils. For the coil group having the minimum number of coils, the switch is set so that current is supplied to the opposing coil and one coil adjacent thereto. Since the on / off control is performed, power is supplied to the coils that generate the propulsive force with the magnets, and the number of coils to be supplied is necessary and sufficient in each coil group. be able to. As a result, the motor constant is improved.
【0109】又、請求項6及び請求項7の発明によれ
ば、複数のコイルを有するコイルユニットが配置された
固定子と、複数の磁石を有する磁石ユニットが配置され
た可動子とを有し、前記複数のコイルが少なくとも2つ
のコイル群に分けられ、各コイル群に応じて2以上の相
の電流が供給されて駆動されると共に、前記磁石ユニッ
トに対向するコイルの数が、各コイル群毎に前記可動子
の位置に応じて変化するリニアモータ装置において、ス
イッチ制御手段が、各コイル群に属する複数のコイルに
対して、前記変化するコイルの数の最小値に2を加算し
た数のコイルに電流が供給されるように電流制御部と前
記コイルとの間に設けられた複数のスイッチを制御し、
更に、前記磁石ユニットと対向しているコイルの数が、
前記最小の値となっているコイル群に対しては、当該対
向しているコイルと、これに隣接する2つのコイルに対
して電流が供給されるように、前記スイッチがオン/オ
フ制御されているので、磁石との間で推進力を生じさせ
るコイルに対しての通電が行われ、かつ、各コイル群に
おいて、通電されるコイルの数を、必要かつ十分なもの
とすることができる。これにより、モータ定数の向上が
図られる。According to the sixth and seventh aspects of the present invention, there are provided a stator in which a coil unit having a plurality of coils is arranged, and a movable element in which a magnet unit having a plurality of magnets is arranged. The plurality of coils are divided into at least two coil groups, currents of two or more phases are supplied and driven according to each coil group, and the number of coils facing the magnet unit is reduced by each coil group. In the linear motor device, which changes in accordance with the position of the mover every time, the switch control means adds, to a plurality of coils belonging to each coil group, a value obtained by adding 2 to the minimum value of the number of changing coils. Controlling a plurality of switches provided between the current control unit and the coil so that current is supplied to the coil,
Furthermore, the number of coils facing the magnet unit is
For the coil group having the minimum value, the switch is turned on / off so that current is supplied to the opposing coil and two coils adjacent thereto. Therefore, current is supplied to the coils that generate the propulsive force with the magnet, and the number of coils to be supplied can be made necessary and sufficient in each coil group. Thereby, the motor constant is improved.
【0110】又、請求項8の発明によれば、請求項1か
ら請求項7の何れかに記載のリニアモータ装置におい
て、前記スイッチが、互いに並列又は直列に接続された
2以上のコイルと前記電流制御部との間に配置され、も
って、1つのスイッチで2以上のコイルの通電/遮断が
行われるようになっているので、固定子内の複数のコイ
ルに電流を流すための入力側の配線を少なくすることが
できる。これにより、ハウジングの水密性の向上、リニ
アモータ装置の冷却効率が高まる。According to an eighth aspect of the present invention, in the linear motor device according to any one of the first to seventh aspects, the switch comprises two or more coils connected in parallel or in series with each other. It is arranged between the current controller and the current control unit, so that two or more coils are energized / cut off by one switch. Therefore, an input side for flowing current to a plurality of coils in the stator is provided. Wiring can be reduced. This improves the watertightness of the housing and increases the cooling efficiency of the linear motor device.
【0111】又、請求項9の発明によれば、リニアモー
タ装置の固定子の所定の領域に位置するコイルが、前記
電流制御部に、常時、電気的に接続されているので、ハ
ウジングから引き出される配線の数を少なくでき、ハウ
ジングの水密性の向上、ひいては、リニアモータ装置の
冷却効率が高まる。又、請求項10の発明によれば、請
求項1から請求項9に記載のリニアモータ装置がステー
ジ部の駆動手段として用いられているので、当該リニア
モータ装置のモータ定数が高まっている分、ステージ部
全体として高機能化が図られる。According to the ninth aspect of the present invention, since the coil located in a predetermined area of the stator of the linear motor device is always electrically connected to the current control unit, the coil is drawn out of the housing. The number of wirings to be used can be reduced, the watertightness of the housing is improved, and the cooling efficiency of the linear motor device is improved. According to the tenth aspect of the present invention, since the linear motor device according to any one of the first to ninth aspects is used as a drive unit of the stage, the motor constant of the linear motor device is increased. The overall function of the stage is enhanced.
【0112】又、請求項11の発明によれば、露光用光
学系を用いて基板上に所定のパターンを形成する露光装
置に、請求項10に記載のステージ装置を備えたので、
当該リニアモータ装置のモータ定数が高まっている分、
露光装置全体として高機能化が図られる。又、請求項1
2の発明によれば、請求項11に記載の露光装置を用い
て、所定のパターンが形成されたデバイスが製造できる
ので、リニアモータ装置のモータ定数が高まった分、効
率のよいデバイスの製造が可能になる。According to the eleventh aspect of the present invention, the exposure apparatus for forming a predetermined pattern on a substrate using the optical system for exposure is provided with the stage device according to the tenth aspect.
Because the motor constant of the linear motor device is increasing,
The overall function of the exposure apparatus is enhanced. Claim 1
According to the second aspect, a device on which a predetermined pattern is formed can be manufactured by using the exposure apparatus according to claim 11, so that an efficient device can be manufactured because the motor constant of the linear motor device is increased. Will be possible.
【0113】又、請求項13の発明によれば、複数のコ
イルを有するコイルユニットが配置された固定子と、複
数の磁石を有する磁石ユニットが配置された可動子とを
有するリニアモータの駆動方法において、前記複数のコ
イルに対して、前記可動子の位置に応じて電流を供給す
るコイルを選択するようにしたので、余分な電力の消
費、発熱を抑えることができ、リニアモータのモータ定
数が高まる。According to the thirteenth aspect of the present invention, there is provided a method for driving a linear motor having a stator in which a coil unit having a plurality of coils is arranged and a movable element in which a magnet unit having a plurality of magnets is arranged. In the above, for the plurality of coils, a coil for supplying a current according to the position of the mover is selected, so that consumption of extra power and heat generation can be suppressed, and the motor constant of the linear motor is reduced. Increase.
【0114】又、請求項14の発明によれば、請求項1
3記載のリニアモータの駆動方法を用いて、ステージ装
置の駆動手段としてのリニアモータを駆動するので、リ
ニアモータのモータ定数が高まる分、ステージ装置全体
として高機能化が図られる。又、請求項15の発明によ
れば、ステージ装置に載置された基板上に所定のパター
ンを形成する露光方法において、前記ステージ装置を駆
動する際に、請求項14に記載のステージ装置の駆動方
法が用いられるので、駆動される露光装置は、当該リニ
アモータのモータ定数が高まる分、露光装置全体として
高機能化が図られる。According to the fourteenth aspect of the present invention, the first aspect is provided.
Since the linear motor as the driving device of the stage device is driven by using the driving method of the linear motor described in 3, the stage device as a whole is enhanced in function as the motor constant of the linear motor increases. According to a fifteenth aspect of the present invention, in the exposure method for forming a predetermined pattern on a substrate mounted on the stage device, the driving of the stage device according to the fourteenth aspect, when the stage device is driven. Since the method is used, the function of the driven exposure apparatus is enhanced as a whole as the motor constant of the linear motor increases.
【0115】又、請求項16の発明によれば、請求項1
5に記載の露光方法を用いて、所定のパターンが形成さ
れたデバイスの製造が行われるので、デバイスを製造す
るにあたり、当該リニアモータのモータ定数が高まる
分、効率のよいデバイスの製造が実現できる。Further, according to the invention of claim 16, according to claim 1,
Since the device on which the predetermined pattern is formed is manufactured by using the exposure method described in 5, the device can be manufactured more efficiently by increasing the motor constant of the linear motor in manufacturing the device. .
【図1】本発明の第1の実施の形態のリニアモータ10
0の側面図である。FIG. 1 shows a linear motor 10 according to a first embodiment of the present invention.
0 is a side view.
【図2】リニアモータ100の可動子120の一部を切
り欠いた平面図である。FIG. 2 is a plan view in which a part of a mover 120 of the linear motor 100 is cut away.
【図3】リニアモータ100の固定子110、及び、可
動子120の縦断面を示す図である。FIG. 3 is a view showing a longitudinal section of a stator 110 and a mover 120 of the linear motor 100.
【図4】図2のIV−IV線に沿ったリニアモータ10
0の縦断面図である。FIG. 4 is a view showing a linear motor 10 taken along a line IV-IV in FIG. 2;
0 is a longitudinal sectional view.
【図5】第1列のコイル111,111…、第2列のコ
イル112,112…の形状を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing shapes of coils 111, 111... In a first row and coils 112, 112.
【図6】第1列のコイル111,111…と、第2列の
コイル112,112…とを嵌め合せた状態を示す説明
図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state in which coils 111, 111... Of a first row and coils 112, 112.
【図7】第1列のコイル111,111…、第2列のコ
イル112,112…と、永久磁石123,123…、
124,124…との位置関係を示す説明図である。FIG. 7 shows a first row of coils 111, 111, a second row of coils 112, 112, and permanent magnets 123, 123,.
It is explanatory drawing which shows the positional relationship with 124,124 ....
【図8】リニアモータ100の動作原理を示す説明図で
ある。FIG. 8 is an explanatory diagram illustrating the operation principle of the linear motor 100.
【図9】電流Iu、Iv、Iwの波形を示すグラフであ
る。FIG. 9 is a graph showing waveforms of currents Iu, Iv, and Iw.
【図10】磁石ユニット120Aの移動によってこれと
対向するコイルが変化する様子を示す説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram showing a state in which a coil opposed to the magnet unit 120A changes as the magnet unit 120A moves.
【図11】第1の方法によって通電する対象となってい
るコイルと、磁石ユニット120Aとの位置関係を示す
説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a coil to be energized by the first method and a magnet unit 120A.
【図12】第2の方法によって通電する対象となってい
るコイルと、磁石ユニット120Aとの位置関係を示す
説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing a positional relationship between a coil to be energized by a second method and a magnet unit 120A.
【図13】リニアモータ100及びその動作制御を行う
制御部200を示す回路図である。FIG. 13 is a circuit diagram showing a linear motor 100 and a control unit 200 for controlling the operation of the linear motor.
【図14】通電/遮断制御プログラムを示すフローチャ
ートである。FIG. 14 is a flowchart showing an energization / interruption control program.
【図15】第2の実施の形態のリニアモータ350及び
その動作制御を行う制御部300を示す回路図である。FIG. 15 is a circuit diagram illustrating a linear motor according to a second embodiment and a control unit that controls the operation of the linear motor.
【図16】第3の実施の形態のリニアモータ450及び
その動作制御を行う制御部400を示す回路図である。FIG. 16 is a circuit diagram illustrating a linear motor 450 according to a third embodiment and a control unit 400 that controls the operation thereof.
【図17】磁極の数が9の磁石ユニットを有するリニア
モータ500を示す説明図である。FIG. 17 is an explanatory diagram showing a linear motor 500 including a magnet unit having nine magnetic poles.
【図18】磁極の数が12の磁石ユニットを有するリニ
アモータ550を示す説明図である。FIG. 18 is an explanatory diagram showing a linear motor 550 having a magnet unit having 12 magnetic poles.
【図19】リニアモータ100が適用されたステージ装
置600を示す斜視図である。FIG. 19 is a perspective view showing a stage device 600 to which the linear motor 100 is applied.
【図20】レチクルステージ750にリニアモータ10
0が用いられた露光装置700の全体構成を示す図であ
る。FIG. 20 shows a linear motor 10 mounted on a reticle stage 750.
FIG. 6 is a diagram illustrating an overall configuration of an exposure apparatus 700 in which 0 is used.
【図21】本発明にかかる露光装置を用いた半導体デバ
イスの製造プロセスを示す図である。FIG. 21 is a diagram showing a semiconductor device manufacturing process using the exposure apparatus according to the present invention.
【図22】本発明にかかる露光装置を用いた半導体デバ
イスのより具体的な製造プロセスを示す図である。FIG. 22 is a diagram showing a more specific manufacturing process of a semiconductor device using the exposure apparatus according to the present invention.
100,350,450 リニアモータ 110,360,460 固定子 111,112 コイル 113 ハウジング 120 可動子 120A 磁石ユニット 123,124 永久磁石 200,300,400 制御部 210,310,410 電流値制御部(電流制御部) 230,330,430 スイッチ切換制御部(スイッ
チ制御手段) 700 ステージ装置 800 露光装置 850 レチクルステージ100, 350, 450 Linear motor 110, 360, 460 Stator 111, 112 Coil 113 Housing 120 Mover 120A Magnet unit 123, 124 Permanent magnet 200, 300, 400 Control unit 210, 310, 410 Current value control unit (current control Parts) 230, 330, 430 Switch switching control part (switch control means) 700 Stage device 800 Exposure device 850 Reticle stage
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/30 515G (72)発明者 宇田 豊 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 株 式会社ニコン内 Fターム(参考) 5F046 CC01 CC16 CC18 5H540 AA10 BA03 BA05 BB02 BB05 BB09 EE05 FA04 FA14 5H641 BB06 BB19 GG02 GG05 GG07 GG11 GG12 GG15 GG24 GG26 GG29 HH03 HH05 HH06 HH13 JB05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/30 515G (72) Inventor Yutaka Yuda 3-2-3 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Nikon Corporation F term (reference) 5F046 CC01 CC16 CC18 5H540 AA10 BA03 BA05 BB02 BB05 BB09 EE05 FA04 FA14 5H641 BB06 BB19 GG02 GG05 GG07 GG11 GG12 GG15 GG24 GG26 GG29 HH03 HH05 HH06 HH13 JB05
Claims (16)
配置された固定子と、複数の磁石を有する磁石ユニット
が配置された可動子と、 前記複数のコイルに電流を供給する電流制御部と、 前記電流制御部と前記コイルとの間に設けられた複数の
スイッチと、 前記可動子の位置に応じて前記複数のスイッチを制御す
るスイッチ制御手段と、を備えることを特徴とするリニ
アモータ装置。A stator in which a coil unit having a plurality of coils is arranged; a mover in which a magnet unit having a plurality of magnets is arranged; a current control unit for supplying a current to the plurality of coils; A linear motor device comprising: a plurality of switches provided between a current control unit and the coil; and switch control means for controlling the plurality of switches according to the position of the mover.
いて、 前記スイッチ制御手段は、前記磁石ユニットの磁極の数
に応じた数のスイッチをオンすることを特徴とするリニ
アモータ装置。2. The linear motor device according to claim 1, wherein the switch control means turns on a number of switches corresponding to the number of magnetic poles of the magnet unit.
て、前記スイッチ制御手段は、前記複数のコイルのう
ち、前記磁石ユニットに対向しているコイルの少なくと
も1つに電流が供給されるように前記複数のスイッチを
制御することを特徴とするリニアモータ装置。3. The linear motor device according to claim 2, wherein the switch control means is configured to supply the current to at least one of the coils facing the magnet unit among the plurality of coils. A linear motor device which controls a plurality of switches.
配置された固定子と、複数の磁石を有する磁石ユニット
が配置された可動子とを有し、 前記複数のコイルが少なくとも2つのコイル群に分けら
れ、各コイル群に応じて2以上の相の電流が供給されて
駆動されると共に、前記磁石ユニットに対向するコイル
の数が、各コイル群毎に前記可動子の位置に応じて変化
するリニアモータ装置であって、 前記複数のコイルに電流を供給する電流制御部と、 前記電流制御部と前記コイルとの間に設けられた複数の
スイッチと、 前記可動子の位置に応じて前記複数のスイッチを制御す
るスイッチ制御手段と、を備え、 前記スイッチ制御手段は、各コイル群に属する複数のコ
イルに対して、前記変化するコイルの数の最小値に1を
加算した数のコイルに電流が供給されるように前記複数
のスイッチを制御することを特徴とするリニアモータ装
置。4. A stator having a coil unit having a plurality of coils arranged thereon and a mover having a magnet unit having a plurality of magnets arranged therein, wherein the plurality of coils are divided into at least two coil groups. The current is supplied and driven in two or more phases according to each coil group, and the number of coils facing the magnet unit changes in accordance with the position of the mover for each coil group. A motor device, comprising: a current control unit that supplies current to the plurality of coils; a plurality of switches provided between the current control unit and the coil; and the plurality of switches according to a position of the mover. Switch control means for controlling a switch, wherein the switch control means is configured such that, for a plurality of coils belonging to each coil group, the number of coils obtained by adding 1 to a minimum value of the number of changing coils Linear motor device and a current to control said plurality of switches so as to supply.
いて、 前記スイッチ制御手段は、前記磁石ユニットと対向して
いるコイルの数が、前記最小の値となっているコイル群
に対しては、当該対向しているコイルと、これに隣接す
る1つのコイルに対して電流が供給されるように、前記
スイッチをオン/オフ制御することを特徴とするリニア
モータ装置。5. The linear motor device according to claim 4, wherein the switch control unit determines that the number of coils facing the magnet unit has the minimum value. A linear motor device, wherein the switch is turned on / off so that current is supplied to the opposed coil and one coil adjacent thereto.
配置された固定子と、複数の磁石を有する磁石ユニット
が配置された可動子とを有し、 前記複数のコイルが少なくとも2つのコイル群に分けら
れ、各コイル群に応じて2以上の相の電流が供給されて
駆動されると共に、前記磁石ユニットに対向するコイル
の数が、各コイル群毎に前記可動子の位置に応じて変化
するリニアモータ装置であって、 前記複数のコイルに電流を供給する電流制御部と、 前記電流制御部と前記コイルとの間に設けられた複数の
スイッチと、 前記可動子の位置に応じて前記複数のスイッチを制御す
るスイッチ制御手段と、を備え、 前記スイッチ制御手段は、各コイル群に属する複数のコ
イルに対して、前記変化するコイルの数の最小値に2を
加算した数のコイルに電流が供給されるように前記複数
のスイッチを制御することを特徴とするリニアモータ装
置。6. A stator having a coil unit having a plurality of coils disposed thereon and a mover having a magnet unit having a plurality of magnets disposed therein, wherein the plurality of coils are divided into at least two coil groups. The current is supplied and driven in two or more phases according to each coil group, and the number of coils facing the magnet unit changes in accordance with the position of the mover for each coil group. A motor device, comprising: a current control unit that supplies current to the plurality of coils; a plurality of switches provided between the current control unit and the coil; and the plurality of switches according to a position of the mover. Switch control means for controlling a switch, wherein the switch control means includes, for a plurality of coils belonging to each coil group, a number of coils obtained by adding 2 to a minimum value of the number of coils that change. Linear motor device and a current to control said plurality of switches so as to supply.
いて、 前記スイッチ制御手段は、前記磁石ユニットと対向して
いるコイルの数が、前記最小の値となっているコイル群
に対しては、当該対向しているコイルと、これに隣接す
る2つのコイルに対して電流が供給されるように、前記
スイッチをオン/オフ制御することを特徴とするリニア
モータ装置。7. The linear motor device according to claim 6, wherein the switch control means is configured such that, for a coil group in which the number of coils facing the magnet unit is the minimum value, A linear motor device, wherein the switch is turned on / off so that current is supplied to the opposed coil and two coils adjacent to the coil.
リニアモータ装置において、 前記スイッチは、互いに並列又は直列に接続された2以
上のコイルと前記電流制御部との間に配置され、もっ
て、1つのスイッチで2以上のコイルの通電/遮断が行
われるようになっていることを特徴とするリニアモータ
装置。8. The linear motor device according to claim 1, wherein the switch is disposed between two or more coils connected in parallel or in series with each other and the current control unit. Accordingly, a linear motor device wherein two or more coils are energized / disconnected by one switch.
リニアモータ装置において、 前記複数のコイルのうち、固定子の所定の領域に位置す
るコイルが、前記電流制御部に、常時、電気的に接続さ
れていることを特徴とするリニアモータ装置。9. The linear motor device according to claim 1, wherein, among the plurality of coils, a coil located in a predetermined area of a stator is always provided to the current control unit. A linear motor device which is electrically connected.
のリニアモータ装置が、ステージ部の駆動手段として用
いられていることを特徴とするステージ装置。10. A stage device, wherein the linear motor device according to claim 1 is used as driving means for a stage unit.
パターンを形成する露光装置であって、 請求項10に記載のステージ装置を備えていることを特
徴とする露光装置。11. An exposure apparatus for forming a predetermined pattern on a substrate by using an optical system for exposure, comprising: the stage device according to claim 10.
であって、請求項11に記載の露光装置を用いて製造さ
れたことを特徴とするデバイス。12. A device on which a predetermined pattern is formed, wherein the device is manufactured by using the exposure apparatus according to claim 11.
が配置された固定子と、複数の磁石を有する磁石ユニッ
トが配置された可動子とを有するリニアモータの駆動方
法において、前記複数のコイルに対して、前記可動子の
位置に応じて電流を供給するコイルを選択することを特
徴とするリニアモータの駆動方法。13. A method for driving a linear motor, comprising: a stator in which a coil unit having a plurality of coils is disposed; and a mover in which a magnet unit having a plurality of magnets is disposed. And a coil for supplying a current according to the position of the mover.
ステージ装置の駆動方法において、請求項13記載のリ
ニアモータの駆動方法を用いて前記リニアモータを駆動
することを特徴とするステージ装置の駆動方法。14. A method of driving a stage device having a linear motor as driving means, wherein the linear motor is driven using the method of driving a linear motor according to claim 13.
定のパターンを形成する露光方法において、 前記ステージ装置を駆動する際に、請求項14に記載の
ステージ装置の駆動方法を用いることを特徴とする露光
方法。15. An exposure method for forming a predetermined pattern on a substrate mounted on a stage device, wherein the stage device is driven by using the driving method of the stage device according to claim 14. Exposure method.
の製造方法であって、請求項15に記載の露光方法を用
いることを特徴とするデバイスの製造方法。16. A method for manufacturing a device on which a predetermined pattern is formed, wherein the exposure method according to claim 15 is used.
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-
1999
- 1999-10-12 JP JP29025499A patent/JP2001119916A/en active Pending
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