JP2001119236A - Electromagnetic wave shield film - Google Patents
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Landscapes
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Aerials With Secondary Devices (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、窓ガラスや壁等に
施工し、電波の透過を少なくすることができる電磁波シ
ールドフィルムに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding film which can be applied to a window glass, a wall or the like to reduce the transmission of radio waves.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年の高度情報化社会のなかで、オフィ
スビル等で各種の電子・電気機器や通信機器が使用され
るようになってきている。そのため、オフィスビル等の
内部ではこれら機器からの電磁波が流れ、またその外部
でも多種・多様な電磁波が飛び交っており、オフィルビ
ル等を取り巻く電磁環境は悪化しているといえる。すな
わち、外部から進入する多種・多様な電磁波や内部で使
用される各種の機器からの電磁波が、各種の機器に悪影
響を及ぼし、誤作動や動作不良を引き起こす可能性が高
まっている。したがって、オフィスビル等の壁や窓ガラ
スや透明間仕切り等に、電磁波を遮蔽することのできる
建材を用いることが必要になってきている。特に、窓ガ
ラスや透明間仕切り用には、透明性も必要とされるた
め、透明性をも兼ね備えた建材が必要となっている。2. Description of the Related Art In the recent information society, various electronic / electric devices and communication devices have been used in office buildings and the like. Therefore, electromagnetic waves from these devices flow inside an office building and the like, and various and various kinds of electromagnetic waves fly around outside the office building, and it can be said that the electromagnetic environment surrounding the office building and the like is deteriorating. In other words, there is an increasing possibility that various and various electromagnetic waves entering from the outside and electromagnetic waves from various devices used inside have an adverse effect on various devices and cause malfunctions or malfunctions. Therefore, it has become necessary to use building materials capable of shielding electromagnetic waves for walls of office buildings, window glasses, transparent partitions, and the like. In particular, for window glass and transparent partitioning, transparency is also required, and thus a building material having transparency is also required.
【０００３】このような建材として、図７に示す電磁波
シールドフィルム１が市販されている。この電磁波シー
ルドフィルム１は、透明フィルム２の一面に、第１の金
属酸化物膜３と、金属膜４と、第２の金属酸化物膜５と
がこの順で積層されて構成される。そして、この電磁波
シールドフィルム１は、透明フィルム２の一面に、第１
の金属酸化物膜３形成材料、金属膜４形成材料、第２の
金属酸化物膜５形成材料を順次スパッタ蒸着（スパッタ
リング法による蒸着）して製造される。As such a building material, an electromagnetic wave shielding film 1 shown in FIG. 7 is commercially available. This electromagnetic wave shielding film 1 is configured such that a first metal oxide film 3, a metal film 4, and a second metal oxide film 5 are laminated on one surface of a transparent film 2 in this order. The electromagnetic wave shielding film 1 is provided on one surface of the transparent film 2 with the first
The material for forming the metal oxide film 3, the material for forming the metal film 4, and the material for forming the second metal oxide film 5 are sequentially deposited by sputtering (evaporation by a sputtering method).
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記電
磁波シールドフィルム１は、第１および第２の金属酸化
物膜３，５および金属膜４を全てスパッタ蒸着により形
成しているため、製造コストがかかり、製品価格が高く
なるという問題がある。特に、第１および第２の金属酸
化物膜３，５を形成する工程は、蒸着に特に時間がかか
り、製品の高価格化は避けられない。However, since the electromagnetic wave shielding film 1 has the first and second metal oxide films 3, 5 and the metal film 4 all formed by sputter deposition, the manufacturing cost is high. However, there is a problem that the product price is high. In particular, the steps of forming the first and second metal oxide films 3 and 5 require a particularly long time for vapor deposition, and inevitably increase the cost of the product.
【０００５】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、良好な電磁波シールド性および可視光透過性を
示し、かつ低価格化を実現した電磁波シールドフィルム
の提供をその目的とする。The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding film exhibiting good electromagnetic wave shielding properties and visible light transmittance and realizing low cost.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の電磁波シールドフィルムは、金属膜および
金属酸化物膜を備えてなるシールド機能膜と、このシー
ルド機能膜を保持形成する透明フィルムとから構成され
る電磁波シールドフィルムであって、上記金属酸化物膜
が、下記の一般式（１）で表されるアルキル金属系化合
物を含む液膜の乾燥化により形成され、かつその金属酸
化物膜の膜厚が、２００〜２０００ｎｍの範囲に設定さ
れているという構成をとる。In order to achieve the above object, an electromagnetic wave shielding film according to the present invention comprises: a shielding function film comprising a metal film and a metal oxide film; and a transparent film holding and forming the shielding function film. An electromagnetic wave shielding film comprising: a metal oxide film formed by drying a liquid film containing an alkyl metal compound represented by the following general formula (1); The configuration is such that the thickness of the material film is set in the range of 200 to 2000 nm.
【０００７】[0007]
【化２】Ｍx Ｏy Ｒz …（１） 〔式（１）中、Ｍは金属であり、Ｒはアルキル基であ
る。また、ｘ，ｙ，ｚは正の整数である。〕Embedded image M x O y R z (1) [In the formula (1), M is a metal and R is an alkyl group. X, y, and z are positive integers. ]
【０００８】すなわち、本発明の電磁波シールドフィル
ムは、それを構成するシールド機能膜のうちの金属酸化
物膜を特定のアルキル金属系化合物を含む液膜の乾燥化
によって形成し、かつ金属酸化物膜の膜厚を特定の範囲
に設定していることから、良好な電磁波シールド性と可
視光透過性を兼ね備えた製品となり、しかも製造コスト
高とはならない。すなわち、金属の蒸着に比べかなり時
間のかかる金属酸化物の蒸着を行わず、特定のアルキル
金属系化合物を含む液膜の乾燥化によって金属酸化物膜
を形成しているため、製造コストを抑制でき、低価格化
を実現した製品となる。That is, in the electromagnetic wave shielding film of the present invention, the metal oxide film of the shield function film constituting the film is formed by drying a liquid film containing a specific alkyl metal compound, and the metal oxide film is formed. Since the film thickness is set in a specific range, a product having both good electromagnetic wave shielding property and visible light transmittance is obtained, and the manufacturing cost is not increased. That is, since the metal oxide film is formed by drying the liquid film containing the specific alkyl metal-based compound without performing the metal oxide deposition that takes much longer time than the metal deposition, the manufacturing cost can be suppressed. , Resulting in a low-priced product.
【０００９】特に、上記電磁波シールドフィルムにおい
て、水分遮断層を設けるようにすると、施工時に用いた
水分が金属膜まで浸透し、それにより金属膜が酸化して
劣化してしまうという事態を防止できるため、良好な電
磁波シールド性を長期にわたって保つことができる。す
なわち、従来の電磁波シールドフィルムを窓ガラス等に
施工する場合、電磁波シールドフィルム等の施工面を水
で濡らし、その水の表面張力を利用して仮止めし、その
後へら等で水を追い出すことによりしわや気泡等を発生
させずに施工することができるが、この施工時の残留水
分の浸透によって上記金属膜（特に、銀，銀系合金膜）
が劣化し、電磁波シールド性が悪化する傾向がある。し
かし、水分遮断層を設けると、それによって水分の浸透
を遮断し、金属膜の劣化を防止できるため、初期の良好
な電磁波シールド性を長期にわたって維持することが可
能となる。In particular, the provision of the moisture shielding layer in the electromagnetic wave shielding film can prevent a situation in which the moisture used during the construction penetrates into the metal film, thereby oxidizing and deteriorating the metal film. And good electromagnetic wave shielding properties can be maintained for a long period of time. In other words, when applying a conventional electromagnetic wave shielding film to window glass, etc., wetting the construction surface of the electromagnetic wave shielding film etc. with water, temporarily fixing using the surface tension of the water, and then driving out the water with a spatula etc. It can be installed without generating wrinkles and bubbles, but the above-mentioned metal film (especially silver, silver-based alloy film) due to the permeation of residual moisture during this operation
And electromagnetic wave shielding properties tend to deteriorate. However, when the moisture blocking layer is provided, the penetration of moisture can be blocked thereby, and the deterioration of the metal film can be prevented, so that the good initial electromagnetic wave shielding property can be maintained for a long time.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態につ
いて説明する。Next, an embodiment of the present invention will be described.
【００１１】本発明の電磁波シールドフィルムは、透明
フィルム上に、金属膜および金属酸化物膜を備えてなる
シールド機能膜が形成されて構成される。[0011] The electromagnetic wave shielding film of the present invention is formed by forming a shielding function film comprising a metal film and a metal oxide film on a transparent film.
【００１２】本発明の電磁波シールドフィルムを構成す
る透明フィルムは、可視光領域（光線の波長が３８０〜
７８０ｎｍ程度）において透明性を有するものであっ
て、各種の透明材料を各種の方法でフィルム状に成形し
たものである。上記透明材料としては、ポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ），ポリイミド（ＰＩ），ポリカ
ーボネート（ＰＣ），ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭ
Ａ），ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等があげら
れる。The transparent film constituting the electromagnetic wave shielding film of the present invention has a visible light range (wavelength of light of 380 to 380).
(About 780 nm), and is formed by forming various transparent materials into a film by various methods. Examples of the transparent material include polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polycarbonate (PC), and polymethyl methacrylate (PMM).
A), polyethylene naphthalate (PEN) and the like.
【００１３】また、本発明の電磁波シールドフィルムを
構成するシールド機能膜のうちの金属膜は、主として電
磁波シールド性を発揮する膜であって、各種の金属を蒸
着等することによって形成される。The metal film of the shielding function film constituting the electromagnetic wave shielding film of the present invention is a film mainly exhibiting electromagnetic wave shielding properties, and is formed by vapor deposition of various metals.
【００１４】上記金属膜形成用の金属としては、金，
銀，銅等の金属の他、銀系合金等の合金があげられる。
なかでも、可視光線の吸収が殆どない銀や銀系合金が好
適である。The metal for forming the metal film includes gold,
In addition to metals such as silver and copper, alloys such as silver-based alloys can be used.
Among them, silver or a silver-based alloy which hardly absorbs visible light is preferable.
【００１５】また、上記金属の蒸着方法としては、膜厚
制御が容易であるという理由から、主としてスパッタリ
ング法が採用されるが、それ以外に真空蒸着法やイオン
プレーティング法等を採用してもよい。ここで、スパッ
タリング法とは、不活性ガス（アルゴン等）を槽内に導
入し、電極間に数千ボルトの電圧をかけてグロー放電を
起こさせ、不活性ガスイオンを負に印加したターゲット
に衝突させ、飛散したターゲット物質を被蒸着体上で凝
固させて皮膜を形成する方法である。また、真空蒸着法
とは、高真空中（１．３３×１０-1〜１．３３×１０-4
Ｐａ程度）で蒸着物質を加熱蒸発させ、被蒸着体上で凝
固させて皮膜を形成する方法である。さらに、イオンプ
レーティング法とは、加熱蒸発させた蒸発原子をグロー
放電または高周波プラズマで部分的にイオン化し、負に
印加した被蒸着体表面に蒸着させて皮膜を形成する方法
である。As a method for depositing the metal, a sputtering method is mainly used because the film thickness can be easily controlled. However, a vacuum deposition method, an ion plating method, or the like may be used. Good. Here, the sputtering method refers to a method in which an inert gas (eg, argon) is introduced into a tank, a voltage of several thousand volts is applied between electrodes to cause glow discharge, and a target to which inert gas ions are negatively applied is applied. This is a method in which a target material that has collided and scattered is solidified on a deposition target to form a film. In addition, the vacuum deposition method refers to a method in a high vacuum (1.33 × 10 −1 to 1.33 × 10 −4).
This is a method in which a deposition material is heated and evaporated at about (Pa) and solidified on a deposition target to form a film. Further, the ion plating method is a method in which evaporated atoms heated and evaporated are partially ionized by glow discharge or high-frequency plasma, and are vapor-deposited on the surface of a negatively applied object to form a film.
【００１６】そして、上記金属膜の膜厚は、金属酸化物
膜の膜厚、シールド機能膜の膜数、用途、形状等に応じ
て適宜に設定されるが、通常、１０〜３０ｎｍの範囲に
設定されていることが好ましい。すなわち、薄すぎると
電磁波シールド性に劣り、厚すぎると可視光透過性に劣
る傾向があるからである。The thickness of the metal film is appropriately set according to the thickness of the metal oxide film, the number of the shielding function films, the application, the shape, and the like, but is usually in the range of 10 to 30 nm. Preferably, it is set. That is, if it is too thin, the electromagnetic wave shielding property tends to be inferior, and if it is too thick, the visible light transmittance tends to be inferior.
【００１７】本発明の電磁波シールドフィルムを構成す
るシールド機能膜のうちの金属酸化物膜は、主として可
視光透過性を良好に保つための膜であって、特定のアル
キル金属系化合物を含む液膜の乾燥化により形成され
る。この液膜は、特定のアルキル金属系化合物を有機溶
剤に溶解させて得たコーティング液を用いて形成するこ
とができる。The metal oxide film of the shielding function film constituting the electromagnetic wave shielding film of the present invention is a film for mainly maintaining good visible light transmittance, and is a liquid film containing a specific alkyl metal compound. Formed by drying. This liquid film can be formed using a coating liquid obtained by dissolving a specific alkyl metal compound in an organic solvent.
【００１８】上記特定のアルキル金属系化合物は、下記
の一般式（１）で表される。The specific alkyl metal compound is represented by the following general formula (1).
【００１９】[0019]
【化３】Ｍx Ｏy Ｒz …（１） 〔式（１）中、Ｍは金属であり、Ｒはアルキル基であ
る。また、ｘ，ｙ，ｚは正の整数である。〕Embedded image M x O y R z (1) [In the formula (1), M is a metal, and R is an alkyl group. X, y, and z are positive integers. ]
【００２０】上記一般式（１）中のＭで表される金属と
しては、チタン、ジルコニウム、タンタル等があげられ
る。Examples of the metal represented by M in the above general formula (1) include titanium, zirconium, tantalum and the like.
【００２１】また、上記一般式（１）中のＲで表される
アルキル基としては、炭素数１〜２０の直鎖状または分
岐状のアルキル基が好ましく、特に好ましくは、炭素数
２〜１１の直鎖状または分岐状のアルキル基である。The alkyl group represented by R in the above general formula (1) is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 11 carbon atoms. Is a linear or branched alkyl group.
【００２２】さらに、上記一般式（１）中のｘは、１〜
３０の範囲が好ましく、より好ましくは、１〜１５の範
囲である。また、上記一般式（１）中のｙ，ｚは、ｙ＝
４＋（ｘ−１）×３，ｚ＝４＋（ｘ−１）×２の関係を
満たしていることが好ましい。Further, x in the general formula (1) is 1 to
A range of 30 is preferable, and a range of 1 to 15 is more preferable. Further, y and z in the general formula (1) are represented by y =
It is preferable to satisfy the relationship of 4+ (x−1) × 3, z = 4 + (x−1) × 2.
【００２３】上記一般式（１）で表されるアルキル金属
系化合物の具体例として、アルキルチタネート、アルキ
ルジルコネート、アルキルタンタレート等があげられ
る。これらは単独であるいは２種以上組み合わせて用い
られる。なかでも、材料コストや成膜性の観点から、ア
ルキルチタネートが好ましく、特に、加水分解速度や作
業性の観点から、テトラ−ｎ−ブチルチタネート（ＴＢ
Ｔ）が好適である。Specific examples of the alkyl metal compound represented by the general formula (1) include alkyl titanates, alkyl zirconates, alkyl tantalate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Above all, alkyl titanates are preferred from the viewpoint of material cost and film formability, and particularly, from the viewpoint of hydrolysis rate and workability, tetra-n-butyl titanate (TB
T) is preferred.
【００２４】そして、上記特定のアルキル金属系化合物
の配合割合は、コーティング液全体中１〜２０重量％の
割合に設定されていることが好ましい。The mixing ratio of the specific alkyl metal compound is preferably set to a ratio of 1 to 20% by weight in the whole coating solution.
【００２５】上記特定のアルキル金属系化合物とともに
用いられる有機溶剤としては、特に制限はなく、イソプ
ロパノール、ｎ−ブタノール、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプ
タン等を用いることができる。これらは単独であるいは
２種以上組み合わせて用いられる。The organic solvent used with the above-mentioned specific alkyl metal compound is not particularly limited, and may be, for example, isopropanol, n-butanol, n-hexane, n-heptane, or the like. These may be used alone or in combination of two or more.
【００２６】なお、上記コーティング液には、上記特定
のアルキル金属系化合物および有機溶剤の他に、本発明
の目的を損なわない範囲内でその他の添加剤を含有させ
てもよい。The coating liquid may contain other additives in addition to the specific alkyl metal compound and the organic solvent as long as the object of the present invention is not impaired.
【００２７】上記コーティング液を用いての金属酸化物
膜の形成は、例えばつぎのようにして行うことができ
る。すなわち、まず上記特定のアルキル金属系化合物
と、その他の添加剤とを有機溶剤に溶解して、コーティ
ング液を調製する。ついで、このコーティング液をグラ
ビアコーター、バーコーター、リバースロールコーター
等を用いて被膜形成体（透明フィルム）に塗工し、液膜
を形成する。つぎに、この液膜を温風等によって乾燥さ
せて、液膜中の有機溶剤を揮散させる。この乾燥条件
は、５０〜２００℃で、数秒〜数時間程度である。この
塗工および乾燥によって、液膜中の特定のアルキル金属
系化合物は、加水分解され、その後の縮合反応を経て、
脱アルキルハイドロオキサイド化し、金属酸化物膜とな
る。このようにして、金属酸化物膜が形成される。The formation of a metal oxide film using the above coating liquid can be performed, for example, as follows. That is, first, the specific alkyl metal-based compound and other additives are dissolved in an organic solvent to prepare a coating liquid. Next, this coating solution is applied to a film-formed body (transparent film) using a gravure coater, bar coater, reverse roll coater, or the like, to form a liquid film. Next, the liquid film is dried with warm air or the like to evaporate the organic solvent in the liquid film. The drying conditions are 50 to 200 ° C. and several seconds to several hours. By this coating and drying, the specific alkyl metal-based compound in the liquid film is hydrolyzed and undergoes a subsequent condensation reaction,
The compound is dealkylated to form a metal oxide film. Thus, a metal oxide film is formed.
【００２８】上記金属酸化物膜の膜厚は、２００〜２０
００ｎｍの範囲に設定されている必要がある。すなわ
ち、上記範囲内に設定されていないと、可視光透過性に
劣るからである。なお、より好適な範囲は、５００〜１
５００ｎｍである。The thickness of the metal oxide film is 200 to 20.
It needs to be set in the range of 00 nm. That is, if it is not set within the above range, the visible light transmittance is poor. In addition, a more preferable range is 500-1.
500 nm.
【００２９】つぎに、本発明の電磁波シールドフィルム
の実施の形態を、図面に基づいて説明する。Next, an embodiment of the electromagnetic wave shielding film of the present invention will be described with reference to the drawings.
【００３０】図１は、本発明の電磁波シールドフィルム
の一例を示す。FIG. 1 shows an example of the electromagnetic wave shielding film of the present invention.
【００３１】この電磁波シールドフィルム６は、透明フ
ィルム７の一面に、特定のアルキル金属系化合物を含む
液膜の乾燥化によって第１の金属酸化物膜８が形成さ
れ、この第１の金属酸化物膜８の一面に蒸着によって金
属膜９が形成され、さらにこの金属膜９の一面に特定の
アルキル金属系化合物を含む液膜の乾燥化によって第２
の金属酸化物膜１０が形成されて構成される。すなわ
ち、上記透明フィルム７上に、第１の金属酸化物膜８，
金属膜９，第２の金属酸化物膜１０が順次積層されてな
るシールド機能膜１１が形成されて構成される。そし
て、上記第１および第２の金属酸化物膜８，１０の膜厚
は、特定の範囲に設定されている。In this electromagnetic wave shielding film 6, a first metal oxide film 8 is formed on one surface of a transparent film 7 by drying a liquid film containing a specific alkyl metal-based compound. A metal film 9 is formed on one surface of the film 8 by vapor deposition, and a second film is formed on one surface of the metal film 9 by drying a liquid film containing a specific alkyl metal-based compound.
Is formed by forming the metal oxide film 10. That is, the first metal oxide film 8,
A shield function film 11 is formed by sequentially laminating a metal film 9 and a second metal oxide film 10. The thicknesses of the first and second metal oxide films 8 and 10 are set in a specific range.
【００３２】上記電磁波シールドフィルム６は、例えば
つぎのようにして製造される。すなわち、まず前述のよ
うにして、特定のアルキル金属系化合物を含むコーティ
ング液を調製する。ついで、このコーティング液をグラ
ビアコーター、バーコーター、リバースロールコーター
等を用いて透明フィルム７の一面に塗工して、コーティ
ング液からなる液膜を形成する。ついで、この液膜を温
風等によって乾燥させて、液膜中の有機溶剤を揮散し、
液膜中の特定のアルキル金属系化合物を加水分解反応お
よび縮合反応させて、第１の金属酸化物膜８を形成す
る。その後、第１の金属酸化物膜８上に、前述の各種の
蒸着方法で金属を蒸着させて金属膜９を形成し、さらに
この金属膜９上に、上記特定のアルキル金属系化合物を
含むコーティング液を用い、上記と同様にして第２の金
属酸化物膜１０を形成する。このようにして、図１に示
す電磁波シールドフィルム６が得られる。The electromagnetic wave shielding film 6 is manufactured, for example, as follows. That is, first, a coating liquid containing a specific alkyl metal-based compound is prepared as described above. Next, the coating liquid is applied to one surface of the transparent film 7 using a gravure coater, a bar coater, a reverse roll coater, or the like, to form a liquid film made of the coating liquid. Then, the liquid film is dried by warm air or the like to evaporate the organic solvent in the liquid film,
The first metal oxide film 8 is formed by subjecting a specific alkyl metal-based compound in the liquid film to a hydrolysis reaction and a condensation reaction. Thereafter, a metal is deposited on the first metal oxide film 8 by the above-described various deposition methods to form a metal film 9, and a coating containing the specific alkyl metal-based compound is further formed on the metal film 9. Using the liquid, the second metal oxide film 10 is formed in the same manner as described above. Thus, the electromagnetic wave shielding film 6 shown in FIG. 1 is obtained.
【００３３】このようにして得られた電磁波シールドフ
ィルム６は、第１および第２の金属酸化物膜８，１０が
特定のアルキル金属系化合物を含む液膜の乾燥化によっ
て形成されているため、スパッタリング法による蒸着に
比べ製造コストがかからず、安価な製品となる。また、
第１および第２の金属酸化物膜８，１０の膜厚が特定の
範囲に設定されているため、良好な電磁波シールド性を
示すと同時に、良好な可視光透明性をも示す。したがっ
て、この電磁波シールドフィルム６は、窓ガラスや透明
間仕切り等の透明性が要求される用途に適したものとな
る。In the electromagnetic wave shielding film 6 thus obtained, the first and second metal oxide films 8, 10 are formed by drying a liquid film containing a specific alkyl metal compound. The production cost is lower than the vapor deposition by the sputtering method, and the product is inexpensive. Also,
Since the thicknesses of the first and second metal oxide films 8 and 10 are set in a specific range, they exhibit good electromagnetic wave shielding properties and also show good visible light transparency. Therefore, the electromagnetic wave shielding film 6 is suitable for applications requiring transparency such as window glass and transparent partitions.
【００３４】また、この電磁波シールドフィルム６は、
第１および第２の金属酸化物膜８，１０の膜厚を上記特
定の範囲内で変更した場合、光透過率スペクトルを変化
できるため、電磁波シールドフィルム６の色合いを変え
ることができ、多様な製品を提供できるという利点を有
する。Further, this electromagnetic wave shielding film 6
When the film thickness of the first and second metal oxide films 8 and 10 is changed within the above-mentioned specific range, the light transmittance spectrum can be changed, so that the color of the electromagnetic wave shielding film 6 can be changed and various colors can be obtained. It has the advantage of being able to provide products.
【００３５】なお、上記電磁波シールドフィルム６の一
面には、窓ガラス等に貼りつけるための透明粘着剤層を
設けてもよいし、第２の金属酸化物膜１０等を保護する
ための保護膜を設けてもよい。A transparent adhesive layer may be provided on one surface of the electromagnetic wave shielding film 6 for sticking to a window glass or the like, or a protective film for protecting the second metal oxide film 10 or the like. May be provided.
【００３６】図２は、本発明の電磁波シールドフィルム
の他の例を示す。FIG. 2 shows another example of the electromagnetic wave shielding film of the present invention.
【００３７】この電磁波シールドフィルム６′は、透明
フィルム７の一面に、シールド機能膜１１および粘着剤
層１２を介して、水分遮断層１３が透明フィルム７と対
峙した状態で形成されており、また透明フィルム７の他
面には、ハードコート層１４が形成されている。なお、
１５は施工用の粘着剤層であり、１６はセパレータであ
る。そして、それ以外の構成は、図１に示す電磁波シー
ルドフィルム６と同様である。The electromagnetic wave shielding film 6 ′ is formed on one surface of the transparent film 7 with the moisture barrier layer 13 facing the transparent film 7 via the shield function film 11 and the adhesive layer 12. On the other surface of the transparent film 7, a hard coat layer 14 is formed. In addition,
Reference numeral 15 denotes an adhesive layer for construction, and reference numeral 16 denotes a separator. Other configurations are the same as those of the electromagnetic wave shielding film 6 shown in FIG.
【００３８】上記構成において、水分遮断層１３は、そ
の字句どおり、水分を遮断する層のことであり、例えば
水分を遮断することができる各種のフィルムを用いて形
成される。このフィルムとしては、例えばＰＥＴフィル
ム，ＰＥＮフィルム等のポリエステルフィルム，ナイロ
ンフィルム，二軸延伸ポリプロピレンフィルム（ＯＰＰ
フィルム），無延伸ポリプロピレンフィルム（ＣＰＰフ
ィルム）等があげられる。なかでも、透湿度，酸素透過
度，コスト等の観点から、ナイロンフィルム，ポリエス
テルフィルムが好ましい。特に、二軸延伸ＰＥＴフィル
ムは、低透湿度および低酸素透過度を兼ね備えているた
め、最適である。なお、上記フィルムには、例えば紫外
線吸収剤等の添加剤が添加されてあってもよい。In the above configuration, the moisture blocking layer 13 is a layer that blocks moisture, as the word indicates, and is formed using, for example, various films capable of blocking moisture. Examples of the film include a polyester film such as a PET film and a PEN film, a nylon film, and a biaxially stretched polypropylene film (OPP).
Film), a non-stretched polypropylene film (CPP film) and the like. Of these, a nylon film and a polyester film are preferred from the viewpoints of moisture permeability, oxygen permeability, cost and the like. In particular, a biaxially stretched PET film is optimal because it has both low moisture permeability and low oxygen permeability. In addition, an additive such as an ultraviolet absorber may be added to the film.
【００３９】また、ハードコート層１４は、各種の材料
を用いて形成されるが、例えばアクリル系ＵＶ硬化樹脂
等を用いて形成される。The hard coat layer 14 is formed using various materials. For example, the hard coat layer 14 is formed using an acrylic UV curable resin.
【００４０】上記電磁波シールドフィルム６′は、例え
ばつぎのようにして製造される。すなわち、まず図３に
示すように、ハードコート層１４付きの透明フィルム７
を準備する。なお、このハードコート層１４は、透明フ
ィルム７の一面にハードコート層１４形成用のコーティ
ング液を塗布し乾燥後ＵＶ硬化する等して形成される。
つぎに、透明フィルム７の一面（ハードコート層１４形
成面と反対の面）に、図１に示す電磁波シールドフィル
ム６の製造と同様にして、シールド機能膜１１（図で
は、便宜上、単層構造として記載）を形成する。そし
て、シールド機能膜１１の表面に、アクリル系粘着剤等
の粘着剤を塗布して粘着剤層１２を形成し、その後剥離
用セパレータ１７を貼りつけて一体化することにより、
第１の一体化体１８を作製する。The electromagnetic wave shielding film 6 'is manufactured, for example, as follows. That is, first, as shown in FIG.
Prepare The hard coat layer 14 is formed by applying a coating liquid for forming the hard coat layer 14 on one surface of the transparent film 7, drying the coating solution, and then UV-curing the coating solution.
Next, on one surface of the transparent film 7 (the surface opposite to the surface on which the hard coat layer 14 is formed), a shield functional film 11 (in FIG. As described below). Then, an adhesive such as an acrylic adhesive is applied to the surface of the shield function film 11 to form an adhesive layer 12, and then a peeling separator 17 is attached and integrated to form an adhesive.
The first integrated body 18 is manufactured.
【００４１】また、図４に示すように、まず、水分遮断
層１３形成用のフィルム１９を準備する。そして、この
水分遮断層１３形成用のフィルム１９の一面に、アクリ
ル系粘着剤等の粘着剤を塗布して粘着剤層１５を形成
し、その後セパレータ１６を貼りつけて一体化すること
により、第２の一体化体２０を作製する。As shown in FIG. 4, first, a film 19 for forming the moisture barrier layer 13 is prepared. Then, an adhesive such as an acrylic adhesive is applied to one surface of the film 19 for forming the moisture barrier layer 13 to form an adhesive layer 15, and then a separator 16 is attached and integrated to form a first adhesive. The two integrated bodies 20 are manufactured.
【００４２】そして、上記のようにして得られた第１の
一体化体１８の剥離用セパレータ１７を剥離し、その剥
離面に、上記第２の一体化体２０の水分遮断層１３形成
用のフィルム１９面を接合させて一体化する。このよう
にして、図２に示す電磁波シールドフィルム６′が得ら
れる。Then, the peeling separator 17 of the first integrated body 18 obtained as described above is peeled off, and the peeled surface of the first integrated body 18 for forming the moisture blocking layer 13 of the second integrated body 20 is formed. The surfaces of the film 19 are joined and integrated. Thus, the electromagnetic wave shielding film 6 'shown in FIG. 2 is obtained.
【００４３】このようにして得られた電磁波シールドフ
ィルム６′は、シールド機能膜１１が図１に示す電磁波
シールドフィルム６と同様にして形成されているため、
良好な電磁波シールド性，可視光透明性を示すと同時
に、低価格化も実現したものとなる。加えて、このもの
は、水分遮断層１３が設けられているため、水を用いる
ことによってしわや気泡等を発生させることなく窓ガラ
ス等に施工することができる。また、施工時の水分が粘
着剤層１５中に残留していても、水分遮断層１３によっ
てその残留水分の浸透を防止できることから、良好な電
磁波シールド性を長期にわたって維持することができ
る。In the electromagnetic wave shielding film 6 'thus obtained, the shielding function film 11 is formed in the same manner as the electromagnetic wave shielding film 6 shown in FIG.
While exhibiting good electromagnetic wave shielding properties and visible light transparency, the price has been reduced. In addition, since this is provided with the moisture blocking layer 13, it can be applied to a window glass or the like without using water to generate wrinkles or bubbles. Further, even if moisture during construction remains in the pressure-sensitive adhesive layer 15, the penetration of the residual moisture can be prevented by the moisture blocking layer 13, so that good electromagnetic wave shielding properties can be maintained for a long time.
【００４４】なお、本発明の電磁波シールドフィルム
は、図１および図２に示す態様に限定するものではな
く、透明フィルム７の一面に、金属酸化物膜および金属
膜を適宜の数形成してもよい。ただし、金属酸化物膜、
金属膜は、通常、交互に形成される。そして、透明フィ
ルム７上に形成される金属酸化物膜および金属膜の合計
膜数は、透明性や製造コストの観点から、３〜７の範囲
に設定されていることが好ましい。Note that the electromagnetic wave shielding film of the present invention is not limited to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, and an appropriate number of metal oxide films and metal films may be formed on one surface of the transparent film 7. Good. However, metal oxide film,
The metal films are usually formed alternately. The total number of metal oxide films and metal films formed on the transparent film 7 is preferably set in a range of 3 to 7 from the viewpoint of transparency and manufacturing cost.
【００４５】つぎに、実施例について比較例と併せて説
明する。Next, examples will be described together with comparative examples.
【００４６】[0046]
【実施例１】まず、テトラ−ｎ−ブチルチタネート（４
量体）７重量％，ｎ−ブチルアルコール４８重量％，ｎ
−ヘキサン４５重量％の濃度割合からなるコーティング
液を準備した。つぎに、このコーティング液を厚み５０
μｍのＰＥＴフィルムの一面にグラビアコーターで塗工
し、その後加熱乾燥（１２０℃×３分）することによ
り、厚み６５０ｎｍの酸化チタン膜を形成した。Example 1 First, tetra-n-butyl titanate (4
7% by weight, n-butyl alcohol 48% by weight, n
A coating liquid having a concentration ratio of 45% by weight of hexane was prepared. Next, this coating liquid was applied to a thickness of 50
A 650 nm thick titanium oxide film was formed by applying a gravure coater to one side of a PET film having a thickness of μm and then drying by heating (120 ° C. × 3 minutes).
【００４７】つづいて、ＰＥＴフィルム上に形成された
酸化チタン膜上に、スパッタリング法による蒸着によ
り、厚み１８ｎｍの銀膜を形成した。Subsequently, a silver film having a thickness of 18 nm was formed on the titanium oxide film formed on the PET film by vapor deposition using a sputtering method.
【００４８】その後、上記銀膜の上に、上記コーティン
グ液と同一のものを用い、上記と同様にして、厚み６５
０ｎｍの酸化チタン膜を形成した。このようにして、Ｐ
ＥＴフィルムの一面に、酸化チタン膜，銀膜，酸化チタ
ン膜の３つの膜からなるシールド機能膜が形成された電
磁波シールドフィルムを製造した。Then, on the silver film, use the same coating solution as the above coating solution,
A 0 nm titanium oxide film was formed. Thus, P
An electromagnetic wave shielding film in which a shielding function film including three films of a titanium oxide film, a silver film, and a titanium oxide film was formed on one surface of the ET film was manufactured.
【００４９】[0049]
【実施例２〜５、比較例１，２】後記の表１に示す濃度
割合のコーティング液を用いたこと以外は、実施例１と
同様にして、電磁波シールドフィルムを製造した。な
お、各膜の膜厚は、同表に併せて示した。Examples 2 to 5, Comparative Examples 1 and 2 Electromagnetic wave shielding films were produced in the same manner as in Example 1 except that the coating solutions having the concentration ratios shown in Table 1 below were used. The thickness of each film is also shown in the table.
【００５０】このようにして得られた実施例および比較
例の電磁波シールドフィルムについて、シールド機能膜
を形成した面を表面として、下記に示すようにしてＫＥ
Ｃ法による電磁波シールド性（測定周波数：１ＧＨｚ）
を測定した。また、ＪＩＳＲ ３１０６に準じて可視光
透過率を測定した。そして、これらの結果を、同表に併
せて示した。With respect to the electromagnetic wave shielding films thus obtained in Examples and Comparative Examples, the surface on which the shielding function film was formed was designated as KE as shown below.
Electromagnetic wave shielding by C method (measurement frequency: 1 GHz)
Was measured. Further, the visible light transmittance was measured according to JISR 3106. These results are also shown in the table.
【００５１】〔ＫＥＣ法による電磁波シールド性の測定
方法〕ＫＥＣ法は、近傍電磁界での評価を対象としたも
ので、微小モノポールアンテナを用いることにより電磁
波シールド性を測定する方法である。具体的な測定に
は、図５に示すような測定装置が用いられる。図におい
て、２１は、試料となる電磁波シールドフィルムであ
り、その左側の送信器３１と右側の受信器３２によって
固定されている。そして、送信器３１には発振器３３が
取り付けられ、受信器３２にはスペクトラムアナライザ
ー３４が取り付けられている。なお、図において、３５
は、周辺リーク防止用のＥＭＩガスケット（ステンレス
網ひも）である。上記送信器３１および受信器３２は、
図６に示すように、全体が略四角錐状の外部導体３６か
ら構成されており、その頂部には、入出力用のコネクタ
ー３７が取り付けられている。また、中央部には、平板
状の送信（受信）アンテナ３８が取り付けられている。[Measurement Method of Electromagnetic Wave Shielding Property by KEC Method] The KEC method is intended for evaluation in a near electromagnetic field, and is a method of measuring an electromagnetic wave shielding property by using a small monopole antenna. For specific measurement, a measuring device as shown in FIG. 5 is used. In the drawing, reference numeral 21 denotes an electromagnetic wave shielding film serving as a sample, which is fixed by a transmitter 31 on the left side and a receiver 32 on the right side. An oscillator 33 is attached to the transmitter 31, and a spectrum analyzer 34 is attached to the receiver 32. In the figure, 35
Is an EMI gasket (stainless steel braid) for preventing peripheral leakage. The transmitter 31 and the receiver 32 are:
As shown in FIG. 6, the whole is composed of an external conductor 36 having a substantially quadrangular pyramid shape, and an input / output connector 37 is attached to the top thereof. A transmission (reception) antenna 38 having a flat plate shape is attached to the center.
【００５２】上記測定装置を用いての電磁波（電界）シ
ールド性の測定は、つぎのようにして行われる。すなわ
ち、まず、上記測定装置を用いて、試料となる電磁波シ
ールドフィルム２１を配設しないとき（ブランク）に受
信する電界強度の値（Ｅ１）と、配設したときに受信す
る電界強度の値（Ｅ２）とを求める。そして、両測定値
と数式〔−２０ｌｏｇ（Ｅ２／Ｅ１）〕とを用いて、電
磁波シールド性を算出する。The measurement of the electromagnetic wave (electric field) shielding property using the above-described measuring device is performed as follows. That is, first, the value of the electric field intensity (E1) received when the electromagnetic wave shielding film 21 serving as a sample is not provided (blank) and the value of the electric field intensity received when the electromagnetic wave shielding film 21 is provided (e.g., E2). Then, the electromagnetic wave shielding property is calculated using both the measured values and the equation [−20 log (E2 / E1)].
【００５３】[0053]
【表１】 [Table 1]
【００５４】上記表１の結果から、実施例品は全て、電
磁波シールド性に優れるとともに、可視光透過性にも優
れていることがわかる。これに対し、比較例品は、可視
光透過性に劣っていることがわかる。From the results shown in Table 1, it can be seen that all the products of Examples have excellent electromagnetic wave shielding properties and also have excellent visible light transmittance. On the other hand, it can be seen that the comparative example product is inferior in visible light transmittance.
【００５５】[0055]
【実施例６】アクリル系ＵＶ硬化樹脂製のハードコート
層が形成された厚み５０μｍのＰＥＴフィルムを準備
し、このフィルム面に、実施例１と同様にして、膜厚６
５０ｎｍの酸化チタン膜、膜厚１８ｎｍの銀膜、膜厚６
５０ｎｍの酸化チタン膜を順次形成し、シールド機能膜
を形成した。そして、このシールド機能膜の表面に、ア
クリル系粘着剤を２０μｍ厚になるように塗布し、その
後厚み２５μｍのＰＥＴ製のセパレータを貼りつけて一
体化した。このようにして、第１の一体化体を作製した
（図３参照）。Example 6 A 50 μm-thick PET film on which a hard coat layer made of an acrylic UV-curable resin was formed was prepared.
50 nm titanium oxide film, 18 nm film thickness silver film, film thickness 6
A 50 nm titanium oxide film was sequentially formed to form a shield function film. Then, an acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to the surface of the shield function film so as to have a thickness of 20 μm, and then a PET separator having a thickness of 25 μm was adhered to be integrated. Thus, a first integrated body was produced (see FIG. 3).
【００５６】一方、水分遮断層形成用の厚み２５μｍの
ＰＥＴフィルム〔テトロンフィルム（特殊タイプ）Ｈ
Ｂ、帝人社製〕を準備し、この一面に、アクリル系粘着
剤を２０μｍ厚になるように塗布し、その後厚み２５μ
ｍのＰＥＴ製のセパレータを貼りつけて一体化した。こ
のようにして、第２の一体化体を作製した（図４参
照）。On the other hand, a 25 μm-thick PET film [Tetron film (special type) H
B, manufactured by Teijin Limited], and an acrylic pressure-sensitive adhesive was applied on one surface thereof so as to have a thickness of 20 μm.
m of PET separator was integrated. Thus, a second integrated body was produced (see FIG. 4).
【００５７】そして、上記第１の一体化体のセパレータ
を剥離し、その剥離面に、上記第２の一体化体のＰＥＴ
フィルム（水分遮断層）面を接合して一体化することに
より、水分遮断層を備えた電磁波シールドフィルムを製
造した（図２参照）。Then, the separator of the first integrated body is peeled off, and the peeled surface of the separator of the second integrated body is PET.
An electromagnetic wave shielding film provided with a moisture blocking layer was manufactured by joining and integrating the films (moisture blocking layers) (see FIG. 2).
【００５８】このようにして得られた電磁波シールドフ
ィルムを用いて、つぎのようにしてガラス板付き電磁波
シールドフィルムを作製した。すなわち、まず電磁波シ
ールドフィルムのセパレータを剥離して、アクリル系粘
着剤層を露呈させ、その露呈面のアクリル系粘着剤層を
水で濡らした。その後、この電磁波シールドフィルム
を、予め水で濡らしておいたガラス板にその水を利用し
て仮止めした。そして、ガラス板とアクリル系粘着剤層
の間の水をへらで追い出すことにより両者を貼りつけて
一体化し、ガラス板付き電磁波シールドフィルムを作製
した。なお、電磁波シールドフィルムはガラス板に密着
しており、しわや気泡の発生は見られなかった。Using the electromagnetic wave shielding film thus obtained, an electromagnetic wave shielding film with a glass plate was produced as follows. That is, first, the separator of the electromagnetic wave shielding film was peeled off to expose the acrylic pressure-sensitive adhesive layer, and the acrylic pressure-sensitive adhesive layer on the exposed surface was wetted with water. Thereafter, the electromagnetic wave shielding film was temporarily fixed to a glass plate which had been wetted with water in advance using the water. Then, water between the glass plate and the acrylic pressure-sensitive adhesive layer was expelled with a spatula so that the two were attached and integrated to produce an electromagnetic wave shielding film with a glass plate. The electromagnetic wave shielding film was in close contact with the glass plate, and no wrinkles or bubbles were generated.
【００５９】このようにして得られたガラス板付き電磁
波シールドフィルムを、常温常湿条件下（２０℃×４０
％ＲＨ）で一週間放置した。そして、放置後のガラス板
付き電磁波シールドフィルムについて、前記と同様にし
て、ＫＥＣ法による電磁波シールド性（測定周波数：１
ＧＨｚ）を測定したところ、３５ｄＢであった。また、
前記と同様、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準じて可視光透過
率を測定したところ、６５％であった。The electromagnetic wave shielding film with the glass plate thus obtained was subjected to normal temperature and normal humidity conditions (20 ° C. × 40
% RH) for one week. Then, in the same manner as described above, the electromagnetic wave shielding film with a glass plate after standing was subjected to the electromagnetic wave shielding property by KEC method (measurement frequency: 1).
GHz) was 35 dB. Also,
Similarly to the above, the visible light transmittance was measured according to JIS R 3106 and found to be 65%.
【００６０】また、上記ガラス板付き電磁波シールドフ
ィルムを、常温常湿条件下ではなく、６０℃×９０％に
設定された湿熱槽内に２０００時間放置した。そして、
放置後のガラス板付き電磁波シールドフィルムについ
て、前記と同様にして、ＫＥＣ法による電磁波シールド
性（測定周波数：１ＧＨｚ）を測定したところ、常温常
湿条件下放置の場合と同じ、３５ｄＢであった。また、
前記と同様、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準じて可視光透過率
を測定したところ、常温常湿条件下放置の場合と同じ、
６５％であった。Further, the above-mentioned electromagnetic wave shielding film with a glass plate was left in a moist heat tank set at 60 ° C. × 90% for 2000 hours, not under normal temperature and normal humidity conditions. And
When the electromagnetic wave shielding film (measurement frequency: 1 GHz) of the electromagnetic wave shielding film with the glass plate after the standing was measured by the KEC method in the same manner as described above, the value was 35 dB, which was the same as the case of standing under the normal temperature and normal humidity conditions. Also,
When the visible light transmittance was measured according to JIS R3106 in the same manner as described above, the same as when left at room temperature and normal humidity,
65%.
【００６１】[0061]
【実施例７】実施例６と同様にして、ハードコート層付
きＰＥＴフィルムのフィルム面に、膜厚６５０ｎｍの酸
化チタン膜，膜厚１８ｎｍの銀膜，膜厚６５０ｎｍの酸
化チタン膜からなるシールド機能膜を形成した。つい
で、このシールド機能膜の表面に、アクリル系粘着剤を
２０μｍ厚になるように塗布し、その後セパレータを貼
りつけて一体化することにより、電磁波シールドフィル
ム（水分遮断層なし）を作製した。また、この電磁波シ
ールドフィルムを用い、実施例６と同様にして、ガラス
板付き電磁波シールドフィルムを作製した。なお、電磁
波シールドフィルムはガラス板に密着しており、しわや
気泡の発生は見られなかった。Example 7 In the same manner as in Example 6, a shielding function comprising a 650 nm-thick titanium oxide film, an 18 nm-thick silver film, and a 650 nm-thick titanium oxide film on the surface of the PET film with a hard coat layer. A film was formed. Then, an acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to the surface of the shield function film so as to have a thickness of 20 μm, and then a separator was attached and integrated to produce an electromagnetic wave shielding film (without a water blocking layer). Further, using this electromagnetic wave shielding film, an electromagnetic wave shielding film with a glass plate was produced in the same manner as in Example 6. The electromagnetic wave shielding film was in close contact with the glass plate, and no wrinkles or bubbles were generated.
【００６２】このようにして得られたガラス板付き電磁
波シールドフィルムを、上記と同様、常温常湿条件下で
一週間放置した。そして、放置後のガラス板付き電磁波
シールドフィルムについて、前記と同様にして、ＫＥＣ
法による電磁波シールド性（測定周波数：１ＧＨｚ）を
測定したところ、３５ｄＢであった。また、前記と同
様、ＪＩＳ Ｒ ３１０６に準じて可視光透過率を測定
したところ、６５％であった。The thus-obtained electromagnetic wave shielding film with a glass plate was allowed to stand for one week under normal temperature and normal humidity conditions as described above. Then, for the electromagnetic wave shielding film with a glass plate after being left, KEC
When the electromagnetic wave shielding property (measurement frequency: 1 GHz) was measured by the method, it was 35 dB. Further, similarly to the above, when the visible light transmittance was measured according to JIS R 3106, it was 65%.
【００６３】また、上記ガラス板付き電磁波シールドフ
ィルムを、常温常湿条件下ではなく、６０℃×９０％に
設定された湿熱槽内に２０００時間放置した。そして、
放置後のガラス板付き電磁波シールドフィルムについ
て、前記と同様にして、ＫＥＣ法による電磁波シールド
性（測定周波数：１ＧＨｚ）を測定したところ、３１ｄ
Ｂであり、常温常湿条件下放置の場合に比べ、４ｄＢ低
下していた。また、前記と同様、ＪＩＳ Ｒ ３１０６
に準じて可視光透過率を測定したところ、常温常湿条件
下放置の場合と同じ、６５％であった。Further, the above-mentioned electromagnetic wave shielding film with a glass plate was allowed to stand in a moist heat tank set at 60 ° C. × 90% for 2000 hours, not under normal temperature and normal humidity conditions. And
The electromagnetic wave shielding film with a glass plate after standing was measured for electromagnetic wave shielding properties (measurement frequency: 1 GHz) by the KEC method in the same manner as described above.
B, which was 4 dB lower than when left at room temperature and normal humidity. Also, as described above, JIS R 3106
The visible light transmittance was measured in accordance with the above, and found to be 65%, the same as in the case of standing at normal temperature and normal humidity.
【００６４】上記実施例６および実施例７の結果から、
水分遮断層が設けられている実施例６品の電磁波シール
ドフィルムは、残留水分の銀膜までの浸透がなく、電磁
波シールド性の低下が全く見られなかったが、水分遮断
層が設けられていない実施例７品の電磁波シールドフィ
ルムは、残留水分が銀膜まで浸透して、電磁波シールド
性の低下が見られた。From the results of Example 6 and Example 7,
The electromagnetic wave shielding film of Example 6 in which the moisture shielding layer was provided had no penetration of the residual moisture to the silver film, and no reduction in the electromagnetic wave shielding property was observed, but the moisture shielding layer was not provided. In the electromagnetic wave shielding film of Example 7, the residual moisture permeated into the silver film, and the electromagnetic wave shielding property was reduced.
【００６５】[0065]
【発明の効果】以上のように、本発明の電磁波シールド
フィルムは、金属膜および金属酸化物膜を備えてなるシ
ールド機能膜と、このシールド機能膜が形成される透明
フィルムとから構成される電磁波シールドフィルムであ
って、上記金属酸化物膜が、特定のアルキル金属系化合
物を含む液膜の乾燥化により形成され、かつその金属酸
化物膜の膜厚が特定の範囲に設定されている。そのた
め、金属酸化物膜をスパッタリング法による蒸着で形成
した場合に比べ製造コストがかからず、低価格化を実現
した製品になる。しかも、低コスト品でありながら、良
好な電磁波シールド性と可視光透過性とを兼ね備えてお
り、電磁波遮蔽性と透明性が要求される用途、例えば窓
ガラスや透明間仕切り等に適したものとなる。As described above, the electromagnetic wave shielding film of the present invention comprises an electromagnetic wave shielding film comprising a metal film and a metal oxide film, and a transparent film on which the shielding function film is formed. In a shield film, the metal oxide film is formed by drying a liquid film containing a specific alkyl metal-based compound, and the thickness of the metal oxide film is set in a specific range. Therefore, compared to the case where the metal oxide film is formed by vapor deposition using a sputtering method, the manufacturing cost is lower and the product is realized at lower cost. In addition, while being a low-cost product, it has both good electromagnetic wave shielding and visible light transmission, making it suitable for applications requiring electromagnetic wave shielding and transparency, such as window glass and transparent partitions. .
【００６６】上記電磁波シールドフィルムのなかでも、
水分遮断層が設けられたものは、施工時の水分の浸透が
防止されるため、金属膜が劣化せず、良好な電磁波シー
ルド性を長期にわたって維持することができるという利
点を有する。Among the above electromagnetic wave shielding films,
The one provided with the moisture blocking layer has the advantage that the penetration of moisture during construction is prevented, so that the metal film is not deteriorated and good electromagnetic wave shielding properties can be maintained for a long time.
【図１】本発明の電磁波シールドフィルムの一例を模式
的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one example of the electromagnetic wave shielding film of the present invention.
【図２】本発明の電磁波シールドフィルムの他の例を模
式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another example of the electromagnetic wave shielding film of the present invention.
【図３】上記他の例の電磁波シールドフィルムの製造方
法を説明するための模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film of another example.
【図４】上記他の例の電磁波シールドフィルムの製造方
法を説明するための模式的断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding film of another example.
【図５】ＫＥＣ法による電磁波シールド性の測定に用い
られる測定装置を模式的に示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing a measuring device used for measuring electromagnetic shielding properties by the KEC method.
【図６】上記測定装置の送信器および受信器を示す説明
図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a transmitter and a receiver of the measuring device.
【図７】従来の電磁波シールドフィルムを説明するため
の模式的断面図である。FIG. 7 is a schematic sectional view for explaining a conventional electromagnetic wave shielding film.
６ 電磁波シールドフィルム ７ 透明フィルム ８ 第１の金属酸化物膜 ９ 金属膜 １０ 第２の金属酸化物膜 １１ シールド機能膜 Reference Signs List 6 electromagnetic wave shielding film 7 transparent film 8 first metal oxide film 9 metal film 10 second metal oxide film 11 shield function film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片山 晶雅 愛知県小牧市大字北外山字哥津3600番地 東海ゴム工業株式会社内 Ｆターム(参考） 5E321 AA44 AA46 BB23 BB25 BB44 CC16 GG05 GH01 5J020 BD01 EA03 EA07 EA10 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Akimasa Katayama 3600, Gezu, Kokugaiyama, Komaki, Komaki, Aichi Prefecture F term (reference) 5E321 AA44 AA46 BB23 BB25 BB44 CC16 GG05 GH01 5J020 BD01 EA03 EA07 EA10
Claims (3)
シールド機能膜と、このシールド機能膜を保持形成する
透明フィルムとから構成される電磁波シールドフィルム
であって、上記金属酸化物膜が、下記の一般式（１）で
表されるアルキル金属系化合物を含む液膜の乾燥化によ
り形成され、かつその金属酸化物膜の膜厚が、２００〜
２０００ｎｍの範囲に設定されていることを特徴とする
電磁波シールドフィルム。 【化１】Ｍx Ｏy Ｒz …（１） 〔式（１）中、Ｍは金属であり、Ｒはアルキル基であ
る。また、ｘ，ｙ，ｚは正の整数である。〕1. An electromagnetic wave shielding film comprising a shield function film including a metal film and a metal oxide film, and a transparent film holding and forming the shield function film, wherein the metal oxide film is: A liquid film containing an alkyl metal-based compound represented by the following general formula (1) is formed by drying, and the thickness of the metal oxide film is 200 to
An electromagnetic wave shielding film set to a range of 2000 nm. Embedded image M x O y R z (1) [In the formula (1), M is a metal and R is an alkyl group. X, y, and z are positive integers. ]
電磁波シールドフィルム。2. The electromagnetic wave shielding film according to claim 1, further comprising a moisture blocking layer.
透明フィルムと対峙した状態で形成されている請求項２
記載の電磁波シールドフィルム。3. The moisture blocking layer is formed so as to face the transparent film via a shield function film.
The described electromagnetic wave shielding film.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29297199A JP2001119236A (en) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | Electromagnetic wave shield film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29297199A JP2001119236A (en) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | Electromagnetic wave shield film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001119236A true JP2001119236A (en) | 2001-04-27 |
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ID=17788806
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|---|---|---|---|
| JP29297199A Pending JP2001119236A (en) | 1999-10-14 | 1999-10-14 | Electromagnetic wave shield film |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001119236A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6634142B2 (en) | 2000-03-10 | 2003-10-21 | Meritor Light Vehicle Systems-France | Apparatus for mounting a drive mechanism within a door module |
| JP2015045590A (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-12 | Ｔ＆Ａ株式会社 | Device and method for measuring electromagnetic wave loss using electromagnetic wave absorption layer |
-
1999
- 1999-10-14 JP JP29297199A patent/JP2001119236A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6634142B2 (en) | 2000-03-10 | 2003-10-21 | Meritor Light Vehicle Systems-France | Apparatus for mounting a drive mechanism within a door module |
| US6684568B2 (en) | 2000-03-10 | 2004-02-03 | Meritor Light Vehicle Systems—France | Door panel assembly |
| JP2015045590A (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-12 | Ｔ＆Ａ株式会社 | Device and method for measuring electromagnetic wave loss using electromagnetic wave absorption layer |
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