JP2001113281A - 電気脱イオン装置及び純水製造装置 - Google Patents
電気脱イオン装置及び純水製造装置Info
- Publication number
- JP2001113281A JP2001113281A JP2000240054A JP2000240054A JP2001113281A JP 2001113281 A JP2001113281 A JP 2001113281A JP 2000240054 A JP2000240054 A JP 2000240054A JP 2000240054 A JP2000240054 A JP 2000240054A JP 2001113281 A JP2001113281 A JP 2001113281A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- electrodeionization
- chamber
- treated
- electrodeionization apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
躍的に向上させることができ、超純水製造装置の一次純
水システムや回収系に好適な電気脱イオン装置と、この
電気脱イオン装置を用いて、比抵抗値18.0MΩ・c
m以上の高水質処理水を得ることができる純水製造装置
を提供する。 【解決手段】 陰極と陽極の間に複数のカチオン交換膜
とアニオン交換膜とを配列して、濃縮室と脱塩室とを交
互に形成し、脱塩室にイオン交換体を充填してなる電気
脱イオン装置において、pH8.5以下の被処理水をア
ルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、被処
理水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水を得るこ
とができる電気脱イオン装置3A。被処理水を複数段の
電気脱イオン装置3A,3Bに通水するように接続した
純水製造装置であって、最前段の電気脱イオン装置3A
としてこの電気脱イオン装置を用いた純水製造装置。
Description
薬、食品、電力等の分野の各種産業、民生用又は研究設
備で利用される脱イオン水を製造する電気脱イオン装置
に係る。特に、シリカ、ホウ素などの弱電解質の除去率
を飛躍的に向上させることができ、超純水製造装置の一
次純水システムや回収系に好適な電気脱イオン装置に係
る。さらに、本発明は、この電気脱イオン装置を採用し
ており、比抵抗値18.0MΩ・cm以上の高水質処理
水を得ることを可能とした純水製造装置に関する。
は、半導体製造工場、液晶工場、食品工業、電力工業等
の各種産業、民生用ないし研究施設等において使用され
ている。図3に示す如く、電極(陽極11、陰極12)
の間に複数のアニオン交換膜13及びカチオン交換膜1
4を交互に配列して濃縮室15と脱塩室16とを交互に
形成し、脱塩室16にイオン交換樹脂、イオン交換繊維
もしくはグラフト交換体等からなるアニオン交換体とカ
チオン交換体とを混合もしくは複層状に充填した電気脱
イオン装置が特公平4−72567号公報、特許第27
51090号公報、特許第2699256号公報に記載
されている。17は陽極室、18は陰極室である。
イオンとOH−イオンとを生成させ、脱塩室内に充填さ
れているイオン交換体を連続して再生することによっ
て、効率的な脱塩処理が可能である。電気脱イオン装置
は、従来から脱塩処理に広く用いられてきたイオン交換
樹脂装置のような薬品を用いた再生処理を必要とせず、
完全な連続採水が可能である。
構成を示す分解図である。
極電極板102が配置され、この陰極電極板102の周
縁部に枠状の陰極用スペーサ103が重ね合わされる。
この陰極用スペーサ103の上にカチオン交換膜10
4、脱塩室形成用の枠状フレーム105、アニオン交換
膜106及び濃縮室形成用の枠状フレーム107がこの
順に重ね合わされる。このカチオン交換膜104、脱塩
室形成用の枠状フレーム105、アニオン交換膜106
及び濃縮室形成用の枠状フレーム107を1単位として
多数重ね合わされる。即ち、膜104、フレーム10
5、膜106、フレーム107が連続して繰り返し積層
される。最後のアニオン交換膜106に対し枠状の陽極
用スペーサ108を介して陽極電極板109が重ね合わ
され、その上に陽極側エンドプレート110が重ね合わ
されて積層体とされる。この積層体はボルト等によって
締め付けられる。
ースが脱塩室となっており、この脱塩室にはイオン交換
樹脂等のイオン交換体105Rが充填される。濃縮室用
フレーム107の内側が濃縮室となっている。この濃縮
室にはメッシュスペーサなどが配置される。
陰極102の間に直流電流を通じ、且つ被処理水(原
水)を被処理水流入ライン111を通して脱塩室内に通
水せしめ、また、濃縮水を濃縮水流入ライン112を通
して濃縮室108内に通水せしめる。脱塩室内に流入し
てきた被処理水はイオン交換樹脂の充填層を流下し、そ
の際、該被処理水中の不純物イオンが除かれて脱イオン
水となり、これが脱イオン水流出ライン113を経て流
出する。
室内を流下するときに、イオン交換膜104,106を
介して移動してくる不純物イオンを受け取り、不純物イ
オンを濃縮した濃縮水として濃縮水流出ライン114よ
り流出する。電極室にはそれぞれ導入ライン115,1
16及び取出ライン117,118を介して電極水が流
通される。
リブを設け、脱塩室内を上下方向に長い小室(セル)に区
画した電気脱イオン装置が特公平4−72567号公報
に記載されている。このように脱塩室内をリブによって
細長い小室に区画し、各小室にそれぞれイオン交換樹脂
を充填した電気脱イオン装置にあっては、脱塩室の入口
から出口に向って局部的に偏って水が流れるチャンネル
化現象が防止されると共に、脱塩室内においてイオン交
換樹脂が圧縮されたり移動したりすることが防止され
る。
オン装置にあっては、脱塩室を上下に細長い小室に区画
するため、小室の数に制限がある。即ち、あまり多くの
小室を形成することができない。また、リブによって水
の左右方向への流れが阻止されるため、水とイオン交換
樹脂との接触効率が悪い。さらに、小室の下部にあって
はイオン交換樹脂が圧縮され、上部に隙間があき、イオ
ン交換樹脂の充填率が低くなりがちであるという短所も
ある。
来の純水製造装置を示す系統図であり、市水等の原水
は、活性炭装置1及び逆浸透(RO)膜装置2で処理さ
れた後、電気脱イオン装置3で処理される。
(CO2)、シリカ、ホウ素などの弱電解物質を除去す
るためには、下記のようなイオン化反応を脱塩室内で生
起させ、イオンを発生させる必要がある。 CO2+OH−→HCO3 − (pKa=6.35) SiO2+OH−→HSiO3 − (pKa=9.86) H3BO3+OH−→B(OH)4 − (pKa=9.24)
に解離定数pKa値が低い物質は印加電圧を高めて水解
離を起こさせれば、従来の電気脱イオン装置でも完全に
除去することができるが、シリカ、ホウ素などの解離定
数が高い物質は印加電圧を上げても60〜90%程度ま
でしか除去することができない。
来、次のような方法が提案されている。 I. 脱塩室のイオン交換層をアニオン交換層、カチオ
ン交換層とする複層充填とし、該アニオン交換層で一時
的にアルカリ性にする方法(特開平4−71624号公
報) II. 電気脱イオン装置の原水のpHを9.5〜11.
5に調整して通水する方法(USP4,298,44
2) III. シリカを除去するために、従来の電気脱イオン
装置を多段に設けて通水したり、前段のRO膜装置を多
段にする方法。
交換層を複層充填とする方法では、半導体分野等での要
求シリカ濃度<0.1ppbを達成することはできな
い。
の除去効率は5〜10%程度向上するが、pH調整のた
めに苛性ソーダなどの薬液注入設備が必要となる。 原
水中のCa2+、Mg2+等の硬度成分はスケールを生
成するため、軟化装置等で完全に除去する必要があり、
設備コストが上昇する。
された水にはシリカやホウ素が0.5〜1.0ppb以
上含まれるため、電気脱イオン装置の後段に非再生型混
床式イオン交換装置を配置する必要がある。
以上の電流を流して脱塩を行うが、この時、前述のよう
に水解離が生じてOH−、H+が発生し、電荷を運ぶよ
うになる。このH+イオンのイオン移動度は349.7
cm2Ω−1eq−1で、他のイオンのイオン移動度
(30〜70cm2Ω−1eq−1)に比べ、圧倒的に
速い(イオン移動度は無限希釈溶液におけるデータ、日
本化学会編「化学便覧」参照)。このため、特に脱塩室
の厚みWが大きくなると、水解離が生じたときにイオン
移動度の違いによる移動速度の差が広がり、H+は速や
かにに濃縮室側に排出され、OH−イオンが脱塩室に取
り残され易い。また、Ca2+、Mg2+などの多価の
カチオンやアニオンは比較的容易に濃縮室側に排出され
るが、Na +、K+は1価であると共に、H+イオンが
電荷を運ぶ役割をしているため、脱塩室に残り易い。こ
の結果として、処理水中にNaOH、KOH等の1価の
アルカリ金属水酸化物が含有されるようになり、処理水
(脱イオン水)のpHはアルカリ性となる。
酸性となる。
ソーダなどの薬液を注入することなく、また、スケール
が生成せず、シリカ、ホウ素等の弱電解質の除去率が著
しく高い電気脱イオン装置と、この電気脱イオン装置を
用いた純水製造装置を提供することを目的とする。
置は、陰極、陽極、該陰極と陽極の間に複数のカチオン
交換膜とアニオン交換膜とを配列することにより形成さ
れて、濃縮室と脱塩室及び、該脱塩室に充填されたイオ
ン交換体を有する。脱塩室の厚さ、操作電圧及び/又は
電流、通水SVを調整することにより、pH8.5以下
の被処理水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理し
たときに、被処理水のpHよりも1.0以上高いpHの
処理水が得られる。
カ、ホウ素等の弱電解物質が被処理水から効率的に除去
される。
通水される複数段の電気脱イオン装置を有する。最前段
の電気脱イオン装置が本発明の電気脱イオン装置であ
る。
一部の炭酸ガス、シリカ、ホウ素、硬度成分が除去され
る。最前段の電気脱イオン装置で処理された水は、原水
と同等の導電率を有し、原水よりも高いpHを有する。
処理水は、更に、通常の電気脱イオン装置で処理され、
残留するシリカやホウ素、及びその他のイオンが除去さ
れる。
報に示された1.26〜6.35mmよりも厚く、かつ
脱塩室にアニオン交換体単独もしくはアニオン交換体と
カチオン交換体との混合が充填された電気脱イオン装置
は特異な挙動を示す。即ち、逆浸透膜装置(RO装置)か
ら取り出されたアルカリ金属イオン及びアルカリ土類金
属イオンを少量含む水が電気脱イオン装置を通過する
と、水中の炭酸ガス(CO2)やアニオンは除去され、
シリカ、ホウ素も約90%除去される。また、C
a2+、Mg2+等の硬度成分も除去される。ところ
が、Na,K等の1価のカチオンは除去率が悪く、結果
として処理水にはモル伝導率が大きいNaOH、KOH
などのアルカリ成分がリークしてくるため、pHが上昇
すると共に、導電率も若干大きくなる傾向にある。
す原因の詳細は明らかではないが、次のように推定され
る。即ち、電気脱イオン装置では限界電流密度以上の電
流を流して脱塩を行うが、この時、前述のように水解離
が生じてOH−、H+が発生し、電荷を運ぶようにな
る。このH+イオンのイオン移動度は349.7cm2
Ω−1eq−1で、他のイオンのイオン移動度(30〜
70cm2Ω−1eq− 1)に比べ、圧倒的に速い(イ
オン移動度は無限希釈溶液におけるデータ、日本化学会
編「化学便覧」参照)。このため、脱塩室厚みが厚くな
ると、水解離が生じたときにイオン移動度の違いによる
移動速度の差が広がり、H+が一方的に濃縮室側に排出
されることになり、OH−イオンが脱塩室に取り残され
るようになる。Ca2+、Mg2+などの多価のカチオ
ンやアニオンは比較的容易に濃縮室側に排出されるが、
Na+、K+はH+イオンが電荷を運ぶ役割をしている
ため脱塩室に残る。結果として、処理水からはNaO
H、KOH等の1価のアルカリ金属がリークすることと
なり、pHが上昇する。
れ難く、H+が排出され易いため、pHが酸性となる。
従って、Ca2+、Mg2+等が高濃度で濃縮されても
スケールを生成することはない。
の脱塩室のアニオン交換膜と陽極との間にカチオン交換
膜を配置し、このカチオン交換膜と該最も陽極側の脱塩
室との間を濃縮室とし、このカチオン交換膜と陽極との
間を陽極室としてもよい。
室のカチオン濃度が高く、電極間の電気抵抗が小さい。
従って、セル電圧を低減することができる。この陰極室
でのスケール発生を防止するには、陰極室に流入する電
極水のpHを低く(酸性)とする。このためには、この
電極水として用いられる濃縮室流出水のpHを低くすれ
ば良く、このためには脱塩室の厚さを大きくすれば良
い。
複数段の電気脱イオン装置に通水するように接続した純
水製造装置の最前段の電気脱イオン装置として好適であ
る。10μS/cmの導電率、200ppbのシリカ、
20ppbのホウ素を含む被処理水が本発明の電気脱イ
オン装置に通水され、次いで通常の電気脱イオン装置に
通水されると、比抵抗値18MΩ・cm以上、シリカ、
ホウ素は0.1ppb以下と、理論純水に近くなる。先
行する電気脱イオン装置で、Ca2+、Mg2 +の硬度
成分が除去されるので、スケールが後続する電気脱イオ
ン装置で発生せず、水回収率が95%以上になる。先行
する電気脱イオン装置の濃縮室からは酸性水が取り出さ
れ、後続する電気脱イオン装置の濃縮室からはアルカリ
水が取り出される。これらは、混合されて前処理装置で
あるRO膜装置の前段に戻されてもよい。
セルと、7mm未満の薄いセルを一つの電気脱イオン装
置内に設置され、水が厚いセルから薄いセルへと直列に
流れてもよい。
の形態を詳細に説明する。
以下の被処理水(電気脱イオン装置の給水)にアルカリ
薬剤を添加することなく処理した場合において、被処理
水よりもpHが1.0以上、好ましくは1.3〜3.0
程度高い処理水(脱イオン水)を得ることができるよう
構成されている。
のpHが上昇することにより、シリカやホウ素等の弱電
解物質及び硬度成分が効率よく除去される。
i)の構成を採用することが好ましい。 i) 脱塩室の厚さは7mm以上が好ましく、処理水の
pHを効率良く上げるために、脱塩室の厚さは8〜30
mmがより好ましい。脱塩室の厚みとは、図3のWで示
す如く、陽極11と陰極12との間の脱塩室16の厚み
を指す。 ii) 脱塩室のイオン交換体はアニオン交換体とカチ
オン交換体との混合層が最も良い。印加電圧が高いとき
には、アニオン交換体の単独層でもよい。一部の脱塩室
に混合層が充填され、他の脱塩室にアニオン交換体層が
充填されてもよい。
が交互に充填される複層充填は、脱塩室が7mm以上の
厚さであっても、処理水比抵抗値が上昇し、pHは中性
となる。これは、ナトリウムイオンなどの1価のカチオ
ンがカチオン交換層で除去されてしまうためである。
ン装置の濃縮室にイオン交換体が充填されていてもよ
く、このようにすればセル電圧が低減され、消費電力が
減少する。濃縮室にイオン交換体が無く、セル電圧が1
5V/cellの場合と、濃縮室にイオン交換体が充填
され、セル電圧が3〜6V/cellの場合とで、同等
の処理が可能である。
のイオン交換樹脂、繊維や不織布等にグラフト重合を利
用して交換基を導入したグラフト重合交換体などのいず
れであっても良い。
としては均一寸法のビーズ状のイオン交換樹脂が好まし
い。この「均一寸法のイオン交換樹脂」とはビーズの9
0%が平均ビード寸法の10%以内にあり、ビード混合
物内におけるアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂の相
対平均寸法が少なくとも0.8のものを指す。
を採用した電気脱イオン装置が次の条件で運転される。
しくは6〜50V/cell、特に好ましくは10〜3
0V/cellの電圧が印加される。水は30〜150
/hr、好ましくは50〜100/hrのSVで流れ
る。印加電圧が低すぎる場合、及びSVが高すぎる場合
は処理水に塩化物イオン等の1価のアニオンやシリカ、
ホウ素が漏出する。逆に印加電圧が高すぎる場合及びS
Vが低すぎる場合は1価のカチオンが過度に除去され
る。
9.0以上であると、シリカ、ホウ素が除去され易い。
脱塩室内部のpHを9以上にするには、セルの厚みが異
なる脱塩室を形成することにより可能である。具体的に
は、例えば(セル出口近傍の厚み/最大のセル厚み)の
比率が0.6以下とする。
及び不均一膜のいずれでも良いが、不均一膜は均一膜よ
りもNa+リーク率が高く、処理水pHが上昇する。し
たがって、カチオン膜は不均一膜が好ましい。アニオン
膜はシリカ、ホウ素除去率維持のため均一膜の方がよ
い。
カチオン交換膜の電気抵抗との比(A/C)は、Na+
を容易に除去する。
上記構成において、脱塩室厚みが10〜20mmであ
り、脱塩室にアニオン交換体とカチオン交換体との混床
が充填され、イオン交換体は混合層とし、通水SVが5
0〜100/hrであり、印加電圧が10〜30V/c
ellであると、被処理水中の硬度成分を50%以上、
ホウ素、シリカ等の弱電解物質を90%以上除去でき
る。
来の電気脱イオン装置と同様でよい。
は、水道水、河川水、地下水等を逆浸透膜装置によって
処理したシリカ及び/又はホウ素を含有する水が好適で
ある。
ルの発生を防止するために、下記式で算出されるスケー
ル指標数値SIが500以下特に200以下となる条件
で運転されることが好ましい。 スケール指標数値SI=〔無機炭酸の単位膜面積当りの
負荷量(mg−CO 2/hr・dm2)〕・〔濃縮水C
a2+濃度(mg−CaCO3/L)〕 無機炭酸の単位膜面積当りの負荷量(mg−CO2/h
r・dm2)は、下記の式の通り、該電気脱イオン装置
のアニオン交換膜1dm2当たりの負荷量(mg−CO
2/hr)である。濃縮水Ca2+濃度は濃縮室流出水
のCa2+濃度(CaCO3換算)である。
スケール発生のメカニズムを明らかにするために、電気
脱イオン装置の供給水に過剰量の無機炭酸及びCa2+
を混在させて、意図的にスケールを発生させた後、装置
を解体して濃縮室を観察した結果、濃縮室面側のアニオ
ン交換膜に炭酸カルシウムが付着していることを知見し
た。
生のメカニズムを次のように推定した。即ち、電気脱イ
オン装置を運転しているときには、アニオン交換膜の表
面近傍は局所的にアルカリになり、脱塩室からアニオン
交換膜を透過してくるHCO 3 −もしくはCO3 2−及
びOH−はアニオン交換膜付近で濃縮されており、そこ
へ濃縮室内の水に含まれるCa2+がアニオン交換膜面
へ引き寄せられ、これらが反応して炭酸カルシウムのス
ケールがアニオン交換膜面に発生する。
き、アニオン交換膜の無機炭酸の単位膜面積当りの負荷
量と濃縮水のCa2+濃度を掛け合わせたスケール指標
数値SIを500以下とすればスケールが全く発生しな
いことを見出した。
−CO2/hr)は、電気脱イオン装置の供給水の無機
炭酸濃度(mg−CO2/L)に流量(L/hr)を掛
けることにより求められ、従って、無機炭酸膜面積負荷
量(mg−CO2/hr・dm2)は、〔供給水の無機
炭酸濃度(mg−CO2/L)〕と〔セル当たりの流量
(L/hr)/セル有効アニオン交換膜面積(d
m2)〕との積で算出される。
の指標としてのスケール指標数値SIを500以下特に
200以下にすることにより、電気脱イオン装置の濃縮
室内での炭酸カルシウムスケールの析出を確実に防止す
ることができ、該電気脱イオン装置を長期間に亘って安
定に運転することが可能となる。
のイオンを排出させるのに必要な理論電流値以上の電流
を流して、脱塩室内で水解離を生じさせて、イオン交換
体を連続的に再生している。従って、電流を流すほどア
ニオン交換膜面のpHはアルカリ性になり、炭酸カルシ
ウムは析出し易くなる。そのため、許容SI値は電流値
によって変化する。
すればよい電気脱イオン装置において、90%以上の高
シリカ除去率が要求されない場合、又は20%を超える
電流効率で運転するような場合には、SI値が200以
下になるようにすればよく、好ましくは150以下であ
る。特に、経済的な考慮からは、必要以上の脱ガス装置
や軟化装置による処理を避けるために、SI値を80〜
200とするのが望ましい。
上を要求される場合、即ち電流効率を20%以下で運転
する場合は、SI値は120以下、特に80以下で運転
することが好ましい。経済的にはSI値を50〜120
で運転するのが望ましい。
オン装置の場合には、アニオン交換膜を透過したOH−
イオンが濃縮室内を移動し易くなるため、スケール層が
分散する効果がある。この場合、SI値は電流値を増加
させても80以上で運転が可能であり、80〜200で
運転を行うことができる。この場合の特に好ましいSI
値は80〜150であるが、経済的な考慮を除けば80
以下であっても良い。
には、次のような方法がある。即ち、濃縮水のCa2+
濃度を低下させるためには、水回収率を下げたり、濃縮
室に軟化装置等のCa2+除去装置を設けてCa2+を
除去する方法がある。また、無機炭酸膜面積負荷量を低
下させるためには、電気脱イオン装置の処理水量を低下
させたり、電気脱イオン装置の上流側に脱ガス装置を設
けて無機炭酸を除去する方法がある。更に、電気脱イオ
ン装置の電流値を制御することによっても無機炭酸膜面
積負荷量を低下させることができる。
水回収率にて運転されると、濃縮室内の水の導電率が高
くなり、優れた処理水水質がもたらされる。
は、逆浸透膜分離装置に通された後、本発明の電気脱イ
オン装置に導入されてもよい。
cm以上とすることが好ましい。電気脱イオン装置にお
ける濃縮水の導電率と電気抵抗との関係は図14の通り
であり、導電率が50μS/cmよりも小さくなると電
気抵抗が急激に増大する。従って、濃縮室出口の電気導
電率が50μS/cmないと電流値が確保できない。仮
に確保できたとしても電気抵抗値が上昇し、消費電力費
が上昇する。
1,2を参照して説明する。図1,2はそれぞれ本発明
の純水製造装置の実施の形態を示す系統図である。
た、RO装置2、前段電気脱イオン装置3A及び後段電
気脱イオン装置3Bを有する。図2の純水製造装置は、
直列に接続された活性炭装置1、RO膜装置2、前段電
気脱イオン装置3A及び後段電気脱イオン装置3Bを有
する。
明に関わる。
脱イオン装置を使用することができる。装置3Bの脱塩
室の厚みは前段電気脱イオン装置3Aのそれよりも薄い
ことが好ましく、その厚みは2.0〜6.0mmが望ま
しい。さらに2段目以降の電気脱イオン装置に以下の構
造のものを用いると高流速化、コンパクト化が可能であ
る。
ン装置は、脱塩室内を区画部材によって多数の小室に区
画する。この各小室に臨む区画部材の少なくとも一部
は、脱塩室内の平均的な水の流れ方向に対して傾斜して
おり、この傾斜した部分は、水は通過させるが、イオン
交換体は通過させない構造となっている。このため、脱
塩室内に流入した水の少なくとも一部は、平均的な水の
流れ方向に対し斜め方向に流れるようになり、脱塩室内
の全体に分散して流れる。さらに膜面方向におけるイオ
ンの濃度境界層を破壊する攪拌効果も有する。これによ
って、イオン拡散抵抗が緩和するため、高流速処理が可
能となる。従って、水とイオン交換体との接触効率が向
上し、脱イオン特性が向上する。
と直交方向のいずれにおいても膜面に沿って複数個配置
することにより、(例えば縦横に多数配置することによ
り、)水とイオン交換体との接触効率がきわめて高いも
のとなる。また、各小室内の上下方向の高さが小さくな
り、イオン交換体が局部的に圧縮されにくくなる。従っ
て、小室に隙間が生じることがなく、イオン交換体の充
填密度が平均化する。
状が六角形又は四角形であることが好ましい。六角形の
場合には、1対の平行な辺が平均的な水の流れ方向とな
るように各小室を配置するのが好ましい。四角形の場合
には、各辺が平均的な水の流れ方向に対し傾斜するよう
に配置する。
填してもよく、一部の小室に他の小室とは異なるイオン
交換特性のイオン交換体を充填してもよい。例えば、第
1の小室にアニオン交換体を充填し、第2の小室にカチ
オン交換体を充填し、第3の小室に両性イオン交換体
(又はアニオン交換体とカチオン交換体との混合物)を
充填してもよい。
製造装置の後段に設置すると、SVを120〜250h
−1と高流速で通水しても、前段からリークしてきたN
a+等の一価のカチオンを除去することが可能となる。
置の実施の形態について説明する。図9は後段電気脱イ
オン装置の実施の形態に係る脱塩室の構成を示す分解斜
視図、図10は区画部材の通水状況を示す正面図であ
る。
と、このフレーム120内に配置された区画部材121
と、区画部材121によって形成された小室122内に
充填されたイオン交換体123と、フレーム120を挟
むように配置されたアニオン交換膜124及びカチオン
交換膜125とによって構成されている。区画部材12
1は導電性を有していても良い。
水)の導入用の通水孔126及び濃縮水(流入側)の通
水孔127が穿孔され、下部には脱塩水の通水孔128
及び濃縮水(排出側)の通水孔129が穿孔されてい
る。この原水導入用通水孔126及び脱塩水の通水孔1
28は切欠状の水路126a,128aを介してそれぞ
れフレーム120の内側に連通している。
み連通するように図示しているが、左右方向の各小室に
原水が均等に分配されるように水路126aは実際には
フレーム120の上部に複数設けられ、通水孔126は
最上部の各小室に直接に連通している。同様に、図9で
は水路128aは右下の小室にのみ連通するように図示
してあるが、実際には水路128aはフレーム120の
下部に複数個設けられており、通水孔128は最下部の
各小室に直接に連通している。
角形のハニカム形状のものであり、小室122は上下左
右に多数配置されている。各小室122の1対の側辺が
フレーム120の長手方向即ち上下方向となるように配
置されている。長手方向面131は通水性を有していて
もよく、有していなくてもよい。
と、小室内において水がイオン交換体と満遍なく接触し
がちとなり、これにより処理水質が向上する。
体構造それ自体は前記図12と同じであり、原水、濃縮
水及び電極水の通水系路も同じである。
用スペーサ及びカチオン交換膜によって囲まれて陰極室
が形成される。
を行う場合、脱塩室に流入した原水は、図10の通り小
室122を囲む区画部材121を通過して隣接する小室
122に流れ込み、徐々に下方に流れ、この間に脱イオ
ン処理を受ける。そして、遂には脱塩室の下部に達し、
水路128aを介して脱塩水取出用の通水孔128に流
入し、脱塩水として電気脱イオン装置外に取り出され
る。
は、原水流入用の水路126aがフレーム120の上部
に存在し、脱塩水取出用の水路128aがフレーム12
0の下部に存在するところから、上から下に向う鉛直方
向となっている。この平均的な水の流れ方向に対し小室
の上部及び下部が傾斜しているので、被処理水は1つの
小室22から左及び右側の小室122へ斜めに分かれて
流下するようになる。このため、被処理水が各小室12
2にほぼ均等に分散して流れるようになり、被処理水と
イオン交換体との接触効率が良好なものとなる。
的小さく、イオン交換体の自重及び水圧によって各小室
122内においてイオン交換体に対し加えられる下向き
の圧力が小さい。従って、いずれの小室122内におい
てもイオン交換体が圧縮されることがなく、イオン交換
体が小室内の下部において局部的に圧密化されることが
ない。
換体としては、アニオン交換体、カチオン交換体、両性
イオン交換体、これらの2以上の混合物のいずれでもよ
い。
11の小室145の如く四角形例えば菱形であってもよ
い。
のイオン交換膜面への投影面積は1〜100cm2とく
に2〜50cm2とりわけ3〜10cm2程度が好まし
い。小室を小さくするほど1つの小室に充填するイオン
交換体の量が少なくなり、イオン交換体の流動が抑制さ
れると共に、区画部材及び脱塩室の強度も大きくなる
が、脱塩室の通水圧損が大きくなる。
樹脂が使用されるが、イオン交換繊維やイオン交換不織
布でもよく、イオン交換樹脂とイオン交換繊維の混合物
でもよい。導電性の樹脂のようなイオン伝導体であって
もよい。
が7mm以上、特に8〜30mmであり、後段電気脱イ
オン装置3Bの脱塩室の厚みが2.0〜6.0mmであ
ると、前段電気脱イオン装置3Aでシリカ、ホウ素等の
弱電解物質及び硬度成分が除去され、後段電気脱イオン
装置3Bでシリカ及びホウ素がさらに除去される。装置
3Bは、前段電気脱イオン装置3Aからリークしたアル
カリ成分を除去するので、高水質の処理水が得られる。
給される水は、Na+を0.1ppm as Na+以上含
有することが好ましい。それよりもNa+が少ない水に
対してはNaClを添加することが好ましい。
昇させるためには、被処理水中にNaイオンを含有する
必要がある。被処理水中のNa+濃度と処理水pHの関
係を図15に示す。図15のようにpH8.5以上を確
保するためのNa+濃度は0.1ppm as Na+以
上、好ましくは、0.5〜4ppm as Na+である。
れる水中のCO2濃度は3ppm as CO2以下である
ことが好ましい。
が原水中に多く含まれると、シリカ、ホウ素の除去率低
下を招く。CO2が3ppmよりも多い場合には、上流
側に脱ガス装置を設置するか、RO膜装置給水pHを8
以上にしてHCO3−イオンとして除去するのが好まし
い。
0〜90%とするのが好ましい。後段電気脱イオン装置
3Bの水回収率は95%以上、例えば、95〜99%の
水回収率であっても、スケール障害を引き起こすことな
く良好な水質の処理水を得ることができる。
圧又は電流を上昇させると、前段電気脱イオン装置3A
の処理水pHが高くなる。従って、前段電気脱イオン装
置3Aの処理水の排出配管にpH計4を取り付けてpH
を監視し、このpH値が好ましくは8.5以上、より好
ましくは9.0〜10.5程度となるように、前段電気
脱イオン装置3Aの印加電圧や電流を制御するのが好ま
しい。前段電気脱イオン装置3AのNa除去率が90%
以下であり、塩素イオン除去率が95%以上であること
が望ましい。塩素イオン除去率が95%以上であると、
pHが高くなる。
配管に比抵抗計5及びシリカ計6を取り付け、後段電気
脱イオン装置3Bの処理水の比抵抗値、シリカ濃度を監
視し、これらの値が目標値に到達するよう前段及び/又
は後段電気脱イオン装置3A,3Bの印加電圧や電流を
制御するのが好ましい。
SV)4000以上で運転されると、シリカ及びホウ素
の除去率が向上する。 即ち、A/(Q・SV)≧4000である。 A :操作電流値(A) Q :1室当りの脱塩室内供給水流量(L/sec) SV:脱塩室内のイオン交換体当たりの供給水流量(L
/L−イオン交換体・sec)
の相関が高く、A/(Q・SV)値が4000以上であ
るとシリカ除去率97%以上を達成し得る。
と、該逆浸透膜装置の透過水が導入される脱ガス装置
と、該脱ガス装置の処理水が導入される電気脱イオン装
置とを有してもよい。そして、酸消費量(pH4.8)
が20ppm(CaCO3換算)以上でpH6.5以上
の被処理水を逆浸透膜装置に導入し、該逆浸透膜装置か
らpH6.2以下の透過水を脱ガス装置に供給するのが
好ましい。
ガス装置に導入される水がTOC200ppb以下であ
るか若しくは導電率20μS/cm以下であることが好
ましい。
被処理水中に含まれる酸消費量(pH4.8)成分をR
O膜装置で除去することにより、pHの低い透過水を得
る。この低pHの透過水を脱ガス装置で処理することに
よりCO2を効率的に除去し、電気脱イオン装置のCO
2負荷を軽減することができる。
を脱ガス処理することにより、RO膜装置の前段で脱ガ
ス処理する場合に比べてCO2の除去性能を30〜50
%も向上させることができる。
た場合には、RO膜装置の前段にこれを設置する場合に
比べて、RO膜装置の後段に設置することにより長期に
亘って脱ガス性能を安定させることができる。
分が除去され、これらの汚染物質に起因する膜脱気装置
のスライム付着障害等が軽減されるためであり、この場
合、膜汚染を有効に防止して脱ガス性能を長期間安定さ
せるために、膜脱気装置に導入される水はTOC200
ppb以下であるか或いは導電率20μS/cm以下で
あることが好ましい。
れ、透過水は、前段電気脱イオン装置3Aの電極室3A
a、脱塩室3Ab及び濃縮室3Acにそれぞれ分配され
て給水される。前段電気脱イオン装置3Aの処理水(脱
塩室3Abの流出水)は後段電気脱イオン装置3Bの電
極室3Ba、脱塩室3Bb及び濃縮室3Bcにそれぞれ
分配される。後段電気脱イオン装置3Bの脱塩室3Bb
の流出水は処理水として取り出される。前段電気脱イオ
ン装置3A及び後段純水製造装置3Bの電極室3Aa,
3Baの流出水は排水として排出される。
からの濃縮水は酸性水であり、後段の電気脱イオン装置
3Bの濃縮室3Bcからの濃縮水はアルカリ水である。
従って、濃縮室3Ac,3Bcからの流出する濃縮水
は、混合されて、RO膜装置2の入口側に循環されるの
が好ましい。
イオン装置3Bのうちのいずれか一方の濃縮水のみをR
O膜装置2の前段に循環しても良い。後段電気脱イオン
装置3Bの濃縮水は前段電気脱イオン装置3Aの入口側
に循環しても良い。
機の電気脱イオン装置3Bが設置されているが、直列に
接続された2機以上の電気脱イオン装置3Bが配置され
てもよい。
A,21B)と陰極22との間に脱塩室厚みが7mm以
上のセル23と、脱塩室厚みが7mm未満のセル24を
設置し、被処理水をこれらのセルに順次通水するように
直列に通水しても良い。
は、2段目以降の電気脱イオン装置の該濃縮室から流出
する濃縮水のシリカ濃度をその電気脱イオン装置の生産
水のシリカ濃度の1000倍以下とすることが望まし
く、生産水のシリカ濃度を0.1ppb以下にするため
には、濃縮室から流出する濃縮水のシリカ濃度を100
ppb以下にすることが望ましい。
近傍においても濃縮室から脱塩室に向うシリカ濃度勾配
が比較的小さく、濃縮室から脱塩室へのシリカの拡散が
抑制され、生産水のシリカ濃度を低くすることができ
る。
置と、第1の電気脱イオン装置と、第2の電気脱イオン
装置とを有し、水を該逆浸透膜脱塩装置から第1の電気
脱イオン装置に通水し、さらに第2の電気脱イオン装置
に通水する純水製造装置において、該逆浸透膜脱塩装置
は、1価塩類の脱塩率が97%以下の逆浸透膜で形成さ
れていてもよい。
の脱塩率」を単に「脱塩率」と称す。
オン装置の濃縮水の導電率が50μS/cmより小さい
と急激に電気抵抗が高くなることから、この導電率ば5
0μS/cm以上、好ましくは75μS/cm以上であ
れば、電気抵抗が比較的小さく、電気脱イオン装置にお
ける脱塩に必要な電流値を十分に確保することができ
る。
200μS/cm程度の市水、工水を脱塩率97%のR
O膜を装填したRO膜装置に通水して、水回収率75%
の条件で処理した場合、得られるRO透過水の導電率は
次の通りである。 RO透過水の導電率=(200+800)÷2×(1−0.97) =15μS/cm このRO透過水を電気脱イオン装置に通水して水回収率
80%で運転した場合、得られる濃縮水の導電率は15
×5=75μS/cmとなる。
の導電率、RO膜装置の水回収率、電気脱イオン装置の
水回収率により変わるが、脱塩率97%以下のRO膜で
あれば、一般的な原水及び水回収率の運転で概ね導電率
75μS/cm以上の濃縮水を得ることができ、電気脱
イオン装置における電流値を確保することが可能とな
る。
脱塩率の低いRO膜で処理して得られた透過水を電気脱
イオン装置の脱塩室に供給することは、極めて重要であ
り、この透過水を電気脱イオン装置の濃縮室のみに供給
しても、濃縮水の導電率を確保することはできず、結果
として電気抵抗の低減、電流値の向上を図ることはでき
ない。
除去率が97%以上であることが好ましい。即ち、2価
カチオン、例えばCa2+に代表される硬度成分やシリ
カは電気脱イオン装置内においてスケール化し易く、ま
た、これらを電気脱イオン装置において除去するために
は電流値を相当に高くする必要がある。従って、硬度成
分及びシリカは、電気脱イオン装置の前段のRO膜装置
で極力除去しておくことが好ましく、そのために硬度成
分及びシリカの除去率が97%以上のRO膜を用いるこ
とが好ましい。
いが、酸化剤による親水化処理を施して脱塩率97%以
下、硬度成分及びシリカの除去率97%以上となるよう
に調整することもできる。
室の厚みは7mm以上であることが好ましい。
脱イオン装置を用い、かつ脱塩室のイオン交換体層をア
ニオン交換体単独もしくはアニオン交換体とカチオン交
換体との混合層とした電気脱イオン装置に、NaCl等
が残留するRO膜装置の透過水を被処理水として通水す
ると、得られる処理水(脱塩水)の導電率は変化がない
か、むしろ大きくなるが、被処理水中の炭酸ガス(CO
2)やアニオンは除去され、シリカ、ホウ素も約90%
除去される。また、Ca2+、Mg2+等の硬度成分も
除去される。ただし、Na+,K+等の1価のカチオン
は除去率が悪く、結果として処理水にはモル伝導率が大
きいNaOH、KOHなどのアルカリ成分がリークして
くるため、pHが上昇すると共に、導電率も若干大きく
なる傾向にある。
排出され難く、H+が排出され易いため、pHが酸性と
なることから、Ca2+、Mg2+等が高濃度で濃縮さ
れてもスケールを生成することはない。
類の脱塩率が97%以下のRO膜を用い、RO透過水に
1価塩類をリークさせ、この水を電気脱イオン装置の脱
塩室に供給することにより、電気脱イオン装置の濃縮水
の導電率を高め、電気脱イオン装置の電気抵抗の低減、
電流値の向上を図る。このRO膜の脱塩率が97%を超
えると、上記効果を十分に得ることができない。電気脱
イオン装置の濃縮水の導電率を高め、電気脱イオン装置
の電気抵抗の低減、電流値の向上を図る目的からは、R
O膜の脱塩率は低い方が良いがこの脱塩率が過度に低く
ても、電気抵抗の低下は小さく、逆に電気脱イオン装置
の被処理水の水質の低下のために、電気脱イオン装置の
負荷が増大し、処理水(脱塩水)の水質が低下すること
となることから、RO膜の脱塩率は特に90〜95%で
あることが好ましい。
塩膜として市販されている膜、例えば、ルーズRO膜、
ナノフィルトレーション膜(NF膜)と呼称される膜、
具体的には、日東電工(株)製「LES90」や「NT
R−729HF」を採用することができる。
置内におけるスケール成分となる硬度成分及びシリカ成
分を電気脱イオン装置の前段で可能な限り低減するため
に、RO膜装置のRO膜は、硬度成分及びシリカ成分の
除去率、より好ましくは更にTOC(全有機物炭素)の
除去率が97%以上であることが好ましい。
装置においては、また、前述の理由から、電気脱イオン
装置の脱塩室の厚さは7mm以上、特に、8〜30mm
とするのが好ましい。
換体とカチオン交換体との混合層が最も良く、印加電圧
を上昇させた場合には、アニオン交換体の単独層でも同
様の効果が得られる。もちろん、混合層とアニオン交換
体層の組み合わせでも構わない。
水中のTOC(全有機炭素)を分解するために紫外線照
射装置を設けてもよい。
性の場合、紫外線照射装置のTOC分解効率が高くな
る。紫外線照射装置に導入される被処理水に、その水中
のTOC濃度の2〜20倍の過酸化水素又はオゾンを添
加すると、さらに分解効率が高くなる。
に第1の逆浸透膜装置を設け、前段電気脱イオン装置と
後段電気脱イオン装置との間に第2の逆浸透膜を設けて
もよい。
水(被処理水)からシリカ及びホウ素が除去され易い。
前段電気脱イオン装置から流出する処理水はNaOH等
のアルカリを添加しなくてもアルカリ性である、従っ
て、第2の逆浸透膜装置によりシリカ及びホウ素が除去
され易い。
イオン装置、第2の逆浸透膜装置及び後段電気脱イオン
装置がこの順に直列に接続された装置において、第2の
逆浸透膜装置に流入する水のpHが7の場合、該第2の
逆浸透膜装置の処理により99%のシリカと70%のホ
ウ素が除去される。第2の逆浸透膜装置に流入する水の
pHが9のときには、第2の逆浸透膜装置により99.
9%のシリカと97%のホウ素が除去される。
装置とが直列に接続された装置においては、一時的に高
負荷のシリカが流入すると、シリカが電気脱イオン装置
内に蓄積し、被処理水が通常のシリカ濃度にもどって
も、シリカ除去率が低下してくることがある。そこで、
前段電気脱イオン装置への流入水に定期的に食塩(Na
Cl)などの塩を添加し、電気脱イオン装置内に蓄積し
たシリカを吐き出させるようにしてもよい。
i), ii), iii)の少なくとも1項目が5〜48
時間にわたって達成されるようにする。
導電率を15μS/cm以上とする。 ii)前段電気脱イオン装置に流入する水のNaイオン
濃度を3ppm以上とする。 iii)前段電気脱イオン装置から流出する処理水のp
Hが9.8以上となる。
その流出水(処理水)のpHとの関係の一例を図15に
示す。
どの塩を添加するだけでなく、この流入水を35℃以上
に加温すると、より効果的である。
ライムが発生し、濃縮室差圧が上昇して運転不可能とな
ることが多かった。本発明の2段電気脱イオン装置は薬
剤を添加することなく前段電気脱イオン装置濃縮水は酸
性、後段電気脱イオン装置の濃縮水はアルカリになるた
め、濃縮室内でのスライム発生防止が可能となる。6ヶ
月運転しても前段電気脱イオン装置被処理水中に100
00個/mlの生菌数が前段濃縮水は100個/ml、
後段濃縮水は0個/mlと被処理水に比べ減少する。
段目と2段目の中間、もしくは1段目入口にアルカリ薬
剤を添加しても良い。1段目でpHが十分に上昇しない
場合でも、NaOHの添加により、2段目以降の電気脱
イオン装置でシリカ除去率が向上する。
リカ、ホウ素などの弱電解質物質を効率よく除去するた
めに、1段目電気脱イオン装置処理水のpHは9.5以
上になることが好ましい。2段目(後段)電気脱イオン
装置被処理水pHが9.0の時はシリカ除去率99%で
あっても、pHが9.5以上の時は、99.9%とな
る。
室、電極室がアルカリとなるため、被処理水中のCa
2+濃度は30ppb以下、好ましくは5ppb as C
a2+以下とするのが望ましい。2段目以降の電気脱イ
オン装置は被処理水がアルカリ水であるため、濃縮側、
電極室側でCaCO3のスケールが発生する。従って、
Ca2+は1段目で除去する必要がある。
通りであり、実施例1〜5及び比較例1〜3では、各装
置を図4に示す配列で直列に接続した。また、実施例6
では、電気脱イオン装置を2機用い、図2に示す配列で
直列に接続した。 (1) 活性炭装置 :栗田工業(株)製「クリコールKW10−30」 (2) RO装置 :栗田工業(株)製「膜エースKN200」 (3) 電気脱イオン装置:栗田工業(株)製「ピュアエースPA−200」 処理量;100L/hr
充填するイオン交換樹脂として下記のアニオン交換樹脂
とカチオン交換樹脂とをアニオン交換樹脂:カチオン交
換樹脂=6:4(体積比)で混合したものを用い、図3
に示すような電気脱イオン装置を組み立てた。アニオン
交換樹脂及びカチオン交換樹脂は超純水で十分に洗浄し
たものを用いた。脱塩室の厚みは2.5mmであり、脱
塩室のセル枚数は12枚とした。この電気脱イオン装置
に表1に示す条件で通水を行い、処理水の比抵抗値、シ
リカ、ホウ素、その他のイオン類の測定結果及び除去率
を調べ、結果を表1に示した。
室セル枚数を3枚とし、表1で示す条件で通水を行った
こと以外は同様にして処理した。処理水の比抵抗値、シ
リカ、ホウ素、その他のイオン類の測定結果及び除去率
を調べ、結果を表1に示した。また、印加電圧を変化さ
せたときの処理水のpHを測定し、結果を図5に示し
た。
3Aの処理水のCO2濃度とを測定し、除去率を計算し
た。原水のCO2濃度が1ppmのときは、除去率は9
1%であり、原水のCO2濃度が2ppmのときは、除
去率は90.5%であり、原水のCO2濃度が3ppm
のときは、除去率は90%であり、原水のCO2濃度が
4ppmのときは、除去率は60%以下であった。
にしたところ、46%のナトリウム除去率が40%にな
り、9.5のpHが9.65に上昇した。
こと以外は同様の構成の電気脱イオン装置を組み立て、
SV=60hr−1で通水を実施し、電流効率が10〜
20%となるように電圧を印加したこと以外は同様に処
理し、処理水比抵抗値及びpH値を測定し、結果を図6
に示した。
イオン装置3A,3Bの順で直列に配置し、前段電気脱
イオン装置3Aとして実施例1で用いた電気脱イオン装
置(脱塩室厚み10mm)を用いた。後段電気脱イオン
装置3Bとして比較例1で用いた電気脱イオン装置(脱
塩室厚み2.5mm)を用いた。表2に示す条件で通水
し、得られた処理水(各電気脱イオン装置3A,3Bの
処理水)の水質を表2に示した。
mmの電気脱イオン装置(実施例1)は、シリカやホウ
素の除去率が、脱塩室の厚みが2.5mmの電気脱イオ
ン装置(比較例1)よりも若干向上している。カルシウ
ムはほぼ完全に除去されている。図5より明らかなよう
に、この脱塩室の厚みが10mmの電気脱イオン装置に
おいて、印加電圧を上げることにより、処理水のpHが
上昇した。
mm以上であると処理水の比抵抗値が悪化し、pHが上
昇する。
8V/セル、後段脱イオン装置3Bのセル電圧は3V/
セルであった。電気脱イオン装置を従来のものとしたと
きには、前段の電気脱イオン装置のセル電圧は15V、
後段の電気脱イオン装置のセル電圧は4.5Vであっ
た。
0mmの電気脱イオン装置の処理水を脱塩室厚み2.5
mmの電気脱イオン装置に通水することにより、シリ
カ、ホウ素濃度が分析下限値まで到達し、また、pH7
で比抵抗値も18.2MΩ・cmと著しく水質の良好な
処理水を得ることができる。
装置の種類を脱塩室にハニカム構造の小室を有する電気
脱塩装置と脱塩室にリブを有する従来の電気脱塩装置の
性能比較を行った。なお、このときの前段電気脱塩装置
の出口水質は、pH9.5、電気伝導率13μS/c
m、シリカ濃度18ppb、ホウ素濃度2.5ppbで
あった。表3に後段電気脱イオン装置のそれぞれの運転
条件と処理水質を示した。
/SK1B(アニオン交換樹脂/カチオン交換樹脂=6
/4) イオン交換膜:トクヤマ社製AHA(アニオン交換
膜)、CMB(カチオン交換膜)
有する電気脱塩装置を用いることにより、装置をコンパ
クト化して高流速で脱塩処理を行っても、脱塩室にリブ
を有する従来の電気脱塩装置と同等の処理水質を得るこ
とができる。
置、RO膜装置及び2台の電気脱イオン装置を直列に設
置した純水製造装置を用いた。 活性炭装置 :栗田工業(株)製「クリコールKW10−30」 RO膜装置 :栗田工業(株)製「膜エースKN200」 電気脱イオン装置:栗田工業(株)製「ピュアエースPA−200」 処理量:100L/hr
て下記のものを用い、また、脱塩室に充填するイオン交
換樹脂として下記のアニオン交換樹脂とカチオン交換樹
脂とをアニオン交換樹脂:カチオン交換樹脂=6:4
(体積比)で混合したものを用い、図1に示すような電
気脱イオン装置を組み立てた。なお、アニオン交換樹脂
及びカチオン交換樹脂は超純水で十分に洗浄したものを
用いた。
脱塩室セル枚数を3枚とした電気脱イオン装置Aと、脱
塩室の厚みWを2.5mmとし、脱塩室のセル枚数を1
2枚とした電気脱イオン装置Bとの2種類の電気脱イオ
ン装置を組み立てた。 アニオン交換膜 :(株)トクヤマ製「ネオセプタAHA」 カチオン交換膜 :(株)トクヤマ製「ネオセプタCMB」 アニオン交換樹脂:三菱化学(株)製「SA10A」 カチオン交換樹脂:三菱化学(株)製「SK1B」
のを用い、また、電気脱イオン装置として電気脱イオン
装置A及び電気脱イオン装置Bを直列に接続した。10
0L/hrの処理量、電気脱イオン装置の通水SV70
hr−1で、RO膜装置での水回収率は75%、電気脱
イオン装置での水回収率は80%で処理した。RO膜装
置における水質と、電気脱イオン装置における電圧、電
流値及び水質を調べ、結果を表3に示した。
例4では、電気脱イオン装置において殆ど電流が流れ
ず、処理水の水質も向上しなかったが、脱塩率97%以
下のRO膜、好ましくは脱塩率97%以下で硬度成分及
びシリカの除去率が97%以上のRO膜を用いて、前段
電気脱イオン装置の脱塩室の厚みが7mm以上の電気脱
イオン装置を用いることにより、電気脱イオン装置での
電流値を高めて脱塩効率を高め、高水質の処理水を得る
ことができることがわかる。
((株)日本フォトサイエンス社,UV酸化器ランプ,
AZ−26,2本(0.1kW/本)と、表2の後段電
気脱イオン装置3Bとをこの順に直列に接続し、TOC
300ppbの原水を通水した。前段電気脱イオン装置
から流出した処理水のpHは9.5であった。
TOC濃度を表5に示す。
にH2O2を添加された水中の濃度が1ppmとなるよ
うに添加した。このときのTOC測定値を表5に併せて
示す。
比較例1のものを用い、この前段電気脱イオン装置から
の処理水にNaClを添加したこと以外は実施例9と同
様にして通水した。TOCの測定結果を表5に併せて示
す。なお、NaClを添加したのは、電気伝導度を約1
5μS/cm程度に高めるためである。実施例9,10
では、前段電気脱イオン装置からの処理水の電気伝導度
は約15μS/cmである。
十分に低くすることができる。
汚染の影響とその回復方法を検討した。シリカ濃度10
000ppbの原水を24時間通水したところ、前段電
気脱イオン装置流出水(処理水)のシリカ濃度は、15
0ppbとなり、後段電気脱イオン装置流出水(処理
水)のシリカ濃度は、15ppbとなった。そこで、原
水のシリカ濃度を通常の200ppbに戻して前段電気
脱イオン装置への流入水に24時間にわたり、NaCl
を添加し、流入水の導電率を25〜30μSとし、前段
電気脱イオン装置の流出水pHを10〜10.2とし、
前段電気脱イオン装置の電圧を35.2V、電流を2
A、後段電気脱イオン装置の電圧を41V、電流を1A
とした。それから3日後、前段電気脱イオン装置流出水
(処理水)のシリカ濃度は、25ppbとなり、後段電
気脱イオン装置流出水(処理水)のシリカ濃度は、0.
2ppbとなった。
気脱イオン層流出水のシリカ濃度は2.5ppbと高か
った。表6にそれらの結果を示す。
に食塩を添加するだけでなく、この流入水を40℃に加
温した。その結果、前段電気脱イオン装置流出水のシリ
カ濃度は15ppbまで低下し、後段電気脱イオン装置
流出水のシリカ濃度は0.1ppb未満まで低下した。
ン装置によれば、アルカリ薬剤の添加を必要とすること
なく、また、スケール生成の問題もなく、シリカ、ホウ
素などの解離定数の高い弱電解物質を効率的に除去する
ことができる。
のような本発明の電気脱イオン装置を、複数段に電気脱
イオン装置を接続した装置の最前段の電気脱イオン装置
として用いることにより、高純度の純水を容易かつ効率
的に製造することができ、かつ安価な純水製造装置が提
供される。
実施の形態を示す系統図である。
である。
な断面図である。
の関係を示すグラフである。
水比抵抗値及びpH値の測定結果を示すグラフである。
示す模式的な断面図である。
示す模式的な断面図である。
図である。
視図である。
とCl−リーク率の測定結果を示すグラフである。
フである。
と、その流出水(処理水)のpHとの関係図である。
Claims (19)
- 【請求項1】 陰極、 陽極、 該陰極と陽極の間に複数のカチオン交換膜とアニオン交
換膜とを配列することにより交互に形成された、濃縮室
と脱塩室、 及び該脱塩室に充填されたイオン交換体を有する電気脱
イオン装置において、 pH8.5以下の原水をアルカリ薬剤を添加することな
しに処理したときに、該原水のpHよりも1.0以上高
いpHの処理水が得られるように脱塩室の厚さ、操作電
圧及び/又は電流、或いは通水SVが設定されているこ
とを特徴とする電気脱イオン装置。 - 【請求項2】 電気脱イオン装置の脱塩室の厚さが7m
m以上、かつセルあたりの操作電圧が1〜50V/ce
ll、SVが30〜150/hrである請求項1に記載
の電気脱イオン装置。 - 【請求項3】 脱塩室に充填されるイオン交換体がアニ
オン交換体とカチオン交換体との混合物又はアニオン交
換体である請求項1又は2に記載の電気脱イオン装置。 - 【請求項4】 被処理水中の硬度成分を50%以上除去
できる請求項1ないし3のいずれか1項の電気脱イオン
装置。 - 【請求項5】 被処理水がシリカ及び/又はホウ素を含
有する請求項1ないし4のいずれか1項の電気脱イオン
装置。 - 【請求項6】 アニオン交換膜の電気抵抗とカチオン交
換膜の電気抵抗との比A/Cが0.8以下であることを
特徴とする請求項1〜4のいずれかの電気脱イオン装
置。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかにおいて、最も
陰極側の脱塩室のカチオン交換膜と陰極との間の全体を
陰極室とし、最も陽極側の脱塩室のアニオン交換膜と陽
極との間にカチオン交換膜を配置し、このカチオン交換
膜と該最も陽極側の脱塩室との間を濃縮室とし、このカ
チオン交換膜と陽極との間を陽極室としたことを特徴と
する電気脱イオン装置。 - 【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかの電気脱
イオン装置において、アニオン交換膜は均一膜であり、
カチオン交換膜は不均一膜であることを特徴とする電気
脱イオン装置。 - 【請求項9】 被処理水を複数段の電気脱イオン装置に
通水するように接続した純水製造装置であって、最前段
の電気脱イオン装置が請求項1ないし8のいずれか1項
の電気脱イオン装置である純水製造装置。 - 【請求項10】 2段目以降の電気脱イオン装置の脱塩
室の厚みが最前段の電気脱イオン装置の脱塩室の厚みよ
りも薄い請求項9の純水製造装置。 - 【請求項11】 2段目以降の電気脱イオン装置の脱塩
室内が区画部材によって多数の小室に区画されており、
各小室に臨む区画部材の少なくとも一部は該脱塩室内の
平均的な水の流れ方向に対し傾斜しており、該区画部材
の少なくとも傾斜した部分は、水を通過させるがイオン
交換体の通過を阻止することを特徴とした請求項9又は
10の電気脱イオン装置。 - 【請求項12】 最前段の電気脱イオン装置と後段の電
気脱イオン装置とを接続する配管にpH計を取り付け、
該pH計の測定pHが8.5以上になるように最前段の
電気脱イオン装置の運転を制御するようにした請求項9
ないし11のいずれか1項の純水製造装置。 - 【請求項13】 後段の電気脱イオン装置の処理水排出
配管に比抵抗計及び/又はシリカ計を取り付け、この測
定結果に基いて構成する電気脱イオン装置の運転を制御
するようにした請求項9ないし12のいずれか1項の純
水製造装置。 - 【請求項14】 最前段以外の電気脱イオン装置におけ
る水回収率を95%以上とした請求項9ないし13のい
ずれか1項の純水製造装置。 - 【請求項15】 電気脱イオン装置の間に紫外線照射装
置を備えたことを特徴とする請求項9〜14のいずれか
1項の純水製造装置。 - 【請求項16】 最前段の電気脱イオン装置の前と、電
気脱イオン装置同士の間にそれぞれ逆浸透膜装置を備え
たことを特徴とする請求項9〜15のいずれか1項の純
水製造装置。 - 【請求項17】 逆浸透膜装置の処理水を被処理水とし
て複数段の電気脱イオン装置に通水するようにした純水
製造装置であって、最前段及び/又は後段の電気脱イオ
ン装置の濃縮水を該逆浸透膜装置より上流側に戻すよう
にした請求項9ないし16のいずれか1項に記載の純水
製造装置。 - 【請求項18】 逆浸透膜装置の処理水を被処理水とし
て複数段の電気脱イオン装置に通水するようにした純水
製造装置であって、2段目以降の電気脱イオン装置の濃
縮水を最前段又は2段目以降の電気脱イオン装置の供給
水配管に戻すようにした請求項9ないし17のいずれか
1項の純水製造装置。 - 【請求項19】 陰極と陽極の間に複数のカチオン交換
膜とアニオン交換膜とを配列して、濃縮室と脱塩室とを
交互に形成し、該脱塩室にイオン交換体を充填してなる
電気脱イオン装置において、該電気脱イオン装置内に厚
みが7mm以上の脱塩室と厚みが7mm未満の脱塩室と
を有し、被処理水を該脱塩室に順次直列に通水する構造
にしたことを特徴とする電気脱イオン装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000240054A JP3826690B2 (ja) | 1999-08-11 | 2000-08-08 | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11-227713 | 1999-08-11 | ||
JP22771399 | 1999-08-11 | ||
JP2000240054A JP3826690B2 (ja) | 1999-08-11 | 2000-08-08 | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001113281A true JP2001113281A (ja) | 2001-04-24 |
JP3826690B2 JP3826690B2 (ja) | 2006-09-27 |
Family
ID=26527829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000240054A Expired - Fee Related JP3826690B2 (ja) | 1999-08-11 | 2000-08-08 | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3826690B2 (ja) |
Cited By (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003126862A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-07 | Kurita Water Ind Ltd | 電気式脱イオン装置及び脱イオン方法 |
JP2003136065A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-13 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ給水処理装置 |
JP2003136064A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-13 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ排水の処理方法 |
JP2003236345A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-26 | Tokuyama Corp | 脱アルカリ水ガラスの製造方法およびその製造装置 |
JP2003326266A (ja) * | 2002-05-08 | 2003-11-18 | Kurita Water Ind Ltd | 純水の製造方法及び装置並びにスケールモニター装置 |
JP2004000919A (ja) * | 2002-04-05 | 2004-01-08 | Kurita Water Ind Ltd | 脱塩水製造装置 |
JP2004057935A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造システム |
JP2004073923A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン装置、及び純水製造装置 |
JP2004082092A (ja) * | 2002-07-01 | 2004-03-18 | Kurita Water Ind Ltd | 電気式脱イオン装置 |
JP2004195293A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン処理方法 |
JP2004216302A (ja) * | 2003-01-16 | 2004-08-05 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン装置及び水処理装置 |
JP2004261643A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-24 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
JP2004283710A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
JP2005512794A (ja) * | 2001-12-20 | 2005-05-12 | アクアテック インターナショナル コーポレイション | 分別脱イオン処理 |
JP2005149947A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Kurita Water Ind Ltd | 燃料電池用水処理装置 |
JP2005254201A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Japan Organo Co Ltd | 電気式脱塩水製造装置内の菌発生抑制方法 |
JP2006502855A (ja) * | 2002-10-16 | 2006-01-26 | アクアテック インターナショナル コーポレイション | イオン交換媒体の製造方法 |
CN100345615C (zh) * | 2005-09-12 | 2007-10-31 | 张贵清 | 一种双极膜电去离子制取超纯水的方法及其设备 |
JP2007534453A (ja) * | 2003-06-23 | 2007-11-29 | バッテンフォール アーベー | ホウ素の分離および回収 |
WO2009016982A1 (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-05 | Kurita Water Industries Ltd. | 純水製造装置及び純水製造方法 |
EP1598318A4 (en) * | 2003-02-14 | 2010-02-03 | Kurita Water Ind Ltd | ELECTRICAL DEIONIZATION DEVICE AND METHOD OF OPERATING THEREOF |
JP2010042324A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-25 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置及び純水製造方法 |
US7699968B2 (en) | 2003-06-12 | 2010-04-20 | Kurita Water Industries Ltd. | Water purifying system |
JP2010264385A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Tohoku Univ | 電気透析装置 |
JP2011110515A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置 |
JP2012139687A (ja) * | 2012-03-23 | 2012-07-26 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置及び純水製造方法 |
JP2014000575A (ja) * | 2013-10-10 | 2014-01-09 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置及び純水製造方法 |
JP2015226910A (ja) * | 2015-08-12 | 2015-12-17 | オルガノ株式会社 | 電気式脱イオン水製造装置 |
JP2016150304A (ja) * | 2015-02-17 | 2016-08-22 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 |
JP2017170328A (ja) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 |
JP2018001106A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
JP2018143922A (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-20 | オルガノ株式会社 | 水処理装置 |
WO2018235366A1 (ja) * | 2017-06-23 | 2018-12-27 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の制御方法及び設計方法 |
CN112154125A (zh) * | 2018-06-27 | 2020-12-29 | 野村微科学股份有限公司 | 电去离子装置、超纯水制造系统及超纯水制造方法 |
JP2021016851A (ja) * | 2019-07-24 | 2021-02-15 | オルガノ株式会社 | 水処理方法及び水処理装置 |
JP2021107294A (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-29 | 株式会社 東邦アーステック | ヨウ素系物質の取得方法 |
WO2022118522A1 (ja) * | 2020-12-04 | 2022-06-09 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及び脱イオン水の製造方法 |
JP7460012B1 (ja) | 2022-12-26 | 2024-04-02 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
JP7556427B1 (ja) | 2023-06-02 | 2024-09-26 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の脱塩水の水質測定方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6228531B2 (ja) * | 2014-12-19 | 2017-11-08 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
-
2000
- 2000-08-08 JP JP2000240054A patent/JP3826690B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (51)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003126862A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-07 | Kurita Water Ind Ltd | 電気式脱イオン装置及び脱イオン方法 |
JP2003136065A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-13 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ給水処理装置 |
JP2003136064A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-13 | Kurita Water Ind Ltd | ボイラ排水の処理方法 |
JP2005512794A (ja) * | 2001-12-20 | 2005-05-12 | アクアテック インターナショナル コーポレイション | 分別脱イオン処理 |
JP2003236345A (ja) * | 2002-02-15 | 2003-08-26 | Tokuyama Corp | 脱アルカリ水ガラスの製造方法およびその製造装置 |
JP2004000919A (ja) * | 2002-04-05 | 2004-01-08 | Kurita Water Ind Ltd | 脱塩水製造装置 |
JP2003326266A (ja) * | 2002-05-08 | 2003-11-18 | Kurita Water Ind Ltd | 純水の製造方法及び装置並びにスケールモニター装置 |
JP2004082092A (ja) * | 2002-07-01 | 2004-03-18 | Kurita Water Ind Ltd | 電気式脱イオン装置 |
US7247225B2 (en) | 2002-07-01 | 2007-07-24 | Kurita Water Industries Ltd. | Electrodeionization apparatus |
JP2004057935A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造システム |
JP2004073923A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン装置、及び純水製造装置 |
JP2006502855A (ja) * | 2002-10-16 | 2006-01-26 | アクアテック インターナショナル コーポレイション | イオン交換媒体の製造方法 |
JP2004195293A (ja) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン処理方法 |
JP2004216302A (ja) * | 2003-01-16 | 2004-08-05 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン装置及び水処理装置 |
JP2004261643A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-24 | Kurita Water Ind Ltd | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
EP1598318A4 (en) * | 2003-02-14 | 2010-02-03 | Kurita Water Ind Ltd | ELECTRICAL DEIONIZATION DEVICE AND METHOD OF OPERATING THEREOF |
JP2004283710A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-10-14 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
US7699968B2 (en) | 2003-06-12 | 2010-04-20 | Kurita Water Industries Ltd. | Water purifying system |
JP2007534453A (ja) * | 2003-06-23 | 2007-11-29 | バッテンフォール アーベー | ホウ素の分離および回収 |
JP2005149947A (ja) * | 2003-11-17 | 2005-06-09 | Kurita Water Ind Ltd | 燃料電池用水処理装置 |
JP2005254201A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Japan Organo Co Ltd | 電気式脱塩水製造装置内の菌発生抑制方法 |
CN100345615C (zh) * | 2005-09-12 | 2007-10-31 | 张贵清 | 一种双极膜电去离子制取超纯水的方法及其设备 |
WO2009016982A1 (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-05 | Kurita Water Industries Ltd. | 純水製造装置及び純水製造方法 |
JP2009028695A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置及び純水製造方法 |
KR101563169B1 (ko) * | 2007-07-30 | 2015-10-26 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 순수 제조장치 및 순수 제조방법 |
JP2010042324A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-25 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置及び純水製造方法 |
JP2010264385A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Tohoku Univ | 電気透析装置 |
JP2011110515A (ja) * | 2009-11-27 | 2011-06-09 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置 |
JP2012139687A (ja) * | 2012-03-23 | 2012-07-26 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置及び純水製造方法 |
JP2014000575A (ja) * | 2013-10-10 | 2014-01-09 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置及び純水製造方法 |
US10252218B2 (en) | 2015-02-17 | 2019-04-09 | Kurita Water Industries Ltd. | Electrodeionization device and pure-water production system |
JP2016150304A (ja) * | 2015-02-17 | 2016-08-22 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 |
WO2016133041A1 (ja) * | 2015-02-17 | 2016-08-25 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 |
KR20170117365A (ko) | 2015-02-17 | 2017-10-23 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 전기 탈이온 장치 및 순수 제조 장치 |
JP2015226910A (ja) * | 2015-08-12 | 2015-12-17 | オルガノ株式会社 | 電気式脱イオン水製造装置 |
JP2017170328A (ja) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | 栗田工業株式会社 | 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法 |
JP2018001106A (ja) * | 2016-07-04 | 2018-01-11 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
JP2018143922A (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-20 | オルガノ株式会社 | 水処理装置 |
WO2018235366A1 (ja) * | 2017-06-23 | 2018-12-27 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の制御方法及び設計方法 |
JPWO2018235366A1 (ja) * | 2017-06-23 | 2020-04-23 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の制御方法及び設計方法 |
CN112154125A (zh) * | 2018-06-27 | 2020-12-29 | 野村微科学股份有限公司 | 电去离子装置、超纯水制造系统及超纯水制造方法 |
JP2021016851A (ja) * | 2019-07-24 | 2021-02-15 | オルガノ株式会社 | 水処理方法及び水処理装置 |
JP7257908B2 (ja) | 2019-07-24 | 2023-04-14 | オルガノ株式会社 | 水処理方法及び水処理装置 |
JP2021107294A (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-29 | 株式会社 東邦アーステック | ヨウ素系物質の取得方法 |
JP7163274B2 (ja) | 2019-12-27 | 2022-10-31 | 株式会社 東邦アーステック | ヨウ素系物質の取得方法 |
WO2022118522A1 (ja) * | 2020-12-04 | 2022-06-09 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及び脱イオン水の製造方法 |
JP2022089558A (ja) * | 2020-12-04 | 2022-06-16 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及び脱イオン水の製造方法 |
JP7460012B1 (ja) | 2022-12-26 | 2024-04-02 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
WO2024142508A1 (ja) * | 2022-12-26 | 2024-07-04 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置及びその運転方法 |
JP7556427B1 (ja) | 2023-06-02 | 2024-09-26 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の脱塩水の水質測定方法 |
WO2024247898A1 (ja) * | 2023-06-02 | 2024-12-05 | 栗田工業株式会社 | 電気脱イオン装置の脱塩水の水質測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3826690B2 (ja) | 2006-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3826690B2 (ja) | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 | |
KR100426669B1 (ko) | 전기 탈이온화 장치 및 정수 제조 장치 | |
JP3794268B2 (ja) | 電気脱イオン装置及びその運転方法 | |
JP4648307B2 (ja) | 連続式電気脱イオン装置および方法 | |
US20110005933A1 (en) | Method for operating electrodeionization deionized water producing apparatus, electrodeionization deionized water producing system, and electrodeionization deionized water producing apparatus | |
JP3969221B2 (ja) | 脱イオン水の製造方法及び装置 | |
WO1997046491A1 (fr) | Procede de production d'eau deionisee par une technique de deionisation electrique | |
WO2004071968A1 (ja) | 電気脱イオン装置及びその運転方法 | |
JP4250922B2 (ja) | 超純水製造システム | |
JP3952127B2 (ja) | 電気脱イオン化処理方法 | |
JP3695338B2 (ja) | 脱イオン水の製造方法 | |
JP3570350B2 (ja) | 電気脱イオン装置及び純水製造装置 | |
JP2002205071A (ja) | 電気式脱イオン水製造装置及び脱イオン水の製造方法 | |
JP2003001258A (ja) | 電気脱イオン装置 | |
JP4300828B2 (ja) | 電気脱イオン装置及びその運転方法 | |
JP3674475B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
JP3620406B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
JP4090646B2 (ja) | 純水製造装置及び方法 | |
KR100692698B1 (ko) | 전기탈이온장치 및 그것을 사용한 전기탈이온화처리방법 | |
JP4660890B2 (ja) | 電気脱イオン装置の運転方法 | |
JP3966104B2 (ja) | 電気脱イオン装置の運転方法 | |
JP2024092938A (ja) | 電気脱イオン装置及びその運転方法 | |
JP2001058186A (ja) | 純水の製造方法および純水の製造装置 | |
JP2004195293A (ja) | 電気脱イオン処理方法 | |
JP2001276835A (ja) | 脱イオン水の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051206 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060328 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060421 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060523 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060524 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060613 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060626 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090714 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100714 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110714 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120714 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130714 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140714 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |