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JP2001113281A - 電気脱イオン装置及び純水製造装置 - Google Patents

電気脱イオン装置及び純水製造装置

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JP2001113281A
JP2001113281A JP2000240054A JP2000240054A JP2001113281A JP 2001113281 A JP2001113281 A JP 2001113281A JP 2000240054 A JP2000240054 A JP 2000240054A JP 2000240054 A JP2000240054 A JP 2000240054A JP 2001113281 A JP2001113281 A JP 2001113281A
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JP
Japan
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water
electrodeionization
chamber
treated
electrodeionization apparatus
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Application number
JP2000240054A
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English (en)
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Inventor
Kiminobu Osawa
公伸 大澤
Osamu Kato
修 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Kurita Water Industries Ltd filed Critical Kurita Water Industries Ltd
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Publication of JP2001113281A publication Critical patent/JP2001113281A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 シリカ、ホウ素などの弱電解質の除去率を飛
躍的に向上させることができ、超純水製造装置の一次純
水システムや回収系に好適な電気脱イオン装置と、この
電気脱イオン装置を用いて、比抵抗値18.0MΩ・c
m以上の高水質処理水を得ることができる純水製造装置
を提供する。 【解決手段】 陰極と陽極の間に複数のカチオン交換膜
とアニオン交換膜とを配列して、濃縮室と脱塩室とを交
互に形成し、脱塩室にイオン交換体を充填してなる電気
脱イオン装置において、pH8.5以下の被処理水をア
ルカリ薬剤を添加することなしに処理したときに、被処
理水のpHよりも1.0以上高いpHの処理水を得るこ
とができる電気脱イオン装置3A。被処理水を複数段の
電気脱イオン装置3A,3Bに通水するように接続した
純水製造装置であって、最前段の電気脱イオン装置3A
としてこの電気脱イオン装置を用いた純水製造装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体、液晶、製
薬、食品、電力等の分野の各種産業、民生用又は研究設
備で利用される脱イオン水を製造する電気脱イオン装置
に係る。特に、シリカ、ホウ素などの弱電解質の除去率
を飛躍的に向上させることができ、超純水製造装置の一
次純水システムや回収系に好適な電気脱イオン装置に係
る。さらに、本発明は、この電気脱イオン装置を採用し
ており、比抵抗値18.0MΩ・cm以上の高水質処理
水を得ることを可能とした純水製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】脱イオン水を製造する電気脱イオン装置
は、半導体製造工場、液晶工場、食品工業、電力工業等
の各種産業、民生用ないし研究施設等において使用され
ている。図3に示す如く、電極(陽極11、陰極12)
の間に複数のアニオン交換膜13及びカチオン交換膜1
4を交互に配列して濃縮室15と脱塩室16とを交互に
形成し、脱塩室16にイオン交換樹脂、イオン交換繊維
もしくはグラフト交換体等からなるアニオン交換体とカ
チオン交換体とを混合もしくは複層状に充填した電気脱
イオン装置が特公平4−72567号公報、特許第27
51090号公報、特許第2699256号公報に記載
されている。17は陽極室、18は陰極室である。
【0003】電気脱イオン装置は、水解離によってH
イオンとOHイオンとを生成させ、脱塩室内に充填さ
れているイオン交換体を連続して再生することによっ
て、効率的な脱塩処理が可能である。電気脱イオン装置
は、従来から脱塩処理に広く用いられてきたイオン交換
樹脂装置のような薬品を用いた再生処理を必要とせず、
完全な連続採水が可能である。
【0004】図12はこの電気脱イオン装置の基本的な
構成を示す分解図である。
【0005】陰極側のエンドプレート101に沿って陰
極電極板102が配置され、この陰極電極板102の周
縁部に枠状の陰極用スペーサ103が重ね合わされる。
この陰極用スペーサ103の上にカチオン交換膜10
4、脱塩室形成用の枠状フレーム105、アニオン交換
膜106及び濃縮室形成用の枠状フレーム107がこの
順に重ね合わされる。このカチオン交換膜104、脱塩
室形成用の枠状フレーム105、アニオン交換膜106
及び濃縮室形成用の枠状フレーム107を1単位として
多数重ね合わされる。即ち、膜104、フレーム10
5、膜106、フレーム107が連続して繰り返し積層
される。最後のアニオン交換膜106に対し枠状の陽極
用スペーサ108を介して陽極電極板109が重ね合わ
され、その上に陽極側エンドプレート110が重ね合わ
されて積層体とされる。この積層体はボルト等によって
締め付けられる。
【0006】上記の脱塩室用フレーム105の内側スペ
ースが脱塩室となっており、この脱塩室にはイオン交換
樹脂等のイオン交換体105Rが充填される。濃縮室用
フレーム107の内側が濃縮室となっている。この濃縮
室にはメッシュスペーサなどが配置される。
【0007】このような装置にあっては、陽極109と
陰極102の間に直流電流を通じ、且つ被処理水(原
水)を被処理水流入ライン111を通して脱塩室内に通
水せしめ、また、濃縮水を濃縮水流入ライン112を通
して濃縮室108内に通水せしめる。脱塩室内に流入し
てきた被処理水はイオン交換樹脂の充填層を流下し、そ
の際、該被処理水中の不純物イオンが除かれて脱イオン
水となり、これが脱イオン水流出ライン113を経て流
出する。
【0008】一方、濃縮室内に通水された濃縮水は濃縮
室内を流下するときに、イオン交換膜104,106を
介して移動してくる不純物イオンを受け取り、不純物イ
オンを濃縮した濃縮水として濃縮水流出ライン114よ
り流出する。電極室にはそれぞれ導入ライン115,1
16及び取出ライン117,118を介して電極水が流
通される。
【0009】ところで、脱塩室内に上下方向に仕切り用
リブを設け、脱塩室内を上下方向に長い小室(セル)に区
画した電気脱イオン装置が特公平4−72567号公報
に記載されている。このように脱塩室内をリブによって
細長い小室に区画し、各小室にそれぞれイオン交換樹脂
を充填した電気脱イオン装置にあっては、脱塩室の入口
から出口に向って局部的に偏って水が流れるチャンネル
化現象が防止されると共に、脱塩室内においてイオン交
換樹脂が圧縮されたり移動したりすることが防止され
る。
【0010】上記の特公平4−72567号の電気脱イ
オン装置にあっては、脱塩室を上下に細長い小室に区画
するため、小室の数に制限がある。即ち、あまり多くの
小室を形成することができない。また、リブによって水
の左右方向への流れが阻止されるため、水とイオン交換
樹脂との接触効率が悪い。さらに、小室の下部にあって
はイオン交換樹脂が圧縮され、上部に隙間があき、イオ
ン交換樹脂の充填率が低くなりがちであるという短所も
ある。
【0011】図4は、電気脱イオン装置を組み込んだ従
来の純水製造装置を示す系統図であり、市水等の原水
は、活性炭装置1及び逆浸透(RO)膜装置2で処理さ
れた後、電気脱イオン装置3で処理される。
【0012】このような電気脱イオン装置で、炭酸ガス
(CO)、シリカ、ホウ素などの弱電解物質を除去す
るためには、下記のようなイオン化反応を脱塩室内で生
起させ、イオンを発生させる必要がある。 CO+OH→HCO (pKa=6.35) SiO+OH→HSiO (pKa=9.86) HBO+OH→B(OH) (pKa=9.24)
【0013】これらの弱電解物質のうち、COのよう
に解離定数pKa値が低い物質は印加電圧を高めて水解
離を起こさせれば、従来の電気脱イオン装置でも完全に
除去することができるが、シリカ、ホウ素などの解離定
数が高い物質は印加電圧を上げても60〜90%程度ま
でしか除去することができない。
【0014】このような問題点を解決するために、従
来、次のような方法が提案されている。 I. 脱塩室のイオン交換層をアニオン交換層、カチオ
ン交換層とする複層充填とし、該アニオン交換層で一時
的にアルカリ性にする方法(特開平4−71624号公
報) II. 電気脱イオン装置の原水のpHを9.5〜11.
5に調整して通水する方法(USP4,298,44
2) III. シリカを除去するために、従来の電気脱イオン
装置を多段に設けて通水したり、前段のRO膜装置を多
段にする方法。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】Iの脱塩室内のイオン
交換層を複層充填とする方法では、半導体分野等での要
求シリカ濃度<0.1ppbを達成することはできな
い。
【0016】IIの原水のpHを上げる方法では、シリカ
の除去効率は5〜10%程度向上するが、pH調整のた
めに苛性ソーダなどの薬液注入設備が必要となる。 原
水中のCa2+、Mg2+等の硬度成分はスケールを生
成するため、軟化装置等で完全に除去する必要があり、
設備コストが上昇する。
【0017】IIIの方法では、電気脱イオン装置で処理
された水にはシリカやホウ素が0.5〜1.0ppb以
上含まれるため、電気脱イオン装置の後段に非再生型混
床式イオン交換装置を配置する必要がある。
【0018】一般に電気脱イオン装置では限界電流密度
以上の電流を流して脱塩を行うが、この時、前述のよう
に水解離が生じてOH、Hが発生し、電荷を運ぶよ
うになる。このHイオンのイオン移動度は349.7
cmΩ−1eq−1で、他のイオンのイオン移動度
(30〜70cmΩ−1eq−1)に比べ、圧倒的に
速い(イオン移動度は無限希釈溶液におけるデータ、日
本化学会編「化学便覧」参照)。このため、特に脱塩室
の厚みWが大きくなると、水解離が生じたときにイオン
移動度の違いによる移動速度の差が広がり、Hは速や
かにに濃縮室側に排出され、OHイオンが脱塩室に取
り残され易い。また、Ca2+、Mg2+などの多価の
カチオンやアニオンは比較的容易に濃縮室側に排出され
るが、Na 、Kは1価であると共に、Hイオンが
電荷を運ぶ役割をしているため、脱塩室に残り易い。こ
の結果として、処理水中にNaOH、KOH等の1価の
アルカリ金属水酸化物が含有されるようになり、処理水
(脱イオン水)のpHはアルカリ性となる。
【0019】なお、同様の理由で濃縮水は、pHが逆に
酸性となる。
【0020】本発明は上記従来の問題点を解決し、苛性
ソーダなどの薬液を注入することなく、また、スケール
が生成せず、シリカ、ホウ素等の弱電解質の除去率が著
しく高い電気脱イオン装置と、この電気脱イオン装置を
用いた純水製造装置を提供することを目的とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】本発明の電気脱イオン装
置は、陰極、陽極、該陰極と陽極の間に複数のカチオン
交換膜とアニオン交換膜とを配列することにより形成さ
れて、濃縮室と脱塩室及び、該脱塩室に充填されたイオ
ン交換体を有する。脱塩室の厚さ、操作電圧及び/又は
電流、通水SVを調整することにより、pH8.5以下
の被処理水をアルカリ薬剤を添加することなしに処理し
たときに、被処理水のpHよりも1.0以上高いpHの
処理水が得られる。
【0022】本発明の電気脱イオン装置によると、シリ
カ、ホウ素等の弱電解物質が被処理水から効率的に除去
される。
【0023】本発明の純水製造装置は、被処理水が順次
通水される複数段の電気脱イオン装置を有する。最前段
の電気脱イオン装置が本発明の電気脱イオン装置であ
る。
【0024】原水は最前段の電気脱イオン装置において
一部の炭酸ガス、シリカ、ホウ素、硬度成分が除去され
る。最前段の電気脱イオン装置で処理された水は、原水
と同等の導電率を有し、原水よりも高いpHを有する。
処理水は、更に、通常の電気脱イオン装置で処理され、
残留するシリカやホウ素、及びその他のイオンが除去さ
れる。
【0025】脱塩室の厚みが特公平4−72567号公
報に示された1.26〜6.35mmよりも厚く、かつ
脱塩室にアニオン交換体単独もしくはアニオン交換体と
カチオン交換体との混合が充填された電気脱イオン装置
は特異な挙動を示す。即ち、逆浸透膜装置(RO装置)か
ら取り出されたアルカリ金属イオン及びアルカリ土類金
属イオンを少量含む水が電気脱イオン装置を通過する
と、水中の炭酸ガス(CO)やアニオンは除去され、
シリカ、ホウ素も約90%除去される。また、C
2+、Mg2+等の硬度成分も除去される。ところ
が、Na,K等の1価のカチオンは除去率が悪く、結果
として処理水にはモル伝導率が大きいNaOH、KOH
などのアルカリ成分がリークしてくるため、pHが上昇
すると共に、導電率も若干大きくなる傾向にある。
【0026】電気脱イオン装置がこのような現象を起こ
す原因の詳細は明らかではないが、次のように推定され
る。即ち、電気脱イオン装置では限界電流密度以上の電
流を流して脱塩を行うが、この時、前述のように水解離
が生じてOH、Hが発生し、電荷を運ぶようにな
る。このHイオンのイオン移動度は349.7cm
Ω−1eq−1で、他のイオンのイオン移動度(30〜
70cmΩ−1eq )に比べ、圧倒的に速い(イ
オン移動度は無限希釈溶液におけるデータ、日本化学会
編「化学便覧」参照)。このため、脱塩室厚みが厚くな
ると、水解離が生じたときにイオン移動度の違いによる
移動速度の差が広がり、Hが一方的に濃縮室側に排出
されることになり、OHイオンが脱塩室に取り残され
るようになる。Ca2+、Mg2+などの多価のカチオ
ンやアニオンは比較的容易に濃縮室側に排出されるが、
Na、KはHイオンが電荷を運ぶ役割をしている
ため脱塩室に残る。結果として、処理水からはNaO
H、KOH等の1価のアルカリ金属がリークすることと
なり、pHが上昇する。
【0027】同様の理由で濃縮室では、OHが排出さ
れ難く、Hが排出され易いため、pHが酸性となる。
従って、Ca2+、Mg2+等が高濃度で濃縮されても
スケールを生成することはない。
【0028】本発明の電気脱イオン装置は、最も陽極側
の脱塩室のアニオン交換膜と陽極との間にカチオン交換
膜を配置し、このカチオン交換膜と該最も陽極側の脱塩
室との間を濃縮室とし、このカチオン交換膜と陽極との
間を陽極室としてもよい。
【0029】かかる電気脱イオン装置にあっては、陰極
室のカチオン濃度が高く、電極間の電気抵抗が小さい。
従って、セル電圧を低減することができる。この陰極室
でのスケール発生を防止するには、陰極室に流入する電
極水のpHを低く(酸性)とする。このためには、この
電極水として用いられる濃縮室流出水のpHを低くすれ
ば良く、このためには脱塩室の厚さを大きくすれば良
い。
【0030】本発明の電気脱イオン装置は、被処理水を
複数段の電気脱イオン装置に通水するように接続した純
水製造装置の最前段の電気脱イオン装置として好適であ
る。10μS/cmの導電率、200ppbのシリカ、
20ppbのホウ素を含む被処理水が本発明の電気脱イ
オン装置に通水され、次いで通常の電気脱イオン装置に
通水されると、比抵抗値18MΩ・cm以上、シリカ、
ホウ素は0.1ppb以下と、理論純水に近くなる。先
行する電気脱イオン装置で、Ca2+、Mg の硬度
成分が除去されるので、スケールが後続する電気脱イオ
ン装置で発生せず、水回収率が95%以上になる。先行
する電気脱イオン装置の濃縮室からは酸性水が取り出さ
れ、後続する電気脱イオン装置の濃縮室からはアルカリ
水が取り出される。これらは、混合されて前処理装置で
あるRO膜装置の前段に戻されてもよい。
【0031】図7,8に示すように、7mm以上の厚い
セルと、7mm未満の薄いセルを一つの電気脱イオン装
置内に設置され、水が厚いセルから薄いセルへと直列に
流れてもよい。
【0032】
【発明の実施の形態】本発明の電気脱イオン装置の実施
の形態を詳細に説明する。
【0033】本発明の電気脱イオン装置は、pH8.5
以下の被処理水(電気脱イオン装置の給水)にアルカリ
薬剤を添加することなく処理した場合において、被処理
水よりもpHが1.0以上、好ましくは1.3〜3.0
程度高い処理水(脱イオン水)を得ることができるよう
構成されている。
【0034】本発明の電気脱イオン装置内において、水
のpHが上昇することにより、シリカやホウ素等の弱電
解物質及び硬度成分が効率よく除去される。
【0035】本発明の電気脱イオン装置は、次のi),i
i)の構成を採用することが好ましい。 i) 脱塩室の厚さは7mm以上が好ましく、処理水の
pHを効率良く上げるために、脱塩室の厚さは8〜30
mmがより好ましい。脱塩室の厚みとは、図3のWで示
す如く、陽極11と陰極12との間の脱塩室16の厚み
を指す。 ii) 脱塩室のイオン交換体はアニオン交換体とカチ
オン交換体との混合層が最も良い。印加電圧が高いとき
には、アニオン交換体の単独層でもよい。一部の脱塩室
に混合層が充填され、他の脱塩室にアニオン交換体層が
充填されてもよい。
【0036】脱塩室にアニオン交換体とカチオン交換体
が交互に充填される複層充填は、脱塩室が7mm以上の
厚さであっても、処理水比抵抗値が上昇し、pHは中性
となる。これは、ナトリウムイオンなどの1価のカチオ
ンがカチオン交換層で除去されてしまうためである。
【0037】1段目もしくは2段目以降の該電気脱イオ
ン装置の濃縮室にイオン交換体が充填されていてもよ
く、このようにすればセル電圧が低減され、消費電力が
減少する。濃縮室にイオン交換体が無く、セル電圧が1
5V/cellの場合と、濃縮室にイオン交換体が充填
され、セル電圧が3〜6V/cellの場合とで、同等
の処理が可能である。
【0038】イオン交換体の種類は、ビーズ状、繊維状
のイオン交換樹脂、繊維や不織布等にグラフト重合を利
用して交換基を導入したグラフト重合交換体などのいず
れであっても良い。
【0039】良好な水質を得るためには、イオン交換体
としては均一寸法のビーズ状のイオン交換樹脂が好まし
い。この「均一寸法のイオン交換樹脂」とはビーズの9
0%が平均ビード寸法の10%以内にあり、ビード混合
物内におけるアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂の相
対平均寸法が少なくとも0.8のものを指す。
【0040】最も好ましくは上記i)及びii)の構成
を採用した電気脱イオン装置が次の条件で運転される。
【0041】脱塩室セルは1〜50V/cell、好ま
しくは6〜50V/cell、特に好ましくは10〜3
0V/cellの電圧が印加される。水は30〜150
/hr、好ましくは50〜100/hrのSVで流れ
る。印加電圧が低すぎる場合、及びSVが高すぎる場合
は処理水に塩化物イオン等の1価のアニオンやシリカ、
ホウ素が漏出する。逆に印加電圧が高すぎる場合及びS
Vが低すぎる場合は1価のカチオンが過度に除去され
る。
【0042】電気脱イオン装置の脱塩室内部のpHが
9.0以上であると、シリカ、ホウ素が除去され易い。
脱塩室内部のpHを9以上にするには、セルの厚みが異
なる脱塩室を形成することにより可能である。具体的に
は、例えば(セル出口近傍の厚み/最大のセル厚み)の
比率が0.6以下とする。
【0043】本発明に用いられるイオン交換膜は均一膜
及び不均一膜のいずれでも良いが、不均一膜は均一膜よ
りもNaリーク率が高く、処理水pHが上昇する。し
たがって、カチオン膜は不均一膜が好ましい。アニオン
膜はシリカ、ホウ素除去率維持のため均一膜の方がよ
い。
【0044】0.8以下のアニオン交換膜の電気抵抗と
カチオン交換膜の電気抵抗との比(A/C)は、Na
を容易に除去する。
【0045】このような処理効率を得るためには、特に
上記構成において、脱塩室厚みが10〜20mmであ
り、脱塩室にアニオン交換体とカチオン交換体との混床
が充填され、イオン交換体は混合層とし、通水SVが5
0〜100/hrであり、印加電圧が10〜30V/c
ellであると、被処理水中の硬度成分を50%以上、
ホウ素、シリカ等の弱電解物質を90%以上除去でき
る。
【0046】本発明の電気脱イオン装置の他の構成は従
来の電気脱イオン装置と同様でよい。
【0047】本発明の電気脱イオン装置へ供給される水
は、水道水、河川水、地下水等を逆浸透膜装置によって
処理したシリカ及び/又はホウ素を含有する水が好適で
ある。
【0048】本発明の電気脱イオン装置は、Caスケー
ルの発生を防止するために、下記式で算出されるスケー
ル指標数値SIが500以下特に200以下となる条件
で運転されることが好ましい。 スケール指標数値SI=〔無機炭酸の単位膜面積当りの
負荷量(mg−CO /hr・dm)〕・〔濃縮水C
2+濃度(mg−CaCO/L)〕 無機炭酸の単位膜面積当りの負荷量(mg−CO/h
r・dm)は、下記の式の通り、該電気脱イオン装置
のアニオン交換膜1dm当たりの負荷量(mg−CO
/hr)である。濃縮水Ca2+濃度は濃縮室流出水
のCa2+濃度(CaCO換算)である。
【0049】
【数1】
【0050】本発明者らは、電気脱イオン装置における
スケール発生のメカニズムを明らかにするために、電気
脱イオン装置の供給水に過剰量の無機炭酸及びCa2+
を混在させて、意図的にスケールを発生させた後、装置
を解体して濃縮室を観察した結果、濃縮室面側のアニオ
ン交換膜に炭酸カルシウムが付着していることを知見し
た。
【0051】この知見から、本発明者らは、スケール発
生のメカニズムを次のように推定した。即ち、電気脱イ
オン装置を運転しているときには、アニオン交換膜の表
面近傍は局所的にアルカリになり、脱塩室からアニオン
交換膜を透過してくるHCO もしくはCO 2−
びOHはアニオン交換膜付近で濃縮されており、そこ
へ濃縮室内の水に含まれるCa2+がアニオン交換膜面
へ引き寄せられ、これらが反応して炭酸カルシウムのス
ケールがアニオン交換膜面に発生する。
【0052】そこで、本発明者らは更に研究を進めてい
き、アニオン交換膜の無機炭酸の単位膜面積当りの負荷
量と濃縮水のCa2+濃度を掛け合わせたスケール指標
数値SIを500以下とすればスケールが全く発生しな
いことを見出した。
【0053】電気脱イオン装置の無機炭酸負荷量(mg
−CO/hr)は、電気脱イオン装置の供給水の無機
炭酸濃度(mg−CO/L)に流量(L/hr)を掛
けることにより求められ、従って、無機炭酸膜面積負荷
量(mg−CO/hr・dm)は、〔供給水の無機
炭酸濃度(mg−CO/L)〕と〔セル当たりの流量
(L/hr)/セル有効アニオン交換膜面積(d
)〕との積で算出される。
【0054】この電気脱イオン装置のスケール発生因子
の指標としてのスケール指標数値SIを500以下特に
200以下にすることにより、電気脱イオン装置の濃縮
室内での炭酸カルシウムスケールの析出を確実に防止す
ることができ、該電気脱イオン装置を長期間に亘って安
定に運転することが可能となる。
【0055】電気脱イオン装置では前述のように供給水
のイオンを排出させるのに必要な理論電流値以上の電流
を流して、脱塩室内で水解離を生じさせて、イオン交換
体を連続的に再生している。従って、電流を流すほどア
ニオン交換膜面のpHはアルカリ性になり、炭酸カルシ
ウムは析出し易くなる。そのため、許容SI値は電流値
によって変化する。
【0056】処理水比抵抗値10MΩ・cm程度を達成
すればよい電気脱イオン装置において、90%以上の高
シリカ除去率が要求されない場合、又は20%を超える
電流効率で運転するような場合には、SI値が200以
下になるようにすればよく、好ましくは150以下であ
る。特に、経済的な考慮からは、必要以上の脱ガス装置
や軟化装置による処理を避けるために、SI値を80〜
200とするのが望ましい。
【0057】電気脱イオン装置がシリカ除去率90%以
上を要求される場合、即ち電流効率を20%以下で運転
する場合は、SI値は120以下、特に80以下で運転
することが好ましい。経済的にはSI値を50〜120
で運転するのが望ましい。
【0058】濃縮室にイオン交換体を充填した電気脱イ
オン装置の場合には、アニオン交換膜を透過したOH
イオンが濃縮室内を移動し易くなるため、スケール層が
分散する効果がある。この場合、SI値は電流値を増加
させても80以上で運転が可能であり、80〜200で
運転を行うことができる。この場合の特に好ましいSI
値は80〜150であるが、経済的な考慮を除けば80
以下であっても良い。
【0059】SI値を規定値以下にまで低下させるため
には、次のような方法がある。即ち、濃縮水のCa2+
濃度を低下させるためには、水回収率を下げたり、濃縮
室に軟化装置等のCa2+除去装置を設けてCa2+
除去する方法がある。また、無機炭酸膜面積負荷量を低
下させるためには、電気脱イオン装置の処理水量を低下
させたり、電気脱イオン装置の上流側に脱ガス装置を設
けて無機炭酸を除去する方法がある。更に、電気脱イオ
ン装置の電流値を制御することによっても無機炭酸膜面
積負荷量を低下させることができる。
【0060】本発明の電気脱イオン装置が80%以上の
水回収率にて運転されると、濃縮室内の水の導電率が高
くなり、優れた処理水水質がもたらされる。
【0061】10ppm以下のCO濃度の被処理水
は、逆浸透膜分離装置に通された後、本発明の電気脱イ
オン装置に導入されてもよい。
【0062】本発明では、濃縮室の導電率が50μS/
cm以上とすることが好ましい。電気脱イオン装置にお
ける濃縮水の導電率と電気抵抗との関係は図14の通り
であり、導電率が50μS/cmよりも小さくなると電
気抵抗が急激に増大する。従って、濃縮室出口の電気導
電率が50μS/cmないと電流値が確保できない。仮
に確保できたとしても電気抵抗値が上昇し、消費電力費
が上昇する。
【0063】次に、本発明の純水製造装置について、図
1,2を参照して説明する。図1,2はそれぞれ本発明
の純水製造装置の実施の形態を示す系統図である。
【0064】図1の純水製造装置は、直列に接続され
た、RO装置2、前段電気脱イオン装置3A及び後段電
気脱イオン装置3Bを有する。図2の純水製造装置は、
直列に接続された活性炭装置1、RO膜装置2、前段電
気脱イオン装置3A及び後段電気脱イオン装置3Bを有
する。
【0065】前段電気脱イオン装置3Aは、上記の本発
明に関わる。
【0066】後段電気脱イオン装置3Bは、従来の電気
脱イオン装置を使用することができる。装置3Bの脱塩
室の厚みは前段電気脱イオン装置3Aのそれよりも薄い
ことが好ましく、その厚みは2.0〜6.0mmが望ま
しい。さらに2段目以降の電気脱イオン装置に以下の構
造のものを用いると高流速化、コンパクト化が可能であ
る。
【0067】本構造を図9に示す。本発明の電気脱イオ
ン装置は、脱塩室内を区画部材によって多数の小室に区
画する。この各小室に臨む区画部材の少なくとも一部
は、脱塩室内の平均的な水の流れ方向に対して傾斜して
おり、この傾斜した部分は、水は通過させるが、イオン
交換体は通過させない構造となっている。このため、脱
塩室内に流入した水の少なくとも一部は、平均的な水の
流れ方向に対し斜め方向に流れるようになり、脱塩室内
の全体に分散して流れる。さらに膜面方向におけるイオ
ンの濃度境界層を破壊する攪拌効果も有する。これによ
って、イオン拡散抵抗が緩和するため、高流速処理が可
能となる。従って、水とイオン交換体との接触効率が向
上し、脱イオン特性が向上する。
【0068】この小室を平均的な水の流れ方向及びこれ
と直交方向のいずれにおいても膜面に沿って複数個配置
することにより、(例えば縦横に多数配置することによ
り、)水とイオン交換体との接触効率がきわめて高いも
のとなる。また、各小室内の上下方向の高さが小さくな
り、イオン交換体が局部的に圧縮されにくくなる。従っ
て、小室に隙間が生じることがなく、イオン交換体の充
填密度が平均化する。
【0069】この小室は、イオン交換膜面に投影した形
状が六角形又は四角形であることが好ましい。六角形の
場合には、1対の平行な辺が平均的な水の流れ方向とな
るように各小室を配置するのが好ましい。四角形の場合
には、各辺が平均的な水の流れ方向に対し傾斜するよう
に配置する。
【0070】すべての小室に同種類のイオン交換体を充
填してもよく、一部の小室に他の小室とは異なるイオン
交換特性のイオン交換体を充填してもよい。例えば、第
1の小室にアニオン交換体を充填し、第2の小室にカチ
オン交換体を充填し、第3の小室に両性イオン交換体
(又はアニオン交換体とカチオン交換体との混合物)を
充填してもよい。
【0071】上記構造を有する電気脱イオン装置を純水
製造装置の後段に設置すると、SVを120〜250h
−1と高流速で通水しても、前段からリークしてきたN
等の一価のカチオンを除去することが可能となる。
【0072】以下、図面を参照して後段電気脱イオン装
置の実施の形態について説明する。図9は後段電気脱イ
オン装置の実施の形態に係る脱塩室の構成を示す分解斜
視図、図10は区画部材の通水状況を示す正面図であ
る。
【0073】この脱塩室は、長方形状のフレーム120
と、このフレーム120内に配置された区画部材121
と、区画部材121によって形成された小室122内に
充填されたイオン交換体123と、フレーム120を挟
むように配置されたアニオン交換膜124及びカチオン
交換膜125とによって構成されている。区画部材12
1は導電性を有していても良い。
【0074】フレーム120の上部には被処理水(原
水)の導入用の通水孔126及び濃縮水(流入側)の通
水孔127が穿孔され、下部には脱塩水の通水孔128
及び濃縮水(排出側)の通水孔129が穿孔されてい
る。この原水導入用通水孔126及び脱塩水の通水孔1
28は切欠状の水路126a,128aを介してそれぞ
れフレーム120の内側に連通している。
【0075】水路126aは、図9では左上の小室にの
み連通するように図示しているが、左右方向の各小室に
原水が均等に分配されるように水路126aは実際には
フレーム120の上部に複数設けられ、通水孔126は
最上部の各小室に直接に連通している。同様に、図9で
は水路128aは右下の小室にのみ連通するように図示
してあるが、実際には水路128aはフレーム120の
下部に複数個設けられており、通水孔128は最下部の
各小室に直接に連通している。
【0076】この実施の形態に係る区画部材121は六
角形のハニカム形状のものであり、小室122は上下左
右に多数配置されている。各小室122の1対の側辺が
フレーム120の長手方向即ち上下方向となるように配
置されている。長手方向面131は通水性を有していて
もよく、有していなくてもよい。
【0077】長手方向面131が通水性を有していない
と、小室内において水がイオン交換体と満遍なく接触し
がちとなり、これにより処理水質が向上する。
【0078】この脱塩室を有した電気脱イオン装置の全
体構造それ自体は前記図12と同じであり、原水、濃縮
水及び電極水の通水系路も同じである。
【0079】図12に示された通り、陰極電極板、陰極
用スペーサ及びカチオン交換膜によって囲まれて陰極室
が形成される。
【0080】この電気脱イオン装置に通水して脱塩運転
を行う場合、脱塩室に流入した原水は、図10の通り小
室122を囲む区画部材121を通過して隣接する小室
122に流れ込み、徐々に下方に流れ、この間に脱イオ
ン処理を受ける。そして、遂には脱塩室の下部に達し、
水路128aを介して脱塩水取出用の通水孔128に流
入し、脱塩水として電気脱イオン装置外に取り出され
る。
【0081】この脱塩室における平均的な水の流れ方向
は、原水流入用の水路126aがフレーム120の上部
に存在し、脱塩水取出用の水路128aがフレーム12
0の下部に存在するところから、上から下に向う鉛直方
向となっている。この平均的な水の流れ方向に対し小室
の上部及び下部が傾斜しているので、被処理水は1つの
小室22から左及び右側の小室122へ斜めに分かれて
流下するようになる。このため、被処理水が各小室12
2にほぼ均等に分散して流れるようになり、被処理水と
イオン交換体との接触効率が良好なものとなる。
【0082】この脱塩室にあっては、小室122が比較
的小さく、イオン交換体の自重及び水圧によって各小室
122内においてイオン交換体に対し加えられる下向き
の圧力が小さい。従って、いずれの小室122内におい
てもイオン交換体が圧縮されることがなく、イオン交換
体が小室内の下部において局部的に圧密化されることが
ない。
【0083】各小室122に対して充填されるイオン交
換体としては、アニオン交換体、カチオン交換体、両性
イオン交換体、これらの2以上の混合物のいずれでもよ
い。
【0084】図9,10では小室は六角形であるが、図
11の小室145の如く四角形例えば菱形であってもよ
い。
【0085】本発明の電気脱イオン装置において、小室
のイオン交換膜面への投影面積は1〜100cmとく
に2〜50cmとりわけ3〜10cm程度が好まし
い。小室を小さくするほど1つの小室に充填するイオン
交換体の量が少なくなり、イオン交換体の流動が抑制さ
れると共に、区画部材及び脱塩室の強度も大きくなる
が、脱塩室の通水圧損が大きくなる。
【0086】充填するイオン交換体は、通常イオン交換
樹脂が使用されるが、イオン交換繊維やイオン交換不織
布でもよく、イオン交換樹脂とイオン交換繊維の混合物
でもよい。導電性の樹脂のようなイオン伝導体であって
もよい。
【0087】前段電気脱イオン装置3Aの脱塩室の厚み
が7mm以上、特に8〜30mmであり、後段電気脱イ
オン装置3Bの脱塩室の厚みが2.0〜6.0mmであ
ると、前段電気脱イオン装置3Aでシリカ、ホウ素等の
弱電解物質及び硬度成分が除去され、後段電気脱イオン
装置3Bでシリカ及びホウ素がさらに除去される。装置
3Bは、前段電気脱イオン装置3Aからリークしたアル
カリ成分を除去するので、高水質の処理水が得られる。
【0088】純水製造装置の前段電気脱イオン装置に供
給される水は、Naを0.1ppm as Na以上含
有することが好ましい。それよりもNaが少ない水に
対してはNaClを添加することが好ましい。
【0089】前段電気脱イオン装置の処理水のpHを上
昇させるためには、被処理水中にNaイオンを含有する
必要がある。被処理水中のNa濃度と処理水pHの関
係を図15に示す。図15のようにpH8.5以上を確
保するためのNa濃度は0.1ppm as Na
上、好ましくは、0.5〜4ppm as Naである。
【0090】純水製造装置の前段電気脱イオンに供給さ
れる水中のCO濃度は3ppm as CO以下である
ことが好ましい。
【0091】アルカリ領域で解離する挙動を示すCO
が原水中に多く含まれると、シリカ、ホウ素の除去率低
下を招く。COが3ppmよりも多い場合には、上流
側に脱ガス装置を設置するか、RO膜装置給水pHを8
以上にしてHCO3−イオンとして除去するのが好まし
い。
【0092】前段電気脱イオン装置3Aの水回収率は6
0〜90%とするのが好ましい。後段電気脱イオン装置
3Bの水回収率は95%以上、例えば、95〜99%の
水回収率であっても、スケール障害を引き起こすことな
く良好な水質の処理水を得ることができる。
【0093】前段電気脱イオン装置3Aにおいて印加電
圧又は電流を上昇させると、前段電気脱イオン装置3A
の処理水pHが高くなる。従って、前段電気脱イオン装
置3Aの処理水の排出配管にpH計4を取り付けてpH
を監視し、このpH値が好ましくは8.5以上、より好
ましくは9.0〜10.5程度となるように、前段電気
脱イオン装置3Aの印加電圧や電流を制御するのが好ま
しい。前段電気脱イオン装置3AのNa除去率が90%
以下であり、塩素イオン除去率が95%以上であること
が望ましい。塩素イオン除去率が95%以上であると、
pHが高くなる。
【0094】後段電気脱イオン装置3Bの処理水の排出
配管に比抵抗計5及びシリカ計6を取り付け、後段電気
脱イオン装置3Bの処理水の比抵抗値、シリカ濃度を監
視し、これらの値が目標値に到達するよう前段及び/又
は後段電気脱イオン装置3A,3Bの印加電圧や電流を
制御するのが好ましい。
【0095】電気脱イオン装置3A,3BはA/(Q・
SV)4000以上で運転されると、シリカ及びホウ素
の除去率が向上する。 即ち、A/(Q・SV)≧4000である。 A :操作電流値(A) Q :1室当りの脱塩室内供給水流量(L/sec) SV:脱塩室内のイオン交換体当たりの供給水流量(L
/L−イオン交換体・sec)
【0096】シリカ除去率は上記A/(Q・SV)値と
の相関が高く、A/(Q・SV)値が4000以上であ
るとシリカ除去率97%以上を達成し得る。
【0097】本発明の純水製造装置は、逆浸透膜装置
と、該逆浸透膜装置の透過水が導入される脱ガス装置
と、該脱ガス装置の処理水が導入される電気脱イオン装
置とを有してもよい。そして、酸消費量(pH4.8)
が20ppm(CaCO換算)以上でpH6.5以上
の被処理水を逆浸透膜装置に導入し、該逆浸透膜装置か
らpH6.2以下の透過水を脱ガス装置に供給するのが
好ましい。
【0098】この脱ガス装置は膜脱気装置であり、該脱
ガス装置に導入される水がTOC200ppb以下であ
るか若しくは導電率20μS/cm以下であることが好
ましい。
【0099】この構成では、薬剤を使用することなく、
被処理水中に含まれる酸消費量(pH4.8)成分をR
O膜装置で除去することにより、pHの低い透過水を得
る。この低pHの透過水を脱ガス装置で処理することに
よりCOを効率的に除去し、電気脱イオン装置のCO
負荷を軽減することができる。
【0100】RO膜装置による処理で低pHとされた水
を脱ガス処理することにより、RO膜装置の前段で脱ガ
ス処理する場合に比べてCOの除去性能を30〜50
%も向上させることができる。
【0101】特に、脱ガス装置として膜脱気装置を用い
た場合には、RO膜装置の前段にこれを設置する場合に
比べて、RO膜装置の後段に設置することにより長期に
亘って脱ガス性能を安定させることができる。
【0102】これは、RO膜装置により塩類やTOC成
分が除去され、これらの汚染物質に起因する膜脱気装置
のスライム付着障害等が軽減されるためであり、この場
合、膜汚染を有効に防止して脱ガス性能を長期間安定さ
せるために、膜脱気装置に導入される水はTOC200
ppb以下であるか或いは導電率20μS/cm以下で
あることが好ましい。
【0103】RO装置2の濃縮水は排水として排出さ
れ、透過水は、前段電気脱イオン装置3Aの電極室3A
a、脱塩室3Ab及び濃縮室3Acにそれぞれ分配され
て給水される。前段電気脱イオン装置3Aの処理水(脱
塩室3Abの流出水)は後段電気脱イオン装置3Bの電
極室3Ba、脱塩室3Bb及び濃縮室3Bcにそれぞれ
分配される。後段電気脱イオン装置3Bの脱塩室3Bb
の流出水は処理水として取り出される。前段電気脱イオ
ン装置3A及び後段純水製造装置3Bの電極室3Aa,
3Baの流出水は排水として排出される。
【0104】前段電気脱イオン装置3Aの濃縮室3Ac
からの濃縮水は酸性水であり、後段の電気脱イオン装置
3Bの濃縮室3Bcからの濃縮水はアルカリ水である。
従って、濃縮室3Ac,3Bcからの流出する濃縮水
は、混合されて、RO膜装置2の入口側に循環されるの
が好ましい。
【0105】前段電気脱イオン装置3A及び後段電気脱
イオン装置3Bのうちのいずれか一方の濃縮水のみをR
O膜装置2の前段に循環しても良い。後段電気脱イオン
装置3Bの濃縮水は前段電気脱イオン装置3Aの入口側
に循環しても良い。
【0106】図1,2に示す電気脱イオン装置では、1
機の電気脱イオン装置3Bが設置されているが、直列に
接続された2機以上の電気脱イオン装置3Bが配置され
てもよい。
【0107】図7,8に示すように陽極21(又は21
A,21B)と陰極22との間に脱塩室厚みが7mm以
上のセル23と、脱塩室厚みが7mm未満のセル24を
設置し、被処理水をこれらのセルに順次通水するように
直列に通水しても良い。
【0108】本発明の電気脱イオン装置の運転方法で
は、2段目以降の電気脱イオン装置の該濃縮室から流出
する濃縮水のシリカ濃度をその電気脱イオン装置の生産
水のシリカ濃度の1000倍以下とすることが望まし
く、生産水のシリカ濃度を0.1ppb以下にするため
には、濃縮室から流出する濃縮水のシリカ濃度を100
ppb以下にすることが望ましい。
【0109】かかる運転方法にあっては、濃縮室の出口
近傍においても濃縮室から脱塩室に向うシリカ濃度勾配
が比較的小さく、濃縮室から脱塩室へのシリカの拡散が
抑制され、生産水のシリカ濃度を低くすることができ
る。
【0110】本発明の純水製造装置は、逆浸透膜脱塩装
置と、第1の電気脱イオン装置と、第2の電気脱イオン
装置とを有し、水を該逆浸透膜脱塩装置から第1の電気
脱イオン装置に通水し、さらに第2の電気脱イオン装置
に通水する純水製造装置において、該逆浸透膜脱塩装置
は、1価塩類の脱塩率が97%以下の逆浸透膜で形成さ
れていてもよい。
【0111】なお、以下において、RO膜の「1価塩類
の脱塩率」を単に「脱塩率」と称す。
【0112】前記図14より明らかなように、電気脱イ
オン装置の濃縮水の導電率が50μS/cmより小さい
と急激に電気抵抗が高くなることから、この導電率ば5
0μS/cm以上、好ましくは75μS/cm以上であ
れば、電気抵抗が比較的小さく、電気脱イオン装置にお
ける脱塩に必要な電流値を十分に確保することができ
る。
【0113】一般的な純水製造装置の原水である導電率
200μS/cm程度の市水、工水を脱塩率97%のR
O膜を装填したRO膜装置に通水して、水回収率75%
の条件で処理した場合、得られるRO透過水の導電率は
次の通りである。 RO透過水の導電率=(200+800)÷2×(1−0.97) =15μS/cm このRO透過水を電気脱イオン装置に通水して水回収率
80%で運転した場合、得られる濃縮水の導電率は15
×5=75μS/cmとなる。
【0114】この濃縮水の導電率は、RO膜装置の原水
の導電率、RO膜装置の水回収率、電気脱イオン装置の
水回収率により変わるが、脱塩率97%以下のRO膜で
あれば、一般的な原水及び水回収率の運転で概ね導電率
75μS/cm以上の濃縮水を得ることができ、電気脱
イオン装置における電流値を確保することが可能とな
る。
【0115】なお、本発明において、このように比較的
脱塩率の低いRO膜で処理して得られた透過水を電気脱
イオン装置の脱塩室に供給することは、極めて重要であ
り、この透過水を電気脱イオン装置の濃縮室のみに供給
しても、濃縮水の導電率を確保することはできず、結果
として電気抵抗の低減、電流値の向上を図ることはでき
ない。
【0116】このRO膜は、更に硬度成分及びシリカの
除去率が97%以上であることが好ましい。即ち、2価
カチオン、例えばCa2+に代表される硬度成分やシリ
カは電気脱イオン装置内においてスケール化し易く、ま
た、これらを電気脱イオン装置において除去するために
は電流値を相当に高くする必要がある。従って、硬度成
分及びシリカは、電気脱イオン装置の前段のRO膜装置
で極力除去しておくことが好ましく、そのために硬度成
分及びシリカの除去率が97%以上のRO膜を用いるこ
とが好ましい。
【0117】このようなRO膜は、市販品を用いても良
いが、酸化剤による親水化処理を施して脱塩率97%以
下、硬度成分及びシリカの除去率97%以上となるよう
に調整することもできる。
【0118】本発明において、電気脱イオン装置の脱塩
室の厚みは7mm以上であることが好ましい。
【0119】即ち、このように脱塩室の厚みの厚い電気
脱イオン装置を用い、かつ脱塩室のイオン交換体層をア
ニオン交換体単独もしくはアニオン交換体とカチオン交
換体との混合層とした電気脱イオン装置に、NaCl等
が残留するRO膜装置の透過水を被処理水として通水す
ると、得られる処理水(脱塩水)の導電率は変化がない
か、むしろ大きくなるが、被処理水中の炭酸ガス(CO
)やアニオンは除去され、シリカ、ホウ素も約90%
除去される。また、Ca2+、Mg2+等の硬度成分も
除去される。ただし、Na,K等の1価のカチオン
は除去率が悪く、結果として処理水にはモル伝導率が大
きいNaOH、KOHなどのアルカリ成分がリークして
くるため、pHが上昇すると共に、導電率も若干大きく
なる傾向にある。
【0120】なお、同様の理由で濃縮室では、OH
排出され難く、Hが排出され易いため、pHが酸性と
なることから、Ca2+、Mg2+等が高濃度で濃縮さ
れてもスケールを生成することはない。
【0121】具体的には、NaClに代表される1価塩
類の脱塩率が97%以下のRO膜を用い、RO透過水に
1価塩類をリークさせ、この水を電気脱イオン装置の脱
塩室に供給することにより、電気脱イオン装置の濃縮水
の導電率を高め、電気脱イオン装置の電気抵抗の低減、
電流値の向上を図る。このRO膜の脱塩率が97%を超
えると、上記効果を十分に得ることができない。電気脱
イオン装置の濃縮水の導電率を高め、電気脱イオン装置
の電気抵抗の低減、電流値の向上を図る目的からは、R
O膜の脱塩率は低い方が良いがこの脱塩率が過度に低く
ても、電気抵抗の低下は小さく、逆に電気脱イオン装置
の被処理水の水質の低下のために、電気脱イオン装置の
負荷が増大し、処理水(脱塩水)の水質が低下すること
となることから、RO膜の脱塩率は特に90〜95%で
あることが好ましい。
【0122】このような脱塩率のRO膜としては、低脱
塩膜として市販されている膜、例えば、ルーズRO膜、
ナノフィルトレーション膜(NF膜)と呼称される膜、
具体的には、日東電工(株)製「LES90」や「NT
R−729HF」を採用することができる。
【0123】また、本発明においては、電気脱イオン装
置内におけるスケール成分となる硬度成分及びシリカ成
分を電気脱イオン装置の前段で可能な限り低減するため
に、RO膜装置のRO膜は、硬度成分及びシリカ成分の
除去率、より好ましくは更にTOC(全有機物炭素)の
除去率が97%以上であることが好ましい。
【0124】本発明の純水製造装置の前段電気脱イオン
装置においては、また、前述の理由から、電気脱イオン
装置の脱塩室の厚さは7mm以上、特に、8〜30mm
とするのが好ましい。
【0125】また、脱塩室のイオン交換体はアニオン交
換体とカチオン交換体との混合層が最も良く、印加電圧
を上昇させた場合には、アニオン交換体の単独層でも同
様の効果が得られる。もちろん、混合層とアニオン交換
体層の組み合わせでも構わない。
【0126】本発明は、電気脱イオン装置同士の間に、
水中のTOC(全有機炭素)を分解するために紫外線照
射装置を設けてもよい。
【0127】前段電気脱イオン装置の処理水がアルカリ
性の場合、紫外線照射装置のTOC分解効率が高くな
る。紫外線照射装置に導入される被処理水に、その水中
のTOC濃度の2〜20倍の過酸化水素又はオゾンを添
加すると、さらに分解効率が高くなる。
【0128】本発明では、前段電気脱イオン装置の前段
に第1の逆浸透膜装置を設け、前段電気脱イオン装置と
後段電気脱イオン装置との間に第2の逆浸透膜を設けて
もよい。
【0129】逆浸透膜装置によると、アルカリ性の流入
水(被処理水)からシリカ及びホウ素が除去され易い。
前段電気脱イオン装置から流出する処理水はNaOH等
のアルカリを添加しなくてもアルカリ性である、従っ
て、第2の逆浸透膜装置によりシリカ及びホウ素が除去
され易い。
【0130】例えば、第1の逆浸透膜装置、前段電気脱
イオン装置、第2の逆浸透膜装置及び後段電気脱イオン
装置がこの順に直列に接続された装置において、第2の
逆浸透膜装置に流入する水のpHが7の場合、該第2の
逆浸透膜装置の処理により99%のシリカと70%のホ
ウ素が除去される。第2の逆浸透膜装置に流入する水の
pHが9のときには、第2の逆浸透膜装置により99.
9%のシリカと97%のホウ素が除去される。
【0131】前段電気脱イオン装置と後段電気脱イオン
装置とが直列に接続された装置においては、一時的に高
負荷のシリカが流入すると、シリカが電気脱イオン装置
内に蓄積し、被処理水が通常のシリカ濃度にもどって
も、シリカ除去率が低下してくることがある。そこで、
前段電気脱イオン装置への流入水に定期的に食塩(Na
Cl)などの塩を添加し、電気脱イオン装置内に蓄積し
たシリカを吐き出させるようにしてもよい。
【0132】好ましくは、この食塩添加により、次の
i), ii), iii)の少なくとも1項目が5〜48
時間にわたって達成されるようにする。
【0133】i)前段電気脱イオン装置に流入する水の
導電率を15μS/cm以上とする。 ii)前段電気脱イオン装置に流入する水のNaイオン
濃度を3ppm以上とする。 iii)前段電気脱イオン装置から流出する処理水のp
Hが9.8以上となる。
【0134】なお、前段電気脱イオン装置の流入水と、
その流出水(処理水)のpHとの関係の一例を図15に
示す。
【0135】前段電気脱イオン装置への流入水に食塩な
どの塩を添加するだけでなく、この流入水を35℃以上
に加温すると、より効果的である。
【0136】従来の電気脱イオン装置は、濃縮室内でス
ライムが発生し、濃縮室差圧が上昇して運転不可能とな
ることが多かった。本発明の2段電気脱イオン装置は薬
剤を添加することなく前段電気脱イオン装置濃縮水は酸
性、後段電気脱イオン装置の濃縮水はアルカリになるた
め、濃縮室内でのスライム発生防止が可能となる。6ヶ
月運転しても前段電気脱イオン装置被処理水中に100
00個/mlの生菌数が前段濃縮水は100個/ml、
後段濃縮水は0個/mlと被処理水に比べ減少する。
【0137】シリカ除去率を更に上昇させるために、1
段目と2段目の中間、もしくは1段目入口にアルカリ薬
剤を添加しても良い。1段目でpHが十分に上昇しない
場合でも、NaOHの添加により、2段目以降の電気脱
イオン装置でシリカ除去率が向上する。
【0138】2段目以降の電気脱イオン装置により、シ
リカ、ホウ素などの弱電解質物質を効率よく除去するた
めに、1段目電気脱イオン装置処理水のpHは9.5以
上になることが好ましい。2段目(後段)電気脱イオン
装置被処理水pHが9.0の時はシリカ除去率99%で
あっても、pHが9.5以上の時は、99.9%とな
る。
【0139】2段目以降の電気脱イオン装置は、濃縮
室、電極室がアルカリとなるため、被処理水中のCa
2+濃度は30ppb以下、好ましくは5ppb as C
2+以下とするのが望ましい。2段目以降の電気脱イ
オン装置は被処理水がアルカリ水であるため、濃縮側、
電極室側でCaCOのスケールが発生する。従って、
Ca2+は1段目で除去する必要がある。
【0140】
【実施例】以下の実施例及び比較例で用いた装置は次の
通りであり、実施例1〜5及び比較例1〜3では、各装
置を図4に示す配列で直列に接続した。また、実施例6
では、電気脱イオン装置を2機用い、図2に示す配列で
直列に接続した。 (1) 活性炭装置 :栗田工業(株)製「クリコールKW10−30」 (2) RO装置 :栗田工業(株)製「膜エースKN200」 (3) 電気脱イオン装置:栗田工業(株)製「ピュアエースPA−200」 処理量;100L/hr
【0141】比較例1 イオン交換膜として下記のものを用い、また、脱塩室に
充填するイオン交換樹脂として下記のアニオン交換樹脂
とカチオン交換樹脂とをアニオン交換樹脂:カチオン交
換樹脂=6:4(体積比)で混合したものを用い、図3
に示すような電気脱イオン装置を組み立てた。アニオン
交換樹脂及びカチオン交換樹脂は超純水で十分に洗浄し
たものを用いた。脱塩室の厚みは2.5mmであり、脱
塩室のセル枚数は12枚とした。この電気脱イオン装置
に表1に示す条件で通水を行い、処理水の比抵抗値、シ
リカ、ホウ素、その他のイオン類の測定結果及び除去率
を調べ、結果を表1に示した。
【0142】 アニオン交換膜 :(株)トクヤマ製「ネオセプタAHA」 カチオン交換膜 :(株)トクヤマ製「ネオセプタCMB」 アニオン交換樹脂:三菱化学(株)製「SA10A」 カチオン交換樹脂:三菱化学(株)製「SK1B」
【0143】実施例1 比較例1において、脱塩室の厚みを10mmとし、脱塩
室セル枚数を3枚とし、表1で示す条件で通水を行った
こと以外は同様にして処理した。処理水の比抵抗値、シ
リカ、ホウ素、その他のイオン類の測定結果及び除去率
を調べ、結果を表1に示した。また、印加電圧を変化さ
せたときの処理水のpHを測定し、結果を図5に示し
た。
【0144】原水のCO濃度と前段電気脱イオン装置
3Aの処理水のCO濃度とを測定し、除去率を計算し
た。原水のCO濃度が1ppmのときは、除去率は9
1%であり、原水のCO濃度が2ppmのときは、除
去率は90.5%であり、原水のCO濃度が3ppm
のときは、除去率は90%であり、原水のCO濃度が
4ppmのときは、除去率は60%以下であった。
【0145】実施例1においてイオン交換膜を不均一膜
にしたところ、46%のナトリウム除去率が40%にな
り、9.5のpHが9.65に上昇した。
【0146】
【表1】
【0147】実施例2〜5、比較例2,3 比較例1において、脱塩室の厚みを下記の通りに変えた
こと以外は同様の構成の電気脱イオン装置を組み立て、
SV=60hr−1で通水を実施し、電流効率が10〜
20%となるように電圧を印加したこと以外は同様に処
理し、処理水比抵抗値及びpH値を測定し、結果を図6
に示した。
【0148】比較例2:2.5mm 比較例3:5.0mm 実施例2:7.0mm 実施例3:10.0mm 実施例4:15mm 実施例5:30mm
【0149】実施例6 図2に示す如く、活性炭装置1、RO膜装置2、電気脱
イオン装置3A,3Bの順で直列に配置し、前段電気脱
イオン装置3Aとして実施例1で用いた電気脱イオン装
置(脱塩室厚み10mm)を用いた。後段電気脱イオン
装置3Bとして比較例1で用いた電気脱イオン装置(脱
塩室厚み2.5mm)を用いた。表2に示す条件で通水
し、得られた処理水(各電気脱イオン装置3A,3Bの
処理水)の水質を表2に示した。
【0150】
【表2】
【0151】以上の結果から、次のことがわかる。
【0152】表1に示されるように脱塩室の厚みが10
mmの電気脱イオン装置(実施例1)は、シリカやホウ
素の除去率が、脱塩室の厚みが2.5mmの電気脱イオ
ン装置(比較例1)よりも若干向上している。カルシウ
ムはほぼ完全に除去されている。図5より明らかなよう
に、この脱塩室の厚みが10mmの電気脱イオン装置に
おいて、印加電圧を上げることにより、処理水のpHが
上昇した。
【0153】図6から明らかなように、脱塩室厚みが7
mm以上であると処理水の比抵抗値が悪化し、pHが上
昇する。
【0154】なお、前段脱イオン装置3Aのセル電圧は
8V/セル、後段脱イオン装置3Bのセル電圧は3V/
セルであった。電気脱イオン装置を従来のものとしたと
きには、前段の電気脱イオン装置のセル電圧は15V、
後段の電気脱イオン装置のセル電圧は4.5Vであっ
た。
【0155】表2から明らかなように、脱塩室厚みが1
0mmの電気脱イオン装置の処理水を脱塩室厚み2.5
mmの電気脱イオン装置に通水することにより、シリ
カ、ホウ素濃度が分析下限値まで到達し、また、pH7
で比抵抗値も18.2MΩ・cmと著しく水質の良好な
処理水を得ることができる。
【0156】実施例7 図13に示すような構成において、後段の電気脱イオン
装置の種類を脱塩室にハニカム構造の小室を有する電気
脱塩装置と脱塩室にリブを有する従来の電気脱塩装置の
性能比較を行った。なお、このときの前段電気脱塩装置
の出口水質は、pH9.5、電気伝導率13μS/c
m、シリカ濃度18ppb、ホウ素濃度2.5ppbで
あった。表3に後段電気脱イオン装置のそれぞれの運転
条件と処理水質を示した。
【0157】各測定条件は以下の通り。 〔測定条件〕 電気脱イオン装置の小室:六角形 面積3.9cm 電気脱イオン装置のリブ間幅:28mm 脱塩室のイオン交換樹脂:三菱化学(株)製SA10A
/SK1B(アニオン交換樹脂/カチオン交換樹脂=6
/4) イオン交換膜:トクヤマ社製AHA(アニオン交換
膜)、CMB(カチオン交換膜)
【0158】
【表3】
【0159】表3より、脱塩室にハニカム構造の小室を
有する電気脱塩装置を用いることにより、装置をコンパ
クト化して高流速で脱塩処理を行っても、脱塩室にリブ
を有する従来の電気脱塩装置と同等の処理水質を得るこ
とができる。
【0160】実施例8、比較例4 この実施例8及び比較例4においては、下記の活性炭装
置、RO膜装置及び2台の電気脱イオン装置を直列に設
置した純水製造装置を用いた。 活性炭装置 :栗田工業(株)製「クリコールKW10−30」 RO膜装置 :栗田工業(株)製「膜エースKN200」 電気脱イオン装置:栗田工業(株)製「ピュアエースPA−200」 処理量:100L/hr
【0161】上記電気脱イオン装置のイオン交換膜とし
て下記のものを用い、また、脱塩室に充填するイオン交
換樹脂として下記のアニオン交換樹脂とカチオン交換樹
脂とをアニオン交換樹脂:カチオン交換樹脂=6:4
(体積比)で混合したものを用い、図1に示すような電
気脱イオン装置を組み立てた。なお、アニオン交換樹脂
及びカチオン交換樹脂は超純水で十分に洗浄したものを
用いた。
【0162】そして、脱塩室の厚みWを10mmとし、
脱塩室セル枚数を3枚とした電気脱イオン装置Aと、脱
塩室の厚みWを2.5mmとし、脱塩室のセル枚数を1
2枚とした電気脱イオン装置Bとの2種類の電気脱イオ
ン装置を組み立てた。 アニオン交換膜 :(株)トクヤマ製「ネオセプタAHA」 カチオン交換膜 :(株)トクヤマ製「ネオセプタCMB」 アニオン交換樹脂:三菱化学(株)製「SA10A」 カチオン交換樹脂:三菱化学(株)製「SK1B」
【0163】RO膜装置のRO膜として、表3に示すも
のを用い、また、電気脱イオン装置として電気脱イオン
装置A及び電気脱イオン装置Bを直列に接続した。10
0L/hrの処理量、電気脱イオン装置の通水SV70
hr−1で、RO膜装置での水回収率は75%、電気脱
イオン装置での水回収率は80%で処理した。RO膜装
置における水質と、電気脱イオン装置における電圧、電
流値及び水質を調べ、結果を表3に示した。
【0164】
【表4】
【0165】表4より、高脱塩率のRO膜を用いた比較
例4では、電気脱イオン装置において殆ど電流が流れ
ず、処理水の水質も向上しなかったが、脱塩率97%以
下のRO膜、好ましくは脱塩率97%以下で硬度成分及
びシリカの除去率が97%以上のRO膜を用いて、前段
電気脱イオン装置の脱塩室の厚みが7mm以上の電気脱
イオン装置を用いることにより、電気脱イオン装置での
電流値を高めて脱塩効率を高め、高水質の処理水を得る
ことができることがわかる。
【0166】実施例9 表1の実施例1の電気脱イオン装置と、紫外線照射装置
((株)日本フォトサイエンス社,UV酸化器ランプ,
AZ−26,2本(0.1kW/本)と、表2の後段電
気脱イオン装置3Bとをこの順に直列に接続し、TOC
300ppbの原水を通水した。前段電気脱イオン装置
から流出した処理水のpHは9.5であった。
【0167】各電気脱イオン装置から流出した処理水の
TOC濃度を表5に示す。
【0168】
【表5】
【0169】実施例10 実施例9において、前段電気脱イオン装置からの処理水
にHを添加された水中の濃度が1ppmとなるよ
うに添加した。このときのTOC測定値を表5に併せて
示す。
【0170】比較例5 実施例9において、前段電気脱イオン装置として表1の
比較例1のものを用い、この前段電気脱イオン装置から
の処理水にNaClを添加したこと以外は実施例9と同
様にして通水した。TOCの測定結果を表5に併せて示
す。なお、NaClを添加したのは、電気伝導度を約1
5μS/cm程度に高めるためである。実施例9,10
では、前段電気脱イオン装置からの処理水の電気伝導度
は約15μS/cmである。
【0171】表5の通り、本発明によるとTOC濃度を
十分に低くすることができる。
【0172】実施例11 実施例6の装置において、シリカによる電気脱塩装置の
汚染の影響とその回復方法を検討した。シリカ濃度10
000ppbの原水を24時間通水したところ、前段電
気脱イオン装置流出水(処理水)のシリカ濃度は、15
0ppbとなり、後段電気脱イオン装置流出水(処理
水)のシリカ濃度は、15ppbとなった。そこで、原
水のシリカ濃度を通常の200ppbに戻して前段電気
脱イオン装置への流入水に24時間にわたり、NaCl
を添加し、流入水の導電率を25〜30μSとし、前段
電気脱イオン装置の流出水pHを10〜10.2とし、
前段電気脱イオン装置の電圧を35.2V、電流を2
A、後段電気脱イオン装置の電圧を41V、電流を1A
とした。それから3日後、前段電気脱イオン装置流出水
(処理水)のシリカ濃度は、25ppbとなり、後段電
気脱イオン装置流出水(処理水)のシリカ濃度は、0.
2ppbとなった。
【0173】比較例6 比較例6はNaCl添加を行わなかったところ、後段電
気脱イオン層流出水のシリカ濃度は2.5ppbと高か
った。表6にそれらの結果を示す。
【0174】
【表6】
【0175】実施例12 実施例11において、前段電気脱イオン装置への流入水
に食塩を添加するだけでなく、この流入水を40℃に加
温した。その結果、前段電気脱イオン装置流出水のシリ
カ濃度は15ppbまで低下し、後段電気脱イオン装置
流出水のシリカ濃度は0.1ppb未満まで低下した。
【0176】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の電気脱イオ
ン装置によれば、アルカリ薬剤の添加を必要とすること
なく、また、スケール生成の問題もなく、シリカ、ホウ
素などの解離定数の高い弱電解物質を効率的に除去する
ことができる。
【0177】また、本発明の純水製造装置によれば、こ
のような本発明の電気脱イオン装置を、複数段に電気脱
イオン装置を接続した装置の最前段の電気脱イオン装置
として用いることにより、高純度の純水を容易かつ効率
的に製造することができ、かつ安価な純水製造装置が提
供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電気脱イオン装置及び純水製造装置の
実施の形態を示す系統図である。
【図2】実施例6で採用した純水製造装置を示す系統図
である。
【図3】一般的な電気脱イオン装置の構成を示す模式的
な断面図である。
【図4】従来の一般的な純水製造装置の系統図である。
【図5】実施例1で得られた印加電圧と処理水のpHと
の関係を示すグラフである。
【図6】実施例2〜5及び比較例2,3で得られた処理
水比抵抗値及びpH値の測定結果を示すグラフである。
【図7】本発明の電気脱イオン装置の他の実施の形態を
示す模式的な断面図である。
【図8】本発明の電気脱イオン装置の別の実施の形態を
示す模式的な断面図である。
【図9】実施の形態に係る脱塩室の構成を示す分解斜視
図である。
【図10】区画部材の通水状況を示す正面図である。
【図11】区画部材の一例を示す正面図である。
【図12】従来例に係る電気脱イオン装置を示す分解斜
視図である。
【図13】実施例1及び比較例1におけるNa除去率
とClリーク率の測定結果を示すグラフである。
【図14】電気抵抗と濃縮水導電率との関係を示すグラ
フである。
【図15】前段電気脱イオン装置流入水のNa濃度
と、その流出水(処理水)のpHとの関係図である。
【符号の説明】
1 活性炭装置 2 RO膜装置 3,3A,3B 電気脱イオン装置 4 pH計 5 比抵抗計 6 シリカ計 10 イオン交換体 11 陽極 12 陰極 13 アニオン交換膜 14 カチオン交換膜 15 濃縮室 16 脱塩室 17 陽極室 18 陰極室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01J 43/00 B01J 47/12 E 47/12 C02F 1/32 C02F 1/32 1/44 H 1/44 1/46 103

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 陰極、 陽極、 該陰極と陽極の間に複数のカチオン交換膜とアニオン交
    換膜とを配列することにより交互に形成された、濃縮室
    と脱塩室、 及び該脱塩室に充填されたイオン交換体を有する電気脱
    イオン装置において、 pH8.5以下の原水をアルカリ薬剤を添加することな
    しに処理したときに、該原水のpHよりも1.0以上高
    いpHの処理水が得られるように脱塩室の厚さ、操作電
    圧及び/又は電流、或いは通水SVが設定されているこ
    とを特徴とする電気脱イオン装置。
  2. 【請求項2】 電気脱イオン装置の脱塩室の厚さが7m
    m以上、かつセルあたりの操作電圧が1〜50V/ce
    ll、SVが30〜150/hrである請求項1に記載
    の電気脱イオン装置。
  3. 【請求項3】 脱塩室に充填されるイオン交換体がアニ
    オン交換体とカチオン交換体との混合物又はアニオン交
    換体である請求項1又は2に記載の電気脱イオン装置。
  4. 【請求項4】 被処理水中の硬度成分を50%以上除去
    できる請求項1ないし3のいずれか1項の電気脱イオン
    装置。
  5. 【請求項5】 被処理水がシリカ及び/又はホウ素を含
    有する請求項1ないし4のいずれか1項の電気脱イオン
    装置。
  6. 【請求項6】 アニオン交換膜の電気抵抗とカチオン交
    換膜の電気抵抗との比A/Cが0.8以下であることを
    特徴とする請求項1〜4のいずれかの電気脱イオン装
    置。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかにおいて、最も
    陰極側の脱塩室のカチオン交換膜と陰極との間の全体を
    陰極室とし、最も陽極側の脱塩室のアニオン交換膜と陽
    極との間にカチオン交換膜を配置し、このカチオン交換
    膜と該最も陽極側の脱塩室との間を濃縮室とし、このカ
    チオン交換膜と陽極との間を陽極室としたことを特徴と
    する電気脱イオン装置。
  8. 【請求項8】 請求項1ないし7のいずれかの電気脱
    イオン装置において、アニオン交換膜は均一膜であり、
    カチオン交換膜は不均一膜であることを特徴とする電気
    脱イオン装置。
  9. 【請求項9】 被処理水を複数段の電気脱イオン装置に
    通水するように接続した純水製造装置であって、最前段
    の電気脱イオン装置が請求項1ないし8のいずれか1項
    の電気脱イオン装置である純水製造装置。
  10. 【請求項10】 2段目以降の電気脱イオン装置の脱塩
    室の厚みが最前段の電気脱イオン装置の脱塩室の厚みよ
    りも薄い請求項9の純水製造装置。
  11. 【請求項11】 2段目以降の電気脱イオン装置の脱塩
    室内が区画部材によって多数の小室に区画されており、
    各小室に臨む区画部材の少なくとも一部は該脱塩室内の
    平均的な水の流れ方向に対し傾斜しており、該区画部材
    の少なくとも傾斜した部分は、水を通過させるがイオン
    交換体の通過を阻止することを特徴とした請求項9又は
    10の電気脱イオン装置。
  12. 【請求項12】 最前段の電気脱イオン装置と後段の電
    気脱イオン装置とを接続する配管にpH計を取り付け、
    該pH計の測定pHが8.5以上になるように最前段の
    電気脱イオン装置の運転を制御するようにした請求項9
    ないし11のいずれか1項の純水製造装置。
  13. 【請求項13】 後段の電気脱イオン装置の処理水排出
    配管に比抵抗計及び/又はシリカ計を取り付け、この測
    定結果に基いて構成する電気脱イオン装置の運転を制御
    するようにした請求項9ないし12のいずれか1項の純
    水製造装置。
  14. 【請求項14】 最前段以外の電気脱イオン装置におけ
    る水回収率を95%以上とした請求項9ないし13のい
    ずれか1項の純水製造装置。
  15. 【請求項15】 電気脱イオン装置の間に紫外線照射装
    置を備えたことを特徴とする請求項9〜14のいずれか
    1項の純水製造装置。
  16. 【請求項16】 最前段の電気脱イオン装置の前と、電
    気脱イオン装置同士の間にそれぞれ逆浸透膜装置を備え
    たことを特徴とする請求項9〜15のいずれか1項の純
    水製造装置。
  17. 【請求項17】 逆浸透膜装置の処理水を被処理水とし
    て複数段の電気脱イオン装置に通水するようにした純水
    製造装置であって、最前段及び/又は後段の電気脱イオ
    ン装置の濃縮水を該逆浸透膜装置より上流側に戻すよう
    にした請求項9ないし16のいずれか1項に記載の純水
    製造装置。
  18. 【請求項18】 逆浸透膜装置の処理水を被処理水とし
    て複数段の電気脱イオン装置に通水するようにした純水
    製造装置であって、2段目以降の電気脱イオン装置の濃
    縮水を最前段又は2段目以降の電気脱イオン装置の供給
    水配管に戻すようにした請求項9ないし17のいずれか
    1項の純水製造装置。
  19. 【請求項19】 陰極と陽極の間に複数のカチオン交換
    膜とアニオン交換膜とを配列して、濃縮室と脱塩室とを
    交互に形成し、該脱塩室にイオン交換体を充填してなる
    電気脱イオン装置において、該電気脱イオン装置内に厚
    みが7mm以上の脱塩室と厚みが7mm未満の脱塩室と
    を有し、被処理水を該脱塩室に順次直列に通水する構造
    にしたことを特徴とする電気脱イオン装置。
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Cited By (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003126862A (ja) * 2001-10-23 2003-05-07 Kurita Water Ind Ltd 電気式脱イオン装置及び脱イオン方法
JP2003136065A (ja) * 2001-11-05 2003-05-13 Kurita Water Ind Ltd ボイラ給水処理装置
JP2003136064A (ja) * 2001-11-05 2003-05-13 Kurita Water Ind Ltd ボイラ排水の処理方法
JP2003236345A (ja) * 2002-02-15 2003-08-26 Tokuyama Corp 脱アルカリ水ガラスの製造方法およびその製造装置
JP2003326266A (ja) * 2002-05-08 2003-11-18 Kurita Water Ind Ltd 純水の製造方法及び装置並びにスケールモニター装置
JP2004000919A (ja) * 2002-04-05 2004-01-08 Kurita Water Ind Ltd 脱塩水製造装置
JP2004057935A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造システム
JP2004073923A (ja) * 2002-08-12 2004-03-11 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン装置、及び純水製造装置
JP2004082092A (ja) * 2002-07-01 2004-03-18 Kurita Water Ind Ltd 電気式脱イオン装置
JP2004195293A (ja) * 2002-12-16 2004-07-15 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン処理方法
JP2004216302A (ja) * 2003-01-16 2004-08-05 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン装置及び水処理装置
JP2004261643A (ja) * 2003-02-14 2004-09-24 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン装置及びその運転方法
JP2004283710A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JP2005512794A (ja) * 2001-12-20 2005-05-12 アクアテック インターナショナル コーポレイション 分別脱イオン処理
JP2005149947A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Kurita Water Ind Ltd 燃料電池用水処理装置
JP2005254201A (ja) * 2004-03-15 2005-09-22 Japan Organo Co Ltd 電気式脱塩水製造装置内の菌発生抑制方法
JP2006502855A (ja) * 2002-10-16 2006-01-26 アクアテック インターナショナル コーポレイション イオン交換媒体の製造方法
CN100345615C (zh) * 2005-09-12 2007-10-31 张贵清 一种双极膜电去离子制取超纯水的方法及其设备
JP2007534453A (ja) * 2003-06-23 2007-11-29 バッテンフォール アーベー ホウ素の分離および回収
WO2009016982A1 (ja) * 2007-07-30 2009-02-05 Kurita Water Industries Ltd. 純水製造装置及び純水製造方法
EP1598318A4 (en) * 2003-02-14 2010-02-03 Kurita Water Ind Ltd ELECTRICAL DEIONIZATION DEVICE AND METHOD OF OPERATING THEREOF
JP2010042324A (ja) * 2008-08-08 2010-02-25 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
US7699968B2 (en) 2003-06-12 2010-04-20 Kurita Water Industries Ltd. Water purifying system
JP2010264385A (ja) * 2009-05-14 2010-11-25 Tohoku Univ 電気透析装置
JP2011110515A (ja) * 2009-11-27 2011-06-09 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置
JP2012139687A (ja) * 2012-03-23 2012-07-26 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
JP2014000575A (ja) * 2013-10-10 2014-01-09 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
JP2015226910A (ja) * 2015-08-12 2015-12-17 オルガノ株式会社 電気式脱イオン水製造装置
JP2016150304A (ja) * 2015-02-17 2016-08-22 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及び純水製造装置
JP2017170328A (ja) * 2016-03-23 2017-09-28 栗田工業株式会社 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法
JP2018001106A (ja) * 2016-07-04 2018-01-11 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及びその運転方法
JP2018143922A (ja) * 2017-03-02 2018-09-20 オルガノ株式会社 水処理装置
WO2018235366A1 (ja) * 2017-06-23 2018-12-27 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置の制御方法及び設計方法
CN112154125A (zh) * 2018-06-27 2020-12-29 野村微科学股份有限公司 电去离子装置、超纯水制造系统及超纯水制造方法
JP2021016851A (ja) * 2019-07-24 2021-02-15 オルガノ株式会社 水処理方法及び水処理装置
JP2021107294A (ja) * 2019-12-27 2021-07-29 株式会社 東邦アーステック ヨウ素系物質の取得方法
WO2022118522A1 (ja) * 2020-12-04 2022-06-09 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及び脱イオン水の製造方法
JP7460012B1 (ja) 2022-12-26 2024-04-02 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及びその運転方法
JP7556427B1 (ja) 2023-06-02 2024-09-26 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置の脱塩水の水質測定方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6228531B2 (ja) * 2014-12-19 2017-11-08 栗田工業株式会社 超純水製造装置及び超純水製造方法

Cited By (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003126862A (ja) * 2001-10-23 2003-05-07 Kurita Water Ind Ltd 電気式脱イオン装置及び脱イオン方法
JP2003136065A (ja) * 2001-11-05 2003-05-13 Kurita Water Ind Ltd ボイラ給水処理装置
JP2003136064A (ja) * 2001-11-05 2003-05-13 Kurita Water Ind Ltd ボイラ排水の処理方法
JP2005512794A (ja) * 2001-12-20 2005-05-12 アクアテック インターナショナル コーポレイション 分別脱イオン処理
JP2003236345A (ja) * 2002-02-15 2003-08-26 Tokuyama Corp 脱アルカリ水ガラスの製造方法およびその製造装置
JP2004000919A (ja) * 2002-04-05 2004-01-08 Kurita Water Ind Ltd 脱塩水製造装置
JP2003326266A (ja) * 2002-05-08 2003-11-18 Kurita Water Ind Ltd 純水の製造方法及び装置並びにスケールモニター装置
JP2004082092A (ja) * 2002-07-01 2004-03-18 Kurita Water Ind Ltd 電気式脱イオン装置
US7247225B2 (en) 2002-07-01 2007-07-24 Kurita Water Industries Ltd. Electrodeionization apparatus
JP2004057935A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造システム
JP2004073923A (ja) * 2002-08-12 2004-03-11 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン装置、及び純水製造装置
JP2006502855A (ja) * 2002-10-16 2006-01-26 アクアテック インターナショナル コーポレイション イオン交換媒体の製造方法
JP2004195293A (ja) * 2002-12-16 2004-07-15 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン処理方法
JP2004216302A (ja) * 2003-01-16 2004-08-05 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン装置及び水処理装置
JP2004261643A (ja) * 2003-02-14 2004-09-24 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン装置及びその運転方法
EP1598318A4 (en) * 2003-02-14 2010-02-03 Kurita Water Ind Ltd ELECTRICAL DEIONIZATION DEVICE AND METHOD OF OPERATING THEREOF
JP2004283710A (ja) * 2003-03-20 2004-10-14 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
US7699968B2 (en) 2003-06-12 2010-04-20 Kurita Water Industries Ltd. Water purifying system
JP2007534453A (ja) * 2003-06-23 2007-11-29 バッテンフォール アーベー ホウ素の分離および回収
JP2005149947A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Kurita Water Ind Ltd 燃料電池用水処理装置
JP2005254201A (ja) * 2004-03-15 2005-09-22 Japan Organo Co Ltd 電気式脱塩水製造装置内の菌発生抑制方法
CN100345615C (zh) * 2005-09-12 2007-10-31 张贵清 一种双极膜电去离子制取超纯水的方法及其设备
WO2009016982A1 (ja) * 2007-07-30 2009-02-05 Kurita Water Industries Ltd. 純水製造装置及び純水製造方法
JP2009028695A (ja) * 2007-07-30 2009-02-12 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
KR101563169B1 (ko) * 2007-07-30 2015-10-26 쿠리타 고교 가부시키가이샤 순수 제조장치 및 순수 제조방법
JP2010042324A (ja) * 2008-08-08 2010-02-25 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
JP2010264385A (ja) * 2009-05-14 2010-11-25 Tohoku Univ 電気透析装置
JP2011110515A (ja) * 2009-11-27 2011-06-09 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置
JP2012139687A (ja) * 2012-03-23 2012-07-26 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
JP2014000575A (ja) * 2013-10-10 2014-01-09 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
US10252218B2 (en) 2015-02-17 2019-04-09 Kurita Water Industries Ltd. Electrodeionization device and pure-water production system
JP2016150304A (ja) * 2015-02-17 2016-08-22 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及び純水製造装置
WO2016133041A1 (ja) * 2015-02-17 2016-08-25 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及び純水製造装置
KR20170117365A (ko) 2015-02-17 2017-10-23 쿠리타 고교 가부시키가이샤 전기 탈이온 장치 및 순수 제조 장치
JP2015226910A (ja) * 2015-08-12 2015-12-17 オルガノ株式会社 電気式脱イオン水製造装置
JP2017170328A (ja) * 2016-03-23 2017-09-28 栗田工業株式会社 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法
JP2018001106A (ja) * 2016-07-04 2018-01-11 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及びその運転方法
JP2018143922A (ja) * 2017-03-02 2018-09-20 オルガノ株式会社 水処理装置
WO2018235366A1 (ja) * 2017-06-23 2018-12-27 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置の制御方法及び設計方法
JPWO2018235366A1 (ja) * 2017-06-23 2020-04-23 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置の制御方法及び設計方法
CN112154125A (zh) * 2018-06-27 2020-12-29 野村微科学股份有限公司 电去离子装置、超纯水制造系统及超纯水制造方法
JP2021016851A (ja) * 2019-07-24 2021-02-15 オルガノ株式会社 水処理方法及び水処理装置
JP7257908B2 (ja) 2019-07-24 2023-04-14 オルガノ株式会社 水処理方法及び水処理装置
JP2021107294A (ja) * 2019-12-27 2021-07-29 株式会社 東邦アーステック ヨウ素系物質の取得方法
JP7163274B2 (ja) 2019-12-27 2022-10-31 株式会社 東邦アーステック ヨウ素系物質の取得方法
WO2022118522A1 (ja) * 2020-12-04 2022-06-09 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及び脱イオン水の製造方法
JP2022089558A (ja) * 2020-12-04 2022-06-16 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及び脱イオン水の製造方法
JP7460012B1 (ja) 2022-12-26 2024-04-02 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及びその運転方法
WO2024142508A1 (ja) * 2022-12-26 2024-07-04 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及びその運転方法
JP7556427B1 (ja) 2023-06-02 2024-09-26 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置の脱塩水の水質測定方法
WO2024247898A1 (ja) * 2023-06-02 2024-12-05 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置の脱塩水の水質測定方法

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