JP2001109530A - Constant voltage generation circuit, nonvolatile memory, and semiconductor integrated circuit - Google Patents
Constant voltage generation circuit, nonvolatile memory, and semiconductor integrated circuitInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、定電圧発生回路さ
らには温度変化や電源変動、製造ばらつきにかかわらず
一定の電圧を発生可能な定電圧発生回路に関し、例えば
電気的に書込み消去可能な不揮発性半導体メモリにおけ
る書込み電圧、消去電圧を発生する定電圧発生回路に利
用して有効な技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a constant voltage generating circuit, and more particularly to a constant voltage generating circuit capable of generating a constant voltage irrespective of temperature changes, power supply fluctuations and manufacturing variations. The present invention relates to a technique which is effective when used in a constant voltage generation circuit for generating a write voltage and an erase voltage in a nonvolatile semiconductor memory.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、内蔵メモリとして不揮発性メモリ
を有するマイクロコンピュータが提供されている。不揮
発性メモリは電源を遮断しても記憶内容が保持されるた
め、不揮発性メモリを内蔵したマイクロコンピュータは
低消費電力が要求される携帯電話等にとって極めて有効
である。2. Description of the Related Art In recent years, microcomputers having a nonvolatile memory as a built-in memory have been provided. Since the nonvolatile memory retains its stored contents even when the power is turned off, a microcomputer incorporating the nonvolatile memory is extremely effective for a mobile phone or the like that requires low power consumption.
【0003】不揮発性メモリは、書込みや消去の際に通
常のLSIの電源電圧に比べて高い電圧や負電圧を必要
とするため、チップ内部にチャージポンプ回路などの昇
圧回路や定電圧発生回路からなる内部電源回路を有する
ことが多い。Since a nonvolatile memory requires a higher voltage or a negative voltage than a normal LSI power supply voltage at the time of writing or erasing, a boosting circuit such as a charge pump circuit or a constant voltage generating circuit is provided inside the chip. It often has an internal power supply circuit.
【0004】一方、不揮発性メモリは、フローティング
ゲートを有するMOSFETなどからなる記憶素子に書
込み電圧や消去電圧を印加してそのしきい値を変化させ
ることで情報の記憶を行なう。しかも、記憶素子のしき
い値の変化は予め定められた電圧範囲内に入るように精
度良く行なう必要があるため、不揮発性メモリにおける
書込み動作は、SRAMやDRAMなどの揮発性メモリ
に比べてかなり長いミリ秒オーダの時間(例えば10m
S等)をかけて行なうようにされていた。On the other hand, in a nonvolatile memory, information is stored by applying a write voltage or an erase voltage to a storage element such as a MOSFET having a floating gate and changing the threshold value. In addition, since the change of the threshold value of the storage element needs to be performed with high precision so as to fall within a predetermined voltage range, the write operation in the nonvolatile memory is considerably more than in the volatile memory such as SRAM or DRAM. Long millisecond order time (eg 10m
S, etc.).
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】そのため、不揮発性メ
モリにおける書込み、消去時間の短縮はこれを内蔵する
マイクロコンピュータやICカードなどのシステムの高
速化、スループットの向上にとって極めて重要である。
さらに、不揮発性メモリにおける書込み、消去時間の短
縮を図る上で、書込み電圧や消去電圧の精度の向上が重
要であり、製造ばらつきや温度変化、電源変動にかかわ
らず一定の電圧を発生する定電圧発生回路が望まれてい
る。Therefore, shortening the writing and erasing times in the non-volatile memory is extremely important for increasing the speed and improving the throughput of a system such as a microcomputer or an IC card incorporating the same.
Furthermore, in order to shorten the time for writing and erasing in a nonvolatile memory, it is important to improve the accuracy of the writing voltage and the erasing voltage, and a constant voltage that generates a constant voltage regardless of manufacturing variations, temperature changes, and power supply fluctuations. A generating circuit is desired.
【0006】図11に、本発明者らによって検討された
定電圧発生回路の一例が示されている。同図の定電圧発
生回路は、直列接続された2個のツェナーダイオードD
z1,Dz2および電流制御用MOSトランジスタQc
rと、上記電流制御用MOSトランジスタのゲート電圧
を発生する電圧供給回路とからなり、チャージポンプな
どの昇圧回路10の出力端子に上記ツェナーダイオード
Dz1,Dz2を接続して、昇圧回路より発生される負
電圧をツェナーダイオードDz1,Dz2の逆方向電圧
でクランプするようにしたものである。FIG. 11 shows an example of a constant voltage generating circuit studied by the present inventors. The constant voltage generating circuit shown in FIG. 1 has two Zener diodes D connected in series.
z1, Dz2 and current control MOS transistor Qc
and a voltage supply circuit for generating a gate voltage of the current control MOS transistor. The zener diodes Dz1 and Dz2 are connected to output terminals of a booster circuit 10 such as a charge pump, and are generated by the booster circuit. The negative voltage is clamped by the reverse voltage of the Zener diodes Dz1 and Dz2.
【0007】この定電圧発生回路は、昇圧回路10によ
りツェナーダイオードDz1,Dz2から引き抜かれる
電流をMOSトランジスタQcrによって制限するとと
もに、電圧供給回路に印加する制御信号C1〜C5を制
御することで、電圧供給回路から出力される電圧つまり
はトランジスタQcrのゲートバイアス電圧を変えて出
力電圧Voutのレベルを調整できるようにものであ
る。This constant voltage generating circuit limits the current drawn from the Zener diodes Dz1 and Dz2 by the booster circuit 10 by the MOS transistor Qcr, and controls the control signals C1 to C5 applied to the voltage supply circuit, thereby controlling the voltage. The level of the output voltage Vout can be adjusted by changing the voltage output from the supply circuit, that is, the gate bias voltage of the transistor Qcr.
【0008】しかしながら、上記のような形式の定電圧
発生回路にあっては、温度変化や電源電圧の変動によっ
てツェナーダイオードDz1,Dz2に流れる電流が変
化して出力電圧が変化してしまうとともに、製造ばらつ
きにより電圧供給回路を構成する回路素子の特性が別々
に変化するため、出力電圧値の正確な設定が困難である
という問題点があることが明らかとなった。However, in the constant voltage generating circuit of the type described above, the current flowing through the Zener diodes Dz1 and Dz2 changes due to the temperature change and the fluctuation of the power supply voltage, so that the output voltage changes and the manufacturing voltage increases. It has been clarified that there is a problem that it is difficult to accurately set the output voltage value because the characteristics of the circuit elements constituting the voltage supply circuit change separately due to the variation.
【0009】この発明の目的は、温度変化にかかわらず
一定の電圧を発生可能な定電圧発生回路を提供すること
にある。An object of the present invention is to provide a constant voltage generating circuit capable of generating a constant voltage regardless of a temperature change.
【0010】この発明の他の目的は、電源変動にかかわ
らず一定の電圧を発生可能な定電圧発生回路を提供する
ことにある。Another object of the present invention is to provide a constant voltage generating circuit capable of generating a constant voltage regardless of power supply fluctuation.
【0011】この発明のさらに他の目的は、製造ばらつ
きにかかわらず一定の電圧を発生可能な定電圧発生回路
を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide a constant voltage generating circuit capable of generating a constant voltage regardless of manufacturing variations.
【0012】この発明の目的は、書込み消去時間を短縮
可能な不揮発性メモリを提供することにある。An object of the present invention is to provide a nonvolatile memory capable of shortening a write / erase time.
【0013】この発明の目的は、不揮発性メモリを内蔵
したマイクロコンピュータ等の半導体集積回路あるいは
ICカードのようなシステムの高速化、スループットの
向上を可能にする技術を提供することにある。An object of the present invention is to provide a technique which enables a system such as a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer having a built-in non-volatile memory or an IC card to operate at high speed and to improve the throughput.
【0014】この発明の前記ならびにほかの目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.
【0016】すなわち、基準となる電圧を発生する参照
電圧発生回路と、抵抗と該抵抗と直列に接続されたツェ
ナーダイオードとからなる電流電圧変換回路と、該電流
電圧変換回路に流す電流を制御可能な電流制御手段と、
電流電圧変換回路で変換された電圧と参照電圧発生回路
からの参照電圧とを比較して上記電流制御手段を制御す
る電圧比較回路とからなり、上記ツェナーダイオードを
含む上記電流電圧変換回路によりクランプされた定電圧
を発生させるようにした定電圧発生回路であって、上記
参照電圧発生回路は可変抵抗手段と該可変抵抗手段に直
列に接続され上記ツェナーダイオードの温度特性を自己
の温度特性によって補償可能な電圧発生手段および該電
圧発生手段に電流を流す定電流回路とから構成したもの
である。That is, a reference voltage generation circuit for generating a reference voltage, a current-voltage conversion circuit including a resistor and a Zener diode connected in series with the resistance, and a current flowing through the current-voltage conversion circuit can be controlled. Current control means,
A voltage comparison circuit that controls the current control means by comparing the voltage converted by the current-voltage conversion circuit with the reference voltage from the reference voltage generation circuit, and is clamped by the current-voltage conversion circuit including the zener diode. A constant voltage generating circuit configured to generate a constant voltage, wherein the reference voltage generating circuit is connected in series with the variable resistance means and the temperature characteristic of the zener diode can be compensated by its own temperature characteristic. And a constant current circuit for flowing a current through the voltage generating means.
【0017】上記した手段によれば、ツェナーダイオー
ドの温度特性が電圧発生手段の温度特性によって補償さ
れるため、温度変動にかかわらず安定した定電圧を発生
することができる。しかも、可変抵抗手段の抵抗値を設
定することで任意の定電圧を発生させることができる。According to the above means, the temperature characteristics of the Zener diode are compensated by the temperature characteristics of the voltage generating means, so that a stable constant voltage can be generated irrespective of temperature fluctuations. Moreover, an arbitrary constant voltage can be generated by setting the resistance value of the variable resistance means.
【0018】また、上記電流電圧変換回路が直列形態の
複数個のツェナーダイオードを有する場合に、上記参照
電圧発生回路には上記電流電圧変換回路のツェナーダイ
オードと同数の電圧発生手段を上記可変抵抗と直列に接
続するとよい。これにより、比較的簡単にツェナーダイ
オードの温度特性を電圧発生手段の温度特性によって補
償して、温度変動にかかわらず安定した定電圧を発生さ
せることができる。When the current-voltage conversion circuit has a plurality of zener diodes in series, the reference voltage generation circuit includes the same number of voltage generation means as the zener diodes of the current-voltage conversion circuit and the variable resistors. It is better to connect them in series. Thus, the temperature characteristics of the Zener diode can be relatively easily compensated for by the temperature characteristics of the voltage generating means, and a stable constant voltage can be generated regardless of temperature fluctuations.
【0019】あるいは、上記電流電圧変換回路が直列形
態のn個(nは正の整数)のツェナーダイオードを有す
る場合に、該ツェナーダイオードと直列に2以上の抵抗
素子を接続してそれらの抵抗素子の抵抗分割で1/nに
分割した電圧を上記電圧比較回路に供給するように構成
するとよい。これにより、1つの電圧発生手段で、ツェ
ナーダイオードの温度特性を該電圧発生手段の温度特性
によって補償して、温度変動にかかわらず安定した定電
圧を発生させることができる。Alternatively, in the case where the current-voltage conversion circuit has n series (n is a positive integer) zener diodes in series form, two or more resistance elements are connected in series with the zener diode and the resistance elements are connected. It is preferable that the voltage divided by 1 / n by the resistance division is supplied to the voltage comparison circuit. Thus, the temperature characteristic of the Zener diode can be compensated by one voltage generating means by the temperature characteristic of the voltage generating means, and a stable constant voltage can be generated regardless of temperature fluctuation.
【0020】さらに、上記参照電圧発生回路の上記定電
流回路は、定電圧が制御端子に印加されたトランジスタ
と、該トランジスタと直列に接続された抵抗素子とから
構成するとよい。これにより、電流電圧変換回路と参照
電圧発生回路とがそれぞれ同じように2組の抵抗を有す
る構成になるため、製造ばらつきで抵抗値がばらついて
も、電流電圧変換回路と参照電圧発生回路から電圧比較
回路にそれぞれ供給される電圧が同じように変化するの
で、電圧比較回路に対して同相の変化となって相殺し合
い、製造ばらつきにかかわらず安定した定電圧を発生さ
せることができる。Further, it is preferable that the constant current circuit of the reference voltage generation circuit includes a transistor to which a constant voltage is applied to a control terminal, and a resistance element connected in series with the transistor. As a result, the current-voltage conversion circuit and the reference voltage generation circuit each have two sets of resistors in the same manner, so that even if the resistance value varies due to manufacturing variations, the voltage from the current-voltage conversion circuit and the reference voltage generation circuit Since the voltages supplied to the comparison circuits change in the same manner, the changes in the same phase with respect to the voltage comparison circuit cancel each other out, so that a stable constant voltage can be generated regardless of manufacturing variations.
【0021】また、上記参照電圧発生回路の上記可変抵
抗手段は、直列形態の複数個の分割抵抗と、各分割抵抗
とそれぞれ並列に接続され制御信号が制御端子に印加さ
れた複数のトランジスタとから構成することができる。
これによって、回路が完成した後に制御信号によって発
生する定電圧を調整もしくは変更することができる。The variable resistance means of the reference voltage generating circuit includes a plurality of divided resistors in series and a plurality of transistors connected in parallel with the respective divided resistors and having a control signal applied to a control terminal. Can be configured.
Thus, the constant voltage generated by the control signal after the completion of the circuit can be adjusted or changed.
【0022】本発明に係る定電圧発生回路は、例えば書
込み電圧や消去電圧の発生回路として不揮発性メモリに
内蔵させると良い。かかる不揮発性メモリにあっては、
発生される電圧の精度が高くなるため、書込み時間や消
去時間が短くなる。The constant voltage generating circuit according to the present invention is preferably incorporated in a nonvolatile memory as a circuit for generating a write voltage or an erase voltage, for example. In such a nonvolatile memory,
Since the accuracy of the generated voltage is high, the writing time and the erasing time are shortened.
【0023】また、本発明に係る定電圧発生回路を書込
み電圧や消去電圧の発生回路として有する不揮発性メモ
リを、マイクロコンピュータのような半導体集積回路に
内蔵させる。かかる半導体集積回路にあっては、発生さ
れる電圧の精度が高くなるため、書込み時間や消去時間
が短くなり、高速動作が可能になる。Further, a nonvolatile memory having the constant voltage generation circuit according to the present invention as a write voltage or erase voltage generation circuit is built in a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer. In such a semiconductor integrated circuit, since the accuracy of the generated voltage is high, the writing time and the erasing time are short, and high-speed operation is possible.
【0024】さらに、本発明に係る定電圧発生回路を書
込み電圧や消去電圧の発生回路として有する不揮発性メ
モリもしくはそれを内蔵したマイクロコンピュータのよ
うな半導体集積回路を、1つの絶縁基板上に搭載してI
Cカードのようなシステムを構成する。かかるシステム
にあっては、発生される電圧の精度が高くなるため、書
込み時間や消去時間が短くなり、システムのスループッ
トが向上する。Further, a non-volatile memory having the constant voltage generating circuit according to the present invention as a writing voltage or erasing voltage generating circuit or a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer incorporating the same is mounted on one insulating substrate. I
A system such as a C card is configured. In such a system, since the accuracy of the generated voltage is high, the writing time and the erasing time are shortened, and the system throughput is improved.
【0025】[0025]
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施例を図
面に基づいて説明する。 図1には、本発明に係る定電
圧発生回路の一実施例が示されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows an embodiment of the constant voltage generating circuit according to the present invention.
【0026】この実施例の定電圧発生回路は、チャージ
ポンプなどからなる昇圧回路10と、電源電圧端子Vc
cと出力端子との間に直列に接続された抵抗R1,R2
およびn段のツェナーダイオードDz1〜Dznからな
る電流電圧変換回路20と、発生する電圧のレベルを設
定可能な参照電圧発生回路30と、設定された参照電圧
Vrefと上記電流電圧変換回路で変換された電圧(抵
抗R1とR2の接続ノードn1の電位)とを比較する電
圧比較回路40、上記昇圧回路10と出力端子との間に
接続され上記電圧比較回路40の出力によってオン、オ
フ制御されて上記昇圧回路10により電流電圧変換回路
20から引き抜かれる電流を制御するスイッチ手段50
とから構成されている。The constant voltage generating circuit of this embodiment includes a booster circuit 10 including a charge pump and a power supply voltage terminal Vc.
c, and resistors R1, R2 connected in series between the output terminal
And a current-voltage conversion circuit 20 composed of n-stage Zener diodes Dz1 to Dzn, a reference voltage generation circuit 30 capable of setting the level of a generated voltage, a set reference voltage Vref, and a voltage converted by the current-voltage conversion circuit. A voltage comparison circuit 40 for comparing a voltage (potential of a connection node n1 between the resistors R1 and R2), connected between the booster circuit 10 and an output terminal, and controlled to be turned on and off by an output of the voltage comparison circuit 40; Switch means 50 for controlling the current drawn from current-to-voltage conversion circuit 20 by booster circuit 10
It is composed of
【0027】このうち、参照電圧発生回路30は、電源
電圧端子Vccと接地端子との間に直列に接続された可
変抵抗手段31とバイポーラトランジスタ32と定電流
回路33とからなり、上記バイポーラ・トランジスタ3
2はそのベースとコレクタが結合され電圧発生手段(ダ
イオード)として機能するように構成され、このトラン
ジスタ32のエミッタ電圧すなわちバイポーラトランジ
スタ32と定電流回路33との接続ノードn2の電位が
参照電圧Vrefとして後段の電圧比較回路40に供給
されている。また、定電流回路33は、直列形態のMO
SFET Qcと抵抗RcおよびQcのゲート端子をバ
イアスして一定の電流を流すバイアス回路34とから構
成されている。The reference voltage generation circuit 30 comprises a variable resistance means 31, a bipolar transistor 32 and a constant current circuit 33 connected in series between a power supply voltage terminal Vcc and a ground terminal. 3
Reference numeral 2 designates an emitter voltage of the transistor 32, that is, a potential of a connection node n2 between the bipolar transistor 32 and the constant current circuit 33, as a reference voltage Vref. It is supplied to a voltage comparison circuit 40 at the subsequent stage. Further, the constant current circuit 33 is a
It comprises an SFET Qc and a bias circuit 34 for biasing the gate terminals of the resistors Rc and Qc to flow a constant current.
【0028】さらに、上記バイアス回路34は、図示し
ないバンドギャップリファランス回路のような電源電圧
依存性のない基準電圧発生回路で発生された約1.2V
のような基準電圧Vbgを0.6Vのような電圧にレベ
ルシフトして出力するレベルシフト回路LSFと、該レ
ベルシフト回路LSFの出力電圧が反転入力端子(+)
に印加され、上記定電流用MOSFET Qcのソース
電圧が非反転入力端子(−)にフィードバックされたオ
ペアンプAMPとからなる。Further, the bias circuit 34 has a voltage of about 1.2 V generated by a reference voltage generating circuit having no power supply voltage dependency, such as a band gap reference circuit (not shown).
And a level shift circuit LSF for level-shifting the reference voltage Vbg to a voltage such as 0.6 V and outputting the output voltage of the level shift circuit LSF to an inverting input terminal (+).
And the operational amplifier AMP whose source voltage of the constant current MOSFET Qc is fed back to the non-inverting input terminal (-).
【0029】そして、このオペアンプAMPの出力電圧
が上記定電流用MOSFET Qcのゲートにバイアス
電圧として印加されることにより、MOSFET Qc
はそのソース電圧がオペアンプAMPの反転入力端子の
入力電位と同一の約0.6Vのような電位となるように
バイアスされて、上記定電流用MOSFET Qcに安
定した定電流Ioを流すように構成されている。さら
に、この定電流Ioが上記直列形態の可変抵抗31とダ
イオード接続のバイポーラ・トランジスタ32に流され
ることにより、トランジスタ32とMOSFET Qc
の接続ノードn2に、電流Ioの値と可変抵抗31の抵
抗値とバイポーラ・トランジスタ32のベース・エミッ
タ間電圧によって決まる一定の電圧Vrefが発生され
る。The output voltage of the operational amplifier AMP is applied as a bias voltage to the gate of the constant current MOSFET Qc, whereby the MOSFET Qc
Is configured such that its source voltage is biased to have a potential of about 0.6 V, which is the same as the input potential of the inverting input terminal of the operational amplifier AMP, and a stable constant current Io flows through the constant current MOSFET Qc. Have been. Further, the constant current Io is supplied to the series-connected variable resistor 31 and the diode-connected bipolar transistor 32 so that the transistor 32 and the MOSFET Qc
A constant voltage Vref determined by the value of the current Io, the resistance value of the variable resistor 31, and the base-emitter voltage of the bipolar transistor 32 is generated at the connection node n2.
【0030】この実施例の定電圧発生回路は、上記参照
電圧発生回路30で発生された参照電圧Vrefと電流
電圧変換回路20のノードn1の電位とを電圧比較回路
40で比較して、ノードn1の電位が参照電圧Vref
よりも高い間は比較回路40の出力がハイレベルとなっ
てスイッチ手段50をオンさせて昇圧回路10によって
電流電圧変換回路20に引き抜き電流を流す。また、電
流電圧変換回路20のノードn1の電位が参照電圧Vr
efよりも低くなると比較回路40の出力がロウレベル
となってスイッチ手段50をオフさせて昇圧回路10に
よる電流電圧変換回路20からの引き抜き電流を遮断す
る。The constant voltage generation circuit of this embodiment compares the reference voltage Vref generated by the reference voltage generation circuit 30 with the potential of the node n1 of the current-to-voltage conversion circuit 20 by the voltage comparison circuit 40. Is the reference voltage Vref
While the voltage is higher than that, the output of the comparison circuit 40 is at a high level, the switch means 50 is turned on, and the boosting circuit 10 causes the current-to-voltage conversion circuit 20 to draw a current. Further, the potential of the node n1 of the current-voltage conversion circuit 20 is equal to the reference voltage Vr.
When it becomes lower than ef, the output of the comparison circuit 40 becomes low level, the switch means 50 is turned off, and the current drawn from the current-voltage conversion circuit 20 by the booster circuit 10 is cut off.
【0031】このようなフィードバック動作によって、
実施例の定電圧発生回路は、電流電圧変換回路20のツ
ェナーダイオードDz1〜Dznの逆方向電圧(約6
V)と抵抗R1,R2に流れる電流による電圧降下によ
って、例えばツェナーダイオードが2個のときには電源
電圧Vccよりも12〜13V低い負の出力電圧Vou
tを、またツェナーダイオードが3個のときには電源電
圧Vccよりも17〜18V低い負の出力電圧Vout
を出力する。そして、この出力電圧Voutのレベル
は、後述のように、参照電圧発生回路30の可変抵抗3
1の抵抗値を調整することである範囲内で任意に設定す
ることができるようになっている。ここで、上記出力電
圧Voutは、ツェナーダイオードDz1〜Dznの各
々のツェナー電圧をVz、抵抗R1,可変抵抗31にお
ける電圧降下をVr1,Vr31、バイポーラ・トランジ
スタ32のベース・エミッタ間電圧をVBEとおくと、次
式 Vout=Vcc−(nVz+Vr1+VBE+Vr31) で表わされる一定の電位となる。By such a feedback operation,
The constant voltage generating circuit according to the embodiment is configured such that the reverse voltage (about 6) of the Zener diodes Dz1 to Dzn of the current-voltage converting circuit 20 is used.
V) and the voltage drop due to the current flowing through the resistors R1 and R2, the negative output voltage Vou which is lower by 12 to 13 V than the power supply voltage Vcc when there are two Zener diodes, for example.
t and a negative output voltage Vout 17 to 18 V lower than the power supply voltage Vcc when there are three Zener diodes.
Is output. The level of the output voltage Vout is controlled by the variable resistor 3 of the reference voltage generation circuit 30 as described later.
The resistance value can be arbitrarily set within a certain range by adjusting the resistance value. Here, as for the output voltage Vout, the Zener voltage of each of the Zener diodes Dz1 to Dzn is Vz, the voltage drop across the resistor R1 and the variable resistor 31 is Vr1 and Vr31, and the base-emitter voltage of the bipolar transistor 32 is VBE. And a constant potential represented by the following equation: Vout = Vcc- (nVz + Vr1 + VBE + Vr31).
【0032】また、この実施例の定電圧発生回路におい
ては、上記電流電圧変換回路20を構成する直列形態の
抵抗R1とR2の値が、これらの抵抗R1,R2と直列
に接続されたツェナーダイオードDz1〜Dznの数を
nとすると、(R1+R2)/R1≒nとなるように設
定されている。これにより、n個のツェナーダイオード
Dz1〜Dznの温度特性によるノードn1の電位変動
が、1個のバイポーラ・トランジスタ32の温度特性に
よるノードn2の電位変動により相殺されて、温度変動
にかかわらず安定して電圧Voutが出力されるように
なっている。Further, in the constant voltage generating circuit of this embodiment, the value of the series-connected resistors R1 and R2 constituting the current-to-voltage conversion circuit 20 is changed by the Zener diode connected in series with these resistors R1 and R2. Assuming that the number of Dz1 to Dzn is n, (R1 + R2) / R1 ≒ n is set. As a result, the potential fluctuation at the node n1 due to the temperature characteristics of the n Zener diodes Dz1 to Dzn is offset by the potential fluctuation at the node n2 due to the temperature characteristic of one bipolar transistor 32, and the temperature stabilizes regardless of the temperature fluctuation. As a result, the voltage Vout is output.
【0033】すなわち、この実施例の定電圧発生回路
は、周囲温度の変化による抵抗R1と可変抵抗31の特
性変化に関しては電圧比較回路40の入力に対して同相
の温度変動となるので出力に与える影響は少なくなると
ともに抵抗の温度係数はツェナーダイオードやトランジ
スタの温度係数に比べるとかなり小さい。従って、ノー
ドn1の電圧はもっぱらツェナーダイオードDz1〜D
znの温度特性によって正の温度特性を有し、ノードn
2の電圧はバイポーラ・トランジスタ32の温度特性に
よって負の温度特性を有することとなる。そして、この
実施例では、ノードn1の電圧に対するツェナーダイオ
ードDz1〜Dznの温度特性の影響は、抵抗R1,R
2によってR1/(R1+R2)に減じられる。つま
り、周囲温度がδTだけ変動したときの出力電圧の変化
率をδVout/δT、ツェナーダイオードDz1〜D
znの各々の温度係数をδVz/δT、バイポーラ・ト
ランジスタ32の温度係数をδVBE/δTとすると、 δVout/δT=n(δVz/δT)*R1/(R1+R
2)+δVBE/δT で表わされることとなる。That is, in the constant voltage generating circuit of this embodiment, the change in the characteristics of the resistor R1 and the variable resistor 31 due to the change in the ambient temperature is given to the output because the temperature change has the same phase as the input to the voltage comparison circuit 40. The effect is reduced and the temperature coefficient of the resistor is considerably smaller than the temperature coefficient of the Zener diode or transistor. Therefore, the voltage of the node n1 is exclusively the Zener diodes Dz1 to Dz1.
zn has a positive temperature characteristic due to the temperature characteristic of
The voltage of 2 has a negative temperature characteristic due to the temperature characteristic of the bipolar transistor 32. In this embodiment, the influence of the temperature characteristics of the Zener diodes Dz1 to Dzn on the voltage of the node n1 is determined by the resistances R1 and Rz.
2 to R1 / (R1 + R2). That is, the change rate of the output voltage when the ambient temperature fluctuates by δT is represented by δVout / δT, and the Zener diodes Dz1 to Dz
Assuming that the respective temperature coefficients of zn are δVz / δT and the temperature coefficient of the bipolar transistor 32 is δVBE / δT, δVout / δT = n (δVz / δT) * R1 / (R1 + R
2) It is expressed by + δVBE / δT.
【0034】ここで、ツェナーダイオードの温度係数δ
Vz/δTとバイポーラ・トランジスタの温度係数δV
BE/δTはほぼ逆の特性すなわちδVz/δT=−δV
BE/δTとみなせるので、n*R1/(R1+R2)=1
のとき、出力電圧の変化率δVout/δTが0となる
ことが分かる。しかして、この実施例では、上述したよ
うに、抵抗R1とR2の値は(R1+R2)/R1≒n
となるように設定されている。そのため、δVout/
δT=0となり、出力電圧Voutは温度変動にかかわ
らず一定、つまり温度依存性を有しないようになる。Here, the temperature coefficient δ of the Zener diode
Vz / δT and temperature coefficient δV of bipolar transistor
BE / δT has almost the opposite characteristic, that is, δVz / δT = −δV
Since it can be regarded as BE / δT, n * R1 / (R1 + R2) = 1
At this time, it can be seen that the output voltage change rate δVout / δT becomes zero. In this embodiment, as described above, the values of the resistors R1 and R2 are (R1 + R2) / R1 ≒ n
It is set to be. Therefore, δVout /
δT = 0, and the output voltage Vout is constant irrespective of temperature fluctuation, that is, has no temperature dependency.
【0035】なお、抵抗R1とR2の値は、(R1+R
2)/R1=nではなく、(R1+R2)/R1≒nに
設定するとしているのは、ツェナーダイオードDz1〜
Dznの温度係数δVz/δTとバイポーラ・トランジ
スタ32の温度係数δVBE/δTは全く等しいわけでは
ないので、その違い等を考慮して抵抗R1とR2を補正
した抵抗比とするためである。ちなみに、ツェナーダイ
オードDz1〜Dznの数が2個(n=2)のときはR
1≒R2、3個(n=3)のときはR2≒2R1とされ
る。The values of the resistors R1 and R2 are (R1 + R
2) The reason that (R1 + R2) / R1 ≒ n is set instead of / R1 = n is that the Zener diodes Dz1 to Dz1
Since the temperature coefficient δVz / δT of Dzn and the temperature coefficient δVBE / δT of the bipolar transistor 32 are not completely equal, the resistance ratio is corrected to the resistances R1 and R2 in consideration of the difference or the like. Incidentally, when the number of Zener diodes Dz1 to Dzn is two (n = 2), R
When 1 ≒ R2 and 3 (n = 3), it is R2 ≒ 2R1.
【0036】さらに、この実施例の定電圧発生回路は、
図1に示されているように、電圧比較回路40で比較さ
れる2つの電圧すなわち接続ノードn1と接続ノードn
2の両側にそれぞれ抵抗R1とR2、抵抗31とRcが
接続されている。そのため、プロセスの製造ばらつきで
抵抗の値がばらついたとしても、上記4つの抵抗は同じ
ようにばらつく。つまり、1つの抵抗の値が高くなると
他の抵抗の値も高くなり、1つの抵抗の値が低くなると
他の抵抗の値も低くなる。その結果、抵抗の製造ばらつ
きがあったとしても抵抗R1とR2の比で決まるノード
n1の電位と、抵抗31とRcの比で決まるノードn2
の電位は比較的一定となる。同様に、電源電圧Vccが
変動した場合にも、その変動によるノードn1の電位と
ノードn2の電位の変動は、抵抗R1,R2と、抵抗3
1,Rcの抵抗比によりそれぞれその変化量が減じられ
るため電源電圧変動に対しても安定した定電圧Vout
を出力することができる。これより、抵抗R1,R2の
抵抗比と、抵抗31,Rcの抵抗比は互い近い値とする
のが望ましい。Further, the constant voltage generating circuit of this embodiment
As shown in FIG. 1, two voltages compared by the voltage comparison circuit 40, that is, the connection node n1 and the connection node n
Resistors R1 and R2 and resistors 31 and Rc are connected to both sides of the resistor 2, respectively. Therefore, even if the values of the resistors vary due to manufacturing variations in the process, the above four resistors vary in the same manner. That is, the higher the value of one resistor, the higher the value of the other resistor, and the lower the value of one resistor, the lower the value of the other resistor. As a result, even if there is a manufacturing variation in the resistance, the potential of the node n1 determined by the ratio of the resistors R1 and R2 and the node n2 determined by the ratio of the resistors 31 and Rc
Is relatively constant. Similarly, even when the power supply voltage Vcc fluctuates, the fluctuations in the potential of the node n1 and the potential of the node n2 due to the fluctuation are caused by the resistances R1 and R2 and the resistance 3
1 and Rc, the amount of change is reduced by the resistance ratio, so that the constant voltage Vout is stable against power supply voltage fluctuation.
Can be output. Accordingly, it is desirable that the resistance ratio between the resistors R1 and R2 and the resistance ratio between the resistors 31 and Rc be close to each other.
【0037】この実施例の定電圧発生回路は、抵抗31
の値を変えることができるように構成されている。以
下、図3を用いて抵抗値が可変に構成された抵抗31の
具体例を説明する。The constant voltage generating circuit of this embodiment has a resistor 31
Is configured to be able to change the value of. Hereinafter, a specific example of the resistor 31 having a variable resistance value will be described with reference to FIG.
【0038】図3に示されているように、上記抵抗31
は複数の分割抵抗VR1〜VRmにより構成され、各分割
抵抗VR1〜VRmと並行にそれぞれゲート端子に制御信
号C1〜Cmが印加されるMOSFET Qv1〜Qvmが
設けられた構成としている。As shown in FIG.
Is composed of a plurality of divided resistors VR1 to VRm, and MOSFETs Qv1 to Qvm to which control signals C1 to Cm are applied to gate terminals respectively in parallel with the divided resistors VR1 to VRm.
【0039】上記可変抵抗31は、各分割抵抗VR1〜
VRmと並行に接続されたMOSFET Qv1〜Qvmが
そのゲート端子に印加された制御信号C1〜Cmによっ
てオフ状態にされると対応する分割抵抗が有効化され、
Qv1〜Qvmがオン状態にされると対応する分割抵抗の両
端子間が短絡された状態とされてその分割抵抗は無効化
される。The variable resistor 31 is connected to each of the divided resistors VR1 to VR1.
When MOSFETs Qv1 to Qvm connected in parallel with VRm are turned off by control signals C1 to Cm applied to their gate terminals, the corresponding divided resistors are enabled,
When Qv1 to Qvm are turned on, both terminals of the corresponding divided resistor are short-circuited, and the divided resistor is invalidated.
【0040】上記制御信号C1〜Cmは、定電圧発生回
路から出力される電圧のレベル等を測定して、出力電圧
が所望のレベルとなるように有効化させる分割抵抗VR
1〜VRmを決定して、それに対応したMOSFET Q
v1〜Qvmをオンさせるように決める。また、特に制限さ
れるものでないが、上記制御信号C1〜Cmは、所望の
制御信号を出力するように設定されるレジスタあるいは
不揮発性記憶素子を含む設定回路から与えられるように
構成される。所望の制御信号を出力するように設定され
るレジスタあるいは不揮発性記憶素子を含む設定回路を
設ける代わりに、それらの信号の入力を決定するヒュー
ズ素子を設けるようにしてもよい。The control signals C1 to Cm are used to measure the level of the voltage output from the constant voltage generation circuit and to enable the output voltage to be at a desired level.
1 to VRm, and the corresponding MOSFET Q
It is decided to turn on v1 to Qvm. Although not particularly limited, the control signals C1 to Cm are configured to be provided from a register set to output a desired control signal or a setting circuit including a nonvolatile storage element. Instead of providing a setting circuit including a register or a nonvolatile storage element set to output a desired control signal, a fuse element for determining the input of those signals may be provided.
【0041】上記のようにして、有効化された分割抵抗
によって可変抵抗31全体としての抵抗値が設定される
ことにより、参照電圧発生回路30により発生される参
照電圧Vrefのレベルが任意に設定され、それが電圧
比較回路40に供給されて電流電圧変換回路20の電圧
と比較され、その出力でスイッチ手段50が制御されて
参照電圧Vrefに応じた定電圧Voutが出力される
こととなる。また、各抵抗の抵抗値(シート抵抗)のば
らつきは抵抗R1,R2の抵抗比、抵抗31,Rcの抵
抗比の調整により、温度依存性や電源電圧依存性が補償
されて安定した定電圧Voutが出力されるようにな
る。As described above, the level of the reference voltage Vref generated by the reference voltage generating circuit 30 is arbitrarily set by setting the resistance value of the variable resistor 31 as a whole by the enabled divided resistors. Is supplied to the voltage comparison circuit 40 and compared with the voltage of the current-voltage conversion circuit 20, and the output thereof controls the switch means 50 to output the constant voltage Vout according to the reference voltage Vref. Further, the variation in the resistance value (sheet resistance) of each resistor is controlled by adjusting the resistance ratio of the resistors R1 and R2 and the resistance ratio of the resistors 31 and Rc, thereby compensating for the temperature dependency and the power supply voltage dependency, and thereby stabilizing the constant voltage Vout. Will be output.
【0042】なお、図3の実施例においては、ベースと
コレクタが結合されダイオードとして作用するx個のバ
イポーラ・トランジスタTr1〜Trxが並列に設けら
れているとともに、トランジスタの数つまりxを多くし
たり少なくしたりすることで、エミッタ電流を調整でき
るようにされている。In the embodiment shown in FIG. 3, x bipolar transistors Tr1 to Trx whose bases and collectors are combined and function as diodes are provided in parallel, and the number of transistors, ie, x, is increased. By reducing it, the emitter current can be adjusted.
【0043】また、この実施例では、ダイオード接続の
バイポーラ・トランジスタ32を用いているが、トラン
ジスタの代わりにPN接合ダイオードを用いることも可
能である。ただし、その場合には、電源電圧端子Vcc
とノードn2との間のダイオードと可変抵抗31との接
続は図1と逆すなわち電源電圧端子Vcc側にダイオー
ドがくるようにする方が望ましい。図1のように、バイ
ポーラ・トランジスタを用いる場合は、抵抗31とトラ
ンジスタ32の関係は、どちらが電源電圧Vcc側にあ
ってもかまわない。さらに、図1の実施例の定電圧発生
回路は、昇圧回路10がチップ外部に設けられた定電流
源もしくは定電流回路である場合にも適用することがで
き、それによって安定した定電圧を出力させることがで
きる。Further, in this embodiment, the diode-connected bipolar transistor 32 is used, but a PN junction diode can be used instead of the transistor. However, in that case, the power supply voltage terminal Vcc
It is desirable that the connection between the diode and the variable resistor 31 between the node and the node n2 be opposite to that in FIG. When a bipolar transistor is used as shown in FIG. 1, the relationship between the resistor 31 and the transistor 32 does not matter which one is on the power supply voltage Vcc side. Further, the constant voltage generation circuit of the embodiment of FIG. 1 can be applied to a case where the booster circuit 10 is a constant current source or a constant current circuit provided outside the chip, thereby outputting a stable constant voltage. Can be done.
【0044】図2には、本発明に係る定電圧発生回路の
第2の実施例が示されている。図1の実施例の定電圧発
生回路は負の定電圧を出力する実施例であるのに対し、
図2の定電圧発生回路は正の定電圧を出力する実施例で
あり、図1の実施例とは電源電圧の関係が逆になってい
るのみで回路の構成は図1の実施例と同様であるので、
同一もしくは同等の回路や素子には同一の符号を付して
詳しい説明は省略する。FIG. 2 shows a second embodiment of the constant voltage generating circuit according to the present invention. While the constant voltage generating circuit of the embodiment of FIG. 1 outputs a negative constant voltage,
The constant voltage generating circuit of FIG. 2 is an embodiment that outputs a positive constant voltage, and the configuration of the circuit is the same as that of the embodiment of FIG. 1 except that the relationship of the power supply voltage is reversed from that of the embodiment of FIG. So that
Identical or equivalent circuits and elements are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
【0045】図4には、本発明に係る定電圧発生回路の
第3の実施例が示されている。この実施例は、ツェナー
ダイオードが2個である場合に、抵抗R1とR2の抵抗
比でツェナーダイオードの温度依存性を参照電圧発生回
路30の1個のバイポーラ・トランジスタ32の温度依
存性によって相殺する代わりに、参照電圧発生回路30
に直列形態の2個のバイポーラ・トランジスタを設ける
ことで、ツェナーダイオードの温度依存性を2個のバイ
ポーラ・トランジスタ32a,32bの温度依存性によ
って相殺するようにしたものである。ツェナーダイオー
ドの温度特性はバイポーラ・トランジスタのベース・エ
ミッタ間のPN接合ダイオードの温度特性に近いので、
図4のような構成にすることによっても温度変動による
出力電圧の変動を少なくすることができる。FIG. 4 shows a third embodiment of the constant voltage generating circuit according to the present invention. In this embodiment, when there are two Zener diodes, the temperature dependency of the Zener diode is canceled by the temperature dependency of one bipolar transistor 32 of the reference voltage generating circuit 30 by the resistance ratio of the resistors R1 and R2. Instead, the reference voltage generation circuit 30
Is provided with two bipolar transistors in series, so that the temperature dependence of the Zener diode is offset by the temperature dependence of the two bipolar transistors 32a and 32b. Since the temperature characteristic of the Zener diode is close to the temperature characteristic of the PN junction diode between the base and the emitter of the bipolar transistor,
The configuration as shown in FIG. 4 can also reduce fluctuations in output voltage due to temperature fluctuations.
【0046】図5には、本発明に係る定電圧発生回路の
第4の実施例が示されている。図4の実施例の定電圧発
生回路は負の定電圧を出力する実施例であるのに対し、
図5の定電圧発生回路は正の定電圧を出力する実施例で
あり、図4の実施例とは電源電圧の関係が逆になってい
るのみで回路の構成は図4の実施例と同様であるので、
同一もしくは同等の回路や素子には同一の符号を付して
詳しい説明は省略する。FIG. 5 shows a fourth embodiment of the constant voltage generating circuit according to the present invention. While the constant voltage generation circuit of the embodiment of FIG. 4 outputs a negative constant voltage,
The constant voltage generating circuit of FIG. 5 is an embodiment that outputs a positive constant voltage, and the configuration of the circuit is the same as that of the embodiment of FIG. 4 except that the relationship of the power supply voltage is opposite to that of the embodiment of FIG. So that
Identical or equivalent circuits and elements are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.
【0047】図6には、本発明に係る定電圧発生回路の
第5の実施例が示されている。この実施例は、図1にお
ける電圧比較回路40において、コンパレータCOMP
の次段に、出力がロウレベルからハイレベルへ変化する
ときのしきい値電圧よりも出力がハイレベルからロウレ
ベルへ変化するときのしきい値電圧が低くなるように設
定されたシュミット回路のような出力信号がヒステリシ
ス特性を有する回路60を設けたものである。これによ
って、例えば電源ノイズ等によって電圧比較回路40の
出力が変化してスイッチ手段50が不必要にオン、オフ
動作されるのを回避することができる。FIG. 6 shows a fifth embodiment of the constant voltage generating circuit according to the present invention. This embodiment is different from the voltage comparison circuit 40 shown in FIG.
In the next stage, such as a Schmitt circuit in which the threshold voltage when the output changes from high level to low level is lower than the threshold voltage when the output changes from low level to high level The output signal has a circuit 60 having a hysteresis characteristic. As a result, it is possible to prevent the output of the voltage comparison circuit 40 from being changed due to, for example, power supply noise and the like, and the switching means 50 from being unnecessarily turned on and off.
【0048】図7には、本発明に係る定電圧発生回路の
第6の実施例が示されている。第1〜第5の実施例にお
いては、昇圧回路10と電流電圧変換回路20との間に
スイッチ手段50を設けているのに対し、図7の実施例
は発振回路OSCから昇圧回路としてのチャージポンプ
10に供給されるクロック信号φcを供給したり遮断し
たりするANDゲートGTを設けたものである。クロッ
ク信号φcが遮断されると昇圧回路10は昇圧動作を停
止し、電流電圧変換回路20から引き抜く電流が減少す
るので、ANDゲートGTは第1〜第5の実施例におけ
るスイッチ手段50と同様な働きをすることになる。ま
た、特に制限されるものでないが、この実施例では定電
圧発生回路と同一チップ上にクロック信号φcを発生す
る発振回路OSCが設けられている。FIG. 7 shows a sixth embodiment of the constant voltage generating circuit according to the present invention. In the first to fifth embodiments, the switch means 50 is provided between the booster circuit 10 and the current-to-voltage converter 20. On the other hand, in the embodiment of FIG. An AND gate GT for supplying and shutting off a clock signal φc supplied to the pump 10 is provided. When the clock signal φc is cut off, the boosting circuit 10 stops the boosting operation, and the current drawn from the current-voltage conversion circuit 20 decreases. Therefore, the AND gate GT is the same as the switch means 50 in the first to fifth embodiments. Will work. Although not particularly limited, in this embodiment, an oscillation circuit OSC for generating a clock signal φc is provided on the same chip as the constant voltage generation circuit.
【0049】なお、この実施例におけるANDゲートG
Tの代わりに第1〜第5の実施例におけるのと同様なス
イッチ手段(例えばMOSFET)を用いて昇圧回路へ
のクロックの供給を制御するようにしても良いし、第1
〜第5の実施例において、昇圧回路10と電流電圧変換
回路20との間にスイッチ手段50を設ける代わりに、
昇圧回路10の前段にクロック信号φcを供給したり遮
断したりするANDゲートGを設けるようにしても良
い。In this embodiment, the AND gate G
The supply of the clock to the booster circuit may be controlled by using the same switch means (for example, MOSFET) as in the first to fifth embodiments in place of T, or in the first embodiment.
In the fifth to fifth embodiments, instead of providing the switch means 50 between the booster circuit 10 and the current-voltage conversion circuit 20,
An AND gate G for supplying or cutting off the clock signal φc may be provided at a stage preceding the booster circuit 10.
【0050】図8には、本発明に係る定電圧発生回路を
書込み電圧や消去電圧の発生回路として適用した不揮発
性メモリの一例として、電気的に書込み、消去可能なE
EPROM(エレクトリカリ・イレーサブル・プログラ
マブル・リード・オンリ・メモリ)の概略構成が示され
ている。図8において、11はフローティングゲートを
有するMOSFETからなる不揮発性記憶素子としての
メモリセルがマトリックス状に配置されたメモリアレ
イ、12はI/Oバッファ13を介して外部から入力さ
れた書込みデータに基づいて上記メモリアレイ11に対
して書込みや消去を行なう書込み・消去回路である。FIG. 8 shows an electrically writable and erasable E as an example of a nonvolatile memory in which the constant voltage generation circuit according to the present invention is applied as a generation circuit for a write voltage or an erase voltage.
1 shows a schematic configuration of an EPROM (electrically erasable programmable read only memory). In FIG. 8, reference numeral 11 denotes a memory array in which memory cells as nonvolatile storage elements each composed of a MOSFET having a floating gate are arranged in a matrix, and 12 denotes a memory array based on externally input write data via an I / O buffer 13. A write / erase circuit for writing / erasing the memory array 11.
【0051】また、14はI/Oバッファ13を介して
外部から入力されたアドレス信号を保持するアドレスレ
ジスタ、15はメモリアレイ11内のワード線の中から
上記アドレスレジスタ14に取り込まれたXアドレスに
対応した1本のワード線を選択するXデコーダ、16は
アドレスレジスタ14に取り込まれたYアドレスをデコ
ードしてYアドレスに対応したデータ線を選択するYデ
コーダ、17はメモリセルアレイ11より読み出された
データを増幅して出力するセンスアンプである。Reference numeral 14 denotes an address register for holding an externally input address signal via the I / O buffer 13. Reference numeral 15 denotes an X address taken into the address register 14 from a word line in the memory array 11. An X decoder 16 selects one word line corresponding to Y, a Y decoder 16 decodes a Y address taken into the address register 14 and selects a data line corresponding to the Y address, and 17 reads from the memory cell array 11. A sense amplifier that amplifies and outputs the data obtained.
【0052】さらに、この実施例のフラッシュメモリ回
路には、上記各回路ブロックの他、外部からのチップ選
択信号CSや読出し書込み制御信号R/Wなどの制御信
号をメモリ内部の各回路ブロックへの制御信号に変換す
る制御回路18、外部から供給される電源電圧Vccに基
づいて書込み電圧、消去電圧、読出し電圧、ベリファイ
電圧等チップ内部で必要とされる電圧を生成する電源回
路70、メモリの動作状態(モード)に応じてこれらの
電圧の中から所望の電圧を選択して書込み・消去回路1
2やXデコーダ15、Yデコーダ16等に供給する電源
切替回路71等が設けられている。Further, in the flash memory circuit of this embodiment, in addition to the above-mentioned circuit blocks, control signals such as an external chip select signal CS and a read / write control signal R / W are sent to each circuit block inside the memory. A control circuit 18 for converting the control signal into a control signal; a power supply circuit 70 for generating a voltage required inside the chip such as a write voltage, an erase voltage, a read voltage, a verify voltage based on a power supply voltage Vcc supplied from the outside; A desired voltage is selected from these voltages according to the state (mode) and the write / erase circuit 1 is selected.
2, a power supply switching circuit 71 for supplying power to the X decoder 15, the Y decoder 16, and the like.
【0053】図1〜図7を用いて説明した本発明に係る
定電圧発生回路は、書込み電圧や消去電圧の発生回路と
して上記電源回路70内に設けられる。本発明に係る定
電圧発生回路を書込み電圧や消去電圧の発生回路として
有する不揮発性メモリにあっては、発生される電圧の精
度が高くなるため、書込み時間や消去時間が短くなると
いう利点がある。The constant voltage generating circuit according to the present invention described with reference to FIGS. 1 to 7 is provided in the power supply circuit 70 as a circuit for generating a write voltage or an erase voltage. The nonvolatile memory having the constant voltage generation circuit according to the present invention as a generation circuit for a write voltage or an erase voltage has an advantage that the write time and the erase time are shortened because the accuracy of the generated voltage is high. .
【0054】図9には、上記不揮発性メモリを内蔵した
半導体集積回路の一例としてのマイクロコンピュータの
概略構成が示されている。FIG. 9 shows a schematic configuration of a microcomputer as an example of a semiconductor integrated circuit incorporating the above-mentioned nonvolatile memory.
【0055】図9において、NVMは、図8に示されて
いるような構成を有する不揮発性メモリ回路、CNTは
該メモリ回路NVMに対する書込みや消去、読出し(ベ
リファイ読出しを含む)等の制御を行なうメモリ制御回
路(メモリコントローラ)、CPUはプログラムの命令
を解読し各種演算やデータ処理を行なう中央処理ユニッ
ト、RAMはデータを一時記憶したり中央処理ユニット
CPUの作業領域を提供する高速のランダムアクセスメ
モリ、BUSは上記中央処理装置CPUとメモリ回路N
VM、メモリコントローラCNT、高速メモリRAM間
を接続するバス、BSCはこのバスの占有権の制御等を
行なうシステム制御回路としてのバスコントローラであ
る。このシステムでは、上記不揮発性メモリNVMはC
PUが実行するプログラムやプログラムで使用される固
定データを格納したりするために使用される。In FIG. 9, NVM is a nonvolatile memory circuit having a configuration as shown in FIG. 8, and CNT controls writing, erasing, reading (including verify reading) and the like for the memory circuit NVM. Memory control circuit (memory controller), CPU is a central processing unit that decodes program instructions and performs various operations and data processing, RAM is a high-speed random access memory that temporarily stores data and provides a work area for the central processing unit CPU , BUS are the central processing unit CPU and the memory circuit N.
A bus that connects between the VM, the memory controller CNT, and the high-speed memory RAM, and a BSC is a bus controller as a system control circuit that controls the occupation right of the bus. In this system, the nonvolatile memory NVM is C
It is used to store programs executed by the PU and fixed data used in the programs.
【0056】また、特に制限されないが、例えば図1の
定電圧発生回路を構成する参照電圧発生回路30におい
て発生電圧すなわち可変抵抗31の抵抗値を設定するた
めに供給される制御信号C1〜Cmは、メモリコントロ
ーラCNT内に設けられたコントロールレジスタCTR
等から不揮発性メモリNVM内に設けられた電源回路7
0内の定電圧発生回路に対して与えられるように構成さ
れる。本発明に係る定電圧発生回路を書込み電圧や消去
電圧の発生回路として有する不揮発性メモリを内蔵した
マイクロコンピュータのような半導体集積回路にあって
は、発生される電圧の精度が高くなるため、書込み時間
や消去時間が短くなり、高速動作が可能になるという利
点がある。Although not particularly limited, for example, the control signals C1 to Cm supplied for setting the generated voltage, that is, the resistance value of the variable resistor 31, in the reference voltage generating circuit 30 constituting the constant voltage generating circuit of FIG. , A control register CTR provided in the memory controller CNT
For example, the power supply circuit 7 provided in the nonvolatile memory NVM
It is configured to be supplied to a constant voltage generation circuit within 0. In a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer having a built-in nonvolatile memory having the constant voltage generation circuit according to the present invention as a write voltage or erase voltage generation circuit, the accuracy of the generated voltage is high. There is an advantage that the time and the erasing time are shortened, and high-speed operation becomes possible.
【0057】なお、図9には示されていないが、シング
ルチップマイコンのようなマイクロコンピュータの場合
には、上記回路ブロックの他に、内部のメモリと外部の
メモリ等との間のDMA(ダイレクトメモリアクセス)
転送を制御するDMA転送制御回路や、CPUに対する
割込み要求の発生および優先度を判定して割り込みをか
ける割込み制御回路、外部装置との間でシリアル通信を
行なうシリアルコミュニケーションインタフェース回
路、各種タイマ回路、アナログ信号とディジタル信号の
変換を行なうA/D変換回路、システム監視用のウォッ
チドッグタイマ、システムの動作に必要なクロック信号
を発生する発振器などが必要に応じて設けられる。Although not shown in FIG. 9, in the case of a microcomputer such as a single-chip microcomputer, in addition to the above-mentioned circuit blocks, a DMA (direct memory) between an internal memory and an external memory is used. Memory access)
DMA transfer control circuit for controlling transfer, interrupt control circuit for determining the occurrence and priority of an interrupt request to the CPU and issuing an interrupt, serial communication interface circuit for performing serial communication with an external device, various timer circuits, analog An A / D converter for converting signals and digital signals, a watchdog timer for system monitoring, an oscillator for generating a clock signal required for system operation, and the like are provided as necessary.
【0058】図10は、不揮発性メモリを使用したシス
テムの一例としてのICカード(メモリカード)の構成
例を示す。 この実施例のICカードは、特に制限され
ないが、n個の不揮発性メモリチップFM1〜FMn
と、外部とのインタフェースおよびバスの切換え、アド
レス信号や制御信号に基づいて各メモリチップに対する
選択信号の形成、ECCコードの生成、チェック等の機
能を有するコントローラチップCONT、外部から供給
されるコマンドに基づいて不揮発性メモリチップに対す
る書込み、読出し制御などを行なうマイクロプロセッサ
CPUとがプリント配線基板100上に搭載され、全体
が樹脂等によりモールドされて構成される。FIG. 10 shows a configuration example of an IC card (memory card) as an example of a system using a nonvolatile memory. Although the IC card of this embodiment is not particularly limited, n nonvolatile memory chips FM1 to FMn
And a controller chip CONT having functions such as switching of an interface and a bus with the outside, formation of a selection signal for each memory chip based on an address signal and a control signal, generation and check of an ECC code, and commands supplied from the outside. A microprocessor CPU that performs write / read control on the nonvolatile memory chip based on the information is mounted on the printed circuit board 100 and is entirely molded with resin or the like.
【0059】上記コントローラチップCONTは、基板
100上に形成されたアドレス&コントロールバス11
1およびデータバス112を介して上記不揮発性メモリ
チップFM1〜FMnに接続されるとともに、外部のパ
ーソナルコンピュータ本体などのカードスロットに挿入
される外部端子114に接続され、不揮発性メモリチッ
プFM1〜FMnに対するアクセスはコントローラチッ
プCONTを介して行なわれるように構成されている。
マイクロプロセッサCPUからメモリチップFM1〜F
Mnに制御信号を供給するようにしてもよい。The controller chip CONT includes an address & control bus 11 formed on the substrate 100.
1 and the data bus 112, are connected to the non-volatile memory chips FM1 to FMn, and are connected to external terminals 114 inserted into a card slot of an external personal computer main body. Access is configured to be performed via the controller chip CONT.
From the microprocessor CPU to the memory chips FM1 to F
A control signal may be supplied to Mn.
【0060】また、この実施例では、特に制限されない
が、本発明に係る定電圧発生回路は、書込み電圧Vwや
読出し電圧Vr、消去電圧Ve、書込みベリファイ電圧
Vwv、消去ベリファイ電圧Vevなどを発生する電源回路
として上記コントローラチップCONT内に設けられ、
発生された電源電圧は電源ライン群113を介して各不
揮発性メモリチップFM1〜FMnに供給されるように
構成されている。116は、上記コントローラチップC
ONTおよび不揮発性メモリチップFM1〜FMnに供
給される電源電圧Vccが印加される外部電源端子、1
17は接地電位が印加される外部接地端子である。In this embodiment, although not particularly limited, the constant voltage generation circuit according to the present invention generates a write voltage Vw, a read voltage Vr, an erase voltage Ve, a write verify voltage Vwv, an erase verify voltage Vev, and the like. A power supply circuit is provided in the controller chip CONT,
The generated power supply voltage is configured to be supplied to each of the nonvolatile memory chips FM1 to FMn via the power supply line group 113. 116 is the controller chip C
An external power supply terminal to which a power supply voltage Vcc supplied to the ONT and the nonvolatile memory chips FM1 to FMn is applied;
Reference numeral 17 denotes an external ground terminal to which a ground potential is applied.
【0061】なお、上記コントローラチップCONTの
機能は1個ないし数個の半導体チップで構成されてもよ
いが、1つのゲートアレイで構成されても良い。また、
コントローラチップCONTとマイクロプロセッサCP
UからメモリチップFM1〜FMnとを基板上に搭載す
る代わりに図9のようなマイクロコンピュータチップを
搭載したICカードも可能である。The function of the controller chip CONT may be constituted by one or several semiconductor chips, but may be constituted by one gate array. Also,
Controller chip CONT and microprocessor CP
Instead of mounting the memory chips FM1 to FMn on the substrate from U, an IC card mounting a microcomputer chip as shown in FIG. 9 is also possible.
【0062】本発明に係る定電圧発生回路を書込み電圧
や消去電圧の発生回路として有する不揮発性メモリもし
くはそれを内蔵したマイクロコンピュータのような半導
体集積回路が1つの絶縁基板上に搭載されてなるICカ
ードのようなシステムにあっては、発生される電圧の精
度が高くなるため、書込み時間や消去時間が短くなり、
システムのスループットが向上するという利点がある。An IC in which a non-volatile memory having the constant voltage generating circuit according to the present invention as a writing voltage or erasing voltage generating circuit or a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer incorporating the same is mounted on one insulating substrate. In a system such as a card, the accuracy of the generated voltage is high, so the writing time and erasing time are short,
There is an advantage that the throughput of the system is improved.
【0063】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、上
記実施例では、EEPROMおよびそれを内蔵した半導
体集積回路について説明したが、この発明はそれに限定
されず、フラッシュメモリおよびそれを内蔵した半導体
集積回路においても同様に適用することができる。Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, in the above-described embodiment, the EEPROM and the semiconductor integrated circuit including the EEPROM have been described. However, the present invention is not limited thereto, and may be similarly applied to a flash memory and a semiconductor integrated circuit including the same.
【0064】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である不揮発
性メモリに内蔵される定電圧発生回路に適用した場合に
ついて説明したが、この発明はそれに限定されるもので
なく、定電圧ないしは基準電圧を発生する定電圧発生用
の半導体集積回路や定電圧発生回路を内蔵する半導体集
積回路に広く利用することができる。In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to a constant voltage generating circuit built in a nonvolatile memory, which is the application field of the background, has been described. However, the present invention can be widely used for a semiconductor integrated circuit for generating a constant voltage or a reference voltage for generating a constant voltage or a semiconductor integrated circuit having a built-in constant voltage generating circuit.
【0065】[0065]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
【0066】すなわち、この発明に従うと、温度変化に
かかわらず一定の電圧を発生可能な定電圧発生回路が得
られる。また、電源変動にかかわらず一定の電圧を発生
可能な定電圧発生回路が得られる。さらに、製造ばらつ
きにかかわらず一定の電圧を発生可能な定電圧発生回路
が得られる。That is, according to the present invention, a constant voltage generating circuit capable of generating a constant voltage regardless of a temperature change is obtained. Further, a constant voltage generation circuit capable of generating a constant voltage regardless of power supply fluctuation is obtained. Further, a constant voltage generation circuit capable of generating a constant voltage regardless of manufacturing variations can be obtained.
【0067】また、本発明の定電圧発生回路を書込み電
圧や消去電圧の発生回路として不揮発性メモリに内蔵さ
せた場合には、書込み消去時間を短縮することができる
ようになる。さらに、本発明の定電圧発生回路を書込み
電圧や消去電圧の発生回路として有する不揮発性メモリ
を内蔵したマイクロコンピュータ等の半導体集積回路あ
るいはICカードのようなシステムにおいては、高速
化、スループットの向上を達成することができるという
効果がある。When the constant voltage generation circuit of the present invention is incorporated in a nonvolatile memory as a write voltage or erase voltage generation circuit, the write / erase time can be shortened. Further, in a system such as a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer having a built-in nonvolatile memory having the constant voltage generating circuit of the present invention as a writing voltage or erasing voltage generating circuit or an IC card, the speed and throughput are improved. The effect is that it can be achieved.
【図1】本発明に係る定電圧発生回路の一実施例を示す
回路構成図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a constant voltage generating circuit according to the present invention.
【図2】本発明に係る定電圧発生回路の他の実施例を示
す回路構成図である。FIG. 2 is a circuit configuration diagram showing another embodiment of the constant voltage generation circuit according to the present invention.
【図3】図1の定電圧発生回路のより具体的な構成例を
示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a more specific configuration example of the constant voltage generation circuit of FIG. 1;
【図4】本発明に係る定電圧発生回路の第3の実施例を
示す回路構成図である。FIG. 4 is a circuit configuration diagram showing a third embodiment of the constant voltage generation circuit according to the present invention.
【図5】本発明に係る定電圧発生回路の第4の実施例を
示す回路構成図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the constant voltage generation circuit according to the present invention.
【図6】本発明に係る定電圧発生回路の変形例を示す回
路構成図である。FIG. 6 is a circuit configuration diagram showing a modification of the constant voltage generation circuit according to the present invention.
【図7】本発明に係る定電圧発生回路の他の変形例を示
す回路構成図である。FIG. 7 is a circuit configuration diagram showing another modification of the constant voltage generation circuit according to the present invention.
【図8】本発明に係る定電圧発生回路を書込み電圧や消
去電圧を発生する回路として内蔵した不揮発性メモリの
構成例を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram showing a configuration example of a nonvolatile memory in which the constant voltage generation circuit according to the present invention is incorporated as a circuit for generating a write voltage or an erase voltage.
【図9】本発明に係る定電圧発生回路を適用した不揮発
性メモリを内蔵した半導体集積回路の一例としてのマイ
クロコンピュータの一例の概略構成を示す全体ブロック
図である。FIG. 9 is an overall block diagram showing a schematic configuration of an example of a microcomputer as an example of a semiconductor integrated circuit incorporating a nonvolatile memory to which the constant voltage generation circuit according to the present invention is applied.
【図10】本発明に係る定電圧発生回路を適用した不揮
発性メモリを内蔵したICカードの一例を示すブロック
図である。FIG. 10 is a block diagram showing an example of an IC card having a built-in nonvolatile memory to which the constant voltage generation circuit according to the present invention is applied.
【図11】本発明に先立って検討した定電圧発生回路の
一例を示す回路構成図である。FIG. 11 is a circuit diagram showing an example of a constant voltage generation circuit studied prior to the present invention.
11 メモリアレイ 12 書込み・消去回路 13 I/Oバッファ 14 アドレスレジスタ 15 行デコーダ 16 列デコーダ 17 センスアンプ 18 制御回路 70 電源回路 71 電源切替え回路 10 昇圧回路 20 電流電圧変換回路 30 参照電圧発生回路 32 電圧発生手段 33 定電流回路 40 電圧比較回路 50 電流制御手段 Reference Signs List 11 memory array 12 write / erase circuit 13 I / O buffer 14 address register 15 row decoder 16 column decoder 17 sense amplifier 18 control circuit 70 power supply circuit 71 power supply switching circuit 10 booster circuit 20 current-voltage conversion circuit 30 reference voltage generation circuit 32 voltage Generation means 33 Constant current circuit 40 Voltage comparison circuit 50 Current control means
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 師久 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 (72)発明者 金井 健男 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内 Fターム(参考) 5G065 AA00 EA01 GA06 HA04 JA01 LA01 MA09 NA02 NA04 NA07 5H420 NA03 NA31 NB02 NB35 NC03 NC18 NC26 NC31 NE23 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shihisa Yamamoto 5-22-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hitachi Super LSI Systems Co., Ltd. (72) Inventor Takeo Kanai Tokyo 5-22-1, Kamizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo F-term in Hitachi Ultra-SII Systems Co., Ltd. 5G065 AA00 EA01 GA06 HA04 JA01 LA01 MA09 NA02 NA04 NA07 5H420 NA03 NA31 NB02 NB35 NC03 NC18 NC26 NC31 NE23
Claims (8)
回路と、抵抗と該抵抗と直列に接続されたツェナーダイ
オードとからなる電流電圧変換回路と、該電流電圧変換
回路に流す電流を制御可能な電流制御手段と、電流電圧
変換回路で変換された電圧と参照電圧発生回路からの参
照電圧とを比較して上記電流制御手段を制御する電圧比
較回路とからなり、上記ツェナーダイオードを含む上記
電流電圧変換回路によりクランプされた定電圧を発生さ
せるようにした定電圧発生回路であって、上記参照電圧
発生回路は可変抵抗手段と該可変抵抗手段に直列に接続
され上記ツェナーダイオードの温度特性を自己の温度特
性によって補償可能な電圧発生手段および該電圧発生手
段に電流を流す定電流回路とから構成されてなることを
特徴とする定電圧発生回路。1. A reference voltage generation circuit for generating a reference voltage, a current-voltage conversion circuit including a resistor and a Zener diode connected in series with the resistance, and a current flowing through the current-voltage conversion circuit can be controlled. Current control means, and a voltage comparison circuit for controlling the current control means by comparing the voltage converted by the current-voltage conversion circuit with the reference voltage from the reference voltage generation circuit, and comprising the zener diode A constant voltage generation circuit configured to generate a constant voltage clamped by a voltage conversion circuit, wherein the reference voltage generation circuit is connected in series with the variable resistance means and the temperature characteristic of the Zener diode. Characterized by comprising voltage generating means which can be compensated for by the temperature characteristics of the above and a constant current circuit for supplying a current to the voltage generating means. Raw circuit.
個のツェナーダイオードを有する場合に、上記参照電圧
発生回路には上記電流電圧変換回路のツェナーダイオー
ドと同数の電圧発生手段が上記可変抵抗手段と直列に接
続されていることを特徴とする請求項1に記載の定電圧
発生回路。2. When the current-to-voltage conversion circuit has a plurality of series-structured zener diodes, the reference voltage generation circuit includes the same number of voltage generation means as the zener diodes of the current-to-voltage conversion circuit. The constant voltage generating circuit according to claim 1, wherein the constant voltage generating circuit is connected in series with the constant voltage generator.
(nは正の整数)のツェナーダイオードを有する場合
に、該ツェナーダイオードと直列に2以上の抵抗素子を
接続してそれらの抵抗素子の抵抗分割で1/nに分割し
た電圧を上記電圧比較回路に供給するように構成したこ
とを特徴とする請求項1に記載の定電圧発生回路。3. When the current-voltage conversion circuit has n (n is a positive integer) series-type Zener diodes, two or more resistive elements are connected in series with the Zener diode, and these resistive elements are connected. 2. The constant voltage generation circuit according to claim 1, wherein a voltage divided by 1 / n by said resistance division is supplied to said voltage comparison circuit.
は、定電圧が制御端子に印加されたトランジスタと、該
トランジスタと直列に接続された抵抗素子とから構成さ
れていることを特徴とする請求項3に記載の定電圧発生
回路。4. The constant current circuit of the reference voltage generation circuit, wherein the constant current circuit includes a transistor having a constant voltage applied to a control terminal, and a resistor connected in series with the transistor. The constant voltage generation circuit according to claim 3.
段は、直列形態の複数個の分割抵抗と、各分割抵抗とそ
れぞれ並列に接続され制御信号が制御端子に印加された
複数のトランジスタとから構成されていることを特徴と
する請求項1、2、3または4に記載の定電圧発生回
路。5. The variable resistance means of the reference voltage generation circuit includes a plurality of divided resistors in series, and a plurality of transistors connected in parallel with each of the divided resistors and having a control signal applied to a control terminal. 5. The constant voltage generating circuit according to claim 1, wherein the constant voltage generating circuit is configured.
圧発生回路を、記憶素子に印加する書込み電圧または消
去電圧を発生する回路として内蔵することを特徴とする
不揮発性メモリ。6. A non-volatile memory comprising the constant voltage generation circuit according to claim 1, 2, 3 or 4 as a circuit for generating a write voltage or an erase voltage applied to a storage element.
不揮発性メモリを制御して書込みおよび読出し動作を行
なわせるメモリ制御回路と、上記不揮発性メモリに対し
て動作状態を制御する制御信号を形成するシステム制御
回路とを内蔵してなることを特徴とする半導体集積回
路。7. A nonvolatile memory according to claim 6, a memory control circuit for controlling said nonvolatile memory to perform write and read operations, and a control signal for controlling an operation state of said nonvolatile memory. And a system control circuit for forming a semiconductor integrated circuit.
は請求項6に記載の不揮発性メモリと該不揮発性メモリ
を制御して書込みおよび読出し動作を行なわせるメモリ
制御回路と、上記不揮発性メモリに対して動作状態を制
御する制御信号を形成するシステム制御回路とが1つの
絶縁基板に搭載されてなることを特徴とするシステム。8. A semiconductor integrated circuit according to claim 7, or a nonvolatile memory according to claim 6, a memory control circuit for controlling said nonvolatile memory to perform write and read operations, and A system control circuit for forming a control signal for controlling an operation state of the system is mounted on one insulating substrate.
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