JP2001093115A - Thin film magnetic head - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の目的は、薄膜磁気ヘッドの浮上面素子
部の腐食を抑制する薄膜磁気ヘッドとそれを用いた磁気
記録装置を提供する。
【解決手段】本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造工程の研
磨洗浄工程間において、浮上面に鉄，クロム及びモリブ
デンの２種以上の金属酸化物を被覆し、磁気ヘッドの腐
食を抑制した薄膜磁気ヘッドにある。
(57) Abstract: An object of the present invention is to provide a thin-film magnetic head which suppresses corrosion of an air bearing surface element portion of a thin-film magnetic head and a magnetic recording apparatus using the same. Kind Code: A1 Abstract: The present invention relates to a thin-film magnetic head in which the air bearing surface is coated with two or more metal oxides of iron, chromium and molybdenum during polishing and washing steps in a manufacturing process of the thin-film magnetic head to suppress corrosion of the magnetic head. In the head.
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な薄膜磁気ヘ
ッドに係り、特に製造工程と供与中において薄膜で構成
される磁気ヘッド素子部の腐食を抑止した薄膜磁気ヘッ
ドとそれを用いた磁気記録装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel thin-film magnetic head, and more particularly to a thin-film magnetic head which suppresses the corrosion of a magnetic head element portion formed of a thin film during a manufacturing process and during a supply, and a magnetic recording using the same. Related to the device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】薄膜磁気ヘッドは、セラミクス基板上に
磁性膜と絶縁膜を多層にわたり積層した断面構造を有し
ており、磁性膜は、通常、スパッタリング法を用いて形
成される。これらの薄膜を積層した素子の磁気記録円盤
に対向する素子部浮上面を所定の形状に成形するために
は、必ず研削と洗浄の工程を経る。実際の薄膜磁気ヘッ
ドの作成工程においては、研削の際にダイヤモンド砥粒
を懸濁した界面活性剤を含んだ水、洗浄の際には純水等
が用いられている。2. Description of the Related Art A thin film magnetic head has a cross-sectional structure in which a magnetic film and an insulating film are laminated on a ceramics substrate in multiple layers, and the magnetic film is usually formed by a sputtering method. In order to form the air bearing surface of the element portion facing the magnetic recording disk of the element in which these thin films are laminated into a predetermined shape, a process of grinding and cleaning is always required. In an actual thin film magnetic head manufacturing process, water containing a surfactant in which diamond abrasive grains are suspended is used for grinding, and pure water is used for cleaning.
【０００３】ところが、これら水溶液や大気中の浮遊粒
子を含んだ水と磁性膜である金属が接すると、金属表面
で腐食反応が進行し、記録再生のための磁気的特性を満
たさない薄膜磁気ヘッドが作製されることになる。However, when the aqueous solution or water containing suspended particles in the air comes into contact with metal as a magnetic film, a corrosion reaction proceeds on the surface of the metal, and the thin film magnetic head does not satisfy the magnetic characteristics for recording and reproduction. Will be produced.
【０００４】更に、研磨（研削），洗浄，組立の各工程
間に、磁気ヘッドが大気中に放置される時間も存在する
ことから、生産される磁気ヘッド素子部に腐食による素
子金属の欠損や、腐食生成物である酸化皮膜が素子表面
を被覆してしまうこともあり得る。これらの問題を解決
するために、各工程終了後の素子の保管方法を完全密封
に変更する等の方法も試みられたが、十分な効果を得る
に至っていない。さらに、腐食発生の領域について検討
したところ、研磨時に形成された痕が腐食発生の原点と
なり、その部分から腐食領域が広がることがわかった。Further, since there is a time during which the magnetic head is left in the air between each of the polishing (grinding), cleaning, and assembling steps, there is a possibility that the produced magnetic head element portion is damaged by element metal loss due to corrosion. In addition, an oxide film as a corrosion product may cover the element surface. In order to solve these problems, a method of changing the storage method of the device after completion of each process to a completely sealed one has been tried, but the effect has not been sufficiently obtained. Further, when the area where corrosion occurred was examined, it was found that the mark formed during polishing became the origin of corrosion, and that the corrosion area spread from that point.
【０００５】このような磁気ヘッド素子部腐食を抑制す
る方法として、特開昭61−170917号公報や、特開平3−9
3017号公報に記載のように磁気浮上面に金属を付着させ
た後に加熱する、あるいは金属を打ち込むことにより、
磁気浮上面の表面のみ合金化して耐食性を向上させる方
法、特開平6−36233号公報や特開平7−201014 号公報に
記載のようにインヒビタ保護皮膜を形成する方法、特開
平8−50708号公報に記載のように大気中で加熱酸化処理
する方法、特開平9−305917 号公報に記載のように磁性
皮膜層の表面を酸化する方法が知られている。また、特
開平7−129924号公報に記載のように磁気浮上面の表面
保護層の剥離を防止する目的でクロムの密着層とクロム
酸化物もしくは窒化物保護皮膜を形成する方法が知られ
ている。As a method for suppressing such corrosion of the magnetic head element, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-170917 and Japanese Patent Application Laid-Open
By heating after attaching metal to the magnetic levitation surface as described in No. 3017, or by driving in metal,
A method of improving corrosion resistance by alloying only the surface of the magnetic air bearing surface, a method of forming an inhibitor protective film as described in JP-A-6-36233 and JP-A-7-201014, and JP-A-8-50708 And a method of oxidizing the surface of a magnetic film layer as described in JP-A-9-305917. Further, as described in JP-A-7-129924, a method of forming a chromium adhesion layer and a chromium oxide or nitride protective film for the purpose of preventing peeling of the surface protective layer on the magnetic air bearing surface is known. .
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法で
は、磁気浮上面表面をクロムやモリブデンなどにより合
金化した場合や、クロム酸化物や窒化物を保護皮膜とし
て形成した場合では、アルカリ性の研磨剤や洗浄剤中に
おける腐食を十分に抑制することが出来ず、インヒビタ
保護膜や表面酸化による防食では、金属を積層した断面
を処理したときには、積層した金属の化学的性質の違い
によりインヒビタが不均一に作用する、あるいは不均一
に酸化されることにより、保護性の低い部分から腐食が
進行するという問題点がある。また、大気酸化処理で
は、磁気ヘッドが小型の場合には、磁性膜金属を取り囲
むセラミックスが加熱により歪んでしまう可能性があ
る。However, in the conventional method, when the surface of the magnetic levitation surface is alloyed with chromium or molybdenum, or when chromium oxide or nitride is formed as a protective film, alkaline polishing is performed. Corrosion in detergents and cleaning agents cannot be sufficiently suppressed, and in the case of an inhibitor protective film or anticorrosion due to surface oxidation, when a cross section of laminated metal is treated, the inhibitor cannot be removed due to differences in the chemical properties of the laminated metal. There is a problem that the corrosion is promoted from a portion having low protection by acting uniformly or being oxidized unevenly. In the atmospheric oxidation process, when the magnetic head is small, ceramics surrounding the magnetic film metal may be distorted by heating.
【０００７】本発明の目的は、薄膜磁気ヘッドの浮上面
を研磨（研削），洗浄する工程において、浮上面の腐食
損傷を低減する薄膜磁気ヘッドを提供することにある。An object of the present invention is to provide a thin-film magnetic head that reduces corrosion damage to the floating surface in a step of polishing (grinding) and cleaning the floating surface of the thin-film magnetic head.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、基板と該基板
上に下部磁性膜，導体コイル，上部磁性薄膜が順次積層
された磁気ヘッド素子部とを備え、磁気記録媒体に対し
て情報を書き込み、読み出しを行う薄膜磁気ヘッドにお
いて、磁気記録媒体に対向する前記磁気ヘッド素子部の
浮上面に、Ｆｅ−Ｍｏ，Ｃｒ−Ｍｏ及びＦｅ−Ｃｒ−Ｍ
ｏより選ばれた１つの金属酸化物皮膜からなり、Ｍｏ量
が３５原子％以下（０％を含む）であることを特徴とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention comprises a substrate and a magnetic head element in which a lower magnetic film, a conductor coil, and an upper magnetic thin film are sequentially laminated on the substrate, and transmits information to a magnetic recording medium. In a thin-film magnetic head for writing and reading, Fe-Mo, Cr-Mo and Fe-Cr-M are provided on the air bearing surface of the magnetic head element portion facing the magnetic recording medium.
It is made of one metal oxide film selected from o, and has a Mo content of 35 atomic% or less (including 0%).
【０００９】本発明は、基板と該基板上に形成され、磁
気抵抗効果を利用して磁気的信号を電気的信号に変換す
る磁気抵抗効果膜とその磁気抵抗効果膜に信号検出電流
を流す一対の電極とを有する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘ
ッド素子部と、該磁気抵抗効果型磁気ヘッド素子部の上
に下部磁性膜，導体コイル，上部磁性膜が順次積層され
た磁気ヘッド素子部とを備え、前記磁気ヘッド素子部に
よって磁気記録媒体に対して情報を書き込みを行うとと
もに、前記磁気抵抗効果型磁気ヘッド素子部によって磁
気記録媒体に対して情報の読み出しを行う薄膜磁気ヘッ
ドにおいて、磁気記録媒体に対向する前記磁気抵抗効果
型磁気ヘッド素子部および磁気ヘッド素子部の浮上面
に、Ｆｅ−Ｍｏ，Ｃｒ−Ｍｏ及びＦｅ−Ｃｒ−Ｍｏより
選ばれた１つの金属酸化物皮膜よりなり、Ｍｏ量が３５
原子％以下（０％を含む）であることを特徴とする。According to the present invention, there is provided a substrate, a magnetoresistive film formed on the substrate, which converts a magnetic signal into an electric signal by utilizing a magnetoresistive effect, and a pair of a signal detection current flowing through the magnetoresistive film. A magnetoresistive thin-film magnetic head element portion having the following electrodes; and a magnetic head element portion in which a lower magnetic film, a conductor coil, and an upper magnetic film are sequentially laminated on the magnetoresistive effect magnetic head element portion. A thin-film magnetic head that writes information to a magnetic recording medium by the magnetic head element unit and reads information from the magnetic recording medium by the magnetoresistive magnetic head element unit; One metal selected from the group consisting of Fe-Mo, Cr-Mo and Fe-Cr-Mo is provided on the air bearing surface of the opposing magnetoresistive magnetic head element and the magnetic head element. Consists compound film, Mo amount is 35
Atomic% or less (including 0%).
【００１０】金属酸化物は、クロム含有量が１５原子％
以上、モリブデン含有量が３５原子％以下、及び残部が
鉄および酸素であること、その厚さが０.５〜２０ｎｍ
以下、好ましくは２〜１５ｎｍであることが好ましい。The metal oxide has a chromium content of 15 atomic%.
As described above, the molybdenum content is 35 atomic% or less, the balance is iron and oxygen, and the thickness is 0.5 to 20 nm.
Hereinafter, the thickness is preferably 2 to 15 nm.
【００１１】本発明は、前述の薄膜磁気ヘッドを搭載し
たことを特徴とする磁気記録装置にある。According to the present invention, there is provided a magnetic recording apparatus comprising the above-described thin-film magnetic head.
【００１２】本発明は、基板と、該基板上に下部磁性
膜，導体コイル，上部磁性膜が順次積層して磁気ヘッド
素子部を形成した後、前記基板と前記磁気ヘッド素子部
を研磨剤を含む水溶液を用いて所定の寸法に研削し、次
に前記基板と前記磁気ヘッド素子部の浮上面を研磨して
洗浄する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記浮上
面を研磨する工程もしくは洗浄する工程の後に、前記磁
気ヘッド素子部の浮上面に、前述の金属酸化物皮膜を形
成することが好ましい。According to the present invention, a magnetic head element is formed by sequentially laminating a substrate, a lower magnetic film, a conductor coil, and an upper magnetic film on the substrate, and then polishing the substrate and the magnetic head element with an abrasive. Grinding or cleaning the air bearing surface in a method of manufacturing a thin film magnetic head for grinding to a predetermined size by using an aqueous solution containing the solution and then polishing and cleaning the air bearing surface of the substrate and the magnetic head element portion. After that, it is preferable to form the above-mentioned metal oxide film on the air bearing surface of the magnetic head element portion.
【００１３】本発明は、基板上に、磁気抵抗効果を利用
して磁気的信号を電気的信号に変換する磁気抵抗効果膜
とその磁気抵抗効果膜に信号検出電流を流す一対の電極
とを有する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド素子部を形成
し、次に、前記磁気抵抗効果型磁気ヘッド素子部の上に
下部磁性膜，導体コイル，上部磁性膜が順次積層して磁
気ヘッド素子部を形成した後、前記基板と前記磁気抵抗
効果型磁気ヘッド素子部を研磨剤を含む水溶液を用いて
所定の寸法に研削し、次に前記基板と前記磁気ヘッド素
子部の浮上面を研磨して洗浄する薄膜磁気ヘッドの製造
方法において、前記浮上面を研磨する工程もしくは洗浄
する工程の後に、前記磁気ヘッド素子部の浮上面に、前
述の金属酸化物皮膜を形成することが好ましい。According to the present invention, a magnetoresistive film for converting a magnetic signal into an electric signal utilizing a magnetoresistive effect is provided on a substrate, and a pair of electrodes for passing a signal detection current through the magnetoresistive film. A magnetoresistive thin-film magnetic head element was formed, and a lower magnetic film, a conductor coil, and an upper magnetic film were sequentially laminated on the magnetoresistive magnetic head to form a magnetic head element. After that, the substrate and the magnetoresistive magnetic head element are ground to a predetermined size using an aqueous solution containing an abrasive, and then the substrate and the air bearing surface of the magnetic head element are polished and cleaned. In the method of manufacturing a magnetic head, it is preferable that the metal oxide film is formed on the air bearing surface of the magnetic head element portion after the step of polishing or cleaning the air bearing surface.
【００１４】磁気ヘッド浮上面に形成される金属酸化物
皮膜はそのイオンもしくはラジカルを物理的および／ま
たは化学的に形成する工程と、この工程におけるイオン
もしくはラジカルを形成した雰囲気中で磁気ヘッド浮上
面に前記イオンもしくはラジカルを付着させて磁気浮上
面に金属酸化物皮膜を形成する工程を含むことが好まし
い。The metal oxide film formed on the air bearing surface of the magnetic head is formed by physically and / or chemically forming ions or radicals of the metal oxide film. It is preferable to include a step of forming a metal oxide film on the magnetic levitation surface by attaching the ions or radicals to the surface.
【００１５】磁気ヘッド浮上面に形成される金属酸化物
皮膜はそれを構成する原子または分子のイオンもしくは
ラジカルを物理的および／または化学的に形成する工程
と、この工程における前記原子または分子のイオンもし
くはラジカルを形成した雰囲気中で磁気ヘッド浮上面に
前記イオンもしくはラジカルを付着させて磁気浮上面に
金属酸化物皮膜を形成する工程を含むことが好ましい。The step of physically and / or chemically forming atoms or molecules of atoms or molecules constituting the metal oxide film formed on the air bearing surface of the magnetic head, and the step of forming the ions of the atoms or molecules in this step. Alternatively, it is preferable to include a step of forming the metal oxide film on the magnetic flying surface by attaching the ions or radicals to the magnetic flying surface in an atmosphere in which radicals are formed.
【００１６】前記イオンもしくはラジカルの磁気ヘッド
浮上面への付着に代えて、前記イオンもしくはラジカル
を照射して磁気ヘッド浮上面に金属酸化物皮膜を形成す
ることが好ましい。It is preferable that a metal oxide film is formed on the air bearing surface of the magnetic head by irradiating the ions or radicals instead of attaching the ions or radicals to the air bearing surface of the magnetic head.
【００１７】磁気ヘッド浮上面に形成される金属酸化物
皮膜はそれを構成する原子または分子を加熱し、原子ま
たは分子温度として０.０５ｅＶ 以上のエネルギーを付
与する工程と、この工程で形成された加熱原子または分
子を照射して磁気ヘッド浮上面に金属酸化物皮膜を形成
する工程を含むことが好ましい。The metal oxide film formed on the air bearing surface of the magnetic head heats the atoms or molecules constituting the metal oxide film and gives energy of 0.05 eV or more as the temperature of the atoms or molecules. The method preferably includes a step of irradiating heated atoms or molecules to form a metal oxide film on the air bearing surface of the magnetic head.
【００１８】磁気ヘッド浮上面に形成される金属酸化物
皮膜はそれを構成する原子または分子を加熱し、原子ま
たは分子温度として０.０５ｅＶ 以上のエネルギーを付
与する第１の工程と、磁気ヘッド浮上面に形成される皮
膜を構成するイオンもしくはラジカルを物理的および／
または化学的に形成する第２の工程と、第１の工程で形
成された加熱原子または分子と第２の工程で形成された
イオンもしくはラジカルを照射して磁気ヘッド浮上面に
金属酸化物皮膜を形成する第３の工程を含むことが好ま
しい。A first step of heating the atoms or molecules constituting the metal oxide film formed on the air bearing surface of the magnetic head and applying energy of 0.05 eV or more as the temperature of the atoms or molecules; The ions or radicals constituting the film formed on the surface are physically and / or
Alternatively, a metal oxide film is formed on the air bearing surface of the magnetic head by irradiating the second step of chemically forming and the heating atoms or molecules formed in the first step and the ions or radicals formed in the second step. It is preferable to include a third step of forming.
【００１９】特に、２種以上の金属酸化物を有する皮膜
はアルカリ性の研磨液と洗浄剤とに対する耐食性を高め
ることができるものである。In particular, a film having two or more metal oxides can enhance the corrosion resistance to an alkaline polishing liquid and a cleaning agent.
【００２０】本発明は、薄膜磁気ヘッド製造工程に耐食
性皮膜形成工程を加えることにより達成される。この耐
食性皮膜形成工程は、研磨工程や洗浄工程のような水溶
液と接触する工程の後に実施することにより、その後の
工程での腐食を抑制することが可能となる。また薄膜磁
気ヘッド製造後の腐食を抑制するためには、最終洗浄後
に耐食性皮膜形成工程を加えることが最も有効である。The present invention is achieved by adding a corrosion resistant film forming step to the thin film magnetic head manufacturing step. This corrosion-resistant film forming step is performed after a step of contacting with an aqueous solution such as a polishing step or a cleaning step, so that corrosion in a subsequent step can be suppressed. In order to suppress corrosion after the production of the thin film magnetic head, it is most effective to add a corrosion resistant film forming step after the final cleaning.
【００２１】耐食性皮膜の組成に関して金属酸化物を中
心に検討した結果、鉄，クロム，モリブデン混合酸化物
が酸性あるいはアルカリ性水溶液，塩化物を含む水溶液
いずれにおいても耐食性皮膜として有効であることを見
出した。この混合酸化物を皮膜として薄膜磁気ヘッド磁
気浮上面に形成することにより、薄膜磁気ヘッドの腐食
を抑制できる。As a result of examining the composition of the corrosion-resistant coating mainly on metal oxides, it was found that mixed oxides of iron, chromium, and molybdenum are effective as a corrosion-resistant coating in any of acidic or alkaline aqueous solutions and aqueous solutions containing chlorides. . By forming this mixed oxide as a film on the magnetic flying surface of the thin-film magnetic head, corrosion of the thin-film magnetic head can be suppressed.
【００２２】[0022]
【発明の実施の形態】図１は、本発明を適用する薄膜磁
気ヘッドの磁気ヘッド素子中央部の断面における薄膜構
成を示す俯瞰図である。この薄膜磁気ヘッド９は、基板
１と、その上に順次に薄膜で形成された下地膜２，下部
磁性膜３，磁気ギャップ膜４，有機絶縁膜５，導体コイ
ル６，上部磁性膜７および保護膜８からなる磁気ヘッド
素子部により構成されている。FIG. 1 is a bird's-eye view showing the structure of a thin film in a cross section at the center of a magnetic head element of a thin film magnetic head to which the present invention is applied. This thin-film magnetic head 9 comprises a substrate 1, an under film 2, a lower magnetic film 3, a magnetic gap film 4, an organic insulating film 5, a conductor coil 6, an upper magnetic film 7, and a protective film sequentially formed as a thin film thereon. It is composed of a magnetic head element section composed of the film 8.
【００２３】図２は本発明を適用する記録再生分離型の
磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド１０で、その中央断面に
おける薄膜構成を示す俯瞰図である。この薄膜磁気ヘッ
ドは図１と同様の書き込み用のヘッド１１の下部に、再
生用の磁気抵抗型ヘッド１２を取り付けている。尚、図
２では書き込み用ヘッドの右側半分と、磁気抵抗型ヘッ
ド１２の右側半分の信号検出電極１３上方に形成される
層を省略してある。図２の符号１４は導体コイルであ
り、符号１５，１６は上下磁気コア材である。また、こ
れらの間に電気的絶縁をとるため、符号１７で示す絶縁
膜が形成される。上部シールド膜１８と下部シールド膜
１９は、磁気抵抗効果膜２０に信号以外の磁界が影響す
るのを防止し、磁気抵抗効果型ヘッド１０の信号分解能
を高める作用を行う。上部シールド膜１８と下部シール
ド膜１９に隣接して配置される上部ギャップ膜２１及び
下部ギャップ膜２２は、磁気抵抗効果膜２０と上部シー
ルド膜１８及び下部シールド膜１９を電気的，磁気的に
隔離するため、酸化シリコンのような非磁性材料を用い
る。これらの膜は非磁性セラミクス基板２３上に成膜さ
れ、磁気ヘッド素子を形成する。FIG. 2 is a bird's-eye view showing the structure of a thin film in a central cross section of the magnetoresistive thin film magnetic head 10 of the recording / reproducing separation type to which the present invention is applied. In this thin-film magnetic head, a magnetoresistive head 12 for reproduction is attached to the lower part of a head 11 for writing similar to FIG. In FIG. 2, the layers formed above the signal detection electrodes 13 in the right half of the write head and the right half of the magnetoresistive head 12 are omitted. Reference numeral 14 in FIG. 2 is a conductor coil, and reference numerals 15 and 16 are upper and lower magnetic core materials. In addition, an insulating film indicated by reference numeral 17 is formed to provide electrical insulation between them. The upper shield film 18 and the lower shield film 19 prevent the magnetic field other than the signal from affecting the magnetoresistive effect film 20 and increase the signal resolution of the magnetoresistive head 10. An upper gap film 21 and a lower gap film 22 disposed adjacent to the upper shield film 18 and the lower shield film 19 electrically and magnetically isolate the magnetoresistive film 20 from the upper shield film 18 and the lower shield film 19. Therefore, a non-magnetic material such as silicon oxide is used. These films are formed on the non-magnetic ceramics substrate 23 to form a magnetic head element.
【００２４】図３に示すように、図１に示した薄膜磁気
ヘッド９、あるいは図２に示す磁気抵抗効果型薄膜磁気
ヘッド１０は、ロードアーム２４に搭載されて磁気記録
装置に組み込まれる。磁気ヘッド９の浮上面２５は、磁
気記録装置の磁気記録円盤（図示なし）と対向する面
で、下部磁性膜３および上部磁性膜７の端面が浮上面と
して露出している。本発明は、この浮上面に金属酸化物
皮膜を形成することを特徴としている。As shown in FIG. 3, the thin film magnetic head 9 shown in FIG. 1 or the magnetoresistive thin film magnetic head 10 shown in FIG. 2 is mounted on a load arm 24 and incorporated in a magnetic recording device. The air bearing surface 25 of the magnetic head 9 is a surface facing a magnetic recording disk (not shown) of the magnetic recording device, and the end surfaces of the lower magnetic film 3 and the upper magnetic film 7 are exposed as air bearing surfaces. The present invention is characterized in that a metal oxide film is formed on the air bearing surface.
【００２５】浮上面に金属酸化物を形成するための方法
として反応性スパッタ法を用いて、皮膜組成の最適化を
図った。同様の実験は、金属ターゲットにＡｒイオンを
照射して形成した金属ビームとＲＦ酸素ラジカル源を用
いたイオンビームアシストイオンビームスパッタ法でも
検討できる。The reactive sputtering method was used as a method for forming a metal oxide on the air bearing surface, and the coating composition was optimized. A similar experiment can be examined by an ion beam assisted ion beam sputtering method using a metal beam formed by irradiating a metal target with Ar ions and an RF oxygen radical source.
【００２６】図４は今回実験に用いた装置の構成図であ
る。ロードロック室３１から試料搬送装置３２により磁
気ヘッドを皮膜形成室３３に挿入する。皮膜形成室内に
は、鉄，クロム，モリブデンのターゲットが取り付けら
れた３台のＲＦスパッタカソード（３４，３５，３６）
とＥＣＲ酸素イオン源３７が取り付けられている。３台
のＲＦスパッタカソードへの投入電力を３台合わせて４
００Ｗになるように調整し、またＥＣＲ酸素イオン源へ
の酸素の導入圧力を１.０×１０-4〜４.０×１０-4Torr
に変化させた金属酸化物皮膜を磁気ヘッド浮上面に形成
させた。これらの酸化物を被覆した磁気ヘッドを処理し
ない磁気ヘッドと共に食塩水中に一定時間浸漬し、その
後の腐食状況を調べた。腐食状況は走査型電子顕微鏡に
より磁性膜面を観察して、磁性面に腐食が発生している
か否かで判断した。FIG. 4 is a block diagram of the apparatus used in this experiment. The magnetic head is inserted into the film formation chamber 33 from the load lock chamber 31 by the sample transfer device 32. Three RF sputter cathodes (34, 35, 36) with targets for iron, chromium, and molybdenum mounted in the film formation chamber
And an ECR oxygen ion source 37 are attached. The total power input to the three RF sputtering cathodes is 4
00 W, and the pressure for introducing oxygen into the ECR oxygen ion source is 1.0 × 10 −4 to 4.0 × 10 −4 Torr.
Was formed on the air bearing surface of the magnetic head. The magnetic head coated with these oxides was immersed in a saline solution for a certain period of time together with the untreated magnetic head, and the state of corrosion thereafter was examined. The corrosion state was determined by observing the magnetic film surface with a scanning electron microscope and determining whether or not the magnetic surface had corrosion.
【００２７】観察状況をまとめた結果を図５に示す。図
中では、皮膜組成を各スパッタカソードの投入電力で示
し、腐食が発生していなければ○、腐食が発生していれ
ば×で評価した結果を示してある。次に、腐食が発生し
ていない酸化物皮膜の組成をオージエ電子分光法により
求めたところ、今回耐食性の良い金属酸化物中に含有し
ているＣｒ量としては１５ａｔ％以上、Ｍｏ量としては
３５ａｔ％以下の範囲であり、鉄および酸素量に依存し
ないことがわかった。FIG. 5 shows the results of the observation. In the figure, the coating composition is indicated by the input power of each sputter cathode, and the result is evaluated by ○ when no corrosion has occurred, and by x when corrosion has occurred. Next, the composition of the oxide film free from corrosion was determined by Auger electron spectroscopy. As a result, the amount of Cr contained in the metal oxide having good corrosion resistance was 15 at% or more, and the amount of Mo was 35 at%. %, And was found to be independent of iron and oxygen content.
【００２８】図６は、耐食性皮膜を形成するためのスパ
ッタ装置の概略図である。真空チャンバ３８内に磁気ヘ
ッドを載せた基板３９とＦｅ２０ｗｔ％Ｃｒ２０ｗｔ％
Ｍｏ１０ｗｔ％の金属酸化物ターゲット４０が取り付け
られたスパッタカソード４１とを対向させて設置し、ア
ルゴンガスボンベ４２からアルゴンガスを真空チャンバ
３８内に導入した。導入するガスとしてはアルゴンに代
えて酸素やアルゴンと酸素の混合ガスでも良い。そし
て、スパッタカソード４１に１３.５６ＭＨｚ ，８００
Ｗの高周波を高周波電源４３から供給して金属酸化物タ
ーゲットをスパッタリングして、磁気ヘッド浮上面上に
混合酸化物皮膜を形成した。スパッタリングする時間を
変えて金属酸化物皮膜の厚さを変えた磁気ヘッドを作成
し、酸化物皮膜と飽和磁化との関係を検討した。FIG. 6 is a schematic view of a sputtering apparatus for forming a corrosion resistant film. A substrate 39 on which a magnetic head is placed in a vacuum chamber 38 and Fe 20 wt% Cr 20 wt%
A sputtering cathode 41 provided with a metal oxide target 40 of Mo 10 wt% was installed facing the same, and argon gas was introduced into the vacuum chamber 38 from an argon gas cylinder 42. The gas to be introduced may be oxygen or a mixed gas of argon and oxygen instead of argon. Then, 13.56 MHz, 800 is applied to the sputter cathode 41.
A high frequency power of W was supplied from a high frequency power supply 43 to sputter a metal oxide target to form a mixed oxide film on the air bearing surface of the magnetic head. A magnetic head was prepared in which the thickness of the metal oxide film was changed by changing the sputtering time, and the relationship between the oxide film and the saturation magnetization was examined.
【００２９】図７は飽和磁化の変化量と酸化物皮膜の厚
さとの関係を示した図である。ここでは、酸化物を形成
させていない磁気ヘッドの飽和磁化を１として変化量で
示してある。厚さ１０ｎｍ位までは、飽和磁化の低下は
僅かだが、厚さ２０ｎｍになると９０％位まで飽和磁化
が低下し、さらに厚くなると飽和磁化の低下が著しかっ
た。今回用いた磁気ヘッドの特性として飽和磁化が１０
％低下までは、磁気記録装置として使用可能であること
がわかっているので、金属酸化物厚さとしては２０ｎｍ
以下が望ましい。FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the amount of change in the saturation magnetization and the thickness of the oxide film. Here, the variation is shown with the saturation magnetization of a magnetic head on which no oxide is formed as 1. The saturation magnetization decreased slightly up to a thickness of about 10 nm, but decreased to about 90% at a thickness of 20 nm, and decreased significantly at a further increase in thickness. As a characteristic of the magnetic head used this time, the saturation magnetization is 10
It is known that the metal oxide can be used as a magnetic recording device until the metal oxide thickness decreases by 20%.
The following is desirable.
【００３０】図８は、磁気ヘッド浮上面に金属酸化物を
形成するためのＣＶＤ装置の概略図である。ロードロッ
ク室３１から試料搬送装置３２により磁気ヘッドを載せ
た基板を皮膜形成室３３に挿入する。Ｆｅ(Ｏ2Ｃ
5Ｈ7)3，Ｃｒ(Ｏ2Ｃ5Ｈ7)3，Ｍｏ（Ｏ2Ｃ5Ｈ7)3 を酸素
又は、水蒸気と混合し、上記有機化合物の各蒸気発生装
置４４，４５，４６内で加熱気化する。有機金属化合物
としては、上記以外に金属テトラプロピル化合物，金属
イソプロピキシド，金属テトライソプロポキシ化合物，
金属ペンタメトキシ化合物，金属アセチルアセトナート
などが挙げられる。上記の有機金属化合物蒸気を被膜形
成室３３に導入し、アノード電極４７とカソード電極４
８間に１３.５６ＭＨｚ の高周波を高周波電源４３から
印加し、金属酸化物を基板上に設置された磁気ヘッドに
付着させた。このようにして磁気ヘッド浮上面に鉄・ク
ロム・モリブデン混合酸化物を形成することにより、こ
れまで磁気記録装置出荷後に報告された磁気ヘッドの腐
食に伴う不具合を少なくできる。FIG. 8 is a schematic view of a CVD apparatus for forming a metal oxide on the air bearing surface of a magnetic head. The substrate on which the magnetic head is mounted is inserted into the film forming chamber 33 from the load lock chamber 31 by the sample transfer device 32. Fe (O 2 C
5 H 7 ) 3 , Cr (O 2 C 5 H 7 ) 3 , Mo (O 2 C 5 H 7 ) 3 are mixed with oxygen or water vapor, and the mixture is mixed with each of the vapor generators 44, 45 and 46 of the organic compound. To evaporate. Examples of the organometallic compound include a metal tetrapropyl compound, a metal isopropoxide, a metal tetraisopropoxy compound,
Metal pentamethoxy compounds, metal acetylacetonates, and the like. The vapor of the organometallic compound is introduced into the film formation chamber 33, and the anode electrode 47 and the cathode electrode 4 are introduced.
A high frequency power of 13.56 MHz was applied from the high frequency power supply 43 between 8 and the metal oxide was deposited on the magnetic head mounted on the substrate. By forming the mixed oxide of iron, chromium, and molybdenum on the air bearing surface of the magnetic head in this way, it is possible to reduce the problems with the corrosion of the magnetic head, which have been reported after the shipment of the magnetic recording device.
【００３１】図９は、磁気ヘッド浮上面に金属酸化物を
形成するための装置の概略図である。ロードロック室３
１から試料搬送装置３２により磁気ヘッドを載せた基板
を皮膜形成室３３に挿入する。皮膜形成室内には、Ｆ
ｅ，Ｃｒ，Ｍｏが入れられた蒸発源（４９，５０，５
１）が設置され、抵抗加熱、電子ビーム加熱などにより
金属を加熱，蒸発させて基板３９に金属を照射すると同
時に、酸素イオン源５２から酸素イオンを照射して金属
酸化物を基板上に設置された磁気ヘッドに付着させた。
加熱する温度として０.０５ｅＶ 以上のエネルギーを付
与することにより、蒸気を十分に発生できる。蒸発源と
しては金属に代えて所定の組成に調整した金属酸化物を
用いることも可能であり、この場合は酸素イオン源を省
略することもできる。さらに、蒸着源の先端に蒸着粒子
をイオン化するための電極を設けて、蒸着粒子のイオン
を形成し照射することも可能である。このようにして磁
気ヘッド浮上面に鉄・クロム・モリブデン混合酸化物を
形成することにより、磁気ヘッドに腐食が発生したため
に生じた不良品を少なくできる。FIG. 9 is a schematic view of an apparatus for forming a metal oxide on the air bearing surface of a magnetic head. Load lock room 3
From 1, the substrate on which the magnetic head is mounted is inserted into the film forming chamber 33 by the sample transfer device 32. In the film formation chamber, F
e, Cr, Mo evaporation source (49, 50, 5)
1) is installed, and the metal is heated and evaporated by resistance heating, electron beam heating, etc., and the substrate 39 is irradiated with the metal. At the same time, oxygen ions are irradiated from the oxygen ion source 52 to install the metal oxide on the substrate. Attached to the magnetic head.
By applying energy of 0.05 eV or more as the heating temperature, sufficient steam can be generated. As the evaporation source, a metal oxide adjusted to a predetermined composition can be used instead of the metal. In this case, the oxygen ion source can be omitted. Further, an electrode for ionizing the vapor-deposited particles may be provided at the tip of the vapor-deposition source to form and irradiate the ions of the vapor-deposited particles. By forming the mixed oxide of iron, chromium, and molybdenum on the air bearing surface of the magnetic head in this manner, defective products caused by corrosion of the magnetic head can be reduced.
【００３２】図１０は、磁気ヘッド浮上面に金属酸化物
を形成するためのレーザーアブレーション装置の概略図
である。ロードロック室３１から試料搬送装置３２によ
り磁気ヘッドを載せた基板を光学窓５５が取り付けられ
た皮膜形成室３３に挿入する。皮膜形成室内には、Ｆｅ
ＣｒＭｏ合金ターゲット５３と酸素ラジカル源５４が設
置されている。レーザー光源５６から発生したレーザー
光をレンズ５７により絞って合金ターゲットに照射し、
飛び出した粒子を基板３９に設置された磁気ヘッドに堆
積すると同時に酸素ラジカル源５４から酸素ラジカルを
基板に照射し磁気ヘッド浮上面上に金属酸化物を形成し
た。光源としてはＡｒＦエキシマレーザーを用い、１０
ｎｓのパルスでターゲットに照射した。ターゲットとし
ては金属に代えて所定の組成に調整した金属酸化物を用
いることも可能であり、この場合は酸素ラジカル源を省
略することもできる。このようにして磁気ヘッド浮上面
に鉄・クロム・モリブデン混合酸化物を形成することに
より、磁気ヘッド素子の製造工程の１つである水洗工程
における腐食が抑制できる。FIG. 10 is a schematic view of a laser ablation apparatus for forming a metal oxide on the air bearing surface of a magnetic head. The substrate on which the magnetic head is mounted is inserted from the load lock chamber 31 by the sample transfer device 32 into the film formation chamber 33 to which the optical window 55 is attached. In the film formation chamber, Fe
A CrMo alloy target 53 and an oxygen radical source 54 are provided. Laser light generated from a laser light source 56 is squeezed by a lens 57 and irradiated on an alloy target,
The ejected particles were deposited on the magnetic head provided on the substrate 39, and at the same time, the substrate was irradiated with oxygen radicals from the oxygen radical source 54 to form a metal oxide on the magnetic head flying surface. An ArF excimer laser was used as a light source, and 10
The target was irradiated with a pulse of ns. As the target, a metal oxide adjusted to a predetermined composition can be used instead of the metal. In this case, the oxygen radical source can be omitted. By forming the mixed oxide of iron, chromium, and molybdenum on the air bearing surface of the magnetic head in this way, it is possible to suppress corrosion in the washing step, which is one of the steps of manufacturing the magnetic head element.
【００３３】図１１は本発明にかかる薄膜磁気ヘッドの
製造工程を説明する流れ図である。まず基板１となるウ
エハ上に薄膜２から８を堆積して薄膜素子部を形成し、
次いでウエハを切断して基板と薄膜素子部からなる薄膜
磁気ヘッドの部分を取り出し、所定の寸法形状に研削し
た後に寸法検査を行い、必要ならば、補正する。薄膜磁
気ヘッドの浮上面を砥粒，界面活性剤を含む水溶液を用
いて研磨し、その後に金属酸化物被覆処理して、浮上面
に露出する磁性膜端面を保護する。薄膜磁気ヘッドの浮
上面側の基板の一部に傾斜をつけるチャンファ加工を施
し、その後に純水により洗浄する。次いで、薄膜素子部
の検査を行い、必要ならば、再度金属酸化物被覆処理
し、その薄膜磁気ヘッドを組立て工程に入るまで保管す
る。FIG. 11 is a flow chart for explaining the steps of manufacturing the thin-film magnetic head according to the present invention. First, thin films 2 to 8 are deposited on a wafer serving as a substrate 1 to form a thin film element portion.
Next, the wafer is cut to take out a portion of the thin-film magnetic head including the substrate and the thin-film element portion, and ground to a predetermined size and shape. The air bearing surface of the thin-film magnetic head is polished using an aqueous solution containing abrasive grains and a surfactant, and then subjected to a metal oxide coating treatment to protect the end face of the magnetic film exposed on the air bearing surface. A part of the substrate on the air bearing surface side of the thin-film magnetic head is subjected to chamfering to be inclined, and then washed with pure water. Next, the thin film element portion is inspected, and if necessary, the metal oxide coating treatment is performed again, and the thin film magnetic head is stored until the assembly process starts.
【００３４】以上のように、本発明の製造方法では、少
なくとも浮上面の研磨工程の後に金属酸化物被覆処理が
一回含まれているが、従来法では、この処理を実施する
工程が組み込まれておらず、磁気ヘッドの信頼性は検査
での分類に頼っていた。この実施例の工程によれば、磁
性膜の腐食抑制が図られ、磁気記録装置の製造プロセス
を高信頼化することができる。As described above, in the manufacturing method of the present invention, the metal oxide coating treatment is included at least once after the air bearing surface polishing step, but the conventional method incorporates the step of performing this treatment. Therefore, the reliability of the magnetic head relied on the classification in the inspection. According to the steps of this embodiment, the corrosion of the magnetic film is suppressed, and the manufacturing process of the magnetic recording device can be made highly reliable.
【００３５】[0035]
【発明の効果】本発明によれば、薄膜磁気ヘッドの浮上
面素子部を研磨，洗浄する工程の後に、鉄，クロム，モ
リブデンを含有する金属酸化物被覆処理の工程を加える
ことにより、薄膜磁気ヘッドの浮上面素子部の腐食が抑
制され、また、円板との接触による磁気ヘッドの磁気特
性の劣化も抑制でき、磁気記録装置製造プロセスの信頼
性、及び装置出荷後の使用環境での耐摺動性を向上させ
ることができる。According to the present invention, a step of coating a metal oxide containing iron, chromium, and molybdenum is provided after the step of polishing and cleaning the air bearing surface element portion of the thin film magnetic head. Corrosion of the flying surface element of the head is suppressed, and deterioration of the magnetic characteristics of the magnetic head due to contact with the disk can also be suppressed. Thus, the reliability of the manufacturing process of the magnetic recording device and the durability in the use environment after the device is shipped. The slidability can be improved.
【図１】本発明を適用する薄膜磁気ヘッドの薄膜素子部
の構成を示す俯瞰図である。FIG. 1 is a bird's-eye view showing the configuration of a thin-film element section of a thin-film magnetic head to which the present invention is applied.
【図２】本発明を適用する再生記録分離型薄膜磁気ヘッ
ドの薄膜素子部の構成を示す俯瞰図である。FIG. 2 is a bird's-eye view showing a configuration of a thin film element section of a read / write separated thin film magnetic head to which the present invention is applied.
【図３】薄膜磁気ヘッドがロードアームに搭載された状
態を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a state in which the thin-film magnetic head is mounted on a load arm.
【図４】多元スパッタ装置の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a multi-source sputtering apparatus.
【図５】腐食試験結果を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the results of a corrosion test.
【図６】スパッタ装置の概略図である。FIG. 6 is a schematic view of a sputtering apparatus.
【図７】飽和磁化の変化量と酸化物皮膜の厚さとの関係
を示した図である。FIG. 7 is a diagram showing a relationship between a change amount of a saturation magnetization and a thickness of an oxide film.
【図８】ＣＶＤ装置の概略図である。FIG. 8 is a schematic view of a CVD apparatus.
【図９】金属酸化物を形成するための装置の概略図であ
る。FIG. 9 is a schematic view of an apparatus for forming a metal oxide.
【図１０】レーザーアブレーション装置の概略図であ
る。FIG. 10 is a schematic view of a laser ablation apparatus.
【図１１】本発明の実施例の薄膜磁気ヘッド加工プロセ
スを説明するフロー図である。FIG. 11 is a flowchart illustrating a thin-film magnetic head processing process according to an example of the present invention.
１…基板、２…下地膜、３…下部磁性膜、４…磁気ギャ
ップ膜、５…有機絶縁膜、６…導体コイル、７…上部磁
性膜固定治具、８…保護膜、９…薄膜磁気ヘッド、１０
…磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド、１１…書き込み用磁
気ヘッド、１２…再生用磁気抵抗型ヘッド、１３…信号
検出電極、１４…導体コイル、１５…上磁気コア材、１
６…下磁気コア材、１７…絶縁膜、１８…上部シールド
膜、１９…下部シールド膜、２０…磁気抵抗効果膜、２
１…上部ギャップ膜、２２…下部ギャップ膜、２３…非
磁性セラミクス基板、２４…ロードアーム、２５…浮上
面、３１…ロードロック室、３２…試料搬送装置、３３
…皮膜形成室、３４，３５，３６…ＲＦスパッタカソー
ド、３７…ＥＣＲ酸素イオン源、３８…真空チャンバ、
３９…基板、４０…金属酸化物ターゲット、４１…スパ
ッタカソード、４２…アルゴンガスボンベ、４３…高周
波電源、４４，４５，４６…有機化合物蒸気発生装置、
４７…アノード電極、４８…カソード電極、４９，５
０，５１…金属蒸発源、５２…酸素イオン源、５３…合
金ターゲット、５４…酸素ラジカル源、５５…光学窓、
５６…レーザー光源、５７…レンズ。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Under film, 3 ... Lower magnetic film, 4 ... Magnetic gap film, 5 ... Organic insulating film, 6 ... Conductor coil, 7 ... Upper magnetic film fixing jig, 8 ... Protective film, 9 ... Thin film magnetic Head, 10
... Magnetoresistance effect type thin film magnetic head, 11 ... Write magnetic head, 12 ... Reproduction magnetoresistance head, 13 ... Signal detection electrode, 14 ... Conductor coil, 15 ... Upper magnetic core material, 1
6 lower magnetic core material, 17 insulating film, 18 upper shield film, 19 lower shield film, 20 magnetoresistive film, 2
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Upper gap film, 22 ... Lower gap film, 23 ... Non-magnetic ceramic substrate, 24 ... Load arm, 25 ... Floating surface, 31 ... Load lock chamber, 32 ... Sample transfer device, 33
... film forming chamber, 34, 35, 36 ... RF sputtering cathode, 37 ... ECR oxygen ion source, 38 ... vacuum chamber,
39: substrate, 40: metal oxide target, 41: sputter cathode, 42: argon gas cylinder, 43: high frequency power supply, 44, 45, 46: organic compound vapor generator,
47: anode electrode, 48: cathode electrode, 49, 5
0, 51: metal evaporation source, 52: oxygen ion source, 53: alloy target, 54: oxygen radical source, 55: optical window,
56: laser light source, 57: lens.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 健也 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 加藤 隆弘 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 Ｆターム(参考） 5D033 BA11 BA15 CA06 5D034 BA02 BA19 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Kenya Ohashi 7-1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside Hitachi, Ltd. F-term in the Hitachi Storage Systems Division (Reference) 5D033 BA11 BA15 CA06 5D034 BA02 BA19
Claims (5)
ル，上部磁性薄膜が順次積層された磁気ヘッド素子部と
を備え、磁気記録媒体に対して情報を書き込み、読み出
しを行う薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気記録媒体に対向
する前記磁気ヘッド素子部の浮上面に、Ｆｅ−Ｍｏ，Ｃ
ｒ−Ｍｏ及びＦｅ−Ｃｒ−Ｍｏより選ばれた１つの金属
酸化物皮膜からなり、Ｍｏ量が３５原子％以下であるこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。1. A thin-film magnetic head, comprising: a substrate; and a magnetic head element section in which a lower magnetic film, a conductor coil, and an upper magnetic thin film are sequentially laminated on the substrate, and writes and reads information on and from a magnetic recording medium. In the method, Fe-Mo, C is provided on the air bearing surface of the magnetic head element portion facing the magnetic recording medium.
A thin-film magnetic head comprising one metal oxide film selected from r-Mo and Fe-Cr-Mo, wherein the Mo content is 35 atomic% or less.
を利用して磁気的信号を電気的信号に変換する磁気抵抗
効果膜とその磁気抵抗効果膜に信号検出電流を流す一対
の電極とを有する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド素子部
と、該磁気抵抗効果型磁気ヘッド素子部の上に下部磁性
膜，導体コイル，上部磁性膜が順次積層された磁気ヘッ
ド素子部とを備え、前記磁気ヘッド素子部によって磁気
記録媒体に対して情報を書き込みを行うとともに、前記
磁気抵抗効果型磁気ヘッド素子部によって磁気記録媒体
に対して情報の読み出しを行う薄膜磁気ヘッドにおい
て、磁気記録媒体に対向する前記磁気抵抗効果型磁気ヘ
ッド素子部および磁気ヘッド素子部の浮上面に、Ｆｅ−
Ｍｏ，Ｃｒ−Ｍｏ及びＦｅ−Ｃｒ−Ｍｏより選ばれた１
つの金属酸化物皮膜からなり、Ｍｏ量が３５原子％以下
であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。2. A substrate and a magnetoresistive film formed on the substrate for converting a magnetic signal into an electric signal using a magnetoresistive effect, and a pair of electrodes for passing a signal detection current through the magnetoresistive film. A magnetoresistive thin-film magnetic head element having: a magnetic head element in which a lower magnetic film, a conductor coil, and an upper magnetic film are sequentially laminated on the magnetoresistive magnetic head element; A thin-film magnetic head that writes information to a magnetic recording medium by a magnetic head element and reads information from the magnetic recording medium by the magnetoresistive magnetic head element faces a magnetic recording medium. The magnetic head element section and the magnetic head element section are provided with Fe-
1 selected from Mo, Cr-Mo and Fe-Cr-Mo
A thin-film magnetic head comprising two metal oxide films and having an Mo amount of 35 atomic% or less.
いて、金属酸化物中のＣｒ含有量が１５原子％以上、Ｍ
ｏ含有量が３５原子％以下、及び残部が鉄および酸素で
あることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。3. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the content of Cr in the metal oxide is 15 atomic% or more.
A thin-film magnetic head having an o content of 35 atomic% or less and the balance being iron and oxygen.
ヘッドにおいて、金属酸化物の厚さが０.５〜２０ｎｍ
であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。4. The thin-film magnetic head according to claim 1, wherein the thickness of the metal oxide is 0.5 to 20 nm.
A thin-film magnetic head, characterized in that:
ヘッドを搭載したことを特徴とする磁気記録装置。5. A magnetic recording apparatus comprising the thin-film magnetic head according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26665999A JP2001093115A (en) | 1999-09-21 | 1999-09-21 | Thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26665999A JP2001093115A (en) | 1999-09-21 | 1999-09-21 | Thin film magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001093115A true JP2001093115A (en) | 2001-04-06 |
Family
ID=17433912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26665999A Pending JP2001093115A (en) | 1999-09-21 | 1999-09-21 | Thin film magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001093115A (en) |
-
1999
- 1999-09-21 JP JP26665999A patent/JP2001093115A/en active Pending
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