JP2001091707A - 防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルム及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精細画像表示装置に好適な防眩性フィルム
を、簡便な方法で安定に製造することによって安価に供
給する。 【解決手段】 透明支持体上に防眩層を有する光学フィ
ルムにおいて、該防眩層のヘイズが４．０乃至５０．０
％であって、そのヘイズが１．０％以上の内部散乱と
３．０％以上の表面散乱の合計であることを特徴とする
防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルム及びそれを用
いた画像表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、防眩性フィルム、
防眩性反射防止フィルム及びそれを用いた画像表示装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】防眩性フィルムや反射防止フィルムは一
般に、ＣＲＴ、ＰＤＰやＬＣＤのような画像表示装置に
おいて、外光の反射による像の映り込みやコントラスト
低下を防止するために、凹凸による表面散乱や光学干渉
の原理を用いた低反射率化によってディスプレイの最表
面に配置される。

【０００３】近年、ＬＣＤやＰＤＰあるいはＣＲＴにお
いても、パソコンのモニタ用途等の高解像化に伴い、画
素の高精細化が進んでいる。特にＬＣＤではｐ−Ｓｉの
技術開発が進んだこともあってその変化は急速である。
この高精細画像表示装置に従来の外光の反射による映り
込みを防止する防眩性フィルムを用いると、画面上の至
る所にランダムに輝点のようなギラツキが発生する。こ
のギラツキは表面凹凸の曲率によりちょうとレンズのよ
うなものが形成され、ちょうどそのレンズの焦点と画素
の位置が一致するときに画素が拡大されることにより発
生する。防眩性フィルムの表面凹凸はランダムであるの
で、この焦点をコントロールすることはできず、結果と
してランダムにギラツキが発生してしまう。

【０００４】特開平１０−２６４２８４には紫外線硬化
樹脂と架橋アクリルビーズからなる高精細画像表示用の
防眩性フィルムが記載されている。これは０．５乃至
６．０μｍの比較的小さい粒子を用いてなお且つ粒子の
分散性を良化することによりなされている。これは一つ
一つの凹凸を小さくして、曲率は大きくすることによ
り、焦点の位置を全体として平均的に手前に設計してい
ると推測される。この方法である程度までは高精細画像
表示用となるが、やはり不十分である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、高精細画像表示装置に好適な防眩性フィルムを、簡
便な方法で安定に製造することによって安価に供給する
ことである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下のよ
うに達成された。 （１） 透明支持体上に防眩層を有する光学フィルムに
おいて、該防眩層のヘイズが４．０乃至５０．０％であ
って、そのヘイズが１．０乃至４０．０％の内部散乱と
３．０乃至３０％の表面散乱の合計であることを特徴と
する防眩性フィルム。 （２） 該防眩層が、防眩層を形成するバインダの屈折
率と０．０３以上異なる屈折率を有し、平均粒径が膜厚
の３分の１以下である散乱性粒子を含んでなることを特
徴とする（１）に記載の防眩性フィルム。 （３） 該防眩層が、膜厚の２分の１よりも大きい粒径
の粒子が、該粒子全体の４０乃至１００％を占める防眩
性粒子を含んでなることを特徴とする（１）に記載の防
眩性反射防止フィルム。 （４） 該防眩層が、防眩層を形成するバインダの屈折
率と０．０３以上異なる屈折率を有し、膜厚の２分の１
よりも大きい粒径の粒子が、該粒子全体の４０乃至１０
０％を占める散乱性防眩性粒子を含んでなることを特徴
とする（１）に記載の防眩性反射防止フィルム。 （５） （１）に記載の防眩層を形成する素材が、二以
上のエチレン性不飽和基を有するモノマーからなる防眩
性ハードコート層であることを特徴とする防眩性ハード
コートフィルム。 （６） （１）から（５）のいずれかに記載の防眩層上
に直接、または他の層を介して屈折率が１．３８乃至
１．４９の低屈折率層を有することを特徴とする防眩性
反射防止フィルム。 （７） 該低屈折率層が動摩擦係数０．０３乃至０．１
５、水に対する接触角９０乃至１２０°の熱または電離
放射線により架橋する含フッ素化合物を含んでなること
を特徴とする（６）に記載の防眩性反射防止フィルム。 （８） （６）または（７）に記載の防眩層を形成する
バインダの屈折率が１．５７乃至２．００であることを
特徴とする防眩性反射防止フィルム。 （９） （８）に記載の防眩層を形成するバインダが、
二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとチタ
ン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン
のうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒
径１００ｎｍ以下の微粒子とを電離放射線により架橋し
たものを含んでなることを特徴とする防眩性反射防止フ
ィルム。 （１０） （１）から（９）のいずれかに記載の防眩性
フィルムを偏光板における偏光層の２枚の保護フィルム
のうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする偏光
板。 （１１） （１）から（９）のいずれかに記載の防眩性
フィルムまたは（１０）に記載の防眩性偏光板の反射防
止層をディスプレイの最表層に用いたことを特徴とする
画像表示装置。

【０００７】レンズ効果によるギラツキを防止するため
には、高屈折率化により焦点を特開平１０−２６４２８
４よりさらに手前に設計する方法、焦点の位置を揃える
方法、レンズにおける集光をなくす方法等が考えられる
が、抜本的な解決としては集光をなくす方法が最も効果
的である。レンズによる集光をなくす方法は、光の直進
性を妨げることにより達成される。即ち表面凹凸のレン
ズにより集光すべく屈折した光が直進するのを、層内で
妨げればよい。これには内部で屈折率を不均一にする、
つまり屈折率分布型の不均一構造により光を曲げるか、
または屈折率の異なる散乱子、即ち散乱性粒子を添加す
る方法が挙げられる。中でも、簡便性から散乱性粒子を
用いた内部散乱効果を用いて、ギラツキを改良した高精
細画像表示用防眩フィルムを提供することができる。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の防眩性フィルム、防眩性
反射防止フィルムの基本的な構成を図面を引用しながら
説明する。

【０００９】図１（ａ）に示す態様は本発明の防眩性フ
ィルムの一例であり、透明支持体１１、防眩層１２の順
序の層構成を有する。１３は散乱性粒子であり、好まし
くは平均粒径が膜厚の３分の１以下であるために表面に
ほとんど凹凸を形成しない。また、内部散乱を生じさせ
るためには、防眩層を形成するバインダと散乱性粒子の
屈折率差が０．０３以上、好ましくは０．０５以上、よ
り好ましくは０．１以上であるとよい。１４は防眩性粒
子であり、好ましくは膜厚の２分の１よりも大きい粒子
が該粒子全体の４０乃至１００％を占めるために、表面
に凹凸を形成して防眩性を付与することができる。

【００１０】図１（ｂ）に示す態様は本発明の防眩性フ
ィルムの一例であり、図１（ａ）と異なり防眩層を２層
に分割して支持体側に内部散乱層１２ａ、表面側に防眩
層１２ｂを設けている。このように防眩層を２層に分割
することにより、内部散乱起因のヘイズと表面散乱起因
のヘイズを正確にコントロールすることが可能となる。
つまり、ヘイズは（凹凸の変化がなければ）加成性が成
り立つので、１２ａのみのヘイズ即ち内部散乱起因のヘ
イズをＨｉ、１２ｂまで塗布したときのヘイズをＨとす
ると、表面散乱起因のヘイズＨｓは下記式により記述さ
れる。

【００１１】Ｈｓ＝Ｈ−Ｈｉ

【００１２】また、内部散乱を独立にコントロールする
ためには、防眩層を形成するバインダと散防眩性粒子の
屈折率差が０．０３未満、好ましくは０．０２未満であ
るとよい。

【００１３】図１（ｃ）に示す態様は本発明の防眩性フ
ィルムの一例であり、図１（ａ）と異なり散乱粒子と防
眩性粒子の代わりに、散乱性防眩性粒子１５を用いてい
る。これにより内部散乱起因と表面散乱起因のヘイズを
独立にコントロールすることは難しくなるが、１種類の
粒子でよいため簡便に製造することができる。散乱性防
眩性粒子は、防眩層を形成するバインダとの屈折率差が
０．０３以上、好ましくは０．０５以上、より好ましく
は０．１以上であり、好ましくは膜厚の２分の１よりも
大きい粒子が該粒子全体の４０乃至１００％を占める。

【００１４】図２に示す態様は本発明の防眩性反射防止
フィルムの一例である。２１は低屈折率層であり、反射
防止層では、低屈折率層が下記式を満足することが好ま
しい。

【００１５】 ｍλ／４×０．７＜ｎ１ｄ１＜ｍλ／４×１．３

【００１６】式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は低屈
折率層の膜厚（ｎｍ）である。

【００１７】本発明の防眩層の屈折率は１つの値で記述
されない。散乱性粒子を添加することによって、防眩層
全体としては屈折率が一つの値で定義されない屈折率不
均一層となる。この屈折率不均一層により、防眩層と支
持体との屈折率差による光学干渉が引き起こす反射率の
波長依存性における大きな振幅やそれに伴う色むらが改
良された。

【００１８】透明支持体としては、プラスチックフイル
ムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムの材
料の例には、セルロースエステル（例、トリアセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロ
ース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセル
ロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロ
ヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−
１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシ
レート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン
（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフ
ィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチル
ペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポ
リアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタク
リレート及びポリエーテルケトンが含まれる。トリアセ
チルセルロース、ポリカーボネート、ポリエチレンテレ
フタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましい。
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ま
しく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支
持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、
１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体
の屈折率は、１．４乃至１．７であることが好ましい。

【００１９】画像表示装置の表面保護膜として用いると
いう観点からは、ＬＣＤに対してはトリアセチルセルロ
ースが、ＰＤＰ及びＣＲＴに対してはポリエチレンテレ
フタレートあるいはポリエチレンナフタレートが、その
他リアプロジェクション等にはそれらの支持体の他、ポ
リカーボネートが好ましい。

【００２０】防眩層を形成するバインダとしては特に限
定されない。製膜の観点からは高分子化合物または低分
子化合物が架橋して高分子量化したものが好ましい。ま
た画像表示装置の表面に用いるためには耐傷性が必要と
なるため、該防眩層にハードコート性を付与することが
好ましい。

【００２１】防眩層にハードコート性を付与するために
は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有す
るポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖
として有するポリマーであることが更に好ましい。バイ
ンダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭
化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽
和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋
しているバインダーポリマーを得るためには、二以上の
エチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好
ましい。

【００２２】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼ
ン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエス
テル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルス
ルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルア
ミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリ
マーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合
成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を
有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重
合反応により硬化させる必要がある。

【００２３】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラ
メトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造
を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロック
イソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋
性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において
架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した
結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基を
有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要が
ある。

【００２４】防眩層のバインダを高屈折率化するため
に、屈折率が１．５７以上、好ましくは１．６５以上の
高屈折率モノマーを用いることができる。高屈折率モノ
マーの例には、ビス（４−メタクリロイルチオフェニ
ル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルス
ルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキ
シフェニルチオエーテル等が含まれる。ポリエーテルを
主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の
開環重合反応により合成することが好ましい。これらの
エチレン性不飽和基を有するモノマーは、塗布後電離放
射線または熱による重合反応により硬化させる必要があ
る。

【００２５】また防眩層のバインダを高屈折率化するた
めに、チタン、アルミニウム、インジウム、ジルコニウ
ム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくと
も一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましく
は５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。微
粒子の例としては、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｚ
ｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、ＩＴＯ等が挙げら
れる。無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全重量
の１０乃至９０重量％であることが好ましく、２０乃至
８０重量％であると更に好ましく、３０乃至６０重量％
が特に好ましい。

【００２６】防眩層には防眩層を形成するバインダの屈
折率と０．０３以上異なる屈折率を有し、平均粒径が膜
厚の３分の１以下である散乱性粒子を用いることができ
る。前述の通り、この粒子は内部散乱を発生させるため
のものであり、この条件を満たしていれば特に限定され
ない。散乱性粒子としては、例えばポリメチルメタクリ
レート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アク
リル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベン
ゾグアナミン樹脂等の樹脂粒子、またはＴｉＯ ₂、Ａｌ₂
Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ、
ＺｒＯ₂、ＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂、アルミノシリケート等の
無機粒子が挙げられる。粒子は水及び有機溶剤に不溶の
ものが好ましい。防眩層に添加する散乱性粒子は、内部
散乱をコントロールするために２種類以上の粒子を組み
合わせて用いても構わない。

【００２７】防眩層には膜厚の２分の１よりも大きい粒
径の粒子が、該粒子全体の４０乃至１００％を占める防
眩性粒子を用いることができる。前述の通り、この粒子
は表面に凹凸を形成して防眩性を付与するためのもので
あり、この条件を満たしていれば特に限定されない。防
眩性粒子としては、例えばポリメチルメタクリレート樹
脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、
フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹
脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグア
ナミン樹脂等の樹脂粒子、またはＴｉＯ ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、
Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、ＩＴ
Ｏ、ＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂、アルミノシリケート等の無機粒
子が挙げられる。粒子は水及び有機溶剤に不溶のものが
好ましい。防眩層に添加する防眩性粒子は、表面凹凸を
コントロールするために２種類以上の粒子を組み合わせ
て用いても構わない。

【００２８】防眩層には防眩層を形成するバインダの屈
折率と０．０３以上異なる屈折率を有し、膜厚の２分の
１よりも大きい粒径の粒子が、該粒子全体の４０乃至１
００％を占める散乱性防眩性粒子を用いることができ
る。前述の通り、この粒子は内部散乱を発生させると共
に表面に凹凸を形成して防眩性を付与するためのもので
あり、この条件を満たしていれば特に限定されない。散
乱性防眩性粒子としては、例えばポリメチルメタクリレ
ート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコ
ーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン
樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリ
ル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾ
グアナミン樹脂等の樹脂粒子、またはＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ
₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂、
ＩＴＯ、ＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂、アルミノシリケート等の無
機粒子が挙げられる。粒子は水及び有機溶剤に不溶のも
のが好ましい。防眩層に添加する散乱性防眩性粒子は、
内部散乱及び表面凹凸をコントロールするために２種類
以上の粒子を組み合わせて用いても構わない。

【００２９】低屈折率層に用いる化合物としては、屈折
率が１．３８乃至１．４９の化合物であり、含フッ素化
合物が好ましい。防汚性及び耐傷性の観点から動摩擦係
数０．０３乃至０．１５、水に対する接触角９０乃至１
２０°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素化
合物がより好ましい。塗布性や膜硬度等を調節するため
に、他の化合物と併用してもよい。架橋性含フッ素化合
物としては、含フッ素モノマーや架橋性含フッ素ポリマ
ーが挙げられるが、塗布性の観点から架橋性含フッ素ポ
リマーが好ましい。

【００３０】架橋性の含フッ素ポリマーとしてはパーフ
ルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデ
カフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエト
キシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与
のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が
挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、
例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレ
ン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６Ｆ
Ｍ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）
等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であ
る。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジル
メタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能
基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボ
キシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等
を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メ
タ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒ
ドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリ
レート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架橋構造
を導入できることが特開平１０−２５３８８及び特開平
１０−１４７７３９に知られている。

【００３１】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−
エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレ
ン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチ
ルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリル
アミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シ
クロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド
類、アクリロ二トリル誘導体等の他、市販品としてはＪ
Ｎ−７２１９、ＪＮ−７２２１、ＪＮ−７２２５（いず
れもＪＳＲ（株）製）を挙げることができる。ＪＮ−７
２１９、ＪＮ−７２２１及びＪＮ−７２２５は滑り性も
有しており、低屈折率、滑り性、防汚性の両立の観点か
ら、低屈折率層にはＪＮ−７２１９、ＪＮ−７２２１、
ＪＮ−７２２５が好ましい。

【００３２】反射防止膜の各層は、ディップコート法、
エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエ
クストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号
明細書）により、塗布により形成することができる。二
以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法につ
いては、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８
号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細
書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉
書店（１９７３）に記載がある。

【００３３】反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置
（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反射防止
膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表
示装置の画像表示面に接着する。

【００３４】本発明を詳細に説明するために、以下に実
施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。

【００３５】

【実施例】（内部散乱層用塗布液の調製）ＵＶ架橋性ハ
ードコート材料（ＫＺ−７８７４、ＪＳＲ（株）製）を
イソプロパノール６７３．３ｇ、メチルイソブチルケト
ン１４６．７ｇの混合溶媒に加えた。これを撹拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．５０であった。さらに平均粒径５０ｎｍの二
酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、屈折率２．７、石
原産業（株）製）４ｇを添加、攪拌して内部散乱層用塗
布液を調製した。

【００３６】（防眩層用塗布液Ａの調製）ＵＶ架橋性ハ
ードコート材料（ＫＺ−７８７４、ＪＳＲ（株）製）を
イソプロパノール６７３．３ｇ、メチルイソブチルケト
ン１４６．７ｇの混合溶媒に加えた。これを撹拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．５０であった。さらに平均粒径５．０μの架
橋アクリル粒子（ＭＸ−５００Ｈ、綜研化学（株）製）
１．３ｇ、平均粒径３．０μの架橋アクリル粒子（ＭＸ
−３００Ｈ、綜研化学（株）製）５ｇ及び平均粒径５０
ｎｍの二酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ、屈折率
２．７、石原産業（株）製）４ｇを添加、攪拌して防眩
層用塗布液Ａを調製した。

【００３７】（防眩層用塗布液Ｂの調製）シクロヘキサ
ノン１０４．１ｇ、メチルエチルケトン６１．３ｇの混
合溶媒に、エアディスパで攪拌しながら酸化ジルコニウ
ム分散物含有ハードコート塗布液（ＫＺ−７８８６Ａ、
ＪＳＲ（株）製）２１７．０ｇ、を添加した。この溶液
を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６
１であった。さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポ
リスチレン粒子（ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）
５ｇ及び平均粒径５０ｎｍの二酸化チタン微粒子（ＴＴ
Ｏ−５５Ｂ、屈折率２．７、石原産業（株）製）８ｇを
添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪
拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィ
ルターでろ過して防眩層用塗布液Ｂを調製した。

【００３８】（防眩層用塗布液Ｃの調製）ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフ
ェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化（株）製）
１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘ
キサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒に溶解した。得
られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バガイギー社製）５．０ｇ及び光増感剤（カヤキュアー
ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３．０ｇを４９ｇのメチ
ルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗
布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０で
あった。さらにこの溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリス
チレン粒子（ＳＸ−２００Ｈ、綜研化学（株）製）１０
ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時
間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製
フィルターでろ過して防眩層用塗布液Ｄを調製した。

【００３９】（防眩層用塗布液Ｄの調製）ＵＶ架橋性ハ
ードコート材料（ＫＺ−７８７４、ＪＳＲ（株）製）を
イソプロパノール６７３．３ｇ、メチルイソブチルケト
ン１４６．７ｇの混合溶媒に加えた。これを撹拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．５０であった。さらに平均粒径５．０μの架
橋アクリル粒子（ＳＸ−５０７、綜研化学（株）製）１
０ｇを添加、攪拌して防眩層用塗布液Ｄを調製した。

【００４０】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）屈折率
１．４６の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
１、ＪＳＲ（株）製）２００ｇにメチルイソブチルケト
ンを２００ｇ添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピ
レン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調
製した。

【００４１】［実施例１］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記の防眩層用塗布液Ａをバー
コーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０
Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィッ
クス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照
射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬
化させ、厚さ３μｍの防眩層を形成した。防眩層膜厚の
２分の１である１．５μｍより大きい粒径の粒子はＭＸ
−５００Ｈ、ＭＸ−３００Ｈともほぼ１００％である。

【００４２】［実施例２］１８８μｍの厚さの下塗り付
きポリエチレンテレフタレートフィルム（Ａ−４１０
０、東洋紡（株）製）に、上記の防眩層用塗布液Ｂをバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６
０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィ
ックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、
照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、厚さ１．５μｍの防眩層を形成した。防眩層
膜厚の２分の１である０．７５μｍより大きい粒径の粒
子ＳＸ−２００Ｈはほぼ１００％である。

【００４３】［実施例３］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記の内部散乱層用塗布液をバ
ーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６
０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィ
ックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、
照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、厚さ３μｍの内部散乱層を形成した。その上
に、上記の防眩層用塗布液Ｃをバーコーターを用いて塗
布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタ
ルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用
いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃ
ｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１．５
μｍの防眩層を形成した。防眩層の膜厚の２分の１であ
る０．７５μｍより大きい粒径の粒子ＳＸ−２００Ｈは
ほぼ１００％である。その上に、上記低屈折率層用塗布
液Ａをバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の
後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９
６μｍの低屈折率層を形成した。

【００４４】［実施例４］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記の防眩層用塗布液Ｄをバー
コーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０
Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィッ
クス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照
射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬
化させ、厚さ５μｍの防眩層を形成した。防眩層の膜厚
の２分の１である２．５μｍより大きい粒径の粒子ＳＸ
−５０７はほぼ１００％である。その上に、上記低屈折
率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、８０℃
で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ
０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００４５】［比較例１］二酸化チタン微粒子を添加し
ない他は、実施例１と同様にして比較例１を作成した。

【００４６】［比較例２］防眩層の厚みを５μｍにする
他は、実施例２と同様にして比較例２を作成した。防眩
層膜厚の２分の１である２．５μｍより大きい粒径の粒
子ＳＸ−２００Ｈは１０％未満である。

【００４７】［比較例３］内部散乱層に二酸化チタン微
粒子を添加しない他は、実施例３と同様にして比較例３
を作成した。

【００４８】（防眩性フィルムの評価）得られたフィル
ムについて、以下の項目の評価を行った。 （１）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。ヘイズは散乱性粒子のみの場合のヘイズも併せて
測定し、内部散乱起因ヘイズと表面散乱起因ヘイズに分
離した。 （２）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規
定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて ｎ＝５の評価において傷が全く認められない ：○ ｎ＝５の評価において傷が１または２つ ：△ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：× （３）平均反射率 防眩性反射防止フィルムについて、分光光度計（日本分
光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域
において、入射角５°における分光反射率を測定した。
結果には４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を用いた。 （４）接触角、指紋付着性評価 防眩性反射防止フィルムについて、表面の耐汚染性の指
標として、光学材料を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２
時間調湿した後、水に対する接触角を測定した。またこ
のサンプル表面に指紋を付着させてから、それをクリー
ニングクロスで拭き取ったときの状態を観察して、以下
のように指紋付着性を評価した。 指紋が完全に拭き取れる ：○ 指紋がやや見える ：△ 指紋がほとんど拭き取れない ：×

【００４９】（５）動摩擦係数測定 防眩性反射防止フィルムについて、表面滑り性の指標と
して動摩擦係数にて評価した。動摩擦係数は試料を２５
℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＥＩＤＯＮ
−１４動摩擦測定機により５ｍｍφステンレス鋼球、荷
重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎにて測定した値を用
いた。 （６）防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ ²）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ：△ 蛍光灯がほとんどぼけない ：× （７）ギラツキ評価 作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 ほとんどギラツキが見られない ：○ わずかにギラツキがある ：△ 目で識別できるサイズのギラツキがある ：× 表１に実施例及び比較例の結果を示す。

【００５０】

【表１】

【００５１】実施例４のヘイズの内訳は、防眩層膜厚を
３０μｍにすることにより、表面凹凸をほとんど無くし
て内部散乱のみのヘイズとし、実際の膜厚５μｍに換算
した。

【００５２】次に、実施例３のフィルムを用いて防眩性
反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて反射防
止層を最表層に配置した液晶表示装置を作成したとこ
ろ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが
得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を
有していた。画素のギラツキもほとんど見られなかっ
た。

【００５３】

【発明の効果】本発明によれば、高精細画像表示装置に
好適な防眩性フィルムを、簡便な方法で安定に製造する
ことによって安価に供給することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）防眩性フィルムの代表的な層構成を示す
断面図である。 （ｂ）防眩性フィルムの代表的な層構成を示す断面図で
ある。 （ｃ）防眩性フィルムの代表的な層構成を示す断面図で
ある。

【図２】防眩性反射防止フィルムの代表的な層構成を示
す断面図である。

【符号の説明】

１１ 透明支持体 １２ 防眩層 １２ａ 内部散乱層 １２ｂ 防眩層 １３ 散乱性粒子 １４ 防眩性粒子 １５ 散乱性防眩性粒子 ２１ 低屈折率層

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に防眩層を有する光学フィ
   ルムにおいて、該防眩層のヘイズが４．０乃至５０．０
   ％であって、そのヘイズが１．０％以上の内部散乱と
   ３．０％以上の表面散乱の合計であることを特徴とする
   防眩性フィルム。
2. 【請求項２】 該防眩層が、防眩層を形成するバインダ
   の屈折率と０．０３以上異なる屈折率を有し、平均粒径
   が膜厚の３分の１以下である散乱性粒子を含んでなるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルム。
3. 【請求項３】 該防眩層が、膜厚の２分の１よりも大き
   い粒径の粒子が、該粒子全体の４０乃至１００％を占め
   る防眩性粒子を含んでなることを特徴とする請求項１に
   記載の防眩性反射防止フィルム。
4. 【請求項４】 該防眩層が、防眩層を形成するバインダ
   の屈折率と０．０３以上異なる屈折率を有し、膜厚の２
   分の１よりも大きい粒径の粒子が、該粒子全体の４０乃
   至１００％を占める散乱性防眩性粒子を含んでなること
   を特徴とする請求項１に記載の防眩性反射防止フィル
   ム。
5. 【請求項５】 請求項１に記載の防眩層を形成する素材
   が、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーから
   なる防眩性ハードコート層であることを特徴とする防眩
   性ハードコートフィルム。
6. 【請求項６】 請求項１から５のいずれかに記載の防眩
   層上に直接、または他の層を介して屈折率が１．３８乃
   至１．４９の低屈折率層を有することを特徴とする防眩
   性反射防止フィルム。
7. 【請求項７】 該低屈折率層が動摩擦係数０．０３乃至
   ０．１５、水に対する接触角９０乃至１２０°の熱また
   は電離放射線により架橋する含フッ素化合物を含んでな
   ることを特徴とする請求項６に記載の防眩性反射防止フ
   ィルム。
8. 【請求項８】 請求項６または７に記載の防眩層を形成
   するバインダの屈折率が１．５７乃至２．００であるこ
   とを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の防眩層を形成するバイ
   ンダが、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマー
   とチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アン
   チモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物から
   なる粒径１００ｎｍ以下の微粒子とを電離放射線により
   架橋したものを含んでなることを特徴とする防眩性反射
   防止フィルム。
10. 【請求項１０】 請求項１から９のいずれかに記載の防
    眩性フィルムを偏光板における偏光層の２枚の保護フィ
    ルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴とする
    偏光板。
11. 【請求項１１】 請求項１から９のいずれかに記載の防
    眩性フィルムまたは請求項１０に記載の防眩性偏光板の
    反射防止層をディスプレイの最表層に用いたことを特徴
    とする画像表示装置。