JP2001083528A - Liquid crystal device, its production, substrate with spacer and its production - Google Patents
Liquid crystal device, its production, substrate with spacer and its productionInfo
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等に使用される
液晶素子及びその製造方法に関し、さらには、液晶素子
の構成部材であるスペーサー付き基板及びその製造方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal element used for a color television, a personal computer, a pachinko game board, and the like, and a method of manufacturing the same. About.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発展に伴い、カラ
ー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しか
しながら、さらなる普及のためには、コストダウンが必
要不可欠となっている。2. Description of the Related Art In recent years, the development of personal computers,
In particular, with the development of portable personal computers, the demand for color liquid crystal displays tends to increase. However, cost reduction is indispensable for further spread.
【0003】従来、液晶素子の製造方法としては、一対
の透明な絶縁性基板であるガラス基板上にTFT(薄膜
トランジスタ)のような液晶駆動用素子、或いはカラー
フィルタのような着色用光学素子などを設けた後、透明
電極及び配向膜をそれぞれ形成する。次に、透明電極及
び配向膜が形成された一方のガラス基板面側の全面に一
般に3〜10μm程度のシリカ、アルミナ、合成樹脂等
からなる真球或いは円筒状の粒子をスペーサーとして分
散させる。透明電極を対向させた状態で上記一対のガラ
ス基板を上記スペーサを介して重ね合わせ、その間隙に
液晶を封入することにより液晶素子が構成される。Conventionally, as a method of manufacturing a liquid crystal element, a liquid crystal driving element such as a TFT (thin film transistor) or a coloring optical element such as a color filter is provided on a pair of transparent insulating substrates on a glass substrate. After the provision, a transparent electrode and an alignment film are formed. Next, generally spherical or cylindrical particles of silica, alumina, synthetic resin or the like having a size of about 3 to 10 μm are dispersed as spacers over the entire surface of the glass substrate on which the transparent electrode and the alignment film are formed. A liquid crystal element is formed by stacking the pair of glass substrates with the transparent electrodes facing each other via the spacers and sealing a liquid crystal in a gap therebetween.
【0004】ところが、有効画素部では透明/遮光状態
が表示状態によって変化するため、上記スペーサーを無
色透明な素材で形成した場合には、遮光時に輝点とし
て、また、黒色に着色した場合には透過時に黒点として
観察されることとなり、表示品位が低下するという問題
があった。However, in the effective pixel portion, the transparent / light-shielded state changes depending on the display state. Therefore, when the spacer is formed of a colorless and transparent material, it is used as a bright point at the time of light-shielding, and when the spacer is colored black. There is a problem that black spots are observed at the time of transmission and display quality is deteriorated.
【0005】上記問題を解決するために、特開昭61−
173221号公報、特開平2−223922号公報な
どに示されるように、配向膜に配向処理を行った後、感
光性ポリイミドやフォトレジストを塗布し、マスクを通
して露光することで有効画素部以外にポリイミドやレジ
ストからなるスペーサーを形成するという方法が提案さ
れている。これらの方法によれば、任意の場所に、任意
の密度でスペーサーを形成することができるため、液晶
を封入した際の液晶セルギャップの不均一性を改善でき
る。また、特開平3−94230号公報には、有効画素
部以外の領域の感光層上にビーズスペーサーを固定する
方法が記載されている。In order to solve the above problem, Japanese Patent Application Laid-Open No.
As shown in 173221, JP-A-2-223922, etc., after performing an alignment treatment on an alignment film, a photosensitive polyimide or a photoresist is applied, and exposed through a mask to obtain a polyimide other than an effective pixel portion. And a method of forming a spacer made of resist. According to these methods, a spacer can be formed at an arbitrary density at an arbitrary place, and therefore, the non-uniformity of a liquid crystal cell gap when a liquid crystal is sealed can be improved. Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-94230 describes a method of fixing a bead spacer on a photosensitive layer in a region other than an effective pixel portion.
【0006】その他にも、膜厚の大きなブラックマトリ
クスをスペーサーとする方法(特開昭63−23703
2号公報、特開平3−184022号公報、特開平4−
122914号公報等)、重ねた着色レジストをスペー
サーとする方法(特開昭63−82405号公報)、ブ
ラックマトリクス上にも着色パターンを形成し、スペー
サーとする方法(特開昭63−237032号公報)な
どが提案されている。Another method is to use a black matrix having a large thickness as a spacer (Japanese Patent Laid-Open No. 63-23703).
No. 2, JP-A-3-184022, JP-A-4-184
122914), a method of using a colored resist overlapped as a spacer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-82405), and a method of forming a colored pattern on a black matrix and using it as a spacer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-237032). ) Has been proposed.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記各
公報に提案された改善方法は、いずれもフォトリソグラ
フィーを用いた方法であるため、高価な露光機が必要で
あり、また現像などのウエットプロセスの導入により、
製造ラインが長くなるという問題があった。However, all of the improvement methods proposed in the above publications use photolithography, so that an expensive exposure machine is required, and a wet process such as development is required. With the introduction,
There is a problem that the production line becomes long.
【0008】また、上記各改善方法では、ラビング方法
などにより配向処理を行ったポリイミド膜などの配向膜
上に直接、感光性ポリイミドやフォトレジストなどを塗
布し、露光後は不要部を溶剤などにより除去する必要が
ある。これらの工程は、上記配向膜に施された配向処理
状態を著しく汚染、破壊してしまう場合があり、液晶セ
ル内に注入された液晶の配向が不均一となる懸念があっ
た。In each of the above-mentioned improvement methods, a photosensitive polyimide or a photoresist is applied directly on an alignment film such as a polyimide film which has been subjected to an alignment treatment by a rubbing method or the like, and after exposure, unnecessary portions are exposed to a solvent or the like. Need to be removed. These steps may significantly contaminate or destroy the alignment treatment state applied to the alignment film, and there is a concern that the alignment of the liquid crystal injected into the liquid crystal cell may be non-uniform.
【0009】従って、本発明は上述した課題に鑑みてな
されたものであり、その目的は、コスト上昇を招くこと
なく、有効画素部及び非有効画素部のいずれにもスペー
サーによる表示上の影響が無く、表示品位に優れた液晶
素子の製造方法及びそれにより製造された液晶素子を提
供することである。Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned problem, and an object of the present invention is to prevent the effect of the spacer on the display by both the effective pixel portion and the non-effective pixel portion without increasing the cost. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal element having excellent display quality and a liquid crystal element manufactured by the method.
【0010】また、本発明の他の目的は、液晶素子の構
成部材であるスペーサー付き基板及びその製造方法を提
供することである。Another object of the present invention is to provide a substrate with a spacer, which is a constituent member of a liquid crystal element, and a method of manufacturing the same.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決し、
目的を達成するために、本発明に係わる液晶素子の製造
方法は、一対の基板をスペーサーを介して対向配置し、
該基板間に液晶化合物を挟持してなる液晶素子の製造方
法であって、前記一対の基板のうちの一方の基板上に、
スペーサー形成材料を同一箇所に複数回に分けて付与し
て硬化させ、前記一対の基板の間隔を規定するスペーサ
ーを形成するスペーサー形成工程と、前記一対の基板
を、前記スペーサーを挟んで対向配置する配置工程と、
前記対向配置された一対の基板間に液晶化合物を封入す
る封入工程とを具備することを特徴としている。Means for Solving the Problems To solve the above-mentioned problems,
In order to achieve the object, a method for manufacturing a liquid crystal element according to the present invention includes disposing a pair of substrates to face each other via a spacer,
A method for manufacturing a liquid crystal element having a liquid crystal compound sandwiched between the substrates, wherein on one of the pair of substrates,
A spacer forming material is applied to the same place in a plurality of times and cured, and a spacer forming step of forming a spacer that defines the interval between the pair of substrates, and the pair of substrates are arranged to face each other with the spacer interposed therebetween. Placement process,
And a sealing step of sealing a liquid crystal compound between the pair of substrates arranged opposite to each other.
【0012】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサー形成材料を同一箇所に複数
回付与する場合に、2回目以降のスペーサー形成材料の
付与量は、1回目の付与量より少なくすることを特徴と
している。In the method of manufacturing a liquid crystal element according to the present invention, when the spacer forming material is applied to the same place a plurality of times, the amount of the spacer forming material applied after the second time is smaller than the first applied amount. It is characterized by doing.
【0013】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサー形成材料を同一箇所に複数
回付与する場合に、先に付与したスペーサー形成材料を
ある程度硬化させた後に、後のスペーサー形成材料の付
与を行うことを特徴としている。In the method of manufacturing a liquid crystal element according to the present invention, when the spacer forming material is applied to the same place a plurality of times, the spacer forming material which has been previously applied is cured to a certain extent, and then the subsequent spacer forming material is cured. Is provided.
【0014】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサーが形成される基板が、透明
基板上に着色層を備えたカラーフィルタを用いて構成さ
れていることを特徴としている。Further, in the method for manufacturing a liquid crystal element according to the present invention, the substrate on which the spacer is formed is formed using a color filter having a colored layer on a transparent substrate.
【0015】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサーが形成される基板が、画素
毎にアクティブ素子を備えたアクティブマトリクス基板
であることを特徴としている。Further, in the method of manufacturing a liquid crystal element according to the present invention, the substrate on which the spacer is formed is an active matrix substrate provided with an active element for each pixel.
【0016】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサー形成材料は、硬化性樹脂か
らなることを特徴としている。Further, in the method of manufacturing a liquid crystal element according to the present invention, the spacer forming material is made of a curable resin.
【0017】また、この発明に係わる液晶素子の製造方
法において、前記スペーサー形成材料をインクジェット
方式により付与することを特徴としている。Further, in the method for manufacturing a liquid crystal element according to the present invention, the spacer forming material is applied by an ink jet method.
【0018】また、本発明の液晶素子は、上記の液晶素
子の製造方法により製造されたことを特徴としている。Further, a liquid crystal element of the present invention is characterized by being manufactured by the above-described method for manufacturing a liquid crystal element.
【0019】また、本発明に係わるスペーサー付き基板
の製造方法は、基板上に、スペーサー形成材料を同一箇
所に複数回に分けて付与して硬化させることによりスペ
ーサー付き基板を形成することを特徴としている。Further, the method of manufacturing a substrate with a spacer according to the present invention is characterized in that a substrate with a spacer is formed on a substrate by applying a spacer-forming material to the same portion in a plurality of times and curing the same. I have.
【0020】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサー形成材料を同一
箇所に複数回付与する場合に、2回目以降のスペーサー
形成材料の付与量は、1回目の付与量より少なくするこ
とを特徴としている。In the method of manufacturing a substrate with a spacer according to the present invention, when the spacer forming material is applied to the same place a plurality of times, the amount of the spacer forming material to be applied for the second and subsequent times is smaller than that of the first time. The feature is to reduce it.
【0021】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサー形成材料を同一
箇所に複数回付与する場合に、先に付与したスペーサー
形成材料をある程度硬化させた後に、後のスペーサー形
成材料の付与を行うことを特徴としている。In the method of manufacturing a substrate with spacers according to the present invention, when the spacer-forming material is applied to the same place a plurality of times, the spacer-forming material previously applied is cured to some extent, and then the spacer-forming material is applied. It is characterized in that material is applied.
【0022】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサーが形成される基
板が、透明基板上に着色層を備えたカラーフィルタを用
いて構成されていることを特徴としている。Further, in the method of manufacturing a substrate with a spacer according to the present invention, the substrate on which the spacer is formed is configured using a color filter having a colored layer on a transparent substrate.
【0023】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサーが形成される基
板が、画素毎にアクティブ素子を備えたアクティブマト
リクス基板であることを特徴としている。In the method for manufacturing a substrate with spacers according to the present invention, the substrate on which the spacers are formed is an active matrix substrate having an active element for each pixel.
【0024】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサー形成材料は、硬
化性樹脂からなることを特徴としている。Further, in the method of manufacturing a substrate with a spacer according to the present invention, the spacer forming material is made of a curable resin.
【0025】また、この発明に係わるスペーサー付き基
板の製造方法において、前記スペーサー形成材料をイン
クジェット方式により付与することを特徴としている。Further, in the method of manufacturing a substrate with a spacer according to the present invention, the spacer forming material is applied by an ink jet method.
【0026】また、本発明に係わるスペーサー付き基板
は、上記のスペーサー付き基板の製造方法により製造さ
れたことを特徴としている。Further, a substrate with a spacer according to the present invention is characterized by being manufactured by the above-described method for manufacturing a substrate with a spacer.
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な一実施形態
について、添付図面を参照して詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
【0028】なお、本明細書においては従来公知のイン
クジェット方式についてインクの代わりにスペーサー素
材を吐出するものを便宜上インクジェット方式と呼ぶ。In the present specification, a conventionally known ink jet system which discharges a spacer material instead of ink is referred to as an ink jet system for convenience.
【0029】図1は、本発明の液晶素子の製造方法の一
実施形態の工程のうち、スペーサー付基板を形成するま
での工程を示す模式図である。本実施形態は、一方の基
板を透明基板上に着色層と保護層を備えたカラーフィル
タを用いて構成し、該基板上にスペーサーを形成する例
である。図中、1は透明基板、2はブラックマトリク
ス、3は着色層、4は保護層、5は透明電極、6は配向
膜、8はインクジェットヘッド、9は硬化性インク、1
0はスペーサーである。尚、図1の(a)〜(g)はそ
れぞれ以下の工程(a)〜(g)にそれぞれ対応する断
面模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing the steps up to the formation of a substrate with spacers in the steps of one embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal element of the present invention. This embodiment is an example in which one substrate is formed using a color filter provided with a coloring layer and a protective layer on a transparent substrate, and a spacer is formed on the substrate. In the figure, 1 is a transparent substrate, 2 is a black matrix, 3 is a colored layer, 4 is a protective layer, 5 is a transparent electrode, 6 is an alignment film, 8 is an inkjet head, 9 is a curable ink,
0 is a spacer. 1A to 1G are schematic sectional views respectively corresponding to the following steps (a) to (g).
【0030】工程(a) 透明基板1上に、必要に応じてブラックマトリクス2を
形成する。本発明において透明基板1としては、一般に
ガラス基板が用いられるが、液晶素子としての透明性、
機械的強度等の必要特性を有するものであればガラス基
板に限定されるものではなく、プラスチック基板なども
用いることができる。Step (a) A black matrix 2 is formed on a transparent substrate 1 as required. In the present invention, a glass substrate is generally used as the transparent substrate 1; however, transparency as a liquid crystal element,
The substrate is not limited to a glass substrate as long as it has necessary characteristics such as mechanical strength, and a plastic substrate or the like can be used.
【0031】ブラックマトリクス2としては特に制限は
なく、公知のものを用いることができる。例えば、透明
基板1上に形成したCr等の金属や金属酸化物などの積
層膜をパターン状にエッチングしたり、透明基板1上に
塗布した黒色レジストをパターニングすることより、形
成することができる。The black matrix 2 is not particularly limited, and a known one can be used. For example, it can be formed by etching a laminated film of a metal such as Cr or a metal oxide formed on the transparent substrate 1 into a pattern, or patterning a black resist applied on the transparent substrate 1.
【0032】工程(b) 透明基板上にカラーフィルタのR(赤)、G(緑)、B
(青)の3原色の着色層3を形成する。本発明において
着色層3の形成方法は特に限定されず、公知の技術が用
いられる。例えば、顔料を分散した光硬化性樹脂組成物
を用いた顔料分散方、基板上に成膜した樹脂被膜を染料
を用いて染色した染色方、導電性基板上に通電しながら
着色組成物を電着せしめることにより着色層を形成する
電着法、印刷技術を応用した印刷法、熱転写技術を応用
した熱転写法などが挙げられる。また、コスト面から考
えると、1工程で3色の着色層を同時に形成しうるイン
クジェット方式を利用した方が望ましい。Step (b) R (red), G (green), and B color filters on a transparent substrate
A colored layer 3 of three primary colors (blue) is formed. In the present invention, the method for forming the colored layer 3 is not particularly limited, and a known technique is used. For example, a method of dispersing a pigment using a photocurable resin composition in which a pigment is dispersed, a method of dyeing a resin film formed on a substrate with a dye, and a method of applying a colored composition while supplying electricity to a conductive substrate. Examples include an electrodeposition method in which a colored layer is formed by applying a color, a printing method using a printing technique, and a thermal transfer method using a thermal transfer technique. Further, from the viewpoint of cost, it is preferable to use an ink jet system which can simultaneously form three colored layers in one step.
【0033】また、着色層3は、特に本発明に係るスペ
ーサー10を形成する基板側に設ける必要はなく、液晶
素子を構成する一対の基板のいずれか一方に形成すれば
よい。The coloring layer 3 need not be provided on the substrate on which the spacer 10 according to the present invention is formed, but may be formed on one of the pair of substrates constituting the liquid crystal element.
【0034】工程(c) 必要に応じて保護層4を形成する。保護層4としては、
光照射または熱処理、或いはこれらの両方により硬化可
能な樹脂層、或いは蒸着またはスパッタによって形成さ
れた無機膜等を用いることができ、カラーフィルタとし
ての透明性を有し、その後のITO膜形成工程や配向膜
形成工程等に耐えうるものであれば使用可能である。Step (c) If necessary, a protective layer 4 is formed. As the protective layer 4,
A resin layer curable by light irradiation or heat treatment, or both, or an inorganic film formed by vapor deposition or sputtering can be used, and has transparency as a color filter. Any material that can withstand the alignment film forming step or the like can be used.
【0035】工程(d) 必要に応じて透明導電膜5を形成する。透明導電膜5は
通常ITOをスパッタ等で成膜したものが用いられる
が、特にITOに限定されるものではなく、形成方法も
限定されない。Step (d) A transparent conductive film 5 is formed if necessary. The transparent conductive film 5 is usually formed by depositing ITO by sputtering or the like, but is not particularly limited to ITO, and the forming method is not limited.
【0036】工程(e) 必要に応じて配向膜6を先に形成する。配向膜6の形成
方法、材質は特に限定されるものではなく、公知のもの
を用いることができる。また、適宜公知の方法によりラ
ビングを行っても良い。Step (e) If necessary, the alignment film 6 is formed first. The method and material for forming the alignment film 6 are not particularly limited, and known materials can be used. Rubbing may be appropriately performed by a known method.
【0037】工程(f) 本基板をスペーサー描画機に配置し、カラーフィルタの
着色層3を形成するときに用いたアライメントマーク
(図示しない)を利用して基板アライメントを行い、イ
ンクジェットヘッド8を用い、硬化性インク9を有効画
素部に吐出する。Step (f) The present substrate is placed on a spacer drawing machine, the substrate is aligned using an alignment mark (not shown) used when forming the colored layer 3 of the color filter, and the inkjet head 8 is used. Then, the curable ink 9 is discharged to the effective pixel portion.
【0038】この時、本実施形態においては、図3に示
すように、硬化性インク9をインクジェットヘッド8に
より基板上の同一箇所に複数回吐出することにより、ス
ペーサー10を形成する。これは、1回の吐出だけで
は、硬化性インク9が配向膜6上に広がってしまい、ス
ペーサーとして必要とされる高さが得られにくいためで
ある。なお、このように硬化性インク9を同一箇所に複
数回吐出する場合、後から吐出する硬化性インクほどそ
の量を少なくしたり、先に吐出した硬化性インクをある
程度硬化させた後にその上にさらに硬化性インクを吐出
したりすることにより、スペーサーの必要高さがより得
られやすくなる。At this time, in this embodiment, as shown in FIG. 3, the curable ink 9 is ejected to the same place on the substrate a plurality of times by the ink jet head 8 to form the spacer 10. This is because the curable ink 9 spreads on the alignment film 6 by only one ejection, and it is difficult to obtain a height required as a spacer. When the curable ink 9 is ejected to the same place a plurality of times as described above, the amount of the curable ink ejected later is reduced, or the curable ink ejected earlier is cured to some extent, Further, by discharging the curable ink, the required height of the spacer can be more easily obtained.
【0039】図4は、本実施形態における、スペーサー
の目標形状の一例を示す側断面図である。既に図3で示
したように、後から吐出する硬化性インクほど量を少な
くし、スペーサーを図4に示すような台形形状にするこ
とが、スペーサーの高さをかせぐ点で好ましい。FIG. 4 is a side sectional view showing an example of a target shape of the spacer in the present embodiment. As already shown in FIG. 3, it is preferable to reduce the amount of the curable ink discharged later and to make the spacer a trapezoidal shape as shown in FIG. 4 from the viewpoint of increasing the height of the spacer.
【0040】なお、図3の例では、基板上の同一箇所に
硬化性インク9を3回吐出してスペーサー10を形成す
る例を示しているが、本発明は、3回の吐出に限定され
るものではなく、必要に応じて2回、あるいは4回以上
の吐出でスペーサーを形成してもよい。Although FIG. 3 shows an example in which the curable ink 9 is ejected three times to the same place on the substrate to form the spacers 10, the present invention is limited to the three ejections. Instead, the spacer may be formed by two or four or more discharges as necessary.
【0041】硬化性インク9は、硬化後にスペーサー1
0となるスペーサー形成素材であり、硬化性成分を含有
し、インクジェットヘッドを用いて吐出が可能であり、
且つ、後処理により硬化し得るものであれば、いずれの
材料を用いてもかまわない。好ましくは、以下に挙げる
ような単量体の単独重合体或いは該単量体と他のビニル
系単量体との共重合体をインク中に含有しており、その
含有量は0.01〜30重量%が好ましく、特に0.1
〜15重量%が望ましい。The curable ink 9 contains the spacer 1 after curing.
It is a spacer forming material that becomes 0, contains a curable component, and can be discharged using an inkjet head,
In addition, any material may be used as long as it can be cured by post-processing. Preferably, the ink contains a homopolymer of the monomers listed below or a copolymer of the monomer and another vinyl monomer in the ink, and the content is 0.01 to 30% by weight is preferred, especially 0.1%.
-15% by weight is desirable.
【0042】硬化性インク9に含有される重合体或いは
共重合体の構成成分である単量体としては、例えば、
N,N−ジメチロールアクリルアミド、N,N−ジメト
キシメチルアクリルアミド、N,N−ジエトキシメチル
アクリルアミド、N,N−ジメチロールメタクリルアミ
ド、N,N−ジメトキシメチルメタクリルアミド、N,
N−ジエトキシメチルメタクリルアミド等が挙げられる
が、これに限られるものではない。これらの単量体は単
独重合体、或いは、他のビニル系単量体との共重合体で
用いられる。他のビニル系単量体としては、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、ヒドロキシ
メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシエチル
アクリレート等の水酸基を含有したビニル系単量体、そ
の他スチレン、α−メチルスチレン、アクリルアミド、
メタクリルアミド、アクリロニトリル、アリルアミン、
ビニルアミン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等を挙
げることができる。Examples of the monomer that is a component of the polymer or copolymer contained in the curable ink 9 include, for example,
N, N-dimethylolacrylamide, N, N-dimethoxymethylacrylamide, N, N-diethoxymethylacrylamide, N, N-dimethylolmethacrylamide, N, N-dimethoxymethylmethacrylamide,
Examples include, but are not limited to, N-diethoxymethyl methacrylamide. These monomers are used as homopolymers or copolymers with other vinyl monomers. Other vinyl monomers, acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, acrylates such as ethyl acrylate, methyl methacrylate, methacrylates such as ethyl methacrylate, hydroxymethyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, Hydroxymethyl acrylate, vinyl monomers containing a hydroxyl group such as hydroxyethyl acrylate, other styrene, α-methylstyrene, acrylamide,
Methacrylamide, acrylonitrile, allylamine,
Examples thereof include vinylamine, vinyl acetate, and vinyl propionate.
【0043】上記共重合体における、上記単量体と他の
ビニル系単量体との共重合割合(重量%)は、100
%:0%〜5%:95%が好ましく、特に90%:10
%〜10%:90%が望ましい。In the above copolymer, the copolymerization ratio (% by weight) of the above monomer and another vinyl monomer is 100%.
%: 0% to 5%: 95%, preferably 90%: 10%
% To 10%: 90% is desirable.
【0044】さらに、光硬化させる場合には、各種光硬
化性樹脂、光重合開始剤を加えても良い。また、硬化剤
インク中で固着等の問題を起こすものでなければ、他の
成分として、様々な市販の樹脂や添加剤を加えても良
い。具体的には、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等が
好適に用いられる。Further, in the case of photocuring, various photocurable resins and photopolymerization initiators may be added. In addition, various commercially available resins and additives may be added as other components unless a problem such as fixation occurs in the curing agent ink. Specifically, an acrylic resin or an epoxy resin is preferably used.
【0045】硬化性インク9の調製に際しては、上記各
成分を水/または公知の溶剤で混合、溶解する。この操
作は、それ自体公知のものが利用できる。望ましくは、
スペーサー10を形成する基板表面の材質(本実施形態
では配向膜6)によって添加溶剤或いは界面活性剤など
の添加剤を加えて吐出された硬化性インク9の形成する
ドットの径を調整することにより、スペーサーの径の調
整が可能である。In preparing the curable ink 9, the above components are mixed and dissolved with water and / or a known solvent. For this operation, a known operation can be used. Preferably,
By adjusting the diameter of the dots formed by the curable ink 9 ejected by adding an additive such as an additive solvent or a surfactant depending on the material of the substrate surface forming the spacer 10 (the alignment film 6 in the present embodiment). The diameter of the spacer can be adjusted.
【0046】本発明に用いるインクジェット方式として
は、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバ
ブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用いたピエゾジ
ェットタイプ等が使用可能である。硬化性インクの打込
み位置、及び打込み量は任意に設定することができる。As the ink jet system used in the present invention, a bubble jet type using an electrothermal converter as an energy generating element, a piezo jet type using a piezoelectric element, or the like can be used. The setting position and the setting amount of the curable ink can be arbitrarily set.
【0047】工程(g) 光照射、熱処理、或いは光照射と熱処理の両方を行って
硬化性インク9を硬化させてスペーサー10を形成し、
本発明のスペーサー付基板を得る。光照射や熱処理の方
法は公知の方法による。なお、工程(f)において、先
に吐出した硬化性インク9をある程度硬化させた後に後
の硬化性インクの吐出を行う場合には、先の硬化性イン
クの吐出の直後に、光照射、熱処理等の硬化工程が行わ
れる場合もある。Step (g) Light irradiation, heat treatment, or both light irradiation and heat treatment are performed to cure the curable ink 9 to form the spacer 10,
The substrate with a spacer of the present invention is obtained. Light irradiation or heat treatment is performed by a known method. In the step (f), when the curable ink 9 previously discharged is cured to some extent and then the curable ink is discharged, light irradiation, heat treatment, and the like are performed immediately after the discharge of the curable ink. Etc. may be performed.
【0048】特に厳密な平坦性が必要な場合には、スペ
ーサー10の表面を研磨テープ等を用いて研磨してもか
まわない。If particularly strict flatness is required, the surface of the spacer 10 may be polished using a polishing tape or the like.
【0049】次いで、事前に配向膜6を形成していなか
った場合には、配向膜を形成する。Next, if the alignment film 6 has not been formed beforehand, an alignment film is formed.
【0050】以降、上記のスペーサー付基板と、別途作
製した対向基板とをシール材を用いて貼り合わせてセル
を作製し、液晶を封入することにより、本発明の液晶素
子が得られる。Thereafter, the above-mentioned substrate with spacers and a separately prepared counter substrate are attached to each other using a sealing material to form a cell, and a liquid crystal is sealed therein, whereby a liquid crystal element of the present invention is obtained.
【0051】次に、本発明の液晶素子の一例を図2に示
す。図2は、図1(g)に示した本実施形態のスペーサ
ー付基板を用いて構成した液晶素子の一例の断面模式図
である。図中、11は対向基板、12は画素電極、13
は配向膜、14は液晶である。本液晶素子は、画素毎に
TFT(薄膜トランジスタ)を配置したアクティブマト
リクスタイプ(いわゆるTFT型)の液晶素子の一例で
ある。Next, an example of the liquid crystal element of the present invention is shown in FIG. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of a liquid crystal element configured using the substrate with a spacer of the present embodiment shown in FIG. In the figure, 11 is a counter substrate, 12 is a pixel electrode, 13
Is an alignment film, and 14 is a liquid crystal. The present liquid crystal element is an example of an active matrix type (so-called TFT type) liquid crystal element in which a TFT (thin film transistor) is arranged for each pixel.
【0052】カラー表示の液晶素子は、一般的にカラー
フィルタ側の基板1と対向基板11を合わせ込み、液晶
14を封入することにより形成される。対向基板11の
内側に、TFT(図示しない)と透明な画素電極12が
マトリクス状に形成される。また、透明基板1の内側に
は、画素電極12に対向する位置に、R,G,Bが配列
するようにカラーフィルタの着色層3が配置され、その
上に透明電極膜5(共通電極)が一面に形成される。ブ
ラックマトリクス2は、通常カラーフィルタ側に形成さ
れるが、BMオンアレイタイプの液晶素子においては対
向基板11側に形成される。さらに、両基板の面内には
配向膜6,13が形成されており、これらをラビング処
理することにより液晶分子を一定方向に配列させること
ができる。これらの基板はスペーサー10を介して対向
配置され、シール材(図示しない)によって貼り合わさ
れ、その間隙に液晶14が充填される。液晶としては一
般的に用いられているTN型液晶や強誘電性液晶等いず
れも用いることができる。A liquid crystal element for color display is generally formed by combining the substrate 1 on the color filter side with the counter substrate 11 and sealing the liquid crystal 14. Inside a counter substrate 11, a TFT (not shown) and a transparent pixel electrode 12 are formed in a matrix. A colored layer 3 of a color filter is arranged inside the transparent substrate 1 at a position facing the pixel electrode 12 so that R, G, and B are arranged, and a transparent electrode film 5 (common electrode) is formed thereon. Are formed on one surface. The black matrix 2 is usually formed on the color filter side, but is formed on the counter substrate 11 side in a BM-on-array type liquid crystal element. Further, alignment films 6 and 13 are formed in the planes of both substrates, and by subjecting them to rubbing treatment, liquid crystal molecules can be aligned in a certain direction. These substrates are opposed to each other with a spacer 10 interposed therebetween, are adhered by a sealing material (not shown), and the gap is filled with a liquid crystal 14. As the liquid crystal, any of the commonly used TN type liquid crystal and ferroelectric liquid crystal can be used.
【0053】上記液晶素子は、透過型の場合には両基板
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板1の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶14を
光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させる
ことにより表示を行う。In the case of the transmissive type, the liquid crystal element is provided with a polarizing plate outside the two substrates, and generally uses a backlight combining a fluorescent lamp and a scattering plate. In the case of the reflective type, the transparent substrate 1 is used. The display is performed by disposing a polarizing plate on the outside of the device and making each liquid crystal 14 function as an optical shutter for changing the transmittance of light.
【0054】上記実施形態においては、TFT型の液晶
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。In the above embodiment, a TFT type liquid crystal element has been described, but the present invention is preferably applied to other driving type liquid crystal elements such as a simple matrix type. Further, the liquid crystal element of the present invention is suitably used in both a direct view type and a projection type.
【0055】次に、本実施形態の液晶素子の製造方法の
具体例について説明する。Next, a specific example of the method for manufacturing the liquid crystal element of the present embodiment will be described.
【0056】(実施例)ガラス基板上に0.1μm厚の
クロム金属膜をスパッタリングで形成し、フォトレジス
トを用いてエッチングを行い、格子状のブラックマトリ
クスを得た、その後、公知のインクジェット方式による
カラーフィルタ形成方法を用いてR,G,Bの着色層を
作製した。その上にスピンコータを用いてアクリル系樹
脂の保護層を形成し、平坦化を行った。さらにその上に
透明電極のITO膜をスパッタリングで形成した。この
基板に、図1(f)に示したように、ブラックマトリク
ス上に以下の組成の硬化性インクをインクジェットヘッ
ドより吐出した。なお、スペーサー形成後にポリイミド
からなる配向膜を形成した。(Example) A chromium metal film having a thickness of 0.1 μm was formed on a glass substrate by sputtering, and was etched using a photoresist to obtain a lattice-like black matrix. R, G, and B colored layers were formed using a color filter forming method. An acrylic resin protective layer was formed thereon using a spin coater, and planarization was performed. Further, an ITO film as a transparent electrode was formed thereon by sputtering. On this substrate, as shown in FIG. 1F, a curable ink having the following composition was ejected from an inkjet head onto a black matrix. After the spacer was formed, an alignment film made of polyimide was formed.
【0057】[硬化性インクの組成] 共重合体 10重量% 水 80重量% エチレングリコール 10重量% 但し、上記共重合体は、N,N−ジメチロールアクリル
アミドとメタクリル酸メチルの2元共重合体(共重合
比、40:60(重量比))からなるものを用いた。[Composition of curable ink] Copolymer 10% by weight Water 80% by weight Ethylene glycol 10% by weight However, the above copolymer is a binary copolymer of N, N-dimethylolacrylamide and methyl methacrylate. (Copolymerization ratio, 40:60 (weight ratio)).
【0058】なお、本実施例では、3回の硬化性インク
の吐出によりスペーサーを形成する。この場合、本実施
例では、1回目の吐出において20ng、2回目で15
ng、3回目で10ngの硬化性インクを基板上に吐出
した。これにより図4に示したように断面略台形状のス
ペーサを形成した。In this embodiment, the spacer is formed by discharging the curable ink three times. In this case, in this embodiment, 20 ng is used for the first ejection and 15 ng for the second ejection.
ng, and the third time, 10 ng of curable ink was ejected onto the substrate. Thus, a spacer having a substantially trapezoidal cross section was formed as shown in FIG.
【0059】上記基板を100℃で15分間加熱した
後、200℃で30分間加熱し、上記硬化性インクを硬
化させてスペーサーを形成した。スペーサーは厚さ5μ
mで、直径が約20μmであった。The substrate was heated at 100 ° C. for 15 minutes and then at 200 ° C. for 30 minutes to cure the curable ink to form a spacer. Spacer is 5μ thick
m and a diameter of about 20 μm.
【0060】次いで、上記スペーサーを形成した基板
と、対向する電極を形成した基板とをシール材を用いて
貼り合わせてセルを作製し、液晶を注入して本発明の液
晶素子を得た。得られた液晶素子は、従来の6μm径の
スペーサーを分散させた液晶素子に比べて色ムラもな
く、コントラストに優れたものであった。Next, the substrate on which the spacers were formed and the substrate on which the opposing electrodes were formed were attached to each other by using a sealing material to form a cell, and liquid crystal was injected to obtain a liquid crystal element of the present invention. The obtained liquid crystal element had no color unevenness and was excellent in contrast as compared with the conventional liquid crystal element in which spacers having a diameter of 6 μm were dispersed.
【0061】本発明は、特にインクジェット記録方式の
中でも、インク吐出を行わせるために利用されるエネル
ギーとして熱エネルギーを発生する手段(例えば電気熱
変換体やレーザ光等)を備え、前記熱エネルギーにより
インクの状態変化を生起させる方式のプリント装置につ
いて説明したが、かかる方式によれば記録の高密度化、
高精細化が達成できる。The present invention includes a means (for example, an electrothermal converter or a laser beam) for generating thermal energy as energy used for causing ink to be ejected, particularly in an ink jet recording system. The printing apparatus of the type that causes a change in the state of the ink has been described.
High definition can be achieved.
【0062】その代表的な構成や原理については、例え
ば、米国特許第4723129号明細書、同第4740
796号明細書に開示されている基本的な原理を用いて
行うものが好ましい。この方式はいわゆるオンデマンド
型、コンティニュアス型のいずれにも適用可能である
が、特に、オンデマンド型の場合には、液体(インク)
が保持されているシートや液路に対応して配置されてい
る電気熱変換体に、記録情報に対応していて膜沸騰を越
える急速な温度上昇を与える少なくとも1つの駆動信号
を印加することによって、電気熱変換体に熱エネルギー
を発生せしめ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰を生じさ
せて、結果的にこの駆動信号に1対1で対応した液体
(インク)内の気泡を形成できるので有効である。この
気泡の成長、収縮により吐出用開口を介して液体(イン
ク)を吐出させて、少なくとも1つの滴を形成する。こ
の駆動信号をパルス形状をすると、即時適切に気泡の成
長収縮が行われるので、特に応答性に優れた液体(イン
ク)の吐出が達成でき、より好ましい。The typical configuration and principle are described in, for example, US Pat. Nos. 4,723,129 and 4,740.
It is preferable to use the basic principle disclosed in the specification of Japanese Patent No. 796. This method can be applied to both the so-called on-demand type and continuous type. In particular, in the case of the on-demand type, liquid (ink)
By applying at least one drive signal corresponding to the recorded information and providing a rapid temperature rise exceeding the film boiling to the electrothermal transducer arranged corresponding to the sheet or the liquid path holding the Since thermal energy is generated in the electrothermal transducer and film boiling occurs on the heat-acting surface of the recording head, bubbles in the liquid (ink) corresponding to this drive signal on a one-to-one basis can be formed. It is valid. By discharging the liquid (ink) through the discharge opening by the growth and contraction of the bubble, at least one droplet is formed. When the drive signal is formed into a pulse shape, the growth and shrinkage of the bubble are performed immediately and appropriately, so that the ejection of the liquid (ink) having particularly excellent responsiveness can be achieved, which is more preferable.
【0063】このパルス形状の駆動信号としては、米国
特許第4463359号明細書、同第4345262号
明細書に記載されているようなものが適している。な
お、上記熱作用面の温度上昇率に関する発明の米国特許
第4313124号明細書に記載されている条件を採用
すると、さらに優れた記録を行うことができる。As the pulse-shaped drive signal, those described in US Pat. Nos. 4,463,359 and 4,345,262 are suitable. Further, if the conditions described in US Pat. No. 4,313,124 relating to the temperature rise rate of the heat acting surface are adopted, more excellent recording can be performed.
【0064】記録ヘッドの構成としては、上述の各明細
書に開示されているような吐出口、液路、電気熱変換体
の組み合わせ構成(直線状液流路または直角液流路)の
他に熱作用面が屈曲する領域に配置されている構成を開
示する米国特許第4558333号明細書、米国特許第
4459600号明細書を用いた構成も本発明に含まれ
るものである。加えて、複数の電気熱変換体に対して、
共通するスロットを電気熱変換体の吐出部とする構成を
開示する特開昭59−123670号公報や熱エネルギ
ーの圧力波を吸収する開口を吐出部に対応させる構成を
開示する特開昭59−138461号公報に基づいた構
成としても良い。As the configuration of the recording head, in addition to the combination of the discharge port, the liquid path, and the electrothermal converter (linear liquid flow path or right-angled liquid flow path) as disclosed in the above-mentioned respective specifications, A configuration using U.S. Pat. No. 4,558,333 or U.S. Pat. No. 4,459,600, which discloses a configuration in which a heat acting surface is arranged in a bent region, is also included in the present invention. In addition, for multiple electrothermal transducers,
JP-A-59-123670 which discloses a configuration in which a common slot is used as a discharge part of an electrothermal transducer, and JP-A-59-123670 which discloses a configuration in which an opening for absorbing a pressure wave of thermal energy corresponds to a discharge part. A configuration based on 138461 may be adopted.
【0065】さらに、記録装置が記録できる最大記録媒
体の幅に対応した長さを有するフルラインタイプの記録
ヘッドとしては、上述した明細書に開示されているよう
な複数記録ヘッドの組み合わせによってその長さを満た
す構成や、一体的に形成された1個の記録ヘッドとして
の構成のいずれでもよい。Further, as a full-line type recording head having a length corresponding to the width of the maximum recording medium that can be recorded by the recording apparatus, the length is determined by combining a plurality of recording heads as disclosed in the above-mentioned specification. This may be either a configuration satisfying the above requirements or a configuration as a single recording head formed integrally.
【0066】加えて、装置本体に装着されることで、装
置本体との電気的な接続や装置本体からのインクの供給
が可能になる交換自在のチップタイプの記録ヘッド、あ
るいは記録ヘッド自体に一体的にインクタンクが設けら
れたカートリッジタイプの記録ヘッドを用いてもよい。In addition, the print head is exchangeable with a print head of a chip type which is electrically connected to the main body of the apparatus and can supply ink from the main body of the apparatus, or is integrated with the print head itself. Alternatively, a cartridge type recording head provided with an ink tank may be used.
【0067】また、本発明の記録装置の構成として設け
られる、記録ヘッドに対しての回復手段、予備的な補助
手段等を付加することは本発明の効果を一層安定にでき
るので好ましいものである。これらを具体的に挙げれ
ば、記録ヘッドに対してのキャッピング手段、クリーニ
ング手段、加圧あるいは吸引手段、電気熱変換体あるい
はこれとは別の加熱素子あるいはこれらの組み合わせに
よる予備加熱手段、記録とは別の吐出を行う予備吐出モ
ードを行うことも安定した記録を行うために有効であ
る。It is preferable to add recovery means for the printhead, preliminary auxiliary means, and the like provided as components of the printing apparatus of the present invention, since the effects of the present invention can be further stabilized. . If these are specifically mentioned, capping means for the recording head, cleaning means, pressurizing or suction means, preheating means using an electrothermal transducer or another heating element or a combination thereof, and recording Performing a preliminary ejection mode for performing another ejection is also effective for performing stable printing.
【0068】以上説明した本発明実施例においては、イ
ンクを液体として説明しているが、室温やそれ以下で固
化するインクであっても、室温で軟化もしくは液化する
ものを用いても良く、使用記録信号付与時にインクが液
状をなすものであればよい。In the embodiments of the present invention described above, the ink is described as a liquid. However, any ink that solidifies at room temperature or below, or one that softens or liquefies at room temperature may be used. It is only necessary that the ink be in a liquid state when the recording signal is applied.
【0069】加えて、積極的に熱エネルギーによる昇温
をインクの固形状態から液体状態への状態変化のエネル
ギーとして使用せしめることで積極的に防止するため、
またはインクの蒸発を防止するため、放置状態で固化し
加熱によって液化するインクを用いても良い。いずれに
しても熱エネルギーの記録信号に応じた付与によってイ
ンクが液化し、液状インクが吐出されるものや、記録媒
体に到達する時点では既に固化し始めるもの等のよう
な、熱エネルギーの付与によって初めて液化する性質の
インクを使用する場合も本発明は適用可能である。この
ような場合インクは、特開昭54−56847号公報あ
るいは特開昭60−71260号公報に記載されるよう
な、多孔質シート凹部または貫通孔に液状または固形物
として保持された状態で、電気熱変換体に対して対向す
るような形態としてもよい。本発明においては、上述し
た各インクに対して最も有効なものは、上述した膜沸騰
方式を実行するものである。In addition, in order to positively prevent the temperature rise due to thermal energy as energy for changing the state of the ink from the solid state to the liquid state, the temperature is positively prevented.
Alternatively, in order to prevent evaporation of the ink, an ink which solidifies in a standing state and liquefies by heating may be used. In any case, the application of heat energy causes the ink to be liquefied by application of the heat energy according to the recording signal and the liquid ink to be ejected, or to start to solidify when reaching the recording medium. The present invention is also applicable to a case where an ink having a property of liquefying for the first time is used. In such a case, as described in JP-A-54-56847 or JP-A-60-71260, the ink is held in a liquid state or a solid state in the concave portion or through hole of the porous sheet. It is good also as a form which opposes an electrothermal transducer. In the present invention, the most effective one for each of the above-mentioned inks is to execute the above-mentioned film boiling method.
【0070】[0070]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高価なフォトリソグラフィ工程を経ず、任意の場所にス
ペーサーを形成することができるため、他の構成部材に
影響を与えることなく安価にスペーサーを形成すること
ができる。また、非有効画素部にのみスペーサーを形成
することができるため、スペーサーの使用による表示へ
の影響が防止される。よって、本発明によれば、従来の
スペーサーを分散していた液晶素子に比べて表示品位に
優れた液晶素子を、塗工工程及びフォトリソグラフィ工
程を用いてスペーサーを形成していた液晶素子よりも安
価に提供することが可能となる。As described above, according to the present invention,
Since the spacer can be formed at an arbitrary position without performing an expensive photolithography process, the spacer can be formed at low cost without affecting other components. Further, since the spacer can be formed only in the ineffective pixel portion, the use of the spacer can be prevented from affecting the display. Therefore, according to the present invention, a liquid crystal element having excellent display quality as compared with a conventional liquid crystal element in which spacers are dispersed is compared with a liquid crystal element in which spacers are formed using a coating process and a photolithography process. It can be provided at low cost.
【図1】本発明の液晶素子の製造方法の一実施形態の工
程図である。FIG. 1 is a process chart of one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal element of the present invention.
【図2】本発明の液晶素子の一実施形態の断面模式図で
ある。FIG. 2 is a schematic sectional view of one embodiment of the liquid crystal element of the present invention.
【図3】硬化性インクの複数回の吐出によりスペーサー
を形成する様子を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a state in which a spacer is formed by discharging the curable ink a plurality of times.
【図4】スペーサーの形状目標例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of a target shape of a spacer.
1 透明基板 2 ブラックマトリクス 3 着色層 4 保護層 5 透明電極 6 配向膜 8 インクジェットヘッド 9 硬化性インク 10 スペーサー 11 対向基板 12 画素電極 13 配向膜 14 液晶 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Black matrix 3 Coloring layer 4 Protective layer 5 Transparent electrode 6 Alignment film 8 Inkjet head 9 Curable ink 10 Spacer 11 Opposite substrate 12 Pixel electrode 13 Alignment film 14 Liquid crystal
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柏崎 昭夫 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 山下 佳久 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 中澤 広一郎 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 広瀬 雅史 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2H089 LA09 MA04X NA05 NA15 NA17 NA24 2H091 FA02Y FA35Y FB08 FC05 FC06 FC22 FC23 FC26 GA06 GA08 GA13 GA16 LA12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Akio Kashiwazaki 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Yoshihisa Yamashita 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inside (72) Inventor Koichiro Nakazawa 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Masafumi Hirose 3-30-2, Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. F Term (reference) 2H089 LA09 MA04X NA05 NA15 NA17 NA24 2H091 FA02Y FA35Y FB08 FC05 FC06 FC22 FC23 FC26 GA06 GA08 GA13 GA16 LA12
Claims (16)
置し、該基板間に液晶化合物を挟持してなる液晶素子の
製造方法であって、 前記一対の基板のうちの一方の基板上に、スペーサー形
成材料を同一箇所に複数回に分けて付与して硬化させ、
前記一対の基板の間隔を規定するスペーサーを形成する
スペーサー形成工程と、 前記一対の基板を、前記スペーサーを挟んで対向配置す
る配置工程と、 前記対向配置された一対の基板間に液晶化合物を封入す
る封入工程とを具備することを特徴とする液晶素子の製
造方法。1. A method for manufacturing a liquid crystal element, comprising: a pair of substrates disposed to face each other with a spacer interposed therebetween, and a liquid crystal compound sandwiched between the substrates. The spacer forming material is applied to the same place in a plurality of times and cured,
A spacer forming step of forming a spacer that defines the distance between the pair of substrates; an arranging step of arranging the pair of substrates to face each other with the spacer interposed therebetween; and enclosing a liquid crystal compound between the pair of opposing substrates. And an encapsulating step.
数回付与する場合に、2回目以降のスペーサー形成材料
の付与量は、1回目の付与量より少なくすることを特徴
とする請求項1に記載の液晶素子の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein when the spacer forming material is applied to the same location a plurality of times, the amount of the spacer forming material applied for the second and subsequent times is smaller than the amount applied for the first time. Of manufacturing a liquid crystal element.
数回付与する場合に、先に付与したスペーサー形成材料
をある程度硬化させた後に、後のスペーサー形成材料の
付与を行うことを特徴とする請求項1に記載の液晶素子
の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein when the spacer forming material is applied to the same place a plurality of times, the spacer forming material applied first is cured to a certain extent, and then the subsequent spacer forming material is applied. 2. The method for manufacturing a liquid crystal element according to item 1.
明基板上に着色層を備えたカラーフィルタを用いて構成
されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶素子
の製造方法。4. The method according to claim 1, wherein the substrate on which the spacer is formed is formed using a color filter having a colored layer on a transparent substrate.
素毎にアクティブ素子を備えたアクティブマトリクス基
板であることを特徴とする請求項1に記載の液晶素子の
製造方法。5. The method according to claim 1, wherein the substrate on which the spacer is formed is an active matrix substrate having an active element for each pixel.
からなることを特徴とする請求項1に記載の液晶素子の
製造方法。6. The method according to claim 1, wherein the spacer forming material is made of a curable resin.
ト方式により付与することを特徴とする請求項1に記載
の液晶素子の製造方法7. The method according to claim 1, wherein the spacer forming material is applied by an ink-jet method.
液晶素子の製造方法により製造されたことを特徴とする
液晶素子。8. A liquid crystal device manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1. Description:
所に複数回に分けて付与して硬化させることによりスペ
ーサー付き基板を形成することを特徴とするスペーサー
付き基板の製造方法。9. A method for manufacturing a substrate with spacers, comprising forming a substrate with spacers by applying a spacer forming material to the same portion a plurality of times and curing the substrate.
複数回付与する場合に、2回目以降のスペーサー形成材
料の付与量は、1回目の付与量より少なくすることを特
徴とする請求項9に記載のスペーサー付き基板の製造方
法。10. The method according to claim 9, wherein when the spacer forming material is applied to the same location a plurality of times, the applied amount of the spacer forming material after the second time is smaller than the applied amount of the first time. Of manufacturing a substrate with a spacer.
複数回付与する場合に、先に付与したスペーサー形成材
料をある程度硬化させた後に、後のスペーサー形成材料
の付与を行うことを特徴とする請求項9に記載のスペー
サー付き基板の製造方法。11. When the spacer forming material is applied to the same place a plurality of times, after the spacer forming material previously applied is cured to some extent, the subsequent spacer forming material is applied. 10. The method for producing a substrate with a spacer according to item 9.
透明基板上に着色層を備えたカラーフィルタを用いて構
成されていることを特徴とする請求項9に記載のスペー
サー付き基板の製造方法。12. The substrate on which the spacer is formed,
The method for manufacturing a substrate with spacers according to claim 9, wherein the substrate is configured using a color filter having a colored layer on a transparent substrate.
画素毎にアクティブ素子を備えたアクティブマトリクス
基板であることを特徴とする請求項9に記載のスペーサ
ー付き基板の製造方法。13. The substrate on which the spacer is formed,
The method according to claim 9, wherein the substrate is an active matrix substrate including an active element for each pixel.
脂からなることを特徴とする請求項9に記載のスペーサ
ー付き基板の製造方法。14. The method according to claim 9, wherein the spacer forming material is made of a curable resin.
ット方式により付与することを特徴とする請求項9に記
載のスペーサー付き基板の製造方法。15. The method according to claim 9, wherein the spacer forming material is applied by an ink-jet method.
載のスペーサー付き基板の製造方法により製造されたこ
とを特徴とするスペーサー付き基板。16. A substrate with a spacer manufactured by the method for manufacturing a substrate with a spacer according to any one of claims 9 to 15.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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DE60036668T DE60036668T2 (en) | 1999-07-29 | 2000-07-27 | Liquid crystal device, process for its preparation and spacer-supporting substrate |
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---|---|
JP (1) | JP2001083528A (en) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004030417A1 (en) * | 2002-09-24 | 2004-04-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active-matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate |
KR100475164B1 (en) * | 2002-05-16 | 2005-03-08 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Liquid Crystal Display and Method of Fabricating the same |
WO2006043545A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Ulvac, Inc. | Spacer forming method and spacer fabricating device |
JP2007011335A (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
JP2008112138A (en) * | 2006-10-03 | 2008-05-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Method for forming spacer for liquid crystal display device, ink for forming spacer, liquid crystal display device, and its manufacturing method |
JP2009241046A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | Method for manufacturing three-dimensional structure and method for manufacturing substrate equipped with spacer |
JP2009300667A (en) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Hitachi Chem Co Ltd | Method of manufacturing spacer for liquid crystal display, ink for forming spacer, liquid crystal display and method of manufacturing the same |
JP2010102021A (en) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Hitachi Chem Co Ltd | Method and ink for forming spacer for liquid crystal display device, liquid crystal display device, and method of manufacturing the same |
JP2010221480A (en) * | 2009-03-23 | 2010-10-07 | Fujifilm Corp | Pattern formation method |
JP2012530273A (en) * | 2009-06-16 | 2012-11-29 | トビス カンパニー リミテッド | LCD panel cutting method |
JP2013164494A (en) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Hitachi Chemical Co Ltd | Spacer formation ink for liquid crystal display device, liquid crystal display device, and method of manufacturing the same |
EP2706404B1 (en) * | 2012-09-10 | 2017-10-11 | InnoLux Corporation | Liquid crystal display apparatus |
CN112236495A (en) * | 2018-05-31 | 2021-01-15 | 积水化学工业株式会社 | Spacer particle, adhesive, and adhesive structure |
JP2022023065A (en) * | 2017-02-01 | 2022-02-07 | モレキュラー インプリンツ, インコーポレイテッド | Configuring optical layer in imprint lithography process |
-
1999
- 1999-09-13 JP JP25943599A patent/JP2001083528A/en active Pending
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100475164B1 (en) * | 2002-05-16 | 2005-03-08 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Liquid Crystal Display and Method of Fabricating the same |
KR100710760B1 (en) * | 2002-09-24 | 2007-04-24 | 샤프 가부시키가이샤 | Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active-matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate |
WO2004030417A1 (en) * | 2002-09-24 | 2004-04-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active-matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate |
US8932666B2 (en) | 2002-09-24 | 2015-01-13 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate |
US7671962B2 (en) | 2004-10-19 | 2010-03-02 | Ulvac, Inc. | Spacer forming method and spacer forming apparatus |
WO2006043545A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Ulvac, Inc. | Spacer forming method and spacer fabricating device |
JP2007011335A (en) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
JP2008112138A (en) * | 2006-10-03 | 2008-05-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Method for forming spacer for liquid crystal display device, ink for forming spacer, liquid crystal display device, and its manufacturing method |
JP2009241046A (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | Method for manufacturing three-dimensional structure and method for manufacturing substrate equipped with spacer |
US8083307B2 (en) | 2008-03-31 | 2011-12-27 | Fujifilm Corporation | Method of fabricating three-dimensional structure and method of manufacturing substrate with spacer |
JP2009300667A (en) * | 2008-06-12 | 2009-12-24 | Hitachi Chem Co Ltd | Method of manufacturing spacer for liquid crystal display, ink for forming spacer, liquid crystal display and method of manufacturing the same |
JP2010102021A (en) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Hitachi Chem Co Ltd | Method and ink for forming spacer for liquid crystal display device, liquid crystal display device, and method of manufacturing the same |
JP2010221480A (en) * | 2009-03-23 | 2010-10-07 | Fujifilm Corp | Pattern formation method |
US8322840B2 (en) | 2009-03-23 | 2012-12-04 | Fujifilm Corporation | Pattern formation method |
JP2012530273A (en) * | 2009-06-16 | 2012-11-29 | トビス カンパニー リミテッド | LCD panel cutting method |
JP2013164494A (en) * | 2012-02-10 | 2013-08-22 | Hitachi Chemical Co Ltd | Spacer formation ink for liquid crystal display device, liquid crystal display device, and method of manufacturing the same |
EP2706404B1 (en) * | 2012-09-10 | 2017-10-11 | InnoLux Corporation | Liquid crystal display apparatus |
JP2022023065A (en) * | 2017-02-01 | 2022-02-07 | モレキュラー インプリンツ, インコーポレイテッド | Configuring optical layer in imprint lithography process |
JP7324257B2 (en) | 2017-02-01 | 2023-08-09 | モレキュラー インプリンツ, インコーポレイテッド | Configuration of optical layers in imprint lithography process |
CN112236495A (en) * | 2018-05-31 | 2021-01-15 | 积水化学工业株式会社 | Spacer particle, adhesive, and adhesive structure |
CN112236495B (en) * | 2018-05-31 | 2022-08-30 | 积水化学工业株式会社 | Spacer particle, adhesive, and adhesive structure |
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