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JP2001052366A - Optical system of optical head - Google Patents

Optical system of optical head

Info

Publication number
JP2001052366A
JP2001052366A JP11222446A JP22244699A JP2001052366A JP 2001052366 A JP2001052366 A JP 2001052366A JP 11222446 A JP11222446 A JP 11222446A JP 22244699 A JP22244699 A JP 22244699A JP 2001052366 A JP2001052366 A JP 2001052366A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
light
objective lens
lens
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11222446A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Iwaki
真 岩城
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pentax Corp
Original Assignee
Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd filed Critical Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Priority to JP11222446A priority Critical patent/JP2001052366A/en
Publication of JP2001052366A publication Critical patent/JP2001052366A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 層数の少ない反射防止膜を用いつつ、対物レ
ンズの有効径内におけるトータルの反射による損失を小
さくすることができる光ヘッドの光学系を提供するこ
と。 【解決手段】 光ヘッドの光学系は、半導体レーザー1
1及びコリメートレンズ12を備える光源部10、ビー
ム整形・分離プリズム20、対物レンズ30、そして信
号検出系40から構成されている。対物レンズ30のレ
ンズ面30a,30bには、それぞれ反射防止膜31,
32が形成されている。半導体レーザー11の中心発光
波長λ0を680nmとして、反射防止膜31の設計基
準波長λ1は740nm、反射防止膜32の設計基準波
長λ2は730nmに設定されている。
(57) [Problem] To provide an optical system of an optical head capable of reducing a loss due to total reflection within an effective diameter of an objective lens while using an antireflection film having a small number of layers. An optical system of an optical head includes a semiconductor laser.
The light source unit 10 includes a light source unit 1 and a collimating lens 12, a beam shaping / separating prism 20, an objective lens 30, and a signal detection system 40. The lens surfaces 30a and 30b of the objective lens 30 have an anti-reflection film 31,
32 are formed. Assuming that the center emission wavelength λ0 of the semiconductor laser 11 is 680 nm, the design reference wavelength λ1 of the antireflection film 31 is set to 740 nm, and the design reference wavelength λ2 of the antireflection film 32 is set to 730 nm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、コンパクトディ
スク(CD)やデジタルバーサタイルディスク(DVD)等
の光ディスクの再生・記録装置に用いられる光ヘッドの
光学系に関し、特に、対物レンズの反射防止膜の設定に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical system for an optical head used in a reproducing / recording apparatus for an optical disk such as a compact disk (CD) and a digital versatile disk (DVD), and more particularly to an optical system for an anti-reflection film of an objective lens. About settings.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ヘッドの光学系は、レーザー光を発す
る半導体レーザー、このレーザー光を光ディスクの記録
面上に収束させる対物レンズ、光ディスクにより反射さ
れて対物レンズを透過した反射光を入射光の光路から分
離するビームスプリッター、分離された反射光を受光し
て信号を検出する受光素子等の素子から構成されてい
る。
2. Description of the Related Art The optical system of an optical head includes a semiconductor laser that emits laser light, an objective lens that converges this laser light on the recording surface of an optical disk, and reflected light that has been reflected by the optical disk and transmitted through the objective lens to be incident light. It is composed of elements such as a beam splitter that separates from the optical path and a light receiving element that receives the separated reflected light and detects a signal.

【0003】対物レンズの表面には、半導体レーザーか
らの入射光、あるいは光ディスクからの反射光を効率よ
く透過させるため、反射防止膜がコーティングされてい
る。光ヘッドでは使用波長をほぼ単波長と考えることが
できるため、構成が単純で安価な単層、あるいは2層程
度の層数の少ない反射防止膜が使用される。例えば、単
層の反射防止膜は、レンズの表面に屈折率の異なる薄膜
を形成し、薄膜表面での反射光と薄膜とレンズとの境界
での反射光との光路差が波長の1/2となってこれらの
光が干渉により打ち消し合う厚さに設計される。このよ
うに設計された反射防止膜は、垂直入射時に、使用波長
での反射率が最小値を示し、この波長から離れるにした
がって反射率が増加する二次曲線的な分光反射特性を有
する。この明細書では、垂直入射時の反射率が最も低く
なる波長を、反射防止膜の設計基準波長と定義する。
The surface of the objective lens is coated with an antireflection film in order to efficiently transmit incident light from a semiconductor laser or reflected light from an optical disk. Since the wavelength used can be considered to be substantially a single wavelength in the optical head, an inexpensive single layer having a simple structure and an antireflection film having a small number of layers such as about two layers are used. For example, a single-layer antireflection film forms a thin film having a different refractive index on the surface of a lens, and the optical path difference between the light reflected on the surface of the thin film and the light reflected at the boundary between the thin film and the lens is の of the wavelength. Thus, the light is designed to have such a thickness that these lights cancel out by interference. The antireflection film designed in this manner has a quadratic spectral reflection characteristic in which the reflectance at the used wavelength exhibits a minimum value at the time of normal incidence, and the reflectance increases as the distance from the wavelength increases. In this specification, the wavelength at which the reflectance at the time of vertical incidence becomes the lowest is defined as the design reference wavelength of the antireflection film.

【0004】従来の対物レンズに施された反射防止膜
は、半導体レーザーの発光波長を設計基準波長として設
計されている。
A conventional antireflection film applied to an objective lens is designed using the emission wavelength of a semiconductor laser as a design reference wavelength.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、対物レ
ンズのレンズ面は曲面であるため、半導体レーザーから
のレーザー光が平行光として対物レンズに入射する場合
にも、垂直入射(入射角度がほぼ0度)の条件をほぼ満た
すのは光軸周辺の極めて限られた範囲のみであり、他の
大部分の領域では入射角度が0度より大きくなる。入射
角度が大きくなると、薄膜表面での反射光と薄膜とレン
ズとの境界での反射光との光路差が小さくなるため、干
渉により打ち消される光の波長は設計基準波長より短く
なり、本来反射率を低くしたい半導体レーザーからのレ
ーザー光に対する反射率が高くなる。このため、従来の
反射防止膜を施した対物レンズは、その有効径内のトー
タルの反射による損失を小さくすることができないとい
う問題がある。
However, since the lens surface of the objective lens is a curved surface, even when the laser light from the semiconductor laser is incident on the objective lens as parallel light, it is perpendicularly incident (the incident angle is almost 0 degree). The condition () is almost satisfied only in a very limited range around the optical axis, and in most other regions, the incident angle is larger than 0 degree. When the angle of incidence increases, the optical path difference between the reflected light at the thin film surface and the reflected light at the boundary between the thin film and the lens becomes smaller, so that the wavelength of the light canceled out by the interference becomes shorter than the design reference wavelength, and the original reflectance The reflectance for the laser light from the semiconductor laser whose emission is to be reduced is increased. For this reason, the conventional objective lens provided with the antireflection film has a problem that the loss due to the total reflection within the effective diameter cannot be reduced.

【0006】なお、反射防止膜を多層構造とすれば、レ
ーザー光の発光波長を含む比較的広い波長範囲での反射
率を抑えることはできるが、膜の形成に要するコストが
層数が少ない場合と比較して顕著に高くなり、対物レン
ズの製造コストを高騰させるという問題がある。
When the antireflection film has a multilayer structure, the reflectance in a relatively wide wavelength range including the emission wavelength of laser light can be suppressed, but the cost required for forming the film is small when the number of layers is small. This significantly increases the manufacturing cost of the objective lens.

【0007】この発明は、上述した従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、波長依存性を持つ層数の少
ない反射防止膜を用いつつ、対物レンズの有効径内にお
けるトータルの反射による損失を小さくすることができ
る光ヘッドの光学系を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and uses a total reflection within an effective diameter of an objective lens while using an antireflection film having a small number of layers having wavelength dependency. An object of the present invention is to provide an optical system of an optical head that can reduce loss.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明にかかる光ヘッ
ドの光学系は、上記の目的を達成させるため、所定波長
のレーザー光を発する光源と、この光源からのレーザー
光を光ディスクの記録面上に収束させる対物レンズとを
備える構成において、対物レンズの表面に反射防止膜を
施し、垂直入射時に反射率が最も低くなる反射防止膜の
設計基準波長を、レーザー光の波長より長く設定したこ
とを特徴とする。
In order to achieve the above object, an optical system of an optical head according to the present invention includes a light source for emitting a laser beam of a predetermined wavelength and a laser beam from the light source on a recording surface of an optical disk. In the configuration having an objective lens that converges to the objective lens, an anti-reflection film is applied to the surface of the objective lens, and the design reference wavelength of the anti-reflection film that has the lowest reflectance at normal incidence is set to be longer than the wavelength of the laser beam. Features.

【0009】上記のように設計基準波長をレーザー光の
波長より長く設定すると、垂直入射するレーザー光につ
いては、反射率が最低となる波長が実際のレーザー光の
波長より長くなるため、設計基準波長とレーザー光の波
長とを一致させた従来例より反射率が高くなる。一方、
0度より大きな入射角度で入射するレーザー光について
は、反射率が最低となる波長が垂直入射の際に反射率が
最低となる波長より短くなるため、その波長の短縮分だ
け反射防止膜の設計基準波長を実際のレーザー光の波長
より長い側へシフトさせることにより、従来例より実際
のレーザー光の波長における反射率を下げることができ
る。反射率が従来より高くなる垂直入射の条件を満たす
領域は対物レンズの有効径の中で光軸近傍のわずかな割
合を占めるにすぎず、それより大きな角度で入射する大
部分の領域での反射率を低下させることにより、トータ
ルの反射率を従来より小さく抑えることができる。
If the design reference wavelength is set to be longer than the wavelength of the laser light as described above, the wavelength at which the reflectance becomes minimum is longer than the actual laser light wavelength for the vertically incident laser light. And the wavelength of the laser beam are matched, the reflectivity is higher than in the conventional example. on the other hand,
For laser light incident at an angle of incidence greater than 0 degrees, the wavelength at which the reflectance is lowest is shorter than the wavelength at which the reflectance is lowest at normal incidence. By shifting the reference wavelength to a side longer than the wavelength of the actual laser light, the reflectance at the wavelength of the actual laser light can be reduced as compared with the conventional example. The area that satisfies the condition of normal incidence, where the reflectivity is higher than the conventional one, occupies only a small percentage of the effective diameter of the objective lens near the optical axis. By reducing the reflectance, the total reflectance can be suppressed to be lower than in the past.

【0010】一般的なDVD用の光ヘッドにおいては、
反射防止膜の設計基準波長は、レーザー光の波長より約
50〜60nm長いことが望ましい。また、対物レンズ
は、収差補正に有利なように、光源側のレンズ面の曲率
半径が光ディスク側のレンズ面の曲率半径より小さく設
定される場合が多い。曲率半径が小さいほど、周辺部で
の入射角度が大きくなるため、光源側のレンズ面の方が
平均的な入射角度が大きくなる。そこで、このような場
合には、光源側のレンズ面に施された反射防止膜の設計
基準波長をλ1、光ディスク側のレンズ面に施された反
射防止膜の設計基準波長をλ2、レーザー光の波長をλ0
として、 λ0 < λ2 < λ1 の条件を満たすことが望ましい。具体的には、レーザー
光の波長λ0に対し、設計基準波長λ2は約50nm、設
計基準波長λ1は約60nm程度長くすることができ
る。
In a general optical head for DVD,
The design reference wavelength of the antireflection film is desirably about 50 to 60 nm longer than the wavelength of the laser light. In addition, the radius of curvature of the lens surface on the light source side is often set to be smaller than the radius of curvature of the lens surface on the optical disk so that the objective lens is advantageous for aberration correction. The smaller the radius of curvature is, the larger the incident angle in the peripheral portion is, so the average incident angle is larger on the lens surface on the light source side. Therefore, in such a case, the design reference wavelength of the antireflection film applied to the lens surface on the light source side is λ1, the design reference wavelength of the antireflection film applied to the lens surface on the optical disk is λ2, Wavelength λ0
It is desirable to satisfy the condition of λ0 <λ2 <λ1. More specifically, the design reference wavelength λ2 and the design reference wavelength λ1 can be made longer by about 50 nm and about 60 nm, respectively, than the wavelength λ0 of the laser beam.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる光ヘッド
の光学系の実施形態を説明する。図1は実施形態の光ヘ
ッドの光学系に含まれる対物レンズ説明図、図2は光学
系全体の概略構成を示す説明図である。まず、図2に基
づいて全体構成を説明する。実施形態の光学系は、光源
部10、ビーム整形・分離プリズム20、対物レンズ3
0、そして信号検出系40から構成されている。光源部
10は、半導体レーザー11と、コリメートレンズ12
とを備えている。コリメートレンズ12は、半導体レー
ザー11からのレーザー光を平行光とするようにそのパ
ワーが設定されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an optical system of an optical head according to the present invention will be described below. FIG. 1 is an explanatory diagram of an objective lens included in the optical system of the optical head according to the embodiment, and FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration of the entire optical system. First, the overall configuration will be described with reference to FIG. The optical system according to the embodiment includes a light source unit 10, a beam shaping / separating prism 20, an objective lens 3
0, and a signal detection system 40. The light source unit 10 includes a semiconductor laser 11 and a collimating lens 12
And The power of the collimating lens 12 is set so that the laser light from the semiconductor laser 11 is converted into parallel light.

【0012】ビーム整形・分離プリズム20は、2つの
プリズム21,22が貼り合わされて構成され、光源部
10から発したレーザー光の断面形状を整形すると共
に、光ディスクDからの反射光を貼り合わせ面で反射さ
せて信号検出系40に導く。
The beam shaping / separating prism 20 is formed by laminating two prisms 21 and 22. The beam shaping / separating prism 20 shapes the cross-sectional shape of the laser beam emitted from the light source unit 10 and reflects the reflected light from the optical disk D on the laminating surface. And is guided to the signal detection system 40.

【0013】対物レンズ30は、PMMA等のプラスチ
ック製であり、光源部10側の第1面30a、及びディ
スク側の第2面30bが共に非球面として形成された1
群1枚構成のレンズである。対物レンズ30の第1面3
0aは、光ディスクD側の面30bより曲率半径が小さ
く設定されている。対物レンズ30は、光源部10から
のレーザー光を光ディスクDの記録面上に集光させる。
The objective lens 30 is made of plastic such as PMMA. The first surface 30a on the light source unit 10 side and the second surface 30b on the disk side are both formed as aspheric surfaces.
This is a single-group lens. First surface 3 of objective lens 30
0a has a smaller radius of curvature than the surface 30b on the optical disk D side. The objective lens 30 focuses the laser light from the light source unit 10 on the recording surface of the optical disc D.

【0014】信号検出系40は、ビーム整形・分離プリ
ズム20からの反射光を集光させる集光レンズ41と、
シリンドリカルレンズ42と、センサ43とを備える。
半導体レーザー11から発したレーザー光は、ディスク
により反射された後、シリンドリカルレンズ42を介し
てセンサ43に入射する。センサ43からの信号は、適
宜演算されて光ディスクに記録された情報の再生、ある
いは、対物レンズのフォーカシングエラー、トラッキン
グエラーを示す信号の生成に利用される。
The signal detection system 40 includes a condenser lens 41 for condensing the reflected light from the beam shaping / separating prism 20;
It includes a cylindrical lens 42 and a sensor 43.
The laser light emitted from the semiconductor laser 11 is reflected by the disk and then enters the sensor 43 via the cylindrical lens 42. The signal from the sensor 43 is appropriately calculated and used for reproducing information recorded on the optical disk, or for generating a signal indicating a focusing error and a tracking error of the objective lens.

【0015】対物レンズ30のレンズ面30a,30b
には、図1に拡大して示すように、それぞれ単層、ある
いは2層程度の層数の少ない反射防止膜31,32が形
成されている。なお、図1では、説明のため実際の縮尺
よりも反射防止膜31,32の膜厚を誇張して示してい
る。これらの反射防止膜の設定について説明する。
The lens surfaces 30a, 30b of the objective lens 30
1, anti-reflection films 31 and 32 each having a small number of layers, such as a single layer or about two layers, are formed as shown in FIG. In FIG. 1, the film thicknesses of the antireflection films 31, 32 are exaggerated from the actual scale for explanation. The setting of these antireflection films will be described.

【0016】光源部10からのレーザー光は、平行光と
して対物レンズ30に入射する。ここで、光軸上の光線
をL1とし、有効径内で次第に光軸からの距離が大きく
なる点に入射する光線をそれぞれL2,L3,L4とす
る。光線L4は、有効径内の最も外側に入射する光線で
ある。それぞれの光線L1,L2,L3,L4の対物レンズ
30に対する入射角度をそれぞれα1,α2,α3,α4と
する。α1は0度であり、光軸から入射点間での距離が
大きくなるほど入射角度も大きくなるため、α1<α2<
α3<α4の関係が成り立つ。
The laser light from the light source 10 enters the objective lens 30 as parallel light. Here, light rays on the optical axis are denoted by L1, and light rays incident on points within the effective diameter that gradually increase in distance from the optical axis are denoted by L2, L3, and L4, respectively. The light ray L4 is a light ray incident on the outermost side within the effective diameter. The incident angles of the light beams L1, L2, L3, and L4 with respect to the objective lens 30 are α1, α2, α3, and α4, respectively. α1 is 0 degree, and the incident angle increases as the distance from the optical axis to the incident point increases, so that α1 <α2 <
The relationship α3 <α4 holds.

【0017】入射角度が大きくなると、反射防止膜の表
面での反射光と、反射防止膜とレンズとの境界での反射
光との光路差が小さくなるため、反射率が最低となる波
長が次第に短くなる。図1の例では、光線L1について
反射率が最低となる波長に対し、光線L2,L3,L4に
ついて反射率が最低となる波長は次第に短くなる。この
ため、従来のように反射防止膜31,32の設計基準波
長を半導体レーザー11の中心発光波長に一致させる
と、光線L2,L3,L4については発光波長における反
射率が高くなる。
When the angle of incidence increases, the optical path difference between the light reflected on the surface of the antireflection film and the light reflected at the boundary between the antireflection film and the lens decreases, so that the wavelength at which the reflectance becomes minimum gradually increases. Be shorter. In the example of FIG. 1, the wavelength at which the reflectance of the light beams L2, L3, and L4 is the lowest gradually becomes smaller than the wavelength at which the reflectance of the light beam L1 is the lowest. For this reason, when the design reference wavelength of the antireflection films 31 and 32 is made to coincide with the center emission wavelength of the semiconductor laser 11 as in the related art, the reflectance of the light beams L2, L3 and L4 at the emission wavelength increases.

【0018】図3は、半導体レーザー11の中心発光波
長λ0を680nmとして、反射防止膜31の設計基準
波長を従来のようにλ0に等しい680nmとしたとき
の各光線L1,L2,L3,L4についての分光反射率を示
すグラフである。図3によれば、垂直入射する光線L1
と入射角度が0度に近い光線L2については、中心発光
波長680nmにおける反射率を低くすることはできる
が、より大きな入射角度を持つ光線L3,L4については
中心発光波長680nmにおける反射率が高くなること
がわかる。このため、従来の反射防止膜を施した対物レ
ンズは、その有効径内のトータルの反射による損失を小
さくすることができない。
FIG. 3 shows the light beams L1, L2, L3 and L4 when the center emission wavelength λ0 of the semiconductor laser 11 is 680 nm and the design reference wavelength of the antireflection film 31 is 680 nm which is equal to λ0 as in the prior art. 4 is a graph showing the spectral reflectance of the sample. According to FIG. 3, the vertically incident light beam L1
For the light ray L2 whose incident angle is close to 0 °, the reflectance at the central emission wavelength of 680 nm can be reduced, but for the light rays L3 and L4 having larger incident angles, the reflectance at the central emission wavelength of 680 nm increases. You can see that. For this reason, the objective lens provided with the conventional antireflection film cannot reduce the loss due to the total reflection within its effective diameter.

【0019】実施形態では、反射防止膜31,32の設
計基準波長λ1、λ2を半導体レーザー11の発光波長λ
0よりも大きく設定してある。また、光源部10側のレ
ンズ面30aの曲率半径が光ディスクD側のレンズ面3
0bの曲率半径より小さく、光源側のレンズ面30aの
方が平均的な入射角度が大きくなるため、λ0 < λ2<
λ1の条件を満たすように設定されている。具体的に
は、半導体レーザー11の中心発光波長λ0を680n
mとして、反射防止膜31の設計基準波長λ1は740
nm、反射防止膜32の設計基準波長λ2は730nm
である。
In the embodiment, the design reference wavelengths λ 1 and λ 2 of the antireflection films 31 and 32 are changed to the emission wavelength λ of the semiconductor laser 11.
It is set larger than 0. Further, the radius of curvature of the lens surface 30a on the light source unit 10 side is equal to the lens surface 3 on the optical disk D side.
0b, the average incident angle of the lens surface 30a on the light source side is larger than that of the lens surface 30a.
It is set to satisfy the condition of λ1. Specifically, the center emission wavelength λ 0 of the semiconductor laser 11 is set to 680 n
m, the design reference wavelength λ1 of the antireflection film 31 is 740
nm, the design reference wavelength λ2 of the antireflection film 32 is 730 nm
It is.

【0020】図4は、半導体レーザー11の中心発光波
長λ0を680nmとして、反射防止膜31の設計基準
波長λ1=740nmとしたときの各光線L1,L2,L
3,L4についての分光反射率を示すグラフである。図4
によれば、垂直入射する光線L1と入射角度が0度に近
い光線L2については、図3の例より反射率が高くなる
が、より大きな入射角度を持つ光線L3,L4について
は、反射率が最低となる波長が垂直入射の際に反射率が
最低となる波長より短くなるため、中心発光波長680
nmにおける反射率が図3の例より小さくなることがわ
かる。反射率が図3の例より高くなる垂直入射の条件を
満たす領域は、対物レンズ30の有効径の中で光軸近傍
のわずかな割合を占めるにすぎず、それより大きな角度
で入射する大部分の領域での反射率を低下させることに
より、トータルの反射率を図3の例より小さく抑えるこ
とができる。
FIG. 4 shows the light beams L1, L2, L when the center emission wavelength λ0 of the semiconductor laser 11 is 680 nm and the design reference wavelength λ1 of the antireflection film 31 is 740 nm.
It is a graph which shows the spectral reflectance about 3, L4. FIG.
According to the above, the reflectivity of the vertically incident light beam L1 and the light beam L2 whose incident angle is close to 0 degree is higher than that of the example of FIG. 3, but the reflectivity of the light beams L3 and L4 having a larger incident angle is higher. Since the lowest wavelength is shorter than the wavelength at which the reflectance is lowest at normal incidence, the center emission wavelength 680
It can be seen that the reflectance in nm is smaller than the example in FIG. The region satisfying the condition of normal incidence where the reflectivity is higher than that of the example of FIG. 3 occupies only a small proportion near the optical axis in the effective diameter of the objective lens 30, and most of the incident light at an angle larger than that. By reducing the reflectivity in the region of, the total reflectivity can be suppressed to be smaller than that in the example of FIG.

【0021】なお、単層の反射防止膜は、屈折率nと物
理的厚さdとの積で求められる光学的厚さn・dが使用
波長の1/4となるように設計される。したがって、設
計基準波長を長くするには、物理的厚さdを大きく設定
すれればよい。
The single-layer antireflection film is designed so that the optical thickness nd obtained by the product of the refractive index n and the physical thickness d is 1 / of the wavelength used. Therefore, in order to increase the design reference wavelength, the physical thickness d may be set to be large.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、対物レンズの反射防止膜を光源の発光波長より長く
設定することにより、0度より大きな角度で入射する光
線についての反射率を抑えることができ、対物レンズの
有効径内におけるトータルの反射率を低く抑えることが
できる。
As described above, according to the present invention, by setting the antireflection film of the objective lens to be longer than the light emission wavelength of the light source, the reflectance of the light beam incident at an angle larger than 0 degree is suppressed. And the total reflectance within the effective diameter of the objective lens can be kept low.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施形態の光ヘッドの光学系に含まれる対物
レンズ説明図。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an objective lens included in an optical system of an optical head according to an embodiment.

【図2】 実施形態の光ヘッドの光学系全体の概略構成
を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating a schematic configuration of the entire optical system of the optical head according to the embodiment.

【図3】 従来の反射防止膜を施した場合の異なる入射
角度の光線に対する分光反射率を示すグラフ。
FIG. 3 is a graph showing spectral reflectances for light beams having different incident angles when a conventional antireflection film is applied.

【図4】 実施形態の反射防止膜を施した場合の異なる
入射角度の光線に対する分光反射率を示すグラフ。
FIG. 4 is a graph showing spectral reflectances for light rays having different incident angles when the antireflection film of the embodiment is applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 光源部 11 半導体レーザー 12 コリメートレンズ 20 ビーム整形・分離プリズム 30 対物レンズ 31,32 反射防止膜 40 信号検出系 Reference Signs List 10 light source unit 11 semiconductor laser 12 collimating lens 20 beam shaping / separating prism 30 objective lens 31, 32 antireflection film 40 signal detection system

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定波長のレーザー光を発する光源と、
該光源からのレーザー光を光ディスクの記録面上に収束
させる対物レンズとを備え、該対物レンズの表面には反
射防止膜が施され、垂直入射時に反射率が最も低くなる
前記反射防止膜の設計基準波長が、前記レーザー光の波
長より長く設定されていることを特徴とする光ヘッドの
光学系。
A light source that emits a laser beam of a predetermined wavelength;
An objective lens for converging the laser light from the light source on the recording surface of the optical disk, wherein an anti-reflection film is formed on the surface of the objective lens, and the design of the anti-reflection film has the lowest reflectance at normal incidence. An optical system for an optical head, wherein a reference wavelength is set longer than a wavelength of the laser light.
【請求項2】 前記反射防止膜の設計基準波長は、前記
レーザー光の波長より約50〜60nm長いことを特徴
とする請求項1に記載の光ヘッドの光学系。
2. The optical system according to claim 1, wherein a design reference wavelength of the anti-reflection film is about 50 to 60 nm longer than a wavelength of the laser light.
【請求項3】 前記対物レンズは、光源側のレンズ面の
曲率半径が光ディスク側のレンズ面の曲率半径より小さ
く、光源側のレンズ面に施された反射防止膜の設計基準
波長をλ1、光ディスク側のレンズ面に施された反射防
止膜の設計基準波長をλ2、前記レーザー光の波長をλ0
として、 λ0 < λ2 < λ1 の条件を満たすことを特徴とする請求項1に記載の光ヘ
ッドの光学系。
3. The objective lens according to claim 1, wherein a radius of curvature of the lens surface on the light source side is smaller than a radius of curvature of the lens surface on the optical disk side, the design reference wavelength of the antireflection film formed on the lens surface on the light source side is λ1, and The design reference wavelength of the antireflection film applied to the lens surface on the side is λ2, and the wavelength of the laser light is λ0.
2. The optical system according to claim 1, wherein the following condition is satisfied: λ0 <λ2 <λ1.
【請求項4】 前記レーザー光の波長λ0に対し、前記
設計基準波長λ2は約50nm、前記設計基準波長λ1は
約60nm長いことを特徴とする請求項3に記載の光ヘ
ッドの光学系。
4. The optical system according to claim 3, wherein the design reference wavelength λ2 is about 50 nm longer than the laser light wavelength λ0, and the design reference wavelength λ1 is about 60 nm longer.
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