JP2001044554A - Ld stem and optical pickup - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザが実
装されるLDステムおよび光ピックアップに関する。The present invention relates to an LD stem on which a semiconductor laser is mounted and an optical pickup.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、CDやDVD等の光ピックアップ
に用いられる半導体レーザ(LD)は、大きさが数百μm
角程度と小さいながら、体積当りの発熱量が大きいた
め、効果的に冷却しなければ発光部の温度は容易に高く
なってしまう。しかも、半導体レーザは自己発熱によ
り、発振閾値の増加,発振波長の変化,短寿命化等の特
性劣化を引き起こしてしまう。そこで、半導体レーザを
支持する熱伝導性の高い支持部材を用いてLDステムに
半導体レーザを実装することにより、半導体レーザの冷
却を行なっている。2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor laser (LD) used for an optical pickup such as a CD or DVD has a size of several hundred μm.
Although it is as small as an angle, it generates a large amount of heat per volume, so that the temperature of the light emitting portion easily rises unless it is cooled effectively. In addition, the semiconductor laser causes deterioration in characteristics such as an increase in oscillation threshold, a change in oscillation wavelength, and a shortened life due to self-heating. Therefore, the semiconductor laser is cooled by mounting the semiconductor laser on the LD stem using a supporting member having high thermal conductivity for supporting the semiconductor laser.
【0003】図5は、在来のLDステムを示す図であ
り、このLDステムでは、半導体レーザ22を支持する
銅製の支持部材23と、ガラス封着加工した端子24
a,24bとが、鉄製の平板状のアイレット25に設け
られている。FIG. 5 is a view showing a conventional LD stem. In this LD stem, a copper support member 23 for supporting a semiconductor laser 22 and a terminal 24 having a glass sealing process are provided.
a and 24b are provided on an iron plate-like eyelet 25 made of iron.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5の
LDステムでは、半導体レーザ22が装着される支持部
材23は銅製で熱伝導率が400W/m*k程度と高い
ものの、アイレット25は軟鉄製のため熱伝導率が50
W/m*k程度と低く、LDステム全体としての放熱特
性はあまり高くない。なお、この場合、熱伝導性の良い
銅を用いてアイレット25を形成したり、アイレット2
5と支持部材23とを一体成型することも考えられる
が、銅に対してはガラス封着加工を施すことができない
ので、この場合には、気密端子24a,24bの形成が
難しくなる。However, in the LD stem of FIG. 5, the support member 23 on which the semiconductor laser 22 is mounted is made of copper and has a high thermal conductivity of about 400 W / m * k, but the eyelet 25 is made of soft iron. Thermal conductivity of 50
As low as about W / m * k, the heat radiation characteristics of the entire LD stem are not very high. In this case, the eyelet 25 is formed using copper having good thermal conductivity,
Although it is conceivable that the support member 5 and the support member 23 are integrally formed, copper cannot be subjected to glass sealing, and in this case, it is difficult to form the hermetic terminals 24a and 24b.
【0005】これに対し、特開平8−242041号に
は、従来のLDステムよりも熱伝導性を向上させた構造
が示されている。図6は特開平8−242041号に示
されているLDステムを示す図であり、図6のLDステ
ムでは、軟鉄製のアイレット37に貫通孔39を設け、
熱伝導性の良好な銅製の支持部材33をアイレット37
の貫通孔39に挿着している。これにより、半導体レー
ザ32からの熱は、支持部材33を介し、アイレット3
7の底面に放散され、従来のLDステムよりも放熱特性
を向上させることができる。On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-242041 discloses a structure in which thermal conductivity is improved as compared with a conventional LD stem. FIG. 6 is a view showing an LD stem disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-242041, and in the LD stem of FIG. 6, a through hole 39 is provided in an eyelet 37 made of soft iron.
A copper support member 33 having good thermal conductivity is attached to an eyelet 37.
Is inserted into the through hole 39. As a result, heat from the semiconductor laser 32 is transmitted to the eyelet 3 via the support member 33.
7 is dissipated to the bottom surface of the LD 7 and the heat radiation characteristics can be improved as compared with the conventional LD stem.
【0006】しかしながら、次世代のDVD−RAM用
ピックアップに必要となる青色LDにおいては、上記放
熱構造でも十分な冷却効果を得ることができない。すな
わち現世代のDVD−RAM用ピックアップで使用され
ている赤色LDに比較して、青色LDの発熱量は倍以上
となるため、多少熱伝導率を上げた程度では青色LDの
温度上昇を抑えることができない。However, in a blue LD required for a next-generation DVD-RAM pickup, a sufficient cooling effect cannot be obtained even with the above-described heat radiation structure. That is, since the heat generation of the blue LD is more than twice that of the red LD used in the current generation DVD-RAM pickup, the temperature rise of the blue LD can be suppressed by increasing the thermal conductivity to some extent. Can not.
【0007】しかも近年においては、ホログラムを利用
したOPIC一体型LDステムが広く用いられるように
なってきており、LDステムの端子数は10本以上とな
っている。この端子を固定するためのガラス封着部の熱
伝導率は、0.6W/m*k程度であり、アイレットに
比べて格段に熱伝導率が低いため、LDステムの実効的
な熱伝導率をさらに低下させている。このように、従来
のLDステムは、赤色LDに比べて格段に発熱量の大き
い青色LDに対しては、効果的に放熱させることができ
ないという問題があった。In recent years, an OPIC-integrated LD stem using a hologram has been widely used, and the number of terminals of the LD stem is ten or more. The thermal conductivity of the glass sealing portion for fixing this terminal is about 0.6 W / m * k, which is much lower than that of the eyelet, and therefore the effective thermal conductivity of the LD stem. Is further reduced. As described above, the conventional LD stem has a problem in that it is not possible to effectively radiate heat to the blue LD, which generates much more heat than the red LD.
【0008】本発明は、赤色LDに比べて格段に発熱量
の大きい青色LDでも使用可能な放熱効果の高いLDス
テムおよび光ピックアップを提供することを目的として
いる。An object of the present invention is to provide an LD stem and an optical pickup having a high heat radiation effect that can be used even in a blue LD having a much larger heat generation than a red LD.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の発明は、半導体レーザを支持する支
持部材と、気密端子とがアイレットに設けられているL
Dステムにおいて、アイレットおよび支持部材に貫通孔
が設けられており、ヒートパイプが上記貫通孔に気密状
に挿着されていることを特徴としている。In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a support member for supporting a semiconductor laser and an airtight terminal are provided on an eyelet.
In the D stem, a through hole is provided in an eyelet and a support member, and a heat pipe is inserted into the through hole in an airtight manner.
【0010】また、請求項2記載の発明は、請求項1記
載のLDステムにおいて、前記ヒートパイプの中心軸
は、アイレットの中心軸からずれていることを特徴とし
ている。According to a second aspect of the present invention, in the LD stem according to the first aspect, a center axis of the heat pipe is shifted from a center axis of the eyelet.
【0011】また、請求項3記載の発明は、請求項1記
載のLDステムにおいて、前記ヒートパイプは、気密端
子の内側に配置されていることを特徴としている。According to a third aspect of the present invention, in the LD stem of the first aspect, the heat pipe is disposed inside a hermetic terminal.
【0012】また、請求項4記載の発明は、請求項1記
載のLDステムにおいて、LDステムとヒートパイプと
が円錐状に噛合されていることを特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, in the LD stem of the first aspect, the LD stem and the heat pipe are meshed in a conical shape.
【0013】また、請求項5記載の発明は、請求項1記
載のLDステムにおいて、前記ヒートパイプ上に、半導
体レーザが直接実装されるようになっていることを特徴
としている。According to a fifth aspect of the present invention, in the LD stem of the first aspect, a semiconductor laser is directly mounted on the heat pipe.
【0014】また、請求項6記載の発明は、請求項1記
載のLDステムにおいて、該LDステムを実装するため
の実装基板がさらに設けられており、該実装基板には、
ヒートパイプが貫通する穴が開けられていることを特徴
としている。According to a sixth aspect of the present invention, in the LD stem of the first aspect, a mounting board for mounting the LD stem is further provided.
It is characterized in that a hole through which the heat pipe penetrates is formed.
【0015】また、請求項7記載の発明は、請求項1乃
至請求項6のいずれか一項に記載のLDステムが用いら
れていることを特徴とする光ピックアップである。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided an optical pickup using the LD stem according to any one of the first to sixth aspects.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1(a),(b)は、本発明に係るL
Dステムの第1の構成例を示す図である。なお、図1
(a)は平面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A’線
における断面図である。図1を参照すると、このLDス
テムは、軟鉄からなる平板状のアイレット1に、半導体
レーザ(LD)4を支持する銅製のレーザ支持部材2と、
PDとI−Vアンプが一体化されたOPIC5を支持す
るOPIC支持部材8と、ガラス封着部7により気密封
着された気密端子6とが設けられている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIGS. 1 (a) and 1 (b) show L according to the present invention.
FIG. 3 is a diagram illustrating a first configuration example of a D stem. FIG.
1A is a plan view, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1A. Referring to FIG. 1, the LD stem includes a copper laser support member 2 for supporting a semiconductor laser (LD) 4 on a flat-shaped eyelet 1 made of soft iron.
An OPIC support member 8 for supporting an OPIC 5 in which a PD and an IV amplifier are integrated, and a hermetic terminal 6 hermetically sealed by a glass sealing portion 7 are provided.
【0017】ところで、本発明では、半導体レーザ4を
支持する支持部材2と、ガラス封着加工により気密化さ
れた気密端子6とが平板状のアイレット1に設けられて
いるLDステムにおいて、気密端子6と略平行な貫通孔
9がアイレット1および支持部材2に設けられており、
ヒートパイプ3が上記貫通孔9へ気密状に挿着されてい
る。According to the present invention, in the LD stem in which the support member 2 for supporting the semiconductor laser 4 and the hermetic terminal 6 hermetically sealed by glass sealing are provided on the flat eyelet 1, the hermetic terminal is provided. A through hole 9 substantially parallel to 6 is provided in the eyelet 1 and the support member 2,
The heat pipe 3 is hermetically inserted into the through hole 9.
【0018】すなわち、LDステムの熱伝導率を上げる
ためには、熱伝導率の高い材料を使用するのが最も簡単
な方法である。しかしながら、銅よりも熱伝導率が高い
材料としては銀やダイヤモンドが考えられるが、これら
をLDステムに使用すると、著しく高価なものとなって
しまう。一方、ヒートパイプは実効的な熱伝導率が銅よ
りも一桁以上高い値が得られるが、従来のLDステムの
構造では、このヒートパイプの能力を十分に引き出すこ
とができなかった。これは、従来、LDステムとヒート
パイプとが独立した部品として扱われていたため、ヒー
トパイプの能力を引き出すためのLDステムに関してあ
まり考慮されなかったためである。That is, the easiest way to increase the thermal conductivity of the LD stem is to use a material having a high thermal conductivity. However, silver or diamond can be considered as a material having a higher thermal conductivity than copper. However, if these are used for the LD stem, they become extremely expensive. On the other hand, the heat pipe has an effective thermal conductivity that is at least one order of magnitude higher than that of copper. However, the structure of the conventional LD stem cannot sufficiently bring out the performance of the heat pipe. This is because the LD stem and the heat pipe have conventionally been treated as independent parts, and therefore little consideration has been given to the LD stem for extracting the capability of the heat pipe.
【0019】そこで、本発明では、気密端子6と略平行
な貫通孔9をアイレット1および支持部材2に設け、ヒ
ートパイプ3を上記貫通孔9へ気密状に挿着することに
より、発熱源となるLDステムとヒートパイプ3の蒸発
部とを近接させることができ、ヒートパイプ3の熱伝導
能力を十分に引き出すことが可能となる。Therefore, in the present invention, a through hole 9 substantially parallel to the airtight terminal 6 is provided in the eyelet 1 and the support member 2, and the heat pipe 3 is inserted into the through hole 9 in an airtight manner, so that a heat source is provided. Thus, the LD stem and the evaporating section of the heat pipe 3 can be brought close to each other, so that the heat conducting ability of the heat pipe 3 can be sufficiently extracted.
【0020】なお、ここで、ヒートパイプ3は、銅製の
パイプ状の形状のものであって、内部に少量の作動液
(水やアルコール)を入れた状態で真空に封じられてい
る。ヒートパイプ3の動作原理は次のようになってい
る。すなわち、ヒートパイプ3の内壁にはウイックと呼
ばれる溝や網などが設けてあり、作動液は毛細管現象に
より内壁全面にいきわたる。このヒートパイプ3の一部
が加熱されると、その部分で作動液が蒸発し、真空中を
蒸気が移動し、低温部で凝集する。作動液は毛細管現象
により、次々と補充されるため、熱の移動が継続して行
われる。なお、ヒートパイプ3として、従来は比較的大
きなものしか作れなかったため、応用範囲も限られてい
たが、近年はマイクロヒートパイプと呼ばれる直径3m
mのものが普及し、また、厚さ1mmのヒートパイプも
開発され、従って、本発明で用いるヒートパイプ3とし
ては、小型のヒートパイプを用いることができる。Here, the heat pipe 3 is in the form of a copper pipe and has a small amount of hydraulic fluid inside.
(Water or alcohol) is sealed in a vacuum. The operating principle of the heat pipe 3 is as follows. That is, a groove or a net called a wick is provided on the inner wall of the heat pipe 3, and the working fluid spreads over the entire inner wall by a capillary phenomenon. When a part of the heat pipe 3 is heated, the working fluid evaporates at that part, the steam moves in a vacuum, and agglomerates in a low temperature part. Since the working fluid is replenished one after another due to the capillary phenomenon, heat transfer is continuously performed. Conventionally, as the heat pipe 3, only a relatively large one could be made, so that its application range was limited.
m, and a heat pipe having a thickness of 1 mm has also been developed. Therefore, a small heat pipe can be used as the heat pipe 3 used in the present invention.
【0021】また、図1(a),(b)の例では、LDステ
ムは、ホログラムを利用したOPIC一体型LDステム
として構成されており、この場合、ホログラム素子(O
PIC)5の実装の容易さを考えると、半導体レーザ4
は、アイレット1の中心軸付近に実装される。そこで、
図1(a),(b)の例では、ヒートパイプ3の中心軸をア
イレット1の中心軸からずらした構造としている。これ
により、ヒートパイプ3はアイレット1の中心軸上にあ
る半導体レーザ4と空間的に重ならなくなるため、半導
体レーザ4の近傍までヒートパイプ3の蒸発部を近接さ
せることができ、半導体レーザ4を効果的に冷却するこ
とができる。すなわち、図1(a),(b)の構成例では、
半導体レーザ4とヒートパイプ3は非常に近接している
ので、効果的に半導体レーザ4を冷却することができ
る。In the examples of FIGS. 1A and 1B, the LD stem is configured as an OPIC-integrated LD stem using a hologram.
Considering the ease of mounting the (PIC) 5, the semiconductor laser 4
Are mounted near the center axis of the eyelet 1. Therefore,
1A and 1B, the center axis of the heat pipe 3 is shifted from the center axis of the eyelet 1. As a result, the heat pipe 3 does not spatially overlap with the semiconductor laser 4 on the center axis of the eyelet 1, so that the evaporating portion of the heat pipe 3 can be brought close to the vicinity of the semiconductor laser 4, and the semiconductor laser 4 It can be cooled effectively. That is, in the configuration examples of FIGS. 1A and 1B,
Since the semiconductor laser 4 and the heat pipe 3 are very close to each other, the semiconductor laser 4 can be cooled effectively.
【0022】また、前述したように、ホログラムを利用
したOPIC一体型LDステムの端子6の本数は10本
以上となっており、この端子6を固定するためのガラス
封着部7の熱伝導率は、0.6W/m*k程度と、アイ
レット1に比べて格段に熱伝導率が低いため、LDステ
ムの端子6の内側と外側の間では熱抵抗が大きくなって
いる。従って、端子6の内側に実装されている半導体レ
ーザ(LD)4を効果的に冷却するためには、ヒートパイ
プ3も半導体レーザ4と同じ側に実装すれば良い。そこ
で図1(a),(b)の構成例では、ヒートパイプ3を、端
子6の内側に配置し、これにより、熱抵抗の大きな端子
6の部分を介さずに、効果的に半導体レーザ4を冷却す
ることができる。As described above, the number of the terminals 6 of the OPIC-integrated LD stem using the hologram is 10 or more, and the thermal conductivity of the glass sealing portion 7 for fixing the terminals 6 is made. Is about 0.6 W / m * k, which is much lower in thermal conductivity than the eyelet 1, and therefore, the thermal resistance between the inside and the outside of the terminal 6 of the LD stem is large. Therefore, in order to effectively cool the semiconductor laser (LD) 4 mounted inside the terminal 6, the heat pipe 3 may be mounted on the same side as the semiconductor laser 4. 1A and 1B, the heat pipe 3 is disposed inside the terminal 6, whereby the semiconductor laser 4 is effectively disposed without passing through the terminal 6 having a large thermal resistance. Can be cooled.
【0023】また、図2(a),(b)は本発明に係るLD
ステムの第2の構成例を示す図である。なお、図2(a)
は平面図であり、図2(b)は図2(a)のB−B’線にお
ける断面図であって、図2(a),(b)において、図1
(a),(b)と対応する箇所には同じ符号を付している。FIGS. 2A and 2B show LDs according to the present invention.
It is a figure showing the 2nd example of composition of a stem. FIG. 2 (a)
FIG. 2B is a plan view, FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 2A, and FIG. 2A and FIG.
Parts corresponding to (a) and (b) are denoted by the same reference numerals.
【0024】図2(a),(b)の構成例では、図1(a),
(b)のLDステムの基本的な構成と同様のものとなって
いるが、ヒートパイプ3は、加工時の工程により末端の
封止部に円錐状の形状を有し、LDステムとヒートパイ
プ3との噛合わせが円錐状になっている。すなわち、半
導体レーザ4を支持する支持部材2の大きさがヒートパ
イプ3を完全に貫通させられるほど大きくない場合に
は、LDステムとヒートパイプ3の噛合せを円錐状にす
ることにより、ヒートパイプ3を半導体レーザ4に可能
な限り近接させることができる。このように、LDステ
ムとヒートパイプ3の噛合せが円錐状になっていること
により、半導体レーザ4を支持する支持部材2の大きさ
がヒートパイプ3を完全に貫通させられるほど大きくな
い場合でも、ヒートパイプ3を半導体レーザ4に近接さ
せることが可能となる。すなわち、半導体レーザ4の支
持部材2が小さく、ヒートパイプ3の貫通孔を設けられ
ない場合でも、ヒートパイプ3を支持部材2に円錐状に
噛合せることにより、半導体レーザ4とヒートパイプ3
を非常に近接させ、半導体レーザ4を効果的に冷却する
ことができる。In the configuration examples of FIGS. 2A and 2B, FIG.
The heat pipe 3 has the same configuration as the basic structure of the LD stem shown in FIG. 3B, but has a conical shape at the end sealing portion due to a process during processing. 3 has a conical shape. That is, when the size of the support member 2 that supports the semiconductor laser 4 is not large enough to completely penetrate the heat pipe 3, the engagement between the LD stem and the heat pipe 3 is made conical, so that the heat pipe 3 can be as close as possible to the semiconductor laser 4. As described above, since the engagement between the LD stem and the heat pipe 3 is conical, even when the size of the support member 2 that supports the semiconductor laser 4 is not large enough to completely penetrate the heat pipe 3. Thus, the heat pipe 3 can be brought close to the semiconductor laser 4. That is, even when the support member 2 of the semiconductor laser 4 is small and the through-hole of the heat pipe 3 cannot be provided, the heat pipe 3 and the heat pipe 3
, And the semiconductor laser 4 can be effectively cooled.
【0025】また、図3(a),(b)は本発明に係るLD
ステムの第3の構成例を示す図である。なお、図3(a)
は平面図であり、図3(b)は図3(a)のC−C線’にお
ける断面図であって、図3(a),(b)において、図1
(a),(b)と同様の箇所には同じ符号を付している。FIGS. 3A and 3B show an LD according to the present invention.
It is a figure showing the 3rd example of composition of a stem. FIG. 3 (a)
3B is a plan view, FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line CC ′ of FIG. 3A, and FIG. 3A and FIG.
The same parts as in (a) and (b) are denoted by the same reference numerals.
【0026】図3(a),(b)の構成例では、図1(a),
(b)のLDステムの基本的な構成と同様のものとなって
いるが、ヒートパイプ3上に、半導体レーザ4が直接実
装されるようになっている。すなわち、ヒートパイプ3
に微細な加工が可能であれば、半導体レーザ4をヒート
パイプ3に直接実装することにより、最大の冷却効果を
得ることができる。そこで、図3(a),(b)の構成例で
は、ヒートパイプ3の端には略平面が形成され、ヒート
パイプ3上に半導体レーザ4が直接実装できる構造とな
っている。これにより、半導体レーザ4からの熱はヒー
トパイプ3の蒸発部に直接伝えられることになり、最大
限の冷却効果を得ることができる。すなわち、半導体レ
ーザ4とヒートパイプ3は直接接触しているので、効果
的に半導体レーザ4を冷却することができる。In the configuration examples of FIGS. 3A and 3B, FIG.
The configuration is the same as the basic configuration of the LD stem of FIG. 2B, except that the semiconductor laser 4 is directly mounted on the heat pipe 3. That is, heat pipe 3
If fine processing is possible, the maximum cooling effect can be obtained by directly mounting the semiconductor laser 4 on the heat pipe 3. Therefore, in the configuration examples of FIGS. 3A and 3B, a substantially flat surface is formed at the end of the heat pipe 3, and the semiconductor laser 4 can be directly mounted on the heat pipe 3. Thereby, the heat from the semiconductor laser 4 is directly transmitted to the evaporating section of the heat pipe 3, and the maximum cooling effect can be obtained. That is, since the semiconductor laser 4 and the heat pipe 3 are in direct contact, the semiconductor laser 4 can be effectively cooled.
【0027】図4は本発明に係るLDステムの第4の構
成例を示す図である。なお、図4において図1(a),
(b)と対応する箇所には同じ符号を付している。図4の
構成例では、LDステムを実装するための実装基板19
がさらに設けられており、該実装基板19には、ヒート
パイプ3が貫通する穴18が開けられている。このよう
に、図4の構成例では、実装基板19にはヒートパイプ
3が貫通する穴18が開けられているので、実装時にヒ
ートパイプ3が邪魔になることはない。FIG. 4 is a diagram showing a fourth configuration example of the LD stem according to the present invention. It should be noted that in FIG.
Parts corresponding to (b) are denoted by the same reference numerals. In the configuration example of FIG. 4, the mounting substrate 19 for mounting the LD system is provided.
The mounting board 19 is provided with a hole 18 through which the heat pipe 3 penetrates. As described above, in the configuration example of FIG. 4, since the hole 18 through which the heat pipe 3 penetrates is formed in the mounting board 19, the heat pipe 3 does not interfere with the mounting.
【0028】すなわち、上述したように、ホログラムを
利用したOPIC一体型LDステムの端子6は楕円状に
並んでおり、それぞれの端子6は実装基板19の配線パ
ターン(図示せず)に接続されている。このような構成で
は、端子6の内側に位置するヒートパイプ3が実装時に
邪魔になってしまう。そこで、実装基板19にヒートパ
イプ3が貫通する穴18が開けられている構造とするこ
とにより、ヒートパイプ3が端子6の内側に位置してい
ても、実装時にヒートパイプ3が邪魔になることはくな
る。That is, as described above, the terminals 6 of the OPIC-integrated LD stem using the hologram are arranged in an elliptical shape, and each terminal 6 is connected to the wiring pattern (not shown) of the mounting board 19. I have. In such a configuration, the heat pipe 3 located inside the terminal 6 becomes an obstacle during mounting. Therefore, by adopting a structure in which the hole 18 through which the heat pipe 3 penetrates is formed in the mounting board 19, even if the heat pipe 3 is located inside the terminal 6, the heat pipe 3 does not interfere with the mounting. It gets sick.
【0029】なお、図1乃至図4には図示されていない
が、図1乃至図4のLDステムの上部には、蓋部材とホ
ログラム素子が取り付けられて使用される。また、図1
乃至図4では図示されていないが、半導体レーザ4やO
PIC5は、端子6にワイヤーで接続されて使用され
る。Although not shown in FIGS. 1 to 4, a lid member and a hologram element are attached to the upper part of the LD stem of FIGS. 1 to 4 for use. FIG.
Although not shown in FIG. 4 to FIG.
The PIC 5 is used by being connected to the terminal 6 by a wire.
【0030】[0030]
【発明の効果】以上に説明したように、請求項1乃至請
求項7記載の発明によれば、半導体レーザを支持する支
持部材と、気密端子とがアイレットに設けられているL
Dステムにおいて、アイレットおよび支持部材に貫通孔
が設けられており、ヒートパイプが上記貫通孔に気密状
に挿着されているので、発熱源となる半導体レーザ(L
D)とヒートパイプの蒸発部とを近接させることがで
き、ヒートパイプの熱伝導能力を十分に引き出して、半
導体レーザの冷却効果を著しく高めることが可能とな
り、赤色LDに比べて格段に発熱量の大きい青色LDで
も使用可能な放熱効果の高いLDステムおよび光ピック
アップを提供することができる。As described above, according to the first to seventh aspects of the present invention, the support member for supporting the semiconductor laser and the hermetic terminal are provided on the eyelet.
In the D stem, a through hole is provided in the eyelet and the support member, and the heat pipe is hermetically inserted into the through hole, so that the semiconductor laser (L
D) and the evaporating part of the heat pipe can be brought close to each other, and the heat conduction ability of the heat pipe can be sufficiently extracted to significantly increase the cooling effect of the semiconductor laser. It is possible to provide an LD stem and an optical pickup having a high heat dissipation effect that can be used even with a blue LD having a large value.
【0031】特に、請求項2記載の発明によれば、ヒー
トパイプの中心軸がアイレットの中心軸からずれている
構造となっていることにより、ヒートパイプは中心軸上
にある半導体レーザと空間的に重ならなくなるので、半
導体レーザの近傍までヒートパイプの蒸発部を近接させ
ることができ、半導体レーザを効果的に冷却することが
できる。In particular, according to the second aspect of the present invention, since the center axis of the heat pipe is deviated from the center axis of the eyelet, the heat pipe is spatially separated from the semiconductor laser on the center axis. Therefore, the evaporating section of the heat pipe can be brought close to the vicinity of the semiconductor laser, and the semiconductor laser can be cooled effectively.
【0032】また、請求項3記載の発明によれば、ヒー
トパイプが端子の内側に配置されている構造となってい
ることにより、熱抵抗の大きな端子部を介さずに、効果
的に半導体レーザを冷却することができる。According to the third aspect of the present invention, since the heat pipe is arranged inside the terminal, the semiconductor laser can be effectively prevented without passing through the terminal having a large thermal resistance. Can be cooled.
【0033】また、請求項4記載の発明によれば、LD
ステムとヒートパイプとの噛合せが円錐状になっている
ことにより、半導体レーザを支持する支持部材の大きさ
がヒートパイプを完全に貫通させられるほど大きくない
場合でも、ヒートパイプを半導体レーザに近接させるこ
とが可能となる。According to the fourth aspect of the present invention, the LD
Due to the conical engagement between the stem and the heat pipe, even if the size of the support member that supports the semiconductor laser is not large enough to completely penetrate the heat pipe, the heat pipe can be brought close to the semiconductor laser. It is possible to do.
【0034】また、請求項5記載の発明によれば、請求
項1記載のLDステムにおいて、前記ヒートパイプ上
に、半導体レーザが直接実装されるようになっているの
で、半導体レーザからの熱をヒートパイプの蒸発部に直
接伝えることが可能となり、最大限の冷却効果を得るこ
とができる。According to the fifth aspect of the present invention, in the LD stem according to the first aspect, the semiconductor laser is directly mounted on the heat pipe. The heat can be directly transmitted to the evaporating section of the heat pipe, and the maximum cooling effect can be obtained.
【0035】また、請求項6記載の発明によれば、実装
基板には、ヒートパイプが貫通する穴が開けられている
ので、ヒートパイプが端子の内側に位置していても、実
装時にヒートパイプが邪魔になることがない。According to the sixth aspect of the present invention, since a hole through which the heat pipe penetrates is formed in the mounting board, even if the heat pipe is located inside the terminal, the heat pipe is not mounted during mounting. Is not in the way.
【図1】本発明に係るLDステムの第1の構成例を示す
図である。FIG. 1 is a diagram showing a first configuration example of an LD stem according to the present invention.
【図2】本発明に係るLDステムの第2の構成例を示す
図である。FIG. 2 is a diagram showing a second configuration example of the LD stem according to the present invention.
【図3】本発明に係るLDステムの第3の構成例を示す
図である。FIG. 3 is a diagram showing a third configuration example of the LD stem according to the present invention.
【図4】本発明に係るLDステムの第4の構成例を示す
図である。FIG. 4 is a diagram showing a fourth configuration example of the LD stem according to the present invention.
【図5】従来のLDステムの構成図である。FIG. 5 is a configuration diagram of a conventional LD stem.
【図6】従来のLDステムの構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram of a conventional LD stem.
1 アイレット 2 支持部材 3 ヒートパイプ 4 半導体レーザ(LD) 5 OPIC 6 気密端子 7 ガラス封着部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Eyelet 2 Supporting member 3 Heat pipe 4 Semiconductor laser (LD) 5 OPIC 6 Hermetic terminal 7 Glass sealing part
Claims (7)
密端子とがアイレットに設けられているLDステムにお
いて、アイレットおよび支持部材に貫通孔が設けられて
おり、ヒートパイプが上記貫通孔に気密状に挿着されて
いることを特徴とするLDステム。1. An LD stem in which a support member for supporting a semiconductor laser and an airtight terminal are provided in an eyelet, wherein a through hole is provided in the eyelet and the support member, and a heat pipe is provided in an airtight manner in the through hole. An LD stem inserted in the LD stem.
記ヒートパイプの中心軸は、アイレットの中心軸からず
れていることを特徴とするLDステム。2. The LD stem according to claim 1, wherein a center axis of the heat pipe is shifted from a center axis of the eyelet.
記ヒートパイプは、気密端子の内側に配置されているこ
とを特徴とするLDステム。3. The LD stem according to claim 1, wherein said heat pipe is disposed inside a hermetic terminal.
Dステムとヒートパイプとが円錐状に噛合されているこ
とを特徴とするLDステム。4. The LD stem according to claim 1, wherein L
An LD stem, wherein the D stem and the heat pipe are conically engaged with each other.
記ヒートパイプ上に、半導体レーザが直接実装されるよ
うになっていることを特徴とするLDステム。5. The LD stem according to claim 1, wherein a semiconductor laser is directly mounted on said heat pipe.
LDステムを実装するための実装基板がさらに設けられ
ており、該実装基板には、ヒートパイプが貫通する穴が
開けられていることを特徴とするLDステム。6. The LD stem according to claim 1, further comprising a mounting substrate for mounting the LD stem, wherein the mounting substrate has a hole through which a heat pipe passes. Characteristic LD stem.
記載のLDステムが用いられていることを特徴とする光
ピックアップ。7. An optical pickup, wherein the LD stem according to claim 1 is used.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11216936A JP2001044554A (en) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | Ld stem and optical pickup |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11216936A JP2001044554A (en) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | Ld stem and optical pickup |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001044554A true JP2001044554A (en) | 2001-02-16 |
Family
ID=16696259
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP11216936A Pending JP2001044554A (en) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | Ld stem and optical pickup |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001044554A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1309048A1 (en) * | 2001-11-06 | 2003-05-07 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Electronic or opto-electronic packages |
WO2007034707A1 (en) * | 2005-09-21 | 2007-03-29 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment apparatus, computer program and storage medium |
JP2010054121A (en) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | Variable conductance heat pipe |
-
1999
- 1999-07-30 JP JP11216936A patent/JP2001044554A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1309048A1 (en) * | 2001-11-06 | 2003-05-07 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Electronic or opto-electronic packages |
US6920162B2 (en) | 2001-11-06 | 2005-07-19 | Agilent Technologies, Inc. | Electronic or opto-electronic packages |
WO2007034707A1 (en) * | 2005-09-21 | 2007-03-29 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment apparatus, computer program and storage medium |
JP2007116072A (en) * | 2005-09-21 | 2007-05-10 | Tokyo Electron Ltd | Heat treatment device and storage medium |
US8107801B2 (en) | 2005-09-21 | 2012-01-31 | Tokyo Electron Limited | Heat treatment apparatus, computer program, and storage medium |
JP2010054121A (en) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | Variable conductance heat pipe |
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