JP2001033251A - 反射プリズム用開閉装置及び反射プリズム用開閉装置を用いたトータルステーションによる測量方法 - Google Patents
反射プリズム用開閉装置及び反射プリズム用開閉装置を用いたトータルステーションによる測量方法Info
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Abstract
よる誤視準、誤測定を無くして、迅速かつ高精度にター
ゲットの方位や距離等を測定する測量方法及びその測量
に用いる反射プリズムの開閉装置に関するものである。 【解決手段】トータルステーションに設けられた反射プ
リズムの光軸をトータルステーションのトランシットの
光軸と合致させ、反射プリズムの入射光部分には当該部
分を開閉するシャッタを設け、ターゲット側もしくは基
準位置のトータルステーション側のいずれか一方に相互
の方位特定するための方位検出用光線を発する発光部を
設け、他方に発光部からの方位検出用光線を受光する受
光部を設け、方位検出用光線によりターゲットの方位を
検出して相互に正対させ、距離を計測するに際し、反射
プリズムの入射光部分のシャッタを開き、光波測距儀か
らシャッタじ開かれた反射プリズムに向けて発射された
測距光線の反射によりターゲットとの間の距離を測定す
るようにしたものである。
Description
学式トランシットと光波測距儀を一体化したトータルス
テーションを用いてターゲットの方位や距離等を測定す
る測量方法及びその測量に用いる反射プリズムの開閉装
置に関するものである。
して行く推進工法の測量方法に関しては、特開昭59−
206709号公報に記載されものや、特開平11−2
3271号公報に記載のものが知られている。この前者
の公報に記載された測量方法では、レーザビームを発
し、ターゲットに設けられた反射鏡で反射したレーザビ
ームを補足し、そのデータからターゲットまでを測距す
る測距装置を備えたステーションをヒューム管に設置
し、かかるヒューム管を掘進機で掘削された部分に挿入
し、このステーション間の方位並びに距離をレーザビー
ムで計測するようにしたものである。
測量方法は、電子式トランシットと光波測距儀を一体化
したトータルステーションの頂部に、入射光をその入射
方向に反射する反射プリズムを固定してなる測量器械
を、上記発進立坑内の基準点および推進される一連の管
体内に推進長に応じて複数台固定設置する。中間の測量
器械により、この中間の測量器械と隣り合う前方、後方
の測量器械夫々の反射プリズムを視準して、上記前方、
中間、後方の測量器械の成す水平夾角および上記中間の
測量器械から上記前方、後方の測量器械までの前方距
離、後方距離を測定する。
方の測量器械と隣り合う前々方、上記中間の測量器械の
夫々の反射プリズムを視準して、上記前々方、前方、中
間の測量器械の成す水平夾角および上記前方の測量器械
から上記前々方、中間の測量器械までの次の前方距離、
次の後方距離を測定する。そして、上記前方距離と上記
次の後方距離が所定の誤差内で一致したとき、さらに前
々方の測量器械による同様の視準と測定を上記発進立坑
から上記掘進機まで繰り返して、掘進機の位置を求める
ようにしたものである。
た従来の測量方法の前者のものでは、例えば暗渠の曲が
りが少なく前方にターゲット以外の反射鏡が左右に重な
り合うような場合、レーザビームがターゲット以外の反
射鏡で反射することがあり、これを捕捉すると誤差を生
じてしまうという問題があった。
方法の後者のものでは、トータルステーションの頂部に
反射プリズムの光軸を望遠鏡の光軸に対して直交するよ
うに取り付けられているため、隣接するトータルステー
ション間の方位及び距離を測量する場合、方位を検出す
る段階でまず、一方の反射プリズムの光軸を他方のトー
タルステーションに対面させるように回転させてから方
位を検出した後、一方から他方のトータルステーション
までの距離を計測し、逆に他方のトータルステーション
から一方のトータルステーションまでの方位並びに距離
を計測し、両計測値が誤差範囲内にある時にはじめて計
測が完了するために、隣接するトータルステーション間
の方位及び距離を測量するだけでも時間を要してしま
い、暗渠全体の形状(方位並びに距離)を測量するのに
多大の時間を要してしまうという問題があった。このこ
とは、前記したのと同様に例えば曲がりが少なく前方に
ターゲット以外の反射鏡が左右に重なり合うような場
合、反射プリズムは入射方向と反射方向が同じであるこ
とから、レーザビームがターゲット以外の反射鏡で反射
することがあり、これを捕捉すると誤差を生じてしまう
のでこれを防止するために基準位置のトータルステーシ
ョンとターゲットとの相互間の距離を比較するようにし
たことによるものである。
ので、ターゲットの反射プリズム以外からの反射光によ
る誤視準、誤測定を無くして、迅速かつ高精度にターゲ
ットの方位や距離等を測定する測量方法及びその測量に
用いる反射プリズムの開閉装置に関するものである。
め、本発明にかかるトータルステーションによる測量方
法は、電子式または光学式トランシットと光波測距儀を
一体化したトータルステーションを用いて基準位置のト
ータルステーションからターゲットまでの方位、距離も
しくはターゲットの変位を測量するトータルステーショ
ンによる測量方法において、ターゲットまたはトータル
ステーションの一部に、入射光をその入射方向に反射す
る反射プリズムを固定してなる測量器械を設け、トータ
ルステーション及びターゲットがトータルステーション
である場合、反射プリズムの光軸をトータルステーショ
ンのトランシットの光軸と合致させ、反射プリズムの入
射光部分には当該部分を開閉するシャッタを設けるとと
もに、ターゲット側もしくは基準位置のトータルステー
ション側のいずれか一方に相互の方位特定するための方
位検出用光線を発する発光部を設け、他方に発光部から
の方位検出用光線を受光する受光部を設け、方位検出用
光線によりターゲットの方位を検出して相互に正対さ
せ、距離を計測するに際し、反射プリズムの入射光部分
のシャッタを開き、光波測距儀からシャッタが開かれた
反射プリズムに向けて発射された測距光線の反射により
ターゲットとの間の距離を測定するようにしたことを特
徴とするものである。
ンによる測量方法においては、トータルステーションに
よる測量方法が、発進立坑から地盤を掘削して推進する
掘進機に後続し、掘削された部分に発進立坑から掘進機
の掘進速度に合わせて管体を順次挿入してなる暗渠を掘
削する時の測量方法であって、掘進機及びこれの後方に
挿入された管体に相互に方位並びに距離を検出する光学
的な方位検出手段と距離検出手段とを設け、この光学的
な方位検出手段と距離検出手段とによって掘進された部
分の形状の測量または/及び先導の掘進機の位置の検出
並びに掘進機の方向を制御をするようにしたことも特徴
とするものである。
る測量方法に用いる反射プリズム用開閉装置は、基準位
置のトータルステーションからターゲットまでの方位、
距離もしくはターゲットの変位を測量するトータルステ
ーションによる測量方法に用いられるトータルステーシ
ョンを、電子式または光学式トランシットと光波測距儀
を一体化して形成し、このトータルステーションの一部
に入射光をその入射方向に反射する反射プリズムを固定
した測量器械を付設するとともに、この反射プリズムは
その光軸をトータルステーションのトランシットの光軸
と合致させ、反射プリズムの入射光部分に当該部分を開
閉するシャッタ機構を配設し、この反射プリズムの入射
光部分を開閉するシャッタ機構は、遮閉部を測量器械の
一部若しくは測量器械に取り付けられたフレームに回動
自在に枢支され、この遮閉部を方位並びに距離の検出操
作に連動する回動手段で開閉可能に構成したことを特徴
とするものである。
ンによる測量方法に用いる反射プリズム用開閉装置にお
いては、シャッタ機構が、暗渠を掘削する時の掘削機の
制御及び掘削された暗渠の形状を測量する方法に用いら
れるトータルステーションに付設された反射プリズムの
シャッタ機構であることも特徴とするものである。
テーションによる測量方法及びトータルステーションに
よる測量方法に用いる反射プリズム用開閉装置を図面に
基づいて説明する。図1は、暗渠を掘進機によりシール
ド掘削する時にその掘進機の制御並びに掘削された穴の
形状を測量する時に使用される測量器械の背面図、図2
は側面図、図3は測量器械の正面図であって、図中符号
1は測量器械を全体的に示す。
と光波測距儀3を一体化したトータルステーション4
と、この把手5の頂部に取付けられ方位検出用光線を発
生する発光部6を設けた投光装置7とを備えてなり、こ
の投光装置7には光波測距儀3と協動して測距する反射
プリズム8が取付けられている。上記電子式トランシッ
ト2は、ターゲットを視準する望遠鏡9と、この望遠鏡
9から測距用のレーザビームを上記反射プリズム8に向
けて発光させ、反射されたレーザビームによりターゲッ
ト間の距離データを解析する解析装置10を望遠鏡9の
下部に備えてなる。
発光部6からの方位検出用光線を受ける受光部11が設
けられており、この受光部11が発光部6からの方位検
出用光線を受けるとこれに基づいてターゲットの方位を
特定し、測量器械1をその特定された方向に設定するよ
うになっている。反射プリズム8は、特開平11−23
271号公報(以下、単に公報と言う)にも記載されて
いるような入射方向と反射方向とが同じである周知構造
のもので、その入射方向と反射方向が平面視において電
子式トランシット2の望遠鏡9の光軸と合致する状態で
上記投光装置7のケーシング12部分に取り付けられて
いる。
は反射プリズム8の前面部分を開閉するこの反射プリズ
ム8の入射光部分を開閉するシャッタ機構13が設けら
れている。このシャッタ機構13は、図4及び図5に示
すように投光装置7のケーシング12の上端寄り部に嵌
合する支持ブラケット14と、この支持ブラケット14
に両端の枢支軸15を介して回動自在に支持された側面
視円弧状のシャッタ16と、一方の枢支軸15を介して
シャッタ16を回動操作するロータリソレノイド(回動
手段)17とからなる。ロータリソレノイド17は支持
ブラケット14の側面部分に固定され、図示は省略した
が測量器械1を総合的に制御する制御装置により駆動さ
れ、ロータリソレノイド17が“ON”になるとシャッ
タ16を回動操作して反射プリズム8の前面部分を開く
ようになっている。
て掘進機の姿勢制御並びに暗渠の形状を測量する場合を
次に説明する。図6はシールド掘進機20を先導として
穿孔された暗渠の側面図を示すものであり、この暗渠2
1には上記公報にも示される通り、シールド掘進機20
の後方にはヒューム管が挿入されるのであるが、便宜上
ヒューム管は省略してある。また、シールド掘進機20
の姿勢制御とシールド掘進機20で穿孔された暗渠21
の形状を測量するにあたり、シールド掘進機20の後面
には反射プリズム8を備えた投光装置7を、暗渠21
(ヒューム管内部)に複数の測量器械1を配置する。
械1のうち、立坑側(図上左側)の基準位置の測量器械
1から隣接する奥側(図上右側)のターゲットとなる測
量器械1の方位並びに距離を計測する場合、先ず、シー
ルド掘進機20の後面に取り付けられた反射プリズム8
のシャッタ機構13はそのロータリソレノイド17を
“OFF”にしてシャッタ16で反射プリズム8の前面
部分を閉じ、ターゲットの測量器械1の反射プリズム8
のシャッタ機構13のシャッタ16は上げて反射プリズ
ム8の前面部分を開けておく。次に、図7に示すように
ターゲット側の測量器械1の投光装置7の発光部6から
赤外線からなる方位検出用光線を発射させる。この発光
部6から発射された赤外線を基準位置の測量器械1が図
8にAで示すようにサーチ揺動しながらその受光部11
が受けると、基準位置の測量器械1がターゲットの測量
器械1に正しく対面した状態で停止して正対する。
トの測量器械1に正対した後、図9に示すように基準位
置の測量器械1の望遠鏡9から測距用のレーザビームB
をターゲット側の反射プリズム8に向けて発射させ、反
射プリズム8で反射されたレーザビームBを基準位置の
測量器械1の望遠鏡9が受けると、その発射から受光ま
での時間及び基準位置の測量器械1の望遠鏡9の仰角θ
とから解析装置10でその距離が算出される。ここで、
暗渠21が緩く曲がっているような時、ターゲットの測
量器械1の反射プリズム8とシールド掘進機20の後面
に取り付けられた反射プリズム8とが左右に位置してい
ても、掘進機20の後面の反射プリズム8は閉じられて
いることから、基準位置の測量器械1の望遠鏡9から発
射された測距用のレーザビームBは開かれているターゲ
ットの測量器械1の反射プリズム8でしか反射しないの
で誤認することが無くターゲットの正しい位置を測量す
ることができることになる。
ーゲットの測量器械1の方位と距離により暗渠21の形
状が測量されるとともに、同様の手順で得られたシール
ド掘進機20とこれの後続の測量器械1との間の測量さ
れた暗渠21の形状が、暗渠の計画されている形状と比
較されてシールド掘進機20の姿勢制御にフィードバッ
クされるのである。尚、上記実施の形態では暗渠を掘進
機によりシールド掘削する場合を例に説明してあるが、
本発明はこうしたものに限られず、例えば地上にあるタ
ーゲットの位置の変化例えば沈降具合等を検出する場合
にも実施することができるのは勿論のことである。ま
た、上記実施の形態では回動手段としてロータリソレノ
イドを使用するようにしてあるが、こうしたものに限ら
れず、二位置切替えのソレノイドにしたり、モータを使
用することもできるのは勿論である。
トータルステーションで測量するターゲットの一部に、
入射光をその入射方向に反射する反射プリズムを固定し
てなる測量器械を設け、反射プリズムの光軸をトータル
ステーションのトランシットの光軸と合致させるととも
に、反射プリズムの入射光部分には当該部分を開閉する
シャッタを設け、方位及び距離を計測する部分の反射プ
リズムの入射光部分のシャッタを開き、トータルステー
ションと測量器械の何れか一方に、方位及び距離を計測
する為に相手側の反射プリズムに向けて方位検出用光線
を発する発光部と、発光部からの方位検出用光線を受光
する受光部を設け、当該反射光により距離を計測する相
手の方位を検出して相互に正対させた後、光波測距儀か
ら相手側の反射プリズムに向けて発射された測距光線の
反射により計測される相互のトータルステーション間の
距離を測定するようにしてあるので、曲がりが少ない形
状で前方にターゲット以外の反射鏡が左右に重なり合う
ような場合でもターゲット以外の反射鏡はシャッタで閉
じておくだけで、レーザビームがターゲット以外の反射
鏡での反射を防止でき、誤視準をなくし、誤視準による
測量の誤差を無くせると言う利点がある。
射プリズムで反射された方位検出用光線を受光する受光
部を設け、当該反射光により距離を計測する相手の方位
を検出して相互に正対させた後、測距光線で測距するよ
うにしてあるので、従来のように、一方の反射プリズム
の光軸を他方のトータルステーションに対面させるよう
に回転させてから方位を検出した後、一方から他方のタ
ーゲットまでの距離を計測し、逆に他方のターゲットか
ら一方のトータルステーションまでの方位並びに距離を
計測し、両計測値を比較して測量するようにしたものに
比べ、ターゲットの反射プリズム以外からの反射光によ
る誤視準、誤測定を無くして、短時間のうちに高精度に
ターゲットの方位や距離等を測定することができる利点
がある。
設されるシャッタ機構のの正面図である。
設されるシャッタ機構のの側面図である。
である。
示す側面図である。
動を示す平面図である。
動を示す平面図である。
Claims (4)
- 【請求項1】電子式または光学式トランシットと光波測
距儀を一体化したトータルステーションを用いて基準位
置のトータルステーションからターゲットまでの方位、
距離もしくはターゲットの変位を測量するトータルステ
ーションによる測量方法において、ターゲットまたはト
ータルステーションの一部に、入射光をその入射方向に
反射する反射プリズムを固定してなる測量器械を設け、
トータルステーション及びターゲットがトータルステー
ションである場合、反射プリズムの光軸をトータルステ
ーションのトランシットの光軸と合致させ、反射プリズ
ムの入射光部分には当該部分を開閉するシャッタを設け
るとともに、ターゲット側もしくは基準位置のトータル
ステーション側のいずれか一方に相互の方位特定するた
めの方位検出用光線を発する発光部を設け、他方に発光
部からの方位検出用光線を受光する受光部を設け、方位
検出用光線によりターゲットの方位を検出して相互に正
対させ、距離を計測するに際し、反射プリズムの入射光
部分のシャッタを開き、光波測距儀からシャッタが開か
れた反射プリズムに向けて発射された測距光線の反射に
よりターゲットとの間の距離を測定するようにしてなる
反射プリズム用開閉装置を用いたトータルステーション
による測量方法。 - 【請求項2】トータルステーションによる測量方法が、
発進立坑から地盤を掘削して推進する掘進機に後続し、
掘削された部分に発進立坑から掘進機の掘進速度に合わ
せて管体を順次挿入してなる暗渠を掘削する時の測量方
法であって、掘進機及びこれの後方に挿入された管体に
相互に方位並びに距離を検出する光学的な方位検出手段
と距離検出手段とを設け、この光学的な方位検出手段と
距離検出手段とによって掘進された部分の形状の測量ま
たは/及び先導の掘進機の位置の検出並びに掘進機の方
向を制御をするようにしたことを特徴とする請求項1に
記載の反射プリズム用開閉装置を用いたトータルステー
ションによる測量方法。 - 【請求項3】基準位置のトータルステーションからター
ゲットまでの方位、距離もしくはターゲットの変位を測
量するトータルステーションによる測量方法に用いられ
るトータルステーションを、電子式または光学式トラン
シットと光波測距儀を一体化して形成し、このトータル
ステーションの一部に入射光をその入射方向に反射する
反射プリズムを固定した測量器械を付設するとともに、
この反射プリズムはその光軸をトータルステーションの
トランシットの光軸と合致させ、反射プリズムの入射光
部分に当該部分を開閉するシャッタ機構を配設し、この
反射プリズムの入射光部分を開閉するシャッタ機構は、
遮閉部を測量器械の一部若しくは測量器械に取り付けら
れたフレームに回動自在に枢支され、この遮閉部を方位
並びに距離の検出操作に連動する回動手段で開閉可能に
構成したことを特徴とする反射プリズム用開閉装置。 - 【請求項4】シャッタ機構が、暗渠を掘削する時の掘削
機の制御及び掘削された暗渠の形状を測量する方法に用
いられるトータルステーションに付設された反射プリズ
ムのシャッタ機構である請求項3に記載の反射プリズム
用開閉装置。
Priority Applications (1)
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JP20926799A JP4220070B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 測量に用いる反射プリズム用開閉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP20926799A JP4220070B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 測量に用いる反射プリズム用開閉装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2001033251A true JP2001033251A (ja) | 2001-02-09 |
JP4220070B2 JP4220070B2 (ja) | 2009-02-04 |
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ID=16570127
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---|---|---|---|
JP20926799A Expired - Fee Related JP4220070B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 測量に用いる反射プリズム用開閉装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP4220070B2 (ja) |
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