JP2001031600A - Production of highly pure monoethylene glycol - Google Patents
Production of highly pure monoethylene glycolInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、高純度のモノエチ
レングリコールを製造する方法に関する。The present invention relates to a method for producing high-purity monoethylene glycol.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、図2に示すように、精製エチレン
オキシドを加水反応用原料に使用してモノエチレングリ
コールを製造する方法では、モノエチレングリコール精
留塔にサイドカット法を用いることなく、実質的に水を
含まないエチレングリコール液(例えば、脱水塔ボトム
液)を配管203を通じてモノエチレングリコール精留塔2
01へフィードし、該精留塔201にて蒸留操作を行い、該
精留塔201の塔頂部から留出するモノエチレングリコー
ルの蒸気を、配管205の経路上に設けられた凝縮器207に
より全量凝縮液化してモノエチレングリコール液とし、
このモノエチレングリコール液の一部を分岐配管209を
通じてモノエチレングリコール精留塔201へ還流して戻
し、残りのモノエチレングリコール液は配管208を通じ
て全て高純度のモノエチレングリコール製品として取得
し、精留塔201の塔底部に残るジエチレングリコール等
の高沸点成分の釜液は配管211を通じて系外のジエチレ
ングリコール処理工程へ送る方法を用いていた。2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIG. 2, in a method of producing monoethylene glycol by using purified ethylene oxide as a raw material for a hydrolysis reaction, a monoethylene glycol rectification column is substantially used without using a side cut method. A water-free ethylene glycol liquid (for example, a bottom liquid of a dehydration tower) is passed through a pipe 203 through a monoethylene glycol rectification column 2
01, a distillation operation is performed in the rectification column 201, and the entire amount of the monoethylene glycol vapor distilled out from the top of the rectification column 201 is passed through a condenser 207 provided on the path of a pipe 205. Condensed and liquefied into monoethylene glycol liquid,
A part of this monoethylene glycol liquid is refluxed back to the monoethylene glycol rectification column 201 through the branch pipe 209, and all the remaining monoethylene glycol liquid is obtained as a high-purity monoethylene glycol product through the pipe 208, A method was used in which the kettle liquid of a high boiling component such as diethylene glycol remaining at the bottom of the column 201 was sent to a diethylene glycol treatment step outside the system through a pipe 211.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、製造プ
ロセスの簡略化、省エネ化、低コスト化を図る目的でモ
ノエチレングリコールの製造プロセスを種々検討したと
ころ、精製エチレンオキシドを加水反応用原料に使用し
てモノエチレングリコールを製造する従来の製造技術に
おいて、加水反応用原料を精製エチレンオキシドから未
精製の粗エチレンオキシドへ変更することで、上記目的
は達成されるものの、粗エチレンオキシドに同伴され、
加水反応によって生成し、モノエチレングリコール製品
中に同伴される重質のアルデヒド、特にグリコールアル
デヒド濃度の低減が不十分であり、さらに製品モノエチ
レングリコールの熱安定性が悪化することが判明した。
この熱安定性の悪化は、グリコールアルデヒドによるだ
けでなく、粗エチレンオキシドを使用することにより含
まれてくる、有機塩素化合物、アルデヒド類、有機酸類
が加水反応時に変化し、モノエチレングリコールと沸点
の近い物質またはモノエチレングリコールの蒸留精製過
程で発生してくる不純物(例えば、エチレンクロロヒド
リン、ジエチレングリコールモノクロロヒドリンなど)
によるものと考えられる。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have studied various processes for producing monoethylene glycol in order to simplify the production process, save energy, and reduce costs. In the conventional production technology for producing monoethylene glycol by using the above, the above-mentioned object is achieved by changing the raw material for the hydrolysis reaction from purified ethylene oxide to unpurified crude ethylene oxide.
It has been found that the concentration of heavy aldehydes, particularly glycol aldehyde, produced by the hydrolysis reaction and entrained in the monoethylene glycol product is insufficiently reduced, and further, the thermal stability of the product monoethylene glycol deteriorates.
This deterioration in thermal stability is caused not only by glycol aldehyde but also by the use of crude ethylene oxide.Organic chlorine compounds, aldehydes and organic acids are changed during the hydrolysis reaction, and the boiling point is close to that of monoethylene glycol. Substances or impurities generated during the purification and purification of monoethylene glycol (eg, ethylene chlorohydrin, diethylene glycol monochlorohydrin, etc.)
It is thought to be due to.
【0004】そこで、本発明の目的は、モノエチレング
リコールを製造するプロセスにおいて、製造工程・操作
の簡素化、省エネ化、低コスト化を達成し、かつモノエ
チレングリコール製品中のグリコールアルデヒドの低減
およびそれと共にもたらされる上記熱安定性の悪化原因
物質を低減し、繊維グレードの高純度モノエチレングリ
コールに求められる品質を満足することのできる高純度
モノエチレングリコールの製造方法を提供するものであ
る。[0004] Therefore, an object of the present invention is to achieve simplification of production steps and operations, energy saving and cost reduction in a process for producing monoethylene glycol, and reduction and reduction of glycolaldehyde in monoethylene glycol products. It is an object of the present invention to provide a method for producing high-purity monoethylene glycol which can reduce the above-mentioned substances causing deterioration of thermal stability and satisfy the quality required for high-purity monoethylene glycol of fiber grade.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記諸目
的を達成すべく、高純度モノエチレングリコールの製造
方法につき鋭意検討した結果、未精製のエチレンオキシ
ドを加水反応用原料に使用して製造工程・操作の簡素
化、省エネ化、低コスト化を図ると共に、不純物の除去
のための装置類を増設、あるいは改良したり、新たに工
程を増やしたりすることなく、モノエチレングリコール
精留塔にサイドカット技術を導入するという極めて簡単
な手段により、意外にも、サイドカット部からグリコー
ルアルデヒドの濃度が極めて低くかつ熱安定性の高い高
純度モノエチレングリコール製品を取得する事ができ、
全体しても十分に製造工程・操作の簡素化、省エネ化、
低コスト化が達成されることを見出し、本発明を完成す
るに至ったものである。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies on a method for producing high-purity monoethylene glycol in order to achieve the above objects, and have found that unpurified ethylene oxide is used as a raw material for a hydrolysis reaction. The monoethylene glycol rectification column can be simplified without simplifying the manufacturing process and operation, saving energy, and reducing costs, and without adding or improving equipment for removing impurities or adding new processes. Surprisingly, it is possible to obtain a high-purity monoethylene glycol product with extremely low concentration of glycolaldehyde and high thermal stability from the side cut part by extremely simple means of introducing side cut technology to
Sufficient simplification of manufacturing process and operation, energy saving,
The inventors have found that cost reduction can be achieved, and have completed the present invention.
【0006】すなわち、本発明の目的は、下記(1)〜
(5)により達成される。That is, the object of the present invention is to provide the following (1) to
This is achieved by (5).
【0007】(1) 未精製の粗エチレンオキシドを加
水反応用原料として使用し、高純度のモノエチレングリ
コールを製造する方法において、モノエチレングリコー
ル精留塔にサイドカット技術を導入し、サイドカット部
からモノエチレングリコールを取得することを特徴とす
る高純度モノエチレングリコールの製造方法。(1) In a method for producing high-purity monoethylene glycol using unpurified crude ethylene oxide as a raw material for a hydrolysis reaction, a side cut technique is introduced into a monoethylene glycol rectification column, and A method for producing high-purity monoethylene glycol, comprising obtaining monoethylene glycol.
【0008】(2) 前記モノエチレングリコール精留
塔の塔頂部のカット率を、前記モノエチレングリコール
精留塔へのフィード量に対して0.01重量%以上とす
ることを特徴とする上記(1)に記載の方法。(2) The cut rate at the top of the monoethylene glycol rectification column is 0.01% by weight or more based on the feed amount to the monoethylene glycol rectification column. The method according to 1).
【0009】(3) 前記未精製の粗エチレンオキシド
が、エチレンオキシド放散塔の塔頂部より得られるエチ
レンオキシドを含有する蒸気を冷却および/または吸収
によりその一部または全部を凝縮させて得られる凝縮液
中のエチレンオキシドであることを特徴とする上記
(1)または(2)に記載の方法。(3) The crude crude ethylene oxide is obtained by condensing part or all of the ethylene oxide-containing vapor obtained from the top of the ethylene oxide stripping tower by cooling and / or absorbing the condensate. The method according to the above (1) or (2), wherein the method is ethylene oxide.
【0010】(4) 前記未精製の粗エチレンオキシド
が、エチレンオキシド放散塔の塔頂部より得られるエチ
レンオキシドを含有する蒸気の一部または全部を凝縮さ
せて得られる凝縮液を、該放散塔に還流させることなく
得られたものであることを特徴とする上記(1)〜
(3)のいずれか1つに記載の方法。(4) Condensate obtained by condensing part or all of the ethylene oxide-containing vapor obtained from the top of the ethylene oxide stripping tower with the crude crude ethylene oxide is refluxed to the stripping tower. (1) to (1), which are obtained without
The method according to any one of (3).
【0011】(5) 前記未精製の粗エチレンオキシド
が、エチレンオキシド放散塔の塔頂部より得られるエチ
レンオキシドを含有する蒸気を一部凝縮させて第1の凝
縮液を得、残りの未凝縮ガスをさらに凝縮させるかまた
はそのままの形でエチレンオキシド脱水塔に導き、得ら
れる脱水されたエチレンオキシドを前記第1の凝縮液と
混合したものであることを特徴とする上記(1)〜
(4)のいずれか1つに記載の方法。(5) The unpurified crude ethylene oxide partially condenses a vapor containing ethylene oxide obtained from the top of the ethylene oxide stripping tower to obtain a first condensate, and further condenses the remaining uncondensed gas. (1) to (1) to (1) to (4), wherein the obtained dehydrated ethylene oxide is mixed with the first condensate.
The method according to any one of (4).
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の高純度モノエチレングリ
コールの製造方法は、未精製の粗エチレンオキシドを加
水反応用原料として使用し、高純度のモノエチレングリ
コールを製造する方法において、モノエチレングリコー
ル精留塔にサイドカット技術を導入し、サイドカット部
からモノエチレングリコールを取得することを特徴とす
るものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for producing high-purity monoethylene glycol according to the present invention uses a crude ethylene oxide crude as a raw material for a hydrolysis reaction. It is characterized by introducing a side cut technology into the distillation tower and obtaining monoethylene glycol from the side cut portion.
【0013】図1に示すように、本発明では、未精製の
粗エチレンオキシドを含むエチレンオキシドを加水反応
用原料に使用してモノエチレングリコールを製造する際
に、モノエチレングリコール精留塔にサイドカット技術
を導入し、実質的に水を含まないエチレングリコール液
(例えば、脱水塔ボトム液)をエチレングリコール液フ
ィード用の配管103を通じてモノエチレングリコール精
留塔101へフィードし、該精留塔101にて蒸留操作を行
い、該精留塔101の塔頂部から留出するモノエチレング
リコールの蒸気を、頭頂部側の配管105の経路上に設け
られた凝縮器(コンデンサ)107により全量凝縮液化し
てモノエチレングリコール液とし、このモノエチレング
リコール液の一部を頭頂部側の還流用の分岐配管109を
通じて精留塔101へ還流して戻し、残りの不純物を含有
する塔頂部の濃縮液は該配管108を通じて系外に排出
し、精留塔101へ環流される高純度のモノエチレングリ
コールは、サイドカット用の配管113を通じて製品とし
て取得し、精留塔101の塔底部に残るジエチレングリコ
ール等の高沸点成分は塔底部側の配管111を通じて系外
のジエチレングリコール処理工程へ送り処理する。これ
により、比較的低沸点成分(軽質留分)のグリコール
アルデヒドなどの不純物を含有する塔頂濃縮液、中間
沸点成分(中間留分)の高純度のモノエチレングリコー
ルのサイドカット液および高沸点成分(重質留分)の
ジエチレングリコール等の塔底液の3成分に分離するこ
とができる。As shown in FIG. 1, in the present invention, when ethylene oxide containing unpurified crude ethylene oxide is used as a raw material for a hydrolysis reaction to produce monoethylene glycol, a side cut technique is applied to a monoethylene glycol rectification column. And an ethylene glycol liquid substantially free of water (for example, a bottom liquid of a dehydration tower) is fed to a monoethylene glycol rectification column 101 through a pipe 103 for ethylene glycol liquid feed, and the rectification column 101 A distillation operation is carried out, and the monoethylene glycol vapor distilled out from the top of the rectification column 101 is condensed and liquefied in its entirety by a condenser (condenser) 107 provided on a path of a pipe 105 on the top side, and is then liquefied. Ethylene glycol liquid, a part of this monoethylene glycol liquid is refluxed back to the rectification column 101 through the branch pipe 109 for reflux on the top side, The concentrated liquid at the top of the column containing the other impurities is discharged out of the system through the pipe 108, and high-purity monoethylene glycol refluxed to the rectification column 101 is obtained as a product through a pipe 113 for side cutting, High boiling components such as diethylene glycol remaining at the bottom of the rectification column 101 are sent to a diethylene glycol treatment step outside the system through a pipe 111 at the bottom of the column. As a result, an overhead concentrate containing impurities such as glycolaldehyde, which is a relatively low-boiling component (light fraction), a high-purity monoethylene glycol side-cut solution and a high-boiling component having an intermediate boiling component (middle distillate) It can be separated into three components of a bottom liquid such as diethylene glycol (a heavy fraction).
【0014】ここで、本発明の製造方法に使用すること
のできる未精製の粗エチレンオキシドとしては、銀触媒
の存在下、エチレンを分子状酸素で接触気相酸化してエ
チレンオキシドを精製する過程で得られる未精製の粗エ
チレンオキシドであれば、特に制限されるものではな
く、(1)従来のエチレンオキシドの製造過程で発生す
る未精製の粗エチレンオキシド、例えば、特公昭61−
3772号公報、USP3904656、特公昭54−
882号公報に記載の方法に用いられている未精製の粗
エチレンオキシド、具体的には、 A.エチレンオキシド放散塔の塔頂留分、 B.エチレンオキシド脱水塔の塔頂留分、 C.エチレンオキシド脱水塔の塔底液、 D.エチレンオキシド精留塔の塔底液、および E.再吸収塔の塔底液、などが挙げられ、これらを1種
単独で用いても良いほか、2種以上を混合して用いても
良い。Here, the crude crude ethylene oxide that can be used in the production method of the present invention is obtained in the process of purifying ethylene oxide by catalytic gas phase oxidation of ethylene with molecular oxygen in the presence of a silver catalyst. The crude ethylene oxide is not particularly limited as long as it is obtained. (1) Unrefined crude ethylene oxide generated in the conventional production process of ethylene oxide, for example,
No. 3772, US Pat. No. 3,904,656, Japanese Patent Publication No. 54-
Unrefined crude ethylene oxide used in the method described in JP-A-882 No. 882, specifically, B. overhead fraction of ethylene oxide stripping tower; B. overhead fraction of ethylene oxide dehydration tower, B. bottom liquid of ethylene oxide dehydration tower; A bottom liquid of an ethylene oxide rectification column, and E. Examples thereof include a bottom liquid of a reabsorption tower, and these may be used alone or in a combination of two or more.
【0015】さらに、本発明者らが、プロセスの簡素化
及び塔頂留分のコンデンサー、還流ポンプ等の機器サイ
ズの縮小、放散塔の投入蒸気の削減等の観点から鋭意検
討した結果、見出したものである下記(2)〜(4)に
示す未精製の粗エチレンオキシドが挙げられる。下記
(2)〜(4)に示す未精製の粗エチレンオキシドで
は、加水反応器へ送られる未精製の粗エチレンオキシド
水溶液を薄めることなく、エチレンオキシド放散塔の頭
頂部からでてくる蒸気を削減できる点で好ましい。Further, the present inventors have made intensive studies from the viewpoints of simplification of the process, reduction of the size of equipment such as a condenser and a reflux pump for the top distillate, and reduction of steam input to the stripping tower. And unpurified crude ethylene oxide shown in the following (2) to (4). The crude crude ethylene oxide shown in the following (2) to (4) can reduce the steam coming out from the top of the ethylene oxide stripping tower without diluting the crude crude ethylene oxide aqueous solution sent to the hydrolysis reactor. preferable.
【0016】(2)エチレンオキシド放散塔の塔頂部よ
り得られるエチレンオキシドを含有する蒸気を冷却およ
び/または吸収によりその一部または全部を凝縮させて
得られる凝縮液中のエチレンオキシド、(3)エチレン
オキシド放散塔の塔頂部より得られるエチレンオキシド
を含有する蒸気の一部または全部を凝縮させて得られる
凝縮液を、該放散塔に還流させることなく得られたも
の、および(4)エチレンオキシド放散塔の塔頂部より
得られるエチレンオキシドを含有する蒸気を一部凝縮さ
せて第1の凝縮液を得、残りの未凝縮ガスをさらに凝縮
させるかまたはそのままの形でエチレンオキシド脱水塔
に導き、得られる脱水されたエチレンオキシドを前記第
1の凝縮液と混合したもの、の少なくとも1種を好適な
加水反応用原料として用いることができる。(2) Ethylene oxide in a condensate obtained by condensing part or all of the ethylene oxide-containing vapor obtained from the top of the ethylene oxide stripping tower by cooling and / or absorption, and (3) ethylene oxide stripping tower The condensate obtained by condensing part or all of the ethylene oxide-containing vapor obtained from the top of the column without refluxing the stripping tower; and (4) the condensate obtained from the top of the ethylene oxide stripping tower The resulting ethylene oxide-containing vapor is partially condensed to obtain a first condensate, and the remaining uncondensed gas is further condensed or led as it is to an ethylene oxide dehydration column, and the obtained dehydrated ethylene oxide is subjected to the above-mentioned method. At least one of the mixture with the first condensate is used as a suitable raw material for a hydrolysis reaction. It can be used.
【0017】なお、本発明では、上記の如く未精製の粗
エチレンオキシドを加水反応用原料に使用することがで
きるが、製造工程・操作の簡素化、省エネ化、低コスト
化の観点から、好ましくは上記(3)に示す未精製の粗
エチレンオキシドからなるものを加水反応用原料に使用
することにより、エチレンオキシド放散塔の加熱量を5
〜10%低減可能となり、後の精製工程も不要となる。In the present invention, crude crude ethylene oxide can be used as a raw material for the hydrolysis reaction as described above. However, from the viewpoint of simplification of the production process and operation, energy saving and cost reduction, it is preferable. By using the unpurified crude ethylene oxide shown in (3) above as the raw material for the hydrolysis reaction, the heating amount of the ethylene oxide stripping tower can be reduced to 5%.
-10% can be reduced, and the subsequent purification step is not required.
【0018】本発明では、未精製の粗エチレンオキシド
を加水反応用原料に使用し、モノエチレングリコールを
製造するものであるが、上述したとおりモノエチレング
リコール精留塔までのプロセスに関しては、特に制限さ
れるものではなく、従来既知の製造方法を利用する事が
できるものであり、例えば、化学工学会編「化学プロセ
ス」、121頁などに記載の従来既知の製造技術を適宜
利用することができる。すなわち、上記加水反応用原料
を反応器中で加水反応させ、該反応生成物を複数の蒸留
塔での蒸留操作により、水、モノエチレングリコールよ
り低沸点成分を順次留去し、その後、モノエチレングリ
コールを留出して、高純度のモノエチレングリコールを
得るとする従来の製造方法の中の当該製造技術を利用す
ることができるものである。In the present invention, crude ethylene oxide is used as a raw material for the hydrolysis reaction to produce monoethylene glycol. However, as described above, the process up to the monoethylene glycol rectification column is particularly limited. Instead, a conventionally known manufacturing method can be used. For example, a conventionally known manufacturing technique described in “Chemical Process”, edited by the Society of Chemical Engineers, page 121, etc. can be appropriately used. That is, the raw material for the hydrolysis reaction is subjected to a hydrolysis reaction in a reactor, and the reaction product is subjected to a distillation operation in a plurality of distillation columns to sequentially remove water and low-boiling components from monoethylene glycol. The present invention can utilize the production technique in a conventional production method for distilling glycol to obtain high-purity monoethylene glycol.
【0019】本発明では、好ましくは、モノエチレング
リコール脱水塔の塔底液をモノエチレングリコール精留
塔にフィードし、該モノエチレングリコール精留塔の塔
頂部のカット率を、モノエチレングリコール精留塔への
フィード量に対して0.01重量%以上、さらに好まし
くは0.1〜2重量%の範囲で蒸留を行うことが望まし
い。サイドカット部より得られたモノエチレングリコー
ルは製品として取得し、グリコールアルデヒドなどの不
純物を含む塔頂部から出る濃縮液は系外へ排出すること
で、サイドカット部へのこれら不純物の混入を極めて効
果的に防ぐ事ができるものである。上記モノエチレング
リコール精留塔の塔頂部のカット率がモノエチレングリ
コール精留塔へのフィード量に対して0.01重量%未
満の場合には、モノエチレングリコール精留塔の塔頂部
から系外へ排出される濃縮液量の減少により、グリコー
ルアルデヒドなどの不純物が濃縮液側に十分に移行して
排除されることなく、塔頂部から環流される還流液中へ
の不純物の混入が増加し、サイドカット部より抜き出さ
れるモノエチレングリコール液中に混入し、該モノエチ
レングリコール製品の純度の低下につながるため好まし
くない。なお、上記モノエチレングリコール精留塔の塔
頂部のカット率がモノエチレングリコール精留塔へのフ
ィード量に対して2重量%を超える場合には、塔頂部か
ら系外に排出される濃縮液中のモノエチレングリコール
量が増加し、サイドカット部より抜き出されるモノエチ
レングリコール製品の取得率の低下につながるため好ま
しくない。ここで、モノエチレングリコール精留塔の塔
頂部のカット率とは、塔にフィードされる量に対して、
塔頂部から系外へ排出される量の重量百分率として定義
されるものである。また、本明細書において、サイドカ
ット技術とは、一般に3成分系を軽質留分、中間留分、
重質留分に蒸留分離するための蒸留塔に適用されている
技術であり、その操作は以下に詳述する通りである。In the present invention, preferably, the bottom liquid of the monoethylene glycol dewatering column is fed to the monoethylene glycol rectification column, and the cut rate at the top of the monoethylene glycol rectification column is adjusted to the monoethylene glycol rectification column. It is desirable to carry out the distillation in an amount of 0.01% by weight or more, more preferably 0.1 to 2% by weight, based on the feed amount to the column. Monoethylene glycol obtained from the side cut section is obtained as a product, and the concentrated liquid coming out of the tower top containing impurities such as glycol aldehyde is discharged outside the system, so that the contamination of the side cut section with these impurities is extremely effective Can be prevented. If the cut rate at the top of the monoethylene glycol rectification column is less than 0.01% by weight with respect to the feed amount to the monoethylene glycol rectification column, the outside of the system is removed from the top of the monoethylene glycol rectification column. Due to the decrease in the amount of the concentrated liquid discharged to, the impurities such as glycolaldehyde are sufficiently transferred to the concentrated liquid side and are not eliminated, and the contamination of the reflux liquid refluxed from the top of the column with the impurities increases, It is not preferable because it is mixed in the monoethylene glycol liquid extracted from the side cut portion and leads to a decrease in the purity of the monoethylene glycol product. When the cut rate at the top of the monoethylene glycol rectification column exceeds 2% by weight with respect to the feed amount to the monoethylene glycol rectification column, the concentration of the concentrated liquid discharged outside the system from the top of the column is The amount of monoethylene glycol increases, which leads to a decrease in the acquisition rate of the monoethylene glycol product extracted from the side cut portion, which is not preferable. Here, the cut rate at the top of the monoethylene glycol rectification column refers to the amount fed to the column,
It is defined as the weight percentage of the amount discharged out of the system from the top of the tower. Further, in this specification, the side cut technique generally refers to a three-component system as a light fraction, an intermediate fraction,
This is a technique applied to a distillation column for separating by distillation into a heavy fraction, and the operation is as described in detail below.
【0020】つぎに、本発明に用いることもできる、サ
イドカット技術を導入してなるモノエチレングリコール
精留塔およびその操作・条件につき、以下に説明する。Next, a monoethylene glycol rectification column which can be used in the present invention and which incorporates a side-cut technique, and its operation and conditions will be described below.
【0021】(1)モノエチレングリコール精留塔(以
下、単に、MEG精留塔ともいう) モノエチレングリコール精留塔の形式については、特に
制限されるものではなく、一般的な蒸留塔であればよい
が、圧力損失の少ない充填塔が好ましい。さらに、従来
の精製方法では、通常、1本または2本のMEG精留塔
とMEG回収塔からなる複合塔が用いられており、ME
G精留塔は、ボトムフィードで濃縮部のみを有し、その
後段のMEG回収塔は、中段フィードで濃縮部と回収部
を有する構造のものが使われていた。本発明のMEG精
留塔では、図3に示すように、中段フィードで濃縮部と
回収部を有する構造に加えて、該濃縮部の上にサイドカ
ット用の濃縮部を設置すればよい。また、前述のように
複合塔で行われるときは、少なくとも1本以上の塔につ
いて濃縮部の上にサイドカット用の濃縮部を設置すれば
よい。(1) Monoethylene glycol rectification column (hereinafter, also simply referred to as MEG rectification column) The type of the monoethylene glycol rectification column is not particularly limited, and may be a general distillation column. However, a packed tower with a small pressure loss is preferred. Further, in the conventional purification method, usually, a composite column including one or two MEG rectification columns and a MEG recovery column is used.
The G rectification column had only the enrichment section in the bottom feed, and the MEG recovery column in the subsequent stage had a middle feed structure having an enrichment section and a recovery section. In the MEG rectification column of the present invention, as shown in FIG. 3, in addition to the structure having the enrichment section and the recovery section in the middle stage feed, an enrichment section for side cutting may be provided on the enrichment section. Further, as described above, when the reaction is carried out in the composite tower, the enrichment section for side cut may be installed on the enrichment section for at least one or more columns.
【0022】モノエチレングリコール精留塔の操作圧力
は、加熱源や冷却源の温度によって、適宜決定されるも
のであり、特に制限されるものではないが、通常1〜2
00mmHgである。The operating pressure of the monoethylene glycol rectification column is appropriately determined depending on the temperature of a heating source or a cooling source, and is not particularly limited.
00 mmHg.
【0023】(2)モノエチレングリコール精留塔への
フィード液 本発明では、モノエチレングリコール精留塔にフィード
されるフィード液としては、該モノエチレングリコール
精留塔にフィードされるエチレングリコール液中の水分
量が実質的にゼロ(具体的には0.1重量%以下)であ
るものであれば、特に制限されるものではなく、例え
ば、モノエチレングリコール脱水塔にて、脱水処理され
て、水分量が実質的にゼロになった該モノエチレングリ
コール脱水塔のボトム液などが好適に利用できるが、特
にこれらに制限されるものではなく、さらにこれらが従
来技術における不純物除去の目的でアルカリ処理された
ようなものであってもよい。(2) Feed solution to the monoethylene glycol rectification column In the present invention, the feed solution to be fed to the monoethylene glycol rectification column is the ethylene glycol solution fed to the monoethylene glycol rectification column. Is not particularly limited as long as it has a water content of substantially zero (specifically, 0.1% by weight or less). Bottom liquid of the monoethylene glycol dehydration column having a water content of substantially zero can be preferably used, but is not particularly limited thereto. Further, these are alkali-treated for the purpose of removing impurities in the prior art. It may be something like that.
【0024】なお、加水反応用原料に使用される未精製
の粗エチレンオキシド中に含有される不純物としては、
その製造履歴にもよるが、アルデヒド類、有機塩素類、
無機塩素類、有機酸類等を含んでいる。しかしながら、
加水反応用原料を加水反応させ、その後、通常の脱水操
作を行う過程でこうした不純物の多くが除去され、最終
的にモノエチレングリコール精留塔にフィードされるエ
チレングリコール液中には、通常の蒸留操作ではモノエ
チレングリコールと分離することが極めて困難であるグ
リコールアルデヒドやその他不特定の熱安定性を悪化さ
せる微量の不純物などが混入されている。したがって、
本発明では、こうした通常の蒸留操作ではモノエチレン
グリコールと分離することが極めて困難であるグリコー
ルアルデヒドなどの不純物が、サイドカット技術を導入
してなるモノエチレングリコール精留塔において分離す
べき対象物(不純物)となる。The impurities contained in the crude crude ethylene oxide used as the raw material for the hydrolysis reaction include:
Depending on its manufacturing history, aldehydes, organic chlorines,
Contains inorganic chlorines, organic acids, etc. However,
Many of these impurities are removed in the course of conducting a normal dehydration operation after the raw material for the hydrolysis reaction is subjected to a hydrolysis reaction, and the ethylene glycol solution finally fed to the monoethylene glycol rectification column contains a normal distillation solution. In operation, glycolaldehyde, which is extremely difficult to separate from monoethylene glycol, and other unspecified trace amounts of impurities that deteriorate thermal stability are mixed. Therefore,
According to the present invention, impurities such as glycolaldehyde, which are extremely difficult to separate from monoethylene glycol by such a normal distillation operation, are to be separated in a monoethylene glycol rectification column obtained by introducing a side cut technique ( Impurities).
【0025】(3)モノエチレングリコール精留塔の操
作条件 モノエチレングリコール精留塔の塔頂温度は、操作圧
力によって変わるため、一義的に規定すべきものではな
い。なお、上記に規定する操作圧力範囲を考慮した場
合、塔頂温度範囲は極めて広範囲にならざるを得ない
が、あえて規定するならば、該塔頂温度は30〜160
℃である。(3) Operating conditions of the monoethylene glycol rectification column Since the top temperature of the monoethylene glycol rectification column varies depending on the operating pressure, it should not be specified uniquely. In addition, in consideration of the operating pressure range specified above, the temperature range of the tower top must be very wide, but if specified, the temperature of the tower top is 30 to 160
° C.
【0026】モノエチレングリコール精留塔の操作圧
力は、すでに上記に規定した通りである。The operating pressure of the monoethylene glycol rectification column is as already defined above.
【0027】モノエチレングリコール精留塔の塔頂部
のカット率に関しても、すでに上記に規定した通りであ
る。The cut rate at the top of the monoethylene glycol rectification column is also as described above.
【0028】モノエチレングリコール精留塔の塔頂部
の還流比(R/D;図3参照のこと)は、10〜50
0、好ましくは100〜400である。サイドカット濃
縮部の理論段数、不純物量に応じて適当に決めるのがよ
い。The reflux ratio (R / D; see FIG. 3) at the top of the monoethylene glycol rectification column is 10 to 50.
0, preferably 100 to 400. It is preferable to appropriately determine the number of theoretical plates in the side cut enrichment section and the amount of impurities.
【0029】モノエチレングリコール精留塔のサイド
カットの還流比(R′/D′;図3参照のこと)は、
0.5〜3、好ましくは0.8〜1.4である。この
R′/D′も濃縮部の段数に応じて、製品中へのDEG
濃度が規定値以内になるように定めればよい。The reflux ratio (R '/ D'; see FIG. 3) of the side cut of the monoethylene glycol rectification column is as follows:
It is 0.5 to 3, preferably 0.8 to 1.4. This R '/ D' also depends on the number of stages in the enrichment section,
The concentration may be determined so as to be within the specified value.
【0030】モノエチレングリコール精留塔の濃縮部
(図3参照のこと)の理論段数は、5〜30、好ましく
は7〜15である。この理論段数は、フィードの組成な
どを考慮し、製品中へのDEG濃度が規定値以内になる
ように定めればよい。The number of theoretical stages of the enrichment section (see FIG. 3) of the monoethylene glycol rectification column is 5 to 30, preferably 7 to 15. The number of theoretical plates may be determined in consideration of the composition of the feed and the like so that the DEG concentration in the product is within a specified value.
【0031】モノエチレングリコール精留塔のサイド
カット用の濃縮部(図3参照のこと)の理論段数は、3
〜10、好ましくは5〜10である。塔に持ち込まれる
不純物量に応じて適当に決めるのがよい。The number of theoretical stages of the side cut enrichment section (see FIG. 3) of the monoethylene glycol rectification column is 3
10 to 10, preferably 5 to 10. It is good to determine appropriately according to the amount of impurities brought into the column.
【0032】本発明においては、サイドカット技術を導
入することにより、モノエチレングリコール精留塔の塔
頂部から排出される濃縮液(塔頂液)中に、上述したよ
うに、グリコールアルデヒドなどの不純物をも濃縮(上
記に規定する操作条件により、200〜1000倍に濃
縮可能である)することができる。この塔頂液は、系外
にて適当に廃棄処理してもよいが、好ましくは本発明者
らが別途発明し、特許出願中のモノエチレングリコール
の製造方法(具体的には、回収エチレングリコール含有
液を原料とし、該回収エチレングリコール含有液にアル
カリを添加した後、加熱処理を施し、次に粗蒸留を行っ
た後、モノエチレングリコールを精製することを特徴と
する高純度モノエチレングリコールの製造方法)におい
て、該塔頂液を回収エチレングリコール含有液として再
利用することが望ましい。これにより、プラント全体か
ら製造されるモノエチレングリコールの取得率をより高
める事ができるためである。In the present invention, by introducing the side cut technology, as described above, impurities such as glycolaldehyde are contained in the concentrated liquid (top liquid) discharged from the top of the monoethylene glycol rectification column. Can also be concentrated (concentration can be 200- to 1000-fold depending on the operating conditions specified above). This overhead liquid may be appropriately disposed of outside the system. However, it is preferable that the present inventors separately invent the invention and apply for a patent-pending method for producing monoethylene glycol (specifically, the recovered ethylene glycol). The high-purity monoethylene glycol is characterized by purifying the monoethylene glycol after adding alkali to the recovered ethylene glycol-containing liquid, subjecting it to a heat treatment, and then performing crude distillation. In the production method), it is desirable to reuse the overhead liquid as a recovered ethylene glycol-containing liquid. Thereby, the acquisition rate of monoethylene glycol produced from the entire plant can be further increased.
【0033】一方、本発明においては、サイドカット技
術を導入することにより、モノエチレングリコール精留
塔のサイドカット液がすべて高純度のモノエチレングリ
コール製品として高収率に回収することができるもので
ある。On the other hand, in the present invention, by introducing the side cut technology, all the side cut liquid of the monoethylene glycol rectification column can be recovered in high yield as a high-purity monoethylene glycol product. is there.
【0034】[0034]
【実施例】以下に、実施例により本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0035】実施例1 未精製の粗エチレンオキシドとして、放散塔塔頂ガスを
全部凝縮し、還流をしないで得られたものを加水反応用
原料に使用した。上記加水反応用原料に水を加えて加水
反応器中で加水反応させ、該反応生成物を複数の蒸留塔
で順次蒸留操作して、水ならびにモノエチレングリコー
ルより低沸点の成分を留去し、実質的に水を含まない脱
水塔ボトム液を得た。このボトム液をサイドカット技術
を導入してなるモノエチレングリコール精留塔の中段に
フィードし、該精留塔の塔頂温度127℃、該精留塔の
操作圧力60mmHg、該精留塔の塔頂部のカット率
は、モノエチレングリコール精留塔へのフィード量に対
して0.56重量%の条件にて蒸留を行った。尚、該精
留塔の塔頂部での還流比(R/D)は144.9、該精
留塔のサイドカット部での還流比(R′/D′)は1.
6とした。また、該精留塔の濃縮部(図3参照のこと)
の理論段数は7とし、該精留塔のサイドカット用の濃縮
部(図3参照のこと)の理論段数は5とした。サイドカ
ット部より得られたモノエチレングリコールは製品とし
て取得し、塔頂部から排出される濃縮液は系外へ排出し
た。得られたモノエチレングリコール製品中のグリコー
ルアルデヒド濃度を液相クロマトグラフ(株式会社島津
製作所製:LC−10)により測定した。得られた結果
を下記表1に示す。Example 1 As a crude crude ethylene oxide, a gas obtained without condensing the entire top gas of a stripping tower and refluxing was used as a raw material for a hydrolysis reaction. Water is added to the water for the hydrolysis reaction to cause a hydrolysis reaction in a water reactor, and the reaction product is sequentially distilled in a plurality of distillation columns to distill water and components having a lower boiling point than monoethylene glycol. A dewatering tower bottom liquid substantially free of water was obtained. The bottom liquid is fed to the middle stage of a monoethylene glycol rectification column incorporating a side cut technology, and the top temperature of the rectification column is 127 ° C., the operation pressure of the rectification column is 60 mmHg, and the column of the rectification column is Distillation was performed under the condition that the cut rate at the top was 0.56% by weight based on the amount of feed to the monoethylene glycol rectification column. The reflux ratio (R / D) at the top of the rectification column was 144.9, and the reflux ratio (R '/ D') at the side cut portion of the rectification column was 1.
6. Further, the enrichment section of the rectification column (see FIG. 3)
The theoretical plate number was 7 and the theoretical plate number of the enrichment section for side cut of the rectification column (see FIG. 3) was 5. Monoethylene glycol obtained from the side cut portion was obtained as a product, and the concentrated liquid discharged from the top of the column was discharged outside the system. The glycol aldehyde concentration in the obtained monoethylene glycol product was measured by liquid phase chromatography (LC-10, manufactured by Shimadzu Corporation). The results obtained are shown in Table 1 below.
【0036】また、得られたモノエチレングリコール製
品を260℃で1時間10分加熱した。加熱前後でモノ
エチレングリコール製品の紫外線(UV220nm)透
過率を測定したところ、加熱前85%→加熱後84%で
あり、加熱前後で透過率はほとんど変化せず、グリコー
ルアルデヒドのような熱安定性悪化物質が十分に除去さ
れていることが確認できた。The obtained monoethylene glycol product was heated at 260 ° C. for 1 hour and 10 minutes. When the ultraviolet (UV220nm) transmittance of the monoethylene glycol product was measured before and after heating, the transmittance was 85% before heating → 84% after heating, and the transmittance hardly changed before and after heating, and thermal stability like glycol aldehyde It was confirmed that the deteriorating substances were sufficiently removed.
【0037】比較例1 実施例1で用いたと同様の実質的に水を含まない脱水塔
ボトム液を、サイドカット技術を導入していないモノエ
チレングリコール精留塔の中段にフィードし、該精留塔
の塔頂温度127℃、該精留塔の操作圧力60mmHg
で蒸留を行った。尚、該精留塔の塔頂部より得られたモ
ノエチレングリコールの一部は還流比1.6で還流し、
残りはすべてモノエチレングリコール製品として取得し
た。該精留塔の濃縮部の理論段数は7とした。得られた
モノエチレングリコール製品中のグリコールアルデヒド
濃度を測定し、得られた結果を下記表1に示す。Comparative Example 1 The same bottom water of the dehydration tower substantially free of water as that used in Example 1 was fed to the middle stage of a monoethylene glycol rectification column in which the side cut technology was not introduced. The top temperature of the column is 127 ° C., the operating pressure of the rectification column is 60 mmHg
Distillation was carried out. A part of the monoethylene glycol obtained from the top of the rectification column refluxed at a reflux ratio of 1.6,
All the rest were obtained as monoethylene glycol products. The number of theoretical plates in the enrichment section of the rectification column was 7. The concentration of glycolaldehyde in the obtained monoethylene glycol product was measured, and the obtained results are shown in Table 1 below.
【0038】また、得られたモノエチレングリコール製
品を260℃で1時間10分加熱した。加熱前後でモノ
エチレングリコール製品の紫外線(UV220nm)透
過率を測定したところ、加熱前85%→加熱後74%で
あり、加熱後の透過率が大幅に低下しており、熱安定性
悪化物質の除去が不十分であることが確認できた。The obtained monoethylene glycol product was heated at 260 ° C. for 1 hour and 10 minutes. When the ultraviolet (UV220 nm) transmittance of the monoethylene glycol product was measured before and after heating, the transmittance was 85% before heating → 74% after heating, and the transmittance after heating was significantly reduced. It was confirmed that the removal was insufficient.
【0039】[0039]
【表1】 [Table 1]
【0040】上記表1中、MEGはモノエチレングリコ
ール、GAはグリコールアルデヒドを表す。In Table 1, MEG represents monoethylene glycol, and GA represents glycol aldehyde.
【0041】[0041]
【発明の効果】本発明では、未精製の粗エチレンオキシ
ドを加水反応用原料にし、モノエチレングリコールを製
造する際に、モノエチレングリコール精留塔にサイドカ
ット技術を導入し、サイドカット部からモノエチレング
リコールを取得するので、本来の目的である製造工程・
操作の簡素化、省エネ化、低コスト化を達成することが
でき、さらに従来の蒸留操作だけではモノエチレングリ
コールとの分離が極めて困難であったグリコールアルデ
ヒド、その他熱安定性悪化物質などの不純物をモノエチ
レングリコール精留塔の頭頂部から濃縮して系外に排出
することができ、サイドカット部から抜き出されるモノ
エチレングリコール中へのこれらの不純物の混入量(濃
度)を極めて低く抑えることができるので、取得される
モノエチレングリコールは、極めて高純度でかつ高収率
であり、熱安定性の高い繊維グレード品として、高付加
価値化も実現し得るものである。According to the present invention, a side cut technique is introduced into a monoethylene glycol rectification column when a crude ethylene oxide is used as a raw material for a hydrolysis reaction and monoethylene glycol is produced. Because glycol is obtained, the original purpose of the manufacturing process
Operation can be simplified, energy savings and cost reductions can be achieved.Furthermore, impurities such as glycol aldehyde and other substances with thermal stability that are extremely difficult to separate from monoethylene glycol by conventional distillation operations alone are extremely difficult. It can be concentrated from the top of the monoethylene glycol rectification column and discharged out of the system, and the amount (concentration) of these impurities mixed into the monoethylene glycol extracted from the side cut section can be kept extremely low. As a result, the obtained monoethylene glycol has extremely high purity and high yield, and can realize high added value as a fiber grade product having high heat stability.
【図1】 本発明に係る高純度モノエチレングリコール
の製造方法に用いられるサイドカット技術を導入してな
るモノエチレングリコール精留塔の概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a monoethylene glycol rectification column incorporating a side cut technique used in the method for producing high-purity monoethylene glycol according to the present invention.
【図2】 従来のモノエチレングリコールの製造方法に
用いられるサイドカット技術を導入していないモノエチ
レングリコール精留塔を含む工程概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a process including a monoethylene glycol rectification column in which a side cut technique used in a conventional method for producing monoethylene glycol has not been introduced.
【図3】 図1のサイドカット技術を導入してなるモノ
エチレングリコール精留塔の簡単な説明図である。FIG. 3 is a simplified explanatory view of a monoethylene glycol rectification column obtained by introducing the side cut technique of FIG. 1;
101、201…モノエチレングリコール精留塔、 103、203…エチレングリコール液フィード用の配管、 105、205…頭頂部側の配管、 108…凝縮器からの不純物分取用の配管、 208…凝縮器からの製品取得用の配管、 107、207…凝縮器(コンデンサ)、 109、209…凝縮器からの還流用の分岐配管、 111、211…塔底部側の配管、 113…サイドカット用の配管。 101, 201… Monoethylene glycol rectification column, 103, 203… Pipe for feeding ethylene glycol liquid, 105, 205… Piping on top side, 108… Piping for collecting impurities from condenser, 208… Condenser 107, 207: condenser (condenser), 109, 209: branch piping for reflux from the condenser, 111, 211: piping at the bottom of the tower, 113: piping for side cut.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 健二 神奈川県川崎市川崎区千鳥町14−1 株式 会社日本触媒内 (72)発明者 堀江 弘規 神奈川県川崎市川崎区千鳥町14−1 株式 会社日本触媒内 (72)発明者 古川 真 神奈川県川崎市川崎区千鳥町14−1 株式 会社日本触媒内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC42 AD11 BC50 BD82 BN10 FE11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kenji Suzuki 14-1 Chidoricho, Kawasaki-ku, Kawasaki, Kanagawa Prefecture Nippon Shokubai Co., Ltd. (72) Inventor Hironori Horie 14-1 Chidoricho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Co., Ltd. Within Nippon Shokubai (72) Inventor Makoto Furukawa 14-1 Chidoricho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term (reference) 4H006 AA02 AC42 AD11 BC50 BD82 BN10 FE11
Claims (5)
用原料として使用し、高純度のモノエチレングリコール
を製造する方法において、 モノエチレングリコール精留塔にサイドカット技術を導
入し、サイドカット部からモノエチレングリコールを取
得することを特徴とする高純度モノエチレングリコール
の製造方法。1. A method for producing high-purity monoethylene glycol by using unpurified crude ethylene oxide as a raw material for a hydrolysis reaction, comprising introducing a side cut technique into a monoethylene glycol rectification column, A method for producing high-purity monoethylene glycol, comprising obtaining ethylene glycol.
頂部のカット率を、前記モノエチレングリコール精留塔
へのフィード量に対して0.01重量%以上とすること
を特徴とする請求項1に記載の方法。2. The cut rate at the top of the monoethylene glycol rectification column is set to 0.01% by weight or more based on the amount of feed to the monoethylene glycol rectification column. The method described in.
チレンオキシド放散塔の塔頂部より得られるエチレンオ
キシドを含有する蒸気を冷却および/または吸収により
その一部または全部を凝縮させて得られる凝縮液中のエ
チレンオキシドであることを特徴とする請求項1または
2に記載の方法。3. The ethylene oxide in a condensate obtained by condensing part or all of the crude ethylene oxide by cooling and / or absorbing the ethylene oxide-containing vapor obtained from the top of the ethylene oxide stripping tower. The method according to claim 1 or 2, wherein
チレンオキシド放散塔の塔頂部より得られるエチレンオ
キシドを含有する蒸気の一部または全部を凝縮させて得
られる凝縮液を、該放散塔に還流させることなく得られ
たものであることを特徴とする請求項1または2に記載
の方法。4. A condensate obtained by condensing a part or all of the ethylene oxide-containing vapor obtained from the top of the ethylene oxide stripping tower with the crude crude ethylene oxide without refluxing the condensate to the stripping tower. 3. The method according to claim 1, wherein the method is obtained.
チレンオキシド放散塔の塔頂部より得られるエチレンオ
キシドを含有する蒸気を一部凝縮させて第1の凝縮液を
得、残りの未凝縮ガスをさらに凝縮させるかまたはその
ままの形でエチレンオキシド脱水塔に導き、得られる脱
水されたエチレンオキシドを前記第1の凝縮液と混合し
たものであることを特徴とする請求項1または2に記載
の方法。5. The crude crude ethylene oxide partially condenses a vapor containing ethylene oxide obtained from the top of the ethylene oxide stripping tower to obtain a first condensate, and further condenses the remaining uncondensed gas. The process according to claim 1 or 2, wherein the process is conducted to an ethylene oxide dehydration column in an as-is or as it is form, and the obtained dehydrated ethylene oxide is mixed with the first condensate.
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JP2001031600A true JP2001031600A (en) | 2001-02-06 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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