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JP2001029718A - Gas-liquid separator and evaporator using the same - Google Patents

Gas-liquid separator and evaporator using the same

Info

Publication number
JP2001029718A
JP2001029718A JP11210715A JP21071599A JP2001029718A JP 2001029718 A JP2001029718 A JP 2001029718A JP 11210715 A JP11210715 A JP 11210715A JP 21071599 A JP21071599 A JP 21071599A JP 2001029718 A JP2001029718 A JP 2001029718A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
liquid
baffle plate
evaporator
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11210715A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Kawase
伸一 川瀬
Fumio Kubo
文雄 久保
Hiromi Takahashi
ひろみ 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP11210715A priority Critical patent/JP2001029718A/en
Publication of JP2001029718A publication Critical patent/JP2001029718A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Separating Particles In Gases By Inertia (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 気液分離効率が改善され、排出されるガスへ
の液滴の同伴を低減させた気液分離装置とこれを用いた
蒸発器を提供することである。 【解決手段】上部に気液混合物導入口1を、下部に液溜
まり部2をそれぞれ有し、側壁にガス排出口3を有する
有底筒形容器4で構成され、この有底筒形容器4内に、
前記ガス排出口3を気液混合物導入口1から遮蔽し且つ
下部にガスを導入するための開口部12を形成したバッ
フル板5が設けられると共に、このバッフル板5は、下
部開口部12の面積が大きくなるように傾斜部5bを有
し、且つ外側下端に該下端に沿って樋6が付設された気
液分離装置10であり、例えば蒸発器本体31の下部に
設置されて蒸発器を構成する。
(57) [Problem] To provide a gas-liquid separation device in which the gas-liquid separation efficiency is improved and the entrainment of liquid droplets into discharged gas is reduced, and an evaporator using the same. A bottomed cylindrical container (4) having a gas-liquid mixture inlet (1) at an upper portion, a liquid reservoir (2) at a lower portion, and a gas outlet (3) on a side wall. Within
A baffle plate 5 is provided, which shields the gas outlet 3 from the gas-liquid mixture inlet 1 and has an opening 12 for introducing gas at a lower portion. The baffle plate 5 has an area of the lower opening 12. Is a gas-liquid separation device 10 having an inclined portion 5b so as to increase the size of the evaporator and having a gutter 6 attached to the outer lower end thereof along the lower end. I do.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、並流式濡れ壁蒸発
器等に好適に使用される気液分離装置およびこれを用い
た蒸発器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas-liquid separator suitably used for a cocurrent wet-wall evaporator and the like, and an evaporator using the same.

【従来の技術】[Prior art]

【0002】気相反応に使用する原料ガスの調製等のた
めに、原料液体を蒸発させる蒸発器、特に濡れ壁蒸発器
が多く使用されている。また、気相反応において原料液
体を蒸発させたガスとキャリアガスまたは低沸点の他の
原料ガスとを同時に使用する場合(例えばアニリンを気
相触媒反応にて製造する場合にはニトロベンゼンの蒸発
ガスと水素ガスとを使用する)には、原料液体とキャリ
アガスまたは低沸点の他の原料ガスとを蒸発器内に向流
または並流に流して蒸発ガスとキャリアガス等との均一
化を図っている。その際、向流型の蒸発器ではキャリア
ガス等で濡れ壁の下流部が乾燥して伝熱面積が低下する
おそれがあるため、エネルギー効率を確保するため原料
液を循環させたり並流型の蒸発器を使用する場合があ
る。
[0002] An evaporator for evaporating a raw material liquid, particularly a wet wall evaporator, is often used for preparing a raw material gas used in a gas phase reaction. Further, when a gas obtained by evaporating a raw material liquid and a carrier gas or another raw material gas having a low boiling point are used at the same time in a gas phase reaction (for example, when aniline is produced by a gas phase catalytic reaction, the vaporized gas of nitrobenzene may be used). In the case of using hydrogen gas), the raw material liquid and the carrier gas or another raw material gas having a low boiling point are flowed in countercurrent or cocurrent in the evaporator so as to equalize the vaporized gas and the carrier gas. I have. At that time, in the counter-current evaporator, the downstream portion of the wet wall may be dried by a carrier gas or the like, and the heat transfer area may be reduced. An evaporator may be used.

【0003】図5はこのような並流式濡れ壁蒸発器の一
例を示している。この蒸発器は、上から順に液体供給部
30、多管式の蒸発器本体31および気液分離装置32
が設けられる。液体供給部30は、その上部にキャリア
ガスまたは低沸点の原料ガスを導入するためのガス導入
管33が取り付けられ、下部には原料液体を供給するた
めの液体供給管34が設けられる。
FIG. 5 shows an example of such a cocurrent wet-wall evaporator. The evaporator includes a liquid supply unit 30, a multi-tube evaporator body 31, and a gas-liquid separator 32 in this order from the top.
Is provided. The liquid supply unit 30 is provided with a gas supply pipe 33 for introducing a carrier gas or a raw material gas having a low boiling point at an upper part thereof, and a liquid supply pipe 34 for supplying a raw material liquid at a lower part thereof.

【0004】蒸発器本体31は、上下が上板36および
下板37によって遮蔽された筒形の容器35から構成さ
れ、容器35の内部には上板36および下板37を貫通
した多数本の管体38が垂設されている。上板36およ
び下板37にはそれぞれ液体供給部30および気液分離
装置32が液密および気密状態で取り付けられている。
また、容器35の下部および上部にはそれぞれ加熱流体
等の熱媒体導入口39および熱媒体排出口40が設けら
れる。なお、管体38は所定の間隔で多数本が容器35
内に収容されているが,図では便宜上、数本の管体38
しか示していない。
The evaporator main body 31 is composed of a cylindrical container 35 whose upper and lower parts are shielded by an upper plate 36 and a lower plate 37. Inside the container 35, a large number of tubes penetrating the upper plate 36 and the lower plate 37 are provided. A tube body 38 is provided vertically. The liquid supply unit 30 and the gas-liquid separator 32 are attached to the upper plate 36 and the lower plate 37 in a liquid-tight and air-tight state, respectively.
Further, a lower portion and an upper portion of the container 35 are provided with a heat medium inlet 39 and a heat medium outlet 40 for a heating fluid or the like, respectively. It should be noted that a large number of tubes 38 are provided at predetermined intervals in the container 35.
In the figure, for convenience, several pipes 38 are accommodated.
Only shows.

【0005】気液分離装置32は、上部に前記下板37
に密着した気液混合物導入口41を有し、下部に液溜ま
り部42を設けた有底筒形容器43で構成され、側壁に
はガス排出口44が設けられる。この有底筒形容器43
内には、ガス排出口44を前記気液混合物導入口41か
ら遮蔽するバッフル板45が取り付けられている。
[0005] The gas-liquid separator 32 is provided with the lower plate 37 on the upper part.
It has a bottomed cylindrical container 43 having a gas-liquid mixture inlet 41 in close contact with the container, and a liquid reservoir 42 provided at the lower part, and a gas outlet 44 provided on the side wall. This bottomed cylindrical container 43
Inside, a baffle plate 45 that shields the gas outlet 44 from the gas-liquid mixture inlet 41 is attached.

【0006】このように構成された通常の濡れ壁式蒸発
器では、ガス導入口33からキャリアガスまたは低沸点
の原料ガスを導入し(矢印Aで示す)、液体供給管34
より原料液体を液体供給部30に導入する(矢印Bで示
す)。これらのガスおよび原料液体は各管体38の内部
を通って気液分離装置32内へ流れ落ちる。その際、管
体38の内壁面を伝って流れ落ちる原料液体は、蒸発器
本体31内に送られた熱媒体(矢印Cで示す)で加熱さ
れ一部が蒸発する。なお、蒸発器本体31内には熱効率
を高めるために仕切り板48が設けられ、熱媒体を蛇行
させながら熱媒体排出口40へ送る。
In the ordinary wet-wall evaporator thus configured, a carrier gas or a low-boiling source gas is introduced from a gas inlet 33 (indicated by an arrow A), and a liquid supply pipe 34 is provided.
More raw material liquid is introduced into the liquid supply unit 30 (indicated by an arrow B). These gases and raw material liquid flow down into the gas-liquid separation device 32 through the inside of each tube 38. At this time, the raw material liquid flowing down along the inner wall surface of the tube 38 is heated by the heat medium (indicated by the arrow C) sent into the evaporator main body 31 and a part thereof is evaporated. A partition plate 48 is provided in the evaporator main body 31 to increase thermal efficiency, and sends the heat medium to the heat medium outlet 40 while meandering.

【0007】管体38を出た気液混合物は、ミストとな
って気液混合物導入口41から気液分離装置32 内に導
入される。気液分離装置32 内では、蒸発しなかった液
体46が液滴として下部の液溜まり部42に落下し、ガ
スはバッフル板45下部の開口部47を通ってバッフル
板45で遮蔽された空間内に上昇し、ガス排出口44よ
り排出される。液溜まり部42内の液体46は液体排出
管50より循環路49を経て、再び液体供給管34より
蒸発器内に送られて循環使用される。
[0007] The gas-liquid mixture that has exited the pipe 38 is introduced into the gas-liquid separator 32 through a gas-liquid mixture inlet 41 as a mist. In the gas-liquid separation device 32, the liquid 46 that has not evaporated drops as droplets into the lower liquid reservoir 42, and the gas passes through the opening 47 below the baffle plate 45 and is blocked by the baffle plate 45 in the space. And is discharged from the gas discharge port 44. The liquid 46 in the liquid reservoir 42 passes through the circulation path 49 from the liquid discharge pipe 50 and is again sent from the liquid supply pipe 34 into the evaporator and is circulated and used.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】図5に示すように、ガ
スと液体とを下方に流す並流型で、且つ原料液体46を
循環させるために液溜まり部42を底部に設けた構造の
蒸発器では、気液分離効率が悪いという問題があった。
すなわち、本発明者らがその原因を種々検討した結果、
気液分離装置32では、排出されるガスへの液滴の巻き
込みを防止するためにガス排出口44にバッフル板45
を設けているが、蒸発器本体31の管体38から流れ出
た液体がバッフル板45を伝って液膜となって落下する
ため、バッフル板45の下部開口部47を通過するガス
に液滴が巻き込まれて、気液分離効率を悪いものにして
いることが判明した。
As shown in FIG. 5, evaporation of a co-current type in which a gas and a liquid flow downward, and a structure in which a liquid reservoir 42 is provided at the bottom for circulating a raw material liquid 46 is provided. Vessel has a problem that the gas-liquid separation efficiency is poor.
That is, as a result of various studies by the inventors of the present invention,
In the gas-liquid separation device 32, a baffle plate 45 is attached to the gas discharge port 44 in order to prevent entrainment of droplets into the discharged gas.
However, since the liquid flowing out of the tube 38 of the evaporator main body 31 falls along the baffle plate 45 as a liquid film, droplets are formed in the gas passing through the lower opening 47 of the baffle plate 45. It was found that it was involved and made the gas-liquid separation efficiency worse.

【0009】蒸発器において、気液分離が充分に行われ
ず、ガスへの液滴同伴量が多くなると、後工程に悪影響
を与える。例えば、(1) 気相触媒反応における触媒への
液滴吸着による触媒寿命の低下、(2) 後工程の液滴分離
器への負荷の増大、(3) 後工程のガス加熱器の圧損上昇
等が挙げられる。従って、本発明の目的は、気液分離効
率を高めた気液分離装置およびこれを用いた蒸発器を提
供することである。
In the evaporator, if the gas-liquid separation is not sufficiently performed, and the amount of entrained liquid droplets in the gas is increased, the post-process is adversely affected. For example, (1) reduction of catalyst life due to adsorption of droplets to the catalyst in the gas phase catalytic reaction, (2) increase in load on the droplet separator in the post-process, (3) increase in pressure loss of the gas heater in the post-process And the like. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a gas-liquid separation device having improved gas-liquid separation efficiency and an evaporator using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、バッフル板の下部に
形成される開口部の面積がバッフル板下部の液滴巻き込
みに大きな影響を有し、下部開口部の面積が大きいとこ
の開口部を通過して排出されるガスの流速(上昇速度)
が遅くなるため、ガスに比べて重量のある液滴はガスに
巻き込まれる前に落下してしまい、液滴の巻き込み量が
低減されるという新たな事実を見出し、本発明を完成す
るに到った。
The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, the area of the opening formed in the lower portion of the baffle plate has a great effect on the entrainment of the droplets in the lower portion of the baffle plate. If the area of the lower opening is large, the flow velocity (rising speed) of the gas discharged through this opening is
Droplets, which are heavier than the gas, fall before being entrained in the gas, and find a new fact that the amount of the entrained droplets is reduced, leading to the completion of the present invention. Was.

【0011】すなわち、本発明の気液分離装置は、上部
に気液混合物導入口を、下部に液溜まり部をそれぞれ有
し、側壁にガス排出口を有する有底筒形容器で構成さ
れ、この有底筒形容器内に、前記ガス排出口を前記気液
混合物導入口から遮蔽し且つ下部にガスを導入するため
の開口部を形成したバッフル板を設けたものであって、
前記バッフル板は、下部開口部の面積が大きくなるよう
に前記ガス排出口よりも下方に傾斜して延設された傾斜
部を有することを特徴とする。
That is, the gas-liquid separation device of the present invention comprises a bottomed cylindrical container having a gas-liquid mixture inlet at an upper portion, a liquid reservoir at a lower portion, and a gas outlet at a side wall. In a bottomed cylindrical container, provided with a baffle plate that shields the gas outlet from the gas-liquid mixture introduction port and has an opening for introducing gas at the bottom,
The baffle plate may include an inclined portion that is inclined downward from the gas outlet so as to increase the area of the lower opening.

【0012】また、本発明では、上記バッフル板の構成
に加えて、またはこの構成とは別に、バッフル板の外側
下端に該下端に沿って樋を付設してもよい。これによ
り、バッフル板を流れ落ちる液体がバッフル板下端から
液膜となって落下するのを防止することができるので、
気液分離効率を向上させることができる。すなわち、本
発明の他の気液分離装置は、上部に気液混合物導入口
を、下部に液溜まり部をそれぞれ有し、側壁にガス排出
口を有する有底筒形容器で構成され、この有底筒形容器
内に、前記ガス排出口を前記気液混合物導入口から遮蔽
し且つ下部にガスを導入するための開口部を形成したバ
ッフル板を設けたものであって、前記バッフル板の外側
下端に該下端に沿って樋を付設したことを特徴とする。
In the present invention, a gutter may be provided along the lower end on the outer lower end of the baffle plate in addition to or separately from the above-described configuration of the baffle plate. As a result, it is possible to prevent the liquid flowing down the baffle plate from falling as a liquid film from the lower end of the baffle plate,
Gas-liquid separation efficiency can be improved. That is, another gas-liquid separation device of the present invention comprises a bottomed cylindrical container having a gas-liquid mixture inlet at an upper portion, a liquid reservoir at a lower portion, and a gas outlet at a side wall. In a bottom cylindrical container, a baffle plate which shields the gas outlet from the gas-liquid mixture introduction port and has an opening for introducing gas at a lower portion is provided, and a baffle plate outside the baffle plate is provided. A gutter is attached to the lower end along the lower end.

【0013】さらに、液溜まり部の液面にガスが衝突し
て液体を巻き上げるのを防止するために、前記ガス排出
口と前記液溜まり部との間の容器内面に液滴上昇防止用
の邪魔板を突設してもよい。本発明の蒸発器は、前記し
た気液分離装置の上部に蒸発器本体を設置し、この蒸発
器本体の上部に液体供給部を設けたことを特徴とするも
のである。前記液体供給部と前記気液分離装置の下部に
設けた液溜まり部とは液体循環路で連結されているのが
好ましい。
Further, in order to prevent the gas from colliding with the liquid surface of the liquid reservoir and lifting up the liquid, the inner surface of the container between the gas discharge port and the liquid reservoir has an obstruction for preventing liquid droplets from rising. A plate may be protruded. The evaporator according to the present invention is characterized in that an evaporator main body is installed above the gas-liquid separation device, and a liquid supply unit is provided above the evaporator main body. It is preferable that the liquid supply unit and a liquid reservoir provided below the gas-liquid separator are connected by a liquid circulation path.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の一実施形態を図1〜図4
に基づいて説明する。図1はこの実施形態にかかる気液
分離装置を示す縦断面図、図2は当該気液分離装置の平
面図、図3は図2に示すIII-III 線に沿って有底筒型容
器を切り欠いた状態を示す縦断面図である。図1に示す
ように、この気液分離装置10は、上部に気液混合物導
入口1を、下部に液溜まり部2をそれぞれ有し、側壁に
ガス排出口3を有する有底筒形容器4で構成されてい
る。この有底筒形容器4内には、前記ガス排出口3を前
記気液混合物導入口1から遮蔽するためのバッフル板5
が設けられる。このバッフル板5の下部には排出ガスを
導入するための開口部12が形成される。液溜まり部2
には液体排出管11が取り付けられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention is shown in FIGS.
It will be described based on. 1 is a longitudinal sectional view showing a gas-liquid separator according to this embodiment, FIG. 2 is a plan view of the gas-liquid separator, and FIG. 3 is a bottomed cylindrical container taken along line III-III shown in FIG. It is a longitudinal cross-sectional view showing a cutout state. As shown in FIG. 1, this gas-liquid separation device 10 has a bottomed cylindrical container 4 having a gas-liquid mixture inlet 1 at an upper portion, a liquid reservoir 2 at a lower portion, and a gas outlet 3 on a side wall. It is composed of A baffle plate 5 for shielding the gas outlet 3 from the gas-liquid mixture inlet 1 is provided in the bottomed cylindrical container 4.
Is provided. An opening 12 for introducing exhaust gas is formed at a lower portion of the baffle plate 5. Liquid pool 2
Is provided with a liquid discharge pipe 11.

【0015】バッフル板5は、図1〜図3に示すよう
に、上部の平坦部5aと、この平坦部5aから下向きに
傾斜した傾斜部5bと、両側板部5c,5cとからな
り、ガス排出口3を下部開口部12を除いて有底筒形容
器4内から完全に遮蔽している。また、バッフル板5の
外側下端には、該下端に沿って樋6が付設される。
As shown in FIGS. 1 to 3, the baffle plate 5 comprises an upper flat portion 5a, an inclined portion 5b inclined downward from the flat portion 5a, and both side plate portions 5c, 5c. The outlet 3 is completely shielded from the inside of the bottomed cylindrical container 4 except for the lower opening 12. In addition, a gutter 6 is attached to the outer lower end of the baffle plate 5 along the lower end.

【0016】図1に示すように、前記ガス排出口3と前
記液溜まり部2との間の容器4内面には液滴上昇防止用
の邪魔板7が突設される。この邪魔板7はガス排出口3
の下方に設けられ、図4に示すように略半円形の帯状板
で構成される。容器4上部の気液混合物導入口1の周縁
には、取付用フランジ8が設けられる。このフランジ8
には周方向に沿って取付孔9が穿設される。
As shown in FIG. 1, a baffle plate 7 for preventing a liquid drop from rising is provided on the inner surface of the container 4 between the gas discharge port 3 and the liquid reservoir 2. This baffle plate 7 is a gas outlet 3
And a substantially semicircular band-shaped plate as shown in FIG. A mounting flange 8 is provided on the periphery of the gas-liquid mixture inlet 1 at the top of the container 4. This flange 8
Is provided with a mounting hole 9 along the circumferential direction.

【0017】この実施形態にかかる気液分離装置10
は、上記取付用フランジ8を利用して、例えば、図5に
示すような蒸発器本体31および液体供給部30を上部
に設置することにより、並流式濡れ壁蒸発器を構成す
る。以下、この実施形態にかかる気液分離装置10を図
5に示すような蒸発器に適用した場合の動作を説明す
る。蒸発器本体31から流下した気液混合物は、上部の
気液混合物導入口1から気液分離装置10内に入る。気
液混合物中の液体の一部は、バッフル板5の平坦部5a
から傾斜部5bを伝って流れ落ち、樋6で集液される。
ついで、液体は樋6を伝って樋6の両側部に流れ、容器
4の内壁面を伝って液溜まり部2へ流下する。
The gas-liquid separation device 10 according to this embodiment
By using the mounting flange 8, for example, an evaporator main body 31 and a liquid supply unit 30 as shown in FIG. Hereinafter, the operation when the gas-liquid separation device 10 according to this embodiment is applied to an evaporator as shown in FIG. 5 will be described. The gas-liquid mixture that has flowed down from the evaporator body 31 enters the gas-liquid separator 10 from the gas-liquid mixture inlet 1 at the top. A part of the liquid in the gas-liquid mixture is supplied to the flat portion 5a of the baffle plate 5.
The water flows down along the inclined portion 5 b from the bottom and is collected by the gutter 6.
Next, the liquid flows along both sides of the gutter 6 along the gutter 6, and flows down to the liquid pool 2 along the inner wall surface of the container 4.

【0018】このように、樋6をバッフル板5の下端に
設けることによって、バッフル板5の下端から液体が滝
のように落下して液膜を形成するのを防止できる。その
ため、従来のように液膜内をガスが通過して液滴を巻き
込むのを防止できる。一方、多くの気液混合物は、バッ
フル板5の下端とこれに対向する容器4の内壁面との間
隙13を通って下方に送られる。そして、図1に矢印で
示すように、気体はバッフル板5の下部開口部12を通
ってバッフル板5の内部へ上昇し、ガス排出口3から排
出され、後工程に送られる。一方、間隙13を通った液
滴は、その重量のために液溜まり部2へ落下する。液溜
まり部2内の液体14は液体排出管11より抜き出され
る。
Thus, by providing the gutter 6 at the lower end of the baffle plate 5, it is possible to prevent the liquid from falling from the lower end of the baffle plate 5 like a waterfall to form a liquid film. Therefore, it is possible to prevent the gas from passing through the liquid film and entraining the droplet as in the related art. On the other hand, many gas-liquid mixtures are sent downward through the gap 13 between the lower end of the baffle plate 5 and the inner wall surface of the container 4 facing the lower end. Then, as indicated by the arrow in FIG. 1, the gas rises into the baffle plate 5 through the lower opening 12 of the baffle plate 5, is discharged from the gas discharge port 3, and is sent to a subsequent process. On the other hand, the droplet that has passed through the gap 13 falls into the liquid reservoir 2 due to its weight. The liquid 14 in the liquid reservoir 2 is extracted from the liquid discharge pipe 11.

【0019】このとき、間隙13を通過した液滴が落下
せずに、一部がガスに同伴してバッフル板5の下部開口
部12を通ってガス排出口3より排出されると、前述の
ように後工程に悪影響を与えるおそれがある。液滴がガ
スを同伴するか否かは、理論的には、バッフル板5の下
部開口部12を通過するガスの上昇速度V1と、バッフ
ル板5の下端における液滴沈降速度V2とによって決定
される。もしV1>V2であると、液滴は沈降するより
前にガスに巻き込まれ、ガスと同伴する割合が高くな
る。一方、V1<V2であると、液滴はガスに巻き込ま
れることなく沈降する割合が高くなる。従って、気液分
離効率を高めるためには、ガスの上昇速度V1<液滴沈
降速度V2とする必要がある。
At this time, when the liquid droplets passing through the gap 13 do not fall and are partially discharged along with the gas and discharged from the gas discharge port 3 through the lower opening 12 of the baffle plate 5, Thus, there is a possibility that the post-process will be adversely affected. Whether or not the droplet entrains gas is theoretically determined by the rising speed V1 of the gas passing through the lower opening 12 of the baffle plate 5 and the droplet settling speed V2 at the lower end of the baffle plate 5. You. If V1> V2, the droplets are entrained in the gas before settling and the entrainment rate with the gas is high. On the other hand, when V1 <V2, the rate of sedimentation of the droplet without being entrained in the gas increases. Therefore, in order to increase the gas-liquid separation efficiency, it is necessary to satisfy the following relation: the gas rising speed V1 <the droplet sedimentation speed V2.

【0020】バッフル板5の下部開口部12を通過する
ガスの上昇速度V1は、当該開口部12の面積によって
決定される。すなわち、開口部12の面積が小さいとガ
スの上昇速度V1は速くなり、逆に開口部12の面積が
大きいとガスの上昇速度V1は遅くなる。そこで、この
実施形態では、バッフル板5の傾斜部5bを下方に長く
延設して開口部12の面積を大きくして、気液分離効率
を高めている。
The rising speed V1 of the gas passing through the lower opening 12 of the baffle plate 5 is determined by the area of the opening 12. That is, when the area of the opening 12 is small, the rising speed V1 of the gas increases, and when the area of the opening 12 is large, the rising speed V1 of the gas decreases. Therefore, in this embodiment, the inclined portion 5b of the baffle plate 5 is extended downward and the area of the opening 12 is increased to increase the gas-liquid separation efficiency.

【0021】一方、開口部12の面積が大きくなると、
図1に示すように、バッフル板5の下端とこれに対向す
る容器内面との間隙13は相対的に小さくなるため、該
間隙13を通過する気液混合物の流速が速くなる。この
とき、間隙13を通過したガスは、開口部12に進むた
めに上昇に転ずるが、重量のある液滴は大きな慣性力の
ためにガスと同伴できず、容器4の内壁面に衝突して落
下することになるため、気液分離効率をより向上させる
ことができる。なお、間隙13が過度に小さくなると圧
損が生じるため好ましくない。
On the other hand, when the area of the opening 12 becomes large,
As shown in FIG. 1, the gap 13 between the lower end of the baffle plate 5 and the inner surface of the container opposed thereto becomes relatively small, so that the flow rate of the gas-liquid mixture passing through the gap 13 increases. At this time, the gas that has passed through the gap 13 turns upward to advance to the opening 12, but heavy droplets cannot be entrained with the gas due to a large inertial force and collide with the inner wall surface of the container 4. Since it falls, gas-liquid separation efficiency can be further improved. If the gap 13 is excessively small, a pressure loss occurs, which is not preferable.

【0022】開口部12の面積A1と間隙13の面積A
2との比(A1:A2)は、特に限定されるものではな
い。基本的にはガス流量から生じる圧力損失の許容範囲
内であれば開口部12の面積A1はできるだけ大きくす
るのが好ましいが、圧力損失の許容範囲がない場合にお
いては、上記A1:A2は約1:1〜3:2であるのが
好ましい。また、図1および図4に示すように、ガス排
出口3と前記液溜まり部2との間の容器内壁面には液滴
上昇防止用の邪魔板7が突設されているので、間隙13
を通過したガスが液溜まり部2の液面に当たって、液体
を巻き上げながらガス排出口3に向かって上昇するのを
防止することができる。
The area A1 of the opening 12 and the area A of the gap 13
The ratio (A1: A2) to 2 is not particularly limited. Basically, it is preferable to make the area A1 of the opening 12 as large as possible if it is within the allowable range of the pressure loss caused by the gas flow rate. : 1: 3: 2 is preferred. As shown in FIGS. 1 and 4, a baffle plate 7 for preventing a liquid drop from rising is provided on the inner wall surface of the container between the gas discharge port 3 and the liquid reservoir 2, so that a gap 13 is provided.
Can be prevented from hitting the liquid surface of the liquid reservoir 2 and rising toward the gas outlet 3 while rolling up the liquid.

【0023】気液分離装置10の径は特に限定されない
が、蒸発器本体の径よりも大きくするのが気液分離効率
を高めるうえで好ましい(後述の実施例1と2を参
照)。これは、気液分離装置10の径を蒸発器本体の径
よりも大きくすることにより、蒸発器本体から流れ落ち
る液体がバッフル板5に当たるのを少なくでき、また径
が大きくなることによりガスの流速を低く抑えることが
できるためであろうと推測される。
Although the diameter of the gas-liquid separation device 10 is not particularly limited, it is preferable to make the diameter larger than the diameter of the evaporator body in order to increase the gas-liquid separation efficiency (see Examples 1 and 2 described later). This is because, by making the diameter of the gas-liquid separation device 10 larger than the diameter of the evaporator main body, the liquid flowing down from the evaporator main body can be reduced from hitting the baffle plate 5, and the larger diameter increases the gas flow rate. It is presumed that this is because it can be kept low.

【0024】また、液溜まり部2の液面からガス排出口
3までの距離は大きいのが好ましい。これにより、液面
からの液滴の巻き上げを抑制することができる。なお、
本発明の気液分離装置は、図5に示すような蒸発器に適
用される他に、気液混合物からガスと液体との分離を必
要とするような種々な装置、例えば熱交換器や乾燥器等
にも適用可能である。
It is preferable that the distance from the liquid surface of the liquid reservoir 2 to the gas outlet 3 is large. This makes it possible to suppress the liquid droplets from rising from the liquid surface. In addition,
The gas-liquid separation device of the present invention is applicable not only to an evaporator as shown in FIG. 5 but also to various devices that require separation of a gas and a liquid from a gas-liquid mixture, such as a heat exchanger and a drying device. It is also applicable to vessels and the like.

【0025】[0025]

【実施例】以下、実施例および比較例をあげて本発明を
より詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限
定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to only the following Examples.

【0026】実施例1 図5に示す気液分離装置32に代えて、図1〜4に示す
気液分離装置10を備えた並流式濡れ壁蒸発器を用い
た。この蒸発器は、直径が1600mmの蒸発器本体3
を有し、且つ気液分離装置10は蒸発器本体32と同径
で高さ2600mmである。気液分離装置10内に設け
られるバッフル板5は外側下端に樋6を有し且つガス排
出口3の中心から下端までの長さ(垂直長さ)が600
mmであり、下部開口部7の面積は1.14×106
2 であった。原料ガスとしてガス導入管33より水素
ガスを流し、原料液体としてニトロベンゼンを供給し
て、水素ガス中でニトロベンゼンを蒸発させ、気液分離
装置10にて気液混合物から液体を除去してガス排出口
3よりガスを排出し、後工程のガス加熱器に送った。こ
こで、濡れ壁蒸発器の主要運転条件は以下のとおりであ
る。
Example 1 Instead of the gas-liquid separator 32 shown in FIG. 5, a cocurrent wet-wall evaporator equipped with the gas-liquid separator 10 shown in FIGS. 1 to 4 was used. This evaporator has an evaporator body 3 having a diameter of 1600 mm.
And the gas-liquid separation device 10 has the same diameter as the evaporator main body 32 and a height of 2600 mm. The baffle plate 5 provided in the gas-liquid separator 10 has a gutter 6 at the outer lower end, and has a length (vertical length) from the center to the lower end of the gas outlet 3 of 600.
mm, and the area of the lower opening 7 is 1.14 × 10 6 m
m 2 . A hydrogen gas is supplied from a gas inlet pipe 33 as a raw material gas, nitrobenzene is supplied as a raw material liquid, nitrobenzene is evaporated in the hydrogen gas, and a liquid is removed from the gas-liquid mixture by the gas-liquid separator 10 to remove the gas from the gas outlet. The gas was discharged from No. 3 and sent to a gas heater in a subsequent process. Here, the main operating conditions of the wet wall evaporator are as follows.

【0027】液溜まり部2からの循環ニトロベンゼン
量:10トン/時間 気液混合物導入口1での平均ガス速度:1.2m/秒 このとき、バッフル板5の下部開口部12での平均ガス
上昇速度は1.57m/秒であった。また、バッフル板
5の下端での液滴沈降速度は以下のとおりであった。 (液滴径) (終末沈降速度) 50μm 1.3m/秒 100μm 1.8m/秒 200μm 2.5m/秒 500μm 4.0m/秒 1000μm 5.7m/秒 その結果、気液分離装置10から排出されたニトロベン
ゼンの4.0%が液滴としてガスに同伴したが、70日
の運転で後工程のガス加熱器に圧損の上昇は認められな
かった。
The amount of circulating nitrobenzene from the liquid reservoir 2: 10 tons / hour Average gas velocity at the gas-liquid mixture inlet 1: 1.2 m / sec At this time, the average gas rise at the lower opening 12 of the baffle plate 5 The speed was 1.57 m / sec. The drop sedimentation velocity at the lower end of the baffle plate 5 was as follows. (Droplet diameter) (Terminal sedimentation velocity) 50 μm 1.3 m / sec 100 μm 1.8 m / sec 200 μm 2.5 m / sec 500 μm 4.0 m / sec 1000 μm 5.7 m / sec As a result, the gas is discharged from the gas-liquid separation device 10. Although 4.0% of the obtained nitrobenzene was entrained in the gas as droplets, no increase in pressure loss was observed in the gas heater in the subsequent process after 70 days of operation.

【0028】比較例1 図5に示す気液分離装置32を備えた濡れ壁蒸発器を用
いた。この蒸発器は直径が1600mmの蒸発器本体3
1を有し、且つ気液分離装置32は実施例1の気液分離
装置10と同じ径および高さを有する。気液分離装置3
2内に設けられるバッフル板45はガス排出口44の中
心から下端までの長さ(垂直長さ)が400mmであ
り、下部開口部47の面積は0.32×106 mm2
あった。
Comparative Example 1 A wet wall evaporator equipped with a gas-liquid separator 32 shown in FIG. 5 was used. This evaporator has an evaporator body 3 having a diameter of 1600 mm.
1 and the gas-liquid separator 32 has the same diameter and height as the gas-liquid separator 10 of the first embodiment. Gas-liquid separator 3
The length (vertical length) from the center to the lower end of the gas outlet 44 of the baffle plate 45 provided in the inside 2 was 400 mm, and the area of the lower opening 47 was 0.32 × 10 6 mm 2 .

【0029】そして、実施例1と同様にして水素ガスお
よびニトロベンゼンを供給して、水素ガス中でニトロベ
ンゼンを蒸発させ、後工程のガス加熱器に送った。ここ
で、蒸発器の主要運転条件(液溜まり部2からの循環ニ
トロベンゼン量および気液分離装置10の気液混合物導
入口1での平均ガス速度)は実施例1と同じである。こ
のとき、バッフル板45の下部開口部47での平均ガス
上昇速度は5.58m/秒であった。その結果、気液分
離装置32から排出されたニトロベンゼンの6.0%が
液滴としてガスに同伴し、40日の運転で後工程のガス
加熱器に圧損の上昇が認められた。
Then, hydrogen gas and nitrobenzene were supplied in the same manner as in Example 1, nitrobenzene was evaporated in the hydrogen gas, and sent to a gas heater in a later step. Here, the main operating conditions of the evaporator (the amount of circulating nitrobenzene from the liquid reservoir 2 and the average gas velocity at the gas-liquid mixture inlet 1 of the gas-liquid separator 10) are the same as in Example 1. At this time, the average gas rising speed at the lower opening 47 of the baffle plate 45 was 5.58 m / sec. As a result, 6.0% of the nitrobenzene discharged from the gas-liquid separator 32 was entrained in the gas as droplets, and an increase in pressure loss was observed in the gas heater in the post-process after 40 days of operation.

【0030】以上のように、同じ大きさの気液分離装置
を使用し同じ条件で蒸発器を運転しても、実施例1のよ
うにバッフル板5の外側下端に樋6を設ける共に、バッ
フル板5に傾斜部5bを設けてバッフル板5の下部開口
部12の面積を大きくするときは、比較例1に比べてバ
ッフル板の下部開口部でのガス上昇速度が低下するた
め、ガスに同伴する液滴量が少なくなっていることがわ
かる。
As described above, even if the evaporator is operated under the same conditions using a gas-liquid separator of the same size, the gutter 6 is provided at the outer lower end of the baffle plate 5 as in the first embodiment, and the baffle When the area of the lower opening 12 of the baffle plate 5 is increased by providing the inclined portion 5 b on the plate 5, the gas rising speed at the lower opening of the baffle plate is lower than that of the comparative example 1, so that the gas is entrained. It can be seen that the amount of droplets to be dropped is small.

【0031】実施例2 図1〜4に示すような構造を有する直径2400mm、
高さ5500mmの気液分離装置10を用いて、且つガ
ス排出口3の中心から下端までの長さ(垂直長さ)が1
100mmで下部開口部7の面積が1.29×106
2 であるバッフル板5を使用したほかは、実施例1と
同じ濡れ壁蒸発器を用いて、液溜まり部2からの循環ニ
トロベンゼン量10トン/時間、気液分離装置10の気
液混合物導入口1での平均ガス速度0.81m/秒の条
件で濡れ壁蒸発器を運転した。このとき、バッフル板5
の下部開口部12での平均ガス上昇速度は1.45m/
秒であった。その結果、気液分離装置10から排出され
たニトロベンゼンの1.0%が液滴としてガスに同伴し
ただけであった。
Example 2 A 2400 mm diameter having a structure as shown in FIGS.
The length (vertical length) from the center to the lower end of the gas outlet 3 is 1 using a gas-liquid separator 10 having a height of 5500 mm.
100 mm, the area of the lower opening 7 is 1.29 × 10 6 m
Using the same wet wall evaporator as in Example 1 except that the baffle plate 5 of m 2 was used, the amount of circulating nitrobenzene from the liquid reservoir 2 was 10 tons / hour, and the gas-liquid mixture was introduced into the gas-liquid separator 10. The wet wall evaporator was operated at an average gas velocity of 0.81 m / sec at the mouth 1. At this time, the baffle plate 5
The average gas rising velocity at the lower opening 12 of the slab is 1.45 m /
Seconds. As a result, only 1.0% of the nitrobenzene discharged from the gas-liquid separator 10 was entrained in the gas as droplets.

【0032】比較例2 図5に示すような構造を有し直径および高さが実施例2
と同じである気液分離装置32を用いて、且つガス排出
口3の中心から下端までの長さ(垂直長さ)を900m
mとし下部開口部7の面積が0.36×106 mm2
バッフル板45を使用したほかは、実施例2と同じ濡れ
壁蒸発器を用いて、実施例2と同条件で濡れ壁蒸発器を
運転した。このとき、バッフル板5の下部開口部12で
の平均ガス上昇速度は5.19m/秒であった。その結
果、気液分離装置10から排出されたニトロベンゼンの
2.5%が液滴としてガスに同伴した。
Comparative Example 2 Example 2 has a structure as shown in FIG.
And the length (vertical length) from the center to the lower end of the gas discharge port 3 is 900 m.
m and the area of the lower opening 7 was 0.36 × 10 6 mm 2 , except that the baffle plate 45 was used and the same wet wall evaporator was used as in Example 2 using the same wet wall evaporator as in Example 2. The vessel was operated. At this time, the average gas rising speed at the lower opening 12 of the baffle plate 5 was 5.19 m / sec. As a result, 2.5% of the nitrobenzene discharged from the gas-liquid separator 10 was entrained in the gas as droplets.

【0033】このように、実施例1と同様に、バッフル
板5に傾斜部5bを設けてバッフル板5の下部開口部の
面積を大きくしてバッフル板の下部開口部でのガス上昇
速度を低下させ、且つバッフル板5の下端に樋6を設け
た実施例2の蒸発器は、ガスに同伴する液滴量が低減さ
れていることがわかる。また、実施例1と実施例2とを
比較すると、実施例2のほうが実施例1よりも液滴の同
伴量が少ない。その原因としては、実施例2は、気液分
離装置10の径および長さ、さらにバッフル板の長さ
(従って、下部開口部の面積)が実施例1よりも大きい
ことに起因していると推測される。
As described above, similarly to the first embodiment, the inclined portion 5b is provided on the baffle plate 5 to increase the area of the lower opening of the baffle plate 5 to reduce the gas rising speed at the lower opening of the baffle plate. In the evaporator according to the second embodiment in which the baffle plate 5 is provided at the lower end of the baffle plate 5, the amount of droplets accompanying the gas is reduced. Further, when comparing the first embodiment and the second embodiment, the second embodiment has a smaller droplet entrainment amount than the first embodiment. The reason for this is that the second embodiment is based on the fact that the diameter and length of the gas-liquid separation device 10 and the length of the baffle plate (therefore, the area of the lower opening) are larger than those of the first embodiment. Guessed.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明によれば、気液分離効率が向上
し、ガス排出口から排出されるガスに液滴が同伴するの
を低減することができるという効果がある。従って、本
発明の気液分離装置は、気相反応のために使用される蒸
発器やその他の気液分離を必要とする用途に好適に利用
しうるものである。
According to the present invention, the gas-liquid separation efficiency is improved, and it is possible to reduce the entrainment of liquid droplets in the gas discharged from the gas discharge port. Therefore, the gas-liquid separation device of the present invention can be suitably used for an evaporator used for a gas phase reaction and other uses requiring gas-liquid separation.

【0035】[0035]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の気液分離装置の一実施形態を示す縦断
面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing one embodiment of a gas-liquid separation device of the present invention.

【図2】図1に示す気液分離装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the gas-liquid separation device shown in FIG.

【図3】図2のIII-III 線切り欠き断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III of FIG. 2;

【図4】図1のIV-IV 線断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV of FIG. 1;

【図5】従来の濡れ壁蒸発器を示す縦断面図である。FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a conventional wet wall evaporator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 気液混合物導入口 2 液溜まり部 3 ガス排出口 4 有底筒形容器 5 バッフル板 5a 傾斜部 6 樋 7 邪魔板 10 気液分離装置 12 開口部 14 液体 30 液体供給部 31 蒸発器本体 32 気液分離装置 REFERENCE SIGNS LIST 1 gas-liquid mixture inlet 2 liquid reservoir 3 gas outlet 4 bottomed cylindrical container 5 baffle plate 5 a inclined portion 6 gutter 7 baffle plate 10 gas-liquid separator 12 opening 14 liquid 30 liquid supply unit 31 evaporator main body 32 Gas-liquid separation device

フロントページの続き (72)発明者 高橋 ひろみ 千葉県市原市姉崎海岸5番1号 住友化学 工業株式会社内 Fターム(参考) 4D031 AB02 AB11 AB12 BA04 EA01 4D076 BA09 BA13 CA11 CA13 CB03 DA03 JA02 4G068 DA10 DB03 DC04 DD11 Continued on the front page (72) Inventor Hiromi Takahashi 5-1 Anesaki Kaigan, Ichihara-shi, Chiba F-term (reference) in Sumitomo Chemical Co., Ltd. 4D031 AB02 AB11 AB12 BA04 EA01 4D076 BA09 BA13 CA11 CA13 CB03 DA03 JA02 4G068 DA10 DB03 DC04 DD11

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】上部に気液混合物導入口を、下部に液溜ま
り部をそれぞれ有し、側壁にガス排出口を有する有底筒
形容器で構成され、この有底筒形容器内に、前記ガス排
出口を前記気液混合物導入口から遮蔽し且つ下部にガス
を導入するための開口部を形成したバッフル板を設けた
気液分離装置であって、 前記バッフル板は、下部開口部の面積が大きくなるよう
に前記ガス排出口よりも下方に傾斜して延設された傾斜
部を有することを特徴とする気液分離装置。
1. A bottomed cylindrical container having a gas-liquid mixture inlet at an upper portion, a liquid reservoir at a lower portion, and a gas outlet at a side wall. A gas-liquid separator provided with a baffle plate that shields a gas outlet from the gas-liquid mixture inlet and has an opening for introducing gas at a lower portion, wherein the baffle plate has an area of a lower opening. A gas-liquid separation device characterized by having an inclined portion extending downwardly from the gas outlet so as to increase the size of the gas outlet.
【請求項2】上部に気液混合物導入口を、下部に液溜ま
り部をそれぞれ有し、側壁にガス排出口を有する有底筒
形容器で構成され、この有底筒形容器内に、前記ガス排
出口を前記気液混合物導入口から遮蔽し且つ下部にガス
を導入するための開口部を形成したバッフル板を設けた
気液分離装置であって、 前記バッフル板の外側下端に該下端に沿って樋を付設し
たことを特徴とする気液分離装置。
2. A bottomed cylindrical container having a gas-liquid mixture inlet at an upper portion, a liquid reservoir at a lower portion, and a gas outlet at a side wall. A gas-liquid separator provided with a baffle plate that shields a gas outlet from the gas-liquid mixture inlet and has an opening for introducing gas at a lower portion, wherein the lower end is formed at an outer lower end of the baffle plate. A gas-liquid separation device having a gutter provided along the same.
【請求項3】前記ガス排出口と前記液溜まり部との間の
容器内面に液滴上昇防止用の邪魔板を突設した請求項1
または2記載の気液分離装置。
3. A baffle plate for preventing a liquid droplet from rising is provided on an inner surface of the container between the gas discharge port and the liquid reservoir.
Or the gas-liquid separator according to 2.
【請求項4】請求項1ないし3のいずれかに記載の気液
分離装置の上部に蒸発器本体が設置され、この蒸発器本
体の上部に液体供給部を設けたことを特徴とする蒸発
器。
4. An evaporator, wherein an evaporator main body is installed on the upper part of the gas-liquid separator according to claim 1, and a liquid supply section is provided on the upper part of the evaporator main body. .
【請求項5】前記液体供給部と前記気液分離装置の下部
に設けた液溜まり部とが液体循環路で連結されている請
求項4記載の蒸発器。
5. The evaporator according to claim 4, wherein the liquid supply unit and a liquid reservoir provided below the gas-liquid separator are connected by a liquid circulation path.
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