JP2001027699A

JP2001027699A - 多層膜反射鏡および反射光学系

Info

Publication number: JP2001027699A
Application number: JP11200271A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Shiraishi; 雅之白石
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1999-07-14
Filing date: 1999-07-14
Publication date: 2001-01-30

Abstract

(57)【要約】【課題】軟Ｘ線領域、特に、ピーク波長10.9nmを有す
るターゲットにＸｅを用いたレーザープラズマＸ線にお
いて高い反射率を有する多層膜反射鏡の提供。【解決手段】軟Ｘ線波長域における屈折率と真空の屈
折率との差が大きいＲｕ１２と前記差が小さいＳｒＢ₆
層１３を、Ｓｉ基板１１上に交互に積層して多層膜反射
鏡１を形成した。この多層膜反射鏡１は、周期長を５
６．３Å、Ｒｕ層１２の層厚と周期長との比であるΓの
値を０．４、積層数を８０層対としたときに、ターゲッ
トにＸｅを用いたレーザープラズマＸ線のピーク波長1
0.9nmにおいて高い反射率を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線望遠鏡、Ｘ線
レーザー、Ｘ線リソグラフィー等のＸ線装置に用いられ
る多層膜反射鏡および反射光学系に関する。

【０００２】

【従来の技術】物質の複素屈折率は式（１）で表される
が、Ｘ線領域においてはδ、ｋのいずれもが１に比べて
非常に小さいため、Ｘ線を用いる装置の光学系には反射
光学系が用いられる。

【数１】ｎ＝１−δ−ｉ・ｋ …（１）式（１）において、ｉ²＝−１であり、虚部ｋは物質に
よるＸ線の吸収を表す。

【０００３】しかし、全反射を利用した斜入射光学系の
場合には、全反射臨界角θcよりも小さい垂直に近い入
射角では反射率が非常に小さい。そのため、Ｘ線領域で
使用される反射光学系では、界面の振幅反射率の大きな
２種類の物質を交互に積層して多数の反射面を形成した
多層膜反射鏡が用いられている。各層の厚さは、光学干
渉理論に基づいて、各界面で反射された反射波の位相が
一致するように設定される。このとき、積層される物質
の一方には、使用Ｘ線波長における屈折率と真空の屈折
率（＝１）との差が小さい物質が用いられ、他方の物質
には前記差の大きな物質が用いられる。

【０００４】また、多層膜反射鏡は垂直にＸ線を反射す
ることも可能なので、垂直反射を利用した光学系では、
全反射を利用した斜め入射光学系より収差を小さくする
ことができる。さらに、多層膜反射鏡は式（２）で表さ
れるブラッグ条件を満たすときだけＸ線を強く反射する
ので、波長選択性という性質を点を有している。

【数２】２ｄ・sinθ＝ｍ・λ …（２）式（２）において、ｄは多層膜の周期長、θは斜入射
角、λはＸ線の波長、ｍは次数である。

【０００５】多層膜反射鏡に用いられる多層膜の例とし
ては、Ｗ（タングステン）とＣ（炭素）とを交互に積層
したＷ／Ｃ多層膜や、Ｍｏ（モリブデン）とＣとを積層
したＭｏ／Ｃ多層膜などが従来から知られている。な
お、これらの多層膜はスパッタリングや真空蒸着やＣＶ
Ｄ（Chmical Vapor Deposition）等の薄膜形成技術によ
り形成される。

【０００６】このような多層膜反射鏡に用いられる多層
膜の中でも、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜はＳｉのＬ吸収端（波長
12.6nm）の長波長側で高い反射率を示し、13nm付近の波
長において６０％以上の反射率（直入射）を有する多層
膜を比較的容易に作製することができる。また、Ｍｏ／
Ｂｅ多層膜では、波長11.1nmにあるＢｅ（ベリリウム）
のＫ吸収端の長波長側で高い反射率を示すことが知られ
ており、この場合にも13nm付近の波長において６０％以
上の反射率を有する多層膜を比較的容易に作製すること
ができる。

【０００７】このようなＭｏ／Ｓｉ多層膜やＭｏ／Ｂｅ
多層膜による反射鏡は、Ｘ線望遠鏡やＸ線レーザー共振
器などの研究分野で使用されており、ＥＵＶＬ（Extrem
e Ultraviolet Lithography）と呼ばれる軟Ｘ線を用い
た縮小投影リソグラフィー技術への応用が期待されてい
る。このＥＵＶＬ用の軟Ｘ線光源としては、放射光の他
にレーザープラズマＸ線などが知られている。レーザー
プラズマＸ線とは、真空中で気体状または固体状のター
ゲットにレーザー光を照射することで気体または固体が
プラズマ状態となり、このプラズマから発生するＸ線の
ことを言う。発生するＸ線のスペクトルは、用いられる
ターゲットの種類に固有のスペクトルとなる。

【０００８】レーザープラズマＸ線では、ターゲットに
固体を用いた場合にデブリ（debris）と呼ばれる飛散粒
子が発生し、光学系にダメージを与えるという問題があ
る。そのため、ガスをターゲットに用いたレーザープラ
ズマＸ線が最近注目されており、例えば、ガスターゲッ
トとしてＸｅ（キセノン）ガスを用いた研究が行われて
いる（Glenn D. Kubiak, et al., SPIE vol.3331,199
8）。レーザープラズマＸ線のターゲットにXeガスを用
いた場合、波長10.9nm付近でＸ線強度が最も強くなる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、波長1
0.9nmはＳｉおよびＢｅのそれぞれの吸収端の短波長側
であるため、Ｓｉ，ＢｅのＸ線吸収が大きくなり、Ｍｏ
／Ｓｉ多層膜およびＭｏ／Ｂｅ多層膜のいずれの場合に
も高い反射率を得ることができない。通常、Ｍｏ／Ｓｉ
多層膜およびＭｏ／Ｂｅ多層膜ではそれぞれ13nm付近、
11nm付近の波長のＸ線が用いられるため、ピーク波長1
0.9nmのレーザープラズマＸ線を用いた場合には、ピー
ク波長から外れた波長の光を利用することになる。レー
ザープラズマＸ線では、13nm付近および11nm付近の波長
のＸ線強度は、ピーク強度（ピーク波長でのＸ線強度）
の数分の１しかないため、光源強度を有効に活用できな
いという欠点があった。また、Ｍｏ／Ｂｅ多層膜につい
ては、ＢｅおよびＢｅ化合物は毒性が強く取り扱いが厄
介であるという問題がある。

【００１０】本発明の目的は、軟Ｘ線領域、特に、Ｘｅ
ガスを用いたレーザープラズマＸ線のピーク波長である
波長10.9nmのＸ線において、高い反射率を有する多層膜
反射鏡および反射光学系を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】発明の実施の形態を示す
図１に対応付けて説明する。（１）請求項１の発明は、軟Ｘ線波長域における屈折率
と真空の屈折率との差が大きい物質で形成される第１の
層１２と、前記差が小さい物質で形成される第２の層１
３とから成る層対を、基板１１上に複数積層して成る多
層膜反射鏡１に適用され、第２の層１３を形成する物質
として、ホウ化ストロンチウムを用いたことにより上述
の目的を達成する。（２）請求項２の発明は、請求項１に記載の多層膜反射
鏡１において、第１の層１２を形成する物質として、ル
テニウムを用いたものである。（３）請求項３の発明は、請求項１または請求項２に記
載の多層膜反射鏡において、層対の層厚である周期長、
および第１の層１２と第２の層１３との層厚比を調整し
て、多層膜の反射率の中心波長が略10.9nmとなるように
したものである。（４）請求項４の発明は、ターゲットにキセノンを用い
たレーザプラズマＸ線源を用いる装置の反射光学系に適
用され、請求項３に記載の多層膜反射鏡を複数有するこ
とにより上述の目的を達成する。

【００１２】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が発明の実施の形態に限定されるものではない。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図１〜図５および図９を参
照して本発明の実施の形態を説明する。多層膜反射鏡の
反射率を高めるためには、多層膜に使用する材料の選択
が最も重要であり、各界面での反射率が高くなるような
材料を用いるのが良い。垂直入射の場合における多層膜
界面での振幅反射率ｒは、多層膜を構成する二つの物質
の屈折率をそれぞれn1＝１−δ1−ｉ・k1，n2＝１−δ2
−ｉ・k2としたとき、フレネルの式（３）で与えられ
る。

【数３】ｒ＝(n2−n1)／(n2＋n1) ＝{(δ1−δ2＋ｉ(k1−k2)}／{(δ1＋δ2−２)＋ｉ(k1−k2)} …（３）ここで、ｉ²＝−１、kは物質の吸収を表す定数である。
多層膜反射鏡に用いられる物質にはkの小さな（吸収の
小さな）ものが用いられるため、δ≫kとなり、式
（３）は次式（４）のように近似することができる。

【数４】ｒ＝（δ1−δ2）／（δ1＋δ2−２） …（４）したがって、多層膜界面での反射率を高くするために
は、δの差(＝δ1−δ2)が大きい物質の組み合わせを用
いるのが良い。

【００１４】本発明者は、上述した条件、すなわち、物
質のkの値が小さく、かつ、二つの物質のδの差が大き
なものについて多数の物質の組み合わせを検討した結
果、δの小さな物質としてＳｒＢ₆（ホウ化ストロンチ
ウム）やＹ（イットリウム）を用い、δの大きな物質と
してＲｕ（ルテニウム）やＲｈ（ロジウム）を用いる
と、軟Ｘ線領域、特に、ターゲットにＸｅ（キセノン）
を用いたレーザープラズマＸ線のピーク波長10.9nmに対
して高い反射率を有する多層膜反射鏡を製造する上で好
ましいことが判明した。

【００１５】特に、以下の，に示す物質の組み合わ
せで形成された多層膜は、ターゲットにＸｅを用いたレ
ーザープラズマＸ線のピーク波長10.9nmに対して高い反
射率を有することが分かった。ＳｒＢ₆（ホウ化ストロンチウム）とＲｕ（ルテニウ
ム）とによる多層膜Ｙ（イットリウム）とＲｕとによる多層膜図１はＳｒＢ₆とＲｕとを用いたＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜反
射鏡１の断面図であり、Ｓｉ基板やガラス基板等の基板
１１上にＲｕ層１２とＳｒＢ₆層１３とを交互に積層し
たものである。

【００１６】ここで、基板上に上記の多層膜を形成する
際には、多層膜の最上層の物質として酸化等の化学変化
を起こしにくい物質を選ぶのが好ましく、そうすること
によって多層膜反射鏡の経時変化を低減することができ
る。Ｒｕ／ＳｒＢ₆多層膜の場合にはＳｒＢ₆層を最上層
にするのが好ましく、Ｒｕ／Ｙ多層膜の場合にはＲｕ層
を最上層にするのが好ましい。

【００１７】図２はターゲットにＸｅを用いたレーザー
プラズマＸ線のスペクトル強度を示す図であり、縦軸は
Ｘ線強度、横軸は波長をそれぞれ表す。レーザープラズ
マＸ線のピーク波長は10.9nmであり、その波長における
Ｘ線強度（ピーク強度）はＭｏ／Ｓｉ多層膜で利用され
る波長13.1nm付近の強度の約７．９倍になっている。さ
らに、Ｍｏ／Ｂｅ多層膜で利用される11.4nm付近の波長
のＸ線強度と比較した場合でも１．７倍となっている。
そこで、多層膜の反射ピーク波長をＸｅを用いたレーザ
ープラズマＸ線のピーク波長10.9nmに合わせることで、
光源からのレーザープラズマＸ線を有効に利用すること
ができる。

【００１８】次いで、軟Ｘ線を使用した縮小投影露光装
置の光学系に、上述したＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜反射鏡を
用いた場合について説明する。図３は軟Ｘ線露光装置の
概略構成を、光学系を中心に示したものである。この露
光装置はステップ・アンド・スキャン方式により露光動
作を行う投影露光装置であり、反射型マスク５に描画さ
れた回路パターンの一部の像を投影光学系６を介してウ
ェハ８上に投影しつつ、マスク５とウェハ８とを投影光
学系６に対して一次元方向（ここではＹ軸方向）に相対
走査することにより、マスク５の回路パターンの全体を
ウェハ８上の複数のショット領域（１ステップ領域）の
各々にステップ・アンド・スキャン方式で転写する。

【００１９】図３に示す装置では、照明光学系３は２つ
のミラー３ａ，３ｂで構成され、投影光学系６は４つの
ミラー６ａ〜６ｄで構成されている。したがって、図３
の露光装置は、６枚のミラーと１枚の反射型マスク５と
で構成される反射光学系を備えている。各ミラー３ａ，
３ｂ，６ａ〜６ｄには、上述したＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜
が形成されている。２はレーザープラズマＸ線を発生す
る光源であり、光源２から出射されたＸ線は、反射鏡３
ａ，３ｂにより反射されて、ケーラー照明によりレチク
ルステージ４に支持された反射型マスク５上に照射され
る。

【００２０】図９は反射鏡３ａの平面図であり、反射鏡
３ａは、反射型マスク５への照明領域と相似形を有した
凹面反射面９５を複数有した反射鏡である。これらの反
射面９５はどれも同じ焦点距離を有し、２次光源を形成
して反射鏡３ａにより平行光となり反射型マスク５上に
照射される。

【００２１】反射型マスク５上にはＲｕ／ＳｒＢ₆多層
膜から成る反射膜パターンが設けられており、この反射
膜パターンはウェハ８上へ転写すべきパターンに対応し
たパターン形状を有している。このマスク５により反射
されてマスク５のパターン情報を含むＸ線は、投影光学
系６に入射する。

【００２２】投影光学系６は、凹面形状の第１ミラー６
ａ、凸面形状の第２ミラー６ｂ、凹面形状の第３ミラー
６ｃおよび凹面形状の第４ミラー６ｄで構成されてお
り、それぞれの光軸が共軸となるように配置されてい
る。なお、各ミラー６ａ〜６ｄは、それらにより形成さ
れる往復光路を遮断しないような形状とされており、第
３ミラー６ｃの位置には、不図示の開口絞りが設けられ
ている。

【００２３】マスク５で反射されたＸ線は、第１ミラー
６ａ〜第４ミラー６ｄにより順次反射されて、ウェハ８
上の露光領域内に所定倍率β（例えば、｜β｜＝１／
４，１／５，１／６）でマスク５のパターンの縮小像を
形成する。なお、マスク５はレチクルステージ４により
少なくともＹ方向に沿って移動可能とされ、ウェハ８は
ＸＹＺの三方向に沿って移動可能なウェハステージ７に
より支持されている。露光動作の際には、マスク５およ
びウェハ８を、投影光学系６の縮小倍率により定まる所
定の速度比で互いに逆方向に移動させる。これによりウ
ェハ８上の所定のショット領域内には、マスク５のパタ
ーンが走査露光される。

【００２４】次に、光源に図２に示すようなスペクトル
を有するＸｅをターゲットにしたレーザープラズマＸ線
源を用い、光学系３，６および反射型マスク５の多層膜
にＭｏ／Ｓｉ多層膜（５０層対）を用いた場合と、Ｒｕ
／ＳｒＢ₆多層膜（８０層対）を用いた場合とを比較す
る。これらの多層膜が理論反射率（垂直入射）を有する
と仮定して考えると、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜の反射率は７
５．２％、Ｒｕ／ＳｒＢ₆多層膜の反射率は６２．４％
である。光学系３，６および反射型マスク５は７枚のミ
ラーから成る反射光学系を構成しており、この反射光学
系を通過したＸ線の強度を図２に示したレーザープラズ
マＸ線のスペクトル強度を考慮して計算すると、Ｍｏ／
Ｓｉ多層膜を用いた場合の強度を１００とすると、Ｒｕ
／ＳｒＢ₆多層膜を用いた場合の強度は１１４となる。

【００２５】図４は７枚のミラー（例えば、図３のミラ
ー３ａ，３ｂ，６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄおよびマスク
５）から成る反射光学系の反射率およびＸ線強度を示す
図であり、横軸はＸ線の波長を、縦軸の左側目盛が反射
率を、縦軸の右側目盛が強度を表している。図４におい
て、MS1およびMS2は、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜の場合の反射
率、およびその多層膜反射鏡を７枚用いた反射光学系を
通過したときのＸ線強度を示している。一方、RS1およ
びRS2は、Ｒｕ／ＳｒＢ₆多層膜の場合の反射率、および
その多層膜反射鏡を７枚用いた反射光学系を通過したと
きのＸ線強度を示している。また、点線で示した曲線Ｘ
ｅ−ＬＰＸはＸｅをターゲットにしたレーザープラズマ
Ｘ線のスペクトル強度を示している。

【００２６】図４に示すように、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜を用
いた反射光学系は波長13.1nm付近のＸ線だけが反射さ
れ、Ｒｕ／ＳｒＢ₆多層膜を用いた反射光学系では波長1
0.9nm付近のＸ線だけが反射される。反射率MS1，RS1を
比較するとＭｏ／Ｓｉ多層膜を用いたほうが大きいが、
レーザープラズマＸ線のスペクトル強度は波長13.1nm付
近にピークがあるため、Ｘ線強度に関してはRS2の方がM
S2より大きくなる。反射光学系を通過するＸ線の強度は
曲線RS2，MS2と横軸とで囲まれる領域の面積で表され、
上述したようにＭｏ／Ｓｉ多層膜の場合を１００とする
とＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜の場合は１１４となる。

【００２７】現在、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜で反射率の高いも
としては約６７．５％のものが得られている（C.Montca
lm, et al.,SPIE vol. 3331,1998）。そこで、上述の反
射光学系に反射率６７．５％のＭｏ／Ｓｉ多層膜を用い
て得られるＸ線強度と同等のＸ線強度をＲｕ／ＳｒＢ₆
多層膜で得るためには、Ｒｕ／ＳｒＢ₆多層膜の反射率
Ａは次式（５）で計算される。

【数５】Ａ＝０．６２４×（０．６７５／０．７５２）／（１．１４^1/7） …（５）式（５）からＡは０．５５となり、Ｒｕ／ＳｒＢ₆多層
膜の反射率が５５％あれば反射率６７．５％のＭｏ／Ｓ
ｉ多層膜を用いた場合と同等のＸ線強度が得られる。

【００２８】この反射率５５％はＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜
の理想反射率６２．４％より低いので、５５％以上の反
射率を有するＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜を作製すれば、Ｍｏ
／Ｓｉ多層膜を用いた場合より反射Ｘ線強度が高い光学
系（７枚ミラーの光学系）を得ることができる。また、
Ｍｏ／Ｓｉ多層膜反射鏡で使用している波長13.1nmのＸ
線より短い波長10.9nmを有するＸ線が用いられるため、
より微細なパターンを投影することが可能となる。

【００２９】上述した比較では、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜とし
て波長13.1nmに反射率のピークを有する一般的な多層膜
を例に説明したが、計算によれば図５に示すような波長
10.9nmにピークを有するＭｏ／Ｓｉ多層膜も可能であ
る。このＭｏ／Ｓｉ多層膜は周期長５５．６３Å、Ｍｏ
層の層厚と周期長との比であるΓの値は０．４であり、
積層数は５０層対である。波長10.9nmでの反射率（理想
反射率）は３０．１％となる。この反射率は上述したＲ
ｕ／ＳｒＢ₆多層膜の理想反射率より低いので、Ｘ線強
度の点ではＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜の方が有利であり、光
学系を構成するミラーの枚数が増えるほど有利性が増
す。

【００３０】ところで、Ｒｕ／ＳｒＢ₆多層膜の積層数
を変えたときの理論反射率を計算すると、５０層対で６
０．５％、８０層対で６２．４％、１００層対で６２．
５％であった。このことから、反射率は８０層対でほぼ
飽和すると考えられる。

【００３１】なお、ターゲットにＸｅを用いたレーザプ
ラズマＸ線源を光源に用いなければならない場合には、
以下の実施例で示すＹ（イットリウム）をＳｒＢ₆の代
わりに用いても構わない。このイットリウムという物質
も吸収端が１０．９nmより短い波長であるので、１０．
９nmでの反射率はＭｏ／Ｓｉ多層膜から成る反射鏡より
も良い。また、ルテニウムの代わりに、ほぼ同じ光学定
数を有するロジウム（Ｒｈ）を用いても良い。

【００３２】

【実施例】（実施例１）本実施例の多層膜反射鏡では上
述した図１に示すＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜と同一構造を有
しており、Ｓｉ基板１１上にＲｕ層１２とＳｒＢ₆層１
３とを交互に積層したＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜を、Ｒｕ，
ＳｒＢ₆の各ターゲットを用いてイオンビームスパッタ
リングにより形成したものである（図１参照）。Ｒｕ／
ＳｒＢ₆多層膜の周期長は５６．３Å、Ｒｕ層の層厚と
周期長との比であるΓの値は０．４であり、積層数は８
０層対とした。図６は、このＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜の反
射率（計算値）を波長に関して示したものであり、波長
10.9nmにおける反射率は６２．４％である。また、作製
したＲｕ／ＳｒＢ₆多層膜の垂直入射の軟Ｘ線反射率を
放射光を用いて実測したところ、反射率５７％が得られ
た。この値は、軟Ｘ線縮小リソグラフィーに用いる多層
膜反射鏡として充分なものである。

【００３３】（実施例２）図７に実施例２の多層膜反射
鏡９の断面図を示す。この多層膜反射鏡９は、Ｓｉ基板
９１上にＹ層９２とＲｕ層９３とを交互に積層したＲｕ
／Ｙ多層膜を、Ｒｕ，Ｙの各ターゲットを用いてイオン
ビームスパッタリングにより形成したものである。Ｒｕ
／Ｙ多層膜の周期長は５６．２Å、Ru層の層厚と周期長
との比であるΓの値は０．４であり、積層数は８０層対
とした。図８はＲｕ／Ｙ多層膜の反射率（計算値）を波
長に関して示したものであり、波長10.9nmにおける反射
率は６３．８％である。また、作製したＲｕ／Ｙ多層膜
の垂直入射の軟Ｘ線反射率を放射光を用いて実測したと
ころ、反射率５６％が得られた。この値は、軟Ｘ線縮小
リソグラフィーに用いる多層膜反射鏡として充分なもの
である。

【００３４】なお、多層膜反射鏡に用いるホウ化ストロ
ンチウムに関して、その化学量論比はＳｒ：Ｂ＝１：６
のものだけに限られるものでは無い。実際、成膜時にお
ける膜物質の化学量論比は、この値から変動しても光学
的には大きな影響が無い。

【００３５】以上説明した実施の形態と特許請求の範囲
の要素との対応において、Ｒｕ層１２および９３は第１
の層を、ＳｒＢ₆層１３およびＹ層９２は第２の層をそ
れぞれ構成する。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜請求項
３の発明によれば、軟Ｘ線領域おいて高い反射率を有す
る多層膜反射鏡を得ることができる。特に請求項３の発
明では、ターゲットにＸｅを用いたレーザープラズマＸ
線のピーク波長10.9nmのＸ線に対して高い反射率を有し
ているので、例えば、ターゲットにＸｅを用いたレーザ
ープラズマＸ線を光源として用いる露光装置では、光源
からのＸ線を有効に利用することができる。また、請求
項４の発明によれば、ターゲットにＸｅを用いたレーザ
ープラズマＸ線源からのＸ線を有効に利用できる反射光
学系が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による多層膜反射鏡の断面図。

【図２】ターゲットにＸｅを用いたレーザープラズマＸ
線のスペクトル強度を示す図。

【図３】本発明による多層膜反射鏡を光学系に用いた露
光装置の概略図。

【図４】７枚のミラーから成る反射光学系の反射率およ
びＸ線強度を示す図。

【図５】波長10.9nmに反射ピークを有するＭｏ／Ｓｉ多
層膜の理想反射率を示す図。

【図６】Ｒｕ／ＳｒＢ₆多層膜の理想反射率を示す図。

【図７】実施例２の多層膜反射鏡９の断面図。

【図８】Ｒｕ／Ｙ多層膜の理想反射率を示す図。

【図９】反射鏡３ａの概要図。

【符号の説明】

１，９多層膜反射鏡２光源３照明光学系４レチクルステージ５反射型マスク６投影光学系７ウェハステージ８ウェハ１１，９１Ｓｉ基板１２，９３Ｒｕ層１３ＳｒＢ₆層９２Ｙ層９５凹面反射面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】軟Ｘ線波長域における屈折率と真空の屈
折率との差が大きい物質で形成される第１の層と、前記
差が小さい物質で形成される第２の層とから成る層対
を、基板上に複数積層して成る多層膜反射鏡において、前記第２の層を形成する物質として、ホウ化ストロンチ
ウムまたはイットリウムを用いたことを特徴とする多層
膜反射鏡。
【請求項２】請求項１に記載の多層膜反射鏡におい
て、前記第１の層を形成する物質として、ルテニウムまたは
ロジウムを用いたことを特徴とする多層膜反射鏡。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載の多層膜
反射鏡において、前記層対の層厚である周期長、および前記第１の層と前
記第２の層との層厚比を調整して、多層膜の反射率の中
心波長が略10.9nmとなるようにしたことを特徴とする多
層膜反射鏡。
【請求項４】ターゲットにキセノンを用いたレーザプ
ラズマＸ線源を用いる装置の反射光学系において、請求項３に記載の多層膜反射鏡を複数有することを特徴
とする反射光学系。