JP2001008945A - レーザ手術装置 - Google Patents
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Abstract
所望の状態に変更可能なレーザ手術装置を提供する。 【解決手段】レーザを光源2としたレーザ手術装置に於
いて、治療部位に照射される治療用レーザ光線4のスポ
ット内の光強度分布を可変設定可能とし、治療用レーザ
光線の光強度分布を治療を行う場合に治療部位が要求す
る最適な光強度分布に設定する。
Description
して患部に照射し治療する医用レーザ手術装置に関し、
特にレーザスポット内の光強度分布を可変設定可能とし
た医用レーザ手術装置に関するものである。
度を利用して、非接触で治療部位の光凝固、除去、切開
等が行え、出血の防止、細菌の汚染の無い手術としてレ
ーザ手術装置が普及している。
使用される場合、一般的にレーザ光線を光ファイバ及び
デリバリ光学系を経由して導光し、治療部位に照射する
が、レーザ光線のデリバリ光学系としては図9に示すも
のがある。図9中1はダイクロイックミラーであり、該
ダイクロイックミラー1に対向して治療用レーザ発振器
2及び照準用レーザ発振器3が配設され、前記治療用レ
ーザ発振器2から発せられる治療用レーザ光線4は前記
ダイクロイックミラー1を透過しデリバリ光学系6によ
り治療部位に照射され、前記照準用レーザ発振器3から
発せられる照準用レーザ光線5は前記ダイクロイックミ
ラー1で反射された後前記デリバリ光学系6により、治
療部位に照射される様になっている。
光線4、照準用レーザ光線5を光ファイバ入射端に集光
させる集光レンズ7と、治療用レーザ光線4、照準用レ
ーザ光線5を治療部位近傍迄導く光ファイバ8と、該光
ファイバ8から射出されたレーザ光線を平行光線とする
第1レンズ群9、レーザ光線の合焦位置を変更する第2
レンズ群10、レーザ光線を合焦させる為の第3レンズ
群11等から構成されている。
ザ発振器3から照射する照準用レーザ光線5により治療
部位を特定し、治療部位の特定が完了したところで、治
療用レーザ発振器2から治療用レーザ光線4を治療部位
に照射し、治療用レーザ光線4が持つ高密度の熱エネル
ギにより治療部位の光凝固、或は切開を行う。前記第2
レンズ群10を光軸方向に移動させることで、照射位置
でのレーザ光線スポット径の変更ができる。
は、治療用レーザ光線4の照射の態様、即ち治療部位で
の治療用レーザ光線4の合焦状態により、パーフォーカ
ル(同焦点)タイプとデフォーカス(焦点ずらし)タイ
プの2種類がある。
ックス光ファイバを使用した場合、射出端と治療部位が
光学的に共役な位置関係となっており、ファイバニアフ
ィールドの光強度分布(エッジがシャープで光分布は略
均一な矩形形状)がそのまま治療部位に伝達される。
出端が治療部位と共役な位置関係になく、治療部位では
エッジがシャープでなく中心部が強い光強度分布となっ
ている。
プな矩形形状の光分布、或は中心部の強度が低い光強度
分布がよいとされ、又緑内障の手術で行われる虹彩切開
では中心部の出力が高い光強度分布がよいとされてい
る。
に網膜疾患で光凝固を行う場合と、虹彩の切開で使用さ
れる場合があるが、従来の眼科用光凝固装置には治療部
位での治療用レーザ光線の光強度分布を変更する機能は
なく、パーフォーカルタイプのレーザ手術装置は網膜疾
患で光凝固の治療を行う場合に適しており、デフォーカ
スタイプのレーザ手術装置は虹彩の切開を行う場合に適
している等と一長一短があった。
光強度分布を所望の状態に変更可能なレーザ手術装置を
提供するものである。
としたレーザ手術装置に於いて、治療部位に照射される
治療用レーザ光線スポット内の光強度分布を可変設定可
能としたレーザ手術装置に係り、又スポット内の光強度
分布が周辺部に対して中心部が強くなる様可変可能なレ
ーザ手術装置に係り、又スポット内の光強度分布が中心
部に対して周辺部が強くなる様可変可能なレーザ手術装
置に係り、又スポット内の光強度分布をステップ可変可
能としたレーザ手術装置に係り、又スポット内の光強度
分布を連続的に可変可能としたレーザ手術装置に係り、
又光強度分布の変更とは独立して照射スポット径の変更
を可能としたレーザ手術装置に係り、又治療用レーザ光
線のデリバリ光学系内に光強度分布可変手段を配設した
レーザ手術装置に係り、又光強度分布可変手段が少なく
とも光束の一部の光強度を変更可能な光強度分布変更フ
ィルタを具備し、該フィルタが透過率変化型の光学フィ
ルタであるレーザ手術装置に係り、又光強度分布可変手
段が少なくとも光束の一部の光強度を変更可能な光強度
分布変更フィルタを具備し、該フィルタが透過率変化型
の遮光フィルタであるレーザ手術装置に係り、又透過率
の異なる光強度分布変更フィルタがフィルタ保持盤に複
数設けられ、該フィルタ保持盤を移動させることで光軸
上に位置する光強度分布変更フィルタを変更するレーザ
手術装置に係り、又光強度分布変更フィルタを光軸上に
配設すると共に光軸上に沿って移動可能としたレーザ手
術装置に係り、又光強度分布変更フィルタをデリバリ光
学系上の前記レーザ光源と共役な位置に配設したレーザ
手術装置に係り、更に又光強度分布変更フィルタをデリ
バリ光学系上の前記レーザ光源と共役でない位置に配設
したレーザ手術装置に係るものである。
ザ光線の照射レーザ光線スポット内の光強度分布を可変
設定可能であり、この為治療を行う場合、各治療部位に
最適な光強度分布を設定することができる。
実施の形態を説明する。
のものには同符号を付してある。
用レーザ光線4はダイクロイックミラー1を透過し、照
準用レーザ発振器3から発せられる照準用レーザ光線5
は前記ダイクロイックミラー1により反射される。前記
ダイクロイックミラー1を透過した治療用レーザ光線4
はデリバリ光学系6により治療部位に照射され、前記ダ
イクロイックミラー1で反射された照準用レーザ光線5
は前記デリバリ光学系6により治療部位に照射される。
光線4、照準用レーザ光線5を光ファイバ入射端に集光
させる集光レンズ7と、治療用レーザ光線4、照準用レ
ーザ光線5を導く光ファイバ8と、該光ファイバ8から
射出されたレーザ光線を平行光線とする第1レンズ群
9、光軸に沿って移動可能な第2レンズ群10、レーザ
光線を治療部位に集光させる為の第3レンズ群11等か
ら構成され、前記光ファイバ8の射出端と治療部位とは
前記第1レンズ群9、第2レンズ群10、第3レンズ群
11から成る光学系の共役な位置となる様に配置され
る。前記第2レンズ群10を移動させることで治療部位
での治療用レーザ光線4のスポット径を所定の範囲内で
可変することができる。
可変手段13を設ける。
図3を参照して説明する。
行となる様光強度分布変更モータ15を配設し、該光強
度分布変更モータ15の回転軸に円形のフィルタ保持盤
16を固着する。該フィルタ保持盤16は前記光ファイ
バ8の射出端に隣接して回転する様に配設され、フィル
タ保持盤16は同一円周上の所要等分(本実施の形態で
は8等分)した位置A,B,C,D,E,F,G,Hに
投光窓が穿設され、該投光窓にそれぞれ特性の異なる光
強度分布変更フィルタ17a,17b,17c,17
d,17e,17f,17g,17hが取付けられてい
る。
フィルタ17aは図3(A)の様な透過率、即ち全面で
均一な透過率を有している。又、前記位置Bに取付けら
れた光強度分布変更フィルタ17bは図3(B)の様な
透過率、即ち周辺部で若干透過率が低下した特性を有し
ている。又、前記位置Cに取付けられた光強度分布変更
フィルタ17cは図3(C)の様な透過率、即ち中央部
で最大の透過率を有し、周辺部に行くに従い漸次透過率
が減少する凸曲線状の透過率特性を有している。又、前
記位置Dに取付けられた光強度分布変更フィルタ17d
は図3(D)の様な透過率、即ち光強度分布変更フィル
タ17cの透過率特性の変化率を更に大きくし、中心部
と周辺部で透過率の差を一層大きくした透過率特性を有
する。
布変更フィルタ17eは図3(E)の様な透過率、即ち
周辺部に行くに従い僅かに透過率が大きくなる凹曲線状
の透過率特性を有する。又、前記位置Fに取付けられた
光強度分布変更フィルタ17fは図3(F)の様な透過
率を有し、前記位置Gに取付けられた光強度分布変更フ
ィルタ17gは図3(G)の様な透過率を有し、前記位
置Hに取付けられた光強度分布変更フィルタ17hは図
3(H)の様な透過率を有し、光強度分布変更フィルタ
17f,17g,17hはいずれも周辺部に行くに従い
漸次光強度が増大する凹曲線状の透過率特性を有し、透
過率の変化率が光強度分布変更フィルタ17f<光強度
分布変更フィルタ17g<光強度分布変更フィルタ17
hの関係となっている。
光線5を前記デリバリ光学系6で治療部位に照射して治
療部位を特定し、又治療用レーザ発振器2からの治療用
レーザ光線4を前記デリバリ光学系6を介して治療部位
に照射する様にすると共に前記第2レンズ群10の位置
を調整して所望のレーザ光線スポット径とする。次に、
前記光強度分布変更モータ15を駆動して、フィルタ保
持盤16を回転し、所定の光強度分布変更フィルタ17
を選択する。
分布変更フィルタ17aを選択した場合を説明する。
特性は図3(A)で示す様に、全面で均一な透過特性を
有しているので、照射された治療用レーザ光線4のスポ
ットの光強度分布は図4(A)で示される中心から周辺
迄光強度の変化しない均一なものとなる。
光強度分布変更フィルタ17dを選択した場合には、前
記治療用レーザ光線4は前記光強度分布変更フィルタ1
7dを透過する。該光強度分布変更フィルタ17dの透
過特性は図3(D)で示す様に中心部で透過率が高く周
辺に行く程透過率が低下する透過特性を有しているの
で、照射された治療用レーザ光線4のスポットの光強度
分布は図4(B)で示される様に中心で光強度が強く周
辺で弱くなり、緑内障手術の虹彩切開に適した光強度分
布となる。
光強度分布変更フィルタ17hを選択した場合には、前
記治療用レーザ光線4は前記光強度分布変更フィルタ1
7hを透過する。該光強度分布変更フィルタ17hの透
過特性は図3(H)で示す様に中心部で透過率が低く周
辺に行く程透過率が高くなる透過特性を有しているの
で、照射された治療用レーザ光線4のスポットの光強度
分布は図4(C)で示される様に中心で光強度が弱く周
辺で強くなり、網膜光凝固の治療に適した光強度分布と
なる。
更フィルタ17を選択することで、照射されるレーザ光
線のスポットの光強度分布を所望の状態にすることが可
能となる。即ち、例えばパーフォーカルタイプの光学系
を有するレーザ手術装置に於いて、網膜上の光凝固の治
療時にはスポットの光強度分布状態をエッジがシャープ
な矩形形状の光分布、或は中心部の強度が低い光強度分
布とし、又緑内障の手術での虹彩切開では中心部の出力
が強い光強度分布とすることができ、治療にあった最適
な光強度分布を得ることができる。尚、上記した様に前
記第2レンズ群10の光軸上の位置を変更することで照
射レーザ光線のスポット径を変更することができるが、
スポット径の変更と光強度分布の変更とは独立して行え
るので、任意のサイズで所要の光強度分布とすることが
できる。
欠回転させ、順次光強度分布変更フィルタ17a,17
b,17c…と変えていくことで光強度分布のステップ
可変が可能となる。
のである。
保持盤16に光強度分布変更フィルタ17を円周上に設
けたが、第2の実施の形態では図6に示す様に短冊状の
フィルタ保持盤19に直線的に光強度分布変更フィルタ
17a,17b,17cを配列したものであり、例えば
リニアモータ20等により前記フィルタ保持盤19を直
線的に所要間隔で移動させることで、前記光強度分布変
更フィルタ17a,17b,17cのいずれか1つを選
択する。治療用レーザ光線4を前記光強度分布変更フィ
ルタ17a,17b,17cの所要の1つを透過させる
ことで、必要とされる光強度分布を得ることができる。
おり、第1の実施の形態で示した円盤回転方式の光強度
分布可変手段13の配設する位置を変更したものであ
る。
ズ21を配設し、該リレーレンズ21に対し前記光ファ
イバ8の射出端と共役な位置に前記フィルタ保持盤16
を配設したものである。前記リレーレンズ21を設ける
ことで、光強度分布可変手段13の設置位置に自由度が
生じる。尚、光強度分布可変手段13の作用については
上記したと同様であるので説明を省略する。
示しており、光強度分布変更フィルタ17をデリバリ光
学系6の共役でない位置に設けた例を示している。光強
度分布変更フィルタ17を共役でない位置、例えば第3
レンズ群11と治療用レーザ光線4の集光位置との間に
配設したものである。尚、この場合光強度分布変更フィ
ルタ17の透過率について、中心部と周辺部とで透過率
を異ならせ、或は中心部と周辺部とで透過率の変化率を
変えておき、光強度分布変更フィルタ17を光軸方向に
移動することで、前記治療用レーザ光線4が光強度分布
変更フィルタ17の中心部分のみを透過するか、或は光
強度分布変更フィルタ17の周辺部迄広がって透過する
かで光強度分布が変ってくる。該第4の実施の形態では
光強度分布は連続的に変えることができる。
れは、光束が通過する領域全体での平均透過率を一定に
することが望ましい。このようにすると、強度分布変更
フィルタを変更しても、光源から治療部位までの伝達効
率は変化せず、強度分布変更フィルタを変更しても治療
部位での全体の光エネルギは変化しない。尚、前記の平
均光強度分布変更フィルタの平均透過率を一定にするこ
とが困難な場合には、フィルタの変更を検出する検出器
を設け、この検出器の信号に基づきレーザ光線の出力を
あらかじめ決められた所定の値に自動的に制御する制御
系を設けてもよい。
た光強度分布変更フィルタ17を用いたが、光束の一部
を遮光するものであってもよい。例えば治療用レーザ光
線4の光束より小径の孔を穿設した遮光板、或は透過板
の中心部に不透明部分を形成した遮光板等であってもよ
い。
レーザ光線の照射レーザ光線スポット内の光強度分布を
可変設定可能であり、治療を行う場合に治療部位が要求
する最適な光強度分布に設定することができるという優
れた効果を発揮する。
ある。
盤の説明図である。
(H)はそれぞれ光強度分布可変手段で使用された光強
度分布変更フィルタと透過率とを示す線図である。
変更フィルタを使用した場合の照射スポットの光強度分
布を示す線図である。
ある。
盤の説明図である。
ある。
ある。
Claims (13)
- 【請求項1】 レーザを光源としたレーザ手術装置に於
いて、治療部位に照射される治療用レーザ光線スポット
内の光強度分布を可変設定可能としたことを特徴とする
レーザ手術装置。 - 【請求項2】 スポット内の光強度分布が周辺部に対し
て中心部が強くなる様可変可能な請求項1のレーザ手術
装置。 - 【請求項3】 スポット内の光強度分布が中心部に対し
て周辺部が強くなる様可変可能な請求項1のレーザ手術
装置。 - 【請求項4】 スポット内の光強度分布をステップ可変
可能とした請求項1のレーザ手術装置。 - 【請求項5】 スポット内の光強度分布を連続的に可変
可能とした請求項1のレーザ手術装置。 - 【請求項6】 光強度分布の変更とは独立して照射スポ
ット径の変更を可能とした請求項1のレーザ手術装置。 - 【請求項7】 治療用レーザ光線のデリバリ光学系内に
光強度分布可変手段を配設した請求項1のレーザ手術装
置。 - 【請求項8】 光強度分布可変手段が少なくとも光束の
一部の光強度を変更可能な光強度分布変更フィルタを具
備し、該フィルタが透過率変化型の光学フィルタである
請求項7のレーザ手術装置。 - 【請求項9】 光強度分布可変手段が少なくとも光束の
一部の光強度を変更可能な光強度分布変更フィルタを具
備し、該フィルタが透過率変化型の遮光フィルタである
請求項7のレーザ手術装置。 - 【請求項10】 透過率の異なる光強度分布変更フィル
タがフィルタ保持盤に複数設けられ、該フィルタ保持盤
を移動させることで光軸上に位置する光強度分布変更フ
ィルタを変更する請求項8又は請求項9のレーザ手術装
置。 - 【請求項11】 光強度分布変更フィルタを光軸上に配
設すると共に光軸上に沿って移動可能とした請求項8又
は請求項9のレーザ手術装置。 - 【請求項12】 光強度分布変更フィルタをデリバリ光
学系上の前記レーザ光源と共役な位置に配設した請求項
8又は請求項9のレーザ手術装置。 - 【請求項13】 光強度分布変更フィルタをデリバリ光
学系上の前記レーザ光源と共役でない位置に配設した請
求項8又は請求項9のレーザ手術装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11181983A JP2001008945A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | レーザ手術装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11181983A JP2001008945A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | レーザ手術装置 |
Publications (2)
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JP2001008945A5 JP2001008945A5 (ja) | 2006-08-10 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11181983A Pending JP2001008945A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | レーザ手術装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2001008945A (ja) |
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-
1999
- 1999-06-28 JP JP11181983A patent/JP2001008945A/ja active Pending
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