JP2001004824A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 材料ロスを低減しながら、透過性、色純度に
優れ、かつ高精度に膜厚制御されたコレステリック液晶
カラーフィルタを簡易に製造しうるカラーフィルタの製
造方法を提供する。 【解決手段】 仮支持体上に、少なくともコレステリッ
ク液晶層を有する転写材料を光透過性の基板上にラミネ
ートする工程と、転写材料を画像状に熱印加する工程
と、光透過性の基板から転写材料を剥離して前記基板上
に必要な画像部を形成する工程と、を有するカラーフィ
ルタの製造方法。前記光透過性の基板に代えて、基体上
に受像層を有する受像材料を用い、前記必要な画像部を
形成する工程の後、受像材料に形成された画像を光透過
性の基板上に再転写する工程を有する態様も好ましい。
前記転写材料は、クッション性層、配向膜を有する態様
が好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置等に
用いられるカラーフィルタの製造方法に関し、詳しく
は、材料ロスを低減し、かつ高度に膜厚制御された高品
質なカラーフィルタを簡易に製造しうるコレステリック
液晶カラーフィルタの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶ディスプレー等に用いられる
カラーフィルタは、一般に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、
青色（Ｂ）の各画素と、その間隙に表示コントラスト向
上を目的とするブラックマトリクスと、が形成されて構
成される。このようなカラーフィルタは、従来、樹脂中
に顔料を分散させたものや染料を染着させたものが主流
であり、製造方法においても、これらの着色樹脂液をス
ピンコート等によりガラス基板上に塗布して着色レジス
ト層を形成し、フォトリソグラフィーによるパターニン
グを行ってカラーフィルタ画素を形成したり、着色画素
を基板に直接印刷したりすることでカラーフィルタを作
製していた。しかし、例えば、印刷法によるカラーフィ
ルタの製造方法では、画素の解像度が低く、高解像度の
画像パターンには対応が難しいという欠点があり、スピ
ンコート法による製造方法では材料ロスが大きく、また
大面積の基板に塗布する場合の塗布ムラが大きいといっ
た欠点があった。

【０００３】また、電着法による製造方法によると、比
較的解像度が高く、着色層のムラも少ないカラーフィル
タを得ることができるが、製造工程が煩雑であり、液管
理も難しいといった難点を有していた。以上より、カラ
ーフィルタの製造工程としては、材料ロスが少なく高効
率に、かつ簡便に高品質なカラーフィルタを製造しうる
製造方法が要望されていた。

【０００４】上記のような要望に鑑み、特登第２７９４
２４２号や２８７３８８９号では、フィルム転写法やイ
ンクジェット法によるカラーフィルタの製造方法が開示
され、材料ロスが少なく、効率のよいカラーフィルタの
製造方法も提案されている。ところが、特にインクジェ
ット法では、水溶性高分子からなるインク受容層を形成
した後、所望のパターンに親水化・疎水化処理を施し、
親水化された部分にインクジェット法でＲ，Ｇ，Ｂの各
色のインクを吹きつけカラーフィルター層を得るため、
得られるカラーフィルターは解像度の点で劣る。また、
隣接するフィルター層間に混色が生じる確率が高く、位
置精度の点でも劣る。

【０００５】一方、カラーフィルタの性能として、透過
率、色純度が高いことが要求されるが、近年、染料を用
いる方法では、染料の種類や染着樹脂を最適化すること
により、顔料を用いる方法では、より微細分散した顔料
を用いることにより、その透過性、色純度の向上が図ら
れてきた。しかし、近年では、液晶ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）パネルにおける、カラーフィルタの透過率、色純度
に対する要求は非常に高い。特に、反射型ＬＣＤ用カラ
ーフィルタにおいては、ペーパーホワイトの白表示とコ
ントラスト、及び色再現性の両立が難しい一方、従来の
製造方法における、樹脂中に染料を染着させ、或いは、
顔料を分散させて製造されるカラーフィルタは、いずれ
も光吸収型のカラーフィルタであるため、さらなる透過
率の向上による、色純度の改善は、ほぼ限界に達してい
た。

【０００６】このような光吸収型カラーフィルタに対
し、コレステリック液晶を主成分とし、さらに重合性モ
ノマー、重合開始剤等を混合して、パターニングして微
細パターンを形成した偏光利用型カラーフィルタが知ら
れている。前記偏光利用型カラーフィルタは、一定の光
量を反射し、且つ透過して画像表示を行うため、光の利
用効率が高く、透過率、色純度の点においても光吸収型
のカラーフィルタよりも卓越した性能を有する。

【０００７】しかしながら、その製造方法においては、
配向処理を施した基板上にスピンコート法等により成膜
して製造する方法が、均一厚の膜を形成しうる点で好ま
しいという観点から一般に用いられてきたが、その一
方、材料ロスが大きく、高価な液晶素材等を用いる場合
には、コストの点で不利であるといった問題があった。

【０００８】このような製造工程での問題点を解決する
ため、特開平８−３０４６２６号公報、同３０４６２７
号公報では、予めコレステリック液晶等を含有する液晶
層を設け、これを転写させるコレステリック液晶カラー
フィルタの製造方法が提案させている。この方法では、
配向膜上に液晶高分子層を形成し、これを接着剤層を介
して基板上に転写する。液晶高分子層を画像様に形成す
るには、接着剤層を画像様に光硬化させる、或いは、画
像様に印刷する等の方法を利用している。しかし、この
方法では、接着剤層が液晶層と接触しているために接着
剤層中の成分の、コレステリック液晶層への移行により
その液晶配向が乱されることがある。また、画像様に露
光するための装置若しくは画像様に印刷するための装置
や、現像装置等は、操作、保守に多大の労力を要し、さ
らに装置自体も大型のものになってしまうだけでなく、
現像に現像液を使用する場合には、その排水処理等が必
要である等の問題もある。一方、印刷による画像形成で
は解像度が低く、微細な画像パターンを形成できないと
いった問題もある。このように液晶素材を用い、材料ロ
スを低減しながら、膜厚の均一性に富む高品質なカラー
フィルタを簡易に製造しうるカラーフィルタの製造方法
は、未だ提供されていないのが現状である。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、材料ロスを低減しながら、
透過性、色純度に優ると同時に、高精度に膜厚制御され
たコレステリック液晶カラーフィルタを簡易に製造しう
るカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とす
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、工程が簡
易であって材料ロスが少なく、均一厚の液晶層を有する
カラーフィルタの製造方法に関し鋭意検討を重ねた結
果、コレステリック液晶層を有する転写材料を用い、画
像様に熱印加して選択的に液晶層を剥離して画像転写さ
せることにより、材料ロスを抑えながら、高精度に膜厚
制御されたカラーフィルタを簡易に製造しうることを見
出し、本発明を完成するに至った。前記課題を解決する
ための手段は以下の通りである。即ち、

【００１１】＜１＞ 仮支持体上に少なくともコレステ
リック液晶層を有する転写材料を光透過性の基板上にラ
ミネートする工程と、ラミネートした状態で、前記転写
材料を画像様に熱印加する工程と、光透過性の基板から
転写材料を剥離して前記基板上に必要な画像部を形成す
る工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタの
製造方法である。

【００１２】＜２＞ 仮支持体上に、少なくともコレス
テリック液晶層を有する転写材料の前記コレステリック
液晶層と、基体上に受像層を有する受像材料の前記受像
層と、をラミネートする工程と、ラミネートした状態
で、前記転写材料を画像様に熱印加する工程と、受像材
料から転写材料を剥離して前記受像層上に必要な画像部
を形成する工程と、受像材料に形成された画像を、光透
過性の基板上に受像層とともに再転写する工程と、を有
することを特徴とするカラーフィルタの製造方法であ
る。

【００１３】＜３＞ 転写材料が、クッション性層を有
する前記＜１＞又は＜２＞に記載のカラーフィルタの製
造方法である。 ＜４＞ 転写材料が、配向膜を有する前記＜１＞〜＜３
＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法であ
る。 ＜５＞ 受像材料が、クッション性層を有する前記＜２
＞〜＜４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方
法である。

【００１４】＜６＞ コレステリック液晶層が、重合性
基を有するコレステリック液晶化合物と光重合開始剤と
を含有し、光透過性の基板又は受像層上に必要な画像部
を形成した後、さらに光照射して光重合させる前記＜１
＞〜＜５＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方
法である。 ＜７＞ コレステリック液晶層が、コレステリック液晶
化合物と重合性モノマーと光重合開始剤とを含有し、光
透過性の基板又は受像層上に必要な画像部を形成した
後、さらに光照射して光重合させる前記＜１＞〜＜５＞
のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

【００１５】＜８＞ コレステリック液晶層が、重合性
基を有するコレステリック液晶化合物を含有し、光透過
性の基板又は受像層上にラミネートした時又は必要な画
像部を形成した後、さらに加熱処理を施して熱重合させ
る前記＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載のカラーフィル
タの製造方法である。 ＜９＞ コレステリック液晶層が、コレステリック液晶
化合物と重合性モノマーとを含有し、光透過性の基板又
は受像層上にラミネートした時又は必要な画像部を形成
した後、さらに加熱処理を施して熱重合させる前記＜１
＞〜＜５＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方
法である。 ＜１０＞ コレステリック液晶化合物が、重合性基を有
する前記＜７＞又は＜９＞のいずれかに記載のカラーフ
ィルタの製造方法である。

【００１６】＜１１＞ コレステリック液晶層を加熱処
理して、該コレステリック液晶層の螺旋ピッチを調整す
る工程を有する前記＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載
のカラーフィルタの製造方法である。 ＜１２＞ 選択反射波長が異なる少なくとも３種の転写
材料を用い、同一の光透過性の基板又は受像層上に、ラ
ミネートする工程と、レーザ露光する工程と、必要な画
像部を形成する工程と、を順次繰り返す前記＜１＞〜＜
１１＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法で
ある。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタの製造方
法においては、仮支持体上に、少なくともコレステリッ
ク液晶層を有する転写材料を光透過性の基板上にラミネ
ートし、ラミネート状態の前記転写材料を加熱装置によ
り画像様に熱印加した後、前記光透過性の基板から転写
材料を剥離して、基板上に画像様にパターニングされた
コレステリック液晶層よりなる画素パターンを形成す
る。また、前記光透過性の基板に代えて、基体上に受像
層を有する受像材料を用いる場合には、前記コレステリ
ック液晶層と受像層とが接するようにラミネートし、ラ
ミネート状態の前記転写材料を画像様に熱印加した後、
前記受像材料から転写材料を剥離して、前記受像層上に
画像様にパターニングされたコレステリック液晶層より
なる画素パターンを形成し、さらに該画素パターンを所
望の光透過性の基板上に受像層とともに再転写する。以
下、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明す
る。

【００１８】本発明のカラーフィルタの製造方法は、仮
支持体上に、少なくともコレステリック液晶層を有する
転写材料を、前記コレステリック液晶層が接するように
光透過性の基板上にラミネートする工程（以下、「ラミ
ネート工程」ということがある。）と、ラミネートした
状態で、前記転写材料を画像様に熱印加する工程（以
下、「印画工程」ということがある。）と、前記光透過
性の基板から転写材料を剥離して、前記基板上に転写画
像を形成する工程（以下、「剥離工程」ということがあ
る。）とを有する。以下、前記ラミネート工程、露光工
程及び剥離工程の工程を含めて画像形成工程ということ
もある。尚、前記ラミネート工程では、光透過性の基板
に代えて、受像層を有する受像材料を用い、該受像材料
の受像層と前記転写材料のコレステリック液晶層とをラ
ミネートしてもよい。受像材料を用いる場合には、剥離
工程の後、受像材料上に形成された画像を、別に用意し
た光透過性の基板上に再転写する工程（以下、「再転写
工程」ということがある。）を設ける。

【００１９】本発明においては、第一の態様として、例
えば、図１に示すようにしてカラーフィルタを製造する
こともできる。図１は、本発明のカラーフィルタの製造
工程を説明するための概略工程図である。 −ラミネート工程− 前記ラミネート工程では、予め、仮支持体４上に、少な
くとも光熱変換層６とコレステリック液晶層５とを有す
る転写材料７を準備し、図１の（Ｉ）に示すように、カ
ラーフィルタの支持体とする光透過性の基板１上に、前
記コレステリック液晶層５を基板１表面と接するように
配置し、加圧しながら密着してラミネートする。ここ
で、前記転写材料が、コレステリック液晶層上に保護フ
ィルムを有する場合には、この保護フィルムを剥離した
後にラミネートする。

【００２０】尚、フルカラー画像を形成する場合には、
３枚の仮支持体上に、選択反射波長が可視波長領域に属
する赤色、緑色、青色になるようにそれぞれ別個に調製
し配向させたコレステリック液晶層を有する転写材料３
種を準備し、ラミネート工程、印画工程、剥離工程等の
各色の画素パターンを形成する一連の工程を繰り返す際
の各ラミネート工程で順に同一基板上にラミネートす
る。

【００２１】加圧する場合の加圧手段としては、公知の
加圧方法の中から適宜選択することができ、例えば、ラ
ミネートした状態の基体１及び転写材料３を圧力ローラ
等に挟んで圧着搬送する方法、加圧パッドを押圧しなが
ら移動させる方法、全面を加圧する方法等が挙げられ
る。中でも、ラミネート時に空気等の混入を回避し、十
分な密着性を確保しうる観点から、圧力ローラ等に挟ん
で圧着搬送する方法が好ましい。圧着搬送しうる手段と
しては、圧力ローラーのほか、ラミネーター、熱ローラ
ー等が挙げられる。また、押圧する手段としては、熱プ
レス等が挙げられる。

【００２２】加圧時の圧力としては、０．１〜５０ｋｇ
／ｍ²が好ましく、０．２〜２０ｋｇ／ｍ²がよリ好まし
い。圧力ローラーを用いる場合の搬送速度としては、
０．１〜５０ｍ／ｍｉｎが好ましく、０．２〜２０ｍ／
ｍｉｎがより好ましい。

【００２３】上記手段により、加圧しながら密着しラミ
ネートする場合、印画工程での記録時の温度よりも低
く、画像形成に影響しない温度範囲であれば、光透過性
の基板への密着性を確保する目的で、必要に応じて加熱
処理を施してもよく、画像形成に影響しない範囲で熱重
合に関与してもよい。具体的には、１００〜１３０℃程
度の温度を印加できる。

【００２４】−印画工程− 印画工程では、図１の（II）に示すように、加熱装置を
用いて所望のデジタル信号に従い、基板１にラミネート
した状態の転写材料７の仮支持体４上を画像様に加熱印
画する。画像様に選択的に加熱されると、該加熱部分の
みにおいて基板１上に画像様に転写される。即ち、前記
コレステリック液晶層は、熱印加により加熱溶融し、基
板１上に融着される。後述する剥離工程での剥離により
鮮鋭な画像を形成するには、前記加熱部におけるコレス
テリック液晶層５と基板１との密着力としては、該加熱
部におけるコレステリック液晶層５と仮支持体４との密
着力よりも強く、未露光部のコレステリック液晶層５と
基板１との密着力よりも強い密着性が得られれば問題な
い。

【００２５】前記加熱装置としては、公知のものの中か
ら適宜選択でき、例えば、サーマルヘッド、熱スタンプ
等が挙げられ、中でも、サーマルヘッドが好ましい。

【００２６】本発明においては、加熱装置を用いて直接
熱印加し該熱により画像様に記録を行うことから、高精
細に画像記録することができ、またサーマルヘッドなど
比較的小型で安価なものを使用できることから、装置の
小型化が図れ、低コストに高鮮鋭な画像パターンを形成
することができる。従って、高解像度のカラーフィルタ
を簡易、かつ低コストで製造することができる。

【００２７】−剥離工程− 前記剥離工程では、図１の（III）に示すように、基板
１より前記ラミネート工程でラミネートした転写材料７
を剥離して、光透過性の基板１上の加熱領域にのみ、所
望の画像様にコレステリック液晶層を形成する。ここ
で、未加熱部のコレステリック液晶層は、光熱変換層６
との密着力よりも強固に基板１と密着されていないた
め、剥離時に、仮支持体４及び光熱変換層６とともに基
板１から剥離除去され、基板１上に画像様にパターニン
グされた単色のコレステリック液晶層が転写され、単色
の画像が形成される。

【００２８】フルカラー画像を形成する場合には、３枚
の仮支持体上に、選択反射波長が可視波長領域に属する
赤色、緑色、青色になるようにそれぞれ別個に調製し配
向させたコレステリック液晶層を有する転写材料を準備
し、各色について転写工程、露光工程、剥離工程等の各
色の画素パターンを形成する一連の工程を繰り返し、そ
の各ラミネート工程で順に同一基板上にラミネートし、
転写する。基板上には、３色のコレステリック液晶層よ
りなる画素パターンが転写され、フルカラーのカラーフ
ィルタが形成される。

【００２９】剥離、転写して基板上に画像形成した後、
基板上に形成したコレステリック液晶層中の液晶分子の
螺旋ピッチを固定化し、さらにコレステリック液晶層の
膜強度を向上させる目的で、コレステリック液晶層中に
含有させた化合物の重合反応により硬化させる過程を設
けてもよい（硬化処理）。前記コレステリック液晶層に
硬化処理を施す方法としては、コレステリック液晶化合
物として重合性基を有する液晶化合物を用いる方法、コ
レステリック液晶化合物及び重合性モノマーを光重合開
始剤とともに含有させ、光照射により光重合させる方
法、コレステリック液晶化合物及び重合性モノマーを含
有し、加熱により熱重合させる方法等が挙げられる。

【００３０】フルカラーのカラーフィルタを形成する場
合には、前記硬化処理は、選択反射波長が可視波長領域
に属する赤色、緑色、青色のいずれかの転写材料によ
る、各色の画像形成工程時、各色の画像形成工程の後の
いずれの時点で行ってもよいし、３色全ての画像形成工
程を終了した後、一括して行ってもよい。また、後述す
る受像材料を用いる場合には、上記のほか、受像層に転
写した後、或いは、受像材料から受像層とともに基板上
に再転写した後、のいずれの時点で行ってもよい。印画
工程において画像様に熱印加する際の、該熱を利用して
重合硬化させることもできる。

【００３１】光照射により光重合させる場合に用いる光
源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、
各種レーザ光源等が挙げられ、中でも、超高圧水銀灯が
好ましい。前記活性光線の照射量としては、０．１〜１
０００ｍｊ／ｃｍ²が好ましく、０．２〜５００ｍｊ／
ｃｍ²がより好ましい。前記照射量が、０．１ｍｊ／ｃ
ｍ²未満であると、硬化反応が十分に行われないことが
あり、１０００ｍｊ／ｃｍ²を超えると、作業効率が低
下することがある。

【００３２】前記剥離工程の後、配向の熟成、均一な配
向の促進を図り、透過率、色純度に優る色相を発現させ
る目的で、加熱処理を施すこともできる（発色処理）。
前記発色処理は、前記剥離工程における硬化処理と同時
に行ってもよいし、前記硬化処理を施す前に行ってもよ
い。また、フルカラーのカラーフィルタを形成する場合
には、前記硬化処理は、選択反射波長が可視波長領域に
属する赤色、緑色、青色のいずれかの転写材料による、
各色の画像形成工程時、各色の画像形成工程の後、硬化
処理時のいずれの時点で行ってもよいし、３色全ての画
像形成工程を終了した後、一括して行ってもよい。さら
に、後述のような受像材料を用いる場合には、上記のほ
か、受像層へ転写した後、或いは、受像材料から受像層
とともに基板上に再転写した後、のいずれにおいて行っ
てもよい。

【００３３】本発明においては、加熱によりコレステリ
ック液晶層の螺旋ピッチを調整する目的で、加熱処理を
施すこともできる。該加熱処理は、画像形成工程時、画
像形成工程終了後、硬化処理時、或いは、受像材料を用
いる場合には基板への再転写後のいずれの時点に設けて
もよい。

【００３４】上記のようにして、予め別の仮支持体上に
均一厚にコレステリック液晶層を形成した転写材料を用
い、該液晶層を転写して画像パターンを形成するため、
画像様の液晶層を極めて均一な膜厚で安定に形成するこ
とができる。

【００３５】本発明においては、第二の態様として、例
えば、図２に示すようにしてカラーフィルタを製造する
こともできる。即ち、転写材料と密着させる基板とし
て、基体１’上に受像層２を有する受像材料３を準備
し、該受像材料３を中間転写体として利用する。前記受
像材料は、ラミネート工程前にその受像層２の表面を常
法により配向処理、好ましくはラビング処理を施されて
いることが好ましい。前記ラビング処理時のラビング角
度等は、予め設定するが特に限定はない。図２は、本発
明のカラーフィルタの製造工程の別の態様を説明するた
めの概略工程図である。

【００３６】本態様においても、図２の（II）〜（IV）
に示すように、上述と同様に構成された転写材料７を用
い、前記第一の態様と同様のラミネート工程、印画工程
及び剥離工程を経ることにより、前記受像材料３の受像
層２上に画像様のコレステリック液晶層５を形成する。
但し、本態様においては、剥離工程の後、受像材料３に
形成された画像を、光透過性の基板８上に受像層２とと
もに転写する工程（再転写工程）を設ける。即ち、受像
層２上に画像様のコレステリック液晶層５を形成した
後、図２の（Ｖ）に示すように、カラーフィルタの支持
体とする光透過性の基板８を載せて加圧密着させ、コレ
ステリック液晶層５及び受像層２を前記基板８の表面に
ラミネートする。

【００３７】ラミネート後、図２の（VI）に示すよう
に、受像材料３の基板１’と受像層２との間で剥離し、
画像様に形成したコレステリック液晶層５を受像層２と
ともに基板８上に再転写させることにより、コレステリ
ック液晶層が受像層で被覆されたカラーフィルタを形成
することができる。

【００３８】本態様の場合、基板８としては、光透過性
の基板を用い、一方、受像材料は中間転写体として用
い、従って該受像材料に用いる基体としては、特に制約
されることなく任意に選択することができる。本態様に
おいても、上述同様の硬化処理、発色処理を施すことが
できる。

【００３９】第二の態様においても、前記硬化処理を、
選択反射波長が可視波長領域に属する赤色、緑色、青色
のいずれかの転写材料による、各色の画像形成工程時、
各色の画像形成工程の後、硬化処理時のいずれの時点で
行ってもよいし、３色全ての画像形成工程を終了した
後、一括して行ってもよいし、コレステリック液晶層を
受像層上に転写した後（剥離工程の後）でもよく、、第
一の態様と同様にして、かつ同様の目的で施すことが好
ましい。硬化処理は、後述の再転写工程の後に行っても
よい。また、剥離工程の後、配向の熟成、均一な配向の
促進を図り、透過率、色純度に優る色相を発現させる目
的で、第一の態様と同様にして発色処理を施してもよ
い。

【００４０】再転写工程において、加圧する場合の加圧
手段としては、公知の加圧方法の中から適宜選択するこ
とができ、例えば、受像材料３上に基板８を載せた状態
で圧力ローラ等に挟んで圧着搬送する方法、加圧パッド
を押圧しながら移動させる方法、全面を加圧する方法等
が挙げられる。中でも、再転写時に空気等の混入を回避
し、十分な接着性を確保しうる観点から、圧力ローラ等
に挟んで圧着搬送する方法が好ましい。圧着搬送しうる
手段としては、圧力ローラーのほか、ラミネーター、熱
ローラー等が挙げられる。また、押圧する手段として
は、熱プレス等が挙げられる。

【００４１】加圧時の圧力としては、０．１〜５０ｋｇ
／ｍ²が好ましく、０．２〜２０ｋｇ／ｍ²がよリ好まし
い。圧力ローラーを用いる場合の搬送速度としては、
０．１〜５０ｍ／ｍｉｎが好ましく、０．２〜２０ｍ／
ｍｉｎがより好ましい。

【００４２】また、上記のように密着して再転写すると
同時に、加熱することもできる。この過程で加熱するこ
とにより、受像材料３の受像層２を軟化させてコレステ
リック液晶層との間に気泡等が混入しないように追従性
を確保することができ、さらに受像層２及び基体８の接
着性を向上させることもできる。この場合の加熱方法と
しては、例えば、上記の加圧ローラーや加圧パッド等を
用いてこれらを直接加熱しながら転写する方法が挙げら
れる。この場合の加熱温度としては、用いる加圧ロー
ラ、パッド等の表面温度で６０〜２００℃が好ましく、
８０〜１５０℃がより好ましい。

【００４３】また、フルカラー画像を形成する場合に
は、３枚の仮支持体上に、選択反射波長が可視波長領域
に属する赤色、緑色、青色になるようにそれぞれ別個に
調製し配向させたコレステリック液晶層を有する転写材
料を準備し、各色についてラミネート工程、露光工程、
剥離工程等の各色の画素パターンを形成する一連の工程
を繰り返し、そのラミネート工程で順に同一の受像材料
上に転写して受像材料の受像層上にＢ，Ｇ，Ｒの３色よ
りなるコレステリック液晶層を形成した後、カラーフィ
ルタの支持体とする光透過性の基板上に再転写を行う。
再転写された光透過性の基板上には、３色のコレステリ
ック液晶層とともにこれを被覆するように受像層も転写
され、フルカラーのカラーフィルタが形成される。

【００４４】本発明のカラーフィルタの製造方法におい
ては、前記各工程のほか、他の工程を設けてもよい。例
えば、コレステリック液晶層（Ｂ，Ｇ，Ｒ）よりなる画
素パターンの高画質化を図る目的で、画像様に形成され
た各液晶層間にブラックマトリックスを形成する工程を
設けてもよい。ブラックマトリックスは、予め公知の方
法により、カラーフィルタの支持体とする光透過性の基
板上に形成することができ、これに本発明の製造方法の
各工程を実施することによりブラックマトリックスを有
するカラーフィルタを形成することができる。また、逆
に、本発明の製造方法により、コレステリック液晶層
（Ｂ，Ｇ，Ｒ）よりなる画素パターンを形成した後、公
知の方法によりブラックマトリックスを形成し、ブラッ
クマトリックスを有するカラーフィルタとすることもで
きる。

【００４５】上述のようにして、最終的にカラーフィル
タの支持体となる基板上に、画像様にコレステリック液
晶層を転写形成し、必要に応じてブラックマトリックス
を形成した後、該基板をさらにラミネ−タ、熱ローラ
ー、熱プレス等により平坦化処理を施すこともできる。

【００４６】以下に、本発明のカラーフィルタの製造方
法に用いる転写材料及び受像材料について説明する。 −転写材料− 転写材料は、仮支持体上に、少なくともコレステリック
液晶層を有してなり、必要に応じて、保護フィルムやそ
の他の層を有してなる。

【００４７】（コレステリック液晶層）コレステリック
液晶層は、コレステリック液晶素材、カイラル化合物、
重合性モノマーを含有して構成され、さらに必要に応じ
て、光重合開始剤、バインダー樹脂、界面活性剤、熱重
合禁止剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化
剤、溶媒等を含有させることができる。

【００４８】前記コレステリック液晶素材は、液晶転移
温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とする
ものであって、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜
０．４０の液晶素材、高分子液晶素材、重合性液晶素材
の中から適宜選択することができる。溶融時の液晶状態
にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施し
た配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等
して固定化させることにより固相として使用することが
できる。前記コレステリック液晶素材の具体例として
は、下記化合物を挙げることができる。但し、本発明に
おいては、これらに限定されるものではない。

【００４９】

【化１】

【００５０】

【化２】

【００５１】

【化３】

【００５２】前記式中、ｎは、１〜１０００の整数を表
す。前記各例示化合物においては、その側鎖連結基が、
以下の構造に変わったものも同様に好適なものとして挙
げることができる。

【００５３】

【化４】

【００５４】上記のうち、コレステリック液晶素材とし
ては、十分な硬化性を確保する観点からは、分子内に重
合性基を有するコレステリック液晶化合物が好ましい。

【００５５】前記コレステリック液晶素材の含有量とし
ては、コレステリック液晶層の全重量に対して３０〜１
００重量％が好ましく、５０〜１００重量％がより好ま
しい。前記含有量が、３０重量％未満であると、コレス
テリック液晶化合物の配向が不十分となることがある。

【００５６】前記カイラル化合物としては、液晶化合物
の色相、色純度改良の観点から、イソマニード、カテキ
ン、イソソルビド、フェンコン、カルボン等のほか、以
下に示す化合物を挙げることができる。

【００５７】

【化５】

【００５８】

【化６】

【００５９】前記カイラル化合物の含有量としては、コ
レステリック液晶層の全重量に対して０〜３０重量％が
好ましく、０〜２０重量％がより好ましい。前記含有量
が、３０重量％を越えると、コレステリック液晶化合物
の配向が不十分となることがある。

【００６０】前記重合性モノマーとしては、エチレン性
不飽和結合を持つモノマー等が挙げられ、例えば、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーが挙げ
られる。前記エチレン性不飽和結合を持つモノマーの具
体例としては、以下に示す化合物を挙げることができる
が、本発明においては、これらに限定されるものではな
い。

【００６１】

【化７】

【００６２】前記重合性モノマーの添加量としては、コ
レステリック液晶層の全固形分重量に対し、０．５〜５
０重量％が好ましい。前記添加量が、０．５重量％未満
であると、十分な硬化性を得ることができないことがあ
り、５０重量％を越えると、液晶分子の配向を阻害し、
十分な発色が得られないことがある。

【００６３】さらに、コレステリック液晶層を転写後、
基板上に形成したコレステリック液晶層中の液晶分子の
螺旋ピッチを固定化し、さらにコレステリック液晶層の
膜強度を向上させる目的で、前記光重合開始剤を添加す
ることもできる。前記光重合開始剤としては、公知のも
のの中から適宜選択することができ、例えば、ｐ−メト
キシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−ト
リクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フ
ェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジ
ン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリー
ルビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベ
ンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン等が
挙げられる。

【００６４】前記光重合開始剤の添加量としては、コレ
ステリック液晶層の全固形分重量に対して、０．１〜２
０重量％が好ましく、０．５〜５重量％がより好まし
い。前記添加量が、０．１重量％未満であると、光照射
時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２
０重量％を越えると、紫外線領域から可視光領域での光
透過率が劣ることがある。

【００６５】前記バインダー樹脂としては、例えば、ポ
リスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレ
ン化合物、メチルセルロース、エチルセルロース、アセ
チルセルロース等のセルロース樹脂、側鎖にカルボキシ
ル基を有する酸性セルロース誘導体、ポリビニルフォル
マール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、特
開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、
特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７
号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４
８号に記載のメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合
体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイ
ン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が
挙げられる。

【００６６】アクリル酸アルキルエステルのホモポリマ
ー及びメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー
も挙げられ、これらについては、アルキル基がメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ
−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−
エチルヘキシル基等のものを挙げることができる。その
他、水酸基を有するポリマーに酸無水物を添加させたも
の、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸
のホモポリマータ）アクリル酸共重合体やベンジル（メ
タ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマー
の多元共重合体等が挙げられる。

【００６７】コレステリック液晶層中の全固形分に対す
る前記バインダーの含有量としては、０〜８０重量％が
好ましく、０〜５０重量％がより好ましい。前記含有量
が、８０重量％を超えると、コレステリック液晶化合物
の配向が不十分となることがある。

【００６８】また、保存性の向上のため添加される重合
禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキ
ノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノ
ン、及びこれらの誘導体等が挙げられ、これらは、重合
性化合物に対して、０〜１００００重量％添加すること
が好ましく、０〜１０００重量％添加することがより好
ましい。

【００６９】前記各成分は、適当な溶媒に溶解し、塗布
液状の溶液に調製し、この塗布液を所望の塗布方法によ
り後述の可撓性支持体上に塗布することにより、コレス
テリック液晶層を形成することができる。前記溶媒とし
ては、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メ
トキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸
エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエ
ステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類、２−メ
トキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセ
テート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシ
アルコールのエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル等の
乳酸エステル類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類、その他γ−
ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン等が挙げ
られる。

【００７０】前記溶媒を用いて調製した塗布液を塗布し
てコレステリック液晶層を形成する場合、その膜厚とし
ては、所望の膜厚の±５％、好ましくは±２％の精度が
要求される。前記精度を確保する観点から、塗布機とし
ては、スピンコーター、ホワイラー、バーコーター、カ
ーテンコーター等の公知の塗布機が挙げられる。転写材
料のコレステリック液晶層の塗布乾燥後の層厚として
は、０．５〜２．５μｍが好ましく、０．８〜２．０μ
ｍがより好ましい。前記層厚が、０．５μｍ未満である
と、十分な色濃度が得られないことがあり、２．５μｍ
を越えると、画像様に形成する液晶フィルタ層の転写性
の低下、解像度の低下等による画像品質が低下すること
がある。

【００７１】（クッション性層）本発明のカラーフィル
タの製造方法においては、転写性の向上、即ち、表面に
凹凸を有する基板に転写する場合に、転写するコレステ
リック液晶層の追従性を向上させる目的で、仮支持体と
コレステリック液晶層との間にクッション性層を設ける
ことが好ましい。即ち、例えば、基板上に既に単色若し
くは２色の液晶層が形成されている場合に、さらに異な
る色相の転写材料をラミネートし転写する場合等でも、
そのラミネート時に凹凸間に気泡を巻き込むことなく、
均一に密着させることができる。特に、本発明の製造方
法のように、ラミネート工程を繰り返し行う場合には有
用である。

【００７２】前記クッション性層は、少なくとも、ガラ
ス転移点（Ｔｇ）が８０℃以下の、高分子化合物、又は
高分子化合物に可塑剤等を混合することで層のＴｇを８
０℃以下にしたものを有して構成される。但し、前記ク
ッション性層は、該クッション性層上にコレステリック
液晶層が直接設けられる場合には、コレステリック液晶
層の成膜時に使用する溶媒等により溶解されない高分子
化合物等を使用する必要がある。従って、この場合に用
いる前記高分子化合物としては、例えば、ポリビニルア
ルコールにポリエチレングリコールを混合したもの、メ
チルビニルエーテル無水マレイン酸共重合体、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルピロリドン等の水溶性又は高
極性高分子材料、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ア
ジピン酸ポリエステル等が好ましい。

【００７３】前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は、
特に重合度が１００〜１０００のものが好ましく、該塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体における酢酸ビニル含量
としては、５〜４０％が好ましく、１０〜２０％がより
好ましい。

【００７４】前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は単
独で使用してもよいが、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体を主成分とし、これにクッション性層の特性を損なわ
ない範囲でポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体又はエチレン−
アクリル酸エステル等のエチレン系共重合体、ポリ塩化
ビニリデン、ポリ塩化ビニリデン系共重合体等の樹脂を
混合してもよい。

【００７５】また、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体の
安定化剤として、一般に公知のブチル錫系安定剤、或い
は、オクチル錫系安定剤等の有機錫系安定剤を添加する
ことも有効である。

【００７６】前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体の単
独使用では、ヤング率が大きいため、十分なクッション
性を確保できず、クッション性を補う等の目的で、可塑
剤を添加することもできる。前記可塑剤としては、アジ
ピン酸ポリエステルが挙げられる。アジピン酸ポリエス
テルとしては、重量平均分子量が１００００〜２０００
０のものが好ましく、１１０００〜１９０００のものが
より好ましく、１２０００〜１８０００のものが最も好
ましい。前記重量平均分子量が１００００未満である
と、アジピン酸ポリエステルが基板又は受像材料の表面
に移行し易くなり、受像材料の耐密着性が低下すること
があり、２００００を超えると、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体に対する相溶性が低下したり、又はクッショ
ン性の低下により転写画像の画質の低下を招き易くなる
結果、クッション性層の膜厚を厚する必要が生ずること
がある。クッション性層には、アジピン酸ポリエステル
とともに、転写する基板や受像材料表面に移行し難い高
分子可塑剤等を、クッション性層の特性を損なわない範
囲で併用することもできる。

【００７７】また、必要に応じて、クッション性層中
に、補助バインダーとしてアクリルゴムや線状ポリウレ
タンを添加することもでき、これらを添加すると、前記
可塑剤の添加量を低減することができる。従って、可塑
剤の基板や受像材料表面へのブリードを抑制でき、転写
時のゴミ欠陥や表面粘着性悪化による耐密着悪化を防止
することが可能となる。

【００７８】クッション性層の層厚としては、１〜５０
μｍが好ましく，２〜３０μｍがより好ましい。また、
クッション性層上、即ち、クッション層のコレステリッ
ク液晶層と接する面上に配向膜を設けない場合には、該
クッション層の表面をラビング処理等の配向処理を施す
こともできる。

【００７９】（配向膜）前記光熱変換層とコレステリッ
ク液晶層との間には、配向膜を設けることもできる。
尚、仮支持体及びコレステリック液晶層間に前記クッシ
ョン性層を設ける場合には、該クッション性層上に配向
膜を設けることもできる。即ち、前記仮支持体上に配向
膜を設け、該配向膜表面をラビング処理等の公知の方法
で配向処理を施し、その表面上にコレステリック液晶層
を設けることにより、液晶分子をその配向処理に促した
所定の配向となるように配向させることができ、この状
態で冷却固定化させることで透過性に優れ、色純度に富
む所望の色相に発色させることができる。上記の観点か
らは、配向膜を設ける方が好ましい。

【００８０】前記配向膜の形成に使用可能な材料として
は、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリイ
ミド、ポリアミド、ナイロン、ポリスチレン、ポリエチ
レン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブ
チルテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエステル、ポリシ
クロヘキシルメタクリレート、ポリビニルシンナメー
ト、ポリブレン、ポリアセタール等が挙げられる。

【００８１】前記コレステリック液晶層、クッション
層、配向膜は、それぞれの構成成分を適当な溶媒に溶
解、又は分散して塗布液上の溶液とし、公知の塗布方法
により塗布乾燥して仮支持体上に形成することができ
る。前記溶媒としては、コレステリック液晶層の形成に
使用可能な溶媒と同様のものを挙げることができる。配
向膜の膜厚としては、０．０１〜５μｍが好ましく、
０．０１〜１μｍがより好ましい。

【００８２】（その他の層）仮支持体上には、その上に
設ける層との密着性、塗布性を確保する等の目的で、下
塗り層を設けることもできる。前記下塗り層の層厚とし
ては、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０１〜２μ
ｍがより好ましい。

【００８３】また、転写材料には、中間層を設けること
もできる。この中間層は、コレステリック液晶層中の溶
剤等、及びクッション性層中の可塑剤や溶剤等の両層相
互間への悪影響を防止する目的で設けられるものであ
り、該中間層は、水或いはアルカリ水溶液に分散又は溶
解し、酸素透過性の低い材料より選択されることが好ま
しい。前記中間層は、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、水溶性ポリビニルブチラール、水溶性ナ
イロン（水洗にて除去可能）等の水溶性高分子を有して
構成することができる。

【００８４】前記中間層の層厚としては、０．１〜５μ
ｍが好ましい。また、中間層としては、特開平５−１７
３３２０号に記載のものを好適に使用することができ
る。また、中間層上にコレステリック液晶層を形成する
場合には、中間層を成膜した後、その表面をラビング処
理等により配向処理することが好ましい。

【００８５】（仮支持体）転写材料の支持体として使用
可能な仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であ
り、かつ撓曲性、化学光線透過性のものが挙げられる。
具体的には、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハ
ロゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセル
ロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド類、場合
によりポリエチレンフィルムをラミネートした紙等が挙
げられる。この他、従来の溶融転写や昇華転写用支持体
として公知の各種支持体、又は通常のサーマルヘッド転
写材料と同様に厚み５μｍ前後の、裏面に離型処理を施
したポリエステルフィルム等も挙げられる。上記のう
ち、裏面に離型処理を施したポリエステルフィルムが特
に好ましい。

【００８６】前記仮支持体には、転写材料を基板又は受
像材料より剥離する際に生ずる帯電による、塵埃の付着
を防止する目的で、帯電防止層を形成することもでき
る。仮支持体上に直接コレステリック液晶層を設ける場
合には、仮支持体の表面にラビング処理等の配向処理が
施されていてもよい。さらに、仮支持体の表面には、コ
ロナ放電処理、グロー放電処理等の表面処理を施すこと
もできる。

【００８７】前記仮支持体の厚みとしては、コレステリ
ック液晶層を光透過性の基板又は受像材料上にラミネー
ト等する場合の密着性、熱転写時の熱伝導性、凹凸を有
する基板への追従性の観点から、１５０μｍ以下が好ま
しい。一方、転写性、仮支持体上へのコレステリック液
晶層の形成性、転写材料の取り扱い性の観点から、２μ
ｍ以上が好ましい。

【００８８】（その他）前記転写材料のコレステリック
液晶層上には、保護フィルムを設けることもできる。保
護フィルムに用いる材料としては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン等が挙げられる。また、転写材料を構成す
る、前記クッション層、配向膜には、必要に応じて、バ
インダ、界面活性剤、熱重合防止剤、増粘剤、色素、顔
料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、溶媒等を含有させてもよ
い。さらに、転写材料における各層間の密着力（接着
力）を調整する目的で、各層中に密着促進剤、離形剤等
を使用することもできる。

【００８９】−受像材料− 受像材料は、基体上に、少なくとも受像層を有してな
り、必要に応じて、クッション性層、保護フィルムやそ
の他の層を有してなる。 （受像層）受像層は、熱印加部における転写材料のコレ
ステリック液晶層を溶融接着により転写受像しうる機
能、コレステリック液晶層の転写による剥離工程の後、
受像材料の受像層をコレステリック液晶層とともに別の
基板上に再転写させる機能、を有する層である。従っ
て、画像様に加熱した際にコレステリック液晶層との間
に十分な密着性が得られ、また剥離工程後の再転写工程
において、基板に対して十分な接着性が得られれば、い
ずれの構成成分よりなる層であってもよいが、中でも、
熱可塑性樹脂よりなる層が好ましい。

【００９０】前記熱可塑性樹脂としては、そのガラス転
移点が、５０〜２００℃のものが好ましい。前記ガラス
転移点が、５０℃未満であると、保存時等の粘着性が高
すぎて取り扱い性に劣ることがあり、２００℃を超える
と、発熱時の密着性に劣ることがある。

【００９１】前記熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリ
ビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂やこ
れらの変成体、下記一般式（１）又は（２）で表される
構成単位を有する樹脂等が挙げられる。

【００９２】

【化８】

【００９３】一般式（１）中、Ｒ¹は、水素原子又はメ
チル基を表し、Ａは、アミド結合を有する置換基又は含
窒素ヘテロ環基を表す。

【００９４】前記一般式（１）で表される高分子化合物
は、下記一般式（２）で表される単量体を常法に従い適
当な溶媒中又は無溶媒で重合開始剤の存在下で重合、又
は他の単量体と共重合させることにより得られる。

【００９５】

【化９】

【００９６】一般式（２）中、Ｒ¹は、水素原子又はメ
チル基を表し、Ａは、アミド結合を有する置換基又は含
窒素ヘテロ環基を表す。

【００９７】前記一般式（２）中、Ａがアミド結合を有
する置換基の場合としては、例えば、ＣＯＮＨＲ²、Ｃ
ＯＮＲ²Ｒ³が挙げられる。前記Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独
立に水素原子又は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数
６〜２０のアリール基を表す。前記アルキル基、アリー
ル基は、ヒドロキシ基、炭素数１〜６のアルコキシ基、
ハロゲン、シアノ基の１つ以上、又は２種以上の組合せ
で置換されていてもよい。Ｒ²とＲ³が結合する場合、−
Ｒ²Ｒ³−は、炭素数１〜２０のアルキレン、アラルキレ
ンを表す。前記アルキレン基、アラルキレン基は、分岐
構造を有してもよく、またエーテル結合、−ＯＣＯ−、
−ＣＯＯ−、又はこれらの２種以上を含んでいてもよ
い。

【００９８】前記Ａが含窒素ヘテロ環基の場合、Ａは、
インミダゾール類、ピロリドン類、ピリジン類、カルバ
ゾール類を表し、それらは、炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数６〜１０のアリール基、ハロゲン、シアノ
基、又はこれら２種以上の組合わせで置換されていても
よい。

【００９９】前記一般式（１）中のＡとしては、アミド
結合を有する置換基の場合、ＣＯＮＨＲ²、ＣＯＮＲ²Ｒ
³におけるＲ²及びＲ³は、それぞれ独立に水素又は炭素
数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基
が好ましい。ここで、前記アルキル基、アリール基は、
ヒドロキシ基又は炭素数１〜６のアルコキシ基で置換さ
れていてもよい。

【０１００】また、Ａが含窒素ヘテロ環の場合、Ａは、
イミダゾール類、トリアゾール類が好ましく、それらは
炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール
基で置換されていてもよい。

【０１０１】前記一般式（１）としては、例えば、（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メタ）アクリルア
ミド（ここで、アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、
ヘプチル基、オクチル基、エチルヘキシル基、シクロヘ
キシル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基等が挙げら
れる）、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド（ここ
で、アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル
基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシフェニ
ル基等が挙げられる）、Ｎ−Ｎ−ジアルキル（メタ）ア
クリルアミド（ここで、アルキル基としては、例えば、
メチル基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチル
ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる）、Ｎ−
Ｎ−ジアリール（メタ）アクリルアミド（ここで、アリ
ール基としては、例えば、フェニル基等が挙げられ
る）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−２アセトアミドエチル−Ｎ−アセチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルフェニルス
ルホニル）（メタ）アクリルアミド、２、３又は４−ヒ
ドロキシフェニルアクリルアミド、（メタ）アクリロイ
ルモルホリン、１−ビニルイミダゾール、１−ビニル−
２−メチルイミダゾール、１−ビニルトリアゾール、１
−ビニル−３，５−ジメチルイミダゾール、ビニルピロ
リドン、４−ビニルピリジン、ビニルカルバゾール等が
挙げられる。

【０１０２】前記一般式（２）で表される単量体と共重
合可能な他の単量体としては、例えば、（メタ）アクリ
ル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化
合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン
類、クロトン酸エステル類等より選択される重合性不飽
和結合を有する化合物が挙げられ、具体的には、以下の
化合物を挙げることができる。 （１）アルキル（メタ）アクリレート、置換（メタ）ア
ルキルアクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類 例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）
アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプ
ロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレ
ート、アミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）
アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、
エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メ
タ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレー
ト、クロロエチル（メタ）アクリレート、アリル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２，
２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、
ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシベンジル（メ
タ）アクリレート、クロロベンジル（メタ）アクリレー
ト、フルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフ
ルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート等である。

【０１０３】（２）アリール（メタ）アクリレート 例えば、フェニル（メタ）アクリレート、クレジル（メ
タ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート等で
ある。 （３）スチレン類 例えば、スチレン、アルキルスチレン、アルコキシスチ
レン、ハロゲノスチレン、ヒドロキシスチレン等であ
る。

【０１０４】前記アルキルスチレンとしては、例えば、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピル
スチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロ
ヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレ
ン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレ
ン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレ
ン等が挙げられる。前記アルコキシスチレンとしては、
例えば、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチル
スチレン、ジメトキシスチレン等が挙げられる。前記ハ
ロゲノスチレンとしては、例えば、クロロスチレン、ジ
クロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロス
チレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブ
ロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、ト
リフルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロス
チレン、４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチレ
ン等が挙げられる。

【０１０５】（４）クロトン酸エステル類 例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリ
セリンモノクロトネート等のクロトン酸アルキル；（メ
タ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニ
トリル等である。

【０１０６】上記のうち、前記一般式（１）で表される
構成単位を有する重合体としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
クリルアミド／ブチル（メタ）アクリレ−ト共重合体、
Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド／２−エチル
ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、Ｎ，Ｎ−ジメ
チル（メタ）アクリルアミド／ヘキシル（メタ）アクリ
レ−ト共重合体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド／
ブチル（メタ）アクリレ−ト共重合体，Ｎ−ブチル（メ
タ）アクリルアミド／２−エチルヘキシル（メタ）アク
リレ−ト共重合体、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド
／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、（メタ）ア
クリロイルモルホリン／ブチル（メタ）アクリレ−ト共
重合体，（メタ）アクリロイルモルホリン／２−エチル
ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体，（メタ）アク
リロイルモルホリン／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共
重合体，１−ビニルイミダゾ−ル／ブチル（メタ）アク
リレ−ト共重合体，１−ビニルイミダゾ−ル／２−エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体、１−ビニル
イミダゾ−ル／ヘキシル（メタ）アクリレ−ト共重合体
等が好ましい。

【０１０７】また、用いる熱可塑性樹脂中における、一
般式（１）で表される構成単位の含有率としては、１０
〜１００モル％が好ましく、３０〜８０モル％がより好
ましい。前記含有率が、１０モル％未満であると、画質
品質が劣ることがある。

【０１０８】前記熱可塑性樹脂の分子量としては、１０
００〜２０００００が好ましく、２０００〜１００００
０がより好ましい。前記分子量が、１０００未満である
と、製造が困難となることがあり、２０００００を越え
ると、溶剤への溶解性が低下することがある。

【０１０９】上述した各種樹脂のほか、ポリエチレン、
ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレンと酢酸ビ
ニル、或いは、エチレンとアクリル酸エステル、或い
は、エチレンとアクリル酸等のエチレン共重合体、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル等の塩化ビニル共
重合体；ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合
体；ポリスチレン、スチレンとマレイン酸エステル等の
スチレン共重合体、酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹
脂、変成ポリビニルアルコール、共重合ナイロン、Ｎ−
アルコキシメチル化ナイロン等のポリアミド樹脂、合成
ゴム、塩化ゴム、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、
マレイン酸樹脂、ヒドロキシスチレン共重合体、スルフ
ォンアミド樹脂、エステルガム、セルロース樹脂、ロジ
ン等も好適に挙げることができる。上述の各種熱可塑性
樹脂は、単独で、或いは、２種以上を併用して用いても
よい。

【０１１０】（クッション性層）本発明のカラーフィル
タの製造方法においては、表面に凹凸を有する基板に対
するコレステリック液晶層の転写性の向上、及びＢ，
Ｇ，Ｒの３色の選択反射波長を有するコレステリック液
晶層よりなる画像が形成された受像層を基板上に再転写
する際の転写性の向上、を図る目的で、基体と受像層と
の間にクッション性層を設けることが好ましい。即ち、
受像材料上に画像様にコレステリック液晶層よりなる画
像が形成されており、これを基板上に再転写する場合、
その転写時に液晶層の凹凸間に気泡を巻き込むおそれが
あるが、クッション性層を設けることにより、コレステ
リック液晶層のみならず、受像層までも均一に基板上に
転写することができる。

【０１１１】前記クッション性層に使用可能な構成成分
としては、転写材料で用いるクッション性層の形成に使
用可能なものと同様のものを、同量の範囲で使用するこ
とができる。

【０１１２】（基体）受像材料の支持体として用いる基
体としては、前記転写材料の支持体として使用可能な仮
支持体と同様のものを使用できる。前記基体の厚みとし
ては、コレステリック液晶層及び受像層を光透過性の基
板上にラミネート等する場合の密着性、熱転写時の熱伝
導性、凹凸を有する基板への追従性の観点から、１５０
μｍ以下が好ましい。一方、転写性、基体への受像層の
形成性、転写材料の取り扱い性の観点から、１０μｍ以
上が好ましい。

【０１１３】（その他）前記受像材料の受像層上には、
上述の転写材料に形成する保護フィルムと同様の保護フ
ィルムを設けることができる。また、受像材料を構成す
る、前記受像層、クッション層には、必要に応じて、バ
インダ、界面活性剤、熱重合防止剤、増粘剤、色素、顔
料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、溶媒等を使用することが
できる。さらに、受像材料における各層間の密着力（接
着力）を調整する目的で、各層中に密着促進剤、離形剤
等を使用することもできる。受像材料の支持体として用
いる基体の表面には、コロナ放電処理、グロー放電処理
等の表面処理を施すこともできる。

【０１１４】−基板− カラーフィルタ用として用いる基板としては、公知の光
透過性の基板が挙げられ、具体的には、ガラス板、表面
に酸化珪素被膜を形成したソーダガラス板、ポリマーフ
ィルム等が挙げられる。前記各種基板表面には、ラミネ
ート工程前に、前記配向膜を形成すること、或いは、常
法により配向処理、好ましくはラビング処理を施されて
いることが好ましい。前記ラビング処理時のラビング角
度等は、予め設定するが特に限定はない。

【０１１５】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、
実施例中の「部」及び「％」は、全て「重量部」及び
「重量％」を表す。

【０１１６】（実施例１） ＜転写材料の作製＞一方の表面にラビング処理が、他方
の表面に離型処理が施された、厚さ５μｍのポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（帝人（株）製）
を３枚準備し、そのラビング処理が施された側の表面上
に、下記Ｃｈ−ＬＣ層用塗布液（１）〜（３）をスピン
コーターによりその乾燥塗布厚が２μｍとなるようにそ
れぞれ別のＰＥＴフィルム上に塗布した後、１００℃の
オーブンで２分間乾燥し、３枚のＰＥＴフィルム上にそ
れぞれ単色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のＣｈ−ＬＣ層を形成した。
その後、形成した各Ｃｈ−ＬＣ層上に、１２μｍ厚のポ
リプロピレンフィルムを圧着してラミネートし、赤色画
素用の転写材料（１）、緑色画素用の転写材料（２）及
び青色画素用の転写材料（３）を得た。

【０１１７】−コレステリック液晶層用塗布液の調製− 下記組成の化合物をそれぞれ混合して、赤色（Ｒ）、緑
色（Ｇ）及び青色（Ｂ）画素用のコレステリック液晶
（Ｃｈ−ＬＣ）層用塗布液（１）〜（３）を調製した。
尚、各組成物の含有量は、それぞれのＣｈ−ＬＣ層用塗
布液の全重量に対し、下記重量比とした。 −赤色画素用Ｃｈ−ＬＣ層用塗布液（１）の組成− ・下記化合物（ａ） ・・・８７％ ・下記化合物（ｂ） ・・・ ５％ ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ ５％ ・２，４−トリクロロメチル−（４'−メトキシスチリル）−６−トリアジン ・・・ ３％ ・クロロホルム ・・４００％

【０１１８】 −緑色画素用Ｃｈ−ＬＣ層用塗布液（２）の組成− ・下記化合物（ａ） ・・・８６％ ・下記化合物（ｂ） ・・・ ６％ ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ ５％ ・２，４−トリクロロメチル−（４'−メトキシスチリル）−６−トリアジン ・・・ ３％ ・クロロホルム ・・４００％

【０１１９】 −青色画素用Ｃｈ−ＬＣ層用塗布液（３）の組成− ・下記化合物（ａ） ・・・８５％ ・下記化合物（ｂ） ・・・ ７％ ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ ５％ ・２，４−トリクロロメチル−（４'−メトキシスチリル）−６−トリアジン ・・・ ３％ ・クロロホルム ・・４００％

【０１２０】

【化１０】

【０１２１】＜基板＞カラーフィルタの支持体として、
厚み１．１ｍｍのガラス基板を準備し、Ｎ−メチルピロ
リドン中にポリイミド樹脂を溶解した配向膜塗布液をス
ピンコーターによりガラス基板上に塗布し、１００℃の
オーブンで５分間乾燥した後、２５０℃のオーブンに入
れてさらに１時間焼成し、焼成の後、その表面にラビン
グ処理を施して膜厚０．２μｍの配向膜を形成した。

【０１２２】（ラミネート工程）まず、赤色画素用の転
写材料（１）から保護フィルムを除去し、該転写材料
（１）のＣｈ−ＬＣ層と、前記ガラス基板の配向膜面と
が接するように重ね合わせ、ラミネーター（ファースト
ラミネーター ８Ｂ−５５０−８０，大成ラミネータ
（株）製）を用いて、圧力２ｋｇ／ｍ²、搬送速度０．
２ｍ／ｍｉｎの条件でラミネートした。

【０１２３】（印画工程）上記のようにラミネートした
状態のまま、転写材料（１）の仮支持体の上部より、サ
ーマルヘッド記録装置を用いて画像様に熱印加した。

【０１２４】（剥離工程）加熱印画した後、ガラス基板
から転写材料（１）を剥離すると、加熱領域には、選択
的に赤色画素用Ｃｈ−ＬＣ層が転写され、ガラス基板上
に赤色Ｃｈ−ＬＣ層よりなる画素パターンが形成され
た。剥離した転写材料（１）の仮支持体上には、非加熱
領域のＣｈ−ＬＣ層のみが残っていた。赤色Ｃｈ−ＬＣ
層を形成した基板を、１１０℃のホットプレート上にガ
ラス基板面が接触するように５分間置き（発色処理）、
基板上に赤色画素よりなる画像を形成した。

【０１２５】−硬化処理− その後、超高圧水銀灯（５００Ｗ／ｃｍ）を用いて、赤
色画像を形成した基板を６０ｃｍ上方から、照射エネル
ギー１００ｍＪ／ｃｍ²で照射した。さらに、赤色画素
を硬化させるため、２２０℃のオーブンで２０分間焼成
した。

【０１２６】続いて、緑色画素用の転写材料（２）から
保護フィルムを除去し、該転写材料（２）のＣｈ−ＬＣ
層と、上記より赤色画像を形成した、ガラス基板の配向
膜面とが接するように重ね合わせ、上記と同様にしてラ
ミネートした。これをラミネートした状態のまま、前記
同様の印画工程、剥離工程、発色処理、硬化処理を施し
て、赤色画像が形成されたガラス基板上にさらに緑色画
素よりなる画像を形成した。

【０１２７】さらに、青色画素用の転写材料（３）から
保護フィルムを除去し、該転写材料（３）のＣｈ−ＬＣ
層と、上記より赤色及び緑色画像を形成した、ガラス基
板の配向膜面とが接するように重ね合わせ、上記と同様
にしてラミネートした。これをラミネートした状態のま
ま、前記同様の印画工程、剥離工程、発色処理、硬化処
理を再度施して、赤色及び緑色画像が形成されたガラス
基板上にさらに青色画素よりなる画像を形成した。

【０１２８】ガラス基板上に３色のＣｈ−ＬＣ層よりな
る画像を形成した後、該ガラス基板をさらに２２０℃の
オーブンに入れ２時間焼成し、表面平滑性に優れた赤
色、緑色、青色の画素パターンよりなるカラーフィルタ
（１）を得た。上記のように本発明のカラーフィルタの
製造方法により作製したカラーフィルタ（１）は、透過
性、色純度に優れるとともに、各液晶層は全て同一の厚
みで形成され、高解像度に画像形成できた。また、各色
相毎に工程条件を変える必要もなかった。さらに、各工
程での材料ロスは少なく、フォトリソグラフィ等による
パターニングやウエットによる処理工程を必要とせず、
簡易な工程で低コストに製造することができた。

【０１２９】（実施例２） ＜転写材料＞実施例１と同様の仮支持体を準備し、該支
持体上に下記組成よりなるクッション性層用塗布液を塗
布、乾燥して、乾燥層厚５μｍのクッション性層を形成
した。

【０１３０】 〔クッション性層用塗布液の組成〕 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ・・・２９０．０部 （共重合比（重量比）：７５／２５、重合度：約４００； ＭＰＲ−ＴＳＬ，日信化学（株）製） ・塩化ビニル／酢酸ビニル／マレイン酸共重合体 ・・・ ７６．０部 （共重合比（重量比）：８６／１３／１、重合度：約４００； ＭＰＲ−ＴＭ，日信化学（株）製） ・フタル酸ジブチル ・・・ ８８．５部 ・フッ素系界面活性剤 ・・・ ５．４部 （Ｆ−１７７Ｐ，大日本インキ（株）製） ・ＭＥＫ ・・・９７５．０部

【０１３１】次に、下記組成の化合物を混合して中間層
用塗布液を調製し、前記クッション性層上に中間層を形
成した。 〔中間層用塗布液の組成〕 ・ポリビニルアルコール ・・・１７３．２部 （ＰＶＡ２０５、鹸化率８０％，（株）クラレ製） ・フッ素系界面活性剤 ・・・ ８部 ・蒸留水 ・・２８００部

【０１３２】上記のようにして、クッション性層及び中
間層を順に積層した前記仮支持体を３枚準備し、実施例
１で得られたＣｈ−ＬＣ層用塗布液（１）〜（３）をス
ピンコーターによりその乾燥塗布厚が２μｍとなるよう
にそれぞれ別のＰＥＴフィルムの中間層上に塗布した
後、１００℃のオーブンで２分間乾燥し、３枚の仮支持
体上にそれぞれ単色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のＣｈ−ＬＣ層を形
成した。その後、形成した各Ｃｈ−ＬＣ層上に、保護フ
ィルムとして１２μｍ厚のポリプロピレンフィルムを圧
着してラミネートし、赤色画素用の転写材料（４）、緑
色画素用の転写材料（５）及び青色画素用の転写材料
（６）を得た。

【０１３３】実施例１で用いた転写材料（１）〜（３）
に代えて、赤色画素用の転写材料（４）、緑色画素用の
転写材料（５）及び青色画素用の転写材料（６）を用い
たこと以外、実施例１と同様にして、実施例１で用いた
基板と同様のガラス基板上に表面平滑性に優れた赤色、
緑色、青色の画素パターンよりなるカラーフィルタ
（２）を得た。

【０１３４】上記のように本発明のカラーフィルタの製
造方法により作製したカラーフィルタ（２）は、透過
性、色純度に優れるとともに、各液晶層は全て同一の厚
みで形成され、高解像度な画像が得られた。また、転写
材料に設けたクッション性層の作用により、熱印加にお
いても仮支持体表面を平滑に維持することができ、赤色
から青色までの画素パターンをより均一に密着形成する
ことができた。実施例１同様、各色相毎に工程条件を変
える必要はなかった。さらに、各工程での材料ロスは少
なく、フォトリソグラフィ等によるパターニングやウエ
ットによる処理工程を必要とせず、簡易な工程で低コス
トに製造することができた。

【０１３５】（実施例３） ＜転写材料＞実施例２と同様にして、クッション性層及
び中間層を有する赤色画素用の転写材料（４）、緑色画
素用の転写材料（５）及び青色画素用の転写材料（６）
を作製した。

【０１３６】＜受像材料＞ −高分子化合物（ａ）の合成− ８０℃の窒素気流下で、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル１７０部を加熱攪拌した後、２，２’−アゾ
ビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．０７部を
加えさらに３０分間攪拌した。これに、ブチルアクリレ
ート３１．６部、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド２
４．４部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレ
ロニトリル）０．０７部を３０分かけて滴下した。滴下
終了後の３０分後と、１時間後にさらに２，２’−アゾ
ビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を０．１５部
ずつ添加し、さらに４時間加熱攪拌して、高分子化合物
（ａ）の２８％プロピレングリコールモノメチルモノエ
ーテル溶液を得た。重量平均分子量は、１３０００（ポ
リスチレン換算量）であった。

【０１３７】次に、下記組成の化合物を混合して、クッ
ション性層用塗布液及び受像層用塗布液を調製した。 〔クッション層用塗布液の組成〕 ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（結合剤） ・・・２５部 （ＭＰＲ−ＴＳＬ、重合度：３００， 塩化ビニル／酢酸ビニル＝８６／１４，日信化学（株）製） ・可塑剤 ・・・１２部 （下記一般式（３）で表されるアジピン酸ポリエステル、 重量平均分子量：１８０００） ・界面活性剤 ・・・ ４部 （メガファックＦ−１７７Ｐ，大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン（溶剤） ・・・７５部

【０１３８】

【化１１】

【０１３９】 〔受像層用塗布液の組成〕 ・ポリビニルブチラ−ル（結合剤） ・・・１６部 （デンカブチラ−ル＃２０００−Ｌ，電気化学工業（株）製） ・前記高分子化合物（ａ） ・・・ ４部 ・界面活性剤 ・・・ ０．５部 （メガファックＦ−１７７Ｐ，大日本インキ化学工業（株）製） ・ｎ−プロピルアルコ−ル（溶剤） ・・２００部

【０１４０】受像材料の基体として、厚さ１００μｍの
ポリエチレンテレフタレ−ト（ＰＥＴ）フィルムを用
い、該ＰＥＴフィルム上に回転塗布機（ホエラ−）を用
いて、上記より得られたクッション性層用塗布液を回転
数３００ｒｐｍで塗布した後、１００℃のオ−ブンで２
分間乾燥してクッション性層を形成した。形成したクッ
ション性層の層厚は、２０μｍであった。

【０１４１】次に、前記クッション性層上に、上記より
得られた受像層用塗布液を回転塗布機（ホエラ−）によ
り回転数２００ｒｐｍで塗布し、１００℃のオ−ブンで
２分間乾燥して受像層を形成した。形成した受像層の層
厚は、２μｍであった。上記のようにして、受像材料を
作製した。

【０１４２】実施例２で用いたガラス基板を、上記より
得られた受像材料に代え、転写材料のＣｈ−ＬＣ層を、
前記受像材料の受像層面に接するように重ね合わせたこ
と以外、実施例２と同様にして、受像材料の受像層上に
赤色、緑色、青色の画素パターンよりなる画像を形成し
た。

【０１４３】赤色、緑色、青色の画素パターンが形成さ
れた受像材料の該画素パターン上に、実施例１で用いた
ガラス基板をその配向膜が前記画素パターンと接するよ
うに重ね、その状態でラミネ−タを用いて圧力２ｋｇ／
ｃｍ、温度１３０℃、搬送速度１ｍ／ｍｉｎの条件でラ
ミネートした。その後、受像材料のＰＥＴフィルムをク
ッション性層とともに剥離し、ガラス基板の配向膜上に
赤色、緑色、青色の画素パターン及び受像層を転写し
た。

【０１４４】転写後、さらに２２０℃のオーブンで２時
間焼成を行い、赤色、緑色、青色の画素パターンが受像
層で覆われたカラーフィルタ（３）を得た。

【０１４５】上記のように本発明のカラーフィルタの製
造方法により作製したカラーフィルタ（３）は、透過
性、色純度に優れるとともに、各液晶層は全て同一の厚
みで形成され、高解像度な画像が得られた。また、受像
材料を中間転写体として用い、受像層とともに再転写し
たことにより、極めて表面平滑性の高いカラーフィルタ
を形成することができた。実施例２同様、各色相毎に工
程条件を変える必要はなかった。さらに、各工程での材
料ロスは少なく、フォトリソグラフィ等によるパターニ
ングやウエットによる処理工程を必要とせず、簡易な工
程で低コストに製造することができた。

【０１４６】

【発明の効果】本発明によれば、材料ロスを低減しなが
ら、高精度に膜厚制御されたコレステリック液晶カラー
フィルタを簡易に製造することができ、透過性、色純度
に優れたカラーフィルタを低コストに提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のカラーフィルタの製造工程を説明す
るための概略工程図である。

【図２】 受像材料を用いた、本発明のカラーフィルタ
の製造工程を説明するための概略工程図である。

【符号の説明】

１，８ 光透過性の基板 １’ 基体 ２ 受像層 ３ 受像材料 ４ 仮支持体 ５ コレステリック液晶層 ７ 転写材料（保護フィルム除去後）

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA64 BB02 BB14 BB42 2H091 FA02Y FC01 FC22 FC29 GA16 LA12 5C094 AA05 AA08 AA10 AA43 AA44 AA46 AA55 BA43 CA24 DA13 EB02 ED03 ED14 FA02 FB01 FB15 GB10

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 仮支持体上に少なくともコレステリック
   液晶層を有する転写材料を光透過性の基板上にラミネー
   トする工程と、 ラミネートした状態で、前記転写材料を画像様に熱印加
   する工程と、 光透過性の基板から転写材料を剥離して前記基板上に必
   要な画像部を形成する工程と、 を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
2. 【請求項２】 仮支持体上に、少なくともコレステリッ
   ク液晶層を有する転写材料の前記コレステリック液晶層
   と、基体上に受像層を有する受像材料の前記受像層と、
   をラミネートする工程と、 ラミネートした状態で、前記転写材料を画像様に熱印加
   する工程と、 受像材料から転写材料を剥離して前記受像層上に必要な
   画像部を形成する工程と、 受像材料に形成された画像を、光透過性の基板上に受像
   層とともに再転写する工程と、 を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
3. 【請求項３】 転写材料が、クッション性層を有する請
   求項１又は２に記載のカラーフィルタの製造方法。
4. 【請求項４】 転写材料が、配向膜を有する請求項１か
   ら３のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
5. 【請求項５】 受像材料が、クッション性層を有する請
   求項２から４のいずれかに記載のカラーフィルタの製造
   方法。
6. 【請求項６】 コレステリック液晶層が、重合性基を有
   するコレステリック液晶化合物と光重合開始剤とを含有
   し、光透過性の基板又は受像層上に必要な画像部を形成
   した後、さらに光照射して光重合させる請求項１から５
   のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
7. 【請求項７】 コレステリック液晶層が、コレステリッ
   ク液晶化合物と重合性モノマーと光重合開始剤とを含有
   し、光透過性の基板又は受像層上に必要な画像部を形成
   した後、さらに光照射して光重合させる請求項１から５
   のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。
8. 【請求項８】 コレステリック液晶層が、重合性基を有
   するコレステリック液晶化合物を含有し、光透過性の基
   板又は受像層上にラミネートした時又は必要な画像部を
   形成した後、さらに加熱処理を施して熱重合させる請求
   項１から５のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方
   法。
9. 【請求項９】 コレステリック液晶層が、コレステリッ
   ク液晶化合物と重合性モノマーとを含有し、光透過性の
   基板又は受像層上にラミネートした時又は必要な画像部
   を形成した後、さらに加熱処理を施して熱重合させる請
   求項１から５のいずれかに記載のカラーフィルタの製造
   方法。
10. 【請求項１０】 コレステリック液晶化合物が、重合性
    基を有する請求項７又は９のいずれかに記載のカラーフ
    ィルタの製造方法。
11. 【請求項１１】 コレステリック液晶層を加熱処理し
    て、該コレステリック液晶層の螺旋ピッチを調整する工
    程を有する請求項１から１０のいずれかに記載のカラー
    フィルタの製造方法。
12. 【請求項１２】 選択反射波長が異なる少なくとも３種
    の転写材料を用い、同一の光透過性の基板又は受像層上
    に、ラミネートする工程と、レーザ露光する工程と、必
    要な画像部を形成する工程と、を順次繰り返す請求項１
    から１１のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方
    法。