JP2001002799A - セルロースエステルフィルム、その製造方法及びそれを用いる偏光板用保護フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 セルロースエステルフィルムの作製にあた
り、ドープへ添加した時に再凝集の発生の少ない微粒子
を提供し、また、微粒子の再凝集の発生を少なくする微
粒子の添加方法を提供する。 【解決手段】 表面に炭素数２〜２０のアルキル基又
はアリール基を有する微粒子を含有するセルロースエ
ステルフィルム、微粒子を溶剤中で予め分散した分散
液を、溶剤とセルロースエステルとの混合液に混合して
得た微粒子添加液を、セルロースエステルを溶剤に溶解
することにより調製されたドープと混合し、支持体上に
流延し、次いで乾燥するセルロースエステルの製造方
法、この方法により作製されたセルロースエステルフィ
ルム及び含有される粒径３０μｍ以上の凝集粒子が１
０個／ｍ²以下であるセルロースエステルフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は特に大画面化に対応
した偏光板保護フィルムに用いて好適なセルロースエス
テルフィルム及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ノートパソコンの開発は薄型軽量
化及び大画面化の方向へ進んでいる。それに伴って、液
晶用偏光板の保護フィルムにも薄膜化と大画面化に対応
することへの要請が強くなってきている。偏光板用保護
フィルムとしては、一般的にセルローストリアセテート
フィルムが広く使用されている。

【０００３】セルローストリアセテートフィルムには滑
り性（耐ブロッキング）の改善や耐傷性の改善のため
に、特開昭６２−３７１１３号公報や特開昭６１−９４
７２５号公報などに記載されている様に種々の粒子等を
含有させたり、塗布したりすることが知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】特開平７−１１０５５
号公報には、上記目的で含有させる微粒子の凝集を改善
するために、表面にメチル基を有する粒子を採用する添
加方法が提案されている。しかしながら、この方法では
大画面化に対応した偏光板保護フィルムとしては不十分
であることがわかった。つまり、この公報に記載されて
いる表面にメチル基を有する微粒子を溶剤に分散し、ド
ープと混合した後、製膜する製造方法では、溶剤中で分
散された微粒子がドープと混合した時に再凝集してしま
うことがわかった。また、この公報に記載されているも
う一つの方法の、表面にメチル基を有する微粒子を溶剤
とセルローストリアセテートの混合溶液に分散し、ドー
プと混合した後、製膜する製造方法では溶剤とセルロー
ストリアセテートの混合液中では微粒子の分散が十分に
行えず、凝集が残ってしまうことがわかった。

【０００５】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、ドープへ添加した時に再凝集の発
生の少ない微粒子を提供し、また、微粒子の再凝集の発
生を少なくする微粒子の添加方法を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 表面に炭素数２〜２０のアルキル基を有する微粒子
を含有するセルロースエステルフィルム、 表面にアリール基を有する微粒子を含有するセルロ
ースエステルフィルム、 微粒子を溶剤中で予め分散した分散液を、溶剤とセ
ルロースエステルとの混合液に混合して得た微粒子添加
液を、セルロースエステルを溶剤に溶解することにより
調製されたドープと混合し、支持体上に流延し、次いで
乾燥するセルロースエステルの製造方法、この方法によ
り作製されたセルロースエステルフィルム、含有される
微粒子が、表面がシリコーンオイルで修飾されたシリカ
微粒子、球状単分散シリカの微粒子、又はポリメチルメ
タクリレートの微粒子であること、、、におい
て、微粒子がケイ素原子を含有する化合物からなるこ
と、フィルムの膜厚が３０〜６０μｍであること、偏光
板用保護フィルムであること、及び 含有される粒径３０μｍ以上の凝集粒子が１０個／ｍ
²以下であるセルロースエステルフィルム、によって達
成される。

【０００７】以下、本発明について詳しく述べる。

【０００８】本発明に用いられるセルロースエステルと
しては、セルロースエステルが低級脂肪酸エステルであ
ることが好ましい。

【０００９】セルロースエステルの低級脂肪酸エステル
における低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を
意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプ
ロピオネート、セルロースブチレート等がセルロースの
低級脂肪酸エステルの好ましい例として挙げられる。

【００１０】また、上記以外にも、特開平１０−４５８
０４号、同０８−２３１７６１号、米国特許第２，３１
９，０５２号等に記載のセルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪
酸エステルを用いることが出来る。

【００１１】中でも特に好ましく用いられるセルロース
の低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテートであ
る。更に、ベース強度の観点から、特に重合度２５０〜
４００、結合酢酸量が５４〜６２．５％が好ましく用い
られ、更に好ましいのは、結合酢酸量が５８〜６２．５
％のセルローストリアセテートである。

【００１２】セルローストリアセテートは綿花リンター
から合成されたセルローストリアセテートと木材パルプ
から合成されたセルローストリアセテートのどちらかを
単独あるいは混合して用いることができる。ベルトやド
ラムからの剥離性がもし問題になれば、ベルトやドラム
からの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルロ
ーストリアセテートを多く使用すれば生産性が高く好ま
しい。木材パルプから合成されたセルローストリアセテ
ートを混合し用いた場合、綿花リンターから合成された
セルローストリアセテートの比率が４０重量％以上で、
剥離性の効果が顕著になるため好ましく、６０重量％以
上がさらに好ましく、単独で使用することが最も好まし
い。

【００１３】本発明は、表面に炭素数２〜２０のアルキ
ル基又はアリール基を有する微粒子を用いることを１つ
の特徴とする。アルキル基は炭素数４〜１２のものがよ
り好ましく、炭素数６〜１０のものが更に好ましい。炭
素数が小さい程、分散性に優れ、炭素数が大きい程、ド
ープと混合した時の再凝集が少ない。

【００１４】本発明に使用される表面に炭素数２〜２０
のアルキル基を有する微粒子やアリール基を有する微粒
子の材料のうち、無機化合物の例として、二酸化ケイ
素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレ
イ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸
カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム
及びリン酸カルシウムを挙げることができる。二酸化ケ
イ素、二酸化チタン及び酸化ジルコニウムが好ましく、
中でもケイ素原子を含有する化合物、特に二酸化ケイ素
が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロ
ジル１３０、アエロジル２００、アエロジル３００（以
上日本アエロジル（株）製）などの商品名で市販されて
いる。また表面がシリコーンオイルで修飾されたシリカ
微粒子、球状単分散シリカの微粒子も好ましく用いられ
る。

【００１５】表面に炭素数２〜２０のアルキル基を有す
る無機化合物の微粒子は、例えば、前記、酸化ケイ素の
微粒子をオクチルシランで処理することにより得ること
ができる。また、表面にオクチル基を有するアエロジル
Ｒ８０５（日本アエロジル（株）製）の商品名で市販さ
れており、使用することができる。

【００１６】表面にフェニル基を有する無機化合物の微
粒子は、例えば、前記、酸化ケイ素の微粒子をトリクロ
ロフェニルシランで処理することにより得ることができ
る。

【００１７】上記表面に炭素数２〜２０のアルキル基を
有する微粒子やフェニル基を有する微粒子の材料のう
ち、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及
びアクリル樹脂を挙げることができ、特にポリメチルメ
タクリレートが好ましい。

【００１８】前述の様に、ケイ素を含有する化合物であ
ることが好ましいが、特に二酸化ケイ素又は三次元の網
状構造を有するシリコーン樹脂であることが好ましく、
二酸化ケイ素が最も好ましい。

【００１９】これらの微粒子はセルロースエステルに対
して０．００５〜０．３重量％で使用されることが好ま
しく、更には０．０１〜０．１重量％である。

【００２０】次に本発明に係る微粒子の添加方法につい
ては、以下の方法が挙げられる。

【００２１】（添加方法Ａ）溶剤と微粒子を攪拌混合し
た後、マントンゴーリーなどの分散機で分散を行う。こ
れを微粒子分散液とする。微粒子分散液をドープ液に加
えて攪拌する。

【００２２】（添加方法Ｂ）溶剤と微粒子を攪拌混合し
た後、マントンゴーリーなどの分散機で分散を行う。こ
れを微粒子分散液とする。別に溶剤に少量のセルロース
エステルを加え、攪拌溶解する。これに前記微粒子分散
液を加えて攪拌する。これを微粒子添加液とする。微粒
子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合す
る。

【００２３】（添加方法Ｃ）溶剤に少量のセルロースエ
ステルを加え、攪拌溶解する。これに微粒子を加えてマ
ントンゴーリーなどの分散機で分散を行う。これを微粒
子添加液とする。微粒子添加液をインラインミキサーで
ドープ液と十分混合する。

【００２４】添加方法Ａは微粒子の分散性に優れるが、
ドープと混合した時に微粒子の再凝集が発生することが
ある。添加方法Ｂは微粒子の分散性に優れ、少量のセル
ロースエステルを溶解した液と混合して微粒子添加液に
してから、ドープと混合するために微粒子再凝集が発生
しない。好ましい添加方法である。添加方法Ｃは少量の
セルロースエステルを溶解した液に微粒子を加えてから
分散するため、微粒子の分散性がやや劣化してしまうこ
とがある。

【００２５】いずれにしろ、本発明に係る微粒子を用い
るか、本発明の微粒子の添加方法を用いることにより、
含有される粒径３０μｍ以上の凝集粒子が１０個／ｍ²
以下の、極めて微粒子の分散性に優れたセルロースエス
テルフィルムを得ることができる。

【００２６】本発明のセルロースエステルフィルムには
可塑剤が含有されるのが好ましい。用いることのできる
可塑剤としては特に限定はないが、リン酸エステル系で
は、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェ
ート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフ
ェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェー
ト、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト等、フタル酸エステル系では、ジエチルフタレート、
ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジ
オクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エ
チルヘキシルフタレート等、グリコール酸エステル系で
は、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチ
ルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、
メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブ
チルグリコレート等を単独あるいは併用するのが好まし
い。リン酸エステル系の可塑剤の使用比率は５０重量％
以下が、セルロースエステルフィルムの加水分解を引き
起こしにくく、耐久性に優れるため好ましい。リン酸エ
ステル系の可塑剤比率は少ない方がさらに好ましく、フ
タル酸エステル系やグリコール酸エステル系の可塑剤だ
けを使用することが特に好ましい。

【００２７】本発明に好ましく用いられる可塑剤として
は凝固点２０℃以下の可塑剤が好ましく、凝固点が２０
℃以下であれば特に限定されず、上記可塑剤の中から選
ぶことができる。例えば、トリクレジルホスフェート、
クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェ
ート、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオ
クチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチ
ルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリル
エチルグリコレート等をあげることができる。これらの
可塑剤を単独あるいは併用するのが好ましい。なおここ
では、共立出版株式会社出版の化学大辞典に記載されて
いる真の凝固点を凝固点としている。

【００２８】これらの可塑剤の使用量は、フィルム性
能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜
１５重量％が好ましい。液晶表示部材用としては、寸法
安定性の観点から１〜１０重量％が更に好ましく、特に
好ましくは、３〜７重量％である。

【００２９】またセルロースエステルに対して凝固点が
２０℃以下の可塑剤の含有量は１重量％〜１０重量％好
ましく、更に好ましくは、３重量％〜７重量％である。
全可塑剤のうち凝固点が２０℃以下の可塑剤の占める割
合は多い方が、セルロースエステルフィルムの柔軟性が
良化し加工性に優れるため好ましい。また、可塑剤の全
てが凝固点２０℃以下の可塑剤であることが最も好まし
い。

【００３０】凝固点が２０℃以下の可塑剤をセルロース
エステルに対して１重量％以上使用することにより、セ
ルロースエステルフィルムの柔軟性が良化し加工性に優
れるため好ましい。１４℃以下の可塑剤を使用すると加
工性がさらに良く好ましい。なお加工性とはベースフィ
ルムや液晶表示部材をスリット加工や打ち抜き加工する
際のことで、加工性が悪いと切断面がノコギリ状になり
切り屑が発生し、製品に付着して欠陥となるため好まし
くない。

【００３１】また紫外線吸収剤が含有されてもよい。紫
外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェ
ノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル
酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ
アクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉
体などが挙げられ、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
が好ましく用いられる。以下に具体例を示すが、これら
に限定されない。

【００３２】ＵＶ−１： ２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール ＵＶ−２： ２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−３： ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−
メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール ＵＶ−４： ２−（２−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール ＵＶ−５： ２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，
６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−６： ２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）フェノール） ＵＶ−７： ２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン ＵＶ−８： ２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン ＵＶ−９： ２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェ
ノン ＵＶ−１０： ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル
フェニルメタン） 本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤
は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果
に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフ
ェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少
ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好まし
い。

【００３３】紫外線吸収剤の添加方法としては、アルコ
ールやメチレンクロライド、ジオキソランなどの有機溶
剤に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、
または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体の
ように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロ
ースエステル中にディゾルバーやサンドミルを使用し、
分散してからドープに添加する。

【００３４】紫外線吸収剤の使用量は化合物の種類、使
用条件などにより一様ではないが、通常はセルロースエ
ステルフィルム１ｍ²当り、０．２ｇ〜２．０ｇが好ま
しく、０．４ｇ〜１．５ｇがさらに好ましく、０．６ｇ
〜１．０ｇが特に好ましい。

【００３５】本発明のセルロースエステルフィルムは、
液晶表示用部材に用いられるのが好ましい。液晶表示用
部材とは液晶表示装置に使用される部材のことで、例え
ば、偏光板、偏光板用保護フィルム、位相差板、反射
板、視野角向上フィルム、防眩フィルム、無反射フィル
ム、帯電防止フィルム等があげられる。上記の中でも、
寸法安定性に対しても厳しい要求のある偏光板、偏光板
用保護フィルムにおいて、本発明のセルロースエステル
フィルムは特に好適に用いられる。

【００３６】偏光板は、一般的な方法で作製することが
できる。例えば、本発明のセルロースエステルフィルム
をアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した
偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水
溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリケン化
処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良くし、接着
性を向上させるために、セルロースエステルフィルムを
高温の強アルカリ液中に浸ける処理のことをいう。

【００３７】アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９
１５号、同６−１１８２３２号に記載されているような
接着性を高める方法を使用しても良い。

【００３８】偏光板の主たる構成要素である偏光膜と
は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在
知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール
系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィ
ルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させ
たものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液
を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した
後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性
処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に
本発明の偏光板用保護フィルムである透明なプラスチッ
クフィルムが張り合わされて偏光板を形成する。

【００３９】本発明のセルロースエステルフィルムの製
造方法について説明する。

【００４０】本発明において、セルロースエステルが溶
解しているドープ液とは、セルロースエステルが溶剤
（溶媒）に溶解している状態であり、前記ドープ液に
は、可塑剤等の添加剤を加えてもよく、勿論、必要によ
りこの他の添加剤を加えることも出来る。ドープ液中の
セルロースエステルの濃度としては、１０〜３０重量％
が好ましく、更に好ましくは、１８〜２０重量％であ
る。

【００４１】本発明で用いられる溶剤は、単独でも併用
でもよいが、良溶剤と貧溶剤を混合して使用すること
が、生産効率の点で好ましく、更に好ましくは、良溶剤
と貧溶剤の混合比率は良溶剤が７０〜９５重量％であ
り、貧溶剤が３０〜５重量％である。

【００４２】本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤とは、
使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良
溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤
と定義している。そのため、セルロースエステルの結合
酢酸量によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばア
セトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステ
ルの結合酢酸量５５％では良溶剤になり、結合酢酸量６
０％では貧溶剤となってしまう。

【００４３】本発明に用いられる良溶剤としては、メチ
レンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン
類が挙げられる。また、本発明に用いられる貧溶剤とし
ては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノー
ル、シクロヘキサン等が好ましく用いられる。

【００４４】ドープ液を調製する時の、セルロースエス
テルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることが
できるが、好ましい方法としては、セルロースエステル
を貧溶剤と混合し、湿潤あるいは膨潤させ、さらに良溶
剤と混合する方法が好ましく用いられる。このとき加圧
下で、溶剤の常温での沸点以上でかつ溶剤が沸騰しない
範囲の温度で加熱し、撹拌しながら溶解する方法が、ゲ
ルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するた
め、より好ましい。

【００４５】本発明において、セルロースエステルの溶
解に使用する加圧容器の種類は特に問うところではな
く、所定の圧力に耐えることができ、加圧下で加熱、撹
拌ができればよい。加圧容器はそのほか圧力計、温度計
などの計器類を適宜配設する。加圧は窒素ガスなどの不
活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の
上昇によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが
好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コント
ロールが容易で好ましい。

【００４６】溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の
沸点以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ま
しく例えば４０℃以上、５０〜１１０℃の範囲に設定す
るのが好適である。又、圧力は設定温度で、溶剤が沸騰
しないように調整される。

【００４７】溶解後は冷却しながら容器から取り出す
か、または容器からポンプ等で抜き出して熱交換器など
で冷却し、これを製膜に供する。このときの冷却温度は
常温まで冷却してもよいが、沸点より５〜１０℃低い温
度まで冷却し、その温度のままキャスティングを行うほ
うが、ドープ粘度を低減できるためより好ましい。

【００４８】本発明においては、セルロースエステルを
溶剤に溶解させたドープ液と、微粒子や紫外線吸収剤な
どと少量のセルロースエステルが溶解している溶液がイ
ンラインで添加、混合され、次いで、支持体上に流延
（キャスト工程）し、加熱して溶剤の一部を除去（支持
体上乾燥工程）した後、支持体から剥離し、剥離したフ
ィルムを乾燥（フィルム乾燥工程）し、本発明のセルロ
ースエステルフィルムが得られる。

【００４９】キャスト工程における支持体はベルト状も
しくはドラム状のステンレスを鏡面仕上げした支持体が
好ましく用いられる。キャスト工程の支持体の温度は一
般的な温度範囲０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、流延す
ることができるが、０〜３０℃の支持体上に流延するほ
うが、ドープをゲル化させ剥離限界時間をあげられるた
め好ましく、５〜１５℃の支持体上に流延することがさ
らに好ましい。剥離限界時間とは透明で平面性の良好な
フィルムを連続的に得られる流延速度の限界において、
流延されたドープが支持体上にある時間をいう。剥離限
界時間は短い方が生産性に優れていて好ましい。

【００５０】流延（キャスト）される側の支持体の表面
温度は、１０〜５５℃、溶液の温度は、２５〜６０℃、
更に溶液の温度を支持体の温度より０℃以上高くするの
が好ましく、５℃以上に設定するのが更に好ましい。溶
液温度、支持体温度は、高いほど溶媒の乾燥速度が速く
できるので好ましいが、あまり高すぎると発泡したり、
平面性が劣化する場合がある。

【００５１】支持体の温度の更に好ましい範囲は、２０
〜４０℃、溶液温度の更に好ましい範囲は、３５〜４５
℃である。

【００５２】また、剥離する際の支持体温度を１０〜４
０℃、更に好ましくは、１５〜３０℃にすることでフィ
ルムと支持体との密着力を低減できるので、好ましい。

【００５３】製造時のセルロースエステルフィルムが良
好な平面性を示すためには、支持体から剥離する際の残
留溶媒量は、１０〜８０％が好ましく、更に好ましく
は、２０〜４０％または６０〜８０％であり、特に好ま
しくは、２０〜３０％である。

【００５４】本発明においては、残留溶媒量は下記式で
定義される。

【００５５】残留溶媒量＝（加熱処理前重量−加熱処理
後の重量）×１００／（加熱処理後重量）％ 尚、残留溶媒量を測定する最の、加熱処理とは、フィル
ムを１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。

【００５６】支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力
は、通常２０〜２５ｋｇ／ｍで剥離が行われるが、薄膜
化されている場合のセルロースエステルフィルムは、剥
離の際にシワが入りやすいため、剥離できる最低張力〜
１７ｋｇ／ｍで剥離することが好ましく、更に好ましく
は、最低張力〜１４ｋｇ／ｍで剥離することである。

【００５７】また、セルロースエステルフィルムの乾燥
工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾
燥し、残留溶媒量を３重量％以下にすることが好まし
く、更に好ましくは、０．５重量％以下である。

【００５８】フィルム乾燥工程では一般にロール懸垂方
式か、ピンテンター方式でフィルムを搬送しながら乾燥
する方式が採られる。液晶表示部材用としては、ピンテ
ンター方式で幅を保持しながら乾燥させることが、寸法
安定性を向上させるために好ましい。特に支持体より剥
離した直後の残留溶媒量の多いところで幅保持を行うこ
とが、寸法安定性向上効果をより発揮するため特に好ま
しい。フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく、一般
的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。
簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は４０
〜１５０℃の範囲で３〜５段階の温度に分けて、段々高
くしていくことが好ましく、８０〜１４０℃の範囲で行
うことが寸法安定性を良くするためさらに好ましい。

【００５９】セルロースエステルフィルムの膜厚が薄す
ぎると、偏光板の保護フィルムとしての強度が不足し、
偏光板の寸法安定性や湿熱での保存安定性が悪化する。
膜厚が厚いと偏光板が厚くなり、液晶ディスプレイの薄
膜化が困難になる。これらを両立するセルロースエステ
ルフィルムの膜厚は２０〜６０μｍで、好ましくは３０
〜５０μｍ、更に好ましくは３５〜４５μｍであり、最
も好ましいのは４０μｍである。

【００６０】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明の説明を行う
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００６１】実施例１ 以下に述べる様にして各試料を作製した。

【００６２】 試料１ （ドープ液の作製） セルローストリアセテート １００重量部 エチルフタリルエチルグリコレート ５重量部 ２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５ −クロロベンゾトリアゾール １重量部 メチレンクロライド ４７５重量部 エタノール ５０重量部 以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全
に溶解し、濾過し、ドープ液を調製した。

【００６３】 （微粒子分散液Ａの作製） アエロジルＲ８０５（日本アエロジル（株）製） １０重量部 エタノール ９０重量部 以上をディゾルバーで十分攪拌混合した後、マントンゴ
ーリーで分散を行った。

【００６４】（微粒子添加液Ａの作製）微粒子分散液Ａ
にメチレンクロライドを９０重量部加えて攪拌し、微粒
子添加液を調製した。

【００６５】上記で調製したドープ液１００重量部に対
して、微粒子添加液Ａを０．２５重量部の割合で加えて
攪拌し、濾過した。次いで、ベルト流延装置を用い、ド
ープと微粒子添加液Ａの混合液を温度３３℃、１５００
ｍｍ幅でステンレスバンド支持体上に均一に流延した。
ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が２５％になる
まで溶媒を蒸発させ、剥離張力１３ｋｇ／ｍでステンレ
スバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースト
リアセテートフィルムを１３００ｍｍにスリットし、そ
の後、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥
を終了させ、１１００ｍｍ幅にスリットし、膜厚４０μ
ｍのセルローストリアセテートフィルムの試料１を得
た。

【００６６】セルローストリアセテートフィルムの試料
１を以下の方法でアルカリケン化処理し、偏光板を作製
した。出来上がった偏光板の厚さは１２０μｍであっ
た。一般的な偏光板に比べて、２／３の厚さの薄型軽量
化に対応した偏光板が作製出来た。

【００６７】（アルカリケン化処理） ケン化工程 ２Ｎ−ＮａＯＨ ５０℃ ９０秒 水洗工程 水 ３０℃ ４５秒 中和工程 １０ｗｔ％ＨＣｌ ３０℃ ４５秒 水洗工程 水 ３０℃ ４５秒 上記の条件でセルローストリアセテートフィルムをケン
化→水洗→中和→水洗の順に処理し、ついで８０℃で乾
燥を行った。

【００６８】（偏光板の作製）厚さ１２０μｍのポリビ
ニルアルコールフィルムを、沃素１重量部、ホウ酸４重
量部を含む水溶液１００重量部に浸漬し５０℃で６倍に
延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の両面にアルカリ
ケン化処理を行ったセルローストリアセテートフィルム
試料を完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を
粘着剤として各々貼り合わせ偏光板を作製した。

【００６９】試料２ 酸化ケイ素の微粒子アエロジル２００Ｖ（日本アエロジ
ル（株）製）をトリクロロフェニルシランで処理し、表
面にフェニル基を有する酸化ケイ素の微粒子を作製し
た。試料１の微粒子を上記の表面にフェニル基を有する
酸化ケイ素微粒子にかえた以外は同様にして試料２を作
製した。

【００７０】試料３ 試料１の微粒子をアエロジルＲ９７２（日本アエロジル
（株）製）にかえた以外は同様にして試料３を作製し
た。

【００７１】 試料４ （微粒子添加液Ｂの作製） セルローストリアセテート ６重量部 メチレンクロライド １４０重量部 以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全
に溶解し、濾過した。これに試料１で用いた微粒子分散
液Ａ２０重量部を攪拌しながら加えて、さらに３０分間
攪拌した後、濾過し、微粒子添加液Ｂを調製した。

【００７２】微粒子添加液Ｂを試料１と同様のドープ液
１００重量部に対して２重量部の割合で加えてインライ
ンミキサー（東レ静止型管内混合機 Ｈｉ−Ｍｉｘｅ
ｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、濾過した。次いで、ベルト
流延装置を用い、ドープと微粒子添加液の混合液を温度
３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスバンド支持体上に
均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒
量が２５％なるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１３ｋｇ
／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離し
たセルローストリアセテートフィルムを１３００ｍｍ幅
にスリットし、その後、乾燥ゾーンを多数のロールで搬
送させながら乾燥を終了させ、１１００ｍｍ幅にスリッ
トし、膜厚４０μｍのセルローストリアセテートフィル
ムの試料４を得た。

【００７３】試料５ 試料４のセルローストリアセテートフィルムの膜厚を８
０μｍに変えた以外は同様にして試料５を作製した。

【００７４】試料６ 試料４の微粒子をアエロジル２００Ｖ（日本アエロジル
（株）製）に変えた以外は同様にして試料６を作製し
た。

【００７５】試料７ 試料４の微粒子をアエロジルＲ９７２（日本アエロジル
（株）製）に変えた以外は同様にして試料７を作製し
た。

【００７６】試料８ 試料４の微粒子をアエロジルＲ２０２（日本アエロジル
（株）製）に変えた以外は同様にして試料８を作製し
た。

【００７７】試料９ 試料４の微粒子を球状単分散シリカ微粒子ＫＥ−Ｐ３０
（平均１次粒子径３．０μｍ、日本触媒（株）製）に変
えた以外は同様にして試料９を作製した。

【００７８】試料１０ 試料４の微粒子をポリメチルメタクリレート微粒子ＭＸ
−１５０（平均１次粒子径１．５μｍ、綜研科学（株）
製）に変えた以外は同様にして試料１０を作製した。

【００７９】 試料１１ （微粒子分散液Ｃの作製） セルローストリアセテート ３重量部 メチレンクロライド ８０重量部 エタノール ２０重量部 以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全
に溶解し、濾過した。これに二酸化ケイ素の微粒子アエ
ロジルＲ９７２（日本アエロジル（株）製）０．５重量
部を加えて、分散機で分散し、濾過して微粒子分散液Ｃ
を調製した。

【００８０】試料４の微粒子添加液Ｂにかえて上記微粒
子分散液Ｃをドープ液１００重量部に対して２．７重量
部の割合で加えた以外は試料４と同様にして試料１１を
作製した。

【００８１】試料１２ 試料１の微粒子添加液Ａを添加しなかった以外は同様に
して試料１２を作製した。

【００８２】（分散粒子の平均粒子径の測定）走査型電
子顕微鏡（倍率３０００倍）で粒子を観察し、粒子に外
接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変え
て粒子１００個を観察し、その平均値をもって、平均粒
径とした。

【００８３】（動摩擦係数の測定）フィルム表面と裏面
間の動摩擦係数(μ)について、ＪＩＳ−Ｋ−７１２５
（１９８７）に準じ、フィルムの表裏面が接触するよう
に切り出し、２００ｇのおもりを載せ、サンプル移動速
度１００ｍｍ／分、接触面積８０ｍｍ×２００ｍｍの条
件で重りを水平に引っ張り、重りが移動中の平均荷重
（Ｆ）を測定し、下記式より求めた。

【００８４】 動摩擦係数＝Ｆ(ｇｆ)／おもりの重さ(ｇｆ） （ヘイズの測定）フィルム試料３枚を重ね合わせて、Ａ
ＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って測定した。

【００８５】（凝集物の測定）得られたフィルム１ｍ^２
上に存在する３０μｍ以上の凝集物の数を数えて求め
た。

【００８６】以上の結果を表１に示す。

【００８７】

【表１】

【００８８】

【発明の効果】本発明によれば、機械的強度且つ光学特
性に優れ、大画面化に対応した偏光板保護フィルムに用
いて好適なセルロースエステルフィルムを得ることがで
きる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上田 裕子 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 立花 範幾 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 Ｆターム(参考） 4F071 AA09 AA33 AA67 AB26 AD02 AH12 BB02 BC01 BC12 4F205 AA01 AA21 AA33 AB17 AB19 AC05 AG01 AH73 AR12 GA07 GB02 GC06 GE02 GE22 GF01 GF02 GF24 GN22 GN24 4J002 AB021 BD122 BG062 CP032 DE096 DE136 DE146 DE236 DJ006 DJ016 DJ036 DJ046 FB266 GQ00 HA05

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に炭素数２〜２０のアルキル基を有
   する微粒子を含有することを特徴とするセルロースエス
   テルフィルム。
2. 【請求項２】 表面にアリール基を有する微粒子を含有
   することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
3. 【請求項３】 微粒子を溶剤中で予め分散した分散液
   を、溶剤とセルロースエステルとの混合液に混合して得
   た微粒子添加液を、セルロースエステルを溶剤に溶解す
   ることにより調製されたドープと混合し、支持体上に流
   延し、次いで乾燥することを特徴とするセルロースエス
   テルの製造方法。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の方法により作製された
   ことを特徴とするセルロースエステルフィルム。
5. 【請求項５】 含有される微粒子が、表面がシリコーン
   オイルで修飾されたシリカ微粒子であることを特徴とす
   る請求項４に記載のセルロースエステルフィルム。
6. 【請求項６】 含有される微粒子が球状単分散シリカの
   微粒子であることを特徴とする請求項４に記載のセルロ
   ースエステルフィルム。
7. 【請求項７】 含有される微粒子がポリメチルメタクリ
   レートの微粒子であることを特徴とする請求項４に記載
   のセルロースエステルフィルム。
8. 【請求項８】 微粒子がケイ素原子を含有する化合物か
   らなることを特徴とする請求項１、２又は４に記載のセ
   ルロースエステルフィルム。
9. 【請求項９】 膜厚が３０〜６０μｍであることを特徴
   とする請求項１、２、４、５、６、７又は８に記載のセ
   ルロースエステルフィルム。
10. 【請求項１０】 請求項１、２、４、５、６、７、８又
    は９に記載のセルロースエステルフィルムからなること
    を特徴とする偏光板用保護フィルム。
11. 【請求項１１】 含有される粒径３０μｍ以上の凝集粒
    子が１０個／ｍ²以下であることを特徴とするセルロー
    スエステルフィルム。