JP2001001662A - Offset printing method - Google Patents
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Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、一般軽印刷分野、
とくにオフセット印刷、とりわけ簡易に印刷版を製作で
きる新規なオフセット印刷方法及び印刷原板に関するも
のである。その中でもとくに製版工程の簡易性と耐刷性
を両立させて、しかも印刷汚れの少ないオフセット印刷
方法及び印刷用原板に関するものである。The present invention relates to the field of general light printing,
In particular, the present invention relates to offset printing, and particularly to a novel offset printing method and a printing original plate that can easily produce a printing plate. In particular, the present invention relates to an offset printing method and an original plate for printing in which simplicity of a plate making process and printing durability are compatible, and in which printing smear is reduced.
【0002】[0002]
【従来の技術】オフセット印刷法は、数多くの印刷方法
の中でも印刷版の製作工程が簡単であるために、とくに
一般的に用いられてきており、現在の主要な印刷手段と
なっている。この印刷技術は、油と水の非混和性に基づ
いており、画像領域には油性材料つまりインキが、非画
像領域には湿し水が選択的に保持される。したがって印
刷される面と直接あるいはブランケットと称する中間体
を介して間接的に接触させると画像部のインキが転写さ
れて印刷が行われる。2. Description of the Related Art The offset printing method has been used particularly commonly because of a simple printing plate manufacturing process among many printing methods, and is the main printing method at present. This printing technique is based on the immiscibility of oil and water, with the image areas selectively retaining oily material or ink and the non-image areas selectively retaining fountain solution. Therefore, when the surface to be printed is brought into direct contact with the surface to be printed or indirectly through an intermediate called a blanket, the ink in the image area is transferred and printing is performed.
【0003】オフセット印刷の主な方法は、アルミニウ
ム基板を支持体としてその上にジアゾ感光層を塗設した
PS板である。PS板においては、支持体であるアルミ
ニウム基板の表面に砂目立て、陽極酸化、その他の諸処
理を施して画像領域のインキ受容能と非画像部のインキ
反発性を強め、耐刷力を向上させ、印刷面の精細化を図
るなどを行い、その表面に印刷用画像を形成させる。し
たがってオフセット印刷は、簡易性に加えて耐刷力や印
刷面の高精細性などの特性も備わってきている。The main method of offset printing is a PS plate having an aluminum substrate as a support and a diazo photosensitive layer provided thereon. In the PS plate, the surface of the aluminum substrate, which is the support, is subjected to graining, anodic oxidation, and other treatments to enhance the ink receiving capacity of the image area and the ink repulsion of the non-image area, thereby improving the printing durability. Then, the printing surface is made finer, and a printing image is formed on the surface. Therefore, offset printing has been provided with characteristics such as printing durability and high definition of a printing surface in addition to simplicity.
【0004】高精細化によってオフセット印刷法の利用
が拡がって一般印刷分野に普及する一方において、オフ
セット印刷法の一層の簡易化が要望され、数多くの簡易
印刷方法が提案されている。While the use of the offset printing method has been widespread and spread in the general printing field due to higher definition, further simplification of the offset printing method has been demanded, and many simple printing methods have been proposed.
【0005】上記の背景から、画像露光を行ったのちの
アルカリ現像液による現像工程を省略した簡易印刷版の
製作方法の開発が行われてきた。現像工程を省略できる
ことから無処理刷版とも呼ばれるこの簡易印刷版の技術
分野では、これまでに主として像様露光による画像記
録面上の照射部の熱破壊による像形成、像様露光によ
る照射部の親油性化による画像形成、同じく照射部の
親油性化であるが、光モード硬化によるもの、ジアゾ
化合物の光分解による表面性質の変化、画像部のヒー
トモード溶融熱転写などの諸原理に基づく手段が提案さ
れている。[0005] From the above background, there has been developed a method of manufacturing a simple printing plate in which a developing step using an alkali developing solution after image exposure is omitted. In the technical field of this simple printing plate, which is also called an unprocessed printing plate because the development step can be omitted, the image formation by thermal destruction of the irradiated portion on the image recording surface mainly by imagewise exposure, Image formation by lipophilicity and lipophilicity of the irradiated part are also based on various principles such as photo-mode curing, changes in surface properties due to photolysis of diazo compounds, and heat mode fusion thermal transfer of image areas. Proposed.
【0006】上記のように、製版に際して現像液を必要
としない簡易な印刷方法が数多く考案されているが、親
油性領域と親水性領域との差異が不十分であること、し
たがって印刷画像の画質が劣ること、解像力が劣り、鮮
鋭度の優れた印刷画面が得にくいこと、画像面の機械的
強度が不十分で傷がつきやすいこと、そのために保護膜
を設けるなどによって却って簡易性が損なわれること、
長時間の印刷に耐える耐久性が不十分なことなどのいず
れか一つ以上の欠点を伴っていて、単にアルカリ現像工
程を無くすだけでは実用性は伴わないことを示してい
る。印刷上必要とされる諸特性を具備し、かつ簡易に印
刷版を製作できる印刷版作成方法への強い要望は、上記
の数々の改良にも係わらず、いまだに十分に満たされて
いない。As described above, many simple printing methods which do not require a developing solution for plate making have been devised, but the difference between the lipophilic region and the hydrophilic region is insufficient, and therefore the image quality of the printed image is poor. Is poor, the resolution is poor, it is difficult to obtain a printed screen with excellent sharpness, the mechanical strength of the image surface is insufficient and it is easily scratched, and the simplicity is impaired by providing a protective film on the contrary. thing,
It is accompanied by at least one of the drawbacks, such as insufficient durability to withstand long-time printing, and indicates that simply eliminating the alkali development step does not involve practicality. In spite of the above-mentioned many improvements, a strong demand for a printing plate preparation method that has various characteristics required for printing and can easily produce a printing plate has not been sufficiently satisfied.
【0007】上記した無処理型印刷版の技術開発の一つ
として、ジルコニアセラミックが光照射によって親水性
化することを利用した印刷版作製方法が特開平9−16
9098号で開示されている。しかし、ジルコニアの光
感度は不十分であり、かつ疎水性から親水性への光変換
効果が不十分のため画像部と非画像部の識別性が不足し
ており、とくに耐刷性が求められていることに対して市
場の要請に十分に応えられてなく、無処理による簡易化
の課題を解決するに至っていない。As one of the technical developments of the above-mentioned non-processing type printing plate, a printing plate manufacturing method utilizing the fact that zirconia ceramics are made hydrophilic by light irradiation is disclosed in JP-A-9-16.
No. 9098. However, the light sensitivity of zirconia is insufficient, and the discriminability between the image area and the non-image area is insufficient due to the insufficient light conversion effect from hydrophobicity to hydrophilicity, and especially printing durability is required. However, it has not sufficiently responded to the demands of the market, and has not solved the problem of simplification due to no processing.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】このような状況に対し
て、本発明者は光の作用によって、又は熱の作用によっ
て表面の疎水性や親水性の程度が変化する現象を見いだ
して、この性質を利用した現像を必要としない簡易性を
向上させた印刷方式を考案した。しかしながら、簡易性
と、画像部と非画像部の識別性と、さらに耐刷性をとも
に満足する印刷方式への市場の要請は極めて強く、とく
に耐刷性の一層の向上が望まれている。Under such circumstances, the present inventor has found a phenomenon in which the degree of hydrophobicity or hydrophilicity of the surface is changed by the action of light or by the action of heat. We have devised a printing method with improved simplicity that does not require development using. However, there is a strong demand in the market for a printing method that satisfies both simplicity, discrimination between an image portion and a non-image portion, and furthermore, printing durability. In particular, further improvement in printing durability is desired.
【0009】本発明が解決しようとしている課題は、上
記事情に鑑みて現像液を用いない簡易製版適性と、印刷
面の画像部と非画像部の識別性に裏打ちされた印刷画質
と、十分な耐刷性をともに満たしたオフセット印刷方法
を提供することである。さらに印刷原板を反復再使用で
きるオフセット印刷方法を提供することも課題としてい
る。[0009] In view of the above circumstances, the problem to be solved by the present invention is to provide a simple plate making suitability without using a developing solution and a sufficient print quality supported by the discrimination between the image area and the non-image area on the printing surface. An object of the present invention is to provide an offset printing method satisfying both printing durability. Another object of the present invention is to provide an offset printing method capable of repeatedly reusing a printing plate.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明者は、光又は熱の
作用によって表面の疎水性や親水性の程度が変化する現
象を利用した前記の簡易印刷方法の識別性と耐刷性のさ
らなる向上手段を鋭意検討した。その結果、像様親水性
領域にのみ金属膜の電着生成を行って版面の電着領域を
補強することに成功し、簡易性、識別性及び耐刷性をと
もに向上させるという本発明の目的が満たされることを
見いだすに至った。SUMMARY OF THE INVENTION The present inventor has further developed the discrimination and printing durability of the above simple printing method utilizing the phenomenon that the degree of hydrophobicity or hydrophilicity of the surface is changed by the action of light or heat. The means of improvement were studied diligently. As a result, the object of the present invention is to succeed in reinforcing the electrodeposited area of the plate surface by performing electrodeposition of the metal film only on the imagewise hydrophilic area and improving both simplicity, discrimination and printing durability. Has been found to be satisfied.
【0011】本発明は、光照射することで表面が親水性
となる特性を有する金属酸化物及び/又は高温親水性発
現特性を有する金属酸化物を表面に有する印刷用原板を
有機化合物と接触させるか、又は疎水性発現温度に加熱
することによって、該原板表面を疎水性とし、次いで該
表面を像様に光照射するか又は高温親水性発現温度で像
様に加熱することにより該照射部又は加熱部を親水性に
変えて、疎水性領域と親水性領域の像様分布を形成し、
該像様分布を有する印刷用原板上に水溶性金属化合物
と還元性化合物とを含有し、還元性化合物の酸化電位が
水溶性金属化合物の還元電位よりも卑(低電位)である
ように調製した無電解メッキ用水溶液を接触させて、無
電解メッキによって、該印刷用原板上の親水性領域であ
って、かつ金属析出核を表面に有する該親水性領域に金
属薄層を像様に形成させ、さらに、該疎水性領域に親水
性化処理を施し、該印刷用原板をインキと接触させるこ
とによって該金属薄層を有する領域にインキを受け入れ
た印刷面を形成させ、印刷を行うことを特徴とするオフ
セット印刷方法である。According to the present invention, a printing plate having on its surface a metal oxide having a property of making the surface hydrophilic by light irradiation and / or a metal oxide having a high-temperature hydrophilicity developing property is brought into contact with an organic compound. Or, by heating to the temperature at which hydrophobicity is exhibited, the surface of the original plate is rendered hydrophobic, and then the surface is irradiated with light imagewise or heated imagewise at a high temperature at which hydrophilicity is exhibited, or the irradiated portion or Change the heating section to hydrophilic, form an image-like distribution of hydrophobic areas and hydrophilic areas,
A water-soluble metal compound and a reducing compound are contained on a printing plate having the image-like distribution, and the oxidation potential of the reducing compound is adjusted to be lower (lower potential) than the reduction potential of the water-soluble metal compound. The resulting aqueous solution for electroless plating is brought into contact with the aqueous solution for electroless plating, and a thin metal layer is formed imagewise by electroless plating on the hydrophilic region on the printing original plate and the hydrophilic region having metal deposition nuclei on the surface. Further, the hydrophobic area is subjected to a hydrophilic treatment, and the printing original plate is brought into contact with ink to form a printing surface receiving the ink in the area having the thin metal layer, and printing is performed. This is a characteristic offset printing method.
【0012】本発明の好ましい態様は、以下の通りであ
る。 1.像様分布を形成後、親水性領域の印刷用原板上に金
属析出核を設けたのちに該無電解メッキ用水溶液を基板
と接触させることを特徴とするオフセット印刷方法。 2.印刷用原板が光触媒能を有しており、該印刷用原板
の表面を疎水性としたのち、活性光で像様照射を行うこ
とにより、該原板表面に像様の親水性領域を形成するこ
とを特徴とするオフセット印刷方法。Preferred embodiments of the present invention are as follows. 1. An offset printing method, comprising: after forming an image-like distribution, providing a metal precipitation nucleus on a printing original plate in a hydrophilic region, and then bringing the aqueous solution for electroless plating into contact with a substrate. 2. The printing plate has photocatalytic activity, and after making the surface of the printing plate hydrophobic, imagewise irradiation with active light is performed to form an image-like hydrophilic region on the surface of the printing plate. Offset printing method characterized by the above-mentioned.
【0013】3.印刷用原板表面の疎水性発現温度が5
0〜250℃であって、該印刷用原板表面を疎水性発現
温度で加熱して疎水性化することを特徴とするオフセッ
ト印刷方法。3. The temperature at which the surface of the printing plate becomes hydrophobic
An offset printing method at 0 to 250 [deg.] C., wherein the surface of the printing original plate is heated at a temperature for expressing hydrophobicity to make the surface hydrophobic.
【0014】4.印刷用原板の表面が、周期律表の第3
〜6周期に属していて、かつ0及びVII A族(ハロゲン
元素)族以外の元素から選ばれる金属の酸化物からなる
群の少なくとも一つによって構成されていることを特徴
とするオフセット印刷方法。4. The surface of the printing plate is the third in the periodic table
An offset printing method characterized by comprising at least one of the group consisting of oxides of metals selected from elements other than Group 0 and Group VIIA (halogen element), which belong to ~ 6 cycles.
【0015】5.印刷用原板の表面が、TiO2 、RTiO
3(Rはアルカリ土類金属原子)、AB2-x Cx D3-x Ex O
10(Aは水素原子又はアルカリ金属原子、Bはアルカリ
土類金属原子又は鉛原子、Cは希土類原子、Dは周期律
表の5A族元素に属する金属原子、Eは同じく4A族元
素に属する金属原子、xは0〜2の任意の数値を表
す)、SnO2 ,GeO2 ,SiO2 ,Bi2O3 ,A
l2O3 ,ZnO及びFeO x (x=1〜1.5)から
選ばれる金属酸化物の少なくとも一つによって構成され
ていることを特徴とするオフセット印刷方法。[0015] 5. The surface of the printing plate is made of TiOTwo, RTiO
Three(R is an alkaline earth metal atom), AB2-xCxD3-xExO
Ten(A is a hydrogen atom or an alkali metal atom, B is an alkali
Earth metal or lead, C is rare earth, D is periodic
A metal atom belonging to the 5A group element in the table, E is also a 4A group element
X represents an arbitrary numerical value from 0 to 2
), SnOTwo, GeOTwo, SiOTwo, BiTwoOThree, A
lTwoOThree, ZnO and FeO x(X = 1 to 1.5)
Constituted by at least one of the selected metal oxides
Offset printing method characterized in that:
【0016】6.印刷用原板表面の疎水性化が、有機化
合物気体含有雰囲気への印刷用原板の暴露、液状有機化
合物又は有機化合物含有液体の印刷用原板上への塗布又
は噴霧及び印刷用原板の液状有機化合物又は有機化合物
含有液体への浸漬のいずれかによって行われることを特
徴とするオフセット印刷方法。6. Hydrophobicization of the printing original plate surface is performed by exposing the printing original plate to an atmosphere containing an organic compound gas, applying or spraying a liquid organic compound or a liquid containing an organic compound onto the printing original plate, and applying a liquid organic compound to the printing original plate or An offset printing method, which is performed by immersion in an organic compound-containing liquid.
【0017】7.有機化合物が、温度20℃において少
なくとも10mmHg以上の蒸気圧を有する有機化合物
であることを特徴とするオフセット印刷方法。[7] An offset printing method, wherein the organic compound is an organic compound having a vapor pressure of at least 10 mmHg at a temperature of 20 ° C.
【0018】8.有機化合物が、温度20℃においてエ
タノール、アセトン、ベンゾール及び2,2,4−トリ
メチルペンタンから選ばれる少なくとも一つの有機溶剤
に少なくとも5wt%溶解する有機化合物であることを
特徴とするオフセット印刷方法。[8] An offset printing method, characterized in that the organic compound is an organic compound that dissolves in at least 5 wt% in at least one organic solvent selected from ethanol, acetone, benzol and 2,2,4-trimethylpentane at a temperature of 20 ° C.
【0019】9.印刷用原板表面の疎水性領域を印刷に
先立って親水性化させる手段が、活性光による照射及び
疎水性領域の洗浄から選ばれる手段であることを特徴と
するオフセット印刷方法。9. An offset printing method, characterized in that the means for making the hydrophobic area on the surface of the printing original plate hydrophilic before printing is a means selected from irradiation with active light and washing of the hydrophobic area.
【0020】10.印刷用原板を印刷機に装着した状態
で、該印刷用原板から印刷版を製作して印刷を行うこと
を特徴とするオフセット印刷方法。[10] An offset printing method, wherein a printing plate is manufactured from the printing plate and printing is performed with the printing plate mounted on a printing press.
【0021】本発明において、「光照射することで表面
が親水性となる特性を有する金属酸化物」(以下、「光
触媒能を有する金属酸化物」ともいう。)において、光
照射とは、その光触媒能を有する金属酸化物の表面を親
水性に変化させる特定波長の光乃至それを含む光を照射
する意味であり、光触媒能を有する金属酸化物とは、た
とえば酸化チタンのように、その物質の表面に該光照射
するとその表面が親水性に変化するという光物性変化を
行う物質である。また、このようなこの光物性変化を引
き起こす特定波長の光を「活性光」と呼んでいる。In the present invention, the term “metal oxide having a property that its surface becomes hydrophilic by light irradiation” (hereinafter, also referred to as “metal oxide having photocatalytic ability”) is defined as the light irradiation. Light of a specific wavelength that changes the surface of a metal oxide having photocatalytic activity to hydrophilicity or light containing the same is irradiated, and a metal oxide having photocatalytic activity is a substance such as titanium oxide, for example. Is a substance that changes optical properties such that when the surface is irradiated with the light, the surface changes to hydrophilic. Further, light of a specific wavelength that causes such a change in optical properties is called “active light”.
【0022】一方、「高温親水性発現特性を有する金属
酸化物」とは、ある温度以上に加熱すると親水性とな
り、この親水性には履歴作用があって常温に戻しても表
面の親水性がある程度持続する性質を持つ金属酸化物で
ある。この親水性が現れる温度を「高温親水性発現温
度」と呼んでいる。金属酸化物の中には、その清浄な表
面が程度の差はあっても本来疎水性であるもののほか
に、表面が本来親水性であっても、「疎水性発現温度」
と呼んでいる温度に加熱すると親水性から疎水性への変
化を示すものがあることを本発明者は見いだしている。
この金属酸化物の中には、疎水性発現温度を越えてさら
に加熱すると疎水性化した表面が再び親水性となる金属
酸化物も観察された。「高温親水性発現特性を有する金
属酸化物」には、このような中間加熱温度において疎水
性を示すものもある。On the other hand, "a metal oxide having a high-temperature hydrophilicity-developing property" means that it becomes hydrophilic when heated to a certain temperature or more, and this hydrophilicity has a hysteretic effect, and the hydrophilicity of the surface becomes low even when the temperature is returned to normal temperature. It is a metal oxide that has some lasting properties. The temperature at which the hydrophilicity appears is called "high-temperature hydrophilicity-expressing temperature". Among metal oxides, in addition to those whose clean surfaces are inherently hydrophobic to varying degrees, even when the surfaces are inherently hydrophilic, the "hydrophobic expression temperature"
The present inventor has found that when heated to a temperature referred to as, there is a substance that changes from hydrophilic to hydrophobic.
Among these metal oxides, metal oxides whose hydrophobic surfaces became hydrophilic again when further heated above the temperature at which hydrophobicity was developed were observed. Some "metal oxides having high-temperature hydrophilicity-expressing properties" exhibit hydrophobicity at such intermediate heating temperatures.
【0023】本発明は、印刷用原板の表面に存在させる
金属酸化物は、少なくとも光触媒能か、高温親水性発現
特性を有するのもので、その両者又は一方の特性を単独
種若しくは複数種から構成することができる。本願明細
書においては、このような金属酸化物を総称的に言及す
る場合には、「親水性発現特性を有する金属酸化物」と
もいう。本発明は上記した特性に加えて、室温で親水性
状態の上記親水性発現特性を有する金属酸化物の表面も
有機化合物と接触すると疎水性となるというさらなる発
見をも利用してなされたものである。さらに、原板上に
疎水性領域と親水性領域の像様分布を形成させてこの表
面に水溶性金属化合物と還元性化合物とを含有し、還元
性化合物の酸化電位が水溶性金属化合物の還元電位より
も卑(低電位)であるように調製した無電解メッキ用水
溶液を接触させて無電解メッキを行うと、金属析出核を
表面に有する親水性領域で選択的に効果的にメッキ反応
が起こり、金属薄層がこの領域に形成されることをも発
見している。本発明の印刷方法は、以上に述べた物性や
現象を組み合わせて利用することによって達せられた新
規な発明である。According to the present invention, the metal oxide to be present on the surface of the printing plate has at least a photocatalytic ability or a high-temperature hydrophilicity developing property. can do. In the specification of the present application, when such a metal oxide is referred to generically, it is also referred to as a “metal oxide having hydrophilicity developing properties”. The present invention has been made by making use of the further finding that, in addition to the above-mentioned properties, the surface of a metal oxide having the above-mentioned hydrophilicity-expressing properties in a hydrophilic state at room temperature becomes hydrophobic when it comes into contact with an organic compound. is there. Further, an image-like distribution of a hydrophobic region and a hydrophilic region is formed on the original plate, and a water-soluble metal compound and a reducing compound are contained on this surface, and the oxidation potential of the reducing compound is reduced by the reduction potential of the water-soluble metal compound. When electroless plating is performed by contacting an aqueous solution for electroless plating prepared to be less basic (low potential), a plating reaction occurs selectively and effectively in a hydrophilic region having metal deposition nuclei on the surface. It has also been found that a thin metal layer is formed in this region. The printing method of the present invention is a novel invention achieved by utilizing the physical properties and phenomena described above in combination.
【0024】本発明の印刷方法は、上記した「親水性発
現特性を有する金属酸化物」を原板としてこれにつぎの
各工程を施すことから成っている。第1段階は、上記物
質の原板の表面の疎水性化である。この疎水性化の手段
には、有機化合物を作用させる方法と熱処理による方法
とがある。前者は、原板表面を有機化合物の蒸気に曝す
か、原板表面に液体又は溶液状態の有機化合物を噴霧し
たり、塗布を行ったりするか、あるいは原板を液状の有
機化合物に浸漬するなどの方法で行われる。後者は、原
板材料が適度の加熱によって疎水性となる疎水性発現性
の物質である場合に適用できる手段であり、疎水性発現
温度への加熱によって、その表面を疎水性とすることが
できる。The printing method of the present invention comprises subjecting the above-mentioned "metal oxide having a hydrophilic property" to an original plate and performing the following steps. The first step is to make the surface of the original plate of the above substance hydrophobic. As a method of making the surface hydrophobic, there are a method of making an organic compound act and a method of heat treatment. The former involves exposing the surface of the original plate to vapors of organic compounds, spraying or applying an organic compound in a liquid or solution state to the surface of the original plate, or immersing the original plate in a liquid organic compound. Done. The latter is a means that can be applied when the original plate material is a substance exhibiting hydrophobicity that becomes hydrophobic by moderate heating, and the surface thereof can be made hydrophobic by heating to the temperature at which hydrophobicity is exhibited.
【0025】第2段階は、疎水性化した原板表面に像様
の親水性化領域を作る段階である。この段階では、光触
媒能を有する金属酸化物の場合は活性光を像様に照射し
て、また、高温親水性発現特性を有する金属酸化物の場
合は像様に加熱して、加熱又は照射を受けた部分を親水
性化することによって、その表面に親水性領域と疎水性
領域の像様の分布を形成させる。The second step is a step of forming an imagewise hydrophilic region on the surface of the original plate which has been rendered hydrophobic. At this stage, in the case of a metal oxide having a photocatalytic ability, actinic light is irradiated imagewise, and in the case of a metal oxide having a high-temperature hydrophilicity developing characteristic, it is heated imagewise to perform heating or irradiation. By rendering the received portion hydrophilic, an image-like distribution of hydrophilic and hydrophobic regions is formed on its surface.
【0026】第3段階は、親水性領域と疎水性領域の像
様分布を形成した印刷用原板上の親水性領域に金属薄層
を像様に設ける工程である。この段階では、印刷用原板
に無電解メッキ用水溶液を直接接触させる。この接触に
よって、金属析出核を有する像様の親水性領域では無電
解メッキが起こるが、疎水性領域ではこの無電解メッキ
は生起しない。従って、親水性の像様領域に無電解メッ
キ用水溶液の水溶性金属化合物からの金属が印刷用原板
上に析出して、金属薄層の像様分布が得られる。上記親
水性領域の金属析出核は、像様分布形成後であって、無
電解メッキによる処理の前に形成することが好ましい
が、無電解メッキ用水溶液の処理前に少なくとも当該親
水性領域に金属析出核が設けられていれば特に制限はな
く、印刷品質に悪影響を与えない範囲で第1段階前に予
め印刷用原板全面に設けられていても良い。The third step is a step of imagewise providing a thin metal layer in the hydrophilic region on the printing original plate in which the imagewise distribution of the hydrophilic region and the hydrophobic region has been formed. At this stage, an aqueous solution for electroless plating is brought into direct contact with the printing original plate. Due to this contact, electroless plating occurs in the image-like hydrophilic region having metal precipitation nuclei, but this electroless plating does not occur in the hydrophobic region. Accordingly, the metal from the water-soluble metal compound of the aqueous solution for electroless plating is deposited on the printing original plate in the hydrophilic image-like region, and an image-like distribution of the thin metal layer is obtained. The metal precipitation nuclei in the hydrophilic region are preferably formed after the image-like distribution is formed and before the treatment by the electroless plating. There is no particular limitation as long as precipitation nuclei are provided, and they may be provided in advance on the entire surface of the printing original plate before the first step within a range that does not adversely affect print quality.
【0027】第4段階は、無電解メッキが生起しなかっ
た疎水性領域に親水性化処理を施すことにより、この疎
水性領域を親水性にする操作であり、疎水性をもたらし
ている有機化合物の洗浄除去、活性光の照射、高温親水
性発現温度への加熱などの手段によって行われる。第5
段階は、印刷工程である。印刷用原板をインキと接触さ
せることによって像様に分布した疎水性領域が印刷イン
キを受け入れて印刷面が形成される。以上の一連の操作
を行うことによって印刷用原板から印刷版が作られ、そ
れを用いて印刷が行われる。また、本発明においては、
所要の印刷を終えた印刷版のインクを除去し、無電解メ
ッキした金属薄層を除去する印刷用原板の再生を繰り返
し行うことができる。The fourth step is an operation for making the hydrophobic region hydrophilic by applying a hydrophilic treatment to the hydrophobic region where electroless plating has not occurred. , Irradiation with active light, heating to a high-temperature hydrophilicity-expressing temperature, and the like. Fifth
The stage is a printing process. By contacting the printing master with the ink, the image-wise distributed hydrophobic regions receive the printing ink and form a printing surface. By performing the above series of operations, a printing plate is made from a printing original plate, and printing is performed using the printing plate. In the present invention,
It is possible to repeat the reproduction of the printing original plate for removing the ink of the printing plate after the required printing and removing the electroless plated metal thin layer.
【0028】上記の第2段階において、高温親水性発現
特性を有する金属の表面は、高温親水性発現温度での加
熱によって、表面を疎水性から親水性にすると、その表
面は、室温下においても履歴効果によって実用的に十分
な時間その親水性が維持される。したがって、有機化合
物との接触によって疎水性化を十分に促進させた表面に
効果的な親水性領域が実用的な時間にわたって維持され
るので、上記した第3段階の無電解メッキが親水性領域
に効果的に生起し、金属薄層が形成される。この金属薄
層は、金属薄層が形成されなかった印刷用原板の表面領
域(有機化合物で疎水性化した場合は、それを除いた表
面)よりも疎水性であるので、金属薄層が形成されなか
った疎水性化された領域を親水性化処理を施すことによ
り、金属薄層にインクが乗り印刷可能となる。本発明
は、上述のように印刷用原板表面の疎水性〜親水性の物
性変化を利用した現像不要の直接製版・印刷方法が可能
となっている。しかも、この直接製版が可能な簡易性に
加えて、金属薄層による版面の補強によって耐刷性も向
上できたことが本発明の特長である。In the second step, the surface of the metal having the property of exhibiting high-temperature hydrophilicity is changed from hydrophobic to hydrophilic by heating at the temperature at which high-temperature hydrophilicity is exhibited. Due to the hysteresis effect, the hydrophilicity is maintained for a practically sufficient time. Therefore, the effective hydrophilic region on the surface, which has sufficiently promoted the hydrophobicity by contact with the organic compound, is maintained for a practical period of time, so that the above-described third-stage electroless plating is applied to the hydrophilic region. It occurs effectively and forms a thin metal layer. This thin metal layer is more hydrophobic than the surface area of the original printing plate on which the thin metal layer was not formed (excluding the surface of the original printing plate if it was made hydrophobic with an organic compound). By performing the hydrophilization treatment on the hydrophobic region which has not been made, the ink can be applied to the thin metal layer and printing can be performed. According to the present invention, a direct plate making / printing method that does not require development by utilizing a change in the physical properties of hydrophobic to hydrophilic properties of the surface of an original printing plate as described above is possible. Moreover, in addition to the simplicity of direct plate making, it is a feature of the present invention that the printing durability can be improved by reinforcing the plate surface with a thin metal layer.
【0029】[0029]
(原板材料)はじめに、本発明に用いることのできる原
板材料について説明する。本発明で用いる光照射によっ
て親水性となる「光触媒能を有する金属酸化物」は、セ
ラミックや半導体の中にも見られる。光触媒能を有する
セラミックは、複合金属酸化物からなっており、光触媒
能を有する半導体の多くは、基底順位と伝導体が近い真
正半導体と不純物準位に依存する酸化バナジウムや酸化
銅などの仮性半導体との両方に見られる。これらセラミ
ック及び半導体は、本発明が利用する光触媒能の上で
は、他の光触媒能を有する金属酸化物と同様であるの
で、それらを「光触媒能を有する金属酸化物」に含めて
以下に説明する。(Original Plate Material) First, an original plate material that can be used in the present invention will be described. The “metal oxide having photocatalytic ability” that becomes hydrophilic by light irradiation used in the present invention is also found in ceramics and semiconductors. Ceramics with photocatalytic properties are composed of composite metal oxides.Most semiconductors with photocatalytic properties are genuine semiconductors, whose base order and conductor are close, and pseudo semiconductors such as vanadium oxide and copper oxide, which depend on impurity levels. And is seen in both. Since these ceramics and semiconductors are the same as other metal oxides having photocatalytic ability on the photocatalytic ability utilized by the present invention, they will be described below by including them in "metal oxide having photocatalytic ability". .
【0030】好ましい光触媒能を有する金属酸化物は、
周期律表の第3〜6周期に属していて、かつ0及びVII
A族(ハロゲン元素)族以外の元素から選ばれる金属の
酸化物からなる群の少なくとも一つによって構成されて
いる。その中でもとくに、TiO2 、RTiO3 (Rはア
ルカリ土類金属原子)、AB2- x Cx D3-x Ex O10(Aは水
素原子又はアルカリ金属原子、Bはアルカリ土類金属原
子又は鉛原子、Cは希土類原子、Dは周期律表の5A族
元素に属する金属原子、Eは同じく4A族元素に属する
金属原子、xは0〜2の任意の数値を表す)、Sn
O2 ,Bi2O3 ,ZnO及びFe2O3から選ばれる金
属酸化物が好ましい。The metal oxide having a preferable photocatalytic activity is
Belongs to the third to sixth periods of the periodic table, and 0 and VII
It is constituted by at least one of the group consisting of oxides of metals selected from elements other than group A (halogen elements). Above all, TiO 2 , RTiO 3 (R is an alkaline earth metal atom), AB 2- x C x D 3-x E x O 10 (A is a hydrogen atom or an alkali metal atom, B is an alkaline earth metal atom Or a lead atom, C is a rare earth atom, D is a metal atom belonging to the group 5A element of the periodic table, E is a metal atom also belonging to the group 4A element, and x is any numerical value from 0 to 2), Sn
A metal oxide selected from O 2 , Bi 2 O 3 , ZnO and Fe 2 O 3 is preferred.
【0031】これらの金属酸化物は、いろいろの形態の
金属酸化物に見られ、単一の金属酸化物、複合酸化物の
いずれの場合もあり、また後者の場合は、固溶体、混
晶、多結晶体、非晶質固溶体、金属酸化物微結晶の混合
物のいずれからもこの特性を有するものが認められる。These metal oxides are found in various forms of metal oxides, and may be single metal oxides or composite oxides. In the latter case, solid solutions, mixed crystals, polycrystals, A mixture having a crystal characteristic, an amorphous solid solution, and a metal oxide microcrystal has this characteristic.
【0032】つぎに、本発明に用いる高温で加熱すると
親水性となり、かつ履歴現象を示す「高温親水性発現特
性を有する金属酸化物」について説明する。この物質
は、光触媒能と高温親水性発現特性を併せて備えた金属
酸化物もある。好ましい高温親水性発現特性の金属酸化
物は、周期律表の第3〜6周期に属していて、かつ0及
びVII A族(ハロゲン元素)族以外の元素から選ばれる
金属及びその金属の酸化物からなる群の少なくとも一つ
によって構成されている。Next, the "metal oxide having high-temperature hydrophilicity-developing property" which becomes hydrophilic when heated at a high temperature and exhibits a hysteresis phenomenon will be described. This substance may be a metal oxide which has both photocatalytic ability and high-temperature hydrophilicity developing properties. Preferred metal oxides exhibiting high-temperature hydrophilicity are metals belonging to the third to sixth periods of the periodic table and selected from elements other than group 0 and group VIIA (halogen element), and oxides of the metals. At least one of the group consisting of
【0033】また、好ましい高温親水性発現特性を有す
る金属酸化物は、TiO2 、RTiO 3 (Rはアルカリ土類
金属原子)、AB2-x Cx D3-x Ex O10(A,B,C,D、
Eおよびxのそれぞれの記号の意味は前記したとおりで
ある)、SnO2 ,SiO 2 ,GeO2 ,Bi2O3 ,
Al2O3 ,ZnO及びFeOx(x=1.0〜1.5)
から選ばれる金属酸化物である。Also, it has favorable high-temperature hydrophilicity developing properties.
Metal oxide is TiOTwo, RTiO Three(R is alkaline earth
Metal atom), AB2-xCxD3-xExOTen(A, B, C, D,
The meaning of each symbol of E and x is as described above.
Yes), SnOTwo, SiO Two, GeOTwo, BiTwoOThree,
AlTwoOThree, ZnO and FeOx(X = 1.0-1.5)
A metal oxide selected from the group consisting of:
【0034】高温親水性発現特性を有する金属酸化物の
多くは、前記したように高温親水性発現温度より低い適
度の加熱によって疎水性を示す性質があり、本発明では
疎水性化の手段として、有機化合物と接触させる代わり
に、適度の加熱を行ってもよい。疎水性発現温度は、物
質によってことなるが、通常50〜250℃である。Most of the metal oxides having a high-temperature hydrophilicity developing property have a property of exhibiting hydrophobicity by moderate heating lower than the high-temperature hydrophilicity developing temperature as described above. Instead of contacting with an organic compound, moderate heating may be performed. The hydrophobicity development temperature varies depending on the substance, but is usually 50 to 250 ° C.
【0035】なお、本発明に用いることのできる親水性
発現特性を有する金属酸化物は、印刷版として使用する
際に湿し水に対して過度に溶解してはならないので、水
に対する溶解度は、水100ミリリットルについて10
mg以下、好ましくは5mg以下、より好ましくは1m
g以下である。The metal oxide having a hydrophilic property that can be used in the present invention must not be excessively dissolved in fountain solution when used as a printing plate. 10 for 100 ml of water
mg or less, preferably 5 mg or less, more preferably 1 m
g or less.
【0036】以上に親水性発現特性を有する金属酸化物
について概説したが、個々の好ましい金属酸化物につい
てさらに説明する。金属酸化物の中でも、酸化チタンと
酸化亜鉛は好ましく、これらについてまず説明する。こ
れらは、いずれも本発明の印刷用原板材料として利用で
きる。特に酸化チタンが感度(つまり表面性の光変化の
敏感性)などの点で好ましい。酸化チタンは、イルメナ
イトやチタンスラグの硫酸加熱焼成、あるいは加熱塩素
化後酸素酸化など既知の任意の方法で作られたものを使
用できる。あるいは後述するように金属チタンを用いて
印刷版製作段階で真空蒸着によって酸化物皮膜とする方
法も用いることができる。The metal oxide having the property of exhibiting hydrophilicity has been outlined above, and each preferred metal oxide will be further described. Among the metal oxides, titanium oxide and zinc oxide are preferable, and these will be described first. Any of these can be used as the printing plate material of the present invention. In particular, titanium oxide is preferable in terms of sensitivity (that is, sensitivity of surface property to light change). As the titanium oxide, one made by any known method such as sulfuric acid heating and sintering of ilmenite or titanium slag, or heat chlorination followed by oxygen oxidation can be used. Alternatively, as described later, a method of forming an oxide film by vacuum evaporation at the stage of producing a printing plate using titanium metal can also be used.
【0037】酸化チタン又は酸化亜鉛を含有する層を原
板の表面に設けるには、たとえば、 酸化チタン微結晶又は酸化亜鉛微結晶の分散物を印刷
版の原板上に塗設する方法、塗設したのち焼成してバ
インダーを減量或いは除去する方法、印刷原板上に蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDな
どの方法で酸化チタン(又は酸化亜鉛)膜を設ける方
法、例えばチタニウムブトキシドのようなチタン有機
化合物を原板上に塗布したのち、焼成酸化を施して酸化
チタン層とする方法など、既知の任意の方法を用いるこ
とができる。本発明においては、真空蒸着又はスパッタ
リングによる酸化チタン層が特に好ましい。In order to provide a layer containing titanium oxide or zinc oxide on the surface of an original plate, for example, a method of applying a dispersion of titanium oxide microcrystals or zinc oxide microcrystals on a printing plate original plate was applied. A method of reducing or removing the binder by baking afterwards, a method of providing a titanium oxide (or zinc oxide) film on a printing original plate by a method such as vapor deposition, sputtering, ion plating, or CVD, for example, a titanium organic compound such as titanium butoxide Can be applied to the original plate, followed by baking and oxidation to form a titanium oxide layer, or any other known method. In the present invention, a titanium oxide layer formed by vacuum deposition or sputtering is particularly preferred.
【0038】上記又はの酸化チタン微結晶を塗設す
る方法には、具体的には無定形酸化チタン微結晶分散物
を塗布したのち、焼成してアナターゼまたはルチル型の
結晶酸化チタン層とする方法、酸化チタンと酸化シリコ
ンの混合分散物を塗布して表面層を形成させる方法、酸
化チタンとオルガノシロキサンなどとの混合物を塗布し
てシロキサン結合を介して支持体と結合した酸化チタン
層を得る方法、酸化物層の中に酸化物と共存するできる
ポリマーバインダーに分散して塗布したのち、焼成して
有機成分を除去する方法などがある。酸化物微粒子のバ
インダ−には、酸化チタン微粒子に対して分散性を有
し、かつ比較的低温で焼成除去が可能なポリマーを用い
ることができる。好ましいバインダーの例としては、ポ
リエチレンなどのポリアルキレン、ポリブタジエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポ
リ酢酸ビニル、ポリ蟻酸ビニル、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリビニルアルコ
ール、部分鹸化ポリビニルアルコール、ポリスチレンな
どの疎水性バインダーが好ましく、それらの樹脂を混合
して使用してもよい。The above or the method of applying the titanium oxide microcrystals is, specifically, a method of applying an amorphous titanium oxide microcrystal dispersion, followed by firing to form an anatase or rutile type crystal titanium oxide layer. A method of applying a mixed dispersion of titanium oxide and silicon oxide to form a surface layer, and a method of applying a mixture of titanium oxide and organosiloxane to obtain a titanium oxide layer bonded to a support through a siloxane bond A method of dispersing and applying a polymer binder capable of coexisting with an oxide in an oxide layer, followed by baking to remove an organic component. As the binder for the oxide fine particles, a polymer having dispersibility with respect to the titanium oxide fine particles and capable of being removed by firing at a relatively low temperature can be used. Examples of preferred binders include polyalkylene such as polyethylene, polybutadiene, polyacrylate, polymethacrylate, polyvinyl acetate, polyvinyl formate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, polystyrene, and the like. Is preferred, and these resins may be used as a mixture.
【0039】上記の酸化チタンの真空蒸着を行うに
は、通常真空蒸着装置内の蒸着用加熱の熱源に金属チタ
ンを置き、真空度10-5〜10-8Torrで全ガス圧10-2
〜10 -5Torr、酸素分圧比が30〜90%になるように
しながら、チタン金属を蒸発させると、蒸着面には酸化
チタンの蒸着薄膜が形成される。また、スパッタリング
による場合は、例えばスパッタ装置内にチタン金属ター
ゲットをセットしてAr/O2 比が60/40(モル
比)となるようにガス圧を5×10-3Torrに調整したの
ち、RFパワー200Wを投入してスパッタリングを行
って酸化チタン薄膜を基板上に形成させる。For performing the above-mentioned vacuum deposition of titanium oxide,
Is usually used as a heat source for evaporation heating in vacuum evaporation equipment.
And place it in a vacuum of 10-Five-10-810 Torr total gas pressure-2
-10 -FiveTorr, oxygen partial pressure ratio 30-90%
While evaporating titanium metal, oxidation surface is oxidized
A deposited thin film of titanium is formed. Also, sputtering
In the case of using a titanium metal tar
Set get and Ar / OTwo The ratio is 60/40 (mol
Ratio) so that the gas pressure is 5 × 10-3Adjusted to Torr
Then, RF power of 200 W was input and sputtering was performed.
To form a titanium oxide thin film on the substrate.
【0040】一方、本発明に酸化亜鉛層を使用する場
合、その酸化亜鉛層は既知の任意の方法で作ることがで
きる。とくに金属亜鉛板の表面を電解酸化して酸化皮膜
を形成させる方法と、真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング,CVDなどによって酸化亜鉛皮膜を
形成させる方法が好ましい。酸化亜鉛の蒸着膜は、上記
の酸化チタンの蒸着と同様に金属亜鉛を酸素ガス存在下
で蒸着して酸化膜を形成させる方法や、酸素のない状態
で亜鉛金属膜を形成させたのち、空気中で温度を約70
0℃にあげて酸化させる方法を用いることができる。そ
のほか、蓚酸亜鉛の塗布層やセレン化亜鉛の薄層を酸化
性気流中で加熱しても得られる。On the other hand, when a zinc oxide layer is used in the present invention, the zinc oxide layer can be formed by any known method. In particular, a method of forming an oxide film by electrolytically oxidizing the surface of a metal zinc plate and a method of forming a zinc oxide film by vacuum deposition, sputtering, ion plating, CVD, or the like are preferable. A method for forming an oxide film by depositing metal zinc in the presence of oxygen gas in the same manner as the above-described deposition of titanium oxide, or a method for forming a zinc metal film in the absence of oxygen, In the temperature of about 70
A method of raising the temperature to 0 ° C and oxidizing can be used. In addition, it can be obtained by heating a coated layer of zinc oxalate or a thin layer of zinc selenide in an oxidizing gas stream.
【0041】蒸着膜の厚みは、酸化チタン層、酸化亜鉛
層いずれの場合も1〜100000オングストロ−ムが
よく、好ましくは10〜10000オングストロ−ムで
ある。さらに好ましくは3000オングストロ−ム以下
として光干渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作
用を十分に発現させるには厚みが50オングストローム
以上あることが好都合である。The thickness of the deposited film is preferably from 1 to 100,000 angstroms, and preferably from 10 to 10,000 angstroms, in any case of the titanium oxide layer and the zinc oxide layer. More preferably, the thickness is set to 3000 angstroms or less to prevent distortion of light interference. Further, it is convenient that the thickness is 50 Å or more in order to sufficiently exhibit the photoactivation effect.
【0042】酸化チタンはいずれの結晶形のものも使用
できるが、とくにアナターゼ型のものが感度が高く好ま
しい。アナターゼ型の結晶は、酸化チタンを焼成して得
る過程の焼成条件を選ぶことによって得られることはよ
く知られている。その場合に無定形の酸化チタンやルチ
ル型酸化チタンが共存してもよいが、アナターゼ型結晶
が40%以上、好ましくは60%以上含むものが上記の
理由から好ましい。酸化チタンあるいは酸化亜鉛を主成
分とする層における酸化チタンあるいは酸化亜鉛の体積
率は、それぞれ30〜100%であり、好ましくは50
%以上を酸化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸
化物の連続層つまり実質的に100%であるのがよい。
しかしながら、表面の親水性/親油性変化特性は、酸化
亜鉛を電子写真感光層に用いるときのような著しい純度
による影響はないので、100%に近い純度のもの(例
えば98%)をさらに高純度化する必要はない。それ
は、本発明に利用される物性は、導電性とは関係ない膜
表面の親水性/親油性の性質変化特性、すなわち界面物
性の変化特性であることからも理解できることである。Although any crystal form of titanium oxide can be used, anatase type is particularly preferred because of its high sensitivity. It is well known that anatase-type crystals can be obtained by selecting firing conditions in the process of firing titanium oxide. In this case, amorphous titanium oxide or rutile-type titanium oxide may coexist, but those containing 40% or more, preferably 60% or more of anatase-type crystals are preferable for the above reason. The volume ratio of titanium oxide or zinc oxide in the layer mainly containing titanium oxide or zinc oxide is 30 to 100%, preferably 50 to 100%.
% Or more is preferably occupied by the oxide, more preferably a continuous layer of oxide, ie substantially 100%.
However, since the surface hydrophilicity / lipophilicity change characteristics are not affected by the remarkable purity as when zinc oxide is used in the electrophotographic photosensitive layer, a material having a purity close to 100% (for example, 98%) is further purified. There is no need to convert. That is, it can be understood from the fact that the physical properties used in the present invention are the properties of changing the hydrophilic / lipophilic properties of the membrane surface, which are not related to the conductivity, that is, the properties of changing the properties of the interface.
【0043】しかしながら、熱の作用によって表面の親
水性が変化する性質を増進させるためにある種の金属を
ドーピングすることは有効な場合があり、この目的には
イオン化傾向が小さい金属のドーピングが適しており、
Pt,Pd,Au,Ag,Cu,Ni,Fe,Co又は
Crをドーピングするのが好ましい。また、これらの好
ましい金属を複数ドーピングしてもよい。ドーピングを
行った場合も、その注入量は酸化亜鉛や酸化チタン中の
金属成分に対して5モル%以下である。However, it may be effective to dope a certain metal in order to enhance the property of changing the hydrophilicity of the surface by the action of heat. For this purpose, doping of a metal having a low ionization tendency is suitable. And
It is preferable to dope Pt, Pd, Au, Ag, Cu, Ni, Fe, Co or Cr. Further, a plurality of these preferable metals may be doped. Also in the case where doping is performed, the injection amount is 5 mol% or less based on the metal components in zinc oxide and titanium oxide.
【0044】一方、体積率が低いと層の表面の親水性/
親油性の熱応答挙動の敏感度が低下する。したがって、
層中の酸化物の体積率は、30%以上であることが望ま
しく、とくに実質的に100%であることが好ましい。On the other hand, if the volume ratio is low, the hydrophilicity /
The sensitivity of the lipophilic thermal response behavior decreases. Therefore,
The volume ratio of the oxide in the layer is desirably 30% or more, particularly preferably substantially 100%.
【0045】次に、本発明に用いることができる別の化
合物である一般式RTiO3 で示したチタン酸金属塩
について記す。一般式RTiO3 において、Rはマグ
ネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ベ
リリウムなどの周期律表のアルカリ土類元素に属する金
属原子であり、とくにストロンチウムとバリウムが好ま
しい。また、2種以上のアルカリ土類金属原子をその合
計が上記の式に化学量論的に整合する限り共存すること
ができる。Next, another compound that can be used in the present invention, that is, a metal titanate represented by the general formula RTiO3 will be described. In the general formula RTiO3, R is a metal atom belonging to an alkaline earth element of the periodic table such as magnesium, calcium, strontium, barium, beryllium, and strontium and barium are particularly preferred. Also, two or more alkaline earth metal atoms can coexist as long as the total thereof is stoichiometrically consistent with the above formula.
【0046】次に、一般式AB2-x Cx D3-x Ex O10で表さ
れる化合物について説明する。この一般式において、A
は水素原子及びナトリウム、カリウム、ルビジウム、セ
シウム、リチウムなどのアルカリ金属原子から選ばれる
1価原子で、その合計が上記の式に化学量論的に整合す
る限りそれらの2種以上を共存してもよい。Bは、上記
のRと同義のアルカリ土類金属原子又は鉛原子であり、
同様に化学量論的に整合する限り2種以上の原子が共存
してもよい。Cは希土類原子であり、好ましくは、スカ
ンジウム及びイットリウム並びにランタン、セリウム、
プラセオジウム、ネオジウム、ホルミウム、ユウロピウ
ム、ガドリニウム、テルビウム、ツリウム、イッテルビ
ウム、ルテチウムなどのランタノイド系元素に属する原
子であり、また、その合計が上記の式に化学量論的に整
合する限りそれらの2種以上を共存してもよい。Dは周
期律表の5A族元素から選ばれた一種以上で、バナジウ
ム、ニオブ、タンタルが挙げられる。また、化学量論関
係を満たす限り、2種以上の5A族の金属原子が共存し
てもよい。Eは同じくチタン、ジルコニウム、ハフニウ
ムなどの4A族元素に属する金属原子であり、また、2
種以上の4A族の金属原子が共存してもよい。xは0〜
2の任意の数値を表す。Next, the compound represented by the general formula AB 2-x C x D 3-x E x O 10 will be described. In this general formula, A
Is a hydrogen atom and a monovalent atom selected from alkali metal atoms such as sodium, potassium, rubidium, cesium, and lithium. Is also good. B is an alkaline earth metal atom or a lead atom as defined above for R,
Similarly, two or more atoms may coexist as long as they are stoichiometrically matched. C is a rare earth atom, preferably scandium and yttrium and lanthanum, cerium,
It is an atom belonging to a lanthanoid element such as praseodymium, neodymium, holmium, europium, gadolinium, terbium, thulium, ytterbium, lutetium, and two or more of these atoms as long as their total is stoichiometrically consistent with the above formula. May coexist. D is one or more elements selected from Group 5A elements of the periodic table, and includes vanadium, niobium, and tantalum. Further, as long as the stoichiometric relationship is satisfied, two or more kinds of 5A group metal atoms may coexist. E is a metal atom belonging to the Group 4A element such as titanium, zirconium and hafnium;
More than one group 4A metal atom may coexist. x is 0
2 represents any numerical value.
【0047】RTiO3 、一般式AB2-x Cx D3-x Ex O
10で表される上記化合物、SnO2,Bi2 O3 ,F
eOn (x=1〜1.5)で示される酸化鉄系の化合
物のいずれの薄膜形成にも、酸化チタン及び酸化亜鉛を
設ける前記の方法を用いることがでる。すなわち、金
属酸化物の微粒子の分散物を印刷版の原板上に塗設する
方法、塗設したのち焼成してバインダーを減量或いは
除去する方法、印刷版の原板上に上記酸化物を各種の
真空薄膜法で膜形成する方法、例えば金属元素のアル
コレートのような有機化合物を原板上に塗布したのち、
加水分解させ、さらに焼成酸化を施して適当な厚みの金
属薄膜とする方法、上記金属元素の塩酸塩、硝酸塩な
どの水溶液を加熱スプレーする方法など、既知の任意の
方法を用いることができる。RTiO 3 , a general formula AB 2-x C x D 3-x E x O
The above compound represented by 10 , SnO 2 , Bi 2 O 3 , F
in any of the thin film formation of eO n (x = 1~1.5) iron oxide compounds represented by, it is out using said method of providing a titanium oxide and zinc oxide. That is, a method of applying a dispersion of fine particles of metal oxide on a printing plate precursor, a method of applying and baking to reduce or remove the binder, and applying various types of vacuum to the printing plate precursor by applying the above-mentioned oxide to the printing plate. A method of forming a film by a thin film method, for example, after applying an organic compound such as an alcoholate of a metal element onto a base plate,
Any known method can be used, such as a method of hydrolyzing and further performing calcination oxidation to form a metal thin film having an appropriate thickness, and a method of heating and spraying an aqueous solution of a hydrochloride or a nitrate of the above metal element.
【0048】例えば、上記、の塗設方法によってチ
タン酸バリウム微粒子を塗設するには、チタン酸バリウ
ムとシリコンの混合分散物を塗布して表面層を形成させ
る方法、チタン酸バリウムとオルガノポリシロキサンま
たはそのモノマ−との混合物を塗布する方法などがあ
る。また、酸化チタンの項で述べたように、酸化物層の
中に酸化物と共存できるポリマーバインダーに分散して
塗布した後、焼成して酸化物層とすることもできる。酸
化物微粒子のバインダ−として好ましいポリマーの例
は、酸化チタン層の項で述べたものと同じである。この
方法によって、チタン酸バリウム以外にチタン酸マグネ
シウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム
又はそれらの分子間化合物、混合物も同様に薄膜形成可
能である。For example, in order to apply the barium titanate fine particles by the application method described above, a method of applying a mixed dispersion of barium titanate and silicon to form a surface layer, barium titanate and organopolysiloxane Alternatively, there is a method of applying a mixture with the monomer. Further, as described in the section of titanium oxide, the oxide layer can be formed by dispersing and applying a polymer binder which can coexist with the oxide in the oxide layer, followed by firing. Examples of preferred polymers as the binder for the oxide fine particles are the same as those described in the section of the titanium oxide layer. By this method, a thin film of magnesium titanate, calcium titanate, strontium titanate or an intermolecular compound or a mixture thereof can be similarly formed in addition to barium titanate.
【0049】同様にして上記、の塗設方法によって
CsLa2NbTi2O10微粒子を塗設することも可能で
ある。CsLa2NbTi2O10微粒子は、その化学量論
に対応するCs2CO3, La2O3, NbO5, TiO2
を乳鉢で微粉砕して、白金るつぼに入れ、130°C で
5時間焼成し、それを冷却してから乳鉢に入れて数ミク
ロン以下の微粒子に粉砕する。このCsLa2NbTi2
O10微粒子を前記のチタン酸バリウムと同様にバインダ
ーの中に分散し、塗布して薄膜を形成した。この方法
は、CsLa2NbTi2O10型微粒子に限らず、HCa
1.5La0.5Nb2. 5Ti0.5O10,HLa2NbTi2O10
など前述のAB2-x Cx D3-x Ex O10(0≦x≦2)に適用
される。Similarly, CsLa 2 NbTi 2 O 10 fine particles can be coated by the above-described coating method. CsLa 2 NbTi 2 O 10 fine particles correspond to the stoichiometry of Cs 2 CO 3 , La 2 O 3 , NbO 5 , TiO 2
Is pulverized in a mortar, placed in a platinum crucible, baked at 130 ° C. for 5 hours, cooled, and then placed in a mortar and pulverized to fine particles of several microns or less. This CsLa 2 NbTi 2
The O 10 fine particles dispersed in a binder as with barium titanate of the, to form a thin film by coating. This method is not limited to CsLa 2 NbTi 2 O 10 type fine particles,
1.5 La 0.5 Nb 2. 5 Ti 0.5 O 10, HLa 2 NbTi 2 O 10
This applies to AB 2-x C x D 3-x E x O 10 (0 ≦ x ≦ 2).
【0050】上記の真空薄膜形成法を用いた親水性発
現特性を有する金属酸化物層の形成方法としては、一般
的にはスパッタリング法あるいは真空薄膜形成法が用い
られる。スパッタリング法では、あらかじめ単一もしく
は複合型の酸化物ターゲットを準備する。例えば、チタ
ン酸バリウムターゲットを用いて蒸着膜用の支持体の温
度を450℃以上に保ち、アルゴン/酸素混合雰囲気中
でRFスパッタリングを行うことによりチタン酸バリウ
ム結晶薄膜が得られる。結晶性の制御には必要に応じて
ポストアニーリングを300〜900℃で行えばよい。
本方法は前述のRTiO3 (Rはアルカリ土類金属原
子)をはじめ他の前記した金属酸化物にも、結晶制御に
最適な基板温度を調整すれば同様の考え方で薄膜形成が
可能である。例えば酸化錫薄膜を設ける場合には基板温
度120℃、アルゴン/酸素比50/50の混合雰囲気
中でRFスパッタリングを行うことにより酸化錫結晶の
本目的に沿う薄膜が得られる。As a method for forming a metal oxide layer having a hydrophilic property by using the above-mentioned vacuum thin film forming method, a sputtering method or a vacuum thin film forming method is generally used. In the sputtering method, a single or composite oxide target is prepared in advance. For example, a barium titanate crystal thin film can be obtained by performing RF sputtering in an argon / oxygen mixed atmosphere while maintaining the temperature of the support for the deposited film at 450 ° C. or higher using a barium titanate target. For controlling the crystallinity, post-annealing may be performed at 300 to 900 ° C. as necessary.
In this method, a thin film can be formed on the aforementioned RTiO 3 (R is an alkaline earth metal atom) and other metal oxides by adjusting the substrate temperature optimal for controlling the crystal in the same manner. For example, when a tin oxide thin film is provided, a thin film of the tin oxide crystal for the purpose is obtained by performing RF sputtering in a mixed atmosphere having a substrate temperature of 120 ° C. and an argon / oxygen ratio of 50/50.
【0051】上記の金属アルコレートを用いる方法
も、バインダーを使用しないで目的の薄膜形成が可能な
方法である。チタン酸バリウムの薄膜を形成するにはバ
リウムエトキシドとチタニウムブトキシドの混合アルコ
ール溶液を表面にSiO2 を有するシリコン基板上に塗
布し、その表面を加水分解したのち、200°C以上に
加熱してチタン酸バリウムの薄膜を形成することが可能
である。本方式の方法も前述した他のRTiO3 (Rは
アルカリ土類金属原子)、AB2-x Cx D3-x Ex O10(A,
B,C,D,Eはそれぞれ前記の定義の内容を表す)、
SnO2 ,SiO 2 ,Bi2O3 及びFeOx(x=1〜
1.5)で示される酸化鉄系の化合物の薄膜形成に適用
することができる。Method using the above metal alcoholate
Also, the desired thin film can be formed without using a binder
Is the way. To form a barium titanate thin film
Mixed alcohol of lium ethoxide and titanium butoxide
Solution on the surface with SiOTwoOn a silicon substrate with
Cloth and after hydrolyzing the surface, to 200 ° C or more
Can be heated to form barium titanate thin film
It is. The method of this method is also similar to the other RTiO described above.Three(R is
Alkaline earth metal atom), AB2-xCxD3-xExOTen(A,
B, C, D, and E respectively represent the contents of the above definition),
SnOTwo, SiO Two, BiTwoOThreeAnd FeOx(X = 1 to
1.5) Application to thin film formation of iron oxide-based compounds
can do.
【0052】上記によって金属酸化物薄膜を形成させ
る方法も、バインダーを含まない系の薄膜の形成が可能
である。SnO2 の薄膜を形成するにはSnCl4 の塩
酸水溶液を200°C以上に加熱した石英又は結晶性ガ
ラス表面に吹きつけて薄膜を生成することができる。本
方式も、SnO2 薄膜のほか,前述したRTiO3 (Rは
アルカリ土類金属原子)、AB2-x Cx D3-x Ex O10(A,
B,C,D,Eはそれぞれ前記の定義の内容を表す)、
Bi2O3 及びFeOx (x=1〜1.5)で示される
酸化鉄系の化合物のいずれの薄膜形成にも適用すること
ができる。The method for forming a metal oxide thin film as described above can also form a binder-free thin film. To form a thin film of SnO 2, a thin film can be formed by spraying a hydrochloric acid aqueous solution of SnCl 4 onto the surface of quartz or crystalline glass heated to 200 ° C. or higher. In this method, in addition to the SnO 2 thin film, RTiO 3 (R is an alkaline earth metal atom), AB 2-x C x D 3-x E x O 10 (A,
B, C, D, and E respectively represent the contents of the above definition),
The present invention can be applied to the formation of any thin film of an iron oxide-based compound represented by Bi 2 O 3 and FeO x (x = 1 to 1.5).
【0053】金属酸化物薄膜の厚みは、上記のいずれの
場合も1〜100000オングストロ−ムがよく、好ま
しくは10〜10000オングストロ−ムである。さら
に好ましくは3000オングストロ−ム以下として光干
渉の歪みを防ぐのがよい。また、光活性化作用を十分に
発現させるには厚みが50オングストローム以上あるこ
とが好都合である。In any of the above cases, the thickness of the metal oxide thin film is preferably 1 to 100,000 angstroms, and more preferably 10 to 10,000 angstroms. More preferably, the thickness is set to 3000 angstroms or less to prevent distortion of light interference. Further, it is convenient that the thickness is 50 Å or more in order to sufficiently exhibit the photoactivation effect.
【0054】バインダーを使用した場合の上記光触媒能
を有する金属酸化物の薄層において、金属酸化物の体積
率は50〜100%であり、好ましくは90%以上を酸
化物が占めるのがよく、さらに好ましくは酸化物の連続
層つまり実質的に100%であるのがよい。In the thin layer of the metal oxide having the photocatalytic ability when the binder is used, the volume ratio of the metal oxide is 50 to 100%, preferably 90% or more, More preferably, it is a continuous layer of oxide, that is, substantially 100%.
【0055】そのほか、ZnO,TiO2 ,SnO2 ,
Al2O3およびFeOx(x=1〜1.5)で示される
酸化鉄系の化合物は、それぞれの金属板の表面を陽極酸
化して得ることもできる。とくにZnO,TiO2 ,A
l2O3 は、陽極酸化によって容易に光触媒能を有する
金属酸化物の皮膜として支持体付きの形で得られる。陽
極酸化の方法は、たとえば、特開平6−35174号公
報の3〜5頁に詳記されている方法、その中に引用され
ている方法、特開昭52−37104号公報に記載の方
法及び本発明の印刷原板用のアルミニウム支持体の陽極
酸化方法として後述する方法など、公知の適当な方法
や、それに準じた方法で行われる。陽極酸化によって原
板材料を作る場合には、その酸化皮膜の厚みは、上記し
た厚みでもよいが、さらに厚くてもよく、2.0ミクロ
ン以下、好ましくは1.0ミクロン以下で用いられる。In addition, ZnO, TiO 2 , SnO 2 ,
Iron oxide-based compounds represented by Al 2 O 3 and FeO x (x = 1 to 1.5) can also be obtained by anodizing the surface of each metal plate. Especially ZnO, TiO 2 , A
l 2 O 3 is easily obtained by anodic oxidation as a supported metal oxide film having a photocatalytic activity. The method of anodizing is described in detail in, for example, JP-A-6-35174, pages 3-5, the method cited therein, the method described in JP-A-52-37104, and The anodizing method of the aluminum support for a printing plate of the present invention is carried out by a known appropriate method such as the method described below, or a method analogous thereto. When the raw material is prepared by anodic oxidation, the thickness of the oxide film may be the above-mentioned thickness, but may be even greater, and is used at 2.0 μm or less, preferably 1.0 μm or less.
【0056】以上で本発明に用いる親水性発現特性を有
する金属酸化物についての説明を終わり、次にこれらの
材料を担持した印刷用原板の形態について述べる。The description of the metal oxide having the property of exhibiting hydrophilicity used in the present invention is completed above, and then, the form of a printing plate carrying these materials is described.
【0057】(印刷用原板の形態)本発明に係わる印刷
原板は、いろいろの形態を用いることができる。例え
ば、親水性発現特性を有する金属酸化物の薄層を印刷機
の版胴の基体表面に蒸着、浸漬あるいは塗布するなどの
方法で直接設けたもの、親水性発現特性を有する金属酸
化物を担持する支持体や、あるいは支持体を持たない親
水性発現特性を有する金属酸化物の薄板を版胴の基体に
巻き付けて印刷版とするものなどを用いることができ
る。また、勿論版胴上で製版する上記形態以外に、一般
的に行われているように、製版を行った印刷版を輪転式
あるいは平台式印刷機に装着する形態を採ってもよい。(Form of Printing Plate) Various forms can be used for the printing plate according to the present invention. For example, a thin layer of a metal oxide having a hydrophilic property is directly provided on the surface of a substrate of a plate cylinder of a printing press by vapor deposition, immersion or application, or a metal oxide having a hydrophilic property is carried. Or a printing plate obtained by winding a thin plate of a metal oxide having a hydrophilicity developing property without a support around a substrate of a plate cylinder. Of course, in addition to the above-described form of making a plate on a plate cylinder, a form in which the plate is made may be mounted on a rotary or flatbed printing press, as is generally performed.
【0058】親水性発現特性を有する金属酸化物が支持
体上に設けられる場合、使用される支持体は、寸度的に
も安定な板状物であり、アルミニウム板、SUS鋼板、
ニッケル板、銅板などの金属板が好ましく、特に可撓性
(フレキシブル)の金属板を用いることが好ましい。ま
た、ポリエステル類やセルローズエステル類などのフレ
キシブルなプラスチック支持体も用いることが出来る。
防水加工紙、ポリエチレン積層紙、含浸紙などの支持体
上に酸化物層を設けてもよく、それを印刷版として使用
してもよい。When a metal oxide having a hydrophilic property is provided on a support, the support used is a plate which is dimensionally stable, and may be an aluminum plate, a SUS steel plate,
A metal plate such as a nickel plate and a copper plate is preferable, and it is particularly preferable to use a flexible metal plate. Further, a flexible plastic support such as polyesters and cellulose esters can also be used.
An oxide layer may be provided on a support such as waterproofed paper, polyethylene laminated paper, or impregnated paper, and it may be used as a printing plate.
【0059】具体的には、紙、プラスチックシート(例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等のシ
ート)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅、ステンレス等)、プラスチックフィ
ルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポ
リビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネー
ト、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。Specifically, paper, paper laminated with a plastic sheet (eg, a sheet of polyethylene terephthalate, polyimide, etc.), a metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, stainless steel, etc.), plastic film (eg, Cellulose acetate, cellulose triacetate,
Cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyimide, polystyrene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or a plastic film on which a metal as described above is laminated or evaporated.
【0060】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、アルミニウム、又は印刷版上
で腐食しにくいSUS板であり、その中でも寸法安定性
がよく、比較的安価であるアルミニウム板と、製版工程
における加熱操作に対して安定性の高いポリイミドフィ
ルムは特に好ましい。A preferred support is a polyester film, a polyimide film, aluminum or a SUS plate which is hardly corroded on a printing plate. Among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive, Polyimide films that are highly stable to operation are particularly preferred.
【0061】好適なポリイミドフィルムは、ピロメリッ
ト酸無水物とm−フェニレンジアミンを重合させたの
ち、環状イミド化したポリイミド樹脂フィルムであり、
このフィルムは市販されている(例えば、東レ・デュポ
ン社製の「カプトン」を挙げることができる)。A preferred polyimide film is a polyimide resin film obtained by polymerizing pyromellitic anhydride and m-phenylenediamine and then performing cyclic imidization.
This film is commercially available (for example, “Kapton” manufactured by Dupont Toray) can be mentioned.
【0062】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしく
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高
々10重量%以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられる金
属支持体の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ま
しくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm
〜0.3mmであり、プラスチックや加工紙などその他の
支持体の厚みはおよそ0.1mm〜2.0mm程度、好まし
くは0.2mm〜1.0mmである。Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the metal support used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm
The thickness of other supports such as plastic and processed paper is about 0.1 mm to 2.0 mm, preferably 0.2 mm to 1.0 mm.
【0063】アルミニウム支持体を用いる場合は、表面
を粗面化して用いることが好ましい。その場合、所望に
より、粗面化に先立って表面の圧延油を除去するため
の、例えば界面活性剤、有機溶剤または無電解メッキ用
水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板
の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、
例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を
溶解粗面化する方法および化学的に表面を選択溶解させ
る方法により行われる。機械的方法としては、ボール研
磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法など
の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的
な粗面化法としては塩酸または硝酸電解液中で交流また
は直流により行うなど公知の方法を利用することができ
る。また、粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じ
てアルカリエッチング処理および中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。陽極酸化の電解質の濃度は電解質の
種類によって適宜決められる。When an aluminum support is used, the surface is preferably roughened. In this case, if necessary, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an aqueous solution for electroless plating, or the like is performed to remove rolling oil on the surface prior to roughening. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods.
For example, it is performed by a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving and roughening the surface, and a method of chemically selectively dissolving the surface. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. In addition, as the electrochemical surface roughening method, a known method such as performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte can be used. Further, the roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment as necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if necessary, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. The concentration of the anodic oxidation electrolyte is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.
【0064】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量が1.0g/m2より少ないと、耐刷性が不十分であっ
たり、平板印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used and cannot be specified unconditionally.
It is appropriate that the current density is 5 to 60 A / dm 2 , the voltage is 1 to 100 V, and the electrolysis time is 10 seconds to 5 minutes. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched, and the ink adheres to the scratched area during printing. So-called "scratch dirt"
Tends to occur.
【0065】印刷用原板の高温親水性発現特性を高める
には、断熱層を画像形成層の下層に設けることが有効で
ある。光熱変換による描画を行う場合には、その光に対
して機能性表面が透明である場合には下層に光熱変換層
を設けてもよい。In order to enhance the high-temperature hydrophilicity developing characteristics of the printing original plate, it is effective to provide a heat insulating layer below the image forming layer. When drawing by light-to-heat conversion is performed, a light-to-heat conversion layer may be provided as a lower layer when the functional surface is transparent to the light.
【0066】以上で本発明の印刷方法に使用する親水性
発現特性を有する金属酸化物を使用した印刷用原板の材
料と支持体および構成について説明した。次にこの印刷
用原板を用いる製版方法について、前記した第1〜5の
各操作の順に説明する。The material, the support, and the structure of the printing original plate using the metal oxide having a hydrophilic property used in the printing method of the present invention have been described above. Next, a plate making method using this printing original plate will be described in the order of the first to fifth operations.
【0067】〔製版工程〕 (全面疎水性化)第1段階は、前記したように親水性発
現特性を有する金属酸化物の全面疎水性化である。全面
疎水性化は、前記したように有機化合物と接触させて行
うか、あるいは加熱によって疎水性に変化する性質を有
する物質の場合は、その物質を疎水性発現温度に加熱す
ることによっても行われる。後者の場合は、有機化合物
が存在すると疎水性化が促進されることを見いだしてい
るので、疎水性発現温度で有機化合物を接触させること
も好ましい。また、有機化合物と接触させる方法は、気
相接触、塗布、噴霧、浸漬などの方法を用いることがで
きることも前記した通りである。[Plate Making Step] (Entire Hydrophobicity) The first step is to make the metal oxide having the property of exhibiting hydrophilicity entirely hydrophobic as described above. The entire surface is rendered hydrophobic by contacting it with an organic compound as described above, or, in the case of a substance having a property of changing to hydrophobic by heating, by heating the substance to a hydrophobic expression temperature. . In the latter case, it has been found that the presence of an organic compound promotes hydrophobicity. Therefore, it is also preferable to contact the organic compound at a temperature at which hydrophobicity is developed. Further, as described above, the method of bringing the organic compound into contact with the organic compound can be a method such as gas phase contact, coating, spraying, and dipping.
【0068】疎水性化に用いられる有機化合物について
述べる。原板の表面を疎水性化する効果をもつ好ましい
有機化合物は、温度400℃における蒸気圧が少なくと
も1mmHgで、かつ蒸気圧が1mmHgとなる温度に
おいて安定な有機化合物である。つまり、この程度の蒸
気圧を有している有機化合物が原板に接触できる状態で
存在すると親水性と疎水性の識別性の向上が引き起こさ
れる。より好ましくは、温度300℃における蒸気圧が
少なくとも1mmHgで、かつ蒸気圧が1mmHgとな
る温度において安定な有機化合物である。さらに好まし
くは、沸点が30〜400℃にあって、かつ30〜40
0℃の温度範囲で安定な有機化合物であり、中でも好ま
しい沸点範囲は50〜350℃である。The organic compound used for hydrophobicity will be described. Preferred organic compounds having the effect of making the surface of the original plate hydrophobic are those which have a vapor pressure of at least 1 mmHg at a temperature of 400 ° C. and are stable at a temperature at which the vapor pressure becomes 1 mmHg. That is, if an organic compound having such a vapor pressure is present in a state in which it can come into contact with the original plate, the discrimination between hydrophilicity and hydrophobicity is improved. More preferably, it is an organic compound which has a vapor pressure of at least 1 mmHg at a temperature of 300 ° C. and is stable at a temperature at which the vapor pressure becomes 1 mmHg. More preferably, the boiling point is 30 to 400 ° C and 30 to 40
It is an organic compound that is stable in a temperature range of 0 ° C, and a preferred boiling point range is 50 to 350 ° C.
【0069】別の観点からは、20℃において少なくと
も10mmHgの蒸気圧を持つ有機化合物が好ましい。
また、固体化合物においては、エタノール、アセトン、
ベンゾールあるいは2,2,4−トリメチルペンタンの
ような有機溶媒に溶解するものが、溶液の状態で原板に
適用できるので好ましい。この温度範囲の沸点をもつ有
機化合物は、具体的には脂肪族及び芳香族炭化水素、脂
肪族及び芳香族カルボン酸、脂肪族及び芳香族アルコー
ル、脂肪族及び芳香族エステル、脂肪族及び芳香族エー
テル、有機アミン類、有機珪素化合物、また、効果は大
きくはないが印刷用インキに添加できることが知られて
いる各種溶剤や可塑剤類の中に見られる。From another viewpoint, an organic compound having a vapor pressure of at least 10 mmHg at 20 ° C. is preferable.
In the case of solid compounds, ethanol, acetone,
Those which are dissolved in an organic solvent such as benzol or 2,2,4-trimethylpentane are preferable because they can be applied to the original plate in the form of a solution. Organic compounds having a boiling point in this temperature range include aliphatic and aromatic hydrocarbons, aliphatic and aromatic carboxylic acids, aliphatic and aromatic alcohols, aliphatic and aromatic esters, aliphatic and aromatic It is found in ethers, organic amines, organic silicon compounds, and various solvents and plasticizers which are not so effective but can be added to printing inks.
【0070】好ましい脂肪族炭化水素は、炭素数8〜3
0の、より好ましくは炭素数8〜20の脂肪族炭化水素
であり、好ましい芳香族炭化水素は、炭素数6〜40
の、より好ましくは炭素数6〜20の芳香族炭化水素で
ある。好ましい脂肪族アルコールは、炭素数2〜30
の、より好ましくは炭素数2〜18の脂肪族アルコール
であり、好ましい芳香族アルコールは、炭素数6〜30
の、より好ましくは炭素数6〜18の芳香族アルコール
である。好ましい脂肪族カルボン酸は、炭素数2〜24
の脂肪族カルボン酸であり、より好ましくは炭素数2〜
20の脂肪族モノカルボン酸及び炭素数4〜12の脂肪
族ポリカルボン酸であり、また、好ましい芳香族カルボ
ン酸は、炭素数6〜30の、より好ましくは炭素数6〜
18の芳香族カルボン酸である。好ましい脂肪族エステ
ルは、炭素数2〜30の、より好ましくは炭素数2〜1
8の脂肪酸エステルであり、好ましい芳香族エステル
は、炭素数8〜30の、より好ましくは炭素数8〜18
の芳香族カルボン酸エステルである。好ましい脂肪族エ
ーテルは、炭素数8〜36の、より好ましくは炭素数8
〜18の脂肪族エーテルであり、好ましい芳香族エーテ
ルは、炭素数7〜30の、より好ましくは炭素数7〜1
8の芳香族エーテルである。そのほか、炭素数7〜30
の、より好ましくは炭素数7〜18の脂肪族あるいは芳
香族アミドも用いることができる。Preferred aliphatic hydrocarbons are those having 8 to 3 carbon atoms.
0, more preferably an aliphatic hydrocarbon having 8 to 20 carbon atoms, and a preferred aromatic hydrocarbon is 6 to 40 carbon atoms.
And more preferably an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms. Preferred aliphatic alcohols have 2 to 30 carbon atoms.
Are more preferably aliphatic alcohols having 2 to 18 carbon atoms, and preferred aromatic alcohols are those having 6 to 30 carbon atoms.
And more preferably an aromatic alcohol having 6 to 18 carbon atoms. Preferred aliphatic carboxylic acids have 2 to 24 carbon atoms.
Aliphatic carboxylic acid, more preferably having 2 to 2 carbon atoms
Preferred are aliphatic monocarboxylic acids having 20 and aliphatic polycarboxylic acids having 4 to 12 carbon atoms, and preferred aromatic carboxylic acids are those having 6 to 30 carbon atoms, and more preferably having 6 to 30 carbon atoms.
18 aromatic carboxylic acids. Preferred aliphatic esters have 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 1 carbon atoms.
And preferred aromatic esters are those having 8 to 30 carbon atoms, more preferably 8 to 18 carbon atoms.
Is an aromatic carboxylate. Preferred aliphatic ethers are those having 8 to 36 carbon atoms, more preferably 8 carbon atoms.
To 18 aliphatic ethers, and preferred aromatic ethers are those having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 1 carbon atoms.
8 aromatic ethers. In addition, carbon number 7-30
And more preferably an aliphatic or aromatic amide having 7 to 18 carbon atoms.
【0071】具体例としては、2,2,4−トリメチル
ペンタン(イソオクタン)、n−ノナン、n−デカン、
n−ヘキサデカン、オクタデカン、エイコサン、メチル
ヘプタン、2,2−ジメチルヘキサン、2−メチルオク
タンなどの脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クメン、ナフタレン、アントラセン、スチレンな
どの芳香族炭化水素;ドデシルアルコール、オクチルア
ルコール、n−オクタデシルアルコール、2−オクタノ
ール、ラウリルアルコールなどの1価アルコール;プロ
ピレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、グリセリン、ヘキシレングリコー
ル、ジプロピレングリコールなどの多価アルコール;ベ
ンジルアルコール、4−ヒドロキシトルエン、フェネチ
ルアルコール、1−ナフトール、2−ナフトール、カテ
コール、フェノールなどの芳香族アルコール;酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、カプロン酸、アクリル酸、クロトン
酸、カプリン酸、ステアリン酸、オレイン酸などの脂肪
族1価カルボン酸;しゅう酸、琥珀酸、アジピン酸、マ
レイン酸、グルタール酸などの多価脂肪族カルボン酸;
安息香酸、2−メチル安息香酸、4−メチル安息香酸な
どの芳香族カルボン酸;酢酸エチル、酢酸イソブチル、
酢酸−n−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル、酪酸メチル、アクリル酸メチル、しゅう酸ジメ
チル、琥珀酸ジメチル、クロトン酸メチルなどの脂肪族
エステル;安息香酸メチル、2−メチル安息香酸メチル
などの芳香族カルボン酸エステル;イミダゾール、トリ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンテ
トラミン、アニリン、オクチルアミン、アニリン、フェ
ネチルアミンなどの有機アミン;アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゾフェノンな
どのケトン類、メトキシベンゼン、エトキシベンゼン、
メトキシトルエン、ラウリルメチルエーテル、ステアリ
ルメチルエーテルなどのエーテル及びステアリルアミ
ド、ベンゾイルアミド、アセトアミドなどのアミド類が
挙げられる。Specific examples include 2,2,4-trimethylpentane (isooctane), n-nonane, n-decane,
Aliphatic hydrocarbons such as n-hexadecane, octadecane, eicosane, methylheptane, 2,2-dimethylhexane and 2-methyloctane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene, naphthalene, anthracene and styrene; dodecyl Monohydric alcohols such as alcohol, octyl alcohol, n-octadecyl alcohol, 2-octanol and lauryl alcohol; polyhydric alcohols such as propylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, glycerin, hexylene glycol, dipropylene glycol; benzyl alcohol , 4-hydroxytoluene, phenethyl alcohol, 1-naphthol, 2-naphthol, catechol, aromatic alcohols such as phenol; acetic acid, propionic acid, butyric acid, Prong acid, acrylic acid, crotonic acid, capric acid, stearic acid, aliphatic monocarboxylic acids such as oleic acid; oxalic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, polyvalent aliphatic carboxylic acids such as glutaric acid;
Aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, 2-methylbenzoic acid and 4-methylbenzoic acid; ethyl acetate, isobutyl acetate,
Aliphatic esters such as n-butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, methyl butyrate, methyl acrylate, dimethyl oxalate, dimethyl succinate and methyl crotonate; and methyl benzoate and methyl 2-methylbenzoate Aromatic carboxylic esters; organic amines such as imidazole, triethanolamine, diethanolamine, cyclohexylamine, hexamethylenetetramine, triethylenetetramine, aniline, octylamine, aniline, and phenethylamine; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and benzophenone , Methoxybenzene, ethoxybenzene,
Examples include ethers such as methoxytoluene, lauryl methyl ether, and stearyl methyl ether, and amides such as stearyl amide, benzoyl amide, and acetamide.
【0072】また、印刷用インキの成分であるアマニ
油、大豆油、けし油、サフラワー油などの油脂類、燐酸
トリブチル、燐酸トリクレシル、フタール酸ジブチル、
ラウリン酸ブチル、フタール酸ジオクチル、パラフィン
ワックスなどの可塑剤も挙げられる。Further, oils and fats such as linseed oil, soybean oil, poppy oil, and safflower oil which are components of the printing ink, tributyl phosphate, tricresyl phosphate, dibutyl phthalate,
Plasticizers such as butyl laurate, dioctyl phthalate, and paraffin wax are also included.
【0073】そのほか、沸点が前記の好ましい範囲にあ
るエチレングリコールモノエチルエーテル、シクロヘキ
サノン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソ
ルブアセテート、1,4−ジオキサン、ジメチルホルム
アミド、アクリロニトリルなどの有機溶剤も使用するこ
とができる。In addition, organic solvents such as ethylene glycol monoethyl ether, cyclohexanone, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, 1,4-dioxane, dimethylformamide and acrylonitrile having a boiling point within the above preferred range can also be used.
【0074】好ましい有機珪素化合物は、ジメチルシリ
コーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどで
代表されるオルガノポリシロキサン化合物であり、とく
に重合度が12以下のオルガノポリシロキサン類であ
る。これらの好ましいオルガノポリシロキサンはシロキ
サン結合単位当たり1〜2個の有機基が結合しており、
その有機基は、炭素数が1〜18のアルキル基及びアル
コキシ基、炭素数が2〜18のアルケニル基及びアルキ
ニル基、炭素数が6〜18のアリール基、炭素数が7〜
18のアラルキル基、炭素数が5〜20の脂環式基であ
る。また、これらの有機置換基には、さらにハロゲン原
子、カルボキシル基、ヒドロキシ基が置換してもよい。
また、上記のアリール基、アラルキル基、脂環式基に
は、上記の炭素数の範囲でメチル基、エチル基又はプロ
ピル基などの低級アルキル基がさらに置換していてもよ
い。Preferred organosilicon compounds are organopolysiloxane compounds typified by dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, etc., and especially organopolysiloxanes having a degree of polymerization of 12 or less. These preferred organopolysiloxanes have one to two organic groups attached per siloxane bond unit,
The organic group includes an alkyl group and an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group and an alkynyl group having 2 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, and a carbon atom having 7 to 18 carbon atoms.
An aralkyl group of 18 and an alicyclic group having 5 to 20 carbon atoms. Further, these organic substituents may be further substituted with a halogen atom, a carboxyl group, or a hydroxy group.
Further, the above-mentioned aryl group, aralkyl group and alicyclic group may be further substituted with a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group within the above-mentioned carbon number range.
【0075】本発明に使用できる好ましい有機珪素化合
物の具体例は、下記の化合物であるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。好ましいポリオルガノシロ
キサン類としては、炭素数1〜5のアルキル基を有す
るジアルキルシロキサン基、炭素数1〜5のアルコキ
シ基を有するジアルコキシシロキサン基、炭素数1〜
5のアルコキシ基とフェニル基を有するアルコキシフェ
ニルシロキサン基及びエトキシメトキシシロキサン基
又はメトキシエトキシシロキサン基のうち、少なくとも
一つを繰り返し単位として含み、重合度が2〜12、よ
り好ましくは2〜10のポリオルガノシロキサンであ
る。また、その端末基は、炭素数1〜5のアルキル基、
アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数1〜5のヒドロキアル
キル基又は炭素数1〜5のアルコキシ基である。より好
ましい端末基は、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、メ
トキシ基及びエトキシ基である。Specific examples of preferred organosilicon compounds that can be used in the present invention are the following compounds, but the present invention is not limited thereto. Preferred polyorganosiloxanes include a dialkylsiloxane group having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a dialkoxysiloxane group having an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and a 1 to 1 carbon atom.
5, at least one of an alkoxyphenylsiloxane group having an alkoxy group and a phenyl group and an ethoxymethoxysiloxane group or a methoxyethoxysiloxane group as a repeating unit, and having a degree of polymerization of 2 to 12, more preferably 2 to 10 It is an organosiloxane. Further, the terminal group is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,
It is an amino group, a hydroxy group, a C1-5 hydroxyalkyl group or a C1-5 alkoxy group. More preferred terminal groups are methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, t-butyl, methoxy and ethoxy.
【0076】その中でも好ましいシロキサン化合物は、
重合度が2〜10のジメチルポリシロキサン、重合度が
2〜10のジメチルシロキサン−メチルフェニルシロキ
サン共重合物、重合度が2〜8のジメチルシロキサン−
ジフェニルシロキサン共重合物、重合度が2〜8のジメ
チルシロキサン−モノメチルシロキサン共重合物でこれ
らのポリシロキサン化合物の端末はトリメチルシラン基
である。そのほか、1,3−ビス(3−アミノプロピ
ル)テトラメチルジシロキサン、1,5−ビス(3−ア
ミノプロピル)ヘキサメチルトリシロキサン、1,3−
ジブチル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン、1,5−ジブチル−1,1,3,3,5,5−ヘキ
サエチルトリシロキサン、1,1,3,3,5,5−ヘ
キサエチル−1,5−ジクロロトリシロキサン、3−
(3,3,3−トリフルオロプロピル)−1,1,3,
3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサン、デカ
メチルテトラシロキサンなどが挙げられる。Among them, preferred siloxane compounds are
Dimethylpolysiloxane having a polymerization degree of 2 to 10, dimethylsiloxane having a polymerization degree of 2 to 10-methylphenylsiloxane copolymer, dimethylsiloxane having a polymerization degree of 2 to 8
A diphenylsiloxane copolymer, a dimethylsiloxane-monomethylsiloxane copolymer having a degree of polymerization of 2 to 8, and the terminal of these polysiloxane compounds is a trimethylsilane group. In addition, 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,5-bis (3-aminopropyl) hexamethyltrisiloxane,
Dibutyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,5-dibutyl-1,1,3,3,5,5-hexaethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5- Hexaethyl-1,5-dichlorotrisiloxane, 3-
(3,3,3-trifluoropropyl) -1,1,3
3,5,5,5-heptamethyl-trisiloxane, decamethyltetrasiloxane and the like.
【0077】特に好ましいシロキサン化合物として、市
販のいわゆるシリコーンオイルがあり、ジメチルシリコ
ーンオイル(市販品では、例えばシリコーンKF96
(信越化学工業(株)製)、メチルフェニルシリコーン
オイル(市販品では、例えばシリコーンKF50(信越
化学工業(株)製)、メチルハイドロジェンシリコーン
オイル(市販品では、例えばシリコーンKF99(信越
化学工業(株)製)が挙げられる。As particularly preferred siloxane compounds, there are commercially available so-called silicone oils, and dimethyl silicone oil (a commercially available product such as silicone KF96
(Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), methylphenyl silicone oil (commercially available, for example, silicone KF50 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)), and methyl hydrogen silicone oil (commercially available, for example, silicone KF99 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd.).
【0078】そのほか、n−デシルトリメトキシシラ
ン、n−デシルトリ−t−ブトキシシラン、n−オクタ
デシルトリメトキシシラン、n−オクタデシルトリエト
キシシラン、ジメトキシジエトキシシランなどのシラン
化合物も挙げらることができる。In addition, silane compounds such as n-decyltrimethoxysilane, n-decyltri-t-butoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane and dimethoxydiethoxysilane can also be mentioned. .
【0079】上記の有機化合物のうち、とくに好ましい
化合物は、シリコーンオイル、脂肪酸、そのグリセリン
エステル及びそのアミド、及び炭素数6以上の脂肪族ア
ルコールである。また、別の観点からは、有機概念図に
おける有機性が80〜1200(ポリマーの場合は繰り
返し単位当たり)、好ましくは100〜600であり、
その有機性/無機性の比が0.8〜無限大(すなわち無
機性が0)、好ましくは1.0〜10の範囲に入る有機
化合物である。有機概念図については、田中善生著「有
機概念図」(三共出版社、1983年初版刊行)の1〜
31頁に詳記されている。有機概念図上の上記の範囲の
有機化合物が疎水性化を促進する作用を持つ理由は不明
であるが、この範囲の化合物は中程度の極性を有し、か
つ有機性が比較的大きい化合物であり、その適度の極性
が、原板への吸着力をもたらし、その比較的大きな有機
性が原板表面の吸着面を疎水性にするものと推定してい
る。Among the above organic compounds, particularly preferred compounds are silicone oil, fatty acids, glycerin esters and amides thereof, and aliphatic alcohols having 6 or more carbon atoms. Further, from another viewpoint, the organicity in the organic conceptual diagram is from 80 to 1200 (in the case of a polymer, per repeating unit), preferably from 100 to 600,
Organic compounds whose organic / inorganic ratio is in the range of 0.8 to infinity (that is, the inorganicity is 0), preferably 1.0 to 10. For the concept of organic concept, please refer to Yoshio Tanaka's "Concept of Organic Concept" (Sankyo Shuppansha, first edition published in 1983).
It is described in detail on page 31. It is unknown why the organic compounds in the above range on the organic conceptual diagram have an action of promoting hydrophobicity, but the compounds in this range have a moderate polarity and are relatively organic compounds. It is presumed that the appropriate polarity brings the adsorbing force to the original plate, and that its relatively large organic property makes the adsorption surface of the original plate hydrophobic.
【0080】有機化合物を印刷用原板表面に接触させる
好ましい方法は、低沸点の有機化合物の場合は、蒸気曝
気用の外套を設けてその中に化合物充填容器を置いて、
有機化合物の蒸気を外套内に存在させて、外套内の印刷
用原板が蒸気に曝される状態にするのがよい。また、有
機化合物を含浸させた紙、布、ゼオライト、珪草土など
を外套内に挿入するのもよい。A preferable method for bringing the organic compound into contact with the surface of the printing plate is that, in the case of a low-boiling organic compound, a jacket for vapor aeration is provided and a compound-filled container is placed in the jacket.
The vapor of the organic compound may be present in the mantle so that the printing plate in the mantle is exposed to the vapor. Further, paper, cloth, zeolite, diatomaceous earth, or the like impregnated with an organic compound may be inserted into the mantle.
【0081】有機化合物が液体の場合は、上記の外套の
中に、有機化合物の液体を塗布、噴霧又は浸漬する装置
を設けて原板表面に有機化合物を直接接触させる。ま
た、固体有機化合物の場合は、適当な有機溶剤、たとえ
ばメタノール、アセトン、ベンゾール、2、2、4−ト
リメチルペンタン又は前記した本発明に好ましい有機化
合物から液体のものを選んでその中に溶解して溶液とし
て上記した方法で接触させてもよい。これらの有機化合
物の印刷用原板への接触方法の具体例は、実施例の中に
示す。When the organic compound is a liquid, a device for applying, spraying or dipping the liquid of the organic compound is provided in the above-mentioned mantle to bring the organic compound into direct contact with the surface of the original plate. In the case of a solid organic compound, an appropriate organic solvent such as methanol, acetone, benzol, 2,2,4-trimethylpentane or a liquid organic compound selected from the above-mentioned preferred organic compounds of the present invention is dissolved and dissolved therein. May be brought into contact as a solution by the method described above. Specific examples of the method of contacting these organic compounds with the printing original plate will be described in Examples.
【0082】光触媒能を有する金属酸化物の多くのも
の、例えばTiO2 、RTiO3 、AB2-x Cx D3-x E
x O10(A,B,C,D,Eの内容は前記した通り)、
ZnOおよびSnO2 など、および高温親水性発現特
性を有する金属酸化物は、適度に加熱すると疎水性とな
る性質をもっている。疎水性発現温度は、通常50〜2
50℃であり、親水性発現温度よりも低い温度である。
有機化合物を存在させる疎水性化方法に代えて、疎水性
発現温度で加熱する疎水性化方法を用いてもよく、また
その際に有機化合物を存在させて疎水性化を促進させて
もよい。以上で疎水性化の方法及び操作の説明を終わ
り、次の段階である疎水性化した表面へ像様に光照射す
るか、像様に加熱して疎水性領域と親水性領域の像様分
布を形成する像様親水性化について説明する。Many of the metal oxides having photocatalytic properties, such as TiO 2 , RTiO 3 , AB 2-x C x D 3-x E
x O 10 (the contents of A, B, C, D and E are as described above),
ZnO and SnO 2 , and metal oxides having high-temperature hydrophilicity developing properties have a property of becoming hydrophobic when heated appropriately. The temperature for developing hydrophobicity is usually 50 to 2
50 ° C., which is lower than the hydrophilic expression temperature.
Instead of the hydrophobic method in which an organic compound is present, a hydrophobic method in which heating is performed at a temperature at which hydrophobicity is exhibited may be used. In that case, an organic compound may be present to promote hydrophobicity. This concludes the description of the method and operation of hydrophobization. The next step is to irradiate the hydrophobized surface imagewise with light, or to heat imagewise to obtain an imagewise distribution of the hydrophobic region and the hydrophilic region. Will be described.
【0083】(像様親水性化)印刷用原板が光触媒能を
有する材料で作られている場合は、その表面に像様に光
照射して親水性領域を形成させる。その光源は、光触媒
能を有する金属酸化物の感光域の波長の光、すなわち光
吸収域に相当する波長の光を発する光源である。例えば
光触媒能を有する金属酸化物が酸化チタンの場合では、
アナターゼ型が387nm以下、ルチル型が413nm
以下、酸化亜鉛は387nm以下に、その他の多くの金
属酸化物の場合も250〜390nmの紫外部に感光域
を有しており、また、酸化亜鉛の場合は、固有吸収波長
域(紫外線領域)のほかに、既知の方法で分光増感を行
って適用できる活性光の波長領域を拡げることもでき、
したがって使用される光源は、これらの波長領域の光を
発する光源であり、主として紫外線を発する光源といえ
る。活性光の光触媒作用によって親水性領域の像様の分
布を形成させる手段には、面露光方式、走査方式のいず
れでもよい。(Imprinting hydrophilicity) When the printing original plate is made of a material having photocatalytic ability, the surface thereof is irradiated with light imagewise to form a hydrophilic region. The light source is a light source that emits light having a wavelength in a photosensitive region of a metal oxide having photocatalytic ability, that is, light having a wavelength corresponding to a light absorption region. For example, when the metal oxide having photocatalytic ability is titanium oxide,
Anatase type is 387 nm or less, rutile type is 413 nm
In the following, zinc oxide has a photosensitive region at 387 nm or less, and many other metal oxides also have a photosensitive region in the ultraviolet region of 250 to 390 nm, and in the case of zinc oxide, a specific absorption wavelength region (ultraviolet region). Besides, it is also possible to broaden the wavelength range of active light that can be applied by performing spectral sensitization by a known method,
Therefore, the light source used is a light source that emits light in these wavelength regions, and can be said to be a light source that mainly emits ultraviolet light. Means for forming an imagewise distribution of the hydrophilic region by the photocatalytic action of the active light may be any of a surface exposure method and a scanning method.
【0084】面露光方式の場合は、一様な光をマスク画
像(例えば印刷原稿を現像したリスフィルム)を通して
原板上に照射して、照射領域の表面を親水性化する方式
が行われる。支持体が透明である場合は、支持体の裏側
から支持体とマスク画像を通して露光することもでき
る。面露光方式で活性光の照射を行うのに適した光源
は、水銀灯、タングステンハロゲンランプ、その他のメ
タルハライドランプ、キセノン放電灯などである。その
露光時間は、上記の露光強度が得られるように露光照度
を勘案して決定される。In the case of the surface exposure method, a method is used in which uniform light is irradiated onto the original plate through a mask image (for example, a lith film developed from a printed document) to make the surface of the irradiated area hydrophilic. When the support is transparent, exposure can be performed through the support and the mask image from the back side of the support. Light sources suitable for irradiating the active light by the surface exposure method include mercury lamps, tungsten halogen lamps, other metal halide lamps, xenon discharge lamps, and the like. The exposure time is determined in consideration of the exposure illuminance so as to obtain the above exposure intensity.
【0085】好ましい照射光の強さは、光触媒能を有す
る金属酸化物の性質によって異なり、また活性光の波
長、分光分布及び光触媒能を有する金属酸化物の光吸収
率によっても異なるが、通常はマスク画像(例えば現像
済みリスフィルム)で変調する前の面露光強度が0.0
5〜100joule/cm2 ,好ましくは0.05〜
10joule/cm2 ,より好ましくは0.05〜5
joule/cm2 である。また、光触媒反応には相反
則が成立することが多く、例えば10mW/cm2で1
00秒の露光を行っても、1W/cm2 で1秒の露光を
行っても、同じ効果が得られる場合も多く、このような
場合には、活性光を発光する光源の選択の幅は広くな
る。The preferable intensity of the irradiation light depends on the properties of the metal oxide having photocatalytic ability, and also depends on the wavelength of the active light, the spectral distribution and the light absorption of the metal oxide having photocatalytic ability. The surface exposure intensity before modulation with a mask image (for example, a developed lith film) is 0.0
5 to 100 joule / cm 2 , preferably 0.05 to
10 joule / cm 2 , more preferably 0.05 to 5
joule / cm 2 . Also, often the photocatalytic reaction reciprocity is satisfied, for example, at 10 mW / cm 2 1
In many cases, the same effect can be obtained regardless of whether exposure is performed for 00 seconds or for 1 second at 1 W / cm 2. In such a case, the range of selection of a light source that emits active light is limited. Become wider.
【0086】後者、すなわち走査式露光の場合には、画
像マスクを使用する代わりにレーザービームを画像で電
気的に変調して原板上を走査する方式が行われる。レー
ザー光源は、活性光のビームを発振する公知のレーザー
を用いることができる。例えば、励起光として発振波長
を325nmに有するヘリウムカドミウムレーザー、発
振波長を351.1〜363.8nmに有する水冷アル
ゴンレーザー、330〜440nmに有する硫化亜鉛/
カドミウムレーザーなどを用いることができる。さら
に、紫外線レーザー、近紫外線レーザー発振が確認され
ている発振波長を360〜440nmに有する窒化ガリ
ウム系のInGaN系量子井戸半導体レーザー、及び発
振波長を360〜430nmに有する導波路MgO−L
iNb03反転ドメイン波長変換型のレーザーを使用す
ることもできる。レーザー出力が0.1〜300Wのレ
ーザーで照射をすることができる。また、パルスレーザ
ーを用いる場合には、ピーク出力が1000W、好まし
くは2000Wのレーザーを照射するのが好ましい。支
持体が透明である場合は、支持体の裏側から支持体を通
して露光することもできる。In the latter case, that is, in the case of scanning exposure, a method of scanning a master by electrically modulating a laser beam with an image instead of using an image mask is performed. As the laser light source, a known laser that oscillates a beam of active light can be used. For example, a helium cadmium laser having an oscillation wavelength of 325 nm, a water-cooled argon laser having an oscillation wavelength of 351.1 to 363.8 nm, and a zinc sulfide having an oscillation wavelength of 330 to 440 nm are used as excitation light.
Cadmium laser or the like can be used. Further, an ultraviolet laser, a gallium nitride-based InGaN-based quantum well semiconductor laser having an oscillation wavelength of 360 to 440 nm, for which near-ultraviolet laser oscillation has been confirmed, and a waveguide MgO-L having an oscillation wavelength of 360 to 430 nm
An iNb03 inversion domain wavelength conversion type laser can also be used. Irradiation can be performed with a laser having a laser output of 0.1 to 300 W. When a pulse laser is used, it is preferable to irradiate a laser having a peak output of 1000 W, preferably 2000 W. When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support.
【0087】一方、印刷用原板が高温親水性発現特性を
有する金属酸化物で作られている場合には、疎水性化し
た表面を高温親水性発現温度で像様加熱して親水性領域
を付与する。この場合、印刷用原板表面に像様分布を形
成する時の印刷用原板表面の温度は、高温親水性発現特
性を有する金属酸化物の疎水性発現温度より大きいこと
が必要であり、その金属酸化物の物性にもよるが、その
疎水性発現温度が50〜300℃である場合、通常、1
00〜300℃、好ましくは150〜250℃の範囲で
ある。On the other hand, when the printing plate is made of a metal oxide having a high-temperature hydrophilicity developing characteristic, the hydrophobicized surface is imagewise heated at a high-temperature hydrophilicity developing temperature to provide a hydrophilic region. I do. In this case, the temperature of the printing original plate surface at the time of forming an image-like distribution on the printing original plate surface needs to be higher than the hydrophobic expression temperature of the metal oxide having the high-temperature hydrophilicity developing characteristics. Although it depends on the physical properties of the substance, when the hydrophobic development temperature is 50 to 300 ° C., usually 1
It is in the range of 00 to 300 ° C, preferably 150 to 250 ° C.
【0088】光加熱方式の像様加熱は、面露光方式、走
査方式のいずれでもよい。前者の場合は、赤外線照射方
式や、キセノン放電灯の高照度の短時間光をマスク画像
を通して印刷用原板上に照射して光・熱変換によって熱
を発生させる方式である。赤外線灯などの面露光光源を
使用する場合には、その照度によっても好ましい露光量
は変化するが、通常は、印刷用画像で変調する前の面露
光強度が0.1〜10J/cm2 の範囲であることが好まし
く、0.3〜1J/cm2 の範囲であることがより好まし
い。支持体が透明である場合は、支持体の裏側から支持
体とマスク画像を通して露光することもできる。その露
光時間は、0.01μsec〜10msec、好ましく
は0.1μsec〜1msecの照射で上記の露光強度
が得られるように露光照度を選択するのが好ましい。照
射時間が長い場合には、熱エネルギーの生成速度と生成
した熱エネルギーの拡散速度の競争関係から露光強度を
増加させる必要が生じる。The imagewise heating of the light heating system may be either a surface exposure system or a scanning system. In the former case, an infrared irradiation method or a method in which high-intensity short-time light from a xenon discharge lamp is irradiated onto a printing original plate through a mask image to generate heat by light-heat conversion. When a surface exposure light source such as an infrared lamp is used, the preferable exposure amount varies depending on the illuminance, but usually, the surface exposure intensity before being modulated with a print image is 0.1 to 10 J / cm 2 . It is preferably in the range, more preferably in the range of 0.3 to 1 J / cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support and the mask image from the back side of the support. The exposure time is preferably selected so that the above-mentioned exposure intensity can be obtained by irradiation of 0.01 μsec to 10 msec, preferably 0.1 μsec to 1 msec. When the irradiation time is long, it is necessary to increase the exposure intensity due to the competition between the heat energy generation rate and the generated heat energy diffusion rate.
【0089】後者、すなわち走査方式の場合には、赤外
線レーザー光源を使用して、レーザービームを画像で変
調して印刷用原板上を走査する方式が行われる。レーザ
ー光源の例として、近赤外線、赤外線の成分の多い半導
体レーザー、ガスレーザー、ヘリウムカドミウムレーザ
ー、YAGレーザーを挙げることができる。レーザー出
力が0.1〜300Wのレーザーで照射をすることがで
きる。また、パルスレーザーを用いる場合には、ピーク
出力が1000W、好ましくは2000Wのレーザーを
照射するのが好ましい。支持体が透明である場合は、支
持体の裏側から支持体を通して露光することもできる。
光で加熱する場合は、例えば印刷用原板に光熱変換層を
設けて、その層に光エネルギーを吸収させ、熱を発生さ
せることができる。あるいは、高温親水性発現特性を有
する金属それ自体が光を吸収して自ら発熱することによ
り加熱することもできる。光熱変換層としては、カーボ
ンブラックやシアン染料、ピリリウム染料などを含む層
が挙げられる。In the latter case, that is, in the case of the scanning method, a method of modulating a laser beam with an image using an infrared laser light source and scanning the original plate for printing is performed. Examples of the laser light source include a semiconductor laser, a gas laser, a helium cadmium laser, and a YAG laser having many components of near infrared rays and infrared rays. Irradiation can be performed with a laser having a laser output of 0.1 to 300 W. When a pulse laser is used, it is preferable to irradiate a laser having a peak output of 1000 W, preferably 2000 W. When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support.
When heating with light, for example, a light-to-heat conversion layer may be provided on a printing original plate, and the layer may absorb light energy to generate heat. Alternatively, it is also possible to heat the metal itself having high-temperature hydrophilicity characteristics by absorbing light and generating heat by itself. Examples of the light-to-heat conversion layer include a layer containing carbon black, a cyan dye, a pyrylium dye, and the like.
【0090】接触加熱方式では、公知の任意の接触型熱
記録装置、例えば熱融解型及び昇華型感熱色素転写法の
熱記録ヘッドが用いられる。それらは、単一の熱記録素
子を二次元に駆動させる方式、熱記録素子を線状に配列
したアレイを直角方向に走査して描画する方式あるいは
二次元配列した記録素子を用いる高速描画方式など公知
の熱記録素子を用いることができる。In the contact heating method, any known contact type thermal recording apparatus, for example, a thermal recording head of a thermal melting type and a sublimation type thermal dye transfer method is used. These include a method in which a single thermal recording element is driven two-dimensionally, a method in which an array of linearly arranged thermal recording elements is scanned in a perpendicular direction and drawing, or a high-speed drawing method using a two-dimensionally arranged recording element. A known thermal recording element can be used.
【0091】以上で本発明の印刷方法の操作手順の第2
段階である像様親水性領域の形成について説明した。第
1、第2段階の操作によって親水性領域と疎水性領域の
像様分布の形成がされたので、この段階でも印刷版とし
て印刷することができるが、本発明においては、印刷工
程に入る前に、さらに次に述べる無電解メッキ以降の工
程を加えて金属薄層を設けて、発明の目的であるインキ
受容能の向上(すなわちインク汚れを防止)と耐刷性の
向上を図ることが特徴である。The second operation procedure of the printing method according to the present invention is described above.
The formation of the imagewise hydrophilic region, which is the stage, has been described. Since the image-wise distribution of the hydrophilic region and the hydrophobic region was formed by the operations of the first and second stages, printing can be performed as a printing plate also at this stage. In addition, a thin metal layer is provided by adding the following steps after electroless plating to improve the ink receiving ability (that is, prevent ink smear) and the printing durability, which are the objects of the invention. It is.
【0092】(像様金属薄膜の形成)第3段階は、疎水
性領域と親水性領域が像様に形成された印刷原板上の親
水性領域に金属薄膜を形成する工程である。(Formation of Image-Like Metallic Thin Film) The third step is a step of forming a metal thin film on a hydrophilic region on a printing plate in which a hydrophobic region and a hydrophilic region are formed imagewise.
【0093】(像様金属薄層の形成)第3段階は、疎水
性領域と親水性領域が像様に形成された印刷用原板上の
金属析出核を有する親水性領域に金属薄層を形成する工
程である。 <操作の概要>像様に疎水性と親水性の領域の分布を形
成させた印刷用原板表面に、無電解メッキ用水溶液を接
触させる。該接触方法は、少なくとも該金属析出核を有
する親水性領域上に無電解メッキ用水溶液からの金属の
沈析、即ち無電解メッキが行われるなら、特に制限され
ず、浸漬、塗布、スプレーなどいずれでもよい。また、
該無電解メッキの条件は、適宜最適化されるが、当該無
電解メッキ用水溶液の接触時間は、通常、常温で30秒
から10分、好ましくは1〜5分である。また、当該水
溶液の温度は、通常、10〜90℃、好ましくは20〜
40℃の範囲である。また、無電解メッキにより形成さ
れる金属薄層の厚みは、通常、0.01〜5μm、好ま
しくは1μm程度である。印刷用原板表面の金属析出核
を有する親水性領域上に該無電解メッキ用水溶液とが接
触できて水溶性金属化合物からの金属が無電解メッキし
て薄層を形成した当該領域がインキ受容性となる。一
方、像様の疎水性領域は、水溶液が接触していても、疎
水性であるために金属イオンの移動、沈析反応は起こら
ないで、そのままである。したがって、次の第4工程で
疎水性領域を有機化合物を除去する等により親水性化処
理を施すとこの領域は、メッキされた領域よりも親水性
であり、したがって、インキ反撥性となる。(Formation of image-like thin metal layer) In the third step, a thin metal layer is formed in a hydrophilic area having metal precipitation nuclei on a printing plate in which a hydrophobic area and a hydrophilic area are formed imagewise. This is the step of performing <Overview of Operation> An aqueous solution for electroless plating is brought into contact with the surface of a printing plate in which a distribution of hydrophobic and hydrophilic regions is formed imagewise. The contact method is not particularly limited as long as the metal is precipitated from the aqueous solution for electroless plating at least on the hydrophilic region having the metal precipitation nuclei, that is, if electroless plating is performed, immersion, coating, spraying, etc. May be. Also,
The conditions for the electroless plating are appropriately optimized, and the contact time of the aqueous solution for the electroless plating is usually 30 seconds to 10 minutes at room temperature, preferably 1 to 5 minutes. The temperature of the aqueous solution is usually 10 to 90 ° C., preferably 20 to 90 ° C.
It is in the range of 40 ° C. The thickness of the thin metal layer formed by electroless plating is usually 0.01 to 5 μm, preferably about 1 μm. An aqueous solution for electroless plating can be brought into contact with a hydrophilic region having metal deposition nuclei on the surface of a printing plate to form a thin layer by electroless plating of a metal from a water-soluble metal compound. Becomes On the other hand, even if the image-like hydrophobic region is in contact with the aqueous solution, the region is intact because the metal ion does not move or precipitate due to the hydrophobicity. Therefore, in the next fourth step, when the hydrophobic region is subjected to a hydrophilic treatment by removing an organic compound or the like, this region is more hydrophilic than the plated region, and therefore becomes ink repellent.
【0094】本発明の技術思想を端的に述べると、金属
析出核を有する親水性領域に無電解メッキ用水溶液から
自然に金属を金属析出核上に沈析させることが複雑な装
置が不要で安価であり、かつ印刷用原板表面に形成され
た像様分布に忠実な金属薄層を形成させ得るという考え
に基づいている。本願明細書において、無電解メッキと
は、種々の固・液系や銀鏡反応で代表される液・液系か
らの金属の自発的沈析を意味する。つまり、無電解メッ
キは、室温から90℃程度の容易に実現できる条件下で
自由エネルギーが放出される自然な金属イオンの酸化還
元過程を選ぶことにより実施される。これによって金属
の沈析が無理なく進行して、それが金属薄層パターンの
高精度化につながることが判明した。The technical idea of the present invention can be simply described as follows. It is unnecessary to use a complicated apparatus for naturally depositing a metal on a metal deposition nucleus from an aqueous solution for electroless plating in a hydrophilic region having the metal deposition nucleus. And a thin metal layer faithful to the imagewise distribution formed on the surface of the printing original plate. In the specification of the present application, electroless plating means spontaneous precipitation of metals from various solid / liquid systems and liquid / liquid systems represented by silver mirror reactions. That is, electroless plating is performed by selecting a natural metal ion oxidation-reduction process in which free energy is released under conditions that can be easily realized from room temperature to about 90 ° C. As a result, it has been found that precipitation of the metal proceeds without difficulty, which leads to higher precision of the metal thin layer pattern.
【0095】以下にこのような技術思想を具現した本発
明の詳細を述べる。本発明の対象となる水溶性金属化合
物は、金属薄層パターンとして使用できる金属を含む化
合物ならいずれでもよい。つまり後に述べるように、希
望する金属を沈析させる条件は還元性化合物、即ち還元
剤とpHの選定によって調節できるので、実用性のある
金属の化合物ならいずれでも本発明の対象となる。はじ
めに本発明の方法によって金属薄層パターンを形成させ
る基本条件について説明する。The details of the present invention embodying such a technical idea will be described below. The water-soluble metal compound to be used in the present invention may be any compound containing a metal that can be used as a metal thin layer pattern. That is, as will be described later, the conditions for precipitating the desired metal can be adjusted by selecting the reducing compound, that is, the reducing agent and the pH, so that any practical metal compound is an object of the present invention. First, basic conditions for forming a thin metal layer pattern by the method of the present invention will be described.
【0096】上記の自然な沈析によって金属薄層パター
ンが形成される条件は、水溶性金属化合物と還元剤とを
含有する水溶液であって、還元剤の酸化電位が水溶性金
属化合物の還元電位よりも卑(低電位)であることであ
る。この場合の酸化電位あるいは還元電位は、サイクリ
ックボルタンメトリーによって水溶性金属化合物及び還
元剤の酸化及び還元方向に反復走査したときの酸化波あ
るいは還元波から求められる。酸化電位は、酸化波の極
大電流に相当する電位であり、還元電位は還元波の極大
電流に対応する電位である。サイクリックボルタンメト
リー及びそれを用いる酸化電位及び還元電位の測定方法
に関しては、この分野の適切な叢書、例えば逢坂哲弥、
小山昇、大坂武男共著「電気化学法・基礎マニユアル
(第3版)」(講談社1990年刊行)、電気化学協会
編「新編電気化学測定法」(1988年刊行)などに記
されている。The conditions under which the thin metal layer pattern is formed by the natural precipitation are an aqueous solution containing a water-soluble metal compound and a reducing agent, and the oxidation potential of the reducing agent is reduced by the reduction potential of the water-soluble metal compound. Is lower (lower potential) than that. The oxidation potential or reduction potential in this case can be determined from the oxidation wave or reduction wave when the water-soluble metal compound and the reducing agent are repeatedly scanned in the oxidation and reduction directions by cyclic voltammetry. The oxidation potential is a potential corresponding to the maximum current of the oxidation wave, and the reduction potential is a potential corresponding to the maximum current of the reduction wave. Regarding cyclic voltammetry and methods of measuring oxidation potential and reduction potential using the same, appropriate books in this field, for example, Tetsuya Osaka,
It is described in Noboru Koyama and Takeo Osaka, "Electrochemical Method / Basic Manual (Third Edition)" (Kodansha, 1990), edited by The Electrochemical Society of Japan, "New Edition of Electrochemical Measurement" (1988).
【0097】還元剤の酸化電位が水溶性金属化合物の還
元電位よりも低ければ金属のパターン状の沈析が起こる
筈であるが、実用的に好ましい速度でパターンを形成さ
せるには、酸化電位と還元電位の差が20mV以上あるよ
うに還元剤を選定するか、あるいはその上でpHなどの
条件を調節するのがよい。酸化と還元の両電位の差が大
きくなると、非画像部(つまり非パターン部)にも金属
沈析が生じたり、水溶液自身が速やかに劣化する。した
がって実用できる範囲は0から1.5Vであり、好まし
くは20mV〜1.0Vである。より好ましくは20〜5
00mVである。If the oxidation potential of the reducing agent is lower than the reduction potential of the water-soluble metal compound, precipitation of the metal pattern should occur. It is preferable to select a reducing agent so that the difference in reduction potential is 20 mV or more, or to adjust conditions such as pH on the reducing agent. If the difference between the oxidation and reduction potentials is large, metal precipitation occurs in the non-image area (that is, the non-pattern area), and the aqueous solution itself rapidly deteriorates. Therefore, the practical range is 0 to 1.5 V, preferably 20 mV to 1.0 V. More preferably, 20 to 5
00 mV.
【0098】次に本発明に適用できる水溶性金属化合物
に付いて説明する。実用価値があって本発明の適用対象
として好都合な金属は、電気抵抗が少なく、かつ腐食し
にくい安定な金属であり、したがって本発明に好ましく
適用できる水溶性金属化合物を構成する金属元素は、そ
のイオン化傾向がクロミウム元素以下、つまり貴である
ものである。これらの金属元素にはクロミウム、コバル
ト、ニッケル、錫、チタン、鉛、鉄(III)、銅、モリブ
デン、タングステン、ロジウム、イリジウム、パラジウ
ム、水銀、銀、白金、金である。Next, the water-soluble metal compound applicable to the present invention will be described. Metals that have practical value and are convenient as an application object of the present invention are stable metals having low electric resistance and hard to corrode, and therefore, a metal element constituting a water-soluble metal compound preferably applicable to the present invention is The ionization tendency is equal to or less than the chromium element, that is, a noble one. These metal elements include chromium, cobalt, nickel, tin, titanium, lead, iron (III), copper, molybdenum, tungsten, rhodium, iridium, palladium, mercury, silver, platinum, and gold.
【0099】その中でも特に好ましい水溶性金属化合物
を構成する金属元素は、銀、銅、ニッケル、鉛、パラジ
ウム、金、白金、タングステン、チタン、コバルト、ク
ロミウムであり、より好ましいのは、酸化に対する安定
性、微細な金属薄層を形成する際の強靱性や柔軟性など
の実用上の必要特性をすべて満たしている金、銀及び銅
である。一方、水溶性金属化合物を構成する塩の形は、
水溶性であれば、任意の既知の塩の形を選ぶことができ
るが、好ましい塩の形は硫酸塩、炭酸塩、硝酸塩、塩化
物を始とするハロゲン化物、チオシアン酸塩などであ
る。また、水酸化アンモニウム、チオ硫酸イオン、シア
ンイオンなどと錯形成した錯塩も好ましく用いることが
できる。Among them, particularly preferred metal elements constituting the water-soluble metal compound are silver, copper, nickel, lead, palladium, gold, platinum, tungsten, titanium, cobalt, and chromium. Gold, silver, and copper satisfy all the practical characteristics required for forming a thin metal layer, such as toughness and flexibility. On the other hand, the form of the salt constituting the water-soluble metal compound is
Any known salt form can be selected as long as it is water-soluble, but preferred salt forms are sulfates, carbonates, nitrates, halides including chlorides, thiocyanates, and the like. Further, a complex salt formed with ammonium hydroxide, thiosulfate ion, cyanide ion or the like can also be preferably used.
【0100】無電解メッキ用水溶液中における水溶性金
属化合物の好ましい濃度は、目的の金属薄層パターンに
よって異なるが、一般的に0.01〜10mol/リッ
トル、好ましくは0.05〜3mol/リットルの範囲
である。The preferred concentration of the water-soluble metal compound in the aqueous solution for electroless plating varies depending on the intended thin metal layer pattern, but is generally 0.01 to 10 mol / l, preferably 0.05 to 3 mol / l. Range.
【0101】次に水溶性金属化合物と組み合わせられる
還元剤について説明する。前記したように還元剤の条件
は、当該無電解メッキ用水溶液の系における組み合わせ
られる水溶性金属化合物の還元電位よりも還元剤の酸化
電位が卑であることであるが、その実際的な意味は、水
溶性金属化合物の還元波の極大電位よりも還元性化合物
の酸化波の極大電位が負側(卑側)であることである。
より好ましくは、水溶性金属化合物の還元電位は還元性
化合物の酸化電位より少なくとも20mV以上貴であるこ
とがよい。Next, the reducing agent combined with the water-soluble metal compound will be described. As described above, the condition of the reducing agent is that the oxidation potential of the reducing agent is lower than the reduction potential of the water-soluble metal compound combined in the aqueous electroless plating aqueous solution system, but its practical meaning is That is, the maximum potential of the oxidation wave of the reducing compound is more negative (base side) than the maximum potential of the reduction wave of the water-soluble metal compound.
More preferably, the reduction potential of the water-soluble metal compound is more noble than the oxidation potential of the reducing compound by at least 20 mV.
【0102】析出速度なども考慮した、より実際的な目
安としては、酸化波の極大電位が+100〜−700mV
(SCE)であるような還元性化合物が好ましい。多く
の酸化・還元反応には、水素イオン(又は水酸イオン)
が関与しているので、還元性化合物のサイクリックボル
タンメトリーにおける酸化波の極大電位は、pHによっ
て大きく異なる。したがってpHの調節によって析出可
能な条件や適切な析出速度を選択でき、その範囲は水溶
性金属化合物が上記した金、銀又は銅化合物であるな
ら、還元剤の適切な極大酸化電位はその水溶液の系にお
いて+100〜−700mV(SCE)である。無電解メ
ッキ用水溶液の系でこの電位範囲に入る好ましい還元剤
について、以下にさらに詳細に説明する。Considering the deposition rate and the like, a more practical guide is that the maximum potential of the oxidation wave is +100 to -700 mV.
Reducing compounds such as (SCE) are preferred. Many oxidation and reduction reactions require hydrogen ion (or hydroxyl ion)
, The maximum potential of the oxidation wave in the cyclic voltammetry of the reducing compound varies greatly depending on the pH. Therefore, by adjusting the pH, it is possible to select a condition capable of deposition and an appropriate deposition rate.If the water-soluble metal compound is the gold, silver or copper compound described above, the appropriate maximum oxidation potential of the reducing agent is determined by adjusting the pH of the aqueous solution. It is +100 to -700 mV (SCE) in the system. Preferred reducing agents that fall within this potential range in an aqueous electroless plating system will be described in more detail below.
【0103】還元剤の具体例を挙げる。 (1)糖類及び炭水化物 糖類やそれが重合した形の澱粉を始めとする炭水化物
は、本発明には好適な還元剤である。本来その還元性は
零と考えられているが、アルカリ性の環境ではその還元
性は貴金属塩や重金属塩を十分に還元する。しかも高濃
度に存在させることができて還元反応が均一に進行する
ので微細なパターンでも精度よく形成指せることが可能
である。好ましい具体的化合物としては下記のものが挙
げられる。より好ましくはデキストリン類である。Specific examples of the reducing agent will be described. (1) Saccharides and Carbohydrates Saccharides and carbohydrates such as starch in a polymerized form thereof are suitable reducing agents in the present invention. Although its reducibility is originally considered to be zero, its reducibility sufficiently reduces noble metal salts and heavy metal salts in an alkaline environment. In addition, since it can be present at a high concentration and the reduction reaction proceeds uniformly, it is possible to accurately form even a fine pattern. Preferred specific compounds include the following. More preferred are dextrins.
【0104】本発明の単糖類の具体的例示化合物を次に
示す。単糖類としては、以下のものが挙げられる。すな
わち、グリセルアルデヒド、ジヒドロキシアセトン(二
量体を含む)、エリトロース、トレオース、リポース、
アラビノース、キシロース、リキソース、キシルロー
ス、リブロース、デオキシ−D−リボース、アロース、
アルトロース、グルコース、マンノース、グロース、イ
ドース、ガラクトース、タロース、キノボース、ジギタ
ロース、ジギトキソース、シマロース、ソルボース、タ
ガトース、フコース、2−デオキシ−D−グルコース、
ブシコース、フルクトース、ラムノース、D−グルコサ
ミン、D−ガラクトサミン、D−マンノサミン、D−グ
リセロ−D−ガラクトヘプトース、D−グリセロ−D/
Lマンノヘプトース,D−グリセロ−D−グロヘプトー
ス,D−グリセロ−D−イドヘプトース,D−グリセロ
−L−グルコヘプトース,D−グリセロ−L−タロヘプ
トース,アルトロヘプツロース,マンノヘプツロース,
アルトロ−3−ヘプツロース,グルクロン酸,N−アセ
チル−D−グルコサミン,グリセリン,トレイット,エ
リトレット,アラビット,アドニット,キシリット,ソ
ルビット,マンニット,イジット,タリット,ズルシッ
ト,アロズルシットなど。Specific examples of the monosaccharide of the present invention are shown below. The monosaccharides include the following. That is, glyceraldehyde, dihydroxyacetone (including dimer), erythrose, threose, report,
Arabinose, xylose, lyxose, xylulose, ribulose, deoxy-D-ribose, allose,
Altrose, glucose, mannose, growth, idose, galactose, talose, quinoboth, digitalose, digitoxose, simarose, sorbose, tagatose, fucose, 2-deoxy-D-glucose,
Bucose, fructose, rhamnose, D-glucosamine, D-galactosamine, D-mannosamine, D-glycero-D-galactoheptose, D-glycero-D /
L-mannoheptose, D-glycero-D-gloheptose, D-glycero-D-idoheptose, D-glycero-L-glucoheptose, D-glycero-L-taloheptose, altroheptulose, mannoheptulose,
Altro-3-heptulose, glucuronic acid, N-acetyl-D-glucosamine, glycerin, trait, erythlet, arabit, adnit, xylit, sorbit, mannitol, idit, talit, zulcit, allozurcit.
【0105】これら例示化合物のうち好ましく用いられ
るのはキシロース、グルコース、マンノース、ガラクト
ース、ソルボース、D−グリセロ−D/Lマンノヘプト
ース,グリセリン,ソルビット,マンニットなどであ
る。Among these exemplified compounds, xylose, glucose, mannose, galactose, sorbose, D-glycero-D / L mannoheptose, glycerin, sorbit, mannitol and the like are preferably used.
【0106】本発明の多糖類の具体的例示化合物を次に
示す。麦芽糖、セルビオース、トレハロース、ゲンチオ
ビオース、イソマルトース、乳糖、ラフィノース、ゲン
チアノース、スタキオース、キシラン、アラバン、グリ
コーゲン、デキストラン、イヌリン、レバン、ガラクタ
ン、アガロース、アミロース、スクロース、アガロピオ
ース、α−デキストリン、β−デキストリン、γ−デキ
ストリン、δ−デキストリン、ε−デキストリン、可溶
性デンプン、薄手ノリデンプンなど。また、多糖類の誘
導体としては、メチルセルロース、ジメチルセルロー
ス、トリメチルセルロース、エチルセルロース、ジエチ
ルセルロース、トリエチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、カルボキシエチルセルロース、アミノエ
チルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロ
キシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネー
ト、カルボキシメチルヒドロキシエチルセルロースなど
がを用いることができる。The following are specific examples of the polysaccharide of the present invention. Maltose, cellobiose, trehalose, gentiobiose, isomaltose, lactose, raffinose, gentianose, stachyose, xylan, araban, glycogen, dextran, inulin, leban, galactan, agarose, amylose, sucrose, agaropiose, α-dextrin, β-dextrin -Dextrin, δ-dextrin, ε-dextrin, soluble starch, thin nori starch and the like. Examples of the polysaccharide derivatives include methylcellulose, dimethylcellulose, trimethylcellulose, ethylcellulose, diethylcellulose, triethylcellulose, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, aminoethylcellulose, hydroxymethylcellulose, hydroxyethylmethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, and hydroxypropylcellulose. Propylmethylcellulose acetate succinate, carboxymethylhydroxyethylcellulose and the like can be used.
【0107】これら例示化合物の中で好ましく用いられ
るものは、麦芽糖、乳糖、デキストラン、イヌリン、ア
ミロース、スクロース、α−デキストリン、β−デキス
トリン、γ−デキストリン、可溶性デンプン、メチルセ
ルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、カルボキシエチルセルロース、ヒドロキシメチル
セルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチル
セルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセ
テートサクシネート、カルボキシメチルヒドロキシエチ
ルセルロースなどを用いることができる。Among these exemplified compounds, those preferably used include maltose, lactose, dextran, inulin, amylose, sucrose, α-dextrin, β-dextrin, γ-dextrin, soluble starch, methylcellulose, ethylcellulose, carboxymethylcellulose, carboxymethylcellulose, Ethyl cellulose, hydroxymethylcellulose, hydroxyethylmethylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose acetate succinate, carboxymethylhydroxyethylcellulose and the like can be used.
【0108】本発明において、これら糖類の添加量は、
通常、0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜15重
量%であり、水溶性金属化合物よりも化学量論的に多量
であることが望ましい。水溶性金属化合物に対して1.
0〜10当量、好ましくは1.03〜3当量であること
が好都合であるが、水溶性金属化合物、錯形成化合物の
存在などによって最適範囲は異なる。In the present invention, the added amount of these saccharides is
Usually, it is 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, and desirably has a stoichiometrically larger amount than the water-soluble metal compound. 1. For water-soluble metal compounds.
It is convenient to use 0 to 10 equivalents, preferably 1.03 to 3 equivalents, but the optimum range varies depending on the presence of a water-soluble metal compound, a complex-forming compound and the like.
【0109】糖類は、広く天然に存在しており、市販品
を簡単に入手できる。又、種々の誘導体についても還
元、酸化あるいは脱水反応などを行うことによって容易
に合成できる。糖類を還元剤として使用する場合は、水
溶液のpHは、8以上が望ましく、より好ましくは10
以上、とくに12以上であることが好ましい。その上限
はpH14、あるいは水酸化アルカリの濃度が10%で
もよい。Saccharides exist widely and naturally, and commercially available products are easily available. Also, various derivatives can be easily synthesized by performing reduction, oxidation, dehydration, or the like. When a saccharide is used as a reducing agent, the pH of the aqueous solution is preferably 8 or more, more preferably 10 or more.
The number is preferably 12 or more. The upper limit may be pH 14 or the concentration of alkali hydroxide may be 10%.
【0110】(2)アルデヒド類 フェーリング溶液の例から考えられるように本発明に用
いる還元剤としては、アルデヒドも使用できる。本発明
の還元剤として用いることのできるアルデヒド化合物
は、具体的には、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、などの
脂肪族飽和アルデヒド類、グリオキザール、スクシンジ
アルデヒドなどの脂肪族ジアルデヒド、アクロレイン、
クロトンアルデヒド、プロピオールアルデヒドなどの不
飽和アルデヒド、ベンズアルデヒド、サルチルアルデヒ
ド、ナフトアルデヒドなどの芳香族アルデヒド、フルフ
ラールなどの複素環式アルデヒドの他、アルデヒド基や
ケトン基を有するしょ糖、グルコースなどの単糖類、果
糖類、オリゴ糖などの少糖類、や単糖類置換体のデオキ
シ糖、メチル糖、チオ糖、アミノ糖などが好ましい。(2) Aldehydes As can be considered from examples of Fehling's solution, aldehydes can be used as the reducing agent used in the present invention. The aldehyde compounds that can be used as the reducing agent of the present invention include, specifically, aliphatic saturated aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, aliphatic dialdehydes such as glyoxal and succindialdehyde, and acrolein. ,
In addition to unsaturated aldehydes such as crotonaldehyde and propioaldehyde, aromatic aldehydes such as benzaldehyde, saltyl aldehyde and naphthaldehyde, and heterocyclic aldehydes such as furfural, sucrose having an aldehyde group and a ketone group, and monosaccharides such as glucose, Preferred are oligosaccharides such as fructose and oligosaccharides, and monosaccharide-substituted deoxy sugars, methyl sugars, thio sugars and amino sugars.
【0111】アルデヒド化合物の好ましい濃度は、水溶
液1リットル当たり通常、0.02〜5.0モル、好ま
しくは0.1〜2.0モルである。また、アルデヒド類
を還元剤として使用する場合もアルカリ性の条件下が好
ましく、通常、pH7〜14、好ましくは9〜12がよ
い。The preferred concentration of the aldehyde compound is usually 0.02 to 5.0 mol, preferably 0.1 to 2.0 mol per liter of the aqueous solution. Also, when aldehydes are used as the reducing agent, alkaline conditions are preferable, and usually pH 7-14, preferably 9-12.
【0112】(3)現像主薬 又、その他、写真用現像主薬として知られている、ハイ
ドロキノン、モノクロロハイドロキノンなどのハイドロ
キノン類、カテコール類、カテコール、ピロカテコール
などのカテコール類、p−アミノフェノール、N−メチ
ル−p−アミノフェノールなどのp−アミノフェノール
類、p−フェニレンジアミン、2−メチル−p−フェニ
レンジアミン、ジエチル−p−フェニレンジアミンなど
のp−フェニレンジアミン類、o−フェニレンジアミ
ン、1−フェニル−3−ピラゾリドンなどの3−ピラゾ
リドン類、3−アミノピラゾール類、4−アミノ−ピラ
ゾロン類、5−アミノウラシル類、4,5−ジヒドロキ
シ−6−アミノピリジン類、アスコルビン酸、エリソル
ビン酸、レダクトン酸などのレダクトン類、o−または
p−スルホンアミドナフトール類、o−またはp−スル
ホンアミドフェノール類、2,4−ジスルホンアミドフ
ェノール類、レゾルシン、ジアミノレゾルシンなどのレ
ゾルシン類、2,4−ジスルホンアミドナフトール類、
o−またはp−アシルアミノフェノール類、2−スルホ
ンアミドインダノン類、4−スルホンアミド−5−ピラ
ゾロン類、3−スルホンアミドインドール類、スルホン
アミドピラゾロベンズイミダゾール類、スルホンアミド
ピラゾロベンズトリアゾール類、スルホンアミドケトン
類、アリールヒドラジン、フェニルヒドラジン、ヒドラ
ゾベンゼンなどのヒドラジン類等がある。とりわけレダ
クトン類は、その酸化体が悪影響することがなく好まし
い。とくに好ましいレダクトンは、アスコルビン酸、エ
リソルビン酸、グルコレダクトン、レダクトン酸であ
る。現像主薬の濃度は、水溶液1リットル当たり通常、
0.005〜1.0モル、好ましくは0.05〜0.5
モルである。また、現像主薬類を還元剤として使用する
場合もアルカリ性の条件下が好ましく、通常、pH7〜
14、好ましくは9〜12がよい。(3) Developing agents Hydroquinones such as hydroquinone and monochlorohydroquinone, catechols such as catechol, catechol and pyrocatechol, p-aminophenol, N- and the like, which are also known as photographic developing agents P-Aminophenols such as methyl-p-aminophenol, p-phenylenediamines such as p-phenylenediamine, 2-methyl-p-phenylenediamine, diethyl-p-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 1-phenyl 3-pyrazolidones such as -3-pyrazolidone, 3-aminopyrazoles, 4-amino-pyrazolones, 5-aminouracils, 4,5-dihydroxy-6-aminopyridines, ascorbic acid, erythorbic acid, reductic acid Such as reductones, o -Or p-sulfonamidonaphthols, o- or p-sulfonamidophenols, 2,4-disulfonamidophenols, resorcinol, resorcinols such as diaminoresorcinol, 2,4-disulfonamidonaphthols,
o- or p-acylaminophenols, 2-sulfonamidoindanones, 4-sulfonamido-5-pyrazolones, 3-sulfonamidoindoles, sulfonamidopyrazolobenzimidazoles, sulfonamidopyrazolobenztriazoles And hydrazines such as sulfonamide ketones, arylhydrazine, phenylhydrazine and hydrazobenzene. In particular, reductones are preferable because their oxidized form does not adversely affect the oxidized product. Particularly preferred reductones are ascorbic acid, erythorbic acid, glucoreductone, reductonic acid. The concentration of the developing agent is usually
0.005 to 1.0 mol, preferably 0.05 to 0.5
Is a mole. Also, when developing agents are used as a reducing agent, alkaline conditions are preferable, and usually pH 7 to
14, preferably 9 to 12.
【0113】次に本発明に好ましく用いられる錯形成化
合物について説明する。無電解メッキ用水溶液の系で
は、水溶性金属化合物の還元析出は金属水酸化物の形成
反応としばしば競争するので、水溶液が不安定になるこ
とが多い。したがって本発明においては、水溶性金属化
合物の無電解メッキ用水溶液中にその金属イオンに対す
る錯形成化合物を存在させて水溶性金属化合物の安定性
を増大させるのが適切である。このような錯形成化合物
は、金属イオンに対する全安定度定数が少なくとも10
3 以上であることが好ましく、かつその錯形成化合物が
水溶性金属化合物に対して少なくとも等モル存在する系
が選択される。水溶性金属化合物、とくに金、銀及び銅
化合物に対してこのような条件を満たす好ましい錯形成
化合物は、含窒素有機化合物、含イオウ有機化合物、含
酸素有機化合物の中から選択される。とくに適した錯形
成化合物は、ハライド、チオシアン酸、シアナイド、ア
ルカノールアミン、脂肪族アミン、環式アミン、アミノ
酸、アンモニア、チオ尿素、チオ硫酸塩の各化合物群か
ら選択される。その具体例を以下に示すが、本発明に適
用される錯形成化合物は、これらに限定されない。Next, the complex forming compound preferably used in the present invention will be described. In the system of the aqueous solution for electroless plating, since the reductive precipitation of the water-soluble metal compound often competes with the formation reaction of the metal hydroxide, the aqueous solution is often unstable. Therefore, in the present invention, it is appropriate to increase the stability of the water-soluble metal compound by causing the complex forming compound for the metal ion to be present in the aqueous solution for electroless plating of the water-soluble metal compound. Such complexing compounds have a total stability constant for metal ions of at least 10
The number is preferably 3 or more, and a system in which the complex-forming compound is present in at least equimolar amount to the water-soluble metal compound is selected. Preferred complex-forming compounds satisfying such conditions for water-soluble metal compounds, especially gold, silver and copper compounds, are selected from nitrogen-containing organic compounds, sulfur-containing organic compounds and oxygen-containing organic compounds. Particularly suitable complexing compounds are selected from the group consisting of halides, thiocyanic acids, cyanides, alkanolamines, aliphatic amines, cyclic amines, amino acids, ammonia, thiourea and thiosulphate. Specific examples are shown below, but the complex forming compound applied to the present invention is not limited thereto.
【0114】塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、
シアナイドイオン、チオシアネートイオン、亜硫酸イオ
ン、チオ硫酸イオン、チオ尿素、脂肪族1級アミン(直
鎖又は分岐したドデシルアミン、ヘキシルアミン、ノニ
ルアミン、ペンタデシルアミンなど)、環状アミン(ピ
リジン、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、トリ
アゾール、チアジアゾール、ピコリン、ピペラジン、ピ
ロール、ピペリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジ
ン、イソチアゾール、キノリン、イソキノリンなど)、
アルカノールアミン(ジエタノールアミン、モノエタノ
ールアミン、イソプロパノールアミン、トリ−イソプロ
パノールアミンなど)、ポリアミン(トリエチレンテト
ラミン、ペンタエチレンヘキサミン、ジエチレントリア
ミン、エチレンジアミンなど)、アミノ酸(アラニン、
アルギニン、ヒスチジン、システイン、メチオニン、グ
ルタミンなど)、チオール(チオグリコールなど)、チ
オセミカルバジド、チオウラシルが挙げられる。銀イオ
ンに対する錯形成性化合物に関しては、T.H.James 著
「The theory ofphotographic processes 4th ed.(McMi
llan 社) 」の8 〜11頁に記載されている。Chlorine ion, bromine ion, iodine ion,
Cyanide ion, thiocyanate ion, sulfite ion, thiosulfate ion, thiourea, aliphatic primary amine (linear or branched dodecylamine, hexylamine, nonylamine, pentadecylamine, etc.), cyclic amine (pyridine, imidazole, -Methylimidazole, triazole, thiadiazole, picoline, piperazine, pyrrole, piperidine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, isothiazole, quinoline, isoquinoline, etc.),
Alkanolamines (diethanolamine, monoethanolamine, isopropanolamine, tri-isopropanolamine, etc.), polyamines (triethylenetetramine, pentaethylenehexamine, diethylenetriamine, ethylenediamine, etc.), amino acids (alanine,
Arginine, histidine, cysteine, methionine, glutamine, etc.), thiol (thioglycol, etc.), thiosemicarbazide, thiouracil. Regarding the complexing compound for silver ions, see TH James, "The theory of photographic processes 4th ed.
llan) on pages 8-11.
【0115】錯生成化合物の好ましい添加量は、通常、
水溶性金属化合物の量の1〜200倍、好ましくは2〜
100倍、さらに好ましくは錯形成定数が大きい錯形成
化合物、例えばチオ硫酸塩類の場合は、3から20倍、
錯形成定数が比較的小さい錯形成化合物であるアルカリ
ハライド、例えば臭化カリウムの場合は、10〜100
倍である。The preferable addition amount of the complex-forming compound is usually
The amount of the water-soluble metal compound is 1 to 200 times, preferably 2 to 200 times.
100-fold, more preferably 3 to 20-fold in the case of complexing compounds having a large complexing constant, such as thiosulfates,
In the case of an alkali halide, for example, potassium bromide, which is a complex forming compound having a relatively small complexing constant, 10 to 100
It is twice.
【0116】上記の金属イオンの錯形成化合物の中で特
に好ましいものは、塩素イオン、臭素イオン、シアナイ
ドイオン、チオシアネートイオン、チオ硫酸イオン、な
どの各イオンのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、
アンモニウム塩、チオ尿素、アンモニア、イミダゾー
ル、2ーメチルイミダゾール、エチレンジアミンなどの
各塩基そのものあるいはその塩化物、硫酸塩、塩酸塩な
どである。Among the above-mentioned complex forming compounds of metal ions, particularly preferred are alkali metal salts and alkaline earth metal salts of each ion such as chloride ion, bromine ion, cyanide ion, thiocyanate ion and thiosulfate ion. ,
The bases themselves such as ammonium salt, thiourea, ammonia, imidazole, 2-methylimidazole, and ethylenediamine, or their chlorides, sulfates, hydrochlorides, etc.
【0117】無電解メッキ用水溶液は、適当なpHとす
るためのアルカリ剤、酸及び必要に応じてそのpHを安
定に維持するためのpH緩衝剤が添加される。アルカリ
剤あるいは緩衝剤としては、アルカリ金属水酸化物、ア
ルカリ土類属水酸化物、炭酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、
四ホウ酸塩、ヒドロキシ安息香酸塩、グリシル塩、N,
N−ジメチルグリシン塩、ロイシン塩、ノルロイシン
塩、グアニン塩、3,4−ジヒドロキシフェニルアラニ
ン塩、アラニン塩、アミノ酪酸塩、2−アミノ−2−メ
チル−1, 3−プロパンジオール塩、バリン塩、プロリ
ン塩、トリスヒドロキシアミノメタン塩、リシン塩など
を用いることができる。特に炭酸塩、リン酸塩、四ホウ
酸塩、ヒドロキシ安息香酸塩は、pH 9.0以上の高pH領域
での緩衝能に優れている。The aqueous solution for electroless plating is added with an alkali agent for adjusting the pH to an appropriate value, an acid and, if necessary, a pH buffering agent for stably maintaining the pH. Alkali agents or buffers include alkali metal hydroxides, alkaline earth hydroxides, carbonates, phosphates, borates,
Tetraborate, hydroxybenzoate, glycyl salt, N,
N-dimethylglycine salt, leucine salt, norleucine salt, guanine salt, 3,4-dihydroxyphenylalanine salt, alanine salt, aminobutyrate, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol salt, valine salt, proline Salts, trishydroxyaminomethane salts, lysine salts and the like can be used. In particular, carbonate, phosphate, tetraborate, and hydroxybenzoate have excellent buffering capacity in a high pH region of pH 9.0 or more.
【0118】これらのアルカリ剤及び緩衝剤の具体例と
しては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
ルシウム、水酸化マグネシウム、テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重
炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、リン酸三ナトリウ
ム、リン酸三カリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、四ホウ
酸ナトリウム(ホウ砂)、四ホウ酸カリウム、o−ヒド
ロキシ安息香酸ナトリウム(サリチル酸ナトリウム)、
o−ヒドロキシ安息香酸カリウム、5−スルホ−2−ヒ
ドロキシ安息香酸ナトリウム(5−スルホサリチル酸ナ
トリウム)、5−スルホ−2−ヒドロキシ安息香酸カリ
ウム(5−スルホサリチル酸カリウム)などを挙げるこ
とができる。しかしながら本発明は、これらの化合物に
限定されるものではない。アルカリ剤及び緩衝剤の量
は、併用している場合は合計して0.02〜5.0モル
/リットル、特に 0.1モル/リットル〜2.0モル/リ
ットルであるように含ませる。Specific examples of these alkali agents and buffers include potassium hydroxide, sodium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate and bicarbonate. Potassium, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, sodium borate, potassium borate, sodium tetraborate (borax), potassium tetraborate, sodium o-hydroxybenzoate (Sodium salicylate),
Examples thereof include potassium o-hydroxybenzoate, sodium 5-sulfo-2-hydroxybenzoate (sodium 5-sulfosalicylate), and potassium 5-sulfo-2-hydroxybenzoate (potassium 5-sulfosalicylate). However, the invention is not limited to these compounds. When the alkali agent and the buffering agent are used in combination, they are contained in a total amount of 0.02 to 5.0 mol / l, particularly 0.1 mol / l to 2.0 mol / l.
【0119】次に、水溶性金属化合物と還元性化合物と
を含有する無電解メッキ用水溶液を印刷用原板と接触さ
せて金属薄膜を沈着させる工程に先立って、前述のよう
に印刷用原板上に設けられる金属析出核について説明す
る。金属析出核は、通常、離散的な形態をとる。Next, prior to the step of bringing an aqueous solution for electroless plating containing a water-soluble metal compound and a reducing compound into contact with an original plate for printing to deposit a metal thin film, as described above, The metal precipitation nuclei provided will be described. Metal precipitation nuclei usually take discrete forms.
【0120】金属析出核は、水溶性金属化合物を含有す
る無電解メッキ用水溶液から、金属が還元される際にそ
の金属原子が、優先的に析出しやすい表面を有する微粒
子であり、したがって無電解メッキ用水溶液から金属析
出核核上に沈殿した金属は、成長して行くにつれて隣接
する粒子とも接するようになり、離散的な金属析出核か
ら連続的な金属薄層へと成長が行われる。金属析出核を
あらかじめ設けることにより、金属の析出速度が速いだ
けでなく、横方向にも厚み方向にもはみ出しや凹みのな
い形状精度の優れた金属薄層パターンが得られる。その
上、析出した金属が結晶格子に取り込まれて単体金属の
密度に近い高い密度が得られるため極めて耐刷性の向上
に効果的である。The metal deposition nuclei are fine particles having a surface on which metal atoms are preferentially deposited when a metal is reduced from an aqueous solution for electroless plating containing a water-soluble metal compound. The metal precipitated on the metal nuclei from the aqueous plating solution comes into contact with adjacent particles as it grows, and the metal is grown from discrete metal nuclei into a continuous thin metal layer. By providing the metal deposition nuclei in advance, not only the metal deposition rate is high, but also a metal thin layer pattern with excellent shape accuracy without protrusion or depression in the lateral direction and the thickness direction can be obtained. In addition, the deposited metal is taken into the crystal lattice to obtain a high density close to the density of a single metal, which is extremely effective in improving the printing durability.
【0121】このような金属析出核は、金属の析出が優
先的におこる微粒子であるが、好ましい核としては、イ
オン化傾向の比較的後順位の金属元素、特にクロムより
もイオン化傾向が後順位の金属元素、又は重金属に属す
る金属元素、あるいは遷移元素に属する金属元素から選
ばれる金属微粒子である。特に好ましい金属析出核は、
銀、銅、ニッケル、亜鉛、パラジウム、金、白金、モリ
ブテン、タングステン、チタン、コバルト及びクロミウ
ムの中から選択された金属元素の少なくとも1種のゾル
から得られる金属微粒子である。Such metal precipitation nuclei are fine particles in which metal deposition occurs preferentially. Preferred nuclei are metal elements having a relatively lower ionization tendency, particularly chromium having a lower ionization tendency than chromium. Metal fine particles selected from metal elements, metal elements belonging to heavy metals, and metal elements belonging to transition elements. Particularly preferred metal precipitation nuclei are
Metal fine particles obtained from a sol of at least one metal element selected from silver, copper, nickel, zinc, palladium, gold, platinum, molybdenum, tungsten, titanium, cobalt and chromium.
【0122】これらの金属析出核として作用する金属微
粒子とその上に析出する無電解メッキ用水溶液からの金
属とは必ずしも同種の金属元素である必要はなく、効率
的な析出がされるのであれば、例えば銀薄膜パターンを
析出させるためにパラジウムの析出核を用いてもよい。The metal fine particles acting as metal deposition nuclei and the metal deposited on the metal from the aqueous solution for electroless plating need not necessarily be the same kind of metal element. For example, a deposition nucleus of palladium may be used to deposit a silver thin film pattern.
【0123】これらの金属微粒子は、その金属を単一の
構成成分とする微粒子であっても、上記した元素の複数
による合金の微粒子であってもよい。金属微粒子を調製
するには、公知の任意の方法を用いることができるが、
微粒子が適当に分散して凝集のない状態で得られるとい
う意味で、水溶液からの還元が好ましい方法である。こ
の方法で金属微粒子を調製するには、水酸化アルカリや
リン酸3アルカリによりpHが7以上、好ましくは8以
上、より好ましくは10〜14.0のアルカリ性とした
水溶性金属化合物水溶液を調製して、還元剤を添加して
金属微粒子を調製する。水溶性金属化合物としては、水
溶性であればいずれでもよいが、硝酸塩、塩化物、硫酸
塩などが好ましい。その濃度は、ゾルのpH、共存させ
る還元剤及び調合装置によるが、0.1〜10モル、好
ましくは0.2〜3モルの濃度で用いられる。These metal fine particles may be fine particles containing the metal as a single component, or may be fine particles of an alloy of a plurality of the above-mentioned elements. To prepare the metal fine particles, any known method can be used,
Reduction from an aqueous solution is a preferred method in that fine particles can be appropriately dispersed and obtained without aggregation. In order to prepare metal fine particles by this method, an aqueous solution of a water-soluble metal compound which is made alkaline with an alkali hydroxide or tribasic phosphate at a pH of 7 or more, preferably 8 or more, more preferably 10 to 14.0, is prepared. Then, a reducing agent is added to prepare metal fine particles. Any water-soluble metal compound may be used as long as it is water-soluble, but nitrate, chloride, sulfate and the like are preferable. The concentration depends on the pH of the sol, the coexisting reducing agent and the preparation device, but is used at a concentration of 0.1 to 10 mol, preferably 0.2 to 3 mol.
【0124】還元剤としては、水溶性の還元剤として前
記した還元剤のいずれでもよいが、調節範囲が広い点
で、単糖やオリゴ糖などの糖類、アルデヒド類などが好
ましい。その濃度は、ゾルのpH、水溶性金属化合物及
び調合装置によるが、0.1〜10モル、好ましくは
0.2〜3モルの濃度で用いられる。水溶液には、適当
な保護コロイドを添加させておくのがよい。また高度の
攪拌のもとで還元反応を行わせるのがよいが、保護コロ
イドの添加によって粘度が高くなることは、この点では
好ましくない方向である。したがって、還元反応を行う
際に、保護コロイドの添加量の調節とともに、適当な分
散剤や界面活性剤を存在させることは効果的である。こ
のような目的に用いる保護コロイドとしては、ヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、
カルボキシメチルセルロースで代表されるヒドロキシ又
はカルボキシアルキルセルロース、ゼラチン、部分的に
けん化していてもよいポリビニルアルコール、ポリビニ
ルアセタールなどの水溶性高分子が挙げられる。とくに
ゼラチン及びヒドロキシアルキル又はカルボキシアルキ
ルセルロースが好ましい。好ましい濃度は、溶液の粘度
が0.01〜100cp、より好ましくは0.02〜1
0cpの範囲になるような添加量であり、多くの場合そ
れは0.1〜10%,好ましくは0.4〜3%の濃度範
囲である。As the reducing agent, any of the reducing agents described above as a water-soluble reducing agent may be used, but saccharides such as monosaccharides and oligosaccharides, aldehydes and the like are preferable in view of a wide range of control. The concentration depends on the pH of the sol, the water-soluble metal compound and the preparation device, but it is used at a concentration of 0.1 to 10 mol, preferably 0.2 to 3 mol. It is preferable that an appropriate protective colloid is added to the aqueous solution. The reduction reaction is preferably performed under a high degree of agitation, but increasing the viscosity by adding a protective colloid is an undesirable direction in this respect. Therefore, when performing the reduction reaction, it is effective to control the addition amount of the protective colloid and to allow an appropriate dispersant or surfactant to be present. As protective colloids used for such purposes, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose,
Examples thereof include water-soluble polymers such as hydroxy or carboxyalkyl cellulose represented by carboxymethyl cellulose, gelatin, polyvinyl alcohol which may be partially saponified, and polyvinyl acetal. Particularly preferred are gelatin and hydroxyalkyl or carboxyalkyl cellulose. The preferred concentration is such that the viscosity of the solution is 0.01-100 cp, more preferably 0.02-1 cp.
The amount added is in the range of 0 cp, often in the concentration range of 0.1 to 10%, preferably 0.4 to 3%.
【0125】また、分散助剤としては、本発明に用いる
無電解メッキ用水溶液の中に添加できる非イオン性、ア
ニオン性及びカチオン性界面活性剤として後に例示する
界面活性剤類の具体例の中から分散効果の大きいものを
選ぶことができる。そのような分散効果の大きい活性剤
として、ナフトール、フェノールなどのフェノール類と
ホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドなどの低級脂肪
族アルデヒドとの重合度2〜10の縮合重合物のスルホ
ン酸塩及びポリアルキレングリコール基を有するアニオ
ン性界面活性剤が好ましい。とくに、ポリオキシエチレ
ングリコール及びポリオキシエチレン・ポリオキシプロ
ピレン共重合体と、そのスルホン酸、ホスホン酸または
カルボン酸置換型のアニオン活性剤が好ましい。金属微
粒子核の調製方法の特に好ましい例は、金属析出核とな
る水溶性金属化合物が、硝酸銀でその濃度が0.1から
1モル、pHが水酸化ナトリウムの添加によって12.
0〜13.8,還元剤が澱粉から得たデキストリンでそ
の濃度が5〜80g/リットル、分散性を向上させるた
めの親水性コロイド物質としてゼラチンを3〜70g/
リットル添加して温度30〜50℃で反応させて得た銀
微粒子てある。このような銀微粒子のなかでとりわけ好
都合なのは、カラー写真感光材料の黄色フィルター層と
して用いられる平均粒子サイズが10から80nmの銀
微粒子分散物である。As the dispersing aid, specific examples of surfactants exemplified later as nonionic, anionic and cationic surfactants which can be added to the aqueous solution for electroless plating used in the present invention. Can be selected from those having a large dispersing effect. As an activator having such a large dispersing effect, a sulfonate and a polyalkylene glycol group of a condensation polymer having a polymerization degree of 2 to 10 with a phenol such as naphthol and phenol and a lower aliphatic aldehyde such as formaldehyde and glutaraldehyde are used. Anionic surfactants are preferred. In particular, polyoxyethylene glycol and polyoxyethylene / polyoxypropylene copolymers and their sulfonic, phosphonic or carboxylic acid substituted anionic activators are preferred. A particularly preferred example of a method for preparing metal fine particle nuclei is that a water-soluble metal compound serving as a metal precipitation nucleus is silver nitrate, the concentration of which is 0.1 to 1 mol, and the pH is adjusted by adding sodium hydroxide.
0 to 13.8, the reducing agent is dextrin obtained from starch, and its concentration is 5 to 80 g / l, and gelatin is 3 to 70 g / h as a hydrophilic colloid substance for improving dispersibility.
This is silver fine particles obtained by adding 1 liter and reacting at a temperature of 30 to 50 ° C. Among these silver fine particles, a particularly advantageous one is a silver fine particle dispersion having an average particle size of 10 to 80 nm used as a yellow filter layer of a color photographic light-sensitive material.
【0126】また、本発明では、微粒子化することによ
って活性度が高くなり、金属析出速度が速くなる場合が
多いが、微粒子化するほど製造上の困難が伴うので、他
の微粒子分散物に金属元素を担持させて実質的に極めて
微粒子としたコロイド核を作り、これを高活性な金属析
出核として用いることもできる。このような金属元素単
体となりうるコロイド分散物は、コロイダルシリカとも
呼ばれている無水珪酸(シリカ)の微粉末のゾル状分散
物である。このゾル状のシリカ微粒子上に担持されて金
属析出核として機能する好ましい元素は、銀、銅、ニッ
ケル、亜鉛、パラジウム、金、白金、モリブテン、タン
グステン、チタン、コバルト及びクロミウムに属する金
属元素の少なくとも1種である。Further, in the present invention, the activity is increased by making the particles finer, and the metal deposition rate is often increased. However, the finer the particles, the more difficult the production becomes. It is also possible to produce a colloid nucleus in which the element is carried to form substantially extremely fine particles, which is used as a highly active metal precipitation nucleus. Such a colloidal dispersion that can be a metal element alone is a sol-like dispersion of fine powder of silicic anhydride (silica), also called colloidal silica. A preferred element supported on the sol-like silica fine particles and functioning as a metal precipitation nucleus is at least a metal element belonging to silver, copper, nickel, zinc, palladium, gold, platinum, molybdenum, tungsten, titanium, cobalt and chromium. One kind.
【0127】シリカ微粒子分散物としては、結晶状又は
アモルファスのシリカの微粉末を水に分散させたゾルを
用いることができる。この場合は、分散性を向上させる
ためにゾルの系に適当な界面活性剤を添加したり、ヒド
ロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
で代表されるヒドロキシ又はカルボキシアルキルセルロ
ース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルア
セタールなどの水溶性高分子を分散助剤として添加して
もよい。その好ましい濃度は、金属微粒子からなる金属
析出核の調製に用いる条件として前記した濃度範囲と同
じである。また、シリカ微粒子分散物の別の形は、珪酸
ナトリウムなどの珪酸アルカリをアルカリ水溶液に溶解
させて水ガラス溶液を作り、この中に水溶性金属化合物
を溶解させたのち、この水系混合液を攪拌状態のもと
で、急速水希釈、酸添加によるpH低下、有機溶媒の急
速添加などの既知の方法で金属元素を担持したシリカゾ
ルを調製してもよい。As the silica fine particle dispersion, a sol in which fine powder of crystalline or amorphous silica is dispersed in water can be used. In this case, an appropriate surfactant is added to the sol system in order to improve dispersibility, or a hydroxy or carboxyalkyl cellulose represented by hydroxyethylcellulose or carboxymethylcellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal or the like is used. A conductive polymer may be added as a dispersing aid. The preferred concentration is the same as the concentration range described above as the condition used for preparing the metal precipitation nuclei composed of metal fine particles. Another form of the silica fine particle dispersion is to dissolve an alkali silicate such as sodium silicate in an aqueous alkali solution to form a water glass solution, dissolve the water-soluble metal compound therein, and then stir the aqueous mixture. Under the condition, a silica sol supporting a metal element may be prepared by a known method such as rapid water dilution, pH reduction by acid addition, and rapid addition of an organic solvent.
【0128】このようなシリカ粒子に担持された形で効
果を発揮する上記金属元素のうち、特に好ましい元素
は、銀、銅、ニッケル及びパラジウムである。シリカ粒
子表面に効果的に担持されるためには、ゾル分散系のp
Hが7以上、好ましくは8以上、より好ましくは10〜
14.0のアルカリ性であることがよく、おそらくシリ
カ表面が水和した形になるのが微細な金属元素の析出に
好ましいものと考えられる。アルカリ性にするには、任
意の水溶性アルカリ性化合物を用いることができるが、
特に水酸化アルカリやリン酸3アルカリが好ましい。ま
た、金属析出核を析出させる金属元素を供給する水溶性
金属化合物としては、水溶性であればいずれでもよい
が、硝酸塩、塩化物、硫酸塩などが好ましい。その濃度
は、ゾルのpH、共存させる還元剤及び調合装置による
が、通常、0.1〜10モル、好ましくは0.2〜3モ
ルの濃度で用いられる。シリカ微粒子は、市販のもので
よく、その濃度は通常、0.1〜100g/l、好まし
くは1.0〜10g/lである。珪酸アルカリから金属
担持核を調製する場合の好ましい珪酸アルカリの濃度も
同じ範囲にある。Among the above-mentioned metal elements which exhibit an effect in the form of being supported by silica particles, particularly preferred elements are silver, copper, nickel and palladium. In order to be effectively supported on the silica particle surface, the p of the sol dispersion system is required.
H is 7 or more, preferably 8 or more, more preferably 10 or more.
It is preferably an alkaline of 14.0, and it is considered that the hydrated form of the silica surface is preferable for deposition of fine metal elements. To make it alkaline, any water-soluble alkaline compound can be used,
In particular, alkali hydroxide and tribasic phosphate are preferred. The water-soluble metal compound for supplying the metal element for precipitating the metal precipitation nucleus may be any water-soluble metal compound, but is preferably a nitrate, a chloride or a sulfate. The concentration depends on the pH of the sol, the coexisting reducing agent and the compounding device, but is usually 0.1 to 10 mol, preferably 0.2 to 3 mol. The silica fine particles may be commercially available, and the concentration is usually 0.1 to 100 g / l, preferably 1.0 to 10 g / l. The preferred concentration of the alkali silicate when preparing the metal-supported core from the alkali silicate is also in the same range.
【0129】金属をシリカ微粒子上に析出させるさいに
は、少量の還元剤を共存させるのが好ましい。還元剤と
しては、水溶性の還元剤として前記した還元剤のいずれ
でもよいが、調節範囲がひろい点で、単糖やオリゴ糖な
どの糖類、アルデヒド類などが好ましい。その濃度は、
ゾルのpH、水溶性金属化合物及び調合装置によるが、
0.1〜10モル、好ましくは0.2〜3モルの濃度で
用いられる。反応温度は、0〜90℃の広い範囲から選
んでよいが、好ましい範囲は10〜70℃,もっとも好
ましくは40〜60℃である。また、シリカ微粒子を介
在させる金属微粒子の調製方法の特に好ましい例は、コ
ロイダルシリカあるいは珪酸ナトリウムを水酸化ナトリ
ウムを水に分散させ、水酸化ナトリウム又は水酸化かリ
ウムによってpHを12.8〜14.0として0.3〜
5%,好ましくは0.4〜2%の水ガラスとし,その中
へ水溶性金属化合物として硝酸銀を濃度が0.1から1
モル、還元剤としてデキストリン又はグルコースを濃度
5〜80g/リットル、分散性を向上させるための親水
性コロイド物質としてポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン又はゼラチンを2〜50g/リットル添加
して温度40〜50℃で反応させて得た銀担持シリカ微
粒子である。このような銀担持シリカ微粒子で、とくに
好ましいものは、粒子サイズが10から150nmの銀
担持シリカゾルである。In depositing the metal on the silica fine particles, it is preferable to coexist a small amount of a reducing agent. As the reducing agent, any of the reducing agents described above as a water-soluble reducing agent may be used, but saccharides such as monosaccharides and oligosaccharides, aldehydes and the like are preferable in view of a wide range of control. Its concentration is
Depending on the pH of the sol, the water-soluble metal compound and the compounding device,
It is used at a concentration of 0.1 to 10 mol, preferably 0.2 to 3 mol. The reaction temperature may be selected from a wide range of 0 to 90 ° C, but the preferred range is 10 to 70 ° C, most preferably 40 to 60 ° C. A particularly preferred example of the method for preparing metal fine particles with silica fine particles interposed therebetween is to disperse colloidal silica or sodium silicate in sodium hydroxide in water, and adjust the pH to 12.8 to 14.3 with sodium hydroxide or potassium hydroxide. 0.3 as 0
5%, preferably 0.4 to 2% water glass, into which silver nitrate as a water-soluble metal compound having a concentration of 0.1 to 1%.
Mol, dextrin or glucose as a reducing agent at a concentration of 5 to 80 g / l, and polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone or gelatin as a hydrophilic colloid substance for improving dispersibility at 2 to 50 g / l. These are silver-supported silica fine particles obtained by the reaction. Among these silver-supported silica fine particles, a particularly preferable one is a silver-supported silica sol having a particle size of 10 to 150 nm.
【0130】銀担持型シリカ微粒子の別の好ましい調製
方法としては、上記の方法においてコロイダルシリカを
水ガラスとすることなくシリカゾル分散物として水に分
散させた上で、上記のように硝酸銀を添加し、アルカリ
性とし、還元剤を加えて還元銀をシリカ粒子表面に析出
させる方法であり、好ましいpH、還元剤濃度、銀塩濃
度、保護コロイドとその濃度は、上記した通りである。Another preferable method for preparing silver-supported silica fine particles is to disperse colloidal silica in water as a silica sol dispersion without forming water glass in the above method, and then add silver nitrate as described above. This is a method of making alkaline, adding a reducing agent to precipitate reduced silver on the surface of the silica particles, and preferable pH, reducing agent concentration, silver salt concentration, protective colloid and its concentration are as described above.
【0131】本発明に好都合な金属析出核は、金属元素
に限定されない。銀、銅、ニッケル、亜鉛、パラジウ
ム、金、コバルト及びクロミウムの中から選択された金
属の硫化物も好ましく用いられる。その中でも、硫化ニ
ッケル、硫化錫、硫化コバルト、硫化銀、塩化パラジウ
ム等が好ましい。例えば、硫酸ニッケルを水に溶解し、
硫化ナトリウムなどの硫化アルカリを添加して得られ
る。硫化物微粒子の形成は、多くの場合中性以下のp
H、特に塩酸、硫酸、リン酸などでpHを0.5〜5.
0,好ましくは1.0〜3.0のpHで行うのが好まし
い。The metal nuclei which are advantageous for the present invention are not limited to metal elements. A sulfide of a metal selected from silver, copper, nickel, zinc, palladium, gold, cobalt and chromium is also preferably used. Among them, nickel sulfide, tin sulfide, cobalt sulfide, silver sulfide, palladium chloride and the like are preferable. For example, dissolve nickel sulfate in water,
It is obtained by adding an alkali sulfide such as sodium sulfide. The formation of sulfide particulates is often less than neutral p
H, especially hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, etc. to adjust the pH to 0.5-5.
It is preferably carried out at a pH of 0, preferably 1.0 to 3.0.
【0132】例えば、パラジウム核を付与する場合は、
印刷用原板を0.01〜0.1モル塩酸水溶液1リット
ル当たり0.2〜0.5モルの塩化錫を溶解して得た塩
化錫溶液に室温で1〜10分処理した後、0.01〜
0.1モル塩酸水溶液1リットル当たり0.1〜0.5
gの塩化パラジウムを溶解して得た塩化パラジウム溶液
に室温で1〜3分処理することが、例示される。このよ
うな場合、塩化パラジウムの代わりに塩化パラジウムカ
リウムなどのパラジウム錯塩を用いてもよい。パラジウ
ムの他、白金、イリジウム、ロジウム等の金属微粒子を
金属析出核として付与する場合も上記と同様にそれぞれ
の金属化合物の酸性水溶液で処理することができる。上
述の処理の際には、金属微粒子核の調製方法の項で述べ
た保護コロイド、界面活性剤などを同じ目的で使用でき
る。For example, when providing a palladium nucleus,
The printing plate is treated with a tin chloride solution obtained by dissolving 0.2 to 0.5 mol of tin chloride per liter of a 0.01 to 0.1 mol aqueous hydrochloric acid solution at room temperature for 1 to 10 minutes. 01 ~
0.1 to 0.5 per liter of 0.1 molar hydrochloric acid aqueous solution
For example, a palladium chloride solution obtained by dissolving g of palladium chloride is treated at room temperature for 1 to 3 minutes. In such a case, a palladium complex salt such as potassium palladium chloride may be used instead of palladium chloride. In the case where metal fine particles such as platinum, iridium, and rhodium are provided as metal deposition nuclei in addition to palladium, the treatment can be performed with an acidic aqueous solution of each metal compound in the same manner as described above. In the above-mentioned treatment, the protective colloid, the surfactant and the like described in the section of the method for preparing the metal fine particle nucleus can be used for the same purpose.
【0133】金属析出核としては、従来からハロゲン化
銀感光材料の物理現像において現像核として知られてい
るものも好ましい。とりわけ、銀塩拡散転写法の写真画
像形成に用いられる既知の物理現像核が利用できる。多
くの物理現像核は、イオン化傾向の後順位の金属とくに
金あるいは銀の1種の沈析核(つまり金、銀が溶液から
画像状に沈析してくる受け皿となる核)で、銀塩拡散転
写法の既知の物理現像核が好ましい。好適な物理現像核
は、銀、銅、ニッケル、亜鉛、パラジウム、金、コバル
ト及びクロミウムの中から選択された金属微粒子のほ
か、金、銀等のコロイド、パラジウム、ニッケル、亜鉛
等の水溶性塩と硫化物を混合して得た金属硫化物およ
び、鉛、亜鉛、アンチモン、およびニッケルのセレン化
合物などが使用できる。保護コロイドとして、ポリビニ
ルアルコール及びその部分鹸化したもの、ポリビニルピ
ロリドンなどの各種保護コロイドを用いることもできる
が、その量が多いとインキ受容性が悪くなるので、機能
を充たす限り少量用いるのが好ましい。As the metal precipitation nucleus, those conventionally known as development nuclei in physical development of a silver halide photosensitive material are also preferable. In particular, known physical development nuclei used for photographic image formation by the silver salt diffusion transfer method can be used. Many physical development nuclei are sedimentation nuclei of one of the following metals, especially gold or silver, which tend to ionize (that is, nuclei that form a pan where gold and silver precipitate image-wise from solution) and contain silver salts. The known physical development nuclei of the diffusion transfer method are preferred. Suitable physical development nuclei are, in addition to metal fine particles selected from silver, copper, nickel, zinc, palladium, gold, cobalt and chromium, colloids such as gold and silver, and water-soluble salts such as palladium, nickel and zinc. Metal sulfide obtained by mixing sulfide and sulfide, and selenium compounds of lead, zinc, antimony, and nickel can be used. As the protective colloid, various protective colloids such as polyvinyl alcohol and partially saponified polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone can be used. However, if the amount is large, the ink receptivity deteriorates. Therefore, it is preferable to use a small amount as long as the function is satisfied.
【0134】銀塩拡散転写法の原理はAndre Rott等によ
る“Photographic Silver Halide Diffusion Transfer
Process" The Focal Press(1972)をはじめ多くの写真化
学の叢書に記されており、その物理現像核については、
Grafkides's Science and Practices of Photographic
Matrials (7th ed.)の101ページ〜130ページにも
述べられている。その他の例としては、米国特許3,5
11,656号、特開昭63−260491号、特開平
7−56351、特開平8−314131号、欧州特許
0483415A1号などに記載されている。The principle of the silver salt diffusion transfer method is described in “Photographic Silver Halide Diffusion Transfer” by Andre Rott et al.
Process "The Focal Press (1972) and many other books on photographic chemistry.
Grafkides's Science and Practices of Photographic
Matrials (7th ed.) Pages 101-130. Other examples include U.S. Pat.
No. 11,656, JP-A-63-260491, JP-A-7-56351, JP-A-8-314131, and European Patent 0483415A1.
【0135】本発明においては、上記金属析出核を印刷
用原板に設ける処理は、エッチング処理の後、行うこと
ができる。このエッチング処理は、印刷用原板の疎水性
化前に予め印刷用原板表面に施されても良いし、形成さ
れた親水性化領域に施しても良い。In the present invention, the process of providing the metal deposition nuclei on the printing original plate can be performed after the etching process. This etching treatment may be performed beforehand on the surface of the printing original plate before making the printing original plate hydrophobic, or may be performed on the formed hydrophilic region.
【0136】エッチング処理は、リン酸・硫酸混合液や
クロム硫酸液を60〜70℃で10〜30分処理するこ
とによって行うことができる。好ましいリン酸・硫酸混
合液は、リン酸4〜8規定、硫酸6〜18規定の強酸溶
液である。また、好ましいクロム・硫酸混合液は、酸化
クロム200〜500gを2〜6規定の硫酸に溶解して
作る。エッチングによって印刷用原板の表面は粗面化さ
れる。The etching treatment can be performed by treating a mixed solution of phosphoric acid and sulfuric acid or a chromic sulfuric acid solution at 60 to 70 ° C. for 10 to 30 minutes. A preferred phosphoric acid / sulfuric acid mixture is a strong acid solution of phosphoric acid 4-8N and sulfuric acid 6-18N. A preferred chromium / sulfuric acid mixture is prepared by dissolving 200 to 500 g of chromium oxide in 2 to 6N sulfuric acid. The surface of the printing original plate is roughened by etching.
【0137】以上述べたように金属析出核上に無電解メ
ッキ用水溶液から金属を析出させ、それをもとにして連
続相の金属薄膜パターンを形成させる方法は、パターン
製作工程が簡易であり、したがって容易かつ安価に調製
することができ、得られた金属薄層パターンは疎水性領
域である非画像部へのはみ出しや凹みのない厚み方向に
も均一性の高い、しかも耐刷性に優れる金属薄層パター
ンが得られる。上記の金属微粒子核あるいは金属硫化物
の微粒子核のサイズは、通常、3〜1000nm,好ま
しくは5〜500nm,より好ましくは10〜100n
mである。As described above, the method of depositing a metal from an aqueous solution for electroless plating on a metal deposition nucleus and forming a metal thin film pattern of a continuous phase based on the metal has a simple pattern manufacturing process. Therefore, the metal thin layer pattern obtained can be easily and inexpensively prepared, and the obtained metal thin layer pattern has high uniformity even in the thickness direction without protruding into the non-image portion which is a hydrophobic area and no depression, and has excellent printing durability. A thin layer pattern is obtained. The size of the metal fine particle nucleus or the metal sulfide fine particle nucleus is usually 3 to 1000 nm, preferably 5 to 500 nm, more preferably 10 to 100 n.
m.
【0138】以上で、金属析出核についての説明を終わ
り、金属析出核に金属を析出させる無電解メッキ用水溶
液のそのほかの構成化合物についてさらに説明する。無
電解メッキ用水溶液には、さらに金属の析出を均一かつ
円滑に進め、形成される金属薄層パターンの精度を向上
させるために界面活性剤を添加することができる。界面
活性剤類は、水溶液と基板材料との接触角を低下させる
ものであれば、ノニオン系及びアニオン系(いずれも両
性を含む)、あるいはカチオン系のいずれの界面活性剤
でもよいが、とくにノニオン系とアニオン系の界面活性
剤が好ましい。ノニオン系の好ましい界面活性剤は、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエー
テル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリ
ールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロ
ピレンブロックコポリマー類、さらにポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマーの端末の
ヒドロキシル基に炭素数5〜24の脂肪族基がエーテル
結合した複合ポリオキシアルキレンアルキルエーテル
類、同じくアルキル置換アリール基がエーテル結合した
複合ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル
類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミ
テート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノ
オレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタント
リステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリ
オキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノパルミテ−ト、ポリオキシエチ
レンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレン
ソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビ
タントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタ
ン脂肪酸エステル類等が挙げられる。The description of the metal deposition nucleus has been completed above, and other components of the aqueous solution for electroless plating for depositing a metal on the metal deposition nucleus will be further described. A surfactant can be added to the aqueous solution for electroless plating in order to promote uniform and smooth metal deposition and improve the accuracy of the formed thin metal layer pattern. The surfactants may be any of nonionic, anionic (both amphoteric) and cationic surfactants as long as they reduce the contact angle between the aqueous solution and the substrate material. And anionic surfactants are preferred. Preferred nonionic surfactants include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, and polyoxyethylene octyl phenyl ether. Polyoxyethylene alkyl aryl ethers such as ethylene nonyl phenyl ether, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, and further, an aliphatic group having 5 to 24 carbon atoms in the hydroxyl group at the terminal of the polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymer Is a complex polyoxyalkylene alkyl ether having an ether bond, and is also a complex polyoxyalkylene alkyl having an alkyl-substituted aryl group is an ether bond. Sorbitan fatty acid esters such as reel ethers, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, sorbitan trioleate, sorbitan tristearate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene And polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan trioleate, and polyoxyethylene sorbitan tristearate.
【0139】アニオン系界面活性剤には、アルキルスル
ホン酸類、アリールスルホン酸類、脂肪族カルボン酸
類、芳香族カルボン酸類、アルキルナフタレンスルホン
酸類、ナフタレンスルホン酸又はアルキルナフタレンス
ルホン酸とホルムアルデヒドの縮合型のもの、炭素数9
〜26の脂肪族カルボン酸類、炭素数9〜26の脂肪族
スルホン酸類、アルキルベンゼンスルホン酸類、ラウロ
イルポリオキシエチレン硫酸、ステアロイルポリオキシ
エチレン硫酸、セチルオキシポリオキシエチレンスルホ
ン酸、オレイロイルポリオキシエチレンホスホン酸等の
ポリオキシエチレン含有硫酸やポリオキシエチレン含有
りん酸類などが挙げられる。これらの界面活性剤の添加
量は、水溶性無電解メッキ用水溶液1リットル当たり、
通常、0.1〜10g,好ましくは0.5〜5gであ
る。これらの界面活性剤は単独で添加してもよいし、ま
た、いくつかの組み合わせで添加することもできる。Examples of the anionic surfactants include alkyl sulfonic acids, aryl sulfonic acids, aliphatic carboxylic acids, aromatic carboxylic acids, alkyl naphthalene sulfonic acids, naphthalene sulfonic acid or a condensation type of alkyl naphthalene sulfonic acid and formaldehyde. Carbon number 9
To 26 aliphatic carboxylic acids, aliphatic sulfonic acids having 9 to 26 carbon atoms, alkylbenzene sulfonic acids, lauroyl polyoxyethylene sulfate, stearoyl polyoxyethylene sulfate, cetyloxy polyoxyethylene sulfonic acid, oleiroyl polyoxyethylene phosphonic acid And polyoxyethylene-containing sulfuric acid and polyoxyethylene-containing phosphoric acids. The addition amount of these surfactants is 1 liter per aqueous solution of water-soluble electroless plating.
Usually, it is 0.1 to 10 g, preferably 0.5 to 5 g. These surfactants may be added alone or in some combination.
【0140】本発明の無電解メッキ用水溶液には、水溶
性金属化合物と還元剤と、さらに好ましくは金属に対す
る錯形成化合物をも含んだ上に、液中で自発還元した懸
濁金属析出物を均一分散させて粗大化しないように保つ
ために、水溶性高分子を添加することができる。水溶性
高分子化合物は、水溶液に溶けてある程度の粘度増加が
あり、保護コロイド作用を持ち、しかも水溶液の酸化・
還元性に影響する酸化性又は還元性の置換基を有しない
高分子化合物であれば、通常用いることができる。粘度
に関しては、粘性率が0.05〜50cp(cpはセン
チポアズ),好ましくは0.1〜20cpとなるような
添加量が好ましい。水溶性金属化合物と還元剤を含む無
電解メッキ用水溶液に印刷用原板を接触させて金属薄層
パターンを形成する方法は、後述するが、印刷用原板を
無電解メッキ用水溶液に浸漬して行う方式の場合は、比
較的低い粘性率の水溶液、例えば5cp以下の水溶液で
よく、レジストパターン付き基板上に無電解メッキ用水
溶液を塗布する方式の場合は、1cp以上の粘性率を付
与するのがよい。粘性率つまり粘度を求めるには、落球
式粘度計、回転粘度計、オストワルド粘度計及びこれら
のいずれかと同原理の任意の汎用粘度計から測定範囲の
適当なものを選んで使用できる。上記の粘度はとくに断
らない限り25℃の測定値である。The aqueous solution for electroless plating of the present invention contains a water-soluble metal compound, a reducing agent, and more preferably a complex-forming compound for a metal, and further contains a suspended metal precipitate spontaneously reduced in the solution. A water-soluble polymer can be added to uniformly disperse and keep from coarsening. The water-soluble polymer compound has a certain viscosity increase when dissolved in an aqueous solution, has a protective colloid effect, and furthermore, oxidizes and dissolves the aqueous solution.
As long as it is a polymer compound having no oxidizing or reducing substituent that affects the reducing property, it can be generally used. As for the viscosity, the amount added is preferably such that the viscosity becomes 0.05 to 50 cp (cp is centipoise), and preferably 0.1 to 20 cp. A method for forming a thin metal layer pattern by contacting a printing original plate with an aqueous solution for electroless plating containing a water-soluble metal compound and a reducing agent will be described later, but is performed by immersing the printing original plate in an aqueous solution for electroless plating. In the case of the method, an aqueous solution having a relatively low viscosity may be used, for example, an aqueous solution having a viscosity of 5 cp or less. In the case of applying an aqueous solution for electroless plating on a substrate with a resist pattern, a viscosity of 1 cp or more may be provided. Good. In order to determine the viscosity, that is, the viscosity, an appropriate measuring range can be selected from a falling ball viscometer, a rotational viscometer, an Ostwald viscometer, and any general-purpose viscometer having the same principle as any of these. The above viscosities are measured at 25 ° C. unless otherwise noted.
【0141】好ましい水溶性高分子化合物は、ゼラチ
ン、ポリビニルアルコール、その部分鹸化ポリマー、ポ
リビニルピロリドン、その部分鹸化ポリマー、ポリアク
リル酸、ポリメタクリル酸、それらの水溶性エステルな
ど、ポリスチレンスルホン酸など、あるいは、アクリル
酸、メタクリル酸、それらの水溶性エステル、スチレ
ン、アクリロニトリルなどから得られる共重合物、さら
に、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロー
ス、メトキシエチルセルロース、メトキシエチルセルロ
ースなどの水溶性セルロース誘導体が挙げられる。これ
らの水溶性高分子化合物の添加量は、上記の粘度になる
ように適当に選択される。多くの場合、無電解メッキ用
水溶液1リットル当たり、通常、1〜20gである。こ
れらの高分子化合物は、単独で添加してもよいし、ま
た、いくつかの組み合わせで添加することもできる。Preferred water-soluble polymer compounds include gelatin, polyvinyl alcohol, partially saponified polymers thereof, polyvinylpyrrolidone, partially saponified polymers thereof, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, water-soluble esters thereof, polystyrene sulfonic acid, etc. , Acrylic acid, methacrylic acid, their water-soluble esters, styrene, copolymers obtained from acrylonitrile, etc., and further, methylcellulose, ethylcellulose, hydroxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methoxyethylcellulose, methoxyethylcellulose, etc. Functional cellulose derivatives. The addition amount of these water-soluble polymer compounds is appropriately selected so that the above-mentioned viscosity is obtained. In most cases, the amount is usually 1 to 20 g per liter of the aqueous solution for electroless plating. These polymer compounds may be added alone or in some combination.
【0142】次に金属パターンを形成する方法について
付け加える。前記無電解メッキ用水溶液を、印刷用原板
上に像様に形成した親水性領域に塗布してもよく、ある
いは印刷用原板を無電解メッキ用水溶液中に浸漬しても
よい。また、塗布を行う場合には、水溶性金属化合物を
含む水溶液と還元剤とを含有する水溶液とを混合するこ
となく別々に重層塗布して基板上で混合されて沈析が起
こるようにしてもよい。とくに無電解メッキ用水溶液の
還元性が強くて処理液の寿命が短い場合にはこのような
重層塗布方法が好都合である。金属薄層を像様に沈析さ
せる際の温度は室温から90℃の範囲のそれぞれの酸化
・還元系の適した温度で行われる。また、処理時間もそ
れに応じて適当な時間が選ばれる。通常、数秒以上で1
0分以内に金属パターンで形成が行われるような反応条
件が選択される。処理時間が短すぎるのは、金属沈析液
の活性が強すぎることを示しており、このような場合に
は非パターン部分にも金属が沈析したり、金属沈析液の
中で金属微粒子が析出したりする。また、沈析時間が長
すぎるのは非生産的である。金属沈析液の活性は、水溶
性金属化合物、錯形成化合物、還元剤のそれぞれの濃度
や溶液のpHを調節することによって沈析速度を調節で
きる。次に第4段階すなわち第3段階において、無電解
メッキが行われなかった疎水性領域(以下、「非メッキ
領域」ともいう)の親水性化処理の説明に移る。この非
メッキ領域は、第1段階で疎水性化されているままなの
で、これを親水性に変換する必要があり、第4段階でこ
の変換が行われる。Next, a method for forming a metal pattern will be added. The aqueous solution for electroless plating may be applied to the hydrophilic region imagewise formed on the original plate for printing, or the original plate for printing may be immersed in the aqueous solution for electroless plating. Further, in the case of performing the coating, the aqueous solution containing the water-soluble metal compound and the aqueous solution containing the reducing agent are separately coated without being mixed with each other without being mixed and mixed on the substrate to cause precipitation. Good. In particular, when the aqueous solution for electroless plating has a strong reducibility and the life of the treatment solution is short, such a multilayer coating method is advantageous. The temperature at which the thin metal layer is imagewise deposited is in the range from room temperature to 90 ° C. at a suitable temperature for the respective oxidation and reduction system. An appropriate time is also selected for the processing time. Usually one in a few seconds or more
Reaction conditions are selected such that the metal pattern is formed within 0 minutes. If the treatment time is too short, it indicates that the activity of the metal precipitation liquid is too strong. Precipitates. Also, it is unproductive that the sedimentation time is too long. The activity of the metal precipitation liquid can be adjusted by adjusting the concentration of each of the water-soluble metal compound, the complex-forming compound and the reducing agent and the pH of the solution. Next, in the fourth stage, that is, in the third stage, a description will be given of the process of making the hydrophobic region (hereinafter, also referred to as “non-plated region”) hydrophilic in which the electroless plating has not been performed. Since this unplated area remains hydrophobic in the first step, it must be converted to hydrophilic, and this conversion takes place in the fourth step.
【0143】第3段階において、無電解メッキが行われ
た親水性領域(以下、「無電解メッキ領域」ともいう)
で金属薄層を形成している金属と非メッキ領域の金属の
2種類の金属のうち相対的に疎水性の側がインキを受容
する領域となるが、金属薄層を形成する金属の方が、非
メッキ領域の金属より疎水性でインク受容性となる。し
かし、この非メッキ領域は、疎水性領域であるために、
親水性化処理をする必要がある。In the third stage, a hydrophilic region on which electroless plating has been performed (hereinafter, also referred to as an “electroless plating region”)
Of the two types of metals, the metal forming the thin metal layer and the metal in the non-plated area, the relatively hydrophobic side is the area that receives the ink, but the metal that forms the thin metal layer is It is more hydrophobic and ink-receptive than the metal in the unplated area. However, since this non-plated area is a hydrophobic area,
It is necessary to perform a hydrophilic treatment.
【0144】即ち、第4段階は、第1段階で疎水性化さ
れていた領域を有機化合物の洗浄除去、高温親水性発現
温度への加熱のいずれかの手段で親水性化し、インキ反
発性とする段階である。That is, in the fourth step, the area which has been rendered hydrophobic in the first step is made hydrophilic by any means of washing and removing the organic compound and heating to a high temperature at which hydrophilicity is exhibited, and the ink repellency is improved. It is a stage to do.
【0145】洗浄による疎水性化は、水、メタノール・
水混合溶液やメタノール・アセトン・水混合溶液などで
疎水性領域を洗浄して、表面に存在すると推定される有
機化合物の層を除去する方法も用いることができる。た
だし、この目的に使用する有機・無機混合水溶液は、そ
れ自体が疎水性化作用を持たない十分な水溶性をもつ有
機液体でなければならない。[0145] Hydrophobization by washing is performed by using water, methanol,
A method of washing the hydrophobic region with a mixed solution of water, a mixed solution of methanol, acetone and water, or the like to remove a layer of an organic compound presumably present on the surface can also be used. However, the organic / inorganic mixed aqueous solution used for this purpose must be a sufficiently water-soluble organic liquid which does not itself have a hydrophobizing effect.
【0146】活性光照射、高温親水性発現レベルの加熱
による親水性化は、第2段階で用いられた親水性化手段
と原理的に同じであるが、異なる点は、第2段階では親
水性領域を像様に形成したが、この段階では、非メッキ
領域を一様に親水性化すればよいことであり、したがっ
て、レーザー描画や感熱記録用ヘッドなどの走査型照射
や加熱方式よりもuv光などの活性光の全面照射や、赤
外線灯や電熱による全面加熱高温親水性発現温度への全
面加熱によって行う方が容易である。この加熱によって
印刷用原板の疎水性領域が親水性に変化する理由は、表
面に吸着して疎水性に寄与していた有機成分が、活性光
がもたらす光励起によって、あるいは加熱による分子振
動準位の励起によって脱着あるいは分解によって離脱す
るものと推定している。[0146] Hydrophilization by irradiation with actinic light and heating at a high-temperature hydrophilicity expression level is in principle the same as the hydrophilization means used in the second step, except that hydrophilicity is increased in the second step. Although the area was formed imagewise, at this stage, the non-plated area only needs to be made hydrophilic uniformly, and therefore, compared to the scanning type irradiation or heating method such as a laser drawing or a thermal recording head, the uv area is higher. It is easier to perform the irradiation by irradiating the entire surface with actinic light such as light, or by heating the entire surface to a high temperature at which hydrophilicity is exhibited by infrared lamp or electric heating. The reason that the hydrophobic region of the printing original plate changes to hydrophilic by this heating is that the organic component adsorbed on the surface and contributing to the hydrophobicity is converted into the molecular vibration level by the light excitation caused by the active light or by the heating. It is estimated that they are desorbed by excitation or desorbed by decomposition.
【0147】第4段階の操作によって、本来印刷用原板
上の湿し水を受け入れるべき領域で有りながら無電解メ
ッキのために疎水性化されていた非メッキ領域が本来の
親水性を回復する。しかも無電解メッキ領域は物理的強
度が高かめられており、かつ多くの場合、回復した親水
性の非メッキ領域との識別能の大きい印刷用版が形成さ
れる。この段階を終えると、印刷用原板は、次の印刷工
程に送ることができる。By the operation of the fourth step, the non-plated area which has been made hydrophobic for electroless plating while being an area on the original printing plate which should receive the dampening solution recovers its original hydrophilicity. In addition, the electroless plated area has a high physical strength, and in many cases, a printing plate having a high discrimination ability from the recovered hydrophilic non-plated area is formed. After this stage, the printing original plate can be sent to the next printing step.
【0148】〔印刷〕上述のように処理して作成された
平版印刷版の非画像部(即ち、非メッキ領域)は、十分
に親水性化しているが、所望により、水洗水、界面活性
剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を
含む不感脂化液で後処理してもよい。本発明により処理
した印刷用原板を印刷用版材として使用する場合の後処
理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いるこ
とができる。その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージー、あるいは、スキージーロ
ーラーで、その塗布量を均一にすることは、より好まし
い結果を与える。整面液の塗布量は一般に0.03〜
0.8g/m2(乾燥重量)が適当である。この様な処理に
よって得られた平版印刷版は、オフセット印刷機等にか
けられ、あるいは印刷機上で印刷用原板を本発明により
処理して製版され、多数枚の印刷に用いられる。[Printing] The non-image area (that is, the non-plated area) of the lithographic printing plate prepared by the above-described processing is sufficiently hydrophilic. And the like, or a desensitizing solution containing gum arabic or a starch derivative. As a post-processing when the printing original plate processed according to the present invention is used as a printing plate material, these processings can be used in various combinations. As a method, with a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid, apply on a lithographic printing plate,
A method in which a printing plate is immersed in a vat filled with a surface-conditioning solution and applied, or an automatic coater is used. Further, it is more preferable that the applied amount is made uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application. The application amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to
0.8 g / m 2 (dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate obtained by such a process is applied to an offset printing machine or the like, or is processed on a printing plate by processing a printing plate according to the present invention, and is used for printing a large number of sheets.
【0149】〔印刷用原板の再生使用〕次に印刷を終え
た印刷版の再生工程について記す。印刷終了後の印刷版
は疎水性の石油系溶剤を用いて付着しているインキを洗
い落とす。溶剤としては市販の印刷用インキ溶解液とし
て芳香族炭化水素、例えばケロシン、アイソパ−などが
あり、そのほかベンゾール、トルオール、キシロール、
アセトン、メチルエチルケトン及びそれらの混合溶剤を
用いてもよい。画像物質が溶解しない場合には、布など
を用いて軽く拭き取る。また、トルエン/ダイクリーン
の1/1混合溶媒を用いるとよいこともある。[Recycling of Printing Original Plate] Next, the process of recycling the printing plate after printing will be described. After the printing, the printing plate is washed away with a hydrophobic petroleum-based solvent to remove the adhering ink. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as kerosene and isoper as commercially available printing ink dissolving liquids, and in addition, benzol, toluene, xylol,
Acetone, methyl ethyl ketone and a mixed solvent thereof may be used. If the image substance does not dissolve, gently wipe it with a cloth. In some cases, a 1/1 mixed solvent of toluene / Daiclean may be used.
【0150】つづいて無電解メッキにより形成した金属
薄層の除去を行う。この除去処理は、特に制限されるべ
きものではないが、該金属薄層を化学的酸化処理によっ
て溶出除去する方法が好ましい。Subsequently, the thin metal layer formed by the electroless plating is removed. This removal treatment is not particularly limited, but a method of eluting and removing the thin metal layer by a chemical oxidation treatment is preferable.
【0151】この化学的酸化処理の具体的方法は、特に
制限されるべきものではないが、金属を酸化して溶解す
る公知の酸化性水溶液で洗浄、浸漬、塗布などの方法で
使用した印刷原板面に接触させる方法が挙げられる。特
に好ましい酸化性水溶液は、写真用の漂白液、減力液、
カラー増幅液として公知の処理液を転用して用いるか、
あるいはその中から印刷用原板の再生に必要な構成成分
を取り入れて設計した酸化性水溶液である。この水溶液
の組成は、無電解メッキした金属を酸化する酸化剤、そ
の酸化電位を高めるための助剤、酸化電位を適当なpH
に調節するpH調節剤や緩衝剤などからなる。酸化剤と
しては、鉄(III) の有機錯塩(例えばアミノポリカルボ
ン酸類の錯塩、もしくはクエン酸、酒石酸、リンゴ酸な
どの有機酸塩)、赤血塩、過硫酸塩、過酸化水素、過ほ
う酸、過炭酸などが好ましい。The specific method of the chemical oxidation treatment is not particularly limited, but the printing original plate used in a method such as washing, dipping, or coating with a known oxidizing aqueous solution that oxidizes and dissolves the metal. There is a method of contacting the surface. Particularly preferred oxidizing aqueous solutions are photographic bleaching solutions, reducers,
Diverting and using a known processing solution as a color amplification solution,
Alternatively, it is an oxidizing aqueous solution designed by incorporating constituent components necessary for regenerating a printing plate from among them. The composition of the aqueous solution includes an oxidizing agent for oxidizing the electrolessly plated metal, an auxiliary for increasing the oxidizing potential, and a suitable pH for the oxidizing potential.
PH adjusting agent and buffering agent. Examples of the oxidizing agent include organic complex salts of iron (III) (for example, complex salts of aminopolycarboxylic acids or organic acid salts such as citric acid, tartaric acid, and malic acid), red blood salts, persulfates, hydrogen peroxide, and perboric acid. And percarbonate are preferred.
【0152】これらのうち、鉄(III) のアミノポリカル
ボン酸錯塩、過硫酸塩及び過酸化水素が金属除去能と迅
速性の観点から特に好ましい。鉄(III) の有機錯塩を形
成するために有用なアミノポリカルボン酸、またはそれ
らの塩を列挙すると、エチレンジアミンジ琥珀酸、N−
(2−カルボキシラートエチル)−L−アスパラギン
酸、ベ−ターアラニンジ酢酸、メチルイミノジ酢酸、エ
チレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
1,3−ジアミノプロパン四酢酸、プロピレンジアミン
四酢酸、ニトリロ三酢酸、イミノ二酢酸などを挙げるこ
とができる。これらの化合物はナトリウム、カリウム、
リチウム又はアンモニウム塩のいずれでもよい。これら
の第2鉄イオン錯塩は錯塩の形で使用しても良いし、第
2鉄塩、例えば硫酸第2鉄、塩化第2鉄、硝酸第2鉄、
硫酸第2鉄アンモニウム、燐酸第2鉄などとアミノポリ
カルボン酸などのキレート剤とを用いて溶液中で第2鉄
イオン錯塩を形成させてもよい。また、キレート剤を第
2鉄イオン錯塩を形成する以上に過剰に用いてもよい。
酸化剤の添加量は0.01〜2.0モル/リットル、好
ましくは0.3〜1.0モル/リットルである。Of these, amino (III) aminopolycarboxylic acid complex salts, persulfates and hydrogen peroxide are particularly preferred from the viewpoint of metal removal ability and rapidity. Aminopolycarboxylic acids, or salts thereof, useful for forming organic complex salts of iron (III) include ethylenediaminedisuccinic acid, N-
(2-carboxylateethyl) -L-aspartic acid, beta-alanine diacetate, methyl iminodiacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid,
Examples thereof include 1,3-diaminopropanetetraacetic acid, propylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, and iminodiacetic acid. These compounds are sodium, potassium,
Any of lithium and ammonium salts may be used. These ferric ion complex salts may be used in the form of complex salts or ferric salts such as ferric sulfate, ferric chloride, ferric nitrate, and the like.
A ferric ion complex salt may be formed in a solution by using ferric ammonium sulfate, ferric phosphate or the like and a chelating agent such as aminopolycarboxylic acid. In addition, the chelating agent may be used in excess of forming a ferric ion complex salt.
The addition amount of the oxidizing agent is 0.01 to 2.0 mol / l, preferably 0.3 to 1.0 mol / l.
【0153】酸化電位を高めるための好ましい助剤とし
ては、金属イオンの錯形成剤や水溶性塩形成剤、例えば
グリコール酸、琥珀酸、マレイン酸、マロン酸、クエン
酸、スルホ琥珀酸、チオ硫酸のアルカリ金属塩やアンモ
ニウム塩、イミダゾール、ジメチルイミダゾール、2−
ピコリン酸などを挙げるこおができる。これら化合物の
添加量は、処理液1リットル当たり0.005〜3.0
モルが好ましく、さらに好ましくは0.05〜1.5モ
ルである。Preferred auxiliaries for increasing the oxidation potential include metal ion complexing agents and water-soluble salt forming agents such as glycolic acid, succinic acid, maleic acid, malonic acid, citric acid, sulfosuccinic acid, thiosulfuric acid. Alkali metal and ammonium salts of imidazole, dimethylimidazole, 2-
Picolinic acid and the like can be mentioned. The addition amount of these compounds is 0.005 to 3.0 per liter of the processing solution.
Mol is preferable, and more preferably 0.05 to 1.5 mol.
【0154】酸化電位を適当なpHに調節するpH調節
剤や緩衝剤としては、pH域を無電解メッキした金属を
酸化し、かつ原板材料をおかさない適当な範囲に調節で
きる種々の公知の化合物を使用できる。多くの場合に、
酸化性水溶液のpHは、1〜7が好ましく、2〜5が特
に好ましい。pH調整剤としては、塩酸、硫酸、硝酸、
リン酸等を添加することができる。Various known compounds which can adjust the oxidation potential to an appropriate pH, such as a pH adjuster or a buffer, which can oxidize the electroless-plated metal in the pH range and adjust the pH to an appropriate range without damaging the raw material. Can be used. In many cases,
The pH of the oxidizing aqueous solution is preferably from 1 to 7, and particularly preferably from 2 to 5. Hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid,
Phosphoric acid or the like can be added.
【0155】また、緩衝剤として、あるいは緩衝能もあ
る保恒剤として酢酸および酢酸塩(例えば、酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウム、酢酸アンモニウム、など)、重亜
硫酸塩(例えば、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナト
リウム、重亜硫酸カリウム、など)、クエン酸塩(例え
ば、クエン酸カリウム、クエン酸ナトリウム、クエン酸
アンモニウム、など)等が好ましい。これらのpH調節
剤、緩衝剤などを用いる場合、その添加量は約0.01
〜1.0モル/リットル含有させることが好ましい。電
着金属が銀である場合には、銀の酸化電位を高めるため
と溶解作用を促進するために、酸化性水溶液中にハライ
ド化合物(例えば臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化
アンモニウム、臭化リチウム、臭化カルシウム、臭化マ
グネシウム、臭化マンガン、臭化ニッケル、臭化セリウ
ム、臭化タリウム)やチオ硫酸塩(アルカリ金属塩やア
ンモニウム塩)を添加することも好ましい。添加する場
合、ハライド化合物は、0.01〜1.0モル/L、好
ましくは0.05〜0.5モル/L、チオ硫酸塩は、
0.01〜3.0モル/L、好ましくは0.05〜1.
0モル/Lの濃度である。Acetic acid and acetate (eg, sodium acetate, potassium acetate, ammonium acetate, etc.) and bisulfite (eg, ammonium bisulfite, sodium bisulfite) as a buffer or a preservative having a buffering capacity , Potassium bisulfite, etc.), citrates (eg, potassium citrate, sodium citrate, ammonium citrate, etc.) and the like are preferred. When these pH adjusters, buffers and the like are used, the added amount is about 0.01
It is preferred that the content be contained in the range of 1.0 to 1.0 mol / liter. When the electrodeposited metal is silver, a halide compound (for example, sodium bromide, potassium bromide, ammonium bromide, bromide) is added to the oxidizing aqueous solution in order to increase the oxidation potential of silver and to promote the dissolving action. It is also preferable to add lithium, calcium bromide, magnesium bromide, manganese bromide, nickel bromide, cerium bromide, thallium bromide) and thiosulfates (alkali metal salts and ammonium salts). When added, the halide compound is 0.01 to 1.0 mol / L, preferably 0.05 to 0.5 mol / L, and the thiosulfate is
0.01-3.0 mol / L, preferably 0.05-1.
The concentration is 0 mol / L.
【0156】酸化性水溶液に浸漬する時間は、広い範囲
で選択できるが、通常10秒〜5分程度、好ましくは2
0秒から1分である。また浸漬温度は、室温がよいが、
室温から80℃の範囲で選ぶことができる。The time of immersion in the oxidizing aqueous solution can be selected in a wide range, but is usually about 10 seconds to 5 minutes, preferably about 2 seconds.
0 seconds to 1 minute. The immersion temperature is preferably room temperature,
It can be selected in the range from room temperature to 80 ° C.
【0157】インキを洗浄除去し、無電解メッキした金
属薄層を上記のようにして除去した印刷版は、前記した
方法で疎水性化を行うことにより、版面全体にわたって
均一に疎水性が回復される。この疎水性化操作は、印刷
インキを洗浄除去してから次の製版作業において親水性
領域と疎水性領域からなる像様分布の形成を行うまでの
間の任意の時期に行ってもよいが、その再生された印刷
用原板を次の製版工程に再使用する際に行うのが印刷用
原板の保管中の履歴の影響を排除できる点で好ましい。The printing plate from which the ink has been removed by washing and the electroless plated thin metal layer has been removed as described above is subjected to the hydrophobic treatment by the above-mentioned method, whereby the hydrophobicity is uniformly restored over the entire plate surface. You. This hydrophobizing operation may be performed at any time after washing and removal of the printing ink and before forming an image-like distribution composed of hydrophilic regions and hydrophobic regions in the next plate-making operation, It is preferable that the recycled printing plate is reused in the next plate-making process, because the influence of the history during storage of the printing plate can be eliminated.
【0158】本発明に係わる印刷用原板の反復再生可能
回数は、完全に把握できていないが、少なくとも15回
以上であり、おそらく版面の除去不能な汚れ、修復が実
際的でない刷面の傷や、版材の機械的な変形(ひずみ)
などによって制約されるものと思われる。Although the number of reproducible times of the printing original plate according to the present invention has not been completely grasped, it is at least 15 times or more. , Plate material mechanical deformation (strain)
It seems to be restricted by such factors.
【0159】以上に述べてきたように、本発明の印刷方
法は、親水性と疎水性の間の識別性が高いこと、版
面の耐久性が向上していることなどの利点を有してい
る。その結果、印刷品質と耐刷性に優れた印刷版を再現
性よく、かつ簡易に製作することができる。As described above, the printing method of the present invention has advantages such as high discrimination between hydrophilicity and hydrophobicity, and improved durability of the printing plate. . As a result, a printing plate excellent in printing quality and printing durability can be easily manufactured with good reproducibility.
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されるものではない。 〔実施例1〕99.5重量%アルミニウムに、銅を0.
01重量%、チタンを0.03重量%、鉄を0.3重量
%、ケイ素を0.1重量%含有するJISA1050ア
ルミニウム材の厚み0.30mm圧延板を、400メッシ
ュのパミストン(共立窯業製)の20重量%水性懸濁液
と、回転ナイロンブラシ(6,10−ナイロン)とを用
いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。こ
れを15重量%水酸化ナトリウム水溶液(アルミニウム
4.5重量%含有)に浸漬してアルミニウムの溶解量が
5g/m2になるようにエッチングした後、流水で水洗し
た。更に、1重量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝
酸水溶液(アルミニウム0.5重量%含有)中で、陽極
時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルトの矩形
波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58−5
796号公報実施例に記載されている電流波形)を用い
て160クローン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処
理を行った。水洗後、35℃の10重量%水酸化ナトリ
ウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2
になるようにエッチングした後、水洗した。次に、50
℃、30重量%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマットし
た後、水洗した。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. [Example 1] Copper was added to 99.5% by weight of aluminum in the presence of copper.
A 0.30 mm thick roll of a JIS A1050 aluminum material containing 01% by weight, 0.03% by weight of titanium, 0.3% by weight of iron, and 0.1% by weight of silicon is used as a 400 mesh pumice stone (manufactured by Kyoritsu Ceramics). The surface was grained using a 20% by weight aqueous suspension of No. 1 and a rotating nylon brush (6,10-nylon), and then thoroughly washed with water. This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum) and etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and then washed with running water. Further, it is neutralized with 1% by weight nitric acid, and then, in a 0.7% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum), a rectangular wave having a voltage of 10.5 volts at the anode and a voltage of 9.3 volts at the cathode. Alternating waveform voltage (current ratio r = 0.90, Japanese Patent Publication No. 58-5)
The electrolytic surface roughening treatment was carried out using an electric current at the time of anode of 160 clones / dm 2 using the current waveform described in Examples of Japanese Patent Publication No. 796. After washing with water, it was immersed in a 10% by weight aqueous solution of sodium hydroxide at 35 ° C. to dissolve 1 g / m 2 of aluminum.
And then washed with water. Next, 50
It was immersed in a 30% by weight aqueous sulfuric acid solution at ℃, desmutted, and then washed with water.
【0160】さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。即ち電流密
度13A/dm2で電解を行い、電解時間の調節により陽極
酸化皮膜重量2.7g/m2とした。この支持体を水洗後、
70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水溶液に30秒間
浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られた
アルミニウム支持体は、マクベスRD920反射濃度計
で測定した反射濃度は0.30で、中心線平均粗さは
0.58μmであった。Further, a porous anodic oxide film forming treatment was carried out in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) at 35 ° C. using a direct current. That is, electrolysis was performed at a current density of 13 A / dm 2 , and the anodic oxide film weight was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time. After washing this support with water,
It was immersed in a 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried. The aluminum support obtained as described above had a reflection density measured by a Macbeth RD920 reflection densitometer of 0.30 and a center line average roughness of 0.58 μm.
【0161】次いでこのアルミニウム支持体を真空蒸着
装置内に入れて、全圧1.5x10 -4Torrになるように
分圧70%の酸素ガスの条件下でチタン金属片を電熱加
熱して、アルミニウム支持体上に蒸着して酸化チタン薄
膜を形成した。この薄膜の結晶成分はX線解析法によっ
て無定型/アナターゼ/ルチル結晶構造の比が1.5/
6.5/2であり、TiO2薄膜の厚さは4000オングス
トロームであった。これを版胴1の基体に巻き付けて機
上印刷用の原板とした。Next, the aluminum support was vacuum-deposited.
Put in the device, total pressure 1.5x10 -FourTo become Torr
The titanium metal piece is heated under the condition of oxygen gas with a partial pressure of 70%.
Heat and deposit on an aluminum support to remove titanium oxide
A film was formed. The crystal component of this thin film is determined by X-ray analysis.
And the ratio of amorphous / anatase / rutile crystal structure is 1.5 /
6.5 / 2, TiOTwo4000 angstrom thin film
It was Trom. This is wound around the substrate of the plate cylinder 1 and
An original plate for upper printing was used.
【0162】続いて、この原板に全面疎水性化処理を施
した。図1は、本実施例に用いた疎水性化処理ユニット
を示したもので、液状有機化合物又は有機化合物を溶解
した溶液を版胴1に巻き付けられた原板表面に塗布して
有機化合物の塗膜を形成させるように組み立てられた疎
水性化処理ユニットである。処理ユニットの外套40の
内部には、有機化合物液体27を満たした容器41、そ
の容器内に充填された液体に下部が浸されて液体を付着
させて取り出すディップローラー42、ディップローラ
ーに対向して取り出された液体を適量だけ受け入れるリ
バースローラー43、リバースローラー43に付着して
いる液体を転着して、それを原板表面に転写塗布するコ
ーティングローラー44から成っている。各ローラーの
表面は、液体を適量保持できるように吸液性の被覆が成
されている。Subsequently, the original plate was subjected to a hydrophobic treatment. FIG. 1 shows a hydrophobizing treatment unit used in the present embodiment, in which a liquid organic compound or a solution in which an organic compound is dissolved is applied to the surface of an original plate wound around a plate cylinder 1 to form a coating film of an organic compound. Is a hydrophobization processing unit assembled to form a hydrophobizing unit. Inside the mantle 40 of the processing unit, a container 41 filled with the organic compound liquid 27, a dip roller 42 whose lower part is immersed in the liquid filled in the container to attach and remove the liquid, and oppose the dip roller A reverse roller 43 for receiving an appropriate amount of the liquid taken out, and a coating roller 44 for transferring the liquid adhering to the reverse roller 43 and transferring and applying the liquid to the surface of the original plate. The surface of each roller is provided with a liquid-absorbing coating so that an appropriate amount of liquid can be held.
【0163】図1の有機化合物用の容器41には有機化
合物液体27としてベンジルアミン(有機概念図におけ
る有機性140、無機性85)を充填して、コーティン
グローラーによって液膜の厚みが0.1ミクロンになる
条件で原板表面にベンジルアミンを塗布して疎水性表面
を形成させた。原板表面の水に対する接触角をContact
Angle Meter CA-D(協和界面科学(株)製)を用いて空
中水滴法で表面の水に対する接触角を測定したところ、
いずれの部分も68〜71度の間にあった。The container 41 for an organic compound shown in FIG. 1 is filled with benzylamine (organic 140, inorganic 85 in the organic conceptual diagram) as the organic compound liquid 27, and the thickness of the liquid film is reduced to 0.1 by a coating roller. Benzylamine was applied to the surface of the original plate under the condition of micron size to form a hydrophobic surface. Contact angle of contact with water on original plate surface
Using Angle Meter CA-D (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), the contact angle of the surface with water was measured by the air drop method.
Both parts were between 68 and 71 degrees.
【0164】次いで、活性光の光源としてアルゴンレー
ザー装置を使用し、レーザー光ビームを画像情報で変調
した像様の分布を持つビーム光で走査方式の露光を行っ
た。レーザー光の照射条件は、発振波長が0.35μm
で、ビーム径を30μmであり、また、そのエネルギー
強度は50mWであった。照射後の印刷用原板の親水性
領域表面の水に対する接触角をContact Angle Meter CA
-D(協和界面科学(株)製)を用いて空中水滴法で表面
の水に対する接触角を測定したところ、走査線密度を高
くして測定可能の面積の照射面とした照射領域は7〜9
度の間にあった。Next, an argon laser device was used as a light source of the active light, and scanning exposure was performed with a light beam having an image-like distribution obtained by modulating a laser light beam with image information. The laser beam irradiation condition is that the oscillation wavelength is 0.35 μm
The beam diameter was 30 μm, and the energy intensity was 50 mW. Contact angle meter CA determines the contact angle of hydrophilic surface of the printing plate after irradiation with water.
When the contact angle of water on the surface was measured by the aerial water droplet method using -D (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), the irradiation area was set to 7 to 7 as the irradiation surface with a measurable area by increasing the scanning line density. 9
There was between degrees.
【0165】(金属析出核の調製)金属析出核として、
銀塩拡散転写法に使用する物理現像核(硫化パラジウ
ム)を使用した。その調製方法を下記に示す。 (1)A液:塩化パラジウム 3.3g 濃塩酸 20ml 上記のものを混合して溶解したのち、水を500ml加
える。 (2)B液:Na2S・9H2O 4.5g ポリビニルアルコ−ル 1g 水 2400ml (3)物理現像核の形成 B液を50℃に加温し、撹拌しながらA液を添加する。
A液添加後温度を40℃に下げ、NaOHによりpHを
5.0とする。生成した硫化パラジウム核は、微小のた
め溶液中に均一に分散しており、使用時まで沈降しなか
った。(Preparation of Metal Precipitation Nucleus)
Physical development nuclei (palladium sulfide) used in the silver salt diffusion transfer method were used. The preparation method is shown below. (1) Solution A: palladium chloride 3.3 g concentrated hydrochloric acid 20 ml After mixing and dissolving the above, 500 ml of water is added. (2) Solution B: 4.5 g of Na 2 S.9H 2 O 1 g of polyvinyl alcohol 2400 ml of water (3) Formation of physical development nuclei Solution B is heated to 50 ° C., and solution A is added with stirring.
After the addition of the solution A, the temperature is lowered to 40 ° C., and the pH is adjusted to 5.0 with NaOH. The generated palladium sulfide nuclei were minutely dispersed uniformly in the solution because of their small size, and did not settle until use.
【0166】(金属薄層の形成)上記像様露光した印刷
用原板上に、上記の硫化パラジウム核分散液を厚み50
0ミクロン用のバーコーターを用いて塗布し、そのまま
40°Cで10秒おいた。塗布量は0.5ml/cm2
以上であれば結果に影響無い。10秒後に試料表面の塗
布液を拭き取ったのち、下記無電解メッキ用水溶液
(a)を同様に500ミクロン厚み用のバーコーターを
用いて塗布し、無電解メッキを常温で2〜4分間施し
た。(Formation of a Thin Metal Layer) The above-mentioned palladium sulfide nucleus dispersion was coated on the above-mentioned image-wise exposed printing plate with a thickness of 50 μm.
It was applied using a bar coater for 0 micron and kept at 40 ° C. for 10 seconds. The coating amount is 0.5 ml / cm 2
Above does not affect the result. After 10 seconds, the coating solution on the surface of the sample was wiped off, and then the following aqueous solution (a) for electroless plating was applied using a bar coater having a thickness of 500 μm, and electroless plating was performed at room temperature for 2 to 4 minutes. .
【0167】無電解メッキ用水溶液(a):硝酸銀水溶
液(1モル)に水酸化アンモニウム(24モル)とグル
コース1モルを加えた溶液Aqueous solution for electroless plating (a): A solution obtained by adding ammonium hydroxide (24 mol) and 1 mol of glucose to an aqueous silver nitrate solution (1 mol).
【0168】上記無電解メッキを実施する接触処理の
後、水溶液を流し去り、0.05規定塩酸の5%メタノ
ール・水混合溶液で印刷用原板表面を洗浄した。洗浄し
たのち非メッキ部分の印刷用原板表面の水に対する接触
角をContact Angle Meter CA-D(協和界面科学(株)
製)を用いて空中水滴法で表面の水に対する接触角を測
定したところ、8〜10度の間にあり、洗浄によって親
水性を回復したことが示された。After the contact treatment for performing the above electroless plating, the aqueous solution was flowed away, and the surface of the printing original plate was washed with a 5% methanol / water mixed solution of 0.05N hydrochloric acid. Contact angle meter CA-D (Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
The contact angle of the surface with water was measured by the aerial water drop method using the method described above, and it was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by washing.
【0169】この版胴をサクライ社製オリバー52片面
印刷機に使用して、インキ・湿し水供給部3において湿
し水を純水、インキを大日本インキ化学工業社製New ch
ampionFグロス85墨を用いて5000枚オフセット印
刷を行った。無電解メッキ領域にインキが受け入れら
れ、非メッキ領域に湿し水が受容された印刷面が形成さ
れて、スタートから終了まで鮮明な印刷物が得られ、版
胴の損傷も認められなかった。The plate cylinder was used in a single-sided printing machine of Oliver 52 manufactured by Sakurai Co., Ltd., and the dampening water was supplied to the ink / fountain solution supply unit 3 by pure water and the ink was supplied by New Japan Ink and Chemicals, Inc.
Offset printing was performed on 5000 sheets using ampion F gloss 85 ink. Ink was received in the electroless plating area, and a printing surface receiving the dampening solution was formed in the non-plating area. A clear printed matter was obtained from the start to the end, and no damage to the plate cylinder was observed.
【0170】比較例1 上記実施例1において、印刷用原板上に、硫化パラジウ
ム核分散液をバーコーターで塗布する操作を行わない
で、直接、無電解メッキ用水溶液を上記のバーコーター
によって塗布し、実施例1と同じように印刷用原板表面
を洗浄した。洗浄したのち非メッキ部分の印刷用原板表
面の水に対する接触角を実施例1と同様に水に対する接
触角を測定したところ、8〜10度の間にあり、洗浄に
よって親水性を回復したことが示された。Comparative Example 1 In Example 1, the aqueous solution for electroless plating was directly applied to the original printing plate by the above bar coater, without performing the operation of applying the palladium sulfide nucleus dispersion on the original printing plate with a bar coater. The surface of the printing original plate was cleaned in the same manner as in Example 1. After washing, the contact angle of water on the printing plate surface of the non-plated portion was measured in the same manner as in Example 1. The contact angle was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by washing. Indicated.
【0171】この版胴を実施例1と同様にオフセット印
刷を行ったが、耐刷性及び画像品質は、実施例1に比べ
て劣っていた。 〔実施例2〕実施例1で使用した印刷用原板と以下の金
属析出核分散液、無電解メッキ用水溶液I−1〜 I−1
0を用いた他は、実施例1と同様にして、金属析出核を
設ける処理及び無電解メッキを常温で2〜4分間施し、
実施例1と同様に印刷用原板表面を洗浄し、同様に水に
対する接触角を測定したところ、8〜10度の間にあ
り、洗浄によって親水性を回復したことが示された。The plate cylinder was subjected to offset printing in the same manner as in Example 1, but the press life and image quality were inferior to those in Example 1. Example 2 The original plate for printing used in Example 1 and the following dispersion liquid of metal deposition nuclei and aqueous solutions I-1 to I-1 for electroless plating
Except that 0 was used, in the same manner as in Example 1, the treatment for providing metal deposition nuclei and the electroless plating were performed at room temperature for 2 to 4 minutes,
The surface of the printing plate was washed in the same manner as in Example 1, and the contact angle with water was measured in the same manner. The contact angle was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by the washing.
【0172】この版胴を実施例1と同様に印刷を行った
ところ、無電解メッキ領域にインキが受け入れられ、非
メッキ領域に湿し水が受容された印刷面が形成されて、
スタートから終了まで実施例1と同様な鮮明な印刷物が
得られ、版胴の損傷も認められなかった。When printing was performed on this plate cylinder in the same manner as in Example 1, a printing surface was formed in which ink was received in the electroless plating area and dampening water was received in the non-plating area.
From the start to the end, the same clear printed matter as in Example 1 was obtained, and no damage to the plate cylinder was observed.
【0173】金属析出核分散液(イエローフィルター用
のコロイド銀微粒子)の調製 A液:石灰処理ゼラチン20g、澱粉(じゃがいもでん
ぷん)30g、水酸化ナトリウム40gを水1リットル
に溶解し、温度を30°Cに調節した。 B液:硝酸銀20gを純水1リットルに溶解して30°
Cに調節した。A液を激しく攪拌しながらB液を急速添
加して添加後さらに1時間適度の攪拌をおこなった。ゼ
ラチン50gを混合液に添加したのち、常法にしたがっ
てpHを4.0に下げてナフタレンスルホン酸・ホルマ
リン縮合物によって脱塩洗浄したのち、全量1リット
ル、ゼラチン濃度1.0%となるように再分散し、金属
析出核分散液とした。 無電解メッキ用水溶液I−1〜 I−10:下記の銀・ア
ンモニア錯塩水溶液(a−1)と各種還元剤のアルカリ
水溶液(b−1〜b−10)を調製し、両者を等量混合
して無電解メッキ用水溶液を調製した。 銀・アンモニア錯塩水溶液(a−1) 硝酸銀0.1モルを水800ミリリットルに溶解し、硝
酸アンモニウム1モルを加え、さらに28%アンモニア
水でpH11とした後、水を加えて1リットルとした。 還元剤水溶液(B−1〜B−10) 表1に記載の各還元剤について、それぞれ還元剤0.2
5グラム当量(糖類及びでんぷんは50g)と水酸化ナ
トリウム60g(還元剤が酸の場合はさらに酸と等当量
分を追加)をそれぞれ水800ミリリットルに溶解した
のち、水を加えて1リットルとし、還元剤水溶液(B−
1〜B−10)を調製した。Preparation of Metal Precipitation Nucleus Dispersion (Colloidal Silver Fine Particles for Yellow Filter) Solution A: 20 g of lime-processed gelatin, 30 g of starch (potato starch) and 40 g of sodium hydroxide were dissolved in 1 liter of water, and the temperature was adjusted to 30 ° C. Adjusted to C. Solution B: 20 g of silver nitrate is dissolved in 1 liter of pure water and 30 °
Adjusted to C. The solution B was rapidly added while the solution A was vigorously stirred, and after the addition, appropriate stirring was further performed for 1 hour. After 50 g of gelatin was added to the mixture, the pH was lowered to 4.0 according to a conventional method, and the mixture was desalted and washed with a naphthalenesulfonic acid / formalin condensate. It was redispersed to obtain a metal precipitation nucleus dispersion. Aqueous solutions for electroless plating I-1 to I-10: Prepare the following silver / ammonia complex salt aqueous solution (a-1) and aqueous alkali solutions (b-1 to b-10) of various reducing agents, and mix them in equal amounts. Thus, an aqueous solution for electroless plating was prepared. Aqueous solution of silver / ammonia complex salt (a-1) 0.1 mol of silver nitrate was dissolved in 800 ml of water, 1 mol of ammonium nitrate was added, the pH was adjusted to 11 with 28% aqueous ammonia, and water was added to make 1 liter. Reducing agent aqueous solution (B-1 to B-10) For each of the reducing agents shown in Table 1, a reducing agent 0.2
5 g equivalents (50 g for sugars and starch) and 60 g of sodium hydroxide (additional equivalents of acid if the reducing agent is an acid) are each dissolved in 800 ml of water, and then water is added to make 1 liter. Aqueous reducing agent (B-
1 to B-10) were prepared.
【0174】[0174]
【表1】 比較例−2 上記実施例2において、印刷用原板上に、金属析出核分
散液をバーコーターで塗布する操作を行わないで、直
接、無電解メッキ用水溶液を上記のバーコーターによっ
て塗布し、実施例2と同じように印刷用原板表面を洗浄
した。洗浄したのち非メッキ部分の印刷用原板表面の水
に対する接触角を実施例1と同様に水に対する接触角を
測定したところ、8〜10度の間にあり、洗浄によって
親水性を回復したことが示された。[Table 1] Comparative Example-2 In the above-mentioned Example 2, the aqueous solution for electroless plating was directly applied by the above-mentioned bar coater without performing the operation of applying the metal deposition nucleus dispersion liquid on the original printing plate with a bar coater. The printing plate surface was cleaned in the same manner as in Example 2. After washing, the contact angle of water on the printing plate surface of the non-plated portion was measured in the same manner as in Example 1. The contact angle was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by washing. Indicated.
【0175】この版胴を実施例2と同様にオフセット印
刷を行ったが、耐刷性及び画像品質は、実施例2に比べ
て劣っていた。 〔実施例3〕実施例1で使用した印刷用原板と以下の金
属析出核分散液及び無電解メッキ用水溶液II−1〜II−
7を用いた他は実施例1と同様にして、金属析出核を設
ける処理及び無電解メッキを常温で2〜4分間施し、実
施例1と同様に印刷用原板表面を洗浄し、同様に水に対
する接触角を測定したところ、8〜10度の間にあり、
洗浄によって親水性を回復したことが示された。The plate cylinder was subjected to offset printing in the same manner as in Example 2, but the press life and image quality were inferior to those in Example 2. [Example 3] The printing original plate used in Example 1, the following metal deposition nucleus dispersion and aqueous solutions for electroless plating II-1 to II-
7 in the same manner as in Example 1 except that a treatment for providing metal deposition nuclei and electroless plating were performed at room temperature for 2 to 4 minutes, and the surface of the printing original plate was washed in the same manner as in Example 1; When the contact angle was measured, it was between 8 and 10 degrees,
It was shown that washing restored the hydrophilicity.
【0176】この版胴を実施例1と同様に印刷を行った
ところ、無電解メッキ領域にインキが受け入れられ、非
メッキ領域に湿し水が受容された印刷面が形成されて、
スタートから終了まで実施例1と同様な鮮明な印刷物が
得られ、版胴の損傷も認められなかった。When printing was performed on this plate cylinder in the same manner as in Example 1, ink was received in the electroless plating area, and a printing surface in which dampening water was received was formed in the non-plating area.
From the start to the end, the same clear printed matter as in Example 1 was obtained, and no damage to the plate cylinder was observed.
【0177】金属析出核分散液の調製 粒径20〜50nmの市販のコロイダルシリカ20gを
ドデシルベンゼンスルホン酸0.1%水溶液1リットル
に分散させ、さらに硝酸銀5gを添加した。室温で激し
く攪拌しながら、水酸化カリウム30gとグルコース5
gを水1リットルに溶解した還元性アルカリ液を30分
にわたって滴下した。滴下終了後さらに1時間攪拌した
のち、酸を加えてpHを7〜8の間に調節した。Preparation of Metal Precipitation Nucleus Dispersion 20 g of commercially available colloidal silica having a particle size of 20 to 50 nm was dispersed in 1 liter of a 0.1% aqueous solution of dodecylbenzenesulfonic acid, and 5 g of silver nitrate was further added. While stirring vigorously at room temperature, 30 g of potassium hydroxide and glucose 5
g in 1 liter of water was added dropwise over 30 minutes. After the completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred for 1 hour, and the pH was adjusted to 7 to 8 by adding an acid.
【0178】無電解メッキ用水溶液II−1〜II−7:下
記の硝酸銀・錯塩水溶液(c−1〜c−7)を調製し、
一方還元剤のアルカリ水溶液としては実施例2と同様の
B−1を調製しておき、それぞれ等量混合して無電解メ
ッキ用水溶液II−1〜II−7を調製した。 硝酸銀・錯塩水溶液(c−1〜c−7) 硝酸銀0.1モルを水800ミリリットルに溶解し、表
2記載の錯塩化合物1モルを加え、さらに水酸化ナトリ
ウムでpH11とした後、水を加えて1リットルとし
た。Aqueous solutions II-1 to II-7 for electroless plating: The following silver nitrate / complex salt aqueous solutions (c-1 to c-7) were prepared.
On the other hand, as an alkaline aqueous solution of a reducing agent, B-1 was prepared in the same manner as in Example 2 and mixed in equal amounts to prepare aqueous solutions II-1 to II-7 for electroless plating. Silver nitrate / complex salt aqueous solution (c-1 to c-7) 0.1 mol of silver nitrate was dissolved in 800 ml of water, 1 mol of the complex salt compound shown in Table 2 was added, and the pH was adjusted to 11 with sodium hydroxide, and then water was added. To 1 liter.
【0179】[0179]
【表2】 [Table 2]
【0180】比較例−3 上記実施例3において、印刷用原板上に、金属析出核分
散液をバーコーターで塗布する操作を行わないで、直
接、無電解メッキ用水溶液を上記のバーコーターによっ
て塗布し、実施例3と同じように印刷用原板表面を洗浄
した。洗浄したのち非メッキ部分の印刷用原板表面の水
に対する接触角を実施例1と同様に水に対する接触角を
測定したところ、8〜10度の間にあり、洗浄によって
親水性を回復したことが示された。この版胴を実施例3
と同様にオフセット印刷を行ったが、耐刷性及び画像品
質は、実施例3に比べて劣っていた。Comparative Example 3 In Example 3 described above, the aqueous solution for electroless plating was directly applied to the original printing plate by the above bar coater without performing the operation of applying the metal precipitation nucleus dispersion to the original printing plate using a bar coater. Then, the printing original plate surface was washed in the same manner as in Example 3. After washing, the contact angle of water on the printing plate surface of the non-plated portion was measured in the same manner as in Example 1. The contact angle was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by washing. Indicated. Example 3
In the same manner as in Example 3, offset printing was performed, but the printing durability and image quality were inferior to those in Example 3.
【0181】〔実施例4〕実施例1で使用した印刷用原
板と実施例1で使用した銀塩拡散転写用現像核分散液及
び下記銅・アンモニア錯塩水溶液還元剤水溶液及び還元
剤水溶液の混合液を無電解メッキ用水溶液として用いた
他は実施例1と同様にして、金属析出核を設ける処理及
び無電解メッキを常温で2〜4分間施し、実施例1と同
様に印刷用原板表面を洗浄し、同様に水に対する接触角
を測定したところ、8〜10度の間にあり、洗浄によっ
て親水性を回復したことが示された。Example 4 A mixture of the original printing plate used in Example 1, the development nucleus dispersion for silver salt diffusion transfer used in Example 1, the following copper / ammonia complex aqueous solution, and a reducing agent aqueous solution In the same manner as in Example 1, except that was used as an aqueous solution for electroless plating, a treatment for providing metal deposition nuclei and electroless plating were performed at room temperature for 2 to 4 minutes, and the surface of the printing original plate was washed in the same manner as in Example 1. When the contact angle with water was measured in the same manner, it was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by washing.
【0182】この版胴を実施例1と同様に印刷を行った
ところ、無電解メッキ領域にインキが受け入れられ、非
メッキ領域に湿し水が受容された印刷面が形成されて、
スタートから終了まで実施例1と同様な鮮明な印刷物が
得られ、版胴の損傷も認められなかった。When printing was performed on this plate cylinder in the same manner as in Example 1, ink was received in the electroless plating area, and a printing surface in which dampening water was received was formed in the non-plating area.
From the start to the end, the same clear printed matter as in Example 1 was obtained, and no damage to the plate cylinder was observed.
【0183】銅・アンモニア錯塩水溶液:硫酸銅0.1
モルを水800ミリリットルに溶解し、硫酸アンモニウ
ム1モルを加え、さらに28%アンモニア水でpH11
とした後、水を加えて1リットルとした。 還元剤水溶液:じゃがいも澱粉50gと水酸化カリウム
60gを水800ミリリットルに溶解したのち、水を加
えて1リットルとし、還元剤水溶液を調製した。Copper / ammonia complex aqueous solution: copper sulfate 0.1
Was dissolved in 800 ml of water, and 1 mol of ammonium sulfate was added.
Then, water was added to make up to 1 liter. Aqueous reducing agent solution: 50 g of potato starch and 60 g of potassium hydroxide were dissolved in 800 ml of water, and water was added to make 1 liter to prepare an aqueous reducing agent solution.
【0184】比較例−4 上記実施例4において、印刷用原板上に金属析出核分散
液を塗布する操作を行わないで、直接、無電解メッキ用
水溶液を塗布し、実施例4と同じように印刷用原板表面
を洗浄した。洗浄したのち非メッキ部分の印刷用原板表
面の水に対する接触角を実施例3と同様に水に対する接
触角を測定したところ、8〜10度の間にあり、洗浄に
よって親水性を回復したことが示された。Comparative Example 4 In Example 4 described above, an aqueous solution for electroless plating was directly applied without performing the operation of applying the metal precipitation nucleus dispersion liquid on the printing original plate. The printing plate surface was washed. After washing, the contact angle of water on the surface of the printing plate of the non-plated portion was measured in the same manner as in Example 3. The contact angle was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by washing. Indicated.
【0185】この版胴を実施例4と同様にオフセット印
刷を行ったが、耐刷性及び画像品質は、実施例4に比べ
て劣っていた。The plate cylinder was subjected to offset printing in the same manner as in Example 4, but the printing durability and image quality were inferior to those in Example 4.
【0186】〔実施例5〕実施例1〜4で使用した印刷
用原板のアルミニウムに代えて鉄、SUS、亜鉛亜鉛、
銅又はニッケルを用い、金属析出核分散液及び無電解メ
ッキ用水溶液として、実施例1〜4と同様のものを用い
た他は、実施例1〜4と同様に処理して、印刷版を作成
し、同様に印刷を行ったところ、夫々の印刷用原板にお
いて実施例1〜4と同様の結果を得た。[Example 5] Iron, SUS, zinc zinc,
Using copper or nickel, as a metal deposition nucleus dispersion and an aqueous solution for electroless plating, except that the same ones as in Examples 1 to 4 were used, processing was performed in the same manner as in Examples 1 to 4, to prepare a printing plate. Then, when printing was performed in the same manner, the same results as in Examples 1 to 4 were obtained on the respective printing original plates.
【0187】〔実施例6〕実施例1で使用したものと同
じ粗面化処理と陽極酸化処理を施したアルミニウム支持
体を使用してチタン酸バリウムを光触媒能を有する熱応
答性金属酸化物とした原板を作製した。すなわち、上記
アルミニウム支持体をスパッタリング装置内にセット
し、5.0×10-7Torrまで真空排気したのち、支持体
を200℃に加熱し、Ar/O2 が90/10(モル
比)となるようにガス圧を5×10-3Torrに設定し、S
iO2 のターゲットにRFパワー200Wを投入して
SiO2の1μmの薄層を形成した。続いてArのガス
圧を5×10-3Torrに設定し、SiのターゲットにRF
パワー200Wを投入してSiの1μmの薄膜を形成し
た。続いてArのガス圧を5×10-3Torrに設定し、6
インチφのチタン酸バリウムの焼結ターゲットにRFパ
ワー200Wを投入して膜厚3500Åのチタン酸バリ
ウム薄膜を形成した。X線解析法によれば、この薄膜は
多結晶体であった。Example 6 Barium titanate was converted to a heat-responsive metal oxide having photocatalytic ability by using the same aluminum support having been subjected to the surface roughening treatment and the anodizing treatment used in Example 1. An original plate was produced. That is, the aluminum support was set in a sputtering apparatus, evacuated to 5.0 × 10 −7 Torr, heated to 200 ° C., and the Ar / O 2 became 90/10 (molar ratio). Gas pressure is set to 5 × 10 -3 Torr so that
RF power of 200 W was applied to the target of iO 2 to form a 1 μm thin layer of SiO 2 . Subsequently, the Ar gas pressure was set to 5 × 10 −3 Torr, and RF was applied to the Si target.
Power of 200 W was applied to form a 1 μm thin film of Si. Subsequently, the Ar gas pressure was set to 5 × 10 −3 Torr,
An RF power of 200 W was applied to a barium titanate sintered target of inch φ to form a barium titanate thin film having a thickness of 3500 °. According to X-ray analysis, this thin film was polycrystalline.
【0188】このチタン酸バリウム薄膜付きアルミニウ
ム支持体を版胴の基体に巻き付けて原板として使用した
ことと、親水性の像様領域を形成するのに、赤外線レー
ザーのヒートモード照射を行った。照射後の印刷用原板
の親水性領域表面の水に対する接触角を実施例1と同様
に測定したところ、7〜9度の間にあった。像様の親水
性化には、赤外線レーザー装置を用いて最大出力500
mWの固体赤外線レーザー装置で、ビーム幅を45ミク
ロンに絞って走査露光によって描画を行った。The aluminum support with the barium titanate thin film was wound around the substrate of the plate cylinder and used as a master plate, and heat mode irradiation with an infrared laser was performed to form a hydrophilic image-like region. When the contact angle of water on the surface of the hydrophilic region of the printing original plate after irradiation with water was measured in the same manner as in Example 1, it was between 7 and 9 degrees. For image-like hydrophilicity, use an infrared laser device to produce a maximum output of 500
Using a solid-state infrared laser device of mW, drawing was performed by scanning exposure with the beam width narrowed to 45 microns.
【0189】この場合、照射した赤外線光をSiが吸収
するので、この薄層が光エネルギーを熱エネルギーに変
換する役目を果たす。すなわち、赤外線を照射すること
で、Si層が発熱するのでチタン酸バリウム層を加熱で
きる。加熱温度を親水性発現温度領域に調節するには、
レーザー出力の制御によった。次いで、上記像様親水性
化された領域に実施例1と同じ金属析出核分散液及び無
電解メッキ用水溶液を用いて実施例1と同様にして、金
属析出核を設ける処理及び無電解メッキを常温で2〜4
分間施し、実施例1と同様に印刷用原板表面を洗浄し、
同様に水に対する接触角を測定したところ、8〜10度
の間にあり、洗浄によって親水性を回復したことが示さ
れた。In this case, since the irradiated infrared light is absorbed by Si, this thin layer plays a role of converting light energy into heat energy. That is, since the Si layer generates heat by irradiating infrared rays, the barium titanate layer can be heated. To adjust the heating temperature to the hydrophilic expression temperature range,
The laser output was controlled. Then, in the same manner as in Example 1 using the same metal precipitation nucleus dispersion liquid and an aqueous solution for electroless plating in the image-hydrophilized region as in Example 1, a treatment for providing metal precipitation nuclei and electroless plating were performed. 2-4 at room temperature
Minutes, and the surface of the printing original plate is washed in the same manner as in Example 1.
When the contact angle to water was measured similarly, it was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by washing.
【0190】この版胴を実施例1と同様に印刷を行った
ところ、無電解メッキ領域にインキが受け入れられ、非
メッキ領域に湿し水が受容された印刷面が形成されて、
スタートから終了まで実施例1と同様な鮮明な印刷物が
得られ、版胴の損傷も認められなかった。When printing was performed on this plate cylinder in the same manner as in Example 1, ink was received in the electroless plating area, and a printing surface in which dampening water was received was formed in the non-plating area.
From the start to the end, the same clear printed matter as in Example 1 was obtained, and no damage to the plate cylinder was observed.
【0191】〔実施例7〜9〕実施例2から4のと同じ
金属析出核分散液及び無電解メッキ用水溶液を用いて実
施例6と同様にして、金属析出核を設ける処理及び無電
解メッキを常温で2〜4分間施し、実施例6と同様に印
刷用原板表面を洗浄し、同様に水に対する接触角を測定
したところ、8〜10度の間にあり、洗浄によって親水
性を回復したことが示された。また、赤外線レーザー光
の非照射部の水に対する接触角は、70〜76度であっ
た。[Examples 7 to 9] Processing for providing metal deposition nuclei and electroless plating were performed in the same manner as in Example 6 using the same metal deposition nucleus dispersion liquid and aqueous solution for electroless plating as in Examples 2 to 4. Was applied at normal temperature for 2 to 4 minutes, and the surface of the printing plate was washed in the same manner as in Example 6. When the contact angle to water was measured in the same manner, it was between 8 and 10 degrees, and the hydrophilicity was restored by the washing. It was shown that. The contact angle of the non-irradiated portion of the infrared laser light with water was 70 to 76 degrees.
【0192】この版胴を実施例6と同様に印刷を行った
ところ、無電解メッキ領域にインキが受け入れられ、非
メッキ領域に湿し水が受容された印刷面が形成されて、
スタートから終了まで実施例6と同様な鮮明な印刷物が
得られ、版胴の損傷も認められなかった。When printing was performed on this plate cylinder in the same manner as in Example 6, a printing surface was formed in which ink was received in the electroless plating area and dampening water was received in the non-plating area.
From the start to the end, the same clear printed matter as in Example 6 was obtained, and no damage to the plate cylinder was observed.
【0193】〔比較例6〕上記実施例6において、印刷
用原板上に、金属析出核分散液をバーコーターで塗布す
る操作を行わないで、直接、無電解メッキ用水溶液を上
記のバーコーターによって塗布し、実施例6と同じよう
に印刷用原板表面を洗浄した。洗浄したのち非メッキ部
分の印刷用原板表面の水に対する接触角を実施例6と同
様に水に対する接触角を測定したところ、8〜10度の
間にあり、洗浄によって親水性を回復したことが示され
た。この版胴を実施例1と同様にオフセット印刷を行っ
たが、耐刷性及び画像品質は、実施例6に比べて劣って
いた。Comparative Example 6 In Example 6, the aqueous solution for electroless plating was directly applied to the original printing plate by the above bar coater without performing the operation of coating the metal precipitation nucleus dispersion on the original printing plate with a bar coater. It was applied, and the surface of the printing original plate was washed in the same manner as in Example 6. After washing, the contact angle of water on the surface of the printing plate of the non-plated portion was measured in the same manner as in Example 6. The contact angle was between 8 and 10 degrees, indicating that the hydrophilicity was restored by washing. Indicated. This plate cylinder was subjected to offset printing in the same manner as in Example 1, but the printing durability and image quality were inferior to those in Example 6.
【0194】〔比較例7〜9〕上記実施例7〜9におい
て、印刷用原板上に、金属析出核分散液をバーコーター
で塗布する操作を行わないで、直接、無電解メッキ用水
溶液を上記のバーコーターによって塗布し、実施例7〜
9と同じように印刷用原板表面を洗浄した。洗浄したの
ち非メッキ部分の印刷用原板表面の水に対する接触角を
実施例7〜9と同様に水に対する接触角を測定したとこ
ろ、8〜10度の間にあり、洗浄によって親水性を回復
したことが示された。[Comparative Examples 7 to 9] In Examples 7 to 9 described above, the aqueous solution for electroless plating was directly applied to the printing original plate without performing the operation of applying the metal deposition nucleus dispersion with a bar coater. Examples 7 to
The printing original plate surface was washed in the same manner as in No. 9. After washing, the contact angle of water on the surface of the printing plate of the non-plated portion was measured in the same manner as in Examples 7 to 9, and it was between 8 and 10 degrees, and the hydrophilicity was restored by washing. It was shown that.
【0195】この版胴を実施例7〜9と同様にオフセッ
ト印刷を行ったが、耐刷性及び画像品質は、実施例7〜
9に比べて劣っていた。 〔実施例10〕実施例6〜9で使用した印刷用原板のア
ルミニウムに代えて鉄、SUS、亜鉛亜鉛、銅又はニッ
ケルを用い、金属析出核分散液及び無電解メッキ用水溶
液として、実施例6〜9と同様のものを用いた他は、実
施例6〜9と同様に処理して、印刷版を作成し、同様に
印刷を行ったところ、夫々の印刷用原板において実施例
6〜9と同様の結果を得た。This plate cylinder was subjected to offset printing in the same manner as in Examples 7 to 9, but the printing durability and image quality were reduced in Examples 7 to 9.
9 was inferior. Example 10 Iron, SUS, zinc, zinc, copper or nickel was used in place of aluminum of the printing plate used in Examples 6 to 9 to prepare a dispersion of metal deposition nuclei and an aqueous solution for electroless plating. Except for using the same components as in Examples 9 to 10, processing was performed in the same manner as in Examples 6 to 9 to prepare a printing plate, and printing was performed in the same manner. Similar results were obtained.
【0196】〔実施例11〕実施例1〜10において印刷
に使用した印刷用原板の表面を印刷用インキ洗浄液ダイ
クリーンR(発売元;大日本インキ化学工業社)とトル
エンの1/1混合液をウエスにしみ込ませて丁寧に洗浄
してインキを除去した。インキ洗浄に続いて、過酸化水
素1.5モル/Lの水溶液を塩酸によりpHを2.2に
調整した処理液にて金属薄層を除去した再生印刷用原板
を使用した他は、同実施例と同様に処理して印刷用原板
に金属薄層からなる画像を形成して、同様に印刷を行っ
たところ、夫々の印刷用原板において夫々の実施例と同
様な鮮明な印刷物が得られ、版胴の損傷も認められなか
った。このような再生処理は、9回まで有効であった。
また、上記実施例において第1段階で図1に示した装置に
代えて、図2に示した疎水性化処理ユニットを用いた他
は、上記と同様にして、印刷版を作成し、同様に印刷を
行ったところ、夫々の印刷用原板において上記実施例と
同様の結果を得た。図2は、有機化合物の蒸気を発生さ
せて、その蒸気を含んだ雰囲気中で印刷用原板表面を疎
水性化を促進できるように、有機化合物蒸気供給手段を
設けた疎水性化処理部である。[Example 11] The surface of the printing original plate used for printing in Examples 1 to 10 was coated with a printing ink cleaning liquid Daiclean R (a sales agency; Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and a 1/1 mixed solution of toluene. Was soaked in a waste cloth and washed carefully to remove the ink. Subsequent to the ink washing, the same operation was performed except that a regenerated printing original plate was used in which a thin metal layer was removed from a 1.5 mol / L aqueous solution of hydrogen peroxide with a treatment solution whose pH was adjusted to 2.2 with hydrochloric acid. An image consisting of a thin metal layer was formed on a printing plate by processing in the same manner as in the example, and printing was performed in the same manner.On each printing plate, a clear printed matter similar to that of each example was obtained. No damage to the plate cylinder was observed. Such reproduction processing was effective up to nine times.
Further, in the above embodiment, a printing plate was prepared in the same manner as described above except that the hydrophobic treatment unit shown in FIG. 2 was used in place of the apparatus shown in FIG. When printing was performed, the same results as in the above example were obtained for each printing original plate. FIG. 2 shows a hydrophobizing section provided with an organic compound vapor supply means so as to generate vapor of an organic compound and promote the hydrophobicization of the surface of the printing original plate in an atmosphere containing the vapor. .
【0197】図2において、有機化合物蒸気供給手段2
9では、空気取り入れ口24より空気が取り入れられ
て、内径約30mmの分液ろ斗タイプの硝子管を横向き
に配置した蒸発室26にコック25を経て導かれる。蒸
発室には有機化合物27(斜線で示す)が容積率が例え
ば50%になるように満たされていて、有機化合物27
の内部及び表面を空気が通過する間に必要量の有機化合
物の蒸発気体を取り込んでから、版胴1上の印刷用原板
表面に導かれ、この空気・蒸発気体の混合雰囲気中で描
画が行われる構造となっている。In FIG. 2, the organic compound vapor supply means 2
In 9, air is taken in from the air intake port 24 and is led through the cock 25 to the evaporation chamber 26 in which a separatory funnel type glass tube having an inner diameter of about 30 mm is arranged horizontally. The evaporating chamber is filled with an organic compound 27 (shown by oblique lines) so that the volume ratio becomes, for example, 50%.
After a necessary amount of evaporating gas of the organic compound is taken in while the air passes through the inside and the surface of the plate, it is led to the surface of the printing plate on the plate cylinder 1, and drawing is performed in the mixed atmosphere of the air and the evaporating gas. The structure is
【0198】疎水性化処理ユニットの外套の内部は、蒸
発室26、蒸発を促進するために必要であれば使用する
ための電熱ヒーター30及び蒸発室26と外套内部空間
にそれぞれ配した温度センサー33、32と外套内部温
度を制御する温度制御部34が配されている。The inside of the jacket of the hydrophobizing unit is provided with an evaporation chamber 26, an electric heater 30 for use if necessary to promote evaporation, and a temperature sensor 33 disposed in the evaporation chamber 26 and the jacket inner space. , 32 and a temperature control unit 34 for controlling the inside temperature of the mantle.
【0199】[0199]
【発明の効果】本発明の光照射することで表面が親水性
となる特性を有する金属酸化物及び/又は高温親水性発
現特性を有する金属酸化物を画像形成層とした印刷用原
板の表面を疎水性として、該表面を像様に光照射するか
又は高温親水性発現温度で像様に加熱して、親水性と疎
水性の像様分布を形成させ、該像様分布を有する印刷用
原板上に水溶性金属化合物と還元性化合物とを含有し、
還元性化合物の酸化電位が水溶性金属化合物の還元電位
よりも卑(低電位)であるように調製した無電解メッキ
用水溶液を接触させて、無電解メッキによって、該印刷
用原板上の親水性領域であって、かつ金属析出核を表面
に有する該親水性領域に金属薄層を像様に形成させ印刷
版を作成する印刷方法は、現像などの処理を必要とせ
ず、直接印刷版を作成することができ、かつ印刷終了
後、印刷版のインキを除去して印刷用原板を再生して反
復使用することができる。この方法は、金属析出核上に
形成された金属薄層によって印刷版の機械的強度が強化
されるので、印刷品質と耐刷性の両面を向上させること
ができる。According to the present invention, the surface of a printing plate having an image forming layer of a metal oxide having a property that the surface becomes hydrophilic by light irradiation and / or a metal oxide having a high-temperature hydrophilicity developing property is obtained. As the hydrophobicity, the surface is illuminated imagewise or heated imagewise at a high hydrophilicity developing temperature to form an imagewise distribution of hydrophilicity and hydrophobicity, and a printing plate having the imagewise distribution Containing a water-soluble metal compound and a reducing compound,
The aqueous solution for electroless plating prepared so that the oxidation potential of the reducing compound is lower (lower potential) than the reduction potential of the water-soluble metal compound is brought into contact with the electroless plating solution, and the hydrophilicity on the printing original plate is reduced. The printing method of forming a printing plate by forming a thin metal layer imagewise in the hydrophilic region having a metal precipitation nucleus on the surface is a method of directly preparing a printing plate without requiring processing such as development. After the printing is completed, the printing plate is removed from the ink and the printing plate is regenerated to be used repeatedly. According to this method, the mechanical strength of the printing plate is enhanced by the thin metal layer formed on the metal precipitation nuclei, so that both printing quality and printing durability can be improved.
【図1】有機化合物の供給・適用手段を設けた疎水性化
処理ユニットの一態様の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of one embodiment of a hydrophobic treatment unit provided with a supply and application unit of an organic compound.
【図2】有機化合物蒸気の供給・適用手段を設けた疎水
性化処理ユニットの一態様の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of one embodiment of a hydrophobic treatment unit provided with a means for supplying and applying an organic compound vapor.
1 版胴 2 疎水性化処理ユニット 24 空気取り入れ口 25 コック 26 蒸発室 27 有機化合物 29 有機化合物供給手段 30 電熱ヒーター 32 温度センサー 33 温度センサー 34 温度制御部 40 外套 41 容器 42 ディップローラー 43 リバースローラー 44 コーティングローラー Reference Signs List 1 plate cylinder 2 hydrophobizing unit 24 air intake 25 cock 26 evaporating chamber 27 organic compound 29 organic compound supply means 30 electric heater 32 temperature sensor 33 temperature sensor 34 temperature control unit 40 jacket 41 container 42 dip roller 43 reverse roller 44 Coating roller
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 隆 神奈川県足柄上郡開成町宮台798番地 富 士写真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA02 AA12 AB03 AC01 AD03 BH03 FA12 FA14 2H084 AA14 AA30 CC05 2H096 AA06 BA09 BA16 EA02 FA05 2H113 AA01 AA02 BA05 BB22 DA04 DA07 DA14 DA25 EA02 EA04 FA08 FA29 FA42 2H114 AA04 AA22 AA27 AA30 BA01 BA05 DA05 DA07 DA25 DA78 FA16 GA07 GA31 GA34 GA35 GA36 GA38 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takashi Nakamura 798, Miyadai, Kaisei-cho, Ashigara-gun, Kanagawa Prefecture Photo Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H025 AA02 AA12 AB03 AC01 AD03 BH03 FA12 FA14 2H084 AA14 AA30 CC05 2H096 AA06 BA09 BA16 EA02 FA05 2H113 AA01 AA02 BA05 BB22 DA04 DA07 DA14 DA25 EA02 EA04 FA08 FA29 FA42 2H114 AA04 AA22 AA27 AA30 BA01 BA05 DA05 DA07 DA25 DA78 FA16 GA07 GA31 GA34 GA35 GA36 GA38
Claims (1)
性を有する金属酸化物及び/又は高温親水性発現特性を
有する金属酸化物を表面に有する印刷用原板を有機化合
物と接触させるか、又は疎水性発現温度に加熱すること
によって、該原板表面を疎水性とし、 次いで該表面を像様に光照射するか又は高温親水性発現
温度で像様に加熱することにより該照射部又は加熱部を
親水性に変えて、疎水性領域と親水性領域の像様分布を
形成し、 該像様分布を有する印刷用原板上に水溶性金
属化合物と還元性化合物とを含有し、還元性化合物の酸
化電位が水溶性金属化合物の還元電位よりも卑(低電
位)であるように調製した無電解メッキ用水溶液を接触
させて、無電解メッキによって、該印刷用原板上の親水
性領域であって、かつ金属析出核を表面に有する該親水
性領域に金属薄層を像様に形成させ、 さらに、該疎水性領域に親水性化処理を施し、 該印刷用原板をインキと接触させることによって該金属
薄層を有する領域にインキを受け入れた印刷面を形成さ
せ、 印刷を行うことを特徴とするオフセット印刷方法。(1) contacting a printing original plate having a surface with a metal oxide having a property of making the surface hydrophilic by light irradiation and / or a metal oxide having a high-temperature hydrophilicity developing property with an organic compound; Alternatively, the surface of the original plate is made hydrophobic by heating to a temperature at which hydrophobicity is exhibited, and then the irradiated portion or the heated portion is irradiated by imagewise irradiating the surface with light or imagewise heated at a high temperature at which hydrophilicity is exhibited. To a hydrophilic region to form an image-like distribution of a hydrophobic region and a hydrophilic region, and a water-soluble metal compound and a reducing compound are contained on a printing plate having the image-like distribution. An aqueous solution for electroless plating prepared such that the oxidation potential is lower (lower potential) than the reduction potential of the water-soluble metal compound is brought into contact with the electroless plating aqueous solution. And metal deposition nuclei on the surface Forming a thin metal layer in the hydrophilic region having an image, further applying a hydrophilic treatment to the hydrophobic region, and bringing the printing plate into contact with the ink to form an ink in the region having the thin metal layer. Offset printing method, wherein a printing surface that accepts the image is formed and printing is performed.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP11177346A JP2001001662A (en) | 1999-06-23 | 1999-06-23 | Offset printing method |
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JP11177346A JP2001001662A (en) | 1999-06-23 | 1999-06-23 | Offset printing method |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010147055A (en) * | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Tokyo Electron Ltd | Coating processing method and coating processing apparatus |
US8557017B2 (en) | 2000-12-15 | 2013-10-15 | The Arizona Board Of Regents | Method for patterning metal using nanoparticle containing precursors |
-
1999
- 1999-06-23 JP JP11177346A patent/JP2001001662A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8557017B2 (en) | 2000-12-15 | 2013-10-15 | The Arizona Board Of Regents | Method for patterning metal using nanoparticle containing precursors |
US8779030B2 (en) | 2000-12-15 | 2014-07-15 | The Arizona Board of Regents, The University of Arizone | Method for patterning metal using nanoparticle containing precursors |
JP2010147055A (en) * | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Tokyo Electron Ltd | Coating processing method and coating processing apparatus |
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