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JP2000508312A - オキサゾリジノンの製法 - Google Patents

オキサゾリジノンの製法

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JP2000508312A JP9536189A JP53618997A JP2000508312A JP 2000508312 A JP2000508312 A JP 2000508312A JP 9536189 A JP9536189 A JP 9536189A JP 53618997 A JP53618997 A JP 53618997A JP 2000508312 A JP2000508312 A JP 2000508312A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、ジヒドロキシ化合物(I)またはグリシドール(IV)出発物質を用いて、カルバマート(IIA)またはトリフルオロアセトアミド(IIB)から5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III)を生成するための方法、ならびに該ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III)を対応するアミノ化合物、5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミンに変換し、これをアシル化して商業的に有用な抗菌5−アシルアミドメチル置換オキサゾリジノン(VIII)を形成するための方法を包含する。

Description

【発明の詳細な説明】 オキサゾリジノンの製法発明の背景 1.発明の分野 本発明は、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III)の 製法に関する。また、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(I II)を、オキサゾリジノン抗菌性医薬(VIII)の生産に有用な対応する5−アミ ノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)への変換法を開示する。2.関連技術の説明 米国特許第5,164,510号、第5,182,403号および第5,225,565号は、各々 、抗菌剤として有用な5'−インドリニルオキサゾリジノン、3−(5’−イン ダゾリル)オキサゾリジノン、3−(縮合環置換)フェニルオキサゾリジノンを 開示している。 米国特許第5,231,188号および第5,247,090号は、抗菌剤として有用な種々 の三環式[6.5.5]および[6.6.5]−縮合環オキサゾリジノンを開示している。 国際公開WO93/09103号は、その抗菌活性のために医薬剤として有用であるモノ −およびジ−ハロ フェニルオキサゾリジノン抗菌剤を開示している。 米国特許第4,150,029号、第4,250,318号、第4,476,136号、第4,340,606 号および第4,461,773号は、アミン(R-NHX1、ここにX1は−Hまたはp−トルエ ンスルホニルである)およびR,S−グリシドール(C*H2-O-C*H-CH2-OH、ここに *で印を付けた炭素原子は互いに結合し、環化してエポキシドを形成する)から の5−ヒドロキシメチルオキサゾリジノンの合成を開示している。(式R-NH-CH2 -CHOH-CH2-OHによって表される)この方法により生成するエナンチオマーの混合 物は、マンデル酸塩の分別結晶によって分離する。ついで、エナンチオマー的に 純粋なR−ジオールを、ナトリウムメトキシド存在下、炭酸ジエチルで縮合す ることによって、対応する5R−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III) に変換する。これらの5R−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンは、医薬上 有用なオキサゾリジノンの合成前駆体として有用である。膨大な数の工程が、こ の方法を魅力のないものとしている。 J.Med.Chem.,32,1673(1989)、Tetrahedron 45,1323(1989)および米国特許 第4,948,801号は、触媒量の臭化リチウム−トリブチルホスフィンオキシド錯 体存在下にてイソシアナート(R-N=C=O)と(R)−グリシジル酪酸とを反応させ て対応する5R−ブチリルオキシメチル置換オキサゾリジノンを生成することから なるオキサゾリジノンの製法を開示している。該方法は、135-145℃にて行う。 ついで、酪酸エステルをつづく工程で加水分解させて、対応する5−ヒドロキシ メチル置換オキサゾリジノンを得る。比較的高いコストおよび/またはイソシア ナート出発物質の入手性ならびに高温の要件は、この方法の魅力を大きく損なっ ている。 1993年8月にイリノイ州シカゴで開催された206th National Meeting of the American Chemical Society;American Chemical Society:Washington,DC,1993 ;ORGN089の要旨集;J.Med.Chem.39,673(1996);J.Med.Chem.39,680(1996); 国際公開WO93/09103号、WO93/09103号、WO95/07271号およびWO93/23384号; PCT出願PCT/US95/12751号およびPCT/US95/10992号;1995年9月にカリフォ ルニア州サンフランシスコで開催された35th Interscience Conference on Anti microbial Agents and ChemotheraPy;1995年にワシントンで開催された American Society for Microbiologyの要旨集;要旨番号F208;1995年9月にカ リフォルニア州サンフランシスコで開催された35th Interscience Conference o n Antimicrobial Agents and Chemotherapy;1995年にワシントンで開催された American Society for Microbiology;要旨番号F206;1995年9月にカリフォル ニア州サンフランシスコで開催された35th Interscience on Antimicrobial Agents and Chemotherapyの要旨集;1995年にワシントンで開催されたAmerican Society for Microbiology;要旨番号F227;は、カルバマートとn−ブチルリチ ウム、リチウム ジイソプロピルアミドまたはリチウム ヘキサメチルジシラジ ドとを−78℃〜−40℃にて反応させ、つづいてグリシジル酪酸と−78℃にて反応 させ、つづいて20−25℃まで温めて、反応の間にエステルが切断された5−ヒド ロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)を生成することを開示している。 米国特許第4,062,862号および4,236,012号は、触媒存在下にてエポキシと (窒素原子上のいずれか置換基を欠いている)第一級カルバマートとを反応させ ることからなるオキサゾリジノンの製法を開示している。該製法は、「好ましく は、100〜150℃の温度にて数時間行う」。 カナダ特許第681,830号は、アルカリ性触媒(好ましくは、リチウムアミドま たは水酸化リチウム)存在下にてグリシドールのアリールエーテルと第一級カル バマートとを反応させることからなるオキサゾリジノンの製法を開示している。 該製法は、「好ましくは150℃〜165℃の温度範囲」で行なわれた。その生成物は5 −ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンのアリールエーテルであって、収率は 低い(40-78%)。 J.Am.Chem.Soc.,64,1291(1942)および米国特許第3,547,951号は、塩化 メタンスルホニルで処理してメシラートを生成し、つづいてこのメシラートと無 水アンモニアとを加圧下、密閉反応容器中、常温にて接触させることを含む第一 級アルコールをアミンに変換する方法を開示している。 また、第一級アルコールをアンモニア水と反応させて対応する第一級アミンを 得ることも知られているが、これには高温と高圧(85psig)とが要求される。通 常、この製法は、通常の一般目的の反応器中では使用できず、高圧用に等級付け される特殊な反応器中で行わなければならない。 国際公開WO95/07271号は、オキサゾリジノンメシラートのアンモノリシスを 開示している。 米国特許第4,476,136号は、塩化メタンスルホニル、つづいてフタルアミド カリウムつづいてヒドラジンで処理することを含む、5−ヒドロキシメチル置換 オキサゾリジノン(III)を対応する5(S)−アミノメチル置換オキサゾリジノン(V II)に変換する方法を開示している。この反応列は、目的の生成物から単離する のが困難である副産物を生成する。 J.Med.Chem.,32,1673(1989)およびTetrahedron 45,1323(1989)は、塩化 メタンスルホニルまたは塩化トシル、つづいてアジ化ナトリウム、つづいて亜リ ン酸トリメチルまたは二酸化白金/水素、つづいて無水酢酸または塩化アセチル で処理して目的の5(S)−アセトアミドメチル置換オキサゾリジノンを得ることを 含む、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンを対応する5S−アセトアミ ドメチル置換オキサゾリジノンに変換する方法を開示している。アジ化ナトリウ ムは爆発危険物であることが知られている。 米国特許第5,210,303号は、芳香族アルデヒド存在下にてアンモニア水と共 に加熱してジアルキル化を抑制することによって種々の置換ベンジル塩化物の対 応するベンジルアミンへの変換を開示している。ジアルキル化不純物は、除去す るのが一般的に困難である。Chem.Lett.,1057(1978)を参照されたし。発明の概要 リチウムカチオン、およびその共役酸が約8を超えるpKaを有する塩基の存 在下にて、 (a)式(I): M1−CH2−CH(OH)−CH2−OH (I) (式中、M1は−Cl、−Brまたは−O−SO2−φ−CH3である) で示される(S)−,(R)−ジヒドロキシ化合物もしくはそれらのいずれかの混合 物、および (b)式(IV): C*H2−C*H−CH2−OH (IV) (式中、*で印を付した炭素原子は、各々、同一酸素原子(−O−)に結合して 3員環を形成する) で示される(S)−,(R)−グリシドールもしくはそれらのいずれかの混合物より なる群から選択されるヒドロキシ化合物と、式(IIA): R1−NH−CO−O−M2 (IIA) で示されるカルバマート、または式(IIB): R1−NH−CO−CF3 (IIB) (式中、−O−M2はその酸が約8〜約24のpKaを有する塩基であって、R1 は後記定義に同じ) で示されるトリフルオロアセトアミドとを接触させることを特徴とする、 式(III): [式中、R1であり; ここに、X1は−Hまたは−Fであり; X2は−Hまたは−Fであり; Q1は: a) b) c) d) f) g) h) i) j) k) または m) であり; Q1およびX2は一緒になって: となり; ここに、Z1は: a)−CH2−、 b)−CH(R4)−CH2−、 c)−C(O)−、または d)−CH2CH2CH2−であり; Z2は: a)−O2S−、 b)−O−、 c)−N(R7)−、 d)−OS−、または e)−S−であり; Z3は: a)−O2S−、 b)−O−、 c)−OS−、または d)−S−であり; A1は: a)H−、または b)CH3であり; A2は: a)H−、 b)HO−、 c)CH3−、 d)CH3O−、 e)R2O−CH2−C(O)−NH−、 f)R3O−C(O)−NH−、 g)(C1−C2)アルキル−O−C(O)−、 h)HO−CH2−、 i)CH3O−NH−、 j)(C1−C3)アルキル−O2C−、 k)CH3−C(O)−、 l)CH3−C(O)−CH2−、 m) または n) であり; A1およびA2は一緒になって: a) b)O= c) となり; R1は: a)−CHO、 b)−COCH3、 c)−COCHCl2、 d)−COCHF2、 e)−CO2CH3、 f)−SO2CH3、または g)−COCH2OHであり; R2は: a)H−、 b)CH3−、 c)フェニル−CH2−、または d)CH3C(O)−であり; R3は: a)(C1−C3)アルキル−、または b)フェニル−であり; R4は: a)H−、または b)HO−であり; R5は: a)H−、 b)(C1−C3)アルキル−、 c)CH2=CH−CH2−、または d)CH3−O−(CH2)2−であり; R6は: a)CH3−C(O)−、 b)H−C(0)−、 c)Cl2CH−C(0)−、 d)HOCH2−C(O)−、 e)CH3SO2−、 f) g)F2CHC(O)−、 h) i)H3C−C(O)−O−CH2−C(O)−、 j)H−C(O)−0−CH2−C(O)−、 k) l)HC≡CH−CH2O−CH2−C(O)−、または m)フェニル−CH2−O−CH2−C(O)−であり; R7は: a)R2O−C(R10)(R11)−C(O)−、 b)R3O−C(O)−、 c)R8−C(O)−、 d) e) f)H3C−C(O)−(CH2)2−C(O)−、 g)R9−SO2−、 h) i)HO−CH2−C(O)−、 j)R16−(CH2)2−、 k)R13−C(O)−O−CH2−C(O)−、 l)(CH3)2N−CH2−C(O)−NH−、 m)NC−CH2−、または n)F2−CH−CH2−であり; R8は: a)H−、 b)(C1−C4)アルキル、 c)アリール−(CH2)p、 d)ClH2C−、 e)Cl2HC−、 f)FH2C−、 g)F2HC−、または h)(C3−C6)シクロアルキルであり; R9は: a)−CH3、 b)−CH2Cl、 c)−CH2CH=CH2、 d)アリール、または e)−CH2CNであり; R10はH−またはCH3−であり; R11はH−またはCH3−であり; R12は: a)H−、 b)CH3O−CH2O−CH2−、または c)HOCH2−であり; R13は: a)CH3−、 b)HOCH2−、 c)(CH3)2N−フェニル、または d)(CH3)2N−CH2−であり; R14は: a)HO−、 b)CH3O−、 c)H2N−、 d)CH3O−C(O)−O−、 e)CH3−C(O)−O−CH2−C(O)−O−、 f)フェニル−CH2−O−CH2−C(O)−O−、 g)HO−(CH2)2−O−、 h)CH3O−CH2−O−(CH2)2−O−、または i)CH3O−CH2−O−であり; R15は: a)H−、または b)Cl−であり; R16は: a)HO−、 b)CH3O−、または c)Fであり; mは0または1であり; nは1〜3であり; pは0または1であり; アリールは、非置換の、または1個の以下の基: a)−F、 b)−Cl、 c)−OCH3、 d)−OH、 e)−NH2、 f)−(C1−C4)アルキル、 g)−O−C(O)−OCH3、または h)−NO2およびそれらの保護形で置換されたフェニルである] で示される5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンの製法を開示する。 また、 (1)式(III): (式中、R1は前記定義に同じ) で示される5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコールと、 式(Va−Vd): M3−SO2−C6n3(NO2n1Cln2 (Va) O[−SO2−C6n3(NO2n1Cln22 (Vb) O(SO2−F)2 (Vc)、および O(SO2−CF3)2 (Vd) (式中、n1は0、1または2であり; n2は0〜4であり、但し、n1が0である場合、n2は2、3または4であり、 n1が1である場合、n2は0または1であって、 n1が2である場合、n2は0であり; n3は5−(n1n2)であり; M3はC1−またはBr−である) で示される化合物よりなる群から選択されるスルホニル化剤とを接触させて、 式(VIa−VId): で示される対応するオキサゾリジノンスルホナートを生成し;次いで、 (2)約30psig未満の圧にて、該オキサゾリジノンスルホナート(VIa− VId)とアンモニアとを接触させることを特徴とする、 式(VII): (式中、R1は前記定義に同じ) で示される5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミンの製法も開示する。発明の詳細な説明 5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III)の製法は、式(I )で示される非−環式(S),(R)−ジヒドロキシ化合物もしくはそれらのいずれ かの混合物または式(IV)で示される(S),(R)−グリシドールもしくはそれら のいずれかの混合物のいずれかを用いて、式(IIA)で示されるカルバマートま たは式(IIB)で示されるトリフルオロアセトアミドとカップリングさせることが できる。 5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III)は、アシル化し て医薬的に有用な5−アシルアミドメチル置換オキサゾリジノン(VIII)抗菌剤 を調製することができる5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII) を生成するための有用な中間体である。なぜならば、鏡像異性体中心(enantiome ric center)、5(R)−,5(S)−アシルアミドメチル置換オキサゾリジノン(VI II)およびそれらの混合物を生成することができるためである。5−アシルアミ ドメチル置換オキサゾリジノン(VIII)の(S)−エナンチオマーは抗菌活性を 有するが、(R)−エナンチオマーは有しない。5(S)−アミノメチル置換オキサ ゾリジノンアミン(VII)エナンチオマーは、(S)−ジヒドロキシ化合物(I)また は(S)−グリシドール(IV)から生成される5(R)−ヒドロキシメチル置換オキサ ゾリジノンアルコール(III)エナンチオマーから生成する。したがって、目的で あり、かつ好ましいエナンチオマー配列は、エナンチオマー的に純粋な(S)−ジ ヒドロキシ化合物(I)または(S)−グリシドール(IV)を用いて、(R)−5−ヒド ロキシメ チル置換オキサゾリジノンアルコール(III)を得、これを用いてエナンチオマー 的に純粋な(S)−5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)を得、こ れをエナンチオマー的に純粋な(S)−5−アシルアミドメチル置換オキサゾリジ ノン(VIII)に変換する。しかしながら、逆のエナンチオマー形を用いて同一の製 法工程を容易に行うことができ、該製法のいずれの時点においても、望ましくな いエナンチオマー立体配置を目的のものに変換できることは、当業者であれば自 明である。しかるに、いずれかのエナンチオマー形で特許請求する製法の化学を 用いることは、特許請求する製法に相当すると考えられる。 式(I)で示されるジヒドロキシ化合物、M1−CH2−CH(OH)−CH2 −OH、および式(IV)で示されるグリシドール化合物C*H2−C*H−C H2−OH(ここに、*で印を付した炭素原子は、各々、同一酸素原子(−O− )に結合して3員環を形成する)は当業者に知られており、あるいは当業者に知 られている方法によって公知の化合物から容易に調製することができる。ヒドロ キシ出発物質はジヒドロキシ化合物(I)であることが好ましい。ジヒドロキシ 化合物(I)およびグリシドール(IV)は、(S)−エナンチオマーであること が好ましい。M1はCl−であることが好ましく;ジヒドロキシ化合物(I)は、 市販されている請求の範囲第5項記載のものであることが好ましい。 式(IIA)で示されるカルバマート、R1−NH−CO−O−M2および式(I IB)で示されるトリフルオロアセトアミド、R1,−NH−CO−CF3は、当業 者に知られているか、または当業者に知られている方法によって公知の化合物か ら容易に調製することができるかのいずれかである。脱離基M2の性質は重要で はない。なぜならば、当業者に知られているように、それは反応工程の間に脱離 するからである。作動可能なM2(脱離基)は、−O−M2が、その酸が約8〜約 24のpKaを有する塩基であるものである。好ましいM2には、 C1−C20アルキル、 C3−C7シクロアルキル、 所望により、1または2個のC1−C3アルキルまたはF−Cl−、Br−、I −で置換されていてもよいφ−、 CH2=CH−CH2− CH3−CH=CH−CH2−、 (CH3)2C=CH−CH2−、 CH2=CH−、 φ−CH=CH−CH2−、 所望により、当該φ−上で1または2個の−Cl、C1−C4アルキル、−NO2 、−CN、もしくは−CF3で置換されていてもよいφ−CH2−、 9−フルオレニルメチル、 (Cl)3C−CH2−、 2−トリメチルシリルエチル、 φ−CH2−CH2−、 1−アダマンチル、 (φ)2CH−、 CH=C−C(CH3)2−、 2−フラニルメチル、および イソボルニルが含まれ、より好ましい脱離基は、C1−C4アルキルまたはベン ジルである。同様の様式で作動するいずれの他の脱離基も、上記のものに相当す ると考えられる。カルバマート(IIA)およびトリフルオロアセトアミド(I IB)は、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III)の 芳香族/複素芳香族基(R1−)を運搬している。R1は1個の−Fと1個の置換 アミノ基で置換されたフェニルであることが好ましく;R1は3−フルオロ−4 −[4−(ベンジルオキシカルボニル)−1−ピペラジニル]フェニルまたは3− フルオロ−4−(4−モルホリニル)フェニルであることがより好ましい。R1 中の特定の置換基に依存して、望ましくない副反応を防ぐために当業者に知られ ている手段によって、当業者に知られているごとく該基を保護しなければならな いことがあり得る。例えば、R1置換基が遊離の第一級または第二級ヒドロキシ 基を有している場合、必ずしもそうである必要はないが、好ましくは5−ヒドロ キシメチル置換オキサゾリジンアルコール(III)の形成においてアルコール 保 護基でそれを保護することが好ましい。非保護アルコールは、一般的に、5−ヒ ドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III)を得るためのジヒド ロキシ化合物(I)またはグリシドール(IV)とカルバマート(IIA)また はトリフルオロアセトアミド(IIB)との反応を妨害しないであろう。しかし ながら、非保護アルコールは、一般的に、対応する5−アミノメチル置換オキサ ゾリジノンアミン(VII)への5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンア ルコール(III)の変換を妨害するであろう。なぜならば、他の第一級または 第二級アルコール存在下にて、R1官能基上の第一級または第二級アルコールを 選択的に保護することは非常に困難であるか、または不可能であるからである。 適当なアルコール保護基は当業者によく知られており、好ましくはC1−C5アル キル、φ−CH2−、CH3−O−CH2−、CH3−、CH3−S−CH2−、φ− CH2−O−CH2−、テトラヒドロピラニル、CH3CH(−O−C25)−、p −メトキシベンジル、p−メトキシフェニル、p−ニトロベンジル、(φ)3C− 、(CH3)3Si−、[CH3−CH(CH3)]3Si−、またはφ(CH3)2Si−で ある。これらの保護基は、当業者に知られている方法によって除去される。例え ば、R1がヒドロキシ置換基を含む場合、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリ ジノンアルコール(III)を5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(V II)または5−アシルアミドメチル置換オキサゾリジノン(Vlll)に変換 させる間に、それを保護しなければならない。R1置換基が遊離の第一級または 第二級アミノ置換基を含んでいる場合、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジ ノンアルコール(III)を形成する間にそれを保護する必要はないが、5−ヒ ドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III)を対応する5−アミノ メチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)および5−アシルアミドメチル置 換オキサゾリジノン(VIII)に変換する間に保護しなければならない。なぜな らば、該アミノ基が、一般的に、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンア ルコール(III)を対応する5−アシルアミドメチル置換オキサゾリジノン(V III)に変換させることに含まれる1または2以上の工程の間に、望ましくな い副反応を起こすであろうからである。したがって、ジヒドロキシ化合物(I) またはグ リシドール(IV)とカルバマート(IIA)またはトリフルオロアセトアミド(I IB)とを反応させる前に、R1官能基中のいずれかの遊離アミノ置換基を保護す ることが好ましい。アミノ保護基は、当業者に非常によく知られている。好まし いアミノ保護基には: (I)C1−C4アルキル、 (II)φ−CH2−、 (III)(φ)3C−または (IV)Ra−CO−ここに、Raは(A)H−(B)C1−C4アルキル、 (C)C5−C7シクロアルキル、(D)(C1−C5アルキル)−O−、(E)Cl3C −CH2−O−、(F)H2C=CH−CH2−O−、(G)φ−CH=CH−CH2− O−、(H)φ−CH2−O−、(I)p−メトキシフェニル−CH2−O−、(J)p −ニトロフェニル−CH2−O−、(K)φ−O−、(L)CH3−CO−CH3−、( M)(CH3)3Si−O−もしくは(V)Rb−SO2−(ここに、Rbは:(A)(C1ア ルキル)−、(B)φ−、(C)p−メチルフェニル−、または(D)φ−CH2−であ る)が含まれる。好ましいアミノ保護基は、当業者に知られているごとき接触水 素化によって除去することができるベンジルオキシカルボニルである。これらの 反応における保護基の使用または特定の保護基の性質に関しては新規なことはな い。これらのことはすべて、当業者によく知られている。該保護基は、当業者に 知られているように、保護置換基が影響または共に運搬され、つづく反応の後に 除去されるであろう最後の反応の後に除去することができる。例えば、当業者に 知られているように、除去する前の、最終アシル化工程が完了するまでは、保護 基を共に運搬していることが好ましい。所望により、R1置換基は、当業者に知 られているように、どの化学反応が必要かに依存して5−アシルアミドメチル置 換オキサゾリジノン(VIII)を生成した後に修飾することができる。 ジヒドロキシ化合物(I)またはグリシドール(IV)のいずれかと、カルバ マート(IIA)またはトリフルオロアセトアミド(IIB)のいずれかとの反 応により、同一の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(II I)を得る。ジヒドロキシ化合物(I)またはグリシドール(IV)のいずれを 用いて特定の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(III) を生成するかの選択は、ケース・バイ・ケースに基いてなされなければならない 。全てのケースにおいて好ましい出発物質は存在しなく;一般的に、化学単独に 基く好ましい方法も存在しない。決定には、当業者に知られているような、特定 の出発物質の市場での入手可能性、その化学およびエナンチオマー純度、そのコ スト他が含まれる。 本発明の1の製法は、リチウムカチオン(Li+)、およびその共役酸が約8を 超えるpKaを有する塩基存在下における、ジヒドロキシ化合物(I)またはグ リシドール(IV)とカルバマート(IIA)またはトリフルオロアセトアミド (IIB)との反応である。 該製法には、約1モル当量のジヒドロキシ化合物(I)またはグリシドール( IV)/当量のカルバマート(IIA)またはトリフルオロアセトアミド(II B)を要する。該反応には、当該塩基がカルバマート(II)を脱プロトンする に十分に強い限りはその性質は重要ではない塩基を要する。作動可能な塩基は、 その共役酸が約8を超えるpKaを有するものである。好ましい塩基には、 1〜7個の炭素原子のアルコキシ化合物、 炭酸塩、 メチル、sec-ブチルおよびt−ブチルカルボアニオン、 トリ(アルキル)アミン(ここに、アルキル基は1〜4個の炭素原子を有する) 、 カルバマート(II)の共役塩基、 DBU、 DBN、 N−メチル−ピペリジン、 N−メチルモルホリン、 2,2,2−トリクロロエトキシド、および Cl3C−CH2−O- よりなる群から選択される化合物が含まれ、最も好ましい塩基は、塩基が4もし くは5個の炭素原子のアルコキシであるものである。4および5個の炭素のアル コール塩基はt−アミル酸塩またはt−ブトキシドであることが好ましい。(塩 化リチウムまたは臭化リチウムのごとき)リチウム塩と組合わせたナトリウムま たはカリウム塩基を、系内で(in situ)リチウムカチオンおよび塩基を形成す るのに用いることができる。 溶媒の性質は重要ではない。作動可能な溶媒には、THFのごとき環状エーテ ル、DMFおよびDMACのごときアミド、トリエチルアミン、アセトニトリル のごときアミン、ならびにt−アミルアルコールおよびt−ブチルアルコールの ごときアルコールが含まれる。溶媒の選択は、当業者に知られているように、カ ルバマート(IIA)またはトリフルオロアセトアミド(IIB)の溶解性に依存す る。 出発物質がジヒドロキシ化合物(I)である場合、カルバマート(IIA)また はトリフルオロアセトアミド(IIB)とを接触させる前に、ジヒドロキシ化合物 (I)と環化剤とを反応させるのが有利となり得る。「環化剤」なる語は、ジヒド ロキシ化合物(I)をグリシドール(IV)に環化させる塩基をいう。作動可能 な環化剤には、その酸が約7を超えるpKaを有する塩基が含まれ;好ましい環 化剤は、ナトリウム、カリウムまたはリチウムブトキシド、水酸化ナトリウムま たはカリウム、炭酸カリウム、DBU、アミル酸(amylate)リチウム塩、アミル 酸ナトリウム塩およびアミル酸カリウム塩であり;最も好ましいのはカリウムt −ブトキシドである。反応は、好ましくは<100℃で、より好ましくは<70 ℃で、なおより好ましくは<50℃で、最も好ましくは<25℃で行う。該反応 は室温(約20〜約25℃)で行うことができる。約20℃では、該反応は(D MAC中で)完了に達するまでに約8時間を要する。より迅速な反応が望ましい 場合には、該反応をより高温で行うことができる。前述のごとく、第一級アルコ ールと第二級アルコールとの間の区別は困難である。環化反応においては、単純 アルコールが形成される。例えば、炭酸ベンジルを環化条件に付する場合には、 ベンジルアルコールが形成される。アルコールからアミンへの変換を首尾よく行 うためにはこのアルコールを除去する必要がある。このことは、酢酸エチル/ヘ プタン(1 /2)を用いる環化によって行う。ベンジルアルコールは溶液中に留まり、目的 のオキサゾリジノンアルコールを固形物として単離する。 チャートCは、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコール(II I)を対応する5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)に変換 させる方法を開示している。R1官能基上のアルコールおよび/またはアミノ基 を保護する状況は前に論じた。5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアル コール(III)を、4種のタイプのスルホニル化剤(Va−Vd)と接触させる 。これらは、M3−SO2−C6n3(NO2)n1Cln2(Va)、O[−SO2−C6n3 (NO2)n1Cln2]2(Vb)、O(SO2−F)2(Vc)およびO(SO2−CF3)2(Vd )である。M3は脱離基であり、Cl−またはBr−が含まれ;M3はCl−であ ることが好ましい。5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)をスル ホニル化剤(Va−Vd)と接触させて、オキサゾリジノンスルホナート(VIa−V Id)中間体を形成する。 5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)を対応するオキサゾリジ ノンスルホナート(VI)に変換させるスルホン化反応は、約0℃の不活性溶媒中 、塩基存在下にて、5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)と少 なくとも1モル当量のスルホニル化剤(Va−Vd)とを接触させることにより行 う。作動可能な塩基には、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピ ルエチルアミン、DABCO、DBU、DBN、n−ブチルリチウム、エチルマ グネシウムクロライドおよびそれらの等価物が含まれ;好ましくはトリエチルア ミンである。不活性溶媒には、塩化メチレン、THF、DMA、DMF、酢酸エ チルおよびそれらの等価物のごとき大部分の有機溶媒が含まれ;好ましくは塩化 メチレンである。 オキサゾリジノンスルホナート(VI)から対応する5−アミノメチル置換オキ サゾリジノンアミン(VII)への変換のアンモノリシス反応は、開放もしくは非 −密閉条件下、または密閉条件下にて行うが、密閉条件下にて行うのが好ましい 。 いずれの場合においても、アンモノリシス反応は、オキサゾリジノンスルホナ ート(VI)とアンモニア(好ましくはアンモニア水)、好ましくは溶媒またはそれ ら の混合物とを接触させることにより行う。好ましい溶媒は、オキサゾリジノンス ルホナート(VI)およびアンモニア水の両方を溶解するものである。なぜならば 、その両方を溶解することによって、それらの間の接触が保証されるからである 。しかしながら、該製法は、オキサゾリジノンスルホナート(VI)を部分的にし か溶解しない溶媒を用いても作動可能であり、不利な点は反応が一般的に遅いこ とである。m−ニトロベンゼンスルホン酸の場合においては、好ましい溶媒はア セトニトリル/イソプロパノールまたはTHF/イソプロパノールの混合液であ る。該系は減圧下に置く。次いで、該系を閉口するか密閉し、アンモニア(好ま しくはアンモニア水)を添加し、50℃未満、好ましくは40℃未満、より好ま しくは約38℃(約3psig)まで加熱する。約38−40℃では圧は約0〜約10 psigであり、これは一般的な目的の反応器の限界圧等級よりも遥かに下である。 これらの条件下にては、約60℃でpsigは約20である。アンモノリシス反応は 、約0〜約20psig、好ましくは約0〜約5psigであって約60℃以下で行うこ とが好ましい。別法として、該反応は還流温度にて開放系で行う。この場合にお いては、温度は僅かに低く、該反応は完了に達するまでに僅かに長い時間を要す るであろう。アンモニアは水性、アルコール性または無水のいずれであってもよ いが;アンモニア水が好ましい。 別法として、アンモニア水との接触は、芳香族アルデヒド(IX、Ar−CH O)、好ましくはサリチルアルデヒドの存在下にて行うこともできる。5−アミ ノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)およびアルデヒド(IX)は式 (オキサゾリジノン−N=CH−Ar)で示されるシッフ塩基を形成し、次いで 、これを当業者に知られているごとく水性酸で加水分解して、目的の5−アミノ メチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)を得る。芳香族アルデヒド(IX )は二量体形成を抑制するのに有用である。 5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)をハロゲン化アシル またはアシル無水物のごとき公知の手段によってアシル化して、対応する5−ア シルアミドメチル置換オキサゾリジノン(VIII)を形成する。チャートDを 参照されたし。5−アシルアミドメチル置換オキサゾリジノン(VIII)を生 成した後に、いずれのアルコールまたはアミノ保護基も除去しなければならない 。しかしながら、それは、当業者に知られているごとく、問題となる特定の置換 基に依存して、反応配列においてより早期に除去することができる。 5−アシルアミドメチル置換オキサゾリジノン(VIII)は、抗菌性医薬剤 であることが知られている。R2は−H、所望により1または2個以上のハロゲ ンで置換されていてもよいC1−C12アルキル、(C3−C7)シクロ(C5−C9)ア ルキルまたは−O−R2a(ここに、R2aはC1−C6アルキルである)よりなる群 から選択される。R2はC1アルキルであることが好ましい。定義および約束 以下の定義および説明は、明細書および請求の範囲の両方を包含するこの書類 全体を通して使用する語句に関するものである。I. 式に関する約束および変数の定義 明細書および請求の範囲中の種々の化合物または分子フラグメントを表してい る化学式には、規定する構造特徴に加えて、変数置換基が含まれ得る。これらの 変数置換基は、文字または文字につづく数字、例えば「Z1」または「Ri」(こ こに、iは整数である)によって同定される。これらの変数置換基は一価または 二価のいずれかであり、すなわち、それらは、1本または2本の化学結合によっ て式に結合する基を表す。例えば、基Z1は式CH3−C(=Z1)Hに結合する場 合には二価の変数を表すであろう。基RiおよびRjは、式CH3−CH2−C(Ri )(Rj)−Hに結合する場合には一価変数置換基を表すであろう。化学式が前記の もののごとく線状様式で示される場合には、括弧内に含まれる変数置換基が括弧 内に閉ざされている変数置換基のすぐ左側の原子に結合している。2または3個 以上の連続する変数置換基が括弧内に閉ざされている場合には、各連続変数置換 基が、括弧内に閉ざされていない左側のすぐ先行している原子に結合する。従っ て、前記式においては、RiおよびRjの両方が先行している炭素原子に結合して いる。また、ステロイドのごとき炭素原子番号付けの確立された系を有する いずれかの分子に関しては、これらの炭素原子はCiと示され、ここに「i」は 炭素原子数に対応する整数である。 例えば、C6とはステロイド化学の当業者によって伝統的に示されているステ ロイド核の6位または炭素原子数を表している。同様にして、「R6」なる語は 、(一価または二価のいずれかの)C6位の変数置換基を表している。 線状様式で示される化学式またはその一部分は、線状鎖の原子を表している。 「−」なる記号は、鎖中の2個の原子の間の結合を表している。したがって、 CH3−O−CH2−CH(Ri)−CH3とは、2−置換−1−メトキシプロパン化 合物を表している。同様の様式で、「=」なる記号は二重結合、例えばCH2= C(Ri)−O−CH3を表し、「三」なる記号は三重結合、例えばHC=C−CH (Ri)−CH2−CH3を表している。カルボニル基は2つの方法:−CO−また は−C(=O)−のうちのいずれか1つの方法で表されるが、単純なため前者が好 ましい。 環状(環式)化合物または分子フラグメントの化学式は、線状様式で表すこと ができる。かくして、化合物4−クロロ−2−メチルピリジンは、アスタリスク (*)で印を付した原子が互いに結合して環を形成するという約束で、N*=C (CH3)−CH=CCl−CH=C*Hによって線状様式で表すことができる。 同様にして、環状分子フラグメントである4−(エチル)−1−ピペラジニルは、 −N*−(CH2)2−N(C25)−CH2−C*H2によって表すことができる。 本明細書中のいずれの化合物に関しても剛直な環状(環式)構造は、剛直な環 状化合物の各炭素原子に結合する置換基に対する環の面に関する方向を規定する 。環系の一部分である炭素原子に結合する2個の置換基を有する飽和化合物、− C(X1)(X2)−については、2個の置換基は該環に対してアキシアルまたはエク アトリアル位のいずれでも存在することができ、アキシアル/エクアトリアルの 間で変化することもできる。しかしながら、該環およびお互いに対する2個の置 換基の位置は固定されたままである。ある時点ではいずれかの置換基が、環の面 の上方または下方(アキシアル)よりも環の面中(エクアトリアル)に存在し得 るが、1個の置換基は常に他方の上方に存在する。かかる化合物を示す化学構造 式 においては、他方の置換基(X2)の「下方」に存在する置換基(X1)はアルフ ァ(α)立体配置で存在すると同定され、炭素原子に結合する破線、ダッシュ線ま たは点線、すなわち、「―」または「...」なる記号によって同定される。他方(X1 )の「上方」に結合する対応する置換基(X2)は、ベータ(β)立体配置で存在す ると同定され、炭素原子に結合する直線によって示される。 変数置換基が二価である場合、該原子価は変数の定義で一緒にもしくは別々に 、またはその両方となり得る。例えば、-C(=Ri)−として炭素原子に結合する 変数Riは二価となり得、オキソまたはケト(したがって、カルボニル基(−CO −)を形成する)として規定することができ、あるいは一価変数置換基に別々に 結合する2個のα-Ri-jおよびβ-Ri-kとして規定することができる。二価変数 Riが2個の一価変数置換基よりなると規定される場合には、該約束を用いて、 該二価変数は「α−Ri-j:β−Ri-k」またはそのある種の変形と規定される。 かかる場合においては、α−Ri-jおよびβ−Ri-kの両方が炭素原子に結合して 、-C(α-Ri-j)(β-Ri-k)-となる。例えば、二価変数R6、-C(=R6)が2個 の一価変数置換基よりなると規定される場合には、2個の一価変数置換基はα- R6-1:β-R6-2、....α-R6-9:β-R6-10他であり、-C(α-R6-1)(β-R6-2 )-、....-C(α-R6-9)(β-R6-10)-、他となる。同様に、二価変数R11、-C( =R11)-に関しては、2個の一価変数置換基はα-R11-1:β-R11-2である。( 例えば、環中に炭素-炭素二重結合が存在することにより)それに対して別々のα およびβ方向が存在しない環置換基については、および環の一部分ではない炭素 原子に結合する置換基については、上記の約束がまだ用いられるが、αおよびβ の記号は省略される。 二価変数を2個の別々の一価として規定し得たように、2個の別々の一価変数 置換基は一緒になって二価変数を形成するように規定し得る。例えば、式−C1( Ri)H−C2(Ri)H−(C1およびC2は、各々、第1および第2の炭素原子を軌 道的に規定する)においては、RiおよびRjは一緒になって(1)C1とC2との 間の第2の結合;または(2)オキサ(−O−)のごとき二価基;を形成するよ うに規定することができ、(2)の場合にはそれによって式はエポキシドを記載す る。RiおよびRjが一緒になって基−X−Y−のごときより複雑な基を形成する 場合には、該基の方向は、前記式中のC1がXに結合し、C2がYに結合するよう なものである。したがって、約束により、「...RiおよびRjは一緒になって −CH2−CH2−O−CO−を形成し...」なる記載は、カルボニルがC2に結合 しているラクトンを意味する。しかしながら、「...RjおよびRiは一緒になって −CO−O−CH2−CH2−を形成し」と記載される場合には、約束はカルボニ ルがC1に結合しているラクトンを意味する。 変数置換基の炭素元素含量は2つの方法のうちの1つで示される。1番目の方 法は「C1−C4」(式中、「1」および「4」の両方は変数中の炭素原子の最小お よび最大数を表す)のごとき変数の全体名称に対する接頭語を用いる。該接頭語 はスペースによって変数から離される。例えば、「C1−C4アルキル」とは、1〜 4個の炭素原子のアルキル(別段指摘が表されていない限り、その異性体形を包 含する)を表す。この単一接頭辞が記載されている場合には如何なる場合におい ても、該接頭辞は規定する変数の全体の炭素原子含量を示す。したがって、C2 −C4アルコキシカルボニルは、基CH3−(CH2)n−O−CO−(ここにnは0 、1または2)と記載される。2番目の方法によれば、定義の各部分のみの炭素 原子含量は、括弧内に「Ci−Cj」記号を閉じることによって別々に示され、定 義する定義の部分の直前(介在するスペースは存在しない)に置かれる。この任 意の約束によれば、(C1−C3)アルコキシカルボニルはC2−C4アルコキシカル ボニルと同一の意味を有する。なぜならば、「C1−C3」とはアルコキシ基の炭 素原子含量のみを示すからである。同様にして、C2−C6アルコキシアルキルお よび(C1−C3)アルコキシ(C1−C3)アルキルの両方は2〜6個の炭素原子を 含有するアルコキシアルキル基を規定するが、前者の定義がアルコキシまたはア ルキル部のみが4または5個の炭素原子を含有することを許容するのに対して、 後者の定義はこれらの基を3個までの炭素原子のいずれかに限定するため、2種 の定義は異なる。 請求の範囲がかなり複雑な(環式)置換基を含む場合には、その特定の置換基 を命名する/示すフレーズの最後に(括弧)中に名称があり、それはその特定の 置換基の化学構造式も記載しているチャートのうちの1個中の同一の名称/記号 に対応する。II.定義 全ての温度は℃である。 TLCとは薄層クロマトグラフィーをいう。 THFとはテトラヒドロフランをいう。 DMFとはジメチルホルムアミドをいう。 DBUとは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エンをいう。 DBNとは1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エンをいう。 DABCOとは1,4−ジアザビシクロ[2.2.0]オクタンをいう。 DMAとはジメチルアセトアミドをいう。 塩溶液とは、飽和塩化ナトリウム水溶液をいう。 クロマトグラフィー(カラムおよびフラッシュクロマトグラフィー)とは、( 支持体、溶出液)として表される化合物の精製/分離方法をいう。適当なフラク ションをプールし、濃縮して目的の化合物(群)を得ることは理解される。 IRとは赤外分光分析をいう。 CMRとは13C核磁気共鳴分析をいい、化学シフトはTMSから低磁場側への ppm(δ)で報告する。 NMRとは核(プロトン)磁気共鳴分析をいい、化学シフトはテトラメチルシ ランから低磁場側へのppm(δ)で報告する。 −φとはフェニル(C65)をいう。 [α]D 25とは、ナトリウムD線(589A)での25℃における面偏光の旋回 角度(比旋光)をいう。 MSとはm/e、m/zまたは質量/電荷として表される質量分析をいう。[ M+H]+とは、親+水素原子の陽イオンをいう。EIとは電子衝撃をいう。CI とは化学イオン化をいう。FABとは高速原子衝撃をいう。 HRMSとは高分解能質量分析をいう。 医薬上許容されるとは、薬理学的/毒素学的見地より患者に許容され、組成、 処方、安定性、患者の許容性および生物学的利用能に関する物理学/化学的見地 より製薬化学者に許容される性質および/または物質をいう。 溶媒対を用いる場合、用いる溶媒の比率は容量/容量(v/v)である。 溶媒中の固形物の溶解度を用いる場合、溶媒に対する固形物の比は重量/容量 (wt/v)である。 NNNNNN−NN−Nとは、Chemical Abstracts Service(CAS,Columbus ,Ohio)登録番号をいい、ここに各「N」は0〜9の整数であるが番号の6桁部 分中の頭の0は省略される。登録番号はCAS基準によって特定の化学化合物に 割り当てられるが、但し、該化合物はすでに存在することが見出され、ある種の 方法で特徴付けられている。およそ1967年から現在までに発表されている化 合物が公共的に登録されており、該登録番号はかかる登録済み化合物についてC ASデータベース中の参照を見付け出す鍵である。CASデータベースは、STN International社,System Development Corporation(SDC)Orbit Search Service 社、Lockheed Dialog社、Bibliographic Retrieval Systems社、Questrel社他 のごとき数社のデータベース業者から公共的に入手可能である。CAS登録番号 は、すでに登録されている化合物のうちの幾つかについては実施例中に含まれて いる。 「psig」とは、(psiの)圧力−1気圧(14.7psi)に等しい「ゲージ圧力(gauge pressure)」をいう。実施例 さらに説明するまでもなく、当業者であれば、前記の説明を用いて本発明をそ の最大限の範囲で実施することができると考えられる。以下の詳細な例では、種 々の化合物を如何にして調製し、および/または本発明の種々の方法を如何にし て行うかを説明しており、単なる説明目的であって、如何なる場合においても前 記の開示に限定されることを意図するものではない。当業者であれば、反応物お よび反応条件の両方としての方法ならびに技術から、適当な変形を直ちに認識す る であろう。 実施例1 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベ ンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノー ル(III) DMAC(300ml)中のN−カルボベンゾキシ3−フルオロ−4−(N− カルボベンゾキシビペラジニル)アニリン(II、J.Med.Chem.,(3),673(1996))、 98.4%純粋物質100g(0.2133モル)の混合物を0℃に冷却した。分 液フラスコ中でt−アミルアルコール(75ml、60.37g、0.685モル 、3.23当量)およびヘプタン(75ml)の混合物を−10℃に冷却し、温 度を10℃未満に維持しつつ(29.2gまたは0.456モル=2/15当量の n−ブチルリチウムを含有する)ヘプタン(14.4%wt/v溶液290ml 、203g)で処理した。次いで、温度を10℃未満に維持しつつ、t−アミル 酸リチウム塩混合物をN−カルボベンゾキシ−3−フルオロ−4−(N−カルボ ベンゾキシピペラジニル)アニリン(II)に添加した。 次いで、少量のヘプタンで濯ぎつつ、正味S−(+)−3−クロロ−1,2−プ ロパンジオール(I、CAS#60827−45−4、22ml)29.1g、0.263モル 、1.24当量)を添加した。次いで、その反応混合物を20−25℃にて攪拌 し、反応が完了するまでTLC(メタノール/塩化メチレン;5/95)によって モニターした。次いで、その反応混合物をメタノール(700ml)および水( 700ml)中の酢酸(40ml、42.0g、0.699モル、3.29当量) の混合物に添加した。形成したスラリーを20−25℃にて30分間攪拌し、0 ℃に冷却し、0℃にて30分間攪拌して濾過した。そのケーキをメタノール/水 (50/50)で洗浄し、減圧下にて乾燥させて標題化合物を得た。 TLC(塩化メチレン/メタノール、95/5)Rf=0.43 実施例2 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボ ベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタ ノール(III) t−アミルアルコール(0.967g、10.97ミリモル、2.571当量) を−10℃に冷却した。ブチルリチウム(4.3mLへキサン中の2.5M、10 .8ミリモル、2.5当量)を、温度を5℃未満に維持しつつ攪拌しながら添加し た。 N−カルボベンゾキシ−3−フルオロ−4−(N−カルボベンゾキシピペラジ ニル)アニリン(II、1.9780g、4.267ミリモル、1.000当量) およびジメチルアセトアミド(6.2ml)を混合し、攪拌し、−25℃に冷却 して希薄スラリーを得た。次いで、温度を−20℃未満に維持しつつ、t−アミ ル酸リチウム塩混合物をN−ベンジルオキシカルボニル−3−フルオロ−4−(( 4−ベンジルオキシカルボニル)−1−ピペラジニル)アニリン(II)混合物に 添加した。得られた混合物を0℃まで温め、S−(+)−3−クロロ−1,2− プロパンジオール(I、0.5672g、5.131ミリモル、1.20当量)を 添加した。得られた混合物を21℃まで温め、7.5時間攪拌した。その反応混 合物を、20−22℃のメタノール(28ml)および氷酢酸(0.73ml、 12.75ミリモル)混合物に添加した。次いで、得られたスラリーを−30℃ まで冷却し、生成物を真空濾過によって採取し、−30℃のメタノールで洗浄し た。その固形物を窒素蒸気中で乾燥させて標題化合物を得た。 TLC(展開液;クロロホルム/メタノール、90/10)Rf=0.67; CMR(CDCl3)43.91,46.39,50.58,62.60,67.29,72.89,107.21,107.56,113 .85,119.36,127.92,128.09,128.52,133.51,133.65,136.05,136.17,136 .57,153.91,154.80,155.25および157.17δ; NMR(CDCl3)7.43,7.31-7.37,7.09,6.88,5.15,4.67-4.90,3.89- 3.99,3.67-3.74,3.66,3.25および2.98δ; MS(CI,m/e)=430(100%,P+1) 実施例3 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−(4−モルホリニルフ ェニル)−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(III) テトラヒドロフラン(3.0ml)およびt−アミルアルコール(0.66ml ) 6.03ミリモル、2.00当量)を混合した。温度を2.5℃未満に維持しつつ 攪拌しながら、ブチルリチウム(1.8ml、ヘキサン中の2.5M、4.55ミ リモル、1.5当量)を添加した。 N−カルボベンゾキシ−3−フルオロ−4−モルホリニルアニリン(II)J. Med.Chem.,39(3),673(1996)、0.9942g、3.009ミリモル、1.000 当量)およびテトラヒドロフラン(3.5ml)を混合攪拌し、冷却した。次い で、温度を8℃未満に維持しつつt−アミル酸リチウム塩混合物をカルバマート (II)混合物に添加し、テトラヒドロフラン(1ml)で濯いだ。 テトラヒドロフラン(3.2ml)およびS−(+)−3−クロロ−1,2−プ ロパンジオール(I、0.299ml、3.58ミリモル、1.19当量)を混合 した。その混合物を−16℃まで冷却し、温度を−10℃未満に維持しつつ、カ リウムt−ブトキシド(3.2ml、テトラヒドロフラン中の1.0M、3.2ミ リモル、1.07当量)を添加した。得られたスラリーを−14〜0℃にて1時 間攪拌し、次いで、両方の混合物を0℃に維持しつつ、リチウムアニオン混合物 に添加し、次いでTHF(2ml)で濯いだ。得られたスラリーを20−23℃ にて2時間攪拌し、次いで6℃まで冷却し、水(10ml)中のクエン酸一水和 物(0.4459g、2.122ミリモル、0.705当量)の混合物を添加した 。得られた液相を分離し、下水性相を酢酸エチル(12ml)で洗浄した。有機 層を合し、正味重量が9.73gに留まるまで減圧下にて溶媒を除去した。ヘプ タン(10ml)および水(5ml)を添加し、合計容量が5mlに留まるまで減 圧下にて溶媒を除去した。沈殿生成物を真空濾過によって採取し、水(7ml) で洗浄した。その固形物を窒素蒸気中で乾燥させて標題化合物を得た。 TLC(クロロホルム/メタノール、95/5)Rf=0.23; CMR(CDCl3)46.42,51.01,62.58,73.07,107.29,107.64,113.94 ,118.80,118.85,128.28,128.61,133.15,133.29,136.26,136.38,153.82 ,154.92および157.08δ; NMR(CDC13)7.42,7.32−7.37,7.10,4.67-4.75,3.90-4.00,3.86, 3.70-3.73,3.44および3.03δ; MS(EI,m/e)=296 別法として、該粗製生成物は、塩化メチレンで抽出することもできる。減圧下 にて溶媒を除去した。固形物を熱酢酸エチルに再溶解し、ヘプタンを添加し、そ の混合物を冷却して標題化合物を回収した。 実施例4 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボ ベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メ タノール(III) t−アミルアルコール(75ml、60.3g、0.68ミリモル)およびヘプタ ン(75ml)の溶液を攪拌し、−10℃まで冷却した。温度を10℃未満に維 持しつつ、その混合物をヘプタン中のn−ブチルリチウム(1.6M、0.46ミ リモル、290ml)で30分間にわたり処理した。30分後に、t−アミル酸 リチウム塩の混合物を、温度を10℃未満に維持しつつ、0℃のN−カルボベン ゾキシ−3−フルオロ−4−(N−カルボベンゾキシピペラジニル)アニリン( II、100g、0.22m)およびジメチルアセトアミド(300ml)の混 合物に添加した。その混合物を30分間攪拌し、次いでS−(+)−3−クロロ− 1,2−プロパンジオール(I、22ml、0.26m)で処理した。冷却浴を取 り除き、混合物を放置して20−25℃まで温めた。反応をTLCによってモニ ターし、約8時間後に完了を判断した。その反応混合物をメタノール(700m l)、水(700ml)および酢酸(40ml)の混合物に注入し、20−25 ℃にて30分間攪拌し、次いで0℃まで冷却しつつ30分間攪拌した。その混合 物を濾過し、水性メタノール(50/50)で洗浄し、45℃、減圧下にて乾燥 させて標題化合物を得た。 TLC(シリカゲル;メタノール/塩化メチレン、5/95)Rf=0.5 (90.3%収率) 実施例5 3−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3 −フルオロ−4−(N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル] −2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(VI) (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ) ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(II I、実施例1、43g、0.1m)および塩化メチレン(500ml)の混合物を トリエチルアミン(32ml)0.23m)で処理し、−5℃まで冷却した。1 時間にわたって温度を10℃未満に維持しつつ、この混合物に塩化メチレン(6 0ml)中の塩化3−ニトロベンゼンスルホニル(CAS♯121−51−7、32 g、0.14ml)の混合物を添加した。その反応をTLCによってモニターし、 45分後に完了と判断した。その混合物を塩化メチレン(500ml)で希釈し 、次いで水(2×600ml)で洗浄した。次いで、有機相を塩酸(1N、40 0ml)で洗浄し、濃縮して粘稠な残渣とした。その残渣をメタノール(200 ml)で希釈し、1.5時間攪拌した。固形物を濾別し、減圧下、40℃にて一 晩乾燥させて標題化合物を得た。 TLC(シリカゲル;メタノール/塩化メチレン、5/95)Rf=0.75 実施例6 (S)−N−[[3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カル ボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メ チル]アセトアミド(VII) 3−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3−フルオロ− 4−(N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル)フェニル]−2−オキ ソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(VI、実施例5、50g、0.081m l)、イソプロパノール(250ml)、アヤトアニトリル(400ml)および 水酸化アンモニウム水溶液(アンモニア29重量%、500ml)のスラリーを 40℃にて3.5時間加熱した。次いで、その混合物をさらなるアンモニア水( 100ml)で処理し、20時間攪拌した。その反応をTLCによってモニター し、この時点で完了と判断した。その混合物を加熱しつつ減圧下にて濃縮し、塩 化メチレン/水(1250ml/750ml)に懸濁した。相を分離させ、その 有機相を濃縮して残渣を得た。 その残渣を塩化メチレン(2L)に溶解し、トリエチルアミン(20ml、0 .14m)で処理した。次いで、その混合物を20−25℃の無水酢酸(10m l、0.11m)で10分間にわたって処理した。アセチル化をTLCによって モニターし、15分後に完了と判断した。その有機混合物を水(2×400ml )で洗浄し、次いで濃縮して固形物とした。その固形物をエタノール(400m l)から再結晶化させ、濾過し、減圧下にて乾燥させて標題化合物を得た。 TLC(シリカゲル;メタノール/塩化メチレン、5/95)Rf=0.6 実施例7 (S)−N−[[3−[3−フルオロ−4−(1−ピペラジニル )フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メチル]アセトアミド塩酸塩( 中間体) (S)−N−[[3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ) ピペラジニル]−フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メチル]アセト アミド(VII、実施例6、35kg、74.5モル)、炭素パラジウム(5%、 10kg、50%水分量)、メタノール(550L)およびテトラヒドロフラン(2 50L)の混合物を、42−50psi水素雰囲気下、22〜42℃にて撹拌した。 31時間後にTLC分析は反応が完了したことを示し、水素雰囲気を窒素で置換 した。触媒を濾去し、真空下にて濾液を100Lまで濃縮した。2℃まで冷却し た得られた混合物に、メタノール(50L)を添加し、次いで−2℃〜6℃のメ タノール(100L)および塩化アセチル(6.04kg、77モル)の混合物 を添加した。得られた混合物を90分間攪拌し、次いで真空下にて60Lまで濃 縮し、アセトン(100L)で希釈し、さらに100Lまで濃縮した。得られた スラリーをアセトン(200L)で希釈し、16℃にて15時間攪拌した。固形 物をフイルター上に採取し、アセトン(50L)で洗浄し、減圧下、20−25 ℃にて乾燥させて目的の生成物を得た。それを53℃のメタノール(56L)に 溶解し、アセトン(150L)で希釈し、48℃にて30分間攪拌し、15℃ま で冷却して18時間攪拌した。固形物をフィルター上に採取し、アセトン(50 L)で洗浄し、減圧下、20−25℃にて乾燥させて標題化合物を得た。 NMR(CDCl3)7.56-7.45,7.31,4.12-6.86,4.79,4.09-4.0,3.81,3 .62,3.40-3.11および2.01δ 実施例8 (S)−N−[[3−[3−フルオロ−4−[4−(ヒドロキシアセ チル)−1−ピペラジニル]−フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル] メチル]−アセトアミド セスキ水和物(VIII) (S)−N−[[3−[3−フルオロ−4−(1−ピペラジニル)フェニル]−2 −オキソ−5−オキサゾリジニル]メチル]アセトアミド塩酸塩(実施例7、16. 2kg、43.5モル)、テトラヒドロフラン(205kg)およびトリエチルア ミン(10.1kg、100モル)の撹拌混合物に、22−23℃の温度に維持 しつつ、テトラヒドロフラン(11.1kg)中の塩化アセトキシアセチル(6. 5kg、47.8モル)を35分間にわたって添加した。40分後、その時点で TLCおよびHPLC分析はアセトキシアセトアミド中間体の形成が完了したこ とを示し、その混合物を減圧下にて30Lまで濃縮し、メタノール(100L) で希釈し、30Lまで濃縮した。その残渣に、メタノール(25L)および炭酸 カリウム水溶液(56L中の5.6kg)を添加した。得られた混合物を22− 25℃にて20時間攪拌し、その時点でTLCおよびHPLC分析は反応が完了 したことを示した。塩酸(4N、14.3L)でpHを7−7.5に調整した。その 混合物を15−22℃にて18時間、次いで2−5℃にて3時間攪拌した。その 固形物をフィルター上に採取し、水(68L)で洗浄し、窒素を循環させつつ2 0−25℃にて乾燥させて目的生成物を得た。その粗製生成物を60−70℃の 水(225L)に溶解し、0.6μフィルターを通して清澄化し、水リンス(55 L)で希釈し、15℃にて17時間攪拌した。固形物をフィルター上に採取し、 15℃の水で洗浄し、窒素を循環させつつ45℃にて乾燥させて水分含量0.3 3%とした。これらの固形物を60−65℃の酢酸エチル(143L)、メタノー ル(65L)および水(1.95L)の溶液に溶解した。その溶液を15−25 ℃まで冷却し、16時間撹拌して結晶化させた。その固形物をフィルター上に採 取し、酢酸エチル(75L)で洗浄し、45℃の窒素で乾燥させて目的生成物を 得た。その 生成物を、60−70℃の水(147L、次いで133L)からさらに2回再結 晶化させ、各時点で0.6μフィルターを通して清澄化し、水(4OLおよび3 0L)で濯いだ。固形物を、窒素を循環させつつ30℃にてフィルター上で乾燥 させ、ミルを通して脱凝集させた後に標題化合物をセスキ水和物(6.45%水分 含量)として得た。 TLC(シリカゲル;メタノール/塩化メチレン、5/95)Rf=0.45 ; [α]D=−20°(c=1.0、エタノール) 実施例9 3−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3 −フルオロ−4−(N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]−フェニル] −2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(VI) 0℃の塩化メチレン(50mL)およびトリエチルアミン(2.0mL、14. 38ミリモル)中の(R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カル ボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル] メタノール(III、実施例1、5.086g、11.86ミリモル)のスラリー に、塩化メチレン中の塩化3−ニトロベンゼンスルホニル(V)の溶液(0.3 56M、33.4ml、11.89ミリモル)を6分間にわたって滴下した。3. 25時間攪拌した後に、塩化3−ニトロベンゼンスルホニル(V)の0.356 M溶液をさらに3.4ml(1.21ミリモル)添加した。1.75時間攪拌した 後に、塩酸(1N、50mL)を添加した。相を分離させ、その水性相を塩化メ チレンで抽出した。合した有機相を塩溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥 させて濃縮した。その濃縮物を熱塩化メチレン/メタノールから結晶化させて標 題化合物を得た。 融点=155−157℃; NMR(CDCl3,400MHz)8.72,8.51,8.23,7.81,7.35,7.01,6 .91,5.17,4.85,4.44,4.39,4.09,3.85,3.68および3.01δ; CMR(CDCl3,100MHz)44.26,46.81,50.91,67.64,69.54,69 .91,107.85,114.32,119.85,123.55,128.30,128.47,128.91,129.15,131 .51,133.71,136.99,137.70,148.71,153.62,155.57および155.88δ; IR(鉱油mull)1744,1703,1528,1520,1367,1347および1192cm-1; MS(EI,M/Z)614,411,107,91,79,65および56; [α]D=−78℃(c=0.9812,CHCl3); TLC(酢酸エチル/ヘキサン、3/1)Rf=0.43 実施例10 2−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3 −フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル] −2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(VI) 重要な変形を施すことなく、(3−ニトロベンゼンスルホニルエステルに関し ては)実施例5の一般的な方法に従って、(R)−[N−3−[3−フルオロ−4 −[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ− 5−オキサゾリジニル]メタノール(III、実施例1、1.106g、2.57 8ミリモル)をトリエチルアミン(0.54ml、3.882ミリモル)および市 販等級の塩化2−ニトロベンゼンスルホニル(V、679mg、3.064ミリ モル)で処理して標題化合物を得た。 NMR(CDCl3,400MHz)8.15,7.82,7.37,7.06,6.94,5.17, 4.89,4.59,4.50,4.10,3.98,3.69および3.03δ; IR(鉱油mull)1757,1697,1517,1445,1423,1376,1237および1188cm- , MS(EI,M/Z;相対吸収):614(18.3,M+),91(100),69(23.8)および 56(52.9); TLC(酢酸エチル/ヘキサン、3/1)Rf=0.31 実施例11 2,4−ジニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3 −[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニ ル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(VI) 重要な変形を施すことなく、(1−ニトロベンゼンスルホニルエステルに関し ては)実施例5の一般的な方法に従って、(R)−[N−3−[3−フルオロ−4 − [N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5 −オキサゾリジニル]メタノール(III、実施例1、1.094g、2.550 ミリモル)をトリエチルアミン(0.55ml、3.950ミリモル)および市販 等級の塩化2,4−ジニトロベンゼンスルホニル(833mg、3.124ミリ モル)で処理して標題化合物を得た。 NMR(CDCl3,400MHz)8.59,8.38,7.35,7.02,5.17,4.88,4 .74,4.58,4.10,3.98,3.71および3.05δ; IR(鉱油mull)1756,1697,1554,1541,1517,1351,1237および1189cm- ; MS(FAB,M/Z;相対吸収):660(21.3,[M+H]+),659(24.2,M+) ,102(76.5)および91(100); TLC(酢酸エチル/ヘキサン、3/1)Rf=0.41 実施例12 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベ ンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノ ール 4−クロロベンゼンスルホン酸エステル(VI) −12℃の塩化メチレン(40ml)およびトリエチルアミン(2.55ml、 18.3ミリモル)中の(R)−[N−3−[3−フノレオロ−4−[N−1−(4 −カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジ ニル]メタノール(III、実施例1、3.450g、8.034ミリモル)のスラ リーに、塩化4−クロロベンゼンスルホニル(V、Aldrich Chemical Co.社市 販、2.298g、10.88ミリモル)を固形物として一時に添加した。その 混合物を0℃浴中にて2.5時間攪拌し、次いで水(2×35ml)およびIN 塩酸(35ml)で洗浄した。有機抽出物を20ml合計容量まで濃縮し、メ タノール(50ml)を添加した。沈殿物を真空濾過によって採取し、メタノー ルで洗浄し、乾燥させて塩化メチレン(55ml)に再溶解した。その混合物を 濃縮してスラリ−32g重量とし、メタノール(llml)を添加した。沈殿物 を真空濾過によって採取し、メタノールで洗浄し、乾燥させた。次いで、その固 形物を 塩化メチレン(58ml)に溶解し、カラムクロマトグラフィー(シリカカラム 、93g、40−63μ;酢酸エチル/シクロヘキサン混合液25/75;35 /65;45/55;55/45各450mlで溶出;最後の溶出液50%を採 取)に付した。採取した溶出液を200mlまで濃縮し、ヘプタン200mlを 添加した。その沈殿物を真空濾過によって採取し、乾燥させて標題化合物を得た 。 TLC(シリカゲル;メタノール/クロロホルム 5/95)Rf=0.53; MS(FAB,M/Z)=604.7(100%,[P+H]+); NMR(DMSO−d6,300MHz)7.93,6.7,7.75,7.48-7.32,7.12-7. 03,5.12,4.93-4.92,4.40,4.09,3.69,3.57および2.96δ; CMR(DMSO−d6,75MHz)43.51,45.84,50.22,66.33,69.75,70 .75,106.63,114.08,119.83,127.59,127.87,128.43,129.62,130.00,133 .31,133.63,135.52,136.84,139.63,153.54,154.40および154.62δ 実施例13 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボ ベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタ ノール 2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸エステル(VI) −8℃の塩化メチレン(40ml)およびトリエチルアミン(2.55mL18 .3ミリモル)中の(R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カノレ ボベンゾキシ)ピペラジン]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタ ノール(III、実施例1、3.439g、8.008ミリモル)のスラリーに、 塩化2,5−ジクロロベンゼンスルホニル(V、Aldrich Chemical Co.社−市 販、2.675g、10.90ミリモル)を固形物として一時に添加した。その混 合物を0℃浴中で2.5時間攪拌し、次いで水(2×35ml)およびIN 塩 酸(35ml)で洗浄した。次いで、その有機抽出物を12.0gまで濃縮し、 それをカラムクロマトグラフィー(シリカカラム、108g、40−63μ;酢 酸エチル/シクロヘキサン混合液10/90、20/80、30/70、40/ 60および60/40各450mlで溶出し、最後の20%の溶出液を採取)に 付した。採取した溶出液を濃縮し、メタノール300mlを添加した。その沈殿 物を真空濾過 によって採取し、メタノールで洗浄し、乾燥させて標題化合物を得た。 TLC(シリカゲル;メタノール/クロロホルム、5/95)Rf=0.66 ; MS(FAB,M/Z)=638.6(100%,[P+H]+); NMR(CDCl3,300MHz)8.04,7.57-7.32,7.06,6.91,5.16,4.89 -4.47,4.42,4.08,3.93,3.67および3.01δ; CMR(CDCl3,75MHz)43.93,45.51,50.56,67.26,69.16,69.46 ,107.55,113.98,119.41,127.92,128.10,128.54,131.21,131.46,132.97 ,133.44,133.50,134.68,135.15,136.45,136.61,153.36,155.22および15 5.53δ 実施例14 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボ ベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタ ノール 4−ニトロベンゼンスルホン酸エステル(VI) 0℃の塩化メチレン(32ml)中の(R)−[N−3−[3−フルオロ−4− [N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5 −オキサゾリジニル]メタノール(III、実施例1、3.437g、8.003 ミリモル)および塩化4−ニトロベンゼンスルホニル(V、75%純度技術物質、 Aldrich Chemical Co.社製−市販、3.077g、10.41ミリモル)のスラリ ーに、トリエチルアミン(2.23ml、16.0ミリモル)を添加した。その混 合物を0℃浴中で1時間攪拌し、次いで水(1ml)を添加し、その混合物を2 0−25℃にて30分間攪拌した。塩化メチレン(75ml)を添加し、その混 合物を塩酸(5%、50ml)次いで重炭酸ナトリウム(5%、50ml)で洗 浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥させた。次いで、その有機抽出物を濃縮し、そ の濃縮物を沸騰酢酸エチル/シクロヘキサン(1/1、10ml)中に採り、カ ラムクロマトグラフィー(シリカゲル、4cm×6”、40−63μ;酢酸エチ ル/シクロヘキサン混合液20/80、30/70、40/60、50/50、 60/40および70/30各約400mlで溶出し、溶出液の最後のほぼ45 %を採取)に付した。適当なフラクションを合し、濃縮して固形物とし、これを 塩化メチレ ン70mlおよび酢酸エチル50mlに溶解した。その混合物を50mlまで2 回濃縮し、各濃縮の後にシクロヘキサン(50ml)を添加した。沈殿物を真空 濾過によって採取し、シクロヘキサンで洗浄し、乾燥させて標題化合物を得た。 TLC(シリカゲル;酢酸エチル/シクロヘキサン60/40)Rf=0.37 ; NMR(CDCl3,300MHz)8.36,8.07,7.38-7.29,7.03,6.89,5.15 ,4.86-4.80,4.39,4.07,3.80,3.67および3.00δ; CMR(CDCl3,75MHz)43.85,46.34,50.45,67.20,69.17,69.57 ,107.64,113.88,119.34,124.63,127.85,128.05,128.49,129.26,132.67 ,136.48,136.57,140.75,150.95,153.29,155.14および155.40δ 実施例15 (S)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボ ベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メチ ルアミン(VII) 窒素下、40℃にて3−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N− 3−[3−フルオロ−4−(N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル)] −フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(VI、実施例5 、1.0099g、1.643ミリモル)、イソプロパノール(5.6ml)、アセト ニトリル(9.0ml)、ベンズアルデヒド(0.50ml、4.92ミリモル)およ びアンモニア水(29.8重量%、9.5ml、148.6ミリモル)を混合した 。その混合物を40℃にて21.5時間攪拌し、次いで減圧下にて濃縮した。ト ルエン(13.3ml)およびエタノール(6.0ml)を添加し、その混合物を 70℃浴中で温めた。次いで、クエン酸一水和物(2.433g、11.58ミリ モル)を3.5時間にわたって添加し、64℃にて相を分離させた。その有機相 を64℃の水(2.5ml)で洗浄した。合した水性層を64℃のトルエン(1 0ml)で洗浄した。次いで、トルエン(10ml)をその水溶液に添加し、混 合物を0℃に冷却した。その沈殿物を真空濾過によって採取し、0℃のトルエン (10ml)および0℃の水(10ml)で洗浄し、乾燥させて固形物とした。 この固形物の一部分(0.7301g)を水(10ml)および塩化メチレン( 10ml)中で スラリー化し、−4℃〜−2℃にて水酸化ナトリウム水溶液(50%、0.39 15g、4.90ミリモル)でpHを2.78から13.92に調整した。その混 合物を20−25℃まで温め、攪拌しつつ2.5時間超音波処理した。塩化メチ レン(55ml)、飽和塩化ナトリウム水溶液(5ml)および水(35ml)を 添加し、相を分離させた。その水性相を塩化メチレン(25ml)で2回洗浄し 、合した有機物を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、減圧下にて濃縮した。 トルエン(5ml)を添加し、続いてヘプタン(25ml)を徐々に添加した。 得られた沈殿物を真空濾過によって採取し、ヘプタン(20ml)で洗浄し、乾 燥させて標題化合物を得た。 TLC(シリカゲル;メタノール/クロロホルム 10/90)Rf=0.3 2;MS(EI),M/Z(相対強度)=428(28%,M+),252(15%),92(32%),91(100%) ; NMR(CDCl3,300MHz)7.46,7.38-7.27,7.12,6.90,5.16,4.69-4.60 ,3.98,3.80,3.67,3.09,3.00-2.92および1.30δ; CMR(CDCl3,75MHz)43.94,44.89,47.60,50.63,67.23,73.84 ,107.29,113.72,119.37,127.92,128.07,128.52,133.79,136.05,136.64 ,154.57,155.19および155.61δ 実施例16 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル ]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 4−ニトロベンゼンスルホ ン酸塩エステル(VI) 0℃の塩化メチレン(450ml)中の(R)−[N−3−[3−フルオロ−4 −モルホリニルフェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール(I II、実施例3、43.0g、145ミリモル)およびトリエチルアミン(36 g、355ミリモル)のスラリーに、塩化メチレン(55ml)中の塩化4−ニ トロベンゼンスルホニル(V、32g、145ミリモル)の混合物を添加した。 その混合物を0℃浴中にて30分間攪拌し、次いで塩酸(10%、200ml) でクエンチした。有機相を分離し、水性相を塩化メチレン(200ml)で再度 抽出した。次いで、合した有機抽出物を濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シ リカ ゲル、4cm×6”、40−63μ;メタノール/塩化メチレン 1−2/98 −99、約8L)に付した。適当なフラクションを合し、濃縮して標題化合物を 得た。 Rf=0.2; NMR(CDCl3,300MHz)8.73,8.54,8.23,7.82,7.33,7.04,6 .91,4.86,4.42,4.12,3.86および3.05δ; CMR(CDCl3,75MHz、部分的)46.42,50.89,66.87,69.09,69. 45,107.45,113.95,118.84,123.14,128.73,131.08,133.28および137.27δ 実施例17 (S)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル ]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メチルアミンサリチルアルデヒド イミ ン (R)−[N−3−(3−フルオロ−4−(4−モルホリニルフェニル)−2− オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 3−ニトロベンゼンスルホン酸エ ステル(VI、実施例16、20.608g、42.803ミリモル)、イソプロ パノール(149ml)、アセトニトリル(245ml)、サリチルアルデヒド(1 3.7ml、129ミリモル)およびアンモニア水(30%、257ml、4.0 2ミリモル)の混合物を40℃まで加熱し、39−42℃にて24時間攪拌した 。次いで、その混合物を−22℃まで冷却し、沈殿物を真空濾過によって採取し 、水(10ml)で洗浄し、乾燥させて標題化合物を得た。 TLC(シリカゲル;メタノール/クロロホルム 5/95)Rf=0.79 ; EIMS(m/z,相対強度)=399(M+,51),234(11),196(11),149(22),1 35(100),134(47); NMR(300MHz,CDCl3)8.44,7.41,7.33-6.87,4.96-4.88,4.1 2,3.94-3.84および3.04δ; CMR(CDCl3,75MHz)48.21,50.99,61.94,66.95,71.30,107.68 ,114.12,117.02,118.43,118.82,119.01,131.93,133.04,136.51,154.24 ,155.47,160.78および168.87δ 実施例18 (S)−N−[[3−(3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル )−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メチル]アセトアミド(VIII) (S)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル]−2−オキソ −5−オキサゾリジニル]メチルアミン サリチルアルデヒドイミン(実施例17 、1.0068g、2.521ミリモル)を水(10ml)および37%希塩酸(0. 417ml、5.04ミリモル)中にスラリー化し、20−25℃にて15時間 攪拌した。トルエン(10ml)を添加し、相を分離させ;次いで、その有機相 を塩酸(1M、5ml)中で洗浄し、合した有機相をトルエン(10ml)で洗 浄した。そのトルエン洗浄液を塩酸(1M、5ml)で再抽出した。次いで、合 した水性相を水酸化ナトリウム水溶液(50%、1.83g、22.9ミリモル) でpH13.0に調整した。次いで、得られたスラリーに塩化メチレン(10m l)および塩化ナトリウム(1g)を添加し、相を分離させた。次いで、その水 性相を塩化メチレン(10ml)で洗浄した。次いで、24−27℃に維持しつ つ、合した有機相に無水酢酸(0.472ml、5.00ミリモル)を添加した。 その混合物を40分間攪拌し、次いで水(5ml)を添加した。相を分離させ、 その水性相を塩化メチレン(5ml)で洗浄した。合した有機相を濃縮し、酢酸 エチル(25ml)を添加した。その混合物を70℃まで温め、次いで、得られ た混合物を徐々に−25℃まで冷却した。沈殿物を真空濾過によって採取し、− 25℃の酢酸エチル(5ml)で洗浄し、乾燥させて標題化合物を得た。 HPLC主要成分(254nm検出にて99.93面積%)保持時間=0.97 分、カラム=Zorbax RX−C8、250×4.6mm、移動相=アセトニトリル6 50ml、トリエチルアミン1.85ml、酢酸1.30mlおよび合計1000 mlの水;流速=3ml/分 実施例19 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボ ベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタ ノール(III) N−カルボベンゾキシ−3−フルオロ−4−(N−カルボベンゾキシピペラジ ニル)アニリン(II、2.014g、4.345ミリモル)およびTHF(10 ml)の混合物を−20℃まで冷却した。分液フラスコにて、−33℃のTHF (10ml)中のt−アミルアルコール(0.71ml、6.48ミリモル)の溶 液を、その混合物を−20℃未満に維持しつつヘプタン中のn−ブチルリチウム (13.65重量%、2.53g、5.38ミリモル)で処理した。次いで、得ら れたt−アミル酸リチウム塩溶液を、−20℃未満に維持しつつN−カルボベン ゾキシ−3−フルオロ−4−(N−カルボベンゾキシピペラジニル)アニリン混 合物に添加し、THF(4ml)で濯いだ。次いで、−28℃の得られた混合物 に、S−グリシドール(IV、0.3360g、4.536ミリモル)を添加した 。次いで、その混合物を−20℃にて1.5時間、次いで−16℃にて17時間 、−11℃にて4時間、次いで−1℃にて2時間攪拌した。次いで、HPLCア ッセイは、TLC(シリカゲル;メタノール/クロロホルム 10/90)Rf =0.60と同様に、主要成分が標題化合物と一致する保持時間を有することを 示した(254nm検出にて90.4面積%;保持時間=1.30分;カラム=Zorb ax RX−C8、250×4.6mm;移動相=アセトニトリル650ml)トリエチ ルアミン1.85ml)酢酸1.30mlおよび合計1000mlの水;流速=3 ml/分)。 実施例20 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル ]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 4−ニトロベンゼンスルホ ン酸エステル(VI) 塩化4−ニトロベンゼンスルホニルで出発する以外は重要でない変形を施し、 実施例16の一般的な方法に従って標題化合物を得た。 実施例21 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル ]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 2−ニトロベンゼンスルホ ン酸エステル(VI) 塩化2−ニトロベンゼンスルホニルで出発する以外は重要でない変形を施し、 実施例16の一般的な方法に従って標題化合物を得た。 実施例22 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル ]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 2,4−ジニトロベンゼン スルホン酸エステル(VI) 塩化2,4−ジニトロベンゼンスルホニルで出発する以外は重要でない変形を 施し、実施例16の一般的な方法に従って標題化合物を得た。 実施例23 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル ]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 4−クロロベンゼンスルホ ン酸エステル(VI) 塩化4−クロロベンゼンスルホニルで出発する以外は重要でない変形を施し、 実施例16の一般的な方法に従って標題化合物を得た。 実施例24 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル ]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 2,5−ジクロロベンゼン スルホン酸エステル(VI) 塩化2,5−ジクロロベンゼンスルホニルで出発する以外は重要でない変形を 施し、実施例16の一般的な方法に従って標題化合物を得た。チャートA または チャートB C*H2−C*H−CH2−OH (IV) (ここに、*で印を付した炭素原子は、各々、同一酸素原子(−O−)に結合し て3員環またはエポキシドを形成する) または チャートC チャートD
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU ,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH, CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,G B,GE,GH,HU,IL,IS,JP,KE,KG ,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT, LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,N O,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG ,SI,SK,TJ,TM,TR,TT,UA,UG, US,UZ,VN,YU (72)発明者 バーバチン,マイケル・アール アメリカ合衆国49001ミシガン州カラマズ ー、マイルズ・アベニュー1216番 (72)発明者 マニネン,ピーター・アール アメリカ合衆国49002ミシガン州ポーテイ ジ、エディントン・アベニュー1328番 (72)発明者 トゥープス,ダナ・エス アメリカ合衆国49002ミシガン州カラマズ ー、ボルフォー・ドライブ7123番 (72)発明者 ハウザー,デイビッド・ジェイ アメリカ合衆国49002ミシガン州ポーテイ ジ、ロイ・ストリート10121番 (72)発明者 フレック,トーマス・ジェイ アメリカ合衆国49088ミシガン州スコッツ、 サウス・トゥエンティナインス・ストリー ト6171番

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.リチウムカチオン、およびその共役酸が約8を超えるpKaを有する塩基 の存在下にて、 (a)式(I): M1−CH2−CH(OH)−CH2−OH (I) (式中、M1は−Cl、−Brまたは−O−SO2−φ−CH3である) で示される(S)−,(R)−ジヒドロキシ化合物もしくはそれらのいずれかの混合 物、および (b)式(IV): C*H2−C*H−CH2−OH (IV) (式中、*で印を付した炭素原子は、各々、同一酸素原子(−O−)に結合して 3員環を形成する) で示される(S)−,(R)−グリシドールもしくはそれらのいずれかの混合物より なる群から選択されるヒドロキシ化合物と、式(IIA): R1−NH−CO−O−M2 (IIA) で示されるカルバマート、または式(IIB): R1−NH−CO−CF3 (IIB) (式中、−O−M2はその酸が約8〜約24のpKaを有する塩基であって、R1 は後記定義に同じ) で示されるトリフルオロアセトアミドとを接触させることを特徴とする、 式(III): [式中、R1であり; ここに、X1は−Hまたは−Fであり; X2は−Hまたは−Fであり; Q1は: a) b) c) d) f) g) h) i) j) k) または m) であり; Q1およびX2は一緒になって:となり; ここに、Z1は: a)−CH2−、 b)−CH(R4)−CH2−、 c)−C(O)−、または d)−CH2CH2CH2−であり; Z2は: a)−O2S−、 b)−O−、 c)−N(R7)−、 d)−OS−、または e)−S−であり; Z3は: a)−O2S−、 b)−O−、 c)−OS−、または d)−S−であり; A1は: a)H−、または b)CH3であり; A2は: a)H−、 b)HO−、 c)CH3−、 d)CH3O−、 e)R2O−CH2−C(O)−NH−、 f)R3O−C(O)−NH−、 g)(C1−C2)アルキル−O−C(O)−、 h)HO−CH2−、 i)CH3O−NH−、 j)(C1−C3)アルキル−O2C−、 k)CH3−C(O)−、 l)CH3−C(O)−CH2−、 m) または n) であり; A1およびA2は一緒になって: a) b)O= c) となり; R1は: a)−CHO) b)−COCH3、 c)−COCHCl2、 d)−COCHF2、 e)−CO2CH3、 f)−SO2CH3、または g)−COCH2OHであり; R2は: a)H−、 b)CH3−、 c)フェニル−CH2−、または d)CH3C(O)−であり; R3は: a)(C1−C3)アルキル−、または b)フェニル−であり; R4は: a)H−、または b)HO−であり; R5は: a)H−、 b)(C1−C3)アルキル−、 c)CH2=CH−CH2−、または d)CH3−O−(CH2)2−であり; R6は: a)CH3−C(O)−、 b)H−C(O)−、 c)Cl2CH−C(O)−、 d)HOCH2−C(O)−、 e)CH3SO2−、 f) g)F2CHC(O)−、 h) i)H3C−C(O)−O−CH2−C(O)−、 j)H−C(O)−O−CH2−C(O)−、 k) l)HC≡CH−CH2O−CH2−C(O)−、または m)フェニル−CH2−O−CH2−C(O)−であり; R7は: a)R2O−C(R10)(R11)−C(O)−、 b)R3O−C(O)−、 c)R8−C(O)−、 d) e) f)H3C−C(O)−(CH2)2−C(O)−、 g)R9−SO2−、 h) i)HO−CH2−C(O)−、 j)R16−(CH2)2−、 k)R13−C(O)−O−CH2−C(O)−、 l)(CH3)2N−CH2−C(O)−NH−、 m)NC−CH2−、または n)F2−CH−CH2−であり; R8は: a)H−、 b)(C1−C4)アルキル、 c)アリール−(CH2)p、 d)ClH2C−、 e)Cl2HC−、 f)FH2C−、 g)F2HC−、または h)(C3−C6)シクロアルキルであり; R9は: a)−CH3、 b)−CH2Cl、 c)−CH2CH=CH2、 d)アリール、または e)−CH2CNであり; R10はH−またはCH3−であり; R11はH−またはCH3−であり; R12は: a)H−、 b)CH3O−CH2O−CH2−、または c)HOCH2−であり; R13は: a)CH3−、 b)HOCH2−、 c)(CH3)2N−フェニル、または d)(CH3)2N−CH2−であり; R14は: a)HO−、 b)CH3O−、 c)H2N−、 d)CH3O−C(O)−O−、 e)CH3−C(O)−O−CH2−C(O)−O−、 f)フェニル−CH2−O−CH2−C(O)−O−、 g)HO−(CH2)2−O−、 h)CH3O−CH2−O−(CH2)2−O−、または i)CH3O−CH2−O−であり; R15は: a)H−、または b)Cl−であり; R16は: a)HO−、 b)CH3O−、または c)Fであり; mは0または1であり; nは1〜3であり; pは0または1であり; アリールは、非置換の、または1個の以下の基: a)−F、 b)−Cl、 c)−OCH3、 d)−OH、 e)−NH2、 f)−(C1−C4)アルキル、 g)−O−C(O)−OCH3、または h)−NO2およびそれらの保護形で置換されたフェニルである] で示される5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンの製法。 2.ヒドロキシ化合物が式(I)で示されるジヒドロキシ化合物である請求項 1記載の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 3.ジヒドロキシ化合物(I)が(S)−エナンチオマーである請求項2記載 の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 4.M1が−Clである請求項1記載の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリ ジノン(III)の製法。 5.ジヒドロキシ化合物(I)が(S)−(+)−3−クロロ−1,2−プロ パンジオールである請求項4記載の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン (III)の製法。 6.ジヒドロキシ化合物(I)を、カルバマート(IIA)またはトリフルオ ロアセトアミド(IIB)と接触させる前に、環化剤と接触させる請求項1記載 の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 7.環化剤が、その酸が約7を超えるpKaを有する塩基である請求項6記載 の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 8.環化剤が、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシドもしくはリチウム ブトキシド、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウム、炭酸カリウム、DBU 、またはアミル酸(amylate)リチウム塩、アミル酸ナトリウム塩もしくはアミル 酸カリウム塩である請求項7記載の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン (III)の製法。 9.ヒドロキシ化合物がグリシドール(IV)である請求項1記載の5−ヒド ロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 10.グリシドール(IV)が(S)−エナンチオマーである請求項9記載の 5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 11.M2が、 C1−C20アルキル、 C3−C7シクロアルキル、 所望により、1または2個の: C1−C3アルキル、 F−、Cl−、Br−、I−で置換されていてもよいφ−、 CH2=CH−CH2−、 CH3−CH=CH−CH2−、 (CH3)2C=CH−CH2−、 CH2=CH−、 φ−CH=CH−CH2−、 所望により、φ−上で1または2個の−Cl、C1−C4アルキル、−NO2、 −CN、または−CF3で置換されていてもよいφ−CH2−、 9−フルオレニルメチル、 (Cl)3C−CH2−、 2−トリメチルシリルエチル、 φ−CH2−CH2−、 1−アダマンチル、 (φ)2CH−、 CH≡C−C(CH3)2−、 2−フラニルメチル、および イソボルニルよりなる群から選択される請求項1記載の5−ヒドロキシメチル 置換オキサゾリジノン(III)の製法。 12.M2がC1−C4アルキルまたはベンジルである請求項11記載の5−ヒ ドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 13.R1が1個の−Fおよび1個の置換アミノ基で置換されたフェニルであ る請求項1記載の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法 。 14.R1が: 3−フルオロ−4−[4−(ベンジルオキシカルボニル)−1−ピペラジニル] フェニル、または 3−フルオロ−4−(4−モルホリニル)フェニルである請求項13記載の5 −ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 15.塩基が、 1〜7個の炭素原子よりなるアルコキシ化合物、 炭酸塩、 メチル,sec-ブチルおよびt−ブチルカルボアニオン、 アルキル基が1〜4個の炭素原子よりなるトリ(アルキル)アミン、 カルバマート(II)の共役塩基、 DBU、 DBN、 N−メチル−ピペリジン、 N−メチルモルホリン、 2,2,2−トリクロロエトキシド、および Cl3C−CH2−O-よりなる群から選択される請求項1記載の5−ヒドロキ シメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 16.塩基が4または5個の炭素原子よりなるアルコキシである請求項15記 載の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 17.R1の保護形が、 C1−C5アルキル、 φ−CH2−、 CH3−O−CH2−、 CH3−、 S−CH2−、 φ−CH2−O−CH2−、 テトラヒドロピラニル、 CH3CH(−O−C25)−、 p−メトキシベンジル、 p−メトキシフェニル、 p−ニトロベンジル、 (φ)3C−、 (CH3)3Si−、 [CH3−CH(CH3)]3Si−、および φ(CH3)2Si−よりなる群から選択されるアルコール保護基である請求項1 記載の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 18.R1の保護形が、 (I)C1−C4アルキル、 (II)φ−CH2−、 (III)(φ)3C−、 (IV)Ra−CO−(ここに、Raは(A)H−、(B)C1−C4アルキル、(C) C5−C7シクロアルキル、(D)(C1−C5アルキル)−O−、(E)Cl3C−CH2 −O−、(F)H2C=CH−CH2−O−、(G)φ−CH=CH−CH2−O−、 (H)φ−CH2−O−、(I)p−メトキシフェニル−CH2−O−、(J)p−ニト ロフェニル−CH2−O−、(K)φ−O−、(L)CH3−CO−CH2−、または( M)(CH3)3Si−O−である)、および (V)Rb−SO2−(ここに、Rbは(A)(C1アルキル)−、(B)φ−、(C)p −メチルフェニル−、または(D)φ−CH2−である)よりなる群から選択され るアミノ保護基である請求項1記載の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノ ン(III)の製法。 19.R1のアミノ保護形がベンジルオキシカルボニルである請求項18記載 の5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノン(III)の製法。 20.(1)式(III): (III) (式中、R1は後記定義に同じ) で示される5−ヒドロキシメチル置換オキサゾリジノンアルコールと、 式(Va−Vd): M3−SO2−C6n3(NO2n1Cln2 (Va) O[−SO2−C6n3(NO2n1Cln2]2 (Vb) O(SO2−F)2 (Vc)、および O(SO2−CF3)2 (Vd) (ここに、n1は0、1または2であり; n2は0〜4であり、但し、 n1が0である場合、n2は2、3または4であり、 n1が1である場合、n2は0または1であって、 n1が2である場合、n2は0であり; n3は5−(n1n2)であり; M3はCl−またはBr−である) で示される化合物よりなる群から選択されるスルホニル化剤とを接触させて、 式(VIa−VId): で示される対応するオキサゾリジノンスルホナートを生成し;次いで、 (2)約30psig未満の圧にて、該オキサゾリジノンスルホナート(VIa− VId)とアンモニアとを接触させることを特徴とする、 式(VII): [式中、R1であり; ここに、X1は−Hまたは−Fであり; X2は−Hまたは−Fであり; Q1は: a) b) c) d) f) g) h) i) j) k) または m) であり; Q1およびX2は一緒になって: となり; ここに、Z1は: a)−CH2−、 b)−CH(R4)−CH2−、 c)−C(O)−、または d)−CH2CH2CH2−であり; Z2は: a)−O2S−、 b)−O−、 c)−N(R7)−、 d)−OS−、または e)−S−であり; Z3は: a)−O2S−、 b)−O−、 c)−OS−、または d)−S−であり; A1は: a)H−、または b)CH3であり; A2は: a)H−、 b)HO−、 c)CH3−、 d)CH3O−、 e)R2O−CH2−C(O)−NH−、 f)R3O−C(O)−NH−、 g)(C1−C2)アルキル−O−C(O)−、 h)HO−CH2−、 i)CH3O−NH−、 j)(C1−C3)アルキル−O2C−、 k)CH3−C(O)−、 l)CH3−C(O)−CH2−、 m) または n) であり; A1およびA2は一緒になって: a) b)O= c) となり; R1は: a)−CHO、 b)−COCH3、 c)−COCHCl2、 d)−COCHF2、 e)−CO2CH3、 f)−SO2CH3、または g)−COCH2OHであり; R2は: a)H−、 b)CH3−、 c)フェニル−CH2−、または d)CH3C(O)−であり; R3は: a)(C1−C3)アルキル−、または b)フェニル−であり; R4は: a)H−、または b)HO−であり; R5は: a)H−、 b)(C1−C3)アルキル−、 c)CH2=CH−CH2−、または d)CH3−O−(CH2)2−であり; R6は: a)CH3−C(O)−、 b)H−C(O)−、 c)Cl2CH−C(O)−、 d)HOCH2−C(O)−、 e)CH3SO2−、 f) g)F2CHC(O)−、 h) i)H3C−C(O)−O−CH2−5(O)−、 j)H−C(O)−O−CH2−C(O)−、 k) l)HC≡CH−CH2O−CH2−C(O)−、または m)フェニル−CH2−O−CH2−C(O)−であり; R7は: a)R2O−C(R10)(R11)−C(O)−、 b)R3O−C(O)−、 c)R8−C(O)−、 d) e) f)H3C−C(O)−(CH2)2−C(O)−、 g)R9−SO2−、 h) i)HO−CH2−C(O)−、 j)R16−(CH2)2−、 k)R13−C(O)−O−CH2−C(O)−、 l)(CH3)2N−CH2−C(O)−NH−、 m)NC−CH2−、または n)F2−CH−CH2−であり; R8は: a)H−、 b)(C1−C4)アルキル、 c)アリール−(CH2)p、 d)ClH2C−、 e)Cl2HC−、 f)FH2C−、 g)F2HC−、または h)(C3−C6)シクロアルキルであり; R9は: a)−CH3、 b)−CH2Cl、 c)−CH2CH=CH2、 d)アリール、または e)−CH2CNであり; R10はH−またはCH3−であり; R11はH−またはCH3−であり; R12は: a)H−、 b)CH3O−CH2O−CH2−、または c)HOCH2−であり; R13は: a)CH3−、 b)HOCH2−、 c)(CH3)2N−フェニル、または d)(CH3)2N−CH2−であり; R14は: a)HO−、 b)CH3O−、 c)H2N−、 d)CH3O−C(O)−O−、 e)CH3−C(O)−O−CH2−C(O)−O−、 f)フェニル−CH2−O−CH2−C(O)−O−、 g)HO−(CH2)2−O−、 h)CH3O−CH2−O−(CH2)2−O−、または i)CH3O−CH2−O−であり; R15は: a)H−、または b)Cl−であり; R16は: a)HO−、 b)CH3O−、または c)Fであり; mは0または1であり; nは1〜3であり; pは0または1であり; アリールは、非置換の、または1個の以下の基: a)−F、 b)−Cl、 c)−OCH3、 d)−OH、 e)−NH2、 f)−(C1−C4)アルキル、 g)−O−C(O)−OCH3、または h)−NO2およびそれらの保護形で置換されたフェニルである] で示される5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミンの製法。 21.スルホニル化剤(V)が、2−ニトロベンゼンスルホナート、3−ニトロ ベンゼンスルホナート、4−ニトロベンゼンスルホナート、2,4−ジニトロベ ンゼンスルホナートおよび2,5−ジクロロベンゼンスルホナートよりなる群か ら選択される請求項20記載の5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン( VII)の製法。 22.スルホニル化剤(V)が3−ニトロベンゼンスルホナートである請求項 21記載の5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 23.工程(2)を約0〜約20psigで行う請求項20記載の5−アミノメチ ル置換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 24.工程(2)を約0〜約5psigで行う請求項23記載の5−アミノメチル 置換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 25.工程(2)を約60℃以下で行う請求項20記載の5−アミノメチル置 換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 26.R1が1個の−Fおよび1個の置換アミノ基で置換されたフェニルであ る請求項20記載の5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)の 製法。 27.R1が、 3−フルオロ−4−[4−(ベンジロキシカルボニル)−1−ピペラジニル]フェ ニル、または 3−フルオロ−4−(4−モルホリニル)フェニルである請求項26記載の5− アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 28.工程(2)をアルデヒド不存在下にて行う請求項20記載の5−アミノ メチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 29.アルデヒドがAr−CHO(ここにAr−は、所望によりF−、C1− 、Br−、C1−C5アルキル、HO−、O2N−、CH3−O−、またはC25− O−で置換されていてもよいフェニルである)である請求項28記載の5−アミ ノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 30.アルデヒドがサリチルアルデヒドである請求項28記載の5−アミノメ チル置換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 31.M3がCl−である請求項20記載の5−アミノメチル置換オキサゾリ ジノンアミン(VII)の製法。 32.工程(2)を大気圧にて行う請求項20記載の5−アミノメチル置換オ キサゾリジノンアミン(VII)の製法。 33.接触を水存在下にて行う請求項20記載の5−アミノメチル置換オキサ ゾリジノンアミン(VII)の製法。 34.スルホニル化剤がM3−SO2−C6n3(NO2)n1cln2(Va)である請 求項20記載の5−アミノメチル置換オキサゾリジノンアミン(VII)の製法。 35.式(VIaまたはVIb): [式中、R1であり; ここに、X1は−Hまたは−Fであり; X2は−Hまたは−Fであり; Q1は: a) b) c) d) f)g) h) i) j) k) または m) であり; Q1およびX2は一緒になって:となり; ここに、Z1は: a)−CH2−、 b)−CH(R4)−CH2−、 c)−C(O)−、または d)−CH2CH2CH2−であり; Z2は: a)−O2S−、 b)−O−、 c)−N(R7)−、 d)−OS−、または e)−S−であり; Z3は: a)−O2S−、 b)−O−、 c)−OS−、または d)−S−であり; A1は: a)H−、または b)CH3であり; A2は: a)H−、 b)HO−、 c)CH3−、 d)CH3O−、 e)R2O−CH2−C(O)−NH−、 f)R3O−C(O)−NH−、 g)(C1−C2)アルキル−O−C(O)−、 h)HO−CH2−、 i)CH3O−NH−、 j)(C1−C3)アルキル−O2C−、 k)CH3−C(O)−、 l)CH3−C(O)−CH2−、 m) または n) であり; A1およびA2は一緒になって: a) b)O= c)となり; R1は: a)−CHO、 b)−COCH3、 c)−COCHCl2、 d)−COCHF2、 e)−CO2CH3、 f)−SO2CH3、または g)−COCH2OHであり; R2は: a)H−、 b)CH3−、 c)フェニル−CH2−、または d)CH3C(O)−であり; R3は: a)(C1−C3)アルキル−、または b)フェニル−であり; R4は: a)H−、または b)HO−であり; R5は: a)H−、 b)(C1−C3)アルキル−、 c)CH2=CH−CH2−、または d)CH3−O−(CH2)2−であり; R6は: a)CH3−C(O)−、 b)H−C(O)−、 c)Cl2CH−C(O)−、 d)HOCH2−C(O)−、 e)CH3SO2−、 f) g)F2CHC(O)−、 h) i)H3C−C(O)−O−CH2−C(O)−、 j)H−C(O)−O−CH2−C(O)−、 k) l)HC≡CH−CH2O−CH2−C(O)−、または m)フェニル−CH2−O−CH2−C(O)−であり; R7は: a)R2O−C(R10)(R11)−C(O)−、 b)R3O−C(O)−、 c)R8−C(O)−、 d) e) f)H3C−C(O)−(CH2)2−C(O)−、 g)R9−SO2−、 h) i)HO−CH2−C(O)−、 j)R16−(CH2)2−、 k)R13−C(O)−O−CH2−C(O)−、 l)(CH3)2N−CH2−C(O)−NH−、 m)NC−CH2−、または n)F2−CH−CH2−であり; R8は: a)H−、 b)(C1−C4)アルキル、 c)アリール−(CH2)p、 d)ClH2C−、 e)Cl2HC−、 f)FH2C−、 g)F2HC−、または h)(C3−C6)シクロアルキルであり; R9は: a)−CH3、 b)−CH2Cl、 c)−CH2CH=CH2、 d)アリール、または e)−CH2CNであり; R10はH−またはCH3−であり; R11はH−またはCH3−であり; R12は: a)H−、 b)CH3O−CH2O−CH2−、または c)HOCH2−であり; R13は: a)CH3−、 b)HOCH2−、 c)(CH3)2N−フェニル、または d)(CH3)2N−CH2−であり; R14は: a)HO−、 b)CH3O−、 c)H2N−、 d)CH3O−C(O)−O−、 e)CH3−C(O)−O−CH2−C(O)−O−、 f)フェニル−CH2−O−CH2−C(O)−O−、 g)HO−(CH2)2−O−、 h)CH3O−CH2−O−(CH2)2−O−、または i)CH3O−CH2−O−であり; R15は: a)H−、または b)Cl−であり; R16は: a)HO−、 b)CH3O−または c)Fであり; mは0または1であり; nは1〜3であり; pは0または1であり; アリールは、非置換の、または1個の以下の基: a)−F、 b)−Cl、 c)−OCH3、 d)−OH、 e)−NH2、 f)−(C1−C4)アルキル、 g)−O−C(O)−OCH3、または h)−NO2およびそれらの保護形で置換されたフェニルであり; n1は0、1または2であり; n2は0〜4であり、但し、 n1が0である場合、n2は2、3または4であり、 n1が1である場合、n2は0または1であって、 n1が2である場合、n2は0であり; n3は5−(n1n2)である] で示されるオキサゾリジノンスルホナート。 36.3−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3−フル オロ−4−(N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]−フェニル]−2 −オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール、 2−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3−フルオロ− 4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ− 5−オキサゾリジニル]メタノール、 2,4−ジニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3−フル オロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オ キソ−5−オキサゾリジニル]メタノール、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピ ペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 4− クロロベンゼンスルホン酸エステル、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピ ペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 2,5 −ジクロロベンゼンスルホン酸エステル、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピ ペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 4− ニトロベンゼンスルホン酸エステル、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル]−2−オキソ −5−オキサゾリジニル]メタノール 3−ニトロベンゼンスルホン酸エステル 、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル]−2−オキソ −5−オキサゾリジニル]メタノール 4−ニトロベンゼンスルホン酸エステル 、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル]−2−オキソ −5−オキサゾリジニル]メタノール 2−ニトロベンゼンスルホン酸エステル 、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル]−2−オキソ −5−オキサゾリジニル]メタノール 2,4−ジニトロベンゼンスルホン酸エス テル、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル]−2−オキソ −5−オキサゾリジニル]メタノール 4−クロロベンゼンスルホン酸エステル 、 または (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル]−2−オキソ −5−オキサゾリジニル]メタノール 2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸エス テルである請求項35記載のオキサゾリジノンスルホナート(VIaまたはVI b)。 37.3−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3−フル オロ−4−(N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]−フェニル]−2 −オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール、 2−ニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3−フルオロ− 4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ− 5−オキサゾリジニル]メタノール、 2,4−ジニトロベンゼンスルホン酸エステル (R)−[N−3−[3−フル オ ロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピペラジニル]フェニル]−2−オキ ソ−5−オキサゾリジニル]メタノール、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ) ピペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 4 −クロロベンゼンスルホン酸エステル、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピ ペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 2,5 −ジクロロベンゼンスルホン酸エステル、 (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−[N−1−(4−カルボベンゾキシ)ピ ペラジニル]フェニル]−2−オキソ−5−オキサゾリジニル]メタノール 4− ニトロベンゼンスルホン酸エステル、または (R)−[N−3−[3−フルオロ−4−モルホリニルフェニル]−2−オキソ −5−オキサゾリジニル]メタノール 3−ニトロベンゼンスルホン酸エステル である請求項36記載のオキサゾリジノンスルホナート(VIaまたはVIb) 。
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Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9601666D0 (en) * 1996-01-27 1996-03-27 Zeneca Ltd Chemical compounds
GB9702213D0 (en) 1996-02-24 1997-03-26 Zeneca Ltd Chemical compounds
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PL345162A1 (en) 1998-06-05 2001-12-03 Astrazeneca Ab Oxazolidinone derivatives, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them
US6403804B1 (en) * 1998-12-07 2002-06-11 Takasago International Corporation Process for preparing optically active oxazolidinone derivative
US6239283B1 (en) 1999-02-01 2001-05-29 Pharmacia & Upjohn Company Process to prepare cyclic-sulfur fluorine containing oxazolidinones
US6608081B2 (en) 1999-08-12 2003-08-19 Ortho-Mcneil Pharmaceutical, Inc. Bicyclic heterocyclic substituted phenyl oxazolidinone antibacterials, and related compositions and methods
US6413981B1 (en) 1999-08-12 2002-07-02 Ortho-Mcneil Pharamceutical, Inc. Bicyclic heterocyclic substituted phenyl oxazolidinone antibacterials, and related compositions and methods
US6297242B1 (en) 1999-08-12 2001-10-02 Ortho-Mcneil Pharmaceutical, Inc. N-substituted amidine and guanidine oxazolidinone antibacterials and methods of use thereof
GB9928568D0 (en) 1999-12-03 2000-02-02 Zeneca Ltd Chemical compounds
US6518285B2 (en) 1999-12-21 2003-02-11 Ortho Mcneil Pharmaceutical, Inc. Piperidinyloxy and pyrrolidinyloxy oxazolidinone antibacterials
AR027261A1 (es) * 2000-02-02 2003-03-19 Upjohn Co Linezolid forma cristalina ii
US6444813B2 (en) 2000-02-02 2002-09-03 Pharmacia & Upjohn Company Linezolid-crystal form II
US6514529B2 (en) 2000-03-22 2003-02-04 Pharmacia & Upjohn Company Oxazolidinone tablet formulation
MY127336A (en) * 2000-03-22 2006-11-30 Upjohn Co Container for linezolid iv solution
GB0009803D0 (en) * 2000-04-25 2000-06-07 Astrazeneca Ab Chemical compounds
US6544991B2 (en) 2000-06-30 2003-04-08 Pharmacia & Upjohn Company Compositions and methods for treating bacterial infections
PE20020300A1 (es) * 2000-08-22 2002-05-10 Pharmacia Corp Composicion de solucion de un farmaco antibiotico a base de oxazolidinona con mejoramiento de la carga de farmaco
US6288239B1 (en) 2000-09-19 2001-09-11 Board Of Trustees Operating Michigan State University 5-trityloxymethyl-oxazolidinones and process for the preparation thereof
AR031135A1 (es) 2000-10-10 2003-09-10 Upjohn Co Composiciones de antibiotico topico para el tratamiento de infecciones oculares
EP1385844B1 (en) * 2001-04-07 2006-07-05 Astrazeneca AB Oxazolidinones containing a sulfonimid group as antibiotics
ATE374463T1 (de) 2001-04-20 2007-10-15 Pharmacia & Upjohn Co Llc Verfahren zur herstellung von oxazolidinonen
ES2186550B2 (es) * 2001-06-27 2003-11-16 Vita Lab Nuevos derivados de oxazolidinonas como antibacterianos.
US7390825B1 (en) * 2001-10-18 2008-06-24 Board Of Trustees Of Michigan State University Process for the preparation of oxazolidinones and method of use thereof
US7128928B2 (en) * 2002-02-22 2006-10-31 Pharmacia Corporation Ophthalmic formulation with novel gum composition
EP1478404A1 (en) * 2002-02-22 2004-11-24 Pharmacia Corporation Ophthalmic antibiotic drug formulations containing a cyclodextrin compound and cetyl pyridinium chloride
ES2331001T3 (es) 2003-10-16 2009-12-18 Symed Labs Limited Forma cristalina de linezolid.
EP1737850B1 (en) * 2004-04-19 2007-10-03 Symed Labs Limited A novel process for the preparation of linezolid and related compounds
ES2325401T3 (es) * 2004-07-20 2009-09-03 Symed Labs Limited Intermedios novedosos para linezolid y compuestos relacionados.
BRPI0710312A2 (pt) * 2006-04-07 2011-08-09 Pfizer Prod Inc processo para preparar linezolida
CN100395270C (zh) * 2006-05-25 2008-06-18 湖北大学 线型聚苯乙烯支载的(4s)-5,5-二取代基噁唑烷酮及其制备方法和用途
EP2033960A3 (en) * 2007-09-04 2009-04-29 Dipharma Francis S.r.l. Linezolid crystalline hydrate form and linezolid salts
US20090093631A1 (en) * 2007-09-06 2009-04-09 Ben-Zion Dolitzky Processes for the preparation of a linezolid intermediate, linezolid hydroxide
EP2163547A1 (en) 2008-09-16 2010-03-17 Unión Químico Farmacéutica, S.A. (UQUIFA) Process for the preparation of an oxazolidinone antibacterial agent and intermediates thereof
JP5561462B2 (ja) * 2009-09-17 2014-07-30 日東化成株式会社 漁網防汚塗料組成物、該組成物を用いて形成される防汚塗膜、該塗膜の形成方法、および該塗膜を表面に有する漁網、漁網用具又は水中構造物
EP2516408A1 (en) * 2009-12-26 2012-10-31 Alembic Pharmaceuticals Limited Process for the preparation of linezolid
WO2011080341A1 (en) 2010-01-04 2011-07-07 Enantia, S.L. Process for the preparation of rivaroxaban and intermediates thereof
EP2690100A1 (en) 2010-08-11 2014-01-29 Synhton B.V. Process for making linezolid
WO2012019632A1 (en) 2010-08-11 2012-02-16 Synthon B.V. Process for making linezolid
CN103391943A (zh) 2010-11-03 2013-11-13 沃克哈特有限公司 磷酸单-(1-{4-[(s)-5-(乙酰基氨基-甲基)-2-氧代-噁唑烷-3-基]-2,6-二氟苯基}-4-甲氧基甲基-哌啶-4-基)酯的制备方法
WO2012094622A2 (en) * 2011-01-07 2012-07-12 The Regents Of The University Of California Amination of aryl alcohol derivatives
CN102153521B (zh) * 2011-01-31 2012-09-12 宁波市鄞州百特佳医药科技有限公司 一种用于制备利奈唑胺的中间体及其制备方法
CN103402990A (zh) 2011-02-24 2013-11-20 李药业有限公司 无水利奈唑胺晶型-ii
CN103391927A (zh) * 2011-02-24 2013-11-13 李药业有限公司 利奈唑胺及其新中间体的新制备方法
CN102311402B (zh) * 2011-07-18 2013-08-21 苏州敬业医药化工有限公司 3-取代苯基-5-羟甲基噁唑烷-2-酮的制备方法
CN102321042B (zh) * 2011-07-18 2013-12-04 苏州敬业医药化工有限公司 3-取代苯基-5-羟甲基噁唑烷-2-酮的制备方法
WO2013072923A1 (en) 2011-09-19 2013-05-23 Cadila Healthcare Limited Process for the preparation of crystalline linezolid
IN2014DN06213A (ja) 2012-01-24 2015-10-23 Jubilant Life Sciences Ltd
CN103626712B (zh) * 2012-08-23 2016-06-01 重庆药友制药有限责任公司 一种用于制备利奈唑胺的中间体及其制备方法
ES2603252T3 (es) 2012-11-09 2017-02-24 Synthon Bv Proceso para preparar linezolid
WO2015173664A1 (en) 2014-05-14 2015-11-19 Wockhardt Limited Process for the preparation of (5s)-n-{3-[3,5-difluoro-4-(4-hydroxy-4-methoxymethyl-piperidin-1-yl)-phenyl]-2-oxo-oxazolidin-5-ylmethyl}-acetamide

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA681830A (en) * 1964-03-10 X. Markley Francis Process for 5-(aryloxymethyl)-2-oxazolidinones
US3547951A (en) * 1969-06-17 1970-12-15 Waldo R Hardie 1,3-dioxolan-4-yl-alkyl guanidines
US4062862A (en) * 1975-07-04 1977-12-13 Nippon Chemiphar Co., Ltd. 5-Benzyl-2-oxazolidone derivatives and a process for producing the same
FR2356422A1 (fr) * 1976-03-01 1978-01-27 Delalande Sa Nouveaux hydroxymethyl-5 oxazolidinone-2, leur procede de preparation et leur application en therapeutique
LU80081A1 (fr) * 1977-08-26 1979-05-15 Delalande Sa Nouvelles hydroxymethyl-5 oxazolidinones-2,leur procede de preparation et leur application therapeutique
JPS6014032B2 (ja) * 1978-01-20 1985-04-11 日本ケミフア株式会社東京 5‐フエネチル‐2‐オキサゾリドン誘導体およびその製法
US4340606A (en) * 1980-10-23 1982-07-20 E. I. Du Pont De Nemours And Company 3-(p-Alkylsulfonylphenyl)oxazolidinone derivatives as antibacterial agents
FR2500450A1 (fr) * 1981-02-25 1982-08-27 Delalande Sa Nouveaux derives aminomethyl-5 oxazolidiniques, leur procede de preparation et leur application en therapeutique
US4461773A (en) * 1982-09-15 1984-07-24 E. I. Dupont De Nemours And Company P-Oxooxazolidinylbenzene compounds as antibacterial agents
US4948801A (en) * 1988-07-29 1990-08-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aminomethyloxooxazolidinyl arylbenzene derivatives useful as antibacterial agents
US5225565A (en) * 1988-09-15 1993-07-06 The Upjohn Company Antibacterial 3-(fused-ring substituted)phenyl-5β-amidomethyloxazolidin-2-ones
US5182403A (en) * 1988-09-15 1993-01-26 The Upjohn Company Substituted 3(5'indazolyl) oxazolidin-2-ones
US5164510A (en) * 1988-09-15 1992-11-17 The Upjohn Company 5'Indolinyl-5β-amidomethyloxazolidin-2-ones
US5231188A (en) * 1989-11-17 1993-07-27 The Upjohn Company Tricyclic [6.5.51]-fused oxazolidinone antibacterial agents
JP2908510B2 (ja) * 1990-04-20 1999-06-21 イハラケミカル工業株式会社 ベンジルアミン類の製造方法
EP0530812B1 (en) * 1991-09-05 1996-05-22 Nippon Paint Co., Ltd. Thermosetting resinous composition containing polyfunctional oxazolidinone component and polyamine component
AU667198B2 (en) * 1991-11-01 1996-03-14 Pharmacia & Upjohn Company Substituted aryl- and heteroarylphenyloxazolidinones useful as antibacterial agents
SK283420B6 (sk) * 1992-05-08 2003-07-01 Pharmacia & Upjohn Company Antimikrobiálne oxazolidinóny obsahujúce substituované diazínové skupiny
MY115155A (en) * 1993-09-09 2003-04-30 Upjohn Co Substituted oxazine and thiazine oxazolidinone antimicrobials.
JPH0873455A (ja) * 1994-03-15 1996-03-19 Upjohn Co:The オキサゾリジノン誘導体及びこれを有効成分とする医薬組成物
WO1996013502A1 (en) * 1994-10-26 1996-05-09 Pharmacia & Upjohn Company Phenyloxazolidinone antimicrobials
AU702733B2 (en) * 1994-11-15 1999-03-04 Pharmacia & Upjohn Company Bicyclic oxazine and thiazine oxazolidinone antibacterials
JPH11506430A (ja) * 1995-05-11 1999-06-08 ファルマシア・アンド・アップジョン・カンパニー スピロ環式および二環式ジアジニル−およびカルバジニル−オキサゾリジノン

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