JP2000506892A - ヘルペスウイルス感染症を治療するための求電子性ケトン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ウイルス感染症の治療に用いることができる化合物類を述べる。特に重要な化合物は式ＩＩ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³の各々は独立的にヒドリド、ハロ及びニトロから選択される；Ｒ⁸はハロアルキル、任意に置換されるアリール、任意に置換されるアラルキル、任意に置換されるヘテロアリール、任意に置換されるアリールアルコキシ及び任意に置換されるアリールオキシアルキルから選択される；Ｙはフルオロアルキル及び から選択される；Ｒ⁹はアルキルアミノである］によって定義される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体である。

Description

【発明の詳細な説明】 ヘルペスウイルス感染症を治療するための求電子性ケトン 発明の分野 本発明は抗ウイルス剤の分野に関し、特に、ヘルペスウイルス感染症を治療す るための化合物、組成物及び方法に関する。 発明の背景 ウイルス性疾患の治療に有効な新規な療法が非常に必要とされている。細菌感 染症を治療するための多様な治療法の開発は大きく進歩しているが、ヘルペスウ イルスを治療するための実行可能な治療法は殆ど無い。ヘルペスウイルス感染症 の治療には、ガンシクロビア、アシクロビア及びホスカルネット(foscarnet)が 現在用いられているが、これらの療法は宿主細胞のＤＮＡ複製に対するそれらの 劣化作用に基づいてかなりの副作用を有する可能性がある。これらはまた限られ た数のウイルス感染症に影響を及ぼすに過ぎない。さらに、ウイルスは療法耐性 を発生させることが知られており、このような療法耐性は効力を徐々に低下させ る。 ウイルスは、それらがＲＮＡを含むかそれともＤＮＡを含むかに基づいて、大 ざっぱなカテゴリーに分類される。ＲＮＡ型に分類された重要なウイルスファミ リーは、オルソミクソウイルス、パラミクソウイルス、ピコルナウイルス、ラブ ドウイルス、コロナウイルス、トガウイルス、ブニアウイルス、アレナウイルス 及びレトロウイルスを包含する。ＤＮＡ型に分類された重要なウイルスファミリ ーは、アデノウイルス、ポックスウイルス、パポバウイルス及びヘルペスウイル スを包含する。 ヘルペスウイルスは、単純ヘルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）、単純ヘルペ スウイルス２型（ＨＳＶ−２）、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、水痘帯状庖 疹ウイルス、（ＶＺＶ）、Ｅｐｓｔｅｉｎ−Ｂａｒｒウイルス、ヒトヘルペスウ イルス−６（ＨＨＶ−６）、ヒトヘルペスウイルス−７（ＨＨＶ−７）、ヒトヘ ルペスウイルス−８（ＨＨＶ−８）、仮性狂犬病及び鼻気管炎を特に包含するＤ ＮＡウイルスのファミリーである。 ヘルペスウイルスが、宿主細胞におけるヘルペスウイルスＤＮＡによってコー ドされる多くのタンパク質の合成を導くことによって、複製することは知られて いる。重要なウイルス−コード化タンパク質の１種は、アミノ末端位置プロテア ーゼとカルボキシル末端位置キャプシドアセンブリータンパク質とから成る融合 タンパク質先駆体として作製される。この先駆体はタンパク分解的に“放出”部 位として知られた特異的アミノ酸配列において自己触媒的な方法で処理されて、 分離したプロテアーゼとキャプシドアセンブリータンパク質とを生じる。 キャプシドアセンブリータンパク質は“成熟”切断部位として知られる他の特 異的アミノ酸配列においてプロテアーゼによってさらに切断される。 ＲｏｉｚｍａｎとＬｉｕへの米国特許第５，４７８，７２７号は、ＨＳＶ複製に 関与するウイルス−特異的セリンプロテアーゼを述べている。Ｌｉｕと Ｒｏｉｚｍａｎ［Ｊ．Ｖｉｔｒｏｌ．６５，５１４９（１９９１）］は、プロテ アーゼの配列と活性及び、ＨＳＶ−１のＵ_L２６によってコードされる関連アセ １ンブリータンパク質とを述べている。最近、Ｗ．ＧｉｂｓｏｎとＡ．Ｗｅｌｃ ｈへの米国特許第５，４３４，０７４号はサルＣＭＶプロテアーゼを述べている 。Ａ．Ｗｅｌｃｈ等［Ｐｒｏｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ，８８， １０７９２（１９９１）］は、ヒトＣＭＶのＵ_L８０によってコードされる、関 連プロテアーゼ（アセンブリン(assemblin)としても知られる）とアセンブリー タンパク質とを述べている。ヘルペスウイルス感染症の治療への可能な使用のた めに現在研究されているアプローチは、ヘルペスウイルスプロテアーゼの阻害剤 の開発である。 テトラゾリルカルボニルアミノ置換基を含有するアリールケトンは記載されて いる。ヨーロッパ公開ＥＰ３３７，７０１（１９８８年４月１１日発行）は、自 己免疫障害又は関節炎を治療するための３−アセチル−５−フルオロ−２−ヒド ロキシテトラゾール−５−カルボキサニリドの使用を述べている。 置換アリール尿素はヨーロッパ公開ＥＰ３５５，８１９（１９９０年２月２８ 日発行）に高強度甘味剤として述べられている。 過酸化水素と結合したアリールトリハロメチルケトンはヨーロッパ特許公開Ｅ Ｐ２９８，０２０（１９８９年１月４日発行）に、ステロイドをエポキシド化す るための試薬として述べられている。ドイツ特許公報ＤＥ４，２０１，４３５は 、アルコールからのトリフルオロメチルケトンの製造方法を述べている。 Ｍ．Ｔｏｒｄｅｕｘ等への米国特許第４，８５５，４６０号は、酸無水物のペ ルフルオロアルキル化を介した単純擬酸の形成を述べている。特に、トリフルオ ロアセトフェノンが述べられている。 ＷＯ９２／１８４７５（１９９２年１０月発行）はドーパミン受容体アゴニス ト／アンタゴニストとしてのフェニル置換ピロリドンを述べている。アリールト リフルオロメチルカルビノールはＭ．Ｖｉｎｃｅｎｔ等に発行された米国特許第 ４，２８５，９４３号に鎮痛剤、解熱剤及び抗炎症剤として述べられている。 求電子性カルボニル誘導体、特に求電子性カルボニル又はホウ素基を有するペ プチジル誘導体によるセリンプロテアーゼの阻害は良く知られたプロセスである 。初期の論文は、Ｐ₁切断部位が求電子性アルデヒド、α−ケトエステル、トリ フルオロメチルケトン、α−ケトアミド又はホウ酸エステル(boronic ester)に よって何処で模倣されるかを述べている［Ｊ．ＰｏｗｅｒｓとＪ．Ｗａｄｅ，「 セリンプロテアーゼの阻害剤」，Ｐｒｏｔｅｉｎａｓｅ Ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ ，５５〜１５２（１９８６）；Ｒ．ＷｉｌｅｙとＤ．Ｒｉｃｈ， Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｒｅｖｉｅｗｓ，１３，３２７〜３８ ４（１９９３）を参照のこと］。 例えば、ヨーロッパ特許公開ＥＰ２７６，１０１（１９８８年１月２７日発行 ）における化合物は、ヒト白血球エラスターゼ（ＨＬＥ）を阻害するとして述べ られている。一般に、これらの阻害剤は、トリフルオロメチルケトンによって終 結されるプロリンに基づくペプチジル配列から成る。ヨーロッパ公開ＥＰ２４９ ，３４９（１９８７年１２月１６日発行）は、２，２−ジフルオロ−３−フェニ ル−１，３−ジカルボニル基によって終結されるプロリン由来ペプチド配列を述 べている。ヨーロッパ公開ＥＰ２０４，５７１（１９８６年１２月１２日発行） は、１〜３個のアミノ酸から成り、２，２−ジフルオロ−３−フェニル−１，３ −ジカルボニル基によって終結されるプロリン由来ペプチド配列を述べている。 幾つかの参考文献がアセチルコリンエステラーゼ、セリンエステラーゼの阻害 剤として、アリールトリフルオロメチルケトンを述べている。ヨーロッパ公開Ｅ Ｐ４０３，７１３（１９９０年１２月２７日発行）は、アルツハイマー病及び老 人性痴呆症の治療におけるｍ−（シリル）フェニルフルオロケトンを述べている 。米国特許第５，１６６，１８１号は、アセチルコリンエステラーゼ阻害剤とし ての［ｍ−（アルキルアミノアルキル）アリール］−ハロケトン化合物を述べて いる。特に、１−［３−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］フェニル］ −２，２，２−トリフルオロエタノンが述べられている。 ハロ置換アセトフェノンは選択的なヘルペスウイルスプロテアーゼ阻害剤とし ても、又はヘルペスウイルス感染症の治療及び／又は予防に関しても今までに述 べられていない。 発明の説明 本発明は、式Ｉ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、アルキル、アラルキ ル、ハロ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、Ｎ−アシル アミノ、アルキルスルホニルオキシ、アミノスルホニル、Ｎ−（ハロアルキルカ ルボニル）アミノ、ペプチジル、アミノ酸残基、 から選択される； Ｒ⁵はアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルキルチオ、アリ ールチオ、アラルキルチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミ ノ、アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロサイクリル及びヘテロサイクリル アルキルから選択され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、アルキル、アルコキシ 、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルア ミノ、アミノ、アルキルアミノ、アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプ チジルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される； Ｒ⁶はアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロサイクリル及びヘテロサイク リルアルキルから選択され、Ｒ⁶は置換可能な位置において、アルコキシ、アリ ールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、 アミノ、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルから選択されたラジカルによ って任意に置換される； Ｙはフルオロアルキル及び から選択される； Ｑはアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アミノ酸残基、ペプチ ジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷はアルキル、アラルキル及びヘテロサイクリルアルキルから選択されたラ ジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、窒素含有ヘテロサイク リル及びアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される］ によって定義される、ウイルス感染症の治療的及び予防的処置に有用なハロ置換 アセトフェノン類、又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体に関す る。 本発明の化合物はヘルペスウイルスに対して特に有効であることが判明してい る。したがって、本発明の化合物は特に単純ヘルペスウイルス（ＨＳＶ−１、Ｈ ＳＶ−２）、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、水痘帯状疱疹ウイルス、（ＶＺ Ｖ）、Ｅｐｓｔｅｉｎ−Ｂａｒｒウイルス（ＥＢＶ）、ヒトヘルペスウイルス− ６（ＨＨＶ−６）、ヒトヘルペスウイルス−７（ＨＨＶ−７）、ヒトヘルペスウ イルス−８（ＨＨＶ−８）、仮性狂犬病及び鼻気管炎の治療に特に有用である。 本発明はさらに、式Ｉ化合物の有効量によって、ウイルス感染症を有する対象 を治療する方法を含む。対象をヘルペスウイルスプロテアーゼ阻害剤によって治 療することが好ましい。ウイルスプロテアーゼ阻害剤がＣＭＶプロテアーゼ阻害 剤、ＥＢＶプロテアーゼ、ＶＺＶプロテアーゼ又はＨＳＶプロテアーゼ阻害剤で ある方法がより好ましい。対象を例えば本発明のハロ置換アセトフェノン化合物 のような、Ｕ_L８０によってコードされるＣＭＶプロテアーゼ、Ｕ_L２６によって コードされるＨＳＶ−１プロテアーゼ若しくはＨＳＶ−２プロテアーゼの阻害剤 によって治療する方法がさらに一層好ましい。 これらの化合物は、ヒトの治療に有用である他に、例えば、非限定的に、ウマ 、イヌ、ネコ、ウシ、魚、ヒツジ及びブタのような、ペット動物(companion ani mal)及び飼育場動物を含めた動物の獣医学的治療にも有用である。 本発明の化合物は、部分的又は完全に他の慣用的な抗ウイルス性化合物の代わ りに、例えばガンシクロビル、ドコサノール、トリフルリジン、ホスカルネット 、リバビリン(ribavirin)、エペルブジン(epervudine)、インターフェロン、チ モスチムリン、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ ＣＧＰ−１６０５６、スプロフェン、 Ｅｆａｌｉｔｈ，イブプロフェンピコノール、ウフェナメート、チモペンチン、 アシクロビル、バラシクロビル、エドクスジン、ファムシクロビル、イドクスリ ジン、ビダラビン、Ｅｐａｖｉｒ、酢酸亜鉛、トロマンタジン、リオドキソール 、ソリブジン、Ｙａｋｕｌｔ Ｈｏｎｓｈａ ＬＣ−９０１８、シドホビル（ci dofovir）、ブロモビニルデオキシウリジン、Ｌｉｄａｋｏｌ、Ｓｔｅｇａ Ｐ ｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌサイトカイン放出剤(cytokine-releasing agent)、 ＣＳＬ ＩＳＣＯＭ、フェンシクロビル、Ｖｉｒａｐｌｅｘ、Ｐｈａｒｍａｃｉ ａ ＆ Ｕｐｊｏｈｎ ＴＨＦ、Ｂｏｅｈｒｉｎｇｅｒ Ｉｎｇｅｌｈｅｉｍ ＢＩＲＲ−４、ＮＩＨペプチド Ｔ、Ｖｉｒｅｎｄ、グリセリン酸亜鉛(zinc gl ycerolate)及びロブカビル(lobucavir)を非限定的に包含する抗ウイルス剤と共 に、併用療法に用いられることもできる。 化合物の好ましい種類は、式Ｉにおいて、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々独 立的にヒドリド、低級アルキル、低級アラルキル、ハロ、低級アルコキシ、シア ノ、ニトロ、アミノ、低級アルキルアミノ、Ｎ−アシルアミノ、低級アルキルス ルホニルオキシ、アミノスルホニル、低級Ｎ−（ハロアルキルカルボニル）アミ ノ、アミノ酸残基、ペプチジル、 から選択される； Ｒ⁵は低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、低級アルキル チオ、フェニルチオ、低級アラルキルチオ、低級アルキルアミノ、アリールアミ ノ、低級アラルキルアミノ、低級アルキル、６〜１０員環アリール、低級アラル キル、５〜１０員環ヘテロサイクリル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選 択され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、低級アルキル、低級アルコキシ、フェ ニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミ ノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及 びペプチジルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される； Ｒ⁶は低級アルキル、６〜１０員環アリール、低級アラルキル、５〜１０員環ヘ テロサイクリル及び低級ヘテロアラルキルから選択され、Ｒ⁶は置換可能な位置 において、低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ 、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ及び低級アル コキシカルボニルから選択されたラジカルによって任意に置換される； Ｙは低級フルオロアルキル及び から選択される； Ｑは低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、Ｎ−アミノ酸残 基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷は低級アルキル、低級アラルキル及び低級ヘテロアラルキルから選択された ラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、５〜６員環窒素含有 ヘテロサイクリル及び低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノから選択された１個以上の ラジカルによって任意に置換されるような、式Ｉ化合物又はその薬剤学的に受容 される塩若しくは互変異性体から成る。 化合物のより好ましい種類は、式Ｉにおいて、Ｙは低級フルオロアルキルであ る；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、低級アルキル、ハロ、低 級アルコキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ、 ハロ若しくはフェニルオキシによって置換された低級アルキル、フェニル、低級 フェニルアルキル及び５〜１０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフェニ ル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、低級アルキル、低級 アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ 、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル 、アミノ酸残基及びペプチジルから選択された１個以上の置換基によって任意に 置換されるような、式Ｉ化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異 性体から成る。 化合物のさらにより好ましい種類は、式Ｉにおいて、Ｙはジフルオロメチル、 トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、１，１ −ジフルオロエチル及び１，１−ジフルオロプロピルから選択される；Ｒ¹、Ｒ² 、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン チル、ヘキシル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシ、エトキシ、プ ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ニトロ及びアミノ から選択される；Ｒ⁵はフェニルメトキシ、フェニルエトキシ、フェニルプロポ キシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル 、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロ プロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエ チル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、フェニルオキ シエチル、フェニルオキシプロピル、フェニル、フェニルメチル、フェニルエチ ル、フリル、ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、チエニル、ピロリル、ベ ンゾチエニル、ベンゾフラニル、インドリル及びピリジルから選択され、Ｒ⁵が フェニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、メチル、エチ ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、 ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ ソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、フェニルオキシ、メチルチオ、 フェニルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、Ｎ−ホルミルアミ ノ、アセチルアミノ、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ及びメトキシカルボニル から選択された１個以上の置換基によって任意に置換されるような、式Ｉ化合物 又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から成る。 化合物の他のより好ましい種類は、式Ｉにおいて、Ｙは であり；Ｑは低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、Ｎ−ア ミノ酸残基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は低級アルキル 、低級アラルキル及び低級ヘテロアラルキルから選択されたラジカルであり、Ｒ⁷ は置換可能な位置において、アミノ、５〜６員環窒素含有ヘテロサイクリル及 び低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換さ れる；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、低級アルキル、ハロ、 低級アルコキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ 、ハロ若しくはフェニルオキシによって置換された低級アルキル、フェニル、低 級フェニルアルキル及び５〜１０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフェ ニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、低級アルキル、低 級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニト ロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカル ボニル、アミノ酸残基及びペプチジルから選択された１個以上の置換基によって 任意に置換されるような、式Ｉ化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは 互変異性体から成る。 化合物の他のさらにより好ましい種類は、式Ｉにおいて、Ｙは であり； Ｑはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、フェニルオ キシ、ベンジルオキシ、フェニルエトキシ及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅ ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ベンジル、フェネチル、 オキサゾリルメチル、オキサゾリルエチル、イミダゾリルメチル、イミダゾリル エチル、オキサゾリニルメチル、オキサゾリニルエチル、インドリルエチル、イ ンドリルメチル、ピリジルメチル、チエニルメチル及びフリルエチルから選択さ れたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、ピペリジニル、 ピペラジニル、ピロリジニル、モルホリニル、ピリジル、ピリミジル及びＮ，Ｎ −ジメチルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される；Ｒ¹、Ｒ² 、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン チル、ヘキシル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシ、エトキシ、プ ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ニトロ及びアミノ から独立的に選択される；Ｒ⁵はフェニルメトキシ、フェニルエトキシ、フェニ ルプロポキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロ ロメチル、ジクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、 ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフル オロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、フェニルオキシエチル、フ ェニルオキシプロピル、フェニル、フェニルメチル、フェニルエチル、フリル、 ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル 、ベンゾフラニル、インドリル及びピリジルから選択され、Ｒ⁵がフェニル又は ヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、メチル、エチル、ｎ−プロ ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ チル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ 、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、フェニルオキシ、メチ ルチオ、フェニルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、Ｎ−ホル ミルアミノ、Ｎ−アセチルアミノ、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ及びメトキ シカルボニルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換されるような 、式Ｉ化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から成る。 化合物の他の好ましい種類は、式ＩＩ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³の各々は独立的にヒドリド、ハロ及びニトロから選択 される； Ｒ⁸はハロアルキル、任意に置換されるアリール、任意に置換されるアラルキ ル、任意に置換されるヘテロアリール、任意に置換されるアリールアルコキシ及 び任意に置換されるアリールオキシアルキルから選択される； Ｙはフルオロアルキル及び から選択される； Ｒ⁹はアルキルアミノである］ で示される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から成る 。 化合物の他の好ましい種類は、式ＩＩにおいて、Ｒ¹がヒドリド、フルオロ、 クロロ、ブロモ及びヨードから選択される；Ｒ²がヒドリド、フルオロ、クロロ 、ブロモ及びヨードから選択される；Ｒ³がヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロ モ、ヨード及びニトロから選択される；Ｒ⁸がトリフルオロメチル、フェニル、 フェニルメチル、フェニルエチル、フリル、ピリジル、ピラジニル、チエニル、 ピロリル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、インドリル、フェニルメチルオキ シ、（フェニルオキシ）プロピル及びフェニルオキシメチルから選択される；Ｙ がトリフルオロメチル及び から選択される；Ｒ⁹がメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプ ロピルアミノ及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノから選択されるような、式ＩＩ化合物 又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から成る。 式ＩとＩＩの範囲内の特に重要な、特定の化合物類は下記のような化合物とそ の薬剤学的に受容される塩とから成る： α−フェノキシ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソ−エチル ）フェニル］ブタナミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］フラン −２−カルボキサミド； Ｎ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［３−クロロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゼ ンプロパンアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピラジ ン−２−カルボキサミド； フェニルメチル Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル） フェニル］カルバメート； Ｎ−［５−ニトロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［４−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］−１− ベンゾチオフェン−２−カルボキサミド； α，α，α−トリフルオロ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキ ソエチル）フェニル］アセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピリジ ン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］２−メ トキシベンズアミド； Ｎ−［４−ヨード−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］４−ク ロロフェノキシアセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］インド リル−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゾ フラニル−２−カルボキサミド；及び Ｎ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ− １−オキソプロピル）フェニル］２−メトキシフェニルカルボキサミド。 図示するように、式Ｉ（ＩとＩ’）の相互変換可能な互変異性体は本発明の範 囲内に含まれる： “ヒドリド(hydrido)”なる用語は、単独の水素原子（Ｈ）を意味する。ヒド リドラジカルは例えば酸素原子に結合して、ヒドロキシルラジカルを形成するこ とができる；又は２個のヒドリドラジカルが炭素原子に結合して、メチレン（− ＣＨ₂−）ラジカルを形成することができる。“アルキル”なる用語は、単独で 又は例えば“ハロアルキル”、“アルキルチオ”、“アルコキシアルキル”及び “アラルキル”のような他の用語中で用いられる場合に、炭素数１〜約２０、好 ましくは炭素数１〜約１２の線状又は枝分かれラジカルを包含する。より好まし いアルキルラジカルは炭素数１〜約１０の“低級アルキル”ラジカルである。炭 素数１〜約６の低級アルキルラジカルが最も好ましい。このようなラジカルの例 はメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、 ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソアミル、ヘキシル等を包含 する。“ハロ”なる用語は例えばフッ素、塩素、臭素又はヨウ素のようなハロゲ ンを意味する。“フルオロアルキル”なる用語は、アルキル炭素原子の１個以上 がフッ素原子によって置換されているラジカルを包含する。モノハロアルキル、 ジハロアルキル及びポリハロアルキルが特に包含される。モノハロアルキルラジ カルは、１例として、ラジカルの範囲内に１個のフッ素原子を有することができ る。ジハロ及びポリハロアルキルラジカルは２個又はそれ以上のフッ素原子を有 することができる。“低級フルオロアルキル”は炭素数１〜６のラジカルを包含 する。フルオロアルキルラジカルの例は、フルオロメチル、ジフルオロメチル、 トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、１，１ −ジフルオロエチル及び１，１−ジフルオロプロピルを包含する。“アルコキ シ”なる用語は、各々が炭素数１〜約１０のアルキル部分を有する線状又は枝分 かれオキシ含有ラジカルを包含する。より好ましいアルコキシラジカルは、炭素 数１〜６の“低級アルコキシ”ラジカルである。このようなラジカルの例はメト キシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ及びｔｅｒｔ−ブトキシを包含する。 “アリール”なる用語は、単独で又は組合せで、１個、２個又は３個の環を含有 する炭素環芳香族系であって、このような環がペンダント形式で一緒に結合しう るか又は縮合しうる系を意味する。“アリール”なる用語は、例えば、フェニル 、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インダン及びビフェニルのような芳香族ラ ジカルを包含する。アリール部分は置換可能な位置において、アルキル、アラル キル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アシルアミ ノ、ペプチジル、アミノ、ハロ、ニトロ、アルコキシカルボニル及びアラルコキ シカルボニルから独立的に選択された１個以上の置換基によって置換されること もできる。“ヘテロサイクリル”又は“複素環式”なる用語は、飽和、部分的飽 和及び不飽和ヘテロ原子含有環状ラジカルを包含し、ヘテロ原子は窒素、硫黄及 び酸素から選択することができる。飽和複素環式ラジカルの例は、１〜４個の窒 素原子を含有する飽和５〜７員ヘテロ単環式基［例えば、ピロリジニル、イミダ ゾリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、トロパニル、ホモトロパニル等］； １〜２個の酸素原子と１〜３個の窒素原子を含有する飽和５〜７員ヘテロ単環式 基［例えば、モルホリニル等］；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子を含 有する飽和５〜７員ヘテロ単環式基［例えば、チアゾリジニル等］を包含する。 部分的飽和複素環式ラジカルの例はジヒドロチオフェン、ジヒドロピラン、オキ サゾリニル、ピロリニル、ジヒドロフラン及びジヒドロチアゾールを包含する。 “ヘテロアリール”ラジカルとも呼ばれる不飽和複素環式ラジカルの例は、１〜 ４個の窒素原子を含有する不飽和５〜７員ヘテロ単環式基、例えばピロリル、イ ミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジル、アゼピニル、ピラジニル、ピ リダジニル、トリアゾリル［例えば、４Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ− １，２，３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル等］、テトラゾリ ル［例えば、１」Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリル等］；１〜５個の窒素 原子を含有する不飽和複素環式基、例えば、インドリル、イソインドリル、イン ド リジニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベン ゾトリアゾリル、テトラゾロピリダジニル［例えば、テトラゾロ［１，５−ｂ］ ピリダジニル等］等；酸素原子を含有する不飽和３〜６員ヘテロ単環式基、例え ば、フリル等；硫黄原子を含有する不飽和５〜７員ヘテロ単環式基、例えば、チ エニル等；１〜２個の酸素原子と１〜３個の窒素原子とを含有する不飽和ヘテロ 単環式基、例えば、オキサゾリル、イソキサゾリル、オキサジアゾリル［例えば 、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，２，５ −オキサジアゾリル等］等；１〜２個の酸素原子と１〜３個の窒素原子とを含有 する不飽和縮合複素環式基［例えば、ベンゾキサゾリル、ベンゾキサジアゾリル 等］；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子とを含有する不飽和５〜７員ヘ テロ単環式基、例えば、チアゾリル、チアジアゾリル［例えば、１，２，４−チ アジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾリル等］ 等；１〜２個の硫黄原子と１〜３個の窒素原子とを含有する不飽和縮合複素環式 基［例えば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等］等を包含する。ヘテ ロアリールなる用語は、複素環式ラジカルがアリールラジカルと縮合しているラ ジカルも含む。このような縮合二環式ラジカルの例は、ベンゾフリル、ベンゾチ エニル等を包含する。前記“ヘテロサイクリル”ラジカルは置換可能な位置にお いて、アルキル、アラルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルキルチオ、ア リールチオ、アシルアミノ、ペプチジル、アミノ、ハロ、ニトロ、アルコキシカ ルボニル及びアラルコキシカルボニルから独立的に選択された１個以上の置換基 によって置換されることもできる。より好ましいヘテロアリールラジカルは５〜 ６員環ヘテロアリールラジカルを包含する。“アルキルラジカル”なる用語は、 二価硫黄原子に結合した炭素数１〜約１０の線状又は枝分かれアルキルラジカル を含有するラジカルを含む。より好ましいアルキルチオラジカルは、炭素数１〜 ６のアルキルラジカルを有する“低級アルキルチオ”ラジカルである。このよう な低級アルキルチオラジカルの例は、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、 ブチルチオ及びヘキシルチオである。“アリールチオ”なる用語は、二価硫黄原 子に結合した炭素数６〜約１０のアリールラジカルを含有するラジカルを含む。 このようなアリールチオラジカルの例はフェニルチオとナフチルチオである。 “アラルキルチオ”なる用語は、二価硫黄原子に結合したアラルキルラジカルを 含有するラジカルを含む。より好ましいアラルキルチオラジカルは、炭素数１〜 ６のアルキルラジカルを有する“低級アルキルチオ”ラジカルである。このよう なアラルキルチオラジカルの例は、ベンジルチオとフェニルエチルチオである。 “スルホニル”なる用語は、単独で用いられた又は例えばアルキルスルホニルの ように他の用語に結合して用いられたのいずれにしろ、それぞれ二価ラジカル− ＳＯ₂−を意味する。“アルキルスルホニル”は、スルホニルラジカルに結合し たアルキルラジカルを含み、この場合アルキルは上記で定義した通りである。よ り好ましいアルキルスルホニルラジカルは、炭素数１〜６の“低級アルキルスル ホニル”ラジカルである。このような低級アルキルスルホニルラジカルの例はメ チルスルホニル、エチルスルホニル及びプロピルスルホニルを包含する。“スル ファミル”、“アミノスルホニル”及び“スルホンアミジル”なる用語は、ＮＨ₂ Ｏ₂Ｓ−を意味する。“アシル”なる用語は、有機酸からヒドロキシルを除去し た後の残基によって生じるラジカルを意味する。このようなアシルラジカルの例 は、ホルミル、アルカノイル及びアロイルラジカルを包含する。アルカノイルラ ジカルは、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル 、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、トリフルオロアセチル 等のように、置換又は非置換であることができ、好ましいアルカノイルラジカル はホルミル、アセチル、プロピオニル又はトリフルオロアセチルである。“アル キルスルホニルオキシ”は酸素原子に結合したアルキルスルホニルラジカルを含 み、この場合にアルキルスルホニルは上記で定義した通りである。より好ましい アルキルスルホニルオキシラジカルは、炭素数１〜６の“低級アルキルスルホニ ルオキシ”ラジカルである。このような低級アルキルスルホニルオキシラジカル の例は、メチルスルホニルオキシとエチルスルホニルオキシである。“カルボニ ル”なる用語は、単独で用いられた又は例えば“アルコキシカルボニル”のよう に他の用語に結合して用いられたのいずれにしろ、−（Ｃ＝Ｏ）−を意味する。 “アルコキシカルボニル”なる用語は、酸素原子を介してカルボニルラジカルに 結合した、上記で定義したような、アルコキシラジカルを含有するラジカルを意 味する。好ましくは、“低級アルコキシカルボニル”は炭素数１〜６のアルコキ シラジカルを含む。このような“低級アルコキシカルボニル”エステルラジカル は、置換又は非置換のメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ ルボニル、ブトキシカルボニル及びヘキシルオキシカルボニルを包含する。“ア ルコキシカルボニル”なる用語は、酸素原子を介してカルボニルラジカルに結合 した、上記で定義したような、アルコキシラジカルを含有するラジカルを意味す る。好ましくは、“低級アルコキシカルボニル”は炭素数１〜６のアルコキシラ ジカルを含む。このような“低級アルコキシカルボニル”エステルラジカルは、 置換又は非置換のメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ ニル、ブトキシカルボニル及びヘキシルオキシカルボニルを包含する。“アラル キル”なる用語は、アリール置換アルキルラジカルを含む。好ましいアラルキル ラジカルは、炭素数１〜６のアルキルラジカルに結合したアリールラジカルを有 する“低級アラルキル”ラジカルである。このようなラジカルの例はベンジル、 ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェニルエチル及びジフェニルエチル を包含する。前記アラルキル中のアリールはさらに、上述したように置換される こともできる。ベンジルとフェニルメチルなる用語は相互交換可能である。“ア ラルコキシカルボニル”なる用語は、酸素原子を介してカルボニルラジカルに結 合した、以下で定義するような、アラルコキシラジカルを含有するラジカルを意 味する。好ましくは、“低級アラルコキシカルボニル”は炭素数１〜６のアルコ キシラジカルを含む。このような“低級アラルコキシカルボニル”エステルラジ カルは、置換又は非置換ベンジルオキシカルボニルを包含する。“ハロアルキル カルボニル”なる用語は、カルボニルラジカルに結合した、上述したようなハロ アルキルを有するラジカルを含む。より好ましいラジカルは、上述したような低 級ハロアルキルラジカルがカルボニルラジカルに結合している、“低級ハロアル キルカルボニル”ラジカルである。“ヘテロサイクリルアルキル”なる用語は、 ヘテロサイクリル置換アルキルラジカルを含む。より好ましいヘテロサイクリル アルキルラジカルは、炭素数１〜６の低級アルキルラジカルに結合した５〜１０ 員ヘテロサイクリルラジカルを有する“低級ヘテロサイクリルアルキル”ラジカ ルである。このようなラジカルの例は、オキサゾリルメチル、オキサゾリルエチ ル、イミダゾリルメチル、イミダゾリルエチル、オキサゾリニルメチル、オキサ ゾリニルエチル、インドリルエチル、インドリルメチル、ピリジルメチル、チエ ニルメチル及びフリルエチルを包含する。前記ヘテロアラルキル中のヘテロアリ ールは、上述したようにさらに置換されることができる。“アリールオキシ”な る用語は、酸素原子に結合した、上記で定義したようなアリールラジカルを含む 。前記アリールオキシ中のアリールは上述したようにさらに置換されることがで きる。このようなラジカルの例はフェノキシを包含する。“アラルキルオキシ” と“アラルコキシ”なる用語は、酸素原子を介して他のラジカルに結合したオキ シ含有アラルキルラジカルを含む。より好ましいアラルキルオキシラジカルは、 炭素数１〜６のアルコキシラジカルに結合したフェニルラジカルを有する“低級 アラルコキシ”ラジカルである。例はベンジルオキシとフェニルエトキシを包含 する。“アラルコキシ”ラジカルは、ラジカルのアリール環部分でさらに置換さ れることができる。“アリールオキシアルキル”なる用語は、アルキルラジカル に結合した１個以上のアリールオキシラジカルを有するアルキルラジカル、即ち 、モノアリールオキシアルキル及びジアリールオキシアルキルを形成するアルキ ルラジカルを含む。より好ましいアリールオキシアルキルラジカルは、炭素数１ 〜６のアルキルラジカルに結合したアリールオキシラジカルを有する“低級アリ ールオキシアルキル”ラジカルである。例はフェノキシメチルとフェノキシプロ ピルを包含する。“アルキルアミノ”なる用語は、１個又は２個のアルキルラジ カルによって置換されているアミノ基を意味する。より好ましいアルキルアミノ ラジカルは、アミンの窒素原子に結合した炭素数１〜６のアルキルラジカルを有 する“低級アルキルアミノ”である。適当な“低級アルキルアミノ”は例えばＮ −メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチ ルアミノ等のような、モノアルキルアミノ又はジアルキルアミノでありうる。“ アリールアミノ”なる用語は、例えばＮ−フェニルアミノのように、１個又は２ 個のアリールラジカルによって置換されているアミノ基を意味する。“アリール アミノ”ラジカルは、ラジカルのアリール環部分でさらに置換されることができ る。“アラルキルアミノ”なる用語は、例えばＮ−ベンジルアミノのように、１ 個又は２個のアラルキルラジカルによって置換されているアミノ基を意味する。 “アラルキルアミノ”ラジカルは、ラジカルのアリール環部分でさらに置換され るこ とができる。“アシルアミノ”なる用語は、カルボニル炭素を介して、１個又は ２個のアシルラジカルによって置換されているアミノ基を意味する。適当な“ア シルアミノ”は、例えばＮ−ホルミルアミノ、Ｎ−アセチルアミノ等のような、 モノアシルアミノ又はジアシルアミノでありうる。“（ハロアルキルカルボニル ）アミノ”なる用語は、カルボニル炭素を介して、上記で定義したような、１個 又は２個のハロアルキルカルボニルラジカルによって置換されているアミノ基を 意味する。適当な“（ハロアルキルカルボニル）アミノ”は、例えばＮ−トリフ ルオロメチルカルボニルアミノのようなモノ（ハロアルキルカルボニル）アミノ 等でありうる。“アミノ酸残基”は、天然生成α−、β−及びγ−アミノカルボ ン酸（これらのＤ及びＬ光学異性体とそれらのラセミ混合物を含む）と、合成ア ミノ酸と、これらの天然アミノ酸及び合成アミノ酸の誘導体とのいずれをも意味 する。アミノ酸残基は、アミノ酸のアミノ官能基又は酸官能基のいずれかを介し て結合する。本発明に組み入れることができる天然生成アミノ酸は、非限定的に 、アラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン、グルタ ミン酸、グルタミン、グリシン、ヒスチジン、イソロイシン、ロイシン、リシン 、メチオニン、オルニチン、フェニルアラニン、プロリン、セリン、トレオニン 、シクロヘキシルアラニン、トリプトファン、チロシン、バリン、β−アラニン 、及びγ−アミノ酪酸を包含する。本発明に組み入れることができるアミノ酸誘 導体は、酸エステルとアミド、保護されたアミン及び置換フェニル環（非限定的 にアルキル、アルコキシ及びハロ置換した、チロシン及びフェニルアラニンを含 む）を含めた、保護された及び修飾されたカルボン酸を有するアミノ酸を非限定 的に包含する。“ペプチジル”なる用語は、アミド結合を介して一緒に結合した 、２個又は３個の天然生成アミノ酸残基を有するラジカルを意味する。アミノ酸 残基又はペプチジルラジカルがそのＮ−アミノ末端から結合するときに、このよ うな残基はそれぞれＮ−アミノ酸残基及びＮ−ペプチジルとして指示される。 本発明は、治療有効量の式Ｉ化合物を少なくとも１種類の薬剤学的に受容され るキャリヤー、アジュバント又は希釈剤と共に含む薬剤組成物を含む。 本発明はまた、対象におけるヘルペスウイルス感染症の治療的及び予防的処置 方法であって、このようなヘルペス感染症を有する対象に治療有効量の式Ｉ化合 物を投与することを含む方法をも含む。式Ｉの化合物類には、それらの立体異性 体と互変異性体も含まれる。本発明の化合物は１個以上の不斉炭素原子を有する ことができ、したがって、それらの光学異性体の形状並びにラセミ又は非ラセミ 混合物の形状で存在することができる。したがって、本発明の化合物の一部は、 本発明にも包含されるラセミ混合物として存在することができる。ラセミ混合物 を慣用的な方法によって、例えば、光学活性な酸若しくは塩基による処理によっ てジアステレオ異性体塩を形成することによって分割して、光学異性体を得るこ とができる。適当な酸の例は酒石酸、ジアセチル酒石酸、ジベンゾイル酒石酸、 ジトルオイル酒石酸及びショウノウスルホン酸であり、次に結晶化によるジアス テレオ異性体混合物の分離後に、これらの塩から光学活性塩基を遊離させる。光 学異性体の異なる分離方法は、エナンチオマーの分離を最大化するように最適に 選択されたキラルクロマトグラフィーカラムの使用を含む。さらに他の使用可能 な方法は、式Ｉ化合物の先駆体のアミン官能基を活性化型の光学的に純粋な酸又 は光学的に純粋なイソシアネートと反応させることによって、共有結合ジアステ レオ異性体分子を合成することを含む。或いは、式Ｉ化合物の先駆体のカルボキ シル官能基を光学的に純粋なアミン塩基と反応させることによって、ジアステレ オマー誘導体を製造することができる。合成されたジアステレオ異性体を例えば クロマトグラフィー、蒸留、結晶化又は昇華のような慣用的な手段によって分離 して、次に、加水分解して、エナンチオマー的に純粋な化合物を得ることができ る。式Ｉの光学活性化合物は、光学活性な出発物質を用いることによっても同様 に得ることができる。これらの異性体は遊離酸、遊離塩基、エステル又は塩の形 状であることができる。 式Ｉの化合物類には、それらの薬剤学的に受容される塩も包含される。“薬剤 学的に受容される塩”なる用語は、アルカリ金属塩を形成するため及び遊離酸又 は遊離塩基の付加塩を形成するために一般的に用いられる塩を含む。塩の性質は 、それが薬剤学的に受容されるものであるかぎり、重要ではない。式Ｉ化合物の 適当な、薬剤学的に受容される酸付加塩は無機酸又は有機酸から製造することが できる。このような無機酸の例は塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、炭酸 、硫酸及びリン酸である。適当な有機酸は有機酸の脂肪族酸、脂環式酸、芳香族 酸、 アリール脂肪族(araliphatic)酸、複素環式酸、カルボン酸及びスルホン酸種類 から選択されることができ、これらの例はギ酸、酢酸、プロピオン酸、コハク酸 、グリコール酸、グルコン酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アスコルビ ン酸、グルクロン酸、マレイン酸、フマル酸、ピルビン酸、アスパラギン酸、グ ルタミン酸、安息香酸、アントラニル酸、メシル酸(mesylic acid)、ｐ−ヒドロ キシ安息香酸、フェニル酢酸、マンデル酸、エムボン酸(embonic acid)（パム酸 (pamoic acid)）、メタンスルホン酸、エチルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸 、パントテン酸、トルエンスルホン酸、２−ヒドロキシエタンスルホン酸、スル ファニル酸、ステアリン酸、シクロヘキシルアミノスルホン酸、アルゲン酸 (algenic acid)、β−ヒドロキシ酪酸、サリチル酸、ガラクタル酸(galactaric acid)及びガラクツロン酸である。式Ｉ化合物の適当な薬剤学的に受容される塩 基付加塩は、アルミニウム、カルシウム、リチウム、マグネシウム、カリウム、 ナトリウム及び亜鉛から製造される金属塩、又はＮ，Ｎ’−ジベンジルエチレン ジアミン、コリン、クロロプロカイン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン 、メグルミン（Ｎ−メチルグルカミン）及びプロカインから製造された有機塩を 包含する。これらの塩の全ては、式Ｉの対応化合物から慣用的手段によって、例 えば、適当な酸若しくは塩基を式Ｉ化合物と反応させることによって製造するこ とができる。 一般的合成方法 本発明の化合物は、商業的に入手可能な出発物質からスキームＩ〜ＩＸの下記 方法に従って合成することができる、スキームＩ〜ＩＸにおいてＲ¹〜Ｒ⁹置換基 は、他に指示する以外は、上記式Ｉ−ＩＩに関して定義した通りである。 スキームＩ 本発明の抗ウイルス剤は、スキームＩに示した方法に従って製造することがで きる。抗ウイルス剤２は例えばペルヨージナン(periodinane)（Ｄｅｓｓ Ｍａ ｒｔｉｎ試薬）による処理［Ｄ．ＤｅｓｓとＪ．Ｍａｒｔｉｎ，Ｊ．Ａｍｅｒ． Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１３，７２７７（１９９１）］又は修飾Ｐｆｉｔｚｎｅ ｒ−Ｍｏｆｆａｔｔ試薬（ＤＭＳＯ／ＤＣＣ）［Ａ．Ｄｏｈｅｒｔｙ等，Ｊ．Ｍ ｅｄ．Ｃｈｅｍ．，３５，２（１９９２）］による処理による対応アルコール１ の酸化によって得られる。 スキームＩＩ アルコール１はスキームＩＩに概略を示すように得ることができる。オルトニ トロアリールカルビノール３を例えば炭素担体付きパラジウムを用いることによ る触媒水素化によって［Ｒｙｌａｎｄｅｒ，Ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ Ｍｅ ｔｈｏｄｓ，８章（１９８５）］又は他の方法［塩化第１スズ還元又はアニオン ヒドリド［ＨＦｅ（Ｃｏ）₄］−によって］によって対応アニリン誘導体４に還 元することができる。Ｐ．Ｇａｕｓ等，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒ ｓ，２９，５０８３（１９８８）を参照のこと。アニリンカルビノ ール誘導体４を適当な酸塩化物によって高収率でジアシル化することができる。 得られるエステルアミド５をエステル部分において、例えば（１）アルコール１ を生成する、緩和な塩基による処理（例えば、ヒドロキシドイオン）によって又 は（２）適当なエステラーゼによって選択的に切断することができる。 スキームＩＩＩ オルト−ニトロアリールカルビノール７は、Ｙ＝ＣＦ₃（ｐ＝０）である場合 に、対応アルデヒド６をトリフルオロメチルトリメチルシラン（ＣＦ₃−ＴＭＳ ）と触媒のフッ化テトラブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）によって処理すること によって得ることができる［Ｏｌａｈ等，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．， １１１，３９３（１９８９）］。或いは、適当なフルオロヨードアルカンと有機 リチウムとを金属交換反応条件下で用いることによって、同族のペルフルオロア ルキルアニオン（ｐ＝１〜３）を生成することができる［Ｊ．ＢｅｇｕｅとＤ． Ｄｅｌｐｏｎ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４７，３２０７（１９９１）］。 スキームＩＶ オルト−ニトロアリールカルビノール９は、Ｙがジフルオロアセトアミド基で ある場合に、スキームＩＶに概略を示すように得ることができる。対応アルデヒ ド６をα−ブロモ−α，α−ジフルオロアセチルエステルから調製されるＲｅｆ ｏｒｍａｔｓｋｙ試薬と反応させて［Ｆｒｉｅｄ等，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．，１１４，８４６４（１９９２）； Ｔｈａｉｓｒｉｖｏｎｇｓ等，Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，２９，２０８０（１９ ８６）］、エステル８を形成することができる。エステル８を、例えばＤＭＦ又 はＴＨＦのような適当な溶媒中で加熱することによって、直接、第１級アミン［ Ｈ₂ＮＲ⁷］と反応させて、第２級アミド９を得ることができる。 スキームＶ 或いは、エステル８を切断して、遊離酸１０を得て、これを例えばＨ₂ＮＲ⁷の ような第１級アミン、アミノ酸残基又はペプチドに、標準的なアミノ酸カップリ ング条件、例えばＤＳＣ、ＤＣＣ、ＥＤＣ又はＢＯＰを用いてカップリングさせ て、化合物９を形成することができる。Ｂｏｄａｎｓｋｙ， Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ｏｆ Ｐｅｐｔｉｄｅ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８４ を参照のこと。 スキームＶＩ 他のシーケンスはスキームＶＩに概略を示すように、商業的に入手可能なアン トラニル酸１１によって開始する。カルボン酸１１を例えばボラン／ＴＨＦ試薬 を用いてベンジルアルコール１２に還元させる［ＢｒｏｗｎとＫｏｒｙｔｎｙｋ ，Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，８２，１８６６（１９６０）［。このベ ンジルアルコール１２をジアシル化して、１３を得る。次の選択的エステル切断 ［スキーム１１を参照］はアルコール１４を生成する。このアルコール１４は公 知方法［例えば、Ｓｗｅｒｎ酸化−塩化オキサリル、ＤＭＳＯ、トリエチルアミ ン；又は三酸化硫黄／ピリジン］によってアルデヒド１５に酸化することができ る。アルデヒド１５を求核試薬（スキームＩＩＩ又はスキームＩＶに示すような ）と反応させて、カルビノール１を得ることができる。 スキームＶＩＩ スキームＩ〜ＶＩの適用によって得られる抗ウイルス剤の幾つかの特定の例を スキームＶＩＩ〜ＩＸに示す。抗ウイルス剤２１（実施例１）は、スキーム ＶＩＩに示すように、オルトニトロベンズアルデヒド１６から出発して５工程で 得られる。アルデヒド１６をＴＦ₃−ＴＭＳ／ＴＢＡＦと反応させて、カルビノ ール１７を得る。ニトロ基の還元はアニリン１８を生成する。２当量の２−フロ イルクロリドによる処理によって、アニリノカルビノール誘導体１８のビスアシ ル化をおこなって、エステル１９を得る。エステル１９を室温における１当量の 水酸化ナトリウムによる処理によってアミドを介して切断して、化合物２０を得 る。カルビノール２０をペルヨージナンによる処理によって酸化して、化合物２ １を得る。 スキームＶＩＩＩ 抗ウイルス剤２７（実施例１７）は、スキームＶＩＩＩに概略を示すように、 オルトニトロベンズアルデヒド１６から出発して６工程で得られる。第１工程で は、エチル ブロモジフルオロアセテートと亜鉛とを用いる Ｒｅｆｏｒｍａｔｓｋｙ反応によってカルビノール２２を得る。第２工程では、 ＴＨＦ中の過剰なイソプロピルアミンの存在下で化合物２２を加熱することによ って、２２のエチルエステルのアミドリシス(amidolysis)をおこなって、化合物 ２３を得る。化合物２３のオルトニトロ基を水素化によって還元して、アニリン ２４を得る。ｏ−アニソリルクロリドによる２４のジアシル化は化合物２５を生 成する。化合物２５のエステルを１当量の水酸化ナトリウムによる処理によって 選択的に切断して、カルビノール２６を得て、これをペルヨージナン（Ｄｅｓｓ −Ｍａｒｔｉｎ試薬）処理によって酸化して、化合物２７を得る。 スキームＩＸ 抗ウイルス剤３４（実施例２）は、スキームＩＸに概略を示すように、４−フ ルオロ−２−アミノ安息香酸２８から６工程で得られる。第１工程では、安息香 酸２８をボラン−ＴＨＦによる処理によってベンジルアルコール２９に還元され る。化合物２９をヒドロシンナモイルクロリドによってジアシル化して、エステ ル３０を得て、これを室温における１当量の水酸化ナトリウムによる処理によっ てエステルにおいて選択的に切断して、化合物３１を得る。３１のベンジルアル コールをＳｗｅｒｎ酸化によってベンズアルデヒド３２に転化する。ＴＦ₃−Ｔ ＭＳ／ＴＢＡＦによる３２の処理はカルビノール３３を生成する。カルビノール ３３をペルヨージナンによる処理（Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ酸化）による処理に よってケトン３４に酸化する。 下記実施例は式Ｉ−ＩＩの化合物の製造方法の詳細な説明を含む。これらの詳 細な説明は、本発明の一部を成す上記一般的合成方法の範囲内であり、この一般 的合成方法を例示するために役立つ。これらの詳細な説明は例示のためにのみ提 示されるものであり、本発明の範囲に対する限定として意図されるものではない 。他に指定しない限り、全ての部は重量によるものであり、温度は摂氏度である 。 下記略号を用いる： ＥｔＯＡｃ：酢酸エチル ＨＣｌ：塩酸 ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド ＣＤＣｌ₃：重水素化クロロホルム ＣＨＣｌ₃：クロロホルム Ｅｔ₂Ｏ：ジエチルエーテル ＭｇＳＯ₄：硫酸マグネシウム ＮａＨＣＯ₃：炭酸水素ナトリウム ＫＨＳＯ₄：硫酸水素カリウム Ｎａ₂ＳＯ₄：硫酸ナトリウム Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₄：チオ硫酸ナトリウム ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド ＮａＯＨ：水酸化ナトリウム Ｐｄ／Ｃ：炭素担体付きパラジウム ＤＣＣ：ジシクロヘキシルカルボジイミド ＤＳＣ：ジスクシニミジルカルボネート ＢＯＰ：ベンゾトリアゾール−１−イルオキシートリス（ジメチルアミノ）ホス ホニウムヘキサフルオロホスフェート ＥＤＣ：１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド・Ｈ Ｃｌ ＢＯＣ：ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル ＭｅＯＨ：メタノール ＥｔＯＨ：エタノール ＣＨ₂Ｃｌ₂：塩化メチレン ｈ：時間 ｍｉｎ：分 ＴＨＦ：テトラヒドロフラン ＩＲ：赤外 ＭＳ：質量スペクトル 実施例１ Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］フラン −２−カルボキサミド工程１：１，１−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−２−（２−ニトロフェニル） エタンの製造 ２−ニトロベンズアルデヒド（４．２５ｇ，２８．１２ｍｍｏｌ）とテトラヒ ドロフラン（７５ｍｌ）との混合物に、アルゴン下、０℃においてトリフルオロ メチルシラン（５．００ｍｌ）を加え、次にフッ化トリフルオロブチルアンモニ ウム（ＴＨＦ中１Ｍ溶液，７５ｍｌ）を加えて、反応を２３℃に加温した。２３ ℃における２時間後に、反応を３Ｎ ＨＣｌ（１２５ｍｌ）によって処理した。 ４時間後に、反応をエーテル（７５ｍｌ）によって希釈し、ブライン（２ｘ１０ ０ｍｌ）によって洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮は褐色油 状物（５．４５ｇ，．８７．６％）を生成し、これをさらに精製せずに次の工程 に供給した：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ６．１８（ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），７． ５６（ｄｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，６Ｈｚ），７．７５（ｄｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，６Ｈｚ）， ７．９７（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），８．０５（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），¹³Ｃ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）６６．６（ｑ，Ｊ＝３３Ｈｚ），１２１．９，１２４．９，１２ ７．２（ｑ，Ｊ＝２８０Ｈｚ），１２９．３，１３０．１，１３３．６．ＩＲ（ ニート）３５５０−３３３０ｃｍ^-1．分析．計算値．Ｃ₈Ｈ₆ＮＯ₃Ｆ₃として：Ｃ ，４３．４５；Ｈ，２．７３；Ｎ，６．３３．実測値：Ｃ，４３．０５；Ｈ，２ ．４９；Ｎ，６．０２．工程２：１，１，１−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−２−（２−アミノフェニ ル）エタン ９０ｍｌのエタノール中の工程１からの１，１，１−トリフルオロ−２−ヒド ロキシ−２−（２−ニトロフェニル）エタン（５．４５ｇ，２４．６４ｍｍｏｌ ）の溶液を２００ｍｇのラネーニッケル上、５ｐｓｉの水素圧で２３℃において ８時間にわたって水素化した。触媒を濾別した後に、真空下での濃縮は定量的収 量の１，１，１−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−２−（２−アミノフェニル） エタンを橙黄色固体として生成した：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ４．３２（ ｂｒ ｓ），５．０３（ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．２８（ｂｒ ｓ），６．６７− ６．７８（ｍ），７．０８−７．２３（ｍ）；¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）６６ ．６（ｑ，Ｊ＝３３Ｈｚ），１２１．９，１２４．９，１２７．２（ｑ，Ｊ＝２ ８０Ｈｚ），１２９．３，１３０．１，１３３．６；ＭＳ（ＥＩ）１９１（Ｍ⁺ ），１７３，１２２．ＩＲ（ｎｅａｔ）３３９５，３３２５，３４００−３１０ ０．分析．計算値．Ｃ₈Ｈ₈ＮＯＦ₃として：Ｃ，５０．２６；Ｈ，４．２２；Ｎ ，７．３３．実測値：Ｃ，５０．４７；Ｈ，４．５７；Ｎ，７．０５．工程３：Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−ヒドロキシエチル）フェ ニル］フラン−２−カルボキサミドの製造 塩化メチレン（１０ｍｌ）中の工程２からの１，１，１−トリフルオロ−２− ヒドロキシ−２−（２−アミノフェニル）エタン（６００ｍｇ，３．１４ｍｍｏ ｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（８９３ｍｇ，６．９１ｍ ｍｏｌ）を加え、次に２−フロイルクロリド（９０２ｍｇ，６．９１ｍｍｏｌ） をアルゴン雰囲気下、２３℃において５分間にわたって滴加した。１８時間後に 、反応をエーテル（１００ｍｌ）によって希釈し、ＫＨＳＯ₄（１Ｎ，１ｘ８０ ｍｌ）、飽和ＮａＨＣＯ₃（１ｘ８０ｍｌ）、ブライン（１ｘ８０ｍｌ） によって洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮後に、粗残渣を次 の工程に供給した。残渣を酢酸エチル（３００ｍｌ）中に溶解し、ＫＨＳＯ₄（ ２ｘ５０ｍｌ）とブライン（１ｘ５０ｍｌ）とによって洗浄し、乾燥させ（Ｎａ₂ ＳＯ₄）、真空下で濃縮した。残渣とメタノール（３ｍｌ）の溶液に、アルゴン 下２３℃においてＮａＯＨ（１．５Ｎ，３ｍｌ）を加えた。２３℃における２時 間後に、反応を真空下で濃縮し、エーテル（１５０ｍｌ）によって希釈し、ブラ イン（１００ｍｌ）によって洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃 縮後に、残渣をフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン １：３ ）によって精製して、Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−ヒドロキシ エチル）フェニル］フラン−２−カルボキサミド（７１７ｍｇ，８０％）を油状 物として得た：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ５．１４（ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），６ ．５５（ｍ），７．１６−７．５８（ｍ），８．２５（ｍ）；¹³ＣＮＭＲ（ＣＤ Ｃｌ₃）７２．７（ｑ，Ｊ＝３３Ｈｚ），１１２．２，１１５．０１２２．７， １２３．１，１２６．５（ｑ，Ｊ＝２８０Ｈｚ），１２９．７，１３６．８，１ ４４．７，１４９．５，１６９．６．ＭＳ（ＥＩ）２８５（Ｍ⁺），２４５，２ １６．ＩＲ（ニート）３５００−３０００，１６５０ｃｍ^-1．分析．計算値．Ｃ₁₃ Ｈ₁₀ＮＯ₃Ｆ₃として：Ｃ，５４．７４；Ｈ，３．５３；Ｎ，４．９１．実測値 ：Ｃ，５４．６３；Ｈ，３．５０；Ｎ，４．９０．工程４：Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル ］フラン−２−カルボキサミドの製造 工程３からのＮ−［２−（２，２，２−トリフルオ１−ｌ−ヒドロキシエチル ）フェニル］フラン−２−カルボキサミド（３３６ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ）と 塩化メチレン（３１ｍｌ）との溶液に、１，１，１−トリアセトキシ−１，１− ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキシル−３（１Ｈ）−オン（２．００ｇ，４． ７２ｍｍｏｌ）を加え、次にアルゴン雰囲気下、２３℃においてｔｅｒｔ−ブタ ノール（３．１ｍｌ）を加えた。１８時間後に、飽和ＮａＨＣＯ₃（３１ｍｌ） を加え、次に固体チオ硫酸ナトリウム（５．２０ｇ，３２．９ｍｍｏｌ）を加え た。２３℃における１時間後に、有機層を水性層から分離した。水性層をエーテ ル（２ｘ１００ｍｌ）によって抽出し、一緒にした有機層(organics)を飽和Ｎａ ＨＣＯ₃：飽和Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₃（３ｘ８０ｍｌ）とブライン（１ｘ８０ｍｌ）とによ って洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮後に、粗残渣をフラッ シュクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン １：３）によって精製し、黄 色ガムとして（３１２ｍｇ）を得た：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ６．６０（ ｍ），７．２０−７．３５（ｍ），７．６７（ｂｒ ｓ），７．７５（ｍ）８． ０３（ｍ），９．０１（ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ），１１．９３（ｂｒｓ）；¹³Ｃ ＮＭ Ｒ（ＣＤＣｌ₃）１１２．５，１１４．６，１１５．４，１１６．１，１１８． ４，１２１．２，１２２．４（ｑ，Ｊ＝２８０Ｈｚ），１２２．８，１３１．８ ，１３１．９，１３７．６，１４３．１，１４５．２，１５６．７．ＭＳ（ＥＩ ）２８３（Ｍ⁺），２５８，２５６，２１４．ＩＲ（ニート）１６７４ｃｍ^-1． 分析．計算値．Ｃ₁₃Ｈ₈ＮＯ₃Ｆ₃として：Ｃ，５５．１３；Ｈ，２．８５；Ｎ， ４．９５．実測値：Ｃ，５１．０１；Ｈ，２．６６；Ｎ，４．５２． 実施例２ Ｎ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］ベンゼンプロパンアミド工程１：２−アミノ−４−フルオロベンジルアルコールの製造 ２−アミノ−４−フルオロ安息香酸（３．００ｇ，１９．３ｍｍｏｌ）とＴＨ Ｆ（４０ｍｌ）との溶液に、アルゴン下、０℃においてボラン−ＴＨＦ複合体（ １Ｍ ＴＨＦ溶液，７７．０ｍｍｏｌ）を３０分間にわたって滴加した。完全に 添加した後に、反応を２３℃に加温した。４時間後に、反応混合物を徐々に（５ 分間）エタノール（７７ｍｌ）に加えた。２０分間後に、反応を真空下で濃縮し 、飽和ＮａＨＣＯ₃（１００ｍｌ）によって希釈し、酢酸エチル（２ｘ１００ｍ ｌ）によって抽出し、ブライン（１Ｘ１００ｍｌ）によって洗浄し、乾燥さ せた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮後に、残渣をシリカゲルパッド（１：１酢 酸エチル：ヘキサン）に通すことによって精製した。真空下での濃縮は２．０２ ｇの２−アミノ−４−フルオロベンジルアルコールを黄色固体として生成した、 これは次の工程に供給するために充分に純粋であった：¹Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）δ ４．５４（ｂｒ ｓ），６．２８−６．４７（ｍ），６．９ ３−７．０５（ｍ）；¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ６２．７，１０１．９（ Ｊ＝２４Ｈｚ），１０３．４（Ｊ＝２１Ｈｚ），１２１．５，１３０．１（Ｊ＝ １０Ｈｚ），１４９．１，１６３（Ｊ＝３６０Ｈｚ）．ＭＳ（ＥＩ）１４１（Ｍ⁺ ），１２４，１１０．ＩＲ（ニート）３５００−３０００ｃｍ^-1．工程２：Ｎ−［５−フルオロ−２−ヒドロキシメチルフェニル］ベンゼンプロパ ンアミドの製造 工程１からの２−アミノ−４−フルオロベンジルアルコール（２．００ｇ，１ ４．１７ｍｍｏｌ）と塩化メチレン（４５ｍｌ）との溶液に、Ｎ，Ｎ−ジイソプ ロピルエチルアミン（３．７０ｇ，２８．３４ｍｍｏｌ）を加え、次にヒドロシ ンナモイルクロリド（４．７８ｇ，２８．３４ｍｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下 、２３℃において１５分間にわたって滴加した。１６時間後に、反応を塩化メチ レン（１００ｍｌ）によって希釈し、ＫＨＳＯ₄（１Ｎ，１ｘ８０ｍｌ）、飽和 ＮａＨＣＯ₃（１ｘ８０ｍｌ）、ブライン（１ｘ８０ｍｌ）によって洗浄し、乾 燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮後に、粗残渣をメタノール（１４ｍｌ ）中に溶解し、ＮａＯＨ（１．５Ｎ，１４ｍｌ）をアルゴン下、２３℃において 加えた。２３℃における２時間後に、反応を真空下で濃縮し、エーテル（１５０ ｍｌ）によって希釈し、ブライン（１００ｍｌ）によって洗浄し、乾燥させた（ ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮後に、残渣をフラッシュクロマトグラフィー（酢 酸エチル：ヘキサン １：３）によって精製して、Ｎ−［５−フルオロ−２−ヒ ドロキシメチルフェニル］ベンゼンプロパンアミド（３．４０ｇ，８７．８％） を油状物として得た：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ２．６５（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ ），３．０５（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．４８（ｓ），６．６８−６．７４（ｍ） ，７．００−７．３４（ｍ），７．８３−７．９１（ｍ）８．７２（ｂｒ ｓ） ．ＭＳ（ＥＩ）２７３，２５５，２１２．ＩＲ（ニート）３５００− ３１５０，１６６７ｃｍ^-1．分析．計算値．Ｃ₁₆Ｈ₁₆ＮＯ₂Ｆとして：Ｃ，７０ ．３１；Ｈ，５．９０；Ｎ，５．１３．実測値：Ｃ，７０．２６；Ｈ，６．１１ ；Ｎ，５．０３．工程３：Ｎ−［５−フルオロ−２−オキソメチルフェニル］ベンゼンプロパンア ミドの製造 塩化オキサリル（４．４６ｇ，３５．１３ｍｍｏｌ）と塩化メチレン（３００ ｍｌ）との溶液に、−７８℃においてジメチルスルホキシド（３．２９ｇ，４２ ．１５ｍｍｏｌ）を１５分間にわたって加えた。−７８℃における１５分間後に 、工程２からのＮ−［５−フルオロ−２−ヒドロキシメチルフェニル］ベンゼン プロパンアミド（３．２０ｇ，１１．７ｍｍｏｌ）と塩化メチレン（３００ｍｌ ）との溶液を１０分間にわたって加えた。−７８℃における４５分間後に、トリ エチルアミン（８．５３ｇ，８４．３ｍｍｏｌ）を加え、反応を２３℃に加温し た。２３℃における２０分間後に、反応を飽和ＮａＨＣＯ₃（２ｘ１００ｍｌ） 、ブライン（１ｘ１００ｍｌ）によって洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真 空下での濃縮後に、粗残渣をフラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキ サン１：３）によって精製して、アルデヒドを油状物（２．７１ｇ，８５．４％ ）として得た：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ２．７９（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３ ．０６−３．１６（ｍ），６．８５−６．９３（ｍ），７．１７−７．３７（ｍ ），７．６３−７．６９（ｍ）８．５２−８．５８（ｍ），９．８４（ｓ）．工程４：Ｎ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−ヒドロキ シエチル）フェニル］ベンゼンプロパンアミドの製造 工程３からのアルデヒド（２５２ｍｇ，０．９２９ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（８ｍ ｌ）との混合物に、アルゴン下、０℃において、トリフルオロメチルシラン（１ ３２ｍｇ，０．９２９ｍｍｏｌ）を加え、次にフッ化テトラブチルアンモニウム （ＴＨＦ中１Ｍ溶液，５０ｍｌ）を加えた。反応を２３℃に加温した。２３℃に おける２時間後に、反応を３Ｎ ＨＣｌ（１２５ｍｌ）によって処理した。４時 間後に、反応をエーテル（７５ｍｌ）によって希釈し、ブライン（１ｘ１００ｍ ｌ）によって洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮は褐色油状物 （２１４ｍｇ，６７．４％）を生成し、これをさらに精製せずに次の工程に 供給した：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ２．６３（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．９ ７（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．６８（ｂｒ ｓ），４．８８（ｑ，Ｊ＝６Ｈｚ）， ６．７３−６．８２（ｍ），７．１１−７．３５（ｍ），７．８３−７．９２（ ｍ），８．８５（ｂｒ ｓ）．ＩＲ（ニート） ３４５０−３０５０，１６６７ ｃｍ^-1．ＭＳ（ＥＩ）３４１（Ｍ⁺），３２３，２０９，１４０．分析．計算値 ．Ｃ₁₇Ｈ₁₅ＮＯ₂Ｆ₄として：Ｃ，５９．８２；Ｈ，４．４３；Ｎ，４．１０．実 測値：Ｃ，５９．８１；Ｈ，４．５７；Ｎ，４．０８．工程５：Ｎ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエ チル）フェニル］ベンゼンプロパンアミドの製造 工程４からのＮ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−ヒ ドロキシエチル）フェニル］ベンゼンプロパンアミド（１７８ｍｇ，０．５２１ ｍｍｏｌ）と塩化メチレン（１５ｍｌ）との溶液に、１，１，１−トリアセトキ シ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキシル−３（１Ｈ）−オン（８８ ５ｍｇ，２．０８ｍｍｏｌ）を加え、次にｔｅｒｔ−ブタノール（１５ｍｌ）を アルゴン雰囲気下、２３℃において加えた。１８時間後に、飽和ＮａＨＣＯ₃ （３１ｍｌ）を加え、次に固体チオ硫酸ナトリウム（５．２０ｇ，３２．９ｍｍ ｏｌ）を加えた。２３℃における１時間後に、有機層を水性層から分離した。水 性層をエーテル（２ｘ１００ｍｌ）によって抽出し、一緒にした有機層を飽和Ｎ ａＨＣＯ₃：飽和Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₃（３ｘ８０ｍｌ）とブライン（１ｘ８０ｍｌ）とに よって洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮後に、粗残渣をフラ ッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン １：３）によって精製し、 黄色ガムとしてＮ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オ キソエチル）フェニル］ベンゼンプロパンアミド（８０ｍｇ）を得た：¹Ｈ Ｎ ＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ２．７８（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．０７（ｔ，Ｊ＝７Ｈ ｚ），６．８２−６．９１（ｍ），７．１７−７．３３（ｍ），７．９２−８． ０３（ｍ），７．９２−８．０３（ｍ），８．６７−８．７３（ｍ），１１．１ １（ｂｒ ｓ）；¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ３１．０，４０．２，１０８ ．２（ｄ，Ｊ＝２７．８Ｈｚ），１１０．４５（ｄ，Ｊニ２２．５Ｈｚ），１１ １．６，１１６．４（ｑ，Ｊ＝２９０Ｈｚ），１２６．４，１２８．２，１ ２８．５，１３４．５（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），１３９．９，１３９．９，１４６． ２（ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ），１６７．９（ｄ，Ｊ＝２５８Ｈｚ），１７１．６，１ ８１．９．ＭＳ（ＥＩ）３３９（Ｍ⁺），３２０，２７０，２０７．ＩＲ（ニー ト）１７１２，１６７７ｃｍ^-1．分析．計算値．Ｃ₁₇Ｈ₁₃ＮＯ₂Ｆ₄として：Ｃ， ６０．１８；Ｈ，３．８６；Ｎ，４．１３．実測値：Ｃ，５９．８２；Ｈ，４． ０８；Ｎ，３．９４． 実施例３ Ｎ−［３−クロロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程１の２−ニトロベンズアルデヒド の代わりに２−ニトロ−６−クロロベンズアルデヒドを、及び工程３のフロイル クロリドの代わりにヒドロシンナモイルクロリドを用いて製造した。フラッシュ クロマトグラフィーによる精製は標題化合物を油状物として生成した：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ２．６４（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．０３（ｔ，Ｊ＝７ Ｈｚ），７．１４−７．６８（ｍ）；¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ３１．０ ，３８．５，１１５．４（ｑ，Ｊ＝２９０Ｈｚ），１１７．１，１２２．６，１ ２６．４，１２６．６，１２８．２，１２８．６，１３２．８，１３６．１，１ ３９．８．ＭＳ（ＥＩ）３５５（Ｍ⁺），２８６，２５８，２２３．ＩＲ（ニー ト）１７３４，１６６２ｃｍ^-1．分析．計算値．Ｃ₁₇Ｈ₁₃ＮＯ₂Ｆ₄Ｃｌとして： Ｃ，５７．３９；Ｈ，３．６８；Ｎ，３．９４；Ｃｌ，９．９７．実測値：Ｃ， ５７．０７；Ｈ，３．７９；Ｎ，３．８３：Ｃｌ，９．２１． 実施例４Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロオキソエチル）フェニル］ベンゼンプロ パンアミド 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程１の２−ニトロベンズアルデヒド の代わりに２−ニトロ−６−クロロベンズアルデヒドを、及び工程３のフロイル クロリドの代わりにヒドロシンナモイルクロリドを用いて製造した。フラッシュ クロマトグラフィーによる精製は標題化合物を油状物として生成した：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ２．７８（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．０９（ｔ，Ｊ＝７ Ｈｚ），７．１４−７．３５（ｍ），７．７１（ｍ），７．９６（ｂｒ ｄ，Ｊ ＝７Ｈｚ），８．８４（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）；¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ３ １．２，４０．２，１１５．１，１１７．１（ｑ，Ｊ＝２９０Ｈｚ），１２１． ２，１２２．６，１２６．３，１２８．２，１２８．５，１３１．６，１３１． ７，１３７．６，１４０．１，１４３．３，１７１．４，１８１．４（ｑ，Ｊ＝ ６３Ｈｚ）．ＭＳ（ＥＩ）３２１（Ｍ⁺），２５２，１８９．ＩＲ（ニート）３ ３４６，１６８２ｃｍ^-1．分析．計算値．Ｃ₁₇Ｈ₁₃ＮＯ₂Ｆ₃Ｃｌとして：Ｃ，６ ３．５５；Ｈ，４．３９；Ｎ，４．３６．実測値：Ｃ，６３．３６；Ｈ，４．３ ４；Ｎ，４．１６． 実施例５ Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオ１−ｌ−オキソエチル）フェニル］ピラジ ン−２−カルボキサミド 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程３のフロイルクロリドの代わりに ピラジン−２−カルボニルクロリドを用いて製造した。フラッシュクロマトグラ フィーによる精製は標題化合物を油状物として生成した：¹Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃）δ ７．３０（ｔｄ，Ｊ＝８，１Ｈｚ），７．８０（ｔｄ，Ｊ＝ ８，１Ｈｚ），８．０６（ｄｐ，Ｊ＝８，１Ｈｚ），８．７７（ｄｄ，Ｊ＝２， １Ｈｚ），８．８５（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），９．０７（ｄｄ，Ｊ＝８，１Ｈｚ）， ９．５１（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ）；¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ １１６．４，１ １６．４（ｑ，Ｊ＝２９０Ｈｚ），１２１．５，１２３．４，１３１．９，１３ ７．４，１４２．１，１４２．９，１４４．４，１４４．８，１４７．７，１６ ２．４．ＭＳ（ＥＩ）２９５（Ｍ⁺），２２６，１９８．ＩＲ（ニート）３２４ ４，１６８９ｃｍ^-1． 実施例６ フェニルメチル Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル） フェニル］カルバメート 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程３のフロイルクロリドの代わりに ベンジルクロロホルメートを用いて製造した。フラッシュクロマトグラフィーに よる精製は標題化合物を油状物として生成した：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ５．２４（ｓ），７．０５−７．９６（ｍ），８．６１（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），；¹³ Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ６７．３，１１４．８，１１７．３（ｑ，Ｊ＝ ２９０Ｈｚ），１１９．６，１２１．８，１２８．２，１２８．３，１３１．６ ，１３５．６，１３７．４，１４３．８，１５３．１，１８２．２（ｑ，Ｊ＝ ５３Ｈｚ）．ＭＳ（ＥＩ）３２３（Ｍ⁺），２９８，９１．ＩＲ（ニート）３３ １２，１７４１ｃｍ^-1．分析．計算値．Ｃ₁₆Ｈ₁₂ＮＯ₃Ｆ₃として：Ｃ，５９．４ ４；Ｈ，３．７４；Ｎ，４．３３．実測値：Ｃ，５８．７５；Ｈ，３．６６；Ｎ ，４．２２． 実施例７ Ｎ−［５−ニトロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド 標題化合物を実施例２の方法で、但し、工程１の２−アミノ−４−フルオロ安 息香酸の代わりに２−ニトロ−４−ニトロ安息香酸を用いて製造した。フラッシ ュクロマトグラフィーによる精製は標題化合物を油状物として生成した：¹Ｈ ＮＭＲ（互変異性体の４：１混合物，ＣＤＣｌ₃）δ ２．６４（ｔ，Ｊ＝７Ｈ ｚ），２．７３（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），２．９４（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），３．０７（ ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），６．５０（ｂｒ ｓ），７．１４−７．３３（ｍ），７．７ １−８．１４（ｍ）．９．１４（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ），９．５６（ｂｒｄ， Ｊ＝１Ｈｚ），１０．７２（ｂｒ ｓ）；¹³Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ３１． ８（マイナー），３２．０（メジャー），４０．５（マイナー），４１．０（ｍ ａｊｏｒ），１１７．０，１１７．２，１１７．５（ｑ，Ｊ＝２９０Ｈｚ），１ １７．７，１１７．８，１２７．４，１２９．１，１２９．２，１２９．５，１ ２９．６，１３１．４，１３２．７，１３３．６，１３９．２，１４０．７，１ ４４．６，１４９．８，１５３．０，１７２．９，１８３．８（ｑ，Ｊ＝６３Ｈ ｚ）． 実施例８Ｎ−［４−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］フラン−２−カルボキサミド 標題化合物を実施例２の方法で、但し、工程２のヒドロシンナモイルクロリド の代わりに２−フロイルクロリドを用いて製造した。粗残渣をフラッシュクロマ トグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン１：３）によって精製して、標題化合物を 得た：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ６．６１（ｄｄ，Ｊ＝３，２Ｈｚ），６． ９３（ｄｄｄ，Ｊ＝９，８，２．５Ｈｚ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝３，１Ｈｚ） ，７．６６（ｄｄ，Ｊ＝２，１Ｈｚ），８．０６（ｄｄｑ，Ｊ＝８，７，２）， ８．８２（ｄｄ，Ｊ＝１２．５，２．５），１２．１７（ｂｒ ｓ）；¹³Ｃ Ｎ ＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ １０８．４（ｄ，Ｊ＝２８．５Ｈｚ），１１０．７５（ ｄ，Ｊ＝２２．５Ｈｚ），１１２．８，１１４．３（ｑ，Ｊ＝２９０Ｈｚ），１ １６．８，１１８．５，１２６．４，１３４．８（ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ），１４５． ６，１４６．４（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），１４７．３，１５６．９，１６８０（ｄ， Ｊ＝２６２Ｈｚ），１８１．９（ｑ，Ｊ＝６３Ｈｚ）． 実施例９ Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］−１− べンゾチオフェン−２−カルボキサミド 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程３のフロイルクロリドの代わりに ２−チアナフテネンカルボニルクロリドを用いて製造した。フラッシュクロマト グラフィーによる精製は、標題化合物を油状物として生成した：¹Ｈ ＮＭＲ（ ＣＤＣｌ₃）δ ７．４２（ｍ），７．７５−７．８３（ｍ），７．８６−７． ９９（ｍ），８．０５−８．１１（ｍ），９．０３（ｂｒ ｄ）．ＭＳ（ＥＩ） ３４９（Ｍ⁺），２８０，２４８，１６１．分析．計算値．Ｃ₁₇Ｈ₁₀ＮＯ₂Ｆ₃Ｓ プラス１．２５ Ｈ₂Ｏとして：Ｃ，５４．９１；Ｈ，３．３９；Ｎ，３．７７ ．実測値：Ｃ，５４．５７；Ｈ，３．０２；Ｎ，３．２１． 実施例１０ α，α，α−トリフルオロ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキ ソエチル）フェニル］アセトアミド 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程３のフロイルクロリドの代わりに 無水トリフルオロ酢酸を、及び工程３の１Ｎ ＮａＯＨの代わりにＫ₂ＣＯ₃を用 いて製造した。フラッシュクロマトグラフィーによる精製は、標題化合物を油状 物として生成した：¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ ７．３４−７．４４（ｍ）， ７．７６−７．８３（ｍ），８．０５−８．１２（ｍ），８．７６（ｄ）． 実施例１１Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピリジ ン−２−カルボキサミド 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程３のフロイルクロリドの代わりに ピコリノイルクロリドを用いて製造した。フラッシュクロマトグラフィーによる 精製は、標題化合物を油状物として生成した：分析．計算値．Ｃ₁₄Ｈ₉Ｎ₂Ｏ₂Ｆ₃ として：Ｃ，５７．１５；Ｈ，３．０８；Ｎ，９．５２．実測値：Ｃ，５６．５ ３；Ｈ，２．９３：Ｎ，９．３４． 実施例１２ Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］２−メ トキシベンズアミド 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程３のフロイルクロリドの代わりに ２−メトキシベンゾイルクロリドを用いて製造した。フラッシュクロマトグラフ ィーによる精製は、標題化合物を油状物として生成した：ＭＳ（ＥＩ）３２３（ Ｍ⁺）．分析．計算値．Ｃ₁₆Ｈ₁₂ＮＯ₃Ｆ₃として：Ｃ，５９．４４；Ｈ，３．７ ４；Ｎ，４．３３．実測値：Ｃ，５９．２７；Ｈ，３．９９；Ｎ，３．６６． 実施例１３Ｎ−［４−ヨード−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］フラン−２−カルボキサミド 標題化合物を実施例２の方法で、但し、工程１の２−アミノ−４−フルオロ安 息香酸の代わりに５−ヨード−２−アミノ安息香酸を、及び工程２のヒドロシン ナモイルクロリドの代わりにフロイルクロリドを用いて製造した。フラッシュク ロマトグラフィーによる精製は、標題化合物を油状物として生成した。 実施例１４ Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］４−ク ロロフェノキシアセトアミド 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程３のフロイルクロリドの代わりに ４−クロロフェノキシアセチルクロリドを用いて製造した。フラッシュクロマト グラフィーによる精製は、標題化合物をベージュ色固体として生成した：ｍｐ１ ３４−１３５℃．ＭＳ（ＥＩ）３５７（Ｍ⁺），２８８，２３０，２０２．分析 ．計算値．Ｃ₁₆Ｈ₁₁ＣｌＦ₃ＮＯ₃として：Ｃ，５３．７２；Ｈ，３．１０；Ｎ， ３．９２．実測値：Ｃ，５３．８０；Ｈ，３．１４：Ｎ，３．７７． 実施例１５Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］インド リル−２−カルボキサミド工程１：インドール−２−カルボニルクロリドの製造： インドール−２−カルボン酸（９６０ｍｇ，６．０ｍｍｏｌ）と、１０ｍｌの ＣＨ₂Ｃｌ₂と、２滴のＤＭＦとの溶液に、アルゴン下、０℃において、オキサリ ルクロリド（２．６８ｍｌ，２４．０ｍｍｏｌ）を滴加した。反応を２３℃にお いて３．５時間撹拌して、次に、真空下で濃縮して、黄色油状物を得て、これを さらに精製せずに次の工程に供給した。工程２：Ｎ−［２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］イン ドリル−２−カルボキサミドの製造 標題化合物を実施例１の方法で、但し、実施例１、工程３のフロイルクロリド の代わりに工程１からのインドール−２−カルボニルクロリドを用いて製造した 。フラッシュクロマトグラフィーによる標題化合物の精製は、黄色固体を生じた ：ｍｐ １８８−１９３℃．ＭＳ（ＥＩ）３３２（Ｍ⁺），１４４．分析．計算 値．Ｃ₁₇Ｈ₁₁Ｆ₃Ｎ₂Ｏ₂プラス０．３５ｍｏｌ Ｈ₂Ｏとして：Ｃ，６０．３０； Ｈ，３．４８；Ｎ，８．２７．実測値：Ｃ，６０．２２；Ｈ，３．５６；Ｎ，７ ．８３． 実施例１６ Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゾ フラニル−２−カルボキサミドの製造 標題化合物を実施例１の方法で、但し、工程３のフロイルクロリドの代わりに ２−ベンゾフランカルボニルクロリドを用いて製造した。２−ベンゾフランカル ボニルクロリドは実施例１５、工程１の方法で、但し、インドール−２−カルボ ン酸の代わりに２−ベンゾフランカルボン酸を用いて製造した。フラッシュクロ マトグラフィーによる標題化合物の精製は、黄色固体を生じた：ｍｐ １３０− １３２℃．ＭＳ（ＥＩ）３３３（Ｍ⁺），２６４，１４５．分析．計算値．Ｃ₁₇ Ｈ₁₀Ｆ₃ＮＯ₃として：Ｃ，６１．２７；Ｈ，３．０２；Ｎ，４．２０．実測値： Ｃ，６０．９４；Ｈ，２．７６；Ｎ，４．１１． 実施例１７ Ｎ−［２−（３−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ−１−オ キソプロピル）２−メトキシカルボキサミド工程１：２−（３−エトキシ−３−オキソ−２，２−ジフルオロ−１−ヒドロキ シプロピル）ニトロベンゼンの製造 ７５ｍｌの無水ＴＨＦ中の活性化亜鉛（６．２５ｇ，９９．２ｍｍｏｌ）のス ラリーに、エチル ブロモジフルオロアセテート（１１．０ｍｌ，８５．８ｍｍ ｏｌ）を加え、混合物を還流加熱した。目視可能な反応が生じた後に、３０ｍｌ の無水ＴＨＦ中の２−ニトロベンズアルデヒド（５．０ｇ，３３．１ｍｍｏｌ） を滴加して、還流を維持した。３時間後に、溶液を２３℃に冷却し、ＥｔＯＡｃ （５０ｍｌ）によって希釈し、１Ｍ ＫＨＳＯ₄（２ｘ５０ｍｌ）とブライン（ １ｘ５０ｍｌ）とによって洗浄し、乾燥させた（Ｎａ₂ＳＯ₄）。真空下での濃縮 によって生じた残渣をフラッシュクロマトグラフィー（クロロホルム：ＥｔＯＨ ，９９：１）によって精製して、２−（３−エトキシ−３−オキソ−２，２−ジ フルオロ−１−ヒドロキシプロピル）ニトロベンゼン（８．２８ｇ，９１％）を 橙色油状物として得て、これをさらに精製せずに次の工程に供給した。工程２：２−［３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ −１−ヒドロキシプロピル）ニトロベンゼンの製造 ＥｔＯＨ（２０ｍｌ）中の工程１からのエステル（１．５０ｇ，５．４５ｍｍ ｏｌ）の溶液に、イソプロピルアミン（１．８６ｍｌ，２１．８ｍｍｏｌ）を加 えた。この溶液を２０時間、還流加熱してから、周囲温度に冷却した。窒素雰囲 気下での濃縮はアミドを定量的に生じた：分析．計算値． Ｃ₁₂Ｈ₁₄Ｆ₂Ｎ₂Ｏ₄プラス０．１５ｍｏｌ Ｈ₂Ｏとして：Ｃ，４９．５４；Ｈ， ４．９５；Ｎ，９．６３．実測値：Ｃ，４９．５２；Ｈ，５．５２；Ｎ，９．４ ６．工程３：２−［３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ −１−ヒドロキシプロピル）アニリンの製造 ＥｔＯＨ（５０ｍｌ）中の工程２からのアミド（２．００ｇ，７．２５ｍｍｏ ｌ）の溶液を４％Ｐｄ／Ｃ上で５ｐｓｉにおいて２３℃で１時間水素化した。触 媒を濾別した後に、真空下での濃縮は定量的量のアミンを褐色油状物として生成 し、これをさらに精製せずに次の工程に供給した。工程４：Ｎ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフ ルオロ−１−ヒドロキシプロピル）フェニル］−２−メトキシフェニルカルボキ サミドの製造 ＣＨ₂Ｃｌ₂（２０ｍｌ）中の工程３からのアミン（７５０ｍｇ，３．０ｍｍｏ ｌ）の溶液に、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（０．５２ｍｌ，３．０ｍ ｍｏｌ）を加え、０℃に冷却したときに、ｏ−アニソリルクロリド（０．４４ｍ ｌ，３．０ｍｍｏｌ）を滴加した。アルゴン下で０．５時間撹拌した後に、溶液 を真空下で濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ（７５ｍｌ）で希釈し、１Ｍ ＫＨＳＯ₄ （２ｘ５０ｍｌ）、飽和ＮａＨＣＯ₃（２ｘ５０ｍｌ）及びブライン（１ｘ５０ ｍｌ）で洗浄し、乾燥させた（Ｎａ₂ＳＯ₄）。ＭｅＯＨ／１，４−ジオキサン１ ：１ （１０ｍｌ）中の残渣の溶液に、１Ｍ ＮａＯＨ（５ｍｌ）を加えた。２ ３℃において１０分間撹拌した後に、溶液を真空下で濃縮した。残渣をＥｔＯＡ ｃ（２０ｍｌ）で希釈し、Ｈ₂Ｏ（２ｘ１０ｍｌ）とブライン（１ｘ１０ｍｌ） とによって洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下での濃縮後に、残渣をフ ラッシュクロマトグラフィー（ＥｔＯＡｃ：ヘキサン２：８）によって精製して 、Ｎ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ −１−ヒドロキシプロピル）フェニル］−２−メトキシフェニルカルボキサミド （４７５ｍｇ，４０％）をピンク色油状物として得た：ＭＳ（ＥＩ）３９２（Ｍ⁺ ），３７２，２５７．分析．計算値．Ｃ₂₀Ｈ₂₂Ｆ₂Ｎ₂Ｏ₄プラス０．１ｍｏｌ Ｈ₂Ｏとして：Ｃ，６０．９４；Ｈ，５．６８；Ｎ，７．１１． 実測値：Ｃ，６０．９０；Ｈ，５．７８；Ｎ，６．７８．工程５：Ｎ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフ ルオロ−１−オキソプロピル）フェニル］−２−メトキシフェニルカルボキサミ ドの製造 工程４のＮ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジ フルオロ−１−ヒドロキシプロピル）フェニル］−２−メトキシフェニルカルボ キサミド（２００ｍｇ，０．５１ｍｍｏｌ）とＣＨ₂Ｃｌ₂（５ｍｌ）とｔｅｒｔ −ブタノール（５ｍｌ）との溶液に、アルゴン下、２３℃において１，１，１− トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキシル−３（１Ｈ） −オン（１．５ｇ，３．５４ｍｍｏｌ）を加えた。１８時間後に、飽和ＮａＨＣ Ｏ₃（１０ｍｌ）を加え、次に固体Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₃（０．０ｇ，６．３ｍｍｏｌ）を 加えた。２３℃において２時間激しく撹拌した後に、有機層を分離 し、飽和ＮａＨＣＯ₃（２ｘ１０ｍｌ）、飽和Ｎａ₂Ｓ₂Ｏ₃（２ｘ１０ｍｌ）及び ブライン（１×１０ｍｌ）によって洗浄し、乾燥させた（ＭｇＳＯ₄）。真空下 で濃縮し、エチルエーテルと共に磨砕したときに、標題化合物が黄色固体（１０ ０ｍｇ）として生成した：ｍｐ １３１．５−１３２℃．¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣ ｌ₃）δ １．２７（ｄ），４．１３（ｓ），４．１３−４．２０（ｍ），６． ３２（ｂｒ ｄ），７．０４（ｍ），７．１０（ｍ），７．１９（ｍ），７．５ １（ｍ），７．６７（ｍ），８．１１（ｍ），８．２２（ｍ），８．９０（ｍ） ，１２．０１（ｂｒ ｓ）．ＭＳ（ＥＩ）３９０（Ｍ⁺），２５４，１３５．分 析．計算値．Ｃ₂₀Ｈ₂₀Ｆ₂Ｎ₂Ｏ₄プラス０．２５ｍｏｌＨ₂Ｏとして：Ｃ，６０． ８３；Ｈ，５．２３；Ｎ，７．０９．実測値：Ｃ，６０．７５；Ｈ，５．００； Ｎ，６．９５． 本発明の化合物は、ヘルペスウイルスプロテアーゼ及びＣＭＶ感染性をｉｎｖ ｉｔｒｏ阻害することによって実証されるように抗ウイルス活性を示した。実施 例で説明した本発明の化合物の抗ウイルス活性は下記方法によって測定した。 ＨＣＭＶプロテアーゼ（アセンブリン）阻害剤の酵素分析 アセンブリンプロテアーゼ活性をｈＣＭＶ成熟部位、スクシニル−ＡＧＶＶＮ Ａ−パラ−ニトロアニリドに基づく色原体パラ−ニトロアニリド（ｐＮＡ）基質 を用いて測定した。アセンブリンを加えたこの基質のインキュベーションはアラ ニル パラ−ニトロアニリドアミド結合の切断を生じて、４０５ｎｍにおける吸 光度によって判定されることができる遊離パラ−ニトロアニリンを放出した。可 能なプロテアーゼ阻害剤をＤＭＳＯ中に溶解し、１０μｌを９６穴プレート（Ｄ ｙｎａｔｅｃｈ，Ｉｍｍｕｌｏｎ １）の穴に加えた。酵素を分析緩衝剤（１０ ｍＭリン酸ナトリウム，ｐＨ７．４，１５０ｍＭ酢酸ナトリウム，０．１％ＣＨ ＡＰＳ，２０％グリセロール）中で４．８μｇ／ｍｌに希釈して、１００μｌを 各穴に加えた。室温において３０分間インキュベーションした後に、５０μｌの 基質（１部のＤＭＳＯ中２０ｍＭスクシニル−ＡＧＶＶＮＡ−パラニトロアニリ ド（配列番号：１）プラス９部の分析緩衝剤）を加え、定期的な読み取りをマイ クロプレート読み取り機で６５０ｎｍを基準にして４０５ｎｍにおいておこなっ た。活性は１分間当たりのミリ吸光度単位(milliabsorbance unit)（ｍＡ Ｕ）の変化として表した。阻害剤効力は、これらの条件下で０．５〜１ｍＡＵ／ 分の増加を生じた、阻害剤を欠いたインキュベーションと比較して判定した。酵 素を省略した場合には、増加は見られなかった。結果［ＩＣ₅₀（μＭ）］は表１ に含める。 分析要素： 組換えＨＣＭＶプロテアーゼ： ヒトサイトメガロウイルス系統ＡＤ１６９のＵ_L８０オープンリーディングフ レームのプロテアーゼドメインをコードするＤＮＡ構造を発現するＥ．ｃｏｌｉ から、ＨＣＭＶプロテアーゼを精製した。この構造はプロテアーゼのアミノ末端 の６個の付加的なヒスチジン残基をもコードした。これらの付加的ヒスチジン残 基はアフィニティリガンドを形成し、これによって、このプロテアーゼはニッケ ル−ニトリロ酢酸−アガロース（Ｑｉａｇｅｎ）を用いて精製された。 精製済みプロテアーゼを、２０％（ｖ／ｖ）グリセロールを含有する２０ｍＭ ＨＥＰＥＳ，ｐＨ７．４中の１〜３ｍｇ／ｍｌストック溶液として貯蔵した。 このストックを分析希釈剤によって４．８μｇ／ｍｌに希釈した。この溶液の１ ００μｌアリコートを酵素反応に用いた。 アセンブリータンパク質の“成熟部位＃におけるＨＣＭＶプロテアーゼの切断 特異性に基づいて、特異性基質を合成した［Ｅ．ＬｉｅとＢ．Ｒｏｉｚｍａｎ， Ｊ．Ｖｉｒｏｌ．，６５，５１４９（１９９１）と；Ａ．Ｗｅｌｃｈ等，Ｊ．Ｖ ｉｒｏｌ．，６５，４０９１（１９９１）］。アセンブリータンパク質の成熟部 位は配列・・・ＡＧＶＶＮＡ★ＳＣＲＬＡＴＡ・・・を有し；用いた基質はスク シニル−ＡＧＶＶＮＡ−ＰＮＡ（配列番号：１）を有した、これは例えばＢｏｄ ａｎｓｋｙとＢｏｄａｎｓｋｙ，“Ｔｈｅ Ｐｒａｃｔｉｃｅ ｏｆ Ｐｅｐｔ ｉｄｅ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”（１９８４）に述べられている方法のような標準 的なペプチド合成方法によって製造し、ジメチルスルホキシド中２０ｍＭのスト ック溶液として貯蔵した。これを使用直前に２ｍＭの濃度になるように分析緩衝 剤によって１０倍に希釈した。５０μｌのアリコートを反応に用いた。 分析緩衝剤［１０ｍＭリン酸ナトリウム緩衝剤；１５０ｍＭ酢酸ナトリウム； ０．１％ＣＨＡＰＳ；及び２０％（ｖ／ｖ）グリセロール］を用いて、酵素と基 質のストック溶液を希釈した。 抗ウイルス分析 これらのコンプリメンタリ(complimentary)分析は、化合物が新しいウイルス の産生を阻害する能力と、宿主細胞に対する化合物の毒性とを試験した。毒性は 間接的にウイルス収率を減ずるので、結果を直接比較するためには、両方の分析 を同時におこなうことが重要であった。 略号： ＤＭＥＭ：Ｄｕｌｂｅｃｃｏの改良イーグル培地、商業的に入手可能。 ＥＢＳ：ウシ胎児血清；商業的に入手可能、培養中の細胞の増殖のために必要な 未知因子を含有する。 ＰＢＳ：リン酸塩緩衝化生理的食塩水；１０ｍＭリン酸ナトリウム緩衝剤、ｐＨ ７．４、１２０ｍＭ塩化ナトリウム、２．７ｍＭ塩化カリウム。 ウイルス収率は、モノクローナル抗体による感染後４日間に豊富な“前初期” ウイルスタンパク質にまで産生したウイルス抗原量を測定することによって算出 した。一次（マウス）抗体に特異的な酵素結合（ホースラディッシュペルオキシ ダーゼ）二次抗体を用いて、ウイルス抗原量を測定した。試験化合物をＤＭＥＭ ＋５％ＦＢＳ中で望ましい最終濃度の２倍にまで希釈した。この溶液の１００μ ｌを９６穴プレートの各穴に入れた。これを抗ウイルス性９６穴プレートに対し て１回おこない、細胞傷害性プレートに対して再びおこなった。両方のプレート に対して２種類の対照：無薬物対照と無ウイルス対照も含めた。ガンシクロビル はＨＣＭＶに対して既知の抗ウイルス活性を有するので、ガンシクロビルを抗ウ イルス性プレートと細胞傷害性プレートとにおいて参照標準としてルーチンに試 験した。全ての細胞は、ヒト包皮線維芽細胞をトリプシンによって採取し、ＤＭ ＥＭ中に５ｘ１０⁵細胞／ｍｌの濃度で再懸濁させることによって用意した。感 染細胞は、これらの細胞を感染多重度（＝０．２）においてＨＣＭＶ（系統ＡＤ １６９）によって感染させることによって用意した。１００μｌ（５ｘ１０⁴細 胞）の未感染細胞を細胞傷害性プレートの適当な穴に加えた。同様な方法で、１ ００μｌの感染細胞（５ｘ１０⁴細胞）を抗ウイルス性プレートの適当な穴に加 えた。さらに、試験化合物によって処理しなかった未感染細胞を抗ウイルス性 プレートに対照として含めた。プレートを５％ＣＯ₂雰囲気中、３７℃において インキュベートし、処理して、ウイルス抗原量と毒性とを測定した。結果は表１ に含める。 ＨＣＭＶ抗原に関する酵素結合イムノソルベント分析（ＥＬＩＳＡ）： 下記は抗ウイルス性プレートのみに対しておこなった。培地を除去し、細胞を １：１アセトン：メタノールによって−２０℃において１５分間固定した。固定 液を除去し、細胞を、０．０５％Ｔｗｅｅｎ２０を含有するＰＢＳによって１回 洗浄した。抗体の非特異的結合を阻止するために、各穴に３％（ｗ／ｖ）ウシ血 清アルブミン（ＢＳＡ）を含有するＰＢＳを加えて２２℃において１時間インキ ュベートした。阻止溶液(blocking solution)を除去し、０．０５％Ｔｗｅｅｎ ２０を含有するＰＢＳによって１回洗浄してから３％ＢＳＡを含有するＰＢＳ中 の一次抗体の１：１００希釈物を加えて２２℃において２時間インキュベートし た。一次抗体はＨＣＭＶの前初期核抗原に特異的なモノクローナル抗体（マウス 入手源）であり、商業的に入手可能であった（Ｄｕｐｏｎｔ）。１°抗体溶液を 除去し、プレートを１％（ｖ／ｖ）Ｔｒｉｔｏｎ Ｘ−１００を含有するＰＢＳ （ＰＢＳＴ）によって５回すすぎ洗いしてから、３％ＢＳＡを含有するＰＢＳ中 の二次抗体の１：１００希釈物を加えて２２℃において２時間インキュベートし た。二次抗体（ヤギ入手源）は１°抗体のネズミ特異的決定因子(murine-specif ic determint)を認識し、ホースラディッシュペルオキシダーゼ（Ｓｉｇｍａ） に共有結合した。プレートをＰＢＳＴによって５回すすぎ洗いし、脱イオン水に よって１回すすぎ洗いしてから、１００μｌのＴＭＢ基質溶液を加え、２２℃に おいて３０分間インキュベートした。１００μｌのリン酸を加えて、反応を停止 させ、４５０ｎｍにおけるＯＤを記録した。ＴＭＢ（３，３’，５，５’テトラ メチルベンジジン）は２°抗体に結合したホースラディッシュペルオキシダーゼ の基質であった。これは商業的に入手可能なキット （Ｋｉｒｋｅｇａａｒｄ ＆ Ｐｅｒｒｙ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ， Ｉｎｃ．）から製造した。薬物処理穴中で産生されたウイルス抗原量を薬物の存 在しない穴中で産生されたウイルス抗原量と比較することによって、抗ウイルス 活性を算出した。結果（ＥＣ₅₀／ＴＤ₅₀）は表１に示す。 組換えヒトサイトメガロウイルス抗ウイルス分析 この分析では、改変ウイルスＲＣ２５６によるＥ．ｃｏｌｉβ−ガラクトシダ ーゼの産生によって、ＨＣＭＶ複製をモニターした［ＳｐａｅｔｅとＭｏｃａｒ ｓｋｉ，Ｐｒｏｃ．Ｎａｔ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．，８４，７２１３（１９８７） ］。各化合物に対して１種類の抗ウイルス性分析と１種類の細胞傷害性分析とを おこなった。９６穴プレートにおける試験化合物の希釈と細胞の感染とを実際に 、下記を除いて、ＨＣＭＶ ＥＬＩＳＡに関して上述したようにおこなった。３ ．５ｘ１０⁵細胞／ｍｌのヒト包皮線維芽細胞を溶液中で０．０５ｐｆｕ／細胞 においてＲＣ２５６によって感染させた。化合物と細胞とを３日間インキュベー トし、感染後２日目に処理した。β−ガラクトシダーゼの検出のために、抗ウイ ルス性分析プレートから上澄み液を吸引して、５０μｌのＲｅｐｏｒｔｅｒ溶菌 緩衝剤（Ｐｒｏｍｅｇａ，水によって１Ｘに希釈）を各穴に加えた。プレートを 室温において少なくとも３０分間インキュベートし、プレートをこの時点におい て後の処理のために−２０℃において凍結した。５０μｌの２Ｘ分析緩衝剤［１ ２０ｍＭ Ｎａ₂ＨＰＯ₄、８０ｍＭ ＮａＨ₂ＰＯ₄、２ｍＭ ＭｇＣｌ₂、１０ ０ｍＭ ２−メルカプトエタノール、４．４ｍＭ ＯＮＰＧ（Ｓｉｇｍａ）］を 各穴に加えて、室温において３０〜４５分間インキュベートした。１００μｌの １Ｍ ＣＡＰＳ（ｐＨ＝１１．０）を各穴に加えて、反応を停止させ、４１０ｎ ｍにおいて光学密度を読み取った。正の対照としてガンシクロビルを用いて、Ｅ Ｃ₅₀をＨＣＭＶ ＥＬＩＳＡに関して上述したように測定した。結果（ＥＣ₅₀／ ＴＤ₅₀）は表１に含める。 キモトリプシン分析 このキモトリプシン分析はＤｅｌｍａｒ等の方法［Ａｎａｌ． Ｂｉｏｃｈｅｍ．，９９，３１６〜３２０（１９７９）］から改変したものであ る。ウシ膵臓α−キモトリプシン（ＩＩ型、Ｓｉｇｍａ）を０．００１ＮＨＣｌ 中に１ｍｇ／ｍｌで溶解し、さらに使用前に分析緩衝剤（０．１ＭＴｒｉｓ，ｐ Ｈ７．８，０．１Ｍ ＣａＣｌ₂を含有）中で１／６００に希釈した。ＤＭＳＯ 中の２０μｌの試験化合物（又はＤＭＳＯのみ）、１００μｌの分析緩衝剤及び ３０μｌの酵素を９６穴プレートに加え、混合し、周囲温度におい て３０分間プレインキュベートした。５０μｌの０．２ｍＭ Ｎ−スクシニル− Ａｌａ−Ａｌａ−Ｐｒｏ−Ｐｈｅ−ｐ−ニトロアニリド（Ｓｉｇｍａ；ＤＭＳＯ 中の２ｍＭ、使用前に分析緩衝剤中で１／１０に希釈）の添加によって反応を開 始した。４０５ｎｍにおける吸光度の増加をＢｉｏｔｅｋ ＥＬ３４０プレート 読み取り機によって１０分間モニターした。結果は表１に含める。 ヒト白血球エセテラーゼ分析 ヒト白血球エセテラーゼ（ＨＬＥ）（Ｒ．Ｓｅｎｉｏｒ，ワシントン大学から の提供品）を生理的食塩水中で１ｍｇ／ｍｌにおいて溶解し、使用前に分析緩衝 剤（０．２Ｍ Ｔｒｉｓ，ｐＨ８．０）中で１／２０にさらに希釈した。ＤＭＳ Ｏ中の１０μｌの試験化合物（又はＤＭＳＯのみ）、１００μｌの分析緩衝剤及 び５０μｌの酵素を９６穴プレートに加え、混合し、周囲温度において３０分間 プレインキュベートした。４０μｌの２．５ｍＭ メトキシスクシニル−Ａｌａ −Ａｌａ−Ｐｒｏ−Ｖａｌ−ｐ−ニトロアニリド（Ｓｉｇｍａ；ＤＭＳＯ中の２ ５ｍＭ、使用前に分析緩衝剤中で１／１０に希釈）の添加によって反応を開始し た。４０５ｎｍにおける吸光度の増加をＢｉｏｔｅｋ ＥＬ３４０プレート読み 取り機によって１０分間モニターした。結果は表１に含める。 １種類以上の式Ｉ化合物を１種類以上の無毒性の、薬剤学的に受容されるキャ リヤー及び／又は希釈剤及び／又はアジュバント（本明細書では集約的に“キャ リヤー２物質と呼ぶ）と、必要な場合には、他の有効成分と共に含む薬剤組成物 類をも、本発明の範囲内に含まれる。本発明の化合物は任意の適当な経路で、好 ましくは、このような経路に適した薬剤組成物として、目的の治療に有効な投与 量において投与されることができる。化合物と組成物とは、例えば、経口的、血 管内的、腹腔内的、皮下的、筋肉内的又は局所的に投与されることができる。 経口投与のために、薬剤組成物は例えば錠剤、カプセル、懸濁液又は液体の形 状であることができる。薬剤組成物は好ましくは、特定量の有効成分を含有する 投与量単位として製造される。有効成分は、例えば生理的食塩水、デキストロー ス又は水が適当なキャリヤーとして用いられうる組成物として注入によって投与 されることもできる。 治療有効化合物の投与量と、疾患状態を本発明の化合物及び／又は組成物によ って治療するための投与計画とは、対象の年齢、体重、性別及び医学的条件と、 疾患の重症度と、投与の経路及び頻度と、用いられる特定の化合物とを含めた多 様な要素に依存するので、広く変化しうる。薬剤組成物は有効成分を約０．１〜 ２０００ｍｇ、好ましくは約０．５〜５００ｍｇ、最も好ましくは約１〜１００ ｍｇの範囲内で含有することができる。約０．０１〜１００ｍｇ／ｋｇ体重、好 ましくは約０．１〜約５０ｍｇ／ｋｇ体重、最も好ましくは約１〜２０ｍｇ／ｋ ｇ体重の一日量が適当でありうる。この一日量を１〜４回量／日として投与する ことができる。 治療目的のために、本発明の化合物を通常、指定投与経路に適当な１種類以上 のアジュバントと一緒にする。経口投与する場合に、化合物をラクトース、スク ロース、澱粉粉末、アルカン酸のセルロースエステル、セルロースアルキルエス テル、タルク、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、酸化マグネシウム、 リン酸と硫酸とのナトリウム塩とカルシウム塩、ゼラチン、アラビアゴム、アル ギン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、及び／又はポリビニルアルコールと 混合してから、便利な投与のために錠剤化又はカプセル化することができる。こ のようなカプセル又は錠剤は、ヒドロキシプロピルメチルセルロース中の活性化 合物の分散系として供給されることができるような制御放出製剤を含むことがで きる。非経口投与のための製剤は水性又は非水性の等張性滅菌注射溶液若しくは 懸濁液の形状であることができる。これらの溶液と懸濁液は、経口投与のための 製剤への使用に関して挙げたキャリヤー若しくは希釈剤を１種類以上有する滅菌 粉末又は顆粒から製造することができる。化合物を水、ポリエチレングルコール 、プロピレングルコール、エタノール、トウモロコシ油、綿実油、落花生油、胡 麻油、ベンジルアルコール、塩化ナトリウム及び／又は種々な緩衝剤中に溶解す ることができる。他のアジュバント及び他の投与形式も製薬技術分野において充 分にかつ広範囲に知られている。 眼又は他の外側組織（例えば、口と皮膚）の感染症に対しては、製剤を例えば ０．０７５〜３０％ｗ／ｗ、好ましくは０．２〜２０％ｗ／ｗ、最も好ましくは ０．４〜１５％ｗ／ｗの総量で有効成分（単数又は複数種類）を含有する局所軟 膏又はクリームとして施用することが好ましい。軟膏として製剤化する場合に、 有効成分をパラフィン系基剤又は水混和性軟膏基剤と共に用いることができる。 或いは、有効成分を水中油滴クリーム基剤と共にクリームに製剤化することがで きる。必要な場合には、クリーム基剤の水相は例えばプロピレングリコール、ブ タン−１，３−ジオール、マンニトール、ソルビトール、グリセロール、ポリエ チレングリコール及びこれらの混合物のような多価アルコールを例えば少なくと も３０％ｗ／ｗを包含することができる。局所用製剤は望ましくは、有効成分の 皮膚又は他の罹患部分を通しての吸収又は浸透を強化する化合物を含むことがで きる。このような皮膚浸透強化剤の例はジメチルスルホキシドと関連類似体を包 含する。本発明の化合物は経皮デバイスによって投与することもできる。局所投 与は溜め(reservoir)と多孔質膜型又は多様な固体マトリックスのいずれかのパ ッチを用いて達成される。いずれの場合にも、有効剤は溜め又はマイクロカプセ ルから膜を介して、レシピエントの皮膚又は粘膜と接触する有効剤透過性接着剤 中に連続的に供給される。有効剤が皮膚から吸収される場合には、有効剤の制御 され、予め定められた流れがレシピエントに投与される。マイクロカプセルの場 合には、カプセル封入剤が膜としても機能することができる。 本発明のエマルジョンの油相は既知成分から既知方法で構成されることができ る。この相は乳化剤のみを含むことができるが、この相は少なくとも１種類の乳 化剤と脂肪又は油との混合物又は脂肪と油の両方との混合物を含むことができる 。親水性乳化剤を、安定剤として作用する親油性乳化剤と共に含むことが好まし い。油と脂肪の両方を含むことも好ましい。乳化剤（単数又は複数種類）が安定 剤（単数又は複数種類）と共に又は安定剤なしでいわゆる乳化性ワックスを構成 し、このワックスが油及び脂肪と共に、クリーム製剤の油性分散相を形成するい わゆる乳化性軟膏基剤を構成する。本発明の製剤に用いるために適した乳化剤と 乳化安定剤は、Ｔｗｅｅｎ６０、Ｓｐａｎ８０、セトステアリルアルコール (cetostearyl alcohol)、ミリスチルアルコール、グリセリルモノステアレート 及びラウリル硫酸ナトリウムを特に含む。 薬剤学的エマルジョン製剤に用いられる可能性のある大抵の油中の活性化合物 の溶解度は非常に低いので、製剤のために適した油及び脂肪の選択は望ましいコ スメティック特性の達成に基づいている。したがって、クリームは好ましくは、 チューブ又は他の容器からの漏出を避けるために適したコンシステンシーを有す る、非べとつき性、非汚染性かつ可洗性の製品であるべきである。例えばジイソ アジペート、イソセチルステアレート、ヤシ油脂肪酸のプロピレングリコールジ エステル、イソプロピルミリステート、デシルオレエート、イソプロピルパルミ テート、ブチルステアレート、２−エチルヘキシルパルミテート又は分枝鎖エス テルのブレンドのような、直鎖又は分枝鎖の一塩基性若しくは二塩基性アルキル エステルを用いることができる。これらは、要求される性質に基づいて、単独で 又は組合せて用いることができる。或いは、例えば、白色軟質パラフィン及び／ 又は液体パラフィン又は他の鉱油のような高融点脂質を用いることができる。 眼への局所投与に適した製剤は、有効成分が適当なキャリヤー、特に有効成分 のための水性溶媒中に溶解又は懸濁している点眼剤をも包含する。抗ウイルス性 有効成分はこのような製剤中に好ましくは０．５〜２０％、有利には０．５〜１ ０％、特に約１．５％ｗ／ｗの濃度で存在する。 本発明を特定の実施態様に関して説明したが、これらの実施態様の詳細を限定 と解釈すべきではない。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９８年５月１１日（１９９８．５．１１） 【補正内容】 １〜３個のアミノ酸から成り、２，２−ジフルオロ−３−フェニル−１，３−ジ カルボニル基によって終結されるプロリン由来ペプチド配列を述べている。 幾つかの参考文献がアセチルコリンエステラーゼ、セリンエステラーゼの阻害 剤として、アリールトリフルオロメチルケトンを述べている。ヨーロッパ公開Ｅ Ｐ４０３，７１３（１９９０年１２月２７日発行）は、アルツハイマー病及び老 人性痴呆症の治療におけるｍ−（シリル）フェニルフルオロケトンを述べている 。米国特許第５，１６６，１８１号は、アセチルコリンエステラーゼ阻害剤とし ての［ｍ−（アルキルアミノアルキル）アリール］−ハロケトン化合物を述べて いる。特に、１−［３−［１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル］フェニル］ −２，２，２−トリフルオロエタノンが述べられている。 ＵＳ−Ａ５，１６６，１８１号はアセチルコリンエステラーゼを阻害するため の化合物を述べている。 ＷＯ−Ａ９５／２０３８９はＡＩＤＳの治療用の２Ｈ−３，１−べンズ−オキ サジノンを開示する。 ハロ置換アセトフェノンは選択的なヘルペスウイルスプロテアーゼ阻害剤とし ては又はヘルペスウイルス感染症の治療及び／若しくは予防のためには今までに 述べられていない。 発明の説明 本発明は、式Ｉ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、アルキル、アラルキ ル、ハロ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、Ｎ−アシル アミノ、アルキルスルホニルオキシ、アミノスルホニル、Ｎ−（ハロアルキルカ ルボニル）アミノ、ペプチジル、アミノ酸残基、 アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、アルキルアミノ及び アルコキシカルボニルから選択されたラジカルによって任意に置換される； Ｙはフルオロアルキル及び から選択される； Ｑはアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アミノ酸残基、ペプチ ジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷はアルキル、アラルキル及びヘテロサイクリルアルキルから選択されたラ ジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、窒素含有ヘテロサイク リル及びアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される］ で示される化合物、又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体。 ２．Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル 、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、ハロ、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、シアノ、ニトロ、 アミノ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ、Ｎ−アシルアミノ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルスルホ ニルオキシ、アミノスルホニル、Ｃ₁−Ｃ₆−Ｎ−（ハロアルキルカルボニル）ア ミノ、アミノ酸残基、ペプチジル、 から選択される； Ｒ⁵はＣ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニルオキシ、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルオキ シ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、フェニルチオ、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、 Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ、アリールアミノ、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ 、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、６〜１０員環アリール、アリール−Ｃ₁− Ｃ₆アルキル、５〜１０員環アリール、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、５〜１０ 員環ヘテロサイクリル及び５〜１０員環ヘテロサイクリル−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルか ら選択され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アル コキシ、フェニルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ 、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシカ ルボニル、アミノ酸残基及びペプチジルから選択された１個以上の置換基によっ て任意に置換される；Ｒ⁶はＣ₁−Ｃ₁₀アルキル、６〜１０員環アリール、アリー ル−Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、５〜１０員環ヘテロサイクリル及び５〜１０員環ヘテロ サイクリル−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルから選択され、Ｒ⁶は置換可能な位置において、 Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、フェニルチオ、 ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ及びＣ₁− Ｃ₆アルコキシカルボニルから選択されたラジカルによって任意に置換される； ＹはＣ₁−Ｃ₆−フルオロアルキル及び から選択される； ＱはＣ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニルオキシ、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルオキシ 、Ｎ−アミノ酸残基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷はＣ₁ −Ｃ₁₀アルキル、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキル及び５〜１０員環ヘテロサイクリ ル−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルから選択されたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置に おいて、アミノ、５〜６員環窒素含有ヘテロサイクリル及びＣ₁−Ｃ₆−Ｎ，Ｎ− ジアルキルアミノから選択された１個以上のラジカルによって任意に置換される 、請求項１記載の化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体。 ３．ＹはＣ₁−Ｃ₆−フルオロアルキルであり；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は 独立的にヒドリド、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル、ハロ、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ニトロ及 びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ、ハロ若しくはフ ェニルオキシによって置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキル、フェニル、フェニル−Ｃ₁ −Ｃ₆アルキル及び５〜１０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフェニル又 はヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₆アルコキシ、フェニルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、フェニルチオ、ハ ロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ、Ｃ₁−Ｃ₆ア ルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプチジルから選択された１個以上の置 換基によって任意に置換される、請求項２記載の化合物又はその薬剤学的に受容 される塩若しくは互変異性体。 ４．Ｙはジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘ プタフルオロプロピル、１，１−ジフルオロエチル及び１，１−ジフルオロプロ ピルから選択される；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、メチル 、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブ チル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨ ード、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ −ブトキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルメトキシ、フェ ニルエトキシ、フェニルプロポキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリ フルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフ ルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフ ルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジク ロロプロピル、フェニルオキシエチル、フェニルオキシプロピル、フェニル、フ ェニルメチル、フェニルエチル、フリル、ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリ ル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、インドリル及びピ リジルから選択され、Ｒ⁵はフェニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な 位置において、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ ソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ 、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、フ ェニルオキシ、メチルチオ、フェニルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード 、ニトロ、Ｎ−ホルミルアミノ、アセチルアミノ、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルア ミノ及びメトキシカルボニルから選択されたｌ個以上の置換基によって任意に 置換される請求項３記載の化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変 異性体。 ５．Ｙは であり；ＱはＣ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニルオキシ、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキ ルオキシ、Ｎ−アミノ酸残基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷はＣ₁−Ｃ₁₀アルキル、アリール−Ｃ₁−Ｃ₆アルキル及びヘテロアリール−Ｃ₁ −Ｃ₆アルキルから選択されたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において 、アミノ、５〜６員環窒素含有ヘテロサイクリル及びＣ₁−Ｃ₆−Ｎ，Ｎ−ジアル キルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³ 及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル、ハロ、Ｃ₁−Ｃ₆アルコ キシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ、ハロ若し くはフェニルオキシによって置換されたＣ₁−Ｃ₁₀アルキル、フェニル、フェニ ル−Ｃ₁−Ｃ₆アルキル及び５〜１０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフ ェニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、Ｃ₁−Ｃ₁₀アル キル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、フェニル チオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルアミノ、Ｃ₁ −Ｃ₆アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプチジルから選択された１個 以上の置換基によって任意に置換される、請求項２記載の化合物又はその薬剤学 的に受容される塩若しくは互変異性体。 ６．Ｙはであり； Ｑはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、フェニルオ キシ、ベンジルオキシ、フェニルエトキシ及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅ ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、 Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］２−メ トキシベンズアミド； Ｎ−［４−ヨード−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］４−ク ロロフェノキシアセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］インド リル−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゾ フラニル−２−カルボキサミド；及び Ｎ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ− １−オキソプロピル）フェニル］２−メトキシフェニルカルボキサミド から成る群の化合物とそれらの薬剤学的に受容される塩から選択される、請求項 ８記載の化合物。 １０．請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物又はその薬剤学的に受容さ れる塩若しくは互変異性体の治療有効量と、薬剤学的に受容されるキャリヤー又 は希釈剤とを含む薬剤組成物。 １１．対象におけるヘルペスウイルス感染症を治療する薬剤を製造するための 、請求項１〜９のいずれか１項に記載の化合物又はその薬剤学的に受容される塩 若しくは互変異性体の使用。 １２．対象が単純ヘルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）、単純ヘルペスウイル ス２型（ＨＳＶ−２）、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、水痘帯状庖疹ウイル ス（ＶＺＶ）、Ｅｐｓｔｅｉｎ−Ｂａｒｒウイルス、ヘルペスウイルス−６（Ｈ ＨＶ−６）、ヘルペスウイルス−７（ＨＨＶ−７）、ヘルペスウイルス−８（Ｈ ＨＶ−８）、仮性狂犬病及び鼻気管炎から選択されたヘルペスウイルスに感染し ている、請求項１１記載の使用。 １３．ウイルスプロテアーゼを阻害する薬剤を製造するための請求項１記載の 化合物の使用。 １４．ウイルスプロテアーゼがヘルペスウイルスプロテアーゼである、請求項 １３記載の使用。 １５．ウイルスプロテアーゼがＣＭＶプロテアーゼ、ＨＳＶ−１ブロテアーゼ 及びＨＳＶ−２プロテアーゼから選択される、請求項１３記載の使用。 １６．ウイルスプロテアーゼがＵ_L８０によってコードされるＣＭＶプロテア ーゼである、請求項１５記載の使用。 １７．対象におけるヘルペスウイルス感染症を予防処置する薬剤を製造するた めの、請求項１記載の化合物の使用。 １８．ヘルペスウイルスが単純へルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）、単純ヘ ルペスウイルス２型（ＨＳＶ−２）、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、水痘帯 状庖疹ウイルス（ＶＺＶ）、Ｅｐｓｔｅｉｎ−Ｂａｒｒウイルス、ヘルペスウイ ルス−６（ＨＨＶ−６）、ヘルペスウイルス−７（ＨＨＶ−７）、ヘルペスウイ ルス−８（ＨＨＶ−８）、仮性狂犬病及び鼻気管炎から選択される、請求項１７ 記載の使用。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/343 Ａ６１Ｋ 31/34 ６０２ 31/381 31/38 ６０１ 31/404 31/40 ６０７ 31/4402 31/44 ６０１ 31/4965 31/495 ６０２ Ｃ０７Ｃ 235/64 Ｃ０７Ｃ 235/64 271/28 271/28 Ｃ０７Ｄ 209/42 Ｃ０７Ｄ 209/42 213/81 213/81 241/24 241/24 307/68 307/68 307/85 307/85 333/70 333/70 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ， ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ， ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，Ｎ Ｏ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ， ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ (72)発明者 ザブロッキイ，ジェフリー，エイ. アメリカ合衆国80301 コロラド州ボール ダー，ウォルナット ストリート 3200 (72)発明者 ウィリアムズ，ケネス アメリカ合衆国60202 イリノイ州エバン ストン，ウエスト ハワード 1519 (72)発明者 ホッカーマン，スーザン，エル. アメリカ合衆国60641 イリノイ州シカゴ, ダブリュ．ハチンソン 5318

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．式I: ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、アルキル、アラルキ ル、ハロ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、Ｎ−アシル アミノ、アルキルスルホニルオキシ、アミノスルホニル、Ｎ−（ハロアルキルカ ルボニル）アミノ、ペプチジル、アミノ酸残基、 から選択される； Ｒ⁵はアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルキルチオ、アリ ールチオ、アラルキルチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミ ノ、アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロサイクリル及びヘテロサイクリル アルキルから選択され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、アルキル、アルコキシ 、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルア ミノ、アミノ、アルキルアミノ、アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプ チジルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される； Ｒ⁶はアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロサイクリル及びヘテロサイク リルアルキルから選択され、Ｒ⁶は置換可能な位置において、アルコキシ、アリ ールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、 アミノ、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルから選択されたラジカルによ って任意に置換される； Ｙはフルオロアルキル及び から選択される； Ｑはアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アミノ酸残基、ペプチ ジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷はアルキル、アラルキル及びヘテロサイクリルアルキルから選択されたラ ジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、窒素含有ヘテロサイク リル及びアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される］ で示される化合物、又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体。 ２．Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、低級アルキル、低級ア ラルキル、ハロ、低級アルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、低級アルキルアミ ノ、Ｎ−アシルアミノ、低級アルキルスルホニルオキシ、アミノスルホニル、低 級Ｎ−（ハロアルキルカルボニル）アミノ、アミノ酸残基、ペプチジル、 から選択される； Ｒ⁵は低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、低級アルキル チオ、フェニルチオ、低級アラルキルチオ、低級アルキルアミノ、アリールアミ ノ、低級アラルキルアミノ、低級アルキル、６〜１０員環アリール、低級アラル キル、５〜１０員環ヘテロサイクリル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選 択され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、低級アルキル、低級アルコキシ、フェ ニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミ ノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及 びペプチジルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される； Ｒ⁶は低級アルキル、６〜１０員環アリール、低級アラルキル、５〜１０員環ヘ テロサイクリル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選択され、Ｒ⁶が置換可 能な位置において、低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェ ニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ及び 低級アルコキシカルボニルから選択されたラジカルによって任意に置換される； Ｙは低級フルオロアルキル及び から選択される； Ｑは低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、Ｎ−アミノ酸残 基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷は低級アルキル、低級アラルキル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選 択されたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、５〜６員環 窒素含有ヘテロサイクリル及び低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノから選択された１ 個以上のラジカルによって任意に置換される、請求項１記載の化合物又はその薬 剤学的に受容される塩若しくは互変異性体。 ３．Ｙは低級フルオロアルキルであり；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的 にヒドリド、低級アルキル、ハロ、低級アルコキシ、ニトロ及びアミノから選択 される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ、ハロ若しくはフェニルオキシによって置換 された低級アルキル、フェニル、低級フェニルアルキル及び５〜１０員環ヘテロ アリールから選択され、Ｒ⁵はフェニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能 な位置において、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキ ルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキ ルアミノ、低級アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプチジルから選 択された１個以上の置換基によって任意に置換される、請求項２記載の化合物又 はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体。 ４．Ｙはジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘ プタフルオロプロピル、１，１−ジフルオロエチル及び１，１−ジフルオロプロ ピルから選択される；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、メチル 、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブ チル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨ ード、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ −ブトキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルメトキシ、フェ ニルエトキシ、フェニルプロポキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリ フルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ペンタフ ルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフ ルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロエチル、ジク ロロプロピル、フェニルオキシエチル、フェニルオキシプロピル、フェニル、フ ェニルメチル、フェニルエチル、フリル、ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリ ル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、インドリル及びピ リジルから選択され、Ｒ⁵はフェニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な 位置において、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ ソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ 、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、フ ェニルオキシ、メチルチオ、フェニルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード 、ニトロ、Ｎ−ホルミルアミノ、アセチルアミノ、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルア ミノ及びメトキシカルボニルから選択された１個以上の置換基によって任意に置 換される請求項３記載の化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異 性体。 ５．Ｙは であり；Ｑは低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、Ｎ−ア ミノ酸残基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は低級アルキル 、低級アラルキル及び低級ヘテロアラルキルから選択されたラジカルであり、Ｒ⁷ は置換可能な位置において、アミノ、５〜６員環窒素含有ヘテロサイクリル及 び低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換さ れる；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、低級アルキル、ハロ、 低級アルコキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ 、ハロ若しくはフェニルオキシによって置換された低級アルキル、フェニル、低 級フェニルアルキル及び５〜１０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフェ ニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、低級アルキル、低 級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニト ロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニ ル、アミノ酸残基及びペプチジルから選択された１個以上の置換基によって任意 に置換される、請求項２記載の化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは 互変異性体。 ６．Ｙは であり； Ｑはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、フェニルオ キシ、ベンジルオキシ、フェニルエトキシ及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅ ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ベンジル、フェネチル、 オキサゾリルメチル、オキサゾリルエチル、イミダゾリルメチル、イミダゾリル エチル、オキサゾリニルメチル、オキサゾリニルエチル、インドリルエチル、イ ンドリルメチル、ピリジルメチル、チエニルメチル及びフリルエチルから選択さ れたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、ピペリジニル、 ピペラジニル、ピロリジニル、モルホリニル、ピリジル、ピリミジル及びＮ，Ｎ −ジメチルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される；Ｒ¹、Ｒ² 、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン チル、ヘキシル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシ、エトキシ、プ ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ニトロ及びアミノ から独立的に選択される；Ｒ⁵はフェニルメトキシ、フェニルエトキシ、フェニ ルプロポキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロ ロメチル、ジクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、 ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフル オロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、フェニルオキシエチル、フ ェニルオキシプロピル、フェニル、フェニルメチル、フェニルエチル、フリル、 ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル 、ベンゾフラニル、インドリル及びピリジルから選択され、Ｒ⁵はフェニル又は ヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、メチル、エチル、ｎ−プロ ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ チル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ 、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、フェニルオキシ、メチ ルチオ、フェニルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、Ｎ−ホル ミルアミノ、Ｎ−アセチルアミノ、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ及びメトキ シカルボニルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される、請求 項５記載の化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体。 ７．式ＩＩ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³の各々は独立的にヒドリド、ハロ及びニトロから選択 される； Ｒ⁸はハロアルキル、任意に置換されるアリール、任意に置換されるアラルキ ル、任意に置換されるヘテロアリール、任意に置換されるアリールアルコキシ及 び任意に置換されるアリールオキシアルキルから選択される； Ｙはフルオロアルキル及び から選択される； Ｒ⁹はアルキルアミノである］ で示される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体。 ８．Ｒ¹はヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨードから選択される； Ｒ²はヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨードから選択される；Ｒ³はヒ ドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード及びニトロから選択される；Ｒ⁸は トリフルオロメチル、フェニル、フェニルメチル、フェニルエチル、フリル、ピ リジル、ピラジニル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、 インドリル、フェニルメチルオキシ、（フェニルオキシ）プロピル及びフェニル オキシメチルから選択される；Ｙはトリフルオロメチル及び から選択される；Ｒ⁹はメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプ ロピルアミノ及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノから選択される、請求項７記載の化合 物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体。 ９．下記化合物： α−フェノキシ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル） フェニル］ブタナミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］フラン −２−カルボキサミド； Ｎ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［３−クロロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゼ ンプロパンアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピラジ ン−２−カルボキサミド； フェニルメチル Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル） フェニル］カルバメート； Ｎ−［５−ニトロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［４−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］−１− ベンゾチオフェン−２−カルボキサミド； α，α，α−トリフルオロ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキ ソエチル）フェニル］アセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピリジ ン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］２−メ トキシベンズアミド； Ｎ−［４−ヨード−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］４−ク ロロフェノキシアセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］インド リル−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゾ フラニル−２−カルボキサミド；及び Ｎ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ− １−オキソプロピル）フェニル］２−メトキシフェニルカルボキサミド から成る群の化合物とそれらの薬剤学的に受容される塩から選択される、請求項 ８記載の化合物。 １０．治療有効量の化合物と、薬剤学的に受容されるキャリヤー又は希釈剤と を含む薬剤組成物であって、前記化合物が式Ｉ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、アルキル、アラルキ ル、ハロ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、Ｎ−アシル アミノ、アルキルスルホニルオキシ、アミノスルホニル、Ｎ−（ハロアルキルカ ルボニル）アミノ、ペプチジル、アミノ酸残基、 から選択される； Ｒ⁵はアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルキルチオ、アリ ールチオ、アラルキルチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミ ノ、アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロサイクリル及びヘテロサイクリル アルキルから選択され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、アルキル、アルコキシ 、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルア ミノ、アミノ、アルキルアミノ、アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプ チジルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される； Ｒ⁶はアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロサイクリル及びヘテロサイク リルアルキルから選択され、Ｒ⁶は置換可能な位置において、アルコキシ、アリ ールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、 アミノ、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルから選択されたラジカルによ って任意に置換される； Ｙはフルオロアルキル及び から選択される； Ｑはアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アミノ酸残基、ペプチ ジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷はアルキル、アラルキル及びヘテロサイクリルアルキルから選択されたラ ジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、窒素含有ヘテロサイク リル及びアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される］ で示される化合物、又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から選 択される上記薬剤組成物。 １１．化合物が、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、低級アル キル、低級アラルキル、ハロ、低級アルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、低級 アルキルアミノ、Ｎ−アシルアミノ、低級アルキルスルホニルオキシ、アミノス ルホニル、低級Ｎ−（ハロアルキルカルボニル）アミノ、アミノ酸残基、ペプチ ジル、から選択される； Ｒ⁵は低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、低級アルキル チオ、フェニルチオ、低級アラルキルチオ、低級アルキルアミノ、アリールアミ ノ、低級アラルキルアミノ、低級アルキル、６〜１０員環アリール、低級アラル キル、５〜１０員環ヘテロサイクリル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選 択され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、低級アルキル、低級アルコキシ、フェ ニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミ ノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及 びペプチジルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される； Ｒ⁶は低級アルキル、６〜１０員環アリール、低級アラルキル、５〜１０員環ヘ テロサイクリル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選択され、Ｒ⁶が置換可 能な位置において、低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェ ニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ及び 低級アルコキシカルボニルから選択されたラジカルによって任意に置換される； Ｙは低級フルオロアルキル及び から選択される； Ｑは低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、Ｎ−アミノ酸残 基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷は低級アルキル、低級アラルキル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選 択されたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、５〜６員環 窒素含有ヘテロサイクリル及び低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノから選択された１ 個以上のラジカルによって任意に置換される化合物又はその薬剤学的に受容され る塩若しくは互変異性体から選択される、請求項１０記載の薬剤組成物。 １２．化合物が、Ｙは低級フルオロアルキルであり；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の 各々は独立的にヒドリド、低級アルキル、ハロ、低級アルコキシ、ニトロ及びア ミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ、ハロ若しくはフェニルオキシ によって置換された低級アルキル、フェニル、低級フェニルアルキル及び５〜１ ０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフェニル又はヘテロアリールラジカ ルの置換可能な位置において、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニルオキシ 、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ 、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプチジ ルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される化合物又はその薬 剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から選択される、請求項１１記載の薬 剤組成物。 １３．化合物が、Ｙはジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオ ロエチル、ヘプタフルオロプロピル、１，１−ジフルオロエチル及び１，１−ジ フルオロプロピルから選択される；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒド リド、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル 、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、フルオロ、クロロ 、ブロモ、ヨード、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルメ トキシ、フェニルエトキシ、フェニルプロポキシ、フルオロメチル、ジフルオロ メチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ ル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル 、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロ エチル、ジクロロプロピル、フェニルオキシエチル、フェニルオキシプロピル、 フェニル、フェニルメチル、フェニルエチル、フリル、ピラジニル、オキサゾリ ル、チアゾリル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、イン ドリル及びピリジルから選択され、Ｒ⁵はフェニル又はヘテロアリールラジ カルの置換可能な位置において、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル 、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘ キシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒ ｔ−ブトキシ、フェニルオキシ、メチルチオ、フェニルチオ、フルオロ、クロロ 、ブロモ、ヨード、ニトロ、Ｎ−ホルミルアミノ、アセチルアミノ、アミノ、Ｎ ，Ｎ−ジメチルアミノ及びメトキシカルボニルから選択された１個以上の置換基 によって任意に置換される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変 異性体から選択される、請求項１２記載の薬剤組成物。 １４．化合物が、Ｙは であり；Ｑは低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、Ｎ−ア ミノ酸残基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は低級アルキル 、低級アラルキル及び低級ヘテロアラルキルから選択されたラジカルであり、Ｒ⁷ は置換可能な位置において、アミノ、５〜６員環窒素含有ヘテロサイクリル及 び低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換さ れる；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、低級アルキル、ハロ、 低級アルコキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ 、ハロ若しくはフェニルオキシによって置換された低級アルキル、フェニル、低 級フェニルアルキル及び５〜１０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフェ ニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、低級アルキル、低 級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニト ロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニ ル、アミノ酸残基及びぺペプチジルから選択された１個以上の置換基によって任 意に置換される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から 選択される、請求項１１記載の薬剤組成物。 １５．化合物が、Ｙはであり； Ｑはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、フェニルオ キシ、ベンジルオキシ、フェニルエトキシ及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅ ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ベンジル、フェネチル、 オキサゾリルメチル、オキサゾリルエチル、イミダゾリルメチル、イミダゾリル エチル、オキサゾリニルメチル、オキサゾリニルエチル、インドリルエチル、イ ンドリルメチル、ピリジルメチル、チエニルメチル及びフリルエチルから選択さ れたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、ピペリジニル、 ピペラジニル、ピロリジニル、モルホリニル、ピリジル、ピリミジル及びＮ，Ｎ −ジメチルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される；Ｒ¹、Ｒ² 、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン チル、ヘキシル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシ、エトキシ、プ ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ニトロ及びアミノ から独立的に選択される；Ｒ⁵はフェニルメトキシ、フェニルエトキシ、フェニ ルプロポキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロ ロメチル、ジクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、 ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフル オロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、フェニルオキシエチル、フ ェニルオキシプロピル、フェニル、フェニルメチル、フェニルエチル、フリル、 ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル 、ベンゾフラニル、インドリル及びピリジルから選択され、Ｒ⁵はフェニル又は ヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、メチル、エチル、ｎ−プロ ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ チ ル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、 ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、フェニルオキシ、メチル チオ、フェニルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、Ｎ−ホルミ ルアミノ、Ｎ−アセチルアミノ、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ及びメトキシ カルボニルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される化合物又 はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から選択される、請求項１４ 記載の薬剤組成物。 １６．治療有効量の化合物と薬剤学的に受容されるキャリヤー又は希釈剤とを 含む薬剤組成物であって、前記化合物が、式ＩＩ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³の各々は独立的にヒドリド、ハロ及びニトロから選択 される； Ｒ⁸はハロアルキル、任意に置換されるアリール、任意に置換されるアラルキ ル、任意に置換されるヘテロアリール、任意に置換されるアリールアルコキシ及 び任意に置換されるアリールオキシアルキルから選択される； Ｙはフルオロアルキル及び から選択される； Ｒ⁹はアルキルアミノである］ で示される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体から選択 される上記薬剤組成物。 １７．化合物が、Ｒ¹はヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨードから 選択される；Ｒ²はヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨードから選択さ れる；Ｒ³はヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード及びニトロから選択 される；Ｒ⁸はトリフルオロメチル、フェニル、フェニルメチル、フェニルエチ ル、フリル、ピリジル、ピラジニル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル、ベ ンゾフラニル、インドリル、フェニルメチルオキシ、（フェニルオキシ）プロピ ル及びフェニルオキシメチルから選択される；Ｙはトリフルオロメチル及び から選択される；Ｒ⁹はメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプ ロピルアミノ及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノから選択される化合物又はその薬剤学 的に受容される塩若しくは互変異性体から選択される、請求項１６記載の薬剤組 成物。 １８．化合物が下記化合物： α−フェノキシ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル） フェニル］ブタナミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］フラン −２−カルボキサミド； Ｎ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［３−クロロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゼ ンプロパンアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピラジ ン−２−カルボキサミド； フェニルメチル Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル） フェニル］カルバメート； Ｎ−［５−ニトロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［４−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］−１− ベンゾチオフェン−２−カルボキサミド； α，α，α−トリフルオロ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキ ソエチル）フェニル］アセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピリジ ン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］２−メ トキシベンズアミド； Ｎ−［４−ヨード−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］４−ク ロロフェノキシアセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］インド リル−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゾ フラニル−２−カルボキサミド；及び Ｎ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ− １−オキソプロピル）フェニル］２−メトキシフェニルカルボキサミド から成る群の化合物とそれらの薬剤学的に受容される塩から選択される、請求項 １７記載の薬剤組成物。 １９．対象におけるヘルペスウイルス感染症の治療方法であって、前記対象を 式Ｉ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、アルキル、アラルキ ル、ハロ、アルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、Ｎ−アシル アミノ、アルキルスルホニルオキシ、アミノスルホニル、Ｎ−（ハロアルキルカ ルボニル）アミノ、ペプチジル、アミノ酸残基、 から選択される； Ｒ⁵はアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルキルチオ、アリ ールチオ、アラルキルチオ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミ ノ、アルキル、アリール、アラルキル、ヘテロサイクリル及びヘテロサイクリル アルキルから選択され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、アルキル、アルコキシ 、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルア ミノ、アミノ、アルキルアミノ、アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプ チジルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される； Ｒ⁶はアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロサイクリル及びヘテロサイク リルアルキルから選択され、Ｒ⁶は置換可能な位置において、アルコキシ、アリ ールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、 アミノ、アルキルアミノ及びアルコキシカルボニルから選択されたラジカルによ って任意に置換される； Ｙはフルオロアルキル及びから選択される； Ｑはアルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アミノ酸残基、ペプチ ジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷はアルキル、アラルキル及びヘテロサイクリルアルキルから選択されたラ ジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、窒素含有ヘテロサイク リル及びアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される］ で示される化合物、又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体の有効 量で治療することを含む上記方法。 ２０．化合物が、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、低級アル キル、低級アラルキル、ハロ、低級アルコキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、低級 アルキルアミノ、Ｎ−アシルアミノ、低級アルキルスルホニルオキシ、アミノス ルホニル、低級Ｎ−（ハロアルキルカルボニル）アミノ、アミノ酸残基、ペプチ ジル、 から選択される； Ｒ⁵は低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、低級アルキル チオ、フェニルチオ、低級アラルキルチオ、低級アルキルアミノ、アリールアミ ノ、低級アラルキルアミノ、低級アルキル、６〜１０員環アリール、低級アラル キル、５〜１０員環ヘテロサイクリル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選 され、Ｒ⁵は置換可能な位置において、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニ ルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミ ノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及 びペプチジルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される； Ｒ⁶は低級アルキル、６〜１０員環アリール、低級アラルキル、５〜１０員環ヘ テロサイクリル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選択され、Ｒ⁶が置換可 能な位置において、低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェ ニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ及び 低級アルコキシカルボニルから選択されたラジカルによって任意に置換される； Ｙは低級フルオロアルキル及び から選択される； Ｑは低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、Ｎ−アミノ酸残 基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される； Ｒ⁷は低級アルキル、低級アラルキル及び低級ヘテロサイクリルアルキルから選 択されたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、５〜６員環 窒素含有ヘテロサイクリル及び低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノから選択された１ 個以上のラジカルによって任意に置換される化合物又はその薬剤学的に受容され る塩若しくは互変異性体である、請求項１９記載の方法。 ２１．化合物が、Ｙは低級フルオロアルキルであり；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の 各々は独立的にヒドリド、低級アルキル、ハロ、低級アルコキシ、ニトロ及びア ミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ、ハロ若しくはフェニルオキシ によって置換された低級アルキル、フェニル、低級フェニルアルキル及び５〜１ ０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフェニル又はヘテロアリールラジカ ルの置換可能な位置において、低級アルキル、低級アルコキシ、フェニルオキシ 、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニトロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ 、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニル、アミノ酸残基及びペプチジ ルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される化合物又は その薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体である、請求項２０記載の方法 。 ２２．化合物が、Ｙはジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ペンタフルオ ロエチル、ヘプタフルオロプロピル、１，１−ジフルオロエチル及び１，１−ジ フルオロプロピルから選択される；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒド リド、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル 、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、フルオロ、クロロ 、ブロモ、ヨード、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルメ トキシ、フェニルエトキシ、フェニルプロポキシ、フルオロメチル、ジフルオロ メチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチ ル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ジフルオロクロロメチル 、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジクロロ エチル、ジクロロプロピル、フェニルオキシエチル、フェニルオキシプロピル、 フェニル、フェニルメチル、フェニルエチル、フリル、ピラジニル、オキサゾリ ル、チアゾリル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、イン ドリル及びピリジルから選択され、Ｒ⁵はフェニル又はヘテロアリールラジカル の置換可能な位置において、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ −ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシ ル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ− ブトキシ、フェニルオキシ、メチルチオ、フェニルチオ、フルオロ、クロロ、ブ ロモ、ヨード、ニトロ、Ｎ−ホルミルアミノ、アセチルアミノ、アミノ、Ｎ，Ｎ −ジメチルアミノ及びメトキシカルボニルから選択された１個以上の置換基によ って任意に置換される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性 体である、請求項２１記載の方法。 ２３．化合物が、Ｙはであり；Ｑは低級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アラルキルオキシ、Ｎ−ア ミノ酸残基、Ｎ−ペプチジル及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は低級アルキル 、低級アラルキル及び低級ヘテロアラルキルから選択されたラジカルであり、Ｒ⁷ は置換可能な位置において、アミノ、５〜６員環窒素含有ヘテロサイクリル及 び低級Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換さ れる；Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、低級アルキル、ハロ、 低級アルコキシ、ニトロ及びアミノから選択される；Ｒ⁵はフェニルアルコキシ 、ハロ若しくはフェニルオキシによって置換された低級アルキル、フェニル、低 級フェニルアルキル及び５〜１０員環ヘテロアリールから選択され、Ｒ⁵はフェ ニル又はヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、低級アルキル、低 級アルコキシ、フェニルオキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、ハロ、ニト ロ、Ｎ−アシルアミノ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシカルボニ ル、アミノ酸残基及びペプチジルから選択された１個以上の置換基によって任意 に置換される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体である 、請求項２０記載の方法。 ２４．化合物が、Ｙは であり； Ｑはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、フェニルオ キシ、ベンジルオキシ、フェニルエトキシ及び−ＮＨＲ⁷から選択される；Ｒ⁷は メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅ ｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ベンジル、フェネチル、 オキサゾリルメチル、オキサゾリルエチル、イミダゾリルメチル、イミダゾリル エチル、オキサゾリニルメチル、オキサゾリニルエチル、インドリルエチル、イ ンドリルメチル、ピリジルメチル、チエニルメチル及びフリルエチルから選択さ れたラジカルであり、Ｒ⁷は置換可能な位置において、アミノ、ピペリジニル、 ピペラジニル、ピロリジニル、モルホリニル、ピリジル、ピリミジル及びＮ，Ｎ −ジメチルアミノから選択されたラジカルによって任意に置換される；Ｒ¹、Ｒ² 、Ｒ³及びＲ⁴の各々は独立的にヒドリド、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン チル、ヘキシル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、メトキシ、エトキシ、プ ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ニトロ及びアミノ から独立的に選択される；Ｒ⁵はフェニルメトキシ、フェニルエトキシ、フェニ ルプロポキシ、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロ ロメチル、ジクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、 ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオロメチル、ジフルオロエチル、ジフル オロプロピル、ジクロロエチル、ジクロロプロピル、フェニルオキシエチル、フ ェニルオキシプロピル、フェニル、フェニルメチル、フェニルエチル、フリル、 ピラジニル、オキサゾリル、チアゾリル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル 、ベンゾフラニル、インドリル及びピリジルから選択され、Ｒ⁵はフェニル又は ヘテロアリールラジカルの置換可能な位置において、メチル、エチル、ｎ−プロ ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ チル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ 、ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、フェニルオキシ、メチ ルチオ、フェニルチオ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、Ｎ−ホル ミルアミノ、Ｎ−アセチルアミノ、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ及びメトキ シカルボニルから選択された１個以上の置換基によって任意に置換される化合物 又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体である、請求項２３記載の 方法。 ２５．対象におけるヘルペスウイルス感染症の治療方法であって、前記対象を 式ＩＩ： ［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³の各々は独立的にヒドリド、ハロ及びニトロから選択 される； Ｒ⁸はハロアルキル、任意に置換されるアリール、任意に置換されるアラルキ ル、任意に置換されるヘテロアリール、任意に置換されるアリールアルコキシ及 び任意に置換されるアリールオキシアルキルから選択される； Ｙはフルオロアルキル及び から選択される； Ｒ⁹はアルキルアミノである］ で示される化合物又はその薬剤学的に受容される塩若しくは互変異性体の有効量 で治療することを含む上記方法。 ２６．化合物が、Ｒ¹はヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨードから 選択される；Ｒ²はヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ及びヨードから選択さ れる；Ｒ³はヒドリド、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード及びニトロから選択 される；Ｒ⁸はトリフルオロメチル、フェニル、フェニルメチル、フェニルエチ ル、フリル、ピリジル、ピラジニル、チエニル、ピロリル、ベンゾチエニル、ベ ンゾフラニル、インドリル、フェニルメチルオキシ、（フェニルオキシ）プロピ ル及びフェニルオキシメチルから選択される；Ｙはトリフルオロメチル及びから選択される；Ｒ⁹はメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプ ロピルアミノ及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノから選択される化合物又はその薬剤学 的に受容される塩若しくは互変異性体である、請求項２５記載の方法。 ２７．化合物が下記化合物： α−フェノキシ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル） フェニル］ブタナミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］フラン −２−カルボキサミド； Ｎ−［５−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［３−クロロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゼ ンプロパンアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピラジ ン−２−カルボキサミド； フェニルメチル Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル） フェニル］カルバメート； Ｎ−［５−ニトロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］ベンゼンプロパンアミド； Ｎ−［４−フルオロ−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フ ェニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］−１− ベンゾチオフェン−２−カルボキサミド； α，α，α−トリフルオロ−Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキ ソエチル）フェニル］アセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ピリジ ン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］２−メ トキシベンズアミド； Ｎ−［４−ヨード−２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェ ニル］フラン−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］４−ク ロロフェノキシアセトアミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］インド リル−２−カルボキサミド； Ｎ−［２−（２，２，２−トリフルオロ−１−オキソエチル）フェニル］ベンゾ フラニル−２−カルボキサミド；及び Ｎ−［２−（３−（２−プロピルアミノ）−３−オキソ−２，２−ジフルオロ− １−オキソプロピル）フェニル］２−メトキシフェニルカルボキサミド から成る群の化合物とそれらの薬剤学的に受容される塩から選択される、請求項 ２６記載の方法。 ２８．対象が単純ヘルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）、単純ヘルペスウイル ス２型（ＨＳＶ−２）、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、水痘帯状庖疹ウイル ス（ＶＺＶ）、Ｅｐｓｔｅｉｎ−Ｂａｒｒウイルス、ヘルペスウイルス−６（Ｈ ＨＶ−６）、ヘルペスウイルス−７（ＨＨＶ−７）、ヘルペスウイルス−８（Ｈ ＨＶ−８）、仮性狂犬病及び鼻気管炎から選択されたヘルペスウイルスに感染し ている、請求項１９記載の方法。 ２９．ウイルスプロテアーゼを阻害する方法であって、対象を請求項１で定義 した化合物の有効量で治療することを含む上記方法。 ３０．ウイルスプロテアーゼがヘルペスウイルスプロテアーゼである、請求項 １９記載の方法。 ３１．ウイルスプロテアーゼがＣＭＶプロテアーゼ、ＨＳＶ−１プロテアーゼ 、ＨＳＶ−２プロテアーゼから選択される、請求項３０記載の方法。 ３２．ウイルスプロテアーゼがＵ_L８０によってコードされるＣＭＶプロテア ーゼである、請求項３１記載の方法。 ３３．対象におけるヘへルペスウイルス感染症の予防処置方法であって、前記 対象に請求項１で定義した化合物の有効量で処置することを含む上記方法。 ３４．ヘルペスウイルスが単純ヘルペスウイルス１型（ＨＳＶ−１）、単純ヘ ルペスウイルス２型（ＨＳＶ−２）、サイトメガロウイルス（ＣＭＶ）、水痘帯 状庖疹ウイルス（ＶＺＶ）、Ｅｐｓｔｅｉｎ−Ｂａｒｒウイルス、ヘルペスウイ ルス−６（ＨＨＶ−６）、ヘルペスウイルス−７（ＨＨＶ−７）、ヘルペスウイ ルス−８（ＨＨＶ−８）、仮性狂犬病及び鼻気管炎から選択される、請求項３３ 記載の方法。