JP2000502444A - レンズ・アパーチャープレート系の結像において間隔を高解像度で決定する方法と装置 - Google Patents
レンズ・アパーチャープレート系の結像において間隔を高解像度で決定する方法と装置Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.とりわけ自動装置を正確、かつ知的に制御するために、そして生産工程を測 定技術的に監視するために、レンズ・アパーチャープレート系の結像、または 結像列における空間的、および/または時間的な間隔、および/または空間的 、および/または時間的な物体パラメータ(10)、および/またはスペクト ル的、および/または空間周波数特有的な物体パラメータ(例えば、速度、奥 行き、色、または形状)を正確に決定するための方法において、 以下のプロセス段階を有する方法: (a)入射する電磁波ビームの集束はレンズ・アパーチャープレート系(10 )によって行われること; (b)レンズ・アパーチャープレート系(10)の後方でレンズ・アパーチャ ープレート系(10)の焦点面内で、または焦点面の近傍で3D変調装置(1 2)によって電磁波ビーム(11)の伝播方向、および/または強度、および /または波長、および/または偏光、および/または時間的変調周波数を各位 置に特有に変調すること; (c)3D変調装置(12)の後方にある検出装置(13)によって変調され た電磁波ビームを検出すること; (d)変調を決定することによって3D変調装置(12)で電磁波ビームの空 間的、および/または時間的な間隔(14)を計算すること、および/または 空間的、および/または時間的な、および/またはスペクトル的、および/ま たは空間周波数特有的な物体パラメータを計算すること。 2.以下のプロセス段階を特徴とする、請求の範囲第1項に記載の方法: (b−1)レンズ・アパーチャープレート系(10)の焦点面において一つの 、または多数の変調フィルタ(15)を有する3D変調装置(12)により電 磁波ビームを各位置に特有に変調すること;該変調装置は入射する電磁波ビー ムをiで表示された、各位置に特有のフィルタ要素(18)によって変調し、 その際に該フィルタ要素(18)は前記段階(d)を実行するための方程式系 の解法の可能性に関して変調を行うように、もしくは変調を行わないように比 較 的多彩に選ばれている; (c−1)第2のレンズ・アパーチャープレート系(16)によって検出装置 (13)内で集束を行うこと; (c−2)jで表示された検出要素(19)(該検出要素には該当する添字量 Ijのうちから添字iを有するフィルタ要素(18)が投影されるが)の画像 検出装置(17)によって検出装置(13)の焦点面内で変調された電磁波ビ ームを測定すること; (d−1)j番目の検出要素(19)の測定値からj番目の検出要素(19) の原画像(20)において3D変調装置(12)の手前の光路内でパラメータ によって決定された強度分布の正確な位置を計算すること:その際に該計算は 、測定結果の数が変調測定値に基づいて決定すべきパラメータの数を上回り、 かつ可能な独立した方程式系が現れるように実施される。 3.下記を特徴とする、請求の範囲第1項、または第2項に記載の方法: (d−1−1)y=mx+bに従い3D変調装置(12)のx−y平面内で勾 配mとy軸切片bによってパラメータ化した上でエッジ要素(21)で計算を 実施すること。 4.隣接した検出要素(19)とともにj番目の検出要素(19)を用いること を特徴とする、請求の範囲第1項から第3項のうちのいずれか一つの項に記載 の方法。 5.フィルタ要素(18)を用いることを特徴とする、請求の範囲第2項から第 4項にうちのいずれか一つの項に記載の方法。 6.以下のプロセス段階を特徴とする、請求の範囲第1項に記載の方法: (b−1)偏向要素(23)を有する、各位置に特有の偏向を行うための装置 (22)の形をした、および場合によってはレンズ・アパーチャープレート系 (10)の焦点面内で、または該焦点面の近傍で電磁波ビームの強度、波長、 偏光および変調周波数の変調するための装置の形をした3D変調装置によって 各位置に特有に変調を行うこと; (d−1)検出要素(19)によって検出された信号をもとにして、およびそ の結果得られる、レンズ・アパーチャープレート系(10)の結像列での空間 的、および/または時間的な間隔、および/または空間的、および/または時 間的な物体パラメータをもとにして3D変調装置(12)において考察した電 磁波ビームの原位置を計算すること。 7.以下のプロセス段階を特徴とする、請求の範囲第1項に記載の方法: (b−1)レンズ・アパーチャープレート系(10)の焦点面内で、または該 焦点面の近傍で湾曲した3D回折格子の形をした3D変調装置(12)によっ て電磁波ビームを、各位置に特有に変調させること;その際に回折ビームは湾 曲した3D回折格子の傾斜した網状面での反射に従って指向され、および/ま たは格子開口条件に従ってその強度が変調され、および/またはブラッグ条件 に従ってその波長が変調され、および/または回折格子の異方性に従って偏光 され、および/または顕著な時間的振動に従って時間変調され、その際に各位 置に特有の湾曲、並びに各位置に特有の変調に関する回折格子の他の特性が前 記の段階(d)を実行するために方程式系の解法性に関して十分に多彩である ;(d−1)検出要素(19)で検出された信号をもとにして、およびその結 果得られる、レンズ・アパーチャープレート系(10)の結像列での空間的、 および/または時間的な間隔、および/または空間的、および/または時間的 な物体パラメータをもとにして3D変調装置(12)において考察した電磁波 ビームの原位置(14)を計算すること。 8.以下のプロセス段階を特徴とする、請求の範囲第1項、第6項、または第7 項のうちのいずれか一つの項に記載の方法: (c’)ブラッグ条件に従い回折された電磁波ビームの特有の波長をもとにし て、および/または方向特有の検出要素を用いて検出要素(19)に入射する 電磁波ビームを、第ゼロ次回折位数(24、25)に由来する電磁波ビームと 高次の回折位数(26、27)に由来する電磁波ビームに識別すること; (d’)検出要素(19)で検出された信号をもとにして、およびその結果得 られる、レンズ・アパーチャープレート系(10)の結像列での空間的、およ び/または時間的な間隔、および/または空間的、および/または時間的な物 体パラメータをもとにして3D変調装置において考察した電磁波ビームの原位 置(14)を計算すること。 9.以下のプロセス段階を特徴とする、請求の範囲第1項、第6項、第7項、ま たは第8項のうちのいずれか一つの項に記載の方法: (c’’)検出要素(19)によって検出された信号に時間的ハイパスフィル タを適用すること;その際に透過する周波数は、画像列のもとで現れる、高次 の回折位数の著しく増加した横方向速度が検出されるように適応的に調整され ねばならない;並びにこれによって検出要素(19)に入射する電磁波ビーム を、偏向されていない電磁波ビーム(24、25)、もしくは第ゼロ次回折位 数に由来する電磁波ビームと偏向されている 電磁波ビーム(26、27)、 もしくは高次の回折位数に由来する電磁波に識別すること; (d’’)検出要素(19)で検出された信号をもとにして、およびその結果 得られる、レンズ・アパーチャープレート系(10)の結像列での空間的、お よび/または時間的な間隔、および/または空間的、および/または時間的な 物体パラメータをもとにして3D変調装置(12)において考察した電磁波ビ ームの原位置(14)を計算すること。 10.以下を特徴とする、請求の範囲第1項に記載の方法: (b−1)レンズ・アパーチャープレート系(10)の焦点面内で、または 該焦点面の近傍において湾曲していない3D回折格子の形をした3D変調装置 (12)により電磁波ビームを各位置に特有に変調すること;その際に、回折 したビームは湾曲していない3D回折格子の傾斜した網状面での反射に従って 指向され、および/または格子開口条件に従ってその強度が変調され、および /またはブラッグ条件に従ってその波長が変調され、および/または回折格子 の異方性に従って偏光され、および/または顕著な時間的振動に従って時間変 調されるのであって、その際に回折格子の特性は方程式系の解法性に関して前 記の段階(d)を実行するために十分に多彩である; (d−1)検出要素(19)で検出された信号をもにして、およびその結果得 られる、レンズ・アパーチャープレート系(10)の結像列での空間的、およ び/または時間的な間隔、および/または空間的、および/または時間的な物 体パラメータをもとにして3D変調装置(12)において考察した電磁波ビー ムの原位置(14)を計算すること。 11.フラウンホーファーの遠隔場で前記段階(c)と(d)を実施することを特 徴とする、請求の範囲第7項から第10項のうちのいずれか一つの項に記載の 方法。 12.3D回折格子の後方の近接場とその他の範囲でのタルボット平面、またはフ レネル平面で前記段階(c)と(d)を実施することを特徴とする、請求の範 囲第7項から第11項のうちのいずれか一つの項に記載の方法。 13.以下のプロセス段階を特徴とする、請求の範囲第12項に記載の方法: − 奥行きに鋭敏な検出要素を用いて3D回折格子の近接場とその他の範囲で タルボット平面、および/またはフレネル平面での焦点の奥行き位置を記録 すること; − 物体(30)の2つの隣接する距離の差を計算すること。 14.以下のプロセス段階を特徴とする、請求の範囲第1から第13までのうちの いずれか一つの項に記載の方法: (a’−1)各サンプル、または各3D特徴に関する局所座標系の原点として の優秀な位置画素とともに画素の形をしたはっきりと目立つ3D特徴、または サンプルを事前に決定すること; (a’−2)いわゆる学習段階を実施すること;その際に、各3D特徴が各3 D位置および3D方位に入力される、もしくは各サンプルが各3D位置および 3D方位に入力される; 次に位置画素の投影が行われるところの検出要素(19)jが決定される; そのあと、j番目の検出要素(19)の周辺において変調の信号サンプル、 検出要素(19)を含めて該当する信号サンプルが決定される; そしてそれから回りを囲む検出要素(19)の信号サンプルとともにサンプ ル、もしくは3D特徴、位置画素の位置および方位に関するj番目の検出要素 (19)の割り当てが連想式ニューロン・ネットワークに記憶される; (a’−3)連想式ニューロン・ネットワークによって回りを囲む記憶要素( 19)の信号サンプルとともにサンプル、もしくは3D特徴、位置画素の位置 および方位に関する、学習され、記憶された割り当てを測定されたj番目の検 出要素(19)に適用すること。 15.レンズ・アパーチャープレート系(10)の焦点面での強度サンプル、およ び/または運動サンプル、および/または周波数サンプル、および/または色 サンプル、もしくは波長サンプル、および/または偏光サンプル、および/ま たは強度最大値、および/または3D形状に基づいて画素の形でサンプルを使 用することを特徴とする、請求の範囲第14項に記載の方法。 16.ニューロン・ネットワークを使用することを特徴とする、請求の範囲第14 項、または第15項のうちのいずれか一つの項に記載の方法であって、該ネッ トワークはホップフィールド規則、またはパーセプトロン学習規則、またはバ ック・パーセプトロン学習規則を用いて学習し、2つのニューロン間の結合、 および/または3つのニューロン間の結合、および/または4つのニューロン 間の結合、および/または最大数のニューロン(これらは信号サンプルの複雑 性に適合させられているが)間の結合を含んでいて、そして学習課題が複雑な 場合には、信号サンプルの複雑さに適合させられている最大数のニューロン( これらのニューロンは信号サンプルの複雑さに適合させられているが)との結 合とともにパーセプトロン学習アルゴリズムを含んでいるので、その結果、学 習課題の解決はコンバージェンス証明によって保証されている。 17.下記を特徴とする、請求の範囲第14項から第16項のうちのいずれか一つ の項に記載の方法: (a’−2−1)電子メモリ、または光メモリによる割り当ての記憶。 18.相関器光学的装置によって検出面の前後で計算段階、および/またはニュー ロン・ネットワークを実施することを特徴とする、請求の範囲第1項から第1 7項のうちのいずれか一つの項に記載の方法。 19.ある場面を結像するためのレンズ・アパーチャープレート系(10)および 該レンズ・アパーチャープレート系の後方の結像光路内にある検出装置(13 )を用いて請求の範囲第1項から第18項のうちのいずれか一つの項に記載の 方法を実施するための装置において、 レンズ・アパーチャープレート系(10)の後方で該レンズ・アパーチャー プレート系(10)の焦点面内、または該焦点面の近傍にある電磁波ビームの 伝播方向、および/または強度、および/または波長、および/または偏光、 および/または変調周波数を各位置に特有に変調するための3D変調装置(1 2)を特徴とする装置。 20.前記3D変調装置(12)はレンズ・アパーチャープレート系の焦点面内に 変調フィルタ(15)(該フィルタはミラー要素の形をした偏向要素(23) を含んでいるが)を含んでいることを特徴とする、請求の範囲第19項に記載 の装置。 21.3D変調装置(12)は湾曲した3D回折格子を含み、該回折格子は入射す る電磁波ビームを回折された電磁波ビームに変換し、その際に回折されたビー ムは湾曲した3D回折格子の傾斜した網状面での反射に従って指向され、およ び/または格子開口条件に従ってその強度が変調され、および/またはブラッ グ条件に従ってその波長が変調され、および/または回折格子の異方性に従っ て偏光され、および/または顕著な時間的振動に従って時間変調されることを 特徴とする、請求の範囲第19項に記載の装置。 22.3D変調装置(12)は湾曲していない3D回折格子を含み、その際に回折 されたビームは湾曲した3D回折格子の傾斜した網状面での反射に従って指向 され、および/または格子開口条件に従ってその強度が変調され、および/ま たはブラッグ条件に従ってその波長が変調され、および/または回折格子の異 方性に従って偏光され、および/または顕著な時間的振動に従って時間変調さ れることを特徴とする、請求の範囲第19項に記載の装置。 23.3D回折格子は231個の可能な周期的3D回折格子のうちの一つを表して いることを特徴とする、請求の範囲第21項、または第22項のいずれか一つ の項に記載の装置。 24.3D回折格子は周期的でないことを特徴とする、請求の範囲第21項、また は第22項のいずれか一つの項に記載の装置。 25.3D回折格子は2D格子の多数の層を含んでいることを特徴とする、請求の 範囲第21項から第24項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 26.3D回折格子は音響光学式セルを含んでいることを特徴とする、請求の範囲 第21項から第24項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 27.3D回折格子はウイグナ−結晶を含んでいることを特徴とする、請求の範囲 第21項から第24項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 28.3D回折格子はポリマラテックスを含んでいることを特徴とする、請求の範 囲第21項から第25項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 29.3D回折格子はホログラフィ法で製造されていることを特徴とする、請求の 範囲第21項から第25項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 30.3D回折格子は生物学的構造、および/または液晶、および/または強誘電 体によって構成されていることを特徴とする、請求の範囲第21項から第25 項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 31.3D回折格子は電気光学的に、および/または光磁気的に、および/または 機械的に同調できることを特徴とする、請求の範囲第21項から第25項のう ちのいずれか一つの項に記載の装置。 32.検出装置(13)はスペクトル感度を呈することを特徴とする、請求の範囲 第19項から第31項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 33.検出装置(13)は方向感度を呈することを特徴とする、請求の範囲第19 項から第32項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 34.検出装置(13)は少なくとも一つの偏光フィルタを呈することを特徴とす る、請求の範囲第19項から第33項のうちのいずれか一つの項に記載の装置 。 35.結像光路において3D回折格子に加えて、コヒーレント度、および/または 偏光状態、および/または位相状態を変える別の格子が取り付けられているこ とを特徴とする、請求の範囲第21項から第34項のうちのいずれか一つの項 に記載の装置。 36.検出装置(13)はCCDアレイ、および/またはCIDアレイを呈するこ とを特徴とする、請求の範囲第19項から第35項のうちのいずれか一つの項 に記載の装置。 37.検出要素(19)は導波管を呈することを特徴とする、請求の範囲第19項 から第36項のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 38.レンズ・アパーチャープレート系(10)、検出装置(13)および3D変 装置(12)は可視光外部の電磁波 −X線を含む− 向けに設計されている ことを特徴とする、請求の範囲第19項から第37項のうちのいずれか一つ の項に記載の装置。 39.キャリア周波数振動が3D変調装置(12)、および/または検出装置(1 3)に入力されることを特徴とする、請求の範囲第19項から第38項のうち のいずれか一つの項に記載の装置。 40.ニューロン・ネットワークを特徴とする、請求の範囲第19項から第39項 のうちのいずれか一つの項に記載の装置。 41.計算を実施するために検出器面の前後に相関器光学装置があることを特徴と する、請求の範囲第19項から第40項のうちのいずれか一つの項に記載の装 置。 42.相関器光学的装置は4f光学系を含んでいることを特徴とする、請求の範囲 第41項に記載の装置。 43.3D変調装置(12)にはフィルタ要素(18)、および/または偏向要素 (23)、および/または格子要素が乱数発生器によって比較的多彩に配置さ れていることを特徴とする、請求の範囲第19項から第42項のうちのいずれ か一つの項に記載の装置。
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